JP2000298818A - 多面付素子の加工方法およびスライダの加工方法 - Google Patents
多面付素子の加工方法およびスライダの加工方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000003754 machining Methods 0.000 title abstract description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 140
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 94
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 28
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 9
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 9
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 16
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 25
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 25
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 9
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 8
- 231100000241 scar Toxicity 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 101100316860 Autographa californica nuclear polyhedrosis virus DA18 gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/122—Flying-type heads, e.g. analogous to Winchester type in magnetic recording
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プロファイル精度の低劣化の問題や、切断面
の粗さあるいはチッピングに起因したコンタミネーショ
ン発生の問題を解決して、その実使用時にコンタミネー
ションに起因した動作不良等が発生することの無い、高
い信頼性を以て利用可能なスライダなど各種の素子を実
現できる加工方法を提供する。 【解決手段】 第1の切断工程にて切断された部分の幅
つまり切断溝204の幅よりも大きな直径のワイヤー1
03からなるワイヤーソウを、バー201の切断溝20
4の部分に当接させる。このワイヤーソウを長手方向に
スライドさせながら、バー201の厚さ方向にバー20
1の全厚に亙ってスライスさせる。これにより、バー2
01を切断しつつ、かつこの切断で形成される最終的な
切断面206を平滑化する。
の粗さあるいはチッピングに起因したコンタミネーショ
ン発生の問題を解決して、その実使用時にコンタミネー
ションに起因した動作不良等が発生することの無い、高
い信頼性を以て利用可能なスライダなど各種の素子を実
現できる加工方法を提供する。 【解決手段】 第1の切断工程にて切断された部分の幅
つまり切断溝204の幅よりも大きな直径のワイヤー1
03からなるワイヤーソウを、バー201の切断溝20
4の部分に当接させる。このワイヤーソウを長手方向に
スライドさせながら、バー201の厚さ方向にバー20
1の全厚に亙ってスライスさせる。これにより、バー2
01を切断しつつ、かつこの切断で形成される最終的な
切断面206を平滑化する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は多面付素子の加工方
法およびスライダの加工方法に係り、特に1枚の基板に
多面付けされた素子やスライダであって側面や表面の平
滑性が要求される素子やスライダを切断して個々に分離
する多面付素子の加工方法およびスライダの加工方法に
関する。
法およびスライダの加工方法に係り、特に1枚の基板に
多面付けされた素子やスライダであって側面や表面の平
滑性が要求される素子やスライダを切断して個々に分離
する多面付素子の加工方法およびスライダの加工方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】ハードディスクドライバ(HDD;Hard
Disc Driver,以下、HDDと略称する)装置のような
磁気記録装置に用いられる磁気ヘッド用スライダは、例
えば図8にその概要を示すような工程で作製されてい
る。
Disc Driver,以下、HDDと略称する)装置のような
磁気記録装置に用いられる磁気ヘッド用スライダは、例
えば図8にその概要を示すような工程で作製されてい
る。
【0003】先ず、磁気ヘッドとしての情報書込/読出
機能を有するトランスジューサのような素子1を、セラ
ミック基板あるいはシリコンウェハーなどの基板2に複
数個多面付け形成する(図8(A))。
機能を有するトランスジューサのような素子1を、セラ
ミック基板あるいはシリコンウェハーなどの基板2に複
数個多面付け形成する(図8(A))。
【0004】続いて、基板2を四角形に切断加工する
(図8(B)。次いで、その四角形に切断された基板2
をさらに、横方向に10数個程度並んだ素子1の一列ご
とを1単位として棒状(これをバーと呼ぶ)にスライス
して、各バー3ごとに分離する(図8(C))。これら
の切断加工は、従来、一般にはダイヤモンド外周刃を用
いて行われている。続いて、分離された各バー3を、ワ
ックス(図示省略)等を用いて専用治具である支持体4
に貼り付けする(図8(D))。この貼り付けは、後工
程において各スライダが完全に個別に分離された後に
は、各スライダを支持体4から引き離すことができるよ
うな仮接着の状態としておく。
(図8(B)。次いで、その四角形に切断された基板2
をさらに、横方向に10数個程度並んだ素子1の一列ご
とを1単位として棒状(これをバーと呼ぶ)にスライス
して、各バー3ごとに分離する(図8(C))。これら
の切断加工は、従来、一般にはダイヤモンド外周刃を用
いて行われている。続いて、分離された各バー3を、ワ
ックス(図示省略)等を用いて専用治具である支持体4
に貼り付けする(図8(D))。この貼り付けは、後工
程において各スライダが完全に個別に分離された後に
は、各スライダを支持体4から引き離すことができるよ
うな仮接着の状態としておく。
【0005】続いて、バー3に列設されている各素子1
のスライダとしての加工を行う。すなわち、ヘッドスラ
イダ面の研削や、スライダレールの幅を決定づける溝や
ブリードスロット面など各構造の加工を行うと共に、ヘ
ッド浮上面であるスライダレール面を例えば0.05μm以
下など所定の表面粗さに研磨する。更に、そのスライダ
レール面の空気ベアリング面としての空気導入部のテー
パ加工を行う(図8(E))。
のスライダとしての加工を行う。すなわち、ヘッドスラ
イダ面の研削や、スライダレールの幅を決定づける溝や
ブリードスロット面など各構造の加工を行うと共に、ヘ
ッド浮上面であるスライダレール面を例えば0.05μm以
下など所定の表面粗さに研磨する。更に、そのスライダ
レール面の空気ベアリング面としての空気導入部のテー
パ加工を行う(図8(E))。
【0006】このようにしてスライダとしての主要部の
構造を形成した後、このバー3を1単位として加工され
た素子1を個々に備えた各スライダ6を、その隣接する
各スライダ6ごとの境界線の部分で切断して、1個ずつ
に分離する(図8(F))。この分離のための切断加工
には、従来一般にはダイヤモンド外周刃が用いられてい
る。
構造を形成した後、このバー3を1単位として加工され
た素子1を個々に備えた各スライダ6を、その隣接する
各スライダ6ごとの境界線の部分で切断して、1個ずつ
に分離する(図8(F))。この分離のための切断加工
には、従来一般にはダイヤモンド外周刃が用いられてい
る。
【0007】続いて、このスライダがスライダヘッドと
して実装されてHDD装置に用いられる際に、コンタク
トスタート/ストップ時にスライダが磁気記録媒体(磁
気デイスク)表面に対して損傷を与えることを防ぐため
に、特に最もコンタクトの確率が高いスライダレール面
のエッジ部分をはじめとして、その他にも磁気記録媒体
(磁気デイスク)表面に対するコンタクトの確率が高い
エッジ直線部分などに面取り加工(これを、いわゆるブ
レンディング加工と呼称する)を施す(図示省略)。従
来は、このような製造工程でHDD装置のような磁気記
録装置に用いられる磁気ヘッド用スライダを作製してい
る。
