JP2000284110A - 液晶用カラーフィルター、その製造方法及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 精度の高いギャップ制御が可能で、製造工程
が簡単でコストの安い、スペーサ材とポジレジストの混
合物をブラックマスク部分のみに設けたカラーフィルタ
ーの製造方法を提供する。 【解決手段】 この製造方法は、カラーフィルターを形
成した透明基板上にスペーサ材とポジレジストの混合物
をカラーフィルター上に加圧しながら塗布し仮焼成する
工程と、透明基板側から露光する工程と、現像によりス
ペーサ材とポジレジストの混合物を上記カラーフィルタ
ーのブラックマスク部分のみに設け、スペーサ材をブラ
ックマスク上に固着接触させる工程を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶用カラーフィ
ルター、その製造方法及び液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＳＴＮ方式又はＴＦＴ方式のカラー液晶
ディスプレイは、スペーサ付の液晶用カラーフィルター
を用いている。このカラーフィルターは、スペーサを介
してＴＦＴ基板等の電子素子基板に取付けられる。この
ようなカラーフィルターは、特開平１０−１１１５０６
号公報に記載されている。同公報によれば、ホトレジス
トとスペーサ材の混合物をスピナーを用いて基板上に塗
布した後、基板の裏面側から露光光を照射することによ
り、遮光層上のみに当該混合物を固着させるものが開示
されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、同公報
に記載のカラーフィルターの場合、殆どのスペーサ材
（球形樹脂ビーズ）がカラーフィルター基板から浮いて
しまう。したがって、スペーサ材を介してカラーフィル
ター基板に取付けられる電子素子基板との間隔が面内で
不均一となり、その画質が劣化する。

【０００４】本発明は、このような課題を解決するため
になされたものであり、画質を向上可能な液晶用カラー
フィルター、その製造方法及び液晶表示装置を提供する
ことを特徴とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、液晶をスイッ
チングする電子素子が複数配列してなる電子素子基板に
対向して取り付けられ、二次元状に配列された複数の着
色樹脂領域と、着色樹脂領域間に配置される遮光層と、
着色樹脂領域及び遮光層を覆う透明電極及び／又は保護
膜よりなる被覆層と、被覆層上に形成され液晶が充填さ
れる空間を提供するためのスペーサとを備える液晶用カ
ラーフィルターにおいて、スペーサは、ポジ型ホトレジ
ストと球状又はファイバ状のスペーサ材との混合物から
なり、遮光層と電子素子基板との間のみに介在し、略全
てのスペーサ材が被覆層に固着接触していることを特徴
とすることを特徴とする。

【０００６】このようなカラーフィルターは、上記混合
物を加圧しながら透明基板の表面側に形成された被覆層
上に塗布する工程と、前記混合物をプリベークする工程
と、透明基板の裏面側から露光光を混合物に照射する工
程と、混合物を現像して遮光層上に混合物の一部を残留
させる工程と、前記混合物の一部をポストベークしてス
ペーサ材を被覆層上に固着接触させる工程とを用いるこ
とによって製造することができる。

【０００７】すなわち、上記混合物を加圧しながら透明
基板の表面側に形成された被覆層上に塗布するので、被
覆層上からスペーサ材が浮くことがなく、このような状
態で裏面側から露光を行うので、遮光層上のみに混合物
を残留させることができる。したがって、スペーサ材の
略全てが被覆層に固着接触することとなり、電子素子基
板との間隔を容易に面内で均一とすることができる。こ
こで、略全てとは９５％以上を意味するものする。ま
た、被覆層の材料は、上記着色樹脂領域及び遮光層を覆
うものであれば、樹脂等の絶縁性材料ばかりでなく、Ｉ
ＴＯ等の導電性材料であってもよい。

【０００８】上記液晶用カラーフィルターに電子素子基
板が取り付けられてなる液晶表示装置は、鮮明な画像を
提供することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、実施の形態に係るカラーフ
ィルターの一例、その製造方法及び液晶表示装置を添付
の図に基づいて説明する。なお、同一要素には同一符号
を用いるものとし、重複する説明は省略する。

【００１０】図１（ａ）はカラーフィルター８の斜視
図、図１（ｂ）はカラーフィルター８の平面図、図２は
図１（ａ）に示したカラーフィルター８のＩＩ−ＩＩ矢
印断面図である。なお、図１（ｂ）においては、着色樹
脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂ、透明電極３及び保護膜４を除いて示
す。

