JPH08273568A - 電子ビーム装置における絞り位置調整方法および電子ビーム装置 - Google Patents
電子ビーム装置における絞り位置調整方法および電子ビーム装置Info
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- JPH08273568A JPH08273568A JP7073439A JP7343995A JPH08273568A JP H08273568 A JPH08273568 A JP H08273568A JP 7073439 A JP7073439 A JP 7073439A JP 7343995 A JP7343995 A JP 7343995A JP H08273568 A JPH08273568 A JP H08273568A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単に対物レンズ絞りの位置（開口の位置）
の調整を行うことができる電子ビーム装置における絞り
調整方法および電子ビーム装置を実現する。 【構成】 対物レンズ制御器１５から対物レンズ３に
は、２種の異なった対物レンズ励磁電流が交互に供給さ
れる。各励磁電流の時に検出された信号は、第１と第２
のフレームメモリー２６に供給されて記憶される。画像
相関演算器２７は、記憶された像信号の相関Ｃを演算す
る。画像相関演算器２７で求められた絞り１０の各位置
における相関Ｃの値は、最大値検出器２８に送られて、
絞り１０の位置に対応して記憶される。最大値検出器２
８は、絞り１０の位置変化に対応した全ての相関Ｃの値
を比較し、最大の値が得られた時のｘ方向とｙ方向の位
置を求め、制御器２２と２３を制御する。
の調整を行うことができる電子ビーム装置における絞り
調整方法および電子ビーム装置を実現する。 【構成】 対物レンズ制御器１５から対物レンズ３に
は、２種の異なった対物レンズ励磁電流が交互に供給さ
れる。各励磁電流の時に検出された信号は、第１と第２
のフレームメモリー２６に供給されて記憶される。画像
相関演算器２７は、記憶された像信号の相関Ｃを演算す
る。画像相関演算器２７で求められた絞り１０の各位置
における相関Ｃの値は、最大値検出器２８に送られて、
絞り１０の位置に対応して記憶される。最大値検出器２
８は、絞り１０の位置変化に対応した全ての相関Ｃの値
を比較し、最大の値が得られた時のｘ方向とｙ方向の位
置を求め、制御器２２と２３を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、対物レンズ絞りの位置
調整を正確に行い、一次電子ビームを小さく絞り高分解
能の像を観察することができる走査電子顕微鏡などの電
子ビーム装置における絞り調整方法および電子ビーム装
置に関する。
調整を正確に行い、一次電子ビームを小さく絞り高分解
能の像を観察することができる走査電子顕微鏡などの電
子ビーム装置における絞り調整方法および電子ビーム装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡では、電子銃からの電子
ビームをコンデンサレンズと対物レンズによって試料上
に細く絞るようにしている。図１はこのような走査電子
顕微鏡の一例を示しており、１は電子銃である。電子銃
１から発生した電子ビームＥＢは、コンデンサレンズ２
と対物レンズ３によって試料４上に細く集束される。ま
た、電子ビームＥＢは、偏向コイル５によって偏向さ
れ、試料４上の電子ビームの照射位置は走査される。試
料４への電子ビームの照射によって発生した２次電子
は、２次電子検出器６によって検出される。検出器６の
検出信号は、増幅器７によって増幅された後、試料上の
電子ビームの走査と同期した陰極線管９に供給され、こ
の陰極線管９上に試料の走査像が表示される。
ビームをコンデンサレンズと対物レンズによって試料上
に細く絞るようにしている。図１はこのような走査電子
顕微鏡の一例を示しており、１は電子銃である。電子銃
１から発生した電子ビームＥＢは、コンデンサレンズ２
と対物レンズ３によって試料４上に細く集束される。ま
た、電子ビームＥＢは、偏向コイル５によって偏向さ
れ、試料４上の電子ビームの照射位置は走査される。試
料４への電子ビームの照射によって発生した２次電子
は、２次電子検出器６によって検出される。検出器６の
検出信号は、増幅器７によって増幅された後、試料上の
電子ビームの走査と同期した陰極線管９に供給され、こ
の陰極線管９上に試料の走査像が表示される。
