JP2000281787A - 高屈折率樹脂 - Google Patents
高屈折率樹脂Info
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- JP2000281787A JP2000281787A JP2000020627A JP2000020627A JP2000281787A JP 2000281787 A JP2000281787 A JP 2000281787A JP 2000020627 A JP2000020627 A JP 2000020627A JP 2000020627 A JP2000020627 A JP 2000020627A JP 2000281787 A JP2000281787 A JP 2000281787A
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】アッベ数が３０以上、かつ屈折率が１．７２以
上の高屈折率樹脂を提供すること。 【解決手段】下記（１）式で表される構造を１分子中に
１個以上有する化合物を重合硬化して製造された樹脂 【化１】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜１０の炭化水素、Ｒ2 ，Ｒ3
およびＲ4 は、それぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基ま
たは水素を示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示す。ｍ＝
１〜５，ｎ＝０〜５，ｐ＝０又は１であり、かつｍ＋ｎ
は２以上であり、ｍとｎが同時に１とはならない。）
上の高屈折率樹脂を提供すること。 【解決手段】下記（１）式で表される構造を１分子中に
１個以上有する化合物を重合硬化して製造された樹脂 【化１】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜１０の炭化水素、Ｒ2 ，Ｒ3
およびＲ4 は、それぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基ま
たは水素を示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示す。ｍ＝
１〜５，ｎ＝０〜５，ｐ＝０又は１であり、かつｍ＋ｎ
は２以上であり、ｍとｎが同時に１とはならない。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックレンズ、
プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等
の光学材料、中でも、眼鏡用プラスチックレンズを製造
する方法に関するものである。
プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等
の光学材料、中でも、眼鏡用プラスチックレンズを製造
する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック材料は軽量かつ靭性に富
み、また染色が容易であることから、各種光学材料、特
に眼鏡レンズに近年多用されている。光学材料、中でも
眼鏡レンズに特に要求される性能は、低比重に加える
に、高透明性および低黄色度、光学性能として高屈折率
と高アッベ数であり、高屈折率はレンズの薄肉化を可能
とし、高アッベ数はレンズの色収差を低減する。本願発
明者らは薄い肉厚および低い色収差を有する屈折率１．
７以上かつアッベ数３５以上の光学材料を可能とする新
規なエピスルフィド化合物を見いだし、先に特許出願を
行った（特開平９−７１５８０号公報、特開平９−１１
０９７９号公報、特開平９−２５５７８１号公報）。し
かしながら、これらの発明では屈折率は１．７１程度で
あるため、さらに高い屈折率を有しかつアッベ数は実用
上使用限界と考えられる３０以上を有する材料が望まれ
ていた。
み、また染色が容易であることから、各種光学材料、特
に眼鏡レンズに近年多用されている。光学材料、中でも
眼鏡レンズに特に要求される性能は、低比重に加える
に、高透明性および低黄色度、光学性能として高屈折率
と高アッベ数であり、高屈折率はレンズの薄肉化を可能
とし、高アッベ数はレンズの色収差を低減する。本願発
明者らは薄い肉厚および低い色収差を有する屈折率１．
７以上かつアッベ数３５以上の光学材料を可能とする新
規なエピスルフィド化合物を見いだし、先に特許出願を
行った（特開平９−７１５８０号公報、特開平９−１１
０９７９号公報、特開平９−２５５７８１号公報）。し
かしながら、これらの発明では屈折率は１．７１程度で
あるため、さらに高い屈折率を有しかつアッベ数は実用
上使用限界と考えられる３０以上を有する材料が望まれ
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、アッベ数を３０以上かつ従来技術を上回る
高い屈折率を有する高屈折率樹脂を提供することにあ
る。
する課題は、アッベ数を３０以上かつ従来技術を上回る
高い屈折率を有する高屈折率樹脂を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、高屈折
率樹脂の原料である下記（１）式で表される化合物また
は該化合物を１０ｗｔ％以上含有する組成物を重合硬化
して得られる高屈折率樹脂により解決した。
率樹脂の原料である下記（１）式で表される化合物また
は該化合物を１０ｗｔ％以上含有する組成物を重合硬化
して得られる高屈折率樹脂により解決した。
【０００５】
【化３】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜１０の炭化水素、Ｒ2,Ｒ3 お
よびＲ4 は、それぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基また
は水素を示す。ｍ＝１〜５、ｎ＝０〜５であり、かつｍ
＋ｎは２以上であり、ｍとｎが同時に１とはならな
い。）
よびＲ4 は、それぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基また
は水素を示す。ｍ＝１〜５、ｎ＝０〜５であり、かつｍ
＋ｎは２以上であり、ｍとｎが同時に１とはならな
い。）
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明で使用する（１）式で表さ
れる化合物は、光学材料とした時に高い屈折率と高いア
ッベ数および両者の良好なバランスを発現するものであ
り、したがって（１）式中のＲ1 は好ましくはメチレン
およびエチレンであり、（１）式中のＲ2 、Ｒ3 および
Ｒ4 は好ましくは水素およびメチル基である。より好ま
しくはＲ1 はメチレンであり、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は
水素である。ｍは１〜５を表すが、好ましくはｍが１ま
たは２である。ｎは０〜５を表すが、好ましくはｎが１
〜４である。また、ｍとｎが同時に１の場合は、充分に
高い屈折率が得られない。
れる化合物は、光学材料とした時に高い屈折率と高いア
ッベ数および両者の良好なバランスを発現するものであ
り、したがって（１）式中のＲ1 は好ましくはメチレン
およびエチレンであり、（１）式中のＲ2 、Ｒ3 および
Ｒ4 は好ましくは水素およびメチル基である。より好ま
しくはＲ1 はメチレンであり、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は
水素である。ｍは１〜５を表すが、好ましくはｍが１ま
たは２である。ｎは０〜５を表すが、好ましくはｎが１
〜４である。また、ｍとｎが同時に１の場合は、充分に
高い屈折率が得られない。
【０００７】本発明の（１）式で表される構造を１分子
中に１個以上有するエピスルフィド化合物とはこの条件
を満たす有機化合物をすべて包括するが、このうち好ま
しい具体例は、以下のものである。ビス（β−エピチオ
プロピル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピ
ル）トリスルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）テ
トラスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオエチ
ル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオエ
チル）トリスルフィド、ビス（β−エピジチオプロピ
ル）スルフィド、ビス（β−エピジチオプロピル）ジス
ルフィド、ビス（β−エピジチオプロピル）トリスルフ
ィド、１，２，３−トリス（β−エピチオプロピルジチ
オ）プロパン、１，２，３−トリス（β−エピジチオプ
ロピルチオ）プロパン、トリス（β−エピジチオプロピ
ルチオメチル）メタン、１，１，１−トリ（β−エピジ
チオプロピルチオメチル）プロパン、テトラキス（β−
エピチオプロピルジチオメチル）メタン、テトラキス
（β−エピジチオプロピルチオメチル）メタン、テトラ
キス（β−エピジチオプロピルジチオメチル）メタン、
ビス〔１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロ
ピル〕ジスルフィド、１，３および１，４−ビス（β−
エピジチオプロピルチオ）シクロヘキサン、ビス〔４−
（β−エピジチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕スル
フィド、ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）シ
クロヘキシル〕ジスルフィド、ビス〔４−（β−エピジ
チオプロピルチオ）シクロヘキシル〕メタン、２，２−
ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）シクロヘキ
シル〕プロパン、２，５−ビス（β−エピチオプロピル
ジチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（β
−エピジチオプロピルチオ）−１，４−ジチアン、２，
５−ビス（β−エピジチオプロピルチオメチル）−１，
４−ジチアン、１，３および１，４−ビス（β−エピジ
チオプロピルチオ）ベンゼン、１，３および１，４−ビ
ス（β−エピジチオプロピルチオメチル）ベンゼン、ビ
ス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）フェニル〕ス
ルフィド、ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）
フェニル〕ジスルフィド、ビス〔４−（β−エピジチオ
プロピルチオ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−
（β−エピジチオプロピルチオ）フェニル〕プロパン、
ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）フェニル〕
スルフォン、４，４’−ビス（β−エピジチオプロピル
チオ）ビフェニル、ビニルチオグリシジルジスルフィ
ド、アリルチオグリシジルジスルフィド、ビニルフェニ
ルチオグリシジルジスルフィド、ビニルベンジルチオグ
リシジルジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）
ジセレニド、ビス（β−エピチオプロピルチオエチル）
ジセレニド、ビス（β−エピジチオプロピル）セレニ
ド、ビス（β−エピジチオプロピル）ジセレニド、１，
２，３−トリス（β−エピチオプロピルジセレ）プロパ
ン、１，２，３−トリス（β−エピジチオプロピルセ
レ）プロパン、トリス（β−エピジチオプロピルセレメ
チル）メタン、１，１，１−トリ（β−エピジチオプロ
ピルセレメチル）プロパン、テトラキス（β−エピジチ
オプロピルセレメチル）メタン、ビス〔１，３−ビス
（β−エピチオプロピルチオ）プロピル〕ジセレニド、
１，３−および１，４−ビス（β−エピジチオプロピル
セレ）シクロヘキサン、ビス〔４−（β−エピジチオプ
ロピルチオ）シクロヘキシル〕セレニド、ビス〔４−
（β−エピジチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕ジセ
レニド、２，２−ビス〔４−（β−エピジチオプロピル
セレ）シクロヘキシル〕プロパン、２，５−ビス（β−
エピジチオプロピルセレ）−１，４−ジチアン、２，５
−ビス（β−エピジチオプロピルセレメチル）−１，４
−ジチアン、１，３および１，４−ビス（β−エピジチ
オプロピルセレ）ベンゼン、１，３および１，４−ビス
（β−エピジチオプロピルセレメチル）ベンゼン、ビス
〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）フェニル〕セレ
ニド、ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）フェ
