JP2000284056A - 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置 - Google Patents

放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置

Info

Publication number
JP2000284056A
JP2000284056A JP11087922A JP8792299A JP2000284056A JP 2000284056 A JP2000284056 A JP 2000284056A JP 11087922 A JP11087922 A JP 11087922A JP 8792299 A JP8792299 A JP 8792299A JP 2000284056 A JP2000284056 A JP 2000284056A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation
electrode
charge
layer
reading
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11087922A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4040201B2 (ja
JP2000284056A5 (ja
Inventor
Masaharu Ogawa
正春 小川
Shinji Imai
真二 今井
Toshitaka Agano
俊孝 阿賀野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP08792299A priority Critical patent/JP4040201B2/ja
Priority to EP00106762A priority patent/EP1041400B1/en
Priority to DE60032659T priority patent/DE60032659T2/de
Priority to US09/539,412 priority patent/US6770901B1/en
Publication of JP2000284056A publication Critical patent/JP2000284056A/ja
Publication of JP2000284056A5 publication Critical patent/JP2000284056A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4040201B2 publication Critical patent/JP4040201B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10—Integrated devices
    • H10F39/12—Image sensors
    • H10F39/191—Photoconductor image sensors
    • H10F39/195—X-ray, gamma-ray or corpuscular radiation imagers
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16—Measuring radiation intensity
    • G01T1/24—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors
    • G01T1/241—Electrode arrangements, e.g. continuous or parallel strips or the like
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16—Measuring radiation intensity
    • G01T1/24—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors
    • G01T1/246—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors utilizing latent read-out, e.g. charge stored and read-out later
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/011—Manufacture or treatment of image sensors covered by group H10F39/12
    • H10F39/016—Manufacture or treatment of image sensors covered by group H10F39/12 of thin-film-based image sensors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 放射線固体検出器を使用する放射線画像情報
記録および読出装置において、読出しの高速応答性と読
取効率の向上の両立を図ることができるようにする。 【解決手段】 第1の電極層11、記録光L1の照射を受
けることにより導電性を呈する記録用光導電層12、潜
像電荷に対しては略絶縁体として作用し、かつ、潜像電
荷と逆極性の輸送電荷に対しては略導電体として作用す
る電荷輸送層13、読取光L2の照射を受けることにより
導電性を呈する読取用光導電層14、ストライプ電極1
6を有する電極層15を積層してなる検出器10の、記
録用光導電層12内の蓄電部19近傍に、多数のエレメ
ント17aが、それぞれエレメント16aの真上に位置
し、互いに向き合うように配設されて成るサブ電極17
を設ける。記録時には、サブ電極17に電源73から所
定の制御電圧を印加する。読取時には、サブ電極17の
各エレメント17aから流れ出す電流を検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、照射された放射線
の線量に応じた量の電荷を潜像電荷として蓄積する蓄電
部を有する放射線固体検出器、並びに該検出器を使用し
て放射線画像情報を静電潜像として記録したり、記録さ
れた静電潜像を読み取る方法および装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来より、医療用放射線撮影等におい
て、被験者の受ける被爆線量の減少、診断性能の向上等
のために、X線等の放射線に感応するセレン板等の光導
電体を有する放射線固体検出器(静電記録体)を感光体
として用い、該検出器にX線を照射し、照射された放射
線の線量に応じた量の電荷を検出器内の蓄電部に蓄積せ
しめることにより、放射線画像情報を静電潜像として記
録すると共に、レーザビーム或いはライン光源で放射線
画像情報が記録された検出器を走査することにより、前
記検出器から放射線画像情報を読み取る方法が知られて
いる(例えば、米国特許第 4535468号等)。
【0003】上記米国特許第 4535468号による方法は、
X線光導電層、X線光導電層で発生した電荷を蓄積する
電荷蓄積層(中間層或いはトラップ層ともいう)、およ
び読取用光導電層をこの順に有する3層構成からなる検
出器を使用するものであって、記録時に3層の両側に設
けられた電極間に高圧を印加してX線を照射して潜像電
荷を電荷蓄積層に蓄積せしめた後、電極をショートして
潜像電荷を読み出すものである。この方法では、検出器
の読取用光導電層をX線光導電層に比べて薄くすること
で読取速度を速くして応答性を改善している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記米
国特許第 4535468号による方法では、読取用光導電層を
X線光導電層に比べ薄くしているので、外部に検出され
る信号電荷量が小さいという問題がある。さらに、電荷
蓄積層は、電子およびホールともに電荷移動度が小さい
ため、厚くすることができない。これは、電荷移動度を
大きくすると応答が遅くなったり、残像になるからであ
る。すなわち、この方法では、読出しの高速応答性と効
率的な信号電荷の取り出しの両立は困難である。
【0005】一方、本願出願人は、特願平10−232824号
や同10−271374号において、読出しの高速応答性と効率
的な信号電荷の取り出しを両立させることを可能ならし
める放射線固体検出器、並びに、この検出器に放射線画
像情報を記録する記録装置および放射線画像情報が静電
潜像として記録された前記検出器から放射線画像情報を
読み取る読取方法および装置を提案している。
【0006】この特願平10−232824号等に記載の方法
は、記録用の放射線またはこの放射線の励起により発せ
られる光の照射を受けることにより導電性を呈する記録
用光導電層、潜像電荷に対しては略絶縁体として作用
し、且つ潜像電荷と逆極性の輸送電荷に対しては略導電
体として作用する電荷輸送層、および読取用の電磁波の
照射を受けることにより導電性を呈する読取用光導電層
をこの順に有して成る放射線固体検出器を使用し、検出
器の記録用光導電層側に記録用の放射線を照射し、照射
された放射線の線量に応じた量の電荷を記録用光導電層
と電荷輸送層との略界面に形成される蓄電部に蓄積せし
めることにより、放射線画像情報を静電潜像として記録
し、記録された静電潜像を読み出して放射線画像情報を
得るものである。
【0007】本発明は、本願出願による上記特願平10−
232824号等において提案した検出器、並びに記録装置お
よび読取装置と同様に、読出しの高速応答性と効率的な
信号電荷の取り出しの両立を図ることを目的とするもの
であって、前記特願平10−232824号記載のものよりも一
層その性能を高めることを可能ならしめる放射線固体検
出器、この検出器に放射線画像情報を記録する方法およ
び装置、並びに放射線画像情報が記録された検出器から
放射線画像情報を読み取る方法および装置を提供するこ
とを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による放射線固体
検出器は、上記特願平10−232824号や同10−271374号に
記載されている検出器等をさらに改善するもの、すなわ
ち、照射された放射線の線量に応じた量の電荷を潜像電
荷として蓄積する蓄電部を有し、放射線画像情報を蓄電
部に静電潜像として記録する放射線固体検出器であっ
て、記録用の放射線または該放射線の励起により発せら
れる光に対して透過性を有する第1の電極層、記録用の
放射線または前記光の照射を受けることにより導電性を
呈する記録用光導電層、読取用の電磁波の照射を受ける
ことにより導電性を呈する読取用光導電層、読取用の電
磁波に対して透過性を有する第2の電極層を、この順に
有して成り、記録用光導電層と読取用光導電層との間に
形成される蓄電部に蓄積された潜像電荷の量に応じたレ
ベルの電気信号を出力させるための第1の導電部材が第
2の電極層内ないし第1の電極層と第2の電極層との間
に設けられていることを特徴とするものである。
【0009】第1の導電部材の形状は、どのような形状
であってもよいが、記録時における潜像形成(潜像電荷
の移動・蓄積)プロセス、或いは読取時における潜像電
荷と、該潜像電荷と逆極性の電荷すなわち輸送電荷との
電荷再結合プロセスに影響を与えない形状とするのが望
ましい。例えば、第1の導電部材を記録用光導電層内
や、記録用光電層の、読取用光導電層側の面に設ける場
合には、記録用光導電層内で発生した潜像電荷が蓄電部
まで移動するのに邪魔にならない形状であることが望ま
れる。また読取用光導電層内や、後述する電荷輸送層若
しくはトラップ層内に設ける場合には、読取用光導電層
内で発生した輸送電荷が蓄電部まで移動するのに邪魔に
ならない形状であることが望まれる。このためには、例
えば、丸や角等任意の形状の穴を画素に対応させて設け
たり、画素の並び方向に連続する長穴を設ける等すると
よい。
【0010】また、この第1の導電部材は、該導電部材
を記録用光導電層内に配設する場合には、記録用の放射
線または該放射線の励起により発せられる光に対して透
過性を有するものとし、放射線等が記録用光導電層内に
十分に入射することができるようにして、光導電層内に
おける電荷発生プロセスに影響を与えないようにするの
が望ましい。
【0011】なお、読取時の応答性を高めるために、蓄
電部を形成する層と読取用光導電層のとの厚さの合計は
記録用光導電層の厚さよりも薄ければ薄いほど好まし
い。
【0012】また、本発明による放射線固体検出器の、
第2の電極層をなす電極および/または第1の導電部材
は、多数の線状電極から成るストライプ電極であること
が望ましい。
【0013】「線状電極」とは、全体として細長い形状
の電極を意味し、細長い形状を有している限り、円柱状
のものや角柱状のもの等どのようなものであってもよい
が、特に、平板電極とするのが好ましい。また、上述の
ように潜像形成プロセスや電荷再結合プロセス等に影響
を与えないように、この線状電極に対して、さらに丸や
角等任意の形状の穴を画素に対応させて設けたり、長手
方向に延びた長穴を設ける等してもよい。
【0014】ここで、第2の電極層をなす電極および第
1の導電部材をストライプ電極とした場合には、第1の
導電部材の線状電極が、第2の電極層をなす電極の線状
電極に対して対向するように、または略直交するよう
に、配設するのが望ましい。
【0015】「対向するように配設する」とは、第1の
導電部材の線状電極が、所定の間隔を置いて第2の電極
層をなす電極の線状電極の略真上に位置し、且つ長手方
向には互いに向き合うように配設することを意味する。
「直交するように配設する」とは、第1の導電部材の線
状電極と第2の電極層をなす電極の線状電極とが略直角
に立体交差するように配設することを意味する。
【0016】なお、この場合において、さらに第1の導
電部材を記録用光導電層内、読取用光導電層内或いは電
荷輸送層内に配設する場合には、記録時の潜像形成プロ
セスや電荷再結合プロセスに影響を与えないように、第
1の導電部材の線状電極の幅を、第2の導電体層の線状
電極のピッチの5〜30%とするとよい。
【0017】また、夫々を線状電極とする場合におい
て、第1の導電部材の線状電極を第2の電極層内に配設
する場合には、第1の導電部材の線状電極を、第2の電
極層の線状電極の間に互いに平行するように配置すると
共に、読取用の電磁波に対して非透過性を有するものと
し、電磁波が読取用光導電層内に入射せず読取解像度を
劣化させないようにするのが望ましい。
【0018】また、本発明による放射線固体検出器は、
さらに、蓄電部に、潜像電荷を同電位化せしめる第2の
導電部材が、電気信号が表す画像の画素毎に、格別に、
設けられているものであることが好ましい。特に、記録
用光導電層の、読取用光導電層側の面(界面)に設けら
れているものとするとよい。
【0019】ここで画素毎に設けられているとは、潜像
電荷を同電位化させ、読出時に画素周辺部の電荷を画素
中央部に集中させることができるように、各画素に、好
ましくは1つの導電部材が設けられることを意味し、1
画素に対して多数の導電部材がランダムに配設され、読
出時に画素周辺部の電荷を画素中央部に集中させること
ができない態様のものは含まない。
【0020】「格別に」とは、各導電部材が、他の画素
との間では、離散した状態、つまり、接続されないフロ
ーティング状態で配設されることを意味する。なお、1
画素に対して複数の導電部材を設ける場合には、1画素
分の部材間を電気的に接続しておくのが好ましい。
【0021】この第2の導電部材のサイズは、画素ピッ
チと略同一に設定するのが好ましい。或いは、画素ピッ
チに対して小さく設定する、例えば1/2以下にすると
共に、画素中央部に配置することにより、潜像電荷を画
素中央部に集中させるようにしてもよい。導電部材のサ
イズとは、例えば、円形状の導電部材の場合には直径で
あり、方形状の導電部材の場合には各辺の長さである。
なお、導電部材の形状は、円形、方形等どのような形状
であってもよい。
【0022】なお、第2の電極層をなす電極および第1
の導電部材がストライプ電極であって、且つ、両電極を
なす線状電極が直交するように配設された検出器を使用
する場合には、両線状電極が交差する位置に電界が集中
するので、この両線状電極が交差する位置に対応して第
2の導電部材を配設することによって、電荷の集中効率
を高めるのが望ましい。なお、記録に際しては、該第2
の導電部材はオープンとしたままでよい。
【0023】また、本発明による放射線固体検出器は、
潜像電荷に対しては略絶縁体として作用し、かつ、該潜
像電荷と逆極性の輸送電荷に対しては略導電体として作
用する電荷輸送層を、記録用光導電層と読取用光導電層
との間に有し、該電荷輸送層が蓄電部を形成するもので
あってもよい。或いは、放射線固体検出器は、潜像電荷
を捕捉するトラップ層を、記録用光導電層と読取用光導
電層との間に有し、該トラップ層が蓄電部を形成するも
のであってもよい。
