JP2000290231A - 3−アセトキシ−2−メチル安息香酸の製造法 - Google Patents
3−アセトキシ−2−メチル安息香酸の製造法Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
3−アセトキシ−2−メチル安息香酸を製造する時に、
簡便かつ高収率で目的物が得られる方法の提供。 【課題】 【解決手段】3−ヒドロキシ−2−メチル安息香酸を金
属塩にした後、無水酢酸と反応させることを特徴とす
る、3−アセトキシ−2−メチル安息香酸の製造法
簡便かつ高収率で目的物が得られる方法の提供。 【課題】 【解決手段】3−ヒドロキシ−2−メチル安息香酸を金
属塩にした後、無水酢酸と反応させることを特徴とす
る、3−アセトキシ−2−メチル安息香酸の製造法
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、3−アセトキシ−
2−メチル安息香酸の製造法に関する。
2−メチル安息香酸の製造法に関する。
【従来の技術】3−アセトキシ−2−メチル安息香酸
(以下AMBAという)は、HIVプロテアーゼ阻害剤
等の医薬品の中間体として有用な化合物である。AMB
Aの製造法としては、3−ヒドロキシ−2−メチル安息
香酸(以下HMBAという)を原料とし、硫酸を触媒と
して無水酢酸でアセチル化する方法(米国特許5484
926実施例81)やピリジン触媒を用い無水酢酸を使
用する方法が公開されている(特開平11−576
5)。前者は、収率が31%と低くAMBAを安価に製
造できない。後者は、ピリジン類を触媒として使用して
いる。不純物の生成を抑制するために温度制御が必要で
あること、あるいは副生するピリジン塩を除去する必要
があり工業的には適していない。
(以下AMBAという)は、HIVプロテアーゼ阻害剤
等の医薬品の中間体として有用な化合物である。AMB
Aの製造法としては、3−ヒドロキシ−2−メチル安息
香酸(以下HMBAという)を原料とし、硫酸を触媒と
して無水酢酸でアセチル化する方法(米国特許5484
926実施例81)やピリジン触媒を用い無水酢酸を使
用する方法が公開されている(特開平11−576
5)。前者は、収率が31%と低くAMBAを安価に製
造できない。後者は、ピリジン類を触媒として使用して
いる。不純物の生成を抑制するために温度制御が必要で
あること、あるいは副生するピリジン塩を除去する必要
があり工業的には適していない。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、ピリジ
ン等の触媒を使用せずにアセチル化を行う方法を検討し
た。種々検討の結果、HMBAを金属塩とした後に無水
酢酸を反応させることにより高収率かつ高純度でAMB
Aが得られることを見いだした。また、アルカリ金属と
副生する酢酸は、酢酸金属塩として容易に系外へ除去で
きることも見いだした。
ン等の触媒を使用せずにアセチル化を行う方法を検討し
た。種々検討の結果、HMBAを金属塩とした後に無水
酢酸を反応させることにより高収率かつ高純度でAMB
Aが得られることを見いだした。また、アルカリ金属と
副生する酢酸は、酢酸金属塩として容易に系外へ除去で
きることも見いだした。
【0003】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は3−ヒド
ロキシ−2−メチル安息香酸を金属塩とした後に無水酢
酸を添加してアセチル化することを特徴とする3−アセ
トキシ−2−メチル安息香酸の製造法である。
ロキシ−2−メチル安息香酸を金属塩とした後に無水酢
酸を添加してアセチル化することを特徴とする3−アセ
トキシ−2−メチル安息香酸の製造法である。
【0004】本発明において使用できる金属塩は、周期
律表Ia,IIa,IIIb,IVaおよび、VIII族に属するも
のであるが、好ましくはリチウム,ナトリウム,カリウ
ム等のアルカリ金属の塩,カルシウム,マグネシウム等
のアルカリ土類金属の塩,アルミニウム,亜鉛等の金属
の塩があげられる。
律表Ia,IIa,IIIb,IVaおよび、VIII族に属するも
のであるが、好ましくはリチウム,ナトリウム,カリウ
ム等のアルカリ金属の塩,カルシウム,マグネシウム等
のアルカリ土類金属の塩,アルミニウム,亜鉛等の金属
の塩があげられる。
【0005】本発明において使用する金属塩の量は、原
料HMBAに対して0.5〜3.0当量好ましくは0.
8〜1.5当量であり、定法に従い、水や各種有機溶媒
中でHMBAの塩を作成して用いることができる。
料HMBAに対して0.5〜3.0当量好ましくは0.
