JP2000292384A - 試料分析方法および電子線分析装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 試料分析時に試料がイオンスパッタされて、
試料表面形状が変化しても、ドリフト補正が正しく行わ
れる試料分析方法および電子線分析装置を提供するこ
と。 【解決手段】 ドリフト補正信号作成手段１６は、中央
制御装置１７から送られてくる画像データを２値化処理
して２値化画像データを作成し、その２値化画像データ
に基づき、ピットの中心位置の座標を求める。また、ド
リフト補正信号作成手段１６は、分析前に前記画像デー
タ記憶手段２０に記憶された画像データを２値化処理し
て２値化画像データを作成し、その２値化画像データに
基づき、ピットの中心位置の座標を求める。そして、ド
リフト補正信号作成手段１６は、それらの座標の差を求
め、ドリフト補正データとして偏向制御手段１４に送
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】 本発明は、オージェ電子分
光装置等における試料分析方法、およびオージェ電子分
光装置などの電子線分析装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】 オージェ電子分光装置は、試料上の特
定位置に電子線を照射し、その電子線の照射により試料
表面の極薄層から放出されたオージェ電子を検出し、検
出したオージェ電子から試料の極薄層に存在する元素を
調べる装置である。

【０００３】このオージェ電子分光装置は、たとえばＩ
Ｃ（集積回路）製造工程中にＩＣの表面に付いたごみの
分析等に用いられる。また、最近のオージェ電子分光装
置は、試料のドリフト等による電子線照射位置の移動を
防ぐために、ドリフト補正機能を備えている。すなわ
ち、最近のオージェ電子分光装置は、分析前に収集した
像と分析中に収集した像とを比較して電子線照射位置の
ずれ量を求め、そのずれ量を補正する偏向信号を電子線
偏向手段にフィードバックしている。このようなドリフ
ト補正機能を備えたオージェ電子分光装置においては、
試料分析中、電子線照射位置は試料上の特定位置に保た
れる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、この
ようなドリフト補正が行われている試料分析時に、試料
の深さ方向の分析のために試料がイオンスパッタされる
と、そのイオンスパッタによる試料表面形状の変化が前
記分析中に収集される２次電子像にあらわれ、ドリフト
補正が正しく行われない場合がある。ドリフト補正が正
しく行われないと、試料分析中に、電子線照射位置が試
料上の特定位置から移動してしまう。

【０００５】本発明はこのような点に鑑みて成されたも
ので、その目的は、試料分析時に試料がイオンスパッタ
されて、試料表面形状が変化しても、ドリフト補正が正
しく行われる試料分析方法および電子線分析装置を提供
することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】 この目的を達成する本
発明の試料分析方法は、試料上の特定位置に電子線を照
射し、その電子線の照射により試料から放出された信号
を検出して試料分析を行う試料分析方法であって、試料
上に人工的に形成されたピットを含む一定領域を電子線
で走査するための走査データを走査データ記憶手段に記
憶しておき、試料分析前に、前記走査データ記憶手段に
記憶された走査データに対応した走査信号を電子線偏向
手段に供給して電子線走査を行い、該電子線走査によっ
て試料から放出される信号を画像データとして記憶し、
試料分析中に前記特定位置への電子線の照射を中断し、
試料分析中断中に、前記走査データ記憶手段に記憶され
た走査データに対応した走査信号を前記電子線偏向手段
に供給して電子線走査を行い、該電子線走査によって試
料から放出される信号を画像データに変換し、該画像デ
ータと前記画像データ記憶手段に記憶された画像データ
に基づいてドリフト補正信号を作成し、該ドリフト補正
信号を前記偏向手段に供給してドリフト補正を行うこと
を特徴とする。

【０００７】

【発明の実施の形態】 以下、図面を用いて本発明の実
施の形態について説明する。

【０００８】図１は、本発明の電子線分析装置の一つで
ある、オージェ電子分光装置を示した図である。

【０００９】まず、図１の構成について説明する。

【００１０】図１において、１は試料であり、試料１は
試料ステージ２上に置かれている。試料１の真上には電
子光学装置３が配置されており、この電子光学装置３
は、電子銃４と、集束レンズ５と、偏向手段６を備えて
いる。