ニル〕ジセレニド、ビス〔４−（β−エピジチオプロピ
ルセレ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−
エピジチオプロピルセレ）フェニル〕プロパン、ビス
〔４−（β−エピジチオプロピルセレ）フェニル〕スル
フォン、４，４−ビス（β−エピジチオプロピルセレ）
ビフェニル、ビニルチオグリシジルジセレニド、アリル
チオグリシジルジセレニド、ビニルフェニルチオグリシ
ジルジテルリド、ビニルベンジルチオグリシジルジテル
リド、ビス（β−エピチオプロピル）ジテルリド、ビス
（β−エピチオプロピルチオエチル）ジテルリド、ビス
（β−エピジチオプロピル）テルリド、ビス（β−エピ
ジチオプロピル）ジテルリド等をあげることができる。
さらには、これらの化合物のβ−エピ（ジ）チオプロピ
ル基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化
合物も具体例となる。
中に１個以上有するエピスルフィド化合物とはこの条件
を満たす有機化合物をすべて包括するが、このうち好ま
しい具体例は、以下のものである。ビス（β−エピチオ
プロピル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピ
ル）トリスルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）テ
トラスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオエチ
ル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオエ
チル）トリスルフィド、ビス（β−エピジチオプロピ
ル）スルフィド、ビス（β−エピジチオプロピル）ジス
ルフィド、ビス（β−エピジチオプロピル）トリスルフ
ィド、１，２，３−トリス（β−エピチオプロピルジチ
オ）プロパン、１，２，３−トリス（β−エピジチオプ
ロピルチオ）プロパン、トリス（β−エピジチオプロピ
ルチオメチル）メタン、１，１，１−トリ（β−エピジ
チオプロピルチオメチル）プロパン、テトラキス（β−
エピチオプロピルジチオメチル）メタン、テトラキス
（β−エピジチオプロピルチオメチル）メタン、テトラ
キス（β−エピジチオプロピルジチオメチル）メタン、
ビス〔１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロ
ピル〕ジスルフィド、１，３および１，４−ビス（β−
エピジチオプロピルチオ）シクロヘキサン、ビス〔４−
（β−エピジチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕スル
フィド、ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）シ
クロヘキシル〕ジスルフィド、ビス〔４−（β−エピジ
チオプロピルチオ）シクロヘキシル〕メタン、２，２−
ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）シクロヘキ
シル〕プロパン、２，５−ビス（β−エピチオプロピル
ジチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（β
−エピジチオプロピルチオ）−１，４−ジチアン、２，
５−ビス（β−エピジチオプロピルチオメチル）−１，
４−ジチアン、１，３および１，４−ビス（β−エピジ
チオプロピルチオ）ベンゼン、１，３および１，４−ビ
ス（β−エピジチオプロピルチオメチル）ベンゼン、ビ
ス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）フェニル〕ス
ルフィド、ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）
フェニル〕ジスルフィド、ビス〔４−（β−エピジチオ
プロピルチオ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−
（β−エピジチオプロピルチオ）フェニル〕プロパン、
ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）フェニル〕
スルフォン、４，４’−ビス（β−エピジチオプロピル
チオ）ビフェニル、ビニルチオグリシジルジスルフィ
ド、アリルチオグリシジルジスルフィド、ビニルフェニ
ルチオグリシジルジスルフィド、ビニルベンジルチオグ
リシジルジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）
ジセレニド、ビス（β−エピチオプロピルチオエチル）
ジセレニド、ビス（β−エピジチオプロピル）セレニ
ド、ビス（β−エピジチオプロピル）ジセレニド、１，
２，３−トリス（β−エピチオプロピルジセレ）プロパ
ン、１，２，３−トリス（β−エピジチオプロピルセ
レ）プロパン、トリス（β−エピジチオプロピルセレメ
チル）メタン、１，１，１−トリ（β−エピジチオプロ
ピルセレメチル）プロパン、テトラキス（β−エピジチ
オプロピルセレメチル）メタン、ビス〔１，３−ビス
（β−エピチオプロピルチオ）プロピル〕ジセレニド、
１，３−および１，４−ビス（β−エピジチオプロピル
セレ）シクロヘキサン、ビス〔４−（β−エピジチオプ
ロピルチオ）シクロヘキシル〕セレニド、ビス〔４−
（β−エピジチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕ジセ
レニド、２，２−ビス〔４−（β−エピジチオプロピル
セレ）シクロヘキシル〕プロパン、２，５−ビス（β−
エピジチオプロピルセレ）−１，４−ジチアン、２，５
−ビス（β−エピジチオプロピルセレメチル）−１，４
−ジチアン、１，３および１，４−ビス（β−エピジチ
オプロピルセレ）ベンゼン、１，３および１，４−ビス
（β−エピジチオプロピルセレメチル）ベンゼン、ビス
〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）フェニル〕セレ
ニド、ビス〔４−（β−エピジチオプロピルチオ）フェ
ニル〕ジセレニド、ビス〔４−（β−エピジチオプロピ
ルセレ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−
エピジチオプロピルセレ）フェニル〕プロパン、ビス
〔４−（β−エピジチオプロピルセレ）フェニル〕スル
フォン、４，４−ビス（β−エピジチオプロピルセレ）
ビフェニル、ビニルチオグリシジルジセレニド、アリル
チオグリシジルジセレニド、ビニルフェニルチオグリシ
ジルジテルリド、ビニルベンジルチオグリシジルジテル
リド、ビス（β−エピチオプロピル）ジテルリド、ビス
（β−エピチオプロピルチオエチル）ジテルリド、ビス
（β−エピジチオプロピル）テルリド、ビス（β−エピ
ジチオプロピル）ジテルリド等をあげることができる。
さらには、これらの化合物のβ−エピ（ジ）チオプロピ
ル基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化
合物も具体例となる。
【０００８】また、これら以外にも、エピ（ジ）チオ基
を１個有する化合物の具体例として、エチレンジスルフ
ィド、エチレンジセレニド、エチレンジテルリド、プロ
ピレンジスルフィド、プロピレンジセレニド、プロピレ
ンジテルリド、ジチオグリシドール等の化合物類、酢
酸、プロピオン酸、安息香酸等のモノカルボン酸のジチ
オグリシジルエステル類、メチルチオグリシジルジスル
フィド、メチルチオグリシジルジセレニド、メチルチオ
グリシジルジテルリド、エチルチオグリシジルジスルフ
ィド、エチルチオグリシジルジセレニド、エチルチオグ
リシジルジテルリド、プロピルチオグリシジルジスルフ
ィド、ブチルチオグリシジルジスルフィド等のチオグリ
シジルジスルフィド類をあげることができる。
を１個有する化合物の具体例として、エチレンジスルフ
ィド、エチレンジセレニド、エチレンジテルリド、プロ
ピレンジスルフィド、プロピレンジセレニド、プロピレ
ンジテルリド、ジチオグリシドール等の化合物類、酢
酸、プロピオン酸、安息香酸等のモノカルボン酸のジチ
オグリシジルエステル類、メチルチオグリシジルジスル
フィド、メチルチオグリシジルジセレニド、メチルチオ
グリシジルジテルリド、エチルチオグリシジルジスルフ
ィド、エチルチオグリシジルジセレニド、エチルチオグ
リシジルジテルリド、プロピルチオグリシジルジスルフ
ィド、ブチルチオグリシジルジスルフィド等のチオグリ
シジルジスルフィド類をあげることができる。
【０００９】以上のなかでより好ましいのは、β−エピ
チオプロピル基を１分子中に２個有する有機化合物、ま
たはβ−エピジチオプロピル基を１分子中に１個有する
有機化合物であり、特に好ましくは、下記（２）式で表
される化合物である。
チオプロピル基を１分子中に２個有する有機化合物、ま
たはβ−エピジチオプロピル基を１分子中に１個有する
有機化合物であり、特に好ましくは、下記（２）式で表
される化合物である。
【００１０】
【化４】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜１０の炭化水素、Ｒ2,Ｒ3 お
よびＲ4 は、それぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基また
は水素を示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示す。Ｏ＝１
〜５、Ｐ＝１〜５であり、かつＯ＋Ｐは３以上であ
る。） 具体例としては、ビス（β−エピチオプロピル）ジスル
フィド、ビス（β−エピチオプロピル）トリスルフィ
ド、ビス（β−エピジチオプロピル）スルフィド、ビス
（β−エピジチオプロピル）ジスルフィド、ビス（β−
エピジチオプロピル）トリスルフィド、１，２，３−ト
リス（β−エピチオプロピルジチオ）プロパン、トリス
（β−エピジチオプロピルチオメチル）メタン、１，
１，１−トリ（β−エピジチオプロピルチオメチル）プ
ロパン、テトラキス（β−エピチオプロピルジチオメチ
ル）メタン、ビス〔１，３−ビス（β−エピチオプロピ
ルチオ）プロピル〕ジスルフィド、２，５−ビス（β−
エピチオプロピルジチオメチル）−１，４−ジチアン、
２，５−ビス（β−エピジチオプロピルチオ）−１，４
−ジチアン、２，５−ビス（β−エピジチオプロピルチ
オメチル）−１，４−ジチアン、ビス（β−エピチオプ
ロピル）ジセレニド、ビス（β−エピジチオプロピル）
セレニド、ビス（β−エピジチオプロピル）ジセレニ
ド、ビス（β−エピチオプロピル）ジテルリド、ビス
（β−エピジチオプロピル）テルリド、が挙げられる。
よびＲ4 は、それぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基また
は水素を示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示す。Ｏ＝１
〜５、Ｐ＝１〜５であり、かつＯ＋Ｐは３以上であ
る。） 具体例としては、ビス（β−エピチオプロピル）ジスル
フィド、ビス（β−エピチオプロピル）トリスルフィ
ド、ビス（β−エピジチオプロピル）スルフィド、ビス
（β−エピジチオプロピル）ジスルフィド、ビス（β−
エピジチオプロピル）トリスルフィド、１，２，３−ト
リス（β−エピチオプロピルジチオ）プロパン、トリス
（β−エピジチオプロピルチオメチル）メタン、１，
１，１−トリ（β−エピジチオプロピルチオメチル）プ
ロパン、テトラキス（β−エピチオプロピルジチオメチ
ル）メタン、ビス〔１，３−ビス（β−エピチオプロピ
ルチオ）プロピル〕ジスルフィド、２，５−ビス（β−
エピチオプロピルジチオメチル）−１，４−ジチアン、
２，５−ビス（β−エピジチオプロピルチオ）−１，４
−ジチアン、２，５−ビス（β−エピジチオプロピルチ
オメチル）−１，４−ジチアン、ビス（β−エピチオプ
ロピル）ジセレニド、ビス（β−エピジチオプロピル）
セレニド、ビス（β−エピジチオプロピル）ジセレニ
ド、ビス（β−エピチオプロピル）ジテルリド、ビス
（β−エピジチオプロピル）テルリド、が挙げられる。
【００１１】本発明で使用する前記（１）式で表される
化合物の合成は化合物中に硫黄原子を導入する方法が鍵
となるが、ハイドロポリスルフィド、ハイドロポリセレ
ニドおよびハイドロポリテルリドもしくはポリ硫化ソー
ダおよびポリセレン化ソーダを使用する方法、メルカプ
タンおよびセレノールまたはハイドロポリスルフィドお
よびハイドロポリセレニドの酸化による方法等で所望の
（１）式中のｎとｍを選択して合成できる。
化合物の合成は化合物中に硫黄原子を導入する方法が鍵
となるが、ハイドロポリスルフィド、ハイドロポリセレ
ニドおよびハイドロポリテルリドもしくはポリ硫化ソー
ダおよびポリセレン化ソーダを使用する方法、メルカプ
タンおよびセレノールまたはハイドロポリスルフィドお
よびハイドロポリセレニドの酸化による方法等で所望の
（１）式中のｎとｍを選択して合成できる。