8〜1.5当量であり、定法に従い、水や各種有機溶媒
中でHMBAの塩を作成して用いることができる。
【0006】本発明において、3−ヒドロキシ−2−メ
チル安息香酸金属塩と反応させる無水酢酸の量は、原料
に対して0.5〜3.0当量好ましくは0.8〜1.5
当量である。
チル安息香酸金属塩と反応させる無水酢酸の量は、原料
に対して0.5〜3.0当量好ましくは0.8〜1.5
当量である。
【0007】本発明においては、有機溶剤を使用しなく
ても反応することが可能である。有機溶剤を使用する場
合ベンゼン,トルエン,キシレン,ペンタン,ヘキサ
ン,ヘプタン,オクタン,リグロイン,シクロヘキサン
などの炭化水素溶剤,クロロホルム,塩化メチレン,ジ
クロルエタン,トリクロルエチレン,クロルベンゼン,
ジクロルベンゼン,トリクロルベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類,酢酸エチル,酢酸プロピル,酢酸イソプロ
ピル,酢酸ブチル等のカルボン酸エステル類,メチルエ
チルケトン,メチルイソブチルケトン等のケトン類,エ
チルエーテル,ジイソプロピルエーテル,メチルブチル
エーテル,ジオキサン,THF,ジメチルセロソルブ,
ジエチルセロソルブ,セロソルブアセテート,メチルカ
ルビトールアセテート,エチルセロソルブアセテート等
のエーテル類が使用できる。あるいはそれらの混合溶剤
としても使用できる。
ても反応することが可能である。有機溶剤を使用する場
合ベンゼン,トルエン,キシレン,ペンタン,ヘキサ
ン,ヘプタン,オクタン,リグロイン,シクロヘキサン
などの炭化水素溶剤,クロロホルム,塩化メチレン,ジ
クロルエタン,トリクロルエチレン,クロルベンゼン,
ジクロルベンゼン,トリクロルベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類,酢酸エチル,酢酸プロピル,酢酸イソプロ
ピル,酢酸ブチル等のカルボン酸エステル類,メチルエ
チルケトン,メチルイソブチルケトン等のケトン類,エ
チルエーテル,ジイソプロピルエーテル,メチルブチル
エーテル,ジオキサン,THF,ジメチルセロソルブ,
ジエチルセロソルブ,セロソルブアセテート,メチルカ
ルビトールアセテート,エチルセロソルブアセテート等
のエーテル類が使用できる。あるいはそれらの混合溶剤
としても使用できる。
【0008】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
【0009】[実施例1]撹拌機及び還流冷却器、温度計
を備えた1Lガラス製反応器にHMBAのナトリウム塩
174gを仕込み、無水酢酸102gを添加し50℃で
3時間反応した後、トルエン500mlを加え析出する
酢酸ナトリウムを吸引ろ過にて除去してろ液からトルエ
ンを留去させ190gの結晶を得た。HPLC分析法に
より結晶中のAMBAを定量したところ185g含まれ
ていた(収率95%)。
を備えた1Lガラス製反応器にHMBAのナトリウム塩
174gを仕込み、無水酢酸102gを添加し50℃で
3時間反応した後、トルエン500mlを加え析出する
酢酸ナトリウムを吸引ろ過にて除去してろ液からトルエ
ンを留去させ190gの結晶を得た。HPLC分析法に
より結晶中のAMBAを定量したところ185g含まれ
ていた(収率95%)。
【0010】[実施例2]撹拌機及び還流冷却器、温度計
を備えた1Lガラス製反応器にHMBAのカルシウム塩
171gを仕込み、無水酢酸102gを添加し70℃で
3時間反応した後、トルエン500mlを加え析出する
酢酸カルシウムを吸引ろ過にて除去してろ液からトルエ
ンを留去させ195gの結晶を得た。HPLC分析法に
より結晶中のAMBAを定量したところ175g含まれ
ていた(収率90%)。
を備えた1Lガラス製反応器にHMBAのカルシウム塩
171gを仕込み、無水酢酸102gを添加し70℃で
3時間反応した後、トルエン500mlを加え析出する
酢酸カルシウムを吸引ろ過にて除去してろ液からトルエ
ンを留去させ195gの結晶を得た。HPLC分析法に
より結晶中のAMBAを定量したところ175g含まれ
ていた(収率90%)。
【0011】[実施例3]撹拌機及び還流冷却器、温度計
を備えた1Lガラス製反応器にトルエン500mlとH
MBA152gを仕込み炭酸ナトリウム69g加え生成
する水をトルエンと共沸にて回収する。得られたHMB
Aナトリウム塩のトルエン懸濁液に、無水酢酸133g
を添加し60℃で3時間反応した後、水を加え副生する
酢酸ナトリウムを水層へ除去する。溶液を0℃まで冷却
して析出するAMBAを吸引ろ過にてろ別後乾燥して1
46gのAMBAを得た(収率75%)。ろ液中のAM
BAをHPLC分析法にて定量すると39gのAMBA
が存在した。結晶として得られたAMBAと合わせると
反応率95%であった。
を備えた1Lガラス製反応器にトルエン500mlとH
MBA152gを仕込み炭酸ナトリウム69g加え生成
する水をトルエンと共沸にて回収する。得られたHMB
Aナトリウム塩のトルエン懸濁液に、無水酢酸133g
を添加し60℃で3時間反応した後、水を加え副生する
酢酸ナトリウムを水層へ除去する。溶液を0℃まで冷却
して析出するAMBAを吸引ろ過にてろ別後乾燥して1
46gのAMBAを得た(収率75%)。ろ液中のAM
BAをHPLC分析法にて定量すると39gのAMBA
が存在した。結晶として得られたAMBAと合わせると
反応率95%であった。
【0012】[実施例4]撹拌機及び還流冷却器、温度計
を備えた1Lガラス製反応器にトルエン500mlとH
