JP2000288920A

JP2000288920A - 研磨用キャリア及び研磨方法並びに情報記録媒体用基板の製造方法

Info

Publication number: JP2000288920A
Application number: JP9390099A
Authority: JP
Inventors: Hironori Yoshikawa; 博則吉川; Masao Takano; 正夫高野; Takemi Miyamoto; 武美宮本
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1999-03-31
Filing date: 1999-03-31
Publication date: 2000-10-17

Abstract

(57)【要約】【課題】研磨中に異物を発生させるおそれがなく、耐
久性に優れ、かつ、研磨コストの低減を可能にする研磨
用キャリア及び研磨方法並びに情報記録媒体用基板の製
造方法を提供する。【解決手段】被研磨体たる磁気記録媒体用ガラス基板
４を保持する被研磨体保持孔２ａを有する研磨用キャリ
ア１において、被研磨体保持部２とギア部３とを別部材
で構成し、ギア部３を高耐久性の部材で構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク用基板、
光ディスク用基板、又はシリコンウエハ、電子デバイス
用基板（フォトマスクブランク用基板、位相シフトマス
クブランク用基板、液晶ディスプレイ用基板）など（被
研磨物）の研磨の際に被研磨体を保持するのに用いる研
磨用キャリア及び該キャリアを用いた研磨方法並びにこ
の研磨方法を用いた情報記録媒体用基板の製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク用基板等に使用される円盤
状のガラス基板のポリッシング加工、又は、ラッピング
加工は、研磨用キャリアに設けられた複数の円形の保持
孔に、ガラス基板を入れ、下定盤及び上定盤によりガラ
ス基板を挟持した状態で、上下定盤を互いに逆回転させ
ることにより行われる。

【０００３】ここで、研磨用キャリアの外周部に形成さ
れたギアは、研磨装置のインターナルギア及びサンギア
に噛合されるようになっており、研磨用キャリアは、イ
ンターナルギアとサンギアとの回転数の差により遊星運
動を行い、これによりガラス基板は両面を同時にポリッ
シング又はラッピングされる。

【０００４】研磨時には上述の研磨用キャリアの外周部
に形成されたギアと、インターナルギア及びサンギアが
噛合しながら回転されるので、研磨用キャリアのギアの
剛性が低い場合、研磨作業中に変形が生じ、集中的な摩
耗、破損の原因となり、研磨用キャリアの寿命を短くす
る要因となっていた。

【０００５】また、精密研磨が要求される場合にあって
は、キャリアのギアからの摩耗による異物が、被研磨物
であるガラス基板表面に付着した場合、傷が発生してし
まうという問題があった。特に、磁気ディスク用として
用いるガラス基板は、高記録密度化に伴い超精密（平
滑）な表面粗さが必要とされており、主表面上に形成さ
れる傷はヘッドの浮上安定性を損ない、トラブルのもと
になるので極めて好ましくない。この問題を解決する技
術としては、例えば、特開平１０−２４４４６０号公報
に記載の研磨用キャリアが知られている。この公報記載
の研磨用キャリアは、所定の弾性率、降伏応力を有する
材料からなるものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記公報記載の研磨用
キャリアは、キャリア寿命が伸び、ギアからの異物の発
生もある程度防止できる。しかし、このような材料で構
成するとその製造コストが大幅にアップする。このた
め、特に、ガラス基板の端面形状の制御や複数種類の端
面形状を持つガラス基板を製造する場合にはその端面形
状毎にキャリアを交換しなければならないので、著しい
コストアップとなってしまうという問題があった。

【０００７】例えば、磁気ディスク用ガラス基板は、記
録領域をかせぐこと、磁気ヘッドの浮上安定性確保など
のために、ガラス基板の端面形状を正確に制御する必要
がある。また、各ユーザーに応じた端面形状となるよう
に調整してガラス基板を製造する必要がある。このた
め、これらの端面形状毎にキャリアを用意しなければな
らず、必要なキャリアの数が多量となる。このため、キ
ャリアのコストアップによる製品全体のコストアップが
大きな問題となる。しかも、異物発生防止効果や寿命も
必ずしも十分なものではなかった。

