JP2000260335A

JP2000260335A - プラズマディスプレイパネル用部材

Info

Publication number: JP2000260335A
Application number: JP6621999A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Iwamoto; 正聰岩元; Takeshi Horiuchi; 健堀内
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1999-03-12
Filing date: 1999-03-12
Publication date: 2000-09-22

Abstract

(57)【要約】【課題】実質的に隔壁・欠けの影響がなく、発光欠点、
発光余点のないプラズマディスプレイパネル用部材を提
供する。【解決手段】基板上に電極と隔壁が形成されたプラズマ
ディスプレイパネル用部材であって、各隔壁が数本の細
隔壁から構成されるプラズマディスプレイパネル用部材
によって達成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ用部材に関する。なお、本発明におけるプラズマデ
ィスプレイとは、隔壁で区切られた放電空間内において
放電することにより表示を行うディスプレイを指し、上
記のＡＣ方式プラズマディスプレイ以外にも、プラズマ
アドレス液晶ディスプレイをはじめとする各種放電型デ
ィスプレイを含むものである。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）は液晶
パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が
容易であることから、ＯＡ機器、広報表示装置などの分
野に用いられている。また、高品位テレビジョンの分野
などへの進展が非常に期待されている。このような用途
の拡大にともなって、微細で多数の表示セルを有するカ
ラープラズマディスプレイが注目されている。

【０００３】その構造と原理を、ＡＣ方式プラズマディ
スプレイを例に挙げて説明すると、前面ガラス基板と背
面ガラス基板との間に備えられた放電空間内で対抗する
アノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさ
せ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した
紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体にあてることによ
り表示を行うものである。この場合、放電の広がりを一
定領域に押さえ、表示を規定のセル内で行わせると同時
に、かつ均一な放電空間を確保するために隔壁（障壁、
リブともいう）が設けられている。ＡＣ方式プラズマデ
ィスプレイの場合、この隔壁はストライプ状または格子
状に形成されることが多い。

【０００４】ストライプ状の隔壁は、およそ幅２０〜２
００μｍ、高さ５０〜２００μｍであるが、通常、前面
ガラス基板や背面ガラス基板にガラス粉末を含む絶縁ペ
ーストをスクリーン印刷法で印刷・乾燥し、この印刷・
乾燥工程を１０数回繰り返して所定の高さに形成する。

【０００５】特開平１−２９６５３４号公報、特開平２
−１６５５３８号公報、特開平５−３４２９９２号公
報、特開平６−２９５６７６号公報、特開平８−５０８
１１号公報では、隔壁を感光性ペーストを用いてフォト
リソグラフィー技術により形成する方法が提案されてい
る。

【０００６】上記のいずれの方法も、ガラス粉末を含む
絶縁ペーストを隔壁パターン形状に形成した後、焼成す
ることにより隔壁を形成する。その際、隔壁の一部が、
印刷不良、露光不良、焼成収縮、異物等により、欠けた
り脱落するという問題が生じ得る。この隔壁欠けがある
と、前面板と背面板を合わせてパネルを形成した際に、
背面板の隔壁頂部と前面板の間にギャップが生じたり、
欠けた隔壁が放電空間を塞いだりする。このことによ
り、放電時に発光欠点や発光余点が発生し、映像に乱れ
が生じる問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、実質的に隔
壁欠けの影響による誤放電の少ないプラズマディスプレ
イを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上に電極とストライプ状の隔壁が形成されたプラズマデ
ィスプレイパネル用部材であって、放電空間を構成する
隔壁が複数本の細隔壁から構成されることを特徴とする
プラズマディスプレイパネル用部材である。

【０００９】また本発明は、基板上に電極と格子状の隔
壁が形成されたプラズマディスプレイパネル用部材であ
って、２方向に並列した隔壁群のうち少なくとも１方向
の隔壁群の隔壁が複数本の細隔壁から構成されることを
特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材である。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明に用いる基板としては、特
に限定されないが、ガラス基板、セラミックス基板など
を用いることができる。

【００１１】基板は、好ましくは洗浄されたのち、電極
が形成される。電極の形成方法としては、例えば、導電
性ペーストをスクリーンパターン印刷したのち焼成する
方法、感光性導電ペーストをスクリーン印刷したのち電
極パターン露光し焼成する方法、感光性導電ペーストを
ノズル等を用い塗布したのち電極パターン露光し焼成す
る方法などが好ましく用いられる。導電性ペーストもし
くは感光性導電ペーストには、例えば、銀、銅などを含
有するものを用いることができる。

【００１２】電極が形成された基板上には、通常、誘電
体層を形成する。誘電体層の厚みは、４〜２０μｍ、よ
り好ましくは５〜１８μｍであることが均一な誘電体層
の形成のために好ましい。厚みを２０μｍ以下とするこ
とで、焼成の際の脱バインダー性を良好なものとし、ク
ラックの発生を抑え、また基板へかかる応力を小さくで
きるため基板の反り等も防ぐことができる。また、４μ
ｍ以上とすることで、厚みの均一性を容易に保持でき
る。