して実装されてHDD装置に用いられる際に、コンタク
トスタート/ストップ時にスライダが磁気記録媒体(磁
気デイスク)表面に対して損傷を与えることを防ぐため
に、特に最もコンタクトの確率が高いスライダレール面
のエッジ部分をはじめとして、その他にも磁気記録媒体
(磁気デイスク)表面に対するコンタクトの確率が高い
エッジ直線部分などに面取り加工(これを、いわゆるブ
レンディング加工と呼称する)を施す(図示省略)。従
来は、このような製造工程でHDD装置のような磁気記
録装置に用いられる磁気ヘッド用スライダを作製してい
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な従来の磁気ヘッド用スライダの加工工程において、特
にそのバー3を切断して個々のスライダに分離する工程
においては、一般にダイヤモンド薄刃砥石(ダイヤモン
ド外周刃ソー)を用いて切断を行なっている。
な従来の磁気ヘッド用スライダの加工工程において、特
にそのバー3を切断して個々のスライダに分離する工程
においては、一般にダイヤモンド薄刃砥石(ダイヤモン
ド外周刃ソー)を用いて切断を行なっている。
【0009】しかしながら、そのような従来のダイヤモ
ンド薄刃砥石を用いた切断方法では次のような種々の問
題がある。すなわち、ダイヤモンド薄刃砥石による切断
方法自体が本質的に、大きな剪断力をバー3に加えなが
ら切断するという機械的特質を有するものであるため、
ダイヤモンド薄刃砥石で切断された切断面は、破砕面や
じょう痕面となる。破砕面やじょう痕面である切断面の
表面粗さは、ダイヤモンド薄刃砥石の粗さを細かくする
など対策を施したとしも、Raで約20nm程度までし
か平滑化することができない。このような粗い表面に
は、外部から混入してきた塵埃や、HDD装置自体の内
部で発生したパーティクルや塵埃等の汚れが、いわゆる
コンタミネーションとして付着しやすい。
ンド薄刃砥石を用いた切断方法では次のような種々の問
題がある。すなわち、ダイヤモンド薄刃砥石による切断
方法自体が本質的に、大きな剪断力をバー3に加えなが
ら切断するという機械的特質を有するものであるため、
ダイヤモンド薄刃砥石で切断された切断面は、破砕面や
じょう痕面となる。破砕面やじょう痕面である切断面の
表面粗さは、ダイヤモンド薄刃砥石の粗さを細かくする
など対策を施したとしも、Raで約20nm程度までし
か平滑化することができない。このような粗い表面に
は、外部から混入してきた塵埃や、HDD装置自体の内
部で発生したパーティクルや塵埃等の汚れが、いわゆる
コンタミネーションとして付着しやすい。
【0010】従って、そのような汚れが、HDD装置の
使用中に、スライダヘッドの動作の際に発生する振動や
装置自体の持ち運び時の振動等に起因して剥れ落ちて記
録媒体である磁気ディスクの表面に付着したり、磁気デ
ィスクとスライダとの間隙に引き込まれるなどして、磁
気ディスク表面を損傷させてしまうという問題がある。
使用中に、スライダヘッドの動作の際に発生する振動や
装置自体の持ち運び時の振動等に起因して剥れ落ちて記
録媒体である磁気ディスクの表面に付着したり、磁気デ
ィスクとスライダとの間隙に引き込まれるなどして、磁
気ディスク表面を損傷させてしまうという問題がある。
【0011】あるいは、そのような汚れが磁気ディスク
表面に付着することで、サーマルアスピリティに起因し
たリード/ライトエラーなど、記録や読み出しの際の動
作不良を引き起こすという問題がある。また、ダイヤモ
ンド薄刃砥石を用いた切断方法では、その切断面に上記
のような破砕面やじょう痕面が形成されるが、このよう
な破砕面やじょう痕面が形成されているということは、
換言すれば、それ程までに大きな剪断力をバー3に加え
ながら切断を行なっていることを意味する。従って、こ
のような切断時に加えられる大きな剪断力に起因して、
バー3には大きな応力が発生するので、切断後のバー3
の全体的な形状に応力歪みが残ることになる。
表面に付着することで、サーマルアスピリティに起因し
たリード/ライトエラーなど、記録や読み出しの際の動
作不良を引き起こすという問題がある。また、ダイヤモ
ンド薄刃砥石を用いた切断方法では、その切断面に上記
のような破砕面やじょう痕面が形成されるが、このよう
な破砕面やじょう痕面が形成されているということは、
換言すれば、それ程までに大きな剪断力をバー3に加え
ながら切断を行なっていることを意味する。従って、こ
のような切断時に加えられる大きな剪断力に起因して、
バー3には大きな応力が発生するので、切断後のバー3
の全体的な形状に応力歪みが残ることになる。
【0012】このため、切断されて得られた個々のスラ
イダには、クラウンと呼ばれる凸状または凹状の反り形
状不良や、キャンバと呼ばれるABSのスライダレール
の幅方向の傾き不良や、ツイストと呼ばれるABSの2
本のスライダレールの長手方向の平行不良(つまり2本
のスライダレールどうしが互いに平行でなく捩れた位置
関係になる状態)など、スライダとしてのプロファイル
精度を低下させる種々の不良が発生するという問題があ
る。
イダには、クラウンと呼ばれる凸状または凹状の反り形
状不良や、キャンバと呼ばれるABSのスライダレール
の幅方向の傾き不良や、ツイストと呼ばれるABSの2
本のスライダレールの長手方向の平行不良(つまり2本
のスライダレールどうしが互いに平行でなく捩れた位置
関係になる状態)など、スライダとしてのプロファイル
精度を低下させる種々の不良が発生するという問題があ
る。
【0013】特に、近年では、情報記録密度のさらなる
向上を実現することが強く要請されているが、このよう
な情報記録密度を向上させるためには、スライダの記録
媒体に対する浮上高をさらに厳密に制御しさらに微細な
浮上高にして、磁気的スペーシング量をさらに微細化す
ることが必要となる。一般にこれまでは40〜50nm
程度だった浮上高を、さらにその半分以下の10〜20
nm程度にすることなども提案されている。従って、そ
れを実現するために、空気ベアリング面(ABS;Air
Bearing Surface,以下、ABSと略称)に対してさらに
高精度に凹凸無く平滑で平坦であることが強く要請され
ている。
向上を実現することが強く要請されているが、このよう
な情報記録密度を向上させるためには、スライダの記録
媒体に対する浮上高をさらに厳密に制御しさらに微細な
浮上高にして、磁気的スペーシング量をさらに微細化す
ることが必要となる。一般にこれまでは40〜50nm
程度だった浮上高を、さらにその半分以下の10〜20
nm程度にすることなども提案されている。従って、そ
れを実現するために、空気ベアリング面(ABS;Air
Bearing Surface,以下、ABSと略称)に対してさらに
高精度に凹凸無く平滑で平坦であることが強く要請され
ている。
【0014】しかしながら、従来のダイヤモンド薄刃砥
石を用いた切断方法では、上述したようにスライダとし
てのプロファイル精度を低下させる種々の不良が発生す
るので、近年の情報記録密度を向上させるための空気ベ
アリング面のさらなる高精度化に対して対応することが
できないという問題がある。
石を用いた切断方法では、上述したようにスライダとし
てのプロファイル精度を低下させる種々の不良が発生す
るので、近年の情報記録密度を向上させるための空気ベ
アリング面のさらなる高精度化に対して対応することが
できないという問題がある。
【0015】また、上記のような切断時にバー3に加え
られる大きな剪断力に起因して、その切断面とABSの
表面とが交わる稜線部分(以下、エッジ部分という)
に、2〜10nm程度の突起あるいは凹凸不良が発生す
る。このような突起や凹凸不良も、上記の各種形状不良
と同様にスライダとしてのプロファイル精度を低下させ
る原因になるという問題がある。また、一般に、スライ
ダの浮上の安定性や情報記録密度の向上のために、AB
Sの精度はクロスクラウンが10nm未満であることが
要求されているが、このような要求に対しても、従来の
ダイヤモンド薄刃砥石を用いた切断方法では対応不可能
であるという問題がある。
られる大きな剪断力に起因して、その切断面とABSの
表面とが交わる稜線部分(以下、エッジ部分という)
に、2〜10nm程度の突起あるいは凹凸不良が発生す
る。このような突起や凹凸不良も、上記の各種形状不良
と同様にスライダとしてのプロファイル精度を低下させ
る原因になるという問題がある。また、一般に、スライ
ダの浮上の安定性や情報記録密度の向上のために、AB
Sの精度はクロスクラウンが10nm未満であることが
要求されているが、このような要求に対しても、従来の
ダイヤモンド薄刃砥石を用いた切断方法では対応不可能
であるという問題がある。
【0016】また、ABSの表面とダイヤモンド薄刃砥
石による切断面とが交わるエッジ部分や、ABSとは反
対側の裏面とダイヤモンド薄刃砥石による切断面とが交
わるエッジ部分には、1〜20nm程度のチッピングが
発生する。このチッピングは、上述の塵埃等の汚れと同
