JP2000290453A - フッ素ゴム組成物 - Google Patents
フッ素ゴム組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 内部発生ガス量が少なく、帯電防止レベルの
体積固有抵抗を有し、従って磁気ディスク装置用ガスケ
ット成形材料などとして有効に用いられるフッ素ゴム組
成物を提供する。 【解決手段】 フッ素ゴムに粒径5〜100μmの金属被覆
無機物を組成物中20〜60体積%を占める量で添加したフ
ッ素ゴム組成物。
体積固有抵抗を有し、従って磁気ディスク装置用ガスケ
ット成形材料などとして有効に用いられるフッ素ゴム組
成物を提供する。 【解決手段】 フッ素ゴムに粒径5〜100μmの金属被覆
無機物を組成物中20〜60体積%を占める量で添加したフ
ッ素ゴム組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素ゴム組成物
に関する。更に詳しくは、磁気ディスク装置用ガスケッ
ト成形材料などとして好適に用いられるフッ素ゴム組成
物に関する。
に関する。更に詳しくは、磁気ディスク装置用ガスケッ
ト成形材料などとして好適に用いられるフッ素ゴム組成
物に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピュタシステムに対する社会的要求
は、なお一層の高速化と小型化にあり、磁気ディスク装
置(HDD)に対しても記憶容量が大きく、また外観形状も
より小型化、軽量化したものが求められている。
は、なお一層の高速化と小型化にあり、磁気ディスク装
置(HDD)に対しても記憶容量が大きく、また外観形状も
より小型化、軽量化したものが求められている。
【０００３】大容量記憶で小型化したHDDを実現するた
めには、磁気記憶媒体である磁気ディスク媒体への記憶
密度を高める必要があり、そのために磁気ディスク媒体
表面上を浮上走行する磁気ヘッドの浮上高さを低くする
必要がある。現在、その浮上高さはサブミクロンのオー
ダーであり、この場合にはHDD内部に残留するほこりや
内部で発生する不用なガスによって、ヘッドクラッシュ
が発生するのを避けることができない。
めには、磁気記憶媒体である磁気ディスク媒体への記憶
密度を高める必要があり、そのために磁気ディスク媒体
表面上を浮上走行する磁気ヘッドの浮上高さを低くする
必要がある。現在、その浮上高さはサブミクロンのオー
ダーであり、この場合にはHDD内部に残留するほこりや
内部で発生する不用なガスによって、ヘッドクラッシュ
が発生するのを避けることができない。
【０００４】このため、HDDの組立作業はクリーンルー
ム内で行われ、外部からほこりが侵入しないように、ガ
スケットを介して密閉することが行われている。しかる
に、ここで用いられるガスケットから発生するガスより
主としてなる内部発生ガスを防止しなければならないと
いう問題があり、このような問題を解決するために、ポ
リウレタンやクロロプレンゴムの架橋物を用いる方法
(特開平2-50385号公報)やフッ素ゴムを用いる方法(同4-
132072号公報)などが提案されている。しかしながら、
後記比較例3〜4に示されるように、単にフッ素ゴム製ガ
スケットを用いたのみでは、内部発生ガス量を十分に低
下させることができない。
ム内で行われ、外部からほこりが侵入しないように、ガ
スケットを介して密閉することが行われている。しかる
に、ここで用いられるガスケットから発生するガスより
主としてなる内部発生ガスを防止しなければならないと
いう問題があり、このような問題を解決するために、ポ
リウレタンやクロロプレンゴムの架橋物を用いる方法
(特開平2-50385号公報)やフッ素ゴムを用いる方法(同4-
132072号公報)などが提案されている。しかしながら、
後記比較例3〜4に示されるように、単にフッ素ゴム製ガ
スケットを用いたのみでは、内部発生ガス量を十分に低
下させることができない。
【０００５】また、大記憶容量化、小型化という更なる
性能の向上は、HDDが帯電したり、外部から来る電磁波
など、従来はあまり影響のなかったものによっても、ト
ラブル発生の原因となり得ることもあり、これらが新た
に問題となっている。
性能の向上は、HDDが帯電したり、外部から来る電磁波
など、従来はあまり影響のなかったものによっても、ト
ラブル発生の原因となり得ることもあり、これらが新た
に問題となっている。
【０００６】より具体的には、HDDは絶縁体であるガス
ケットを介して、上下の金属蓋によって構成されてお
り、コンピュタの使用中に何らかの原因により帯電し
て、上蓋と下蓋との間で電位差を生ずることがある。電
位差をなくすためには、ガスケットに導電性を付与し、
