JP2000268412A

JP2000268412A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP2000268412A
Application number: JP11068587A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Usami; 由久宇佐美; Toshio Ishida; 寿男石田; Takashi Morohashi; 孝志諸橋
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-03-15
Filing date: 1999-03-15
Publication date: 2000-09-29

Abstract

(57)【要約】【課題】高速記録においても良好な記録再生特性を示
すＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を提供すること。【解決手段】表面の内周側から外周側にスパイラル状
に形成された凹状の溝を有する透明な円盤状基板上にレ
ーザ光による情報の記録が可能な記録層及びこの上に反
射層を有する光情報記録媒体において、該基板外周端面
から基板半径の１／２乃至１／２０の領域における凹状
の溝の開口の少なくとも一方の縁部が円弧状の丸みを有
しており、かつ該領域において少なくとも基板外周端面
から基板半径の１／２０の位置における凹状の溝の縁部
の方が、基板外周端面から基板半径の１／２の位置にお
ける凹状の溝の開口の縁部よりなだらかな円弧状の丸み
で形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、円盤状基板上にレ
ーザ光による情報の記録が可能な記録層及びこの上に反
射層を有する光情報記録媒体（光ディスク）に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】レーザ光により一回限りの情報の記録が
可能な光情報記録媒体（光ディスク）は、追記型ＣＤ
（所謂ＣＤ−Ｒ）として知られている。ＣＤ−Ｒ型の光
ディスクの代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機
色素からなる記録層、金などの金属からなる反射層、更
に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである。そし
て光ディスクへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光
（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）を照射する
ことにより行なわれ、色素記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性
を変えることにより行われる。一方、情報の読み取り
（再生）も通常は、記録用のレーザ光と同じ波長のレー
ザ光を照射することにより行なわれ、色素記録層の光学
的特性が変化した部位（ピットの生成などによる記録部
分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違い
を検出することにより実施される。ＣＤ−Ｒ型の光ディ
スクからの情報の再生は、市販のＣＤプレーヤを利用し
て行うことができる。

【０００３】ＣＤ−Ｒ型の光ディスクの基板の記録層が
設けられる側の表面には、一般にその内周側から外周側
に約１．６μｍのトラックピッチでスパイラル状に凹状
の溝（トラッキングガイド、プレグルーブ）が形成され
ている。この凹状の溝は、通常ポリカーボネートに代表
される基板樹脂材料をスタンパ（金型）を用いて射出成
型あるいは圧縮成型する際に、スタンパの表面に予め設
けられた凹凸模様に対応して形成される。

【０００４】特開平２−７８０３８号公報には、凹状の
溝の相対する両隅部及び該凹状の溝の相対する両壁面頂
部のいずれもが円弧状を為すように丸められた凹状の溝
を持つ基板を用いたＣＤ−Ｒ型の光ディスクが提案され
ている。このような基板を用いることによって高い反射
率を示す光ディスクが得られ、又良好なトラッキング特
性も確保されるとされている。円弧状に丸められた凹状
の溝は、通常の方法に従い樹脂成型した基板上（凹状の
溝上）に有機溶剤をスピンコートにより塗布し、溶剤に
よって該溝の両壁面頂部を溶解させることによって形成
されている。従って、上記公報に記載の凹状の溝の縁部
は、基板の内周側から外周側まで円弧状の丸みが一様に
形成されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】樹脂成型により製造さ
れる基板は、特にその外周側において反りなどの変形が
生じ易いとの問題がある。基板の変形は、光ディスクの
記録再生時（基板の回転時）に面振れを生じさせ、記録
再生特性に悪影響を与える。このため、基板はできるだ
け変形度を抑えるように作成されているが、近年、情報
の処理量の増大に伴って処理速度が高速化されているた
め、従来余り問題とされなかった面振れの程度であって
も記録再生特性に支障が生じ易くなっていることが判明
した。即ち、２倍速以上の高速（特に４倍速以上の高
速）で情報の記録を行った場合には、基板の外周側で面
振れが増幅され、その結果、記録信号に対して生成する
ピット形状にずれが生じ易くなるためか、ジッター値が
上昇し、再生信号にエラーが発生しやすくなることが判
明した。尚、上記公報に記載のように、内周側から外周
側まで円弧状の丸みが一様に形成された凹状の溝を有す
る基板を用いても、基板外周側でのジッター値の低減は
可能であるが十分ではない。