【００１２】ハイドロポリスルフィド、ハイドロポリセ
レニドおよびハイドロポリテルリドもしくはポリ硫化ソ
ーダおよびポリセレン化ソーダ等を使用する方法では、
これらとエピハロヒドリン類を開環付加、脱ハロゲン化
水素反応させエポキシドとした後、チオシアン酸アルカ
リやチオ尿素等で硫化することにより合成される。この
下記に示される反応により、（１）式中のｎの数を変化
させることができる。
レニドおよびハイドロポリテルリドもしくはポリ硫化ソ
ーダおよびポリセレン化ソーダ等を使用する方法では、
これらとエピハロヒドリン類を開環付加、脱ハロゲン化
水素反応させエポキシドとした後、チオシアン酸アルカ
リやチオ尿素等で硫化することにより合成される。この
下記に示される反応により、（１）式中のｎの数を変化
させることができる。
【００１３】
【化５】 （式中、Ｘはハロゲン、Ｒ2,Ｒ3,Ｒ4 はそれぞれ炭素数
１〜１０の炭化水素基または水素を示す。ＹはＳ、Ｓｅ
またはＴｅを示す。ｎ＝１〜５である。）
１〜１０の炭化水素基または水素を示す。ＹはＳ、Ｓｅ
またはＴｅを示す。ｎ＝１〜５である。）
【００１４】メルカプタンやハイドロポリスルフィドの
酸化による方法では、下記に示される分子内反応によ
り、（１）式のｍの数を変化させた化合物が合成でき
る。
酸化による方法では、下記に示される分子内反応によ
り、（１）式のｍの数を変化させた化合物が合成でき
る。
【００１５】
【化６】 （式中、Ｒ2,Ｒ3,Ｒ4 はそれぞれ炭素数１〜１０の炭化
水素基または水素を示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示
す。ｍ1 ＝１〜４、ｍ2 ＝１〜４、ｍ＝２〜５、ｎ＝１
〜５である。） また、下記に示した分子間反応により、（１）式のｎの
数を変化させた化合物が合成できる。
水素基または水素を示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示
す。ｍ1 ＝１〜４、ｍ2 ＝１〜４、ｍ＝２〜５、ｎ＝１
〜５である。） また、下記に示した分子間反応により、（１）式のｎの
数を変化させた化合物が合成できる。
【００１６】
【化７】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜１０の炭化水素、Ｒ2,Ｒ3,Ｒ
4 はそれぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基または水素を
示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示す。ｍ＝１〜５、ｎ
1 ＝１〜４、ｎ2 ＝１〜４、ｎ＝２〜５である。） これらの酸化反応は、特に反応条件等の制限がなく、通
常使用される公知の酸化剤や触媒等を用いて行うことが
できる。
4 はそれぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基または水素を
示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示す。ｍ＝１〜５、ｎ
1 ＝１〜４、ｎ2 ＝１〜４、ｎ＝２〜５である。） これらの酸化反応は、特に反応条件等の制限がなく、通
常使用される公知の酸化剤や触媒等を用いて行うことが
できる。
【００１７】本発明の光学材料を製造するために使用す
る硬化触媒としては、アミン類、フォスフィン類、第４
級アンモニウム塩類、第４級ホスホニウム塩類、第３級
スルホニウム塩類、第２級ヨードニウム塩類、鉱酸類、
ルイス酸類、有機酸類、ケイ酸類、四フッ化ホウ酸類等
を挙げることができる。具体例としては、 １．エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｓｅｃ−プロ
ピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミ
ン、ｉ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ペン
チルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチ
ルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ミスチリル
アミン、１，２−ジメチルヘキシルアミン、３−ペンチ
ルアミン、２−エチルヘキシルアミン、アリルアミン、
アミノエタノール、１−アミノプロパノール、２−アミ
ノプロパノール、アミノブタノール、アミノペンタノー
ル、アミノヘキサノール、３−エトキシプロピルアミ
ン、３−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキ
シプロピルアミン、３−ブトキシプロピルアミン、３−
イソブトキシプロピルアミン、３−（２−エチルヘキシ
ロキシ）プロピルアミン、アミノシクロペンタン、アミ
ノシクロヘキサン、アミノノルボルネン、アミノメチル
シクロヘキサン、アミノベンゼン、ベンジルアミン、フ
ェネチルアミン、α−フェニルエチルアミン、ナフチル
アミン、フルフリルアミン等の１級アミン；エチレンジ
アミン、１，２−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノ
プロパン、１，２−ジアミノブタン、１，３−ジアミノ
ブタン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペ
ンタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノ
ヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、ジメチルアミノ
プロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ビス
−（３−アミノプロピル）エーテル、１，２−ビス−
（３−アミノプロポキシ）エタン、１，３−ビス−（３
−アミノプロポキシ）−２，２’−ジメチルプロパン、
アミノエチルエタノールアミン、１，２−、１，３−あ
るいは１，４−ビスアミノシクロヘキサン、１，３−あ
るいは１，４−ビスアミノメチルシクロヘキサン、１，
３−あるいは１，４−ビスアミノエチルシクロヘキサ
ン、１，３−あるいは１，４−ビスアミノプロピルシク
ロヘキサン、水添４，４’−ジアミノジフェニルメタ
ン、２−あるいは４−アミノピペリジン、２−あるいは
４−アミノメチルピペリジン、２−あるいは４−アミノ
エチルピペリジン、Ｎ−アミノエチルピペリジン、Ｎ−
アミノプロピルピペリジン、Ｎ−アミノエチルモルホリ
ン、Ｎ−アミノプロピルモルホリン、イソホロンジアミ
ン、メンタンジアミン、１，４−ビスアミノプロピルピ
ペラジン、ｏ−、ｍ−、あるいはｐ−フェニレンジアミ
ン、２，４−あるいは２，６−トリレンジアミン、２，
４−トルエンジアミン、ｍ−アミノベンジルアミン、４
−クロロ−ｏ−フェニレンジアミン、テトラクロロ−ｐ
−キシリレンジアミン、４−メトキシ−６−メチル−ｍ
−フェニレンジアミン、ｍ−、あるいはｐ−キシリレン
ジアミン、１，５−あるいは、２，６−ナフタレンジア
ミン、ベンジジン、４，４’−ビス（ｏ−トルイジ
ン）、ジアニシジン、４，４’−ジアミノジフェニルメ
タン、２，２−（４，４’−ジアミノジフェニル）プロ
パン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，
４’−チオジアニリン、４，４’−ジアミノジフェニル
スルホン、４，４’−ジアミノジトリルスルホン、メチ
レンビス（ｏ−クロロアニリン）、３，９−ビス（３−
アミノプロピル）２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロ［５，５］ウンデカン、ジエチレントリアミン、イミ
ノビスプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミ
ン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン、トリエチレン
テトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレ
ンヘキサミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、Ｎ−アミ
ノプロピルピペラジン、１，４−ビス（アミノエチルピ
ペラジン）、１，４−ビス（アミノプロピルピペラジ
ン）、２，６−ジアミノピリジン、ビス（３，４−ジア
ミノフェニル）スルホン等の１級ポリアミン；ジエチル
アミン、ジプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ
−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−ｎ
−ペンチルアミン、ジ−３−ペンチルアミン、ジヘキシ
ルアミン、オクチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）
アミン、メチルヘキシルアミン、ジアリルアミン、ピロ
リジン、ピペリジン、２−、３−、４−ピコリン、２，
４−、２，６−、３，５−ルペチジン、ジフェニルアミ
ン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、ジベン
ジルアミン、メチルベンジルアミン、ジナフチルアミ
ン、ピロール、インドリン、インドール、モルホリン等
の２級アミン；Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−ジアミノプロパン、Ｎ，
Ｎ’−ジメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’
−ジメチル−１，２−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメ
チル−１，３−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−
１，４−ジアミノブタン、Ｎ ，Ｎ’−ジメチル−１，
５−ジアミノペンタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−
ジアミノヘキサン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，７−ジア
ミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，２−ジアミノプロパン、Ｎ，
Ｎ’−ジエチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’
−ジエチル−１，２−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエ
チル−１，３−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−
１，４−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，６
−ジアミノヘキサン、ピペラジン、２−メチルピペラジ
ン、２，５−あるいは２，６−ジメチルピペラジン、ホ
モピペラジン、１，１−ジ−（４−ピペリジル）メタ
ン、１，２−ジ−（４−ピペリジル）エタン、１，３−
ジ−（４−ピペリジル）プロパン、１，４−ジ−（４−
ピペリジル）ブタン、テトラメチルグアニジン等の２級
ポリアミン；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｉｓｏ−プロピルアミ
ン、トリ−１，２−ジメチルプロピルアミン、トリ−３
−メトキシプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、
トリ−ｉｓｏ−ブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルア
ミン、トリ−ペンチルアミン、トリ−３−ペンチルアミ
ン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−オクチルア
ミン、トリ−２−エチルヘキシルアミン、トリ−ドデシ
ルアミン、トリ−ラウリルアミン、ジシクロヘキシルエ
チルアミン、シクロヘキシルジエチルアミン、トリ−シ
クロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキシルアミ
ン、Ｎ−メチルジヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシ
クロヘキシルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘキシルアミ
ン、Ｎ、Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、トリベンジルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ジエチルベンジルアミ