例えばフッ素ゴム製ガスケットの体積固有抵抗を1013〜
10 14Ω・cmの水準から帯電防止レベルである106Ω・cm
以下に下げることが必要となってくる。しかしながら、
導電性カーボンブラックを添加したフッ素ゴムでは、後
記比較例3の結果に示されるように、体積固有抵抗を下
げることができても、硬度が高くなりすぎてしまい好ま
しくない。
ケットを介して、上下の金属蓋によって構成されてお
り、コンピュタの使用中に何らかの原因により帯電し
て、上蓋と下蓋との間で電位差を生ずることがある。電
位差をなくすためには、ガスケットに導電性を付与し、
例えばフッ素ゴム製ガスケットの体積固有抵抗を1013〜
10 14Ω・cmの水準から帯電防止レベルである106Ω・cm
以下に下げることが必要となってくる。しかしながら、
導電性カーボンブラックを添加したフッ素ゴムでは、後
記比較例3の結果に示されるように、体積固有抵抗を下
げることができても、硬度が高くなりすぎてしまい好ま
しくない。
【０００７】更に、HDDの上下蓋の金属部分は電磁波を
シールドし得るものの、有機物であるガスケット部分は
外部からの電磁波を内部に侵入させてしまうのを避ける
ことができない。そのため、ガスケット部分に金属並み
の電磁波シールド性、より具体的には体積固有抵抗を10
1Ω・cmの水準迄低下させ得ることも同時に求められて
いる。
シールドし得るものの、有機物であるガスケット部分は
外部からの電磁波を内部に侵入させてしまうのを避ける
ことができない。そのため、ガスケット部分に金属並み
の電磁波シールド性、より具体的には体積固有抵抗を10
1Ω・cmの水準迄低下させ得ることも同時に求められて
いる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、内部
発生ガス量が少なく、帯電防止レベルの体積固有抵抗を
有し、従って磁気ディスク装置用ガスケット成形材料な
どとして有効に用いられるフッ素ゴム組成物を提供する
ことにある。
発生ガス量が少なく、帯電防止レベルの体積固有抵抗を
有し、従って磁気ディスク装置用ガスケット成形材料な
どとして有効に用いられるフッ素ゴム組成物を提供する
ことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
フッ素ゴムに粒径5〜100μmの金属被覆無機物を組成物
中20〜60体積%を占める量で添加したフッ素ゴム組成物
によって達成される。
フッ素ゴムに粒径5〜100μmの金属被覆無機物を組成物
中20〜60体積%を占める量で添加したフッ素ゴム組成物
によって達成される。
【００１０】
【発明の実施の形態】フッ素ゴムとしては、ポリオール
系、オニウム塩系、パーオキサイド系等の任意の架橋系
で架橋し得るものをいずれも用いることが、好ましくは
フッ化ビニリデンと他の含フッ素モノマー、例えばヘキ
サフルオロプロペン、テトラフルオロエチレン、ペンタ
フルオロプロペン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニ
ル、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオ
ロ(エチルビニルエーテル)、パーフルオロ(プロピルビ
ニルエーテル)等の少くとも一種との共重合体が用いら
れる。これらの各種共重合体の中では、フッ化ビニリデ
ン-ヘキサフルオロプロペン共重合体、フッ化ビニリデ
ン-ヘキサフルオロプロペン-テトラフルオロエチレン3
元共重合体が好んで用いられる。また、これらのフッ素
ゴムは、その数平均分子量Mnが約10000〜1000000程度の
ものが用いられる。
系、オニウム塩系、パーオキサイド系等の任意の架橋系
で架橋し得るものをいずれも用いることが、好ましくは
フッ化ビニリデンと他の含フッ素モノマー、例えばヘキ
サフルオロプロペン、テトラフルオロエチレン、ペンタ
フルオロプロペン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニ
ル、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオ
ロ(エチルビニルエーテル)、パーフルオロ(プロピルビ
ニルエーテル)等の少くとも一種との共重合体が用いら
れる。これらの各種共重合体の中では、フッ化ビニリデ
ン-ヘキサフルオロプロペン共重合体、フッ化ビニリデ
ン-ヘキサフルオロプロペン-テトラフルオロエチレン3
元共重合体が好んで用いられる。また、これらのフッ素
ゴムは、その数平均分子量Mnが約10000〜1000000程度の
ものが用いられる。
【００１１】フッ素ゴムに添加される金属被覆無機物と
しては、導電性良好な金、銀、銅等の金属をその表面に