【０００６】本発明の目的は、高速記録においても良好
な記録再生特性を示す光情報記録媒体を提供することで
ある。特に、本発明は、面振れに伴う基板外周側におけ
るジッター値の上昇を抑制し、特に高速処理においても
エラーの発生の少ないＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を提
供することを目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者の研究により、
少なくとも基板外周端面近傍の凹状の溝の開口の縁部
を、基板半径の１／２の位置近傍の凹状の溝の開口の縁
部よりなだらかな円弧状の丸みとなるように形成するこ
とで、高速記録に有利なＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を
製造できることが見出された。凹状の溝の開口の縁部の
円弧状の丸みを基板外周側領域においてよりなだらかに
することで、基板の外周側で大きな面振れが生じた場合
でも凹状の溝内におけるレーザ光の半径方向の広がりに
よる影響を溝方向（円周方向）では受けにくくなるた
め、記録信号に対して溝方向の信号がずれにくくなり、
その結果、記録信号に忠実なピットの形成が可能になる
ためと考えられる。

【０００８】本発明は、表面の内周側から外周側にスパ
イラル状に形成された凹状の溝を有する透明な円盤状基
板上に、レーザ光による情報の記録が可能な記録層及び
この上に反射層を有するＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体に
おいて、該基板外周端面から基板半径の１／２乃至１／
２０の領域における凹状の溝の開口の両側の縁部の内の
少なくとも一方の縁部が、円弧状の丸みを有しており、
かつ該円弧状の丸みが、該領域において少なくとも基板
外周端面から基板半径の１／２０の位置における凹状の
溝の開口の縁部の円弧状の丸みを表すＬ２の方が、基板
外周端面から基板半径の１／２の位置における凹状の溝
の開口の縁部の円弧状の丸みを表すＬ１より大きくなる
ように形成されている（ただし、Ｌ２＝（Ｗ２₉₀−Ｗ２
₅₀）／２を、Ｌ１＝（Ｗ１₉₀−Ｗ１₅₀）／２をそれぞれ
表し、Ｗ２₉₀は、基板外周端面から基板半径の１／２０
の位置における凹状の溝の底面から溝の深さの９０％の
位置における溝の幅を表し、Ｗ２₅₀は、その位置におけ
る該溝の半値幅を表し、Ｗ１₉₀は、基板外周端面から基
板半径の１／２の位置における凹状の溝の底面から溝の
深さの９０％の位置における溝の幅を表し、そしてＷ１
₅₀は、その位置における該溝の半値幅を表す）ことを特
徴とする光情報記録媒体にある。

【０００９】本発明の光情報記録媒体は以下の態様であ
ることが好ましい。（１）基板外周端面から基板半径の１／２乃至１／２０
の領域における凹状の溝の開口の両側の縁部の内の少な
くとも一方の縁部の円弧状の丸みが、外周側に向けてな
だらかな上昇勾配となるように形成されている光情報記
録媒体。（２）基板外周端面から基板半径の１／２乃至１／２０
の領域における凹状の溝の開口の両側の縁部が、円弧状
の丸みを有している光情報記録媒体。（３）反射層の上に更に樹脂製保護層を有する光情報記
録媒体。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体を添付し
た図面を参照しながら説明する。本発明の光情報記録媒
体は、透明な円盤状基板上に記録層及びこの上に反射層
を有する。図１は、本発明の光情報記録媒体の円盤状基
板の断面模式図である。但し、光情報記録媒体は、回転
軸（中心）に対して対称の関係にあるため、図１の図面
ではその片側のみを示してある。図１において、１は円
盤状基板、２は円孔、３は本発明に係る凹状の溝（プレ
グルーブ）をそれぞれ示す。凹状の溝は、基板の表面の
内周側から外周側に所定のトラックピッチでスパイラル
状に形成されている。