ン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−ｐ
−クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルフェノー
ル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノー
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン、ピリジン、キノリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ
−メチルピペリジン、２−（２−ジメチルアミノエトキ
シ）−４−メチル−１，３，２−ジオキサボルナン等の
３級アミン；テトラメチルエチレンジアミン、ピラジ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス
（（２−ヒドロキシ）プロピル）ピペラジン、ヘキサメ
チレンテトラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル
−１，３−ブタンアミン、２−ジメチルアミノ−２−ヒ
ドロキシプロパン、ジエチルアミ ノエタノール、Ｎ，
Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミ
ン、２，４，６−トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチ
ル）フェノール、ヘプタメチルイソビグアニド等の３級
ポリアミン；イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、
２−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、、
Ｎ−エチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、４
−エチルイミダゾール、Ｎ−ブチルイミダゾール、２−
ブチルイミダゾール、Ｎ−ウンデシルイミダゾール、２
−ウンデシルイミダゾール、２−メルカプトイミダゾー
ル、２−メルカプト−Ｎ−メチルイミダゾール、２−メ
ルカプトベンゾイミダゾール、３−メルカプト−４−メ
チル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール、５−メルカプ
ト−１−メチル−テトラゾール、２，５−ジメルカプト
−１，３，４−チアジアゾール、Ｎ−フェニルイミダゾ
ール、２−フェニルイミダゾール、Ｎ−ベンジルイミダ
ゾール、２−ベンジルイミダゾール、１−ベンジル−２
−メチルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエチル）−
２−メチルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエチル）
−２−ウンデシルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエ
チル）−２−フェニルイミダゾール、３，３−ビス−
（２−エチル−４−メチルイミダゾリル）メタン、アル
キルイミダゾールとイソシアヌール酸の付加物、アルキ
ルイミダゾールとホルムアルデヒドの縮合物等の各種イ
ミダゾール類；１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）
ウンデセン−７、１，５−ジアザビシクロ（４，３，
０）ノネン−５、６−ジブチルアミノ−１，８−ジアザ
ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等のアミジン
類；以上に代表されるアミン系化合物。 ２．１のアミン類とボランおよび三フッ化ホウ素とのコ
ンプレックス。 ３．トリメチルフォスフィン、トリエチルフォスフィ
ン、トリ−ｉｓｏ−プロピルフォスフィン、トリ−ｎ−
ブチルフォスフィン、トリ−ｎ−ヘキシルフォスフィ
ン、トリ−ｎ−オクチルフォスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、トリフェニルフォスフィン、トリベン
ジルホスフィン、トリス（２−メチルフェニル）ホスフ
ィン、トリス（３−メチルフェニル）ホスフィン、トリ
ス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（ジエチ
ルアミノ）ホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）
ホスフィン、ジメチルフェニルフォスフィン、ジエチル
フェニルフォスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホス
フィン、エチルジフェニルフォスフィン、ジフェニルシ
クロヘキシルホスフィン、クロロジフェニルフォスフィ
ン等のフォスフィン類。 ４．テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウム
アセテート、テトラエチルアンモニウムクロライド、テ
トラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアン
モニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
フルオライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロラ
イド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨーダイド、テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムボロハイドライド、テトラ−ｎ−ブチルア
ンモニウムヘキサフルオロホスファイト、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムハイドロゲンサルファイト、テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフルオロボーレート、
テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフェニルボーレ
ート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムパラトルエンス
ルフォネート、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムクロ
ライド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムブロマイ
ド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムアセテート、テ
トラ−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、テトラ−
ｎ−オクチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−オ
クチルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｎ−オク
チルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアン
モニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウム
ブロマイド、トリエチル−ｎ−オクチルアンモニウムク
ロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ
−ｎ−ブチル−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、
トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムフルオライド、
トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムクロライド、ト
リ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ
−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムヨーダイド、メチル
トリフェニルアンモニウムクロライド、メチルトリフェ
ニルアンモニウムブロマイド、エチルトリフェニルアン
モニウムクロライド、エチルトリフェニルアンモニウム
ブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルアンモニウムクロ
ライド、ｎ−ブチルトリフェニルアンモニウムブロマイ
ド、１−メチルピリジニウムブロマイド、１−エチルピ
リジニウムブロマイド、１−ｎ−ブチルピリジニウムブ
ロマイド、１−ｎ−ヘキシルピリジニウムブロマイド、
１−ｎ−オクチルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−ド
デシルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−フェニルピリ
ジニウムブロマイド、１−メチルピコリニウムブロマイ
ド、１−エチルピコリニウムブロマイド、１−ｎ−ブチ
ルピコリニウムブロマイド、１−ｎ−ヘキシルピコリニ
ウムブロマイド、１−ｎ−オクチルピコリニウムブロマ
イド、１−ｎ−ドデシルピコリニウムブロマイド、１−
ｎ−フェニルピコリニウムブロマイド等の４級アンモニ
ウム塩。 ５．テトラメチルホスホニウムクロライド、テトラメチ
ルホスホニウムブロマイド、テトラエチルホスホニウム
クロライド、テトラエチルホスホニウムブロマイド、テ
トラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライド、テトラ−ｎ
−ブチルホスホニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチル
ホスホニウムヨーダイド、テトラ−ｎ−ヘキシルホスホ
ニウムブロマイド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウム
ブロマイド、メチルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド、メチルトリフェニルホスホニウムヨーダイド、エチ
ルトリフェニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフ
ェニルホスホニウムヨーダイド、ｎ−ブチルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルホ
スホニウムヨーダイド、ｎ−ヘキシルトリフェニルホス
ホニウムブロマイド、ｎ−オクチルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマ
イド、テトラキスヒドロキシメチルホスホニウムクロラ
イド、テトラキスヒドロキシメチルホスホニウムブロマ
イド、テトラキスヒドロキシエチルホスホニウムクロラ
イド、テトラキスヒドロキシブチルホスホニウムクロラ
イド等のホスホニウム塩。 ６．トリメチルスルホニウムブロマイド、トリエチルス
ルホニウムブロマイド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウム
クロライド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムブロマイ
ド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムヨーダイド、トリ−
ｎ−ブチルスルホニウムテトラフルオロボーレート、ト
リ−ｎ−ヘキシルスルホニウムブロマイド、トリ−ｎ−
オクチルスルホニウムブロマイド、トリフェニルスルホ
ニウムクロライド、トリフェニルスルホニウムブロマイ
ド、トリフェニルスルホニウムヨーダイド等のスルホニ
ウム塩。 ７．ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨ
ードニウムブロマイド、ジフェニルヨードニウムヨーダ
イド等のヨードニウム塩。 ８．塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、炭酸等の鉱酸類およびこ
れらの半エステル類。 ９．３フッ化硼素、３フッ化硼素のエーテラート等に代
表されるルイス酸類。 １０．有機酸類およびこれらの半エステル類。 １１．ケイ酸、四フッ化ホウ酸。 等である。また、これらは単独でも２種類以上を混合し
て使用してもかまわない。
る硬化触媒としては、アミン類、フォスフィン類、第４
級アンモニウム塩類、第４級ホスホニウム塩類、第３級
スルホニウム塩類、第２級ヨードニウム塩類、鉱酸類、