【００１１】７はイオン光学装置であり、イオン光学装
置７は前記電子光学装置３の近くに配置されている。こ
のイオン光学装置７は、イオン銃８と、集束レンズ９
と、偏向手段１０を備えている。

【００１２】１１は、試料１から発生したオージェ電子
を検出する電子分光器である。１２は、試料１から発生
した２次電子を検出する２次電子検出装置である。

【００１３】前記試料１、試料ステージ２、電子分光器
１１および２次電子検出装置１２は試料室１３内に配置
されており、また、前記電子光学装置３とイオン光学装
置７は、その試料室壁に取り付けられている。なお、試
料室１３内は、図示しない排気装置により超高真空に排
気されている。

【００１４】１４は、前記偏向手段６を制御する偏向制
御手段であり、偏向制御手段１４は、走査データ発生手
段１５と、ドリフト補正信号作成手段１６と、中央制御
装置１７にそれぞれ接続されている。前記走査データ発
生手段１５は、前記中央制御装置１７と、前記イオン光
学装置７を制御するピット生成装置１８に接続されてい
る。また、前記ドリフト補正信号作成手段１６は、前記
中央制御装置１７に接続されており、走査データ記憶手
段１９も中央制御装置１７に接続されている。

【００１５】前記電子分光器１１と２次電子検出装置１
２の出力は、前記中央制御装置１７に送られるように構
成されており、画像データ記憶手段２０は、中央制御装
置１７から送られてくる２次電子像を表す画像データを
記憶する。この画像データ記憶手段２０は、前記ドリフ
ト補正信号作成手段１６に接続されている。

【００１６】２１は深さ方向分析制御装置であり、深さ
方向分析制御装置２０は、前記中央制御装置１７からの
信号に基づいて前記イオン光学装置７と電子分光器１１
を制御する。

【００１７】また、前記中央制御装置１７は、指示手段
２２、分析位置情報記憶手段２３、ピット生成位置情報
記憶手段２４、像マッチング装置２５、試料ステージ制
御装置２６、表示装置２７および前記ピット生成装置１
８に接続されている。前記像マッチング装置２５は前記
ピット生成装置１８に、そして、前記試料ステージ制御
装置２６は前記試料ステージ２に接続されている。

【００１８】以上、図１の装置構成について説明した
が、次に、図１の装置の動作について説明する。

【００１９】まず、オペレータは、試料１の２次電子像
を得るために、前記指示手段２２により２次電子像取得
の指示を行う。２次電子像取得の指示が行われると、前
記中央制御装置１７は、前記走査データ発生手段１５に
走査データ発生信号を送り、この走査データ発生信号を
受け取った走査データ発生手段１５は、走査データを前
記偏向制御手段１４に送る。偏向制御手段１４は、送ら
れてくる走査データに対応した走査信号を前記偏向手段
６に送る。この走査信号を受けた偏向手段６は、前記電
子銃４から放出されて集束レンズ５により集束された電
子線を２次元的に偏向させる。この結果、試料１の一定
領域Ｓ₁が電子線により走査される。このとき、試料１
の試料面は電子光学装置３の光軸に直交している。

【００２０】電子線が試料に照射されると試料から２次
電子が発生し、その２次電子は前記２次電子検出装置１
２により検出される。２次電子検出装置は、検出した２
次電子に対応した画像データを前記中央制御装置１７に
送る。中央制御装置１７は、この画像データを前記像マ
ッチング装置２５に記憶させる。また、中央制御装置１
７は、この画像データと、前記走査データ発生手段１５
の発生する走査データに基づき、前記表示装置２７の画
面上に前記一定領域Ｓ₁の２次電子像を表示させる。図
２は、前記表示装置２７の画面上に表示される領域Ｓ₁
の２次電子像を示したものである。

