JP2000295093A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2000295093A
JP2000295093A JP11099982A JP9998299A JP2000295093A JP 2000295093 A JP2000295093 A JP 2000295093A JP 11099982 A JP11099982 A JP 11099982A JP 9998299 A JP9998299 A JP 9998299A JP 2000295093 A JP2000295093 A JP 2000295093A
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voltage
circuit
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semiconductor integrated
input
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JP11099982A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazunori Okui
一規 奥井
Kenichi Shimomura
研一 下邨
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像センサの画素に導入することができる回
路規模で十分な比較演算の精度を得ることができる比較
回路を得、コストの低下を図ることができる半導体集積
回路を提供する。 【解決手段】 7つのMOSトランジスタ31〜34,
36〜38、又は6つのMOSトランジスタ31〜3
4,37,38と1つの抵抗39とで、2つの入力電圧
が等しいときのみ出力電圧が最大又は最小となる、2つ
の入力電圧の比較を行う比較回路を形成し、光電変換回
路2から得られる2つの画像データの比較演算を簡単な
回路構成で精度よく行うことができる比較回路を得る。
(57) Abstract: A semiconductor integrated circuit capable of obtaining a comparison circuit with sufficient circuit calculation accuracy with a circuit scale that can be introduced into pixels of an image sensor and reducing cost. provide. SOLUTION: Seven MOS transistors 31 to 34,
36 to 38 or 6 MOS transistors 31 to 3
4, 37, 38 and one resistor 39 form a comparison circuit for comparing two input voltages whose output voltage is maximum or minimum only when the two input voltages are equal. A comparison circuit capable of accurately performing the comparison operation of the two pieces of image data with a simple circuit configuration is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、特に電気信号の比較を行う比較回路を備えた半導
体集積回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a comparison circuit for comparing electric signals.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、画像認識を用いた監視装置やゲー
ム機器インタフェース等の市場が急速に拡大しつつあ
り、高速な画像認識に適した画像センサが作られてい
る。これらの画像センサとして、例えば特開平1−12
4075号公報では、フォトセンサ、メモリセル及び比
較回路を組み合わせ、入射された画像データを全画素に
ついて並列にあらかじめ素子内に記憶しているパターン
と比較、照合することができる半導体集積回路素子が開
示されている。
2. Description of the Related Art At present, markets for monitoring devices and game machine interfaces using image recognition are rapidly expanding, and image sensors suitable for high-speed image recognition are being manufactured. As these image sensors, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-12
Japanese Patent No. 4075 discloses a semiconductor integrated circuit device capable of combining a photosensor, a memory cell, and a comparison circuit and comparing and collating incident image data with a pattern stored in the device in advance for all pixels in parallel. Have been.

【0003】また、比較回路として、上記特開平1−1
24075号公報では、排他的論理和ORゲートが使用
されている。一方、比較回路をアナログ回路で形成した
ものとして、「アナログVLSIと神経システム」(1
993)株式会社トッパン発行の第99頁から第101
頁に記載された絶対値回路がある。
As a comparison circuit, Japanese Patent Laid-Open Publication No.
In Japanese Patent No. 24075, an exclusive OR gate is used. On the other hand, assuming that the comparison circuit is formed by an analog circuit, the “analog VLSI and neural system” (1)
993) Pages 99 to 101 issued by Toppan Co., Ltd.
There is an absolute value circuit described on the page.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平1−1
24075号公報で開示された比較回路では、演算精度
が1ビットとなることから十分な精度を得ることができ
ず、多ビット化すると回路規模が大きくなってコストが
増大するという問題がある。また、上記のような絶対値
回路では回路規模が大きいため、各画素に導入すると画
像センサが大きくなり過ぎるという問題があった。
SUMMARY OF THE INVENTION However, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1-1
The comparison circuit disclosed in Japanese Patent No. 24075 has a problem that sufficient accuracy cannot be obtained because the operation accuracy is 1 bit, and the circuit scale becomes large and the cost increases when the number of bits is increased. Further, since the absolute value circuit as described above has a large circuit scale, there is a problem that the image sensor becomes too large when introduced into each pixel.

【0005】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたものであり、画像センサの画素に導入する
ことができる回路規模で十分な比較演算の精度を得るこ
とができる比較回路を得ることができ、コストの低下を
図ることができる半導体集積回路を得ることを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem, and has provided a comparison circuit which can obtain sufficient comparison calculation accuracy with a circuit scale that can be introduced into the pixels of an image sensor. It is an object of the present invention to obtain a semiconductor integrated circuit which can be obtained and can reduce the cost.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体集
積回路は、2つの入力電圧の比較を行い、該比較結果を
出力する比較回路を備えた半導体集積回路において、比
較回路は、2つの入力電圧が等しいときに出力電圧が最
小となり、該2つの入力電圧の電圧差が大きくなるに従
って出力電圧が最小値よりも大きくなるものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A semiconductor integrated circuit according to the present invention is provided with a comparison circuit for comparing two input voltages and outputting the comparison result. When the voltages are equal, the output voltage becomes the minimum, and as the voltage difference between the two input voltages increases, the output voltage becomes larger than the minimum value.

【0007】また、この発明に係る半導体集積回路は、
2つの入力電圧の比較を行い、該比較結果を出力する比
較回路を備えた半導体集積回路において、比較回路は、
2つの入力電圧が等しいときに出力電圧が最大となり、
該2つの入力電圧の電圧差が大きくなるに従って出力電
圧が最大値よりも小さくなるものである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
In a semiconductor integrated circuit including a comparison circuit that compares two input voltages and outputs the comparison result, the comparison circuit includes:
The output voltage is maximum when the two input voltages are equal,
The output voltage becomes smaller than the maximum value as the voltage difference between the two input voltages increases.

【0008】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項1又は請求項2のいずれかにおいて、比較回路
は、2つの入力電圧の電圧差に応じた出力電圧を該電圧
値に応じた電流に変換して出力するものである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
In any one of claims 1 and 2, the comparison circuit converts an output voltage corresponding to a voltage difference between two input voltages into a current corresponding to the voltage value and outputs the current.

【0009】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項1又は請求項3のいずれかにおいて、比較回路
は、2つの入力電圧の電圧差に応じた電圧を出力すると
共に、2つの入力電圧が等しいときに所定の電圧Vaを
出力する電圧差検出回路と、該電圧差検出回路から出力
される電圧が所定の電圧Vaのときに、出力電圧が最小
となり、電圧差検出回路から出力される電圧が所定の電
圧Vaよりも小さく、又は大きくなるに従って、出力電
圧が最小値よりもそれぞれ大きくなる所定電圧検出回路
とを備えるものである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
4. The voltage difference detection device according to claim 1, wherein the comparison circuit outputs a voltage corresponding to a voltage difference between the two input voltages and outputs a predetermined voltage Va when the two input voltages are equal. Circuit, when the voltage output from the voltage difference detection circuit is a predetermined voltage Va, the output voltage becomes minimum, and as the voltage output from the voltage difference detection circuit becomes smaller or larger than the predetermined voltage Va, And a predetermined voltage detection circuit whose output voltage becomes larger than the minimum value.

【0010】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項2又は請求項3のいずれかにおいて、比較回路
は、2つの入力電圧の電圧差に応じた電圧を出力すると
共に、2つの入力電圧が等しいときに所定の電圧Vaを
出力する電圧差検出回路と、該電圧差検出回路から出力
される電圧が所定の電圧Vaのときに、出力電圧が最大
となり、電圧差検出回路から出力される電圧が所定の電
圧Vaよりも小さく、又は大きくなるに従って、出力電
圧が最大値よりもそれぞれ小さくなる所定電圧検出回路
とを備えるものである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
The voltage difference detection circuit according to claim 2 or 3, wherein the comparison circuit outputs a voltage corresponding to a voltage difference between the two input voltages and outputs a predetermined voltage Va when the two input voltages are equal. Circuit, when the voltage output from the voltage difference detection circuit is a predetermined voltage Va, the output voltage becomes maximum, and as the voltage output from the voltage difference detection circuit becomes smaller or larger than the predetermined voltage Va, And a predetermined voltage detection circuit whose output voltage becomes smaller than the maximum value.

【0011】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項4又は請求項5のいずれかにおいて、比較回路
は、所定電圧検出回路から出力される電圧を、該出力電
圧値に応じた電流に変換して出力する電圧−電流変換回
路を備えるものである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
The comparison circuit according to claim 4, wherein the comparison circuit includes a voltage-current conversion circuit configured to convert a voltage output from the predetermined voltage detection circuit into a current corresponding to the output voltage value and output the converted current. is there.

【0012】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項6において、電圧−電流変換回路は、外部からの
所定の信号に応じて、変換した電流の出力制御を行うも
のである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention is
In claim 6, the voltage-current conversion circuit controls output of the converted current according to a predetermined signal from the outside.

【0013】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項4から請求項7のいずれかにおいて、所定電圧検
出回路は、電圧差検出回路から入力された電圧に対する
出力電圧の調整を行う調整回路を有するものである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention is
In any one of claims 4 to 7, the predetermined voltage detection circuit has an adjustment circuit that adjusts an output voltage with respect to the voltage input from the voltage difference detection circuit.

【0014】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項4から請求項8のいずれかにおいて、比較回路
は、電圧差検出回路から出力される所定電圧Vaのばら
つきを調整して所定電圧検出回路に出力するVa調整回
路を有するものである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention is
In any one of claims 4 to 8, the comparison circuit includes a Va adjustment circuit that adjusts a variation in the predetermined voltage Va output from the voltage difference detection circuit and outputs the result to the predetermined voltage detection circuit.

【0015】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項4から請求項9のいずれかにおいて、電圧差検出
回路は、外部から入力される所定の信号に応じて、2つ
の入力電圧の電圧差に応じた電圧の所定電圧検出回路へ
の出力と、2つの入力電圧を該各電圧値に応じた電流値
にそれぞれ変換して得られる電流の外部への出力とを切
り換える切換回路を有するものである。
Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
The voltage difference detection circuit according to any one of claims 4 to 9, wherein the voltage difference detection circuit outputs a voltage corresponding to a voltage difference between the two input voltages to the predetermined voltage detection circuit in response to a predetermined signal input from the outside. And a switching circuit for switching between a current obtained by converting each of the two input voltages into a current value corresponding to each of the voltage values to an external output.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に、図面に示す実施の形態に基
づいて、本発明を詳細に説明する。 実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1における
半導体集積回路の例を示した概略のブロック図である。
なお、図1では、画像の変化を検出する画像センサをな
す半導体集積回路素子を例にして示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described in detail based on an embodiment shown in the drawings. Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a schematic block diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 1 shows an example of a semiconductor integrated circuit element serving as an image sensor for detecting a change in an image.

【0017】図1において、半導体集積回路素子1は、
画像を電気的な信号データに変換して出力する光電変換
回路2と、該光電変換回路2から入力される画像データ
を記憶する第1メモリ3及び第2メモリ4と、該第1メ
モリ3に格納されたデータと第2メモリに格納されたデ
ータとの比較を行い、該比較結果を出力する比較回路5
とで構成されている。
In FIG. 1, a semiconductor integrated circuit device 1 comprises:
A photoelectric conversion circuit 2 that converts an image into electrical signal data and outputs the signal; a first memory 3 and a second memory 4 that store image data input from the photoelectric conversion circuit 2; A comparison circuit that compares the stored data with the data stored in the second memory and outputs the comparison result
It is composed of

【0018】光電変換回路2は、第1メモリ3及び第2
メモリ4にそれぞれ接続されており、第1メモリ3及び
第2メモリ4は、比較回路5にそれぞれ接続されてい
る。更に、光電変換回路2は、外部からリセット信号が
入力されるリセット端子Rに接続され、第1メモリ3
は、データの書き込み制御を行うための信号が外部から
入力される入力端子W1に、第2メモリ4は、データの
書き込み制御を行うための信号が外部から入力される入
力端子W2にそれぞれ接続されている。
The photoelectric conversion circuit 2 includes a first memory 3 and a second memory 3.
The first memory 3 and the second memory 4 are respectively connected to the memory 4 and the comparison circuit 5. Further, the photoelectric conversion circuit 2 is connected to a reset terminal R to which a reset signal is inputted from the outside, and the first memory 3
Is connected to an input terminal W1 to which a signal for performing data writing control is externally input, and the second memory 4 is connected to an input terminal W2 to which a signal for performing data writing control is externally input. ing.

