JP2000290315A - 重合性光学活性化合物 - Google Patents
重合性光学活性化合物Info
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Abstract
度範囲で液晶相となる液晶性組成物を与える重合性光学
活性化合物を提供すること。 【解決手段】 本発明の重合性光学活性化合物は、下記
〔化1〕の一般式(I)で表される新規な化合物であ
る。また、本発明の重合性組成物は、上記重合性光学活
性化合物を必須成分として含有してなるものである。ま
た、本発明の重合物は、上記重合性組成物から得られる
ものである。 【化1】
Description
活性化合物、これを用いた重合性組成物及び該重合性組
成物から得られる重合物に関し、詳しくは、光学材料、
表示材料、記録材料に有用である光学活性部位として
1,3−ジメチルプロピレン基を有し且つ重合性部位と
してアルケニル基を有する化合物、これを用いた重合性
組成物及びその重合物に関する。
タイプのパーソナルコンピュータやビデオカメラ等携帯
用途の電子機器は軽量化、バッテリー長寿命化が命題と
なっており、これらに用いられるカラー液晶素子につい
て低消費電力化、低電圧駆動化が強く求められている。
折率、誘電率、磁化率等の物理的性質の異方性を利用し
た位相差板、偏光板、光偏光プリズム、反射板等の各種
光学異方体を応用することで光源の利用効率を上げる方
法が検討されている。
液晶第2巻第2号1998にコレステリック液晶組成物
を利用した光学異方体が報告されており、また、特開平
8−3111号公報にネマチック液晶組成物を利用した
光学異方体が報告されている。
る液晶化合物又は重合性部位を持つ液晶化合物を含む重
合性の液晶性組成物を配向させた状態に、紫外線等のエ
ネルギー線を照射し重合させる方法によって得られる。
つまり、得られる光学異方体は、分子配向性を保った状
態を固定化させたものであり、原料に光学活性部位を導
入すると、高次構造的に制御された光学活性部位の効果
により、光学的性質に特性を与えることができる。従っ
て、原料となる液晶性物質の光学活性部位の構造を選択
することでその光学的特性をコントロールすることが考
えられている。
又は重合性組成物は重合後に必要な光学特性を与える構
造であることはもちろん、低温域を含む広い温度範囲で
液晶状態を発現することが求められており、これらの要
求を完全に満足しうる化合物及び組成物は得られていな
かった。
用な、低温度域を含む広い温度範囲で液晶相となる液晶
性組成物を与える重合性光学活性化合物を提供すること
にある。
を重ねた結果、光学活性部位として1,3−ジメチルプ
ロピレン基を有し且つ重合性部位としてアルケニル基を
有する特定の化合物が、上記目的を達成し得ることを知
見した。
で、下記〔化2〕(前記〔化1〕と同じ)の一般式
(I)で表される新規な重合性光学活性化合物を提供す
るものである。
合物である上記一般式(I)で表される化合物について
詳述する。
子中に光学活性部位として1,3−ジメチルプロピレン
基を有し且つ重合性部位としてアルケニル基を有するも
のである。上記一般式(I)中、X及びYで表されるハ
ロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙
げられ、Rで表される炭素数1〜8のアルキレン基とし
ては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、1−
メチルエチレン、2−メチルエチレン、ブチレン、1−
メチルプロピレン、2−メチルプロピレン、3−メチル
プロピレン、1,3−ジメチルプロピレン、ブチレン、
1−メチルブチレン、2−メチルブチレン、3−メチル
ブチレン、4−メチルブチレン、2,4−ジメチルブチ
レン、1,3−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシ
レン、ヘプチレン、オクチレン等を表し、R' 及びR"
で表される炭素数1〜8のアルキル基としては、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第二ブチル、イソブチル、第三ブチル、アミル、イ
ソアミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソ
ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、2−エチルヘ
キシルが挙げられ、炭素数1〜8のアルケニル基として
は、例えば、ビニル、1−メチルエテニル、2−メチル
エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセ
ニル、ヘプテニル、オクテニル等が挙げられる。
一般式(I)で表される化合物は特に制限を受けない
が、好ましい具体例としては、下記〔化3〕〜〔化8〕
に示す化合物No.1〜No.6等が挙げられる。
料、表示材料、記録材料に有用であり、特に液晶素子の
光学異方体に有用なものである。本発明の重合性光学活
性化合物は、他の重合性化合物と混合して液晶素子に用
いる場合、それ自身液晶性を示しても示さなくても良
く、他の重合性化合物との混合物、即ち、重合性組成物
において液晶性を示し、配向性に優れた光学異方体(重
合物)を与えるものであれば良い。
その一種類又は二種類以上で使用してもよく、他の重合
性化合物の一種類以上と共に使用してもよい。
られる他の重合性化合物としては、特に限定されるもの
ではなく、例えば、4−アクリロイルオキシ−4 −デ
シルビフェニル、4−アクリロイルオキシ−4 −シア
ノビフェニル、4−アクリロイル−4 −アミルトラ
ン、4−アクリロイル−4 −(3,4−ジフルオロフ
ェニル)ビシクロヘキシル、4−(2−アクリロイルオ
キシエチル)安息香酸(4−アミルフェニル)、4−
(2−アクリロイルオキシエチル)安息香酸(4−(4
−プロピルシクロヘキシル)フェニル)、4−(6−
アクリロイルオキシヘキシルオキシ)−4' シアノビフ
ェニル、4−シアノ安息香酸−4−(2−アクリロイル
オキシエチル)フェニル、3,4−ジフルオロフェニル
安息香酸4−(6−アクリロイルオキシヘキシルオキ
シ)フェニル、1−(4−(2アクリロイルオキシエチ
ルオキシ)フェニルカルボニルオキシ)−4(4−シア
ノフェニルカルボニルオキシ)ベンゼン等のモノアクリ
レート化合物、1,4−ビス(4−(6−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ)ベンゼン、
1,4−ビス(4−(2−アクリロイルオキシエチルオ
キシ)ベンゾイルオキシ)ベンゼン、ビス(4−(2−
アクリロイルオキシエチルオキシ)フェニル)テレフタ
レート等の対称ジアクリレート化合物、4−(4−アク
リロイルオキシフェニル)カルボニルオキシ−(6−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシフェニル)カルボニル
オキシベンゼン、4−(4−アクリロイルオキシフェニ
ル)カルボニルオキシ−(3−アクリロイルオキシプロ
ピルオキシフェニル)カルボニルオキシベンゼン、4−
アクリロイルオキシ安息香酸−4−(2−アクリロイル
オキシエチル)フェニル、4−アクリロイルオキシ安息
香酸−4−(3−アクリロイルオキシプロピル)フェニ
ル、4−アクリロイルオキシフェニル−4−アクリロイ
ルオキシ安息香酸エステル、4−(2−アクリロイルオ
キシエチル)安息香酸(4−アクリロイルオキシ)フェ
ニルエステル、4−(4−アクリロイルオキシフェニ
ル)カルボニルオキシ(6−アクリロイルオキシヘキシ
ル)カルボニルオキシベンゼン等の非対称ジアクリレー
ト化合物、3,4−ビス(アクリロイルオキシ)安息香
酸4−(4−(2−アクリロイルオキシエチルオキシ)
フェニルカルボニルオキシ)フェニル、3,4−ビス
(アクリロイルオキシ)安息香酸4−(4−(3−アク
リロイルオキシプロピルオキシ)フェニルカルボニルオ
キシ)フェニル、3,4−ビス(アクリロイルオキシ)
安息香酸4−(4−(6−アクリロイルオキシヘキシル
オキシ)フェニルカルボニルオキシ)フェニル、3,4
−ビス(アクリロイルオキシ)安息香酸4−(4−アク
リロイルフェニルカルボニルオキシ)フェニル、3,4
−ビス(アクリロイルオキシ)安息香酸4−アクリロイ
ルオキシフェニル等のトリアクリレート化合物、これら
のアクリレート化合物のアクリロイルオキシ基をメタク
リロイルオキシ基に置換したメタクリレート化合物等が