【００１３】誘電体層は、無機材料粉末と有機バインダ
ーからなる誘電体ペーストをガラス基板上に塗布または
積層し、焼成することによって形成できる。誘電体層用
ペーストに用いる無機材料粉末の量は、無機材料粉末と
有機成分の和に対して５０〜９５重量％であるのが好ま
しい。５０重量％以上とすることで、誘電体層の緻密
性、表面の平坦性を得ることができ、９５重量％以下と
することで、ペースト粘度の上昇を抑え、塗布時の厚み
ムラを小さくすることができる。

【００１４】誘電体層には酸化ビスマス、酸化鉛、酸化
亜鉛のうち少なくとも１種類、さらに好ましくは酸化ビ
スマスを１０〜６０重量％含むガラスを用いることによ
って熱軟化温度、熱膨張係数のコントロールを容易に行
うことができる。また、酸化ビスマスを１０〜６０重量
％含有するガラスを用いることには、ペーストの安定性
などの利点もある。酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛の
添加量は６０重量％以下とすることでガラスの耐熱温度
が低くなり過ぎるのを防ぎ、ガラス基板上への焼き付け
を容易なものとすることができる。

【００１５】具体的なガラス組成の例としては、酸化物
換算表記で以下の組成を含むものが挙げられるが、本発
明は、このガラス組成に限定されるものではない。酸化ビスマス１０〜６０重量％酸化珪素３〜５０重量％酸化ホウ素１０〜４０重量％酸化バリウム５〜２０重量％酸化亜鉛１０〜２０重量％。

【００１６】誘電体層中の無機材料としては、ガラスの
他に、酸化チタン、アルミナ、シリカ、チタン酸バリウ
ム、ジルコニア等の白色フィラーが好ましく用いられ
る。無機材料中の含有比率としては、ガラスを５０〜９
５重量％、フィラーを５〜５０重量％とするのが好まし
い。フィラーをこの範囲内に含有することによって誘電
体層の反射率を向上させ、高輝度のプラズマディスプレ
イが得られる。

【００１７】次に、隔壁を形成する。本発明のプラズマ
ディスプレイは、放電空間を構成する各々の隔壁が複数
本の細隔壁からなることが必要である。隔壁が複数本の
細隔壁からなることによって、細隔壁の一部に欠陥が生
じても、残りの細隔壁が十分隔壁としての機能を果たし
実質的に欠陥の無い隔壁を得ることができる。

【００１８】細隔壁の本数はとくに制限がないが、本数
が増えると隔壁の線幅がより細くなり細隔壁の形成が難
しくなるため、２〜３本であることが好ましい。

【００１９】図１は、細隔壁、隔壁、隔壁群の関係の例
を示したものである。図１において、１は細隔壁、２は
一組の隔壁、３は隔壁群を表す。

【００２０】隔壁は基板上にストライプ状または格子状
に形成される。本発明においては、ストライプ状の隔壁
を複数の細隔壁からなるものとする。格子状隔壁の場
合、２方向に並列した隔壁群のうち少なくとも１方向の
隔壁群の隔壁が複数本の細隔壁から構成されることが必
要である。特に各色素間を隔てる隔壁群の隔壁が複数本
の細隔壁から構成されることが誤発光を防止する点から
好ましい。また、格子状の２方向の隔壁群の両方を細隔
壁からなるものとしても良い。

【００２１】隔壁の強度を向上させるなどの目的で、細
隔壁間を一部繋げることもできる。

【００２２】細隔壁の高さは５０〜２００μｍであるこ
とが好ましく、線幅は１０〜１００μｍであることが好
ましい。線幅は細隔壁間で同じでも良いし変えても良
い。

【００２３】本発明の複数本の細隔壁からなる隔壁は、
プラズマディスプレイ用背面板に形成する隔壁とプラズ
マディスプレイ用前面板に形成する隔壁の双方に適用で
きる。

【００２４】隔壁端部に傾斜部を形成したり、隔壁を多
層構成にして上層より下層に低軟化点ガラスを用いるこ
とも、隔壁と、基板、誘電体層等の下地との接着力をあ
げることができるため好ましい。下地との接着力が向上
することにより、隔壁端部の跳ね上がり欠陥を防止でき
る。

【００２５】隔壁の誘電率はパネルの消費電力、放電寿
命に優れている点から周波数１ＭＨｚ、温度２０℃の時
に４〜１０であることが好ましい。

【００２６】また、本発明の隔壁の比重は、軽量化の点
から２〜３．３であることが好ましい。

【００２７】細隔壁を形成する方法は特に限定されない
が、例えば、無機材料と有機成分からなる隔壁用ペース
トを用いて、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、リ
フトオフ法、フォトリソグラフィ法、母型押し当て法な
どにより隔壁パターンを基板上に形成し、焼成すること
により、細隔壁を形成することができる。なかでも、感
光性ペーストを用いて塗布膜を形成し、該塗布膜をフォ
トマスクを通して露光し、現像することにより、隔壁パ
ターンを形成し、その後該隔壁パターンを焼成して隔壁
を得る感光性ペースト法は、工程が少なく、微細なパタ
ーン形成が可能である点から好ましい。