【０００８】本発明は上述の背景のもとでなされたもの
であり、研磨中に異物を発生させるおそれがなく、耐久
性に優れ、かつ、研磨コストの低減を可能にする研磨用
キャリア及び研磨方法並びに情報記録媒体用基板の製造
方法を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに第１の発明は、被研磨体を保持する保持孔を有する
被研磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周に設けら
れたギア部とを有する研磨用キャリアにおいて、前記被
研磨体保持部と、前記ギア部とを別部材で構成したこと
を特徴とする研磨用キャリア。

【００１０】第２の発明は、被研磨体を保持する保持孔
を有する被研磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周
に設けられたギア部とを有する研磨用キャリアにおい
て、前記ギア部を前記被研磨体保持部を構成する材料に
比較して機械的強度の強い材料で構成したことを特徴と
する研磨用キャリアである。

【００１１】第３の発明は、被研磨体を保持する保持孔
を有する被研磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周
に設けられたギア部とを有する研磨用キャリアにおい
て、前記ギア部をステンレスで構成したことを特徴とす
る研磨用キャリアである。

【００１２】第４の発明は、被研磨体を保持する保持孔
を有する被研磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周
に設けられたギア部とを有する研磨用キャリアにおい
て、前記ギア部の厚さを、前記被研磨体保持部の厚さに
比較して厚く形成したことを特徴とする研磨用キャリア
である。

【００１３】第５の発明は、被研磨体を保持する保持孔
を有する被研磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周
に設けられたギア部とを有する研磨用キャリアにおい
て、前記被研磨体保持部が前記ギア部に対して回転でき
ないように嵌合固定されていることを特徴とする研磨用
キャリアである。

【００１４】第６の発明は被研磨体を保持する保持孔を
有する被研磨体保持部とこの被研磨体保持部の外周に設
けられたギア部とを有する研磨用キャリアの保持孔に被
研磨体を入れ、下定盤及び上定盤により前記被研磨体を
挟持した状態で上下定盤を回転させ、前記被研磨体の主
表面にラッピング及び／又はポリッシングを施して被研
磨体を研磨する研磨方法において、前記研磨用キャリア
が、前記被研磨体保持部と前記ギア部とが別部材で構成
されているものであることを特徴とする研磨方法であ
る。

【００１５】第７の発明は、被研磨体を保持する保持孔
を有する被研磨体保持部とこの被研磨体保持部の外周に
設けられたギア部とを有する研磨用キャリアの保持孔に
情報記録媒体用基板を入れ、下定盤及び上定盤により被
研磨体を挟持した状態で上下定盤を回転させ、前記情報
記録媒体用基板の主表面をラッピング及び／又はポリッ
シングを施して情報記録媒体用基板を研磨する研磨工程
を有する情報記録媒体用基板お製造方法において、前記
研磨用キャリアが、前記被研磨体保持部と前記ギア部と
が別部材で構成されているものであることを特徴とする
情報記録媒体用基板の製造方法である。

【００１６】本発明は上述の構成にすることによって、
研磨用キャリアの外周部に形成されたギアと研磨装置の
インターナルギア及びサンギアとの噛合に伴うギアの歯
痩せによる異物の発生を防止することができるので、ガ
ラス基板表面に傷が形成されることがない。

【００１７】また、ガラス基板を保持する保持部とギア
部とを別部材にしたことにより、以下の作用効果が得ら
れるようになった。すなわち、ギア部を十分な強度のも
ので構成しておけば、被研磨体保持部の強度はそれ程必
要ないので、その材質や板厚等を比較的自由に設定する
ことができる。

【００１８】本発明者等の研究によれば、被研磨体保持
部板厚を調節することにより、被研磨体たるガラス基板
の端部形状（スキージャンプ、ロールオフ）を正確に制
御することができることが解明された。したがって、保
持部とギア部とを別部材にし、保持部の板厚を所望の板
厚にすることにより、被研磨体たるガラス基板の端部形
状（スキージャンプ、ロールオフ）を正確に制御するこ
とが可能になった。

【００１９】さらに、劣化が特に激しい部分であるギア
部のみを高耐久性部材で構成することにより、研磨用キ
ャリア全体の寿命を飛躍的に延ばすことが可能になっ
た。さらには、保持部の材質をその強度を気にせずに比
較的に自由に選定することが可能になったので、被研磨
体の端面（外周側面）に傷をつけにくい材質としたり、
あるいは、安価な材料とすることも可能になり、上記異
物発生防止効果や上記長寿命化と相俟って、高品質でロ
ーコストの研磨用キャリアを得ることが可能になった。

