JP2000250019A

JP2000250019A - 液晶光学素子の製造方法

Info

Publication number: JP2000250019A
Application number: JP11055219A
Authority: JP
Inventors: Daisaku Nakada; 大作中田; Tomohisa Goto; 智久五藤; Hideya Murai; 秀哉村井
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1999-03-03
Filing date: 1999-03-03
Publication date: 2000-09-14

Abstract

(57)【要約】【課題】液晶光学素子の製造時に、入射光による反射
及び多重反射光が調光層前駆体に入射するのを防止す
る。【解決手段】調光層前駆体１が、電極層２を介して２
枚の透明基板３に挟持されている。この２枚の透明基板
３の光入射面側には、各々透明性物質１３が密着配置さ
れている。調光層前駆体１は、透明性樹脂の前駆体と液
晶材料とを含んでいる。この構成において、レーザー光
４を２つの透明性物質１３の入射面から２光束干渉法に
て照射する。照射された光線により、調光層前駆体１
に、透明性樹脂から成る層と主に液晶材料から成る層と
で多層構造が形成され、この多層構造から成る調光層９
が得られる。この時、透明基板３と電極層２、等の界面
での反射光及び多重反射光６は、透明性物質１３へ入射
した後、その入射面から射出、又は反射し、調光層前駆
体１へは入射しないように、透明性物質１３の厚みや形
状が選定されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置、調光装
置、光シャッター等に利用される液晶光学素子に関す
る。特に、入射光の特定の波長を選択的に反射する液晶
光学素子の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、液晶光学素子は、文字や図形
等を表示する表示装置、反射光又は透過光の波長や光量
が変化する調光装置、光シャッター等、種々の用途に利
用されている。

【０００３】この液晶光学素子には、高輝度反射型ディ
スプレイとして、特開平４−１７８６２３等に開示され
ているホログラフィック高分子分散型液晶素子（ＨＰＤ
ＬＣ素子）がある。ＨＰＤＬＣ素子は、主に液晶材料か
ら成る層と、透明性樹脂から成る層とが順次積層して形
成された多層構造である調光層を有し、この調光層を電
極付きの透明基板で挟持して形成された素子である。

【０００４】このＨＰＤＬＣ素子（以後、液晶光学素子
と言う）に電圧が印加されていない状態の時に、自然光
が入射された場合は、前記調光層中の前記液晶材料と前
記透明性樹脂の屈折率、及び、多層構造の層間隔によっ
て定められる特定の波長帯の光が選択的に反射され、そ
れ以外の波長帯の光は透過する。そのため、液晶光学素
子による反射光として、特定の波長帯の光のみが観察さ
れる。一方、液晶光学素子に電圧を印加することによ
り、液晶材料と透明性樹脂との屈折率差が小さくなっ
て、選択的な反射に基づく反射光は弱まり、当該素子は
透明状態を示すようになる。

【０００５】このように、液晶光学素子は、これに印加
する電圧によって、特定の波長帯の反射光の光強度を制
御することができ、また、液晶光学素子に入射する自然
光の選択的な反射光が、表示用の光源として利用される
ため、バックライトが不要になる等の利点がある。

【０００６】この種の液晶光学素子の製造方法を、図１
０を参照して説明する。同図に示すように、調光層前駆
体１を、２枚の透明基板３で電極層２を介して挟持す
る。調光層前駆体１は、透明性樹脂の前駆体と、例えば
ネマティック液晶材料のような液晶材料とを含んでい
る。この調光層前駆体１と２枚の透明基板３と電極層２
から成る部材に、レーザー光４を２光束干渉法で照射す
ると、調光層前駆体１に干渉縞５が形成される。この干
渉縞５において光強度が強められた部分では、透明性樹
脂の前駆体が重合反応し、透明性樹脂が層状に形成され
る。一方、光強度が弱められた部分では、液晶材料が滴
状に析出し、主に液晶材料から成る層が形成される。

【０００７】このようにして、図２に示すような、主に
液晶材料から成る層７と、透明性樹脂から成る層８とが
順次積層して形成された多層構造である調光層９が形成
され、この調光層９を２枚の透明基板３で挟持した液晶
光学素子を得ることができる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の液晶光学素子の製造方法においては、図１０に示す
ように、透明基板３、電極層２、及び調光層９のそれぞ
れの界面で、入射光線４が反射、及び多重反射するとい
う現象が起きる。この反射及び多重反射光６は、最終的
に透明基板３の入射面で反射して調光層前駆体１に入射
し、調光層前駆体１内の至る所で重合反応を引き起こ
す。このため、形成された調光層９には、入射光線４で
形成される多層構造と、入射光線４による多重反射光６
で形成される重合構造とが混在することになる。

【０００９】このようにして形成された調光層９に、自
然光が入射した場合、多層構造に起因する選択反射光
と、重合構造に起因する散乱光や反射光とが混在して観
察される。このため、表示される選択反射光の色純度が
低下したり、表示画像の色の均一性が低下する等の問題
点があった。

【００１０】

【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、液晶光学素子の製造時において、入射する光
線の反射及び多重反射光が調光層前駆体に入射するのを
防止することができ、自然光による選択反射光の色純度
が良好で、表示画像の色の均一性が高い、液晶光学素子
の製造方法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、透明性樹脂の前駆体と液晶材料とを含む調光層
前駆体を、電極層を介して２枚の透明基板にて挟持し、
この透明基板を介して、干渉性を示す複数の光線を前記
調光層前駆体に入射させることにより調光層を形成する
液晶光学素子の製造方法において、前記２枚の透明基板
の前記光線の入射面側に、透明性物質を密着配置し、こ
の透明性物質及び前記透明基板を介して、前記干渉性を
示す複数の光線を前記調光層前駆体に入射させるように
した。このため、特に、透明基板と電極層の界面での反
射光は、少なくとも、透明基板の入射面で反射して調光
層前駆体へ入射することなく、透明性物質へ入射するこ
とになる。

