JP2000285436A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP2000285436A JP2000285436A JP9023299A JP9023299A JP2000285436A JP 2000285436 A JP2000285436 A JP 2000285436A JP 9023299 A JP9023299 A JP 9023299A JP 9023299 A JP9023299 A JP 9023299A JP 2000285436 A JP2000285436 A JP 2000285436A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ブロックエラ−レ−トが小さく、信頼性の高
い磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 磁性層の厚さが0.2μm以下、磁性層
に含まれる磁性粉が長軸長(L)0.15μm以下で、
長軸長(L)と最短記録波長(λ)の関係がL/λ≦1
/3を満たすCo及び希土類元素を含有する強磁性鉄系
合金粉からなり、ヘキサンで洗浄後に磁性層表面をES
CAで測定したときのAl/(Fe+Co)原子比が
1.5〜2.5であり、かつ磁性層の任意の10点を光
干渉表面粗さ計で測定した時のP−Vがいずれも10〜
50nmの範囲にあり、かつバックコ−ト層の任意の1
0点を光干渉表面粗さ計で測定した時のP−Vがいずれ
も20〜50nmの範囲にある磁気記録媒体。
い磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 磁性層の厚さが0.2μm以下、磁性層
に含まれる磁性粉が長軸長(L)0.15μm以下で、
長軸長(L)と最短記録波長(λ)の関係がL/λ≦1
/3を満たすCo及び希土類元素を含有する強磁性鉄系
合金粉からなり、ヘキサンで洗浄後に磁性層表面をES
CAで測定したときのAl/(Fe+Co)原子比が
1.5〜2.5であり、かつ磁性層の任意の10点を光
干渉表面粗さ計で測定した時のP−Vがいずれも10〜
50nmの範囲にあり、かつバックコ−ト層の任意の1
0点を光干渉表面粗さ計で測定した時のP−Vがいずれ
も20〜50nmの範囲にある磁気記録媒体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体にお
いて、ブロックエラ−レ−トの低い、信頼性の高い磁気
記録媒体に関する。
いて、ブロックエラ−レ−トの低い、信頼性の高い磁気
記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気テ−プは、オ−デイオテ−プ、ビデ
オテ−プ、コンピユ−タ−テ−プなど種々の用途がある
が、特にデ−タバックアップ用テ−プの分野ではバック
アップ対象となるハ−ドディスクの大容量化に伴い、1
巻当たり数十GBの記憶容量のものが商品化されてお
り、今後ハ−ドディスクのさらなる大容量化に対応する
ためバックアップテ−プの高密度化は不可欠である。
オテ−プ、コンピユ−タ−テ−プなど種々の用途がある
が、特にデ−タバックアップ用テ−プの分野ではバック
アップ対象となるハ−ドディスクの大容量化に伴い、1
巻当たり数十GBの記憶容量のものが商品化されてお
り、今後ハ−ドディスクのさらなる大容量化に対応する
ためバックアップテ−プの高密度化は不可欠である。
【0003】このような高密度化に対応する磁気テ−プ
としては、強磁性粉の磁気特性の改善や、強磁性粉の分
散性の向上などの手段、さらに媒体−ヘッド間のスペ−
シングロスを小さくする手段などが必要となつてきてい
る。
としては、強磁性粉の磁気特性の改善や、強磁性粉の分
散性の向上などの手段、さらに媒体−ヘッド間のスペ−
シングロスを小さくする手段などが必要となつてきてい
る。
【0004】強磁性粉の磁気特性の改善としては、磁性
層に残留する磁化の度合いが大きい方が、高出力化に望
ましいため、磁性粉としては従来の酸化物磁性粉や、コ
バルト含有酸化鉄磁性粉に代わり、強磁性鉄系合金粉が
主流になりつつあり、保磁力1,500Oe以上の強磁
性鉄系合金粉が提案されている(たとえば、特開平5−
234064号公報、特開平6−25702号公報、特
開平6−139553号公報など)。
層に残留する磁化の度合いが大きい方が、高出力化に望
ましいため、磁性粉としては従来の酸化物磁性粉や、コ
バルト含有酸化鉄磁性粉に代わり、強磁性鉄系合金粉が
主流になりつつあり、保磁力1,500Oe以上の強磁
性鉄系合金粉が提案されている(たとえば、特開平5−
234064号公報、特開平6−25702号公報、特
開平6−139553号公報など)。
【0005】また、強磁性粉の分散性を上げるための手
段としては、スルホン酸基、リン酸基またはこれらのア
ルカリ金属塩などの極性官能基を有する結合剤を用いた
り、結合剤とともに低分子量の分散剤を併用したり、ま
た磁性塗料の混練分散工程を連続的に行つたり、分散後
に潤滑剤を後添加するなどの手段が提案されている(た
とえば、特開平62−23226号公報、特開平2−1
01624号公報、特開平3−216812号公報、特
開平3−17827号公報、特開平4−47586号公
報、特開平8−235566号公報など)。
段としては、スルホン酸基、リン酸基またはこれらのア
ルカリ金属塩などの極性官能基を有する結合剤を用いた
り、結合剤とともに低分子量の分散剤を併用したり、ま
た磁性塗料の混練分散工程を連続的に行つたり、分散後
に潤滑剤を後添加するなどの手段が提案されている(た
とえば、特開平62−23226号公報、特開平2−1
01624号公報、特開平3−216812号公報、特
開平3−17827号公報、特開平4−47586号公
報、特開平8−235566号公報など)。
【0006】さらに、テ−プ−ヘッド間のスペ−シング
ロスを小さくする手段としては、上記の磁性粉の分散性
を上げる手段のほか、カレンダ−工程において高温、高
圧条件で磁性層の平滑化処理を行つたり、磁性層の下に
非磁性の下塗り層を設けて、非磁性支持体の表面性によ
る磁性層表面への影響を抑制するなどの手段が提案され
ている(たとえば、特公昭64−1297号公報、特公
平7−60504号公報、特開平4−19815号公報
など)。
ロスを小さくする手段としては、上記の磁性粉の分散性
を上げる手段のほか、カレンダ−工程において高温、高
圧条件で磁性層の平滑化処理を行つたり、磁性層の下に
非磁性の下塗り層を設けて、非磁性支持体の表面性によ
る磁性層表面への影響を抑制するなどの手段が提案され
ている(たとえば、特公昭64−1297号公報、特公
平7−60504号公報、特開平4−19815号公報
など)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近では、
映像、音声、文字などの情報データを符号化処理して記
録するデジタル記録システムが主流になりつつある。
(以降、このようなデジタル記録システムに用いられる
磁気記録媒体をコンピュータテープと称する)。ところ
で、デジタル記録システムにおいては、ドライブをコン
トロ−ラを介してコンピュ−タ本体のバスラインに接続
し、記録時にはコントロ−ラはバスラインからパラレル
デ−タを受け取ると、これをシリアルデ−タに変換し、
一定長のブロックに分割してエラ−検出・訂正のための
冗長ビットを加え、磁気記録媒体上に効率よく記録する
ために一定の規則に従ってデ−タの変換が行われ、変換
されたデ−タがドライブに送られ、磁気記録体上で磁化
パタ−ンとして記録されることとなる。一方、再生時に
はドライブ内でピ−ク検出方式によって、この磁化パタ
−ンから再生デ−タパルスが作られ、コントロ−ラに戻
されることとなる。前記磁化パタ−ンには時間的なゆら
ぎが含まれるため、コントロ−ラは再生デ−タから作成
したウインドウを使用し、位相弁別方式により元のデ−
タ列に戻す必要がある。
映像、音声、文字などの情報データを符号化処理して記
録するデジタル記録システムが主流になりつつある。
(以降、このようなデジタル記録システムに用いられる
磁気記録媒体をコンピュータテープと称する)。ところ
で、デジタル記録システムにおいては、ドライブをコン
トロ−ラを介してコンピュ−タ本体のバスラインに接続
し、記録時にはコントロ−ラはバスラインからパラレル
デ−タを受け取ると、これをシリアルデ−タに変換し、
一定長のブロックに分割してエラ−検出・訂正のための
冗長ビットを加え、磁気記録媒体上に効率よく記録する
ために一定の規則に従ってデ−タの変換が行われ、変換
されたデ−タがドライブに送られ、磁気記録体上で磁化
パタ−ンとして記録されることとなる。一方、再生時に
はドライブ内でピ−ク検出方式によって、この磁化パタ
−ンから再生デ−タパルスが作られ、コントロ−ラに戻
されることとなる。前記磁化パタ−ンには時間的なゆら
ぎが含まれるため、コントロ−ラは再生デ−タから作成
したウインドウを使用し、位相弁別方式により元のデ−
タ列に戻す必要がある。
【0008】しかしながら、デ−タパルスの位置がデ−
タウインドウの幅以上にずれることによりエラ−が生
じ、ブロック内のエラ−が一定量以上になると、訂正不
可能となる。このため、磁気記録媒体側にも、ブロック
エラ−レ−トの低いことが要求されているが、デ−タ記
録密度を向上して1ビット当たりの面積を小さくした大
容量の記録システムにおいては、ウインドウの幅も狭幅
化する必要から、かかるエラ−上昇を避けることができ
ない。また、走行初期においては、ブロックエラ−レ−
トが低い磁気記録媒体であっても、コンピュ−タ用テ−
プでは大容量のバックアップを必要とされる場合が多い
ため、長時間の記録再生されるシステムで利用される場
合には、走行後にブロックエラ−レ−トが上昇するとい
う問題が明らかとなった。特に前記現象は、高温低湿下
で顕著であり、磁気記録媒体とシステムのヘッドコンタ
クトの状態が悪化する状況で頻繁に確認された。
タウインドウの幅以上にずれることによりエラ−が生
じ、ブロック内のエラ−が一定量以上になると、訂正不
可能となる。このため、磁気記録媒体側にも、ブロック
エラ−レ−トの低いことが要求されているが、デ−タ記
録密度を向上して1ビット当たりの面積を小さくした大
容量の記録システムにおいては、ウインドウの幅も狭幅
化する必要から、かかるエラ−上昇を避けることができ
ない。また、走行初期においては、ブロックエラ−レ−
トが低い磁気記録媒体であっても、コンピュ−タ用テ−
プでは大容量のバックアップを必要とされる場合が多い
ため、長時間の記録再生されるシステムで利用される場
合には、走行後にブロックエラ−レ−トが上昇するとい
う問題が明らかとなった。特に前記現象は、高温低湿下
で顕著であり、磁気記録媒体とシステムのヘッドコンタ
クトの状態が悪化する状況で頻繁に確認された。
【0009】本発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行
った結果なされたもので、デジタル方式に利用される磁
気記録媒体において、ブロックエラ−レ−トが小さく、
信頼性の高い磁気記録媒体を提供することを目的として
いる。
った結果なされたもので、デジタル方式に利用される磁
気記録媒体において、ブロックエラ−レ−トが小さく、
信頼性の高い磁気記録媒体を提供することを目的として
いる。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、非磁性支持体上の一面に少なくとも一
層の下塗り層と磁性層とがこの順に形成され、反対面に
バックコ−ト層が形成されており、磁性層の厚さが0.
2μm以下、磁性層に含まれる磁性粉が長軸長(L)
0.15μm以下で、長軸長(L)と最短記録波長
(λ)の関係がL/λ≦1/3を満たすCo及び希土類
元素を含有する強磁性鉄系合金粉からなり、ヘキサンで
洗浄後に磁性層表面をESCA(Electron S
pectroscopy for Chemical A
nalysis、以下ESCAという)で測定したとき
のAL/(Fe+Co)原子比が1.5〜2.5であ
り、かつ磁性層の任意の10点を光干渉計表面粗さで測
定した時のP−V(Peak toValley、以下
P−Vという)が10〜50nmの範囲にあり、かつ前
記バックコ−ト層の任意の10点を光干渉計表面粗さで
測定した時のP−Vが20〜50nmの範囲にすること
により、ブロックエラ−レ−トを低減し、信頼性の高い
磁気記録媒体が得られることを見出した。
めに、本発明は、非磁性支持体上の一面に少なくとも一
層の下塗り層と磁性層とがこの順に形成され、反対面に
バックコ−ト層が形成されており、磁性層の厚さが0.