【0019】このような構成において、光電変換回路2
から出力された画像データは、入力端子W1及びW2に
外部からライトイネーブル信号が交互に入力されること
によって、第1メモリ3及び第2メモリ4に交互に格納
される。比較回路5は、第1メモリ3に格納されたデー
タ及び第2メモリ4に格納されたデータの比較を行い、
該比較結果を外部に出力する。
In such a configuration, the photoelectric conversion circuit 2
Is alternately stored in the first memory 3 and the second memory 4 by alternately inputting a write enable signal from the outside to the input terminals W1 and W2. The comparison circuit 5 compares the data stored in the first memory 3 with the data stored in the second memory 4,
The comparison result is output to the outside.

【0020】図2は、図1の光電変換回路2の回路例を
示した図である。図2において、光電変換回路2は、フ
ォトダイオード11及びNチャネル形MOSトランジス
タ(以下、N−MOSと呼ぶ)12で形成されている。
フォトダイオード11において、カソードは、外部から
正の直流電源電圧が入力される電源端子Vddに接続さ
れ、アノードはN−MOS12のドレインに接続され、
該接続部は出力端子13に接続されている。N−MOS
12において、ソースは接地され、ゲートはリセット端
子Rに接続されている。
FIG. 2 is a diagram showing a circuit example of the photoelectric conversion circuit 2 of FIG. 2, the photoelectric conversion circuit 2 includes a photodiode 11 and an N-channel MOS transistor (hereinafter, referred to as an N-MOS) 12.
In the photodiode 11, the cathode is connected to a power supply terminal Vdd to which a positive DC power supply voltage is input from the outside, the anode is connected to the drain of the N-MOS 12,
The connection is connected to the output terminal 13. N-MOS
At 12, the source is grounded and the gate is connected to the reset terminal R.

【0021】このような構成において、リセット端子R
に外部からHighレベルのリセット信号が入力される
と、フォトダイオード11の動作に関係無く、N−MO
S12はオンして導通状態となり出力端子13を接地レ
ベルにするリセット動作が行われる。該リセット動作が
行われないときには、リセット端子RはLowレベルと
なり、N−MOS12はオフして遮断状態となってい
る。
In such a configuration, the reset terminal R
When a high-level reset signal is input from the outside to the N-MO
S12 is turned on to be in a conductive state, and a reset operation for setting the output terminal 13 to the ground level is performed. When the reset operation is not performed, the reset terminal R is at the low level, and the N-MOS 12 is turned off to be in the cutoff state.

【0022】次に、図3は、第1メモリ3及び第2メモ
リ4の回路例を示した図である。なお、第1メモリ3及
び第2メモリ4は同一回路であり、図3では第1メモリ
3の場合を例にして説明する。図3において、第1メモ
リ3は、書き込み用ゲート15及びメモリ用容量16で
形成されており、入力端子W1にHighレベルの信号
が入力されると、入力端子17を介して光電変換回路2
から入力される電圧がメモリ容量16に充電される。該
充電された電圧が出力端子18を介して比較回路5の一
方の入力端子に印加される。
FIG. 3 is a diagram showing a circuit example of the first memory 3 and the second memory 4. As shown in FIG. Note that the first memory 3 and the second memory 4 are the same circuit, and the case of the first memory 3 will be described as an example in FIG. In FIG. 3, the first memory 3 is formed by a write gate 15 and a memory capacitor 16. When a High-level signal is input to the input terminal W <b> 1, the first memory 3 is connected to the photoelectric conversion circuit 2 via the input terminal 17.
Is charged in the memory capacity 16. The charged voltage is applied to one input terminal of the comparison circuit 5 via the output terminal 18.

【0023】図4は、図1の比較回路5の構成例を示し
た概略のブロック図である。図4において、比較回路5
は、2つの入力電圧が等しいときに所定の一定電圧Va
を出力する電圧差検出回路21と、該所定電圧Vaが入
力されると出力電圧が最小となる所定電圧検出回路22
とで形成されている。
FIG. 4 is a schematic block diagram showing a configuration example of the comparison circuit 5 of FIG. In FIG. 4, the comparison circuit 5
Is a predetermined constant voltage Va when two input voltages are equal.
And a predetermined voltage detection circuit 22 that outputs a minimum value when the predetermined voltage Va is input.
And formed.

【0024】電圧差検出回路21は、外部からそれぞれ
電圧が入力される2つの入力端子IN1及びIN2を有
し、出力端子は所定電圧検出回路22の入力端子に接続
され、所定電圧検出回路22の出力が、比較回路5の出
力OUTをなしている。電圧差検出回路21は、2つの
入力端子IN1及びIN2に入力された入力電圧が等し
いときのみ、該入力電圧の電圧値に関係無く所定電圧V
aを出力する。ここで、入力端子IN1に入力される電
圧とは、例えば第1メモリ3から出力される格納データ
であり、入力端子IN2に入力される電圧とは、例えば
第2メモリ4から出力される格納データである。
The voltage difference detection circuit 21 has two input terminals IN1 and IN2 to which voltages are respectively inputted from outside, and an output terminal is connected to an input terminal of the predetermined voltage detection circuit 22. The output forms the output OUT of the comparison circuit 5. Only when the input voltages input to the two input terminals IN1 and IN2 are equal to each other, the voltage difference detection circuit 21 determines the predetermined voltage V regardless of the voltage value of the input voltage.
a is output. Here, the voltage input to the input terminal IN1 is, for example, storage data output from the first memory 3, and the voltage input to the input terminal IN2 is, for example, storage data output from the second memory 4. It is.

【0025】所定電圧検出回路22は、電圧差検出回路
21から入力された電圧が所定電圧Vaのときのみ、出
力電圧が最小となり、所定電圧Vaよりも小さくなるに
つれて出力電圧が該最小値よりも大きくなると共に、出
力電圧Vaよりも大きくなるにつれて出力電圧が上記最
小値より大きくなるという特性を有している。
The predetermined voltage detection circuit 22 outputs the minimum output voltage only when the voltage input from the voltage difference detection circuit 21 is the predetermined voltage Va. As the voltage becomes smaller than the predetermined voltage Va, the output voltage becomes smaller than the minimum value. As the voltage becomes higher, the output voltage becomes higher than the minimum value as the output voltage becomes higher.

【0026】図5は、図4で示した比較回路5の回路例
を示した図である。図5において、電圧差検出回路21
は、4つのPチャネル形MOSトランジスタ(以下、P
−MOSと呼ぶ)31〜34で形成されており、P−M
OS31及び32はカレントミラー回路を形成して電流
源をなしている。P−MOS33のゲートは入力端子I
N1に、P−MOS34のゲートは入力端子IN2にそ
れぞれ接続されている。
FIG. 5 is a diagram showing a circuit example of the comparison circuit 5 shown in FIG. In FIG. 5, the voltage difference detection circuit 21
Are four P-channel MOS transistors (hereinafter P
-MOS) 31-34, and PM
The OSs 31 and 32 form a current mirror circuit and form a current source. The gate of the P-MOS 33 is connected to the input terminal I.
The gate of the P-MOS 34 is connected to the input terminal IN2 at N1.

【0027】P−MOS31及び32の各ゲートは接続
され、P−MOS31のゲート及びドレインは接続され
ている。P−MOS31において、ソースは電源端子V
ddに接続され、ドレインはP−MOS33のソースに接
続されており、P−MOS33のドレインは接地されて
いる。また、P−MOS32において、ソースは電源端
子Vddに接続され、ドレインはP−MOS34のソース
に接続されており、P−MOS34のドレインは接地さ
れている。このような構成において、P−MOS32の
ドレインとP−MOS34のソースとの接続部Aは、電
圧差検出回路21の出力をなし、所定電圧検出回路22
に接続されている。
The gates of the P-MOSs 31 and 32 are connected, and the gate and drain of the P-MOS 31 are connected. In the P-MOS 31, the source is the power supply terminal V
dd, the drain is connected to the source of the P-MOS 33, and the drain of the P-MOS 33 is grounded. In the P-MOS 32, the source is connected to the power supply terminal Vdd, the drain is connected to the source of the P-MOS 34, and the drain of the P-MOS 34 is grounded. In such a configuration, the connection A between the drain of the P-MOS 32 and the source of the P-MOS 34 forms the output of the voltage difference detection circuit 21 and the predetermined voltage detection circuit 22
It is connected to the.

【0028】所定電圧検出回路22は、2つのP−MO
S36,37と、Nチャネル形MOSトランジスタ38
とで形成されている。P−MOS36において、ソース
は電源端子Vddに、ゲートは外部から所定のバイアス電
圧が印加されるバイアス入力端子IN3にそれぞれ接続
され、ドレインはP−MOS37のソースに接続され該
接続部は所定電圧検出回路22の出力をなし、比較回路
5の出力端子OUTに接続されている。また、P−MO
S37及びN−MOS38の各ゲートはそれぞれ接続部
Aに接続されており、P−MOS37及びN−MOS3
8の各ドレインは接続され、N−MOS38のソースは
接地されている。
The predetermined voltage detection circuit 22 has two P-MOs.
S36, S37, N-channel MOS transistor 38
And formed. In the P-MOS 36, the source is connected to the power supply terminal Vdd, the gate is connected to the bias input terminal IN3 to which a predetermined bias voltage is applied from the outside, and the drain is connected to the source of the P-MOS 37. The output of the circuit 22 is connected to the output terminal OUT of the comparison circuit 5. Also, P-MO
The gates of the S37 and the N-MOS 38 are connected to the connection portion A, respectively, and the P-MOS 37 and the N-MOS 3
8 are connected, and the source of the N-MOS 38 is grounded.

【0029】このような構成において、入力端子IN1
及びIN2に入力された入力電圧は、P−MOS33及
び34で入力電圧値に応じた電流値に変換され、P−M
OS31及び32で形成されたミラー回路で減算され
る。このようにして、電圧差検出回路21は、入力端子
IN1及びIN2にそれぞれ入力された各入力電圧が等
しいときのみ、各入力電圧の電圧値に関係無く、出力を
なす接続部Aの電圧が所定値Vaとなる。
In such a configuration, the input terminal IN1
And the input voltage input to IN2 is converted into a current value corresponding to the input voltage value by P-MOSs 33 and 34, and the P-M
The subtraction is performed by the mirror circuit formed by the OSs 31 and 32. In this way, the voltage difference detection circuit 21 determines that the voltage of the connection portion A that makes an output is a predetermined value only when the respective input voltages input to the input terminals IN1 and IN2 are equal, regardless of the voltage value of each input voltage. It becomes the value Va.