【００１１】透明基板（ガラス）６上には遮光層として
のブラックマスク（ブラックマトリクス）７が格子状に
堆積されており、格子状の遮光層７の開口内には光学フ
ィルターとしての着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂが設けられて
いる。換言すれば、遮光層７は画素間の非表示領域に形
成されている。遮光層７の配置により、これを組み合せ
てなる液晶表示装置（液晶ディスプレイ）のコントラス
トの向上や、光による液晶表示装置の駆動素子の誤動作
を防止することができる。遮光層７としては、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔａなどの金属とそ
の酸化物、窒化物及び／又は炭化物を積層してなる単層
膜、多層膜或いは複合膜や、樹脂中にカーボンブラック
や金属酸化物等からなる遮光剤を分散させた樹脂膜が用
いられる。

【００１２】遮光層７及び着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、
保護膜４によって覆われており、保護膜４上には液晶に
バイアスを与えるための透明電極３が全面に形成されて
いる。

【００１３】なお、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、液晶中
に表示不良の原因となる不純物を溶出しなければ、いか
なる材質のものであっても良い。具体的な材質として
は、任意の光のみを透過するように膜厚制御された無機
膜や、染色、染料分散あるいは顔料分散された樹脂など
がある。これらの膜はスパッタ法等の堆積法、染色或い
は染料又は顔料分散法、電着法、印刷法、インクジェッ
ト法などを用いて形成することができる。この樹脂の種
類には、特に制限は無いが、アクリル、ポリビニルアル
コール、ポリイミドなどを使用することができる。な
お、製造プロセスの簡便さや耐候性などの面から、着色
樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂには、顔料分散された樹脂膜を用い
ることが好ましい。

【００１４】ここで、被覆層３，４上には、スペーサ材
１Ａ（球形樹脂ビーズ）とポジ型ホトレジスト（樹脂）
１Ｂの混合物からなるスペーサ１が複数設けられてい
る。また、被覆層３，４の露出面は略平坦である。スペ
ーサ１は、カラーフィルター８と後述のＴＦＴ（薄膜ト
ランジスタ）基板（電子素子基板）との間に介在し、そ
の液晶が充填される空間を提供する。ここで、スペーサ
１は遮光層７上に位置し、スペーサ材１Ａはその略全て
（９５％以上）が下地の被覆層（透明電極層３，保護膜
４のいずれか）に接触している。したがって、電子素子
基板１２（図４参照）との間隔を面内で均一とすること
ができ、コントラスト比が一定となり、画像の表示むら
等をなくすることが可能となる。

【００１５】スペーサ材１Ａとしては、アルミナ、シリ
カ系等の無機酸化物、ガラス又はプラスチック製の球状
あるいはガラス製のファイバー状のものが使用できる。
スペーサ材１Ａは、液晶セルのギャップを精密に制御で
きるような硬度を有し、平均粒径が３〜１０μｍ程度に
揃っている。スペーサ材１Ａの粒径の精度は±０．３μ
ｍ以下である。

【００１６】ポジ型ホトレジスト１Ｂに用いられる樹脂
としては、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン系樹脂
等の材料が用いられる。スクリーン印刷方式、グラビア
オフセット印刷方式等の印刷法、スプレッドコーティン
グ方式、ローラーコーティング方式等のコート法にてホ
トレジスト１Ｂを加圧しながら塗布するが、塗布方法に
最適な粘度になるよう溶媒で粘度を調整し、スペーサ材
が前記被覆層に固着接触するようにむらなく均一に加圧
する。なお、ホトレジスト１Ｂの厚みは、スペーサ材１
Ａの厚みの約二分の一であり、加圧の条件は塗布方式に
より適宜上記の条件を満たすように選択する。

【００１７】図３は、上記カラーフィルター８を用いた
液晶表示装置２０の斜視図であり、図４は、図３に示し
た液晶表示装置２０のＶＩ−ＶＩ矢印断面図である。液
晶表示装置２０は、液晶の電気光学応答を用いることに
より、画像や文字の表示を行うものであって、情報処理
などに用いられる。具体的には、パソコン、ワードプロ
セッサー、ナビゲーションシステム、液晶テレビ、ビデ
オなどの表示画面や、液晶プロジェクターなどに用いら
れる。