【００２１】試料の２次電子像が表示装置２７に表示さ
れると、オペレータは、その２次電子像を用いて分析位
置とピット生成位置を指定する。この位置指定について
説明すると、オペレータは、前記指示手段２２を操作し
て、前記２次電子像に重畳して表示されるカーソルＫを
分析したい位置に移動させて分析位置を指定する。ま
た、オペレータは、前記指示手段２２を操作して、前記
カーソルＫをピットを生成したい位置に移動させてピッ
ト生成位置を指定する。このピット生成位置とは、イオ
ンビーム照射により穴をあける位置である。図３に示す
ように、分析位置Ａと、ピット生成位置Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₃
がそれぞれ指定されると、分析位置Ａの分析位置データ
Ａ（ｘ，ｙ）が前記中央制御装置１７で作られて前記分
析位置情報記憶手段２３に記憶され、一方、ピット生成
位置Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₃のピット生成位置データＰ₁（ｘ₁，
ｙ₁）、Ｐ₂（ｘ₂，ｙ₂）、Ｐ₃（ｘ₃，ｙ₃）が前記中央
制御装置１７で作られて前記ピット生成位置情報記憶手
段２４に記憶される。

【００２２】このようにして、分析位置とピット生成位
置が決まると、前記中央制御装置１７は、前記試料１の
試料面を前記イオン光学装置７の光軸に直交させるため
の傾斜信号を、前記試料ステージ制御装置２６に送る。
この傾斜信号を受け取った試料ステージ制御装置２６
は、試料面がイオン光学装置７の光軸に直交するように
試料ステージ２を傾斜させる。

【００２３】このように試料ステージ２が傾斜すると、
前記中央制御装置１７は、前記走査データ発生手段１５
に走査データ発生信号を送る。この走査データ発生信号
を受け取った走査データ発生手段１５は、前記偏向制御
手段１４に送った走査データと同じ走査データ、すなわ
ち、前記試料１の一定領域Ｓ₁をイオンビームで走査す
るための走査データを前記ピット生成装置１８に送る。
ピット生成装置１８は、送られてくる走査データに対応
した走査信号を前記偏向手段１０に送る。この走査信号
を受けた偏向手段１０は、前記イオン銃８から放出され
て集束レンズ９により集束されたイオンビームを２次元
的に偏向させる。

【００２４】イオンビームが試料に照射されると試料か
ら２次電子が発生し、その２次電子は前記２次電子検出
装置１２により検出される。２次電子検出装置は、検出
した２次電子に対応した画像データを前記中央制御装置
１７に送る。中央制御装置１７は、この画像データを前
記像マッチング装置２５に記憶させる。

【００２５】さて、像マッチング装置２５は、このイオ
ン照射によって得られた画像データと、上述した電子線
照射によって得られた画像データのマッチング処理を行
い、このマッチング処理により、観察視野のずれを求め
る。このずれは、試料を傾斜させたこと等により起こ
り、像マッチング装置２５は、求めたずれをイオンビー
ム照射位置補正データ（Δｘ，Δｙ）として前記ピット
生成装置１８に送る。なお、このデータは、後述する、
試料上へのイオンビーム照射の際に用いられ、イオンビ
ームを前記ピット生成位置Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₃に正確に照射
するために用いられる。

【００２６】このようにして、イオンビーム照射位置補
正データがピット生成装置１８に送られると、前記中央
制御装置１７は、前記ピット生成位置情報記憶手段２４
に記憶されているピット生成位置データＰ₁（ｘ₁，
ｙ₁）、Ｐ₂（ｘ₂，ｙ₂）、Ｐ₃（ｘ₃，ｙ₃）を読み出し
て前記ピット生成装置１８に送る。ピット生成装置１８
は、ピット生成位置データとイオンビーム照射位置補正
データを加算し、イオンビーム照射信号Ｐ₁（ｘ₁＋Δ
ｘ，ｙ₁＋Δｙ）、Ｐ₂（ｘ₂＋Δｘ，ｙ₂＋Δｙ）、Ｐ ₃
（ｘ₃＋Δｘ，ｙ₃＋Δｙ）を作成して、それらを順に前
記偏向手段１０に送る。この結果、イオンビームは、前
記ピット生成位置Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₃に順に所定時間照射さ
れ、それらの位置にはピットｐ₁、ｐ₂、ｐ₃が形成され
る。図４（ａ）は、試料１上に形成されたピットｐ₁、
ｐ₂、ｐ₃を試料の上側から見た図であり、図４（ｂ）
は、ピットｐ₁の断面図である。図４（ｂ）に示すよう
に、ピットの穴径は、穴が深くなるにつれて小さくなっ
ている。