【００１１】本発明の光情報記録媒体は、基板外周端面
から基板半径の１／２乃至１／２０の領域において、凹
状の溝の開口の両側の縁部の内の少なくとも一方の縁部
が円弧状の丸みを有している。本発明では、高速記録時
には、遠心力によって凹状の溝の外周側にピットが広が
りやすいことを考慮すると凹状の溝の開口の少なくとも
外周側の縁部が円弧状の丸みを有していることが好まし
く、更に好ましくは、凹状の溝の開口の両側の縁部が円
弧状の丸みを有していることである。そして本発明に係
る円弧状の丸みは、少なくとも上記の領域において、外
周端面から基板半径の１／２０の位置における凹状の溝
の開口の縁部の円弧状の丸みを表すＬ２の方が、基板外
周端面から基板半径の１／２の位置における凹状の溝の
開口の縁部の円弧状の丸みを表すＬ１より大きくなるよ
うに形成されていることを特徴とする。なお、外周端面
から基板半径の１／２０の位置に凹状の溝が形成されて
いない場合には、凹状の溝の最外周から１ｍｍの位置に
おける凹状の溝の開口の縁部が円弧状の丸みを有してい
ることが好ましい。そして基板外周端面から基板半径の
１／２乃至凹状の溝の最外周から１ｍｍの領域において
は、この円弧状の丸みを表す値が、上記円弧状の丸みを
表すＬ１より大きくなるように形成されていることが好
ましい。

【００１２】図２は、本発明に係る好ましい凹状の溝の
拡大断面図を示す。（ａ）は、基板外周端面から基板半
径の１／２の位置における凹状の溝の拡大断面図を示
し、（ｂ）は、外周端面から基板半径の１／２０の位置
における凹状の溝の拡大断面図を示す。図２に示すよう
に、凹状の溝の開口の両方の縁部が円弧状の丸みを有し
ており、該円弧状の丸みは、Ｌ２の方がＬ１より大きく
なるように形成されている。即ち、Ｌ１及びＬ２は、そ
れぞれ円弧状の丸みの程度（大きさ）を表すもので、こ
の値が大きいほど凹状の溝の開口の縁部がなだらかな円
弧状の丸みを有する。即ち、溝の開口はより開いた状態
で形成されている。ここで、Ｌ２＝（Ｗ２ ₉₀−Ｗ２₅₀）
／２を表し、Ｌ１＝（Ｗ１₉₀−Ｗ１₅₀）／２を表す。Ｗ
２₉₀は、外周端面から基板半径の１／２０の位置におけ
る凹状の溝の底面から溝の深さｈの９０％の位置ｈ₉₀に
おける溝の幅を表す。Ｗ２₅₀は、外周端面から基板半径
の１／２０の位置における凹状の溝の幅（半値幅）を表
す。Ｗ１₉₀は、外周端面から基板半径の１／２の位置に
おける凹状の溝の底面から溝の深さｈの９０％の位置ｈ
₉₀における溝の幅を表す。そしてＷ１₅₀は、外周端面か
ら基板半径の１／２の位置における凹状の溝の幅（半値
幅）を表す。

【００１３】本発明では、基板外周端面から基板半径の
１／２乃至１／２０の領域内における凹状の溝の開口の
縁部の円弧状の丸みの程度はいずれにも設定することが
できるが、基板外周端面から基板半径の１／２の位置で
の凹状の溝の開口の縁部の円弧状の丸みを表すＬ１を基
準として上記領域の全領域においてＬ１より大きくなる
ように形成されていることが好ましい。例えば、図３に
見られるように、円弧状の丸みは、Ａ、Ｂ、及びＣで示
される曲線のように、外周側向けて上昇勾配となるよう
に形成されていることが好ましい。特にＡで示される曲
線のように、外周側に向けてなだらかに上昇するように
円弧状の丸みの大きさを調整することが好ましい。本発
明において、Ｌ１は、５０ｎｍ〜１２０ｎｍ（更に好ま
しくは、６０ｎｍ〜１１０ｎｍ、特に好ましくは、７０
ｎｍ〜１００ｎｍ）の範囲に設定することが好ましい。
また、Ｌ２は、６０ｎｍ〜１３０ｎｍ（更に好ましく
は、７０ｎｍ〜１２０ｎｍ、特に好ましくは、８０ｎｍ
〜１１０ｎｍ）の範囲に設定することが好ましい。円弧
状の丸みの値が、上記範囲の上限値を超えると溝に対す
る応答信号（溝信号）が得られにくくなるため、トラッ
キング性が低下し易くなり、一方、その範囲の下限値よ
り更に小さな値になると反射率が低下しやすくなる。Ｌ
２−Ｌ１の値（差）は、３〜３０ｎｍ（更に好ましく
は、５〜２５ｎｍ、特に好ましくは、７〜２０ｎｍ）の
範囲にあることが好ましい。Ｌ２−Ｌ１の値が、大きく
なりすぎると溝信号や反射率のディスク内での変動が大
きくなり、安定した再生が行われにくくなる。