被覆したカーボン、ガラス、セラミックス等の無機物が
用いられ、これらは表面が金属で被覆されているため、
全体として金属と同程度の導電性を有するばかりではな
く、金属単体と比較して比重が小さく、より廉価でもあ
る。
しては、導電性良好な金、銀、銅等の金属をその表面に
被覆したカーボン、ガラス、セラミックス等の無機物が
用いられ、これらは表面が金属で被覆されているため、
全体として金属と同程度の導電性を有するばかりではな
く、金属単体と比較して比重が小さく、より廉価でもあ
る。
【００１２】ここで用いられる金属被覆無機物として
は、粒径（平均粒径）が5〜100μm、好ましくは10〜70
μmのものであって、一般には球状体が用いられる。こ
れ以下の粒径のものでは、均一に精製することが困難で
あり、一方これ以上の粒径のものを用いると、精度が必
要とされる小さな成形品の成形を不可能とさせる。無機
物表面への金属の被覆は、蒸着法、スパッタリング法な
どによって行われる。
は、粒径（平均粒径）が5〜100μm、好ましくは10〜70
μmのものであって、一般には球状体が用いられる。こ
れ以下の粒径のものでは、均一に精製することが困難で
あり、一方これ以上の粒径のものを用いると、精度が必
要とされる小さな成形品の成形を不可能とさせる。無機
物表面への金属の被覆は、蒸着法、スパッタリング法な
どによって行われる。
【００１３】金属被覆無機物は、フッ素ゴムに架橋剤そ
の他必要な配合剤を添加した組成物中、20〜60体積%、
好ましくは40〜50体積%を占めるような割合で用いられ
る。これの配合割合によって加硫フッ素ゴムの硬さが左
右されるが、ガスケットとしてのシール性を維持するた
めには、硬さ(JIS A)が50〜90、好ましくは60〜85であ
ることが求められる。硬さがこれよりも低い加硫物はヘ
タリが大きく、ガスケットとしてのシール性に問題があ
り、一方これ以上の硬さの加硫物ではガスケットとして
は硬すぎるため、組付け時の締付けに大きな力が必要と
なるので好ましくない。
の他必要な配合剤を添加した組成物中、20〜60体積%、
好ましくは40〜50体積%を占めるような割合で用いられ
る。これの配合割合によって加硫フッ素ゴムの硬さが左
右されるが、ガスケットとしてのシール性を維持するた
めには、硬さ(JIS A)が50〜90、好ましくは60〜85であ
ることが求められる。硬さがこれよりも低い加硫物はヘ
タリが大きく、ガスケットとしてのシール性に問題があ
り、一方これ以上の硬さの加硫物ではガスケットとして
は硬すぎるため、組付け時の締付けに大きな力が必要と
なるので好ましくない。
【００１４】金属被覆無機物の添加割合は、まず加硫物
の硬さとの関係で決められるが、体積固有抵抗および内
部発生ガス量との関係からも決められる。体積固有抵抗
に関していえば、帯電防止レベルである106Ω・cm以下
に下げることが求められており、上記添加割合範囲では
これを満足させるばかりではなく、特に45体積%以上で
は101Ω・cm以下という金属並みの電磁波シールド性が
みられる。また、内部ガス発生量に関しても、上記添加
割合範囲ではその量を半減させている。
の硬さとの関係で決められるが、体積固有抵抗および内
部発生ガス量との関係からも決められる。体積固有抵抗
に関していえば、帯電防止レベルである106Ω・cm以下
に下げることが求められており、上記添加割合範囲では
これを満足させるばかりではなく、特に45体積%以上で
は101Ω・cm以下という金属並みの電磁波シールド性が
みられる。また、内部ガス発生量に関しても、上記添加
割合範囲ではその量を半減させている。
【００１５】
【発明の効果】本発明に係るフッ素ゴム組成物は、導電
性にすぐれ、また内部発生ガス量も少ないため、コンピ
ュタシステムのファイル装置として使用する磁気ディス
ク装置用ガスケットの成形材料などとして好適に用いる
ことができる。なお、金属被覆無機物の添加に代えて、
金属粒子、例えば銀粒子（平均粒径約50μm）を添加し
たゴムからガスケットを成形すると、各種測定値には殆
ど差が認められないが、比重が２倍以上になり、コスト
も大幅に高くなる。
性にすぐれ、また内部発生ガス量も少ないため、コンピ
ュタシステムのファイル装置として使用する磁気ディス
ク装置用ガスケットの成形材料などとして好適に用いる
ことができる。なお、金属被覆無機物の添加に代えて、
金属粒子、例えば銀粒子（平均粒径約50μm）を添加し
たゴムからガスケットを成形すると、各種測定値には殆
ど差が認められないが、比重が２倍以上になり、コスト
も大幅に高くなる。
【００１６】
【実施例】次に、実施例について本発明を説明する。