挙げられる。
性化合物とを併用した重合性組成物とする場合、本発明
の重合性光学活性化合物の使用量は特に限定されるもの
ではないが、使用量が少ないと光学活性部位の効果が現
れ難いので3重量%以上が好ましく、20重量%以上が
より好ましい。
は、その製造方法によって制限されることはないが、重
合活性部位はアクリル酸、メタクリル酸等の二重結合を
有するカルボン酸やそのエステル化合物又はハライド等
エステル形成性誘導体から導入でき、光学活性部位は
2、4−ペンタジオンから導入でき、また、ベンゼン
環、シクロヘキサン環等の環構造は、該当する環のエス
テル形成性誘導体や該当する環のアルコールから導入す
ることができる。これらを原料として、エステル化反
応、エステル交換反応、ハロゲン化反応、エーテル化反
応等により、目的の構造の重合性光学活性化合物を得る
ことができる。
その重合物とすることにより、光学的特性を付与された
光学異方体とすることができる。この重合物において、
本発明の重合性光学活性化合物は、分子配向性を保った
状態で固定化し、高次構造的に制御された光学活性部位
の効果により、光学的特性が付与される。このような重
合物を得る方法としては、例えば、本発明の重合性光学
活性化合物を必須成分として含有してなる上記重合性組
成物に、光重合開始剤を加え、紫外線等のエネルギーを
照射し重合させる方法等が挙げられる。
に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の製造
例及び実施例によって制限を受けるものではない。
メチルプロピルオキシ)安息香酸の合成 アルゴン置換した500mlフラスコに(S,S)−
2,4−ペンタンジオール5.46g(0.0525m
ol)、4−ヒドロキシ安息香酸メチル7.6g(0.
0500mol)、トリフェニルホスフィン14.4g
(0.0550mol)及びジエチルエーテル150m
lを仕込み、室温で撹拌混合しながらアゾジカルボン酸
ジイソプロピル12.1g(0.0600mol)を4
5分で滴下し、室温で3時間反応させた。析出物を濾別
し、濾液を脱溶媒した後、残渣をシリカゲルカラム、酢
酸エチル/ヘキサン=1/4溶媒でカラム分離により精
製し、メチルエステルを得た。これに水酸化カリウム
3.4g(0.0600mol)、エタノール100m
l、水50mlを加え3時間還流した後、濃縮し、希塩
酸で酸性化し、濾過、水洗して目的物のアルコール化合
物を6.2g(収率55%)を得た。
れたアルコール化合物5.6g(0.0250mo
l)、アクリル酸18.0g(0.0250mol)、
パラトルエンスルホン酸一水和物1.40g、ハイドロ
キノン0.3gを仕込み、生成する水を留去しながら、
8時間反応を行った。反応後、脱溶媒し、水、ジエチル
エーテルを100mlづつ加え油水分離を行い、エーテ
ル相を1%炭酸水素ナトリウム水溶液、蒸留水で洗浄し
て濃縮後、クロロホルム/メタノール=50/1でシリ
カゲルカラム精製することで、アクリル酸エステル4.
08g(収率58%)を得た。
6g(0.011mol)、ジメチルホルムアミド0.
08g(0.0011mol)、3,5−ジターシャリ
ブチル−4−ヒドロキシトルエン0.02g(0.00
011mol)、トルエン10.5gを仕込み、室温で
撹拌混合しながら塩化チオニル1.65g(0.013
2mol)を滴下し、室温で2時間反応させた。ガスク
ロマトグラフィーで反応の終了を確認した後、溶媒、過
剰の塩化チオニルを留去し、酸クロライド化合物を得
た。アルゴン置換した300mlフラスコにヒドロキノ
ン0.606g(0.00550mol)、ピリジン
0.918g(0.0116mol)、テトラヒドロフ
ラン7.00gを仕込み、撹拌混合しながら、上記酸ク
ロライドをテトラヒドロフラン3.5gに溶解させたも
のを15分で滴下し、滴下終了後50℃、2時間反応さ
せた。クロロホルム、水を50mlづつ加え、油水分離
した後、クロロホルム相と、水相から再度クロロホルム
50mlで抽出した相を混合し、2回水洗した後、硫酸
マグネシウムで乾燥、脱溶媒し、クロロホルム溶媒でシ
リカゲルカラム精製して、室温で液体である目的の化合
物No.1を1.20g(34.7g)得た。得られた
化合物の構造は、IR測定、 1H−NMRで確認した。