【００２８】これらの細隔壁の形成方法に用いる隔壁用
ペーストの好ましい態様を、以下に説明する。

【００２９】隔壁用ペーストは、通常、無機成分と有機
成分とからなる。

【００３０】無機成分としては、ガラス材料が一般的に
用いられる。具体的には、ガラス転移点が４３０〜５０
０℃、軟化点が４７０〜５８０℃のガラス材料を用いる
ことが好ましい。ガラス転移点を５００℃以下、軟化点
を５８０℃以下とすることで焼成温度を低くでき焼成の
際の基板の歪みを少なくできる。またガラス転移点を４
３０℃以上、軟化点を４７０℃以上とすることで、より
緻密な隔壁層が得られ、隔壁の剥がれ、断線、蛇行を防
止できる。

【００３１】また、基板ガラスに用いられる一般的な高
歪点ガラスの熱膨張係数が８０〜９０×１０^-7／Ｋであ
ることから、基板のそり、パネル封着時の割れ防止のた
めには、５０〜４００℃の熱膨張係数（α₅₀〜₄₀₀）が
５０〜９０×１０^-7／Ｋ、さらには、６０〜９０×１０
^-7／Ｋのガラス材料を隔壁および誘電体層に用いること
が好ましい。上記の特性を有するガラス材料を用いるこ
とによって、隔壁の剥がれや断線を防ぐことができる。

【００３２】隔壁材料の組成としては、酸化珪素はガラ
ス中に、３〜６０重量％の範囲で配合することが好まし
い。３重量％以上とすることによりガラス層の緻密性、
強度や安定性がより向上し、また熱膨張係数をガラス基
板の熱膨張係数に容易に近づけることができる。また６
０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くな
り、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点が
ある。

【００３３】酸化ホウ素はガラス中に、５〜５０重量％
の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱
膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的
特性を向上することができる。５０重量％以下にするこ
とによりガラスの安定性が向上する。

【００３４】酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリ
ウムのうち少なくとも１種類を２〜１５重量％含むガラ
ス粉末を用いることによっても、ガラス基板上にパター
ン加工できる温度特性を有する感光性ペーストを得るこ
とができる。リチウム、ナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属の酸化物は添加量としては、１５重量％以下、
好ましくは、１０重量％以下にすることによって、ペー
ストの安定性を向上することができる。

【００３５】酸化リチウムを含むガラス組成としては、
酸化物換算表記で酸化リチウム２〜１５重量％酸化珪素１５〜５０重量％酸化ホウ素１５〜４０重量％酸化バリウム２〜１５重量％酸化アルミニウム６〜２５重量％の組成を含有することが好ましい。また、上記組成で、
酸化リチウムの代わりに、酸化ナトリウム、酸化カリウ
ムを用いても良いが、ペーストの安定性の点で、酸化リ
チウムが好ましい。

【００３６】また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛の
ような金属酸化物と酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有す
るガラスによって、より低いアルカリ含有量で軟化点や
線熱膨張係数のコントロールが容易になる。

【００３７】特に感光性ペースト法に用いる感光性ペー
ストのガラス粉末としては、酸化アルミニウム、酸化バ
リウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化ジルコニウムなどを含有するのが好ましい。特
に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加
することにより、軟化点、熱膨張係数、屈折率を制御す
ることができる。ガラス成分中の酸化アルミニウム、酸
化バリウム、酸化亜鉛の含有量は４０重量％以下が好ま
しく、より好ましくは２５重量％以下である。

【００３８】隔壁用ペーストの無機成分に、軟化点が５
５０〜１２００℃、さらに好ましくは６５０〜８００℃
であるフィラーを３〜６０重量％含ませてもよい。これ
により、パターン形成後の焼成時の収縮率が小さくな
り、パターン形成が容易になり、焼成時の形状保持性が
向上する。

【００３９】フィラーとしては、チタニア、アルミナ、
チタン酸バリウム、ジルコニアなどのセラミックスや酸
化珪素、酸化アルミニウムを１５重量％以上含有する高
融点ガラス粉末が好ましい。一例としては、以下の組成
を含有するガラス粉末を用いることが好ましい。酸化珪素：２５〜５０重量％酸化ホウ素：５〜２０重量％酸化アルミニウム：２５〜５０重量％酸化バリウム：２〜１０重量％。

【００４０】高融点ガラス粉末をフィラーとして用いる
際、母ガラス材料（低融点ガラス）との屈折率差が大き
いと、感光性ペースト法においてパターン形成性が悪く
なる傾向にある。そこで、低融点ガラス粉末の平均屈折
率Ｎ１、高融点ガラス粉末の平均屈折率Ｎ２を、次の関
係の範囲内とすることによって、パターン形成性を向上
させることができる。 −０．０５≦Ｎ１−Ｎ２≦０．０５無機粉末の屈折率のばらつきが小さいことも光散乱低減
には好ましい。屈折率のばらつきが±０．０５である
（無機粉末の９５体積％以上が平均屈折率Ｎｉ±０．０
５の範囲に入っている）ことが、光散乱低減には好まし
い。