【００２７】試料１上にピットｐ₁、ｐ₂、ｐ₃が形成さ
れると、前記中央制御装置１７は、試料１の試料面を前
記電子光学装置３の光軸に直交させるための傾斜信号
を、前記試料ステージ制御装置２６に送る。この傾斜信
号を受け取った試料ステージ制御装置２６は、試料面が
電子光学装置３の光軸に直交するように試料ステージ２
を傾斜させる。

【００２８】このようにして、試料が元の水平な状態に
戻されると、前記中央制御装置１７は、前記ピット生成
位置情報記憶手段２４に記憶されているピット生成位置
データＰ₁（ｘ₁，ｙ₁）、Ｐ₂（ｘ₂，ｙ₂）、Ｐ₃（ｘ₃，
ｙ₃）を読み出す。そして、中央制御装置１７は、その
ピット生成位置データに基づき、前記ピットｐ₁を含む
一定領域Ｓｐ₁を電子線で走査するための走査データＤ
（Ｓｐ₁）、前記ピットｐ₂を含む一定領域Ｓｐ₂を電子
線で走査するための走査データＤ（Ｓｐ₂）、およびピ
ットｐ₃を含む一定領域Ｓｐ₃を電子線で走査するための
走査データＤ（Ｓｐ₃）を作成し、それらの走査データ
Ｄ（Ｓｐ₁）、Ｄ（Ｓｐ₂）、Ｄ（Ｓｐ₃）を前記走査デ
ータ記憶手段１９に記憶する。

【００２９】また、中央制御装置１７は、それらの走査
データＤ（Ｓｐ₁）、Ｄ（Ｓｐ₂）、Ｄ（Ｓｐ₃）を順に
前記偏向制御手段１４に送る。偏向制御手段１４は、送
られてくる走査データに対応した走査信号を前記偏向手
段６に送る。この走査信号を受けた偏向手段６は、前記
電子銃４から放出されて集束レンズ５により集束された
電子線を２次元的に偏向させる。この結果、試料１の一
定領域Ｓｐ₁、Ｓｐ₂、Ｓｐ₃が順に電子線により走査さ
れる。

【００３０】電子線が試料に照射されると試料から２次
電子が発生するが、前記２次電子検出装置１２は、検出
した２次電子を画像データに変換し、前記走査データＤ
（Ｓｐ₁）に対応した画像データＤ₂（Ｓｐ₁）、前記走
査データＤ（Ｓｐ₂）に対応した画像データＤ₂（Ｓ
ｐ₂）、前記走査データＤ（Ｓｐ₃）に対応した画像デー
タＤ₂（Ｓｐ₃）を前記中央制御装置１７に送る。中央制
御装置１７は、これらの画像データを前記画像データ記
憶手段２０に記憶させる。

【００３１】以上のような処理が行われると、次に、前
記分析点Ａの分析が開始される。以下に、その分析時の
装置動作について説明する。

【００３２】まず、前記中央制御装置１７は、前記分析
位置情報記憶手段２３に記憶された分析位置データＡ
（ｘ，ｙ）を読み出して前記偏向制御手段１４に送る。
分析位置データＡ（ｘ，ｙ）を受け取った偏向制御手段
１４は、その分析位置データに対応した偏向信号を前記
偏向手段１０に送る。この偏向信号を受け取った偏向手
段１０は、電子線が試料上の分析点Ａを照射するように
電子線を偏向させるので、試料１の分析点Ａに電子線が
照射される。この電子線の照射により、試料から２次電
子やオージェ電子等が放出され、このオージェ電子は前
記電子分光器１１により検出される。