様に、HDDの使用時に振動や衝撃等に起因してスライ
ダから離脱し、コンタミネーションとして磁気ディスク
表面を損傷させたり、サーマルアスピリティに起因した
リード/ライトエラーなどの動作不良を引き起こすとい
う問題がある。
石による切断面とが交わるエッジ部分や、ABSとは反
対側の裏面とダイヤモンド薄刃砥石による切断面とが交
わるエッジ部分には、1〜20nm程度のチッピングが
発生する。このチッピングは、上述の塵埃等の汚れと同
様に、HDDの使用時に振動や衝撃等に起因してスライ
ダから離脱し、コンタミネーションとして磁気ディスク
表面を損傷させたり、サーマルアスピリティに起因した
リード/ライトエラーなどの動作不良を引き起こすとい
う問題がある。
【0017】ここで、従来のHDD装置では、まず製造
時点で装置内にコンタミネーションが入り込むことを防
ぐために、その製造プロセスをクラス100あるいはそ
れ以上の清浄度というLSI製造工程のクリーン度に匹
敵するような清浄度のクリーンルームで製造している。
また、主に外部から侵入して来るコンタミネーションに
対して、エアフィルタをHDDに内蔵させるなどして対
応している。このように対策することで、製造時のコン
タミネーションの混入や、外部からのコンタミネーショ
ンの混入に対しては対応可能となっている。
時点で装置内にコンタミネーションが入り込むことを防
ぐために、その製造プロセスをクラス100あるいはそ
れ以上の清浄度というLSI製造工程のクリーン度に匹
敵するような清浄度のクリーンルームで製造している。
また、主に外部から侵入して来るコンタミネーションに
対して、エアフィルタをHDDに内蔵させるなどして対
応している。このように対策することで、製造時のコン
タミネーションの混入や、外部からのコンタミネーショ
ンの混入に対しては対応可能となっている。
【0018】しかしながら、上記のようなチッピングの
離脱によって生じるコンタミネーションについては、ま
ず製造時には未だチッピングとして切断面に付着してお
り、不良の原因としては発見されない状態にある。その
ため、HDDとしての実使用時に動作不良を引き起こす
確率が高いにも拘らず、それがチェックされないで見逃
されることになる。そして、HDDとしての実使用時に
は、そのチッピングが付着しているスライダは磁気ディ
スクのほぼ全面に亙って相対的に移動するので、そのチ
ッピングがいつ離脱してもスライダは常に磁気ディスク
上あるいはその近傍にあるのだから、そのとき離脱した
チッピングのパーティクルは殆ど必ず磁気ディスク上に
落着することになる。従って、このようなチッピングが
離脱して発生するパーティクルが、コンタミネーション
として磁気ディスク上に損傷を与えたり、リード/ライ
トエラーを発生させたりする確率が極めて高いものとな
るという問題がある。
離脱によって生じるコンタミネーションについては、ま
ず製造時には未だチッピングとして切断面に付着してお
り、不良の原因としては発見されない状態にある。その
ため、HDDとしての実使用時に動作不良を引き起こす
確率が高いにも拘らず、それがチェックされないで見逃
されることになる。そして、HDDとしての実使用時に
は、そのチッピングが付着しているスライダは磁気ディ
スクのほぼ全面に亙って相対的に移動するので、そのチ
ッピングがいつ離脱してもスライダは常に磁気ディスク
上あるいはその近傍にあるのだから、そのとき離脱した
チッピングのパーティクルは殆ど必ず磁気ディスク上に
落着することになる。従って、このようなチッピングが
離脱して発生するパーティクルが、コンタミネーション
として磁気ディスク上に損傷を与えたり、リード/ライ
トエラーを発生させたりする確率が極めて高いものとな
るという問題がある。
【0019】また、上記のことはいずれも、分離する素
子1として、トランスジューサのような磁気ヘッドの機
能部分を備えたスライダの場合を典型的な従来例として
述べたが、素子の種類はこれのみには限定されないこと
は言うまでもない。多面付されて形成された後に分離さ
れて個々の素子ごとに分離される素子の種類としては、
この他にも、例えば千鳥格子状などに複数個の光センサ
素子を配置してなる密着型イメージセンサに用いられ
る、その複数個の光センサ素子の分離工程などにおいて
も、上記とほぼ同様の切断面における問題点が発生す
る。あるいは、磁気ヘッド以外にも、サスペンションア
ームの先端部に磁気ヘッドの代りに光磁気記録用の光学
モジュールを搭載するような構造の浮上型ヘッドの分離
工程などにおいても、上記とほぼ同様の切断面における
問題点が発生する。更には、磁気ヘッドと光磁気記録用
の光学ヘッドとを併せ用いる構造の浮上型ヘッドの分離
工程などにおいても、上記とほぼ同様の切断面における
問題点が発生する。あるいは、浮上型ヘッドのみなら
ず、磁気ディスク表面に対して損傷を与えることなく接
触するコンタクトパッドを備えたコンタクト型の磁気ヘ
ッドや光学ヘッドの分離工程などにおいても、上記とほ
ぼ同様の切断面における問題点が発生する。
子1として、トランスジューサのような磁気ヘッドの機
能部分を備えたスライダの場合を典型的な従来例として
述べたが、素子の種類はこれのみには限定されないこと
は言うまでもない。多面付されて形成された後に分離さ
れて個々の素子ごとに分離される素子の種類としては、
この他にも、例えば千鳥格子状などに複数個の光センサ
素子を配置してなる密着型イメージセンサに用いられ
る、その複数個の光センサ素子の分離工程などにおいて
も、上記とほぼ同様の切断面における問題点が発生す
る。あるいは、磁気ヘッド以外にも、サスペンションア
ームの先端部に磁気ヘッドの代りに光磁気記録用の光学
モジュールを搭載するような構造の浮上型ヘッドの分離
工程などにおいても、上記とほぼ同様の切断面における
問題点が発生する。更には、磁気ヘッドと光磁気記録用
の光学ヘッドとを併せ用いる構造の浮上型ヘッドの分離
工程などにおいても、上記とほぼ同様の切断面における
問題点が発生する。あるいは、浮上型ヘッドのみなら
ず、磁気ディスク表面に対して損傷を与えることなく接
触するコンタクトパッドを備えたコンタクト型の磁気ヘ
ッドや光学ヘッドの分離工程などにおいても、上記とほ
ぼ同様の切断面における問題点が発生する。
【0020】また、上記のような切断面の荒れや、チッ
ピングを解消するためには、完全に切断されて個々の素
子やスライダとして分離された後に、それらの分離され
た個々の素子やスライダの一つ一つの最終断面を研磨加
工するなどしなければならない。このような工程でスラ
イダを個別に研磨加工する技術が、例えば特開平6−2
82831号公報にて提案されている。しかしながら、
このように個々の素子や個々のスライダとして分離した
後に、その一個ずつのスライダの各切断面をそれぞれラ
ッピングする工程は、極めて煩雑なものであって、その
工程に要する時間も長いものとなる。すなわち、個々に
分離した後の個々のスライダに対して、ラッピングのよ
うな研磨加工を施すような従来の方法では、個々に分離
されたスライダの一個ずつをラッピング装置に装着し、
その4つの側面つまり各切断面のそれぞれにラッピング
を施して行くという工程は極めて煩雑な工程であって、
そのスループットも非効率的で、長い時間がかかってし
まうという問題がある。
ピングを解消するためには、完全に切断されて個々の素
子やスライダとして分離された後に、それらの分離され
た個々の素子やスライダの一つ一つの最終断面を研磨加
工するなどしなければならない。このような工程でスラ
イダを個別に研磨加工する技術が、例えば特開平6−2
82831号公報にて提案されている。しかしながら、
このように個々の素子や個々のスライダとして分離した
後に、その一個ずつのスライダの各切断面をそれぞれラ
ッピングする工程は、極めて煩雑なものであって、その
工程に要する時間も長いものとなる。すなわち、個々に
分離した後の個々のスライダに対して、ラッピングのよ
うな研磨加工を施すような従来の方法では、個々に分離
されたスライダの一個ずつをラッピング装置に装着し、
その4つの側面つまり各切断面のそれぞれにラッピング
を施して行くという工程は極めて煩雑な工程であって、
そのスループットも非効率的で、長い時間がかかってし
まうという問題がある。
【0021】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、切断工程により、1枚の基板に多面
付けされた複数の素子を個々に分離するにあたり、上記
のようなプロファイル精度の低劣化の問題や、切断面の
粗さあるいはチッピングに起因したコンタミネーション
発生の問題を解決して、例えば磁気ヘッドの場合ではそ
れがHDDに組み込まれて使用される際に磁気ディスク
の損傷やリード/ライトエラーが発生することの無い、
高い信頼性を以て利用可能な磁気ヘッドを実現するため
のスライダを作製できる多面付素子の加工方法およびス
ライダの加工方法を提供することにある。
ので、その目的は、切断工程により、1枚の基板に多面