【0030】一方、接続部Aが所定電圧Vaになると、
接続部Aに接続されたP−MOS37及びN−MOS3
8の直列回路が最大電流を流す状態になるように、P−
MOS31〜34の各利得係数が設定されている。例え
ば、P−MOS31の利得係数をβ31、P−MOS3
2の利得係数をβ32、P−MOS33の利得係数をβ
33及びP−MOS34の利得係数をβ34とすると、
各利得係数β31〜β34を、 β31:β32:β33:β34=1:4:1:1………………(1) になるようにP−MOS31〜34は形成されている。
このようにすることによって、接続部Aの電圧が、所定
電圧Vaよりも小さくても大きくてもP−MOS37及
びN−MOS38の直列回路を流れる電流は最大電流よ
りも小さくなる。
On the other hand, when the connection portion A reaches the predetermined voltage Va,
P-MOS 37 and N-MOS 3 connected to connection A
8 so that the series circuit of FIG.
The gain coefficients of the MOSs 31 to 34 are set. For example, the gain coefficient of the P-MOS 31 is β31,
2 is β32, and the gain coefficient of the P-MOS 33 is β
Assuming that the gain coefficients of 33 and P-MOS 34 are β34,
The P-MOSs 31 to 34 are formed such that the gain coefficients β31 to β34 are as follows: β31: β32: β33: β34 = 1: 4: 1: 1 (1)
By doing so, the current flowing through the series circuit of the P-MOS 37 and the N-MOS 38 becomes smaller than the maximum current whether the voltage at the connection portion A is lower or higher than the predetermined voltage Va.

【0031】また、P−MOS36は、入力端子IN3
から入力される一定のバイアス電圧によってソース−ド
レイン間が一定の抵抗値をなすものと見なすことがで
き、P−MOS37及びN−MOS38の直列回路を流
れる電流を電圧に変換するものである。このことから、
接続部Aの電圧が所定値Vaになると、所定電圧検出回
路22の出力端子、すなわち比較回路5の出力端子OU
Tの電圧は最小値となり、接続部Aの電圧が所定値Va
よりも大きく又は小さくなるに従って出力端子OUTの
電圧は最小値から大きくなっていく。
The P-MOS 36 is connected to the input terminal IN3
Can be regarded as having a constant resistance value between the source and the drain by a constant bias voltage input from the, and converts a current flowing through a series circuit of the P-MOS 37 and the N-MOS 38 into a voltage. From this,
When the voltage at the connection portion A reaches the predetermined value Va, the output terminal of the predetermined voltage detection circuit 22, ie, the output terminal OU of the comparison circuit 5,
The voltage of T becomes the minimum value, and the voltage of the connection A becomes the predetermined value Va.
As the voltage becomes larger or smaller, the voltage of the output terminal OUT increases from the minimum value.

【0032】なお、図6に示すように、図5のP−MO
S37をN−MOSに、N−MOS38をP−MOSに
変えてもよく、図7で示すように、図5のP−MOS3
6を固定抵抗39に置き換えてもよい。また、図8で示
すように、図5のP−MOS36のゲートをP−MOS
36のドレインに接続してダイオードを形成するように
してもよい。
As shown in FIG. 6, the P-MO of FIG.
S37 may be changed to an N-MOS and N-MOS 38 may be changed to a P-MOS. As shown in FIG.
6 may be replaced with a fixed resistor 39. As shown in FIG. 8, the gate of the P-MOS 36 in FIG.
The diode may be formed by connecting to the drain of 36.

【0033】ここで、図5から図8では、所定電圧検出
回路22は、電圧差検出回路21から所定電圧Vaが入
力されたときのみ、出力電圧が最小値となる場合を例に
して説明したが、所定電圧検出回路22は、電圧差検出
回路21から所定電圧Vaが入力されたときのみ、出力
電圧が最大値となり、電圧差検出回路21から入力され
る電圧が所定電圧Vaよりも小さくなるにつれて出力電
圧が該最大値よりも小さくなると共に、出力電圧Vaよ
りも大きくなるにつれて出力電圧が上記最大値より小さ
くなるという特性を有するようにしてもよい。このよう
な特性を備えた所定電圧検出回路22の回路例を図9で
示している。
Here, FIGS. 5 to 8 have described an example in which the predetermined voltage detection circuit 22 has a minimum output voltage only when the predetermined voltage Va is input from the voltage difference detection circuit 21. However, the predetermined voltage detection circuit 22 has the maximum output voltage only when the predetermined voltage Va is input from the voltage difference detection circuit 21, and the voltage input from the voltage difference detection circuit 21 becomes smaller than the predetermined voltage Va. As the output voltage becomes smaller than the maximum value, the output voltage becomes smaller than the maximum value as the output voltage becomes larger than the output voltage Va. FIG. 9 shows a circuit example of the predetermined voltage detection circuit 22 having such characteristics.

【0034】図9における図5との相違点は、図5で
は、P−MOS37とN−MOS38とを直列に接続
し、該直列回路を出力端子OUTと接地との間に接続す
るようにしたが、図9では、P−MOS37とN−MO
S38とを並列に接続し、該並列回路を出力端子OUT
と接地との間に接続するようにしたことにある。すなわ
ち、図9において、P−MOS37のソース及びN−M
OS38のドレインは、P−MOS36のドレインにそ
れぞれ接続されると共に出力端子OUTにそれぞれ接続
されている。更に、P−MOS37のドレイン及びN−
MOS38のソースは接地されている。このようにする
ことによって、所定電圧検出回路22は、電圧差検出回
路21から所定電圧Vaが入力されたときのみ、出力電
圧が最大値となる。
The difference between FIG. 9 and FIG. 5 is that in FIG. 5, the P-MOS 37 and the N-MOS 38 are connected in series, and the series circuit is connected between the output terminal OUT and the ground. However, in FIG. 9, the P-MOS 37 and the N-MO
S38 is connected in parallel, and the parallel circuit is connected to the output terminal OUT.
And the ground. That is, in FIG. 9, the source of the P-MOS 37 and the N-M
The drain of the OS 38 is connected to the drain of the P-MOS 36 and to the output terminal OUT. Further, the drain of the P-MOS 37 and the N-
The source of the MOS 38 is grounded. By doing so, the output voltage of the predetermined voltage detection circuit 22 becomes the maximum value only when the predetermined voltage Va is input from the voltage difference detection circuit 21.

【0035】このように、本実施の形態1における半導
体集積回路は、7つのMOSトランジスタ31〜34,
36〜38、又は6つのMOSトランジスタ31〜3
4,37,38と1つの抵抗39とで、2つの入力電圧
が等しいときのみ出力電圧が最大又は最小となる、2つ
の入力電圧の比較を行う比較回路を形成した。このこと
から、光電変換回路2から得られる2つの画像データの
比較演算を簡単な回路構成で精度よく行うことができる
比較回路を得ることができ、該比較回路を画像センサの
画素に導入することができ、コストの低下を図ることが
できる。
As described above, the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment has seven MOS transistors 31-34.
36 to 38 or 6 MOS transistors 31 to 3
4, 37, 38 and one resistor 39 form a comparison circuit for comparing two input voltages whose output voltage is maximum or minimum only when the two input voltages are equal. From this, it is possible to obtain a comparison circuit capable of accurately performing a comparison operation of two image data obtained from the photoelectric conversion circuit 2 with a simple circuit configuration, and to introduce the comparison circuit into the pixels of the image sensor. And cost can be reduced.

【0036】実施の形態2.上記実施の形態1では、比
較回路5は、2つの入力電圧が等しいときのみ出力電圧
が最大又は最小となるようにしたが、2つの入力電圧が
等しいときのみ出力電流が最大又は最小となるようにし
てもよく、このようにしたものを本発明の実施の形態2
とする。
Embodiment 2 In the first embodiment, the comparison circuit 5 sets the output voltage to be the maximum or the minimum only when the two input voltages are equal. However, the output current becomes the maximum or the minimum only when the two input voltages are equal. Such a configuration may be used in Embodiment 2 of the present invention.
And

【0037】図10は、本発明の実施の形態2における
半導体集積回路の比較回路の構成例を示した概略のブロ
ック図である。なお、本発明の実施の形態2における半
導体集積回路の例を示した概略のブロック図は、図1の
半導体集積回路素子1を半導体集積回路素子41に、図
1の比較回路5を比較回路42に変わる以外は図1と同
じであるので省略する。また、図10では、図5と同じ
ものは同じ符号で示しており、ここではその説明を省略
すると共に、図5との相違点のみ説明する。
FIG. 10 is a schematic block diagram showing a configuration example of a comparison circuit of a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention. Note that a schematic block diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention includes a semiconductor integrated circuit element 1 of FIG. 1 as a semiconductor integrated circuit element 41, and a comparison circuit 5 of FIG. Since it is the same as FIG. In FIG. 10, the same components as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted, and only the differences from FIG. 5 will be described.

【0038】図10における図5との相違点は、図5の
比較回路5に電圧−電流変換回路43を追加したことに
あり、これに伴って、図5の比較回路5を比較回路42
としたことにある。図10において、比較回路42は、
電圧差検出回路21、所定電圧検出回路22及び電圧−
電流変換回路43で形成されている。所定電圧検出回路
22の出力は、電圧−電流変換回路43の入力に接続さ
れており、電圧−電流変換回路43の出力は、比較回路
42の出力OUTをなしている。電圧−電流変換回路4
3は、所定電圧検出回路22から出力される電圧を、該
電圧に応じた電流に変換する。すなわち、電圧−電流変
換回路43は、所定電圧検出回路22からの出力電圧が
最小のとき、出力電流が最大となり、所定電圧検出回路
22からの出力電圧が大きくなると共に出力電流は小さ
くなる。
FIG. 10 differs from FIG. 5 in that a voltage-current conversion circuit 43 is added to the comparison circuit 5 of FIG. 5, and accordingly, the comparison circuit 5 of FIG.
And that In FIG. 10, the comparison circuit 42
Voltage difference detection circuit 21, predetermined voltage detection circuit 22, and voltage-
It is formed by a current conversion circuit 43. The output of the predetermined voltage detection circuit 22 is connected to the input of the voltage-current conversion circuit 43, and the output of the voltage-current conversion circuit 43 forms the output OUT of the comparison circuit 42. Voltage-current conversion circuit 4
Reference numeral 3 converts a voltage output from the predetermined voltage detection circuit 22 into a current corresponding to the voltage. That is, when the output voltage from the predetermined voltage detection circuit 22 is minimum, the output current of the voltage-current conversion circuit 43 becomes maximum, and the output voltage from the predetermined voltage detection circuit 22 increases and the output current decreases.

【0039】図11は、図10で示した比較回路42の
回路例を示した図である。なお、図11では、図5と同
じものは同じ符号で示しており、ここではその説明を省
略すると共に図5との相違点のみ説明する。図11にお
ける図5との相違点は、P−MOS45からなる電圧−
電流変換回路43を追加したことにある。
FIG. 11 is a diagram showing a circuit example of the comparison circuit 42 shown in FIG. 11, the same components as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted, and only the differences from FIG. 5 will be described. 11 differs from FIG. 5 in that the voltage of the P-MOS 45
That is, the current conversion circuit 43 is added.

【0040】図11において、P−MOS36のドレイ
ンとP−MOS37のソースとの接続部は、P−MOS
45のゲートに接続され、P−MOS45のソースは電
源端子Vddに接続されている。P−MOS45のドレイ
ンは、電圧−電流変換回路43の出力をなすと共に、比
較回路42の出力をなし、比較回路42の出力端子OU
Tに接続されている。このような構成において、P−M
OS45は、所定電圧検出回路22から出力される電圧
を、該電圧に応じた電流に変換して出力端子OUTから
出力する。
In FIG. 11, the connection between the drain of the P-MOS 36 and the source of the P-MOS 37 is a P-MOS
The source of the P-MOS 45 is connected to the power supply terminal Vdd. The drain of the P-MOS 45 forms the output of the voltage-current conversion circuit 43 and the output of the comparison circuit 42, and the output terminal OU of the comparison circuit 42.
Connected to T. In such a configuration, PM
The OS 45 converts the voltage output from the predetermined voltage detection circuit 22 into a current corresponding to the voltage and outputs the current from the output terminal OUT.