2μm以下、磁性層に含まれる磁性粉が長軸長(L)
0.15μm以下で、長軸長(L)と最短記録波長
(λ)の関係がL/λ≦1/3を満たすCo及び希土類
元素を含有する強磁性鉄系合金粉からなり、ヘキサンで
洗浄後に磁性層表面をESCA(Electron S
pectroscopy for Chemical A
nalysis、以下ESCAという)で測定したとき
のAL/(Fe+Co)原子比が1.5〜2.5であ
り、かつ磁性層の任意の10点を光干渉計表面粗さで測
定した時のP−V(Peak toValley、以下
P−Vという)が10〜50nmの範囲にあり、かつ前
記バックコ−ト層の任意の10点を光干渉計表面粗さで
測定した時のP−Vが20〜50nmの範囲にすること
により、ブロックエラ−レ−トを低減し、信頼性の高い
磁気記録媒体が得られることを見出した。
【0011】
【発明の実施の形態】一般に、ブロックエラ−レ−トを
改善する手段としては、S/N比、分解能を向上するこ
と、ドロップアウトを低減すること及びモジュレ−ショ
ン不良を低減することが考えられる。すなわち、理想的
状態では、デ−タパルスはウインドウの中心にあり、ウ
インドウ幅に対して±50%のマ−ジンがある。しかし
ながら、実際の磁気記録媒体では、再生信号のピーク位
置が磁化パターンのゆらぎの影響で前後にずれ、ウイン
ドウ幅から飛び出した場合がデジタルエラ−として検出
されることとなる。従って、エラ−の減少のためには、
前記マ−ジンを大きくする必要があるが、このマ−ジン
に寄与するパラメ−タとして、前記のような磁気記録媒
体の特性を改善する必要がある。
改善する手段としては、S/N比、分解能を向上するこ
と、ドロップアウトを低減すること及びモジュレ−ショ
ン不良を低減することが考えられる。すなわち、理想的
状態では、デ−タパルスはウインドウの中心にあり、ウ
インドウ幅に対して±50%のマ−ジンがある。しかし
ながら、実際の磁気記録媒体では、再生信号のピーク位
置が磁化パターンのゆらぎの影響で前後にずれ、ウイン
ドウ幅から飛び出した場合がデジタルエラ−として検出
されることとなる。従って、エラ−の減少のためには、
前記マ−ジンを大きくする必要があるが、このマ−ジン
に寄与するパラメ−タとして、前記のような磁気記録媒
体の特性を改善する必要がある。
【0012】本発明は、前記見地からなされたものであ
り、まずS/N比を向上するため、磁性層中に含ませる
磁性粉として、強磁性鉄系合金磁性粉の中でも、とくに
長軸長(L)0.15μm以下で、長軸長(L)と最短
記録波長(λ)の関係がL/λ≦1/3を満たすCoお
よび希土類元素を含有する強磁性鉄系合金磁性粉が用い
られる。
り、まずS/N比を向上するため、磁性層中に含ませる
磁性粉として、強磁性鉄系合金磁性粉の中でも、とくに
長軸長(L)0.15μm以下で、長軸長(L)と最短
記録波長(λ)の関係がL/λ≦1/3を満たすCoお
よび希土類元素を含有する強磁性鉄系合金磁性粉が用い
られる。
【0013】すなわち、本発明は後述するように、高い
分解能を得るため磁性層厚みを0.2μm以下としなけ
ればならないが、この薄層化により従来の粒子径の大き
な磁性粉では磁性層中の充填量が減少するため、磁気特
性が劣化し、高い出力が得られないこととなる。このた
め、本発明は長軸長(L)が0.15μm以下、より好
ましくは0.10μm以下0.05μm以上の超微粒子
の強磁性鉄系合金磁性粉を用いることにより、磁性層中
の磁性粉の充填性を向上し、高い残留磁化を得るととも
に、磁性粉中にCoを含有することにより、磁性粉自体
の飽和磁化量、保磁力等の磁気特性を向上し、磁性層厚
みが0.2μm以下で最短記録波長が0.5μm以下の
高密度記録においても高い出力を達成することができ
る。
分解能を得るため磁性層厚みを0.2μm以下としなけ
ればならないが、この薄層化により従来の粒子径の大き
な磁性粉では磁性層中の充填量が減少するため、磁気特
性が劣化し、高い出力が得られないこととなる。このた
め、本発明は長軸長(L)が0.15μm以下、より好
ましくは0.10μm以下0.05μm以上の超微粒子
の強磁性鉄系合金磁性粉を用いることにより、磁性層中
の磁性粉の充填性を向上し、高い残留磁化を得るととも
に、磁性粉中にCoを含有することにより、磁性粉自体
の飽和磁化量、保磁力等の磁気特性を向上し、磁性層厚
みが0.2μm以下で最短記録波長が0.5μm以下の
高密度記録においても高い出力を達成することができ
る。
【0014】一方、S/N比は相対的なものであるた
め、前記磁性粉を用いて出力を高くしても、同時にノイ
ズも高い場合には、S/N比は低下することとなり、エ
ラ−上昇を避けることができない。
め、前記磁性粉を用いて出力を高くしても、同時にノイ
ズも高い場合には、S/N比は低下することとなり、エ
ラ−上昇を避けることができない。
【0015】本発明者等は、かかるノイズの低下につい
て検討した結果、本発明の0.15μm以下の強磁性鉄
系合金磁性粉で、その長軸長(L)と最短記録波長
(λ)の関係を、L/λ≦1/3の関係を具備し、希土
類元素を含有する磁性粉を用いることにより解決できる
ことを見出したものである。
て検討した結果、本発明の0.15μm以下の強磁性鉄
系合金磁性粉で、その長軸長(L)と最短記録波長
(λ)の関係を、L/λ≦1/3の関係を具備し、希土
類元素を含有する磁性粉を用いることにより解決できる
ことを見出したものである。
【0016】すなわち、媒体から発生するノイズは、磁
性粉に起因する粒子性ノイズがその1つの要因である。
この粒子性ノイズは磁性粉の粒子の大きさ、粒度の不均
一さの両者に起因すると考えられる。従って、まず、粒
子の大きさを低減することが必要であるが、本発明者等
の検討によれば、磁性粉の長軸長(L)と最短記録波長
(λ)の関係がL/λ≦1/3とし、ヘッド出力に寄与
する一定面積中の磁性粒子数を増加させ、デ−タ記録箇
所の相違による一定面積中の磁化量のバラツキを防止
し、この粒子の大きさに基づくノイズを低減できること
を見出した。また、上記のような最短記録波長に対して
1/3以下の微粒子の磁性粉を用いることにより、粒子
サイズの大きさに起因するノイズは低減できるが、粒度
の不均一さに起因する粒子性ノイズは低減できないこと
となる。言い換えれば、各磁性粉の大きさにバラツキが
あるとデ−タが未記録状態でも、ヘッド出力に寄与する
一定面積中に存在する磁性粒子から発生する磁束にバラ
ツキが生じて、へッド出力が0、すなわち上記磁束の合
計が0になりにくいこととなる。このため、デ−タ記録
箇所の相違による出力差が生じて、ノイズが増加する原
因となる。これは信号が記録された状態では出力変動に
基づくノイズも重畳されるため、さらにノイズが増加
し、相対的なS/N比を低減させることとなる。特に、
最近のコンピュ−タ用テ−プに用いられる、最短記録波
長(λ)が0.5μm以下となると、トラック密度、線
記録密度の両者とも高くする必要から、隣接するデ−タ
間の磁束の影響が大きくなる。
性粉に起因する粒子性ノイズがその1つの要因である。
この粒子性ノイズは磁性粉の粒子の大きさ、粒度の不均
一さの両者に起因すると考えられる。従って、まず、粒
子の大きさを低減することが必要であるが、本発明者等
の検討によれば、磁性粉の長軸長(L)と最短記録波長
(λ)の関係がL/λ≦1/3とし、ヘッド出力に寄与
する一定面積中の磁性粒子数を増加させ、デ−タ記録箇
所の相違による一定面積中の磁化量のバラツキを防止
し、この粒子の大きさに基づくノイズを低減できること
を見出した。また、上記のような最短記録波長に対して
1/3以下の微粒子の磁性粉を用いることにより、粒子
サイズの大きさに起因するノイズは低減できるが、粒度
の不均一さに起因する粒子性ノイズは低減できないこと
となる。言い換えれば、各磁性粉の大きさにバラツキが
あるとデ−タが未記録状態でも、ヘッド出力に寄与する
一定面積中に存在する磁性粒子から発生する磁束にバラ
ツキが生じて、へッド出力が0、すなわち上記磁束の合
計が0になりにくいこととなる。このため、デ−タ記録
箇所の相違による出力差が生じて、ノイズが増加する原
因となる。これは信号が記録された状態では出力変動に
基づくノイズも重畳されるため、さらにノイズが増加
し、相対的なS/N比を低減させることとなる。特に、
最近のコンピュ−タ用テ−プに用いられる、最短記録波
長(λ)が0.5μm以下となると、トラック密度、線
記録密度の両者とも高くする必要から、隣接するデ−タ
間の磁束の影響が大きくなる。
【0017】このため、本発明は、上記粒径の強磁性鉄
系合金粉末で、Coとともに希土類元素を含有する磁性
粉を用いることにより、磁性粉の粒度分布が均一とな
り、この粒度に基づく粒子性ノイズも低減でき、S/N
比を向上できることを見出したものである。しかもこの
ような希土類元素を含有することにより、磁性粉の耐摩
耗性も向上できる点でも好ましい。
系合金粉末で、Coとともに希土類元素を含有する磁性
粉を用いることにより、磁性粉の粒度分布が均一とな
り、この粒度に基づく粒子性ノイズも低減でき、S/N
比を向上できることを見出したものである。しかもこの
ような希土類元素を含有することにより、磁性粉の耐摩
耗性も向上できる点でも好ましい。
【0018】本発明においてCoを含有する強磁性鉄系
合金粉は、ゲ―サイト粉末を焼成してマグネタイト粉
末とし、これをコバルトイオン含有水溶液中で2価の鉄
イオンとコバルトイオンをイオン交換して、加熱還元す
る方法、鉄塩とコバルト塩のアルカリの水系懸濁液か
ら得られるコバルト含有針状ゲ―サイト粉末を加熱還元
する方法、蓚酸水溶液中に添加した鉄塩とコバルト塩
から得た共沈物を還元する方法、表面にコバルトを被
着させた酸化鉄粉末を加熱還元する方法、鉄塩とコバ
ルト塩を含む溶液に還元剤を添加する方法、不活性ガ
ス中で金属を蒸発させ、ガス分子と衝突させて合金磁性
粉を得る方法、水素と窒素やアルゴンとの混合ガス中
で鉄やコバルトの塩化物の蒸気を流しながら、金属に還
元する方法などにより、製造できる。これらの中でも、
高いコバルト量の固溶が可能で、また耐腐食性能にすぐ
れるおよびの方法を併用するのが好ましい。
合金粉は、ゲ―サイト粉末を焼成してマグネタイト粉
末とし、これをコバルトイオン含有水溶液中で2価の鉄
イオンとコバルトイオンをイオン交換して、加熱還元す
る方法、鉄塩とコバルト塩のアルカリの水系懸濁液か
ら得られるコバルト含有針状ゲ―サイト粉末を加熱還元
する方法、蓚酸水溶液中に添加した鉄塩とコバルト塩
から得た共沈物を還元する方法、表面にコバルトを被
着させた酸化鉄粉末を加熱還元する方法、鉄塩とコバ
ルト塩を含む溶液に還元剤を添加する方法、不活性ガ
ス中で金属を蒸発させ、ガス分子と衝突させて合金磁性
粉を得る方法、水素と窒素やアルゴンとの混合ガス中
で鉄やコバルトの塩化物の蒸気を流しながら、金属に還
元する方法などにより、製造できる。これらの中でも、
高いコバルト量の固溶が可能で、また耐腐食性能にすぐ
れるおよびの方法を併用するのが好ましい。
【0019】Coを含有する強磁性鉄系合金粉におい
て、コバルトの量は、多いほど高飽和磁化および高保磁
力を達成できるが、あまりに多すぎると磁性鉄金属との
合金化ができず、余剰分が酸化物となるため、上記特性
を達成できない。したがつて、コバルトの量は、Co/
Feの重量比が10〜40%となる範囲が好ましく、と
くに10〜30%となる範囲がより好ましい。
て、コバルトの量は、多いほど高飽和磁化および高保磁
力を達成できるが、あまりに多すぎると磁性鉄金属との
合金化ができず、余剰分が酸化物となるため、上記特性
を達成できない。したがつて、コバルトの量は、Co/
Feの重量比が10〜40%となる範囲が好ましく、と
くに10〜30%となる範囲がより好ましい。
【0020】また、本発明の微粒子の磁性粉の粒度分布
を均一にするため、Coを含有する強磁性鉄系合金粉へ
の希土類元素の導入については、上記ゲーサイト製造時
にコバルトと同時に、希土類元素を共沈する方法、合金
磁性粉の原料酸化鉄粉を希土類化合物水溶液中へ懸濁さ
せて得る方法などを用いることができる。
を均一にするため、Coを含有する強磁性鉄系合金粉へ
の希土類元素の導入については、上記ゲーサイト製造時
にコバルトと同時に、希土類元素を共沈する方法、合金
磁性粉の原料酸化鉄粉を希土類化合物水溶液中へ懸濁さ
せて得る方法などを用いることができる。
【0021】ここで、本発明に使用される希土類元素と
しては、Nd、Y、La、Ce、Pr,Sm、Gd、Y
b、Tbなどがあげられ、これらの中でもY、La、C
eが好ましい。
しては、Nd、Y、La、Ce、Pr,Sm、Gd、Y
b、Tbなどがあげられ、これらの中でもY、La、C
eが好ましい。
【0022】本発明の強磁性鉄系合金粉に含有される希
土類元素量は、多いほど磁性粉の粒度分布を均一にし、
粒子ノイズを低減し、高いS/N比を達成できる。また
このような磁性粉とバインダとの密着力を増加させるこ
とができ、塗料混練分散工程での磁性粉損傷が防御でき
るため、強固な塗膜構造となり、高速摺動時の強磁性鉄
系合金粉の脱落を防止できるが、余りに多すぎるとCo
含有量が低下し、強磁性鉄系合金粉の飽和磁化量を低下
させるため、希土類元素/(Fe+Co)重量比で0.
1〜10%の範囲が好ましく、0.5〜7%がより好ま
しい。
土類元素量は、多いほど磁性粉の粒度分布を均一にし、
粒子ノイズを低減し、高いS/N比を達成できる。また
このような磁性粉とバインダとの密着力を増加させるこ
とができ、塗料混練分散工程での磁性粉損傷が防御でき
るため、強固な塗膜構造となり、高速摺動時の強磁性鉄
系合金粉の脱落を防止できるが、余りに多すぎるとCo
含有量が低下し、強磁性鉄系合金粉の飽和磁化量を低下
させるため、希土類元素/(Fe+Co)重量比で0.
