JPH113539A - 情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体Info
- Publication number
- JPH113539A JPH113539A JP10175385A JP17538598A JPH113539A JP H113539 A JPH113539 A JP H113539A JP 10175385 A JP10175385 A JP 10175385A JP 17538598 A JP17538598 A JP 17538598A JP H113539 A JPH113539 A JP H113539A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- outer peripheral
- recording medium
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 記録領域が広く且つ良好な記録再生特性が長
期に亙って維持できる耐久性に優れた情報記録媒体を提
供すること。 【解決手段】 円盤状基板のトラッキング用プレグルー
ブ上に、レーザーにより情報の書き込みが可能な色素の
記録層、光反射性物質(Mg、Se、Y、Ti、Zr、
Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、
Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Cu、Z
n、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、P
b、Po、Sn、およびBi)ら選ばれる金属もしくは
半金属を少なくとも一種含む反射層、および紫外線硬化
型樹脂の硬化物からなる保護層が、この順に形成されて
なる情報記録媒体において、該反射層と該色素記録層と
が基板の外周縁まで連続して形成されており、かつ該保
護層が、該反射層上から、該反射層の外周端面、該記録
層の外周端面を経て、該基板の外周端面まで連続して設
けられていることを特徴とする情報記録媒体。
期に亙って維持できる耐久性に優れた情報記録媒体を提
供すること。 【解決手段】 円盤状基板のトラッキング用プレグルー
ブ上に、レーザーにより情報の書き込みが可能な色素の
記録層、光反射性物質(Mg、Se、Y、Ti、Zr、
Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、
Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Cu、Z
n、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、P
b、Po、Sn、およびBi)ら選ばれる金属もしくは
半金属を少なくとも一種含む反射層、および紫外線硬化
型樹脂の硬化物からなる保護層が、この順に形成されて
なる情報記録媒体において、該反射層と該色素記録層と
が基板の外周縁まで連続して形成されており、かつ該保
護層が、該反射層上から、該反射層の外周端面、該記録
層の外周端面を経て、該基板の外周端面まで連続して設
けられていることを特徴とする情報記録媒体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザーにより情
報の記録が可能な情報記録媒体に関するものである。
報の記録が可能な情報記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年において、レーザー光等の高エネル
ギー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実
用化されている。情報の書き込みが可能なDRAW(D
irect Read After Write)型光
ディスクは、基本構造として、プラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたB
i、Sn、In、Te等の金属または半金属、あるいは
色素からなる記録層とを有する。光ディスクへの情報の
書き込みは、たとえばレーザービームを光ディスクに照
射することにより行なわれる。
ギー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実
用化されている。情報の書き込みが可能なDRAW(D
irect Read After Write)型光
ディスクは、基本構造として、プラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたB
i、Sn、In、Te等の金属または半金属、あるいは
色素からなる記録層とを有する。光ディスクへの情報の
書き込みは、たとえばレーザービームを光ディスクに照
射することにより行なわれる。
【0003】上記光ディスクに情報を記録するには、デ
ィスクに照射されるレーザービームを案内して所定の位
置にトラッキングさせる必要がある。このため、一般に
基板表面にはスパイラル状または同心円状の凹部(溝)
からなるグルーブ(一般にプレグルーブと呼ばれる)が
形成されている。
ィスクに照射されるレーザービームを案内して所定の位
置にトラッキングさせる必要がある。このため、一般に
基板表面にはスパイラル状または同心円状の凹部(溝)
からなるグルーブ(一般にプレグルーブと呼ばれる)が
形成されている。
【0004】上記プレグルーブを有する基板上に設けら
れる記録層の材料として色素を用いた場合、塗布により
該記録層を形成することができるという製造上の大きな
利点を有する。しかしながら、一般に色素記録層は金属
の記録層に比べて光の照射により劣化し易く、劣化した
色素記録層は記録できなくなる場合がある。また、色素
記録層は反射率が低く、反射率を向上させるために、一
般に記録層上に金属からなる反射層を設けることが行な
われている。そして、このような色素記録層および反射
層の傷付き防止及び外界の塵埃付着防止の観点から、反
射層上(記録層上)に保護層を設けたり、二枚の光ディ
スクをそれぞれの反射層が対向するように貼り合わせた
サンドイッチ構造にすることが行なわれている。
れる記録層の材料として色素を用いた場合、塗布により
該記録層を形成することができるという製造上の大きな
利点を有する。しかしながら、一般に色素記録層は金属
の記録層に比べて光の照射により劣化し易く、劣化した
色素記録層は記録できなくなる場合がある。また、色素
記録層は反射率が低く、反射率を向上させるために、一
般に記録層上に金属からなる反射層を設けることが行な
われている。そして、このような色素記録層および反射
層の傷付き防止及び外界の塵埃付着防止の観点から、反
射層上(記録層上)に保護層を設けたり、二枚の光ディ
スクをそれぞれの反射層が対向するように貼り合わせた
サンドイッチ構造にすることが行なわれている。
【0005】このような基板、色素記録層、金属反射層
および保護層からなる情報記録媒体は、例えば日経エレ
クトロニクス(No.465、1989年1月23日発
行、107頁)に開示されている。
および保護層からなる情報記録媒体は、例えば日経エレ
クトロニクス(No.465、1989年1月23日発
行、107頁)に開示されている。
【0006】一般に、基板上に記録層および保護層がこ