付けされた複数の素子を個々に分離するにあたり、上記
のようなプロファイル精度の低劣化の問題や、切断面の
粗さあるいはチッピングに起因したコンタミネーション
発生の問題を解決して、例えば磁気ヘッドの場合ではそ
れがHDDに組み込まれて使用される際に磁気ディスク
の損傷やリード/ライトエラーが発生することの無い、
高い信頼性を以て利用可能な磁気ヘッドを実現するため
のスライダを作製できる多面付素子の加工方法およびス
ライダの加工方法を提供することにある。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明による多面付素子
の加工方法は、1枚の基板に多面付けされた複数個の素
子を各素子ごとに分離する方法であって、素子が多面付
けされた基板の表面とは反対の裏面に、素子を支持体に
よって支持させる支持工程と、基板の各素子間に設定し
た境界線の部分において、切れ込みを基板の表面から基
板の厚さ方向に向かって基板の厚さの途中まで刻設する
切込刻設工程と、切れ込みに、切れ込みの幅よりも大き
な直径のワイヤーソウを当接し、ワイヤーソウを長手方
向にスライドさせながら、基板の厚さ方向に向かって基
板の全厚に亙ってスライスさせて、基板を切断しつつ切
断により形成される切断面を平滑化する基板切断工程と
を含んでいる。
の加工方法は、1枚の基板に多面付けされた複数個の素
子を各素子ごとに分離する方法であって、素子が多面付
けされた基板の表面とは反対の裏面に、素子を支持体に
よって支持させる支持工程と、基板の各素子間に設定し
た境界線の部分において、切れ込みを基板の表面から基
板の厚さ方向に向かって基板の厚さの途中まで刻設する
切込刻設工程と、切れ込みに、切れ込みの幅よりも大き
な直径のワイヤーソウを当接し、ワイヤーソウを長手方
向にスライドさせながら、基板の厚さ方向に向かって基
板の全厚に亙ってスライスさせて、基板を切断しつつ切
断により形成される切断面を平滑化する基板切断工程と
を含んでいる。
【0023】本発明による他の多面付素子の加工方法
は、1枚の基板に多面付けされた複数個の各素子を各素
子ごとに分離するための方法であって、素子が多面付け
された基板の表面とは反対の裏面に、素子を支持持体に
よって支持させる支持工程と、基板の各素子間に設定し
た境界線の部分を、基板の表面から基板の厚さ方向に基
板の全厚に亙って切断する第1の切断工程と、第1の切
断工程にて切断された部分の幅よりも大きな直径のワイ
ヤーソウを当接しワイヤーソウを長手方向にスライドさ
せながら基板の厚さ方向に向かって基板の全厚に亙って
スライスさせて、基板を切断しつつ切断により形成され
る切断面を平滑化する第2の切断工程とを含んでいる。
は、1枚の基板に多面付けされた複数個の各素子を各素
子ごとに分離するための方法であって、素子が多面付け
された基板の表面とは反対の裏面に、素子を支持持体に
よって支持させる支持工程と、基板の各素子間に設定し
た境界線の部分を、基板の表面から基板の厚さ方向に基
板の全厚に亙って切断する第1の切断工程と、第1の切
断工程にて切断された部分の幅よりも大きな直径のワイ
ヤーソウを当接しワイヤーソウを長手方向にスライドさ
せながら基板の厚さ方向に向かって基板の全厚に亙って
スライスさせて、基板を切断しつつ切断により形成され
る切断面を平滑化する第2の切断工程とを含んでいる。
【0024】本発明によるスライダの加工方法は、1枚
の基板に多面付けされた複数個のスライダを個別のスラ
イダごとに分離するための方法であって、スライダが多
面付けされた基板の表面とは反対の裏面に、スライダを
支持体によって支持させる支持工程と、基板の各スライ
ダ間に設定された境界線の部分に、切れ込みを基板の表
面から基板の厚さ方向に向かって基板の厚さの途中まで
刻設する切込刻設工程と、切れ込みに前記切れ込みの幅
よりも大きな直径のワイヤーソウを当接しワイヤーソウ
を長手方向にスライドさせながら基板の厚さ方向に向か
って基板の全厚に亙ってスライスさせて、基板を切断し
つつ切断により形成される切断面を平滑化する基板切断
工程とを含んでいる。
の基板に多面付けされた複数個のスライダを個別のスラ
イダごとに分離するための方法であって、スライダが多
面付けされた基板の表面とは反対の裏面に、スライダを
支持体によって支持させる支持工程と、基板の各スライ
ダ間に設定された境界線の部分に、切れ込みを基板の表
面から基板の厚さ方向に向かって基板の厚さの途中まで
刻設する切込刻設工程と、切れ込みに前記切れ込みの幅
よりも大きな直径のワイヤーソウを当接しワイヤーソウ
を長手方向にスライドさせながら基板の厚さ方向に向か
って基板の全厚に亙ってスライスさせて、基板を切断し
つつ切断により形成される切断面を平滑化する基板切断
工程とを含んでいる。
【0025】本発明による他のスライダの加工方法は、
1枚の基板に多面付けされた複数個のスライダを個別の
スライダごとに分離するための方法であって、基板のス
ライダが多面付けされた表面とは反対の裏面に、スライ
ダを支持体によって支持させる支持工程と、基板の各ス
ライダ間に設定された境界線の部分を、基板の表面から
基板の厚さ方向に基板の全厚に亙って切断する第1の切
断工程と、第1の切断工程にて切断された部分の幅より
も大きな直径のワイヤーソウを当接しワイヤーソウを長
手方向にスライドさせながら基板の厚さ方向に向かって
基板の全厚に亙ってスライスさせて、基板を切断しつつ
切断により形成される切断面を平滑化する第2の切断工
程とを含んでいる。
1枚の基板に多面付けされた複数個のスライダを個別の
スライダごとに分離するための方法であって、基板のス
ライダが多面付けされた表面とは反対の裏面に、スライ
ダを支持体によって支持させる支持工程と、基板の各ス
ライダ間に設定された境界線の部分を、基板の表面から
基板の厚さ方向に基板の全厚に亙って切断する第1の切
断工程と、第1の切断工程にて切断された部分の幅より
も大きな直径のワイヤーソウを当接しワイヤーソウを長
手方向にスライドさせながら基板の厚さ方向に向かって
基板の全厚に亙ってスライスさせて、基板を切断しつつ
切断により形成される切断面を平滑化する第2の切断工
程とを含んでいる。
【0026】本発明の多面付素子の加工方法またはスラ
イダの加工方法では、基板の厚さ方向の途中までの切れ
込みがあらかじめ刻設され、あるいは、第1の切断によ
りあらかじめ切断された上で、その切れ込みにワイヤー
ソウが当てがわれる。このとき、あらかじめ形成された
切れ込みがガイドラインとしてワイヤーソウを適切な境
界線、つまり切断位置にセルフアラインで導き、これに
より正確な位置において切断が行われる。しかも、この
とき、ワイヤーソウが通るのは既に小さな幅で切断され
ている、あるいは少なくとも厚み方向の途中までは切断
されている部分であるから、従来のダイヤモンド砥石を
用いて一度に切断して行く場合と比較して、材料力学的
に基板に対して極めて小さな剪断力しか加わらない。一
般的な切断時の剪断力というよりも、むしろ殆ど研磨に
近い程度の小さな剪断力しか加わらない。
イダの加工方法では、基板の厚さ方向の途中までの切れ
込みがあらかじめ刻設され、あるいは、第1の切断によ
りあらかじめ切断された上で、その切れ込みにワイヤー
ソウが当てがわれる。このとき、あらかじめ形成された
切れ込みがガイドラインとしてワイヤーソウを適切な境
界線、つまり切断位置にセルフアラインで導き、これに
より正確な位置において切断が行われる。しかも、この
とき、ワイヤーソウが通るのは既に小さな幅で切断され
ている、あるいは少なくとも厚み方向の途中までは切断
されている部分であるから、従来のダイヤモンド砥石を
用いて一度に切断して行く場合と比較して、材料力学的
に基板に対して極めて小さな剪断力しか加わらない。一
般的な切断時の剪断力というよりも、むしろ殆ど研磨に
近い程度の小さな剪断力しか加わらない。
【0027】従って、従来のようなプロファイルの精度
劣化や、切断面が粗く荒れることや、チッピング等が発
生することなく、ワイヤーソウを用いた切断時にむしろ
切断面を平滑化しながら基板を高精度に切断することが
できる。しかも、例えば、特開平4−195706号公
報や特開平7−296377号公報等に提案されている
技術のようなワイヤーソウを用いて一度だけの切断工程
で基板を切断して各個別の磁気ヘッドに分離する場合と
比較して、短時間でしかも精度良く切断することがで
き、しかも切断面の平滑性を良好なものとすることがで
きる。
劣化や、切断面が粗く荒れることや、チッピング等が発
生することなく、ワイヤーソウを用いた切断時にむしろ
切断面を平滑化しながら基板を高精度に切断することが
できる。しかも、例えば、特開平4−195706号公
報や特開平7−296377号公報等に提案されている
技術のようなワイヤーソウを用いて一度だけの切断工程
で基板を切断して各個別の磁気ヘッドに分離する場合と
比較して、短時間でしかも精度良く切断することがで
き、しかも切断面の平滑性を良好なものとすることがで
きる。