ルイス酸類、有機酸類、ケイ酸類、四フッ化ホウ酸類等
を挙げることができる。具体例としては、 １．エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｓｅｃ−プロ
ピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミ
ン、ｉ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ペン
チルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチ
ルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ミスチリル
アミン、１，２−ジメチルヘキシルアミン、３−ペンチ
ルアミン、２−エチルヘキシルアミン、アリルアミン、
アミノエタノール、１−アミノプロパノール、２−アミ
ノプロパノール、アミノブタノール、アミノペンタノー
ル、アミノヘキサノール、３−エトキシプロピルアミ
ン、３−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキ
シプロピルアミン、３−ブトキシプロピルアミン、３−
イソブトキシプロピルアミン、３−（２−エチルヘキシ
ロキシ）プロピルアミン、アミノシクロペンタン、アミ
ノシクロヘキサン、アミノノルボルネン、アミノメチル
シクロヘキサン、アミノベンゼン、ベンジルアミン、フ
ェネチルアミン、α−フェニルエチルアミン、ナフチル
アミン、フルフリルアミン等の１級アミン；エチレンジ
アミン、１，２−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノ
プロパン、１，２−ジアミノブタン、１，３−ジアミノ
ブタン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペ
ンタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノ
ヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、ジメチルアミノ
プロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ビス
−（３−アミノプロピル）エーテル、１，２−ビス−
（３−アミノプロポキシ）エタン、１，３−ビス−（３
−アミノプロポキシ）−２，２’−ジメチルプロパン、
アミノエチルエタノールアミン、１，２−、１，３−あ
るいは１，４−ビスアミノシクロヘキサン、１，３−あ
るいは１，４−ビスアミノメチルシクロヘキサン、１，
３−あるいは１，４−ビスアミノエチルシクロヘキサ
ン、１，３−あるいは１，４−ビスアミノプロピルシク
ロヘキサン、水添４，４’−ジアミノジフェニルメタ
ン、２−あるいは４−アミノピペリジン、２−あるいは
４−アミノメチルピペリジン、２−あるいは４−アミノ
エチルピペリジン、Ｎ−アミノエチルピペリジン、Ｎ−
アミノプロピルピペリジン、Ｎ−アミノエチルモルホリ
ン、Ｎ−アミノプロピルモルホリン、イソホロンジアミ
ン、メンタンジアミン、１，４−ビスアミノプロピルピ
ペラジン、ｏ−、ｍ−、あるいはｐ−フェニレンジアミ
ン、２，４−あるいは２，６−トリレンジアミン、２，
４−トルエンジアミン、ｍ−アミノベンジルアミン、４
−クロロ−ｏ−フェニレンジアミン、テトラクロロ−ｐ
−キシリレンジアミン、４−メトキシ−６−メチル−ｍ
−フェニレンジアミン、ｍ−、あるいはｐ−キシリレン
ジアミン、１，５−あるいは、２，６−ナフタレンジア
ミン、ベンジジン、４，４’−ビス（ｏ−トルイジ
ン）、ジアニシジン、４，４’−ジアミノジフェニルメ
タン、２，２−（４，４’−ジアミノジフェニル）プロ
パン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，
４’−チオジアニリン、４，４’−ジアミノジフェニル
スルホン、４，４’−ジアミノジトリルスルホン、メチ
レンビス（ｏ−クロロアニリン）、３，９−ビス（３−
アミノプロピル）２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロ［５，５］ウンデカン、ジエチレントリアミン、イミ
ノビスプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミ
ン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン、トリエチレン
テトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレ
ンヘキサミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、Ｎ−アミ
ノプロピルピペラジン、１，４−ビス（アミノエチルピ
ペラジン）、１，４−ビス（アミノプロピルピペラジ
ン）、２，６−ジアミノピリジン、ビス（３，４−ジア
ミノフェニル）スルホン等の１級ポリアミン；ジエチル
アミン、ジプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ
−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−ｎ
−ペンチルアミン、ジ−３−ペンチルアミン、ジヘキシ
ルアミン、オクチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）
アミン、メチルヘキシルアミン、ジアリルアミン、ピロ
リジン、ピペリジン、２−、３−、４−ピコリン、２，
４−、２，６−、３，５−ルペチジン、ジフェニルアミ
ン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、ジベン
ジルアミン、メチルベンジルアミン、ジナフチルアミ
ン、ピロール、インドリン、インドール、モルホリン等
の２級アミン；Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−ジアミノプロパン、Ｎ，
Ｎ’−ジメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’
−ジメチル−１，２−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメ
チル−１，３−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−
１，４−ジアミノブタン、Ｎ ，Ｎ’−ジメチル−１，
５−ジアミノペンタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−
ジアミノヘキサン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，７−ジア
ミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，２−ジアミノプロパン、Ｎ，
Ｎ’−ジエチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’
−ジエチル−１，２−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエ
チル−１，３−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−
１，４−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，６
−ジアミノヘキサン、ピペラジン、２−メチルピペラジ
ン、２，５−あるいは２，６−ジメチルピペラジン、ホ
モピペラジン、１，１−ジ−（４−ピペリジル）メタ
ン、１，２−ジ−（４−ピペリジル）エタン、１，３−
ジ−（４−ピペリジル）プロパン、１，４−ジ−（４−
ピペリジル）ブタン、テトラメチルグアニジン等の２級
ポリアミン；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｉｓｏ−プロピルアミ
ン、トリ−１，２−ジメチルプロピルアミン、トリ−３
−メトキシプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、
トリ−ｉｓｏ−ブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルア
ミン、トリ−ペンチルアミン、トリ−３−ペンチルアミ
ン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−オクチルア
ミン、トリ−２−エチルヘキシルアミン、トリ−ドデシ
ルアミン、トリ−ラウリルアミン、ジシクロヘキシルエ
チルアミン、シクロヘキシルジエチルアミン、トリ−シ
クロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキシルアミ
ン、Ｎ−メチルジヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシ
クロヘキシルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘキシルアミ
ン、Ｎ、Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、トリベンジルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ジエチルベンジルアミ
ン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−ｐ
−クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルフェノー
ル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノー
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン、ピリジン、キノリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ
−メチルピペリジン、２−（２−ジメチルアミノエトキ
シ）−４−メチル−１，３，２−ジオキサボルナン等の
３級アミン；テトラメチルエチレンジアミン、ピラジ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス
（（２−ヒドロキシ）プロピル）ピペラジン、ヘキサメ
チレンテトラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル
−１，３−ブタンアミン、２−ジメチルアミノ−２−ヒ
ドロキシプロパン、ジエチルアミ ノエタノール、Ｎ，
Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミ
ン、２，４，６−トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチ
ル）フェノール、ヘプタメチルイソビグアニド等の３級
ポリアミン；イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、
２−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、、
Ｎ−エチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、４
−エチルイミダゾール、Ｎ−ブチルイミダゾール、２−
ブチルイミダゾール、Ｎ−ウンデシルイミダゾール、２
−ウンデシルイミダゾール、２−メルカプトイミダゾー
ル、２−メルカプト−Ｎ−メチルイミダゾール、２−メ
ルカプトベンゾイミダゾール、３−メルカプト−４−メ
チル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール、５−メルカプ
ト−１−メチル−テトラゾール、２，５−ジメルカプト
−１，３，４−チアジアゾール、Ｎ−フェニルイミダゾ
ール、２−フェニルイミダゾール、Ｎ−ベンジルイミダ
ゾール、２−ベンジルイミダゾール、１−ベンジル−２
−メチルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエチル）−
２−メチルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエチル）
−２−ウンデシルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエ
チル）−２−フェニルイミダゾール、３，３−ビス−
（２−エチル−４−メチルイミダゾリル）メタン、アル
キルイミダゾールとイソシアヌール酸の付加物、アルキ
ルイミダゾールとホルムアルデヒドの縮合物等の各種イ
ミダゾール類；１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）
ウンデセン−７、１，５−ジアザビシクロ（４，３，