の順で設けられた光ディスクは、第3図の半径部分断面
図に示すような形状をしている。このような断面形状あ
るいは類似のものは、特開昭62−270036号公報
および特開平1−276442号公報に開示されてい
る。この第3図において、プレグルーブ22は円盤状基
板21の内周側の内周側基板領域24および外周側の外
周側基板領域25以外に形成されており、そして該基板
のプレグレーブ上に記録層23が形成され、さらに該記
録層および外周側基板領域25の上に保護層27が設け
られている。
の順で設けられた光ディスクは、第3図の半径部分断面
図に示すような形状をしている。このような断面形状あ
るいは類似のものは、特開昭62−270036号公報
および特開平1−276442号公報に開示されてい
る。この第3図において、プレグルーブ22は円盤状基
板21の内周側の内周側基板領域24および外周側の外
周側基板領域25以外に形成されており、そして該基板
のプレグレーブ上に記録層23が形成され、さらに該記
録層および外周側基板領域25の上に保護層27が設け
られている。
【0007】前記の「日経エレクトロニクス」に記載の
光ディスクのように記録層上に反射層を設ける場合、ど
のような状態で設けるかについては開示されていない
が、従来の関連技術に基づくと、第4図の半径部分断面
図に示すように一般に記録層上にのみ反射層が形成さ
れ、保護層は反射層上から基板外周縁迄に形成されてい
ることものと推定される。第4図に示される光ディスク
は、円盤状基板21のプレグルーブ22上に記録層23
が形成され、その上に反射層26が形成され、さらに該
記録層および外周側基板領域25の上に保護層27が設
けられている。
光ディスクのように記録層上に反射層を設ける場合、ど
のような状態で設けるかについては開示されていない
が、従来の関連技術に基づくと、第4図の半径部分断面
図に示すように一般に記録層上にのみ反射層が形成さ
れ、保護層は反射層上から基板外周縁迄に形成されてい
ることものと推定される。第4図に示される光ディスク
は、円盤状基板21のプレグルーブ22上に記録層23
が形成され、その上に反射層26が形成され、さらに該
記録層および外周側基板領域25の上に保護層27が設
けられている。
【0008】本発明者等の検討によると、第4図のよう
な断面構造を有する光ディスクは、高い反射率を有する
ものであるが、保護層が設けられることによって色素記
録層と反射層あるいは基板と色素記録層との界面から剥
離し易いとの問題がある。すなわち、記録層と反射層の
付着性が充分でないため、保護層を形成することによ
り、その樹脂の収縮等の影響で記録層から反射層が保護
層に付いた状態で剥離し易い傾向がある。
な断面構造を有する光ディスクは、高い反射率を有する
ものであるが、保護層が設けられることによって色素記
録層と反射層あるいは基板と色素記録層との界面から剥
離し易いとの問題がある。すなわち、記録層と反射層の
付着性が充分でないため、保護層を形成することによ
り、その樹脂の収縮等の影響で記録層から反射層が保護
層に付いた状態で剥離し易い傾向がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、製造工
程の簡易化を図るため、色素記録層をスピンコート法に
より基板外周縁付近まで塗布し、反射層も基板外周部分
を遮蔽するための外周用のマスクを用いず色素層上、す
なわち基板外周縁まで設け、その上に保護層を形成した
光ディスク、あるいは記録領域の拡大のため、基板外周
縁までプレグルーブを設けた基板上に上記三層を積層し
た光ディスクについて検討したところ、保護層が基板と
直接接触する部分が殆どなくなり、上述したような保護
層の付着性がさらに低下することが判明した。
程の簡易化を図るため、色素記録層をスピンコート法に
より基板外周縁付近まで塗布し、反射層も基板外周部分
を遮蔽するための外周用のマスクを用いず色素層上、す
なわち基板外周縁まで設け、その上に保護層を形成した
光ディスク、あるいは記録領域の拡大のため、基板外周
縁までプレグルーブを設けた基板上に上記三層を積層し
た光ディスクについて検討したところ、保護層が基板と
直接接触する部分が殆どなくなり、上述したような保護
層の付着性がさらに低下することが判明した。
【0010】従って、本発明は、良好な記録再生特性が
長期に亙って維持でき、耐久性に優れた情報記録媒体を
提供することを目的とする。また、本発明は、高い反射
率を有し且つ良好な記録再生特性が長期の亙って維持で
きる耐久性に優れた情報記録媒体を提供することを目的
とする。さらに、本発明は、記録領域が広く且つ良好な
記録再生特性が長期に亙って維持できる耐久性に優れた
情報記録媒体を提供することを目的とする。
長期に亙って維持でき、耐久性に優れた情報記録媒体を
提供することを目的とする。また、本発明は、高い反射
率を有し且つ良好な記録再生特性が長期の亙って維持で
きる耐久性に優れた情報記録媒体を提供することを目的
とする。さらに、本発明は、記録領域が広く且つ良好な
記録再生特性が長期に亙って維持できる耐久性に優れた
情報記録媒体を提供することを目的とする。
【0011】
【発明を解決するための手段】本発明は、中央に孔部を
有し且つ表面にトラッキング用のプレグルーブを有する
円盤状基板の該プレグルーブ上に、レーザーにより情報
の書き込みが可能な色素からなる記録層、光反射性物質
として、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、
Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Cu、Zn、Cd、A
l、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、S
n、およびBiから選ばれる金属もしくは半金属を少な
くとも一種含む反射層、および紫外線硬化型樹脂の硬化
物からなる保護層が、この順に形成されてなる情報記録
媒体において、該反射層と該色素記録層とが基板の外周
縁まで連続して形成されており、かつ該保護層が、該反
射層上から、該反射層の外周端面、該記録層の外周端面
を経て、該基板の外周端面まで連続して設けられている
ことを特徴とする情報記録媒体にある。
有し且つ表面にトラッキング用のプレグルーブを有する
円盤状基板の該プレグルーブ上に、レーザーにより情報
の書き込みが可能な色素からなる記録層、光反射性物質
として、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、
Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Cu、Zn、Cd、A
l、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、S
n、およびBiから選ばれる金属もしくは半金属を少な
くとも一種含む反射層、および紫外線硬化型樹脂の硬化
物からなる保護層が、この順に形成されてなる情報記録
媒体において、該反射層と該色素記録層とが基板の外周
縁まで連続して形成されており、かつ該保護層が、該反
射層上から、該反射層の外周端面、該記録層の外周端面
を経て、該基板の外周端面まで連続して設けられている
ことを特徴とする情報記録媒体にある。
【0012】本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以