【0024】また、電荷輸送層若しくはトラップ層を有
するものとした場合には、読取用光電層とトラップ層と
の界面または読取用光電層と電荷輸送層との界面、或い
は電荷輸送層内またはトラップ層内に、第1の導電部材
を設けるようにしてもよい。さらに、読取用光電層と電
荷輸送層との界面または読取用光電層とトラップ層との
界面に第2の導電部材を設けるようにしてもよい。
【0025】本発明による放射線画像記録方法は、上記
の放射線固体検出器に放射線を照射して、該照射した放
射線の線量に応じた量の電荷を放射線固体検出器の蓄電
部に潜像電荷として蓄積せしめることにより、放射線画
像情報を蓄電部に静電潜像として記録する放射線画像記
録方法であって、放射線固体検出器の第1の電極層と第
2の電極層との間に印加される直流電圧によって両電極
層間に形成される電界分布を調整するための制御電圧を
第1の導電部材に印加することを特徴とするものであ
る。
【0026】「放射線固体検出器に放射線を照射する」
とは、被写体の放射線画像情報を担持する記録用の放射
線を検出器に直接または間接的に照射することを意味
し、記録用の放射線を直接的に検出器に照射することに
限らず、例えば放射線をシンチレータ(蛍光体)に照射
することにより、シンチレータ内で発せられる蛍光等、
記録用の放射線の励起により発せられる光を検出器に照
射することも含むものとする。
【0027】「制御電圧」とは、第1の導電部材が記録
時における潜像電荷の蓄積プロセスに所定の影響を与え
る大きさの電圧であって、例えば、第1の導電部材が設
けられていない場合において形成されるべき電界分布と
略同じになるような大きさのとすることができる。
【0028】また、積極的に、第2の導電層の電位へ近
づける、または遠ざける、或いは同じとすることで、潜
像電荷が形成される領域に変化を与えることができる。
これによって、信号の取出効率や信号の読出応答速度を
改善することが可能となる。
【0029】この制御電圧は直流電圧であってもよし、
交流電圧であってもよい。交流電圧は、正弦波電圧に限
定されるものではなく、前述のように信号の取出効率や
信号の読出応答速度を改善することができるものであれ
ばどのような波形であってもよい。
【0030】本発明による放射線画像読取方法は、放射
線画像情報が静電潜像として記録された上記放射線固体
検出器から放射線画像情報を読み取る放射線画像読取方
法であって、放射線固体検出器の蓄電部に蓄積された潜
像電荷に対応する電荷を第1の導電部材を介して読み出
すことにより、潜像電荷の量に応じたレベルの電気信号
を得ることを特徴とするものである。
【0031】「第1の導電部材を介して読み出す」と
は、少なくとも第1の導電部材を介して読み出すことを
意味し、この第1の導電部材と第2の電極層の電極との
間に流れる電流に加えて、第1の電極層の電極と第2の
電極層の電極との間に流れる電流をも検出するものであ
ってもよい。
【0032】なお、読取用の電磁波としては、連続的に
発せられる連続波であってもよいし、パルス状に発せら
れるパルス波であってもよいが、パルス波の方がより大
きな電流を検出することができ、潜像電荷量が少ない画
素であっても十分に大きな電流として検出することがで
きるようになるので、画像のS/Nを飛躍的に改善する
ことができ、有利である。
【0033】但し、パルス波を使用する場合には、第2
の電極層をなす電極および第1の導電部材がストライプ
電極であって、且つ、両電極をなす線状電極が直交する
ように配設された検出器を使用する場合には、上述のよ
うに、両線状電極が交差する位置に電界が集中し、潜像
電荷もこの位置に集中せしめられるので、少なくとも、
この交差する位置に対応する読取用光導電層に読取用の
電磁波を照射するのが好ましい。また、第2の導電部材
が設けられた検出器を使用する場合には、該第2の導電
部材に集中されて潜像電荷が蓄積されるので、少なくと
も、この第2の導電部材が設けられている位置に対応す
る読取用光導電層に読取用の電磁波を照射するのが好ま
しい。なお、この読取に際しては、第2の導電部材はオ
ープンとしたままでよい。
【0034】本発明による放射線画像記録装置は、上記
放射線画像記録方法を実現する装置であって、放射線固
体検出器の第1の電極層と第2の電極層との間に直流電
圧を印加する電圧印加手段と、該電圧印加手段により印
加される直流電圧によって両電極層間に形成される電界
分布を調整するための制御電圧を第1の導電部材に印加
する制御電圧印加手段とを備えたことを特徴とするもの
である。
【0035】本発明による放射線画像記録装置は、上記
放射線画像読取方法を実現する装置であって、放射線固
体検出器の蓄電部に蓄積された潜像電荷に対応する電荷
を第1の導電部材を介して読み出すことにより、潜像電
荷の量に応じたレベルの電気信号を得る画像信号取得手
段を備えたことを特徴とする。
【0036】なお、第2の電極層の電極と第1の導電部
材の電極とをストライプ電極とし、第1の導電部材の各
線状電極が第2の電極層の各線状電極に対して略直交す
るように配設された検出器を使用する場合には、読取光
の走査における各位置に対応する線状電極のみが第1の
電極層および第2の電極層の各線状電極に接続されるよ
うに切り換えて、信号読出しに寄与しない分布容量を小
さくするのが望ましい。
【0037】また、本発明を適用する基本となる検出器
は、記録用光導電層および読取用光導電層を挟むように
電極を積層して成る検出器であればどのようなものであ
ってもよいが、特に、本願出願人が、特願平10−232824
号や同10−271374号において提案した検出器(静電記録
体)に本発明を適用するのが好適である。
【0038】
【発明の効果】本発明による放射線固体検出器によれ
ば、潜像電荷の量に応じたレベルの電気信号を出力させ
るための第1の導電部材が第2の電極層内ないし第1の
電極層と第2の電極層との間に設けられたものとしたの
で、記録用光導電層と読取用光導電層との間に形成され
る蓄電部と第1の導電部材との間に新たなコンデンサを
形成させることができ、記録によって蓄電部に蓄積せし
められた潜像電荷と逆極性の輸送電荷を、読取りの際の
電荷再配列によって第1の導電部材にも帯電させること
が可能となり、読取用光導電層を介して第2の電極層の
電極と蓄電部との間で形成されるコンデンサに配分され
る前記輸送電荷の量を、この第1の導電部材を設けない
場合よりも相対的に少なくすることができ、検出器から
外部に取り出し得る信号電荷の量を多くして読取効率を
向上させることが可能となる。
【0039】本発明による放射線画像情報読取方法およ
び装置によれば、放射線画像情報が記録された本発明に
よる検出器から第1の導電部材を介して放射線画像情報
を表す信号電荷を読み出して、蓄電部に蓄積された潜像
電荷の量に応じたレベルの電気信号を得るようにしてい
る。したがって、より多くの電荷を検出器から読み出す
ことができるので、読取効率が大きくなり、より大きな
信号を得ることが可能となり、画像のS/Nを向上させ
ることができる。
【0040】また、第1の導電部材を設けても、記録用
光導電層や読取用光導電層の厚さには実質的に大きな影
響を与えることがないので、読出しの応答性に悪影響を
与えることがなく、例えば、特願平10−232824号や同10
−271374号において記載されているように、電荷輸送層
と読取用光導電層との厚さの合計を記録用光導電層の厚
さよりも薄くすることで、読取時の応答性を高めること
ができる。つまり、本発明によれば、読取時の高速応答
性を維持しつつ、従来の検出器を使用する場合よりも、
読取効率を一層向上させることができる。
【0041】また、本発明による放射線画像情報記録方
法および装置によれば、第1の電極層と第2の電極層と
の間に形成される電界分布を調整するための制御電圧を
第1の導電部材に印加するようにしたので、信号の取出
効率や信号の読出応答速度を改善することが可能とな
る。
【0042】また、潜像電荷を同電位化せしめる第2の
導電部材が、電気信号が表す画像の画素毎に、格別に、
蓄電部に設けられた検出器とすれば、該第2の導電部材
上に蓄積された、各画素毎の潜像電荷を全て同電位にす
ることが可能となり、導電部材がない場合に較べて、読
出効率を改善することができる。これは、導電部材の範
囲内では潜像電荷の電位が一定に保たれるため、一般に
読み出しにくい画素周辺部の潜像電荷を、導電部材内で
ある限り読出しの進行に応じて、導電部材中央部、すな
わち画素中央部に移動せしめることができ、潜像電荷を
より十分に放電させることができるからである。
【0043】また、画素を導電部材が配設された固定位
置に形成することが可能となり、ストラクチャーノイズ
の補正を行うことも容易となる。
【0044】さらに、導電部材のサイズを画素ピッチよ
り小さく設定すると共に、画素中央部に配置すれば、記
録時に形成される電界分布を該導電部材に引き寄せられ
た分布形状にすることができるから、潜像電荷を画素中
心部に集中させて蓄積させることも可能となり、画像の
鮮鋭度を向上させることもできる。
【0045】また、この第2の導電部材を設けると、電
荷輸送層やトラップ層がなくても潜像電荷を蓄積させる
ことができるので、素子形成が容易である。
【0046】なお、電荷輸送層やトラップ層が設けられ
た検出器に導電部材を設けた場合には、これら各層によ
る電荷蓄積効果を利用することもできる。すなわち、導
電部材のサイズを画素ピッチより小さく設定すると、こ
れら各層が設けられていない場合には、導電部材に捕捉
されない電荷は潜像電荷として蓄積され得ず、鮮鋭度の
向上には効果があるが蓄積電荷量が少なくなるという問
題を生じ得るのに対して、各層によって電荷を潜像電荷
として蓄積せしめることにより、蓄積電荷量を少なくす
ることなく、鮮鋭度の向上を図ることができる。
【0047】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。
【0048】図1は本発明による第1の実施の形態の放
射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図1(A)
は斜視図、図1(B)はQ矢指部のXZ断面図、図1
(C)はP矢指部のXY断面図である。この検出器10
は、上述した特願平10−232824号に記載されている図1
2の静電記録体に、さらに第1の導電部材としてのサブ
電極および第2の導電部材としてのマイクロプレートを
設けたものであって、記録用の放射線(例えば、X線
等。以下記録光という。)L1に対して透過性を有する第
1の電極層11、この電極層11を透過した記録光L1の
照射を受けることにより導電性を呈する記録用光導電層
12、潜像電荷と(例えば負電荷)に対しては略絶縁体
として作用し、かつ、該潜像電荷と逆極性の輸送電荷
(上述の例においては正電荷)に対しては略導電体とし
て作用する電荷輸送層13、読取用の電磁波(以下読取
光という)L2の照射を受けることにより導電性を呈する
読取用光導電層14、読取光L2に対して透過性を有する
第2の電極層15を、この順に積層してなるものであ
る。
【0049】記録用光導電層12の物質としては、アモ
ルファスセレン(a−Se)、PbO,PbI2 等の酸
化鉛(II)やヨウ化鉛(II)、Bi12(Ge,Si)O
20,Bi2I3/有機ポリマーナノコンポジット等のうち
少なくとも1つを主成分とする光導電性物質が適当であ
る。
【0050】電荷輸送層13の物質としては、例えば電
極層11に帯電される負電荷の移動度と、その逆極性と
なる正電荷の移動度の差が大きい程良く(例えば102
以上、望ましくは103 以上)ポリN−ビニルカルバゾ
ール(PVK)、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−
メチルフェニル)−〔1,1'−ビフェニル〕−4,4'−ジア
ミン(TPD)やディスコティック液晶等の有機系化合
物、或いはTPDのポリマー(ポリカーボネート、ポリ
スチレン、PUK)分散物,Clを10〜200ppm
ドープしたa−Se等の半導体物質が適当である。特
に、有機系化合物(PVK,TPD、ディスコティック
液晶等)は光不感性を有するため好ましく、また、誘電
率が一般に小さいため電荷輸送層13と読取用光導電層
14の容量が小さくなり読取時の信号取り出し効率を大
きくすることができる。なお、「光不感性を有する」と
は、記録光L1や読取光L2の照射を受けても殆ど導電性を
呈するものでないことを意味する。
【0051】読取用光導電層14の物質としては、a−
Se,Se−Te,Se−As−Te,無金属フタロシ
アニン,金属フタロシアニン,MgPc(Magnesium ph
talocyanine),VoPc(phaseII of Vanadyl phthal
ocyanine),CuPc(Cupper phtalocyanine)等のう
ち少なくとも1つを主成分とする光導電性物質が好適で
ある。
【0052】記録用光導電層12の厚さは、記録光L1を
十分に吸収できるようにするには、50μm以上100
0μm以下であるのが好ましく、本例においては約 500
μmとしている。また電荷輸送層13と光導電層14と
の厚さの合計は記録用光導電層12の厚さの1/2以下
であることが望ましく、また薄ければ薄いほど読取時の
応答性が向上するので、例えば1/10以下、さらには1
/20以下等にするのが好ましい。
【0053】電極層11および15としては、例えば、
透明ガラス板上に導電性物質を塗布したネサ皮膜等が適
当である。
【0054】第2の電極層15の電極は、多数のエレメ
ント(線状電極)16aをストライプ状に配列したスト
ライプ電極16として形成されている。エレメント16
aの間15aは、例えば、カーボンブラック等の顔料を
若干量分散させたポリエチレン等の高分子材料を充填し
たものとし、読取光L2に対して遮光性を有するものとさ
れている。
【0055】記録用光導電層12と電荷輸送層13との
界面、すなわち蓄電部19には、多数の離散した方形の
マイクロプレート18が、隣接したマイクロプレート1
8間に間隔を置いて、ストライプ電極16の各エレメン
ト16aの真上に配設されている。このマイクロプレー
ト18の各辺の長さは、エレメント16aの配列ピッチ
と略同一、つまり解像可能な最小の画素ピッチと略同一
の寸法に設定されている。マイクロプレート18の配設
される位置が検出器上の画素位置となる。
【0056】マイクロプレート18は、例えば、真空蒸
着または化学的堆積を用いて誘電層上に堆積され、金、
銀、アルミニウム、銅、クロム、チタン、白金等の単一
金属や酸化インジウム等の合金で、極めて薄い膜から作
ることができる。該マイクロプレート18は、連続層と
して堆積させることができ、連続層は次にエッチングさ
れて、解像可能な最小の画素と同一の範囲の寸法を持つ
複数の個々の離散マイクロプレートとして形成される。
この離散マイクロプレートはレーザーアプレーションま
たはホトエッチング等光微細加工技術を利用して作るこ
ともできる(”Imaging Procesing &Materials”Ch
apter 18の”Imaging for Microfabrication”(J.M.Sh
aw,IBM Watson Research Center)参照)。
【0057】記録用光導電層12内の電荷輸送層13に
近接した位置に、多数のエレメント17aをストライプ
状に配列したサブ電極17が設けられている。このサブ
電極17は、記録用光導電層12と電荷輸送層13との
略界面に形成される蓄電部19に蓄積された潜像電荷の
量に応じたレベルの電気信号を出力させるための導電部
材である。サブ電極17の各エレメント17aは、スト
ライプ電極16の各エレメント16aの真上に位置し、
互いに向き合うように配設されている。サブ電極17
は、導電性を有するものであればよく、金、銀、クロ
ム、白金等の単一金属や、酸化インジウム等の合金から
作ることができる。
【0058】サブ電極17と電荷輸送層13との間の距
離dは、記録用光導電層12の厚さにもよるが、本例の
ように記録用光導電層12の厚さが約 500μmの場合に
は、距離d=1μm〜100μm(1/500 〜1/5)
とする。
【0059】図2(A)〜(D)は、サブ電極17の各
エレメント17aの形状の一例と、該エレメント17
a、マイクロプレート18およびエレメント16aとの
配置関係を示す概略図である。
【0060】図2(A)に示すエレメント17aは、細
長い平板電極であり、穴は一切設けられていない。エレ
メント17aの幅は、エレメント16aの幅よりも狭
く、エレメント16aのピッチの5〜30%内となるよ
うに設定されている。これにより、記録用光導電層内で
発生した潜像電荷が蓄電部に移動する際には、エレメン
ト17aの横を通り易くしている。
【0061】図2(B)に示すエレメント17aは、細
長い平板電極であって、多数の丸穴が長手方向の画素に
対応する位置に配置されるように設けられた穴あき平板
電極である。エレメント17aの幅はエレメント16a
の幅と略同じである。記録用光導電層内で発生した潜像
電荷は、この丸穴を通って蓄電部19に設けられたマイ
クロプレート18に到達することができる。
【0062】図2(C)に示すエレメント17aは、細