【0041】なお、本実施の形態2においては、実施の
形態1における図5の比較回路に電圧−電流変換回路4
3を設けた場合を例にして説明したが、本発明はこれに
限定するものではなく、実施の形態1における図6から
図9で示した比較回路に電圧−電流変換回路43を設け
てもよい。図6から図9で示した比較回路に電圧−電流
変換回路43を設けた場合、各所定電圧検出回路の出力
に電圧−電流変換回路43を接続するものであり、上記
図10及び図11と同様であるのでその説明を省略す
る。また、P−MOS45をN−MOSに置き換えるこ
とによって、所定電圧検出回路22からの出力電圧が最
小のとき、電圧−電流変換回路43の出力電流が最小と
なり、所定電圧検出回路22からの出力電圧が大きくな
ると共に電圧−電流変換回路43の出力電流が大きくな
る。
In the second embodiment, the comparison circuit of the first embodiment shown in FIG.
3 has been described as an example, but the present invention is not limited to this, and the voltage-current conversion circuit 43 may be provided in the comparison circuit shown in FIGS. Good. When the voltage-current conversion circuit 43 is provided in the comparison circuit shown in FIGS. 6 to 9, the voltage-current conversion circuit 43 is connected to the output of each predetermined voltage detection circuit. The description is omitted because it is the same. Further, by replacing the P-MOS 45 with an N-MOS, when the output voltage from the predetermined voltage detection circuit 22 is minimum, the output current of the voltage-current conversion circuit 43 becomes minimum, and the output voltage from the predetermined voltage detection circuit 22 is reduced. Increases, and the output current of the voltage-current conversion circuit 43 increases.

【0042】このように、本実施の形態2における半導
体集積回路は、8つのMOSトランジスタ31〜34,
36〜38,45、又は7つのMOSトランジスタ31
〜34,37,38,45と1つの抵抗39とで、2つ
の入力電圧が等しいときのみ出力電流が最大又は最小と
なる、2つの入力電圧の比較を行う比較回路を形成し
た。このことから、実施の形態1と同様の効果を得るこ
とができると共に、外部回路と接続する際に、該外部回
路の構成によって比較演算結果を電流値で出力する方が
効率的である場合、例えば比較演算結果の加算を容易に
することができる。
As described above, the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment has eight MOS transistors 31-34.
36 to 38, 45, or seven MOS transistors 31
34, 37, 38, 45 and one resistor 39 form a comparison circuit for comparing two input voltages at which the output current is maximum or minimum only when the two input voltages are equal. From this, when the same effect as in the first embodiment can be obtained, and it is more efficient to output the comparison operation result as a current value due to the configuration of the external circuit when connecting to an external circuit, For example, addition of comparison operation results can be facilitated.

【0043】実施の形態3.上記実施の形態2では、比
較演算結果に応じて出力する電流値の調整を製造プロセ
ス段階である程度行うことができるが、製造後において
も出力電流の調整を行えるようにしてもよく、このよう
にしたものを本発明の実施の形態3とする。図12は、
本発明の実施の形態3における半導体集積回路の比較回
路の例を示した回路図である。なお、本発明の実施の形
態3における半導体集積回路の例を示した概略のブロッ
ク図は、図1の半導体集積回路素子1を半導体集積回路
素子51に、図1の比較回路5を比較回路52に変わる
以外は図1と同じであるので省略する。また、図12で
は、図11と同じものは同じ符号で示しており、ここで
はその説明を省略すると共に、図11との相違点のみ説
明する。
Embodiment 3 In the second embodiment, the adjustment of the current value to be output according to the result of the comparison operation can be performed to some extent at the manufacturing process stage. However, the output current may be adjusted even after the manufacturing. This is referred to as Embodiment 3 of the present invention. FIG.
FIG. 13 is a circuit diagram illustrating an example of a comparison circuit of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention. A schematic block diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention includes a semiconductor integrated circuit element 51 of FIG. 1 as a semiconductor integrated circuit element 51, and a comparison circuit 5 of FIG. Since it is the same as FIG. In FIG. 12, the same components as those in FIG. 11 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted, and only the differences from FIG. 11 will be described.

【0044】図12における図11との相違点は、図1
1の所定電圧検出回路22の回路構成を変えて所定電圧
検出回路55とし、図11の電圧−電流変換回路43の
回路構成を変えて電圧−電流変換回路56としたことに
ある。図12において、比較回路52は、電圧差検出回
路21と、所定電圧Vaが入力されると出力電圧が最小
となる所定電圧検出回路55と、所定電圧検出回路55
から出力される電圧を、該電圧に応じた電流に変換する
電圧−電流変換回路56とで構成されている。
The difference between FIG. 12 and FIG. 11 is that FIG.
The circuit configuration of the predetermined voltage detection circuit 22 is changed to a predetermined voltage detection circuit 55, and the circuit configuration of the voltage-current conversion circuit 43 of FIG. 11 is changed to a voltage-current conversion circuit 56. 12, a comparison circuit 52 includes a voltage difference detection circuit 21, a predetermined voltage detection circuit 55 whose output voltage is minimized when a predetermined voltage Va is input, and a predetermined voltage detection circuit 55.
And a voltage-current conversion circuit 56 for converting the voltage output from the to a current corresponding to the voltage.

【0045】所定電圧検出回路55は、電圧差検出回路
21から入力された電圧が所定電圧Vaのときのみ、出
力電圧が最小となり、所定電圧Vaよりも小さくなるに
つれて出力電圧が該最小値よりも大きくなると共に、出
力電圧Vaよりも大きくなるにつれて出力電圧が上記最
小値より大きくなるという特性を有している。電圧−電
流変換回路56は、所定電圧検出回路55からの出力電
圧が最小のとき、出力電流が最大となり、所定電圧検出
回路55からの出力電圧が大きくなると共に出力電流は
小さくなる。
The predetermined voltage detection circuit 55 outputs the minimum output voltage only when the voltage input from the voltage difference detection circuit 21 is the predetermined voltage Va. As the voltage becomes smaller than the predetermined voltage Va, the output voltage becomes smaller than the minimum value. As the voltage becomes higher, the output voltage becomes higher than the minimum value as the output voltage becomes higher. When the output voltage from the predetermined voltage detection circuit 55 is minimum, the voltage-current conversion circuit 56 has a maximum output current, and the output voltage from the predetermined voltage detection circuit 55 increases and the output current decreases.

【0046】所定電圧検出回路55は、P−MOS61
〜64とN−MOS65〜67とで形成されている。P
−MOS61及びN−MOS65で、電圧差検出回路2
1から入力される電圧の調整を行う調整回路を形成して
いる。N−MOS65において、ドレインは電源端子V
ddに接続され、ゲートは電圧差検出回路21の出力とな
る接続部Aに接続されており、ソースはP−MOS61
のソースに接続されている。
The predetermined voltage detection circuit 55 includes a P-MOS 61
64 and N-MOSs 65-67. P
The voltage difference detection circuit 2 including the MOS 61 and the N-MOS 65
An adjustment circuit for adjusting the voltage input from 1 is formed. In the N-MOS 65, the drain is the power supply terminal V
dd, the gate is connected to a connection portion A serving as an output of the voltage difference detection circuit 21, and the source is a P-MOS 61
Connected to the source.

【0047】P−MOS61において、ドレインは接地
されており、ゲートは外部から所定のバイアス電圧が印
加されるバイアス入力端子IN3に接続されている。P
−MOS61は、入力端子IN3から入力される一定の
バイアス電圧によってソース−ドレイン間が一定の抵抗
値をなすものと見なすことができ、N−MOS65とP
−MOS61の直列回路によって、電圧差検出回路21
から入力された電圧の減圧を行う等して入力電圧の調整
が行われる。
In the P-MOS 61, the drain is grounded, and the gate is connected to a bias input terminal IN3 to which a predetermined bias voltage is applied from the outside. P
The -MOS 61 can be regarded as having a constant resistance between the source and the drain by a constant bias voltage input from the input terminal IN3, and the N-MOS 65
The voltage difference detection circuit 21
The input voltage is adjusted by, for example, reducing the voltage input from the controller.

【0048】N−MOS65のソースとP−MOS61
のソースとの接続部は、P−MOS64及びN−MOS
66の各ゲートにそれぞれ接続され、N−MOS65と
P−MOS61で調整された電圧が、P−MOS64及
びN−MOS66の各ゲートに入力される。P−MOS
64及びN−MOS66の各ドレインは接続され、P−
MOS64のソースは、P−MOS63のドレインに接
続されている。P−MOS63は、ソースがP−MOS
62のドレインに接続され、該接続部は所定電圧検出回
路55の出力をなしており、ゲートはバイアス入力端子
IN3に接続されている。
The source of the N-MOS 65 and the P-MOS 61
Are connected to the P-MOS 64 and the N-MOS
The voltage adjusted by the N-MOS 65 and the P-MOS 61 is input to the gates of the P-MOS 64 and the N-MOS 66, respectively. P-MOS
64 and the drain of the N-MOS 66 are connected, and the P-
The source of the MOS 64 is connected to the drain of the P-MOS 63. The source of the P-MOS 63 is a P-MOS
The connection portion is connected to a drain of the predetermined voltage detection circuit 55, and the connection portion is connected to the bias input terminal IN3.

【0049】P−MOS63は、入力端子IN3から入
力される所定のバイアス電圧によってソース−ドレイン
間が一定の抵抗値をなすものと見なすことができる。P
−MOS62及びN−MOS67は、ゲートがドレイン
に接続されてそれぞれダイオードをなしており、P−M
OS62のソースは電源端子Vddに接続され、N−MO
S67のソースは接地されている。
The P-MOS 63 can be regarded as having a constant resistance between the source and the drain by a predetermined bias voltage input from the input terminal IN3. P
-The MOS 62 and the N-MOS 67 have their gates connected to the drain to form diodes, respectively.
The source of the OS 62 is connected to the power supply terminal Vdd, and the N-MO
The source of S67 is grounded.

【0050】このような構成において、P−MOS63
は図5のP−MOS36と、P−MOS64は図5のP
−MOS37と、N−MOS66は図5のN−MOS3
8とそれぞれ同様の動作を行う。一方、電圧−電流変換
回路56に出力する電圧において、P−MOS62は、
上限値が電源端子Vddから入力される電源電圧よりも小
さくなるようにし、N−MOS67は、下限値が接地よ
りも大きくなるようにする。また、バイアス入力端子I
N3に入力されるバイアス電圧を変えることによって、
所定電圧検出回路55から出力される電圧の調整を行う
ことができる。
In such a configuration, the P-MOS 63
5 is the P-MOS 36 of FIG. 5, and P-MOS 64 is the P-MOS
-MOS 37 and N-MOS 66 are the N-MOS 3 of FIG.
8 performs the same operation. On the other hand, in the voltage output to the voltage-current conversion circuit 56, the P-MOS 62
The upper limit is made smaller than the power supply voltage input from the power supply terminal Vdd, and the N-MOS 67 makes the lower limit larger than ground. Also, the bias input terminal I
By changing the bias voltage input to N3,
The voltage output from the predetermined voltage detection circuit 55 can be adjusted.