【0028】これは、本発明に係る切断方法の場合に
は、上記の如くあらかじめ切れ込みを設けてあるので、
この切れ込みによってワイヤーソウを正確な位置にセル
フアラインで導くことができ、しかもワイヤーソウは適
宜に摩耗した部分をずらせて行くことで、常に正確な直
径の部分で切断を行なうことができるので、切断代の誤
差を少なくすることができるからである。また、上述の
ように小さな幅でもあらかじめ切断されている部分をワ
イヤーソウで切断するので、小さな剪断力だけで最終的
な切断を行うことができる。従って、その切断時のワイ
ヤーソウの基板厚み方向でのスライスの進行速度を従来
の(例えば特開平4−195706号公報の)ワイヤー
ソウで切断する場合よりも速く(つまり短時間に)する
ことができ、しかもその切断による切断面を高い平滑度
のものとすることができる。
は、上記の如くあらかじめ切れ込みを設けてあるので、
この切れ込みによってワイヤーソウを正確な位置にセル
フアラインで導くことができ、しかもワイヤーソウは適
宜に摩耗した部分をずらせて行くことで、常に正確な直
径の部分で切断を行なうことができるので、切断代の誤
差を少なくすることができるからである。また、上述の
ように小さな幅でもあらかじめ切断されている部分をワ
イヤーソウで切断するので、小さな剪断力だけで最終的
な切断を行うことができる。従って、その切断時のワイ
ヤーソウの基板厚み方向でのスライスの進行速度を従来
の(例えば特開平4−195706号公報の)ワイヤー
ソウで切断する場合よりも速く(つまり短時間に)する
ことができ、しかもその切断による切断面を高い平滑度
のものとすることができる。
【0029】なお、本発明の多面付素子の加工方法また
はスライダの加工方法では、切れ込みを刻設する切込刻
設工程あるいは第1の切断を行う第1の切断工程につい
ては、ダイヤモンド砥石を用いて行なってもよく、ある
いはこれらの工程も第2の切断工程のワイヤーソウより
も直径の小さなワイヤーソウを用いて行なってもよい。
はスライダの加工方法では、切れ込みを刻設する切込刻
設工程あるいは第1の切断を行う第1の切断工程につい
ては、ダイヤモンド砥石を用いて行なってもよく、ある
いはこれらの工程も第2の切断工程のワイヤーソウより
も直径の小さなワイヤーソウを用いて行なってもよい。
【0030】素子やスライダを裏面から支持する支持体
は、基板の裏面にベタ状態で全面的に接合するようにし
てもよく、あるいは、各素子や各スライダどうしの間の
切断代の部分は避けて、各素子や各スライダの部分のみ
に接合してその部分のみで各素子や各スライダを支持す
るようにしても良い。
は、基板の裏面にベタ状態で全面的に接合するようにし
てもよく、あるいは、各素子や各スライダどうしの間の
切断代の部分は避けて、各素子や各スライダの部分のみ
に接合してその部分のみで各素子や各スライダを支持す
るようにしても良い。
【0031】また、本発明によるスライダの加工方法で
は、基板切断工程において、5μm以下の粒径の砥粒を
用いたスラリーとワイヤーソウとを併せ用いることが望
ましい。
は、基板切断工程において、5μm以下の粒径の砥粒を
用いたスラリーとワイヤーソウとを併せ用いることが望
ましい。
【0032】すなわち、従来から切断時に発生していた
加工変質層やチッピングは共に最大5μmであるという
経験則がこれまでの実際の製造経験から得られている。
そこで、このような加工変質層やチッピングの大きさで
ある5μm以下の取り代をコントロールするためには、
5μm以下の粒径の砥粒を用いたスラリーを用いて、ワ
イヤーソウで基板を切断することが望ましい。なお、こ
のようなスラリーに用いる砥粒の粒径としては、1μm
前後がさらに好適である。これ以下の大きさでは、実際
上、切削効率が低くなる傾向にある。また逆に5μmを
越える粒径の砥粒では、従来のダイヤモンド砥石と大差
なく、スライダとして要求される平滑度や精度が得られ
なくなる傾向にある。従って、そのような定性的な傾向
を踏まえた上で、要請される平滑度や切断寸法の精度に
適合できるように、5μm以下の粒径の範囲内で適宜に
スラリーに用いる砥粒の粒径を決定すればよい。
加工変質層やチッピングは共に最大5μmであるという
経験則がこれまでの実際の製造経験から得られている。
そこで、このような加工変質層やチッピングの大きさで
ある5μm以下の取り代をコントロールするためには、
5μm以下の粒径の砥粒を用いたスラリーを用いて、ワ
イヤーソウで基板を切断することが望ましい。なお、こ
のようなスラリーに用いる砥粒の粒径としては、1μm
前後がさらに好適である。これ以下の大きさでは、実際
上、切削効率が低くなる傾向にある。また逆に5μmを
越える粒径の砥粒では、従来のダイヤモンド砥石と大差
なく、スライダとして要求される平滑度や精度が得られ
なくなる傾向にある。従って、そのような定性的な傾向
を踏まえた上で、要請される平滑度や切断寸法の精度に
適合できるように、5μm以下の粒径の範囲内で適宜に
スラリーに用いる砥粒の粒径を決定すればよい。
【0033】また、このときワイヤーソウによる切削除
去量が余りにも多いと、従来のダイヤモンド砥石による
切断と大差ないことになり、剪断力が大きくなりまたそ
の切断加工時間も長くなるという不都合が生じる。従っ
て、第1の切断による切断(ギャップ)の幅とワイヤー
ソウの直径との寸法差は、切断面片面で5〜15μmと
することが望ましい。しかし、これのみには限定され
ず、例えば第1の切断工程で生じた加工変質層の幅やチ
ッピングの大きさが上記の5μmよりも大きい場合など
には、それに対応して、それらを確実に除去できるよう
な直径のワイヤーソウを用いることが望ましいことは言
うまでもない。
去量が余りにも多いと、従来のダイヤモンド砥石による
切断と大差ないことになり、剪断力が大きくなりまたそ
の切断加工時間も長くなるという不都合が生じる。従っ
て、第1の切断による切断(ギャップ)の幅とワイヤー
ソウの直径との寸法差は、切断面片面で5〜15μmと
することが望ましい。しかし、これのみには限定され
ず、例えば第1の切断工程で生じた加工変質層の幅やチ
ッピングの大きさが上記の5μmよりも大きい場合など
には、それに対応して、それらを確実に除去できるよう
な直径のワイヤーソウを用いることが望ましいことは言
うまでもない。
【0034】上記の砥粒の材質としては、ダイヤモン
ド、サファイヤなどの一般的な砥粒用パウダーを用いれ
ばよい。また、スラリーを用いない場合には、例えばダ
イヤ電着ワイヤーソウのように、ワイヤー自体に砥粒を
付着してなるワイヤーソウを用いることができる。
ド、サファイヤなどの一般的な砥粒用パウダーを用いれ
ばよい。また、スラリーを用いない場合には、例えばダ
イヤ電着ワイヤーソウのように、ワイヤー自体に砥粒を
付着してなるワイヤーソウを用いることができる。
【0035】また、本発明に係る切断工程を経た後に、
支持体から素子やスライダを取り外してもよい。あるい
は、例えば支持体を絶縁性材料からなるものとし、この
支持体ごと基板を切断して個々の素子やスライダに分離
すれば、最終的に得られた個々の素子やスライダにおい
て、絶縁性の支持体を絶縁層として用いることができ
る。つまりこのように支持体は個々の素子やスライダか
ら取り外さないで、絶縁層のように素子やスライダの構
造の一部として用いるようにしてもよい。
支持体から素子やスライダを取り外してもよい。あるい
は、例えば支持体を絶縁性材料からなるものとし、この
支持体ごと基板を切断して個々の素子やスライダに分離
すれば、最終的に得られた個々の素子やスライダにおい
て、絶縁性の支持体を絶縁層として用いることができ
る。つまりこのように支持体は個々の素子やスライダか
ら取り外さないで、絶縁層のように素子やスライダの構
造の一部として用いるようにしてもよい。
【0036】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を詳細に説明する。
施例を詳細に説明する。
【0037】〔第1の実施の形態〕図1は、本発明の第
1の実施の形態に係るスライダの加工方法および多面付
素子の加工方法に用いられるワイヤーソウ装置100の
構成の主要部およびそれによって加工される(切断され
て分離される)複数個のスライダ200が列設されたバ
ー201を模式的に示す図である。
1の実施の形態に係るスライダの加工方法および多面付
素子の加工方法に用いられるワイヤーソウ装置100の
構成の主要部およびそれによって加工される(切断され
て分離される)複数個のスライダ200が列設されたバ
ー201を模式的に示す図である。
【0038】ワイヤーソウ装置 ワイヤーソウ装置100は、ほぼ平行に対向配置された
2本のワークローラ101,102と、これら2本のワ
ークローラ101,102に巻回されるワイヤー103
と、ワイヤー103が加工対象であるバー201に対し
て当接される部分にスラリー(砥液)104を供給する
ノズル105,106と、加工対象であるバー201を