【０００３】更に、コンデンサレンズ２と対物レンズ３
との間には、対物レンズ絞り１０が配置されている。こ
の絞り１０には電子ビームＥＢの通過開口１１が穿たれ
ており、この開口１１の位置を電子ビームの光軸に対し
て調整できるように、ｘ方向の摘み１２とｙ方向の摘み
１３とが備えられている。また、偏向コイル５には走査
器１４から電子ビームＥＢを試料４上で２次元的に走査
する走査信号が供給され、対物レンズ３には対物レンズ
制御器１５から励磁電流が供給されるように構成されて
いる。なお、対物レンズ制御器１５からの励磁電流は周
期的に変化（脈動）させることができる。
との間には、対物レンズ絞り１０が配置されている。こ
の絞り１０には電子ビームＥＢの通過開口１１が穿たれ
ており、この開口１１の位置を電子ビームの光軸に対し
て調整できるように、ｘ方向の摘み１２とｙ方向の摘み
１３とが備えられている。また、偏向コイル５には走査
器１４から電子ビームＥＢを試料４上で２次元的に走査
する走査信号が供給され、対物レンズ３には対物レンズ
制御器１５から励磁電流が供給されるように構成されて
いる。なお、対物レンズ制御器１５からの励磁電流は周
期的に変化（脈動）させることができる。
【０００４】上記した構成で、試料４上に電子ビームを
最も小さく絞るためには、対物レンズ絞り１０の開口１
１の位置を光軸に対して精密に合わせる必要がある。こ
のため、ｘ方向摘み１２とｙ方向摘み１３とを用いて対
物レンズ絞り１０の水平方向の位置を調整するが、この
時、対物レンズ制御器１５から対物レンズ３に供給する
励磁電流を脈動させる。すなわち、対物レンズ３の焦点
距離をウォブリングする。
最も小さく絞るためには、対物レンズ絞り１０の開口１
１の位置を光軸に対して精密に合わせる必要がある。こ
のため、ｘ方向摘み１２とｙ方向摘み１３とを用いて対
物レンズ絞り１０の水平方向の位置を調整するが、この
時、対物レンズ制御器１５から対物レンズ３に供給する
励磁電流を脈動させる。すなわち、対物レンズ３の焦点
距離をウォブリングする。
【０００５】対物レンズ３の焦点距離を変化させると、
対物レンズ３と対物レンズ絞り１０の開口１１の位置が
最適な状態でない場合、試料３上の電子ビームＥＢの走
査領域が変化し、陰極線管９上に表示された像が移動す
る。この陰極線管９上の像が対物レンズ３の励磁電流の
変化（焦点距離の変化）によっても移動しないように、
絞り１０の開口１１の位置を調整すれば、絞り１０（開
口１１）を最適な位置に配置できることになる。
対物レンズ３と対物レンズ絞り１０の開口１１の位置が
最適な状態でない場合、試料３上の電子ビームＥＢの走
査領域が変化し、陰極線管９上に表示された像が移動す
る。この陰極線管９上の像が対物レンズ３の励磁電流の
変化（焦点距離の変化）によっても移動しないように、
絞り１０の開口１１の位置を調整すれば、絞り１０（開
口１１）を最適な位置に配置できることになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記した絞り１０の調
整は、面倒な作業であり、また、慣れない者にとって
は、この調整自体が困難な場合もある。そして、電子ビ
ームＥＢの加速電圧を変えた場合などには、絞り１０の
位置の再調整が必要になり、熟練者にとっもこれは煩わ
しい作業である。
整は、面倒な作業であり、また、慣れない者にとって
は、この調整自体が困難な場合もある。そして、電子ビ
ームＥＢの加速電圧を変えた場合などには、絞り１０の
位置の再調整が必要になり、熟練者にとっもこれは煩わ
しい作業である。
【０００７】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、簡単に対物レンズ絞りの位置（開
口の位置）の調整を行うことができる電子ビーム装置に
おける絞り調整方法および電子ビーム装置を実現するに
ある。
もので、その目的は、簡単に対物レンズ絞りの位置（開
口の位置）の調整を行うことができる電子ビーム装置に
おける絞り調整方法および電子ビーム装置を実現するに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に基づく
電子ビーム装置における絞り調整方法は、電子ビームを
試料上に集束するための対物レンズの強度を２種に変化
させ、その変化の都度、試料上の所定領域を電子ビーム
によって走査し、この走査に伴って得られた２種の像信
号の相関を求めるステップを、対物レンズ絞りの位置を
変化させながら行い、相関の値が最大のときの絞り位置