【００３３】前記中央制御装置１７は、上述したように
分析位置データを偏向制御手段１４に送る一方、分析対
象元素をあらわす信号を前記深さ方向分析制御装置２１
に送る。深さ方向分析制御装置２１は、この信号を前記
電子分光器１１に送るので、電子分光器１１は、検出し
たオージェ電子から指定された対象元素のスペクトルを
収集し、その収集結果を前記中央制御装置１７に送る。

【００３４】さらに、前記中央制御装置１７は、イオン
スパッタの周期ｔをあらわす信号を前記深さ方向分析制
御装置２１に送る。深さ方向分析制御装置２１は、この
信号に基づき、周期ｔで試料がイオンスパッタされるよ
うに前記イオン光学装置７を制御する。このイオンスパ
ッタの際には、試料上の広い領域にわたってイオンビー
ムが照射され、前記分析位置Ａとピットｐ₁、ｐ₂、ｐ₃
にもイオンビームが照射される。このイオンスパッタに
より試料表面は削られ、試料の深さ方向のオージェ分析
が行われる。

【００３５】なお、分析対象元素やイオンスパッタの周
期の情報は、オペレータの操作により前記指示手段２２
から中央制御装置１７に予め入力されており、また、イ
オンスパッタが行われているときは、前記電子分光器１
１はスペクトルの収集を中断している。

【００３６】さて、図１の装置はドリフト補正機能を備
えているが、以下に、そのドリフト補正について説明す
る。

【００３７】前記中央制御装置１７は、前記分析位置Ａ
の分析が始まって、たとえば前記周期ｔよりも長い時間
Ｔ経過すると、前記分析位置データＡ（ｘ，ｙ）の偏向
制御手段１４への供給を停止する。すなわち、前記分析
位置Ａのオージェ分析を中断する。

【００３８】そして、中央制御装置１７は、前記走査デ
ータ記憶手段１９に記憶されている走査データＤ（Ｓｐ
₁）、Ｄ（Ｓｐ₂）、Ｄ（Ｓｐ₃）を読み出して、それら
を順に前記偏向制御手段１４に送る。偏向制御手段１４
は、送られてくる走査データに対応した走査信号を前記
偏向手段６に送り、偏向手段６は電子線を２次元的に偏
向させる。

【００３９】電子線が試料に照射されると試料から２次
電子が発生するが、試料上に形成されたピットｐ₁、
ｐ₂、ｐ₃から発生する２次電子の量は他の部分に比べて
少なく、２次電子像ではピットは暗い部分となる。前記
２次電子検出装置１２は、検出した２次電子を画像デー
タに変換し、前記走査データＤ（Ｓｐ₁）に対応した画
像データＤ₂´（Ｓｐ₁）、前記走査データＤ（Ｓｐ₂）
に対応した画像データＤ₂´（Ｓｐ₂）、前記走査データ
Ｄ（Ｓｐ₃）に対応した画像データＤ₂´（Ｓｐ₃）を前
記中央制御装置１７に送る。中央制御装置１７は、これ
らの画像データを前記ドリフト補正信号作成手段１６に
送る。以下に、このドリフト補正信号作成手段１６の動
作について詳しく説明する。

【００４０】ドリフト補正信号作成手段１６は、中央制
御装置１７から送られてくる画像データＤ₂´（Ｓ
ｐ₁）、Ｄ₂´（Ｓｐ₂）、Ｄ₂´（Ｓｐ₃）をそれぞれ２
値化処理して２値化画像データを作成する。すなわち、
ドリフト補正信号作成手段１６は、各画素における画像
データの信号強度を所定値Ｑと比較し、画像データを２
値化する。図５は、画像データＤ₂´（Ｓｐ₁）が２値化
処理されてできた２値化画像データによる像を示したも
のである。図５において、円形状の部分Ｍ₁が前記ピッ
トｐ₁に対応しており、斜線部分がピットｐ₁以外の部分
に対応しているが、前記所定値Ｑはこのようにピット部
が判別できるように設定されている。