【００２０】なお、ここにおけるスキージャンプ及びロ
ールオフとは、磁気記録媒体用ガラス基板等における外
周又は内周端部近傍の表面の盛り上がり状態を定量的に
示すための用語である。すなわち、いま、磁気記録媒体
用基板の中心を通り、主表面に垂直な面で磁気記録媒体
用基板を切断した断面を考える。この断面において主表
面（輪郭線）上の記録エリア内に２点の基準点を設定
し、中心から近い順にＲ1 ，Ｒ2 とする。また、記録エ
リアの外周端部からさらに外周に一定の距離のマージン
をとった輪郭線上の点Ｒ3 を設定する。次に、点Ｒ1 と
点Ｒ2 とを結び、その延長線を描く。そうしたときに、
点Ｒ2 と点Ｒ3 との間の領域において、基板の輪郭線上
の点と直線Ｒ1 Ｒ2 （又はその延長線）との距離を測
る。その距離が最も大きいところの基板の輪郭線上の点
がスキージャンプ点であり、その距離の値がスキージャ
ンプの値である。また、点Ｒ3 がロールオフ点であり、
点Ｒ3と直線Ｒ1 Ｒ2 （又はその延長線）との距離の値
がロールオフの値である。

【００２１】本発明で使用する被研磨体保持部の材質と
しては、アラミド繊維、ＦＲＰ（ガラスエポキシ）、Ｐ
Ｃ（ポリカーボネート）などが挙げられる。また、ギア
部の材質としては、インターナルギア、サンギアとの噛
合の際、摩耗が少ない材料であればなんでも良い。例え
ば、ステンレス、はがね（ＳＫ）、鋳鉄などがあげられ
る。特に耐食性の点でステンレスが好ましい。また、ス
テンレスの中でも、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３０４等が良
い。

【００２２】被研磨体保持部の板厚及びギア部の板厚
は、端部形状によって調節されるが、スキージャンプ、
ロールオフをそれぞれ±０．２μｍの範囲にする場合、
保持部キャリアの板厚とギアの板厚の差を、０〜０．５
ｍｍとすることが好ましい。また、被研磨体保持部とギ
ア部とは固定させても、固定させなくても良い。固定す
る場合は、被研磨体保持部、ギア部にそれぞれ凹、凸を
設けたり、簡単に脱着可能な接着剤などで固定する。

【００２３】

【発明の実施の形態】（実施例１）図１は本発明の実施
例１にかかる研磨用キャリアの平面図、図２は図１のＩ
Ｉ−ＩＩ線断面図、図３は研磨用キャリアを研磨装置に
装着した状態を示す図、図４は図３における部分断面図
である。以下、これらの図面を参照にしながら実施例１
にかかる研磨用キャリア及び研磨方法並びに情報記録媒
体用基板の製造方法を説明する。なお、この実施例は、
２．５インチ用磁気記録媒体用ガラス基板（情報記録媒
体用ガラス基板＝被研磨体）を製造する場合に本発明を
適用する例である。

【００２４】図１において、研磨用キャリア１は、円板
状の被研磨体保持部２と、被研磨体保持部の外周に嵌合
固定されたギア部３とで構成されている。被研磨体保持
部２は、直径が３８５ｍｍ、厚さが０．５−０ｍｍのガ
ラスエポキシ材で構成されており、表裏に貫通された複
数（この実施例では２１個）の被研磨体保持孔２ａ，
…，２ａが形成されている。この被研磨体保持孔２ａ
は、２．５インチ用磁気記録媒体用ガラス基板４（情報
記録媒体用ガラス基板＝被研磨体）を収納できる大きさ
（内径約６５ｍｍ）を有するものである。また、被研磨
体保持部２の外周部には、等間隔で３つの係合凹部２ｂ
が設けられている。

【００２５】ギア部３は、外径４２０ｍｍ、内径３８５
ｍｍの円環状をなし、その外周部には歯３ａが形成さ
れ、又、内周部には、上記被研磨体保持部２の係合凹部
２ｂと嵌合する３つの係合凸部３ｂが形成されている。
このギア部３は、研磨装置におけるサンギア５２及びイ
ンターナルギア５１（図３参照）と噛合させて回転させ
るために、機械的耐久性、耐摩耗性の良いステンレスで
構成されている。このギア部３に上記被研磨体保持部２
を嵌合したものが研磨用キャリア１である。この場合、
ギア部３の係合凸部３ｂが被研磨体保持部２の係合凹部
２ｂに係合することによって、互いに回転方向に動かな
いようになっている。ギア部３の厚さは、０．６±０．
０２ｍｍである。