長い平板電極であって、多数の角穴が長手方向の画素に
対応する位置に配置されるように設けられた穴あき平板
電極である。エレメント17aの幅はエレメント16a
の幅と略同じである。記録用光導電層内で発生した潜像
電荷は、この角穴を通ってマイクロプレート18に到達
することができる。
【0063】図2(D)に示すエレメント17aは、細
長い平板電極であって、長手方向に延びた1つの長穴が
設けられ、長手方向の両端部が結合された長穴あき平板
電極である。エレメント17aの幅はエレメント16a
の幅と略同じである。記録用光導電層内で発生した潜像
電荷は、この長穴を通ってマイクロプレート18に到達
することができる。
【0064】このように、エレメント17aをエレメン
ト16aの幅よりも狭くしたり、エレメント17aの長
手方向に所定形状の穴を設けることにより、潜像電荷の
移動の妨げとならず、潜像形成プロセスに影響を与えな
いようにすることができる。
【0065】図3は、放射線画像情報記録装置と放射線
画像情報読取装置を一体にした、検出器10を用いた記
録読取装置1の概略構成図を示すものであり、図3
(A)は検出器10の斜視図と共に示した図、図3
(B)は検出器10のXZ断面図と共に電流検出回路7
0の詳細を示した図である。
【0066】この記録読取装置1は、検出器10、画像
信号取得手段としての電流検出回路70、記録光照射手
段90、読取光照射手段93とからなる。
【0067】電極層11の上面には被写体9が配設され
ており、被写体9は記録光LIに対して透過性を有する部
分9aと透過性を有しない遮断部(遮光部)9bが存在
する。記録光照射手段90は記録光L1を被写体9に一様
に爆射するものである。
【0068】読取光照射手段93は、ライン状に略一様
な読取光L2をストライプ電極16の各エレメント16a
と概略直交させつつ、エレメント16aの長手方向(図
中の矢印方向)に走査露光するものである。なお、この
読取光L2による走査露光は副走査に対応する。この走査
露光においては、連続光を照射してもよいし、パルス光
を照射するようにしてもよい。
【0069】電流検出回路70は、蓄電部19に蓄積さ
れた潜像電荷に対応する電荷をサブ電極17を介して読
み出すことにより、潜像電荷の量に応じたレベルの画像
信号を得るものであり、ストライプ電極16の各エレメ
ント16a毎に接続された電流検出アンプ71を多数有
している。電流検出アンプ71は、各エレメント17a
を介して、潜像電荷の量に応じた量の電荷を電流として
検出するものであり、オペアンプ71a,積分コンデン
サ71bおよびスイッチ71cから成る。検出器10の
電極層11はスイッチ74、75の夫々一方の入力74
a,75a、および電源72の負極に接続されている。
電源72の正極は、電源73の負極およびスイッチ75
の他方の入力75bに接続されている。電源73の正極
は、スイッチ74の他方の入力74bに接続されてい
る。各オペアンプ71aの非反転入力端子(+)がスイ
ッチ74の出力に共通に接続され、反転入力端子(−)
がエレメント16aに夫々個別に接続されている。スイ
ッチ75の出力はサブ電極17の各エレメント17aに
共通に接続されている。
【0070】スイッチ74,75は、記録時には共にb
側に接続され、オペアンプのイマジナリーショートを介
して、電極層11とストライプ電極16との間に、電源
72,73による所定の印加電圧が印加される。電源7
3は制御電圧印加手段としても機能するもので、記録時
には、この電源73からサブ電極17に制御電圧として
の直流電圧が印加される。この印加電圧の大きさは、電
極層11とストライプ電極16との間で形成される電界
分布、特に記録用光導電層12内の電位勾配が、サブ電
極17が設けられていない場合において形成されるべき
分布と略同じになるような大きさの電圧に設定し、蓄電
部19に潜像電荷を安定して蓄積させることができるよ
うにする。なお、サブ電極17に制御電圧を印加するこ
となく、オープン状態としたまま記録を行うようにして
もよい。さらには、積極的に、サブ電極17に、第2導
電層、すなわちストライプ電極16の電位へ近づける、
または遠ざけることで、所定の電界を形成するように電
圧を設定してもよい。
【0071】一方、読取時には、スイッチ74,75が
共にa側に接続され、ライン状の読取光がストライプ電
極16側に露光されることにより、各電流検出アンプ7
1は、各エレメント16aに流れる電流を、接続された
各エレメント16aについて同時(並列的)に検出す
る。なお、電流検出回路70や電流検出アンプ71の構
成は、この例に限定されるものではなく、種々のものを
使用することができる(例えば、特願平10−232824号や
同10−271374号参照)。
【0072】なお、本例においては、記録時に、電源7
3からサブ電極17に直流電圧が印加されるように構成
しているが、サブ電極17用の専用電源を、電極層11
とストライプ電極16との間に直流電圧を印加する電源
とは別個に設け、記録時の電界分布をより好ましい状態
に調整するため、所望の波形の制御電圧を印加するよう
にしてもよい。
【0073】以下、上記構成の記録読取装置1におい
て、検出器10に画像情報を静電潜像として記録し、さ
らに記録された静電潜像を読み出す方法について説明す
る。最初に静電潜像記録過程について、図4に示す電荷
モデルを参照しつつ説明する。なお、記録光L1によって
光導電層12内に生成される負電荷(−)および正電荷
(+)を、図面上では−または+を○で囲んで表すもの
とする。また、サブ電極17のエレメント17aは省略
して示す。
【0074】上記構成の装置1において、検出器10に
静電潜像を記録する際には、先ずスイッチ74,75を
共にb側に切り換え、電極層11とストライプ電極16
との間に直流電圧を印加し、両者を帯電させる。このと
き、サブ電極17には、上述したように、蓄電部19に
潜像電荷を安定して蓄積させるための制御電圧が印加さ
れる。これにより、電極層11とストライプ電極16と
の間には略Uの字状の電界が形成され、光導電層12の
大部分の所は概略平行な電場が存在するが、光導電層1
2と電荷輸送層13との界面、すなわち蓄電部19には
電界が存在しない部分が生じる。そして、このUの字が
エレメント16aの長さ方向に連続した電界分布が形成
される(図4(A))。
【0075】次に放射線を被写体9に爆射し、被写体9
の透過部9aを通過した被写体9の放射線画像情報を担
持する記録光L1を検出器10に照射する。すると、検出
器10の記録用光導電層12内で正負の電荷対が発生
し、その内の負電荷が上述の電界分布に沿って蓄電部1
9に移動する(図4(B))。このとき、サブ電極17
には、光導電層12内の電位勾配を乱さないように所定
の直流電圧が電源75から印加されているので、負電荷
は、サブ電極17に捕捉されることなく、サブ電極17
の各エレメント17aの横或いは穴を通過して蓄電部1
9に移動する。つまり、光導電層12内で発生した電荷
に対しては、サブ電極17が、実質的には、設けられて
いないのと同じ状態となる。
【0076】蓄電部19には、マイクロプレート18が
配設されており、光導電層12中を移動してきた負電荷
はマイクロプレート18に捕捉されて停止し、この蓄電
部19において、マイクロプレート18上に負電荷が潜
像電荷として蓄積される(図4(C))。
【0077】一方、記録用光導電層12内で発生した正
電荷は電極層11に向かって高速に移動し、電極層11
と光導電層12との界面で電源72,73から注入され
た負電荷と電荷再結合し消滅する。また、記録光L1は被
写体9の遮光部9bを透過しないから、検出器10の遮
光部9bの下部にあたる部分は何ら変化を生じない(図
4(B),(C))。
【0078】このようにして、被写体9に記録光L1を爆
射することにより、被写体像に応じた電荷を光導電層1
2と電荷転送層13との界面である蓄電部19に蓄積す
ることができるようになる。この蓄積される潜像電荷
(負電荷)の量は被写体9を透過し検出器10に入射し
た放射線の線量に略比例するので、この潜像電荷が静電
潜像を担持することとなり、該静電潜像が検出器10に
記録される。なお、マイクロプレート18上に潜像電荷
が蓄積されるので、主走査および副走査の両方について
潜像電荷の蓄積位置を固定することができ、両走査方向
について、固定位置に画素が形成されるようになる。
【0079】次に静電潜像読取過程について、図5に示
す電荷モデルを参照しつつ説明する。なお、記録過程と
同様に、読取光L2によって読取用光導電層14内に生成
される負電荷(−)および正電荷(+)を、図面上では
−または+を○で囲んで表すものとする。
【0080】検出器10から静電潜像を読み取る際に
は、先ずスイッチ74,75を共にa側にして、上記説
明のようにして静電潜像が記録された検出器10の電極
層11とサブ電極17を接続し、またオペアンプ71a
のイマジナリショートを介してストライプ電極16とも
接続して、これらを同電位に帯電させて電荷の再配列を
行う(図5(A))。次いで、エレメント16aの長手
方向に読取光照射手段93を移動させる、すなわち副走
査することにより、ライン状の読取光L2で検出器10の
全面を走査露光する。この読取光L2の走査露光により副
走査位置に対応する読取光L2が入射した光導電層14内
に正負の電荷対が発生する(図5(B))。なお、暗電
流成分の影響を相対的に低減するために、読取光L2をパ
ルス状に照射する場合には、マイクロプレート18のあ
る位置で、読取光L2が照射されるように走査の同期をと
るのが好ましい。
【0081】蓄電部19とストライプ電極16との間
は、その薄さ(厚さ)に応じて蓄積電荷(負電荷)によ
り非常に強い電場(強電界)が形成されている。また、
電荷輸送層13は正電荷に対しては導電体として作用す
るものであるから、光導電層14に生じた正電荷は蓄積
部19の潜像電荷に引きつけられるように電荷輸送層1
3の中を急速に移動し、蓄電部19で潜像電荷と電荷再
結合をし消滅する(図5(C))。一方、光導電層14
に生じた負電荷は電極層11、ストライプ電極16およ
びサブ電極17の正電荷と電荷再結合し消滅する(図5
(C))。
【0082】光導電層14は読取光L2により十分な光量
でもって走査露光されており、記録によって検出器10
の蓄電部19に蓄積された潜像電荷が全て電荷再結合に
より消滅し、完全に放電される。このように、検出器1
0内の蓄電部19に蓄積されていた潜像電荷が消滅する
ということは、検出器10内に電荷の移動による放電電
流が流れたことを意味するものであり、ストライプ電極
16と蓄電部19との間が短絡されたものとみなすこと
ができる。この状態は、蓄積電荷量に依存する検出器1
0内を流れる放電電流に比例した電流源79を用いて、
図6のような等価回路でもって示すことができる。この
読取りの際に検出器10内を流れる電流は、潜像電荷す
なわち静電潜像に応じたものであるから、この電流を電
流検出アンプ71により検出することにより、静電潜像
を読み取る、すなわち静電潜像を表す画像信号を取得す
ることができる。
【0083】なお、蓄電部19とストライプ電極16と
の間は、非常に強い電場が形成されていることから、極
めて高速に潜像電荷を消滅させることができ、このこと
は静電潜像の読取りの応答性が極めて高速であることを
意味する。また、読取用光導電層14と電荷輸送層13
との厚さの和が記録用光導電層12の厚さに較べて薄け
れば薄いほど読取時には強電界が形成され、電荷の移動
も急速に行われるようになるので、読取りをより高速に
行うことができる。
【0084】ここで、蓄電部19にはマイクロプレート
18が設けられているので、読取過程(電荷再結合過
程、放電過程)においては、マイクロプレート18外周
部の潜像電荷を、マイクロプレート18の中心部に引き
寄せることが可能となり、潜像電荷をより十分に放電さ
せることができ、読残しが少なくなる。図7は、読取過
程において、マイクロプレート18を設けた場合の効果
を説明する図であって、図7(A),(B)はマイクロ
プレート18が設けられていない場合の図、図7
(C),(D)はマイクロプレート18が設けられてい
る場合の図である。
【0085】図7に示すように、読取光L2、エレメント
16aを通して読取用光導電層14内に入射し、読取用
光導電層14内で、正負の電荷対を発生せしめる。発生
した電荷のうちの正電荷と蓄電部19の潜像電荷との電
荷再結合に際しては、エレメント16aに対向する近接
した位置の電荷から順次結合される。つまり、読取り始
めには、画素中央部の負電荷が電荷再結合により消滅
し、順次外側の電荷との間で再結合が行われるようにな
る(図7(A))。マイクロプレート18が設けられて
いない場合には、蓄電部19の潜像電荷が同電位化され
るということがなく、潜像電荷は蓄積された位置に留ま
ったままである。このため、読取りの経過と共に、次第
にエレメント16aから遠い位置の電荷を読取りにくく
なり、場合によっては、最終過程において読残しが生じ
得る(図7(B))。
【0086】一方、マイクロプレート18が設けられて
いる場合にも、読取り始めには、画素中央部の負電荷が
電荷再結合により消滅し、順次外側の電荷との間で再結
合が行われるが(図7(C))、マイクロプレート18
上に蓄積されている電荷は、常に同電位に保持すること
が可能となる。したがって、読取りの経過と共に、潜像
電荷が漸次マイクロプレート18の中央部、すなわちに
画素中央部に移動し得るので、最終過程においても、最
も放電効率のよいマイクロプレート18と第2導電層1
5すなわちストライプ電極16との最近接領域である画
素中央部において、潜像電荷との間で電荷再結合させ、
容易に放電を続けることができ、読残しが生じない(図
7(D))。
【0087】上記説明による静電潜像記録過程と静電潜
像読取過程について、図8に示すコンデンサモデルを用
いて、さらに詳しく説明する。この図8は、被写体9の
透過部9aと遮光部9bとに分けて、コンデンサモデル
による電気的等価回路図として両過程を表したものであ
る。記録用光導電層12を挟んで電極層11と蓄電部1
9との間にコンデンサC*aが形成され、電荷輸送層13
および読取用光導電層14を挟んで蓄電部19とストラ
イプ電極16(エレメント16a)との間にコンデンサ
C*bが形成され、記録用光導電層12の一部を挟んでサ
ブ電極17(エレメント17a)と蓄電部19との間に
コンデンサC*cが形成される。
【0088】コンデンサC*aの両端には記録光L1によっ
て導電性を呈する記録用光導電層12に対応する不図示
の光スイッチSW*aが形成され、コンデンサC*bの両端に
は読取光L2によって導電性を呈する読取用光導電層14
に対応する不図示の光スイッチSW*bが形成される。
【0089】記録過程においては、最初に、検出器10
に、電源72,73から直流電圧が印加されるから、分
布コンデンサC*a,C*b,C*cは帯電せしめられる(図
8(A))。
【0090】透過部9aは記録光L1の照射により、光ス
イッチSW*aがオンし、光量に応じた抵抗R*aを介してコ
ンデンサC*bのみが充電せしめられる(図8(B))。
これが静電潜像記録過程であり、コンデンサC*bに潜像
電荷として静電潜像が記録されたことになる。潜像電荷
の量は記録光L1の光量に応じたものとなる。
【0091】次に電源72,73を取り外した後、コン
デンサC*aとの電極層11側およびコンデンサC*cのサ
ブ電極17側と、コンデンサC*bのストライプ電極16
側とをそれぞれ接続して電荷再配列を行う(図8
(C))。各コンデンサに配分される、潜像電荷と逆極
性の正電荷の量は、総計が潜像電荷の量と同じになり、
また、各コンデンサの容量に比例した量となる。この
後、読取光L2を露光することにより、光スイッチSW*bが
オンし光量に応じた抵抗R*bを介して各コンデンサ
C*a,C*b,C*cに帯電している電荷が放電される(図
8(D))。図6に示した等価回路は、このときに検出
器10の外部に放電される電荷による放電電流を検出す
るものとして表したものである。
【0092】一方、遮光部9bは記録光L1が光スイッチ
SW*aをオンさせることがなく、何れのコンデンサC*a,
C*b,C*cにも変化を与えない(図8(E))。このた
め、読取時に、各コンデンサC*a,C*b,C*cを接続す
ると、全コンデンサC*a,C*b,C*cがともに放電状態
となる(図8(F))。したがって、このような状態で
読取光L2を露光しても何れのコンデンサC*a,C*b,C
*cからも、電荷が放電されることがない(図8
(G))。
【0093】次に、各コンデンサC*a,C*b,C*cに帯
電している電荷が放電される際に流れる電流の大きさに
ついて説明する。先ず、説明を簡単にするため、サブ電
極17が設けられていない、コンデンサC*a,C*bから
成る場合について、図9(A)に示すコンデンサモデル
を参照して説明する。上述のように、電荷再配列の際
に、各コンデンサC*a,C*bに配分される正電荷の量Q
+a,Q+bは、総計Q+ が潜像電荷の量Q- と同じで、各
コンデンサの容量Ca ,Cb に比例した量となる。読取
用光導電層14と電荷輸送層13との厚さの和が記録用
光導電層12の厚さに較べて薄いので、各層の誘電率に