【0051】次に、電圧−電流変換回路56は、2つの
P−MOS71及び72で形成されている。P−MOS
71において、ソースは電源端子Vddに、ドレインはP
−MOS72のソースに、ゲートは所定電圧検出回路5
5の出力をなすP−MOS62及び63の接続部にそれ
ぞれ接続されている。P−MOS72において、ゲート
はバイアス入力端子IN3に接続され、ドレインは比較
回路52の出力端子OUTに接続されている。P−MO
S71は、図11のP−MOS45と同様の動作を行
い、P−MOS72は、入力端子IN3から入力される
一定のバイアス電圧によってソース−ドレイン間が一定
の抵抗値をなすものと見なすことができる。
Next, the voltage-current conversion circuit 56 is formed by two P-MOSs 71 and 72. P-MOS
At 71, the source is at the power supply terminal Vdd and the drain is P
The gate of the MOS 72 is connected to the predetermined voltage detection circuit 5
5 are connected to the connection portions of P-MOSs 62 and 63, respectively. In the P-MOS 72, the gate is connected to the bias input terminal IN3, and the drain is connected to the output terminal OUT of the comparison circuit 52. P-MO
S71 performs the same operation as the P-MOS 45 of FIG. 11, and the P-MOS 72 can be regarded as having a constant resistance between the source and the drain by a constant bias voltage input from the input terminal IN3. .

【0052】なお、P−MOS71をN−MOSに置き
換えることによって、所定電圧検出回路55からの出力
電圧が最小のとき、電圧−電流変換回路56の出力電流
が最小となり、所定電圧検出回路55からの出力電圧が
大きくなると共に、電圧−電流変換回路55の出力電流
が大きくなる。
By replacing the P-MOS 71 with an N-MOS, when the output voltage from the predetermined voltage detection circuit 55 is minimum, the output current of the voltage-current conversion circuit 56 is minimum and the predetermined voltage detection circuit 55 And the output current of the voltage-current conversion circuit 55 increases.

【0053】このように、本実施の形態3における半導
体集積回路は、比較演算結果に応じて出力する電流値の
調整を製造プロセス段階で調整することができると共
に、バイアス入力端子IN3に入力するバイアス電圧を
調整することによって、所定電圧検出回路55から電圧
−電流変換回路56に出力する電圧の調整を行うと共に
電圧−電流変換回路56から出力される電流量の調整を
行う比較回路を形成した。このことから、実施の形態2
と同様の効果を得ることができると共に、比較結果を示
す出力電流値の調整を、製造後においても容易に行うこ
とができる。
As described above, in the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment, the adjustment of the current value output in accordance with the result of the comparison operation can be adjusted at the manufacturing process stage, and the bias input to the bias input terminal IN3 can be adjusted. By adjusting the voltage, a comparison circuit that adjusts the voltage output from the predetermined voltage detection circuit 55 to the voltage-current conversion circuit 56 and adjusts the amount of current output from the voltage-current conversion circuit 56 is formed. Therefore, Embodiment 2
The same effect as described above can be obtained, and the output current value indicating the comparison result can be easily adjusted even after the manufacturing.

【0054】実施の形態4.上記実施の形態1から実施
の形態3では、プロセス上のばらつき等によって、電圧
差検出回路21を形成するP−MOS31〜34の利得
係数の比率等がばらつくことから、上記所定電圧Vaが
ばらつく場合があった。そこで、電圧差検出回路21か
ら出力される所定電圧Vaのばらつきを調整して一定に
なるようにしたものを本発明の実施の形態4とする。
Embodiment 4 In the first to third embodiments, the case where the predetermined voltage Va varies because the ratio of the gain coefficient of the P-MOSs 31 to 34 forming the voltage difference detection circuit 21 varies due to process variation or the like. was there. Thus, a fourth embodiment of the present invention is described in which the variation of the predetermined voltage Va output from the voltage difference detection circuit 21 is adjusted to be constant.

【0055】図13は、本発明の実施の形態4における
半導体集積回路の比較回路の例を示した回路図である。
なお、本発明の実施の形態4における半導体集積回路の
例を示した概略のブロック図は、図1の半導体集積回路
素子1を半導体集積回路素子81に、図1の比較回路5
を比較回路82に変わる以外は図1と同じであるので省
略する。また、本実施の形態4では、実施の形態3の図
12で示した比較回路52を例にして説明し、実施の形
態1及び実施の形態2で示した比較回路の場合において
も同様であるのでその説明を省略する。このことから、
図13では、図12と同じものは同じ符号で示してお
り、ここではその説明を省略すると共に、図12との相
違点のみ説明する。
FIG. 13 is a circuit diagram showing an example of a comparison circuit of a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment of the present invention.
A schematic block diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment of the present invention includes a semiconductor integrated circuit element 1 of FIG.
Is the same as that of FIG. In the fourth embodiment, the comparison circuit 52 shown in FIG. 12 of the third embodiment will be described as an example, and the same applies to the comparison circuits shown in the first and second embodiments. Therefore, the description is omitted. From this,
13, the same components as those in FIG. 12 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted, and only the differences from FIG. 12 will be described.

【0056】図13における図12との相違点は、図1
2の電圧差検出回路21と所定電圧検出回路55との接
続部にN−MOS86からなるVa調整回路85を設け
たことと、N−MOS86のゲート電圧が外部から印加
される入力端子IN4を設けたことにあり、これに伴っ
て、図12の比較回路52を比較回路82としたことに
ある。図13において、電圧差検出回路21における接
続部AにN−MOS86のドレインを接続し、N−MO
S86のソースは接地されている。N−MOS86のゲ
ートは、外部から補正用電圧が印加される補正用入力端
子IN4に接続されている。
FIG. 13 differs from FIG. 12 in that FIG.
A Va adjustment circuit 85 comprising an N-MOS 86 is provided at the connection between the voltage difference detection circuit 21 and the predetermined voltage detection circuit 55, and an input terminal IN4 to which the gate voltage of the N-MOS 86 is applied from the outside is provided. Accordingly, the comparison circuit 52 shown in FIG. In FIG. 13, the drain of the N-MOS 86 is connected to the connection portion A in the voltage difference detection circuit 21, and the N-MO
The source of S86 is grounded. The gate of the N-MOS 86 is connected to a correction input terminal IN4 to which a correction voltage is externally applied.

【0057】このような構成において、N−MOS86
は、補正用入力端子IN4に入力される電圧に応じた電
流を接続部Aから接地にバイパスする。このことによっ
て、接続部Aの電圧を調整することができる。
In such a configuration, the N-MOS 86
Bypasses the current corresponding to the voltage input to the correction input terminal IN4 from the connection point A to the ground. Thereby, the voltage of the connection part A can be adjusted.

【0058】このように、本実施の形態4における半導
体集積回路は、補正用入力端子IN4に補正用電圧を入
力することによって、N−MOS86による接続部Aの
電圧調整を行うようにした。このことから、電圧差検出
回路21の2つの入力端子IN1及びIN2に入力され
た電圧が等しいときに接続部Aから出力される所定電圧
Vaにおける、電圧差検出回路21を構成するMOSト
ランジスタの製造上のばらつき等によるばらつきを補正
して一定にすることができるため、光電変換回路2から
得られる2つの画像データの比較演算を簡単な回路構成
でより一層精度よく行うことができる。
As described above, in the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment, the voltage of the connection portion A is adjusted by the N-MOS 86 by inputting the correction voltage to the correction input terminal IN4. Accordingly, the manufacture of the MOS transistor constituting the voltage difference detection circuit 21 at the predetermined voltage Va output from the connection portion A when the voltages input to the two input terminals IN1 and IN2 of the voltage difference detection circuit 21 are equal. Since the variation due to the above variation or the like can be corrected and made constant, the comparison operation of the two image data obtained from the photoelectric conversion circuit 2 can be performed more accurately with a simple circuit configuration.

【0059】実施の形態5.上記実施の形態1から実施
の形態4では、比較回路からは比較結果のみが出力され
る構成であったが、比較回路によって行われた比較結果
と、第1メモリ3及び第2メモリ4に格納された各デー
タとを切り換えて出力できるようにしてもよく、このよ
うにしたものを本発明の実施の形態5とする。図14
は、本発明の実施の形態5における半導体集積回路の例
を示した概略のブロック図である。なお、図14では、
画像の変化を検出する画像センサをなす半導体集積回路
素子を例にして示している。また、図14において、図
1と同じものは同じ符号で示しており、ここではその説
明を省略すると共に図1との相違点のみ説明する。
Embodiment 5 FIG. In the first to fourth embodiments, only the comparison result is output from the comparison circuit. However, the comparison result performed by the comparison circuit is stored in the first memory 3 and the second memory 4. The selected data may be switched and output, and such data is referred to as a fifth embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 17 is a schematic block diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention. In FIG. 14,
A semiconductor integrated circuit device forming an image sensor for detecting a change in an image is shown as an example. In FIG. 14, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted and only the differences from FIG. 1 will be described.

【0060】図14における図1との相違点は、図1の
比較回路5を、外部から入力される制御信号に応じて比
較結果の代わりに第1メモリ3及び第2メモリ4に格納
された各データを出力するようにしたことにあり、この
ことから、図1の比較回路5を比較回路92とし、これ
に伴って図1の半導体集積回路素子1を半導体集積回路
素子91としたことにある。
The difference between FIG. 14 and FIG. 1 is that the comparison circuit 5 of FIG. 1 is stored in the first memory 3 and the second memory 4 instead of the comparison result according to a control signal input from the outside. Since each data is output, the comparison circuit 5 in FIG. 1 is used as the comparison circuit 92, and the semiconductor integrated circuit device 1 in FIG. is there.

【0061】図14において、半導体集積回路素子91
は、光電変換回路2と、第1メモリ3と、第2メモリ4
と、該第1メモリ3に格納されたデータと第2メモリに
格納されたデータの比較を行い、該比較結果と第1メモ
リ3及び第2メモリ4に格納されている各データとを、
外部から入力される制御信号に応じて切り換えて外部へ
出力する比較回路92とで構成されている。第1メモリ
3及び第2メモリ4は、比較回路92にそれぞれ接続さ
れている。
In FIG. 14, a semiconductor integrated circuit device 91
Is a photoelectric conversion circuit 2, a first memory 3, and a second memory 4.
And compares the data stored in the first memory 3 with the data stored in the second memory, and compares the comparison result with each data stored in the first memory 3 and the second memory 4.
It is composed of a comparison circuit 92 which switches according to a control signal input from the outside and outputs it to the outside. The first memory 3 and the second memory 4 are connected to the comparison circuit 92, respectively.

【0062】図15は、図14で示した比較回路92の
回路例を示した図である。なお、図15では、図13と
同じものは同じ符号で示しており、ここではその説明を
省略すると共に図13との相違点のみ説明する。図15
における図13との相違点は、図13の電圧差検出回路
21に出力の切り換えを行うためのP−MOS94〜9
6及びN−MOS97を追加したことと、入力端子IN
1及びIN2から入力された各電圧をそれぞれ電流変換
して出力する出力端子OUT1及びOUT2を設けたこ
と、更に図13のVa調整回路85の回路構成を変えた
ことにあり、このことから、図13の電圧差検出回路2
1を電圧差検出回路98とし、図13のVa調整回路8
5をVa調整回路101としたことにある。
FIG. 15 is a diagram showing a circuit example of the comparison circuit 92 shown in FIG. In FIG. 15, the same components as those in FIG. 13 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted, and only the differences from FIG. 13 will be described. FIG.
13 is different from FIG. 13 in that P-MOSs 94 to 9 for switching the output to the voltage difference detection circuit 21 in FIG.
6 and the N-MOS 97, and the input terminal IN
13 are provided by providing output terminals OUT1 and OUT2 for converting currents respectively input from IN1 and IN2 into currents and outputting the converted voltages, and by further changing the circuit configuration of the Va adjustment circuit 85 in FIG. 13. 13 voltage difference detection circuit 2
1 is a voltage difference detection circuit 98, and the Va adjustment circuit 8 in FIG.
5 is the Va adjustment circuit 101.