【００４１】ドリフト補正信号作成手段１６は、このよ
うに画像データを２値化すると、その２値化画像データ
に基づき、前記各ピットｐ₁、ｐ₂、ｐ₃の中心位置の座
標ｐ₁´（ｘ₁，ｙ₁）、ｐ₂´（ｘ₂，ｙ₂）、ｐ₃´
（ｘ₃，ｙ₃）をそれぞれ求める。

【００４２】また、ドリフト補正信号作成手段１６は、
分析前に前記画像データ記憶手段２０に記憶された画像
データＤ₂（Ｓｐ₁）、Ｄ₂（Ｓｐ₂）、Ｄ₂（Ｓｐ₃）を読
み出し、前記同様にしてそれらを２値化処理して２値化
画像データを作成する。図６は、画像データＤ₂（Ｓ
ｐ₁）が２値化処理されてできた２値化画像データによ
る像を示したものである。図６において、円形状の部分
Ｍ₁が前記ピットｐ₁に対応しており、斜線部分がピット
ｐ₁以外の部分に対応している。ドリフト補正信号作成
手段１６は、このように画像データを２値化すると、そ
の２値化画像データに基づき、前記各ピットｐ₁、ｐ₂、
ｐ₃の中心位置の座標ｐ₁（ｘ₁，ｙ₁）、ｐ₂（ｘ₂，
ｙ₂）、ｐ₃（ｘ₃，ｙ₃）をそれぞれ求める。

【００４３】さて、図６に示すように、分析開始前には
ピットｐ₁が画像中央にあったのが、図５に示すよう
に、分析開始から時間Ｔ経過したときにはピットｐ₁が
画像中央から外れている。これは、試料分析中に試料の
ドリフト等が発生したためである。また、図５における
ピットの径が、図６におけるピットの径よりもやや小さ
いのは、上述したイオンスパッタによるものである。

【００４４】前記ドリフト補正信号作成手段１６は、さ
らに、求めた座標ｐ₁（ｘ₁，ｙ₁）、ｐ₂（ｘ₂，ｙ₂）、
ｐ₃（ｘ₃，ｙ₃）と座標ｐ₁´（ｘ₁，ｙ₁）、ｐ₂´
（ｘ₂，ｙ₂）、ｐ₃´（ｘ₃，ｙ₃）の差を求め、ドリフ
ト量ｄｐ₁（ｘ₁，ｙ₁）、ｄｐ₂（ｘ₂，ｙ₂）、ｄｐ
₃（ｘ₃，ｙ₃）をそれぞれ求める。そして、ドリフト補
正信号作成手段１６は、これら３つのドリフト量の平均
値（（ｄｐ₁＋ｄｐ₂＋ｄｐ₃）／３）を求め、この平均
値に対応したドリフト補正データを前記偏向制御手段１
４に送る。

【００４５】このようにして、偏向制御手段１４にドリ
フト補正データが送られると、前記中央制御装置１７
は、前記分析位置データＡ（ｘ，ｙ）を偏向制御手段１
４に送る。すると、偏向制御手段１４は、この分析位置
データＡ（ｘ，ｙ）と前記ドリフト補正データを加算
し、その加算データに対応した偏向信号を前記偏向手段
６に送る。この結果、分析再開時には、電子線は、最初
に指定された分析位置Ａに照射される。

【００４６】以後、同様にして、試料分析とイオンスパ
ッタとドリフト補正が行われる。

【００４７】以上、図１の装置動作について説明した
が、試料がイオンスパッタされると試料の表面形状（ピ
ットの穴径）は変化するが、そのピットの中心位置は、
ドリフトが発生しない限り変化しない。図１の装置にお
いては、そのピットの中心位置の移動を検出してドリフ
ト補正を行うので、試料分析時に試料がイオンスパッタ
されて、試料表面形状が変化しても、ドリフト補正が正
しく行われる。