機械的に支持するコレット台301と、バー201およ
びコレット台301が載置され、上下に移動および水平
方向に回動してワイヤー103に対する位置を変化させ
るワークテーブル302とから、その主要部が構成され
ている。
2本のワークローラ101,102と、これら2本のワ
ークローラ101,102に巻回されるワイヤー103
と、ワイヤー103が加工対象であるバー201に対し
て当接される部分にスラリー(砥液)104を供給する
ノズル105,106と、加工対象であるバー201を
機械的に支持するコレット台301と、バー201およ
びコレット台301が載置され、上下に移動および水平
方向に回動してワイヤー103に対する位置を変化させ
るワークテーブル302とから、その主要部が構成され
ている。
【0039】なお、このワイヤーソウ装置100は、後
述の第2の切断工程において用いられる。この第2の切
断工程では、基板は既にスライダ200が列設されたバ
ー201の形に加工され、その裏面には支持体202が
貼設済みの状態となっていることは言うまでもない。
述の第2の切断工程において用いられる。この第2の切
断工程では、基板は既にスライダ200が列設されたバ
ー201の形に加工され、その裏面には支持体202が
貼設済みの状態となっていることは言うまでもない。
【0040】スライダの加工方法 次に、図2を参照して、第1の実施の形態に係るスライ
ダの加工方法における主要な工程を説明する。
ダの加工方法における主要な工程を説明する。
【0041】まず、図2(A)に示したように、支持工
程として、基板つまりバー201のスライダ200が多
面付けされた表面とは反対の裏面に、スライダ200を
支持する支持体202を貼設する。このとき用いる接着
剤としては、従来から一般的に用いられているワックス
などを好適に用いることができる。なお、接着剤の代わ
りに、支持体202がバー201を吸着するような構成
としてもよい(「支持工程」)。
程として、基板つまりバー201のスライダ200が多
面付けされた表面とは反対の裏面に、スライダ200を
支持する支持体202を貼設する。このとき用いる接着
剤としては、従来から一般的に用いられているワックス
などを好適に用いることができる。なお、接着剤の代わ
りに、支持体202がバー201を吸着するような構成
としてもよい(「支持工程」)。
【0042】また、支持体202において、隣接する各
スライダ200ごとの境界部分つまり切断幅に対応する
部分ごとに、あらかじめ逃げ203の部分を設けてあ
り、後述する第1の切断や第2の切断の際には、バー2
01の表面からこの逃げ203までの間でほぼ均一な切
断条件となるものとする。なお、このような逃げ203
を設けることは、より望ましいことではあるが、必須の
ものでは無く、省略することも可能であることは言うま
でもない。
スライダ200ごとの境界部分つまり切断幅に対応する
部分ごとに、あらかじめ逃げ203の部分を設けてあ
り、後述する第1の切断や第2の切断の際には、バー2
01の表面からこの逃げ203までの間でほぼ均一な切
断条件となるものとする。なお、このような逃げ203
を設けることは、より望ましいことではあるが、必須の
ものでは無く、省略することも可能であることは言うま
でもない。
【0043】次に、図2(B)に示したように、1つの
バー201に含まれる多数のスライダ200を、境界線
の部分をバー201の表面から厚さ方向に全厚に亙って
切断することによって、個々に分離させる。このとき、
本実施の形態では、支持体202は切断しない。あるい
は、図2(B)に示したように支持体202の上部が若
干深く切断されたり傷ついたりしても、この時点におい
て支持体202が完全には切断されていなければよい。
つまり、切断されたバー201の個々の各スライダ20
0を支持体202で繋ぎ止めておくことができればよい
(「第1の切断工程」)。
バー201に含まれる多数のスライダ200を、境界線
の部分をバー201の表面から厚さ方向に全厚に亙って
切断することによって、個々に分離させる。このとき、
本実施の形態では、支持体202は切断しない。あるい
は、図2(B)に示したように支持体202の上部が若
干深く切断されたり傷ついたりしても、この時点におい
て支持体202が完全には切断されていなければよい。
つまり、切断されたバー201の個々の各スライダ20
0を支持体202で繋ぎ止めておくことができればよい
(「第1の切断工程」)。
【0044】この第1の切断工程では、例えば、従来の
一般的なダイヤモンド砥石を用いた切断方法を採用す
る。ダイヤモンド砥石を用いた切断は、上述したように
その切断面やエッジ部分における表面粗さが粗く、また
プロファイル不良の発生やチッピングの発生も多く、ま
たその切断代のばらつきが、砥石の摩耗に起因してかな
り大きくなるので、切断代の寸法精度が低いといった、
多くの問題を抱えている。しかし、その一方で、ダイヤ
モンド砥石は剛体であると考えてよいから、サブミクロ
ンの送り精度を備えたスライサーを用いるなどすれば、
切断位置のアライメント精度、つまり切断線のピッチ精
度については極めて高い精度を得ることができる。
一般的なダイヤモンド砥石を用いた切断方法を採用す
る。ダイヤモンド砥石を用いた切断は、上述したように
その切断面やエッジ部分における表面粗さが粗く、また
プロファイル不良の発生やチッピングの発生も多く、ま
たその切断代のばらつきが、砥石の摩耗に起因してかな
り大きくなるので、切断代の寸法精度が低いといった、
多くの問題を抱えている。しかし、その一方で、ダイヤ
モンド砥石は剛体であると考えてよいから、サブミクロ
ンの送り精度を備えたスライサーを用いるなどすれば、
切断位置のアライメント精度、つまり切断線のピッチ精
度については極めて高い精度を得ることができる。
【0045】一旦、このような高精度のピッチ精度で第
1の切断を行なって、その位置に切断ギャップ、つまり
第1の切断工程によって形成される切断溝204を設け
ておけば、後述の第2の切断工程において用いるワイヤ
ーソウはフレキシブルであるので、ワイヤーがその高精
度な位置に形成された切断溝204に沿ってセルフアラ
イメントされる。これにより、ワイヤーの正確な位置決
めを行うことができる。
1の切断を行なって、その位置に切断ギャップ、つまり
第1の切断工程によって形成される切断溝204を設け
ておけば、後述の第2の切断工程において用いるワイヤ
ーソウはフレキシブルであるので、ワイヤーがその高精
度な位置に形成された切断溝204に沿ってセルフアラ
イメントされる。これにより、ワイヤーの正確な位置決
めを行うことができる。
【0046】従って、切断面の表面平滑度は良好だが本
来は高精度なピッチ精度を得ることが困難なワイヤーソ
ウを用いても、第1の切断工程によって形成された切断
溝204にワイヤー103が誘導されて、切断位置につ
いて高精度なピッチ精度を得ることができる。この意味
で、第1の切断工程においては、一般的なダイヤモンド
砥石による切断方法を好適に採用することができる。
来は高精度なピッチ精度を得ることが困難なワイヤーソ
ウを用いても、第1の切断工程によって形成された切断
溝204にワイヤー103が誘導されて、切断位置につ
いて高精度なピッチ精度を得ることができる。この意味
で、第1の切断工程においては、一般的なダイヤモンド
砥石による切断方法を好適に採用することができる。
【0047】第1の切断工程におけるダイヤモンド砥石
およびその詳細な使用方法の一例として、砥石回転数;
約12,000回転、送り速度;毎分約90mm、砥石番手;8
00〜1500番、砥石径;約90mm、砥石材質;メ
タルボンド系砥石、切断代;約160μmとする。この
ときのピッチ精度としては、1本のバー201内での切
断溝204の累積ピッチ誤差を2μm以下とする。
およびその詳細な使用方法の一例として、砥石回転数;
約12,000回転、送り速度;毎分約90mm、砥石番手;8
00〜1500番、砥石径;約90mm、砥石材質;メ
タルボンド系砥石、切断代;約160μmとする。この
ときのピッチ精度としては、1本のバー201内での切
断溝204の累積ピッチ誤差を2μm以下とする。
【0048】図3は、このような条件で第1の切断を行
なった際の、特に表面側の一部分の切断面およびエッジ
部分について、顕微鏡写真にて観察された状態をその顕
微鏡写真に基づいて模写した図を表すものである。この
図から、切断面205は明らかに荒れており、また、エ
ッジ部分にはチッピング207が発生していることが分
かる。因みに、図4の表に示したように、この状態での
切断面205の表面粗さ(Ra)は20〜30nm、発
生するチッピングの大きさは5〜20μm、突起(歪
み)の大きさは5〜15μmであった。但し、その反
面、図3や図4中には示されていないが、切断溝204
の位置精度、つまりピッチ精度は極めて高精度となって
いる。
なった際の、特に表面側の一部分の切断面およびエッジ
部分について、顕微鏡写真にて観察された状態をその顕