【００４１】用いるフィラーの粒子径としては、平均粒
子径１〜６μｍのものが好ましい。また、Ｄ１０（１０
体積％粒子径）０．４〜２μｍ、Ｄ５０（５０体積％粒
子径）：１〜３μｍ、Ｄ９０（９０体積％粒子径）：３
〜８μｍ、最大粒子サイズ：１０μｍ以下の粒度分布を
有するものを使用することがパターン形成を行う上で好
ましい。さらにより好ましくはＤ９０は３〜５μｍ、最
大粒子サイズ５μｍ以下が好ましい。Ｄ９０が３〜５μ
ｍの細かい粉末であることが、焼成収縮率を低くするこ
とができ、かつ気孔率が低い隔壁を作製する点で優れて
いることから好ましい。また隔壁上部の長手方向の凹凸
を±２μｍ以下にすることが可能となる。フィラーに小
さい粒径の粉末を用いることで、気孔率をが下げること
ができるばかりでなく、隔壁上部の凹凸が小さくなり、
誤放電を防止することができる。

【００４２】感光性ペースト法に用いる無機材料の量
は、無機材料と有機成分の和に対して６５〜８５重量％
であるのが好ましい。６５重量％以上とすることで、焼
成時の収縮率が小さくなり、隔壁の断線、剥がれを防止
できる。また、ペーストとして乾燥が易しくなり、ベタ
付きが防止でき、印刷特性が向上する。さらにパターン
太り、現像時の残膜の発生を防止できる。８５重量％以
下とすることで隔壁パターン底部まで光硬化し易くな
り、パターンの形成性が向上できる。

【００４３】無機成分には、焼成後の隔壁を着色する目
的で、種々の金属酸化物を添加してもよい。例えば、感
光性ペースト中に黒色の金属酸化物を１〜１０重量％含
むことによって、黒色の隔壁を形成することができる。
黒色に着色された隔壁はコントラストを上げる点で優れ
ている。さらに、黒色以外に、赤、青、緑等に発色する
無機顔料を添加したペーストを用いることによって、各
色のパターンを形成できる。

【００４４】隔壁形成ペースト用の有機成分としては、
ポリマー成分を含有する。さらに必要に応じて、可塑
剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機ある
いは無機の沈殿防止剤などの添加剤成分を加えることも
行われる。ポリマ成分としては、エチルセルロースに代
表されるセルロース化合物、ポリイソブチルメタクリレ
ートに代表されるアクリルポリマーなどを用いることが
できる。また、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチ
ラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エス
テル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステ
ル共重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタク
リレート樹脂などがあげられる。可塑剤以下の成分は次
に詳述する感光性ペーストにも共通の成分を用いること
ができる。

【００４５】感光性ペーストの有機成分としては、感光
性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち
少なくとも１種類から選ばれる感光性成分を含有し、さ
らに必要に応じて、バインダー、光重合開始剤、紫外線
吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘
剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機
の沈殿防止剤などの添加剤成分を加えることも行われ
る。

【００４６】感光性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どのいわゆるジアゾ樹脂等がある。

【００４７】また、光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結
合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル
等がある。

【００４８】本発明において用いる感光性成分は、上記
のすべてのものを用いることができる。感光性ペースト
として、無機微粒子と混合して簡便に用いることができ
る点で、（Ａ）のものが好ましい。

【００４９】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソ
オクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メ
トキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコー
ルアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリ
レート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキ
シエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリ
フロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジ
アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート等のアクリレート、また、これ
らの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭
素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−
メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルス
チレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチル
スチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルス
チレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレ
ン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、およ
び、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくは
すべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピ
ロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種ま
たは２種以上使用することができる。

【００５０】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。

【００５１】これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と
感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。
これらの範囲とすることで、パターン形成性、硬化後の
硬度を向上できる。

【００５２】バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。

【００５３】感光性ガラスペースト中の感光性ポリマ
ー、感光性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマ
ー成分の量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率
の点で優れていることから、ガラス粉末と感光性成分の
和に対して、５〜３０重量％であることが好ましい。こ
の範囲とすることで、パターン形成性、パターンの太り
防止に、より効果がある。

【００５４】紫外線吸収剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェ
ニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ
安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は吸光剤
として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しな
いで吸光剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので
好ましい。これらの中でもアゾ系およびベンゾフェノン
系染料が好ましい。

【００５５】有機染料の添加量はガラス粉末に対して
０．０５〜１重量％が好ましい。より好ましくは０．１
〜０．１８重量％である。０．０５重量％以上とするこ
とで紫外線吸光剤の添加効果がより顕著になり、１重量
％以下とすることで焼成後の絶縁膜特性を向上できる。
また、増感剤は、露光波長に吸収を有しているものが
用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈折率が極端
に高くなるため、増感剤を多量に添加することによっ
て、有機成分の屈折率を向上することができる。この場
合の増感剤の添加量は３〜１０重量％添加することがで
きる。