大きな違いがないとすれば、コンデンサC*bの容量Cb
の方がコンデンサC*aの容量Ca よりも大きくなる。し
たがって、コンデンサC*bのストライプ電極16側に誘
起される正電荷の量Q+bの方が、コンデンサC*aの電極
層11側に誘起される正電荷の量Q+aよりも多くなる。
以上の説明を式で示すと下記のように表すことができ
る。
【0094】Q- =Q+ =Q+a+Q+b Q+a=Q+ ×Ca /(Ca +Cb ) Q+b=Q+ ×Cb /(Ca +Cb ) 各コンデンサC*a,C*bに帯電している電荷が放電され
る際に流れる電流の大きさは、Q+a,Q+bに比例した大
きさとなるから、コンデンサC*bから流れ出す電流Ib
の方が、コンデンサC*aから流れ出す電流Ia よりも大
きい。
【0095】ここで、蓄電部19には信号取出し用の電
極が直接には設けられていないので、コンデンサC*bか
ら流れ出す電流Ib は読取時に光スイッチSW*bがオンし
たときに生じる抵抗R*bを介して検出器10内で流れる
内部電流となり、電流Ib を蓄電部19とストライプ電
極17との間で検出することができず、透過部9aにお
いてコンデンサC*bに配分された正電荷を検出器10か
ら外部に信号電荷として取り出すことができない。つま
り、検出器10内の蓄電部19に蓄積された潜像電荷
(負電荷)に対応して電荷再配列された正電荷の量Q+
のうち、外部に取り出すことのできる電荷量、すなわち
放射線画像情報を表す信号電荷量Qは、コンデンサC*a
に配分された正電荷の量Q+aと同じくなり、検出器10
から外部に流れ出る電流IはコンデンサC*aから流れ出
る電流Ia と同じになる。
【0096】換言すれば、読取光L2によって読取用光導
電層14内で発せられた正電荷は、蓄電部19の潜像電
荷と電荷再結合して消滅し、一方、読取用光導電層14
内で発せられた負電荷のうちエレメント16aに再配列
された正電荷の量の分Q+bがエレメント16aで電荷再
結合して消滅するが、このときの電流は専ら検出器10
の内部電流となる。そして、残りのQ+aと同じ量の負電
荷がエレメント16aに誘起され、この負電荷と電極層
11の正電荷との間での電荷再結合時に流れる電流が、
検出器10から外部に流れ出る電流Iとして取り出され
るものとなる。
【0097】上述したように、読取速度の応答性を向上
させるために、一般に読取用光導電層14と電荷輸送層
13との厚さの和が記録用光導電層12の厚さに較べて
薄く設定され、コンデンサC*bの容量Cb の方がコンデ
ンサC*aの容量Ca よりも大きくなるから、記録された
潜像電荷の量Q- に対して、信号電荷として取り出せる
電荷量Qは小さくなり、その分信号電流I(=Ia )も
小さくなり、読取効率が小さくなる。
【0098】一方、本発明による放射線固体検出器10
においては、サブ電極17を設けたことによって、コン
デンサC*cがさらに形成される。以下、図9(B)に示
すコンデンサモデルを参照して説明する。上述のよう
に、電荷再配列の際に、各コンデンサC*a,C*b,C*c
に配分される正電荷の量Q+a,Q+b,Q+cは、総計Q+
が潜像電荷の量Q- と同じで、各コンデンサの容量
Ca ,Cb ,Cc に比例した量となる。これを式で示す
と下記のように表すことができる。
【0099】Q- =Q+ =Q+a+Q+b+Q+c Q+a=Q+ ×Ca /(Ca +Cb +Cc ) Q+b=Q+ ×Cb /(Ca +Cb +Cc ) Q+c=Q+ ×Cc /(Ca +Cb +Cc ) ところで、各コンデンサC*a,C*b,C*cの容量につい
て考えてみると、サブ電極17が記録用光導電層12内
の、記録用光導電層12と電荷輸送層13との界面であ
る蓄電部19から距離dだけ離れた位置に設けられ、一
方電極層11が距離dよりもはるかに遠距離の位置に設
けられているので、記録用光導電層12を介してサブ電
極17と蓄電部19との間で形成されるコンデンサC*c
の容量Cc は、記録用光導電層12を介して電極層11
と蓄電部19との間で形成されるコンデンサC*aの容量
Ca よりも十分大きくなる。一方で、上述のようにサブ
電極17を設けても、読取用光導電層14および電荷輸
送層13を介してストライプ電極16と蓄電部19との
間で形成されるコンデンサC*bの容量Cc には、実質的
に大きな影響は現れない。これにより、電荷再配列の際
に、コンデンサC*bに配分される正電荷の量Q+bをサブ
電極17を設けない場合よりも相対的に少なくすること
ができる。また、電極層11からの距離dの値を適当に
設定することによって、コンデンサC*cの容量Cc を、
コンデンサC*bの容量Cb よりも大きくすることがで
き、コンデンサC*bに配分される正電荷の量Q+bを一層
少なくすることができる。
【0100】サブ電極17が設けられていない場合と同
様に、コンデンサC*bに配分された正電荷を検出器10
から外部に信号電荷として取り出すことはできないか
ら、外部に取り出すことのできる信号電荷量Qは、コン
デンサC*a,C*cに配分された正電荷の量Q+a,Q+cの
合計(Q+a+Q+c)と同じくなり、検出器10から外部
に流れ出る電流IはコンデンサC*aから流れ出る電流I
a とコンデンサC*cから流れ出る電流Ic との合計(I
a +Ic )と同じになる。上述のように、コンデンサC
*bに配分される正電荷の量Q+bを、サブ電極17を設け
ない場合よりも相対的に少なくすることができるから、
検出器10から外部に流れ出る電流I(=Ia +Ic )
を、サブ電極17を設けない場合よりも相対的に大きく
することができる。
【0101】この結果、記録用光導電層12に対して薄
い電荷輸送層13と読取用光導電層14を用いているに
も拘わらず、サブ電極17を設けることによって、検出
器10から外部に出力される信号電荷の量Qや信号電流
Iを大きくする、つまり読取効率を大きくすることがで
き、再生画像のS/N向上を図ることができる。
【0102】なお、コンデンサC*cの容量Cc はコンデ
ンサC*aの容量Ca よりも十分大きくすることができる
ので、コンデンサC*cに配分される量Q+cの方がコンデ
ンサC*aに配分される量Q+aよりも十分大きくすること
ができ、コンデンサC*cから流れ出る電流Ic の方がコ
ンデンサC*aから流れ出る電流Ia よりも大きくするこ
とができる。したがって、サブ電極17を介してコンデ
ンサC*cから流れ出る電流Ic のみを検出しても、十分
な大きさの画像信号を取り出すことが期待できる。
【0103】電流検出回路70においては、検出器10
から流れ出す電流Iを各エレメント16a毎に同時に検
出する。すなわち、電流Iによって、エレメント16a
の夫々に接続された各電流検出アンプ71の積分コンデ
ンサ71bが充電され、流れる電流量に応じて積分コン
デンサ71bに電荷が蓄積され、積分コンデンサ71b
の両端の電圧が変化する。この電圧の変化は、検出器1
0に蓄積されていた各画素毎の潜像電荷の量Q- に比例
する。したがって、走査露光中の画素と画素の間にスイ
ッチ71cをオンして積分コンデンサ71bに蓄積され
た電荷を放電させることにより、積分コンデンサ71b
の両端には次々と画素毎の潜像電荷に対応して電圧の変
化が観測されることとなり、この電圧の変化を検出する
ことによって静電潜像を表す画像信号を得る、つまり放
射線画像情報を読み取ることができる。
【0104】なお、サブ電極17の各エレメント17a
を、ストライプ電極16の各エレメント16aの真上に
位置し、互いに向き合うように配設した場合には、スト
ライプ電極16の各エレメント16a毎に同時に画像信
号を読み出す都合から、全エレメント17aについて、
同時に電荷の再配列を行う。この場合、読取光L2の副走
査における読出画素位置以外の部分でも、エレメント1
6aとエレメント17aとが対向するので、信号読出し
に寄与しない分布容量が大きくなり、固定ノイズ的には
不利である。しかしながら、エレメント17aを切り換
えないので、スイッチングノイズが生じることはない。
【0105】図10は、本発明による第2の実施の形態
の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図10
(A)は斜視図、図10(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図10(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図10においては、図1に示す第1の実施の形態に
よる検出器10の要素と同等の要素には同番号を付し、
それらについての説明は特に必要のない限り省略する。
この第2の実施の形態による検出器10aは、サブ電極
17の各エレメント17aが、ストライプ電極16の各
エレメント16aに対して略直交するように配設されて
成るものである。
【0106】マイクロプレート18は、エレメント16
aとエレメント17aとが交差する位置に対応して配設
されている。なお、読取光L2としてパルス光を照射する
場合には、少なくとも、マイクロプレート18が配設さ
れている位置に対応する読取用光導電層14にパルス光
が照射されるようにする。
【0107】このように、エレメント17aをエレメン
ト16aに対して略直交するように配設した場合には、
読出しに先立ち、全てのエレメント17aを電流検出ア
ンプ71の非反転入力端子および電極層11の電極と接
続し、電荷再配列を行う。その後、読取光L2の副走査に
おける各位置に対応するエレメント17a、つまり読出
ラインのエレメント17aのみ、或いは読出ラインとそ
の周辺ラインのエレメント17aがアンプ71の非反転
入力端子および電極層11の電極に接続されるように
し、その他のエレメント17aについてはオープンとし
ておくのが好ましい。そうすれば、固定ノイズ的には非
常に有利である。
【0108】なお、読出し中、全てのエレメント17a
を接続したままであっても、両エレメント16a,17
aが互いに向き合うように配設した場合よりも、分布容
量が小さくなる。この場合、エレメント17aのライン
切換手段が不要となり、コストが安くなる。
【0109】図11は、本発明による第3の実施の形態
の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図11
(A)は斜視図、図11(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図11(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図11においても、図1に示す第1の実施の形態に
よる検出器10の要素と同等の要素には同番号を付し、
それらについての説明は特に必要のない限り省略する。
この第3の実施の形態による検出器10bは、上記検出
器10のマイクロプレート18を取り除いた構成のもの
である。
【0110】このように、マイクロプレート18が設け
られていない場合には、記録光L1の光量が少ないときに
は、負電荷はエレメント16aの中心に引き寄せられて
各エレメント16a毎に潜像電荷が分離されるようにな
り、また、潜像電荷は各エレメント16aの並びに合わ
せて蓄積せしめられるから、エレメント16aのピッチ
を狭くすることにより、少なくともエレメント16aの
並び方向については、潜像電荷の蓄積位置を固定するこ
とができる。
【0111】なお、マイクロプレート18の有無に拘わ
らず、電荷輸送層13と読取用光導電層14とを合わせ
た厚さが記録用光導電層12の厚さに較べて薄いほど、
また、エレメント16aの幅とピッチとの比が小さいほ
ど(75%以下であれば良好である)、さらに電荷輸送層
13と読取用光導電層14の厚みの和がストライプ電極
16のピッチと略同等若しくはそれ以下であるほど、電
界の存在しない部分が明確に形成される。さらに、電荷
輸送層13における負電荷の移動度を正電荷の移動度よ
り十分小さくすれば(例えば1/103 以下)、潜像電
荷の蓄積性が向上し、静電潜像の保存性を向上させるこ
とができる。
【0112】図12は、本発明による第4の実施の形態
の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図12
(A)は斜視図、図12(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図12(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図12においても、図1に示す第1の実施の形態に
よる検出器10の要素と同等の要素には同番号を付し、
それらについての説明は特に必要のない限り省略する。
この第4の実施の形態による検出器10cは、上記検出
器10aと検出器10bとを組み合わせたものであっ
て、サブ電極17の各エレメント17aが、ストライプ
電極16の各エレメント16aに対して略直交するよう
に配設されて成ると共に、マイクロプレート18を取り
除いた構成のものである。この検出器10cを使用した
場合の作用についての詳細な説明は省略するが、上述し
た検出器10の作用を基本とし、更に検出器10aと検
出器10bとを組み合わせた作用をなす。
【0113】なお、読取光L2としてパルス光を照射する
場合には、両エレメント16a,17aが交差する位置
に対応する読取用光導電層14にパルス光が照射される
ようにする。
【0114】図13は、本発明による第5の実施の形態
の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図13
(A)は斜視図、図13(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図13(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図13においても、図1に示す第1の実施の形態に
よる検出器10の要素と同等の要素には同番号を付し、
それらについての説明は特に必要のない限り省略する。
この第5の実施の形態による検出器10dは、上記検出
器10aの電荷輸送層13を取り除いた構成のものであ
る。電荷輸送層13がない分だけ、検出器10d全体の
厚さを薄くすることができる。
【0115】上述したように、マイクロプレート18が
設けられている場合には、記録過程においては、記録用
光導電層13内で発生した負電荷が、マイクロプレート
18上に蓄積性せしめられる。したがって、潜像電荷に
対して絶縁性を有する電荷輸送層13を設けなくても、
マイクロプレート18のみで潜像電荷を蓄積することが
可能となる。なお、マイクロプレート18上に蓄積させ
られなかった負電荷は、読取用光導電層14を通過して
ストライプ電極16に帯電している正電荷と結合して消
滅する。また、読取過程においては、マイクロプレート
18周辺部の潜像電荷を、マイクロプレート18の中心
部に引き寄せて潜像電荷を十分に放電させて、読み残し
を少なくすることもできる。
【0116】図14は、本発明による第6の実施の形態
の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図14
(A)は斜視図、図14(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図14(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図14においても、図1に示す第1の実施の形態に
よる検出器10の要素と同等の要素には同番号を付し、
それらについての説明は特に必要のない限り省略する。
【0117】第6の実施の形態による検出器10eは、
検出器10のマイクロプレート18のサイズを変更した
ものであって、マイクロプレート18の各辺の長さが、
画素ピッチより短く、エレメント16aの配列ピッチの
1/2以下に設定されているものである。各マイクロプ
レート18は、図14(B),(C)に示すように、エ
レメント16aの真下、すなわち画素中央部であって、
エレメント16aの長手方向は、画素ピッチで配設され
ている。
【0118】検出器10eを使用する場合における、静
電潜像記録過程の電荷モデルを図15に示し、静電潜像
読取過程の電荷モデルを図16に示す。
【0119】記録過程においては、蓄電部19には、ス
トライプ電極16の各エレメント16aに対応して、画
素ピッチより小さなマイクロプレート18が設けられて
いるので、蓄電部19近傍では、Uの字状の電界がさら
にマイクロプレート18、すなわち画素中央部に集中す
る。このため、図15(A)の矢印Zで示すハッチング
部のように、蓄電部19には電界が存在しない部分が、
大きく生じる。
【0120】記録用光導電層12内で発生する負電荷
は、この電界分布に沿ってマイクロプレート18に集中
せしめられるように移動する(図15(B))。そし
て、光導電層12中を移動してきた負電荷がマイクロプ
レート18に捕捉されて停止し、マイクロプレート18
上に蓄積される(図15(C))。また、電荷転送層1
3は電極層11に帯電した電荷と同じ極性の電荷(本例
では負電荷)、すなわち潜像電荷に対して絶縁体として
作用するものであるから、光導電層12中を移動してき