【0063】図15において、比較回路92は、入力端
子IN1とIN2に入力された各入力電圧の比較、すな
わち、第1メモリ3に格納されているデータと第2メモ
リ4に格納されているデータとの比較を行い、該比較結
果を示す電圧と第1メモリ3及び第2メモリ4から入力
されている各格納データとを、外部から入力される制御
信号に応じて切り換えて出力する電圧差検出回路98
と、電圧差検出回路98から出力される比較結果を示す
出力電圧の電圧調整を行うVa調整回路101と、所定
電圧検出回路55と、電圧−電流変換回路56とで構成
されている。
In FIG. 15, the comparison circuit 92 compares the input voltages input to the input terminals IN1 and IN2, that is, the data stored in the first memory 3 and the data stored in the second memory 4. And a voltage indicating the result of the comparison and each of the stored data input from the first memory 3 and the second memory 4 are switched and output according to a control signal input from the outside. Circuit 98
And a Va adjustment circuit 101 that adjusts the voltage of the output voltage indicating the comparison result output from the voltage difference detection circuit 98, a predetermined voltage detection circuit 55, and a voltage-current conversion circuit 56.

【0064】電圧差検出回路98は、P−MOS31〜
34,94,95及びトランスミッションゲート96で
形成されている。P−MOS94において、ゲートはバ
イアス入力端子IN3に、ドレインはP−MOS31の
ドレインとP−MOS33のソースとの接続部に、ソー
スはP−MOS31及び32の各ゲートの接続部に接続
されている。P−MOS33のソドレインは出力端子O
UT1に接続され、P−MOS34のドレインは出力端
子OUT2に接続されている。また、P−MOS95に
おいて、ゲートはバイアス入力端子IN3に、ソースは
接続部Aに、ドレインは所定電圧検出回路55のN−M
OS65のゲートに接続されている。
The voltage difference detection circuit 98 includes P-MOSs 31 to
34, 94, 95 and a transmission gate 96. In the P-MOS 94, the gate is connected to the bias input terminal IN3, the drain is connected to the connection between the drain of the P-MOS 31 and the source of the P-MOS 33, and the source is connected to the connection between the gates of the P-MOSs 31 and 32. . The drain of the P-MOS 33 is an output terminal O
The drain of the P-MOS 34 is connected to the output terminal OUT2. In the P-MOS 95, the gate is connected to the bias input terminal IN3, the source is connected to the connection section A, and the drain is the NM of the predetermined voltage detection circuit 55.
It is connected to the gate of OS65.

【0065】トランスミッションゲート96において、
P−MOSのゲート96aは、外部から2値の切換信号
が入力される入力端子IN5に接続され、N−MOSの
ゲート96bは、バイアス入力端子IN3に接続されて
いる。また、トランスミッションゲート96の一方の入
出力端子96cは、外部から2値の切換信号が入力され
る入力端子IN6に接続され、他方の入出力端子96d
は、P−MOS31及び32の各ゲートの接続部に接続
されている。
In the transmission gate 96,
The P-MOS gate 96a is connected to an input terminal IN5 to which a binary switching signal is input from the outside, and the N-MOS gate 96b is connected to a bias input terminal IN3. One input / output terminal 96c of the transmission gate 96 is connected to an input terminal IN6 to which a binary switching signal is input from the outside, and the other input / output terminal 96d.
Is connected to the connection between the gates of the P-MOSs 31 and 32.

【0066】Va調整回路101は、P−MOS102
で形成されており、該P−MOS102において、ゲー
トはP−MOS31及び32の各ゲートの接続部に、ソ
ースは電源端子Vddに、ドレインはP−MOS95のド
レインとN−MOS65のゲートとの接続部に接続され
ている。すなわち、P−MOS102は、P−MOS9
5がオンして導通状態になると、P−MOS32と並列
に接続されていることになる。
The Va adjustment circuit 101 includes a P-MOS 102
In the P-MOS 102, the gate is connected to the connection between the gates of the P-MOSs 31 and 32, the source is connected to the power supply terminal Vdd, and the drain is connected between the drain of the P-MOS 95 and the gate of the N-MOS 65. Connected to the unit. That is, the P-MOS 102 is
When 5 is turned on and becomes conductive, it is connected in parallel with the P-MOS 32.

【0067】このような構成において、まず、入力端子
IN1及びIN2に入力された各入力電圧に対する比較
結果を電圧−電流変換回路56から出力する場合の動作
について説明する。入力端子IN1及びIN2に入力さ
れた各入力電圧に対する比較結果を出力する場合、外部
から、バイアス入力端子IN3にはLowレベルの信号
が入力され、入力端子IN5及びIN6にはHighレ
ベルの信号がそれぞれ入力される。同時に、出力端子O
UT1及びOUT2は、外部で接地されている。
In such a configuration, first, the operation when the comparison result for each input voltage input to the input terminals IN1 and IN2 is output from the voltage-current conversion circuit 56 will be described. When a comparison result for each input voltage input to the input terminals IN1 and IN2 is output, a low-level signal is externally input to the bias input terminal IN3, and a high-level signal is input to the input terminals IN5 and IN6. Is entered. At the same time, output terminal O
UT1 and OUT2 are grounded externally.

【0068】バイアス入力端子IN3に入力されたLo
wレベルの信号によって、トランスミッションゲート9
6のN−MOSはオフして遮断状態となることから、ト
ランスミッションゲート96の入出力端子は遮断状態と
なる。一方、バイアス入力端子IN3に入力されたLo
wレベルの信号によって、P−MOS61,63,7
2,94,95はオンする。このようにして、電圧−電
流変換回路56の出力、すなわち比較回路92の出力端
子OUTから比較結果を示す電流が出力される。
The Lo input to the bias input terminal IN3
The transmission gate 9
The N-MOS 6 is turned off to be in a cutoff state, so that the input / output terminal of the transmission gate 96 is in a cutoff state. On the other hand, Lo input to the bias input terminal IN3
The P-MOS 61, 63, 7
2, 94 and 95 are turned on. In this way, a current indicating the comparison result is output from the output of the voltage-current conversion circuit 56, that is, the output terminal OUT of the comparison circuit 92.

【0069】次に、比較結果を示す電流を出力する代わ
りに、入力端子IN1及びIN2に入力された各入力電
圧値に応じたそれぞれの電流を出力する場合の動作につ
いて説明する。入力端子IN1及びIN2に入力された
各入力電圧値に応じたそれぞれの電流を外部に出力する
場合、外部から、バイアス入力端子IN3にはHigh
レベルの信号が入力され、入力端子IN5にはLowレ
ベルの信号が入力されると共に入力端子IN6には出力
端子OUT1及びOUT2から出力される電流値の調整
を行う所定の調整用電圧が入力される。同時に、出力端
子OUT1及びOUT2は、外部における接地との接続
が切断される。
Next, an operation in the case of outputting respective currents according to the respective input voltage values input to the input terminals IN1 and IN2 instead of outputting the current indicating the comparison result will be described. When the respective currents corresponding to the respective input voltage values input to the input terminals IN1 and IN2 are output to the outside, the High level is externally applied to the bias input terminal IN3.
A level signal is input, a low level signal is input to the input terminal IN5, and a predetermined adjustment voltage for adjusting the current value output from the output terminals OUT1 and OUT2 is input to the input terminal IN6. . At the same time, the output terminals OUT1 and OUT2 are disconnected from the external ground.

【0070】バイアス入力端子IN3がHighレベ
ル、入力端子IN5がLowレベルになることから、ト
ランスミッションゲート96はオンして各入出力端子9
6c及び96d間は導通状態となり、P−MOS61,
63,72,94,95はそれぞれオフして遮断状態と
なる。このことから、入力端子IN1及びIN2に入力
された各入力電圧は、P−MOS31〜34によって電
圧値に応じた電流に変換されて出力端子OUT1及びO
UT2からそれぞれ出力される。なお、出力端子OUT
1及びOUT2から出力される電流値は、入力端子IN
6に入力される電圧値を変えることによって調整するこ
とができる。
Since the bias input terminal IN3 is at a high level and the input terminal IN5 is at a low level, the transmission gate 96 is turned on and the input / output terminals 9 are turned on.
6c and 96d become conductive, and the P-MOS 61,
The switches 63, 72, 94, and 95 are turned off and are turned off. From this, the input voltages input to the input terminals IN1 and IN2 are converted into currents according to the voltage values by the P-MOSs 31 to 34, and the output terminals OUT1 and O2 are output.
Each is output from UT2. The output terminal OUT
1 and the current value output from OUT2 are input terminal IN
The adjustment can be made by changing the voltage value input to 6.

【0071】ここで、入力端子IN1及びIN2に入力
される入力電圧に応じた電流を出力端子OUT1及びO
UT2から出力する必要があるため、P−MOS31及
び32の各利得係数、並びにP−MOS33及び34の
各利得係数をそれぞれ等しくする方がよい。しかし、こ
のようにした場合、入力端子IN1及びIN2に入力さ
れる電圧が等しいときに、所定電圧検出回路55に所定
電圧Vaを出力することができない。これは、P−MO
S31〜34の各利得係数β31〜β34が上記(1)
式のようになっていないことに起因する。
Here, a current corresponding to the input voltage inputted to the input terminals IN1 and IN2 is supplied to the output terminals OUT1 and O2.
Since it is necessary to output from the UT 2, it is better to make each gain coefficient of the P-MOSs 31 and 32 and each gain coefficient of the P-MOSs 33 and 34 equal. However, in this case, the predetermined voltage Va cannot be output to the predetermined voltage detection circuit 55 when the voltages input to the input terminals IN1 and IN2 are equal. This is P-MO
The gain coefficients β31 to β34 of S31 to S34 are as described in (1) above.
This is due to the fact that the expression is not as shown.

【0072】そこで、P−MOS95のドレインとN−
MOS65のベースとの接続部Bの電圧が、入力端子I
N1及びIN2に入力される電圧が等しいときに所定電
圧Vaになるように、Va調整回路101のP−MOS
102を用いて調整を行う。例えば、P−MOS31〜
34の各利得係数がすべて同じである場合、P−MOS
102の利得係数β102がP−MOS32の利得係数
β32の3倍になるようにP−MOS102を形成する
ことによって、接続部Bの電圧は、P−MOS31〜3
4の各利得係数が上記(1)式のときの接続部Aの電圧
と同じになる。
Therefore, the drain of the P-MOS 95 and the N-
The voltage at the connection B with the base of the MOS 65 is
The P-MOS of the Va adjustment circuit 101 is set so that the voltage becomes equal to the predetermined voltage Va when the voltages input to N1 and IN2 are equal.
The adjustment is performed using 102. For example, P-MOSs 31 to
34, all the gain factors are the same, the P-MOS
By forming the P-MOS 102 such that the gain coefficient β102 of the P-MOS 102 becomes three times the gain coefficient β32 of the P-MOS 32, the voltage of the connection portion B is reduced to the P-MOSs 31 to 3.
4 are the same as the voltages at the connection A in the above equation (1).