MBA152gを仕込み48%水酸化ナトリウム水溶液
92gを加え水をトルエンと共沸にて回収する。得られ
たHMBAナトリウム塩のトルエン懸濁液に、無水酢酸
112gを添加し50℃で3時間反応した後、水を加え
副生する酢酸ナトリウムを水層へ除去する。溶液を0℃
まで冷却して析出するAMBAを吸引ろ過にてろ別後乾
燥して155gのAMBAを得た(収率80%)。
を備えた1Lガラス製反応器にトルエン500mlとH
MBA152gを仕込み48%水酸化ナトリウム水溶液
92gを加え水をトルエンと共沸にて回収する。得られ
たHMBAナトリウム塩のトルエン懸濁液に、無水酢酸
112gを添加し50℃で3時間反応した後、水を加え
副生する酢酸ナトリウムを水層へ除去する。溶液を0℃
まで冷却して析出するAMBAを吸引ろ過にてろ別後乾
燥して155gのAMBAを得た(収率80%)。
【0013】[実施例5]撹拌機及び還流冷却器、温度計
を備えた1Lガラス製反応器にトルエン500mlとH
MBA152gを仕込み水酸化カリウム粉末78gを加
えHMBAカリウム塩を形成する。この反応液中に、無
水酢酸143gを添加し30℃で3時間反応した後、水
を加え副生する酢酸カリウムを水層へ除去する。溶液を
0℃まで冷却して析出するAMBAを吸引ろ過にてろ別
後乾燥して150gのAMBAを得た(収率77%)。
を備えた1Lガラス製反応器にトルエン500mlとH
MBA152gを仕込み水酸化カリウム粉末78gを加
えHMBAカリウム塩を形成する。この反応液中に、無
水酢酸143gを添加し30℃で3時間反応した後、水
を加え副生する酢酸カリウムを水層へ除去する。溶液を
0℃まで冷却して析出するAMBAを吸引ろ過にてろ別
後乾燥して150gのAMBAを得た(収率77%)。
【0014】[実施例6]実施例4において溶剤をトルエ
ンの代わりにメチルイソブチルケトンを使用して実施し
た。実施例4と同様の操作を行い155gのAMBAを
得た(収率80%)。
ンの代わりにメチルイソブチルケトンを使用して実施し
た。実施例4と同様の操作を行い155gのAMBAを
得た(収率80%)。
【0015】[実施例7]撹拌機及び還流冷却器、温度計
を備えた1Lガラス製反応器に酢酸ブチル500mlと
HMBA152gを仕込み炭酸水素カリウム152gを
仕込み、金属塩を形成させる。この反応液中に無水酢酸
133gを添加し30℃で3時間反応した後、水を加え
副生する酢酸カリウムを水層へ除去する。溶液を0℃ま
で冷却して析出するAMBAを吸引ろ過にてろ別後乾燥
して132gのAMBAを得た(収率68%)。
を備えた1Lガラス製反応器に酢酸ブチル500mlと
HMBA152gを仕込み炭酸水素カリウム152gを
仕込み、金属塩を形成させる。この反応液中に無水酢酸
133gを添加し30℃で3時間反応した後、水を加え
副生する酢酸カリウムを水層へ除去する。溶液を0℃ま
で冷却して析出するAMBAを吸引ろ過にてろ別後乾燥
して132gのAMBAを得た(収率68%)。
【0016】
【発明の効果】本発明方法によれば、毒性の高いピリジ
ン等の触媒を使用せずに高収率かつ高純度で医薬品など
の原料として有用な化合物であるAMBAを容易に得る
ことができできる。
ン等の触媒を使用せずに高収率かつ高純度で医薬品など
の原料として有用な化合物であるAMBAを容易に得る
ことができできる。
Claims (1)
- 【請求項1】3−ヒドロキシ−2−メチル安息香酸を金
属塩にした後、無水酢酸と反応させることを特徴とする
3−アセトキシ−2−メチル安息香酸の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11095220A JP2000290231A (ja) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | 3−アセトキシ−2−メチル安息香酸の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11095220A JP2000290231A (ja) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | 3−アセトキシ−2−メチル安息香酸の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000290231A true JP2000290231A (ja) | 2000-10-17 |
Family
ID=14131669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11095220A Pending JP2000290231A (ja) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | 3−アセトキシ−2−メチル安息香酸の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000290231A (ja) |
-
1999
- 1999-04-01 JP JP11095220A patent/JP2000290231A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060220 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080909 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090421 |