を求め、その位置に絞りを配置するようにしたことを特
徴としている。
電子ビーム装置における絞り調整方法は、電子ビームを
試料上に集束するための対物レンズの強度を２種に変化
させ、その変化の都度、試料上の所定領域を電子ビーム
によって走査し、この走査に伴って得られた２種の像信
号の相関を求めるステップを、対物レンズ絞りの位置を
変化させながら行い、相関の値が最大のときの絞り位置
を求め、その位置に絞りを配置するようにしたことを特
徴としている。
【０００９】請求項２の発明に基づく電子ビーム装置
は、電子ビームを試料上に集束するための対物レンズ
と、対物レンズ絞りと、電子ビームを試料上に集束する
ための対物レンズの強度を異なった２つの値に変化させ
る手段と、試料上の所定領域を電子ビームによって走査
するための走査手段と、試料への電子ビームの照射によ
って得られた信号を検出する検出器と、検出器からの信
号を対物レンズの異なった値に応じて第１と第２のフレ
ームメモリーに記憶させる手段と、第１と第２のフレー
ムメモリーに記憶された像信号の相関を求める相関演算
手段と、対物レンズ絞りの位置を変化させる手段と、各
対物レンズ絞り位置に応じた相関演算手段による相関の
値を比較しその最大値を求める手段と、相関の最大値が
得られた時の絞り位置に対物レンズ絞りを配置する手段
とを備えたことを特徴としている。
は、電子ビームを試料上に集束するための対物レンズ
と、対物レンズ絞りと、電子ビームを試料上に集束する
ための対物レンズの強度を異なった２つの値に変化させ
る手段と、試料上の所定領域を電子ビームによって走査
するための走査手段と、試料への電子ビームの照射によ
って得られた信号を検出する検出器と、検出器からの信
号を対物レンズの異なった値に応じて第１と第２のフレ
ームメモリーに記憶させる手段と、第１と第２のフレー
ムメモリーに記憶された像信号の相関を求める相関演算
手段と、対物レンズ絞りの位置を変化させる手段と、各
対物レンズ絞り位置に応じた相関演算手段による相関の
値を比較しその最大値を求める手段と、相関の最大値が
得られた時の絞り位置に対物レンズ絞りを配置する手段
とを備えたことを特徴としている。
【００１０】
【作用】請求項１の発明に基づく電子ビーム装置におけ
る絞り調整方法は、電子ビームを試料上に集束するため
の対物レンズの強度を２種に変化させ、その変化の都
度、試料上の所定領域を電子ビームによって走査し、こ
の走査に伴って得られた２種の像信号の相関を求めるス
テップを、対物レンズ絞りの位置を変化させながら行
い、相関の値が最大のときの絞り位置を求め、その位置
に絞りを配置する。
る絞り調整方法は、電子ビームを試料上に集束するため
の対物レンズの強度を２種に変化させ、その変化の都
度、試料上の所定領域を電子ビームによって走査し、こ
の走査に伴って得られた２種の像信号の相関を求めるス
テップを、対物レンズ絞りの位置を変化させながら行
い、相関の値が最大のときの絞り位置を求め、その位置
に絞りを配置する。
【００１１】請求項２の発明に基づく電子ビーム装置
は、電子ビームを試料上に集束するための対物レンズの
強度を２種に変化させ、その変化の都度、試料上の所定
領域を電子ビームによって走査し、この走査に伴って得
られた２種の像信号を第１と第２のフレームメモリーに
記憶させ、この２種のフレームメモリーに記憶された像
信号の相関を求め、更に、この相関を求めるステップを
対物レンズ絞りの位置を変化させながら行い、相関の値
が最大のときの絞り位置を求め、その位置に絞りを配置
する。
は、電子ビームを試料上に集束するための対物レンズの
強度を２種に変化させ、その変化の都度、試料上の所定
領域を電子ビームによって走査し、この走査に伴って得
られた２種の像信号を第１と第２のフレームメモリーに
記憶させ、この２種のフレームメモリーに記憶された像
信号の相関を求め、更に、この相関を求めるステップを
対物レンズ絞りの位置を変化させながら行い、相関の値
が最大のときの絞り位置を求め、その位置に絞りを配置
する。
【００１２】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図２は本発明の一実施例である走査電子顕
微鏡を示しており、図１の従来装置と同一ないしは類似
の構成要素には同一番号を付し、その詳細な説明は省略
する。この実施例では、対物レンズ絞り１０の水平方向
の位置調整のため、摘みに代えてｘ方向の移動モータ２
０とｙ方向の移動モータ２１を設けている。モータ２０
は制御器２２によって回転させられ、それによって絞り
１１はｘ方向に移動させられる。また、モータ２１は制
御器２３によって回転させられ、それによって絞り１０
はｙ方向に移動させられる。
に説明する。図２は本発明の一実施例である走査電子顕
微鏡を示しており、図１の従来装置と同一ないしは類似
の構成要素には同一番号を付し、その詳細な説明は省略
する。この実施例では、対物レンズ絞り１０の水平方向
の位置調整のため、摘みに代えてｘ方向の移動モータ２
０とｙ方向の移動モータ２１を設けている。モータ２０
は制御器２２によって回転させられ、それによって絞り
１１はｘ方向に移動させられる。また、モータ２１は制
御器２３によって回転させられ、それによって絞り１０
はｙ方向に移動させられる。
【００１３】検出器６によって検出され増幅器７によっ
て増幅された像信号は、ＡＤ変換器２４によってディジ
タル信号に変換された後、第１のフレームメモリー２５
か第２のフレームメモリー２６に供給されて記憶され
る。第１のフレームメモリー２５と第２のフレームメモ
リー２６に記憶された像信号は、画像相関演算器２７に
供給されて両信号の相関が演算される。演算器２７によ
る相関結果は最大値検出器２８に送られる。このような
構成の動作を次に説明する。
て増幅された像信号は、ＡＤ変換器２４によってディジ
タル信号に変換された後、第１のフレームメモリー２５
か第２のフレームメモリー２６に供給されて記憶され
る。第１のフレームメモリー２５と第２のフレームメモ
リー２６に記憶された像信号は、画像相関演算器２７に
供給されて両信号の相関が演算される。演算器２７によ
る相関結果は最大値検出器２８に送られる。このような
構成の動作を次に説明する。
【００１４】絞り１０の位置調整のときには、対物レン
ズ制御器１５から対物レンズ３には、２種の異なった対
物レンズ励磁電流が交互に供給される。この励磁電流
は、走査器１４から偏向コイル５への１回の試料４上の
２次元走査ごとに変えられる。第１の励磁電流（第１の
焦点距離）の時に、検出器６によって検出された信号
は、増幅器７，ＡＤ変換器２４を介して第１のフレーム
メモリー２５に供給されて記憶される。第２の励磁電流
（第２の焦点距離）の時に、検出器６によって検出され
た信号は、増幅器７，ＡＤ変換器２４を介して第２のフ
レームメモリー２６に供給されて記憶される。その時、
画像相関演算器２７は、第１のフレームメモリー２５と
第２のフレームメモリー２６に記憶された像信号の相関
Ｃを演算する。この演算は、第１のフレームメモリー２
５の像信号をｆ１（ｉ，ｊ）とし、第２のフレームメモ
リー２６の像信号をｆ２（ｉ，ｊ）とすると、次の式に
よって実行される。
ズ制御器１５から対物レンズ３には、２種の異なった対
物レンズ励磁電流が交互に供給される。この励磁電流
は、走査器１４から偏向コイル５への１回の試料４上の
２次元走査ごとに変えられる。第１の励磁電流（第１の
焦点距離）の時に、検出器６によって検出された信号
は、増幅器７，ＡＤ変換器２４を介して第１のフレーム
メモリー２５に供給されて記憶される。第２の励磁電流
（第２の焦点距離）の時に、検出器６によって検出され
た信号は、増幅器７，ＡＤ変換器２４を介して第２のフ
レームメモリー２６に供給されて記憶される。その時、
画像相関演算器２７は、第１のフレームメモリー２５と
第２のフレームメモリー２６に記憶された像信号の相関
Ｃを演算する。この演算は、第１のフレームメモリー２
５の像信号をｆ１（ｉ，ｊ）とし、第２のフレームメモ
リー２６の像信号をｆ２（ｉ，ｊ）とすると、次の式に
よって実行される。
【００１５】
【数１】
【００１６】一方、絞り１０のｘ方向とｙ方向の位置
は、モータ２０とモータ２１に制御器２２，２３から与
えられる信号によって変えられるが、この位置の変化
は、ステップ状に行われる。例えば、ｘ方向の位置を動
かさず、ｙ方向の位置をステップ状にｎ段階移動させ、
次に、ｘ方向の位置を１ステップ移動させ、ｙ方向の位
置をステップ状にｎ段階移動させる。そして、ｘ方向の
位置をｎ段階にステップ状に変化させ、その都度、ｙ方
向の位置をステップ状にｎ段階移動させることによっ
て、絞り１０は全ての位置（ｎ×ｎ）に配置されること
になる。
は、モータ２０とモータ２１に制御器２２，２３から与
えられる信号によって変えられるが、この位置の変化
は、ステップ状に行われる。例えば、ｘ方向の位置を動
かさず、ｙ方向の位置をステップ状にｎ段階移動させ、
次に、ｘ方向の位置を１ステップ移動させ、ｙ方向の位
置をステップ状にｎ段階移動させる。そして、ｘ方向の
位置をｎ段階にステップ状に変化させ、その都度、ｙ方
向の位置をステップ状にｎ段階移動させることによっ
て、絞り１０は全ての位置（ｎ×ｎ）に配置されること
になる。
【００１７】この絞り１０の各位置ごとに前記した対物
レンズ３の励磁電流の２種の変化とそれに基づく像信号
の取り込み、相関Ｃの演算が実行される。したがって、
絞り１０を全ての位置に順々に移動させた場合、合計ｎ
×ｎの数の相関Ｃの値が得られる。
レンズ３の励磁電流の２種の変化とそれに基づく像信号
の取り込み、相関Ｃの演算が実行される。したがって、
絞り１０を全ての位置に順々に移動させた場合、合計ｎ
×ｎの数の相関Ｃの値が得られる。
【００１８】ここで、対物レンズ３の励磁電流を２段階
に変化させた場合、絞り１０の開口１１の位置が合って
いないと、像は図３（ａ），（ｂ）のように変化する。
図３（ａ）は第１の励磁電流のときの像を示し、斜線で
示した領域Ｉは試料４上の特徴部分である。また、図３
（ｂ）は第２の励磁電流のときの像を示している。この
時、画像相関演算器２７で求めた２種の像信号の相関Ｃ
の値は小さい。
に変化させた場合、絞り１０の開口１１の位置が合って
いないと、像は図３（ａ），（ｂ）のように変化する。
図３（ａ）は第１の励磁電流のときの像を示し、斜線で
示した領域Ｉは試料４上の特徴部分である。また、図３
（ｂ）は第２の励磁電流のときの像を示している。この
時、画像相関演算器２７で求めた２種の像信号の相関Ｃ
の値は小さい。
【００１９】次に、対物レンズ３の励磁電流を２段階に
変化させた場合、絞り１０の開口１１の位置が合ってい
ると、像は図４（ａ），（ｂ）のようにほとんど変化し
ない。図４（ａ）は第１の励磁電流のときの像を示し、
斜線で示した領域Ｉは試料４上の特徴部分である。ま
た、図４（ｂ）は第２の励磁電流のときの像を示してい
る。この時、画像相関演算器２７で求めた２種の像信号
の相関Ｃの値は大きい。
変化させた場合、絞り１０の開口１１の位置が合ってい
ると、像は図４（ａ），（ｂ）のようにほとんど変化し
ない。図４（ａ）は第１の励磁電流のときの像を示し、
斜線で示した領域Ｉは試料４上の特徴部分である。ま
た、図４（ｂ）は第２の励磁電流のときの像を示してい
る。この時、画像相関演算器２７で求めた２種の像信号
の相関Ｃの値は大きい。
【００２０】画像相関演算器２７で求められた絞り１０
の各位置における相関Ｃの値は、最大値検出器２８に送
られて、絞り１０（開口１１）の位置に対応して記憶さ
れる。図５は絞り１０の位置に対する相関Ｃの変化を示
している。この図５はｘ方向の絞り位置変化に対する相
関Ｃの値を示しており、ｙ方向の絞りの位置は合ってい
る場合である。この図５において、最大の相関Ｃの値が
得られた時のｘ方向の位置ｘｍが像の移動がなく最適な
位置である。
の各位置における相関Ｃの値は、最大値検出器２８に送
られて、絞り１０（開口１１）の位置に対応して記憶さ
れる。図５は絞り１０の位置に対する相関Ｃの変化を示
している。この図５はｘ方向の絞り位置変化に対する相
関Ｃの値を示しており、ｙ方向の絞りの位置は合ってい
る場合である。この図５において、最大の相関Ｃの値が
得られた時のｘ方向の位置ｘｍが像の移動がなく最適な
位置である。
【００２１】最大値検出器２８は、絞り１０のｎ×ｎの
位置変化に対応した全ての相関Ｃの値を比較し、最大の
値が得られた時のｘ方向とｙ方向の位置ｘｍ，ｙｍを求
め、制御器２２と２３を制御する。この結果、制御器２
２と２３は、それぞれモータ２０と２１とを駆動し、絞
り１０をｘｍ，ｙｍの位置にセットする。その後、対物
レンズ３の励磁電流を像観察時の値に固定し、電子ビー
ムＥＢを２次元的に走査して、陰極線管９により通常の
走査像の観察を行う。
位置変化に対応した全ての相関Ｃの値を比較し、最大の
値が得られた時のｘ方向とｙ方向の位置ｘｍ，ｙｍを求
め、制御器２２と２３を制御する。この結果、制御器２
２と２３は、それぞれモータ２０と２１とを駆動し、絞
り１０をｘｍ，ｙｍの位置にセットする。その後、対物
レンズ３の励磁電流を像観察時の値に固定し、電子ビー
ムＥＢを２次元的に走査して、陰極線管９により通常の
走査像の観察を行う。
【００２２】以上本発明の一実施例を詳述したが、本発
明はこの実施例に限定されない。例えば、２次電子を検
出したが、反射電子を検出してもよい。また、相関の演
算は、前記した式によらず、次の２つの式に示す差の２
乗和による相関Ｃ１でも、差の絶対値和による相関Ｃ２
であっても良い。
明はこの実施例に限定されない。例えば、２次電子を検
出したが、反射電子を検出してもよい。また、相関の演
算は、前記した式によらず、次の２つの式に示す差の２
乗和による相関Ｃ１でも、差の絶対値和による相関Ｃ２
であっても良い。
【００２３】
【数２】
【００２４】
【数３】
【００２５】上記相関Ｃ１，Ｃ２の場合、Ｃ１，Ｃ２の
最小値がｘ方向とｙ方向の最適値となる。
最小値がｘ方向とｙ方向の最適値となる。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
基づく電子ビーム装置における絞り調整方法は、電子ビ
ームを試料上に集束するための対物レンズの強度を２種
に変化させ、その変化の都度、試料上の所定領域を電子
ビームによって走査し、この走査に伴って得られた２種
の像信号の相関を求めるステップを、対物レンズ絞りの
位置を変化させながら行い、相関の値が最大のときの絞
り位置を求め、その位置に絞りを配置するようにした。
その結果、対物レンズ絞りの位置を自動的に最適な位置
に合わせることができ、煩わしい絞り位置の調整動作を
なくすことができる。
基づく電子ビーム装置における絞り調整方法は、電子ビ
ームを試料上に集束するための対物レンズの強度を２種
に変化させ、その変化の都度、試料上の所定領域を電子
ビームによって走査し、この走査に伴って得られた２種
の像信号の相関を求めるステップを、対物レンズ絞りの
位置を変化させながら行い、相関の値が最大のときの絞
り位置を求め、その位置に絞りを配置するようにした。
その結果、対物レンズ絞りの位置を自動的に最適な位置
に合わせることができ、煩わしい絞り位置の調整動作を
なくすことができる。
【００２７】請求項２の発明に基づく電子ビーム装置
は、電子ビームを試料上に集束するための対物レンズの
強度を２種に変化させ、その変化の都度、試料上の所定
領域を電子ビームによって走査し、この走査に伴って得
られた２種の像信号を第１と第２のフレームメモリーに
記憶させ、この２種のフレームメモリーに記憶された像
信号の相関を求め、更に、この相関を求めるステップを
対物レンズ絞りの位置を変化させながら行い、相関の値
が最大のときの絞り位置を求め、その位置に絞りを配置
するように構成した。その結果、対物レンズ絞りの位置
を自動的に最適な位置に合わせることができ、煩わしい
絞り位置の調整動作をなくすことができる。
は、電子ビームを試料上に集束するための対物レンズの
強度を２種に変化させ、その変化の都度、試料上の所定
領域を電子ビームによって走査し、この走査に伴って得
られた２種の像信号を第１と第２のフレームメモリーに
記憶させ、この２種のフレームメモリーに記憶された像
信号の相関を求め、更に、この相関を求めるステップを
対物レンズ絞りの位置を変化させながら行い、相関の値
が最大のときの絞り位置を求め、その位置に絞りを配置
するように構成した。その結果、対物レンズ絞りの位置
を自動的に最適な位置に合わせることができ、煩わしい
絞り位置の調整動作をなくすことができる。
【図１】従来の走査電子顕微鏡を示す図である。
【図２】本発明に基づく走査電子顕微鏡の一実施例を示
す図である。
す図である。
【図３】対物レンズの励磁強度の変化に伴う像の移動を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図４】対物レンズの励磁強度の変化に伴う像の移動を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図５】ｘ方向の位置に対する相関の値の変化を示す図
である。
である。
１ 電子銃 ２ コンデンサレンズ ３ 対物レンズ ４ 試料 ５ 偏向コイル ６ 検出器 ７ 増幅器 ９ 陰極線管 １０ 対物レンズ絞り １１ 開口 １４ 走査器 １５ 対物レンズ制御器 ２０，２１ モータ ２２，２３ モータ制御器 ２４ ＡＤ変換器 ２５，２６ フレームメモリー ２７ 画像相関演算器 ２８ 最大値検出器
Claims (2)
- 【請求項１】 電子ビームを試料上に集束するための対
物レンズの強度を２種に変化させ、その変化の都度、試
料上の所定領域を電子ビームによって走査し、この走査
に伴って得られた２種の像信号の相関を求めるステップ
を、対物レンズ絞りの位置を変化させながら行い、相関
の値が最大のときの絞り位置を求め、その位置に絞りを
配置するようにした電子ビーム装置における絞り調整方
法。 - 【請求項２】 電子ビームを試料上に集束するための対
物レンズと、対物レンズ絞りと、電子ビームを試料上に
集束するための対物レンズの強度を異なった２つの値に
変化させる手段と、試料上の所定領域を電子ビームによ
って走査するための走査手段と、試料への電子ビームの
照射によって得られた信号を検出する検出器と、検出器
からの信号を対物レンズの異なった値に応じて第１と第
２のフレームメモリーに記憶させる手段と、第１と第２
のフレームメモリーに記憶された像信号の相関を求める
相関演算手段と、対物レンズ絞りの位置を変化させる手
段と、各対物レンズ絞り位置に応じた相関演算手段によ
る相関の値を比較しその最大値を求める手段と、相関の
最大値が得られた時の絞り位置に対物レンズ絞りを配置
する手段とを備えた電子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7073439A JPH08273568A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | 電子ビーム装置における絞り位置調整方法および電子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7073439A JPH08273568A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | 電子ビーム装置における絞り位置調整方法および電子ビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08273568A true JPH08273568A (ja) | 1996-10-18 |
Family
ID=13518284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7073439A Withdrawn JPH08273568A (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | 電子ビーム装置における絞り位置調整方法および電子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08273568A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005276639A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Jeol Ltd | 走査型電子ビーム装置における対物レンズ絞りの位置調整方法 |
| JP2008502104A (ja) * | 2004-06-03 | 2008-01-24 | イマゴ サイエンティフィック インストルメンツ コーポレーション | レーザ原子プロービング方法 |
| JP2011228223A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 透過電子顕微鏡、および視野ずれ補正方法 |
| CN115112015A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-27 | 东方晶源微电子科技（北京）有限公司 | 电子束光阑的校准方法、装置、设备及可读存储介质 |
-
1995
- 1995-03-30 JP JP7073439A patent/JPH08273568A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005276639A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Jeol Ltd | 走査型電子ビーム装置における対物レンズ絞りの位置調整方法 |
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| CN115112015A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-27 | 东方晶源微电子科技（北京）有限公司 | 电子束光阑的校准方法、装置、设备及可读存储介质 |
| CN115112015B (zh) * | 2022-06-17 | 2025-10-21 | 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司 | 电子束光阑的校准方法、装置、设备及可读存储介质 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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