【００２６】次に、図３、図４を用いて研磨用キャリア
１を研磨装置５に装着し、被研磨体である磁気記録媒体
用ガラス基板４をポリッシング加工、又は、ラッピング
加工を行う研磨工程の概略を説明する。

【００２７】研磨装置５は、それぞれ所定の回転比率で
回転駆動されるインターナルギア５１及びサンギア５２
を有する研磨用キャリア装着部と、この研磨用キャリア
装着部を挟んで互いに逆回転駆動される上定盤５３及び
下定盤５４とを有する。

【００２８】研磨用キャリア装着部に、複数の研磨用キ
ャリア１をセットすると、これら研磨用キャリア１のギ
アがインターナルギア５１及びサンギア５２と噛合され
るようになっている。各研磨用キャリア１の被研磨体保
持孔２ａに被研磨体である磁気記録媒体用ガラス基板４
をセットし、研磨を開始すると、研磨用キャリア１はイ
ンターナルギア５１及びサンギア５２との回転数の差に
より遊星運動を行う。同時に、上定盤５３及び下定盤５
４は互いに逆回転し、それらに設けられた研磨パッド５
３ａ，５４ａによって磁気記録媒体用ガラス基板４の表
裏の面がポリッシング又はラッピングされる。

【００２９】一般に、ガラス基板は、荒ずり→ラッピン
グ（砂掛け）→端面鏡面工程→ポリッシングの工程を経
て鏡面仕上げされる。ここで、ラッピング工程は、寸法
精度・形状精度の向上を目的としており、ラップ盤によ
ってガラス基板の主表面を加工する。ポリッシング工程
は、面の平滑さの向上（表面粗さの低減）と加工歪を小
さくすることを目的としており、通常、硬質ポリシャを
使用する第１研磨工程と、軟質ポリシャを使用する第２
研磨工程（ファイナル研磨工程）とからなる。

【００３０】本発明の研磨用キャリアは、上述のいずれ
の工程にも使用することができるが、表面粗さの低減を
目的とするラッピング工程以降のポリッシング工程に使
用することによって、最大の効果が発揮される。ギア部
からの異物が発生した場合、異物によって傷が発生して
しまうからである。従って、以下、ポリッシング加工に
ついて具体的に説明する。

【００３１】ポリッシング加工（第１研磨工程、ファイ
ナル研磨工程）を行う際には、研磨用キャリア１の外周
部に形成したギア部３の歯３ａを、研磨装置５のサンギ
ア５２及び、インターナルギア５１と噛合させた状態
で、研磨用キャリア１を研磨装置５の研磨パッド５４ａ
を貼った下定盤５４の上にセットする。次に、被研磨体
保持孔２ａの中に被研磨体である磁気記録媒体用ガラス
基板４を入れて保持する。

【００３２】次に、該ガラス基板４を研磨パッド５４ａ
を貼った下定盤５４及び研磨パッド５３ａを貼った上定
盤５３によって挟持し、酸化セリウムなどの砥粒を含む
研磨液を供給しながら下定盤５４及び上定盤５３を互い
に逆方向に回転させる。これにより、サンギア５２及び
インターナルギア５１の回転数の差により、研磨用キャ
リア１を自転しつつ公転し、上記ガラス基板４の両面が
同時に研磨加工される。

【００３３】なお、研磨パッド５３ａ、５４ａとして
は、例えば、スウェード、ベロアを素材とする軟質ポリ
シャや、硬質ベロア、ウレタン発砲、ピッチ含浸スウェ
ード等の硬質ポリシャ等が挙げられる。

【００３４】以下、磁気記録媒体用ガラス基板の製造工
程をより具体的に説明する。（１）第１ラッピング工程（第１砂掛け工程）まず、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研
削砥石で直径６６ｍｍφ、厚さ１．１ｍｍの円盤状に切
り出したアルミノシリケートガラスからなるガラス基板
を、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径
６５ｍｍ（２．５インチ）φ、厚さ０．６ｍｍに成形し
た。