【００１４】次に、本発明の光情報記録媒体の製造方法
を説明する。基板材料としては、例えばポリカーボネー
ト；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ
塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹
脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィンおよび
ポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれ
らを併用してもよい。上記材料の中では、耐湿性、寸法
安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ま
しい。基板は、その直径が１２０±３ｍｍで厚みが１．
２±０．１ｍｍ、あるいはその直径が８０±３ｍｍで厚
みが１．２±０．１ｍｍのものが代表的である。

【００１５】色素記録層が設けられる側の基板表面に
は、平面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防
止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料
としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリ
ル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン
酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、ク
ロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ
塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポ
リイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン
・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカ
ップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。

【００１６】下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５
〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μ
ｍの範囲である。

【００１７】基板（または下塗層）上には、前述のよう
に開口の縁部が円弧状の丸みを有する凹状の溝（プレグ
ルーブ）が形成されている。本発明に係る凹状の溝は、
基板を射出成形あるいは押出成形する際に、予めこのよ
うな円弧状の丸みを持つように加工された樹脂成型用の
スタンパ（金型）を用いて形成することができる。例え
ば、このようなスタンパは、スタンパの作製工程におい
て、加工用のレーザビームの照射条件（光学的な調整、
照射パワー）やレジストの露光性能を調整することによ
って、縁部が円弧状の丸みを持つように加工することで
得ることができる。あるいは、本発明に係る凹状の溝
は、従来のスタンパを用いて、該スタンパへの樹脂の転
写率を下げる方法を利用することにより、形成すること
ができる。スタンパへの樹脂の転写率を下げる方法を利
用する場合には、樹脂成型時の圧力や温度を調節して樹
脂の流動性を変化させることで（溝への樹脂の充填率を
調整することで）本発明の円弧状の丸みの凹状の溝を持
つ基板を得ることができる。

【００１８】凹状の溝の形成は、プレグルーブ層を設け
ることにより行っても良い。プレグルーブ層の材料とし
ては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエ
ステルおよびテトラエステルのうちの少なくとも一種の
モノマー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合
物を用いることができる。プレグルーブ層の形成は、例
えば、まず精密に作られた母型（スタンパ）上に上記の
アクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を
塗布し、更にこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板
または母型を介して紫外線を照射することにより塗布層
を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。次いで、基
板を母型から剥離することにより得ることができる。プ
レグルーブ層を設ける場合にも、上記のように、予め本
発明に係る円弧状の丸みを持つように加工されたスタン
パ（金型）を用いることや、スタンパへの樹脂の転写率
を下げる方法を利用することにより、本発明に係る円弧
状の丸みを有する凹状の溝を形成することができる。プ
レグルーブ層の層厚は一般に、０．０５〜１００μｍの
範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲であ
る。

【００１９】凹状の溝の深さは１０〜３００ｎｍの範囲
にあることが好ましく、またその幅（半値幅）は、２０
０〜９００ｎｍの範囲にあることが好ましい。

【００２０】本発明に係る凹状の溝が設けられた基板上
には記録層が設けられる。記録層の形成材料は特に限定
されないが、製造が容易である、比較的高い感度を得る
ことができるなどの点から色素を用いることが好まし
い。記録層に用いる色素は特に限定されない。使用可能
な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色
素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオ
ピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキ
ノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール
系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系
色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アル
ミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物
を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シア
ニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色
素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイ
ミダゾキノキサリン系色素が好ましい。特に好ましく
は、シアニン系色素である。

