JP2000294982A - 電磁波シールド性接着フィルム、これを用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイ - Google Patents
電磁波シールド性接着フィルム、これを用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイInfo
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Abstract
好な接着特性を有する電磁波シールド性接着フィルムを
得ることを課題とする。 【解決手段】導電性金属により描かれた幾何学図形を有
する電磁波シールドフィルムにおいて、その導電性金属
面側を、貯蔵弾性率(G')が25℃で5×105Pa以
上かつ80℃で5×104Pa以下の接着剤で被覆した
電磁波シールド性接着フィルム。
Description
ラズマ)、液晶、ELなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有する
電磁波シールド性接着フィルム、これを用いた電磁波遮
蔽構成体及びディスプレイに関する。
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、CRT、PDPなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法(特開平1−27880
0号公報、特開平5−323101号公報参照)が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材(特開平5−327274号公報、
特開平5−269912号公報参照)や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料(特開昭62−57297号公報、特開平2−5
2499号公報参照)、さらには、厚さが2mm程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料(特開平5−2838
89号公報参照)が提案されている。
法として、特開平1−278800号公報、特開平5−
323101号公報に示されている透明性基材上に金属
または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法
は、透明性が達成できる程度の膜厚(数100Å〜2,
000Å)にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎ
るため、30MHz〜1GHzで要求される30dB以
上のシールド効果が要求されるところ、20dB以下と
不十分となる。
波シールド材(特開平5−327274号公報、特開平
5−269912号公報)では、30MHz〜1GHz
の電磁波シールド効果は40〜50dBと十分大きい
が、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させ
るためには、繊維径を35μm以上の太さにせざるを得
ず、繊維が肉眼で見えるようになる(以後視認性とい
う)ので、ディスプレイ用途には適したものではなかっ
た。
開平2−52499号公報の金属粉末等を含む導電性樹
脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場
合も同様に、印刷精度の限界からライン幅の最小幅は、
100μm前後となり視認性が発現するため適したもの
ではなかった。
載の厚さが2mm程度のポリカーボネート等の透明基板
上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法によ
り銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、
無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表
面を粗化する必要がある。この粗化手段として、一般に
クロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用
しなければならず、この方法は、ABS以外の樹脂で
は、満足できる粗化を行うことは困難となる。また、こ
の方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できた
としても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、
フィルム化の方法としては適していなかった。さらに透
明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができ
ないため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる。また、
この方法では、製造面において、シールド材料を巻物等
にすることができないため嵩高くなることや自動化に適
していないために製造コストがかさむという欠点もあっ
た。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
については、30MHz〜1GHzにおける30dB以
上の電磁波シールド機能の他に、良好な可視光透過性、
さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れ
を防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる
接着性、シールド材の存在を肉眼で確認することができ
ない特性である非視認性も必要とされる。
用プラスチック板に対し比較的低温で容易に貼付き、長
期間にわたって良好な密着性を有することが必要であ
る。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性
・非視認性、接着性等の特性を同時に十分満たす接着フ
ィルムとしては、これまで満足なものは得られていなか
った。
み、電磁波シールド性と、透明性非視認性および良好な
接着特性を有する電磁波シールド性接着フィルム、これ
を用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイを得ること
を課題とする。
る。 (1) 導電性金属により描かれた幾何学図形を有する
電磁波シールドフィルムにおいて、その導電性金属面側
を、貯蔵弾性率(G’)が25℃で5×105Pa以上
かつ80℃で5×104Pa以下の接着剤で被覆した電
磁波シールド性接着フィルム。 (2) 接着剤の屈折率が1.45〜1.70の範囲に
ある(1)記載の電磁波シールド性接着フィルム。 (3) 接着剤が重量平均分子量5万〜100万の範囲
のアクリル系重合体と重量平均分子量100〜10,0
00の範囲のアクリル系重合体とのブレンドである
(1)または(2)記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 (4) 重量平均分子量5万〜100万の範囲のアクリ
ル系重合体と重量平均分子量100〜1万の範囲のアク
リル系重合体とのブレンド比が、重量比で90/10〜
10/90である(3)の記載の電磁波シールド性接着
フィルム。 (5) 被覆した接着剤の厚さが導電性金属の厚さ以上
であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記
載の電磁波シールド性接着フィルム。 (6) 接着剤が、接着剤付きプラスチックフィルムで
ある(1)〜(5)のいずれかに記載の電磁波シールド
性接着フィルム。 (7) 接着剤付きプラスチックフィルムのプラスチッ
クフィルムが剥離できることを特徴とする(6)記載の
電磁波シールド性接着フィルム。 (8) 被覆した接着剤付きプラスチックフィルムのプ
ラスチックフィルムを剥離し、露出した接着剤を介して
被着体に容易に接着することができることを特徴とする
(7)記載の電磁波シールド性接着フィルム。 (9) 導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅が
40μm以下、ライン間隔が100μm以上、ライン厚
さが40μm以下である(1)〜(8)のいずれかに記
載の電磁波シールド性接着フィルム。 (10) 電磁波シールドフィルムの導電性金属が、厚
さ0.5〜40μmの銅、アルミニウムまたはニッケル
である(1)〜(9)のいずれかに記載の電磁波シール
ド性接着フィルム。 (11) 電磁波シールドフィルムのプラスチックフィ
ルムがポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリ
カーボネートフィルムである(1)〜(10)のいずれ
かに記載の電磁波シールド性接着フィルム。 (12) 導電性金属が銅であり、少なくともその表面
が黒化処理されていることを特徴とする(1)〜(1
1)のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 (13) 導電性金属が常磁性金属である(1)〜(1
1)のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 (14) 導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率が
50%以上であることを特徴とする(1)〜(13)の
いずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。 (15) 幾何学図形の形成方法が、マイクロリソグラ
フ法、スクリーン印刷法または凹版オフセット印刷法を
利用する方法である(1)〜(14)のいずれかに記載
の電磁波シールド性接着フィルム。 (16) マイクロリソグラフ法がケミカルエッチング