【００３５】この場合、ダウンドロー法の代わりに、溶
融ガラスを上型、下型、胴型を用いてダイレクトプレス
して、円盤状のガラス体を得ても良い。尚、アルミノシ
リケートガラスとしては、モル％表示で、ＳｉＯ₂を５
７〜７４％、ＺｎＯ₂を０〜２．８％、Ａｌ₂Ｏ₃を３
〜１５％、ＬｉＯ₂を７〜１６％、Ｎａ₂Ｏを４〜１４
％、を主成分として含有する化学強化用ガラスを使用し
た。

【００３６】次いで、ガラス基板にラッピング加工を施
した。このラッピング工程は、寸法精度及び形状精度の
向上を目的としている。ラッピング加工は、ラッピング
装置を用いて行い、キャリアは、ガラスエポキシ製のも
のを使用し、砥粒の粒度を＃４００として行った。詳し
くは、粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷重Ｌを１
００ｋｇ程度に設定して、サンギアとインターナルギア
を回転させることによって、キャリア内に収納したガラ
ス基板の両面を面精度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａ
ｘ）（ＪＩＳＢ０６０１で測定）６μｍ程度にラッ
ピングした。

【００３７】次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の
中心部に円孔（直径２０ｍｍφ）を開けるとともに、外
周端面及び内周端面に所定の面取り加工を施した。この
ときのガラス基板の内外周端面の表面粗さは、Ｒｍａｘ
で１４μｍ程度であった。

【００３８】（２）端面研磨工程次いで、スラリーを使用したブラシ研磨により、ガラス
基板を回転させながらガラス基板の端面部分（角張った
部位、側面及び面取部）の研磨を行い、角張った部位を
半径０．２〜１０ｍｍの曲面とするとともに、それらの
表面粗さをＲｍａｘで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度と
した。上記端面研磨工程を終えたガラス基板の表面を水
洗浄した。

【００３９】（３）第２ラッピング工程（第２砂掛け
工程）次に、ラッピング装置を用い、ガラスエポキシからなる
キャリアを使用し、粒度＃１０００のアルミナ砥粒、荷
重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、サンギアとインター
ナルギアを回転させることによって、ラッピングを行
い、ガラス基板の両面の表面粗さ（Ｒｍａｘ）を２μｍ
程度とした。上記第２ラッピング工程を終えたガラス基
板を、中性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄し
た。

【００４０】（４）第１ポリッシング工程（第１研磨
工程）次に、第１ポリッシング工程を施した。この第１ポリッ
シング工程は、上述したラッピング工程で残留した傷
や、歪みの除去を目的とするもので、ポリッシング装置
を用いて行った。詳しくは、研磨パッド（研磨布）とし
て硬質ポリシャ（セリウムパッドＭＨＣ１５：スピード
ファム社製）を用い、上述の被研磨体保持部がガラスエ
ポキシで、ギア部がステンレスからなる実施例１のキャ
リアを使用し、以下のポリッシング条件で第１ポリッシ
ング工程を実施した。

【００４１】研磨液：酸化セリウム（平均粒径；１．３μｍ）＋水荷重：３００ｋｇ／ｃｍ２（Ｌ＝２３８ｋｇ）研磨時間：１５分除去量：３０μｍ下定盤回転数：４０ｒｐｍ上定盤回転数：３５ｒｐｍサンギア回転数：１４ｒｐｍインターナルギア回転数：２９ｒｐｍ上記第１ポリッシング工程を終えたガラス基板を、中性
洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、
洗浄した。

【００４２】（５）第２ポリッシング工程（ファイナ
ル研磨工程）次に、第１ポリッシング工程で使用したポリッシング装
置を用い、研磨パッドを硬質ポリシャから軟質ポリシャ
（ポリラックス：スピードファム社製）に替え、上述の
被研磨体保持部がガラスエポキシで、ギア部がステンレ
スからなる実施例１のキャリアを使用し、第２ポリッシ
ング工程を実施した。研磨条件は、研磨液：酸化セリウ
ム（平均粒径；０．８μｍ）＋水、荷重１００ｇ／ｃｍ
2 、研磨時間を５分、除去量を５μｍとしたこと以外
は、第１ポリッシング工程と同様とした。上記第２ポリ
ッシング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗
剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、
ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄し
た。尚、各洗浄槽には超音波を印加した。

【００４３】（６）化学強化工程次に、上記ラッピング、ポリッシング工程を終えたガラ
ス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム
（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学
強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱
し、３００℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約３
時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表
面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス
基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態
で行った。