1〜10%の範囲が好ましく、0.5〜7%がより好ま
しい。
【0023】このようなCoおよび希土類元素を含有す
る強磁性鉄系合金粉には、他の元素として、たとえば、
Zn、Sn、Ni、Mn、Ti、Cr、Cuなどの遷移
金属などを添加することもできる。しかし、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、とくにCaが強磁性合金磁性粉
中に存在すると、これが磁性層中の脂肪酸と反応して磁
性層表面に脂肪酸塩を生成するため、磁性粉の製造時に
洗浄により上記アルカリ金属の混入を避けるようにする
のが好ましい。
る強磁性鉄系合金粉には、他の元素として、たとえば、
Zn、Sn、Ni、Mn、Ti、Cr、Cuなどの遷移
金属などを添加することもできる。しかし、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、とくにCaが強磁性合金磁性粉
中に存在すると、これが磁性層中の脂肪酸と反応して磁
性層表面に脂肪酸塩を生成するため、磁性粉の製造時に
洗浄により上記アルカリ金属の混入を避けるようにする
のが好ましい。
【0024】また、本発明のCoおよび希土類元素を含
有する強磁性鉄系合金粉は、加熱還元時の焼結防止、磁
性塗料中での分散性改善の目的で、粒子表面を無機酸化
物で被覆するのが望ましい。無機酸化物には、アルミニ
ウム酸化物やケイ素酸化物などがあるが、アルミニウム
酸化物が硬さにおいてすぐれており、強磁性鉄系合金粉
の耐摩耗性も向上できるのでとくに好ましい。上記被覆
を行うには、原料酸化鉄粉に対しあらかじめアルミニウ
ム、ケイ素などのアルコ―ル溶液に水を作用させて加水
分解によりこれらの化合物を粒子表面に被着生成させる
方法が用いられる。被覆量は、焼結防止や分散性改善の
ため、Fe及びCoの総和に対する重量比で0.1%以
上とするのが好ましく、またあまりに多すぎると、磁性
粉の飽和磁化量が低下するため、6%以下が好ましい。
つまり、粒子表面をアルミニウム酸化物で被覆する場
合、Al/(Fe+Co)の重量比が0.1〜8%の範
囲となるようにするのがよく、0.5〜6%の範囲とす
るのがより好ましい。
有する強磁性鉄系合金粉は、加熱還元時の焼結防止、磁
性塗料中での分散性改善の目的で、粒子表面を無機酸化
物で被覆するのが望ましい。無機酸化物には、アルミニ
ウム酸化物やケイ素酸化物などがあるが、アルミニウム
酸化物が硬さにおいてすぐれており、強磁性鉄系合金粉
の耐摩耗性も向上できるのでとくに好ましい。上記被覆
を行うには、原料酸化鉄粉に対しあらかじめアルミニウ
ム、ケイ素などのアルコ―ル溶液に水を作用させて加水
分解によりこれらの化合物を粒子表面に被着生成させる
方法が用いられる。被覆量は、焼結防止や分散性改善の
ため、Fe及びCoの総和に対する重量比で0.1%以
上とするのが好ましく、またあまりに多すぎると、磁性
粉の飽和磁化量が低下するため、6%以下が好ましい。
つまり、粒子表面をアルミニウム酸化物で被覆する場
合、Al/(Fe+Co)の重量比が0.1〜8%の範
囲となるようにするのがよく、0.5〜6%の範囲とす
るのがより好ましい。
【0025】さらに、このようなCoおよび希土類元素
を含有する強磁性鉄系合金粉は、高い飽和磁化のため磁
気凝集を起こしやすく、粒子表面が非常に活性となるた
め、磁性塗料中に含まれる溶剤の変成や、結合剤として
使用される架橋剤中のイソシアネ―ト成分の変成などを
引き起こす触媒として作用することから、pHが10未
満、とくに8未満であるのが好ましい。Coおよび希土
類元素を含有する強磁性鉄系合金粉のpH値を10未満
とすることにより、磁性塗料中の変成物の生成を抑制す
ることができ、磁性層形成時にシリンダ−の高速回転時
の摺動に耐え得る塗膜とすることができる。
を含有する強磁性鉄系合金粉は、高い飽和磁化のため磁
気凝集を起こしやすく、粒子表面が非常に活性となるた
め、磁性塗料中に含まれる溶剤の変成や、結合剤として
使用される架橋剤中のイソシアネ―ト成分の変成などを
引き起こす触媒として作用することから、pHが10未
満、とくに8未満であるのが好ましい。Coおよび希土
類元素を含有する強磁性鉄系合金粉のpH値を10未満
とすることにより、磁性塗料中の変成物の生成を抑制す
ることができ、磁性層形成時にシリンダ−の高速回転時
の摺動に耐え得る塗膜とすることができる。
【0026】なお、上記の平均長軸長は、走査型電子顕
微鏡(SEM)にて撮影した写真の粒子サイズを実測
し、100個の平均値により求められるものである。ま
た、上記と同様の理由から、この強磁性鉄系合金粉のB
ET比表面積は、35m2/g以上が好ましく、40m2
/g以上がより好ましく、50m2/g以上が最も好ま
しい。
微鏡(SEM)にて撮影した写真の粒子サイズを実測
し、100個の平均値により求められるものである。ま
た、上記と同様の理由から、この強磁性鉄系合金粉のB
ET比表面積は、35m2/g以上が好ましく、40m2
/g以上がより好ましく、50m2/g以上が最も好ま
しい。
【0027】このようなCoおよび希土類元素を含有す
る強磁性鉄系合金粉の保磁力は、高線記録密度における
短波長記録で高出力および高分解能を得るため、1,7
00〜3,500Oe、とくに2,000〜2,800
Oeであるのが好ましい。飽和磁化量は、高トラツク密
度において良好な再生出力を得るため、また磁性粉の耐
食性を維持するため、120〜200emu/g、とく
に130〜160emu/gであるのが好ましい。角形
比としては、σr/σsが0.46以上、とくに0.4
8以上、さらには0.49以上であるのが望ましい。
る強磁性鉄系合金粉の保磁力は、高線記録密度における
短波長記録で高出力および高分解能を得るため、1,7
00〜3,500Oe、とくに2,000〜2,800
Oeであるのが好ましい。飽和磁化量は、高トラツク密
度において良好な再生出力を得るため、また磁性粉の耐
食性を維持するため、120〜200emu/g、とく
に130〜160emu/gであるのが好ましい。角形
比としては、σr/σsが0.46以上、とくに0.4
8以上、さらには0.49以上であるのが望ましい。
【0028】本発明において、上記のCoおよび希土類
元素を含有する強磁性鉄系合金粉を使用した磁性層の磁
気特性としては、保磁力が1,700〜3,500O
e、とくに2,000〜3,000Oeであるのが望ま
しい。また、残留磁束密度が1,800G以上、とくに
2,000〜4,000Gであるのが好ましい。なお、
この磁性層の磁気特性と、前記のCoおよび希土類元素
を含有する強磁性鉄系合金粉の磁気特性は、いずれも試
料振動形磁束計で外部磁場10kOeでの測定値をいう
ものである。
元素を含有する強磁性鉄系合金粉を使用した磁性層の磁
気特性としては、保磁力が1,700〜3,500O
e、とくに2,000〜3,000Oeであるのが望ま
しい。また、残留磁束密度が1,800G以上、とくに
2,000〜4,000Gであるのが好ましい。なお、
この磁性層の磁気特性と、前記のCoおよび希土類元素
を含有する強磁性鉄系合金粉の磁気特性は、いずれも試
料振動形磁束計で外部磁場10kOeでの測定値をいう
ものである。
【0029】本発明では、上記のCoおよび希土類元素
を含有する強磁性鉄系合金粉を使用することにより、磁
性層の磁気特性を向上し、最短記録波長0.5μm以下
でも高い出力が得られるとともに、磁性粉自体から生ず
るノイズを低減し、高いS/N比を得ることができる。
一方、最短記録波長0.5μm以下の高線記録密度にお
いて磁性層の厚さが厚い場合には、長波長出力は厚さに
応じて大きくなるものの、短波長出力は厚み損失の影響
によりあまり変化しない。このため、長波長出力に比べ
て短波長出力が相対的に低くなつて分解能が著しく低下
し、高保磁力化による自己減磁損失の低減効果による改
善だけでは不十分になる。
を含有する強磁性鉄系合金粉を使用することにより、磁
性層の磁気特性を向上し、最短記録波長0.5μm以下
でも高い出力が得られるとともに、磁性粉自体から生ず
るノイズを低減し、高いS/N比を得ることができる。
一方、最短記録波長0.5μm以下の高線記録密度にお
いて磁性層の厚さが厚い場合には、長波長出力は厚さに
応じて大きくなるものの、短波長出力は厚み損失の影響
によりあまり変化しない。このため、長波長出力に比べ
て短波長出力が相対的に低くなつて分解能が著しく低下
し、高保磁力化による自己減磁損失の低減効果による改
善だけでは不十分になる。
【0030】このような分解能の問題を解決するため、
検討した結果、最短記録波長0.5μm以下の高記録密
度においては、磁性層の厚さを0.2μm以下にしたと
きに、分解能の向上を見出すことができた。すなわち、
本発明では、上記のCo及び希土類元素を含有する強磁
性鉄系合金粉を用いるとともに、磁性層の厚さを0.2
μm以下とすることにより、磁性層の高残留磁束密度
化、高保磁力を達成できるとともに、自己減磁損失を低
減でき、かつ最短記録波長0.5μm以下の高記録密度
においても厚み損失を低減し、エラ−レ−トの低減に寄
与することができる。
検討した結果、最短記録波長0.5μm以下の高記録密
度においては、磁性層の厚さを0.2μm以下にしたと
きに、分解能の向上を見出すことができた。すなわち、
本発明では、上記のCo及び希土類元素を含有する強磁
性鉄系合金粉を用いるとともに、磁性層の厚さを0.2
μm以下とすることにより、磁性層の高残留磁束密度
化、高保磁力を達成できるとともに、自己減磁損失を低
減でき、かつ最短記録波長0.5μm以下の高記録密度
においても厚み損失を低減し、エラ−レ−トの低減に寄
与することができる。
【0031】本発明における磁性層の厚さは、上記の観
点から、0.2μm以下とすることが必要であるが、あ
まりに薄くなりすぎると、磁性層の形成時に塗膜厚さの
均一性を維持することが困難になり、後述する磁性層表
面のP−Vに劣化させるため、また磁性層中に充填しう
る磁性粉が減少して、磁性層の磁気特性が低下する。こ
のため、磁性層の厚さは、0.03μm以上、とくに
0.1〜0.2μmであるのが望ましい。
点から、0.2μm以下とすることが必要であるが、あ
まりに薄くなりすぎると、磁性層の形成時に塗膜厚さの
均一性を維持することが困難になり、後述する磁性層表
面のP−Vに劣化させるため、また磁性層中に充填しう
る磁性粉が減少して、磁性層の磁気特性が低下する。こ
のため、磁性層の厚さは、0.03μm以上、とくに
0.1〜0.2μmであるのが望ましい。
【0032】一方、コンピュ−タテ−プは、大容量のデ
―タを短時間で記録再生するため、高速デ―タ転送を行
う必要があり、特に長尺のテ−プで記録再生するため、
上記のCoおよび希土類元素を含有する強磁性鉄系合金
粉を用いた磁気記録媒体では、従来の強磁性粉を用いた
磁気記録媒体に比べて、常温常湿環境下において走行時
の磁性粉の脱落に基づくテンポラリーエラーには改善が
みられたものの、高温低湿下での走行時に磁性層が傷つ
きやすいため、ドロツプアウトが発生しやすくなり、エ
ラ−レ−トが上昇しやすい。
―タを短時間で記録再生するため、高速デ―タ転送を行
う必要があり、特に長尺のテ−プで記録再生するため、
上記のCoおよび希土類元素を含有する強磁性鉄系合金
粉を用いた磁気記録媒体では、従来の強磁性粉を用いた
磁気記録媒体に比べて、常温常湿環境下において走行時
の磁性粉の脱落に基づくテンポラリーエラーには改善が
みられたものの、高温低湿下での走行時に磁性層が傷つ
きやすいため、ドロツプアウトが発生しやすくなり、エ
ラ−レ−トが上昇しやすい。
【0033】上記問題を解決するため、本発明者等は従
来から磁気ヘッド等との摺接による塗膜強度を向上する
ために使用されている高硬度のアルミナ等の研摩剤や、
カ−ボンブラックの添加量を増やして、磁性層の研磨能
を高めることも試みたが、期待された程の耐久性の向上
が認められず、しかもブロックエラ−レ−トが低下する
という問題が明らかとなった。
来から磁気ヘッド等との摺接による塗膜強度を向上する
ために使用されている高硬度のアルミナ等の研摩剤や、
カ−ボンブラックの添加量を増やして、磁性層の研磨能
を高めることも試みたが、期待された程の耐久性の向上
が認められず、しかもブロックエラ−レ−トが低下する
という問題が明らかとなった。
【0034】このため本発明者等がテ−プ走行後の磁性
層表面及び磁気ヘッドを詳細に渡って検討したところ、
前記コンピュ−タテ−プでの記録再生を行った後の磁気
ヘッドには、磁性層から発生した塵埃と考えられるヘッ
ド汚れが生じ、特に高温低湿下でこの現象が顕著であっ
た。この理由について考察するに、本発明はCo及び希
土類を含有する活性な微粒子の強磁性鉄系合金磁性粉末
を使用することから、塗料分散時にこれらの磁性粉末を
分散するためにバインダ−が多く吸着させる必要がある
が、このため研磨剤あるいはカ−ボンブラックを分散す
るためのバインダ−量が不足し、塗膜中でのこれらの添
加剤の固着力が低下することに起因すると考えられた。
また、本発明のCoおよび希土類元素を含有する強磁性
鉄系合金粉の凝集力の強さから分散性に劣ると考えられ
るため、バインダ−が磁性層表面に偏在することによ
り、高温低湿下ではこれが軟化してヘッドとの摺接時に
剥ぎ取られることにより、ドロップアウトが増加すると
推測された。
層表面及び磁気ヘッドを詳細に渡って検討したところ、
前記コンピュ−タテ−プでの記録再生を行った後の磁気
ヘッドには、磁性層から発生した塵埃と考えられるヘッ
ド汚れが生じ、特に高温低湿下でこの現象が顕著であっ
た。この理由について考察するに、本発明はCo及び希
土類を含有する活性な微粒子の強磁性鉄系合金磁性粉末
を使用することから、塗料分散時にこれらの磁性粉末を
分散するためにバインダ−が多く吸着させる必要がある
が、このため研磨剤あるいはカ−ボンブラックを分散す
るためのバインダ−量が不足し、塗膜中でのこれらの添
加剤の固着力が低下することに起因すると考えられた。
また、本発明のCoおよび希土類元素を含有する強磁性
鉄系合金粉の凝集力の強さから分散性に劣ると考えられ
るため、バインダ−が磁性層表面に偏在することによ
り、高温低湿下ではこれが軟化してヘッドとの摺接時に
剥ぎ取られることにより、ドロップアウトが増加すると
推測された。
【0035】このため本発明では、ヘキサンで洗浄後に
磁性層表面をESCAで測定したときのAL/(Fe+
Co)原子比が1.5〜2.5としたものである。
磁性層表面をESCAで測定したときのAL/(Fe+
Co)原子比が1.5〜2.5としたものである。
【0036】すなわち、本発明では、アルミナを研磨剤
として使用するが、かかる研磨剤の場合、研磨性向上の
ために多量に混入するとバインダ−の不足により粒子同
士が凝集しやすくなり、しかもこのような研磨剤の凝集
体が磁性層表面に存在することによって、これらが磁気
ヘッドからの衝撃を直接受け、本発明の0.2μm以下
と薄層化された磁性層では衝撃を緩和することができ
ず、塗膜が破壊されやすくなる。このため、磁性層表面
のヘキサン洗浄後のESCAによる測定でAl/(Fe
+Co)を前記範囲とすることによりかかる問題を回避
することができると考えられる。