法である(15)記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 (17) (1)〜(16)のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムとプラスチック基板もしくはガ
ラス板から構成される電磁波遮蔽構成体。 (18) (1)〜(17)のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムをプラスチック基板もしくはガ
ラス板の少なくとも片面に貼り合わせてなる電磁波遮蔽
構成体。 (19) (1)〜(16)のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムを用いたディスプレイ。 (20) (17)〜(19)のいずれかに記載の電磁
波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。
発明で用いる導電性金属で描かれた幾何学図形を有した
電磁波シールドフィルムは、プラスチックフィルムの片
面に接着剤を介して幾何学図形を配置した構成もしくは
プラスチックフィルムの片面に直接幾何学図形を配置し
たいずれの構成でももちいることができる。導電性金属
面側を被覆する接着剤は、25℃での貯蔵弾性率
(G’)が5×105Pa以上かつ80℃でのG’が5
×104Pa以下と良好な高温流動性を示す組成物であ
るとが好ましく、電磁波シールド性接着フィルムを被着
体であるディスプレイ、ガラス板、プラスチック板に接
着剤を介して容易に接着することができる。この接着剤
は、上述した電磁波シールドフィルムを被覆すると同時
に導電性金属で描かれた幾何学図形の開口に流動し凹凸
を充填することで散乱が防止でき高い透明性が得られ
る。上記の導電性金属面側を被覆する接着剤は、電磁波
シールド性接着フィルムの導電性金属面側を被覆する層
として形成されているが、この層は、接着剤溶液を塗布
して乾燥することにより、また、接着剤を溶融塗布する
ことにより、作製することができる。また、接着剤付き
プラスチックフィルムの接着剤層側と電磁波シールドフ
ィルムの導電性金属面側を併せるようにして接着し、プ
ラスチックフィルムを剥離することにより、上記の電磁
波シールド性接着フィルムを作製することができる。電
磁波シールド性接着フィルムは、その接着剤を介して被
着体と接着させられる。この接着剤は、前記したとお
り、貯蔵弾性率G’が5×105Pa以上、好ましくは
1×106Pa以上であり、使用環境下ではタックフリ
ーとなるため、被着体の上に置いた電磁波シールド性接
着フィルムを自由に位置合わせするこができる。さら
に、上記の接着剤は、接着温度例えば80℃では5×1
04Pa以下、好ましくは1×103Pa以下であり、流
動性が良好であるため、電磁波シールド性接着フィルム
を被着体にラミネートやプレス成形により、また曲面、
複雑形状を有する被着体にも容易に接着することができ
る。本発明に記載された接着剤の貯蔵弾性率はG’は、
厚み0.5mm程度の接着剤皮膜を作製し、粘弾性測定
装置で測定して得られた値とする。粘弾性測定装置とし
ては、レオメトリック・サイエンティフィック・エフ・
イー社製の商品名ARES−2KSTD等を使用するこ
とができる。
変しにくい耐候性良好なアクリル系重合体が好適に用い
られる。アクリル系重合体とは、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルア
クリレート、ジエチルプロピルアクリレート、エチルヘ
キシルアクリレート、ドデシルアクリレート、テトラデ
シルアクリレート等の炭素数1〜24アルキル基を有す
るアルキルアクリレート、2−ニトロ−2−メチルプロ
ピルアクリレート等のニトロアルキルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、トリメチルシクロヘキシル
アクリレート等のシクロアルキルアクリレート、ヒドロ
キシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレ
ート等のヒドロキシアルキルアクリレート、エトキシプ
ロピルアクリレート等のアルコキシアルキルアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、アクリル酸、アクリルア
ミド、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ジエ
チルプロピルメタクリレート、エチルヘキシルメタクリ
レート、デシルメタクリレート、テトラデシルメタクリ
レート、ジエチルプロピルメタクリレート等の炭素数1
〜24アルキル基を有するアルキルメタクリレート、2
−ニトロ−2−メチルプロピルメタクリレート等のニト
ロアルキルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、トリメチルシクロヘキシルメタクリレート等のシ
クロアルキルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタク
リレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒド
ロキシアルキルメタクリレート、エトキシプロピルメタ
クリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート、メタクリル酸、メタクリルア
ミドなどのアクリルモノマを単独または2種以上組み合
わせて得られるポリマーである。例えば単独重合体とし
ては、ポリエチルアクリレート(n=1.469)、ポリブチル
アクリレート(n=1.466)、ポリ−2−エチルヘキシルア
クリレート(n=1.463)、ポリ−t−ブチルアクリレート
(n=1.464)、ポリ−3−エトキシプロピルアクリレート
(n=1.465)、ポリ(オキシカルボニルテトラメチレン)
(n=1.465)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜1.48
0)、ポリイソプロピルメタクリレート(n=1.473)、ポリ
ドデシルメタクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシル
メタクリレート(n=1.475)、ポリ−n−プロピルメタク
リレート(n=1.484)、ポリ−3,3,5−トリメチルシ
クロヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメ
タクリレート(n=1.485)、ポリ−2−ニトロ−2−メチ
ルプロピルメタクリレート(n=1.487)、ポリ−1,1−
ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.489)、ポリメチ
ルメタクリレート(n=1.489)などがあげられる。共重合
体としては、上述の(メタ)アクリルモノマを2種以上組
み合わせたブロック共重合(n=1.48〜1.49)体またはラン
ダム共重合体(n=1.48〜1.49)があげられる。接着剤の官
能基モノマとしては、グリシジルメタクリレート(グリ
シジル基)、アクリル酸(カルボキシル基)、ヒドロキ
シエチルメタクリレート及びヒドロキシエチルアクリレ
ート(水酸基)、アクリルアミド(アミノ基)等を使用
することができ、それ以外の材料を用いてもよい。なお
上記において、かっこ内のnは屈折率を示し、以下にお
いても同様である。
成としては、重量平均分子量5万〜100万の範囲のア
クリル共重合体と重量平均分子量100〜10,000
の範囲のアクリル共重合体とをブレンドし、その比が重
量部で90/10〜10/90であることが好ましい。
これらの範囲から外れると、貯蔵弾性率が所定の値から
大きく異なり、透明性もしくは被着体への接着性の低下
を招く。本発明の電磁波シールドフィルムに用いる接着
剤としては、被覆する接着剤との相溶性、透明性の点か
ら、屈折率が同じアクリル系重合体が好適であるが、以
下の材料についても使用することができる。天然ゴム
(屈折率n=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ−
1,2−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505
〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−2−ヘプチル−
1,3−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−2−t−ブチル−
1,3−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−1,3−ブタジ
エン(n=1.515)などの(ジ)エン類、ポリオキシエチレ
ン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリビ
ニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシルエ
ーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.456)
などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.46
7)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポリエ
ステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロー
ス(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリア
クリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=
1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.
6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)。本発明で使用する接
着剤には必要に応じて、架橋剤、希釈剤、可塑剤、酸化
防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤な
どの添加剤を配合してもよい。
ルムにおいて、剥離可能なプラスチックフィルムである
ことが好ましい。プラスチックフィルムを剥離後露出し
た接着剤により被着体に接着することができるようにす
るためであり、一般的な離型フィルムが使用できる。例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンー酢酸
ビニル等のポリオレフィンフィルム、シリコーン離型フ
ィルム、フッ素フィルム、ポリメチルペンテンフィルム
などが好適に用いられる。またこれらを積層した多層フ
ィルムの形態でもよい。上記接着剤付プラスチックフィ
ルムとして、剥離できないか普通では剥離が困難なプラ
スチックフィルムに接着剤を積層したものを使用しても
よいが、この場合には、さらに別に接着剤を介して、被
着体に接着することになる。本発明で用いる電磁波シー
ルドフィルムの導電性金属面側を被覆するための接着剤
の屈折率は1.45〜1.70のものを使用するのが好
ましい。特に、電磁波シールドフィルムのプラスチック
フィルム及びプラスチックフィルムと導電性金属とを接
着するために使用した接着剤及び被着体の屈折率がそれ
ぞれ、1.45〜1.70であることが好ましい。この
場合に、界面での散乱が少なく、可視光透過率が低下し
にくくなる。本発明で用いる被覆する接着剤の厚さは、
導電性金属の厚さ以上が必要であり、それを下回ると導
電性金属が完全に接着剤で被覆できず、被着体への接着
阻害及び気泡の残存を生じる。接着剤の厚さは、500
μm以下が好ましい。これを超えると電磁波シールド性
接着フィルムの総厚みが厚くなり被着体への接着阻害が
生じる。
を電磁波シールト゛フィルムの導電性金属面に被覆する方
法として、プレス法、ロールラミネート法、真空加圧式
ラミネート法、真空加熱パック法、オートクレーブ法が
あげられるがそれ以外の方法または組み合わせでもよ
い。また、被着体に接着する方法として、まずプラスチ
ックフィルムを剥離し、露出した接着剤を介して上述し
た設備により被着体に接着させる。本発明の接着剤は流
動性が非常に良好であり、ロールラミネート法、真空加
圧式ラミネート法を利用して接着することが好ましく、
また、接着時の温度は30〜100℃が好ましい。接着
時の温度がこの範囲外であると接着剤の浸み出し量が多
くなり外観が不良となったり、被着体との接着性が低下
する傾向がある。
ウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステ
ン、クロム、チタンなどの金属、あるいはそれらの金属
の2種以上を組み合わせた合金を使用することができ
る。導電性や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アル
ミニウムまたはニッケルが適しており、金属箔、めっき
金属、蒸着などの真空下で形成される金属等が使われ
る。厚さは、0.5〜40μmが好ましい。厚さが40
μmを超えると、細かいライン幅の形成が困難であった
り、視野角が狭くなる。また厚さが0.5μm未満で
は、表面抵抗が大きくなり、電磁波シールド効果が劣る
傾向にある。
面が黒化処理されたものであると、コントラストが高く
なり好ましい。また、導電性金属が経時的に酸化され退
色することを防止することもできる。黒化処理とは、導
電性金属の表面を黒くすることであるが、この黒化処理
は、幾何学図形の形成前又は形成後に行えばよいが、通
常形成後において、プリント配線板分野で行われている
方法を用いて行うことができる。黒化処理の方法として
は導電性金属の表面を酸化して酸化銅とする方法、例え
ば、亜塩素酸ナトリウム(31g/l)、水酸化ナトリ
ウム(15g/l)、燐酸三ナトリウム(12g/l)
の水溶液中、95℃で2分間処理する方法がある。ま
た、黒化処理の方法としては導電性金属上に無電解ニッ
ケルメッキを施す方法がある。導電性金属が、常磁性金
属であると、磁場シールド性に優れるために好ましい。
常磁性金属としては、ニッケル、鉄、ステンレス、チタ
ン等がある。
フィルムの片面の全面又はほぼ全面にその層を形成し、
それから、所望の幾何学的図形に加工するのが一般的で
ある。導電性金属の層をプラスチックフィルムに密着さ
せる方法としては、電磁波シールドフィルムの導電性金
属面側を被覆するための接着剤と同系の前記したアクリ
ル系重合体からなる接着剤を介してプラスチックフィル
ムと導電性金属のフィルム又は箔を貼合せるのが最も簡
便である。導電性金属の導電層の厚みを小さくする必要
がある場合は、プラスチックフィルムに、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無
電解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの1の方
法によりまたは2以上の方法を組み合わせることにより
導電性金属の層を形成することにより達成できる。導電
性金属の厚みは40μm以下とすることが好ましく、厚
みが薄いほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シー
ルド材料として好ましく、18μm以下とすることがさ
らに好ましい。
るプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフ
タレート(PET)、ポリエチレンナフタレートなどの
ポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、EVAなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサ
ルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポ
リアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチッ
クからなるフィルムで全可視光透過率が70%以上で厚
さが1mm以下のものが好ましい。これらは単層で使う
こともできるが、2層以上を組み合わせた多層フィルム
として使用してもよい。前記プラスチックフィルムのう
ち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリ
エチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネー
トフィルムが好ましい。プラスチックフィルム厚さは、
5〜500μmが好ましい。5μm未満だと取り扱い性
が悪くなり、500μmを超えると可視光の透過率が低
下してくる。10〜200μmとすることがより好まし
い。
は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角
形、(正)二十角形などの(正)n角形(nは正の整
数)、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、
これらの単位の単独の繰り返し、あるいは2種類以上組
み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の
観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の
点からは同一のライン幅なら(正)n角形のn数が大き
いほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率
は50%以上が必要とされる。開口率は、60%以上が
さらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィ
ルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描か
れた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の
百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シール
ド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見
える割合となる。
形成する方法としては、マイクロリソグラフ法、スクリ
ーン印刷法、凹版オフセット印刷法等を利用する方法を
もちいることができる。なかでもマイクロリソグラフ法
を利用する方法が回路加工の精度の点から有効である。
マイクロリソグラフ法を利用する方法は、プラスチック
フィルム上に形成された導電性金属の層に活性電磁波の
照射により感光する感光層を設け、この感光層に像様露
光し、現像してレジスト像を形成し、ついで、導電性金
属をエッチングして導電性金属の幾何学的模様を形成
し、最後にレジストを剥離する方法である。上記のマイ
クロリソグラフ法には、フォトリソグラフ法、X線リソ
グラフ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラ
フ法などがる。これらの中でも、ケミカルエッチング法
を使用したフォトリソグラフ法は、その簡便性、経済
性、回路加工精度などの点から最も好ましい。フォトリ
ソグラフ法の中ではケミカルエッチング法の他にも無電
解めっきや電気めっきによる方法、または無電解めっき
や電気めっきとケミカルエッチング法を組み合わせて幾
何学図形を形成することも可能である。スクリーン印刷
法又は凹版オフセット印刷法については、プラスチック
フィルム上に導電性インクを直接印刷する方法があり、
また、プラスチックフィルム、接着剤、導電性金属箔か
ら構成されるMCFの導電性金属箔面にエッチングレジ
ストインクを印刷し、硬化させた後エッチング処理によ
り導電性金属の幾何学図形を形成し、この後レジストを
剥離する方法がある。
m以下、ライン間隔は100μm以上、ライン厚みは4
0μm以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は25μm以下、可視光
透過率の点からライン間隔は120μm以上、ライン厚
み18μm以下がさらに好ましい。ライン幅は、40μ
m以下、好ましくは25μm以下が好ましく、あまりに
小さく細くなると表面抵抗が大きくなりすぎてシールド
効果に劣るので1μm以上が好ましい。ライン厚みは4
0μm以下が好ましく、あまりに厚みが薄いと表面抵抗
が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので0.5μm
以上が好ましく、さらに1μm以上がさらに好ましい。
ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過
率は向上する。前述のようにディスプレイ前面に使用す
る場合、開口率は50%以上が必要であるが、60%以
上がさらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎる
と、電磁波シールド性が低下するため、ライン幅は10
00μm(1mm)以下とするのが好ましい。なお、ラ
イン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、
繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に
換算してその一辺の長さをライン間隔とする。
はプラスチック板が好適である。プラスチック板とは、
プラスチックからなる板であり、具体的には、ポリスチ
レン樹脂(n=1.59)、アクリル樹脂(n=1.49)、ポリメチル
メタクリレート樹脂(n=1.49)、ポリカーボネート樹脂(n
=1.58)、ポリ塩化ビニル樹脂(n=1.54)、ポリ塩化ビニリ
デン樹脂(n=1.6〜1.63)、ポリエチレン樹脂(n=1.51)、
ポリプロピレン樹脂(n=1.50)、ポリアミド樹脂(n=1.5
2)、ポリアミドイミド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルイミ
ド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルケトン樹脂(n=1.45)、ポ
リアリレート樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリアセタール樹脂(n
=1.5〜1.6)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(n=1.5
7)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(n=1.58)などの熱
可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂(n=1.4
9)、フッ素樹脂(n=1.4〜1.5)、ポリスルホン樹脂(n=1.6
3)、ポリエーテルスルホン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリメ
チルペンテン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリウレタン樹脂(n=
1.45〜1.6)、フタル酸ジアリル樹脂(n=1.45〜1.6)など
の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの
中でも透明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹
脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレー
ト樹脂、ポリメチルペンテン樹脂が好適に用いられる。
またガラス板としては、ケイ酸塩ガラス(ケイ酸ガラ
ス、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石
灰ガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラ
ス)、リン酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス等が好適であ
る。上記のプラスチック基板又はガラス板は、ディスプ
レイの画面そのものであってもよい。プラスチック基板
又はガラス板の厚みは、0.5mm〜5mmであること
がディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。
ルド性接着フィルムとガラス板もしくはプラスチック板
から構成され、その組合せは多数有る。図1は本発明の
電磁波シールド性接着フィルムの断面図であり、接着剤
1と導電性金属で描かれた幾何学図形2とプラスチック
フィルム3、接着剤4とプラスチックフィルム5から電
磁波シールド性接着フィルム6が構成される。この電磁
波シールド性接着フィルム6は、図2(a)に示すよう
にディスプレイの画面7(表示デバイスの前面ガラス基
板)に直接形成しても良いし、図2(b)に示すように
ガラス板もしくはプラスチック板8の片面に形成し、ど
ちらかの面をディスプレイ画面に接着剤又は取付治具を
介してディスプレイ画面に設ける。図2(c)は、電磁
波シールド性接着フィルム6のプラスチックフィルム面
側に接着剤4を形成し、2枚のガラス板もしくはプラス
チック板8で挟み込んだ電磁波遮蔽構成体9である。電
磁波シールド性接着フィルムや電磁波遮蔽構成体のいず
れかの面には、赤外線遮蔽性を有する層、反射防止処理
を有する層、防眩処理を有する層、表面硬度の高い耐擦
性を有する層を形成することができる。これらは例示で
あり、この他の形態で使用することができる。ガラス板
の片面に電磁波シールド性接着フィルムを接着し、この
ガラス板をディスプレイ前面に取り付けガラス面がディ
スプレイ装置の外側になるようにしてもよい。また、接
着剤1をなくして、プラスチックフィルム3に直接導電
性金属で描かれた幾何学図形を形成した構成にしてもよ
い
は、接着剤、幾何学図形を有する導電性金属及びプラス
チックフィルムもしくは幾何学図形を有する導電性金属
及びプラスチックフィルムからからなる電磁波シールド
フィルムと、それを被覆するための接着剤付きプラスチ
ックフィルムから基本的に構成される。得られた電磁波
シールド性接着フィルムの構成材料の中で、接着剤付き
プラスチックフィルムの接着剤に特徴を有する。すなわ
ち、導電性金属は金属箔の使用が好ましく、この場合接
着性向上のため金属箔の面を粗化形状にすることが多
く、幾何学図形を形成すると、除去された金属部分は、
接着層にその粗化形状を転写して金属と接している接着
剤の部分に粗化形状が転写されてしまい可視光線がそこ
で散乱されてしまうので光線透過率が低下し透明性が損
なわれる。このため、電磁波シールドフィルム自体は半
透明あるは不透明となってしまう。そこで、本発明の接
着剤付きプラスチックフィルムにより粗化形状の転写に
より形成された接着剤の凹凸面を接着剤で完全にしかも
容易に充填することにより散乱の防止が図れ、さらにプ
ラスチックフィルムと接着剤との屈折率が近い材料を用
いているため、本来の透明性が発現するようになると考
えられる。さらにプラスチックフィルム上の導電性材料
で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいた
め肉眼で視認されない。またライン間隔も十分に大きい
ため見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮
蔽すべき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のライン間
隔は十分に小さく、優れたシールド性を発現すると考え
られる。
貯蔵安定性が顕著に低下し、液状化することで電磁波シ
ールドフィルムの凹凸面に容易に流動し、充填すること
ができる。また、ガラス等の被着体に対して接着剤を介
して張り付けることができるので、別個に背着剤が不要
になり、また、ロール貼りすることが可能であるので量
産性の点で優れている。
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例1 プラスチックフィルムとして厚さ50μmのポリエチレ
ンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡績株式会
社製、商品名A−4100、屈折率n=1.575)を
用い、その片面に下記作製例で作製の接着剤1を室温で
アプリケータを用いて20μmの乾燥塗布厚になるよう
に塗布し、90℃、20分間加熱乾燥させた。その接着
剤1を介して導電性金属である厚さ12μmの電解銅箔
を、その粗化面が接着剤側になるようにして、180
℃、30Kgf/cm、0.5m/分の条件で加熱ラミネ
ートして導電性金属付きプラスチックフィルムである銅
箔付きPETフィルムを得た。得られた銅箔付きPET
フィルムにケミカルエッチング法を使用したフォトリソ
グラフ工程(レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケ
ミカルエッチング−レジストフィルム剥離)を経て、ラ
イン幅25μm、ライン間隔250μmの銅格子パター
ンをPETフィルム上に形成し、電磁波シールドフィル
ム1を得た。この電磁波シールドフィルム1の可視光透
過率は20%以下であった。この電磁波シールドフィル
ムに、下記作製例で作製の接着剤2を乾燥後の厚みが2
0μmとなるように塗布した50μmの離型PETフィ
ルム(帝人株式会社製、商品名G1W)を接着剤2と導
電性金属とが接するようにロールラミネータ(大成ラミ
ネータ株式会社製、商品名VA−700)により80
℃、10kgf/cm、0.5m/分の条件で貼合せて電
磁波シールド性接着フィルムを得た。得られた電磁波シ
ールド性接着フィルムの離型PETフィルムを剥離し、
ガラス板(日本板硝子株式会社製、厚み3mm)に露出
した接着剤が接するようにして80℃、10kgf/c
m、0.5m/分の条件でロールラミネータにより貼合せ
て電磁波遮蔽構成体1を得た。
計、冷却管、窒素導入管を有した三つ口フラスコにトル
エン200cm3、メタクリル酸メチル(MMA)50
g、メタクリル酸エチル(EMA)5g、グリシジルメタ
クリレート(GMA)2g、AIBN250mgを入れ、
窒素でバブリングさせながら100℃で3時間、還流中
で攪拌を行った。その後、メタノールで再沈殿させ、得
られたポリマーをろ過後、減圧乾燥してポリアクリル酸
エステルを得た。これをポリアクリル酸エステルAとす
る。この収率は75重量%であった。これを接着剤1と
した。 ポリアクリル酸エステルAの特性 組成:MMA/EMA/GMA=57/38/5(重量比) 重量平均分子量Mw:70万〔ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー(GPC)により測定した標準ポリスチレ
ン換算値、以下同じ。〕 ガラス転移温度Tg:20℃〔ディファレンシャルスキャニ
ングカロリーメーター(DSC)により測定。以下同
じ。〕 上記の接着剤1の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は1.4
8であった。 <接着剤2の作成例>接着剤1と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルを合成した。これをポリアクリル酸エステ
ルBとする。 ポリアクリル酸エステルBの特性 組成:MMA/EMA/GMA=66/29/5(重量比) Mw=7000 Tg=40℃) 接着剤組成物を接着剤2とした。 ポリアクリル酸エステルA 30重量部 及び ポリアクリル酸エステルB 70重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤2とした。
接着剤2の溶媒乾燥後の屈折率は1.49であった。
と以外は実施例1と同じ。 <接着剤3の組成物>接着剤1と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルC及びDを合成した。 ポリアクリル酸エステルCの特性 組成:MMA/EA/AA=9/86/5(重量比) Mw=35万 Tg=-40℃) ポリアクリル酸エステルD 組成:MMA/EA/AA=85/10/5 Mw=4000 Tg=80℃ 接着剤組成物を ポリアクリル酸エステルC 20重量部 及び ポリアクリル酸エステルD 80重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤3とした。
接着剤3の溶媒乾燥後の屈折率は1.48であった。
と以外は実施例1と同じ。 <接着剤4の組成物>接着剤1と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルE及びFを合成した。 ポリアクリル酸エステルE 組成:MMA/EA/HEMA=66/29/5(重量比) Mw=20万 Tg=-40℃) ポリアクリル酸エステルF 組成:MMA/EA/HEMA=85/10/5(重量比) Mw=5000 Tg=80℃ 接着剤組成物を ポリアクリル酸エステルE 40重量部 及び ポリアクリル酸エステルF 60重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤4とした。
接着剤4の溶媒乾燥後の屈折率は1.48であった。
グラス、厚み3mm)に変更したこと以外は実施例1と
同じ。
ーボネートフィルム(50μm、n=1.58)に、接
着剤2の厚みを20μmから40μmにした以外は実施
例1と同じ。
0μmから500μmに、接着剤の厚みを20μmから
30μmにした以外は実施例1と同じ。
た銅格子パターンに黒化処理を施したこと以外は実施例
1と同様にして電磁波遮蔽構成体7を得た。
を用いてエッチングレジスト(日立化成工業株式会社
製、商品名RAYCAST)を格子パターン(ライン幅
25μm、ライン間隔250μm)状に形成し、90℃
15分間プレベークした後、高圧水銀ランプで紫外線
を90mJ/cm2照射した。その後、エッチングレジ
ストで覆われていない銅箔をエッチングにより除去し、
エッチングレジストを剥離する工程を経て電磁波シール
ドフィルムを得た以外は実施例1と同様にして電磁波遮
蔽構成体8を得た。
これを使用したこと以外は実施例1と同じ。 <接着剤5の組成物> ポリアクリル酸エステルA 95重量部 及び ポリアクリル酸エステルB 5重量部 接着剤5の溶媒乾燥後の屈折率は1.49であった。
これを使用したこと以外は実施例1と同じ。 <接着剤6の組成物>接着剤1と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルGを合成した。 ポリアクリル酸エステルGの特性 組成:MMA/EMA/GMA=27/68/5(重量比) Mw=70万 Tg=-20℃ 接着剤6の溶媒乾燥後の屈折率は1.49であった。
これを使用したこと以外は実施例1と同じ。 <接着剤7の組成物>飽和ポリエステル樹脂(東洋紡績
株式会社製、商品名バイロンUR−1400、Mw=5
万、軟化点80℃) 接着剤7の溶媒乾燥後の屈折率は1.65であった。
これを使用したこと以外は実施例1と同じ。 <接着剤8の組成物>フェノールーホルムアルデヒド樹
脂(Mw=5万、軟化点85℃) 接着剤8の溶媒乾燥後の屈折率は1.73であった。
せたITO蒸着PETを使い、パターンを形成しない
で、直接接着剤2の組成物を塗布した以外は実施例1と
同じ。
性接着フィルムの導電性金属材料で描かれた幾何学図形
の開口率、接着剤の屈折率、接着剤の弾性率、電磁波シ
ールド性、可視光透過率、非視認性、接着力、色差を測
定した。結果を表1、2及び3に示した。
接着剤組成物の屈折率は、屈折計(株式会社アタゴ光学
機械製作所製、アッベ屈折計)により25℃の条件で測
定した。導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率は顕
微鏡写真をもとに実測した。電磁波シールドフィルムに
被覆する接着剤の弾性率は、0.5mm程度の接着剤皮
膜を作製し、粘弾性測定装置(レオメトリック・サイエ
ンティフィック・エフ・イー社製、商品名ARES−2
KSTD、せん断モード)で測定した。電磁波遮蔽構成
体の電磁波シールド性は、同軸導波管変換器(日本高周
波株式会社製、TWC−S−024)のフランジ間に試
料を挿入し、スペクトラムアナライザー(YHP製、8
510Bベクトルネットワークアナライザー)を用い、
周波数30MHz〜1GHzで測定した。可視光透過率
の測定は、ダブルビーム分光光度計(株式会社日立製作
所製、200−10型)を用いて、400〜700nm
の透過率の平均値を用いた。非視認性は、ガラス板に電
磁波シールド性接着フィルムを貼り付けた電磁波遮蔽構
成体を0.5m離れた場所から目視して導電性金属で形
成された幾何学図形を認識できるかどうかで評価し、認
識できないものを良好とし、認識できるものをNGとし
た。接着力は、電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接
着フィルムと被着体との接着性をレオメータ(不動工業
株式会社製、商品名NRM−3002D−H)により剥
離速度50mm/分、剥離角度90°、剥離温度25℃
の条件で測定した。色差は、電磁波遮蔽構成体をサンシ
ャインウェザーメータ(スガ試験機株式会社製、商品名
SUV−W11)により降雨12min/h 200h
の耐候性処理を行った前後の色相変化を分光測色計(ミ
ノルタ株式会社、商品名CM−508D)で測定した。
での貯蔵弾性が、それぞれ5×104Paを超えている
ため接着剤の流動性が低く、電磁波シールドフィルムの
接着剤の凹凸面への充填が不完全なため、可視光透過率
に劣った。また、上記接着剤はぬれにくく被着体に十分
に密着しないので接着性に劣った。さらに、比較例3及
び4において使用している接着剤は飽和ポリエステル、
フェノールーホルムアルデヒド樹脂であるため、紫外線
で黄変し、色差が大幅に増加した。比較例4は、接着剤
8の屈折率が1.73と高く接着剤とプラスチックフィ
ルムとの界面での散乱が大きく、さらに可視光透過率の
低下を招いた。本発明の実施例で示した、導電性金属で
描かれた幾何学図形を有し、その開口率が50%以上
で、接着剤に2種のアクリル共重合体のブレンド組成物
で、貯蔵弾性率が5×106Pa以上(25℃)かつ5
×104Pa以下(80℃)で、屈折率が1.45〜
1.70の範囲にあり、接着剤の厚みが導電性金属の厚
さ以上の接着剤がいずれも好ましい値を示した。また、
導電性金属で描かれたライン幅が、40μm以下、ライ
ン間隔が100μm以上、ライン厚みが40μm以下の
導電性金属が好ましい値を示した。また、実施例7で示
した銅を黒化処理した電磁波遮蔽構成体は、コントラス
トが大きく鮮明な画像を快適に鑑賞することができた。
のプラスチックフィルムを剥離することにより、被着体
にロールラミネータ等により容易に貼付けて使用でき、
しかも密着性が優れているので電磁波漏れがなくシール
ド機能が特に良好である。また、
フィルムは、貯蔵弾性率G’が25℃で5×105Pa
以上かつ80℃で5×104Pa以下である接着剤で被
覆することにより可視光透過率、非視認性などの光学的
特性が良好で、しかも長時間にわたって高温および高温
多湿での接着特性に変化が少なく良好であり、優れた電
磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。
さらに、紫外線で黄変・劣化しにくいので、屋外での長
期使用ができる。請求項2における電磁波シールド性接
着フィルムは、接着剤の屈折率を1.45〜1.70と
することにより、さらに透明性、像鮮明性に優れる。請
求項3における電磁波シールド性接着フィルムは、接着
剤の材料を重量平均分子量5万〜100万の範囲のアク
リル共重合体と重量平均分子量100〜10,000の
範囲のアクリル共重合体とのブレンドとすることによ
り、さらに、透明性、接着性にる。請求項4における電
磁波シールド性接着フィルムは、接着剤の材料として特
定の分子量のものブレンド比を重量比で90/10〜1
0/90とすることにより、さらに透明性、接着性に優
れる。請求項5における電磁波シールド性接着フィルム
は、接着剤の厚さを導電性金属の厚さ以上にすることに
より、さらに透明性、接着性に優れる。請求項6におけ
る電磁波シールド性接着フィルムは、可視光透過率、非
視認性などの光学的特性が良好であるものとして容易に
作製することができる。請求項7ににおける電磁波シー
ルド接着フィルム記載は、接着剤付きプラスチックフィ
ルムのプラスチックフィルムを剥離可能とすることによ
り、被着体への接着作業が容易になる請求項8における
電磁波シールド性接着フィルムは、ロールラミネータ等
の使用で被着体に接着するとすることにより、被着体へ
の接着作業性、その量産性に優れる。請求項9における
電磁波シールド性接着フィルムは、導電性金属で描かれ
た幾何学図形のライン幅を40μm以下、ライン間隔を
100μm以上、ライン厚みを40μm以下とすること
により、電磁波シールド性と透明性及び広視野角を得る
ことができる。請求項10における電磁波シールド性接
着フィルムは、導電性金属付きプラスチックフィルムの
導電性金属を、厚さ0.5〜40μmの銅、アルミニウ
ムまたはニッケルとすることにより、電磁波シールド性
及び加工性に優れ、安価になる。請求項11における電
磁波シールド性接着フィルムは、導電性金属付きプラス
チックフィルムのプラスチックフィルムをポリエチレン
テレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィル
ムとすることにより、安価で透明性、耐熱性に優れる。
請求項12における電磁波シールド性接着フィルムは、
導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理
されていることにより、コントラストと電磁波シールド
性に優れる。請求項13における電磁波シールド性接着
フィルムは、導電性金属を常磁性金属とすることによ
り、磁場シールド性に優れる。請求項14における電磁
波シールド性接着フィルムは、導電性金属で描かれた幾
何学図形の開口率を50%以上にすることにより、可視
光透過率に優れる。請求項15における電磁波シールド
性接着フィルムは、幾何学図形の形成方法がマイクロリ
ソグラフ法、スクリーン印刷法又は凹版オフセット印刷
法を利用する方法であるので、安価で量産性に優れ、ま
た、透明性に優れるとともに簡便な接着性を有する。請
求項16における電磁波シールド性接着フィルムは、ケ
ミカルエッチング法により導電性金属を描画することに
より、安価で可視光透過率に優れる。
電磁波シールド性接着フィルム及びガラス板もしくはプ
ラスチック板で構成されるので、透明性を有する電磁波
シールド性に優れた基板とすることができ、ディスプレ
イに提供することができる。請求項18における電磁波
遮蔽構成体は、電磁波シールド性接着フィルムをガラス
板もしくはプラスチック板の少なくとも片面に貼合せる
ことにより、透明性を有する電磁波シールド性に優れた
基板とすることができ、取扱性が容易で、ディスプレイ
に提供することができる。請求項19におけるディスプ
レイは、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シー
ルド性接着フィルムを用いることにより、軽量、コンパ
クトで透明性に優れ電磁波漏洩が少ない。請求項20に
おけるディスプレイは、電磁波シールド性と透明性を有
する電磁波遮蔽構成体を用いることにより、軽量、コン
パクトで電磁波漏洩が少なくディスプレイ保護板を兼用
したディスプレイとして提供することができる。このデ
ィスプレイは、可視光透過率が大きく、非視認性が良好
であるのでディスプレイの輝度を高めることなく通常の
状態とほぼ同様の条件下で鮮明な画像を快適に鑑賞する
ことができる。本発明の電磁波シールド性接着フィルム
及び電磁波遮蔽構成体は、電磁波シールド性や透明性に
優れているため、ディスプレイの他に電磁波を発生した
り、あるいは電磁波から保護する測定装置、測定機器や
製造装置の内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求さ
れる窓のような部位に設けて使用することができる。
面図である。
ィスプレイ使用例(a)及び電磁波シールド性接着フィ
ルムとプラスチック基板もしくはガラス板から構成され
る電磁波遮蔽構成体((b)〜(f))の例。
板) 8.ガラス板もしくはプラスチック板 9.電磁波遮蔽構成体
Claims (20)
- 【請求項1】 導電性金属により描かれた幾何学図形を
有する電磁波シールドフィルムにおいて、その導電性金
属面側を、貯蔵弾性率(G’)が25℃で5×105P
a以上かつ80℃で5×104Pa以下の接着剤で被覆
した電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項2】 接着剤の屈折率が1.45〜1.70の
範囲にある請求項1記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 - 【請求項3】 接着剤が重量平均分子量5万〜100万
の範囲のアクリル系重合体と重量平均分子量100〜1
万の範囲のアクリル系重合体とのブレンドである請求項
1または2記載の電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項4】 重量平均分子量5万〜100万の範囲の
アクリル系重合体と重量平均分子量100〜10,00
0の範囲のアクリル系重合体とのブレンド比が、重量比
で90/10〜10/90である請求項3の記載の電磁
波シールド性接着フィルム。 - 【請求項5】 被覆した接着剤の厚さが導電性金属の厚
さ以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか
に記載の電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項6】 接着剤が、接着剤付きプラスチックフィ
ルムである請求項1〜5のいずれかに記載の電磁波シー
ルド性接着フィルム。 - 【請求項7】 接着剤付きプラスチックフィルムのプラ
スチックフィルムが剥離できることを特徴とする請求項
6記載の電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項8】 被覆した接着剤付きプラスチックフィル
ムのプラスチックフィルムを剥離し、露出した接着剤を
介して被着体に容易に接着することができることを特徴
とする請求項7記載の電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項9】 導電性金属で描かれた幾何学図形のライ
ン幅が40μm以下、ライン間隔が100μm以上、ラ
イン厚さが40μm以下である請求項1〜8のいずれか
に記載の電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項10】 電磁波シールドフィルムの導電性金属
が、厚さ0.5〜40μmの銅、アルミニウムまたはニ
ッケルである請求項1〜9のいずれかに記載の電磁波シ
ールド性接着フィルム。 - 【請求項11】 電磁波シールドフィルムのプラスチッ
クフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムまた
はポリカーボネートフィルムである請求項1〜10のい
ずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項12】 導電性金属が銅であり、少なくともそ
の表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項1
〜11のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 - 【請求項13】 導電性金属が常磁性金属である請求項
1〜11のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィ
ルム。 - 【請求項14】 導電性金属で描かれた幾何学図形の開
口率が50%以上であることを特徴とする請求項1〜1
3のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項15】 幾何学図形の形成方法が、マイクロリ
ソグラフ法、スクリーン印刷法または凹版オフセット印
刷法を利用する方法である請求項1〜14のいずれかに
記載の電磁波シールド性接着フィルム。 - 【請求項16】 マイクロリソグラフ法がケミカルエッ
チング法である請求項15記載の電磁波シールド性接着
フィルム。 - 【請求項17】 請求項1〜16のいずれかに記載の電
磁波シールド性接着フィルムとプラスチック基板もしく
はガラス板から構成される電磁波遮蔽構成体。 - 【請求項18】 請求項1〜17のいずれかに記載の電
磁波シールド性接着フィルムをプラスチック基板もしく
はガラス板の少なくとも片面に貼り合わせてなる電磁波
遮蔽構成体。 - 【請求項19】 請求項1〜16のいずれかに記載の電
磁波シールド性接着フィルムを用いたディスプレイ。 - 【請求項20】 請求項17〜19のいずれかに記載の
電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。
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-
1999
- 1999-04-09 JP JP10296999A patent/JP4243886B2/ja not_active Expired - Fee Related
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