０）ノネン−５、６−ジブチルアミノ−１，８−ジアザ
ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等のアミジン
類；以上に代表されるアミン系化合物。 ２．１のアミン類とボランおよび三フッ化ホウ素とのコ
ンプレックス。 ３．トリメチルフォスフィン、トリエチルフォスフィ
ン、トリ−ｉｓｏ−プロピルフォスフィン、トリ−ｎ−
ブチルフォスフィン、トリ−ｎ−ヘキシルフォスフィ
ン、トリ−ｎ−オクチルフォスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、トリフェニルフォスフィン、トリベン
ジルホスフィン、トリス（２−メチルフェニル）ホスフ
ィン、トリス（３−メチルフェニル）ホスフィン、トリ
ス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（ジエチ
ルアミノ）ホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）
ホスフィン、ジメチルフェニルフォスフィン、ジエチル
フェニルフォスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホス
フィン、エチルジフェニルフォスフィン、ジフェニルシ
クロヘキシルホスフィン、クロロジフェニルフォスフィ
ン等のフォスフィン類。 ４．テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウム
アセテート、テトラエチルアンモニウムクロライド、テ
トラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアン
モニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
フルオライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロラ
イド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨーダイド、テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムボロハイドライド、テトラ−ｎ−ブチルア
ンモニウムヘキサフルオロホスファイト、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムハイドロゲンサルファイト、テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフルオロボーレート、
テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフェニルボーレ
ート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムパラトルエンス
ルフォネート、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムクロ
ライド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムブロマイ
ド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムアセテート、テ
トラ−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、テトラ−
ｎ−オクチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−オ
クチルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｎ−オク
チルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアン
モニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウム
ブロマイド、トリエチル−ｎ−オクチルアンモニウムク
ロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ
−ｎ−ブチル−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、
トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムフルオライド、
トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムクロライド、ト
リ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ
−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムヨーダイド、メチル
トリフェニルアンモニウムクロライド、メチルトリフェ
ニルアンモニウムブロマイド、エチルトリフェニルアン
モニウムクロライド、エチルトリフェニルアンモニウム
ブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルアンモニウムクロ
ライド、ｎ−ブチルトリフェニルアンモニウムブロマイ
ド、１−メチルピリジニウムブロマイド、１−エチルピ
リジニウムブロマイド、１−ｎ−ブチルピリジニウムブ
ロマイド、１−ｎ−ヘキシルピリジニウムブロマイド、
１−ｎ−オクチルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−ド
デシルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−フェニルピリ
ジニウムブロマイド、１−メチルピコリニウムブロマイ
ド、１−エチルピコリニウムブロマイド、１−ｎ−ブチ
ルピコリニウムブロマイド、１−ｎ−ヘキシルピコリニ
ウムブロマイド、１−ｎ−オクチルピコリニウムブロマ
イド、１−ｎ−ドデシルピコリニウムブロマイド、１−
ｎ−フェニルピコリニウムブロマイド等の４級アンモニ
ウム塩。 ５．テトラメチルホスホニウムクロライド、テトラメチ
ルホスホニウムブロマイド、テトラエチルホスホニウム
クロライド、テトラエチルホスホニウムブロマイド、テ
トラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライド、テトラ−ｎ
−ブチルホスホニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチル
ホスホニウムヨーダイド、テトラ−ｎ−ヘキシルホスホ
ニウムブロマイド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウム
ブロマイド、メチルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド、メチルトリフェニルホスホニウムヨーダイド、エチ
ルトリフェニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフ
ェニルホスホニウムヨーダイド、ｎ−ブチルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルホ
スホニウムヨーダイド、ｎ−ヘキシルトリフェニルホス
ホニウムブロマイド、ｎ−オクチルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマ
イド、テトラキスヒドロキシメチルホスホニウムクロラ
イド、テトラキスヒドロキシメチルホスホニウムブロマ
イド、テトラキスヒドロキシエチルホスホニウムクロラ
イド、テトラキスヒドロキシブチルホスホニウムクロラ
イド等のホスホニウム塩。 ６．トリメチルスルホニウムブロマイド、トリエチルス
ルホニウムブロマイド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウム
クロライド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムブロマイ
ド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムヨーダイド、トリ−
ｎ−ブチルスルホニウムテトラフルオロボーレート、ト
リ−ｎ−ヘキシルスルホニウムブロマイド、トリ−ｎ−
オクチルスルホニウムブロマイド、トリフェニルスルホ
ニウムクロライド、トリフェニルスルホニウムブロマイ
ド、トリフェニルスルホニウムヨーダイド等のスルホニ
ウム塩。 ７．ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨ
ードニウムブロマイド、ジフェニルヨードニウムヨーダ
イド等のヨードニウム塩。 ８．塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、炭酸等の鉱酸類およびこ
れらの半エステル類。 ９．３フッ化硼素、３フッ化硼素のエーテラート等に代
表されるルイス酸類。 １０．有機酸類およびこれらの半エステル類。 １１．ケイ酸、四フッ化ホウ酸。 等である。また、これらは単独でも２種類以上を混合し
て使用してもかまわない。
【００１８】本発明で使用する触媒の添加量は、（１）
式で表される構造を有する化合物または該化合物を１０
ｗｔ％以上含有する組成物１００重量部に対して、０．
００１〜１０．０重量部であり、好ましくは０．００５
〜５．０重量部である 。
式で表される構造を有する化合物または該化合物を１０
ｗｔ％以上含有する組成物１００重量部に対して、０．
００１〜１０．０重量部であり、好ましくは０．００５
〜５．０重量部である 。
【００１９】本発明の組成物は（１）式中で表される構
造を有さない公知のエピスルフィド化合物と硬化重合し
て製造することもできる。これらの化合物の具体例とし
ては、特開平９−７１５８０号公報、特開平９−１１０
９７９号公報および特開平９−２５５７８１号公報に記
載したものがあげられる。
造を有さない公知のエピスルフィド化合物と硬化重合し
て製造することもできる。これらの化合物の具体例とし
ては、特開平９−７１５８０号公報、特開平９−１１０
９７９号公報および特開平９−２５５７８１号公報に記
載したものがあげられる。
【００２０】また、本発明の組成物は（１）式中のβ−
エピ（ポリ）チオプロピル基と反応可能な官能基を１個
以上有する化合物、あるいは、これらの官能基１個以上
と他の単独重合可能な官能基を１個以上有する化合物、
これらの単独重合可能な官能基を１個以上有する化合
物、さらには、エピチオ基と反応可能でかつ単独重合も
可能な官能基を１個有する化合物と硬化重合して製造す
ることもできる。これらの化合物の具体例としては、特
開平９−２５５７８１号公報に記載したものがあげられ
る。
エピ（ポリ）チオプロピル基と反応可能な官能基を１個
以上有する化合物、あるいは、これらの官能基１個以上
と他の単独重合可能な官能基を１個以上有する化合物、
これらの単独重合可能な官能基を１個以上有する化合
物、さらには、エピチオ基と反応可能でかつ単独重合も
可能な官能基を１個有する化合物と硬化重合して製造す
ることもできる。これらの化合物の具体例としては、特
開平９−２５５７８１号公報に記載したものがあげられ
る。
【００２１】不飽和基を有する化合物を使用する際に
は、重合促進剤として、ラジカル重合開始剤を使用する
事は好ましい方法である。ラジカル重合開始剤とは、加
熱あるいは紫外線や電子線によってラジカルを生成する
ものであれば良く、具体例としては、特開平９−２５５
７８１号公報に記載したものがあげられる。
は、重合促進剤として、ラジカル重合開始剤を使用する
事は好ましい方法である。ラジカル重合開始剤とは、加
熱あるいは紫外線や電子線によってラジカルを生成する
ものであれば良く、具体例としては、特開平９−２５５
７８１号公報に記載したものがあげられる。
【００２２】硬化後の材料に良好な耐酸化性を付与せし
めるために、坑酸化成分としてＳＨ基１個以上有する化
合物を単独もしくは公知の酸化防止剤と併用して使用す
ることも可能である。ここで言うＳＨ基を１個以上有す
る化合物とは、メルカプタン類、チオフェノール類、お
よび、ビニル、芳香族ビニル、メタクリル、アクリル、
アリル等の不飽和基を有するメルカプタン類、チオフェ
ノール類等があげられる。具体例としては、特開平９−
２５５７８１号公報に記載したものがあげられる。
めるために、坑酸化成分としてＳＨ基１個以上有する化
合物を単独もしくは公知の酸化防止剤と併用して使用す
ることも可能である。ここで言うＳＨ基を１個以上有す
る化合物とは、メルカプタン類、チオフェノール類、お
よび、ビニル、芳香族ビニル、メタクリル、アクリル、
アリル等の不飽和基を有するメルカプタン類、チオフェ
ノール類等があげられる。具体例としては、特開平９−
２５５７８１号公報に記載したものがあげられる。
【００２３】また、染色性、強度等の性能改良を目的に
ＳＨ基以外の活性水素を１個以上有する化合物を使用す
