JP2000292934A5

JP2000292934A5 -

Info

Publication number: JP2000292934A5
Application number: JP1999101779A
Authority: JP
Filing date: 1999-04-08
Publication date: 2004-09-30

Description

【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、
（１）被処理部材が載置され該部材を回転させるためのターンテーブルと、直線的に移動可能なスライダと、光源となるレーザと、前記スライダに搭載され前記被処理部材にレーザ光を集光しレーザスポットを形成するための光学系と、前記レーザスポットの光強度を変化させるための光変調器と、を具備し、前記被処理部材に一又は複数の小領域からなる任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画装置であって、
前記光変調器に入力される制御信号の同期をとるためのクロック信号を発生する発振器を有し、前記ターンテーブルの回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をｒ、前記ターンテーブルの回転数をｆｃ、前記小領域の被処理部材の径方向の長さをＷｄ、Ｎを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数ｆｄがｆｄ＝ｒＮｆｃ／Ｗｄに調整されることを特徴とするレーザ描画装置が提供される。

【００１２】
更に、本発明によれば、
（２）被処理部材が載置され該部材を回転させるためのターンテーブルと、直線的に移動可能なスライダと、光源となるレーザと、前記スライダに搭載され前記被処理部材にレーザ光を集光しレーザスポットを形成するための光学系と、前記レーザスポットの光強度を変化させるための光変調器と、を具備し、前記被処理部材に一又は複数の小領域からなる任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画装置であって、
前記光変調器に入力される制御信号の同期をとるためのクロック信号を発生する発振器を有し、前記ターンテーブルの回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をr、前記ターンテーブルの回転数をｆｃ、前記小領域の被処理部材の径方向の長さをＷｄ、描画する扇形の領域の中心角をθ、Ｎを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数ｆｄがｆｄ＝２πｒＮｆｃ／θＷｄに調整されることを特徴とするレーザ描画装置が提供される。

【００１７】
また、本発明によれば、回転する被処理部材に対しレーザ光を集光してレーザスポットを形成し、光変調器により前記レーザスポットの光強度を変化させながら前記被処理部材に一又は複数の小領域からなる任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画方法であって、発振器により発生させたクロック信号により前記光変調器に入力される制御信号の同期をとり、前記被処理部材の回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をｒ、前記被処理部材の回転数をｆｃ、前記小領域の被処理部材の径方向の長さをＷｄ、Ｎを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数ｆｄをｆｄ＝ｒＮｆｃ／Ｗｄに調整することを特徴とするレーザ描画方法が提供される。

【００１８】
更に本発明によれば、回転する被処理部材に対しレーザ光を集光してレーザスポットを形成し、光変調器により前記レーザスポットの光強度を変化させながら前記被処理部材に一又は複数の小領域からなる任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画方法であって、発振器により発生させたクロック信号により前記光変調器に入力される制御信号の同期をとり、前記被処理部材の回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をr、前記ターンテーブルの回転数をｆｃ、前記小領域の被処理部材の径方向の長さをＷｄ、描画する扇形の領域の中心角をθ、Ｎを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数ｆｄをｆｄ＝２πｒＮｆｃ／θＷｄに調整することを特徴とするレーザ描画方法が提供される。

Claims

被処理部材が載置され該部材を回転させるためのターンテーブルと、直線的に移動可能なスライダと、光源となるレーザと、前記スライダに搭載され前記被処理部材にレーザ光を集光しレーザスポットを形成するための光学系と、前記レーザスポットの光強度を変化させるための光変調器と、を具備し、前記被処理部材に一又は複数の小領域からなる任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画装置であって、
前記光変調器に入力される制御信号の同期をとるためのクロック信号を発生する発振器を有し、前記ターンテーブルの回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をｒ、前記ターンテーブルの回転数をｆｃ、前記小領域の前記被処理部材の径方向の長さをＷｄ、Ｎを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数ｆｄがｆｄ＝ｒＮｆｃ／Ｗｄに調整されることを特徴とするレーザ描画装置。
被処理部材が載置され該部材を回転させるためのターンテーブルと、直線的に移動可能なスライダと、光源となるレーザと、前記スライダに搭載され前記被処理部材にレーザ光を集光しレーザスポットを形成するための光学系と、前記レーザスポットの光強度を変化させるための光変調器と、を具備し、前記被処理部材に一又は複数の小領域からなる任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画装置であって、
前記光変調器に入力される制御信号の同期をとるためのクロック信号を発生する発振器を有し、前記ターンテーブルの回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をr、前記ターンテーブルの回転数をｆｃ、前記小領域の前記被処理部材の径方向の長さをＷｄ、描画する扇形の領域の中心角をθ、Ｎを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数ｆｄがｆｄ＝２πｒＮｆｃ／θＷｄに調整されることを特徴とするレーザ描画装置。
前記ターンテーブルの回転数ｆｃが一定であり、前記発振器は前記回転数ｆｃと同期し、前記半径ｒに応じて前記クロック信号の周波数ｆｄを変化させることを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ描画装置。
前記クロック信号の周波数ｆｄが一定であり、前記ターンテーブルの駆動源であるスピンドルモータの回転数ｆｃを制御するための信号を発生する信号発生器を有し、該信号発生器では前記クロック信号の周波数ｆｄと同期して前記半径ｒに応じて周波数が変化することを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ描画装置。
回転する被処理部材に対しレーザ光を集光してレーザスポットを形成し、光変調器により前記レーザスポットの光強度を変化させながら前記被処理部材に一又は複数の小領域からなる任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画方法であって、
発振器により発生させたクロック信号により前記光変調器に入力される制御信号の同期をとり、前記被処理部材の回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をｒ、前記被処理部材の回転数をｆｃ、前記小領域の前記被処理部材の径方向の長さをＷｄ、Ｎを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数ｆｄをｆｄ＝ｒＮｆｃ／Ｗｄに調整することを特徴とするレーザ描画方法。
回転する被処理部材に対しレーザ光を集光してレーザスポットを形成し、光変調器により前記レーザスポットの光強度を変化させながら前記被処理部材に一又は複数の小領域からなる任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画方法であって、
発振器により発生させたクロック信号により前記光変調器に入力される制御信号の同期をとり、前記被処理部材の回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をr、前記ターンテーブルの回転数をｆｃ、前記小領域の前記被処理部材の径方向の長さをＷｄ、描画する扇形の領域の中心角をθ、Ｎを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数ｆｄをｆｄ＝２πｒＮｆｃ／θＷｄに調整することを特徴とするレーザ描画方法。
前記被処理部材の回転数ｆｃ又は前記クロック信号の周波数ｆｄを一定とすることを特徴とする請求項５又は６記載のレーザ描画方法。
前記被処理部材が感光材料を塗布した原盤であり、該感光材料にレーザ描画を行う請求項５乃至８のいずれかに記載のレーザ描画方法。