【００４８】なお、図１の装置においては、分析したい
位置の周辺に開けるピットを、オージェ電子分光装置に
取り付けられたイオン光学装置で生成するようにしてい
るが、他のイオン光学装置の装着された装置などで分析
したい位置を見つけ、あらかじめピットを生成した上
で、オージェ電子分光装置に試料を取り付けるようにし
ても良い。

【００４９】また、上記例では、イオンスパッタされる
領域内にピットが生成されたが、ピットは分析対象を外
れた場所ならどこでもよく、スパッタされる領域内であ
る必要はない。

【００５０】また、本発明は、Ｘ線マイクロアナライザ
等の微小領域分析が可能な装置に適用することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明を適用したオージェ電子分光装置を示
した図である。

【図２】 表示装置２７に表示される２次電子像を示し
た図である。

【図３】 分析位置の指定とピット生成位置の指定につ
いて説明するために示した図である。

【図４】 試料上に形成されたピットを説明するために
示した図である。

【図５】 試料の２値化像を示した図である。

【図６】 試料の２値化像を示した図である。

【符号の説明】

１…試料、２…試料ステージ、３…電子光学装置、４…
電子銃、５、９…集束レンズ、６、１０…偏向手段、１
１…電子分光器、１２…２次電子検出装置、１３…試料
室、１４…偏向制御手段、１５…走査データ発生手段、
１６…ドリフト補正信号作成手段、１７…中央制御装
置、１８…ピット生成装置、１９…走査データ記憶手
段、２０…画像データ記憶手段、２１…深さ方向分析制
御装置、２２…指示手段、２３…分析位置情報記憶手
段、２４…ピット生成位置情報記憶手段、２５…像マッ
チング装置、２６…試料ステージ制御装置

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 試料上の特定位置に電子線を照射し、そ
   の電子線の照射により試料から放出された信号を検出し
   て試料分析を行う試料分析方法であって、試料上に人工
   的に形成されたピットを含む一定領域を電子線で走査す
   るための走査データを走査データ記憶手段に記憶してお
   き、試料分析前に、前記走査データ記憶手段に記憶され
   た走査データに対応した走査信号を電子線偏向手段に供
   給して電子線走査を行い、該電子線走査によって試料か
   ら放出される信号を画像データとして記憶し、試料分析
   中に前記特定位置への電子線の照射を中断し、試料分析
   中断中に、前記走査データ記憶手段に記憶された走査デ
   ータに対応した走査信号を前記電子線偏向手段に供給し
   て電子線走査を行い、該電子線走査によって試料から放
   出される信号を画像データに変換し、該画像データと前
   記画像データ記憶手段に記憶された画像データに基づい
   てドリフト補正信号を作成し、該ドリフト補正信号を前
   記偏向手段に供給してドリフト補正を行うことを特徴と
   する試料分析方法。
2. 【請求項２】 試料上の特定位置に電子線を照射し、そ
   の電子線の照射により試料から放出された信号を検出し
   て試料分析を行う電子線分析装置であって、電子線を偏
   向させる偏向手段と、試料上に人工的に形成されたピッ
   トを含む一定領域を電子線で走査するための走査データ
   を記憶する走査データ記憶手段と、前記試料上の特定位
   置への電子線の照射を中断させる試料分析中断手段と、
   試料分析前と試料分析中断中に、前記走査データ記憶手
   段に記憶された走査データに対応した走査信号を前記偏
   向手段に供給する制御手段と、試料分析前に前記一定領
   域が電子線によって走査されたときに、試料から放出さ
   れる信号を画像データとして記憶する画像データ記憶手
   段と、試料分析中断中の前記電子線走査によって得られ
   た画像データと、前記画像データ記憶手段に記憶された
   画像データに基づいてドリフト補正信号を作成し、該ド
   リフト補正信号を前記偏向手段に供給するドリフト補正
   信号作成手段を備えたことを特徴とする電子線分析装
   置。
3. 【請求項３】 さらに、試料上にピットを生成するため
   のピット生成手段を備えることを特徴とする請求項２記
   載の電子線分析装置。