【００４４】このように、化学強化溶液に浸漬処理する
ことによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナト
リウムイオンは、化学強化溶液中のナトリウムイオン、
カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化さ
れる。ガラス基板の表そうに形成された圧縮応力層の厚
さは、約１００〜２００μｍであった。上記化学強化を
終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、
約１０分間維持した。上記急冷を終えたガラス基板を、
約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さ
らに上記硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水、純水、
ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾
燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。尚、各洗浄
槽には超音波を印加した。

【００４５】（評価）上記の工程を経て得られた磁気記
録媒体用ガラス基板の外周端面の表面粗さは、Ｒmax で
２ｎｍ、Ｒａで０．２ｎｍ以下であった（ＡＦＭ（原子
間力顕微鏡で測定）。また、主表面の表面状態を電子顕
微鏡（４０００倍）で観察したところ、傷は発生してい
なかった。又、表面形状測定機（ミツトヨ社製；ＳＶ６
２４）を用いて、端部形状（スキージャンプ値、ロール
オフ値）を測定した。その結果、スキージャンプ値は
０．０２５μｍ、ロールオフ値は０．０８μｍであり、
良好な値であった。

【００４６】（７）磁気ディスク製造工程上述した工程を経て選られた磁気ディスク用ガラス基板
の両面に、インライン式のスパッタリング装置を用い
て、ＮｉＡｌシード層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＰｔＣｒ
Ｔａ磁性層、水素化カーボン保護層を順次成膜し、ディ
ップ法によってパーフルオロポリエーテル液体潤滑層を
成膜して磁気ディスクを得た。

【００４７】この得られた磁気ディスクについてグライ
ドテスト（１００枚）を実施したところ、磁気ヘッドの
浮上走行は安定し、ヒット（ヘッドが磁気ディスク表面
の突起にかすること）やクラッシュ（ヘッドが磁気ディ
スク表面の突起に衝突すること）は認められなかった。

【００４８】（比較例１〜２）第２ラッピング工程、ポ
リッシング工程（第１、ファイナル）において、使用す
る研磨用キャリアとして、被研磨体保持部とギア部とが
一体に形成されたをガラスエポキシの研磨用キャリア
（比較例１）、又は、同様に一体のステンレス製キャリ
ア（比較例２）を用いたほかは、実施例１と同じ条件に
して磁気記録媒体用ガラス基板を作製した。

【００４９】その結果、ガラス基板の主表面の表面粗さ
は同程度であったが、得られたガラス基板主表面の表面
状態を電子顕微鏡（４０００倍）で観察したところ、比
較例１ではガラス基板主表面に数十箇所の異物が通った
ような筋状の傷が確認された。また、使用したキャリア
のギア部にはインターナルギア、サンギアとの摩耗によ
るものと思われる掛けが確認された。また、比較例２で
は所望の端部形状が得られなかった。上述と同様に、こ
の得られた磁気ディスクについてグライドテスト（１０
０枚）を実施したところ、磁気ヘッドが浮上走行中に不
安定となりヒットやクラッシュするものがあった。

【００５０】（実施例２〜３）被研磨体保持部２の厚み
を０．４ｍｍ（実施例３）、０．６ｍｍ（実施例４）に
したこと以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体用
ガラス基板を作製した。その結果、ガラス基板の端部形
状（スキージャンプ、ロールオフ）は、（スキージャン
プ、ロールオフ）：（０．０４μｍ、０．１２μｍ）
（実施例３）、（０．０２μｍ、０．０７５μｍ）（実
施例４）であった。

【００５１】なお、得られたガラス基板主表面の表面状
態を電子顕微鏡（４０００倍）で観察したところ、筋状
の傷は確認されなかった。また、上述と同様に、磁気デ
ィスクについてグライドテスト（１００枚）を実施した
ところ、ヒットやクラッシュするものもなかった。これ
ら実施例から明らかなように、被研磨体保持部２の厚み
を調節してガラス基板の端部形状（スキージャンプ、ロ
ールオフ）を制御することができる。

【００５２】以上、好ましい実施例を挙げて本発明を説
明したが、本発明は必ずしも上記実施例に限定されるも
のではない。自動研磨機に研磨用キャリアをセッテング
する際に、位置決めができるという点などから、被研磨
体保持部２とギア部３とを固定したものを挙げたが、こ
れに限らず、図５に示されるような固定しないものであ
っても構わない。また、被研磨体の材質としてガラスを
挙げたが、これに限らず、ガラスセラミックス、セラミ
ックス、シリコン、カーボン等の脆性材料や、アルミニ
ウムなどの金属などを材料とするものであっても構わな
い。