【００１７】 実施例１〜５、比較例１〜２ フッ素ゴム(ダイキン製品ダイエルZ-71N) 100重量部 酸化マグネシウム 3 〃 水酸化カルシウム 3 〃 表面銀被覆ガラスビーズ(粒径約50μm) 比較例1: 30重量部(組成物中18体積%) 実施例1: 50重量部(組成物中26体積%) 〃 2:100重量部(組成物中41体積%) 〃 3:120重量部(組成物中45体積%) 〃 4:150重量部(組成物中51体積%) 〃 5:200重量部(組成物中58体積%) 比較例2:250重量部(組成物中61体積%)
【００１８】以上の各配合成分をニーダ中に一括投入
し、15分間混練した後排出してフッ素ゴム組成物を調製
した。このフッ素ゴム組成物を、170℃、100Kgf/cm2、2
0分間の条件下でプレス加硫し、得られたシール状加硫
物(厚さ2mm)を200℃で20時間オーブン加硫した。
し、15分間混練した後排出してフッ素ゴム組成物を調製
した。このフッ素ゴム組成物を、170℃、100Kgf/cm2、2
0分間の条件下でプレス加硫し、得られたシール状加硫
物(厚さ2mm)を200℃で20時間オーブン加硫した。
【００１９】得られた加硫ゴムシートについて、次の各
項目の測定を行った。 硬さ：JIS K-6253準拠 引張強さ、切断時伸び：JIS K-6251準拠 圧縮永久歪：JIS K-6262準拠(100℃、70時間) アウトガス量：パーキン・エルマー社製Q-Mass910マス
・スペクトルメーターを使用し、85℃、18時間の条件下
で測定 体積固有抵抗：2×2×0.2cm(測定方向)の試験片の上下
表面に銅箔を貼り付け、ヒュレット・パッカード社製34
57Aマルチメーターを用いて電気抵抗値を測定し、体積
固有抵抗値に換算 体積固有抵抗値＝電気抵抗値×表面積/測定方向の長さ
項目の測定を行った。 硬さ：JIS K-6253準拠 引張強さ、切断時伸び：JIS K-6251準拠 圧縮永久歪：JIS K-6262準拠(100℃、70時間) アウトガス量：パーキン・エルマー社製Q-Mass910マス
・スペクトルメーターを使用し、85℃、18時間の条件下
で測定 体積固有抵抗：2×2×0.2cm(測定方向)の試験片の上下
表面に銅箔を貼り付け、ヒュレット・パッカード社製34
57Aマルチメーターを用いて電気抵抗値を測定し、体積
固有抵抗値に換算 体積固有抵抗値＝電気抵抗値×表面積/測定方向の長さ
【００２０】比較例３ 実施例1において、表面銀被覆ガラスビーズの代りに、
導電性カーボンブラック(ライオン製品ケッチェンブラ
ックEC-600JD)が10重量部用いられた。
導電性カーボンブラック(ライオン製品ケッチェンブラ
ックEC-600JD)が10重量部用いられた。
【００２１】比較例４ 実施例1において、表面銀被覆ガラスビーズの代りに、H
AFカーボンブラック(昭和キャボット製品ショウブラッ
クN330)が30重量部用いられた。
AFカーボンブラック(昭和キャボット製品ショウブラッ
クN330)が30重量部用いられた。
【００２２】以上の各実施例および比較例における測定
結果は、次の表1に示される。なお、比較例2では成形が
できなかった。 表１ 測定項目 比-1 実-1 実-2 実-3 実-4 実-5 比-3 比-4 硬さ (JIS A) 58 63 70 72 75 82 92 90 引張強さ(MPa) 11.0 9.4 8.6 7.8 6.9 6.2 14.2 15.3 切断時伸び(%) 260 300 340 330 380 410 140 160 圧縮永久歪(%) 10 18 20 25 28 30 15 22 アウトガス量 (μg/g) 1.5 1.1 1.3 1.0 1.2 1.8 2.2 2.0 体積固有抵抗 (Ω・cm) ＞106 105〜 103〜 10-1〜 ＜10-1 ＜10-1 105〜 ＞106 106 104 100 106
結果は、次の表1に示される。なお、比較例2では成形が
できなかった。 表１ 測定項目 比-1 実-1 実-2 実-3 実-4 実-5 比-3 比-4 硬さ (JIS A) 58 63 70 72 75 82 92 90 引張強さ(MPa) 11.0 9.4 8.6 7.8 6.9 6.2 14.2 15.3 切断時伸び(%) 260 300 340 330 380 410 140 160 圧縮永久歪(%) 10 18 20 25 28 30 15 22 アウトガス量 (μg/g) 1.5 1.1 1.3 1.0 1.2 1.8 2.2 2.0 体積固有抵抗 (Ω・cm) ＞106 105〜 103〜 10-1〜 ＜10-1 ＜10-1 105〜 ＞106 106 104 100 106