【００５６】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。また重合禁
止剤を添加することにより、光硬化反応のしきい値があ
がり、パターン線幅の縮小化、ギャップに対するパター
ン上部の太りがなくなる。その添加量は、感光性ペース
ト中に、通常、０．０１〜１重量％である。０．０１重
量％以上とすることで添加効果がより顕著になり、１重
量％以下とすることで感度が向上しパターン形成するた
めの露光量が低くできる。

【００５７】溶液の粘度を調整したい場合、有機溶媒を
加えてもよい。このとき使用される有機溶媒としては、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シク
ロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
メチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベ
ンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロ
ベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれ
らのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いら
れる。

【００５８】感光性ペーストは、通常、無機微粒子、紫
外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重合
開始剤、ガラスフリットおよび溶媒等の各種成分を所定
の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で
均質に混合分散し作製する。

【００５９】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐ
ｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗
布をスピンコート法で行う場合は、２００〜５０００ｃ
ｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚
１０〜２０μｍを得るには、１万〜１０万ｃｐｓが好ま
しい。

【００６０】次に、感光性ペースト法による隔壁形成の
例について説明するが、本発明はこれに限定されない。

【００６１】ガラス基板やセラミックスの基板、もしく
は、ポリマー製フィルムの上に、感光性ペーストを全面
塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、
スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイ
コーター、ブレードコーター等の方法を用いることがで
きる。塗布厚みは、ペースト吐出量、塗布回数、スクリ
ーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調
整できる。

【００６２】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アル
ミニウム、有機ジルコニウムなどである。この表面処理
液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８０〜
１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表面処
理ができる。また、フィルム上にペーストを塗布し、フ
ィルム上で乾燥を行い、露光した後に基板上に貼り付け
る方法や、ペーストを塗布したフィルムをガラスやセラ
ミックの基板上に貼り付けた後、露光工程を行う方法等
もある。

【００６３】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。ま
た、フォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光
などで直接描画する方法を用いても良い。

【００６４】露光装置としては、ステッパー露光機、プ
ロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大
面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感
光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行う
ことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積
を露光することができる。この際使用される活性光源
は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、
Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫
外線が好ましく、その光源としてはたとえば低圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌
灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が
好適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、３
〜５０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて２０
秒〜３０分間露光を行う。

【００６５】露光後、感光部分と非感光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法等で行う。
用いる現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可
能である有機溶媒を使用できる。また当該有機溶媒にそ
の溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光
性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物
が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカ
リ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水
酸化カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液
を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成
時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機ア
ルカリとしては、アミン化合物を用いることができる。
具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイ
ド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、
モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げ
られる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜１０重
量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカ
リ濃度が低すぎると可溶部が除去されない傾向となり、
アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、ま
た非可溶部を腐食する傾向となる。また、現像時の現像
温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好まし
い。

【００６６】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。ガラス基板上にパターン加工する場
合は、昇温速度２００〜４００℃／時間で５４０〜６１
０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。なお
焼成温度は用いるガラス粉末によって決まるが、パター
ン形成後の形が崩れず、かつガラス粉末の形状が残らな
い適正な温度で焼成するのが好ましい。５４０℃以上と
することで、気孔率、隔壁上部の凹凸が小さくなり、放
電寿命を長くできたり、誤放電を防止できるため好まし
い。また６１０℃以下とすることでパターン形成時の形
状崩れ、隔壁上部が丸くなったり、隔壁高さが低くなっ
たりするのを防止できる。

【００６７】また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各
工程間に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃の
加熱工程を導入しても良い。

【００６８】以上の様に電極と隔壁が形成された基板を
ＡＣ方式プラズマディスプレイパネル用背面板として用
いる場合、隔壁間にＲＧＢ各色に発光する蛍光体層を形
成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有機バインダーおよ
び有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔壁
間に塗布することにより形成することができる。蛍光体
ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法に
よりパターン印刷する方法や感光性ペーストをスクリー
ン印刷後パターン露光する方法、所定のピッチの吐出孔
を有する口金から蛍光体ペーストを所定の隔壁間に吐出
する方法などを用いることができる。

【００６９】また、上記背面板とは別の基板上に所定の
パターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護膜（Ｍｇ
Ｏ）を形成し、前面板を作製し、更に、背面板と前面板
とを封着後、両部材間に隔壁によって形成された空間に
真空排気を施し、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから
構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラ
ズマディスプレイパネルを作製できる。

【００７０】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない
限り重量％である（測定、評価方法）（１）ガラス転移点、軟化点示差熱分析（ＤＴＡ）法を用いて、ガラス試料約１００
ｍｇを２０℃／分で空気中で加熱し、横軸に温度、縦軸
に熱量をプロットし、ＤＴＡ曲線を描いた。そしてＤＴ
Ａ曲線より、ガラス転移点と軟化点を読みとった。