た負電荷のうち、マイクロプレート18に捕捉されなか
った電荷が、光導電層12と電荷輸送層13との界面で
ある蓄電部19で停止する。これにより、蓄電部19に
おいては、マイクロプレート18上だけでなく、その周
辺部にも電荷が蓄積され、結果として、マイクロプレー
ト18を中心として、負電荷が潜像電荷として蓄積され
る(図15(C))。
【0121】このように、検出器10eにおいては、マ
イクロプレート18を中心として潜像電荷が蓄積される
ので、主走査および副走査の両方について固定位置に画
素を形成することができると共に、両走査方向につい
て、高い鮮鋭度(空間解像度)をもって静電潜像を記録
することができる。
【0122】一方、読取過程においては、上述した検出
器10と同様に、マイクロプレート18の中央部の潜像
電荷から順次消滅する。検出器10eのマイクロプレー
ト18は、検出器10のマイクロプレート18よりも小
さく、マイクロプレート18上以外の周辺部にも潜像電
荷が蓄積されており(図16(A))、この周辺部に蓄
積された潜像電荷は、マイクロプレート18上の潜像電
荷と、必ずしも同電位にあるとは言えず、読取りが経過
してもその位置に留まる。しかしながら、記録過程にお
いて、潜像電荷をマイクロプレート18に集中せしめて
蓄積しているので、マイクロプレート18を設けない場
合よりも、より画素中央部に蓄積されるので、読取の最
終過程においては読残しの問題が生じる可能性が少なく
なる(図16(B),(C))。また、マイクロプレー
ト18上だけでなく、その周辺部にも電荷を蓄積させて
いるので、蓄積電荷量を低減させることがなく、読取り
によって得られる画像信号のレベルを低減させることも
ない。つまり、この検出器10eによれば、画像信号レ
ベルを低減させることなく、検出器上の固定位置に画素
を形成すると共に、読取効率の改善と鮮鋭度の向上の両
立を図ることができる。なお、このように、マイクロプ
レート18の各辺の長さ、すなわちサイズを、画素ピッ
チより短く設定する手法は、検出器10だけでなく、上
述した他の検出器や後述する検出器にも同様に適用する
ことができる。
【0123】次に、本発明による放射線固体検出器の第
7の実施の形態について図17を参照して説明する。図
17(A)は検出器20の斜視図、図17(B)はQ矢
指部のXZ断面図、図17(C)はP矢指部のXY断面
図である。
【0124】この検出器20は、電極層21,記録用光
導電層22,電荷輸送層23,読取用光導電層24およ
び電極層25を、この順に積層してなるものにおいて、
電極層25内にサブ電極27を設けたものである。各層
には、第1の実施の形態による検出器10と同様のもの
を使用している。また、検出器10と同様に、電極層2
5の電極は多数のエレメント26aをストライプ状に配
列して成るストライプ電極26であり、さらに、記録用
光導電層22と電荷輸送層23との界面である蓄電部2
9には、画素ピッチと略同サイズのマイクロプレート2
8が設けられている。
【0125】電極層25内に設けられたサブ電極27
は、多数のエレメント27aをストライプ状に配列した
ものであって、各エレメント27aは、該エレメント2
7aと前記ストライプ電極26のエレメント26aとが
交互に配置されるように配列されている。両エレメント
の間25aは、例えば、カーボンブラック等の顔料を若
干量分散させたポリエチレン等の高分子材料を充填した
ものとし、読取光L2に対して遮光性を有するものとされ
ている。また、ストライプ電極26とサブ電極27とは
電気的に絶縁されている。サブ電極27は、記録用光導
電層22と電荷輸送層23との略界面に形成される蓄電
部29に蓄積された潜像電荷の量に応じたレベルの電気
信号を出力させるための導電部材である。
【0126】また、サブ電極27は、AL,Cr等の金
属でコーティングされ、読取光L2に対して遮光性を有す
るように形成されており、エレメント27aに対応する
読取用光導電層24内では、信号取り出しのための電荷
対を発生させないようにしている。
【0127】マイクロプレート28は、エレメント26
aの真上だけでなく、エレメント27aの真上まで延在
している。これにより、マイクロプレート28上に蓄積
されている潜像電荷は、常に同電位に保持され、マイク
ロプレート28上を自由に移動することが可能となり、
読取時の放電が容易になるようにしている。なお、マイ
クロプレート28の中心がエレメント27aの真上に位
置するように配置して、画素周辺の電荷を一層集め易く
なるようにしてもよい。
【0128】検出器10を使用する場合には、蓄電部1
9に潜像電荷を安定して蓄積させることができるよう
に、サブ電極17に所定の制御電圧を印加するようにし
ていたが、この検出器20を使用する場合には、サブ電
極27が電極層25内に設けられているので、サブ電極
27の電圧が、ストライプ電極26と同電位になるよう
に制御電圧を印加すれば、電極層21と電極層25との
間で形成される電界分布を均一にできる。これは、マイ
クロプレート28の大きさが画素全体に亘る大きさ、つ
まり画素ピッチと同じ大きさを有する場合に好ましい。
また、サブ電極27をオープンにする、或いはストライ
プ電極26の電位よりも電極層21の電位に近づけるよ
うに制御すれば、、潜像電荷をよりストライプ電極26
の上部に集中して、蓄積することが可能となる。これ
は、マイクロプレート28が画素ピッチよりも小さい場
合に適用すると効果がある。
【0129】この検出器20においては、読取用光導電
層24および電荷輸送層23を介して蓄電部29とサブ
電極27との間でコンデンサC*cが形成される。なお、
サブ電極27を設けても、記録用光導電層22を介して
電極層21と蓄電部29との間で形成されるコンデンサ
C*aの容量Ca 、並びに読取用光導電層24および電荷
輸送層23を介してストライプ電極26と蓄電部29と
の間で形成されるコンデンサC*bの容量Cc には、実質
的に大きな影響は現れない。
【0130】ここで、コンデンサC*b,C*cの容量につ
いて考えてみると、容量比C*b:C*cは、各エレメント
26a,27aの幅の比Wb :Wc となる。これによ
り、上述した検出器10と同様に、電荷再配列の際に、
コンデンサC*bに配分される正電荷の量Q+bをサブ電極
27を設けない場合よりも相対的に少なくすることがで
き、検出器20から外部に流れ出る電流を、サブ電極2
7を設けない場合よりも相対的に大きくすることができ
る。
【0131】また、検出器10においては、各コンデン
サの容量は、膜厚比によって規定されていたが、この検
出器20においては、少なくともコンデンサC*b,C*c
の容量は、電極を形成する各エレメント26a,27a
の幅比で規定されるので、検出器の構造がシンプルで製
造が容易である。
【0132】図18は、本発明による第8の実施の形態
の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図18
(A)は斜視図、図18(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図18(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図18においては、図17に示す第7の実施の形態
による検出器20の要素と同等の要素には同番号を付
し、それらについての説明は特に必要のない限り省略す
る。この第8の実施の形態による検出器20aは、上記
検出器20のマイクロプレート28を取り除くと共に、
記録時に、ストライプ電極26とサブ電極27とを接続
し、サブ電極27を電界分布の形成に積極的に利用する
ようにしたものである。
【0133】図19(A)は、ストライプ電極26とサ
ブ電極27とを接続して、記録を行う場合における静電
潜像記録過程を示す電荷モデルであり、図19(B)
は、被写体の透過部9aについての、静電潜像読取過程
を示す電荷モデルである。ストライプ電極26とサブ電
極27とを接続して記録を行うと、潜像電荷は、エレメ
ント26aに対応する位置だけでなく、エレメント27
aに対応する位置にも蓄積される。読取時に、光導電層
24に読取光L2が照射されると、2本のエレメント27
aに対応する部分、すなわち両エレメント27aの上空
部分の潜像電荷が、2本のエレメント27aを介して順
次読み出される。すなわち、図19(B)に図示するよ
うに、画素の中心に位置したエレメント26aから、そ
の両隣のエレメント27aに対応する(上空にある)潜
像電荷に向けて放電が生じ、それによって読出しが進行
する。なお、より多くの信号電荷を取り出すためには、
エレメント27aの幅を、エレメント26aの幅よりも
広くした方がよい。
【0134】図20は、本発明による第9の実施の形態
の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図20
(A)は斜視図、図20(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図20(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図20においても、図17に示す第7の実施の形態
による検出器20の要素と同等の要素には同番号を付
し、それらについての説明は特に必要のない限り省略す
る。この第9の実施の形態による検出器20bは、上記
検出器20のマイクロプレート28を取り除くと共に、
1画素の中で、ストライプ電極26のエレメント26a
とサブ電極27のエレメント27aの両者を交互に設け
た構成のものである。図示する検出器20aにおいて
は、1画素内に、夫々3本のエレメント26aおよびエ
レメント27aが設けられている。この検出器20bを
使用して、記録および読取りを行う場合には、各エレメ
ント26a,27aを1画素単位でひと纏めにして取り
扱うとよい。検出器20,20bの1画素のサイズを同
じとすれば、検出器20bの各エレメント26a,27
aの幅Wb ’,Wc ’は、上記検出器20の幅Wb ,W
c よりも狭く設定される。半導体形成技術の進歩した今
日にあっては、両エレメント26a,27aを十分に狭
く形成することは容易なことであり、検出器20bを容
易に製造することができる。
【0135】このようにすると、上記第8の実施の形態
による検出器20aに比べて、蓄電部29と電極層25
との間の距離D1と、両エレメント26a,27a間の
距離D2の比D1/D2を、大きくすることが容易にで
きる。このことより、エレメント26aからその両隣に
あるエレメント27aに対応する潜像電荷に向けての放
電がし易くなり、読取時間を検出器20aよりも短くす
ることができる。マイクロプレート28を設けないとき
に、特に有効である。
【0136】図21は、本発明による第10の実施の形
態の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図2
1(A)は斜視図、図21(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図21(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図21においても図17に示す第7の実施の形態に
よる検出器20の要素と同等の要素には同番号を付し、
それらについての説明は特に必要のない限り省略する。
この第10の実施の形態による検出器20cは、上記検
出器20aの電荷輸送層23を取り除いた構成のもので
あり、上述した検出器10dに対応するものである。
【0137】検出器20cを使用する場合の、記録過程
および読取過程における作用についての詳細な説明は省
略するが、上記検出器10dと同様に、記録過程におい
ては、記録用光導電層23内で発生した負電荷をマイク
ロプレート28上に蓄積することができ、また、読取過
程においては、潜像電荷をより十分に放電させることが
でき、読残しが少なくなる。
【0138】次に、本発明による放射線固体検出器の第
11の実施の形態について図22を参照して説明する。
図22(A)は検出器30の斜視図、図22(B)はQ
矢指部のXZ断面図、図22(C)はP矢指部のXY断
面図である。
【0139】この検出器30は、電極層31,記録用光
導電層32,電荷輸送層33,読取用光導電層34およ
び電極層35を、この順に積層してなるものにおいて、
読取用光導電層34と電荷輸送層33との界面にサブ電
極37を設けたものである。各層には、第1の実施の形
態による検出器10等と同様のものを使用している。ま
た、検出器10等と同様に、電極層35の電極は、多数
のエレメント36aをストライプ状に配列して成るスト
ライプ電極36であり、さらに、記録用光導電層32と
電荷輸送層33との界面である蓄電部39には、画素ピ
ッチと略同サイズのマイクロプレート38が設けられて
いる。
【0140】サブ電極37は、多数のエレメント37a
をストライプ状に配列したものであって、各エレメント
37aは、ストライプ電極36の各エレメント36aに
対して略直交するように配設されている。なお、このエ
レメント37aは、ストライプ電極36の各エレメント
36aの真上に位置し、互いに向き合うように配設して
もよい。サブ電極37は、記録光および読取光に対し
て、透明であっても非透明であっても、どちらでもよ
い。
【0141】この検出器30を使用する場合には、サブ
電極37が読取用光導電層34と電荷輸送層33との界
面に設けられているので、電極層31とストライプ電極
36との間で形成される電界分布がサブ電極37によっ
て多少乱されるが、記録用光導電層32内で発生した潜
像電荷がサブ電極37に捕捉されるということは生じ得
ない。
【0142】この検出器30においては、電荷輸送層3
3を介して蓄電部39とサブ電極37との間でコンデン
サC*cが形成される。なお、サブ電極37を設けても、
記録用光導電層32を介して電極層31と蓄電部39と
の間で形成されるコンデンサC*aの容量Ca 、並びに読
取用光導電層34および電荷輸送層33を介してストラ
イプ電極36と蓄電部39との間で形成されるコンデン
サC*bの容量Cc には、実質的に大きな影響は現れな
い。
【0143】なお、各コンデンサの容量は、検出器10
と同様に、膜厚比によって規定される。また、検出器2
0とは異なり、サブ電極37が電極層35の外部に設け
られているから、エレメント36aの幅やピッチに拘わ
らず、エレメント37aの幅やピッチを任意に設定する
ことができるので、検出器20よりも容量の設定が容易
である。
【0144】この検出器30においても、コンデンサC
*cを形成したことによって、電荷再配列の際に、コンデ
ンサC*bに配分される正電荷の量Q+bをサブ電極37を
設けない場合よりも相対的に少なくすることができ、検
出器30から外部に流れ出る電流Iを、サブ電極37を
設けない場合よりも相対的に大きくすることができる。
【0145】検出器20においては、サブ電極27のエ
レメント27aをストライプ電極26のエレメント26
aと平行して配列しているため、全エレメント27aを
電気的に結合して読取りを行う必要があり、分布容量が
大きくなって、固定ノイズ上不利である。一方、検出器
30において、エレメント37aをエレメント36aに
対して略直交するように配設した場合には、読取光L2の
副走査における各位置に対応するエレメント37aのみ
が電極層31およびストライプ電極36に接続されるよ
うに切り換えて電荷再配列を行い、その他のエレメント
37aについてはオープンとしておくことができるの
で、信号読出しに寄与しない分布容量を極めて小さくす
ることができ、固定ノイズを小さくすることができる。
【0146】また、サブ電極37は、検出器30内の読
取用光導電層34よりも蓄電部39に近い側に設けられ
ているので、読取光L2による光電荷発生プロセスに影響
を与えないから、サブ電極37が、読取光L2に対して透
明であるか非透明であるかは、読取解像度に影響を与え
ることがない。
【0147】また、ストライプ状のサブ電極を読取用光
導電層と電荷輸送層との界面に設ける場合には、上述し
たように、エレメントの幅やピッチを任意に設定するこ
とができるので、マイクロプレート38の真下ではな
く、各マイクロプレート38の間の下に位置するように
エレメント37aを配置し、読出ラインに関係するマイ
クロプレート38を挟む2本のエレメント37aを同時
にショートして読出しを行うようにしてもよい。この場
合、マイクロプレート38は、一般に画素ピッチと略同
じサイズ、例えば、エレメント36aの幅が75μm、
ピッチが100μmであるときには、マイクロプレート
38のサイズが75μm角程度に設定されるので、この
場合には、例えばエレメント37aの幅が10μm、ピ
ッチが100μmとなるように設定するとよい。なお、
マイクロプレートが設けられていない場合においても、
2本のエレメント37aを同時にショートして、この2
本のエレメント37aに挟まれた画素の電荷を読み出す
こともできる。
【0148】次に、本発明による放射線固体検出器の第
12の実施の形態について図23を参照して説明する。
図23(A)は検出器40の斜視図、図23(B)はQ