微鏡写真に基づいて模写した図を表すものである。この
図から、切断面205は明らかに荒れており、また、エ
ッジ部分にはチッピング207が発生していることが分
かる。因みに、図4の表に示したように、この状態での
切断面205の表面粗さ(Ra)は20〜30nm、発
生するチッピングの大きさは5〜20μm、突起(歪
み)の大きさは5〜15μmであった。但し、その反
面、図3や図4中には示されていないが、切断溝204
の位置精度、つまりピッチ精度は極めて高精度となって
いる。
【0049】第1の切断工程の後、図2(C)および図
7に示したように、第1の切断工程にて切断された部分
の幅つまり切断溝204の幅よりも大きな直径のワイヤ
ーソウを、バー201の切断溝204の部分に当接し、
このワイヤーソウを長手方向にスライドさせながら、バ
ー201の厚さ方向、つまり図7に符号207を付して
示した矢線方向にバー201の全厚に亙ってスライスさ
せる。これにより、バー201を切断しつつ、かつこの
切断で形成される最終的な切断面206を平滑化する
(「第2の切断工程」)。
7に示したように、第1の切断工程にて切断された部分
の幅つまり切断溝204の幅よりも大きな直径のワイヤ
ーソウを、バー201の切断溝204の部分に当接し、
このワイヤーソウを長手方向にスライドさせながら、バ
ー201の厚さ方向、つまり図7に符号207を付して
示した矢線方向にバー201の全厚に亙ってスライスさ
せる。これにより、バー201を切断しつつ、かつこの
切断で形成される最終的な切断面206を平滑化する
(「第2の切断工程」)。
【0050】この第2の切断工程により、図2(D)お
よび図4の表に示したように、極めて平滑な切断面20
6を形成しながらバー201を完全に個々のスライダ2
00ごとに切断することができる。
よび図4の表に示したように、極めて平滑な切断面20
6を形成しながらバー201を完全に個々のスライダ2
00ごとに切断することができる。
【0051】図5は、このようにして形成された切断面
206およびそのエッジ部の、特に表面側の一部分を顕
微鏡にて観察された状態を、その顕微鏡写真に基づいて
外形を模写して表したものである。前述の図3に示した
第1の切断の場合と比較して、凹凸やチッピングが殆ど
無く、極めて平滑な切断面206が形成されていること
が分かる。
206およびそのエッジ部の、特に表面側の一部分を顕
微鏡にて観察された状態を、その顕微鏡写真に基づいて
外形を模写して表したものである。前述の図3に示した
第1の切断の場合と比較して、凹凸やチッピングが殆ど
無く、極めて平滑な切断面206が形成されていること
が分かる。
【0052】第2の切断工程におけるワイヤーソウの使
用方法の一例として、ワイヤースピード;600m/
分、ワイヤー繰出スピード;3m/分、ワイヤーテンシ
ョン6kg、前加工カーフ(前記の第1の切断時の切断
溝204の幅);約160μm、ワイヤー直径(ワイヤ
ーソウ後);200μm(即ち切断面片面あたり20μ
mの切削除去量)、ワーク送りスピード;0.5mm/
分、ラッピングスラリー;油性オイルに対して0.25
μm径のダイヤモンド砥粒を重量%で1〜2%添加、ス
ラリー供給量;1〜2リッター/分、加工時間;5〜1
0分/1バーとする。また、設定表面粗さ;2nm以
下、設定突起(凹凸)許容範囲;2nm以下とする。
用方法の一例として、ワイヤースピード;600m/
分、ワイヤー繰出スピード;3m/分、ワイヤーテンシ
ョン6kg、前加工カーフ(前記の第1の切断時の切断
溝204の幅);約160μm、ワイヤー直径(ワイヤ
ーソウ後);200μm(即ち切断面片面あたり20μ
mの切削除去量)、ワーク送りスピード;0.5mm/
分、ラッピングスラリー;油性オイルに対して0.25
μm径のダイヤモンド砥粒を重量%で1〜2%添加、ス
ラリー供給量;1〜2リッター/分、加工時間;5〜1
0分/1バーとする。また、設定表面粗さ;2nm以
下、設定突起(凹凸)許容範囲;2nm以下とする。
【0053】このような条件のワイヤーソウを用いて第
2の切断工程を行なった結果、図4の表中(ダイヤ1/
4の欄)に示したように、突起(歪み)は1μm未満、
チッピングの大きさは0.3μm未満、表面粗さ(R
a)は2nm未満となり、極めて平滑で、スライダ20
0の側面として良好な切断面やエッジ部が形成されてい
ることが確認できた。
2の切断工程を行なった結果、図4の表中(ダイヤ1/
4の欄)に示したように、突起(歪み)は1μm未満、
チッピングの大きさは0.3μm未満、表面粗さ(R
a)は2nm未満となり、極めて平滑で、スライダ20
0の側面として良好な切断面やエッジ部が形成されてい
ることが確認できた。
【0054】このようにして第2の切断工程を行なって
バー201を個別のスライダ200として切断した後、
それら個々のスライダ200を支持体202から分離さ
せて、完全に分離されたスライダ200を得ることがで
きる。
バー201を個別のスライダ200として切断した後、
それら個々のスライダ200を支持体202から分離さ
せて、完全に分離されたスライダ200を得ることがで
きる。
【0055】なお、本実施の形態においては、最終的に
スライダ200を支持体202から分離する場合につい
て示したが、これのみには限定しない。この他にも、例
えば支持体202を絶縁性材料からなるものとし、この
支持体202ごとバー201を切断して個々のスライダ
200に分離すれば、最終的に得られた個々のスライダ
200においては絶縁性の支持体202を絶縁層として
用いることができる。このように支持体202は個々の
スライダ200から取り外さないで、スライダ200の
構造の一部である絶縁層として用いるようにすることな
ども可能である。その場合には、第2の切断工程で支持
体202を完全に切断してもよく、あるいは第2の切断
工程でスライダ200を切断した後、別の工程で支持体
202を完全に切断するようにしてもよい。
スライダ200を支持体202から分離する場合につい
て示したが、これのみには限定しない。この他にも、例
えば支持体202を絶縁性材料からなるものとし、この
支持体202ごとバー201を切断して個々のスライダ
200に分離すれば、最終的に得られた個々のスライダ
200においては絶縁性の支持体202を絶縁層として
用いることができる。このように支持体202は個々の
スライダ200から取り外さないで、スライダ200の
構造の一部である絶縁層として用いるようにすることな
ども可能である。その場合には、第2の切断工程で支持
体202を完全に切断してもよく、あるいは第2の切断
工程でスライダ200を切断した後、別の工程で支持体
202を完全に切断するようにしてもよい。
【0056】〔第2の実施の形態〕次に、本発明の第2
の実施の形態について説明する。
の実施の形態について説明する。
【0057】第1の実施の形態では、第1の切断工程に
おいてバー201を表面から裏面まで完全に切断するよ
うにした。これに対して、本実施の形態では、第1の実
施形態における第1の切断工程(図2(B))に相当す
る工程として、図6に示したように、バー201の厚さ
の途中まで切れ込み208を刻設する切込刻設工程を備
えている。その他の工程および方法については第1の実
施の形態と同様であるので、その説明は省略する。この
ような第2の実施の形態の加工方法によっても、第1の
実施の形態とほぼ同様に、極めて平滑で良好な切断面を
得ることができる。
おいてバー201を表面から裏面まで完全に切断するよ
うにした。これに対して、本実施の形態では、第1の実
施形態における第1の切断工程(図2(B))に相当す
る工程として、図6に示したように、バー201の厚さ
の途中まで切れ込み208を刻設する切込刻設工程を備
えている。その他の工程および方法については第1の実
施の形態と同様であるので、その説明は省略する。この
ような第2の実施の形態の加工方法によっても、第1の
実施の形態とほぼ同様に、極めて平滑で良好な切断面を
得ることができる。
【0058】本実施の形態では、まず、バー201の厚
さの途中まで切れ込み208を刻設しておくことによ
り、この切れ込み208に導かれてセルフアラインでワ
イヤーソウ103が正確な位置に当接されること、およ
び少なくともバー201において最も平滑さやチッピン
グの無いことが要求されるバー201の表面側について
は、切れ込み208が必ず存在していることから、バー
201の表面側については、第1の実施の形態と同様に
小さな剪断力で確実にワイヤーソウ103が当接し、そ
の部分の切断面を極めて平滑にすることができる。ま
た、ある程度の深さまで切れ込み208があらかじめ刻
設されていれば、そのよりも深い切れ込みがない部分に
おいても、剪断力およびそれに起因した残留応力が小さ
なものとなる。従って、その部分の表面についても荒れ
ること無く平滑なものとすることができ、また、クロス
クラウンなどの形状不良の発生を解消することができ
る。
さの途中まで切れ込み208を刻設しておくことによ