1570、1500、1455、1405、1380、
1250、1160、1065 ・ 1H−NMR分析結果 1.3ppm:(d;6H)、1.5ppm:(d;6
H)、2.0ppm:(m;4H)、4.6ppm
(m;2H)、5.2ppm(m;2H)、5.8−
6.5(m;6H)、6.9−8.2(m;12H)
エステル0.78g(0.0028mol)、4−(4
−ヒドロキシフェニル)−4' −プロピルシクロヘキサ
ン0.73g(0.00335mol)及びジクロロメ
タン10mlを仕込み、撹拌混合しながらジクロロメタ
ン2mlに溶解させたN,N' −ジクロロヘキシルカル
ボジイミド0.69g(0.00335mol)を10
分で滴下し、室温で5時間反応させた。析出物を濾別
し、濾液を脱溶媒して、ヘキサン/酢酸エチル=4/1
溶媒でシリカゲルカラム精製し、室温でコレステリック
液晶相を示す目的の化合物No.2を0.70g(収率
53.8%)得た。得られた化合物の構造は、IR測
定、 1H−NMRで確認した。
1505、1405、1255、1200、1165、
1075 ・ 1H−NMR分析結果 0.9ppm:(t;3H)、1.1−2.4ppm:
(m;22H)、4.6ppm(m;1H)、5.2p
pm(m;1H)、5.7−6.5(m;3H)、6.
8−8.1(m;8H)
ブチルアクリレート1.10g(0.005mol)、
4−カルボキシル−4' −[(1R,3R)−3−クロ
ロ−1,3−ジメチルプロピルオキシ]ビフェニル1.
59g(0.005mol)、4−ジメチルアミノピリ
ジン0.06g(0.0005mol)及びジクロロメ
タン20mlを仕込み、撹拌混合しながら3mlに溶解
させたN,N' −ジクロロヘキシルカルボジイミド1.
08g(0.00525mol)を10分で滴下し、室
温で6時間反応させた。析出物を濾別し、濾液を脱溶媒
して、クロロホルム溶媒でシリカゲルカラム精製し、融
点46.5℃である目的の化合物No.3を1.70g
(収率65.4%)得た。得られた化合物の構造は、I
R測定、 1H−NMRで確認した。
1595、1500、1400、1260、1180、
1070 ・ 1H−NMR分析結果 1.3ppm:(d;3H)、1.4ppm:(d;3
H)、1.6−2.2ppm:(m;6H)、2.6:
(t;2H)、4.2ppm(m;3H)、4.7pp
m1(m;1H)、5.8−6.7(m;3H)、7.
0−8.2(m;12H)
ルオキシエチル)安息香酸(4−アクリロイルオキシ)
フェニルを25重量部、4−(4−アクリロイルオキシ
フェニル)カルボニルオキシ(6−アクリロイルオキシ
ヘキシル)カルボニルオキシベンゼンを25重量部の割
合で混合し、組成物を調製した。 化合物No.3を60重量部、4−(4−アクリロイ
ルオキシフェニル)カルボニルオキシ(6−アクリロイ
ルオキシヘキシル)カルボニルオキシベンゼンを40重
量部の割合で混合し、組成物を調製した。 化合物No.3を50重量部、4−(2−アクリロイ
ルオキシエチル)安息香酸(4−アクリロイルオキシ)
フェニルを20重量部、4−(4−アクリロイルオキシ
フェニル)カルボニルオキシ(6−アクリロイルオキシ
ヘキシル)カルボニルオキシベンゼンを30重量部の割
合で混合し、組成物を調製した。上記の3種類の重合性
組成物は全て室温でコレステリック液晶相を示した。
を行った。重合性組成物に、光重合開始剤:α、α−ジ
メトキシデオキシベンゾイン0.5重量%を加え、ガラ
スセルに挟み、25℃で356nmの光を照射して重合
を行った。重合物については、重合前の重合性組成物と
同様の液晶相特有の選択反射が観察でき、液晶状態が固
定化されたことを確認した。
異方体に有用な重合性液晶性組成物を与えるものであ
る。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記〔化1〕の一般式(I)で表される
重合性光学活性化合物。 【化1】 - 【請求項2】 請求項1記載の重合性光学活性化合物を
必須成分として含有してなる重合性組成物。 - 【請求項3】 請求項2記載の重合性組成物から得られ
る重合物。
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