【００５３】また、被研磨体の形状として円盤状の基板
を挙げたが、これに限らず、矩形状のものでも良い。こ
の場合、キャリアの保持孔は略同一の大きさの矩形状と
する。また、基板状に限らず、ブロック状のものであっ
ても良い。また、上述の実施例では、本発明の研磨用キ
ャリアをポリッシング工程のみで使用したが、これに限
らず、ラッピング工程においても使用できることはいう
までもない。ラッピング工程とポリッシング工程との両
工程で使用してもよい。

【００５４】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明は、被研磨
体保持部とギア部とを別部材で構成することによって、
研磨中に異物を発生させるおそれがなく、耐久性に優
れ、かつ、研磨コストの低減を可能にする研磨用キャリ
ア及び研磨方法並びに情報記録媒体用基板の製造方法を
得ているものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１にかかる研磨用キャリアの平
面図である。

【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。

【図３】研磨用キャリアを研磨装置に装着した状態を示
す図である。

【図４】図３における部分断面図である。

【図５】本発明の他の実施例にかかる研磨用キャリアの
平面図である。

【符号の説明】

１…研磨用キャリア、２…被研磨体保持部、３…ギア
部、４…磁気記録媒体用ガラス基板、５…研磨装置、２
ａ…被研磨体保持孔。■

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者宮本武美東京都新宿区中落合２丁目７番５号ホーヤ株式会社内Ｆターム(参考） 3C043 CC07 CC11 CC13 DD05 EE04 3C058 AA07 AA09 AA18 AB04 AB08 CB05 CB06 DA06 DA18 5D112 AA02 AA24 BA03 GA09 KK01 5D121 AA02 GG22 JJ02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被研磨体を保持する保持孔を有する被研
磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周に設けられた
ギア部とを有する研磨用キャリアにおいて、前記被研磨体保持部と、前記ギア部とを別部材で構成し
たことを特徴とする研磨用キャリア。
【請求項２】被研磨体を保持する保持孔を有する被研
磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周に設けられた
ギア部とを有する研磨用キャリアにおいて、前記ギア部を前記被研磨体保持部を構成する材料に比較
して機械的強度の強い材料で構成したことを特徴とする
研磨用キャリア。
【請求項３】被研磨体を保持する保持孔を有する被研
磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周に設けられた
ギア部とを有する研磨用キャリアにおいて、前記ギア部をステンレスで構成したことを特徴とする研
磨用キャリア。
【請求項４】被研磨体を保持する保持孔を有する被研
磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周に設けられた
ギア部とを有する研磨用キャリアにおいて、前記ギア部の厚さを、前記被研磨体保持部の厚さに比較
して厚く形成したことを特徴とする研磨用キャリア。
【請求項５】被研磨体を保持する保持孔を有する被研
磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周に設けられた
ギア部とを有する研磨用キャリアにおいて、前記被研磨体保持部が前記ギア部に対して回転できない
ように嵌合固定されていることを特徴とする研磨用キャ
リア。
【請求項６】被研磨体を保持する保持孔を有する被研
磨体保持部とこの被研磨体保持部の外周に設けられたギ
ア部とを有する研磨用キャリアの保持孔に被研磨体を入
れ、下定盤及び上定盤により前記被研磨体を挟持した状
態で上下定盤を回転させ、前記被研磨体の主表面にラッ
ピング及び／又はポリッシングを施して被研磨体を研磨
する研磨方法において、前記研磨用キャリアが、前記被研磨体保持部と前記ギア
部とが別部材で構成されているものであることを特徴と
する研磨方法。
【請求項７】被研磨体を保持する保持孔を有する被研
磨体保持部とこの被研磨体保持部の外周に設けられたギ
ア部とを有する研磨用キャリアの保持孔に情報記録媒体
用基板を入れ、下定盤及び上定盤により情報記録媒体用
基板を挟持した状態で上下定盤を回転させ、前記情報記
録媒体用基板の主表面にラッピング及び／又はポリッシ
ングを施して情報記録媒体用基板を研磨する研磨工程を
有する情報記録媒体用基板の製造方法において、前記研磨用キャリアが、前記被研磨体保持部と前記ギア
部とが別部材で構成されているものであることを特徴と
する情報記録媒体用基板の製造方法。