【００７１】（２）隔壁幅・細隔壁幅隔壁幅・細隔壁幅は隔壁頂部の幅を測定した。隔壁頂部
エッジに丸み等がある場合は、丸み部直下の幅を測定し
た。

【００７２】（３）発光欠陥プラズマディスプレイパネルを製造した後に表示させ、
表示欠陥が無く均一な表示が得られた場合は０、発光欠
点、発光余点等の欠点が見られた場合はその個数を記載
した。

【００７３】（使用材料）本発明の実施例および比較例
に使用した材料を以下に示す。

【００７４】（基板）ガラス基板旭硝子（株）製Ｐ
Ｄ２００、３００×４００×２．８ｍｍ。

【００７５】（電極材料）組成：導電性銀粉末（重量平
均粒子径１．４μｍ）８８重量部、バインダー（エチ
ルセルロース）１１重量部、ガラスフリット３重量部、
テルピネオール６重量部。

【００７６】（誘電体、隔壁材料）ガラス(1)；組成：Ｌｉ₂Ｏ７％、ＳｉＯ₂２２％、Ｂ₂Ｏ₃３
２％、ＢａＯ４％、Ａｌ₂Ｏ₃２２％、ＺｎＯ２
％、ＭｇＯ６％、ＣａＯ４％熱物性：ガラス転移点４９１℃、軟化点５２８℃、熱
膨張係数７４×１０^-7／Ｋ比表面積：１．９２ｍ²／ｇ屈折率：１．５９（ｇ線４３６ｎｍ）比重：２．５４ガラス(2)；組成：Ｂｉ₂Ｏ₃３８％、ＳｉＯ₂７％、Ｂ₂Ｏ₃１
９％、ＢａＯ１２％、Ａｌ₂Ｏ₃４％、ＺｎＯ２０
％熱物性：ガラス転移点４７５℃、軟化点５１５℃、熱
膨張係数７５×１０^-7／Ｋ

【００７７】（白色フィラー粉末）フィラー；ＴｉＯ₂、比重４．６１（ポリマー）ポリマー(1) ；４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、３
０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０％
のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカルボキシル基
に対して０．４当量のグリシジルメタアクリレート（Ｇ
ＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量４３０００、酸
価９５の感光性ポリマーの４０％γ−ブチロラクトン溶
液ポリマー(2) ；エチルセルロース／テルピネオール＝６
／９４（重量比）の溶液（モノマー）モノマー(1) ；Ｘ₂-N-CH(CH₃）-CＨ₂-(O-CH_2-CH(CＨ₃))
_n-N-Ｘ₂ X:-CＨ₂-CH(OH)-CH₂Ｏ-CO-C(CH₃）=CＨ₂ ｎ＝２〜１０モノマー(2) ；トリメチロールプロパントリアクリレー
ト・モディファイドＰＯ（光重合開始剤）ＩＣ−３６９；Ｉｒｇａｃｕｒｅ−３６９（チバ・ガイ
ギー製品）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）ブタノン−１ＩＣ−９０７；Ｉｒｇａｃｕｒｅ−９０７（チバ・ガイ
ギー製品）２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル−２−
モルフォリノプロパノン（増感剤）ＤＥＴＸ−Ｓ；２，４−ジエチルチオキサントン（増感助剤）ＥＰＡ；ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル（可塑剤）ＤＢＰ；ジブチルフタレート（ＤＢＰ）（増粘剤）ＳｉＯ；ＳｉＯ₂の酢酸２−（２−ブトキシエトキ
シ）エチル１５％溶液（有機染料）スダン；アゾ系有機染料、化学式Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄Ｏ、分
子量３８０．４５（溶媒） γ−ブチロラクトンテルピネオール（分散剤）ノプコスパース０９２（サンノプコ社製）（安定化剤）１，２，３−ベンゾトリアゾール。

【００７８】実施例１ガラス基板を温水ブラシ洗浄後、電極用ペーストをスク
リーン印刷機を用いパターン印刷した。ペーストの焼成
は、５７０℃で行った。得られた電極は、ストライプ状
でピッチ３６０μｍ、厚み４μｍ、線幅１２０μｍであ
った。

【００７９】次に、隔壁用感光性ペーストを作製した。
ガラス粉末（ガラス(1)）１００重量部に対して、有機
染料０．０８重量部の割合で秤量した。スダンをアセト
ンに溶解させ、分散剤を加えてホモジナイザで均質に攪
拌した。この溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散
・混合後、ロータリーエバポレータを用いて、１００℃
の温度で乾燥し、アセトンを蒸発させた。こうして有機
染料の膜でガラス粉末の表面が均質にコーティングされ
た粉末を作製した。

【００８０】ポリマー(1)、モノマー(1)、光重合開始剤
（IC-369)、増感剤、可塑剤、溶媒を３７．５：１５：
４．８：４．８：２：７．５の重量比で混合し、均質に
溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフィ
ルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを得た。

