JP2000265197A - 溶剤およびそれを用いる物品表面の清浄化方法 - Google Patents
溶剤およびそれを用いる物品表面の清浄化方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不燃性ないし難燃性、低毒性および熱安定性
にすぐれるとともに、オゾン層の破壊を生じることのな
い新規な溶剤及びそれを用いる物物品表面の清浄化方法
を提供する。 【解決手段】 下記式（１）または（２）で表される含
フッ素ケトンからなる溶剤。 ｎ−Ｃ4Ｆ9ＣＯＣ2Ｈ5 （１） （ＣＨ3)2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3 （２） 前記含フッ素ケトンと低級アルコールからなる水切り乾
燥溶剤。前記の溶剤を用いて物品表面に付着する汚れ又
は水分を除去することを特徴とする物品表面の清浄化方
法。
にすぐれるとともに、オゾン層の破壊を生じることのな
い新規な溶剤及びそれを用いる物物品表面の清浄化方法
を提供する。 【解決手段】 下記式（１）または（２）で表される含
フッ素ケトンからなる溶剤。 ｎ−Ｃ4Ｆ9ＣＯＣ2Ｈ5 （１） （ＣＨ3)2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3 （２） 前記含フッ素ケトンと低級アルコールからなる水切り乾
燥溶剤。前記の溶剤を用いて物品表面に付着する汚れ又
は水分を除去することを特徴とする物品表面の清浄化方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶剤及びそれを用
いる物品表面の清浄化方法に関するものである。
いる物品表面の清浄化方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】物品表面に付着するフラックス、油等の
汚れや水分を除去するために、不燃性、低毒性及び熱安
定性にすぐれるＣＣｌ2ＦＣＣｌＦ2（ＣＦＣ１１３）
や、１，１，１−トリクロロエタン及びＣＦＣ１１３と
他の溶剤との混合物等を洗浄剤として用いることが広く
行われてきた。特に、ＣＦＣ１１３は、金属、プラスチ
ック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選
択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機械部
品や、金属、プラスチック、エラストマー等からなる各
種電子部品、光学部品などの洗浄には最適であった。従
来使用されてきたＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロ
ロエタンは、種々の利点を有するにもかかわらず、化学
的に極めて安定なため、対流圏での寿命が長く、拡散し
て成層圏に達し、ここで紫外線により光分解して塩素ラ
ジカルを発生する。この塩素ラジカルが成層圏オゾンと
連鎖反応を起こし、オゾン用を破壊することから、その
生産が１９９６年より禁止及び消費について規則が実施
されている。
汚れや水分を除去するために、不燃性、低毒性及び熱安
定性にすぐれるＣＣｌ2ＦＣＣｌＦ2（ＣＦＣ１１３）
や、１，１，１−トリクロロエタン及びＣＦＣ１１３と
他の溶剤との混合物等を洗浄剤として用いることが広く
行われてきた。特に、ＣＦＣ１１３は、金属、プラスチ
ック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選
択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機械部
品や、金属、プラスチック、エラストマー等からなる各
種電子部品、光学部品などの洗浄には最適であった。従
来使用されてきたＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロ
ロエタンは、種々の利点を有するにもかかわらず、化学
的に極めて安定なため、対流圏での寿命が長く、拡散し
て成層圏に達し、ここで紫外線により光分解して塩素ラ
ジカルを発生する。この塩素ラジカルが成層圏オゾンと
連鎖反応を起こし、オゾン用を破壊することから、その
生産が１９９６年より禁止及び消費について規則が実施
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、不燃性ない
し難燃性、低毒性及び熱安定性にすぐれるとともに、オ
ゾン層の破壊を生じることのない新規な溶剤及びそれを
用いる物品表面の清浄化方法を提供することをその課題
とする。
し難燃性、低毒性及び熱安定性にすぐれるとともに、オ
ゾン層の破壊を生じることのない新規な溶剤及びそれを
用いる物品表面の清浄化方法を提供することをその課題
とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、下記式（１）又は
（２）で表される含フッ素ケトンからなる溶剤が提供さ
れる。 ｎ−Ｃ4Ｆ9ＣＯＣ2Ｈ5 （１） （ＣＨ3)2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3 （２） また、本発明によれば、前記含フッ素ケトンと低級アル
コールからなる水切り乾燥溶剤が提供される。 さら
に、本発明によれば、前記の溶剤を用いて物品表面に付
着する汚れ又は水分を除去することを特徴とする物品表
面の清浄化方法が提供される。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、下記式（１）又は
（２）で表される含フッ素ケトンからなる溶剤が提供さ
れる。 ｎ−Ｃ4Ｆ9ＣＯＣ2Ｈ5 （１） （ＣＨ3)2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3 （２） また、本発明によれば、前記含フッ素ケトンと低級アル
コールからなる水切り乾燥溶剤が提供される。 さら
に、本発明によれば、前記の溶剤を用いて物品表面に付
着する汚れ又は水分を除去することを特徴とする物品表
面の清浄化方法が提供される。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の溶剤は、前記式（１）で
表される含フッ素ケトンからなる。表１にこの含フッ素
ケトンについての物性値を示す。
表される含フッ素ケトンからなる。表１にこの含フッ素
ケトンについての物性値を示す。
【０００６】
【表１】
【０００７】これらの含フッ素ケトンは、いずれも、低
毒性、熱安定性にすぐれ、水とともに長時間加熱しても
分解しなかった。また、不燃性ないし難燃性を示すこと
が確認された。さらに、表−１に示すごとく、これらは
特に洗浄溶剤として好適な物性を有していることが確認
された。
毒性、熱安定性にすぐれ、水とともに長時間加熱しても
分解しなかった。また、不燃性ないし難燃性を示すこと
が確認された。さらに、表−１に示すごとく、これらは
特に洗浄溶剤として好適な物性を有していることが確認
された。
【０００８】本発明における含フッ素ケトンは、いずれ
も、新規化合物である。前記含フッ素ケトンのうち、Ｃ
Ｆ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ2ＣＨ3は、ノナフルオロ吉
草酸（ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とエチルマグネ
シウムブロミドをジエチルエーテル中で反応させること
により容易に合成することができる。（ＣＨ3)2ＣＦＣ
Ｆ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、ウンデカフルオロイソカプロン
酸（（ＣＨ3)2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチルマグ
ネシウムブロミドをジエチルエーテル中で反応させるこ
とにより容易に合成することができる。
も、新規化合物である。前記含フッ素ケトンのうち、Ｃ
Ｆ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ2ＣＨ3は、ノナフルオロ吉
草酸（ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とエチルマグネ
シウムブロミドをジエチルエーテル中で反応させること
により容易に合成することができる。（ＣＨ3)2ＣＦＣ
Ｆ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、ウンデカフルオロイソカプロン
酸（（ＣＨ3)2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチルマグ
ネシウムブロミドをジエチルエーテル中で反応させるこ
とにより容易に合成することができる。
【０００９】本発明の前記含フッ素ケトンからなる溶剤
は、含フッ素ケトンの他、他の液状有機化合物を含有す
ることができる。このような液状有機化合物の沸点は、
３００℃以下、好ましくは１５０℃以下であり、その沸
点の下限は、通常、２５〜３０℃程度である。好ましく
は４０〜１２０℃の沸点を有するものである。このよう
な液状有機化合物には、炭化水素、フッ素化炭化水素、
アルコール、フッ素化アルコール、エーテル、ケトン、
エステル、有機窒素化合物、有機硫黄化合物及び有機ケ
イ素化合物が包含される。このような液状有機化合物の
含有量は、全溶剤中１〜５０重量％、好ましくは１〜２
０重量％である。可燃性液状有機化合物の場合、その含
有量が前記範囲より多くなると、溶剤の可燃性が増加す
るので好ましくなく、一方、前記範囲より少なくなる
と、その添加効果が不十分になるので好ましくない。
は、含フッ素ケトンの他、他の液状有機化合物を含有す
ることができる。このような液状有機化合物の沸点は、
３００℃以下、好ましくは１５０℃以下であり、その沸
点の下限は、通常、２５〜３０℃程度である。好ましく
は４０〜１２０℃の沸点を有するものである。このよう
な液状有機化合物には、炭化水素、フッ素化炭化水素、
アルコール、フッ素化アルコール、エーテル、ケトン、
エステル、有機窒素化合物、有機硫黄化合物及び有機ケ
イ素化合物が包含される。このような液状有機化合物の
含有量は、全溶剤中１〜５０重量％、好ましくは１〜２
０重量％である。可燃性液状有機化合物の場合、その含
有量が前記範囲より多くなると、溶剤の可燃性が増加す
るので好ましくなく、一方、前記範囲より少なくなる
と、その添加効果が不十分になるので好ましくない。
【００１０】前記炭化水素の具体例としては、例えば、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の脂肪族
あるいは芳香族炭化水素が挙げられる。またフッ素化炭
化水素としては、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ（ＣＦ3ＣＦ2
ＣＨＦＣＨＦＣＦ3）、ＨＦＣ３３８Ｐｃｃ（ＣＨＦ2Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＨＦ2）等が挙げられる。アルコールとして
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、カルビトール等が挙げられる。
フッ素化アルコールとしては、トリフルオロエタノー
ル、ヘキサフルオロー２−プロパノール、ペンタフルオ
ロプロパノール等が挙げられる。エーテルとしては、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライ
ム等が挙げられる。ケトンとしては、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シク
ロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エス
テルとしては、カルボン酸エステル、例えばギ酸エステ
ル、酢酸エステル等が挙げられる。有機窒素化合物とし
ては、アセトニトリル、ニトロベンゼン、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。有機
硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等が挙げられる。有機ケイ素化合物としては、テトラ
メチルシラン、テトラエチルシラン、メトキシトリメチ
ルシラン、エトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が
挙げられる。これらの成分の中で好ましいものはアルコ
ールである。
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の脂肪族
あるいは芳香族炭化水素が挙げられる。またフッ素化炭
化水素としては、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ（ＣＦ3ＣＦ2
ＣＨＦＣＨＦＣＦ3）、ＨＦＣ３３８Ｐｃｃ（ＣＨＦ2Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＨＦ2）等が挙げられる。アルコールとして
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、カルビトール等が挙げられる。
フッ素化アルコールとしては、トリフルオロエタノー
ル、ヘキサフルオロー２−プロパノール、ペンタフルオ
ロプロパノール等が挙げられる。エーテルとしては、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライ
ム等が挙げられる。ケトンとしては、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シク
ロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エス
テルとしては、カルボン酸エステル、例えばギ酸エステ
ル、酢酸エステル等が挙げられる。有機窒素化合物とし
ては、アセトニトリル、ニトロベンゼン、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。有機
硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等が挙げられる。有機ケイ素化合物としては、テトラ
メチルシラン、テトラエチルシラン、メトキシトリメチ
ルシラン、エトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が
挙げられる。これらの成分の中で好ましいものはアルコ
ールである。
【００１１】本発明の含フッ素ケトンからなる溶剤及び
含フッ素ケトンと液状有機化合物からなる溶剤には、水
を添加することができる。この場合の水の添加量は、全
溶剤中、０．０１〜５０重量％、好ましくは０．５〜２
０重量％である。溶剤に添加した水は、溶剤中に溶解状
又は分散状で存在するが、分散状で存在する場合には、
界面活性剤を同時に添加して溶剤中に乳化させるのが好
ましい。これらの含フッ素ケトンに対する水の溶解度は
０．０１〜１０重量％である。これらの含フッ素ケトン
は水を添加溶解させて、水と含フッ素ケトンからなる溶
液とすることができる。この混合溶液において水の濃度
は少なくとも０．０１重量％であり、その上限値は、１
０〜２０重量％程度である。本発明では、さらにそれ以
上の水を添加して、添加水を分散させた状態で使用する
こともできる。前記のような含水溶剤は、親水性の汚れ
に対する除去効果の向上したものである。
含フッ素ケトンと液状有機化合物からなる溶剤には、水
を添加することができる。この場合の水の添加量は、全
溶剤中、０．０１〜５０重量％、好ましくは０．５〜２
０重量％である。溶剤に添加した水は、溶剤中に溶解状
又は分散状で存在するが、分散状で存在する場合には、
界面活性剤を同時に添加して溶剤中に乳化させるのが好
ましい。これらの含フッ素ケトンに対する水の溶解度は
０．０１〜１０重量％である。これらの含フッ素ケトン
は水を添加溶解させて、水と含フッ素ケトンからなる溶
液とすることができる。この混合溶液において水の濃度
は少なくとも０．０１重量％であり、その上限値は、１
０〜２０重量％程度である。本発明では、さらにそれ以
上の水を添加して、添加水を分散させた状態で使用する
こともできる。前記のような含水溶剤は、親水性の汚れ
に対する除去効果の向上したものである。
【００１２】本発明の溶剤には、これを過酷な条件で使
用するに際しては各種の安定剤を添加しても良い。安定
剤としては、蒸留操作により含フッ素ケトンに同伴流出
される液状化合物或いは共沸ないし共沸様混合物を形成
する液状化合物が望ましい。このような安定剤の具体例
としては、ニトロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニト
ロ化合物；ニトロベンゼン、ニトロスチレン等の芳香族
ニトロ化合物；ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシ
エタン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサ
ン等のエーテル類；クリシドール、メチルグリシジルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、１，２−ブチレンオキシド、シクロヘキセ
ンオキシド、エピクロルヒドリン等のエポキシ類；ヘキ
セン、ヘプテン、ペンタジエン、シクロペンテン、シク
ロヘキセン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、
１−ブテン−３−オール等のオレフィン系アルコール
類；３−メチル−１−ブテン−３−オール、３−メチル
−１−ペンテン３オール等のアセチレン系アルコール
類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
ブチル、メタクリル酸ビニル等のアクリル酸エステル類
等があげられる。また、更に相乗的安定化効果を得るた
めに、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類
等を併用しても良い。安定剤の使用量は、安定剤の種類
等により異なるが、通常、溶剤中、０．０１〜１０重量
％程度であり、０．１〜５重量％程度とすることがより
好ましい。
用するに際しては各種の安定剤を添加しても良い。安定
剤としては、蒸留操作により含フッ素ケトンに同伴流出
される液状化合物或いは共沸ないし共沸様混合物を形成
する液状化合物が望ましい。このような安定剤の具体例
としては、ニトロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニト
ロ化合物；ニトロベンゼン、ニトロスチレン等の芳香族
ニトロ化合物；ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシ
エタン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサ
ン等のエーテル類；クリシドール、メチルグリシジルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、１，２−ブチレンオキシド、シクロヘキセ
ンオキシド、エピクロルヒドリン等のエポキシ類；ヘキ
セン、ヘプテン、ペンタジエン、シクロペンテン、シク
ロヘキセン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、
１−ブテン−３−オール等のオレフィン系アルコール
類；３−メチル−１−ブテン−３−オール、３−メチル
−１−ペンテン３オール等のアセチレン系アルコール
類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
ブチル、メタクリル酸ビニル等のアクリル酸エステル類
等があげられる。また、更に相乗的安定化効果を得るた
めに、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類
等を併用しても良い。安定剤の使用量は、安定剤の種類
等により異なるが、通常、溶剤中、０．０１〜１０重量
％程度であり、０．１〜５重量％程度とすることがより
好ましい。
【００１３】本発明の溶剤には、その洗浄力、界面作用
等をより一層改善する為に、必要に応じて各種の界面活
性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ソ
ルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等のソ
ルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンのソル
ビットテトラオエート等のポリオキシエチレンソルビッ
ト脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンモノラウレー
ト等のポリオキシエチレンラウリルエーテル類；ポリオ
キシエチレンノニフェニルエーテル等のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル；ポリオキシエチレンオ
レイン酸アミド等のポリオキシエチレンアルキルアミン
脂肪酸アミド類等のノニオン系界面活性剤が挙げられ、
単独で使用してもよく、或いは２種以上の組み合わせで
使用しても良い。相乗的に洗浄力及び界面作用を改善す
る目的で、これらのノニオン系界面活性剤に更にカチオ
ン系界面活性剤を又はアニオン系界面活性剤を併用して
も良い。界面活性剤の総添加量は、その種類により異な
るが、溶剤中、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．
１〜５重量％である。
等をより一層改善する為に、必要に応じて各種の界面活
性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ソ
ルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等のソ
ルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンのソル
ビットテトラオエート等のポリオキシエチレンソルビッ
ト脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンモノラウレー
ト等のポリオキシエチレンラウリルエーテル類；ポリオ
キシエチレンノニフェニルエーテル等のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル；ポリオキシエチレンオ
レイン酸アミド等のポリオキシエチレンアルキルアミン
脂肪酸アミド類等のノニオン系界面活性剤が挙げられ、
単独で使用してもよく、或いは２種以上の組み合わせで
使用しても良い。相乗的に洗浄力及び界面作用を改善す
る目的で、これらのノニオン系界面活性剤に更にカチオ
ン系界面活性剤を又はアニオン系界面活性剤を併用して
も良い。界面活性剤の総添加量は、その種類により異な
るが、溶剤中、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．
１〜５重量％である。
【００１４】本発明の溶剤は、物品表面に付着する汚れ
や水を除去し、物品表面を清浄化するための洗浄剤とし
て有利に用いることができる。この場合の物品表面に付
着する汚れには、フラックス、油、グリース、ワック
ス、インク等による汚れの他、従来のドライクリーニン
グで除去される各種汚れがある。これらの汚れは、従来
は、ＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン等を
用いて除去されてきたものであるが、本発明の溶剤は、
それらのＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン
の代替物として有利に適用される。また、前記物品に
は、電子部品（プリント基板、液晶表示器、磁気記録部
品、半導体材料等）、電機部品、精密機械部品、樹脂加
工部品、光学レンズ、衣料品等が包含される。その物品
表面の洗浄化方法としては、浸漬、スプレー、沸騰洗
浄、超音波洗浄、蒸気洗浄等或いはこれらの組み合わせ
等の従来から用いられている方法が採用できる。
や水を除去し、物品表面を清浄化するための洗浄剤とし
て有利に用いることができる。この場合の物品表面に付
着する汚れには、フラックス、油、グリース、ワック
ス、インク等による汚れの他、従来のドライクリーニン
グで除去される各種汚れがある。これらの汚れは、従来
は、ＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン等を
用いて除去されてきたものであるが、本発明の溶剤は、
それらのＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン
の代替物として有利に適用される。また、前記物品に
は、電子部品（プリント基板、液晶表示器、磁気記録部
品、半導体材料等）、電機部品、精密機械部品、樹脂加
工部品、光学レンズ、衣料品等が包含される。その物品
表面の洗浄化方法としては、浸漬、スプレー、沸騰洗
浄、超音波洗浄、蒸気洗浄等或いはこれらの組み合わせ
等の従来から用いられている方法が採用できる。
【００１５】本発明による含フッ素ケトンと低級アルコ
ールからなる混合液は、水切り乾燥溶剤として有利に用
いることができる。低級アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等の炭
素数１〜６、好ましくは１〜３のアルコールが用いら
れ、その溶剤中濃度は１〜５０重量％、好ましくは１〜
２０重量％である。この水切り乾燥溶剤は、水洗された
後の表面に水分が付着している物品の表面にスプレー法
や浸漬法等の適宜の方法で適用され、これによりその付
着水を除去することができる。
ールからなる混合液は、水切り乾燥溶剤として有利に用
いることができる。低級アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等の炭
素数１〜６、好ましくは１〜３のアルコールが用いら
れ、その溶剤中濃度は１〜５０重量％、好ましくは１〜
２０重量％である。この水切り乾燥溶剤は、水洗された
後の表面に水分が付着している物品の表面にスプレー法
や浸漬法等の適宜の方法で適用され、これによりその付
着水を除去することができる。
【００１６】また、本発明の含フッ素ケトンからなる溶
剤は、冷蔵庫や、エアコン用等の冷媒として用いられる
ことができる。本発明の溶剤は、従来のフロンと同様に
塗料用溶剤、抽出剤、熱媒体等の各種用途に使用するこ
とができる。
剤は、冷蔵庫や、エアコン用等の冷媒として用いられる
ことができる。本発明の溶剤は、従来のフロンと同様に
塗料用溶剤、抽出剤、熱媒体等の各種用途に使用するこ
とができる。
【００１７】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
【００１８】実施例１ 表２に示す溶剤を用いてフラックスの洗浄試験を行っ
た。テストピース（ＳＵＳ−３１６；５０ｍｍ×ｌ０ｍ
ｍ×１ｍｍ）をフラックス[アサヒ化学研究所製ＧＸ−
８Ｓ]に５０℃、１分間浸漬した後、取り出して２００
℃で１分間加熱処理した。そのテストピースを溶剤中で
１分間超音波洗浄し、ついで温風乾燥した。テストピー
ス上のフラックスの除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、
Ｃ；不良）を肉眼及び顕微鏡で観察し、その結果を表２
に示した。
た。テストピース（ＳＵＳ−３１６；５０ｍｍ×ｌ０ｍ
ｍ×１ｍｍ）をフラックス[アサヒ化学研究所製ＧＸ−
８Ｓ]に５０℃、１分間浸漬した後、取り出して２００
℃で１分間加熱処理した。そのテストピースを溶剤中で
１分間超音波洗浄し、ついで温風乾燥した。テストピー
ス上のフラックスの除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、
Ｃ；不良）を肉眼及び顕微鏡で観察し、その結果を表２
に示した。
【００１９】
【表２】
【００２０】実施例２ 表３に示す含フッ素ケトン９５重量％とアルコール[メ
タノール（ＭｅＯＨ）エタノール（ＥｔＯＨ）又はイソ
プロパノール（ｉＰｒＯＨ）]５重量％との混合物を用
いて付着水の除去試験を行った。予めよく脱脂洗浄した
ガラス板（３０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）を純水に１分
間浸漬し、次いで上記の混合物中に３０秒間浸漬した。
取り出したガラス板を常温下で１分間放置して残存して
いた混合物を蒸発させた後、無水メタノール中に浸漬
し、そのメタノールの水分増加量をカールフィッシャー
水分計により測定した。一方、純水に浸漬しただけで上
記の混合物中に浸漬しなかった場合のメタノールの水分
増加量との比較及び肉眼、顕微鏡による表面状態の観察
から、付着水の除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、Ｃ；
不良）を調べ、その結果を表３に示した。
タノール（ＭｅＯＨ）エタノール（ＥｔＯＨ）又はイソ
プロパノール（ｉＰｒＯＨ）]５重量％との混合物を用
いて付着水の除去試験を行った。予めよく脱脂洗浄した
ガラス板（３０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）を純水に１分
間浸漬し、次いで上記の混合物中に３０秒間浸漬した。
取り出したガラス板を常温下で１分間放置して残存して
いた混合物を蒸発させた後、無水メタノール中に浸漬
し、そのメタノールの水分増加量をカールフィッシャー
水分計により測定した。一方、純水に浸漬しただけで上
記の混合物中に浸漬しなかった場合のメタノールの水分
増加量との比較及び肉眼、顕微鏡による表面状態の観察
から、付着水の除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、Ｃ；
不良）を調べ、その結果を表３に示した。
【００２１】
【表３】
【００２２】実施例３ 含フッ素ケトンＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ2ＣＨ
3０．０４７ｍｏｌと水０．０９４ｍｏｌをフラスコに
入れ、８０℃で７２時間、還流させた。有機層をガスク
ロ（ＴＣＤ）によって分析したところ、組成には変化が
なく、また。試験前ガスクロ（ＴＣＤ）によって分析し
たところ、組成には変化がなく、また試験前後での酸性
度にも変化はなかった。このことから、本発明で用いる
含フッ素ケトンはすぐれた安定性を有するものであるこ
とが確認された。
3０．０４７ｍｏｌと水０．０９４ｍｏｌをフラスコに
入れ、８０℃で７２時間、還流させた。有機層をガスク
ロ（ＴＣＤ）によって分析したところ、組成には変化が
なく、また。試験前ガスクロ（ＴＣＤ）によって分析し
たところ、組成には変化がなく、また試験前後での酸性
度にも変化はなかった。このことから、本発明で用いる
含フッ素ケトンはすぐれた安定性を有するものであるこ
とが確認された。
【００２３】
【発明の効果】本発明の含フッ素ケトンからなる溶剤
は、その含フッ素ケトンが塩素原子を含まないため、オ
ゾン層破壊の心配がなく、また、水素原子を含むため、
大気中の水酸基ラジカルとの反応性が高く、対流圏で分
解され易いため、温室効果が小さく、かつ、従来のＣＦ
ＣやＨＣＦＣに替わる洗浄溶剤、水切り乾燥剤等として
有利に使用することができる。
は、その含フッ素ケトンが塩素原子を含まないため、オ
ゾン層破壊の心配がなく、また、水素原子を含むため、
大気中の水酸基ラジカルとの反応性が高く、対流圏で分
解され易いため、温室効果が小さく、かつ、従来のＣＦ
ＣやＨＣＦＣに替わる洗浄溶剤、水切り乾燥剤等として
有利に使用することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年４月１７日（２０００．４．１
７）
７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 溶剤およびそれを用いる物品表面の清
浄化方法
浄化方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶剤及びそれを用
いる物品表面の清浄化方法に関するものである。
いる物品表面の清浄化方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】物品表面に付着するフラックス、油等の
汚れや水分を除去するために、不燃性、低毒性及び熱安
定性にすぐれるＣＣｌ2ＦＣＣｌＦ2（ＣＦＣ１１３）
や、１，１，１−トリクロロエタン及びＣＦＣ１１３と
他の溶剤との混合物等を洗浄剤として用いることが広く
行われてきた。特に、ＣＦＣ１１３は、金属、プラスチ
ック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選
択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機械部
品や、金属、プラスチック、エラストマー等からなる各
種電子部品、光学部品などの洗浄には最適であった。従
来使用されてきたＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロ
ロエタンは、種々の利点を有するにもかかわらず、化学
的に極めて安定なため、対流圏での寿命が長く、拡散し
て成層圏に達し、ここで紫外線により光分解して塩素ラ
ジカルを発生する。この塩素ラジカルが成層圏オゾンと
連鎖反応を起こし、オゾン用を破壊することから、その
生産が１９９６年より禁止及び消費について規則が実施
されている。
汚れや水分を除去するために、不燃性、低毒性及び熱安
定性にすぐれるＣＣｌ2ＦＣＣｌＦ2（ＣＦＣ１１３）
や、１，１，１−トリクロロエタン及びＣＦＣ１１３と
他の溶剤との混合物等を洗浄剤として用いることが広く
行われてきた。特に、ＣＦＣ１１３は、金属、プラスチ
ック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選
択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機械部
品や、金属、プラスチック、エラストマー等からなる各
種電子部品、光学部品などの洗浄には最適であった。従
来使用されてきたＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロ
ロエタンは、種々の利点を有するにもかかわらず、化学
的に極めて安定なため、対流圏での寿命が長く、拡散し
て成層圏に達し、ここで紫外線により光分解して塩素ラ
ジカルを発生する。この塩素ラジカルが成層圏オゾンと
連鎖反応を起こし、オゾン用を破壊することから、その
生産が１９９６年より禁止及び消費について規則が実施
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、不燃性ない
し難燃性、低毒性及び熱安定性にすぐれるとともに、オ
ゾン層の破壊を生じることのない新規な溶剤及びそれを
用いる物品表面の清浄化方法を提供することをその課題
とする。
し難燃性、低毒性及び熱安定性にすぐれるとともに、オ
ゾン層の破壊を生じることのない新規な溶剤及びそれを
用いる物品表面の清浄化方法を提供することをその課題
とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、下記式（１）で表さ
れる含フッ素ケトンからなる溶剤が提供される。 （ＣＦ3 )2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3 （１） また、本発明によれば、前記含フッ素ケトンと低級アル
コールからなる水切り乾燥溶剤が提供される。 さら
に、本発明によれば、前記の溶剤を用いて物品表面に付
着する汚れ又は水分を除去することを特徴とする物品表
面の清浄化方法が提供される。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、下記式（１）で表さ
れる含フッ素ケトンからなる溶剤が提供される。 （ＣＦ3 )2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3 （１） また、本発明によれば、前記含フッ素ケトンと低級アル
コールからなる水切り乾燥溶剤が提供される。 さら
に、本発明によれば、前記の溶剤を用いて物品表面に付
着する汚れ又は水分を除去することを特徴とする物品表
面の清浄化方法が提供される。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の溶剤は、前記式（１）で
表される含フッ素ケトンからなる。表１にこの含フッ素
ケトンについての物性値を示す。
表される含フッ素ケトンからなる。表１にこの含フッ素
ケトンについての物性値を示す。
【０００６】
【表１】
【０００７】この含フッ素ケトンは、いずれも、低毒
性、熱安定性にすぐれ、水とともに長時間加熱しても分
解しなかった。また、不燃性ないし難燃性を示すことが
確認された。さらに、表−１に示すごとく、このものは
特に洗浄溶剤として好適な物性を有していることが確認
された。
性、熱安定性にすぐれ、水とともに長時間加熱しても分
解しなかった。また、不燃性ないし難燃性を示すことが
確認された。さらに、表−１に示すごとく、このものは
特に洗浄溶剤として好適な物性を有していることが確認
された。
【０００８】本発明における含フッ素ケトンは、新規化
合物である。前記（ＣＦ3 )2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ
3は、ウンデカフルオロイソカプロン酸（（ＣＦ3 )2ＣＦ
ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチルマグネシウムブロミドを
ジエチルエーテル中で反応させることにより容易に合成
することができる。
合物である。前記（ＣＦ3 )2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ
3は、ウンデカフルオロイソカプロン酸（（ＣＦ3 )2ＣＦ
ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチルマグネシウムブロミドを
ジエチルエーテル中で反応させることにより容易に合成
することができる。
【０００９】本発明の前記含フッ素ケトンからなる溶剤
は、含フッ素ケトンの他、他の液状有機化合物を含有す
ることができる。このような液状有機化合物の沸点は、
３００℃以下、好ましくは１５０℃以下であり、その沸
点の下限は、通常、２５〜３０℃程度である。好ましく
は４０〜１２０℃の沸点を有するものである。このよう
な液状有機化合物には、炭化水素、フッ素化炭化水素、
アルコール、フッ素化アルコール、エーテル、ケトン、
エステル、有機窒素化合物、有機硫黄化合物及び有機ケ
イ素化合物が包含される。このような液状有機化合物の
含有量は、全溶剤中１〜５０重量％、好ましくは１〜２
０重量％である。可燃性液状有機化合物の場合、その含
有量が前記範囲より多くなると、溶剤の可燃性が増加す
るので好ましくなく、一方、前記範囲より少なくなる
と、その添加効果が不十分になるので好ましくない。
は、含フッ素ケトンの他、他の液状有機化合物を含有す
ることができる。このような液状有機化合物の沸点は、
３００℃以下、好ましくは１５０℃以下であり、その沸
点の下限は、通常、２５〜３０℃程度である。好ましく
は４０〜１２０℃の沸点を有するものである。このよう
な液状有機化合物には、炭化水素、フッ素化炭化水素、
アルコール、フッ素化アルコール、エーテル、ケトン、
エステル、有機窒素化合物、有機硫黄化合物及び有機ケ
イ素化合物が包含される。このような液状有機化合物の
含有量は、全溶剤中１〜５０重量％、好ましくは１〜２
０重量％である。可燃性液状有機化合物の場合、その含
有量が前記範囲より多くなると、溶剤の可燃性が増加す
るので好ましくなく、一方、前記範囲より少なくなる
と、その添加効果が不十分になるので好ましくない。
【００１０】前記炭化水素の具体例としては、例えば、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の脂肪族
あるいは芳香族炭化水素が挙げられる。またフッ素化炭
化水素としては、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ（ＣＦ3ＣＦ2
ＣＨＦＣＨＦＣＦ3）、ＨＦＣ３３８Ｐｃｃ（ＣＨＦ2Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＨＦ2）等が挙げられる。アルコールとして
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、カルビトール等が挙げられる。
フッ素化アルコールとしては、トリフルオロエタノー
ル、ヘキサフルオロー２−プロパノール、ペンタフルオ
ロプロパノール等が挙げられる。エーテルとしては、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライ
ム等が挙げられる。ケトンとしては、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シク
ロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エス
テルとしては、カルボン酸エステル、例えばギ酸エステ
ル、酢酸エステル等が挙げられる。有機窒素化合物とし
ては、アセトニトリル、ニトロベンゼン、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。有機
硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等が挙げられる。有機ケイ素化合物としては、テトラ
メチルシラン、テトラエチルシラン、メトキシトリメチ
ルシラン、エトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が
挙げられる。これらの成分の中で好ましいものはアルコ
ールである。
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の脂肪族
あるいは芳香族炭化水素が挙げられる。またフッ素化炭
化水素としては、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ（ＣＦ3ＣＦ2
ＣＨＦＣＨＦＣＦ3）、ＨＦＣ３３８Ｐｃｃ（ＣＨＦ2Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＨＦ2）等が挙げられる。アルコールとして
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、カルビトール等が挙げられる。
フッ素化アルコールとしては、トリフルオロエタノー
ル、ヘキサフルオロー２−プロパノール、ペンタフルオ
ロプロパノール等が挙げられる。エーテルとしては、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライ
ム等が挙げられる。ケトンとしては、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シク
ロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エス
テルとしては、カルボン酸エステル、例えばギ酸エステ
ル、酢酸エステル等が挙げられる。有機窒素化合物とし
ては、アセトニトリル、ニトロベンゼン、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。有機
硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等が挙げられる。有機ケイ素化合物としては、テトラ
メチルシラン、テトラエチルシラン、メトキシトリメチ
ルシラン、エトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が
挙げられる。これらの成分の中で好ましいものはアルコ
ールである。
【００１１】本発明の含フッ素ケトンからなる溶剤及び
含フッ素ケトンと液状有機化合物からなる溶剤には、水
を添加することができる。この場合の水の添加量は、全
溶剤中、０．０１〜５０重量％、好ましくは０．５〜２
０重量％である。溶剤に添加した水は、溶剤中に溶解状
又は分散状で存在するが、分散状で存在する場合には、
界面活性剤を同時に添加して溶剤中に乳化させるのが好
ましい。これらの含フッ素ケトンに対する水の溶解度は
０．０１〜１０重量％である。これらの含フッ素ケトン
は水を添加溶解させて、水と含フッ素ケトンからなる溶
液とすることができる。この混合溶液において水の濃度
は少なくとも０．０１重量％であり、その上限値は、１
０〜２０重量％程度である。本発明では、さらにそれ以
上の水を添加して、添加水を分散させた状態で使用する
こともできる。前記のような含水溶剤は、親水性の汚れ
に対する除去効果の向上したものである。
含フッ素ケトンと液状有機化合物からなる溶剤には、水
を添加することができる。この場合の水の添加量は、全
溶剤中、０．０１〜５０重量％、好ましくは０．５〜２
０重量％である。溶剤に添加した水は、溶剤中に溶解状
又は分散状で存在するが、分散状で存在する場合には、
界面活性剤を同時に添加して溶剤中に乳化させるのが好
ましい。これらの含フッ素ケトンに対する水の溶解度は
０．０１〜１０重量％である。これらの含フッ素ケトン
は水を添加溶解させて、水と含フッ素ケトンからなる溶
液とすることができる。この混合溶液において水の濃度
は少なくとも０．０１重量％であり、その上限値は、１
０〜２０重量％程度である。本発明では、さらにそれ以
上の水を添加して、添加水を分散させた状態で使用する
こともできる。前記のような含水溶剤は、親水性の汚れ
に対する除去効果の向上したものである。
【００１２】本発明の溶剤には、これを過酷な条件で使
用するに際しては各種の安定剤を添加しても良い。安定
剤としては、蒸留操作により含フッ素ケトンに同伴流出
される液状化合物或いは共沸ないし共沸様混合物を形成
する液状化合物が望ましい。このような安定剤の具体例
としては、ニトロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニト
ロ化合物；ニトロベンゼン、ニトロスチレン等の芳香族
ニトロ化合物；ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシ
エタン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサ
ン等のエーテル類；クリシドール、メチルグリシジルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、１，２−ブチレンオキシド、シクロヘキセ
ンオキシド、エピクロルヒドリン等のエポキシ類；ヘキ
セン、ヘプテン、ペンタジエン、シクロペンテン、シク
ロヘキセン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、
１−ブテン−３−オール等のオレフィン系アルコール
類；３−メチル−１−ブテン−３−オール、３−メチル
−１−ペンテン３オール等のアセチレン系アルコール
類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
ブチル、メタクリル酸ビニル等のアクリル酸エステル類
等があげられる。また、更に相乗的安定化効果を得るた
めに、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類
等を併用しても良い。安定剤の使用量は、安定剤の種類
等により異なるが、通常、溶剤中、０．０１〜１０重量
％程度であり、０．１〜５重量％程度とすることがより
好ましい。
用するに際しては各種の安定剤を添加しても良い。安定
剤としては、蒸留操作により含フッ素ケトンに同伴流出
される液状化合物或いは共沸ないし共沸様混合物を形成
する液状化合物が望ましい。このような安定剤の具体例
としては、ニトロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニト
ロ化合物；ニトロベンゼン、ニトロスチレン等の芳香族
ニトロ化合物；ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシ
エタン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサ
ン等のエーテル類；クリシドール、メチルグリシジルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、１，２−ブチレンオキシド、シクロヘキセ
ンオキシド、エピクロルヒドリン等のエポキシ類；ヘキ
セン、ヘプテン、ペンタジエン、シクロペンテン、シク
ロヘキセン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、
１−ブテン−３−オール等のオレフィン系アルコール
類；３−メチル−１−ブテン−３−オール、３−メチル
−１−ペンテン３オール等のアセチレン系アルコール
類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
ブチル、メタクリル酸ビニル等のアクリル酸エステル類
等があげられる。また、更に相乗的安定化効果を得るた
めに、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類
等を併用しても良い。安定剤の使用量は、安定剤の種類
等により異なるが、通常、溶剤中、０．０１〜１０重量
％程度であり、０．１〜５重量％程度とすることがより
好ましい。
【００１３】本発明の溶剤には、その洗浄力、界面作用
等をより一層改善する為に、必要に応じて各種の界面活
性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ソ
ルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等のソ
ルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンのソル
ビットテトラオエート等のポリオキシエチレンソルビッ
ト脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンモノラウレー
ト等のポリオキシエチレンラウリルエーテル類；ポリオ
キシエチレンノニフェニルエーテル等のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル；ポリオキシエチレンオ
レイン酸アミド等のポリオキシエチレンアルキルアミン
脂肪酸アミド類等のノニオン系界面活性剤が挙げられ、
単独で使用してもよく、或いは２種以上の組み合わせで
使用しても良い。相乗的に洗浄力及び界面作用を改善す
る目的で、これらのノニオン系界面活性剤に更にカチオ
ン系界面活性剤を又はアニオン系界面活性剤を併用して
も良い。界面活性剤の総添加量は、その種類により異な
るが、溶剤中、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．
１〜５重量％である。
等をより一層改善する為に、必要に応じて各種の界面活
性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ソ
ルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等のソ
ルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンのソル
ビットテトラオエート等のポリオキシエチレンソルビッ
ト脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンモノラウレー
ト等のポリオキシエチレンラウリルエーテル類；ポリオ
キシエチレンノニフェニルエーテル等のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル；ポリオキシエチレンオ
レイン酸アミド等のポリオキシエチレンアルキルアミン
脂肪酸アミド類等のノニオン系界面活性剤が挙げられ、
単独で使用してもよく、或いは２種以上の組み合わせで
使用しても良い。相乗的に洗浄力及び界面作用を改善す
る目的で、これらのノニオン系界面活性剤に更にカチオ
ン系界面活性剤を又はアニオン系界面活性剤を併用して
も良い。界面活性剤の総添加量は、その種類により異な
るが、溶剤中、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．
１〜５重量％である。
【００１４】本発明の溶剤は、物品表面に付着する汚れ
や水を除去し、物品表面を清浄化するための洗浄剤とし
て有利に用いることができる。この場合の物品表面に付
着する汚れには、フラックス、油、グリース、ワック
ス、インク等による汚れの他、従来のドライクリーニン
グで除去される各種汚れがある。これらの汚れは、従来
は、ＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン等を
用いて除去されてきたものであるが、本発明の溶剤は、
それらのＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン
の代替物として有利に適用される。また、前記物品に
は、電子部品（プリント基板、液晶表示器、磁気記録部
品、半導体材料等）、電機部品、精密機械部品、樹脂加
工部品、光学レンズ、衣料品等が包含される。その物品
表面の洗浄化方法としては、浸漬、スプレー、沸騰洗
浄、超音波洗浄、蒸気洗浄等或いはこれらの組み合わせ
等の従来から用いられている方法が採用できる。
や水を除去し、物品表面を清浄化するための洗浄剤とし
て有利に用いることができる。この場合の物品表面に付
着する汚れには、フラックス、油、グリース、ワック
ス、インク等による汚れの他、従来のドライクリーニン
グで除去される各種汚れがある。これらの汚れは、従来
は、ＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン等を
用いて除去されてきたものであるが、本発明の溶剤は、
それらのＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン
の代替物として有利に適用される。また、前記物品に
は、電子部品（プリント基板、液晶表示器、磁気記録部
品、半導体材料等）、電機部品、精密機械部品、樹脂加
工部品、光学レンズ、衣料品等が包含される。その物品
表面の洗浄化方法としては、浸漬、スプレー、沸騰洗
浄、超音波洗浄、蒸気洗浄等或いはこれらの組み合わせ
等の従来から用いられている方法が採用できる。
【００１５】本発明による含フッ素ケトンと低級アルコ
ールからなる混合液は、水切り乾燥溶剤として有利に用
いることができる。低級アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等の炭
素数１〜６、好ましくは１〜３のアルコールが用いら
れ、その溶剤中濃度は１〜５０重量％、好ましくは１〜
２０重量％である。この水切り乾燥溶剤は、水洗された
後の表面に水分が付着している物品の表面にスプレー法
や浸漬法等の適宜の方法で適用され、これによりその付
着水を除去することができる。
ールからなる混合液は、水切り乾燥溶剤として有利に用
いることができる。低級アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等の炭
素数１〜６、好ましくは１〜３のアルコールが用いら
れ、その溶剤中濃度は１〜５０重量％、好ましくは１〜
２０重量％である。この水切り乾燥溶剤は、水洗された
後の表面に水分が付着している物品の表面にスプレー法
や浸漬法等の適宜の方法で適用され、これによりその付
着水を除去することができる。
【００１６】また、本発明の含フッ素ケトンからなる溶
剤は、冷蔵庫や、エアコン用等の冷媒として用いられる
ことができる。本発明の溶剤は、従来のフロンと同様に
塗料用溶剤、抽出剤、熱媒体等の各種用途に使用するこ
とができる。
剤は、冷蔵庫や、エアコン用等の冷媒として用いられる
ことができる。本発明の溶剤は、従来のフロンと同様に
塗料用溶剤、抽出剤、熱媒体等の各種用途に使用するこ
とができる。
【００１７】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
【００１８】実施例１ 表２に示す溶剤を用いてフラックスの洗浄試験を行っ
た。テストピース（ＳＵＳ−３１６；５０ｍｍ×ｌ０ｍ
ｍ×１ｍｍ）をフラックス[アサヒ化学研究所製ＧＸ−
８Ｓ]に５０℃、１分間浸漬した後、取り出して２００
℃で１分間加熱処理した。そのテストピースを溶剤中で
１分間超音波洗浄し、ついで温風乾燥した。テストピー
ス上のフラックスの除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、
Ｃ；不良）を肉眼及び顕微鏡で観察し、その結果を表２
に示した。
た。テストピース（ＳＵＳ−３１６；５０ｍｍ×ｌ０ｍ
ｍ×１ｍｍ）をフラックス[アサヒ化学研究所製ＧＸ−
８Ｓ]に５０℃、１分間浸漬した後、取り出して２００
℃で１分間加熱処理した。そのテストピースを溶剤中で
１分間超音波洗浄し、ついで温風乾燥した。テストピー
ス上のフラックスの除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、
Ｃ；不良）を肉眼及び顕微鏡で観察し、その結果を表２
に示した。
【００１９】
【表２】
【００２０】実施例２ 表３に示す含フッ素ケトン９５重量％とアルコール[メ
タノール（ＭｅＯＨ）エタノール（ＥｔＯＨ）又はイソ
プロパノール（ｉＰｒＯＨ）]５重量％との混合物を用
いて付着水の除去試験を行った。予めよく脱脂洗浄した
ガラス板（３０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）を純水に１分
間浸漬し、次いで上記の混合物中に３０秒間浸漬した。
取り出したガラス板を常温下で１分間放置して残存して
いた混合物を蒸発させた後、無水メタノール中に浸漬
し、そのメタノールの水分増加量をカールフィッシャー
水分計により測定した。一方、純水に浸漬しただけで上
記の混合物中に浸漬しなかった場合のメタノールの水分
増加量との比較及び肉眼、顕微鏡による表面状態の観察
から、付着水の除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、Ｃ；
不良）を調べ、その結果を表３に示した。
タノール（ＭｅＯＨ）エタノール（ＥｔＯＨ）又はイソ
プロパノール（ｉＰｒＯＨ）]５重量％との混合物を用
いて付着水の除去試験を行った。予めよく脱脂洗浄した
ガラス板（３０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）を純水に１分
間浸漬し、次いで上記の混合物中に３０秒間浸漬した。
取り出したガラス板を常温下で１分間放置して残存して
いた混合物を蒸発させた後、無水メタノール中に浸漬
し、そのメタノールの水分増加量をカールフィッシャー
水分計により測定した。一方、純水に浸漬しただけで上
記の混合物中に浸漬しなかった場合のメタノールの水分
増加量との比較及び肉眼、顕微鏡による表面状態の観察
から、付着水の除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、Ｃ；
不良）を調べ、その結果を表３に示した。
【００２１】
【表３】
【００２２】
【発明の効果】本発明の含フッ素ケトンからなる溶剤
は、その含フッ素ケトンが塩素原子を含まないため、オ
ゾン層破壊の心配がなく、また、水素原子を含むため、
大気中の水酸基ラジカルとの反応性が高く、対流圏で分
解され易いため、温室効果が小さく、かつ、従来のＣＦ
ＣやＨＣＦＣに替わる洗浄溶剤、水切り乾燥剤等として
有利に使用することができる。
は、その含フッ素ケトンが塩素原子を含まないため、オ
ゾン層破壊の心配がなく、また、水素原子を含むため、
大気中の水酸基ラジカルとの反応性が高く、対流圏で分
解され易いため、温室効果が小さく、かつ、従来のＣＦ
ＣやＨＣＦＣに替わる洗浄溶剤、水切り乾燥剤等として
有利に使用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒河 勇治 東京都文京区本郷２−40−17本郷若井ビル ６階 財団法人地球環境産業技術研究機構 新規冷媒等プロジェクト室内 (72)発明者 鈴田 哲也 東京都文京区本郷２−40−17本郷若井ビル ６階 財団法人地球環境産業技術研究機構 新規冷媒等プロジェクト室内 (72)発明者 村田 潤治 東京都文京区本郷２−40−17本郷若井ビル ６階 財団法人地球環境産業技術研究機構 新規冷媒等プロジェクト室内 (72)発明者 関屋 章 茨城県つくば市東１丁目１番 工業技術院 物質工学工業技術研究所内 Ｆターム(参考） 4H003 DA12 DA14 DA15 DA16 DB02 DB03 DC04 ED28 ED30 FA03 FA21
Claims (3)
- 【請求項１】 下記式（１）又は（２）で表される含フ
ッ素ケトンからなる溶剤。 ｎ−Ｃ4Ｆ9ＣＯＣ2Ｈ5 （１） （ＣＨ3)2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3 （２） - 【請求項２】 下記式（１）または（２）で表される含
フッ素ケトンと低級アルコールとからなる水切り乾燥溶
剤。 ｎ−Ｃ4Ｆ9ＣＯＣ2Ｈ5 （１） （ＣＨ3)2ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3 （２） - 【請求項３】 請求項１の溶剤を用いて物品表面に付着
する汚れ又は水分を除去することを特徴とする物品表面
の清浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11098630A JP3141325B2 (ja) | 1999-01-14 | 1999-04-06 | 溶剤およびそれを用いる物品表面の清浄化方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-7390 | 1999-01-14 | ||
| JP739099 | 1999-01-14 | ||
| JP11098630A JP3141325B2 (ja) | 1999-01-14 | 1999-04-06 | 溶剤およびそれを用いる物品表面の清浄化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000265197A true JP2000265197A (ja) | 2000-09-26 |
| JP3141325B2 JP3141325B2 (ja) | 2001-03-05 |
Family
ID=26341677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11098630A Expired - Lifetime JP3141325B2 (ja) | 1999-01-14 | 1999-04-06 | 溶剤およびそれを用いる物品表面の清浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3141325B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6394107B1 (en) * | 2001-04-24 | 2002-05-28 | 3M Innovative Properties Company | Use of fluorinated ketones as wet cleaning agents for vapor reactors and vapor reactor components |
| US6540930B2 (en) | 2001-04-24 | 2003-04-01 | 3M Innovative Properties Company | Use of perfluoroketones as vapor reactor cleaning, etching, and doping gases |
| US7385089B2 (en) | 2005-12-23 | 2008-06-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluorochemical ketone compounds and processes for their use |
-
1999
- 1999-04-06 JP JP11098630A patent/JP3141325B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6394107B1 (en) * | 2001-04-24 | 2002-05-28 | 3M Innovative Properties Company | Use of fluorinated ketones as wet cleaning agents for vapor reactors and vapor reactor components |
| US6540930B2 (en) | 2001-04-24 | 2003-04-01 | 3M Innovative Properties Company | Use of perfluoroketones as vapor reactor cleaning, etching, and doping gases |
| US7385089B2 (en) | 2005-12-23 | 2008-06-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluorochemical ketone compounds and processes for their use |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3141325B2 (ja) | 2001-03-05 |
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