【００１８】透明基板６上の露出面には偏光板９が設け
られ、カラーフィルター８が構成されている。また、図
２に示したスペーサ１の露出面上には配向膜（図示せ
ず）が樹脂の塗布及びラビング処理によって形成され、
この上にＴＦＴ基板１２が取付けられる。カラーフィル
ター８とＴＦＴ基板１２との間にはスペーサ１及びカラ
ーフィルター８の外周部に位置する外枠１５が設けられ
ており、これらによって規定される空間内にネマティッ
ク液晶からなる液晶層１４が充填される。なお、ＴＦＴ
基板１２は、カラーフィルター８側から透明基板（ガラ
ス）１１及び透明基板１１の露出面に形成された偏光板
１０を順次設けてなり、透明基板１１上には、液晶の偏
光方向をスイッチングによって可変するための画素電極
１３を含む薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）（図示せず）が
画素に対応して設けられている。複数の画素電極１３
は、液晶層１４の遮光層７開口部に対応する領域毎に設
けられている。

【００１９】偏光板又は偏光膜９及び１０の偏光方位は
直交しており、ポリイミド等の有機材料から構成され
る。複数の画素電極１３は、ＴＦＴ基板１２のガラス基
板１１上に形成された複数の薄膜トランジスタにそれぞ
れ接続されており、特定の画素電極１３に所定の電位を
与えると、特定の画素電極１３と透明電極３との間に所
定電圧が印加され、電圧に応じて形成される電界によっ
て、液晶層１４の特定の画素電極１３に対応する領域の
配向が変化する。

【００２０】バックライト１６から出射した白色光ＬＴ
１のうちの特定方向の偏光成分が、偏光板又は偏光膜１
０を通過することによって、液晶層１４に入射する。入
射した偏光は、画素電極１３によって画素毎に分割さ
れ、ＴＦＴによってスイッチングされる液晶層１４の配
向量に応じて偏光方位が変化する。画素電極１３毎に分
割された光は、カラーフィルター８の着色樹脂Ｒ，Ｇ，
Ｂにそれぞれ入射し、これを透過する。カラーフィルタ
ー８の出射面側には、偏光板又は偏光膜９が設けられて
いるため、液晶層１４の配向量に応じて偏光板又は偏光
膜９を透過する光の光量が変化する。液晶層１４の配向
量は、画素電極１３に与えられる電位に比例するので、
画素電極１３に与える電位を制御することによって、出
射光ＬＴ２の光量を制御することができる。なお、ＴＦ
Ｔ基板１２の代わりに、メタル・インシュレーター・メ
タル（ＭＩＭ）、バリスタ、ダイオードなどのアクティ
ブ素子を有する電子素子基板を用いてもよい。なお、ス
ペーサ１に用いられる材料は樹脂であることが好まし
い。

【００２１】図５は、スペーサ１の配置例について示す
ためのカラーフィルター８の平面図である。スペーサ１
は行方向に伸びる遮光層７上及びこれと列方向に伸びる
遮光層７の交点上に配置してもよく（図５（Ａ）、ま
た、これに加えて列方向に伸びる遮光層７の適当な位置
に配置してもよい（図５（Ｂ）。また、スペーサ１は行
方向に伸びる遮光層７と列方向に伸びる遮光層７と交点
上のみに配置してもよく（図５（Ｃ）、この交点を外す
ように配置してもよい（図５（Ｄ））。

【００２２】これらの配置のためには、例えば、スクリ
ーン印刷機を用いる。図５（Ａ）の配置を行うために
は、スクリーン印刷機のマスクパターンの開口部をブラ
ックマトリクス７の行方向位置にのみスペーサ材１とポ
ジレジスト２の混合物とを形成するよう設計する。図５
（Ｂ）の配置を行うためには、スクリーン印刷機のマス
クパターンの開口部をブラックマトリクス７の列方向位
置にのみスペーサ材１とポジレジスト２の混合物とを形
成するよう設計する。図５（Ｃ）の配置を行うために
は、スクリーン印刷機のマスクパターンの開口部をブラ
ックマトリクス７の行列交点位置にのみスペーサ材１と
ポジレジスト２の混合物とを形成するよう設計する。ま
た、図５（Ｄ）の配置を行うためには、交点以外の位置
にこれらを形成すればよい。