【００１２】請求項２記載の透明性物質は、前記複数の
光線の、前記透明基板、前記電極層、前記調光層前駆体
の各界面からの反射光が、調光層前駆体に入射しないよ
うに、その厚さや形状が設定されているため、透明基板
と電極層、等の界面での反射光及び多重反射光が調光層
前駆体に入射するのが防止される。

【００１３】請求項３記載の透明性物質は、透明基板
に、剥離可能に密着配置されているため、調光層を形成
した後、透明性物質を速やかに透明基板から剥離するこ
とにより、前記透明基板、前記電極層、前記調光層から
成る液晶光学素子が得られる。

【００１４】請求項９記載の透明性物質の屈折率は、前
記透明基板の屈折率と同一であるため、透明基板と電極
層、等の界面での反射光及び多重反射光が透明性物質に
入射する時に、屈折率が異なっている場合のように、反
射が起きて調光層前駆体へ入射するのが防止される。

【００１５】以上のような製造方法を採ることにより、
透明基板に密着配置された透明性物質は、前記干渉性を
示す複数の光線の、界面での反射光及び多重反射光が、
調光層前駆体に入射するのを防ぐという作用を果たす。
このため、反射光及び多重反射光が調光層前駆体に入射
して重合構造が形成されることが完全に無くなるか、又
は低減する。したがって、形成された調光層に自然光が
入射した時に、重合構造によって光が散乱したり反射し
たりすることが無く、多層構造による選択反射光のみと
なるため、選択反射光の色純度が良好となる。また、調
光層や表示画像の均一性が向上する。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の一実施形態を図面に基づ
いて説明する。

【００１７】図１は本発明の一実施形態を示す液晶光学
素子の製造方法の断面図、図２は液晶光学素子に自然光
を入射させた状態を示す断面図である。図３は自然光を
入射させた液晶光学素子に電圧を印加した状態を示す断
面図である。図４は透明性物質と透明基板を液体物質で
密着させた液晶光学素子の製造方法を示す断面図、図５
は液晶光学素子を包囲する形で透明性物質を配置した液
晶光学素子の製造方法を示す断面図である。従来技術と
同一部材には同一番号を付している。

【００１８】本発明の液晶光学素子の製造方法を、図１
を参照して説明する。調光層前駆体１が、電極層２を介
して２枚の透明基板３に挟持されている。この２枚の透
明基板３の光入射面側には、各々透明性物質１３が、剥
離可能に密着配置されている。調光層前駆体１は、透明
性樹脂の前駆体と、例えばネマティック液晶材料のよう
な液晶材料とを含んでいる。

【００１９】この構成において、同図に示すように、干
渉性を示す入射光線であるレーザー光４を、２つの透明
性物質１３の入射面から２光束干渉法にて照射する。照
射された光線の内、透明基板３及び電極層２を透過した
光線４は、調光層前駆体１の部分に干渉縞５を形成す
る。図２及び図３に示すように、この干渉縞５の光強度
が強められた部分では、透明性樹脂の前駆体が重合反応
して、透明性樹脂から成る層７が形成される。一方、光
強度が弱められた部分では、液晶材料が滴状に析出し、
主に液晶材料から成る層８が形成される。これにより、
主に液晶材料から成る層８と、透明性樹脂から成る層７
とが順次積層して形成された多層構造である調光層９を
得ることができる。２光束干渉法とは、図示しないビー
ムスプリッターで２つに分けたレーザー光を調光層前駆
体１内の所定箇所で交差させ、レーザー光が干渉する箇
所にて光重合を行うというものである。

【００２０】このように、調光層前駆体１は、レーザー
光４を２光束干渉法にて入射させることにより重合反応
によって調光層９へと変化し、この調光層９を電極層２
を介して２枚の透明基板３で挟持した液晶光学素子（図
２参照）が得られる。

【００２１】この時、図１に示すように、透明基板３と
電極層２、及び透明電極２と調光層前駆体１の界面で生
じた反射光及び多重反射光６は、透明基板３と透明性物
質１３の界面で反射して調光層前駆体１へ入射すること
無く、そのまま透明性物質１３へ入射して、その入射面
から射出したり、ここで調光層前駆体１の外部方向へ反
射したりする。したがって、界面で生じた反射光及び多
重反射光６は、調光層前駆体１へはほとんど入射するこ
とは無い。このように、反射光及び多重反射光６を、調
光層前駆体１の外部方向へ導くためには、透明性物質１
３の厚みや形状を、適宜選定することが必要である。

【００２２】尚、透明性物質１３の屈折率は、透明基板
３の屈折率と同一であることが望ましい。透明性物質１
３と透明基板３の屈折率の差が大きいと、反射光及び多
重反射光６が透明性物質１３に入射する際に、その界面
で反射現象が生じ、この反射光が調光層前駆体１へ入射
してしまう。そのような屈折率の透明性物質１３は、本
発明の液晶光学素子には使用できない。

【００２３】このように、本発明の液晶光学素子の製造
方法においては、調光層前駆体１に入射するレーザー光
線には、界面で生じた反射光及び多重反射光６が含まれ
ることなく、略入射光線４のみとなる。このため、従来
のように、調光層前駆体１に入射した多重反射光６によ
って形成される重合構造は全く存在しないか、又は低減
され、調光層９は、略、前述した多層構造（積層構造）
のみで形成されることになる。

【００２４】このようにして調光層９が形成されると、
透明性物質１３を、透明基板３から速やかに剥離して取
り外し、図２に示すような液晶光学素子を得ることがで
きる。