【００２１】記録層として、例えば、色素記録層を形成
する場合には、色素を溶剤に溶解して塗布液を調製し、
この塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾
燥することにより行なうことができる。塗布液の調整に
際しては、退色防止剤を加えることや、更に所望により
結合剤を加えることもできる。退色防止剤を併用する場
合には、その使用量は、色素の量に対して、通常０．１
〜５０重量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５
重量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０重量％の範
囲、特に５〜２５重量％の範囲である。

【００２２】色素記録層を形成する場合の塗布液の溶剤
の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなど
のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタ
ン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素
化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シク
ロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチ
ルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノー
ル、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，
３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶
剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを
挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性
を考慮して単独または二種以上を適宜併用することがで
きる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑
剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加しても
よい。

【００２３】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材
料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、
色素１００重量部に対して上限が２０重量部、好ましく
は、１０重量部、更に好ましくは、５重量部に留めるべ
きである。

【００２４】このようにして調製される塗布液中の色素
の濃度は一般に０．０１〜１０重量％の範囲にあり、好
ましくは０．１〜５重量％の範囲にある。

【００２５】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、及びスクリーン印刷法などを挙
げることができる。色素記録層は単層でも重層でもよ
い。色素記録層の層厚（乾燥後の厚み）は一般に２０〜
５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍ
の範囲にある。

【００２６】上記記録層の上には、情報の再生時におけ
る反射率の向上の目的で、反射層が設けられる。反射層
の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が
高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍ
ｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉ
ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ
などの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げるこ
とができる。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼
である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるい
は二種以上の組合せで、または合金として用いてもよ
い。特に好ましくはＡｕ、Ａｇ、あるいはこれらの合金
である。反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、
スパッタリングまたはイオンプレーティングすることに
より記録層の上に形成することができる。反射層の層厚
は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲にあり、好まし
くは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５０〜３
００ｎｍの範囲である。

【００２７】反射層の上には、記録層などを物理的およ
び化学的に保護する目的で保護層が設けられることが好
ましい。なお、基板の記録層が設けられていない側にも
耐傷性、耐湿性を高める目的で保護層を設けることもで
きる。保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、
ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物
質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の
有機物質を挙げることができる。本発明では樹脂製の保
護層が形成されていることが好ましい。

【００２８】例えば、プラスチックの押出加工で得られ
たフィルムを接着剤を介して反射層上及び／または基板
上にラミネートすることにより保護層を形成することが
できる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の
方法により保護層を設けてもよい。また、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶
解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾
燥することによって保護層を形成することができる。Ｕ
Ｖ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤
に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、
ＵＶ光を照射して硬化させることによっても保護層を形
成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電
防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的
に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．
１〜１００μｍの範囲にある。

【００２９】本発明の光情報記録媒体は、上述した構成
からなる単板であってもよいが、更に二枚の円盤状基板
のうちの少なくとも一方に上記構成を有する基板を用い
て、これらを色素記録層が内側となるように向い合わ
せ、接着剤等を用いて接合することにより、貼り合せタ
イプの光情報記録媒体とすることもできる。あるいはま
た二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成
を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリング
状外側スペーサとを介して接合することにより、エアー
サンドイッチタイプの光情報記録媒体とすることもでき
る。

【００３０】光情報記録媒体に記録した情報をタイトル
や図柄を用いて表示しておくことは管理上便利である。
そのためには、媒体の表面（記録再生用のレーザ光が照
射される側とは反対側の表面）がそのような表示をする
のに適した表面であることが必要になる。近年、インク
ジェットプリンタによる印字法が一般に利用されてい
る。インクジェットプリンタを用いて光情報記録媒体の
表面に印字を施す場合には、インクは水性であるため
に、媒体の表面は親水性であることが必要になる。しか
し、光情報記録媒体の表面は通常疎水性である。このた
め、光情報記録媒体の表面を水性インクが定着し易いよ
うに親水性の表面に改良することが必要になる。このよ
うな親水性の印刷面（親水性表面層）を持つ光情報記録
媒体については、例えば、特開平７−１６９７００号、
同１０−１６２４３８号などの各公報に種々提案されて
いる。本発明の光情報記録媒体についても親水性表面層
を設けることができる。そして、親水性樹脂表面層を設
ける場合、該表面層は、紫外線硬化性樹脂（バインダ）
中にタンパク質粒子などの親水性有機高分子からなる粒
子を分散させた層として構成することが有利である。