として使用するが、かかる研磨剤の場合、研磨性向上の
ために多量に混入するとバインダ−の不足により粒子同
士が凝集しやすくなり、しかもこのような研磨剤の凝集
体が磁性層表面に存在することによって、これらが磁気
ヘッドからの衝撃を直接受け、本発明の0.2μm以下
と薄層化された磁性層では衝撃を緩和することができ
ず、塗膜が破壊されやすくなる。このため、磁性層表面
のヘキサン洗浄後のESCAによる測定でAl/(Fe
+Co)を前記範囲とすることによりかかる問題を回避
することができると考えられる。
【0037】なお、本発明のAl等、各種元素のESC
Aによる測定条件は、表面潤滑剤の影響による誤差を除
くため、予め長さ5cmに裁断した試料を100mLの
ヘキサンに24時間浸漬して潤滑剤を除去し、乾燥後の
ものを測定試料とし、これをX線励起源にMgKα線を
用い、加速電圧12kV、エミッション電流10mA、
真空度10―6Pa、アナライザーのパスエネルギーを
50eVで、各元素の光電子中、2p電子に由来するも
のを測定したものである。
Aによる測定条件は、表面潤滑剤の影響による誤差を除
くため、予め長さ5cmに裁断した試料を100mLの
ヘキサンに24時間浸漬して潤滑剤を除去し、乾燥後の
ものを測定試料とし、これをX線励起源にMgKα線を
用い、加速電圧12kV、エミッション電流10mA、
真空度10―6Pa、アナライザーのパスエネルギーを
50eVで、各元素の光電子中、2p電子に由来するも
のを測定したものである。
【0038】また、本発明は、モジュレ−ションの改善
によってブロックエラ−レ−トを低減するために、非磁
性支持体と磁性層の間に少なくとも1層の下塗り層を設
けるととともに、磁性層の任意の10点を光干渉式表面
粗さ計で測定した時のP−Vがいずれも10〜50nm
とし、バックコ−ト層の任意の10点を光干渉式表面粗
さ計で測定した時のP−Vがいずれも20〜50nmと
したものである。
によってブロックエラ−レ−トを低減するために、非磁
性支持体と磁性層の間に少なくとも1層の下塗り層を設
けるととともに、磁性層の任意の10点を光干渉式表面
粗さ計で測定した時のP−Vがいずれも10〜50nm
とし、バックコ−ト層の任意の10点を光干渉式表面粗
さ計で測定した時のP−Vがいずれも20〜50nmと
したものである。
【0039】すなわち、前記モジュレ−ション不良によ
るエラ−の上昇は、磁性層のうねりに起因するものと考
えられる。ところが、本発明では前記のように、分解能
改善のために磁性層厚を0.2μm以下と極めて薄層と
するため、磁性層単層でこれを設けた場合、均一な磁性
層を設けることが困難となる。このため、本発明では、
磁性層と非磁性支持体の間に少なくとも1層の下塗り層
を設けることにより、モジュレ−ションの改善を図った
ものである。また、単に磁性層を均一にしても、短波長
記録時においては磁性層表面の形状が均一でなければ、
それによってモジュレ−ションが劣化することが明らか
となった。特にコンピュ−タテ−プのように大容量のテ
−プではS/N比の向上のため表面粗さを極めて平滑に
する必要があるが、このような平滑な表面の磁性層とし
た場合、バックコ−ト層の表面の裏移り現象が顕著とな
るため、さらにモジュレ−ションが劣化することとな
る。かかる問題を解決するため、本発明は、磁性層の任
意の10点のいずれの箇所においても、光干渉式表面粗
さ計で測定したP−Vが10〜50nmで、バックコ−
ト層の任意の10点のいずれの箇所においても、光干渉
計三次元表面粗さでP−Vが20〜50nmと調整する
ことにより、優れたモジュレ−ションを達成できること
を見出したものである。
るエラ−の上昇は、磁性層のうねりに起因するものと考
えられる。ところが、本発明では前記のように、分解能
改善のために磁性層厚を0.2μm以下と極めて薄層と
するため、磁性層単層でこれを設けた場合、均一な磁性
層を設けることが困難となる。このため、本発明では、
磁性層と非磁性支持体の間に少なくとも1層の下塗り層
を設けることにより、モジュレ−ションの改善を図った
ものである。また、単に磁性層を均一にしても、短波長
記録時においては磁性層表面の形状が均一でなければ、
それによってモジュレ−ションが劣化することが明らか
となった。特にコンピュ−タテ−プのように大容量のテ
−プではS/N比の向上のため表面粗さを極めて平滑に
する必要があるが、このような平滑な表面の磁性層とし
た場合、バックコ−ト層の表面の裏移り現象が顕著とな
るため、さらにモジュレ−ションが劣化することとな
る。かかる問題を解決するため、本発明は、磁性層の任
意の10点のいずれの箇所においても、光干渉式表面粗
さ計で測定したP−Vが10〜50nmで、バックコ−
ト層の任意の10点のいずれの箇所においても、光干渉
計三次元表面粗さでP−Vが20〜50nmと調整する
ことにより、優れたモジュレ−ションを達成できること
を見出したものである。
【0040】すなわち、従来からも磁性層表面の平滑性
の指標である平均表面粗さRaを向上することが図られ
ている。本発明者等もかかる観点からRaを極めて平滑
化することにより、出力の向上とともに、モジュレ−シ
ョンを改善できると考え、実際にその検討を行ったが、
今一つ充分な特性が得られなかった。この理由について
考察するに、平均表面粗さRaは、磁性層表面の凹凸を
中心線でならして平均化するものであるのに対し、モジ
ュレ−ション不良の原因は磁性層表面の突出部分あるい
は落ち込み部分の起伏が影響するものであるためと考え
られた。また、従来の表面粗さは、特定点のみを測定し
たものであるのに対し、モジュレ−ションには一定長の
表面粗さが影響するものであり、しかもコンピュ−タ用
テ−プの場合には、全長において一定のブロックエラ−
レ−トである必要から、特定点のみの表面粗さが優れて
いても、全体として均一な表面粗さを有していない場
合、エラ−レ−トが異なってくるという問題が生ずる。
特に、長尺のコンピュ−タ用テ−プでは、高温下でいわ
ゆる巻き締まり現象が大きくなるため、バックコ−ト層
の表面性が磁性層へ転写しやすくなる。この結果磁性層
表面の表面性を劣化させやすくなるため、ブロックエラ
−レ−トが不均一となりやすい。このため、本発明はか
かる磁性層の凹凸を反映する平均表面粗さP−Vで、1
0〜50nm、好ましくは15〜45nmとし、バック
コ−ト層の平均表面粗さP−Vが20〜50nm、好ま
しくは25〜45nmとすることにより、磁性層表面の
起伏に起因するモジュレ−ション不良を改善したもので
ある。すなわち、磁性層の表面粗さP−Vが50nmよ
り大きい場合、磁性層表面の凹凸が顕著となり、モジュ
レ−ションを劣化させることとなる。一方、磁性層のP
−Vが10nm未満では、磁性層単独で測定した場合の
モジュレ−ションは向上するが、表面性が平滑化しすぎ
るため、バックコ−ト層からの転写が顕著となり、バッ
クコ−ト層の表面性に影響されやすくなるため同様にモ
ジュレ−ションを悪化させることとなる。また、前記の
ようにバックコ−ト層の表面性によっても、モジュレ−
ションに影響するため、バックコ−ト層のP−Vが50
nmより大きくなると、前記磁性層への転写が大きくな
り、一方、20nm未満となると、ガイドピンとの摺接
により、粉落ちが生じ易くなり、これが磁性層表面に転
移してドロップアウトを増加させることとなる。なお、
本発明の表面粗さとは非接触表面粗度測定装置TOPO
−3D(WYKO社製)に対物ヘッド(40倍)をセッ
トし、測定波長648.9nm、測定面積250μm×
250μmで傾き、湾曲、円筒補正を加えて、各測定点
の測定回数4回の平均値から各測定点の表面粗さ(P−
V)を測定したものである。
の指標である平均表面粗さRaを向上することが図られ
ている。本発明者等もかかる観点からRaを極めて平滑
化することにより、出力の向上とともに、モジュレ−シ
ョンを改善できると考え、実際にその検討を行ったが、
今一つ充分な特性が得られなかった。この理由について
考察するに、平均表面粗さRaは、磁性層表面の凹凸を
中心線でならして平均化するものであるのに対し、モジ
ュレ−ション不良の原因は磁性層表面の突出部分あるい
は落ち込み部分の起伏が影響するものであるためと考え
られた。また、従来の表面粗さは、特定点のみを測定し
たものであるのに対し、モジュレ−ションには一定長の
表面粗さが影響するものであり、しかもコンピュ−タ用
テ−プの場合には、全長において一定のブロックエラ−
レ−トである必要から、特定点のみの表面粗さが優れて
いても、全体として均一な表面粗さを有していない場
合、エラ−レ−トが異なってくるという問題が生ずる。
特に、長尺のコンピュ−タ用テ−プでは、高温下でいわ
ゆる巻き締まり現象が大きくなるため、バックコ−ト層
の表面性が磁性層へ転写しやすくなる。この結果磁性層
表面の表面性を劣化させやすくなるため、ブロックエラ
−レ−トが不均一となりやすい。このため、本発明はか
かる磁性層の凹凸を反映する平均表面粗さP−Vで、1
0〜50nm、好ましくは15〜45nmとし、バック
コ−ト層の平均表面粗さP−Vが20〜50nm、好ま
しくは25〜45nmとすることにより、磁性層表面の
起伏に起因するモジュレ−ション不良を改善したもので
ある。すなわち、磁性層の表面粗さP−Vが50nmよ
り大きい場合、磁性層表面の凹凸が顕著となり、モジュ
レ−ションを劣化させることとなる。一方、磁性層のP
−Vが10nm未満では、磁性層単独で測定した場合の
モジュレ−ションは向上するが、表面性が平滑化しすぎ
るため、バックコ−ト層からの転写が顕著となり、バッ
クコ−ト層の表面性に影響されやすくなるため同様にモ
ジュレ−ションを悪化させることとなる。また、前記の
ようにバックコ−ト層の表面性によっても、モジュレ−
ションに影響するため、バックコ−ト層のP−Vが50
nmより大きくなると、前記磁性層への転写が大きくな
り、一方、20nm未満となると、ガイドピンとの摺接
により、粉落ちが生じ易くなり、これが磁性層表面に転
移してドロップアウトを増加させることとなる。なお、
本発明の表面粗さとは非接触表面粗度測定装置TOPO
−3D(WYKO社製)に対物ヘッド(40倍)をセッ
トし、測定波長648.9nm、測定面積250μm×
250μmで傾き、湾曲、円筒補正を加えて、各測定点
の測定回数4回の平均値から各測定点の表面粗さ(P−
V)を測定したものである。
【0041】磁性層とバックコート層のP−Vはバック
コート層の方が大きく設計することが好ましく、このよ
うに設計することにより高速巻き取り時、磁性層とバッ
クコート層が重なる際の空気の噛み込みを低減でき、い
わゆる乱巻きを防止できる。そして、乱巻きを防止でき
るため、巻き取り時のテープ変形によるエラレートの上
昇を低減できる。
コート層の方が大きく設計することが好ましく、このよ
うに設計することにより高速巻き取り時、磁性層とバッ
クコート層が重なる際の空気の噛み込みを低減でき、い
わゆる乱巻きを防止できる。そして、乱巻きを防止でき
るため、巻き取り時のテープ変形によるエラレートの上
昇を低減できる。
【0042】次に、本発明の磁気記録媒体の組成及び製
造方法について磁性層、下塗り層の順に説明する。
造方法について磁性層、下塗り層の順に説明する。
【0043】磁性層に使用する結合剤には、塩化ビニル
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル
−ビニルアルコ―ル共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−無水マレイン酸共重合樹脂、ニトロセルロ―スなど
の中から選ばれる少なくとも1種とポリウレタン樹脂と
の組み合わせがある。中でも、塩化ビニル−水酸基含有
アルキルアクリレート共重合樹脂とポリウレタン樹脂を
併用するのが好ましい。ポリウレタン樹脂には、ポリエ
ステルポリウレタン、ポリエ―テルポリウレタン、ポリ
エ―テルポリエステルポリウレタン、ポリカ―ボネ―ト
ポリウレタン、ポリエステルポリカ―ボネ―トポリウレ
タンなどがある。
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル
−ビニルアルコ―ル共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−無水マレイン酸共重合樹脂、ニトロセルロ―スなど
の中から選ばれる少なくとも1種とポリウレタン樹脂と
の組み合わせがある。中でも、塩化ビニル−水酸基含有
アルキルアクリレート共重合樹脂とポリウレタン樹脂を
併用するのが好ましい。ポリウレタン樹脂には、ポリエ
ステルポリウレタン、ポリエ―テルポリウレタン、ポリ
エ―テルポリエステルポリウレタン、ポリカ―ボネ―ト
ポリウレタン、ポリエステルポリカ―ボネ―トポリウレ
タンなどがある。
【0044】これらの結合剤は、Co及び希土類を含有
する強磁性鉄系合金粉の分散性を向上し、充填性を上げ
るために、官能基を有するものが好ましい。官能基とし
ては、COOM,SO3M、OSO3M、P=O(OM)
3、O−P=O(OM)2、(Mは水素原子、アルカリ金
属塩基またはアミン塩)、OH、NR2、N+R3(Rは
水素または炭化水素基)、エポキシ基などがある。2種
以上の樹脂を併用する場合には、官能基を一致させるの
が好ましく、中でも−SO3M基が好ましい。
する強磁性鉄系合金粉の分散性を向上し、充填性を上げ
るために、官能基を有するものが好ましい。官能基とし
ては、COOM,SO3M、OSO3M、P=O(OM)
3、O−P=O(OM)2、(Mは水素原子、アルカリ金
属塩基またはアミン塩)、OH、NR2、N+R3(Rは
水素または炭化水素基)、エポキシ基などがある。2種
以上の樹脂を併用する場合には、官能基を一致させるの
が好ましく、中でも−SO3M基が好ましい。
【0045】これらの結合剤は、Co及び希土類を含有
する強磁性鉄系合金粉100重量部に対して、5〜50
重量部、好ましくは10〜35重量部の範囲で用いられ
る。とくに、結合剤として塩化ビニル系樹脂を用いる場
合は5〜30重量部、ポリウレタン樹脂を用いる場合は
2〜20重量部の範囲とし、これらの両樹脂を上記の使
用割合で組み合わせて用いるのが最も好ましい。
する強磁性鉄系合金粉100重量部に対して、5〜50
重量部、好ましくは10〜35重量部の範囲で用いられ
る。とくに、結合剤として塩化ビニル系樹脂を用いる場
合は5〜30重量部、ポリウレタン樹脂を用いる場合は
2〜20重量部の範囲とし、これらの両樹脂を上記の使
用割合で組み合わせて用いるのが最も好ましい。
【0046】これらの結合剤とともに、結合剤中に含ま
れる官能基などと結合させて架橋する熱硬化性の架橋剤
を併用するのが望ましい。この架橋剤としては、トリレ
ンジイソシアネ―ト、ヘキサメチレンジイソシアネ―
ト、イソホロンジイソシアネ―トなどや、これらのイソ
シアネ―ト類とトリメチロ―ルプロパンなどの水酸基を
複数個有するものとの反応生成物、上記イソシアネ―ト
類の縮合生成物などの各種のポリイソシアネ―トが好ま
しい。これらの架橋剤は、結合剤100重量部に対し
て、通常15〜70重量部の割合で用いられる。
れる官能基などと結合させて架橋する熱硬化性の架橋剤