矢指部のXZ断面図、図23(C)はP矢指部のXY断
面図である。
【0149】この検出器40は、電極層41,記録用光
導電層42,電荷輸送層43,読取用光導電層44およ
び電極層45を、この順に積層してなるものにおいて、
電荷輸送層43内にサブ電極47を設けたものである。
各層には、第1の実施の形態による検出器10等と同様
のものを使用している。また、検出器10等と同様に、
電極層45の電極は多数のエレメント46aをストライ
プ状に配列して成るストライプ電極46であり、さら
に、記録用光導電層42と電荷輸送層43との界面であ
る蓄電部49には、潜像電荷を画素中心部に集めるのに
効果的なマイクロプレート48が設けられている。
【0150】サブ電極47は、多数のエレメント47a
をストライプ状に配列したものであって、各エレメント
47aは、ストライプ電極46の各エレメント46aに
対して略直交するように配設されている。なお、このエ
レメント47aは、ストライプ電極46の各エレメント
46aの真上に位置し、互いに向き合うように配設して
もよい。サブ電極47は、記録光および読取光に対し
て、透明であっても非透明であっても、どちらでもよ
い。
【0151】この検出器40においては、電荷輸送層4
3の一部を介して蓄電部49とサブ電極47との間でコ
ンデンサC*cが形成される。なお、サブ電極47を設け
ても、記録用光導電層42を介して電極層41と蓄電部
49との間で形成されるコンデンサC*aの容量Ca 、並
びに読取用光導電層44および電荷輸送層43を介して
ストライプ電極46と蓄電部49との間で形成されるコ
ンデンサC*bの容量Cc には、実質的に大きな影響は現
れない。各コンデンサの容量は、検出器10と同様に、
膜厚比によって規定される。
【0152】この検出器40は、サブ電極47を電荷輸
送層43内に設けたものである点で、上記検出器30と
構成上の違いがあるが、作用や効果においては大きな違
いはない。但し、検出器30よりも、より蓄電部49に
近い位置にサブ電極47を配置することができるので、
サブ電極47を介して読み出される電流Ic を、検出器
30よりも、相対的に大きくすることができる。
【0153】図24は、本発明による第13の実施の形
態の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図2
4(A)は斜視図、図24(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図24(C)はP矢指部のXY断面図である。
【0154】この検出器50は、電極層51,記録用光
導電層52,電荷輸送層53,読取用光導電層54およ
び電極層55を、この順に積層してなるものにおいて、
記録用光導電層52と電荷輸送層53との界面にサブ電
極57を設けたものである。各層には、第1の実施の形
態による検出器10等と同様のものを使用している。ま
た、検出器10等と同様に、電極層55の電極は多数の
エレメント56aをストライプ状に配列して成るストラ
イプ電極56である。
【0155】サブ電極57のエレメント57aは、スト
ライプ電極56の各エレメント56aに対して略直交す
るように配設されている。図示する検出器50において
は、画素ピッチが100μm、エレメント56aの幅が
75μm、エレメント57aの幅が10μmに設定され
ている。エレメント57aに帯電する潜像電荷の量が少
なくなるようにエレメント57aの幅を狭くしている。
【0156】図25(A)は、この検出器50を使用す
る場合における静電潜像記録過程を示す電荷モデル(上
面図)であり、図25(B)は、静電潜像読取過程を、
エレメント番号e1のエレメント56aについて示した
電荷モデル(XY断面図)である。
【0157】記録過程においては、全エレメント57a
をフローティング状態にして記録を行う。被写体の透過
部9aがエレメント番号e1のエレメント56aに対応
するものとすれば、e1番のエレメント56aに対応す
る蓄電部59に潜像電荷が蓄積される。図25(A)に
おいては、8個の潜像電荷が蓄積されたものとして示し
ている。
【0158】一方、読取過程においては、1画素につい
て、2本のエレメント57aが同時に電流検出アンプ7
1の非反転入力端子および電極層51と接続されるよう
にして読出しを行う。光導電層54に読取光L2が照射
されると、2本のエレメント57aに挟まれる位置に対
応する部分の潜像電荷が、2本のエレメント57aを介
して順次読み出される。図25(B)においては、蓄電
部59に蓄積された8個の潜像電荷のうち、6個が信号
電荷として電流検出アンプ71によって取り出されるも
のとして示している。
【0159】図26は、本発明による第14の実施の形
態の放射線固体検出器の概略構成を示す図であり、図2
6(A)は斜視図、図26(B)はQ矢指部のXZ断面
図、図26(C)はP矢指部のXY断面図である。な
お、図26においても図24に示す第13の実施の形態
による検出器50の要素と同等の要素には同番号を付
し、それらについての説明は特に必要のない限り省略す
る。この第14の実施の形態による検出器50aは、上
記検出器50の電荷輸送層53を取り除いた構成のもの
であり、上述した検出器10d,20cに対応するもの
である。記録用光導電層52と読取用光導電層54との
界面であって、エレメント57aに挟まれた位置で、且
つエレメント56aの真上にマイクロプレート58が、
画素毎に、格別に設けられている。
【0160】図27(A)は、この検出器50aを使用
する場合における静電潜像記録過程を示す電荷モデル
(上面図)であり、図27(B)は、静電潜像読取過程
を、エレメント番号e1のエレメント56aについて示
した電荷モデル(XY断面図)である。記録過程および
読取過程における作用についての詳細な説明は省略する
が、上記検出器50の作用に、検出器10d,20cに
おけるマイクロプレート18,28の効果を組み合わせ
たものとなる。
【0161】以上、本発明による放射線固体検出器、該
検出器に放射線画像情報を記録する方法および装置、並
びに放射線画像情報が記録された本発明による検出器か
ら放射線画像情報を読み取る方法および装置の好適な実
施の形態について説明したが、本発明は上記実施の形態
に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない限
りにおいて、種々変更することが可能である。
【0162】例えば、上記実施の形態では、信号読取り
に際して、記録光が照射される側の第1の電極層と新た
に設けたサブ電極とを接続し、第1の電極層により構成
されるコンデンサC*aから流れ出る電流Ia とサブ電極
により構成されるコンデンサC*cから流れ出る電流Ic
との合計(Ia +Ic )を信号電流として検出するよう
にしているが、上述したように、本発明による検出器
は、コンデンサC*cの容量Cc をコンデンサC*aの容量
Ca よりも十分大きくすることができるので、コンデン
サC*cから流れ出る電流Ic をコンデンサC*aから流れ
出る電流Ia よりも大きくすることができ、サブ電極を
介してコンデンサC*cから流れ出る電流Ic のみを検出
しても、サブ電極を設けないときよりも大きい画像信号
を取り出すことができる。特に、上述した検出器10,
40は蓄電部に近接した位置にサブ電極を配設すること
ができるので、コンデンサC*cの容量Cc をコンデンサ
C*aの容量Ca よりも極めて大きくすることができるか
ら好都合である。
【0163】また、本発明を適用する基本となる検出器
は、記録用光導電層および読取用光導電層を挟むように
電極を積層して成る検出器であればどのようなものであ
ってもよく、例えば、本願出願人が、特願平10−232824
号や同10−271374号において提案したもの等に適用する
のが好適である。上述した各実施の形態による検出器に
限らず、例えば、特願平10−232824号等において提案さ
れている種々の変更態様、例えば電荷輸送層の材料変更
や多層構成等と、本発明によるサブ電極やマイクロプレ
ートの配設とを組み合わせることができる。これによ
り、読取りの高速応答性を維持しつつ、読取効率を一層
向上させることができるし、読取解像度の向上や、暗電
流の低減等を図ることができる。
【0164】さらに、上記実施の形態による検出器は、
何れも、第2の電極層の電極およびサブ電極がストライ
プ電極であったが、これら電極は、必ずしもストライプ
電極に限定されるものではない。例えば、第2の電極層
の電極は平板電極であってもよい。また、サブ電極は、
上述したマイクロプレート同様に、微小電極を画素に対
応するように配設すると共に、各微小電極から読出し線
を引き出して信号を得るようにしてもよい。
【0165】さらにまた、上記実施の形態による検出器
は、何れも、記録用光導電層が、記録用の放射線の照射
によって導電性を呈するものであるが、本発明による検
出器の記録用光導電層は必ずしもこれに限定されるもの
ではなく、記録用光導電層は、記録用の放射線の励起に
より発せられる光の照射によって導電性を呈するものと
してもよい(特願平10−232824号参照)。この場合、第
1の電極層の表面に記録用の放射線を、例えば青色光
等、他の波長領域の光に波長変換するいわゆるX線シン
チレータといわれる波長変換層を積層したものとする。
この波長変換層としては、例えばヨウ化セシウム(Cs
I)等を用いるのが好適である。また、第1の電極層
は、記録用の放射線の励起により波長変換層で発せられ
る光に対して透過性を有するものとする。
【0166】また、検出器10,20,30,40,5
0等においては、記録用光導電層と読取用光導電層との
間に電荷輸送層を設け、記録用光導電層と電荷輸送層と
の界面に蓄電部を形成するようにしたものであるが、本
発明においては、電荷輸送層をトラップ層に置き換えた
ものとしてもよい。トラップ層とした場合には、潜像電
荷は、該トラップ層に捕捉され、該トラップ層内または
トラップ層と記録用光導電層の界面に潜像電荷が蓄積さ
れる。また、検出器10,20等のように、トラップ層
と記録用光導電層の界面に、画素毎に、格別に、マイク
ロプレートを設けるようにしてもよい。
【0167】また、上述の実施の形態による検出器にお
いては、各画素毎に、方形状のマイクロプレートを夫々
1つ設けたものであるが、画素を固定位置に形成した
り、潜像電荷を同電位化させて、読取過程において画素
周辺部の潜像電荷を十分に放電させたり、或いは記録過
程において潜像電荷を画素中央部に集中させたりするこ
とができるものである限り、多少その数が多くても構わ
ない。例えば、各々が三角形状の導電部材を、全体とし
て、画素毎に、方形をなすように4枚配置し、記録過程
や読取過程において、方形中央部の三角形状の部材の頂
点が対向する部分に潜像電荷が集まるようにしたり、扇
形の導電部材を、全体として円形状に配設する等であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態による放射線固体検
出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、P
矢指部のXY断面図(C)
【図2】サブ電極のエレメントの形状の一例と、該サブ
電極のエレメント、マイクロプレートおよびストライプ
電極のエレメントとの配置関係を示す概略図(A)〜
(D)
【図3】上記放射線固体検出器を用いた記録読取装置の
概略構成図
【図4】上記放射線固体検出器に静電潜像を記録する方
法を説明する図
【図5】上記放射線固体検出器に記録された静電潜像を
読み取る方法を説明する図
【図6】読取時における検出器内を流れる放電電流を電
流源で表した等価回路図
【図7】マイクロプレートの効果を説明する図であっ
て、マイクロプレートが設けられていない場合の図
(A),(B)、およびマイクロプレートが設けられて
いる場合の図(C),(D)
【図8】上記放射線固体検出器を用いた静電潜像の記録
読取方法をコンデンサモデルで表した図
【図9】放射線固体検出器から出力される信号電荷量を
コンデンサモデルで表した図;サブ電極が設けられてい
ない場合(A)、サブ電極が設けられている場合(B)
【図10】本発明による第2の実施の形態の放射線固体
検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、
P矢指部のXY断面図(C)
【図11】本発明による第3の実施の形態の放射線固体
検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、
P矢指部のXY断面図(C)
【図12】本発明による第4の実施の形態の放射線固体
検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、
P矢指部のXY断面図(C)
【図13】本発明による第5の実施の形態の放射線固体
検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、
P矢指部のXY断面図(C)
【図14】本発明による第6の実施の形態の放射線固体
検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、
P矢指部のXY断面図(C)
【図15】第6の実施の形態の放射線固体検出器に静電
潜像を記録する方法を説明する図
【図16】第6の実施の形態の放射線固体検出器に記録
された静電潜像を読み取る方法を説明する図
【図17】本発明の第7の実施の形態による放射線固体
検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、
P矢指部のXY断面図(C)
【図18】本発明の第8の実施の形態による放射線固体
検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、
P矢指部のXY断面図(C)
【図19】第8の実施の形態による放射線固体検出器を
使用する場合における、静電潜像記録過程を示す電荷モ
デル(A)、静電潜像読取過程を示す電荷モデル(B)
【図20】本発明の第9の実施の形態による放射線固体
検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、
P矢指部のXY断面図(C)
【図21】本発明の第10の実施の形態による放射線固
体検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図
(B)、P矢指部のXY断面図(C)
【図22】本発明の第11の実施の形態による放射線固
体検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図
(B)、P矢指部のXY断面図(C)
【図23】本発明の第12の実施の形態による放射線固
体検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図
(B)、P矢指部のXY断面図(C)
【図24】本発明の第13の実施の形態による放射線固
体検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図
(B)、P矢指部のXY断面図(C)
【図25】第13の実施の形態による放射線固体検出器
を使用する場合における、静電潜像記録過程を示す電荷
モデル(A)、静電潜像読取過程を示す電荷モデル
(B)
【図26】本発明の第14の実施の形態による放射線固
体検出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図
(B)、P矢指部のXY断面図(C)
【図27】第14の実施の形態による放射線固体検出器
を使用する場合における、静電潜像記録過程を示す電荷
モデル(A)、静電潜像読取過程を示す電荷モデル
(B)
【符号の説明】
10,20,30,40,50 放射線固体検出器 11,21,31,41,51 第1の電極層 12,22,32,42,52 記録用光導電層 13,23,33,43,53 電荷輸送層 14,24,34,44,54 読取用光導電層 15,25,35,45,55 第2の電極層 16,26,36,46,56 ストライプ電極 17,27,37,47,57 サブ電極(第1導電
部材) 18,28,38,48,58 マイクロプレート
(第2導電部材) 19,29,39,49,59 蓄電部 70 電流検出回路(画像信号取得手段) 72 電源(電圧印加手段) 73 電源(電圧印加手段および制御電圧印加手段と
して機能) L1 記録用の放射線(記録光) L2 読取用の電磁波(読取光)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阿賀野 俊孝 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2G083 AA04 CC10 DD11 DD16 EE10 2G088 EE01 FF02 GG21 JJ01 JJ32 JJ37 LL18 4M118 AA10 AB01 BA05 CA14 CB05 CB20 DD01 DD02 DD09 FB09 GA10 5C024 AA03 AA11 BA02 CA11 GA04 GA42 HA14 JA05