【００２３】図６は、スペーサ１を備えたカラーフィル
ターの製造方法を説明するための説明図である。まず、
可視光及び露光光に対して透明な透明基板６を用意し、
透明基板６上にホトリソグラフィ技術を用いて格子状の
遮光層７を形成する。次に、遮光層７の開口内に、赤、
緑、青に着色したホトレジストを順次ホトリソグラフィ
技術を用いて形成し、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂを形成す
る。さらに、この上に樹脂からなる保護膜４を形成し、
保護膜４上に透明電極３を堆積する（図６（ａ））。

【００２４】以下、これらの形成方法について詳説す
る。まず、遮光層７の形成方法について説明する。最初
に、遮光層７の構成材料を透明基板６の全面にスパッタ
法を用いて堆積する。遮光層７の形成方法として、ＣＶ
Ｄ法又は蒸着法を用いてもよい。次に、ポジ型のホトレ
ジストを遮光層７の構成材料表面上に塗布した後、プリ
ベークを行い、ホトレジストに複数の開口を有するパタ
ーンを光照射し、ホトレジストを感光させた後、ホトレ
ジストの感光領域を有機溶剤を用いて溶解することによ
り現像し、ベーキングを行い、複数の開口を有するホト
レジスト層を遮光層７の構成材料上に形成する。

【００２５】さらに、ホトレジスト層をマスクとして、
所定のエッチング液をホトレジスト層の開口直下の領域
に接触させて、これらの領域をエッチングし、エッチン
グの終了後、ホトレジスト層を有機溶剤を用いて遮光層
７上から除去し、複数の開口を有する遮光層７を形成す
る。

【００２６】また、遮光層７が樹脂からなる場合は、以
下のようにして遮光層７を形成する。まず、樹脂とカー
ボンブラック又は金属酸化物等の遮光剤から構成される
ネガ型のホトレジストを、スピンコーター等のレジスト
塗布装置により透明基板６全面に塗布し、プリベークす
る。次に、このホトレジスト層をマスク露光し、非感光
領域のホトレジストを有機溶剤を用いて除去した後、ベ
ーキングを行うことにより、所定の開口パターンを有す
る遮光層７を形成する。

【００２７】次に、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂの形成工程
について詳説する。遮光層７の形成後、赤色の顔料を含
むことにより、赤色に着色されたネガ型のホトレジスト
を、スピンコーター等のレジスト塗布装置により遮光層
７上全面に塗布する。しかる後、ホトレジストの塗布さ
れた基板をプリベークし、均一な厚みを有するホトレジ
スト層を形成する。次に、このホトレジスト層を露光
し、非感光領域のホトレジストを有機溶剤を用いて除去
した後、ベーキングを行い、遮光層７の所定の開口内に
赤色の樹脂Ｒを形成する。さらに、赤色のホトレジスト
に代えて、緑色に着色されたホトレジスト及び青色に着
色されたホトレジストを用い、赤色の樹脂Ｒの形成工程
と同様の方法を用いて、遮光層７の所定の開口内に緑色
の樹脂Ｇ及び青色の樹脂Ｂを形成する。

【００２８】次に、保護膜４の形成工程について説明す
る。着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂ上に、その表面が均一にな
るように、スピンコーター等の塗布装置によりホトレジ
ストを塗布し、これをプリベークし、その後ベーキング
を行い保護膜４を形成する。なお、保護膜４は必要に応
じて形成する。

【００２９】次に、透明電極３の形成方法について説明
する。透明電極３は保護膜４の表面上全面にスパッタ法
で形成する。透明電極３の製造方法として、ＣＶＤ法又
は蒸着法を用いてもよい。なお、透明電極３は必要に応
じて形成する。

【００３０】次に、透明電極３の全面又は所定領域にポ
ジ型ホトレジストからなる樹脂層２及びスペーサ材１Ａ
からなる混合物を加圧しながら塗布し、該混合物のプリ
ベーク（ソフトベーク）の後、基板裏面側から樹脂層２
に露光光を照射する（図６（ｂ））。

【００３１】この露光によって、樹脂層２の遮光層７直
上以外の相当部分（混合物の一部）に潜像濃度分布が形
成され、これを現像処理し、続いてポストベーク（ハー
ドベーク）となるベーキングを現像によって残留した上
記混合物の一部に対して行うことによって、遮光層７上
の樹脂層２（混合物の一部）のみが残留して固化し、ホ
トレジスト１Ｂが形成される（図６（ｃ））。