【００３１】親水性の表面層の下層（保護層など）は通
常透明であるため、表面層には、反射層の金属による光
沢が現れる。親水性の表面層に印刷を施した場合には、
この金属光沢に妨げられて印刷画面が不鮮明になった
り、印刷の色相がインク本来の色相で印刷できないなど
の問題が伴う。このような問題に対しては、金属光沢を
遮蔽することが有効である。金属光沢を遮蔽する方法と
しては、例えば、親水性表面層に白色、有色の各種の無
機顔料や有機顔料を含有させる方法や、親水性表面層の
下面に紫外線硬化性樹脂などのバインダ中に上記顔料を
分散させた光遮蔽層を別に設ける方法などが知られてお
り、本発明の光情報記録媒体についてもこれらの方法を
利用することができる。

【００３２】上記のような親水性表面層には黴の発生を
防止するために、防黴剤を含有させてもい。防黴剤は特
に制限はなく、例えば、特開平３−７３４２９号公報、
あるいは特開平１０−１６２４３８号公報に記載のもの
を使用することができる。代表的な防黴剤の例として
は、ベンズイミダゾール系化合物を挙げることができ
る。防黴剤を使用する場合、その使用量は、通常層１グ
ラム当たり０．２〜２．０ミリグラムの範囲の量であ
る。

【００３３】本発明の情報の記録再生方法は、上記光情
報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。光
情報記録媒体を定線速度または定角速度にて回転させな
がら、基板側から半導体レーザ光などの記録用の光を照
射する。通常ＣＤフォーマットでは、１．２〜１．４ｍ
／秒の範囲の定線速度にて記録用のレーザ光が照射され
るが、これの２倍速、４倍速、６倍速及び８倍速にて行
なうこともできる。本発明の光情報記録媒体は、特に２
倍速以上の高速処理の場合に有利に用いることができ
る。レーザ光の照射によって、記録層の照射部分がその
光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学
的な変化が生じてその光学特性を変えることにより、情
報が記録される。記録光としては５００ｎｍ〜８５０ｎ
ｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが用
いられる。用いられるレーザービームの波長は好ましく
は６００〜８００ｎｍの範囲である。ＣＲーＤ型の光デ
ィスクにおいては、７７０〜７９０ｎｍの範囲の波長が
適している。上記のように記録された情報の再生は、光
ディスクを所定の定線速度で回転させながら半導体レー
ザ光を基板側から照射して、その反射光を検出すること
により行うことができる。

【００３４】

【実施例】以下に本発明の実施例と比較例を記載する。［実施例１］円盤状基板の作製予め所定のトラックピッチで所定の溝形状となるように
作製したスタンパを内部に備えた射出成型機にポリカー
ボネート樹脂（樹脂商品名：パンライトＡＤ５５０３、
帝人（株））を注入し、１１５℃の温度で成型し、ポリ
カーボネート製の円盤状樹脂基板を作製した。得られた
円盤状樹脂基板は、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ
で、その表面にスパイラル状の凹状の溝（プレグルー
ブ）が形成されていた。

【００３５】凹状の溝のトラックピッチは、１．６μｍ
であり、基板外周端面から基板半径の１／２乃至１／２
０の領域内における凹状の溝の開口の縁部の円弧状の丸
みは、図３で示される曲線Ａに従い形成されており、そ
の溝形状は下記の通りである（図２参照）。

【００３６】（１）基板外周端面から基板半径の１／２
の位置における凹状の溝の形状凹状の溝の幅（半値幅：Ｗ１₅₀）：５００ｎｍ、凹状の溝の深さ（ｈ）：１７５ｎｍ、円弧状の丸みを表すＬ１＝（Ｗ１₉₀−Ｗ１₅₀）／２：８
０ｎｍ（Ｗ１₉₀は、外周端面から基板半径の１／２の位
置における凹状の溝の底面から溝の深さｈの９０％の位
置ｈ₉₀における溝の幅を表す。）