を併用するのが望ましい。この架橋剤としては、トリレ
ンジイソシアネ―ト、ヘキサメチレンジイソシアネ―
ト、イソホロンジイソシアネ―トなどや、これらのイソ
シアネ―ト類とトリメチロ―ルプロパンなどの水酸基を
複数個有するものとの反応生成物、上記イソシアネ―ト
類の縮合生成物などの各種のポリイソシアネ―トが好ま
しい。これらの架橋剤は、結合剤100重量部に対し
て、通常15〜70重量部の割合で用いられる。
【0047】本発明で使用するアルミナとしては、粒
状、角状、針状のα化率90%以上のα−Al2O3、β
−Al2O3、γ−Al2O3が挙げられ、粒径としては、
0.05μm〜1μmが好ましく、0.1μm〜0.4
μmがより好ましい。0.05μm以上とすることによ
り、アルミナの研磨能を十分得ることができるとともに
分散性を確保することができ、1μm以下とすることに
より、媒体−ヘッド間のスペ−シングを少なくし、高い
電磁変換特性を確保することができる。このようなアル
ミナの具体例としては、住友化学社製、AKP−10、
AKP−12、AKP−15、AKP−30,AKP−
50、HIT−82、HIT−60、上村工業社製UB
40Bなどが挙げられる。
状、角状、針状のα化率90%以上のα−Al2O3、β
−Al2O3、γ−Al2O3が挙げられ、粒径としては、
0.05μm〜1μmが好ましく、0.1μm〜0.4
μmがより好ましい。0.05μm以上とすることによ
り、アルミナの研磨能を十分得ることができるとともに
分散性を確保することができ、1μm以下とすることに
より、媒体−ヘッド間のスペ−シングを少なくし、高い
電磁変換特性を確保することができる。このようなアル
ミナの具体例としては、住友化学社製、AKP−10、
AKP−12、AKP−15、AKP−30,AKP−
50、HIT−82、HIT−60、上村工業社製UB
40Bなどが挙げられる。
【0048】また、アルミナの添加量としては、電磁変
換特性及びヘッド汚れの観点から、磁性粉100重量部
に対して、6〜20重量部が好ましく、8〜15重量部
がより好ましい。
換特性及びヘッド汚れの観点から、磁性粉100重量部
に対して、6〜20重量部が好ましく、8〜15重量部
がより好ましい。
【0049】アルミナの添加方法としては、磁性粉、結
合剤等とともに、ニ−ダ等の混練工程あるいは予備攪拌
工程においてアルミナ粉末を直接添加する方法、磁性塗
料とは別に予めアルミナ分散液を調整し、これを磁性塗
料に別途添加する方法が挙げられるが、生産性の点から
いえば別工程を設けることの必要がない前者の方が好ま
しい。
合剤等とともに、ニ−ダ等の混練工程あるいは予備攪拌
工程においてアルミナ粉末を直接添加する方法、磁性塗
料とは別に予めアルミナ分散液を調整し、これを磁性塗
料に別途添加する方法が挙げられるが、生産性の点から
いえば別工程を設けることの必要がない前者の方が好ま
しい。
【0050】また、本発明は、ドロップアウトを更に低
減し、ブロックエラ−レ−トを改善するために、磁性層
表面のヘキサン洗浄後のESCAによる測定でTi及び
またはPの量をFeに対して特定量含有させることが好
ましい。このような元素を磁性層表面に存在せしめるこ
とにより、ブロックエラ−レ−トをさらに改善できる理
由については明らかではないが、磁性粉とヘッドとの直
接摺動を原子レベルで緩和することができ、特に高温低
湿下で走行させた場合でも磁性層からの塵埃の発生を低
減し、ドロップアウトの低減に寄与できるためと考えら
れる。前記Ti/Fe量としては、0.02〜0.06
とすることが好ましく、0.02〜0.05とすること
がより好ましく、P/Fe量は0.15〜0.75とす
ることが好ましく、0.20〜0.60の範囲とするこ
とがより好ましい。なお、前記元素量は、上述の磁性層
表面のALと同様の測定条件によるものである。このよ
うなTiあるいはPはこれらの元素単独で添加される形
態でなく、分散剤等の化合物として添加することが好ま
しい。特に、前記元素を含有する分散剤を用いて本発明
のTiあるいはP量とする場合、これらの分散剤を磁性
粉の分散のために混練工程では添加する方法では存在量
を制御することが困難なため、初期分散工程の後に配合
することが好ましい。すなわち、従来からこれら分散剤
は磁性粉の分散性向上ために、ニ−ダ等の分散工程時か
ら添加することが常法であったが、本発明のCo及び希
土類を含有する強磁性鉄系合金粉では、磁性粉表面が極
めて活性であり、pHもアルカリ性領域であることか
ら、混練初期から前記分散剤を添加すると、初期分散時
には分散性を向上できるものの、磁性粉表面にこの分散
剤が優先的に吸着するため、バインダ−の吸着を妨げる
こととなり、バインダ−成分が磁性層表面に多く存在す
ることとなる。また、分散剤が磁性粉表面に吸着すると
磁性粉表面に活性な部位が残る結果、塗布時に前記のイ
ソシアネ−ト系架橋剤を用いた場合、イソシアネ−ト基
が活性を消失し、塗膜の硬化が充分に進まないと考えら
れる。このため、少なくともニ−ダ等の初期分散工程後
に、前記の分散剤を添加することが好ましい。
減し、ブロックエラ−レ−トを改善するために、磁性層
表面のヘキサン洗浄後のESCAによる測定でTi及び
またはPの量をFeに対して特定量含有させることが好
ましい。このような元素を磁性層表面に存在せしめるこ
とにより、ブロックエラ−レ−トをさらに改善できる理
由については明らかではないが、磁性粉とヘッドとの直
接摺動を原子レベルで緩和することができ、特に高温低
湿下で走行させた場合でも磁性層からの塵埃の発生を低
減し、ドロップアウトの低減に寄与できるためと考えら
れる。前記Ti/Fe量としては、0.02〜0.06
とすることが好ましく、0.02〜0.05とすること
がより好ましく、P/Fe量は0.15〜0.75とす
ることが好ましく、0.20〜0.60の範囲とするこ
とがより好ましい。なお、前記元素量は、上述の磁性層
表面のALと同様の測定条件によるものである。このよ
うなTiあるいはPはこれらの元素単独で添加される形
態でなく、分散剤等の化合物として添加することが好ま
しい。特に、前記元素を含有する分散剤を用いて本発明
のTiあるいはP量とする場合、これらの分散剤を磁性
粉の分散のために混練工程では添加する方法では存在量
を制御することが困難なため、初期分散工程の後に配合
することが好ましい。すなわち、従来からこれら分散剤
は磁性粉の分散性向上ために、ニ−ダ等の分散工程時か
ら添加することが常法であったが、本発明のCo及び希
土類を含有する強磁性鉄系合金粉では、磁性粉表面が極
めて活性であり、pHもアルカリ性領域であることか
ら、混練初期から前記分散剤を添加すると、初期分散時
には分散性を向上できるものの、磁性粉表面にこの分散
剤が優先的に吸着するため、バインダ−の吸着を妨げる
こととなり、バインダ−成分が磁性層表面に多く存在す
ることとなる。また、分散剤が磁性粉表面に吸着すると
磁性粉表面に活性な部位が残る結果、塗布時に前記のイ
ソシアネ−ト系架橋剤を用いた場合、イソシアネ−ト基
が活性を消失し、塗膜の硬化が充分に進まないと考えら
れる。このため、少なくともニ−ダ等の初期分散工程後
に、前記の分散剤を添加することが好ましい。
【0051】前記分散剤としては、Ti系分散剤として
は市販品の味の素製のプレンアクトKR−38S、KR
−TTS、KR−46B、KR−55、KR−41B、
KR−138S、KR−238S、KR−44、KR−
9SA等のチタネ−ト系カップリング剤を挙げることが
でき、P系分散剤としては、リン酸モノメチル、リン酸
ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチルといった
アルキルリン酸エステル類、あるいはフェニルホスホン
酸といった芳香族リン酸類等を挙げることができ、市販
品として東邦化学製GARFAC RS410、城北化
学工業製JP−502、JP−508などを用いること
ができる。
は市販品の味の素製のプレンアクトKR−38S、KR
−TTS、KR−46B、KR−55、KR−41B、
KR−138S、KR−238S、KR−44、KR−
9SA等のチタネ−ト系カップリング剤を挙げることが
でき、P系分散剤としては、リン酸モノメチル、リン酸
ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチルといった
アルキルリン酸エステル類、あるいはフェニルホスホン
酸といった芳香族リン酸類等を挙げることができ、市販
品として東邦化学製GARFAC RS410、城北化
学工業製JP−502、JP−508などを用いること
ができる。
【0052】また、前記分散剤の添加量としては、強磁
性鉄系合金粉末100重量部に対して、0.5重量部以
上とすることが好ましく、5重量部以下とすることが好
ましい。
性鉄系合金粉末100重量部に対して、0.5重量部以
上とすることが好ましく、5重量部以下とすることが好
ましい。
【0053】また本発明では潤滑剤として、従来公知の
脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、脂肪酸金属
塩、炭化水素等を単独あるいは2種以上混合して使用す
ることができるが、これらの中でも炭素数10以上、好
ましくは12以上24以下の脂肪酸を添加することが好
ましい。このような脂肪酸は一部が強磁性鉄系合金磁性
粉末に吸着して、磁性粉の分散性を助けるとともに、初
期摩耗において媒体−ヘッド間の接触を和らげ、摩擦係
数を低下させてヘッド汚れの低減に寄与する。
脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、脂肪酸金属
塩、炭化水素等を単独あるいは2種以上混合して使用す
ることができるが、これらの中でも炭素数10以上、好
ましくは12以上24以下の脂肪酸を添加することが好
ましい。このような脂肪酸は一部が強磁性鉄系合金磁性
粉末に吸着して、磁性粉の分散性を助けるとともに、初
期摩耗において媒体−ヘッド間の接触を和らげ、摩擦係
数を低下させてヘッド汚れの低減に寄与する。
【0054】このような脂肪酸としては、直鎖、分岐、
不飽和,飽和の構造いずれでもよいが、潤滑性能に優れ
る直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、例え
ばラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチ
ン酸、オレイン酸、イソステアリン酸等が挙げられる。
脂肪酸の添加量としては、強磁性鉄系合金粉末100重
量部に対して、0.2〜10重量部が好ましく、0.5
〜5重量部がより好ましい。
不飽和,飽和の構造いずれでもよいが、潤滑性能に優れ
る直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、例え
ばラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチ
ン酸、オレイン酸、イソステアリン酸等が挙げられる。
脂肪酸の添加量としては、強磁性鉄系合金粉末100重
量部に対して、0.2〜10重量部が好ましく、0.5
〜5重量部がより好ましい。
【0055】また、本発明は磁性層に添加剤として、粒
径75nm以下のカ−ボンブラックを添加することが好
ましく,さらに摩擦係数の低減のために大きな粒径のカ
−ボンブラックを組み合わせて添加することが好まし
い。このようなカ−ボンブラックの粒径としては、10
0nm〜500nmが好ましく、200〜400nmが
より好ましい。前記カ−ボンブラックの具体例として
は、コロンビアン・カ−ボン社製のSEVACARB・
MTCI、カンカ−ブ社製のThermaxPowde
r・N−991等が挙げられる。これらの粒径100〜
500nmのカ−ボンブラックは,強磁性鉄系合金粉末
に対して3.0wt%以下配合することが好ましい。
径75nm以下のカ−ボンブラックを添加することが好
ましく,さらに摩擦係数の低減のために大きな粒径のカ
−ボンブラックを組み合わせて添加することが好まし
い。このようなカ−ボンブラックの粒径としては、10
0nm〜500nmが好ましく、200〜400nmが
より好ましい。前記カ−ボンブラックの具体例として
は、コロンビアン・カ−ボン社製のSEVACARB・
MTCI、カンカ−ブ社製のThermaxPowde
r・N−991等が挙げられる。これらの粒径100〜
500nmのカ−ボンブラックは,強磁性鉄系合金粉末
に対して3.0wt%以下配合することが好ましい。
【0056】磁性層の形成にあたり、磁性塗料や潤滑剤
溶液などの調製に用いる溶剤としては、従来から使用さ
れている溶剤をいずれも使用できる。たとえば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、アセト
ン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸
ブチルなどの酢酸エステル系溶剤、ジメチルカーボネー
ト、ジエチルカーボネートなどの炭酸エステル系溶剤、
エタノ―ル、イソプロパノ―ルなどのアルコ―ル系溶剤
のほか、ヘキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホル
ムアミドなどが挙げられる。
溶液などの調製に用いる溶剤としては、従来から使用さ
れている溶剤をいずれも使用できる。たとえば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、アセト
ン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸
ブチルなどの酢酸エステル系溶剤、ジメチルカーボネー
ト、ジエチルカーボネートなどの炭酸エステル系溶剤、
エタノ―ル、イソプロパノ―ルなどのアルコ―ル系溶剤
のほか、ヘキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホル
ムアミドなどが挙げられる。
【0057】本発明の磁性層の製造方法としては、磁性
層の形成に際しては、従来から公知の塗料製造工程を使
用でき、とくにニ―ダなどによる混練工程や一次分散工
程を併用するのが好ましい。一次分散工程では、サンド
ミルを使用することにより、磁性粉の分散性の改善とと
もに、表面性状を制御できるため、好ましい。
層の形成に際しては、従来から公知の塗料製造工程を使
用でき、とくにニ―ダなどによる混練工程や一次分散工
程を併用するのが好ましい。一次分散工程では、サンド
ミルを使用することにより、磁性粉の分散性の改善とと
もに、表面性状を制御できるため、好ましい。
【0058】つぎに、本発明は非磁性支持体と磁性層の
間に少なくとも1層の下塗り層を設けるが、前記下塗り
層の構成成分には、無機粉末、結合剤、潤滑剤、カ―ボ
ンブラツクなどがある。無機粉末には、非磁性粉、磁性
粉のいずれも使用できる。非磁性粉としては、α−化率
90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、α−酸化鉄、TiO2(ルチル、アナタ―ゼ)、T