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 照射された放射線の線量に応じた量の電
    荷を潜像電荷として蓄積する蓄電部を有し、放射線画像
    情報を前記蓄電部に静電潜像として記録する放射線固体
    検出器において、 記録用の放射線または該放射線の励起により発せられる
    光に対して透過性を有する第1の電極層、 前記記録用の放射線または前記光の照射を受けることに
    より導電性を呈する記録用光導電層、 読取用の電磁波の照射を受けることにより導電性を呈す
    る読取用光導電層、 前記読取用の電磁波に対して透過性を有する第2の電極
    層を、この順に有して成り、 前記記録用光導電層と前記読取用光導電層との間に形成
    される前記蓄電部に蓄積された潜像電荷の量に応じたレ
    ベルの電気信号を出力させるための第1の導電部材が前
    記第2の電極層内ないし前記第1の電極層と前記第2の
    電極層との間に設けられていることを特徴とする放射線
    固体検出器。
  2. 【請求項2】 前記第1の導電部材が、前記記録用光電
    層内の前記読取用光導電層に近接する位置に設けられて
    いることを特徴とする請求項1記載の放射線固体検出
    器。
  3. 【請求項3】 前記第1の導電部材が、前記記録用光電
    層の、前記読取用光導電層側の面に設けられていること
    を特徴とする請求項1記載の放射線固体検出器。
  4. 【請求項4】 前記第1の導電部材が、前記第2の電極
    層内に設けられていることを特徴とする請求項1記載の
    放射線固体検出器。
  5. 【請求項5】 前記蓄電部に、前記潜像電荷を同電位化
    せしめる第2の導電部材が、前記電気信号が表す画像の
    画素毎に、格別に、設けられていることを特徴とする請
    求項1から4いずれか1項記載の放射線固体検出器。
  6. 【請求項6】 前記潜像電荷に対しては略絶縁体として
    作用し、かつ、該潜像電荷と逆極性の電荷に対しては略
    導電体として作用する電荷輸送層を、前記記録用光導電
    層と前記読取用光導電層との間に有し、該電荷輸送層が
    前記蓄電部を形成するものであることを特徴とする請求
    項1から5いずれか1項記載の放射線固体検出器。
  7. 【請求項7】 前記潜像電荷を捕捉するトラップ層を、
    前記記録用光導電層と前記読取用光導電層との間に有
    し、該トラップ層が前記蓄電部を形成するものであるこ
    とを特徴とする請求項1から5いずれか1項記載の放射
    線固体検出器。
  8. 【請求項8】 前記第2の電極層をなす電極および/ま
    たは前記第1の導電部材が、多数の線状電極から成るス
    トライプ電極であることを特徴とする請求項1から7い
    ずれか1項記載の放射線固体検出器。
  9. 【請求項9】 前記第2の電極層をなす電極および前記
    第1の導電部材が、多数の線状電極から成るストライプ
    電極であり、 前記第1の導電部材の線状電極が、前記第2の電極層を
    なす電極の線状電極に対して対向するように、または略
    直交するように、配設されていることを特徴とする1か
    ら7いずれか1項記載の放射線固体検出器。
  10. 【請求項10】 請求項1から9いずれか1項記載の放
    射線固体検出器に放射線を照射して、該照射した放射線
    の線量に応じた量の電荷を前記放射線固体検出器の蓄電
    部に潜像電荷として蓄積せしめることにより、放射線画
    像情報を前記蓄電部に静電潜像として記録する放射線画
    像記録方法において、 前記放射線固体検出器の第1の電極層と第2の電極層と
    の間に印加される直流電圧によって両電極層間に形成さ
    れる電界分布を調整するための制御電圧を前記第1の導
    電部材に印加することを特徴とする放射線画像記録方
    法。
  11. 【請求項11】 放射線画像情報が静電潜像として記録
    された請求項1から9いずれか1項記載の放射線固体検
    出器から前記放射線画像情報を読み取る放射線画像読取
    方法において、 前記放射線固体検出器の蓄電部に蓄積された潜像電荷に
    対応する電荷を前記第1の導電部材を介して読み出すこ
    とにより、前記潜像電荷の量に応じたレベルの電気信号
    を得ることを特徴とする放射線画像読取方法。
  12. 【請求項12】 請求項1から9いずれか1項記載の放
    射線固体検出器に放射線を照射して、該照射した放射線
    の線量に応じた量の電荷を前記放射線固体検出器の蓄電
    部に潜像電荷として蓄積せしめることにより、放射線画
    像情報を前記蓄電部に静電潜像として記録する放射線画
    像記録装置において、 前記放射線固体検出器の第1の電極層と第2の電極層と
    の間に直流電圧を印加する電圧印加手段と、 該電圧印加手段により印加される直流電圧によって両電
    極層間に形成される電界分布を調整するための制御電圧
    を前記第1の導電部材に印加する制御電圧印加手段とを
    備えたことを特徴とする放射線画像記録装置。
  13. 【請求項13】 放射線画像情報が静電潜像として記録
    された請求項1から9いずれか1項記載の放射線固体検
    出器から前記放射線画像情報を読み取る放射線画像読取
    装置において、 前記放射線固体検出器の蓄電部に蓄積された潜像電荷に
    対応する電荷を前記第1の導電部材を介して読み出すこ
    とにより、前記潜像電荷の量に応じたレベルの電気信号
    を得る画像信号取得手段を備えたことを特徴とする放射
    線画像読取装置。
JP08792299A 1999-03-30 1999-03-30 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置 Expired - Fee Related JP4040201B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08792299A JP4040201B2 (ja) 1999-03-30 1999-03-30 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置
EP00106762A EP1041400B1 (en) 1999-03-30 2000-03-29 Method and device for recording and reading a radiation image using solid state radiation detectors
DE60032659T DE60032659T2 (de) 1999-03-30 2000-03-29 Verfahren und Gerät zur Aufzeichnung und Wiedergabe eines Strahlungsbildes mit einem Festkörperstrahlungsdetektor
US09/539,412 US6770901B1 (en) 1999-03-30 2000-03-30 Radiation solid-state detectors, and radiation image record-reading method and device using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08792299A JP4040201B2 (ja) 1999-03-30 1999-03-30 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001087874A Division JP3999470B2 (ja) 2001-03-26 2001-03-26 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2000284056A true JP2000284056A (ja) 2000-10-13
JP2000284056A5 JP2000284056A5 (ja) 2005-08-04
JP4040201B2 JP4040201B2 (ja) 2008-01-30