【００３７】（２）外周端面から基板半径の１／２０の
位置における凹状の溝の形状凹状の溝の幅（半値幅：Ｗ２₅₀）：５００ｎｍ、凹状の溝の深さ（ｈ）：１７５ｎｍ、円弧状の丸みを表すＬ２＝（Ｗ２₉₀−Ｗ２₅₀）／２：９
１ｎｍ（Ｗ２₉₀は、外周端面から基板半径の１／２０の
位置における凹状の溝の底面から溝の深さｈの９０％の
位置ｈ₉₀における溝の幅を表す。）

【００３８】

【化１】

【００３９】上記の構造式で示されるシアニン色素２．
７ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１
００ｃｃに溶解し、記録層形成用塗布液を調製した。こ
の塗布液を、上記で得た円盤状ポリカーボネート基板の
そのプレグルーブが設けられている表面上に、スピンコ
ートにより塗布し、色素記録層（厚さ（グルーブ内）：
約２００ｎｍ）を形成した。

【００４０】次に、色素記録層上にＡｇをＤＣマグネト
ロンスパッタ装置を用いてスパッタして、厚さが約１０
０ｎｍのＡｇからなる反射層を形成した。更に反射層上
にＵＶ硬化性樹脂（商品名：ＳＤ３１８、大日本インキ
化学工業（株）製）を回転数３００〜４０００ｒｐｍ間
で変化させながらスピンコート法を利用して塗布した。
塗布後、その上から高圧水銀灯を用いて紫外線を照射し
て硬化させ、層厚８μｍの保護層を形成した。以上の工
程により、基板、色素記録層、反射層及び保護層からな
る本発明に従うＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体（光ディス
ク）を製造した。

【００４１】［比較例１］実施例１において、円盤状基
板を射出成型機を用いて作製する際の成型温度を１２０
℃に変更した以外は同様にして比較用のＣＤ−Ｒ型の光
情報記録媒体を製造した。得られた基板の凹状の溝のト
ラックピッチは、１．６μｍであり、基板外周端面から
基板半径の１／２乃至１／２０の領域内における凹状の
溝の開口の縁部の円弧状の丸みは、ほぼ同じ形状で形成
されており、その溝形状は下記の通りである。基板外周端面から基板半径の１／２の位置（基板半径の
１／２０の位置）における凹状の溝の形状凹状の溝の幅（半値幅：Ｗ１₅₀）：５００ｎｍ、凹状の溝の深さ（ｈ）：１７５ｎｍ、円弧状の丸みを表すＬ１＝（Ｗ１₉₀−Ｗ１₅₀）／２（＝
Ｌ２）：８０ｎｍ（Ｗ１₉₀は、外周端面から基板半径の
１／２の位置における凹状の溝の底面から溝の深さｈの
９０％の位置ｈ₉₀における溝の幅を表す。）

【００４２】［光情報記録媒体としての評価］得られた
実施例及び比較例の光ディスクに、ＯＭＴ２０００（パ
ルステック社製）を用いて波長７８０ｎｍのレーザ光を
ＮＡ０．５のピックアップを用い、定線速度４．８ｍ／
秒で、ＥＦＭ信号を記録パワーを３〜１０ｍＷまで変化
させて最適記録パワーで記録した。その後、ＣＤ−ＣＡ
ＴＳ（オーディオディベロップメント社製）を用いて波
長７８０ｎｍのレーザ光をＮＡ０．４５のピックアップ
を用い、定線速度１．２ｍ／秒、０．５ｍＷのレーザパ
ワーで記録信号を再生し、基板外周端面から基板半径の
１／２の位置及び基板外周端面から基板半径の１／２０
の位置における１１Ｔランドジッター（ピット間ジッタ
ー）をＴＩＡ（ヒューレットパッカード社製）を用いて
測定した。ジッター値は小さいほど記録信号が均一であ
ることを示す。評価結果を表１に示す。

【００４３】

【表１】表１ ─────────────────────── １１Ｔランドジッター（ｎｓ）基板外周端面からの測定位置半径の１／２半径の１／２０ ─────────────────────── 実施例１３２３３比較例１３３３７ ───────────────────────