iOX、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、
ZnO、ZrO2、SiO2、Cr2O3、ゲ―タイト、コ
ランダム、窒化珪素、チタンカ―バイト、酸化マグネシ
ウム、窒化硼素、二硫化モリブデン、酸化銅、MgCO
3、CaCO3、BaCO3、SrCO3、BaSO4、炭
化珪素、炭化チタンなどが単独でまたは組み合わせて使
用される。磁性粉としては、γ−Fe2O3、Co−γ−
Fe2O3、Baフエライトなどの保磁力300Oe以下
の低保磁力の磁性粉が用いられる。
間に少なくとも1層の下塗り層を設けるが、前記下塗り
層の構成成分には、無機粉末、結合剤、潤滑剤、カ―ボ
ンブラツクなどがある。無機粉末には、非磁性粉、磁性
粉のいずれも使用できる。非磁性粉としては、α−化率
90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、α−酸化鉄、TiO2(ルチル、アナタ―ゼ)、T
iOX、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、
ZnO、ZrO2、SiO2、Cr2O3、ゲ―タイト、コ
ランダム、窒化珪素、チタンカ―バイト、酸化マグネシ
ウム、窒化硼素、二硫化モリブデン、酸化銅、MgCO
3、CaCO3、BaCO3、SrCO3、BaSO4、炭
化珪素、炭化チタンなどが単独でまたは組み合わせて使
用される。磁性粉としては、γ−Fe2O3、Co−γ−
Fe2O3、Baフエライトなどの保磁力300Oe以下
の低保磁力の磁性粉が用いられる。
【0059】これらの無機粉末は、球状、針状、板状の
いずれの形状であつてもよい。無機粉末の粒径は、あま
りに大きすぎると、下塗り層の表面性が低下し、磁性層
のP−V値に影響を与えるため、0.5μm以下である
のが好ましい。また、あまりに小さすぎると、下塗り層
の無機粉末の充填性が上がり、潤滑剤を保持できる空孔
が減少するとともに、クツシヨン効果も低下するため、
0.05μm以上であるのが好ましい。無機粉末の使用
量は、上記粒径と同様の理由から、下塗り層全体の60
〜90重量%、とくに70〜80重量%であるのが好ま
しい。
いずれの形状であつてもよい。無機粉末の粒径は、あま
りに大きすぎると、下塗り層の表面性が低下し、磁性層
のP−V値に影響を与えるため、0.5μm以下である
のが好ましい。また、あまりに小さすぎると、下塗り層
の無機粉末の充填性が上がり、潤滑剤を保持できる空孔
が減少するとともに、クツシヨン効果も低下するため、
0.05μm以上であるのが好ましい。無機粉末の使用
量は、上記粒径と同様の理由から、下塗り層全体の60
〜90重量%、とくに70〜80重量%であるのが好ま
しい。
【0060】下塗り層に使用する結合剤には、磁性層を
構成する前記の結合剤と同様の樹脂が用いられ、好まし
くは磁性層の結合剤と同種の樹脂を用いるのがよい。と
くに塩化ビニル系樹脂とポリウレタン樹脂との併用系で
一致させると、下塗り層と磁性層との弾性が近くなり、
磁気ヘツドからの荷重を良好に分散させることができ
る。また、下塗り層の結合剤は、磁性層の結合剤と同種
の官能基を有しているのが望ましい。とくに塩化ビニル
系樹脂とポリウレタン樹脂との併用系において、下塗り
層と磁性層で官能基を一致させると、両層の接着性が向
上するとともに、下塗り層から磁性層への潤滑剤の浸出
が円滑となるため、好ましい。
構成する前記の結合剤と同様の樹脂が用いられ、好まし
くは磁性層の結合剤と同種の樹脂を用いるのがよい。と
くに塩化ビニル系樹脂とポリウレタン樹脂との併用系で
一致させると、下塗り層と磁性層との弾性が近くなり、
磁気ヘツドからの荷重を良好に分散させることができ
る。また、下塗り層の結合剤は、磁性層の結合剤と同種
の官能基を有しているのが望ましい。とくに塩化ビニル
系樹脂とポリウレタン樹脂との併用系において、下塗り
層と磁性層で官能基を一致させると、両層の接着性が向
上するとともに、下塗り層から磁性層への潤滑剤の浸出
が円滑となるため、好ましい。
【0061】下塗り層の結合剤の使用量は、無機粉末1
00重量部に対して、20〜45重量部、とくに25〜
40重量部であるのが好ましい。なお、下塗り層の強度
を上げるために、磁性層の場合と同様に、上記の結合剤
とともに、結合剤中に含まれる官能基などと結合させて
架橋する熱硬化性の架橋剤を併用するのも望ましい。架
橋剤の使用量としては、上記の結合剤100重量部に対
して、15〜70重量部とするのが好ましい。
00重量部に対して、20〜45重量部、とくに25〜
40重量部であるのが好ましい。なお、下塗り層の強度
を上げるために、磁性層の場合と同様に、上記の結合剤
とともに、結合剤中に含まれる官能基などと結合させて
架橋する熱硬化性の架橋剤を併用するのも望ましい。架
橋剤の使用量としては、上記の結合剤100重量部に対
して、15〜70重量部とするのが好ましい。
【0062】下塗り層に使用する潤滑剤としては、磁性
層と同様の潤滑剤を使用できるが、脂肪酸は脂肪酸エス
テルよりも上層への浸出性に劣るため、脂肪酸エステル
を単独でまたは脂肪酸エステルの添加比率を大きくして
使用するのが望ましい。下塗り層の潤滑剤の添加量は、
無機粉末100重量部に対し、通常4〜18重量部、好
ましくは5〜16重量部、より好ましくは6〜14重量
部とするのがよい。下塗り層への脂肪酸と脂肪酸エステ
ルの添加比率は、重量比で0/100〜40/60、と
くに0/100〜30/70であるのが好ましい。潤滑
剤を下塗り層に含ませるには、下塗り層用塗料のニ―ダ
などによる混合の際に一緒に添加するか、上記混合の前
または後に添加するか、あるいはあらかじめ形成された
下塗り層の表面に潤滑剤溶液などを塗布または噴霧すれ
ばよい。
層と同様の潤滑剤を使用できるが、脂肪酸は脂肪酸エス
テルよりも上層への浸出性に劣るため、脂肪酸エステル
を単独でまたは脂肪酸エステルの添加比率を大きくして
使用するのが望ましい。下塗り層の潤滑剤の添加量は、
無機粉末100重量部に対し、通常4〜18重量部、好
ましくは5〜16重量部、より好ましくは6〜14重量
部とするのがよい。下塗り層への脂肪酸と脂肪酸エステ
ルの添加比率は、重量比で0/100〜40/60、と
くに0/100〜30/70であるのが好ましい。潤滑
剤を下塗り層に含ませるには、下塗り層用塗料のニ―ダ
などによる混合の際に一緒に添加するか、上記混合の前
または後に添加するか、あるいはあらかじめ形成された
下塗り層の表面に潤滑剤溶液などを塗布または噴霧すれ
ばよい。
【0063】下塗り層に使用するカ―ボンブラツクとし
ては、粒径0.01〜0.03μmのカ―ボンブラツク
と、粒径0.05〜0.3μmのカ―ボンブラツクとを
併用するのが好ましい。前者のカ―ボンブラツクは、磁
性層の場合と同様に、潤滑剤を保持する空孔を確保する
ためのものであり、また後者のカ―ボンブラツクは、下
塗り層の塗膜強度の向上とクツシヨン効果の両立をはか
るためのものである。下塗り層へのカ―ボンブラツクの
添加量は、両者のカ―ボンブラツクを併せて、無機粉末
100重量部に対して、5〜70重量部、とくに15〜
40重量部とするが好ましい。なお、粒径0.01〜
0.03μmのカ―ボンブラツクには、Cabot社製
の「BLACK PEARLS 800」、「Mogu
l−L」、「VULCAN XC−72」、「Rega
l 660R」、コロンビアン・カ―ボン社製の「Ra
ven 1255」、「Conductex SC」な
どがある。粒径0.05〜0.3μmのカ―ボンブラツ
クには、Cabot社製の「BLACK PEARLS
130」、「Monarch 120」、コロンビア
ン・カ―ボン社製の「Raven 450」、「Rav
en 410」、カンカ―ブ社製の「TermaxPo
wder・N−991」などがある。
ては、粒径0.01〜0.03μmのカ―ボンブラツク
と、粒径0.05〜0.3μmのカ―ボンブラツクとを
併用するのが好ましい。前者のカ―ボンブラツクは、磁
性層の場合と同様に、潤滑剤を保持する空孔を確保する
ためのものであり、また後者のカ―ボンブラツクは、下
塗り層の塗膜強度の向上とクツシヨン効果の両立をはか
るためのものである。下塗り層へのカ―ボンブラツクの
添加量は、両者のカ―ボンブラツクを併せて、無機粉末
100重量部に対して、5〜70重量部、とくに15〜
40重量部とするが好ましい。なお、粒径0.01〜
0.03μmのカ―ボンブラツクには、Cabot社製
の「BLACK PEARLS 800」、「Mogu
l−L」、「VULCAN XC−72」、「Rega
l 660R」、コロンビアン・カ―ボン社製の「Ra
ven 1255」、「Conductex SC」な
どがある。粒径0.05〜0.3μmのカ―ボンブラツ
クには、Cabot社製の「BLACK PEARLS
130」、「Monarch 120」、コロンビア
ン・カ―ボン社製の「Raven 450」、「Rav
en 410」、カンカ―ブ社製の「TermaxPo
wder・N−991」などがある。
【0064】下塗り層の形成にあたり、下塗り層用塗料
や潤滑剤溶液の調製用溶剤として、磁性層の場合と同様
の芳香族系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アル
コ―ル系溶剤や、ヘキサン、テトラヒドロフランなどの
溶剤が用いられる。
や潤滑剤溶液の調製用溶剤として、磁性層の場合と同様
の芳香族系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アル
コ―ル系溶剤や、ヘキサン、テトラヒドロフランなどの
溶剤が用いられる。
【0065】つぎに、非磁性支持体としては、従来から
使用されている磁気記録媒体用の非磁性支持体をいずれ
も使用できる。具体的には、ポリエチレンテレフタレ―
ト、ポリエチレンナフタレ―トなどのポリエステル類、
ポリオレフイン類、セルロ―ストリアセテ―ト、ポリカ
―ボネ―ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリスルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなど
からなる、厚さが通常3〜100μmのフイルムが用い
られる。非磁性支持体の表面粗さとしては、磁性層とバ
ックコ−ト層で異なる表面性のものを用いることが好ま
しい。このような表面性の相違により、磁性層とバック
コ−ト層のP−Vが制御しやすくなる。
使用されている磁気記録媒体用の非磁性支持体をいずれ
も使用できる。具体的には、ポリエチレンテレフタレ―
ト、ポリエチレンナフタレ―トなどのポリエステル類、
ポリオレフイン類、セルロ―ストリアセテ―ト、ポリカ
―ボネ―ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリスルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなど
からなる、厚さが通常3〜100μmのフイルムが用い
られる。非磁性支持体の表面粗さとしては、磁性層とバ
ックコ−ト層で異なる表面性のものを用いることが好ま
しい。このような表面性の相違により、磁性層とバック
コ−ト層のP−Vが制御しやすくなる。
【0066】なお、使用環境とくに高温環境下の試験に
おいて発生する非磁性支持体の収縮の異方性が大きいと
追従性が低下し、トラツキングエラ―が生じやすい。こ
のため、非磁性支持体としては、105℃、30分の熱
収縮率、つまり105℃で30分間熱処理し放冷したの
ちの熱収縮が、縦方向で1.5%以下、横方向で1.0
%以下であるのが好ましい。上記の熱収縮率は、非磁性
支持体の幅10mm、長さ300mmの試験片6本をM
D/TDより各々採取し、105℃の熱風中で30分熱
処理し冷却したのちの長さを測定し、〔(元の長さ−収
縮後の長さ)/元の長さ〕×100(%)の平均値とし
て求められる。
おいて発生する非磁性支持体の収縮の異方性が大きいと
追従性が低下し、トラツキングエラ―が生じやすい。こ
のため、非磁性支持体としては、105℃、30分の熱
収縮率、つまり105℃で30分間熱処理し放冷したの
ちの熱収縮が、縦方向で1.5%以下、横方向で1.0
%以下であるのが好ましい。上記の熱収縮率は、非磁性
支持体の幅10mm、長さ300mmの試験片6本をM
D/TDより各々採取し、105℃の熱風中で30分熱
処理し冷却したのちの長さを測定し、〔(元の長さ−収
縮後の長さ)/元の長さ〕×100(%)の平均値とし
て求められる。
【0067】また、塗布工程では、グラビア塗布、ロ―
ル塗布、ブレ―ド塗布、エクストル―ジヨン塗布などの
従来から公知の塗布方法を使用できる。その際、下塗り
層および磁性層の塗布方法は、非磁性支持体上に下塗り
層を塗布乾燥したのちに磁性層を塗布する、逐次重層塗
布方法か、下塗り層と磁性層とを同時に塗布する、同時
重層塗布方法のいずれの方法を採用してもよい。
ル塗布、ブレ―ド塗布、エクストル―ジヨン塗布などの
従来から公知の塗布方法を使用できる。その際、下塗り
層および磁性層の塗布方法は、非磁性支持体上に下塗り
層を塗布乾燥したのちに磁性層を塗布する、逐次重層塗
布方法か、下塗り層と磁性層とを同時に塗布する、同時
重層塗布方法のいずれの方法を採用してもよい。
【0068】また本発明の磁気記録媒体は、磁性層の反
対面にバックコ−ト層が設けられるが、このようなバッ
クコ−ト層としては、充填剤に導電性のカ−ボンブラッ
クとともに、摩擦係数低減、機械的強度を高める目的
で、一般に研磨剤として用いられているα−Fe2O3、
Fe304、TiO2、グラファイト、CaO、SiO2、
Cr2O3、α−Al2O3、SiC、CaCO3、BaS
O4、ZnO、MgO、窒化ホウ素、TiC、ZnS、
MgCO3、SnO2等の無機非磁性粉末を含有していて
もよい。
対面にバックコ−ト層が設けられるが、このようなバッ
クコ−ト層としては、充填剤に導電性のカ−ボンブラッ
クとともに、摩擦係数低減、機械的強度を高める目的
で、一般に研磨剤として用いられているα−Fe2O3、
Fe304、TiO2、グラファイト、CaO、SiO2、
Cr2O3、α−Al2O3、SiC、CaCO3、BaS
O4、ZnO、MgO、窒化ホウ素、TiC、ZnS、
MgCO3、SnO2等の無機非磁性粉末を含有していて
もよい。
【0069】また、バックコート層には高級脂肪酸、脂
肪酸エステル類、シリコーンオイル類等の潤滑剤、界面
活性剤等の分散剤、その他の各種添加剤は必要に応じて
いずれも添加、使用することができる。
肪酸エステル類、シリコーンオイル類等の潤滑剤、界面
活性剤等の分散剤、その他の各種添加剤は必要に応じて
いずれも添加、使用することができる。
【0070】バックコート層には結合剤として、前述し
た磁性層に用いる結合剤をいずれも好ましく用いること
ができるが、これらの中でも摩擦係数を低減し走行性を
向上するため、セルロ−ス系樹脂とポリウレタン樹脂を
併用することが好ましい。結合剤の含有量は通常カ−ボ
ンブラックや前記無機非磁性粉末100重量部に対して
15〜200重量部程度とすることが好ましい。また、