【００３２】なお、上記スペーサ材１Ａとポジ型ホトレ
ジスト１Ｂの混合物を加圧しながら塗布する方法とし
て、印刷法又はロールコート法を使用することができ
る。

【００３３】勿論、これらの方法を用いて、混合物を下
地の全面に形成してもよいが、スクリーン印刷機による
印刷法では、スクリーン印刷機のスクリーンの開口部を
所定のパターン、例えば、遮光層７のラインに沿うよう
に設計してスペーサ材１Ａとポジ型ホトレジスト１Ｂの
混合物をカラーフィルター８上に塗布し、プリベークす
る。その後、透明基板６側からこれを露光し、現像し、
ポストベークすることにより、スペーサ材１Ａとポジ型
ホトレジスト１Ｂの混合物をカラーフィルター８上の上
記所定部分のみに設けることもできる。

【００３４】なお、上記着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、ス
トライプ状に配置されてたが、図７に示すように、これ
はマトリックス状に配置してもよい。この場合において
も、遮光層７は、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂの透過光を分
離するように配置される。

【００３５】以上、説明したように、上記液晶用カラー
フィルターは、液晶１４をスイッチングする電子素子が
複数配列してなる電子素子基板１２に対向して取り付け
られ、二次元状に配列された複数の着色樹脂領域Ｒ，
Ｇ，Ｂと、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂの透過光を分離する
遮光層７と、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂ及び遮光層７を覆
う被覆層３，４と、被覆層３，４上に形成され液晶１４
が充填される空間を提供するためのスペーサ１とを備え
る液晶用カラーフィルターにおいて、スペーサ１は、ス
ペーサ材１Ａとポジ型ホトレジスト１Ｂの混合物からな
り、遮光層７と電子素子基板１２との間のみに介在し、
略全てのスペーサ材１Ａが被覆層３，４に固着接触して
いる。

【００３６】このようなカラーフィルター８は、上記混
合物を加圧しながら透明基板６の表面側に形成された被
覆層３，４上に塗布する工程と、この混合物をプリベー
クする工程と、透明基板６の裏面側から露光光を混合物
に照射する工程と、混合物を現像して遮光層７上に該混
合物の一部を残留させる工程と、前記混合物の一部をポ
ストベークしてスペーサ材１Ａを該被覆３，４層上に固
着接触させる工程とを用いることによって製造すること
ができる。

【００３７】すなわち、上記混合物を加圧しながら透明
基板６の表面側に形成された被覆層３，４上に塗布する
ので、被覆層３，４上からスペーサ材１Ａが浮くことが
なく、このような状態で裏面側から露光を行うので、遮
光層７上のみに混合物を残留させることができる。した
がって、スペーサ材１Ａの略全てが被覆層３，４に固着
接触することとなり、電子素子基板１２との間隔を容易
に面内で均一とすることができる。また、上記液晶用カ
ラーフィルター８に電子素子基板１２が取り付けられて
なる液晶表示装置は、鮮明な画像を提供することができ
る。

【００３８】

【実施例】偏光板９を除いた上記カラーフィルター８を
製造した。上述のように、透明基板６を用意し、透明基
板６上にホトリソグラフィ技術を用いてクロム、マンガ
ン及び又はチタン等の金属と、当該金属の酸化物、窒化
物及び／又は炭化物を積層してなる格子状の遮光層７を
形成した。

【００３９】次に、遮光層７の開口内に、赤、緑、青に
着色したホトレジストを順次ホトリソグラフィ技術を用
いて形成し、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂを形成した。さら
に、この上に樹脂からなる保護膜４を形成し、保護膜４
上に透明電極３を堆積した。

【００４０】次に、基板をアセトンを用いて超音波洗浄
する（１０分間）。次に上記混合物を製造する。ポジ型
ホトレジスト（ＦＨ２０３０（富士フィルムオーリン
製））１Ｂに平均粒径５μｍのスペーサ材１Ａ（プラス
チックスペーサＳＰ２０５（積水ファインケミカル
製））を加え、マグネットスターラーで混合した（１０
分間）。なお、ポジ型ホトレジスト１Ｂとスペーサ材１
Ａの混合比は、重量比で１００対０．１である。

【００４１】次に、３０メッシュのＳＵＳ製スクリーン
マスクをスクリーン印刷機にセットする。このスクリー
ン印刷機を用いて、カラーフィルター上に上記混合物を
粘度調整した後、全面塗布し、続いて、これを熱風オー
ブン用いてプリベークした（９０℃、１０分間）。