下の通りである。 1)該プレグルーブが該基板の外周縁またはその近傍ま
で設けられていることを特徴とする上記情報記録媒体。 2)該保護層が、該基板の外周端面の全域に設けられて
いることを特徴とする上記情報記録媒体。 3)上記保護層が、着色されていることを特徴とする上
記情報記録媒体。
下の通りである。 1)該プレグルーブが該基板の外周縁またはその近傍ま
で設けられていることを特徴とする上記情報記録媒体。 2)該保護層が、該基板の外周端面の全域に設けられて
いることを特徴とする上記情報記録媒体。 3)上記保護層が、着色されていることを特徴とする上
記情報記録媒体。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の情報記録媒体は、トラッ
キング用のプレグルーブが設けられた円盤状基板のプレ
グルーブ上に、レーザーにより情報の書き込みが可能な
記録層、金属からなる反射層および保護層が、この順で
設けられた基本構造を有する。本発明の情報記録媒体を
添付図面を参照しながら詳しく説明する。
キング用のプレグルーブが設けられた円盤状基板のプレ
グルーブ上に、レーザーにより情報の書き込みが可能な
記録層、金属からなる反射層および保護層が、この順で
設けられた基本構造を有する。本発明の情報記録媒体を
添付図面を参照しながら詳しく説明する。
【0014】第1図は、本発明の情報記録媒体の基本的
構成を示す平面図であって、中央の孔部10、記録層1
3、基板の内周部分の内周側基板領域(記録層が設けら
れていない基板の露出領域)14、記録層13上に設け
られた反射層16および反射層上に設けれらた保護層1
7からなる光ディスク(情報記録媒体)を記録層側から
見た平面図である。
構成を示す平面図であって、中央の孔部10、記録層1
3、基板の内周部分の内周側基板領域(記録層が設けら
れていない基板の露出領域)14、記録層13上に設け
られた反射層16および反射層上に設けれらた保護層1
7からなる光ディスク(情報記録媒体)を記録層側から
見た平面図である。
【0015】第1図のI−I断面図の中心より右側半分
を第2図に示す。この第2図には、中央の孔部10を有
する円盤状基板11上に、プレグルーブ12、記録層1
3、反射層16および保護層17が設けられ、基板の内
周部分の内周側基板領域(記録層が設けられていない基
板の露出領域)14が設定された光ディスクが示されて
いる。
を第2図に示す。この第2図には、中央の孔部10を有
する円盤状基板11上に、プレグルーブ12、記録層1
3、反射層16および保護層17が設けられ、基板の内
周部分の内周側基板領域(記録層が設けられていない基
板の露出領域)14が設定された光ディスクが示されて
いる。
【0016】第2図の光ディスクでは、プレグルーブ1
2が内周側基板領域14以外の領域に形成されている。
プレグルーブは基板の外周縁まで形成されており、記録
層13も基板の外周縁まで設けられている。これにより
記録領域の拡大が実現する。勿論、プレグルーブは基板
の外周縁まで設けられていなくても良い(添付の第4図
参照)。反射層16は記録層上、すなわち基板の外周縁
迄形成されている。反射層は、一般に金属をスパッタリ
ング、真空蒸着等により形成される。本発明では、反射
層は基板の外周縁まで形成されるので、マスクを使用す
る必要がないことから、塵埃の付着や傷の発生などの問
題も発生せず、且つマスクの取り付け工程を削減するこ
とができる。反射層16の表面上に設けられる保護層1
7は、反射層16の上のみだけでなく、基板の外周側の
端面にまで設けられている。このため、記録層と反射層
のそれぞれの外周縁部が保護層によって完全に覆われる
ので、長期保存あるいは長期使用した際の反射層の外周
縁端部(特に反射層と記録層または基板と記録層の界
面)からの剥離を防止できる。さらに、このように保護
層を設けることにより、保護層が基板の外周端面で強力
に接着されるので、反射層と記録層間の剥離の発生がな
くなる。従って、硬度が高くて耐久性に優れ、且つ生産
性も高い紫外線硬化型樹脂の保護層を剥離を発生させる
ことなく形成することができ、従って、該保護層は上記
のように記録層を充分に保護した形で形成されるので耐
久性に優れた光ディスクを得ることができる。
2が内周側基板領域14以外の領域に形成されている。
プレグルーブは基板の外周縁まで形成されており、記録
層13も基板の外周縁まで設けられている。これにより
記録領域の拡大が実現する。勿論、プレグルーブは基板
の外周縁まで設けられていなくても良い(添付の第4図
参照)。反射層16は記録層上、すなわち基板の外周縁
迄形成されている。反射層は、一般に金属をスパッタリ
ング、真空蒸着等により形成される。本発明では、反射
層は基板の外周縁まで形成されるので、マスクを使用す
る必要がないことから、塵埃の付着や傷の発生などの問
題も発生せず、且つマスクの取り付け工程を削減するこ
とができる。反射層16の表面上に設けられる保護層1
7は、反射層16の上のみだけでなく、基板の外周側の
端面にまで設けられている。このため、記録層と反射層
のそれぞれの外周縁部が保護層によって完全に覆われる
ので、長期保存あるいは長期使用した際の反射層の外周
縁端部(特に反射層と記録層または基板と記録層の界
面)からの剥離を防止できる。さらに、このように保護
層を設けることにより、保護層が基板の外周端面で強力
に接着されるので、反射層と記録層間の剥離の発生がな
くなる。従って、硬度が高くて耐久性に優れ、且つ生産
性も高い紫外線硬化型樹脂の保護層を剥離を発生させる
ことなく形成することができ、従って、該保護層は上記
のように記録層を充分に保護した形で形成されるので耐
久性に優れた光ディスクを得ることができる。
【0017】保護層の基板内周側の形成位置は、記録層
上だけでもよいが、第2図に示すように記録層の内周線
を越えて基板内周側表面にも設けられる方が好ましい。
上だけでもよいが、第2図に示すように記録層の内周線
を越えて基板内周側表面にも設けられる方が好ましい。
【0018】本発明の情報記録媒体は、たとえば以下に
述べるような材料を用いて製造することができる。
述べるような材料を用いて製造することができる。
【0019】本発明において使用する基板は、従来の情
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板材料の例としては、
ガラス、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アモルフ
ァスポリオレフィンおよびポリエステルを挙げることが
できる。好ましくは、基板の光学的特性、平面性、加工
性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、ポリカーボネート、ポリオレフィンおよびポリメチ
ルメタクリレートである。
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板材料の例としては、
ガラス、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アモルフ
ァスポリオレフィンおよびポリエステルを挙げることが
できる。好ましくは、基板の光学的特性、平面性、加工
性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、ポリカーボネート、ポリオレフィンおよびポリメチ
ルメタクリレートである。
【0020】基板上には、トラッキング用溝またはアド
レス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグ
ルーブまたはプレグルーブまたはプレピットが設けられ
てもよい。基板材料がプラスチックの場合は、射出成形
あるいは押出成形などにより直接基板にプレグルーブ等
を形成するのが好ましい。あるいは基板上にプレグルー
ブ層を設けることにより、プレグルーブを形成しても良
い。プレグルーブ層等の材料としては、アクリル酸のモ
ノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエ
ステルのうちの少なくとも一種のモノマー(またはオリ
ゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いることができ
る。
レス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグ
ルーブまたはプレグルーブまたはプレピットが設けられ
てもよい。基板材料がプラスチックの場合は、射出成形
あるいは押出成形などにより直接基板にプレグルーブ等
を形成するのが好ましい。あるいは基板上にプレグルー
ブ層を設けることにより、プレグルーブを形成しても良
い。プレグルーブ層等の材料としては、アクリル酸のモ
ノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエ
ステルのうちの少なくとも一種のモノマー(またはオリ
ゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いることができ
る。
【0021】プレグレーブ層の形成は、まず精密に作ら
れた母型(スタンパー)上に上記アルリル酸エステルお
よび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗
布液層上に基板を載せた後、基板または母型を介して紫
外線の照射により液層を硬化させて基板と硬化した液層
とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離すること
によりプレグルーブ層の設けられた基板が得られる。プ
レグルーブ層の層厚は一般に0.05〜100μmの範
囲にあり、好ましくは0.1〜50μmの範囲である。
れた母型(スタンパー)上に上記アルリル酸エステルお
よび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗
布液層上に基板を載せた後、基板または母型を介して紫
外線の照射により液層を硬化させて基板と硬化した液層
とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離すること
によりプレグルーブ層の設けられた基板が得られる。プ
レグルーブ層の層厚は一般に0.05〜100μmの範
囲にあり、好ましくは0.1〜50μmの範囲である。
【0022】基板(またはプレグルーブ層等)上には、
色素からなる記録層が設けられる。この色素記録層は、
基板の表面上で、外周縁部まで形成される。本発明の情
報記録媒体の記録層に使用される色素は、例えば、イン
ドレニン系色素、イミダゾキノキサリン系色素、インド
リジン系色素などのシアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
メロシアン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系
・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げる
ことができる。
色素からなる記録層が設けられる。この色素記録層は、
基板の表面上で、外周縁部まで形成される。本発明の情
報記録媒体の記録層に使用される色素は、例えば、イン
ドレニン系色素、イミダゾキノキサリン系色素、インド
リジン系色素などのシアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
メロシアン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系
・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げる
ことができる。
【0023】色素層の形成は、上記色素、さらに所望に
より結合剤、金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素(クエンチャー)を溶剤に溶解して塗
布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して
塗膜を形成したのち乾燥することにより行なうことがで
きる。
より結合剤、金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素(クエンチャー)を溶剤に溶解して塗
布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して
塗膜を形成したのち乾燥することにより行なうことがで
きる。
【0024】色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステ
ル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1,2
−ジクロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化
水素、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサ
ンなどのエーテル、エタノール、n−プロパノール、イ
ソプロパノール、n−ブタノールなどのアルコール、ジ
メチルホルムアミドなどのアミド、2,2,3,3−テ
トラフロロプロパノール等フッ素系溶剤などを挙げるこ
とができる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、
50容量%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤などの
炭化水素系溶媒を含んでいてもよい。
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステ
ル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1,2
−ジクロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化
水素、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサ
ンなどのエーテル、エタノール、n−プロパノール、イ
ソプロパノール、n−ブタノールなどのアルコール、ジ
メチルホルムアミドなどのアミド、2,2,3,3−テ
トラフロロプロパノール等フッ素系溶剤などを挙げるこ
とができる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、
50容量%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤などの
炭化水素系溶媒を含んでいてもよい。
【0025】塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収
剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的の応じて添
加してもよい。
剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的の応じて添
加してもよい。
【0026】結合剤を使用する場合における結合剤とし
ては、例えばゼラチン、ニトロセルローズ、酢酸セルロ
ース等のセルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴ
ムなどの天然有機高分子物質、及びポリエチレン、ポリ
プロビレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニル・酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリ
アクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリ
ル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
重合物などの合成有機高分子物質を挙げることができ
る。
ては、例えばゼラチン、ニトロセルローズ、酢酸セルロ
ース等のセルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴ
ムなどの天然有機高分子物質、及びポリエチレン、ポリ
プロビレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニル・酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリ
アクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリ
ル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
重合物などの合成有機高分子物質を挙げることができ
る。
【0027】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。
【0028】色素層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤に対する色素の比率は一般に0.01〜99
%(重量比)の範囲にあり、好ましくは、1.0〜95
%(重量比)の範囲にある。
に、結合剤に対する色素の比率は一般に0.01〜99
%(重量比)の範囲にあり、好ましくは、1.0〜95
%(重量比)の範囲にある。
【0029】上記色素層は単層でも重層でもよいが、そ
の層厚は一般に100〜5500オングストロームの範
囲にあり、好ましくは200〜3000オングストロー
ムの範囲にある。
の層厚は一般に100〜5500オングストロームの範
囲にあり、好ましくは200〜3000オングストロー
ムの範囲にある。
【0030】上記記録層と基板との間に、塩素化ポリオ
レフィン、ニトロセルロースあるいはフッ素樹脂からな
る中間層を設けても良い。
レフィン、ニトロセルロースあるいはフッ素樹脂からな
る中間層を設けても良い。
【0031】記録層上には反射層が設けられる。反射層
は、光反射性物質を含む層であり、Mg、Se、Y、T
i、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、M
n、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、I
r、Cu、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、G
e、Te、Pb、Po、Sn、およびBiから選ばれる
金属もしくは半金属を少なくとも一種含む層である。反
射層は、たとえば、それらの光反射性物質の一種もしく
は二種以上を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレ−
ティングすることにより基板の上に形成することができ
る。反射層の層厚は一般には100〜3000オングス
トロームの範囲にある。
は、光反射性物質を含む層であり、Mg、Se、Y、T
i、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、M
n、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、I
r、Cu、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、G
e、Te、Pb、Po、Sn、およびBiから選ばれる
金属もしくは半金属を少なくとも一種含む層である。反
射層は、たとえば、それらの光反射性物質の一種もしく
は二種以上を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレ−
ティングすることにより基板の上に形成することができ
る。反射層の層厚は一般には100〜3000オングス
トロームの範囲にある。
【0032】本発明の反射層は、基板の外周縁まで形成
される。そのため、記録層が形成された基板への金属の
スパッタリングは外周用のマスク(基板外周部分に反射
層を設けないようにするために用いる)を用いず、基板
の外径より0.01〜0.5mm程度大きく、深さが基
板の厚さ以上で厚さの3倍以下の範囲の皿型の載置台凹
部にはめ込んだ状態で行なわれる。これにより、基板の
外周縁には金属層が形成され、基板の外周端面には形成
されないようにすることができる。従って、外周用のマ
スクの取り付け、取り外しによる塵埃の付着の問題も発
生せず、且つマスクの取り付け工程の削減により製造が
容易になるという利点を有する。
される。そのため、記録層が形成された基板への金属の
スパッタリングは外周用のマスク(基板外周部分に反射
層を設けないようにするために用いる)を用いず、基板
の外径より0.01〜0.5mm程度大きく、深さが基
板の厚さ以上で厚さの3倍以下の範囲の皿型の載置台凹
部にはめ込んだ状態で行なわれる。これにより、基板の
外周縁には金属層が形成され、基板の外周端面には形成
されないようにすることができる。従って、外周用のマ
スクの取り付け、取り外しによる塵埃の付着の問題も発
生せず、且つマスクの取り付け工程の削減により製造が
容易になるという利点を有する。
【0033】反射層上には、紫外線硬化型樹脂からなる
保護層が設けられる。紫外線硬化型樹脂としては、従来
から使用されているものを用いることができる。紫外線
硬化型樹脂を光ディスクの保護層に用いることは知られ
ており、例えば、特公昭63−42333号公報に記載
されている。
保護層が設けられる。紫外線硬化型樹脂としては、従来
から使用されているものを用いることができる。紫外線
硬化型樹脂を光ディスクの保護層に用いることは知られ
ており、例えば、特公昭63−42333号公報に記載
されている。
【0034】紫外線硬化型樹脂は、以下に例示するよう
な重合性二重結合を有するモノマーおよびオリゴマー、
および光重合開始剤等から構成される。 (a)脂肪族、脂環族および芳香族の2〜6価の多価ア
ルコールおよびポリアルキレングリコールのポリ(メ
タ)アクリレート (b)脂肪族、脂環族および芳香族の2〜6価の多価ア
ルコールにアルキレンオキサイドを付加させた形の多価
アルコールのポリ(メタ)アクリレート (c)ポリ(メタ)アクリロイルオキシアルキルリン酸
エステル (d)ポリエステルポリ(メタ)アクリレート (e)エポキシポリ(メタ)アクリレート (f)ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート (g)ポリアミドポリ(メタ)アクリレート (h)ポリシロキサンポリ(メタ)アクリレート (i)側鎖および/又は末端に(メタ)アクリロイルオ
キシ基を有するビニル系又はジエン系低重合体 (j)前記(a)〜(i)記載の架橋性モノマーの変性
物
な重合性二重結合を有するモノマーおよびオリゴマー、
および光重合開始剤等から構成される。 (a)脂肪族、脂環族および芳香族の2〜6価の多価ア
ルコールおよびポリアルキレングリコールのポリ(メ
タ)アクリレート (b)脂肪族、脂環族および芳香族の2〜6価の多価ア
ルコールにアルキレンオキサイドを付加させた形の多価
アルコールのポリ(メタ)アクリレート (c)ポリ(メタ)アクリロイルオキシアルキルリン酸
エステル (d)ポリエステルポリ(メタ)アクリレート (e)エポキシポリ(メタ)アクリレート (f)ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート (g)ポリアミドポリ(メタ)アクリレート (h)ポリシロキサンポリ(メタ)アクリレート (i)側鎖および/又は末端に(メタ)アクリロイルオ
キシ基を有するビニル系又はジエン系低重合体 (j)前記(a)〜(i)記載の架橋性モノマーの変性
物
【0035】これらオリゴマー、モノマー(単官能ビニ
ル化合物)は、被着材、ディスク構造等に応じ単独もし
くは適宜混合して用いることができる。
ル化合物)は、被着材、ディスク構造等に応じ単独もし
くは適宜混合して用いることができる。
【0036】光重合開始剤は紫外線で硬化させるために
必要であり(電子線硬化の場合には必要としない)、例
としてはベンゾインアルキルエーテル、ベンジルケター
ル、アセタール類、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェ
ノン誘導体、キサントン誘導体、ベンズアルデヒド誘導
体などを挙げることができる。また増感剤として使用す
ることのできる化合物の具体例としては、ベンゾインエ
チルエ−テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジ
ル、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、2,2−ジメトキシ−2−ヒドロキシアセトフェノ
ン、ジフェニルジスルフィド、2−ヒドロキシ−2−プ
ロピオフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾ
フェノン、ジメチルアミノベンズアルデヒド、エチル−
4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、エチル
アントラキノン、2−クロロチオキサントンなどを挙げ
ることができる。これらの増感剤は単独でも、あるいは
適宜組み合わせても使用することができる。
必要であり(電子線硬化の場合には必要としない)、例
としてはベンゾインアルキルエーテル、ベンジルケター
ル、アセタール類、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェ
ノン誘導体、キサントン誘導体、ベンズアルデヒド誘導
体などを挙げることができる。また増感剤として使用す
ることのできる化合物の具体例としては、ベンゾインエ
チルエ−テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジ
ル、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、2,2−ジメトキシ−2−ヒドロキシアセトフェノ
ン、ジフェニルジスルフィド、2−ヒドロキシ−2−プ
ロピオフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾ
フェノン、ジメチルアミノベンズアルデヒド、エチル−
4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、エチル
アントラキノン、2−クロロチオキサントンなどを挙げ
ることができる。これらの増感剤は単独でも、あるいは
適宜組み合わせても使用することができる。
【0037】本発明では、上記紫外線硬化型樹脂をその
ままあるいは有機溶剤に溶解させて塗布液を調製し、反
射層上および基板外周端面に塗布し、乾燥後、塗布層に
紫外線を照射して硬化させることにより保護層を設け
る。保護層は、耐光性を向上させるために着色してもよ
い。着色剤としては、無機顔料、有機顔料、染料等を用
いることができる。
ままあるいは有機溶剤に溶解させて塗布液を調製し、反
射層上および基板外周端面に塗布し、乾燥後、塗布層に
紫外線を照射して硬化させることにより保護層を設け
る。保護層は、耐光性を向上させるために着色してもよ
い。着色剤としては、無機顔料、有機顔料、染料等を用
いることができる。
【0038】上記紫外線硬化型樹脂からなる保護層形成
用塗布液中には、更に有機溶剤、帯電防止剤、酸化防止
剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。この塗布液をスピンコート、ディップコート、
エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面
に塗布(有機溶剤を含む場合は乾燥後)後、紫外線照射
して硬化させることにより形成することができる。
用塗布液中には、更に有機溶剤、帯電防止剤、酸化防止
剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。この塗布液をスピンコート、ディップコート、
エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面
に塗布(有機溶剤を含む場合は乾燥後)後、紫外線照射
して硬化させることにより形成することができる。
【0039】上記塗布液を紫外線にて硬化させる場合、
高圧水銀灯などを用いて、0.1〜60秒間、その塗布
層に紫外線を1〜100cmの距離から照射することに
より硬化させて、反射防止層を形成することができる。
電子線により硬化させる場合には、線型加速装置、ハン
デグラフ加速器などの電子加速装置を用いて行なう。低
い透過率の保護層を硬化させる場合は電子線照射の方が
内部硬化を充分行なうには有利である。
高圧水銀灯などを用いて、0.1〜60秒間、その塗布
層に紫外線を1〜100cmの距離から照射することに
より硬化させて、反射防止層を形成することができる。
電子線により硬化させる場合には、線型加速装置、ハン
デグラフ加速器などの電子加速装置を用いて行なう。低
い透過率の保護層を硬化させる場合は電子線照射の方が
内部硬化を充分行なうには有利である。
【0040】保護層の層厚は、一般に0.01〜50μ
m、好ましくは0.1〜20μm、特に好ましくは0.
5〜20μmの範囲である。また、基板の外周端面の保
護層の層厚は1μm以上が好ましく、2〜50μmの範
囲が特に好ましい。
m、好ましくは0.1〜20μm、特に好ましくは0.
5〜20μmの範囲である。また、基板の外周端面の保
護層の層厚は1μm以上が好ましく、2〜50μmの範
囲が特に好ましい。
【0041】本発明の情報記録媒体の製造に際しては、
上記保護層を基板表面のみならず基板外周端面にも形成
される。そのため、下記の方法にて塗布乾燥することに
より基板表面および基板外周端面が同時に塗布すること
ができ好ましい。
上記保護層を基板表面のみならず基板外周端面にも形成
される。そのため、下記の方法にて塗布乾燥することに
より基板表面および基板外周端面が同時に塗布すること
ができ好ましい。
【0042】色素記録層および反射層が形成された基板
をスピンナー上に装着して、保護層形成用塗布液(粘度
を塗布時の温度にて好ましくは1〜100cps、有機
溶剤を含む場合は、有機溶剤の含有量80重量%以下)
をスピンナーより吐出しながら、基板を回転数100〜
300rpmの速度で回転させながら塗布を開始し、3
〜10秒間維持して塗布を終了し、0.1〜60秒間で
回転数を上げて最終回転数1000〜2500rpmま
で回転数を上げる。これにより保護層を記録層上および
基板外周端面まで塗布することができる。次いで、すぐ
該塗布層に紫外線を照射することによって保護層を形成
することができる。
をスピンナー上に装着して、保護層形成用塗布液(粘度
を塗布時の温度にて好ましくは1〜100cps、有機
溶剤を含む場合は、有機溶剤の含有量80重量%以下)
をスピンナーより吐出しながら、基板を回転数100〜
300rpmの速度で回転させながら塗布を開始し、3
〜10秒間維持して塗布を終了し、0.1〜60秒間で
回転数を上げて最終回転数1000〜2500rpmま
で回転数を上げる。これにより保護層を記録層上および
基板外周端面まで塗布することができる。次いで、すぐ
該塗布層に紫外線を照射することによって保護層を形成
することができる。
【0043】本発明の情報記録媒体の保護層は、上記紫
外性硬化型樹脂以外に本発明の目的を損なわない範囲内
で他の樹脂を含んでいてもよい。一般に、表面が傷付き
易くなり保護効果も少なくなり易い。
外性硬化型樹脂以外に本発明の目的を損なわない範囲内
で他の樹脂を含んでいてもよい。一般に、表面が傷付き
易くなり保護効果も少なくなり易い。
【0044】本発明の情報記録媒体の保護層は、基板表
面および外周端面、および反射層上の設けられる。従っ
て、保護層を形成することができ、その効果が得られる
ものであればどのような情報記録媒体にも適用できる。
このような情報記録媒体としては、再生専用型、追記
(DRAW)型、書換可能型、光磁気など、記録可能か
不可能あるいは記録層の種類等に依らず、どのような媒
体にも適用できる。
面および外周端面、および反射層上の設けられる。従っ
て、保護層を形成することができ、その効果が得られる
ものであればどのような情報記録媒体にも適用できる。
このような情報記録媒体としては、再生専用型、追記
(DRAW)型、書換可能型、光磁気など、記録可能か
不可能あるいは記録層の種類等に依らず、どのような媒
体にも適用できる。
【0045】本発明の情報記録媒体への記録は、例えば
次のように行なわれる。まず、情報記録媒体(光ディス
ク)を定線速度または定角速度で回転させながら、半導
体レーザー光などの記録用の光を、基板側から該プレグ
ルーブのグルーブに照射し、CDフォーマットのEFM
信号などの信号を、該グルーブの記録層に種々の形状変
化(色素記録層および反射層の界面に空洞、基板表面に
凸部など)を形成させることにより記録する。一般に、
記録光としては750〜850nmの範囲の発振波長を
有する半導体レーザービームが用いられる。そして、一
般に1〜15mWのレーザーパワーで記録される。
次のように行なわれる。まず、情報記録媒体(光ディス
ク)を定線速度または定角速度で回転させながら、半導
体レーザー光などの記録用の光を、基板側から該プレグ
ルーブのグルーブに照射し、CDフォーマットのEFM
信号などの信号を、該グルーブの記録層に種々の形状変
化(色素記録層および反射層の界面に空洞、基板表面に
凸部など)を形成させることにより記録する。一般に、
記録光としては750〜850nmの範囲の発振波長を
有する半導体レーザービームが用いられる。そして、一
般に1〜15mWのレーザーパワーで記録される。
【0046】記録に際しては、トラッキング用プレグル
ーブを用いてプッシュプルなどによるトラッキング制御
が行なわれる。情報の記録は、プレグルーブのグルーブ
またはグルーブ間のランドに行なわれる。
ーブを用いてプッシュプルなどによるトラッキング制御
が行なわれる。情報の記録は、プレグルーブのグルーブ
またはグルーブ間のランドに行なわれる。
【0047】情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同
一の定線速度または定角速度で回転されながら半導体レ
ーザーなどのレーザー光を基板側から照射してその反射
光を検出することにより、3ビーム法などによるトラッ
キング制御を行ないながら情報を再生することができ
る。
一の定線速度または定角速度で回転されながら半導体レ
ーザーなどのレーザー光を基板側から照射してその反射
光を検出することにより、3ビーム法などによるトラッ
キング制御を行ないながら情報を再生することができ
る。
【0048】
【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、記録層、そし
てその上に設けられる反射層が共に基板の外周縁まで形
成され、且つ保護層が基板の外周縁面まで設けられてい
る。このように形成された保護層は、記録層および反射
層を完全に覆っているので、保護層を形成することによ
り生じ易い反射層と記録層との界面での剥離あるいは記
録層と基板との界面での剥離の発生がない。このため、
該保護層は長期間剥離することなく、付着状態を安定に
維持することができる。
てその上に設けられる反射層が共に基板の外周縁まで形
成され、且つ保護層が基板の外周縁面まで設けられてい
る。このように形成された保護層は、記録層および反射
層を完全に覆っているので、保護層を形成することによ
り生じ易い反射層と記録層との界面での剥離あるいは記
録層と基板との界面での剥離の発生がない。このため、
該保護層は長期間剥離することなく、付着状態を安定に
維持することができる。
【0049】また、基板の外周縁まで反射層を形成する
ので、スパッタリング等の蒸着の際マスクを使用する必
要がないので、マスクの取り付け、取り外しによる塵埃
の付着や傷の発生などの問題も発生せず、且つマスクの
取り付け工程を削減することができる。
ので、スパッタリング等の蒸着の際マスクを使用する必
要がないので、マスクの取り付け、取り外しによる塵埃
の付着や傷の発生などの問題も発生せず、且つマスクの
取り付け工程を削減することができる。
【0050】従って、高い反射率を有し且つ良好な記録
再生特性が長期に亙って維持できる耐久性に優れた情報
記録媒体を得ることができる。
再生特性が長期に亙って維持できる耐久性に優れた情報
記録媒体を得ることができる。
【図1】本発明の情報記録媒体の基本的構成を示す平面
図の一例である。
図の一例である。
【図2】本発明の情報記録媒体の基本的構成を示す図1
の部分断面図である。
の部分断面図である。
【図3】従来の情報記録媒体の断面図の一例である。
【図4】従来の情報記録媒体の断面図の別の例である。
10,20 孔部 11,21 基板 12,22 プレグルーブ 13,23 記録層 14,24 内周側基板領域 25 外周側基板領域 16,26 反射層 17,27 保護層 18 基板外周端面
Claims (1)
- 【請求項1】 中央に孔部を有し且つ表面にトラッキン
グ用のプレグルーブを有する円盤状基板の該プレグルー
ブ上に、レーザーにより情報の書き込みが可能な色素か
らなる記録層、光反射性物質として、Mg、Se、Y、
Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、
Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、I
r、Cu、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、G
e、Te、Pb、Po、Sn、およびBiから選ばれる
金属もしくは半金属を少なくとも一種含む反射層、およ
び紫外線硬化型樹脂の硬化物からなる保護層が、この順
に形成されてなる情報記録媒体において、該反射層と該
色素記録層とが基板の外周縁まで連続して形成されてお
り、かつ該保護層が、該反射層上から、該反射層の外周
端面、該記録層の外周端面を経て、該基板の外周端面ま
で連続して設けられていることを特徴とする情報記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10175385A JPH113539A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10175385A JPH113539A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 情報記録媒体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2124398A Division JPH0419838A (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH113539A true JPH113539A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15995193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10175385A Pending JPH113539A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH113539A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4675141A (en) * | 1983-10-24 | 1987-06-23 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Method of controlling pressurized gas, before and after injecting a molten material, in a mold cavity |
| CN100339900C (zh) * | 2003-10-30 | 2007-09-26 | 株式会社神户制钢所 | 光信息记录用铝合金反射膜及其形成用靶材、记录介质 |
-
1998
- 1998-06-08 JP JP10175385A patent/JPH113539A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4675141A (en) * | 1983-10-24 | 1987-06-23 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Method of controlling pressurized gas, before and after injecting a molten material, in a mold cavity |
| CN100339900C (zh) * | 2003-10-30 | 2007-09-26 | 株式会社神户制钢所 | 光信息记录用铝合金反射膜及其形成用靶材、记录介质 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001219 |