さらに結合剤を硬化するために、ポリイソシアネ−ト化
合物などの架橋剤を用いることが好ましい。
た磁性層に用いる結合剤をいずれも好ましく用いること
ができるが、これらの中でも摩擦係数を低減し走行性を
向上するため、セルロ−ス系樹脂とポリウレタン樹脂を
併用することが好ましい。結合剤の含有量は通常カ−ボ
ンブラックや前記無機非磁性粉末100重量部に対して
15〜200重量部程度とすることが好ましい。また、
さらに結合剤を硬化するために、ポリイソシアネ−ト化
合物などの架橋剤を用いることが好ましい。
【0071】バックコート層の厚さとしてはカレンダー
加工後の厚さとして0.3〜1.0μm 程度が好まし
い。バックコート層が厚すぎると磁気記録媒体の総厚が
厚くなりすぎ、一方、薄すぎると非磁性支持体の表面性
の影響でバックコート層の表面性が低下し、バックコ−
ト層の表面が磁性層に転写されることにより電磁変換特
性等が悪化しやすい。
加工後の厚さとして0.3〜1.0μm 程度が好まし
い。バックコート層が厚すぎると磁気記録媒体の総厚が
厚くなりすぎ、一方、薄すぎると非磁性支持体の表面性
の影響でバックコート層の表面性が低下し、バックコ−
ト層の表面が磁性層に転写されることにより電磁変換特
性等が悪化しやすい。
【0072】本発明の磁気記録媒体の製造においては、
塗布乾燥後、プラスチツクロ―ルや金属ロ―ルを用いた
カレンダによる表面処理を行うのが望ましい。カレンダ
処理を行うことにより、磁性層表面及びバックコ−ト層
表面のP−Vを調整できるとともに、強磁性鉄系合金粉
の充填度を向上でき、残留磁束密度を向上させることが
できる。
塗布乾燥後、プラスチツクロ―ルや金属ロ―ルを用いた
カレンダによる表面処理を行うのが望ましい。カレンダ
処理を行うことにより、磁性層表面及びバックコ−ト層
表面のP−Vを調整できるとともに、強磁性鉄系合金粉
の充填度を向上でき、残留磁束密度を向上させることが
できる。
【0073】また、本発明では、前記カレンダ処理後に
エ−ジングすることが好ましい。すなわち、エ−ジング
により塗膜硬化が進み、塗膜強度を向上することができ
る。なお、エ−ジングの温度としては、余りに高いと磁
気シ−トの巻き締まりが顕著となり、バックコ−ト層の
表面粗さが転写して、磁性層の表面性を劣化させるた
め、70℃以下で行うことが好ましく、調湿のため5〜
60%RHの環境で行うことが好ましい。
エ−ジングすることが好ましい。すなわち、エ−ジング
により塗膜硬化が進み、塗膜強度を向上することができ
る。なお、エ−ジングの温度としては、余りに高いと磁
気シ−トの巻き締まりが顕著となり、バックコ−ト層の
表面粗さが転写して、磁性層の表面性を劣化させるた
め、70℃以下で行うことが好ましく、調湿のため5〜
60%RHの環境で行うことが好ましい。
【0074】また、磁性層表面のAl、Ti及びPの量
を調整するため、またドロップアウトの要因となる磁性
層表面の塵埃成分を除去するとともに、予め磁性層表面
の脆弱部分を取り除くため、さらには、磁性層表面のP
−Vの値を調整するためにも、磁性層を塗布乾燥後研摩
処理することが好ましい。前記研摩処理としては、ブレ
−ド処理あるいは研摩ホイ−ルによる処理が挙げられ、
生産性の点からいえば、後者の研摩ホイ−ルによる処理
が好ましい。このような研摩ホイ−ルについては、特開
昭62−150519、特開昭62−172532号、
特開平2−23521号等に記載されている。ホイ−ル
の研摩部分に用いられる材質としては、セラミック、超
鋼、サファイヤ、ダイヤモンド等を挙げることができ
る。また、研摩ホイ−ルを用いる場合のホイ−ルの周速
及びホイ−ルへの巻き付け角としては、周速がテ−プ走
行速度(50〜300m/分)に対して±200%の範
囲とすることが好ましく、ホイ−ルへの巻き付け角は、
10〜80°が好ましい。
を調整するため、またドロップアウトの要因となる磁性
層表面の塵埃成分を除去するとともに、予め磁性層表面
の脆弱部分を取り除くため、さらには、磁性層表面のP
−Vの値を調整するためにも、磁性層を塗布乾燥後研摩
処理することが好ましい。前記研摩処理としては、ブレ
−ド処理あるいは研摩ホイ−ルによる処理が挙げられ、
生産性の点からいえば、後者の研摩ホイ−ルによる処理
が好ましい。このような研摩ホイ−ルについては、特開
昭62−150519、特開昭62−172532号、
特開平2−23521号等に記載されている。ホイ−ル
の研摩部分に用いられる材質としては、セラミック、超
鋼、サファイヤ、ダイヤモンド等を挙げることができ
る。また、研摩ホイ−ルを用いる場合のホイ−ルの周速
及びホイ−ルへの巻き付け角としては、周速がテ−プ走
行速度(50〜300m/分)に対して±200%の範
囲とすることが好ましく、ホイ−ルへの巻き付け角は、
10〜80°が好ましい。
【0075】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説
明する。各例において、部とあるのは重量部を意味す
る。
明する。各例において、部とあるのは重量部を意味す
る。
【0076】
【実施例】 (実施例1) <<下塗り層用塗料成分>> 酸化チタン粉末(粒径:0.035μm、) 70部 酸化チタン粉末(粒径:0.1μm) 10部 カ−ボンブラック(粒径:0.075μm) 20部 塩化ビニル共重合体 10部 (含有−SO3Na基:0.7×10-4当量/g) ポリエステルポリウレタン樹脂 5部 (含有−SO3Na基:1×10-4当量/g) メチルエチルケトン 130部 トルエン 80部 ミリスチン酸 1.0部 ステアリン酸ブチル 1.5部 シクロヘキサノン 65部 <<磁性層用塗料成分>> (1) 強磁性合金粉末(Co/Fe:20wt%、Y/(Fe+Co):3wt%、A l/(Fe+Co):5wt%、Ca/Fe:0、σs:140emu/g、H c:1840Oe、pH:8、粒子径:0.10μm) 100部 塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 8部 (含有−SO3Na基:0.7×10-4当量/g) ポリエステルポリウレタン樹脂 4部 (含有−SO3Na基:1.0×10-4当量/g) α−アルミナ(平均粒径:0.4μm ) 10部 カ−ボンブラック(平均粒径:100nm) 1.5部 ミリスチン酸 1.5部 メチルエチルケトン 133部 トルエン 100部 (2) チタネ−ト系カップリング剤 (味の素製 プレンアクトKR38S) 1.5部 ステアリン酸 1.5部 ポリイソシアネート 4部 シクロヘキサノン 133部 トルエン 33部 上記の下塗り層用塗料成分をニ―ダで混練したのち、サ
ンドミルで滞留時間を60分として分散処理を行い、こ
れにポリイソシアネ―ト6部を加えかくはん濾過した
後、下塗り層用塗料とした。これとは別に、上記の磁性
層用塗料成分(1)をニ―ダで混練したのち、サンドミ
ルで滞留時間を45分として分散し、これに磁性層用塗
料成分(2)を加えかくはん濾過後、磁性塗料とした。
上記の下塗り層用塗料を、ポリエチレンテレフタレ―ト
フイルムからなる支持体(105℃,30分の熱収縮率
が縦方向で0.8%、横方向で0.6%)に、乾燥、カ
レンダ後の厚さがで2μmとなるように塗布し、この下
塗り層上に、さらに上記の磁性塗料を乾燥、カレンダ―
処理後の磁性層の厚さが0.2μmとなるように塗布
し、乾燥して、磁気シ−トを得た。
ンドミルで滞留時間を60分として分散処理を行い、こ
れにポリイソシアネ―ト6部を加えかくはん濾過した
後、下塗り層用塗料とした。これとは別に、上記の磁性
層用塗料成分(1)をニ―ダで混練したのち、サンドミ
ルで滞留時間を45分として分散し、これに磁性層用塗
料成分(2)を加えかくはん濾過後、磁性塗料とした。
上記の下塗り層用塗料を、ポリエチレンテレフタレ―ト
フイルムからなる支持体(105℃,30分の熱収縮率
が縦方向で0.8%、横方向で0.6%)に、乾燥、カ
レンダ後の厚さがで2μmとなるように塗布し、この下
塗り層上に、さらに上記の磁性塗料を乾燥、カレンダ―
処理後の磁性層の厚さが0.2μmとなるように塗布
し、乾燥して、磁気シ−トを得た。
【0077】 <<バックコ−ト層用塗料成分>> カ−ボンブラック(粒径:25nm) 40.50部 カ−ボンブラック(粒径:370nm) 0.50部 硫酸バリウム 4.05部 ニトロセルロ−ス 28.00部 ポリウレタン樹脂(SO3Na基含有) 20.00部 シクロヘキサノン 100.00部 トルエン 100.00部 メチルエチルケトン 100.00部 上記バックコ−ト層用塗料成分をサンドミルで滞留時間
45分で分散した後、ポリイシシアネ−ト8.5部を加
えてバックコ−ト層用塗料を調整し濾過後、上記で作製
した磁気シ−トの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ後
の厚みが0.7μmとなるように塗布し、乾燥した。
45分で分散した後、ポリイシシアネ−ト8.5部を加
えてバックコ−ト層用塗料を調整し濾過後、上記で作製
した磁気シ−トの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ後
の厚みが0.7μmとなるように塗布し、乾燥した。
【0078】このようにして得られた磁気シ−トを5段
カレンダ(温度70℃,線圧150Kg/cm)で鏡面化
処理し、磁気シ−トをシ−トコアに巻いた状態で60℃
40%RH下48時間エ―ジングしたのち、3.8mm
幅に裁断し、これを100m/分で走行させながら磁性
層表面をセラミックホイ−ル(回転速度+150%、巻
き付け角30°)で研摩して、テ−プ長さ125mとし
て、最終的な磁気テ−プを作製した。上記のようにして
得られた磁気テ−プを、カ−トリッジに組み込み、コン
ピュ−タ用テ−プを作製した。
カレンダ(温度70℃,線圧150Kg/cm)で鏡面化
処理し、磁気シ−トをシ−トコアに巻いた状態で60℃
40%RH下48時間エ―ジングしたのち、3.8mm
幅に裁断し、これを100m/分で走行させながら磁性
層表面をセラミックホイ−ル(回転速度+150%、巻
き付け角30°)で研摩して、テ−プ長さ125mとし
て、最終的な磁気テ−プを作製した。上記のようにして
得られた磁気テ−プを、カ−トリッジに組み込み、コン
ピュ−タ用テ−プを作製した。
【0079】(実施例2)実施例1の磁気テ−プの作製
において、磁性層用塗料成分(1)中、強磁性合金粉末
を強磁性合金粉末(Co/Fe:10wt%、La/
(Fe+Co):2wt%、Al/(Fe+Co):5
wt%、Ca/Fe:0wt%、σs:135emu/
g、Hc:1740Oe、pH:8、粒子径:0.07
μm、)に、α−アルミナ(0.2μm)を15部に変
更し、磁性層用塗料成分(1)のサンドミルの滞留時間
を60分に変更し、磁性層用塗料成分(2)中、チタネ
−ト系カップリング剤1.5部の代わりにリン酸エステ
ル(城北化学工業製 JP502)1.5部を使用し、
磁性層厚を0.1μmとし、温度80℃、線圧200k
g/cmでカレンダを行った以外は、実施例1と同様に
してコンピュ−タ用テ−プを作製した。
において、磁性層用塗料成分(1)中、強磁性合金粉末
を強磁性合金粉末(Co/Fe:10wt%、La/
(Fe+Co):2wt%、Al/(Fe+Co):5
wt%、Ca/Fe:0wt%、σs:135emu/
g、Hc:1740Oe、pH:8、粒子径:0.07
μm、)に、α−アルミナ(0.2μm)を15部に変
更し、磁性層用塗料成分(1)のサンドミルの滞留時間
を60分に変更し、磁性層用塗料成分(2)中、チタネ
−ト系カップリング剤1.5部の代わりにリン酸エステ
ル(城北化学工業製 JP502)1.5部を使用し、
磁性層厚を0.1μmとし、温度80℃、線圧200k
g/cmでカレンダを行った以外は、実施例1と同様に
してコンピュ−タ用テ−プを作製した。
【0080】(実施例3)実施例1の磁気テ−プの作製
において、磁性層用塗料成分の(1)中、α−アルミナ
を7部、磁性層用塗料成分(2)のチタネ−ト系カップ
リング剤を味の素製プレンアクトKR−TTS4部と変
更し、磁性層用塗料成分の(1)の滞留時間を30分と
し、バックコ−ト層用塗料成分中の粒径370nmのカ
−ボンブラックを4部とし、滞留時間を30分に変更
し、温度60℃線圧100kg/cmでカレンダを行
い、50℃40%RH下で30時間エ−ジングし、研摩
ホイ−ルの回転速度を+125%、巻き付け角度を10
°にし、温度50℃40%RH下で35時間エ−ジング
した以外は、実施例1と同様にしてコンピュ−タ用テ−
プを作製した。
において、磁性層用塗料成分の(1)中、α−アルミナ
を7部、磁性層用塗料成分(2)のチタネ−ト系カップ
リング剤を味の素製プレンアクトKR−TTS4部と変
更し、磁性層用塗料成分の(1)の滞留時間を30分と
し、バックコ−ト層用塗料成分中の粒径370nmのカ
−ボンブラックを4部とし、滞留時間を30分に変更
し、温度60℃線圧100kg/cmでカレンダを行
い、50℃40%RH下で30時間エ−ジングし、研摩
ホイ−ルの回転速度を+125%、巻き付け角度を10
°にし、温度50℃40%RH下で35時間エ−ジング
した以外は、実施例1と同様にしてコンピュ−タ用テ−
プを作製した。
【0081】(実施例4)実施例1の磁気テ−プの作製
において、磁性層用塗料成分(1)中、強磁性合金粉末
を強磁性合金粉末(Co/Fe:20wt%、Ce/
(Fe+Co):4wt%、Al/(Fe+Co):3
wt%、Ca/Fe:0.001wt%、σs:145
emu/g、Hc:1880Oe、pH:9、粒子径:
0.1μm、)に変更し、磁性層用塗料成分(2)中、
チタネ−ト系カップリング剤1.5部の代わりにリン酸
エステル2.0部を使用し、磁性層厚を0.1μmと
し、非磁性支持体として105℃30分の熱収縮率が縦
方向で0.3%、横方向で0.1%のポリエチレンナフ
タレ−トを用い、研摩ホイ−ルの回転速度を+125
%、巻き付け角度を10°に変更した以外は、実施例1
と同様にしてコンピュ−タ用テ−プを作製した。
において、磁性層用塗料成分(1)中、強磁性合金粉末
を強磁性合金粉末(Co/Fe:20wt%、Ce/
(Fe+Co):4wt%、Al/(Fe+Co):3
wt%、Ca/Fe:0.001wt%、σs:145
emu/g、Hc:1880Oe、pH:9、粒子径:
0.1μm、)に変更し、磁性層用塗料成分(2)中、
チタネ−ト系カップリング剤1.5部の代わりにリン酸
エステル2.0部を使用し、磁性層厚を0.1μmと
し、非磁性支持体として105℃30分の熱収縮率が縦
方向で0.3%、横方向で0.1%のポリエチレンナフ
タレ−トを用い、研摩ホイ−ルの回転速度を+125
%、巻き付け角度を10°に変更した以外は、実施例1
と同様にしてコンピュ−タ用テ−プを作製した。
【0082】(実施例5)実施例1の磁気テ−プの作製
において、磁性層用塗料成分(1)中、強磁性合金粉末
を強磁性合金粉末(Co/Fe:30wt%、Y/(Fe
+Co):5wt%、Al/(Fe+Co):5wt
%、Ca/Fe:0.001wt%、σs:145em
u/g、Hc:2340Oe、pH:8、粒子径:0.