【００４２】その後、５００Ｗの超高圧水銀灯を光源と
した露光機により、透明基板６側からこれを露光量１０
００ｍｊ／ｃｍ²で露光した。更に、室温（２３゜Ｃ）
の０．５％ＮａＯＨ現像液にこれを１０分間浸漬して現
像することにより、露光部分の混合物を除去した。しか
る後、これを熱風オーブン用いてポストベークすること
により（２２０℃、１時間）、図１に示したカラーフィ
ルター８が完成した。

【００４３】このカラーフィルター８を走査型電子顕微
鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、そのスペーサ形成面積
内のスペーサ材１Ａの少なくとも９５％以上が下地に接
触していた。

【００４４】上記に説明した製造方法は、製造工程が簡
単でコストの安い方法である。さらに、この上に配向膜
を作製した後、ラビング、ラビングした配向膜を表面に
有する対向電極基板の接着、液晶の注入、封止、偏光膜
の接着等の一連の操作を行うことにより製造された液晶
表示装置は、従来の液晶表示装置よりも、精度の高いギ
ャップ制御が可能なためコントラスト比が一定となり、
画像のむら等の無く、表示性能が優れるものである。

【００４５】

【発明の効果】本発明によれば、スペーサ材の略全てが
被覆層に接触することとなり、電子素子基板との間隔を
容易に面内で均一とすることができる。このような高精
度のギャップ制御は、液晶表示装置におけるコントラス
ト比を一定とし、画像の表示むら等の抑制して画質を向
上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】カラーフィルターの斜視図（ａ）及び平面図
（ｂ）。

【図２】図１に示したカラーフィルター８のＩＩ−ＩＩ
矢印断面図。

【図３】カラーフィルター８を用いた液晶表示装置２０
の斜視図。

【図４】図３に示した液晶表示装置２０のＶＩ−ＶＩ矢
印断面図。

【図５】スペーサ１の配置例について示すためのカラー
フィルター８の平面図。

【図６】スペーサ１を備えたカラーフィルターの製造方
法を説明するための説明図。

【図７】カラーフィルターの斜視図。

【符号の説明】

１…スペーサ、２…樹脂層、３…透明電極、４…保護
膜、５…着色樹脂領域、６…透明基板、７…ブラックマ
トリクス、８…カラーフィルター、９…偏光板、１０…
偏光板、１１…透明基板、１２…ＴＦＴ基板、１３…画
素電極、１４…液晶層、１５…外枠、１６…バックライ
ト、２０…液晶ディスプレイ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤沢 幸一 茨城県つくば市北原６ 住友化学工業株式 会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA11 BA16 BA17 BA19 BA29 BA43 BA52 BA55 BA62 BA66 BB02 BB14 BB24 BB37 BB42 2H089 LA12 MA01X MA04X NA06 NA08 NA14 NA15 PA09 QA14 TA13 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB08 FC10 FD02 GA08 LA30

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶をスイッチングする電子素子が複数
   配列してなる電子素子基板に対向して取り付けられ、二
   次元状に配列された複数の着色樹脂領域と、前記着色樹
   脂領域間に配置される遮光層と、前記着色樹脂領域及び
   前記遮光層を覆う透明電極及び／又は保護膜よりなる被
   覆層と、前記被覆層上に形成され前記液晶が充填される
   空間を提供するためのスペーサとを備える液晶用カラー
   フィルターにおいて、 前記スペーサは、ポジ型ホトレジストと球状又はファイ
   バ状のスペーサ材との混合物からなり、前記遮光層と前
   記電子素子基板との間のみに介在し、略全てのスペーサ
   材が前記被覆層に固着接触していることを特徴とする液
   晶用カラーフィルター。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のカラーフィルターの製
   造方法において、前記混合物を加圧しながら前記透明基
   板の表面側に形成された前記被覆層上に塗布する工程
   と、前記混合物をプリベークする工程と、前記透明基板
   の裏面側から露光光を前記混合物に照射する工程と、前
   記混合物を現像して前記遮光層上に前記混合物の一部を
   残留させる工程と、前記混合物の一部をポストベークし
   てスペーサ材を前記被覆層上に固着接触させる工程と、
   を備えることを特徴とする液晶用カラーフィルターの製
   造方法。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の前記液晶用カラーフィ
   ルターに前記電子素子基板が取り付けられてなる液晶表
   示装置。