【００２５】そこで、同図に示すように、この液晶光学
素子に電源１８による電圧が印加されていない状態の時
に、自然光１０が入射された場合は、調光層９中の液晶
材料から成る層８と透明性樹脂から成る層７の屈折率、
及び多層構造の層間隔によって定められる特定の波長帯
の光１１のみが選択的に反射され、それ以外の波長帯の
光は透過光１２となる。前述の如く、調光層９には多重
反射光６による重合構造は存在しない（又は非常に少な
い）ため、多層構造に起因する選択反射光１１と、重合
構造に起因する散乱光や反射光とが（目立って）混在す
ることがない。

【００２６】したがって、当該液晶光学素子による選択
反射光１１として、特定の波長帯の光のみが観察される
ことになり、選択反射光１１の色純度の良好性と、表示
画像の色の均一性を向上させることができる。

【００２７】一方、図３に示すように、液晶光学素子に
電源１８により電圧を印加することによって、液晶材料
から成る層８と透明性樹脂から成る層７の屈折率差が小
さくなる。したがって、選択的な反射に基づく反射光１
１（図２参照）は弱まって、その大部分が透過光１２と
なり、当該液晶光学素子は透明状態を示すようになる。
このように、液晶光学素子に印加する電圧によって、特
定の波長帯の反射光の光強度を制御することが可能であ
る。

【００２８】調光層前駆体１の透明性樹脂の前駆体の重
合に用いられる光源としては、この実施形態で示したよ
うに、可視領域のレーザー光を用いる。

【００２９】得られた調光層９の多層構造に起因する選
択反射光１１（図２参照）の波長は、調光層９の製造時
に用いるレーザー光の波長、２つのレーザー光の交差角
度、及び、透明基板３に対するレーザー光の入射角度、
を調節することによって適宜変えることができる。ま
た、必要に応じて、フォトマスクなどの光遮蔽膜を使用
しても良い。

【００３０】尚、この実施形態では、透明性物質１３
は、透明基板３の入射面側に貼り合わせたが、図４に示
すように、透明性物質１３を透明基板３に対して、液体
物質１７を介して密着させた構成にすることもできる。

【００３１】また、この実施形態では、透明性物質１３
は、透明基板３の入射面側に貼り合わせたが、この形態
以外にも、例えば、図５に示すように、液晶光学素子全
体を包囲する形態であっても良い。この構成でも、上記
実施形態と同様の作用、効果を期待することができる。

【００３２】次に、この実施形態の液晶光学素子の製造
方法で使用する各部材に用いられる材料について説明す
る。

【００３３】調光層前駆体１の透明性樹脂の前駆体は、
光照射により重合するモノマー又はオリゴマー、あるい
はモノマーとオリゴマーの混合物等を用いることができ
る。即ち、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル
基等の通常の光重合性基を有する前駆体化合物であれば
何れも使用することができる。光重合性基は、前駆体化
合物の一分子中に複数あっても構わない。

【００３４】モノマーとしては、例えば、２−エチルヘ
キシルアクリレート、ブチルエチルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エトキ
シエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレ
ート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペン
テニルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、
モルホリンアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、フェノキシジエチレングリコールアクリレート等の
単官能アクリレート化合物、２−エチルヘキシルメタク
リレート、ブチルエチルメタクリレート、ブトキシエチ
ルメタクリレート、２−シアノエチルメタクリレート、
ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−エト
キシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチ
ルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタ
クリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシ
クロペンテニルメタクリレート、グリシジルメタクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、イソボ
ニルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウ
リルメタクリレート、モルホリンメタクリレート、フェ
ノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレング
リコールメタクリレート等の単官能メタクリレート化合
物、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコ
ールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、等の多官
能アクリレート化合物、ジエチレングリコールジメタク
リレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、
１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、ジシク
ロペンタニルジメタクリレートグリセロールジメタクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジメタクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジ
ペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタクリレ
ート、ウレタンメタクリレートオリゴマー、等の多官能
メタクリレート化合物がある。しかし、これらに限定さ
れるものではない。

【００３５】透明性樹脂の前駆体化合物には、光照射に
より重合を開始させるための光重合開始剤、この光重合
開始剤にプロトン等を供給する光重合開始助剤、光を吸
収することによって生じた励起エネルギーを前記光重合
開始剤に移動させる色素増感剤、等を添加することがで
きる。但し、光重合開始剤が単独で光照射により重合を
開始する場合には、必ずしも他の材料を添加する必要は
ない。

【００３６】光重合開始剤としては、アセトフェノン
系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサンソン
系のものを使用することができる。例えば、ジエトキシ
アセトフェノン、ジメトキシアセトフェノン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、４−フ
ェニルベンゾフェノン、２−クロロチオキサンソン、２
−メチルチオキサンソン等がある。光重合開始剤は、固
体でも液体でも構わないが素子の均一性の点から、液晶
材料と透明性樹脂の前駆体の混合液に、室温で溶解又は
相溶することが望ましい。光重合開始剤の添加量は、透
明性樹脂の前駆体の３０重量％以下であることが望まし
い。

【００３７】光重合開始助剤としては、一般的な、メチ
ルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、
等を使用することができる。

【００３８】色素増感剤としては、クマリン系色素、ロ
ーダミン系色素、オキサジン系色素、カルボシアニン系
色素、スチリル系色素、キサンテン系色素、メロシアニ
ン系色素、ローダシアニン系色素、ポルフィリン系色
素、アクリジン系色素、等が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。色素増感剤は、光照射により励
起され、エネルギーを光重合開始剤に移動させるもので
あれば、何れのものを用いても構わない。

【００３９】調光層前駆体１に含まれる液晶材料として
は、特に、ネマティック液晶材料が好ましい。ネマティ
ック液晶材料としては、シアノ系、フッ素系、塩素系、
等の何れの液晶材料でも使用することができるが、薄膜
トランジスター（ＴＦＴ）等の能動素子でアクティブ駆
動を行うためには、高電荷保持率を有するフッ素系の液
晶材料が望ましい。

【００４０】液晶材料は、正の誘電率異方性を持つこと
が好ましいが、印加する周波数により正負の両方の値を
有する二周波駆動液晶材料、あるいは、負の誘電率異方
性を有するものでも構わない。

【００４１】調光層前駆体１中の液晶材料の含有比率
は、２０重量％以上８０重量％以下であることが望まし
く、さらに望ましくは、３０重量％以上５０重量％以下
である。この範囲より多い場合は、液晶材料と透明性樹
脂とから成る多層構造（積層構造）が形成されにくく、
この多層構造に起因する選択反射光の光強度が弱くな
る。また、前記範囲より少ない場合には、電極層２に印
加する駆動電圧を高くしなければならない。

【００４２】透明基板３の材料としては、ガラスや石英
等の無機材料、プラスチック等の有機材料等を使用する
ことができる。また、無機材料と有機材料との複合材料
であっても良い。無機材料及び有機材料は、各々単一の
成分で構成されたものであっても良いし、必要に応じて
複数の成分で構成されているものでも良い。また、光学
的に等方性であることが望ましい。光学的に異方性であ
れば、入射された光の偏光面が変化するため、光干渉が
生じにくくなる。

【００４３】電極層２の材料としては、インジウム−テ
ィン−オキシド（ＩＴＯ）や、導電性高分子材料を使用
することができる。電極層２は透明性であることが望ま
しい。また、各電極層２に電圧を印加するための電極は
透明性である必要はなく、金属材料、導電性高分子材料
など、何れの導電性材料を使用しても良い。薄膜トラン
ジスター等の能動素子にて各調光層を駆動させる際に
は、一つの電極層２が対向電極に、残りの電極層２が各
能動素子に接続されていれば良い。

【００４４】本発明の透明性物質１３に使用できる材料
としては、屈折率が１.０〜２.０であれば、常温で固体
であるガラス、石英、フッ化カルシウム、フッ化バリウ
ム、塩化ナトリウム、臭化カリウム等の無機材料や、Ｐ
ＭＭＡ、プラスチック等の有機材料、及び、常温で液体
である水、油、有機溶剤、等を挙げることができる。こ
れら無機材料や有機材料、及び、液体は、各々が単一の
成分で構成されたものであっても良いし、必要に応じて
複数の成分にて構成されていても良く、必要に応じてさ
らに混合しても良い。

【００４５】透明性物質１３は、光学的に等方性である
ことが望ましい。光学的に異方性であれば、入射された
光の偏光面が変化するため、光干渉が生じにくくなる。
但し、異方性を示す材料を用いても、調光層前駆体１の
所定箇所で光干渉が生ずるように、透明性物質１３の配
置の仕方や材料を選定すれば、この限りでない。

【００４６】透明基板３と透明性物質１３との密着に用
いる液体物質１７としては、屈折率が１.０〜２.０であ
る物質であれば特に限定されず、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族化合物、アルコールや脂
肪酸等の鎖式化合物等の有機化合物や水等、種々の物質
を使用することができる。

【００４７】尚、液体物質１７の屈折率は、透明基板３
及び透明性物質１３の屈折率の値に近いことが望まし
い。また、透明性物質１３の沸点は、室温以上であるこ
とが望ましく、できれば５０度以上が望ましい。沸点が
室温以下であったり、室温近傍の液体物質では、レーザ
ー光の照射で生成する熱等で気化し、透明基板３と透明
性物質１３とが剥離する場合があるため、使用に適さな
い。

【００４８】次に、他の実施の形態について説明する。
以下の３つの他の実施の形態は、図１の実施の形態と略
同様であって同一部材には同一番号を付しており、その
部分の説明は省略する。

【００４９】先ず、図６に示す第２実施形態について説
明する。この実施形態が、図１の実施形態と異なってい
るのは、透明性物質１３の入射面側に、光吸収体１４
（斜線で示す）を設けている点である。

【００５０】この構成において、レーザー光４が透明性
物質１３より入射することにより、透明基板３、透明電
極２、及び調光層前駆体１の界面で生じた反射光及び多
重反射光６は、光吸収体１４に当たって吸収されるた
め、反射光６が調光層前駆体１へ入射するのを防止する
ことができる。

【００５１】この光吸収体１４としては、入射光の波長
を吸収する材料であれば、特に限定されず、例えば、フ
ェルト布などの布類、染料や塗料等の塗布材料等、種々
の無機材料、及び有機材料を使用することができる。光
の吸収強度、又は吸収波長は、目的とする作製条件に対
応して任意に変更することができる。

【００５２】光吸収体１４は、この実施形態のように、
透明性物質１３の光入射部分を除く、光入射面側の表面
に設けても良いし、透明性物質１３の物質中に形成して
も良い。光吸収体１４は、透明性物質１３に直接重ねて
配置しても良いし、透明性物質１３と光吸収体１４とを
接着層を介して貼り合わせても良い。

【００５３】また、図７に示す第３実施形態について説
明する。この実施形態が図１の実施形態と異なっている
のは、透明性物質１３の入射面側に、光散乱体１５を設
けている点である。

【００５４】この構成において、レーザー光４が透明性
物質１３より入射することにより、透明基板３、透明電
極２、及び調光層前駆体１の界面で生じた反射光及び多
重反射光６は、光散乱体１５によって散乱されるため、
反射光６が調光層前駆体１へ入射するのを防止すること
ができる。

【００５５】この光散乱体１５としては、入射及び反射
した光線を散乱するものであれば、特に限定されず、例
えば、スリガラス、ガラス微粒子、プラスチック微粒子
など種々の無機材料及び有機材料を使用することができ
る。光の散乱強度は目的とする作製条件に対応して任意
に変更することができる。

【００５６】光散乱体１５は、透明性物質１３の光入射
部分を除く、光入射面側の表面に設けても良いし、透明
性物質１３の物質中に形成しても良い。光散乱体１５
は、透明性物質１３に直接重ねて配置しても良いし、透
明性物質１３と光散乱体１５とを接着層を介して貼り合
わせても良い。

【００５７】さらに、図８に示す第４実施形態について
説明する。この実施形態が図１の実施形態と異なってい
るのは、透明性物質１３の入射面側に、光回折体１６を
設けている点である。

【００５８】この構成において、レーザー光４が透明性
物質１３より入射することにより、透明基板３、透明電
極２、及び調光層前駆体１の界面で生じた反射光及び多
重反射光６は、光回折体１６によって回折されるため、
反射光６が調光層前駆体１へ入射するのを防止すること
ができる。

【００５９】光回折体１６としては、入射光４及び反射
光６を回折するものであれば、特に限定されず、例え
ば、微小溝付きガラス、有機材料又は無機材料からなる
回折格子を使用することができる。光の回折強度は目的
とする作製条件に対応して任意に変更することができ
る。

【００６０】光回折体１６は、透明性物質１３の光入射
部分を除く、光入射面側の表面に設けても良いし、透明
性物質１３の物質中に形成しても良い。光回折体１６
は、透明性物質１３に直接重ねて配置しても良いし、透
明性物質１３と光回折体１６とを接着層を介して貼り合
わせても良い。

【００６１】以下、本発明の具体的な数値実施例につい
て図面を参照して説明する。

【００６２】（実施例１）透明性樹脂の前駆体としてラ
ックストラックＬＣＲ２０８（東亜合成化学社製）を６
５重量％、液晶材料としてＢＬ０３６（ＭＥＲＣＫ社
製）を３５重量％含有させた調光層前駆体１を調合し
た。この調光層前駆体１を、面積１ｃｍ^２の電極層２を
有し、厚み１.１ｍｍのポリシロケート材質からなる透
明基板３を２枚用い、基板間隔５μｍで挟持した。次い
で、透明性物質１３として、透明基板３と同材質からな
る厚み１ｃｍのポリシロケート板を、２枚の透明基板３
にそれぞれ密着配置した。その後、入射光４としてビー
ムスプリッターで２光束にした波長４８８ｎｍのアルゴ
ンレーザー光を透明性物質１３の上下方向から夫々入射
し、調光層前駆体１内の所定箇所で交差させた。その
後、高圧水銀ランプを照射して高分子化反応を終了させ
た。透明基板３から透明性物質１３を取り除き、主に液
晶材料から成る層と、透明性樹脂からなる層とが順次積
層して成る調光層を有する液晶光学素子を得た。

【００６３】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で、白色光１０を入射
したとき、波長５３５ｎｍ付近の色純度の高い選択反射
光１１が得られた。また、選択反射光１１の光強度は、
調光層９面の全面で均一であった。図３に示すように、
液晶光学素子に１００Ｈｚで１００Ｖの交流矩形波を印
加したところ、波長５３５ｎｍ付近の光の反射率が減少
した。

【００６４】（比較例１）実施例１と同様の処置を行う
が、透明性物質１３は使用しない条件で、液晶光学素子
を作製した。ここで得られた液晶光学素子は、電圧無印
加時に短波長側の光透過率が低下した。また、選択反射
した光の色純度は低く、当該素子はやや白色を帯びてい
た。また、調光層前駆体１の調光層面にムラがあり、選
択反射の光強度は不均一であった。

【００６５】上記（実施例１）及び（比較例１）による
液層光学素子の入射光４の波長と選択反射光の相関関係
を図９に示している。同図において、実線は（実施例
１）、破線は（比較例１）の特性線を示しており、何れ
の特性線も入射光４の波長（ｎｍ）が５３０付近の時
に、光の透過率（％）が急激に減少しており、この波長
（ｎｍ）の時に選択反射が生じていることが分かる。特
に、実線が示す（実施例１）による液層光学素子の特性
線は、（比較例１）の特性線に比べて選択反射を示すピ
ークが鋭く、また、選択反射光以外の可視波長域の透過
率（％）が略一定となっている。したがって、本発明の
（実施例１）の液層光学素子による選択反射光は、極め
て色純度が良好であることが分かる。

【００６６】（実施例２）透明性樹脂の前駆体化合物と
してラックストラックＬＣＲ２０８（東亜合成化学社
製）を７０重量％、液晶材料としてＰＮ００１（ＲＯＤ
ＩＣ社製）を３０重量％含有させた調光層前駆体１を調
合した。この調光層前駆体１を、面積２５ｍｍ^２の電極
層２を有し、厚み０.７ｍｍの石英ガラスからなる透明
基板３を２枚用い、基板間隔５μｍで挟持した。次い
で、透明性物質１０として厚み０.５ｃｍのフッ化カル
シウム板を、２枚の透明基板３に密着配置した。その後
は、実施例１と同様な処置を行い、主に液晶材料から成
る層と、透明性樹脂からなる層とが順次積層して成る調
光層を有する液層光学素子を得た。

【００６７】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５３８ｎｍ付近の色純度の高いが選択反射
光１１が得られた。また、図３に示すように、液晶光学
素子に１００Ｈｚで９０Ｖの交流矩形波を印加したとこ
ろ、波長５３８ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００６８】（実施例３）透明性樹脂の前駆体としてラ
ックストラックＬＣＲ２０８（東亜合成化学社製）を６
６重量％、液晶材料としてＢＬ００１（ＭＥＲＣＫ社
製）を３４重量％含有させた調光層前駆体１を調合し
た。この調光層前駆体１を、面積１ｃｍ^２の電極層２を
有し、厚み０.７ｍｍの石英ガラスから成る透明基板３
を２枚使い、基板間隔５μｍで挟持した。次いで、透明
性物質１３として厚み５ｍｍのポリメチルメタアクリレ
ート板を、２枚の透明基板３に密着配置した。その後、
実施例１と同様な処置を行い、主に液晶材料から成る層
と、透明性樹脂からなる層とが順次積層して成る調光層
を有する液層光学素子を得た。

【００６９】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５４０ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、図３に示すように、液晶光学素
子に１００Ｈｚで８５Ｖの交流矩形波を印加したとこ
ろ、波長５４０ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００７０】（実施例４）透明性樹脂の前駆体として、
ライトアクリレート１・６ＨＸ−Ａ（共栄社化学株式会
社製）を６８重量％、光重合開始剤として、カンファー
キノン（東京化成製）を１重量％、光重合開始助剤とし
て、ＤＭＢＩ（日本化薬株式会社製）を１重量％含有さ
せたものを使用し、この前駆体に液晶材料としてＢＬ０
３６（ＭＥＲＣＫ社製）を３０重量％含有させ、調光層
前駆体１を調合した。この調光層前駆体１を、面積１ｃ
ｍ^２の電極層２を有し、厚み１.１ｍｍのポリシロケー
ト材質から成る透明基板３を２枚使い、基板間隔６μｍ
で挟持した。次いで、透明性物質１３として、透明基板
３と同材質から成る厚み１ｃｍのポリシロケート板を、
２枚の透明基板３に密着配置した。その後、光吸収体１
４として、黒色フェルト布を図６に示すように配置し
た。その後は、実施例１と同様な処置を行い、主に液晶
材料から成る層と、透明性樹脂からなる層とが順次積層
して成る調光層を有する液層光学素子を得た。

【００７１】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５３０ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、図３に示すように、この液晶光
学素子に１００Ｈｚで１１０Ｖの交流矩形波を印加した
ところ、波長５３０ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００７２】（実施例５）透明性樹脂の前駆体としてＮ
ＯＲＬＡＮＤＮＯＡ６５（ＮＯＲＬＡＮＤＰＲＯＤ
ＵＣＴＳＩＮＣ．製）を６９.５重量％、色素増感剤
として、クマリン６（ＫＯＤＡＫ社製）を０.５重量％
を含有させたものを使用し、この前駆体に液晶材料とし
てＢＬ０３６（ＭＥＲＣＫ社製）を３０重量％を含有さ
せ、調光層前駆体１を調合した。この調光層前駆体１
を、面積１ｃｍ^２の電極層２を有し、厚み１.１ｍｍの
ポリシロケート材質から成る透明基板３を２枚使い、基
板間隔６μｍで挟持した。次いで、透明性物質１３とし
て、透明基板３と同材質から成る厚み１ｃｍのポリシロ
ケート板を、２枚の透明基板３に密着配置した。その
後、透明性物質１３の光入射面に光吸収体１４として、
黒色フェルト布を図６に示すように配置した。その後
は、実施例１と同様な処置を行い、主に液晶材料から成
る層と、透明性樹脂からなる層とが順次積層して成る調
光層を有する液層光学素子を得た。

【００７３】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５３２ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、図３に示すように、液晶光学素
子に１００Ｈｚで８５Ｖの交流矩形波を印加したとこ
ろ、波長５３２ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００７４】（実施例６）透明性樹脂の前駆体として、
ラックストラックＬＣＲ２０８（東亜合成化学社製）を
６５重量％、液晶材料として、ＢＬ０３６（ＭＥＲＣＫ
社製）を３５重量％含有させた調光層前駆体１を調合し
た。この調光層前駆体１を、面積１ｃｍ^２の電極層２を
有し、厚み１.１ｍｍのポリシロケート材質からなる透
明基板３を２枚用い、基板間隔６μｍで挟持した。次い
で、透明性物質１３として、透明基板３と同材質からな
る厚み１ｃｍのポリシロケート板を、２枚の透明基板３
にそれぞれ密着配置した。その後、図７に示すように、
光散乱体１５としてスリガラスを透明性物質１３に装着
した。その後は、実施例１と同様な処置を行い、主に液
晶材料から成る層と、透明性樹脂からなる層とが順次積
層して成る調光層を有する液層光学素子を得た。

【００７５】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
たとき、波長５３０ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、選択反射の光強度は、調光層９
面の全面で均一であった。図３に示すように、液晶光学
素子に１００Ｈｚで１２０Ｖの交流矩形波を印加したと
ころ、波長５３０ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００７６】（実施例７）透明性樹脂の前駆体として、
ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ（共栄社化学株式会社
製）を６８重量％、光重合開始剤として、カンファーキ
ノン（東京化成製）を１重量％、光重合開始助剤として
ＤＭＢＩ（日本化薬株式会社製）を１重量％含有させた
ものを使用し、この前駆体に液晶材料としてＴＬ−２１
３（ＭＥＲＣＫ社製）を３０重量％含有させ、調光層前
駆体１を調合した。この調光層前駆体１を、面積２５ｍ
ｍ^２の電極層２を有し、厚み１.１ｍｍのソーダガラス
から成る透明基板３を２枚使い、基板間隔６μｍで挟持
した。次いで、透明性物質１３として、透明基板３と同
材質から成る厚み１ｃｍのソーダガラス板を、２枚の透
明基板３に密着配置した。その後、図７に示すように、
光散乱体１５としてスリガラスを、透明性物質１３に配
置した。その後は、実施例１と同様な処置を行い、主に
液晶材料から成る層と、透明性樹脂からなる層とが順次
積層して成る調光層を有する液層光学素子を得た。

【００７７】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５２５ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、図３に示すように、液晶光学素
子に１００Ｈｚで１１５Ｖの交流矩形波を印加したとこ
ろ、波長５２５ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００７８】（実施例８）透明性樹脂の前駆体として、
ライトアクリレート１・６ＨＸ−Ａ（共栄社化学株式会
社製）を６７重量％、光重合開始剤としてＣＧＩ７８４
（チバ・スペシャリティケミカルズ社製）を３重量％含
有させて得た前駆体に、液晶材料としてＢＬ０３６（Ｍ
ＥＲＣＫ社製）を３０重量％含有させ、調光層前駆体１
を調合した。この調光層前駆体１を、面積１ｃｍ^２の電
極層２を有し、厚み１.１ｍｍのポリシロケート材質か
ら成る透明基板３を２枚使い、基板間隔６μｍで挟持し
た。次いで、透明性物質１３として、透明基板３と同材
質から成る厚み１ｃｍのポリシロケート板を、２枚の透
明基板３に密着配置した。その後、図６に示すように、
光吸収体１４として黒色フェルト布を、透明性物質１３
に配置した。その後は、実施例１と同様な処置を行い、
主に液晶材料から成る層と透明性樹脂からなる層とが順
次積層して成る調光層を有する液層光学素子を得た。

【００７９】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５６０ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、図３に示すように、液晶光学素
子に１００Ｈｚで１１５Ｖの交流矩形波を印加したとこ
ろ、波長５６０ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００８０】（実施例９）透明性樹脂の前駆体として、
ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ（共栄社化学株式会社
製）を６７重量％、光重合開始剤として、ＣＧＩ７８４
（チバ・スペシャリティケミカルズ社製）３重量％含有
させた。この前駆体に液晶材料として、ＲＤＰ−４０９
５７（ＲＯＤＩＣ社製）を３０重量％含有させ、調光層
前駆体１を調合した。その後、実施例８と同様な処置を
行い、調光層が主に液晶材料から成る層と透明性樹脂か
らなる層とが順次積層して成る液層光学素子を得た。

【００８１】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５５５ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、図３に示すように、液晶光学素
子に１００Ｈｚで１３０Ｖの交流矩形波を印加したとこ
ろ、波長５５５ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００８２】（実施例１０）透明性樹脂の前駆体とし
て、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ（共栄社化学株式会
社製）を６８重量％、光重合開始剤としてカンファーキ
ノン（東京化成製）を１重量％、光重合開始助剤とし
て、ＤＭＢＩ（日本化薬株式会社製）を１重量％含有さ
せたものを使用し、この前駆体に液晶材料としてＢＬ０
３６（ＭＥＲＣＫ社製）を３０重量％含有させ、調光層
前駆体１を調合した。この調光層前駆体１を、面積１ｃ
ｍ^２の電極層２を有し、厚み０.７ｍｍのソーダガラス
から成る透明基板３を２枚使い、基板間隔６μｍで挟持
した。次いで、透明性物質１３として前記透明基板３と
同材質から成る厚み１ｃｍのソーダガラス板を、２枚の
透明基板３に密着配置した。その後、透明性物質１３と
透明基板３との間にトルエン（Ａｌｄｒｉｃｈ社製：屈
折率１.４９６）を介して密着させた。その後は、実施
例１と同様な処置を行い、主に液晶材料から成る層と透
明性樹脂からなる層とが順次積層して成る調光層を有す
る液層光学素子を得た。

【００８３】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５２６ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、図３に示すように液晶光学素子
に１００Ｈｚで１２０Ｖの交流矩形波を印加したとこ
ろ、波長５２６ｎｍ付近の光の反射率が減少した。

【００８４】（実施例１１）透明性樹脂の前駆体とし
て、ライトアクリレートＰＥ−４Ａ（共栄社化学株式会
社製）を７３重量％、光重合開始剤として、カンファー
キノン（東京化成製）を１重量％、光重合開始助剤とし
て、ＤＭＢＩ（日本化薬株式会社製）を１重量％含有さ
せたものを使用し、この前駆体に液晶材料としてＢＬ０
３６（ＭＥＲＣＫ社製）を２５重量％含有させ、調光層
前駆体１を調合した。この調光層前駆体１を、面積１ｃ
ｍ^２の電極層２を有し、厚み０.７ｍｍのソーダガラス
から成る透明基板３を２枚使い、基板間隔６μｍで挟持
した。次いで、透明性物質１３として透明基板３と同材
質から成る厚み１ｃｍのソーダガラス板を、２枚の透明
基板３に密着配置した。その際、透明性物質１３と透明
基板３とをキシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ社製：屈折率１.
４９５）を介して貼り合わせた。その後、図６に示すよ
うに、光吸収体１４として黒色フェルト布を透明性物質
１３に配置した。その後は、実施例１と同様な処置を行
い、調光層が主に液晶材料から成る層と透明性樹脂から
なる層とが順次積層して成る液層光学素子を得た。

【００８５】このようにして得た液晶光学素子では、図
２に示すように、電圧無印加状態で白色光１０を入射し
た場合、波長５２４ｎｍ付近の色純度の高い選択反射光
１１が得られた。また、図３に示すように、液晶光学素
子に１００Ｈｚで１１０Ｖの交流矩形波を印加したとこ
ろ、波長５２４ｎｍ付近の光の反射率が減少した。尚、
本発明は、上記実施形態及び数値実施例だけに限定され
ず、本発明の技術思想の範囲内において、各実施形態は
適宜、変更可能である。

【００８６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
透明性樹脂の前駆体と液晶材料とを含む調光層前駆体
を、電極層を介して２枚の透明基板で挟持し、この透明
基板を介して、干渉性を示す複数の光線を前記調光層前
駆体に入射させようとする際、前記２枚の透明基板の前
記光線の入射面側に、透明性物質を密着配置し、この透
明性物質及び前記透明基板を介して、前記干渉性を示す
複数の光線を前記調光層前駆体に入射させるようにした
ので、特に、透明基板と電極層の界面での反射光は、少
なくとも、透明基板の入射面で反射して調光層前駆体へ
入射することなく、透明性物質へ入射させることができ
る。

【００８７】また、前記透明性物質を、前記複数の光線
の、前記透明基板、前記電極層、前記調光層前駆体の各
界面からの反射光が、調光層前駆体に入射しないよう
に、その厚さや形状を設定することにより、透明基板と
電極層、等の界面での反射光及び多重反射光が調光層前
駆体に入射するのを極力、防止することができる。この
ため、入射光の反射及び多重反射で調光層前駆体に形成
される重合構造を完全に無くすか、又は低減させること
ができる。

【００８８】したがって、得られた調光層に自然光が入
射した時に、従来のように、混在する重合構造によって
光が散乱したり反射したりすることが無く、多層構造に
よる選択反射光のみが観察されるため、選択反射光の色
純度を良好なものとすることができる。牽いては、調光
層の均一性を向上させることができ、その表示画像の色
も均一になって画質を向上させることができる。

【００８９】また、透明性物質は、透明基板に、剥離可
能に密着配置されているため、調光層を形成した後、透
明性物質を速やかに透明基板から剥離することにより、
液晶光学素子が大型化しないようにすることができる。

【００９０】さらに、透明性物質の屈折率を透明基板の
屈折率と同一にすることにより、透明基板と電極層、等
の界面での反射光及び多重反射光が透明性物質に入射す
る時に反射が起きて、その反射光が調光層前駆体へ入射
することを確実に防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態を示す液晶光学素子の製
造方法の断面図である。

【図２】液晶光学素子に自然光を入射させた状態を示す
断面図である。

【図３】自然光を入射させた液晶光学素子に電圧を印加
した状態を示す断面図である。

【図４】透明性物質と透明基板を液体物質で密着させた
液晶光学素子の製造方法を示す断面図である。

【図５】液晶光学素子を包囲する形で透明性物質を配置
した液晶光学素子の製造方法を示す断面図である。

【図６】透明性物質に光吸収体を配置した第２実施形態
を示す断面図である。

【図７】透明性物質に光散乱体を配置した第３実施形態
を示す断面図である。

【図８】透明性物質に光回折体を配置した第４実施形態
を示す断面図である。

【図９】液晶光学素子への入射光の波長と透過率との相
関関係を示す特性線図である。

【図１０】従来の液晶光学素子の製造方法を示す断面図
である。

【符号の説明】

１調光層前駆体２電極層３透明基板４レーザー光５干渉縞６反射光及び多重反射光９調光層１０自然光１１選択反射光１２透過光１３透明性物質１４光吸収体１５光散乱体１６光回折体１７液体物質

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者村井秀哉東京都港区芝五丁目７番１号日本電気株式会社内Ｆターム(参考） 2H089 HA04 KA04 QA16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明性樹脂の前駆体と液晶材料とを含む
調光層前駆体を、電極層を介して、２枚の透明基板にて
挟持し、この透明基板を介して、干渉性を示す複数の光
線を前記調光層前駆体に入射させることにより調光層を
形成する液晶光学素子の製造方法において、前記２枚の透明基板の前記光線の入射面側に、透明性物
質を密着配置し、この透明性物質及び前記透明基板を介
して、前記干渉性を示す複数の光線を前記調光層前駆体
に入射させることを特徴とする液晶光学素子の製造方
法。
【請求項２】前記透明性物質は、前記複数の光線の、
前記透明基板、前記電極層、前記調光層前駆体の各界面
からの反射光が、調光層前駆体に入射しないように、そ
の厚さや形状が設定されていることを特徴とする請求項
１記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項３】前記透明性物質は、前記透明基板に、剥
離可能に密着配置されていることを特徴とする請求項
１、又は２記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項４】前記干渉性を示す複数の光線は、可視波
長のレーザー光であることを特徴とする請求項１記載の
液晶光学素子の製造方法。
【請求項５】前記透明性物質は、前記透明基板に対し
て、液体物質を介して密着配置されていることを特徴と
する請求項１、２、又は３記載の液晶光学素子の製造方
法。
【請求項６】前記液体物質は、その屈折率が１.０〜
２.０であることを特徴とする請求項５記載の液晶光学
素子の製造方法。
【請求項７】前記透明性物質は、光学的に等方性であ
ることを特徴とする請求項１、２、３、４、又は５記載
の液晶光学素子の製造方法。
【請求項８】前記透明性物質は、その屈折率が１.０
〜２.０であることを特徴とする請求項１、２、３、
４、５、６、又は７記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項９】前記透明性物質の屈折率は、前記透明基
板の屈折率と同一であることを特徴とする請求項１、又
は８記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項１０】前記透明性物質は、常温で、固体又は
液体であることを特徴とする請求項１、２、３、４、
５、７、８、又９記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項１１】前記透明性物質の入射面の、前記光線
の入射部分以外の所定位置に、前記透明基板，前記電極
層，前記調光層前駆体の各界面からの反射光を吸収する
ための光吸収体を設けたことを特徴とする請求項１、
２、３、４、５、６、７、８、９、又は１０記載の液晶
光学素子の製造方法。
【請求項１２】前記透明性物質の入射面の、前記光線
の入射部分以外の所定位置に、前記透明基板，前記電極
層，前記調光層前駆体の各界面からの反射光を散乱させ
るための光散乱体を設けたことを特徴とする請求項１、
２、３、４、５、６、７、８、９、又は１０記載の液晶
光学素子の製造方法。
【請求項１３】前記透明性物質の入射面の、前記光線
の入射部分以外の所定位置に、前記透明基板，前記電極
層，前記調光層前駆体の各界面からの反射光を回折させ
るための光回折体を設けたことを特徴とする請求項１、
２、３、４、５、６、７、８、９、又は１０記載の液晶
光学素子の製造方法。