ることも可能である。ここで言う活性水素とは、例え
ば、水酸基、カルボキシル基、アミド基の水素および
１，３−ジケトン、１，３−ジカルボン酸およびそのエ
ステル、３−ケトカルボン酸およびそのエステル類の２
位の水素等であり、活性水素を１分子あたり１個以上有
する化合物は、アルコール類、フェノール類、メルカプ
トアルコール類、ヒドロキシチオフェノール類、カルボ
ン酸類、メルカプトカルボン酸類、ヒドロキシカルボン
酸類、アミド類、１，３−ジケトン類、１，３−ジカル
ボン酸およびそのエステル類、３−ケトカルボン酸およ
びそのエステル類、および、ビニル、芳香族ビニル、メ
タクリル、アクリル、アリル等の不飽和基を有するアル
コール類、フェノール類、メルカプトアルコール類、ヒ
ドロキシチオフェノール類、カルボン酸類、メルカプト
カルボン酸類、ヒドロキシカルボン酸類、アミド類、
１，３−ジケトン類、１，３−ジカルボン酸およびその
エステル類、３−ケトカルボン酸およびそのエステル類
等があげられる。具体例としては、特開平９−２５５７
８１号公報に記載したものがあげられる。
ＳＨ基以外の活性水素を１個以上有する化合物を使用す
ることも可能である。ここで言う活性水素とは、例え
ば、水酸基、カルボキシル基、アミド基の水素および
１，３−ジケトン、１，３−ジカルボン酸およびそのエ
ステル、３−ケトカルボン酸およびそのエステル類の２
位の水素等であり、活性水素を１分子あたり１個以上有
する化合物は、アルコール類、フェノール類、メルカプ
トアルコール類、ヒドロキシチオフェノール類、カルボ
ン酸類、メルカプトカルボン酸類、ヒドロキシカルボン
酸類、アミド類、１，３−ジケトン類、１，３−ジカル
ボン酸およびそのエステル類、３−ケトカルボン酸およ
びそのエステル類、および、ビニル、芳香族ビニル、メ
タクリル、アクリル、アリル等の不飽和基を有するアル
コール類、フェノール類、メルカプトアルコール類、ヒ
ドロキシチオフェノール類、カルボン酸類、メルカプト
カルボン酸類、ヒドロキシカルボン酸類、アミド類、
１，３−ジケトン類、１，３−ジカルボン酸およびその
エステル類、３−ケトカルボン酸およびそのエステル類
等があげられる。具体例としては、特開平９−２５５７
８１号公報に記載したものがあげられる。
【００２４】さらに、強度改良を目的にイソシアネート
基を１個以上有する化合物を使用することも可能であ
る。イソシアネート基を１個以上有する化合物の具体例
としては、特願平１０−０２８４８１号に記載したもの
があげられる。
基を１個以上有する化合物を使用することも可能であ
る。イソシアネート基を１個以上有する化合物の具体例
としては、特願平１０−０２８４８１号に記載したもの
があげられる。
【００２５】本発明においては、以上の様に（１）式で
表される構造を１分子中に１個以上有する化合物を組成
物とした場合、少なくとも同化合物が１０ｗｔ％以上使
用され、好ましくは２０ｗｔ％以上使用され、より好ま
しくは３０ｗｔ％以上使用される。１０ｗｔ％未満とし
た場合、高屈折率と高いアッベ数のバランスが維持でき
なくなる。
表される構造を１分子中に１個以上有する化合物を組成
物とした場合、少なくとも同化合物が１０ｗｔ％以上使
用され、好ましくは２０ｗｔ％以上使用され、より好ま
しくは３０ｗｔ％以上使用される。１０ｗｔ％未満とし
た場合、高屈折率と高いアッベ数のバランスが維持でき
なくなる。
【００２６】本発明の光学材料の製造方法において、公
知の酸化防止剤や紫外線吸収剤等の添加剤を加えて、得
られる材料の実用性をより向上せしめることはもちろん
可能である。また、本発明の光学材料は重合中に型から
剥がれやすい傾向があり、場合によっては公知の外部お
よび／または内部密着性改善剤を使用または添加して、
得られる硬化材料と型の密着性を向上せしめることも有
効である。
知の酸化防止剤や紫外線吸収剤等の添加剤を加えて、得
られる材料の実用性をより向上せしめることはもちろん
可能である。また、本発明の光学材料は重合中に型から
剥がれやすい傾向があり、場合によっては公知の外部お
よび／または内部密着性改善剤を使用または添加して、
得られる硬化材料と型の密着性を向上せしめることも有
効である。
【００２７】本発明において光学材料の製造方法は、原
料となる（１）式で表される構造を１分子中に１個以上
有する化合物単独または該化合物を含有する組成物と、
触媒、密着性改善剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ラジ
カル重合開始剤および各種性能改良剤等の添加剤を混
合、均一とした後、ガラスや金属製の型に注入し、加熱
によって重合硬化反応を進めた後、型から外し製造され
る。
料となる（１）式で表される構造を１分子中に１個以上
有する化合物単独または該化合物を含有する組成物と、
触媒、密着性改善剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ラジ
カル重合開始剤および各種性能改良剤等の添加剤を混
合、均一とした後、ガラスや金属製の型に注入し、加熱
によって重合硬化反応を進めた後、型から外し製造され
る。
【００２８】（１）式で表される構造を１分子中に１個
以上有する化合物単独またはその組成物の一部または全
量を注型前に触媒の存在下または非存在下、撹拌下また
は非撹拌下で−１００〜１６０℃で、０．１〜７２時間
かけて予備的に重合せしめた後、組成物を調製して注型
を行う事も可能である。この予備的な重合条件は、好ま
しくは−１０〜１００℃で１〜４８時間、より好ましく
は０〜６０℃で１〜４８時間で実施する。
以上有する化合物単独またはその組成物の一部または全
量を注型前に触媒の存在下または非存在下、撹拌下また
は非撹拌下で−１００〜１６０℃で、０．１〜７２時間
かけて予備的に重合せしめた後、組成物を調製して注型
を行う事も可能である。この予備的な重合条件は、好ま
しくは−１０〜１００℃で１〜４８時間、より好ましく
は０〜６０℃で１〜４８時間で実施する。
【００２９】本発明の硬化樹脂光学材料の製造方法は、
さらに詳しく述べるならば以下の通りである。前述の様
に、主原料および副原料を混合後、型に注入硬化して製
造されるが、（１）式で表される構造を１分子中に１個
以上有する化合物単独または該化合物を含有する組成物
と、触媒と、所望により使用されるエピチオ基と反応可
能な官能基を２個以上有する化合物あるいは、これらの
官能基１個以上と他の単独重合可能な官能基を１個以上
有する化合物、単独重合可能な官能基を１個以上有する
化合物、エピチオ基と反応可能でかつ単独重合も可能な
官能基を１個有する化合物、さらには所望に応じて使用
される、抗酸化成分、染色性および強度等の性能改良成
分、さらには密着性改善剤、安定剤、ラジカル重合開始
剤等は、全て同一容器内で同時に撹拌下に混合しても、
各原料を段階的に添加混合しても、数成分を別々に混合
後さらに同一容器内で再混合しても良い。各原料および
副原料はいかなる順序で混合してもかまわない。混合に
あたり、設定温度、これに要する時間等は基本的には各
成分が十分に混合される条件であればよいが、過剰の温
度、時間は各原料、添加剤間の好ましくない反応が起こ
り、さらには粘度の上昇をきたし注型操作を困難にする
等適当ではない。混合温度は−５０℃から１００℃程度
の範囲で行われるべきであり、好ましい温度範囲は−３
０℃から５０℃、さらに好ましいのは、−５℃から３０
℃である。混合時間は、１分から５時間、好ましくは５
分から２時間、さらに好ましくは５分から３０分、最も
好ましいのは５分から１５分程度である。各原料、添加
剤の混合前、混合時あるいは混合後に、減圧下に脱ガス
操作を行う事は、後の注型重合硬化中の気泡発生を防止
する点からは好ましい方法である。この時の減圧度は
０．１ｍｍＨｇから７００ｍｍＨｇ程度で行うが、好ま
しいのは１０ｍｍＨｇから３００ｍｍＨｇである。さら
には、これらの混合物あるいは混合前の主、副原料を
０．０５〜３μｍ程度の孔径を有するフィルターで不純
物等を濾過し精製することは本発明の光学材料の品質を
さらに高める上からも好ましい。ガラスや金属製の型に
注入後、電気炉等による重合硬化を行うが、硬化時間は
０．１〜１００時間、通常１〜４８時間であり、硬化温
度は−１０〜１６０℃、通常−１０〜１４０℃である。
重合は所定の重合温度で所定時間のホールド、０．１℃
〜１００℃／ｈの昇温、０．１℃〜１００℃／ｈの降温
およびこれらの組み合わせで行うことができる。また、
硬化終了後、材料を５０から１５０℃の温度で１０分か
ら５時間程度アニール処理を行う事は、本発明の光学材
料の歪を除くために好ましい処理である。さらに必要に
応じて染色、ハードコート、反射防止、防曇性付与等表
面処理を行うことができる。
さらに詳しく述べるならば以下の通りである。前述の様
に、主原料および副原料を混合後、型に注入硬化して製
造されるが、（１）式で表される構造を１分子中に１個
以上有する化合物単独または該化合物を含有する組成物
と、触媒と、所望により使用されるエピチオ基と反応可
能な官能基を２個以上有する化合物あるいは、これらの
官能基１個以上と他の単独重合可能な官能基を１個以上
有する化合物、単独重合可能な官能基を１個以上有する
化合物、エピチオ基と反応可能でかつ単独重合も可能な
官能基を１個有する化合物、さらには所望に応じて使用
される、抗酸化成分、染色性および強度等の性能改良成
分、さらには密着性改善剤、安定剤、ラジカル重合開始
剤等は、全て同一容器内で同時に撹拌下に混合しても、
各原料を段階的に添加混合しても、数成分を別々に混合
後さらに同一容器内で再混合しても良い。各原料および
副原料はいかなる順序で混合してもかまわない。混合に
あたり、設定温度、これに要する時間等は基本的には各
成分が十分に混合される条件であればよいが、過剰の温
度、時間は各原料、添加剤間の好ましくない反応が起こ
り、さらには粘度の上昇をきたし注型操作を困難にする
等適当ではない。混合温度は−５０℃から１００℃程度
の範囲で行われるべきであり、好ましい温度範囲は−３
０℃から５０℃、さらに好ましいのは、−５℃から３０
℃である。混合時間は、１分から５時間、好ましくは５
分から２時間、さらに好ましくは５分から３０分、最も
好ましいのは５分から１５分程度である。各原料、添加
剤の混合前、混合時あるいは混合後に、減圧下に脱ガス
操作を行う事は、後の注型重合硬化中の気泡発生を防止
する点からは好ましい方法である。この時の減圧度は
０．１ｍｍＨｇから７００ｍｍＨｇ程度で行うが、好ま
しいのは１０ｍｍＨｇから３００ｍｍＨｇである。さら
には、これらの混合物あるいは混合前の主、副原料を
０．０５〜３μｍ程度の孔径を有するフィルターで不純
物等を濾過し精製することは本発明の光学材料の品質を
さらに高める上からも好ましい。ガラスや金属製の型に
注入後、電気炉等による重合硬化を行うが、硬化時間は
０．１〜１００時間、通常１〜４８時間であり、硬化温
度は−１０〜１６０℃、通常−１０〜１４０℃である。
重合は所定の重合温度で所定時間のホールド、０．１℃
〜１００℃／ｈの昇温、０．１℃〜１００℃／ｈの降温
およびこれらの組み合わせで行うことができる。また、
硬化終了後、材料を５０から１５０℃の温度で１０分か
ら５時間程度アニール処理を行う事は、本発明の光学材
料の歪を除くために好ましい処理である。さらに必要に
応じて染色、ハードコート、反射防止、防曇性付与等表
面処理を行うことができる。
【００３０】
【発明の効果】本発明の（１）式で表される構造を有す
る化合物または該化合物を１０ｗｔ％以上含有する組成
物を重合硬化して製造される高屈折率樹脂により、アッ
ベ数を３０以上かつ従来技術を上回る高い屈折率、すな
わち屈折率１．７２以上を達成すること可能となった。
る化合物または該化合物を１０ｗｔ％以上含有する組成
物を重合硬化して製造される高屈折率樹脂により、アッ
ベ数を３０以上かつ従来技術を上回る高い屈折率、すな
わち屈折率１．７２以上を達成すること可能となった。
【００３１】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、得られたレンズの評価は以下の方法で行った。 １．屈折率、アッベ数（ＮＤ、νＤ）：アッベ屈折計を
用い、２５℃で測定した。 ２．比重：電子比重計を用い、２５℃で測定した。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、得られたレンズの評価は以下の方法で行った。 １．屈折率、アッベ数（ＮＤ、νＤ）：アッベ屈折計を
用い、２５℃で測定した。 ２．比重：電子比重計を用い、２５℃で測定した。
【００３２】参考例１ （ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィドの製造）
文献（例えばＦ．Ｐ．Ｄｏｙｌｅら，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．，１９６０，２６６０）既知の方法で合成したβ
−エピチオプロピルメルカプタン２６５．５ｇ（２．５
ｍｏｌ）とメタノール１Ｌをビーカーに入れ、そこへ塩