【0073】このように、P−MOS31〜34の利得
係数が β31:β32:β33:β34=1:1:k:k とした場合に、接続部Bの電圧が、入力端子IN1及び
IN2に入力される電圧が等しいときに所定電圧Vaに
なるような、利得係数β102にP−MOS102を形
成する。
As described above, when the gain coefficients of the P-MOSs 31 to 34 are β31: β32: β33: β34 = 1: 1: k: k, the voltage of the connection B is input to the input terminals IN1 and IN2. The P-MOS 102 is formed in the gain coefficient β102 so that the applied voltage is equal to the predetermined voltage Va.

【0074】図15では、電圧差検出回路98から所定
電圧検出回路55に出力される比較結果を示した電圧
を、Va調整回路101を使用して調整する場合につい
て説明したが、図13で示したVa調整回路85を使用
して調整することもできる。このようにした場合、図1
5の比較回路92は図16のようになる。なお、図16
では、図15と同じものは同じ符号で示しており、ここ
ではその説明を省略すると共に図15との相違点のみ説
明する。図16における図15との相違点は、図15の
Va調整回路101をVa調整回路85に置き換え、補
正用入力端子IN4を設けたことにある。
FIG. 15 illustrates a case where the voltage indicating the comparison result output from the voltage difference detection circuit 98 to the predetermined voltage detection circuit 55 is adjusted by using the Va adjustment circuit 101. The adjustment can also be performed using the Va adjustment circuit 85. In this case, FIG.
5 is as shown in FIG. Note that FIG.
Here, the same components as those in FIG. 15 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted here, and only different points from FIG. 15 will be described. 16 differs from FIG. 15 in that the Va adjustment circuit 101 in FIG. 15 is replaced with a Va adjustment circuit 85 and a correction input terminal IN4 is provided.

【0075】図16において、比較回路92は、電圧差
検出回路98と、Va調整回路85と、所定電圧検出回
路55と、電圧−電流変換回路56とで構成されてい
る。Va調整回路85のN−MOS86において、ゲー
トは補正用入力端子IN4に、ドレインは接続部Bにそ
れぞれ接続され、ソースは接地されている。このように
することによって、補正用入力端子IN4に入力する電
圧を変えることにより、接続部Bの電圧調整を行うこと
ができる。
In FIG. 16, the comparison circuit 92 includes a voltage difference detection circuit 98, a Va adjustment circuit 85, a predetermined voltage detection circuit 55, and a voltage-current conversion circuit 56. In the N-MOS 86 of the Va adjustment circuit 85, the gate is connected to the correction input terminal IN4, the drain is connected to the connection portion B, and the source is grounded. With this configuration, the voltage of the connection portion B can be adjusted by changing the voltage input to the correction input terminal IN4.

【0076】このように、本実施の形態5における半導
体集積回路は、入力端子IN1及びIN2に入力された
各入力電圧に対する比較結果を電圧−電流変換回路56
から出力するか、又は比較結果を示す電流を出力する代
わりに、入力端子IN1及びIN2に入力された各入力
電圧値に応じたそれぞれの電流を出力端子OUT1及び
OUT2から出力するかの切り換えを、外部から入力さ
れる制御信号に応じて切り換えるようにした。このこと
から、比較回路によって行われた比較結果と、第1メモ
リ3及び第2メモリ4に格納された各データとを切り換
えて出力することができると共に、電圧差検出回路98
から出力される所定電圧Vaを補正して一定にすること
ができるため、光電変換回路2から得られる2つの画像
データの比較演算を簡単な回路構成でより一層精度よく
行うことができる。
As described above, in the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment, the comparison result for each of the input voltages input to the input terminals IN1 and IN2 is compared with the voltage-current conversion circuit 56.
Or whether to output from the output terminals OUT1 and OUT2 respective currents according to the respective input voltage values input to the input terminals IN1 and IN2, instead of outputting the current indicating the comparison result. Switching is performed according to a control signal input from the outside. From this, it is possible to switch and output the comparison result performed by the comparison circuit and each data stored in the first memory 3 and the second memory 4 and to output the voltage difference detection circuit 98
Can be corrected to be constant, the comparison operation of two image data obtained from the photoelectric conversion circuit 2 can be performed more accurately with a simple circuit configuration.

【0077】[0077]

【発明の効果】請求項1に係る半導体集積回路は、2つ
の入力電圧が等しいときのみ出力電圧が最小となる、2
つの入力電圧の比較を行う比較回路を形成した。このこ
とから、光電変換素子等から得られる2つの画像データ
の比較演算を簡単な回路構成で精度よく行うことができ
る比較回路を得ることができると共に、該比較回路を画
像センサの画素に導入することができ、コストの低下を
図ることができる。
According to the semiconductor integrated circuit of the present invention, the output voltage is minimized only when the two input voltages are equal.
A comparison circuit for comparing two input voltages is formed. Accordingly, it is possible to obtain a comparison circuit that can accurately perform a comparison operation of two image data obtained from a photoelectric conversion element or the like with a simple circuit configuration, and introduce the comparison circuit into the pixels of the image sensor. The cost can be reduced.

【0078】請求項2に係る半導体集積回路は、2つの
入力電圧が等しいときのみ出力電圧が最大となる、2つ
の入力電圧の比較を行う比較回路を形成した。このこと
から、光電変換素子等から得られる2つの画像データの
比較演算を簡単な回路構成で精度よく行うことができる
比較回路を得ることができると共に、該比較回路を画像
センサの画素に導入することができ、コストの低下を図
ることができる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit having a comparison circuit for comparing two input voltages at which the output voltage becomes maximum only when the two input voltages are equal. Accordingly, it is possible to obtain a comparison circuit that can accurately perform a comparison operation of two image data obtained from a photoelectric conversion element or the like with a simple circuit configuration, and introduce the comparison circuit into the pixels of the image sensor. The cost can be reduced.

【0079】請求項3に係る半導体集積回路は、請求項
1又は請求項2のいずれかにおいて、比較回路が、2つ
の入力電圧の電圧差に応じた出力電圧を該電圧値に応じ
た電流に変換して出力するようにした。このことから、
外部回路と接続する際に、該外部回路の構成によって比
較演算結果を電流値で出力する方が効率的である場合、
例えば比較演算結果の加算を容易にすることができる。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the first and second aspects, the comparison circuit converts an output voltage corresponding to a voltage difference between two input voltages into a current corresponding to the voltage value. Converted and output. From this,
When connecting to an external circuit, if it is more efficient to output the comparison operation result as a current value depending on the configuration of the external circuit,
For example, addition of comparison operation results can be facilitated.

【0080】請求項4に係る半導体集積回路は、請求項
1において、具体的には、比較回路が、2つの入力電圧
が等しいときに所定の電圧Vaを出力する電圧差検出回
路と、該電圧差検出回路から出力される電圧が所定の電
圧Vaのときに、出力電圧が最小となる所定電圧検出回
路とを備えるようにした。このことから、光電変換素子
等から得られる2つの画像データの比較演算を簡単な回
路構成で精度よく行うことができる比較回路を得ること
ができると共に、該比較回路を画像センサの画素に導入
することができ、コストの低下を図ることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the comparing circuit outputs a predetermined voltage Va when the two input voltages are equal to each other; When the voltage output from the difference detection circuit is a predetermined voltage Va, a predetermined voltage detection circuit that minimizes the output voltage is provided. Accordingly, it is possible to obtain a comparison circuit that can accurately perform a comparison operation of two image data obtained from a photoelectric conversion element or the like with a simple circuit configuration, and introduce the comparison circuit into the pixels of the image sensor. The cost can be reduced.

【0081】請求項5に係る半導体集積回路は、請求項
2において、具体的には、比較回路が、2つの入力電圧
が等しいときに所定の電圧Vaを出力する電圧差検出回
路と、該電圧差検出回路から出力される電圧が所定の電
圧Vaのときに、出力電圧が最大となる所定電圧検出回
路とを備えるようにした。このことから、光電変換素子
等から得られる2つの画像データの比較演算を簡単な回
路構成で精度よく行うことができる比較回路を得ること
ができると共に、該比較回路を画像センサの画素に導入
することができ、コストの低下を図ることができる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the second aspect, the comparison circuit is configured to output a predetermined voltage Va when two input voltages are equal to each other; When the voltage output from the difference detection circuit is a predetermined voltage Va, a predetermined voltage detection circuit that maximizes the output voltage is provided. Accordingly, it is possible to obtain a comparison circuit that can accurately perform a comparison operation of two image data obtained from a photoelectric conversion element or the like with a simple circuit configuration, and introduce the comparison circuit into the pixels of the image sensor. The cost can be reduced.

【0082】請求項6に係る半導体集積回路は、請求項
4又は請求項5のいずれかにおいて、更に、比較回路
が、所定電圧検出回路から出力される電圧を、該出力電
圧値に応じた電流に変換して出力する電圧−電流変換回
路を備えるようにした。このことから、外部回路と接続
する際に、該外部回路の構成によって比較演算結果を電
流値で出力する方が効率的である場合、例えば比較演算
結果の加算を容易にすることができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the fourth and fifth aspects, the comparison circuit may further include a step of changing a voltage output from the predetermined voltage detection circuit into a current corresponding to the output voltage value. And a voltage-current conversion circuit that outputs the converted voltage. For this reason, when it is more efficient to output the comparison result as a current value depending on the configuration of the external circuit when connecting to an external circuit, for example, the addition of the comparison result can be facilitated.

【0083】請求項7に係る半導体集積回路は、請求項
6において、電圧−電流変換回路が、外部からの所定の
信号に応じて、変換した電流の出力制御を行うようにし
た。このことから、電圧差検出回路に入力された各デー
タの比較結果の出力制御を行うことができると共に、比
較結果を示す出力電流値の調整を行うことができる。
According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, the voltage-current conversion circuit controls the output of the converted current according to a predetermined signal from the outside. Therefore, it is possible to control the output of the comparison result of each data input to the voltage difference detection circuit, and to adjust the output current value indicating the comparison result.

【0084】請求項8に係る半導体集積回路は、請求項
4から請求項7のいずれかにおいて、更に、所定電圧検
出回路が、電圧差検出回路から入力された電圧に対する
出力電圧の調整を行う調整回路を有するようにした。こ
のことから、所定電圧検出回路から出力される比較結果
を示す出力電圧値の調整を、容易に行うことができる。
In the semiconductor integrated circuit according to the eighth aspect, in any one of the fourth to seventh aspects, the predetermined voltage detection circuit further adjusts the output voltage with respect to the voltage input from the voltage difference detection circuit. It has a circuit. Thus, the output voltage value indicating the comparison result output from the predetermined voltage detection circuit can be easily adjusted.

【0085】請求項9に係る半導体集積回路は、請求項
4から請求項8のいずれかにおいて、更に、比較回路
が、電圧差検出回路から出力される所定電圧Vaのばら
つきを調整して所定電圧検出回路に出力するVa調整回
路を有するようにした。このことから、電圧差検出回路
の2つの入力端子に入力された電圧が等しいときに出力
される所定電圧Vaにおける、製造上のばらつき等によ
るばらつきを補正して一定にすることができるため、光
電変換素子から得られる2つの画像データの比較演算を
簡単な回路構成でより一層精度よく行うことができる。
According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the fourth to eighth aspects, the comparison circuit further adjusts a variation of the predetermined voltage Va output from the voltage difference detection circuit to adjust the predetermined voltage. It has a Va adjustment circuit for outputting to the detection circuit. From this, it is possible to correct the variation due to manufacturing variation and the like in the predetermined voltage Va output when the voltages input to the two input terminals of the voltage difference detection circuit are equal, and to make it constant. The comparison operation of the two image data obtained from the conversion element can be performed more accurately with a simple circuit configuration.