Family

ID=13928424

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP08792299A Expired - Fee Related JP4040201B2 (ja) 1999-03-30 1999-03-30 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6770901B1 (ja)
EP (1) EP1041400B1 (ja)
JP (1) JP4040201B2 (ja)
DE (1) DE60032659T2 (ja)

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6455867B2 (en) 2000-03-31 2002-09-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image detector having photoconductive layer, linear electrodes transparent to reading light, and signal-readout electrodes shaded from reading light
US6504166B2 (en) 2000-07-03 2003-01-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and apparatus for recording image in recording medium using photoconductor with reduced dark latent image, and reading image from photoconductor with reduced dark current
US6590224B2 (en) 2000-03-22 2003-07-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image storage medium and method of manufacturing the same
US6614045B2 (en) 2000-04-14 2003-09-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Imaging apparatus
US6724006B2 (en) 2001-08-14 2004-04-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Solid state radiation detector
EP1416708A1 (en) * 2002-10-28 2004-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and apparatus for image readout
US6756603B2 (en) 2000-04-14 2004-06-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Imaging apparatus
US6787790B2 (en) 2000-04-24 2004-09-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image information read-out apparatus
US6831291B2 (en) 2001-04-16 2004-12-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for producing alternate striped electrode array in which transparent electrodes alternate with opaque electrodes, based on single mask designed for the opaque electrodes in self-aligned manner
US6838690B2 (en) 2001-05-30 2005-01-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and apparatus for recording and reading out an electrostatic latent image
US6900452B2 (en) 2002-09-17 2005-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image information recording/reading method and apparatus
US6940084B2 (en) 2001-07-04 2005-09-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Solid state radiation detector
US6949760B2 (en) 2003-06-06 2005-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation image detector
US7057181B2 (en) 2003-05-14 2006-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation detecting cassette
US7170081B2 (en) 2002-09-20 2007-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Breast image obtaining method and apparatus
US7183556B2 (en) 2003-06-09 2007-02-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation detecting cassette
US7242005B2 (en) 2002-10-22 2007-07-10 Fujifilm Corporation Radiation detecting cassette and radiation image data management system
US7259386B2 (en) 2003-05-13 2007-08-21 Fujifilm Corporation Radiation image detector
US7265372B2 (en) 2001-05-11 2007-09-04 Fujifilm Corporation Method and apparatus for image recording and image recording medium
JP2009038096A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Fujifilm Corp 画像撮像装置
WO2012056725A1 (ja) * 2010-10-29 2012-05-03 富士フイルム株式会社 放射線位相画像撮影装置および放射線画像検出器
KR20190122436A (ko) * 2018-04-20 2019-10-30 세심광전자기술(주) 액정 엑스선 검출기

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6707059B1 (en) 1999-07-22 2004-03-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Solid state radiation detector
JP3785571B2 (ja) 2001-11-27 2006-06-14 富士写真フイルム株式会社 固体検出器
US8243876B2 (en) 2003-04-25 2012-08-14 Rapiscan Systems, Inc. X-ray scanners
JP2004344480A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd 乳房用画像撮像装置
JP4265964B2 (ja) * 2003-11-12 2009-05-20 富士フイルム株式会社 放射線画像読取方法および装置
JP2005183671A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線画像検出器
JP2006005057A (ja) * 2004-06-16 2006-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線画像記録媒体および画像表示媒体
JP2006100548A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線固体検出器
JP2006245283A (ja) * 2005-03-03 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 画像検出読取装置
JP2006242827A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線固体検出器および放射線固体検出器の試験方法
JP2006261206A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線画像検出器および放射線画像検出システム
US7365353B2 (en) * 2005-05-23 2008-04-29 Fujifilm Corporation Radiation image detector
JP2007027179A (ja) * 2005-07-12 2007-02-01 Fujifilm Holdings Corp 放射線画像検出器
JP2007024611A (ja) * 2005-07-14 2007-02-01 Fujifilm Holdings Corp 放射線画像検出方法およびシステム
JP2007095721A (ja) 2005-09-27 2007-04-12 Fujifilm Corp 放射線画像検出器
JP2007231368A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Fujifilm Corp 蒸着材料蒸発装置
US20080210871A1 (en) * 2006-06-02 2008-09-04 Fujifilm Corporation Radiation image detector
US7820976B2 (en) * 2006-06-02 2010-10-26 Fujifilm Corporation Radiation image detector
JP2008177387A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Fujifilm Corp 放射線画像検出装置
JP2008196032A (ja) * 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 蒸着材料蒸発装置
EP2208089B1 (en) * 2007-10-04 2015-08-12 Danmarks Tekniske Universitet Detector for hard x-radiation
FR2926001A1 (fr) * 2007-12-31 2009-07-03 Commissariat Energie Atomique Dispositif de detection de rayonnements electromagnetiques a couche de transfert isotrope
DE102010013115A1 (de) * 2010-03-26 2011-09-29 Jules Hendrix Auslesesystem für Flachbildschirme-Röntgendetektoren unter Vermeidung von Dünnfilmtransistoren
US8766657B2 (en) * 2011-06-17 2014-07-01 Microsoft Corporation RF proximity sensor
DE102013215714B4 (de) * 2013-08-08 2017-03-09 Siemens Healthcare Gmbh Verfahren zum Betrieb eines direktkonvertierenden Röntgen- und Gammastrahlungsdetektors
US9552069B2 (en) 2014-07-11 2017-01-24 Microsoft Technology Licensing, Llc 3D gesture recognition

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4085327A (en) * 1977-01-14 1978-04-18 General Electric Company Direct charge readout electron radiography apparatus with improved signal-to-noise ratio
DE3236137A1 (de) 1982-09-29 1984-03-29 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Bildaufnahmeeinrichtung
US5196702A (en) * 1987-10-21 1993-03-23 Hitachi, Ltd. Photo-sensor and method for operating the same
EP0574689B1 (en) * 1992-05-20 2000-02-23 Sterling Diagnostic Imaging, Inc. Method and appparatus for acquiring an X-ray image using a thin film transistor array
EP0898421A3 (en) * 1997-08-19 2001-12-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Electrostatic recording member, electrostatic latent image recording apparatus, and electrostatic latent image read-out apparatus
JP3178809B2 (ja) 1998-01-20 2001-06-25 株式会社日立製作所 可搬形記録媒体のアクセス方法
JP3266092B2 (ja) 1998-03-09 2002-03-18 株式会社ニコン 電子カメラ

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6590224B2 (en) 2000-03-22 2003-07-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image storage medium and method of manufacturing the same
US6455867B2 (en) 2000-03-31 2002-09-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image detector having photoconductive layer, linear electrodes transparent to reading light, and signal-readout electrodes shaded from reading light
US6614045B2 (en) 2000-04-14 2003-09-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Imaging apparatus
US6756603B2 (en) 2000-04-14 2004-06-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Imaging apparatus
US6787790B2 (en) 2000-04-24 2004-09-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image information read-out apparatus
US6504166B2 (en) 2000-07-03 2003-01-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and apparatus for recording image in recording medium using photoconductor with reduced dark latent image, and reading image from photoconductor with reduced dark current
US6831291B2 (en) 2001-04-16 2004-12-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for producing alternate striped electrode array in which transparent electrodes alternate with opaque electrodes, based on single mask designed for the opaque electrodes in self-aligned manner
US7265372B2 (en) 2001-05-11 2007-09-04 Fujifilm Corporation Method and apparatus for image recording and image recording medium
US6838690B2 (en) 2001-05-30 2005-01-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and apparatus for recording and reading out an electrostatic latent image
US6940084B2 (en) 2001-07-04 2005-09-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Solid state radiation detector
US6724006B2 (en) 2001-08-14 2004-04-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Solid state radiation detector
US6900452B2 (en) 2002-09-17 2005-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image information recording/reading method and apparatus
US7170081B2 (en) 2002-09-20 2007-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Breast image obtaining method and apparatus
US7297973B2 (en) 2002-09-20 2007-11-20 Fujifilm Corporation Breast image obtaining method and apparatus
US7242005B2 (en) 2002-10-22 2007-07-10 Fujifilm Corporation Radiation detecting cassette and radiation image data management system
EP1416708A1 (en) * 2002-10-28 2004-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and apparatus for image readout
US7259386B2 (en) 2003-05-13 2007-08-21 Fujifilm Corporation Radiation image detector
US7057181B2 (en) 2003-05-14 2006-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation detecting cassette
US6949760B2 (en) 2003-06-06 2005-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation image detector
US7183556B2 (en) 2003-06-09 2007-02-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation detecting cassette
JP2009038096A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Fujifilm Corp 画像撮像装置
WO2012056725A1 (ja) * 2010-10-29 2012-05-03 富士フイルム株式会社 放射線位相画像撮影装置および放射線画像検出器
KR20190122436A (ko) * 2018-04-20 2019-10-30 세심광전자기술(주) 액정 엑스선 검출기
KR102078542B1 (ko) 2018-04-20 2020-02-19 세심광전자기술(주) 액정 엑스선 검출기

Also Published As

Publication number Publication date
EP1041400A2 (en) 2000-10-04
DE60032659D1 (de) 2007-02-15
US6770901B1 (en) 2004-08-03
JP4040201B2 (ja) 2008-01-30
EP1041400B1 (en) 2007-01-03
DE60032659T2 (de) 2007-11-08
EP1041400A3 (en) 2002-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4040201B2 (ja) 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置
JP4127444B2 (ja) 放射線固体検出器
JP4356854B2 (ja) 画像信号読取システム及び画像検出器
JP2003031837A (ja) 画像検出器およびその製造方法、画像記録方法および読取方法並びに画像記録装置および読取装置
US6501089B1 (en) Image detector, fabrication method thereof, image recording method, image recorder, image reading method, and image reader
US6724006B2 (en) Solid state radiation detector
JP2000287034A (ja) 放射線画像データ取得方法および装置
JP2001337171A (ja) 画像記録媒体およびその製造方法
JP3999470B2 (ja) 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置
JP3785571B2 (ja) 固体検出器
US6707059B1 (en) Solid state radiation detector
JP4024460B2 (ja) 放射線固体検出器
JP4091334B2 (ja) 画像記録方法および装置並びに画像記録媒体
JP3983963B2 (ja) 画像検出器およびその製造方法、並びに画像記録/読取方法および装置
JP3945643B2 (ja) 画像読取方法および装置
JP2004134543A (ja) 画像検出器
JP2000346951A (ja) 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置
JP2003035800A (ja) 放射線固体検出器
JP2001160922A (ja) 画像検出器
JP2003209237A (ja) 固体検出器
JP2002334979A (ja) 放射線画像記録方法および装置、並びに放射線画像記録読取方法および装置
JP2002334980A (ja) 放射線画像記録装置および放射線画像記録読取装置
JP2000284055A (ja) 放射線固体検出器、並びにそれを用いた放射線画像記録/読取方法および装置
JP2001284565A (ja) 画像検出器
JP2006242827A (ja) 放射線固体検出器および放射線固体検出器の試験方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050113

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050113

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061130

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070605

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070612

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070809

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071106

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071107

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101116

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111116

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121116

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121116

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131116

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees