JPH0926568A - 液晶光学素子 - Google Patents
液晶光学素子Info
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- JPH0926568A JPH0926568A JP7176979A JP17697995A JPH0926568A JP H0926568 A JPH0926568 A JP H0926568A JP 7176979 A JP7176979 A JP 7176979A JP 17697995 A JP17697995 A JP 17697995A JP H0926568 A JPH0926568 A JP H0926568A
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Abstract
の配向膜付き電極基板間に液晶材料と高分子化合物から
なる調光層を挟持する液晶光学素子において、前記高分
子化合物が、脂環式化合物の基本骨格を有する重合性化
合物を含む化合物を重合させて得る高分子化合物である
ことを特徴とする液晶光学素子。 【効果】 耐光性、高電荷保持率等の特性を有するF系
液晶材料を用いての液晶光学素子の作製が出来るように
なり、素子特性が向上する。
Description
表示する表示装置、入射光の透過・散乱または透過・遮
断を制御する調光窓、光シャッター等に利用される液晶
光学素子に関するものである。
ック液晶を使用したTN型や、STN型のものが実用化
されている。また近年、強誘電液晶や反強誘電液晶の開
発も行われている。しかしこれらの素子は偏光板を要す
るため、明るさ、コントラストにおいて制限を受けると
いう欠点を有している。
された、液晶をカプセル化し、高分子樹脂中に分散する
方法では、偏光板を要しないため光の利用効率が高いと
いう利点を有している。このPDLCまたはNCAPと
呼ばれる液晶光学素子においては、カプセル内の液晶の
屈折率が電界の有無によって変化することを利用してい
る。つまり高分子樹脂の屈折率を電圧印加時の液晶の屈
折率と等しく設定することにより電圧印加時では光を透
過し透明となり、電圧を除いた時には光を散乱し不透明
となる光学素子が得られる。しかしながら上記液晶光学
素子は、高分子樹脂と液晶との屈折率差を利用している
ため、光透過率の温度依存性が大きい、光透過率の視野
角依存性が大きい等の問題があった。
公報に開示されたカイラルネマチック液晶中に微量の高
分子樹脂を分散させる方法では、電界無印加時に液晶相
はプレナーテクスチャーを形成し素子は透明となり、電
圧印加時にフォーカルコニックテクスチャーを形成し不
透明となる液晶光学素子が得られている。一般にPSC
Tと呼ばれるこの液晶光学素子は、カイラルネマチック
液晶の相変化による光の透過散乱現象を利用しており、
液晶と高分子樹脂との屈折率差を利用するものではな
い。このため、光透過率の温度依存性が小さく、また、
光透過率の視野角依存性も小さいという利点を有してい
る。
9695号公報において、高分子前駆体としては4,
4′−ビスアクリロイルビフェニルが例示されている。
しかしながら、上記開示技術の液晶光学素子は、駆動電
圧が14V以上と高く、薄膜トランジスタ(TFT)等
で駆動することが出来ないという問題点があった。また
上記開示技術による素子はヒステリシスが大きく、階調
表示が出来ないという問題もあった。さらに、電圧無印
加時の光透過率(最大光透過率)を電圧印加で減少しき
った光透過率(最小光透過率)で割った値であるコント
ラストが20程度と小さく、鮮明な画像表示が出来ない
という問題もあった。
液晶光学素子の特性の改善が提案されており、高分子前
駆体として4,4′−ジアクリロイルオキシ3,3′,
5,5′−テトラメチルビフェニルが例示されている。
しかしながら、この液晶光学素子も駆動電圧が約10V
と高く、またヒステリシスも0.8Vと大きく、十分な
ものとは言えない。これら2つの開示技術は、いずれも
ビフェニル骨格を有している高分子前駆体を使用してい
る。
晶中に分散した高分子樹脂の形成手段として、液晶と高
分子前駆体と重合開始剤とその他からなる混合溶液に紫
外線を照射して高分子前駆体を重合させ、高分子物質を
得ている。この際、高分子前駆体と液晶との相溶性が良
好でないと、混合溶液に紫外線を照射して得る高分子物
質は偏って分散してしまうため、液晶光学素子の特性及
び均一性が乏しくなるという問題がある。
対する相溶性が良好な高分子前駆体を用いて低駆動電圧
で、優れたヒステリシス特性かつ均一性に優れた液晶素
子を提供することにある。
テリシス、コントラスト等の電気光学特性は、高分子物
質とカイラルネマチック液晶との相互作用が大きく影響
していることが知られているが、その相互作用を化学構
造から予想することはできていない。
にビフェニル骨格にこだわらずに高分子物質を鋭意研究
した結果、前記高分子物質が、一般式(I)に示される
化合物を重合させて成る高分子物質、もしくは一般式
(I)に示される化合物と他の重合性化合物とを共重合
させて成る高分子物質を、上記した相変化型の液晶光学
素子のカイラルネマチック液晶またはコレステリック液
晶中に分散する高分子物質として使用することにより、
低電圧駆動で、優れたヒステリシス特性かつ均一性に優
れた液晶素子が得られることを見出した。
も一方が透明な2枚の基板間にカイラルネマチック液晶
またはコレステリック液晶と高分子物質とからなる調光
層を挟持した液晶光学素子において、前記高分子物質
が、一般式(I)に示される化合物を重合させて成る高
分子物質、もしくは一般式(I)に示される化合物と他
の重合性化合物とを共重合させて成る高分子物質である
ことを特徴とする。
しいが、異なっていてもかまわない。
基とすることで一般式(I)の化合物を重合するときの
反応性を高めることから有利である。すなわち、炭素数
が多くなるとかさ高くなるために重合しにくくなり、実
用に供することは困難となる。
に対する化合物の溶解性が低くなるため素子の作製が困
難となってしまうため好ましくない。なお、R2 の炭化
水素基は、直鎖状、分岐状、環状いずれでも良い。
る高分子物質は、前記した相変化型の液晶光学素子のカ
イラルネマチック液晶中に分散する高分子物質としての
み限定利用することはなく、例えば[従来の技術]で挙
げたPDLCまたはNCAPと呼ばれる液晶光学素子に
使用される高分子物質にも利用することができる。
る高分子物質は一般式(I)に示される化合物の一種類
のみを単独で重合させて得たものでも良いし、一般式
(I)中の二種類以上の化合物の共重合体や、他の化学
式で表される一種類以上の高分子前駆体との共重合体で
あっても構わない。他の高分子前駆体としては、アクリ
ロイル基、ビニル基等の通常の重合性基を有する高分子
前駆体であればいずれも使用できる。また重合性基は、
高分子前駆体一分子中に複数あっても構わない。一般式
(I)が共重合体に占める割合は特に限定されないが、
50モル%程度以上であると、一般式(I)の化合物に
よる効果を充分発揮することが可能になる。
共重合できる重合性基を有する高分子前駆体としては、
2−エチルヘキシルアクリレート、ブチルエチルアクリ
レート、ブトキシエチルアクリレート、2−シアノエチ
ルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、2−エトキシエチルアクリレート、N,N−ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノ
エチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレー
ト、ジシクロペンテニルアクリレート、グリシジルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソ
アミルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデ
シルアクリレート、ラウリルアクリレート、モルホリン
アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノ
キシジエチレングリコールアクリレート、、イソアミル
アクリレート、テトラフルオロフルフリルアクリレー
ト、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルアクリレ
ート、2−(パーフルオロブチル)エチルアクリレー
ト、2−(パーフルオロデシル)エチルアクリレート等
の単官能アクリレート化合物、2−エチルヘキシルメタ
クリレート、ブチルエチルメタクリレート、ブトキシエ
チルメタクリレート、2−シアノエチルメタクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−
エトキシエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
エチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル
メタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、
ジシクロペンテニルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、イ
ソボニルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、
ラウリルメタクリレート、モルホリンメタクリレート、
フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレ
ングリコールメタクリレート、2,2,2−トリフルオ
ロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタ
フルオロプロピルメタクリレート、2−(パーフルオロ
ブチル)エチルメタクリレート、2−(パーフルオロヘ
キシル)エチルメタクリレート、2−(パーフルオロデ
シル)エチルメタクリレート、等の単官能メタクリレー
ト化合物、ジチレングリコールジアクリレート、1,4
−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブチレング
リコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリ
レートグリセロールジアクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ
アクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、4,
4′−ジアクリロイルオキシスチルベン、4,4′−ジ
アクリロイルオキシジエチルスチルベン、4,4′−ジ
アクリロイルオキシジプロピルスチルベン、4,4′−
ジアクリロイルオキシジブチルスチルベン、2,2,
3,3,4,4−ヘキサフルオロ1,5−ペンタンジオ
ールジアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5
−オクタフルオロ1,6−ヘキサンジオールジアクリレ
ート等の多官能アクリレート化合物、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタ
クリレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレ
ート、ジシクロペンタニルジメタクリレート、グリセロ
ールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメ
タクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリス
リトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペン
タメタクリレート、ウレタンメタクリレートオリゴマ
ー、4,4′−ジメタクリロイルオキシスチルベン、
4,4′−ジメタクリロイルオキシジエチルスチルベ
ン、4,4′−ジメタクリロイルオキシジプロピルスチ
ルベン、4,4′−ジメタクリロイルオキシジブチルス
チルベン、2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロ
1,5−ペンタンジオールジメタクリレート、2,2,
3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ1,6−ヘキ
サンジオールジメタクリレート等の多官能メタクリレー
ト化合物、スチレン、アミノスチレン、酢酸ビニル、等
があるがこれに限定されるものではない。
量%以下含有されていることが望ましい。少なすぎると
フォーカルコニックテクスチャーを保持するいわゆるメ
モリー現象が発現し、多すぎると駆動電圧が上昇しかつ
電圧無印加時の透過率が低下を引き起こす。
法、加熱重合法等が挙げられるが、光重合法が好まし
い。
としては電子線や紫外線を用いることができる。紫外線
による光重合を行う際には反応促進のために光重合開始
剤を添加することが望ましい。その光重合開始剤として
は、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニル−1−オン、1−(4−
イソプロピルフェニル−)−2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)
−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2
−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−
モルホリノプロパン−1等のアセトフェノン系、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケター
ル等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息
香酸、4−フェニルベンゾフェノン、3,3−ジメチル
−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系、
チオキサンソン、2−クロルチオキサンソン、2−メチ
ルチオキサンソン等のチオキサンソン系、ジアゾニウム
塩系、スルホニウム塩系、ヨードニウム塩系、セレニウ
ム塩系等の通常の光重合開始剤が使用できる。開始剤は
固体でも液体でも構わないが素子の均一性の点から液晶
中に溶解または相溶するものが望ましい。開始剤濃度は
高分子樹脂前駆体の30重量%以下が好ましい。また必
要の応じてメチルジエタノールアミン、4−ジメチルア
ミノ安息香酸等の光開始助剤を添加しても構わない。
料としては、ネマチック液晶のほか、ネマチック液晶中
にカイラル剤を混合したカイラルネマチック液晶が使用
されるが、これと類似の特性を有している通常のコレス
テリック液晶も使用することができる。
素系、塩素系等のいずれの液晶でも使用することができ
るが、高電荷保持率、高△nの液晶が望ましく、特に塩
素系液晶が有効である。またカイラル剤も、特に制限は
無いが、液晶と相溶することが望ましい。
目的とするカイラルピッチにより決定される。カイラル
ネマチック液晶のカイラルピッチは、光透過型として使
用する場合は、素子の駆動電圧とコントラストの関係よ
り1.0μm 以上5.0μm以下が望ましい。また、選
択反射型として使用する場合は0.25μm 以上1.0
μm 以下が望ましい。
ス、プラスチック、金属等が使用できる。またカラーフ
ィルターを有する基板を用いたり、顔料や色素等を基板
中に分散させることによって、カラー化することができ
る。
する。
用できるが、使用する基板自身が導電性を有している場
合は、基板を電極としても利用することもできる。電極
層は調光層と密着した状態で設置する。
ように処理されていないものでもよいが、処理されてい
ることが望ましい。この際、2枚の基板ともホモジニア
ス配向であっても良いし、一方がホモジニアス配向で、
もう一方がホメオトロピック配向である、いわゆるハイ
ブリッドであっても構わない。この配向処理には、TN
液晶、STN液晶等に用いられるポリイミド等の通常の
配向膜が利用できる。またラビング処理することが望ま
しい。
に用いられるガラスまたは高分子樹脂等から成るロッド
状、球状のスペーサーを使用することができ、その間隔
は3μm 〜30μm 程度が望ましい。
った基板間に、カイラルネマチック液晶および単量体の
混合物を挟持した後、光を照射して製造することができ
る。この際、混合物の注入は、減圧下でも常圧下でも構
わない。また必要であれば、加温を行っても構わない。
を有する2枚の透明な基板間に挟持した構造である光透
過型のみならず一方の基板が不透明な光反射型にも適応
できる。例えば調光層を電極層を有する透明な基板と電
極層を有する光反射板間に挟持した素子構造、電極層を
有する透明な基板と電極層を有する光吸収板間に挟持し
た素子構造等がある。
あれば無機材料でも有機材料でも構わない。また反射強
度または反射波長は目的とする素子特性により任意に変
更できる。その構造は光反射材料が光反射板全体を形成
しているものであっても良いし、光反射材料がガラス等
の別の材質の基板上にコーティングされていても良い。
光反射材料をコーティングした場合、光反射材料が調光
層側にある必要はない。また光反射材料をコーティング
する基板は光反射材料が調光層側に位置していない場合
は必ずしも透明である必要はない。
いればあれば無機材料でも有機材料でも構わない。吸収
強度または吸収波長は目的とする素子特性により任意に
変更できる。その構造は光吸収材料が光吸収板全体を形
成しているものであっても良いし、光吸収材料がガラス
等の別の材質の基板上にコーティングされていても良
い。光吸収材料をコーティングした場合、光吸収材料が
調光層側にある必要はない。また光吸収材料をコーティ
ングする基板は光吸収材料が調光層側に位置していない
場合は必ずしも透明である必要はない。光反射材料また
は光吸収材料が導電性を有している場合はこれらを電極
としても利用することもできる。
や間仕切り等の建築材料や文字や図形を表示する表示装
置がある。
細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下
の実施例に限定されるものではない。
電圧、コントラスト、ヒステリシスは以下のように定義
する。
0%(初期透過率)、電圧印加により減少しきった光透
過率を0%(最小透過率)とした時、素子の光透過率が
10%となる印加電圧。
おいて、電圧無印加時の光透過率(初期透過率)を電圧
印加により減少しきった光透過率(最小透過率)で割っ
た値である。
100%(初期透過率)、電圧印加により減少しきった
光透過率を0%(最小透過率)とした場合において、印
加電圧を0Vから上昇させた時に、素子の光透過率が5
0%となる電圧をV(50)とし、さらに電圧を印加し
て光透過率が0%となった後、印加電圧を減少させた時
に光透過率が50%となる電圧をV(50:リバース)
と定めると、ヒステリシスは以下の式で示される。
7(ロディック社製)95wt%、カイラル剤S811
(メルク社製)2.7wt%、下記式で示される重合性
化合物2.25wt%およびベンゾインメチルエーテル
0.05wt%の混合液を調製した。前記混合液は均一
に混合しており、室温において液晶と下記式で示される
重合性化合物は良好な相溶性を示した。前記混合液を2
枚のホモジニアス配向処理された電極層付き透明ガラス
基板から成るギャップ10μm の液晶セルに注入した。
この液晶セルを20℃に保ち、0.1mW/cm2 の紫外
線(波長365nm)を150分間照射し、重合性化合物
を硬化させた。
光源としてヘリウム−ネオンレーザ、検出器としてフォ
トダイオードを用いて100Hzの矩形波を印加して測
定した。光学系のF値は15である。25℃での特性を
表1に示す。
12(ロディック社製)95.5wt%、カイラル剤S
811(メルク社製)2.2wt%、下記式で表される
化合物2.25wt%、および2,2−ジエトキシアセ
トフェノン0.05wt%の混合液を調製した。前記混
合液は均一に混合しており、室温において液晶と下記式
で示される重合性化合物は良好な相溶性を示した。前記
混合液を2枚のホモジニアス配向処理された電極層付き
透明ガラス基板から成るギャップ10μm の液晶セルに
注入した。
あり、調光部分の光透過率は印加電圧に応じてムラ無く
変化した。紫外線の照射条件及び電気光学特性の評価条
件は実施例1と同じ条件で行った。
15(メルク社製)95wt%、カイラル剤S811
(メルク社製)2.8wt%、下記式で表される化合物
2.15wt%およびベンゾインメチルエーテル0.0
5wt%の混合液を調製した。前記混合液は均一に混合
しており、室温において液晶と下記式で示される重合性
化合物は良好な相溶性を示した。前記混合液を2枚のホ
モジニアス配向処理された電極層付き透明ガラス基板か
ら成るギャップ10μm の液晶セルに注入した。
あり、調光部分の光透過率は印加電圧に応じてムラ無く
変化した。紫外線の照射条件及び電気光学特性の評価条
件は実施例1と同じ条件で行った。
P−40957(ロディック社製)95wt%、カイラ
ル剤S811(メルク社製)2.8wt%、下記式
(a)で表される化合物1.3wt%と下記式(b)で
表される化合物0.85wt%およびベンゾインメチル
エーテル0.05wt%の混合液を調製した。前記混合
液は均一に混合しており、室温において液晶と下記式で
示される重合性化合物は良好な相溶性を示した。前記混
合液を2枚のホモジニアス配向処理された電極層付き透
明ガラス基板から成るギャップ10μm の液晶セルに注
入した。 式(a)
あり、光透過率は印加電圧に応じてムラ無く変化した。
紫外線の照射条件及び電気光学特性の評価条件は実施例
1と同じ条件で行った。
−ビスアクリロイルオキシビフェニル(下記式、2.2
5wt%)を使用する以外は実施例1と同等の条件で行
った。
4′−ビスアクリロイルオキシビフェニル(下記式、
2.25wt%)を使用した以外は実施例2と同等の条
件で行った。
ある。また従来の液晶光学素子と比べてコントラストが
向上するため、鮮明な画像表示が可能である。また、駆
動電圧が低下するため、TFT駆動が可能である。また
ヒステリシスも低下するため、階調表示が可能である。
示す図である。
図である。
Claims (1)
- 【請求項1】電極層が付いた少なくとも一方が透明な2
枚の基板間にカイラルネマチック液晶またはコレステリ
ック液晶と高分子物質とからなる調光層を挟持し、電界
無印加時にプレナーテクスチャーとなり、電界印加時に
フォーカルコニックテクスチャーとなる液晶光学素子に
おいて、前記高分子物質が、一般式(I)に示される化
合物を重合させて成る高分子物質、もしくは一般式
(I)に示される化合物と他の重合性化合物とを共重合
させて成る高分子物質であることを特徴とする液晶光学
素子。 【化1】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7176979A JP2783197B2 (ja) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 液晶光学素子 |
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|---|---|---|---|
| JP7176979A JP2783197B2 (ja) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 液晶光学素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0926568A true JPH0926568A (ja) | 1997-01-28 |
| JP2783197B2 JP2783197B2 (ja) | 1998-08-06 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7176979A Expired - Fee Related JP2783197B2 (ja) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 液晶光学素子 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2783197B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004285340A (ja) * | 2003-03-04 | 2004-10-14 | Asahi Glass Co Ltd | 重合性液晶組成物、これを重合した高分子液晶および用途 |
| JP2015110741A (ja) * | 2013-11-11 | 2015-06-18 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| JP2016110148A (ja) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 三菱化学株式会社 | 液晶素子、液晶組成物、液晶素子を用いたスクリーン及びディスプレイ |
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| JPH07175051A (ja) * | 1993-03-31 | 1995-07-14 | Ricoh Co Ltd | 液晶/プレポリマー組成物およびそれを用いた液晶表示素子 |
-
1995
- 1995-07-13 JP JP7176979A patent/JP2783197B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
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| JPH07175051A (ja) * | 1993-03-31 | 1995-07-14 | Ricoh Co Ltd | 液晶/プレポリマー組成物およびそれを用いた液晶表示素子 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2783197B2 (ja) | 1998-08-06 |
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