【0086】請求項10に係る半導体集積回路は、請求
項4から請求項9のいずれかにおいて、更に、電圧差検
出回路が、外部からの所定の信号に応じて、2つの入力
電圧の電圧差に応じた電圧の所定電圧検出回路への出力
と、2つの入力電圧を該各電圧値に応じた電流値にそれ
ぞれ変換した電流の外部への出力とを切り換える切換回
路を有するようにした。このことから、比較回路によっ
て行われた比較結果と、電圧差検出回路の2つの入力に
入力された各データとを切り換えて出力することができ
る。このため、2つのデータの比較を行うことができる
と共に、該2つのデータを得ることができ、光電変換素
子等から得られる画像データの変化を検出する装置、例
えば侵入者を監視する監視装置等に使用する場合に有効
である。
According to a tenth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the fourth to ninth aspects, the voltage difference detection circuit further comprises a voltage difference detection circuit for detecting a voltage difference between the two input voltages in response to a predetermined external signal. And a switching circuit for switching between output to a predetermined voltage detection circuit of a voltage corresponding to the current and output of a current obtained by converting two input voltages into current values corresponding to the respective voltage values to the outside. From this, it is possible to switch and output the result of comparison performed by the comparison circuit and each data input to the two inputs of the voltage difference detection circuit. For this reason, two data can be compared and the two data can be obtained, and a device for detecting a change in image data obtained from a photoelectric conversion element or the like, for example, a monitoring device for monitoring an intruder or the like This is effective when used for

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1における半導体集積回
路の例を示した概略のブロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram illustrating an example of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1の光電変換回路2の回路例を示した図で
ある。
FIG. 2 is a diagram illustrating a circuit example of the photoelectric conversion circuit 2 of FIG. 1;

【図3】 図1の第1メモリ3及び第2メモリ4の回路
例を示した図である。
FIG. 3 is a diagram showing a circuit example of a first memory 3 and a second memory 4 in FIG. 1;

【図4】 図1の比較回路5の構成例を示した概略のブ
ロック図である。
FIG. 4 is a schematic block diagram illustrating a configuration example of a comparison circuit 5 of FIG. 1;

【図5】 図4における比較回路5の回路例を示した図
である。
5 is a diagram showing a circuit example of a comparison circuit 5 in FIG.

【図6】 図4の比較回路5における他の回路例を示し
た図である。
FIG. 6 is a diagram showing another example of the circuit in the comparison circuit 5 of FIG. 4;

【図7】 図4の比較回路5における他の回路例を示し
た図である。
FIG. 7 is a diagram showing another example of the circuit in the comparison circuit 5 of FIG. 4;

【図8】 図4の比較回路5における他の回路例を示し
た図である。
8 is a diagram illustrating another example of the circuit in the comparison circuit 5 of FIG. 4;

【図9】 図4の比較回路5における他の回路例を示し
た図である。
FIG. 9 is a diagram showing another example of the circuit in the comparison circuit 5 of FIG. 4;

【図10】 本発明の実施の形態2における半導体集積
回路の比較回路の構成例を示した概略のブロック図であ
る。
FIG. 10 is a schematic block diagram showing a configuration example of a comparison circuit of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図11】 図10における比較回路42の回路例を示
した図である。
11 is a diagram showing a circuit example of a comparison circuit 42 in FIG.

【図12】 本発明の実施の形態3における半導体集積
回路の比較回路の例を示した回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of a comparison circuit of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図13】 本発明の実施の形態4における半導体集積
回路の比較回路の例を示した回路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing an example of a comparison circuit of a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図14】 本発明の実施の形態5における半導体集積
回路の例を示した概略のブロック図である。
FIG. 14 is a schematic block diagram illustrating an example of a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention.

【図15】 図14における比較回路92の回路例を示
した図である。
FIG. 15 is a diagram illustrating a circuit example of the comparison circuit 92 in FIG. 14;

【図16】 図14における比較回路92の他の回路例
を示した図である。
16 is a diagram showing another example of the comparison circuit 92 in FIG. 14;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,91 半導体集積回路素子、 2 光電変換回路、
3 第1メモリ、4 第2メモリ、 5,42,5
2,82,92 比較回路、 21,98 電圧差検出
回路、 22,55 所定電圧検出回路、 43,56
電圧−電流変換回路、 85,101 Va調整回
路。
1,91 semiconductor integrated circuit elements, 2 photoelectric conversion circuits,
3 First memory, 4 Second memory, 5, 42, 5
2,82,92 Comparison circuit, 21,98 Voltage difference detection circuit, 22,55 Predetermined voltage detection circuit, 43,56
Voltage-current conversion circuit, 85, 101 Va adjustment circuit.

フロントページの続き Fターム(参考) 5J056 AA00 AA11 BB21 BB57 CC00 CC09 DD13 DD28 EE11 FF07 FF09 5J066 AA01 AA12 AA56 CA14 CA87 CA88 CA91 CA92 CA98 FA09 HA10 HA17 HA25 HA45 KA02 KA09 KA17 KA28 KA47 MA03 MA21 ND12 ND24 PD01 SA09 TA01 Continued on front page F-term (reference) 5J056 AA00 AA11 BB21 BB57 CC00 CC09 DD13 DD28 EE11 FF07 FF09 5J066 AA01 AA12 AA56 CA14 CA87 CA88 CA91 CA92 CA98 FA09 HA10 HA17 HA25 HA45 KA02 KA09 KA17 KA28 KA12 SA01

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2つの入力電圧の比較を行い、該比較結
果を出力する比較回路を備えた半導体集積回路におい
て、 上記比較回路は、2つの入力電圧が等しいときに出力電
圧が最小となり、該2つの入力電圧の電圧差が大きくな
るに従って出力電圧が最小値よりも大きくなることを特
徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit having a comparison circuit for comparing two input voltages and outputting a result of the comparison, wherein the comparison circuit has a minimum output voltage when the two input voltages are equal. A semiconductor integrated circuit, wherein an output voltage becomes larger than a minimum value as a voltage difference between two input voltages increases.
【請求項2】 2つの入力電圧の比較を行い、該比較結
果を出力する比較回路を備えた半導体集積回路におい
て、 上記比較回路は、2つの入力電圧が等しいときに出力電
圧が最大となり、該2つの入力電圧の電圧差が大きくな
るに従って出力電圧が最大値よりも小さくなることを特
徴とする半導体集積回路。
2. A semiconductor integrated circuit comprising a comparison circuit for comparing two input voltages and outputting the comparison result, wherein the comparison circuit has a maximum output voltage when the two input voltages are equal. A semiconductor integrated circuit, wherein an output voltage becomes smaller than a maximum value as a voltage difference between two input voltages increases.
【請求項3】 上記比較回路は、2つの入力電圧の電圧
差に応じた出力電圧を該電圧値に応じた電流に変換して
出力することを特徴とする請求項1又は請求項2のいず
れかに記載の半導体集積回路。
3. The comparison circuit according to claim 1, wherein the comparison circuit converts an output voltage corresponding to a voltage difference between two input voltages into a current corresponding to the voltage value and outputs the converted current. A semiconductor integrated circuit according to any one of the above.
【請求項4】 上記比較回路は、 2つの入力電圧の電圧差に応じた電圧を出力すると共
に、2つの入力電圧が等しいときに所定の電圧Vaを出
力する電圧差検出回路と、 該電圧差検出回路から出力される電圧が所定の電圧Va
のときに、出力電圧が最小となり、電圧差検出回路から
出力される電圧が所定の電圧Vaよりも小さく、又は大
きくなるに従って、出力電圧が最小値よりもそれぞれ大
きくなる所定電圧検出回路と、を備えることを特徴とす
る請求項1又は請求項3のいずれかに記載の半導体集積
回路。
4. A voltage difference detecting circuit for outputting a voltage corresponding to a voltage difference between two input voltages and outputting a predetermined voltage Va when the two input voltages are equal to each other. The voltage output from the detection circuit is a predetermined voltage Va
A predetermined voltage detection circuit in which, as the output voltage becomes minimum and the voltage output from the voltage difference detection circuit becomes smaller or larger than the predetermined voltage Va, the output voltage becomes larger than the minimum value. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is provided.
【請求項5】 上記比較回路は、 2つの入力電圧の電圧差に応じた電圧を出力すると共
に、2つの入力電圧が等しいときに所定の電圧Vaを出
力する電圧差検出回路と、 該電圧差検出回路から出力される電圧が所定の電圧Va
のときに、出力電圧が最大となり、電圧差検出回路から
出力される電圧が所定の電圧Vaよりも小さく、又は大
きくなるに従って、出力電圧が最大値よりもそれぞれ小
さくなる所定電圧検出回路と、を備えることを特徴とす
る請求項2又は請求項3のいずれかに記載の半導体集積
回路。
5. A voltage difference detection circuit for outputting a voltage corresponding to a voltage difference between two input voltages and outputting a predetermined voltage Va when the two input voltages are equal to each other. The voltage output from the detection circuit is a predetermined voltage Va
A predetermined voltage detection circuit in which the output voltage becomes maximum, and as the voltage output from the voltage difference detection circuit becomes smaller or larger than the predetermined voltage Va, the output voltage becomes smaller than the maximum value. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the semiconductor integrated circuit is provided.
【請求項6】 上記比較回路は、所定電圧検出回路から
出力される電圧を、該出力電圧値に応じた電流に変換し
て出力する電圧−電流変換回路を備えることを特徴する
請求項4又は請求項5のいずれかに記載の半導体集積回
路。
6. The comparison circuit according to claim 4, wherein the comparison circuit includes a voltage-current conversion circuit that converts a voltage output from the predetermined voltage detection circuit into a current corresponding to the output voltage value and outputs the converted current. A semiconductor integrated circuit according to claim 5.
【請求項7】 上記電圧−電流変換回路は、外部からの
所定の信号に応じて、変換した電流の出力制御を行うこ
とを特徴とする請求項6に記載の半導体集積回路。
7. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the voltage-current conversion circuit controls output of the converted current in response to a predetermined external signal.
【請求項8】 上記所定電圧検出回路は、電圧差検出回
路から入力された電圧に対する出力電圧の調整を行う調
整回路を有することを特徴とする請求項4から請求項7
のいずれかに記載の半導体集積回路。
8. The apparatus according to claim 4, wherein the predetermined voltage detection circuit has an adjustment circuit for adjusting an output voltage with respect to a voltage input from the voltage difference detection circuit.
A semiconductor integrated circuit according to any one of the above.
【請求項9】 上記比較回路は、電圧差検出回路から出
力される所定電圧Vaのばらつきを調整して所定電圧検
出回路に出力するVa調整回路を有することを特徴とす
る請求項4から請求項8のいずれかに記載の半導体集積
回路。
9. The comparison circuit according to claim 4, wherein the comparison circuit includes a Va adjustment circuit that adjusts a variation of the predetermined voltage Va output from the voltage difference detection circuit and outputs the result to the predetermined voltage detection circuit. 9. The semiconductor integrated circuit according to any one of 8.
【請求項10】 上記電圧差検出回路は、外部から入力
される所定の信号に応じて、2つの入力電圧の電圧差に
応じた電圧の所定電圧検出回路への出力と、2つの入力
電圧を該各電圧値に応じた電流値にそれぞれ変換して得
られる電流の外部への出力とを切り換える切換回路を有
することを特徴とする請求項4から請求項9のいずれか
に記載の半導体集積回路。
10. The voltage difference detection circuit outputs an output to a predetermined voltage detection circuit of a voltage corresponding to a voltage difference between two input voltages and two input voltages according to a predetermined signal input from the outside. 10. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, further comprising a switching circuit for switching between a current obtained by converting the current value into a current value corresponding to each voltage value and an external output. .
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