化鉄（III ）６水和物６７５．８ｇ（２．５ｍｏｌ）を
メタノール１Ｌに溶かした液を室温で加え激しく攪拌し
た。さらに、室温で６時間攪拌し、その後デカンテーシ
ョンで上澄み液を取り除き、得られたオイル部分を水洗
し、室温で真空脱気して低沸分を除去した。生成物は、
下記の分析データのとおり、純粋なビス（β−エピチオ
プロピル）ジスルフィドであった。 元素分析値： 分析値（％） 理論値（％） Ｃ ３４．０１ ３４．２５ Ｈ ４．９５ ４．７９ Ｓ ６０．７０ ６０．９６ マススペクトル（ＥＩ）：Ｍ+ ２１０（理論値２１０） 赤外吸収スペクトル：６２０ｃｍ-1（エピスルフィド環の伸縮振動）1 Ｈ−ＮＭＲ：３．２ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ） ２．７ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ２．６ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ２．４ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ：４５．６ｐｐｍ ３３．５ｐｐｍ ２６．１ｐｐｍ
文献（例えばＦ．Ｐ．Ｄｏｙｌｅら，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．，１９６０，２６６０）既知の方法で合成したβ
−エピチオプロピルメルカプタン２６５．５ｇ（２．５
ｍｏｌ）とメタノール１Ｌをビーカーに入れ、そこへ塩
化鉄（III ）６水和物６７５．８ｇ（２．５ｍｏｌ）を
メタノール１Ｌに溶かした液を室温で加え激しく攪拌し
た。さらに、室温で６時間攪拌し、その後デカンテーシ
ョンで上澄み液を取り除き、得られたオイル部分を水洗
し、室温で真空脱気して低沸分を除去した。生成物は、
下記の分析データのとおり、純粋なビス（β−エピチオ
プロピル）ジスルフィドであった。 元素分析値： 分析値（％） 理論値（％） Ｃ ３４．０１ ３４．２５ Ｈ ４．９５ ４．７９ Ｓ ６０．７０ ６０．９６ マススペクトル（ＥＩ）：Ｍ+ ２１０（理論値２１０） 赤外吸収スペクトル：６２０ｃｍ-1（エピスルフィド環の伸縮振動）1 Ｈ−ＮＭＲ：３．２ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ） ２．７ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ２．６ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ２．４ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ：４５．６ｐｐｍ ３３．５ｐｐｍ ２６．１ｐｐｍ
【００３３】実施例１ ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィド１００重量
部に触媒としてトリフェニルホスフィン１．０重量部を
混合、室温で撹拌し均一液とした。ついでこれを脱泡、
ろ過後、２．５ｍｍ厚と１０ｍｍ厚の平板レンズ用モー
ルドに注入し、オーブン中で２０℃から９０℃まで２０
時間かけて昇温して重合硬化させ、レンズを製造した。
得られたレンズは良好な耐熱性および物理特性を示し、
表面状態は良好であり、脈理、面変形もほとんど認めら
れなかった。レンズの屈折率、アッベ数および比重の測
定結果を表１に示した。
部に触媒としてトリフェニルホスフィン１．０重量部を
混合、室温で撹拌し均一液とした。ついでこれを脱泡、
ろ過後、２．５ｍｍ厚と１０ｍｍ厚の平板レンズ用モー
ルドに注入し、オーブン中で２０℃から９０℃まで２０
時間かけて昇温して重合硬化させ、レンズを製造した。
得られたレンズは良好な耐熱性および物理特性を示し、
表面状態は良好であり、脈理、面変形もほとんど認めら
れなかった。レンズの屈折率、アッベ数および比重の測
定結果を表１に示した。
【００３４】実施例２〜９ 表１に示す式（１）の化合物を含む組成を使用する以外
は実施例１を繰り返しレンズを製造した。レンズの屈折
率、アッベ数および比重の測定結果を表１に示した。
は実施例１を繰り返しレンズを製造した。レンズの屈折
率、アッベ数および比重の測定結果を表１に示した。
【００３５】比較例１〜４ 表１に示す式（１）の化合物を含む組成と触媒を使用す
る以外は実施例１を繰り返しレンズを製造した。レンズ
の屈折率、アッベ数および比重の測定結果を表１に示し
た。
る以外は実施例１を繰り返しレンズを製造した。レンズ
の屈折率、アッベ数および比重の測定結果を表１に示し
た。
【００３６】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀越 裕 東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内 (72)発明者 高須賀 大晃 東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】下記（１）式で表される構造を１分子中に
１個以上有する化合物を重合硬化して得られた高屈折率
樹脂。 【化１】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜１０の炭化水素、Ｒ2,Ｒ3 お
よびＲ4 は、それぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基また
は水素を示す。ＹはＳ，ＳｅまたはＴｅを示す。ｍ＝１
〜５，ｎ＝０〜５，ｐ＝０又は１であり、かつｍ＋ｎは
２以上であり、ｍとｎが同時に１とはならない。） - 【請求項２】下記（２）式で表される化合物を重合硬化
して得られた高屈折率樹脂。 【化２】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜１０の炭化水素、Ｒ2,Ｒ3 お
よびＲ4 は、それぞれ炭素数１〜１０の炭化水素基また
は水素を示す。ＹはＳ、ＳｅまたはＴｅを示す。Ｏ＝１
〜５、Ｐ＝１〜５であり、かつＯ＋Ｐは３以上であ
る。） - 【請求項３】請求項１記載の（１）式で表される構造を
１分子中に１個以上有する化合物が１０ｗｔ％以上含ま
れる組成物を重合硬化して製造される高屈折率樹脂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000020627A JP4639418B2 (ja) | 1999-01-29 | 2000-01-28 | 高屈折率樹脂 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-22199 | 1999-01-29 | ||
| JP2219999 | 1999-01-29 | ||
| JP2000020627A JP4639418B2 (ja) | 1999-01-29 | 2000-01-28 | 高屈折率樹脂 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000281787A true JP2000281787A (ja) | 2000-10-10 |
| JP4639418B2 JP4639418B2 (ja) | 2011-02-23 |
Family
ID=26359380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000020627A Expired - Lifetime JP4639418B2 (ja) | 1999-01-29 | 2000-01-28 | 高屈折率樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4639418B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004510000A (ja) * | 2000-09-25 | 2004-04-02 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | （アルコキシフェニル）ホスフィンで触媒されるエピスルフィド系重合性組成物、それから得られる物品およびその製造方法 |
| US7132501B2 (en) | 2002-03-01 | 2006-11-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition containing novel cyclic sulfur compound and resin obtained by curing the polymerizable composition |
| JP2007051301A (ja) * | 2006-11-16 | 2007-03-01 | Mitsui Chemicals Inc | 離型性の改良されたレンズ |
| WO2007052568A1 (ja) | 2005-10-31 | 2007-05-10 | Ube Industries, Ltd. | 重合性組成物およびポリチオカーボネートポリチオエーテル |
| WO2023032598A1 (ja) * | 2021-09-01 | 2023-03-09 | 三井化学株式会社 | エピスルフィド組成物、重合性組成物、硬化物、及び光学材料 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11166037A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 新規な樹脂用組成物 |
| JPH11322930A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-11-26 | Mitsui Chem Inc | 重合性組成物 |
| JP2000239384A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-09-05 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 色調および透明性に優れた高屈折率樹脂の製造方法 |
-
2000
- 2000-01-28 JP JP2000020627A patent/JP4639418B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11166037A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 新規な樹脂用組成物 |
| JPH11322930A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-11-26 | Mitsui Chem Inc | 重合性組成物 |
| JP2000239384A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-09-05 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 色調および透明性に優れた高屈折率樹脂の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004510000A (ja) * | 2000-09-25 | 2004-04-02 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | （アルコキシフェニル）ホスフィンで触媒されるエピスルフィド系重合性組成物、それから得られる物品およびその製造方法 |
| US7132501B2 (en) | 2002-03-01 | 2006-11-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition containing novel cyclic sulfur compound and resin obtained by curing the polymerizable composition |
| WO2007052568A1 (ja) | 2005-10-31 | 2007-05-10 | Ube Industries, Ltd. | 重合性組成物およびポリチオカーボネートポリチオエーテル |
| JP2007051301A (ja) * | 2006-11-16 | 2007-03-01 | Mitsui Chemicals Inc | 離型性の改良されたレンズ |
| WO2023032598A1 (ja) * | 2021-09-01 | 2023-03-09 | 三井化学株式会社 | エピスルフィド組成物、重合性組成物、硬化物、及び光学材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4639418B2 (ja) | 2011-02-23 |
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