【００８１】上記ガラス粉末と上記有機ビヒクルをガラ
ス粉末：有機ビヒクル＝７０：７１．６の重量比になる
ように添加し、３本ローラで混合・分散して、隔壁用の
感光性ペーストを調整した。有機成分の屈折率は１．５
９、ガラス粉末の屈折率は１．５９であった。

【００８２】同様にしてガラス(2)：フィラー：ポリマ
ー(2)＝５５：１０：３５の重量比になる誘電体層用ペ
ーストを作製した。この誘電体ペーストをピッチ３６０
μｍ、線幅１２０μｍ、厚み４μｍの電極をあらかじめ
形成したガラス基板上に、３２５メッシュのスクリーン
を用いてスクリーン印刷により、均一に塗布した。その
後、８０℃で４０分乾燥し、５５０℃で仮焼成して、厚
み１０μｍの誘電体層を形成した。

【００８３】この誘電体層上に前記隔壁用ペーストを３
２５メッシュのスクリーンを用いてスクリーン印刷によ
り、均一に塗布し塗布膜を形成した。塗布膜にピンホー
ルなどが発生することを回避するために塗布・乾燥を数
回以上繰り返し行い、膜厚みの調整を行った。スクリー
ン版の印刷版は、隔壁パターン長手方向の長さよりも小
さく設計したものを用いた。途中の乾燥は８０℃で１０
分間、塗布膜を形成後の乾燥は８０℃で１時間行った。
乾燥後の塗布膜厚みは１５０μｍであった。

【００８４】続いて、３６０μｍピッチのストライプ状
のネガ型クロムマスクを通して、上面から５０ｍＪ／ｃ
ｍ²出力の超高圧水銀灯で紫外線照射した。露光量は
１．０Ｊ／ｃｍ²であった。この際、クロムマスクは隔
壁パターンの長さが、前記塗布膜の隔壁長手方向の長さ
よりも大きいものを用いた。各隔壁の幅は８０ミクロ
ン、細隔壁の幅は３０ミクロン、細隔壁の本数は各隔壁
あたり２本、細隔壁間幅は２０ミクロンとなるようにク
ロムマスクを設計した。

【００８５】次に、３５℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．２重量％の水溶液をシャワーで１７０秒間か
けることにより現像し、その後シャワースプレーを用い
て水洗浄した。これにより、光硬化していない部分が除
去され、ガラス基板上にストライプ状の細隔壁パターン
が形成された。

【００８６】このようにして細隔壁パターンが形成され
たガラス基板を、空気中で５７０℃で１５分間焼成し、
細隔壁を形成した。

【００８７】焼成後の隔壁パターンを目視で欠陥検査し
たところ、隔壁間の短絡は無かった。細隔壁どうしの短
絡は数カ所認められたが、細隔壁間の短絡は発光時に欠
陥にならないと考えられる。また、細隔壁内の断線が数
カ所認められたが、隣接する細隔壁にまで渡る欠陥では
なく、隔壁としての機能に問題はないと考えられた。こ
の検証は、後述する発光評価で行った。

【００８８】このように形成された隔壁間に、赤、青、
緑に発光する蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用い
て塗布し、これらを焼成（５００℃、３０分）して隔壁
の側面および底部に蛍光体層を形成し、背面板を完成さ
せた。

【００８９】次に、前面板を以下の工程によって作製し
た。先ず、背面板と同じガラス基板上に、ＩＴＯをスパ
ッタ法で形成後、レジストを塗布し、所望のパターンに
露光・現像後、エッチング処理して焼成厚み０．１μ
ｍ、線幅２００μｍの透明電極を形成した。また、黒色
銀粉末からなる感光性銀ペーストを用いて、フォトリソ
グラフィ法により、焼成後厚み１０μｍ、ピッチ３６０
μｍ、線幅１２０μｍのバス電極を形成した。さらに、
電極形成した前面板用基板上に透明誘電体ペーストを２
０μｍ塗布し、４３０℃で２０分間保持して焼き付け
た。次に、形成した透明電極、黒色電極、誘電体層を一
様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用いて、厚み
０．５μｍのＭｇＯ膜を形成して前面板を完成させた。

【００９０】得られた前面基板を、前記の背面基板と貼
り合わせ封着した後、真空排気し、Ｘｅ５％−Ｎｅ９５
％ガスを６７ｋＰａ封入し、駆動回路を接合してプラズ
マディスプレイを作製した。このパネルに電圧を印加し
て表示を行った。評価結果を表１に示す。表１に示すよ
うに全面に渡って表示欠陥が無く均一な表示が得られ
た。

【００９１】実施例２隔壁用ペーストを基板上に塗布する際、スリットダイコ
ーターを用いて乾燥前厚み２４０μｍに塗布し、乾燥す
る前に内径０．３ｍｍφのノズルを用いて、空気を噴射
して塗布膜端部に傾斜面を形成した以外は実施例１と同
様に隔壁パターンの形成を行った。後は、実施例１と同
様にプラズマディスプレイを作製し、評価を行った。結
果を表１に示す。

【００９２】実施例３ガラス基板を温水ブラシ洗浄後、電極用ペーストをスク
リーン印刷機を用いパターン印刷した。ペーストの焼成
は、５７０℃で行った。得られた電極は、ストライプ状
でピッチ３６０μｍ、厚み４μｍ、線幅１２０μｍであ
った。

【００９３】次に、実施例１と同様にして、隔壁用感光
性ペーストおよび誘電体層用ペーストを作製した。この
誘電体ペーストを上記電極をあらかじめ形成したガラス
基板上に、３２５メッシュのスクリーンを用いてスクリ
ーン印刷により、均一に塗布した。その後、８０℃で４
０分乾燥し、５５０℃で仮焼成して、厚み１０μｍの誘
電体層を形成した。

【００９４】この誘電体層上に、隔壁用ペーストをスリ
ットダイコーターを用いて基板上に乾燥前厚み２４０μ
ｍに塗布した。塗布した隔壁用ペーストを乾燥する前に
内径０．３ｍｍφのノズルを用いて、空気を噴射して塗
布膜端部に傾斜面を形成した。

【００９５】続いて、格子状隔壁を形成した。各色素間
を隔てる隔壁群の隔壁を細隔壁から構成し、他方向の隔
壁群は通常の隔壁を形成した。各色素間は３６０μｍピ
ッチ、他方向の隔壁は１０８０μｍピッチとした格子状
ネガ型クロムマスクを通して、上面から５０ｍＪ／ｃｍ
²出力の超高圧水銀灯で紫外線照射した。露光量は１．
０Ｊ／ｃｍ²であった。この際、クロムマスクは隔壁パ
ターンの長さが、前記塗布膜の隔壁長手方向の長さより
も大きいものを用いた。各色素間を隔てる隔壁の幅は８
０μｍ、細隔壁の幅は３０μｍ、細隔壁の本数は各隔壁
あたり２本、細隔壁間幅は２０μｍ、他方向の隔壁の幅
は４０ミクロンとなるようにクロムマスクを設計した。
次に、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．２
重量％の水溶液をシャワーで１７０秒間かけることによ
り現像し、その後シャワースプレーを用いて水洗浄し
た。これにより、光硬化していない部分が除去され、ガ
ラス基板上に格子状の隔壁パターンが形成された。

【００９６】このようにして隔壁パターンが形成された
ガラス基板を、空気中で５７０℃で１５分間焼成し、隔
壁を形成した。

【００９７】焼成後の隔壁パターンを目視で欠陥検査し
たところ、隔壁間の短絡は無かった。細隔壁どうしの短
絡は数カ所認められたが、細隔壁間の短絡は発光時に欠
陥にならないと考えられる。また、細隔壁内の断線が数
カ所認められたが、隣接する細隔壁にまで渡る欠陥では
なく、隔壁としての機能に問題はないと考えられた。こ
の検証は、後述する発光評価で行った。

【００９８】後は、実施例１と同様に蛍光体を形成、前
面板からプラズマディスプレイまでを作製し、評価を行
った。表１に示す様に、全面に渡って表示欠陥が無く均
一な表示が得られた。

【００９９】比較例１細隔壁を形成せずに、８０ミクロンの隔壁を形成した以
外は実施例１と同様に隔壁パターンの形成を行った。実
施例１と同様に焼成後目視検査した結果、隔壁短絡欠陥
は無かったが、隔壁断線が数ヶ所認められた。後は、実
施例１と同様にプラズマディスプレイを作製し、評価を
行った。結果を表１に示す。表示面内で３箇所の発光欠
陥が認められた。

【０１００】

【表１】

【０１０１】

【発明の効果】本発明の細隔壁を有することによって、
実質的に隔壁断線・欠けの影響の無いプラズマディスプ
レイパネル用部材が得られる。これによって、発光欠
点、発光余点の生じない、全面にわたって均一な表示の
できるプラズマディスプレイを提供することができる。
本発明のプラズマディスプレイパネル用部材は大型のテ
レビやコンピューターモニターに用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の隔壁の概略図である。

【符号の説明】

１細隔壁２隔壁３隔壁群

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に電極とストライプ状の隔壁が形成
されたプラズマディスプレイパネル用部材であって、放
電空間を構成する隔壁が複数本の細隔壁から構成される
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材。
【請求項２】基板上に電極と格子状の隔壁が形成された
プラズマディスプレイパネル用部材であって、２方向に
並列した隔壁群のうち少なくとも１方向の隔壁群の隔壁
が複数本の細隔壁から構成されることを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル用部材。
【請求項３】細隔壁が一組の隔壁につき２〜３本である
ことを特徴とする請求項１または２記載のプラズマディ
スプレイパネル用部材。
【請求項４】細隔壁の高さが５０〜２００μｍ、線幅が
１０〜１００μｍであることを特徴とする請求項１〜３
のいずれか記載のプラズマディスプレイパネル用部材。