【００２３】 実施例６〜10、比較例５〜６ フッ素ゴム(ダイキン製品ダイエルG-801) 100重量部 酸化亜鉛 5 〃 2,5-ジメチル-2,5-ジ第3ブチルパーオキシヘキサン 2 〃 トリアリルイソシアヌレート 1.5 〃 表面銀被覆ガラスビーズ(粒径約50μm) 比較例 5: 30重量部(組成物中18体積%) 実施例 6: 50重量部(組成物中26体積%) 〃 7:100重量部(組成物中41体積%) 〃 8:120重量部(組成物中45体積%) 〃 9:150重量部(組成物中51体積%) 〃 10:200重量部(組成物中58体積%) 比較例 6:250重量部(組成物中61体積%)
【００２４】以上の各配合成分を用い、実施例1〜5と同
様に、組成物の調製、加硫および測定が行われた。得ら
れた結果は、次の表2に示される。なお、比較例6では成
形ができなかった。 表２ 測定項目 比-5 実-6 実-7 実-8 実-9 実-10 硬さ (JIS A) 58 63 70 72 75 82 引張強さ (MPa) 17.2 15.3 14.6 13.0 12.4 10.6 切断時伸び (%) 190 170 150 150 130 120 圧縮永久歪 (%) 28 30 32 32 34 36 アウトガス量 (μg/g) 1.6 1.2 1.0 1.4 1.7 1.5 体積固有抵抗 (Ω・cm) ＞106 105〜 103〜 10-1〜 ＜10-1 ＜10-1 106 104 100
様に、組成物の調製、加硫および測定が行われた。得ら
れた結果は、次の表2に示される。なお、比較例6では成
形ができなかった。 表２ 測定項目 比-5 実-6 実-7 実-8 実-9 実-10 硬さ (JIS A) 58 63 70 72 75 82 引張強さ (MPa) 17.2 15.3 14.6 13.0 12.4 10.6 切断時伸び (%) 190 170 150 150 130 120 圧縮永久歪 (%) 28 30 32 32 34 36 アウトガス量 (μg/g) 1.6 1.2 1.0 1.4 1.7 1.5 体積固有抵抗 (Ω・cm) ＞106 105〜 103〜 10-1〜 ＜10-1 ＜10-1 106 104 100
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤本 健一 神奈川県藤沢市辻堂新町４−３−１ エヌ オーケー株式会社内 Ｆターム(参考） 3E084 HB03 HC03 4J002 BD121 DA036 DL006 DM006 FB076 GJ02
Claims (2)
- 【請求項１】 フッ素ゴムに粒径5〜100μmの金属被覆
無機物を組成物中20〜60体積%を占める量で添加してな
るフッ素ゴム組成物。 - 【請求項２】 磁気ディスク装置用ガスケット成形材料
として用いられる請求項１記載のフッ素ゴム組成物。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP09565299A JP4122619B2 (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | フッ素ゴム組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09565299A JP4122619B2 (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | フッ素ゴム組成物 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP2000290453A true JP2000290453A (ja) | 2000-10-17 |
| JP4122619B2 JP4122619B2 (ja) | 2008-07-23 |
Family
ID=14143443
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP09565299A Expired - Fee Related JP4122619B2 (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | フッ素ゴム組成物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4122619B2 (ja) |
-
1999
- 1999-04-02 JP JP09565299A patent/JP4122619B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP4122619B2 (ja) | 2008-07-23 |
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