1μm、)に変更し、磁性層用塗料成分(2)中、チタ
ネ−ト系カップリング剤2部とリン酸エステル1.5部
を使用し、磁性層厚を0.1μmとし、非磁性支持体と
して105℃30分の熱収縮率が縦方向で0.3%、横
方向で0.1%のポリエチレンナフタレ−トを用い、研
摩ホイ−ルの回転速度を+125%、巻き付け角度を1
0°に変更した以外は、実施例1と同様にしてコンピュ
−タ用テ−プを作製した。
において、磁性層用塗料成分(1)中、強磁性合金粉末
を強磁性合金粉末(Co/Fe:30wt%、Y/(Fe
+Co):5wt%、Al/(Fe+Co):5wt
%、Ca/Fe:0.001wt%、σs:145em
u/g、Hc:2340Oe、pH:8、粒子径:0.
1μm、)に変更し、磁性層用塗料成分(2)中、チタ
ネ−ト系カップリング剤2部とリン酸エステル1.5部
を使用し、磁性層厚を0.1μmとし、非磁性支持体と
して105℃30分の熱収縮率が縦方向で0.3%、横
方向で0.1%のポリエチレンナフタレ−トを用い、研
摩ホイ−ルの回転速度を+125%、巻き付け角度を1
0°に変更した以外は、実施例1と同様にしてコンピュ
−タ用テ−プを作製した。
【0083】(比較例1)実施例1の磁気テ−プの作製
において、磁性層用塗料成分(1)中、強磁性合金磁性
粉末を、Co、希土類元素を含有しないFe−Ni−Z
n系強磁性合金粉末(Al/(Fe+Co):0.0
3、Ca/Fe:0.05wt%、pH:11、長軸
長:0.20μm、Hc:1,650Oe、σs:12
0emu/g)100部に変更し、滞留時間15分と
し、下塗り層を設けずに磁性層厚2.3μmとし以外
は、実施例1と同様にして、コンピュ−タ用テ−プを作
製した。
において、磁性層用塗料成分(1)中、強磁性合金磁性
粉末を、Co、希土類元素を含有しないFe−Ni−Z
n系強磁性合金粉末(Al/(Fe+Co):0.0
3、Ca/Fe:0.05wt%、pH:11、長軸
長:0.20μm、Hc:1,650Oe、σs:12
0emu/g)100部に変更し、滞留時間15分と
し、下塗り層を設けずに磁性層厚2.3μmとし以外
は、実施例1と同様にして、コンピュ−タ用テ−プを作
製した。
【0084】(比較例2)実施例1の磁気テ−プの作製
において、磁性層用塗料成分(1)中、α−アルミナを
3部とし、磁性層用塗料成分(2)中、チタネ−ト系カ
ップリング剤を添加せず、磁性層厚みを0.3μmと
し、バックコ−ト層の滞留時間を90分とした以外は、
実施例1と同様にしてコンピュ−タ用テ−プを作製し
た。
において、磁性層用塗料成分(1)中、α−アルミナを
3部とし、磁性層用塗料成分(2)中、チタネ−ト系カ
ップリング剤を添加せず、磁性層厚みを0.3μmと
し、バックコ−ト層の滞留時間を90分とした以外は、
実施例1と同様にしてコンピュ−タ用テ−プを作製し
た。
【0085】(比較例3)実施例1の磁気テ−プの作製
において、磁性層用塗料成分(1)中に、チタネ−ト系
カップリング剤(KR−TTS)を1.5部添加し、塩
化ビニル−ビニルアルコ―ル共重合樹脂およびポリウレ
タン樹脂をそれぞれ官能基として−SO3Na基を有す
るものから−OH基のみを有するものに変更するととも
に、粒径0.7μmのα−アルミナ10部に変更し、磁
性塗料成分(2)中に、チタネ−ト系カップリング剤を
添加せず、温度60℃線圧100kg/cmでカレンダ
し、研摩ホイ−ルの回転速度を+30%、巻き付け角度
を5°に変更した以外は、実施例1と同様にしてコンピ
ュ−タ用テ−プを作製した。
において、磁性層用塗料成分(1)中に、チタネ−ト系
カップリング剤(KR−TTS)を1.5部添加し、塩
化ビニル−ビニルアルコ―ル共重合樹脂およびポリウレ
タン樹脂をそれぞれ官能基として−SO3Na基を有す
るものから−OH基のみを有するものに変更するととも
に、粒径0.7μmのα−アルミナ10部に変更し、磁
性塗料成分(2)中に、チタネ−ト系カップリング剤を
添加せず、温度60℃線圧100kg/cmでカレンダ
し、研摩ホイ−ルの回転速度を+30%、巻き付け角度
を5°に変更した以外は、実施例1と同様にしてコンピ
ュ−タ用テ−プを作製した。
【0086】(比較例4)実施例1の磁気テ−プの作製
において、磁性層用塗料成分(1)中、α−アルミナを
20部とし、磁性層用塗料成分(2)中、チタネ−ト系
カップリング剤1.5部の代わりにリン酸エステル1.
5部を使用し、バックコ−ト層用塗料成分中の粒径37
0nmのカ−ボンブラックを10部とし、温度60℃線
圧100kg/cmでカレンダを行い、80℃60%R
Hで60時間エ−ジングした以外は、実施例1と同様に
してコンピュ−タ用テ−プを作製した。
において、磁性層用塗料成分(1)中、α−アルミナを
20部とし、磁性層用塗料成分(2)中、チタネ−ト系
カップリング剤1.5部の代わりにリン酸エステル1.
5部を使用し、バックコ−ト層用塗料成分中の粒径37
0nmのカ−ボンブラックを10部とし、温度60℃線
圧100kg/cmでカレンダを行い、80℃60%R
Hで60時間エ−ジングした以外は、実施例1と同様に
してコンピュ−タ用テ−プを作製した。
【0087】以上の実施例1〜4および比較例1〜4の
各コンピュ−タ用テ−プについて、磁性粉長軸長、Al
量、TiまたはP量、磁性層のP−Vの変動幅及びバッ
クコ−ト層のP−Vを本文記載の方法で測定した。参考
のため、光干渉式表面粗さ計によるRaを併記した。な
お、磁性粉長軸長は、後述する最短記録波長との関係で
示した。磁性層のP−Vの変動幅は、カセットのリ−ル
最外周と最内周の2点を含んだ任意の10点で測定し
た。また、ESCAの測定には、ESCA LAB M
ARK2を用いた。これらの結果は、表1に示されると
おりであった。
各コンピュ−タ用テ−プについて、磁性粉長軸長、Al
量、TiまたはP量、磁性層のP−Vの変動幅及びバッ
クコ−ト層のP−Vを本文記載の方法で測定した。参考
のため、光干渉式表面粗さ計によるRaを併記した。な
お、磁性粉長軸長は、後述する最短記録波長との関係で
示した。磁性層のP−Vの変動幅は、カセットのリ−ル
最外周と最内周の2点を含んだ任意の10点で測定し
た。また、ESCAの測定には、ESCA LAB M
ARK2を用いた。これらの結果は、表1に示されると
おりであった。
【0088】
【表1】
【0089】<<Al、Ti及びPの測定>>ESCA分析
装置としてVG社製、ESCA-Lab. Mark2を
用い、上述の測定条件で各元素の存在量を、放出される
各元素の光電子強度を0.1eV単位で測定し、バック
グラウンドを直線で補正し、得られた面積強度を装置関
数等の感度係数で補正し元素の相対量とした。
装置としてVG社製、ESCA-Lab. Mark2を
用い、上述の測定条件で各元素の存在量を、放出される
各元素の光電子強度を0.1eV単位で測定し、バック
グラウンドを直線で補正し、得られた面積強度を装置関
数等の感度係数で補正し元素の相対量とした。
【0090】<<P−Vの測定>>各テ−プのテ−プ始端と
終端の2点を含んで、10m間隔毎に10点のP−Vを
上述の測定条件で測定した。
終端の2点を含んで、10m間隔毎に10点のP−Vを
上述の測定条件で測定した。
【0091】<<Raの測定>>P−Vを測定した10点の
内、終端部の1点のRaをP−Vと同様の測定条件によ
り求めた。
内、終端部の1点のRaをP−Vと同様の測定条件によ
り求めた。
【0092】<<ブロックエラ−レ−トの測定>>ヒュ−レ
ットパッカ−ド社製DDSドライブ(C1554A)を
用い、40℃5%RHの条件下で5回走行後、最短記録
波長0.44μmのランダムデ−タ信号を記録し、ブロ
ックエラ−レ−ト測定装置により、各コンピュ−タ用テ
−プのブロックエラ−レ−トを測定した。
ットパッカ−ド社製DDSドライブ(C1554A)を
用い、40℃5%RHの条件下で5回走行後、最短記録
波長0.44μmのランダムデ−タ信号を記録し、ブロ
ックエラ−レ−ト測定装置により、各コンピュ−タ用テ
−プのブロックエラ−レ−トを測定した。
【0093】
【発明の効果】表1からわかるように、本発明の磁気記
録媒体の構成によりブロックエラ−レ−トが小さく、信
頼性の高い磁気記録媒体を提供することができる。
録媒体の構成によりブロックエラ−レ−トが小さく、信
頼性の高い磁気記録媒体を提供することができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 非磁性支持体上の一面に少なくとも一層
の下塗り層と磁性層とがこの順に形成され、反対面にバ
ックコ−ト層を有する磁気記録媒体であって、前記磁性
層の厚さが0.2μm以下、磁性層に含まれる磁性粉が
長軸長(L)0.15μm以下で、長軸長(L)と最短
記録波長(λ)の関係がL/λ≦1/3を満たすCo及
び希土類元素を含有する強磁性鉄系合金粉からなり、ヘ
キサンで洗浄後に磁性層表面をESCAで測定したとき
のAl/(Fe+Co)原子比が1.5〜2.5であ
り、かつ磁性層の任意の10点を光干渉表面粗さ計で測
定した時のP−Vがいずれも10〜50nmの範囲にあ
り、かつ前記バックコ−ト層の任意の10点を光干渉表
面粗さ計で測定した時のP−Vがいずれも20〜50n
mの範囲にあることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 Co及び希土類元素を含有する強磁性鉄
系合金粉は、Co/Feの重量比が10〜40%、希土
類元素/(Fe+Co)重量比が 0.1〜10%である
請求項1に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 最短記録波長(λ)が0.5μm以下で
ある請求項1または2いずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】 ヘキサンで洗浄後に磁性層表面をESC
Aで測定したときのTi/Fe原子比が0.02〜0.
06および/またはP/Fe原子比が0.15〜0.7
5であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記
載の磁気記録媒体。 - 【請求項5】 非磁性支持体は、105℃で30分間熱
処理し放冷したのちの熱収縮率が、縦方向で1.5%以
下、横方向で1.0%以下である請求項1〜3のいずれ
かに記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9023299A JP2000285436A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9023299A JP2000285436A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000285436A true JP2000285436A (ja) | 2000-10-13 |
Family
ID=13992756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9023299A Withdrawn JP2000285436A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000285436A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004319015A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | Tdk Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP9023299A patent/JP2000285436A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004319015A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | Tdk Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040428 |
|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060606 |