【００４４】表１の結果から、基板外周端面から基板半
径の１／２乃至１／２０の領域内における凹状の溝の開
口の縁部が、外周側に向かってなだらかに上昇するよう
な円弧状の丸みで形成された本発明に従う光ディスク
（実施例１）の場合には、基板外周側においてもジッタ
ー値の上昇が殆どないことがわかる。一方、基板外周端
面から基板半径の１／２乃至１／２０の領域内における
凹状の溝の開口の縁部が、ほぼ同じような一様の円弧状
の丸みで形成された比較用の光ディスク（比較例１）の
場合には、基板の外周側においてジッター値が比較的高
くなることがわかる。

【００４５】

【発明の効果】本発明に従い、外周側の領域において凹
状の溝の開口の縁部がよりなだらかな円弧状の丸みで形
成された基板を用いることにより、面振れによるジッタ
ー値の上昇を低減させることができる。従って、特に高
速記録に際しても記録信号に対応して忠実なピットの形
成が可能となり、エラーの発生の少ない高速処理に適し
たＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を製造することができ
る。また本発明に係る基板の製造は、前述のようにスタ
ンパへの樹脂の転写率を低下させて基板を作る場合でも
又、凹凸の形状を加工することで製造したスタンパを用
いる場合でもスタンパからの基板の剥ぎ取りが容易に行
えるため、生産性が高められる利点もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光情報記録媒体の円盤状基板の断面模
式図を示す。

【図２】本発明に係る好ましい凹状の溝の拡大断面図を
示す。（ａ）は、基板外周端面から基板半径の１／２の
位置における凹状の溝の拡大断面図を示し、（ｂ）は、
外周端面から基板半径の１／２０の位置における凹状の
溝の拡大断面図を示す。

【図３】基板外周端面から基板半径の１／２乃至１／２
０の位置の領域における本発明係る凹状の溝の縁部の円
弧状の丸みの程度を模式的に表した図である。

【符号の説明】

１円盤状基板２円孔３凹状の溝（プレグルーブ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者諸橋孝志東京都羽村市神明台２丁目10番地８富士マグネディスク株式会社内Ｆターム(参考） 5D029 JA04 LA02 LB03 MA11 WB13 WB14 WB15 WC03 WD11

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面の内周側から外周側にスパイラル状
に形成された凹状の溝を有する透明な円盤状基板上に、
レーザ光による情報の記録が可能な記録層及びこの上に
反射層を有するＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体において、該基板外周端面から基板半径の１／２乃至１／２０の領
域における凹状の溝の開口の両側の縁部の内の少なくと
も一方の縁部が、円弧状の丸みを有しており、かつ該円
弧状の丸みが、該領域において少なくとも基板外周端面
から基板半径の１／２０の位置における凹状の溝の開口
の縁部の円弧状の丸みを表すＬ２の方が、基板外周端面
から基板半径の１／２の位置における凹状の溝の開口の
縁部の円弧状の丸みを表すＬ１より大きくなるように形
成されている（ただし、Ｌ２＝（Ｗ２₉₀−Ｗ２₅₀）／２
を、Ｌ１＝（Ｗ１₉₀−Ｗ１₅₀）／２をそれぞれ表し、Ｗ
２ ₉₀は、基板外周端面から基板半径の１／２０の位置に
おける凹状の溝の底面から溝の深さの９０％の位置にお
ける溝の幅を表し、Ｗ２₅₀は、その位置における該溝の
半値幅を表し、Ｗ１₉₀は、基板外周端面から基板半径の
１／２の位置における凹状の溝の底面から溝の深さの９
０％の位置における溝の幅を表し、そしてＷ１₅₀は、そ
の位置における該溝の半値幅を表す）ことを特徴とする
光情報記録媒体。
【請求項２】基板外周端面から基板半径の１／２乃至
１／２０の領域における凹状の溝の開口の両側の縁部の
内の少なくとも一方の縁部の円弧状の丸みが、外周側に
向けてなだらかな上昇勾配となるように形成されている
請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】基板外周端面から基板半径の１／２乃至
１／２０の領域における凹状の溝の開口の両側の縁部
が、円弧状の丸みを有している請求項１又は２に記載の
光情報記録媒体。
【請求項４】反射層の上に更に樹脂製保護層を有する
請求項１乃至３の内のいずれかの項に記載の光情報記録
媒体。