り、この切れ込み208に導かれてセルフアラインでワ
イヤーソウ103が正確な位置に当接されること、およ
び少なくともバー201において最も平滑さやチッピン
グの無いことが要求されるバー201の表面側について
は、切れ込み208が必ず存在していることから、バー
201の表面側については、第1の実施の形態と同様に
小さな剪断力で確実にワイヤーソウ103が当接し、そ
の部分の切断面を極めて平滑にすることができる。ま
た、ある程度の深さまで切れ込み208があらかじめ刻
設されていれば、そのよりも深い切れ込みがない部分に
おいても、剪断力およびそれに起因した残留応力が小さ
なものとなる。従って、その部分の表面についても荒れ
ること無く平滑なものとすることができ、また、クロス
クラウンなどの形状不良の発生を解消することができ
る。
【0059】なお、切れ込み208を刻設する深さにつ
いては、特に定量的な好適範囲を定めない。これは、バ
ー201の材料力学的な硬さや砥粒の硬さの取り合わせ
や、さらにそれらと切断代の寸法との兼ね合いで、その
切断面の状態が様々に変化するためである。
いては、特に定量的な好適範囲を定めない。これは、バ
ー201の材料力学的な硬さや砥粒の硬さの取り合わせ
や、さらにそれらと切断代の寸法との兼ね合いで、その
切断面の状態が様々に変化するためである。
【0060】しかし、定性的には、前述したような設定
表面粗さ;2nm以下、設定突起(凹凸)許容範囲;2
nm以下、を実現できるような深さまで切れ込み208
を刻設することが必要であると言える。従って、切れ込
み208の深さについては、実際に本発明に係る加工方
法を適用する前に、試験的にバー201やそれを切断す
るワイヤーソウ103の仕様で切断実験を行なってお
き、その実験結果に基づいて前記のような設定表面粗さ
や設定突起(凹凸)許容範囲が実現できるような好適な
深さを求めるなどすればよい。
表面粗さ;2nm以下、設定突起(凹凸)許容範囲;2
nm以下、を実現できるような深さまで切れ込み208
を刻設することが必要であると言える。従って、切れ込
み208の深さについては、実際に本発明に係る加工方
法を適用する前に、試験的にバー201やそれを切断す
るワイヤーソウ103の仕様で切断実験を行なってお
き、その実験結果に基づいて前記のような設定表面粗さ
や設定突起(凹凸)許容範囲が実現できるような好適な
深さを求めるなどすればよい。
【0061】以上の実施の形態においては、いずれも本
発明をスライダの加工工程に適用する場合の一例につい
て述べたが、本発明の適用はこれのみには限定されない
ことは言うまでもない。この他にも、素子として何らか
の機械的な素子形状の平滑さが要求されるような素子に
ついて一般に本発明を適用可能である。そのような素子
の一例としては、例えば、千鳥格子状などに複数個の光
センサ素子を配置してなる密着型イメージセンサが挙げ
られる。このような密着型イメージセンサを構成する複
数個の光センサ素子の分離工程などにおいても、機械的
な平滑性が要求されており、分離された光センサ素子に
チッピングなどが存在していると、これが剥れ落ちた際
に、光センサの表面を傷つけるなどして不都合が生じ
る。すなわち、このような光センサ素子においてもチッ
ピングや切断面の荒れを防ぐことが必要であり、このよ
うな場合にも本発明を好適に利用することができる。
発明をスライダの加工工程に適用する場合の一例につい
て述べたが、本発明の適用はこれのみには限定されない
ことは言うまでもない。この他にも、素子として何らか
の機械的な素子形状の平滑さが要求されるような素子に
ついて一般に本発明を適用可能である。そのような素子
の一例としては、例えば、千鳥格子状などに複数個の光
センサ素子を配置してなる密着型イメージセンサが挙げ
られる。このような密着型イメージセンサを構成する複
数個の光センサ素子の分離工程などにおいても、機械的
な平滑性が要求されており、分離された光センサ素子に
チッピングなどが存在していると、これが剥れ落ちた際
に、光センサの表面を傷つけるなどして不都合が生じ
る。すなわち、このような光センサ素子においてもチッ
ピングや切断面の荒れを防ぐことが必要であり、このよ
うな場合にも本発明を好適に利用することができる。
【0062】あるいは、磁気ヘッド以外にも、サスペン
ションアームの先端部に磁気ヘッドの代りに光磁気記録
用の光学モジュールを搭載するような構造の浮上型ヘッ
ドの分離工程などにおいても、上記実施の形態と同様
に、本発明を好適に利用することができる。また、磁気
ヘッドと光磁気記録用の光学ヘッドとを併せ用いる構造
の浮上型ヘッドの分離工程などにおいても、上記実施の
形態と同様に、本発明を好適に利用することができる。
ションアームの先端部に磁気ヘッドの代りに光磁気記録
用の光学モジュールを搭載するような構造の浮上型ヘッ
ドの分離工程などにおいても、上記実施の形態と同様
に、本発明を好適に利用することができる。また、磁気
ヘッドと光磁気記録用の光学ヘッドとを併せ用いる構造
の浮上型ヘッドの分離工程などにおいても、上記実施の
形態と同様に、本発明を好適に利用することができる。
【0063】更に、浮上型ヘッドのみならず、磁気ディ
スク表面に対して損傷を与えることなく接触するコンタ
クトパッドを備えたコンタクト型の磁気ヘッドや光学ヘ
ッドの分離工程などにおいても、上記実施の形態と同様
に、本発明を好適に利用することが可能である。
スク表面に対して損傷を与えることなく接触するコンタ
クトパッドを備えたコンタクト型の磁気ヘッドや光学ヘ
ッドの分離工程などにおいても、上記実施の形態と同様
に、本発明を好適に利用することが可能である。
【0064】
【発明の効果】以上説明したように本発明の多面付素子
の加工方法またはスライダの加工方法によれば、基板の
厚さ方向の途中までに切れ込みをあらかじめ刻設し、あ
るいは、第1の切断によりあらかじめ切断した上で、そ
の切れ込みにワイヤーソウを当てがい、その状態で基板
を切断し各素子または各スライダに分離するようにした
ので、あらかじめ形成された切れ込みがガイドラインと
してワイヤーソウを適切な境界線、つまり切断位置にセ
ルフアラインで導き、これにより正確な位置において切
断を行うことができる。
の加工方法またはスライダの加工方法によれば、基板の
厚さ方向の途中までに切れ込みをあらかじめ刻設し、あ
るいは、第1の切断によりあらかじめ切断した上で、そ
の切れ込みにワイヤーソウを当てがい、その状態で基板
を切断し各素子または各スライダに分離するようにした
ので、あらかじめ形成された切れ込みがガイドラインと
してワイヤーソウを適切な境界線、つまり切断位置にセ
ルフアラインで導き、これにより正確な位置において切
断を行うことができる。
【0065】従って、特に、1枚の基板に多面付けされ
た素子やスライダであって側面や表面の平滑性が要求さ
れる素子やスライダを切断して個々に分離するにあた
り、プロファイル精度の劣化の問題や、切断面の粗さあ
るいはチッピングに起因したコンタミネーション発生の
問題を解決して、例えば磁気ヘッドの場合ではそれがH
DDに組み込まれて使用される際に、磁気ディスクの損
傷やリード/ライトエラーが発生することの無い、高い
信頼性を以て利用可能な磁気ヘッドを実現するためのス
ライダを提供することができる。
た素子やスライダであって側面や表面の平滑性が要求さ
れる素子やスライダを切断して個々に分離するにあた
り、プロファイル精度の劣化の問題や、切断面の粗さあ
るいはチッピングに起因したコンタミネーション発生の
問題を解決して、例えば磁気ヘッドの場合ではそれがH
DDに組み込まれて使用される際に、磁気ディスクの損
傷やリード/ライトエラーが発生することの無い、高い
信頼性を以て利用可能な磁気ヘッドを実現するためのス
ライダを提供することができる。
【0066】また、プロファイル精度の劣化の問題や、
切断面の粗さあるいはチッピングに起因したコンタミネ
ーション発生の問題を解決して、その実使用時にコンタ
ミネーションに起因した動作不良等が発生することの無
い、高い信頼性を以て利用可能な光センサ素子など各種
の素子を提供することも可能になる。
切断面の粗さあるいはチッピングに起因したコンタミネ
ーション発生の問題を解決して、その実使用時にコンタ
ミネーションに起因した動作不良等が発生することの無
い、高い信頼性を以て利用可能な光センサ素子など各種
の素子を提供することも可能になる。
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る加工方法に用
いられるワイヤーソウ装置の構成の主要部およびそれに
よって加工される(切断されて分離される)複数個のス
ライダが列設されたバーを模式的に表す図である。
いられるワイヤーソウ装置の構成の主要部およびそれに
よって加工される(切断されて分離される)複数個のス
ライダが列設されたバーを模式的に表す図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態に係るスライダの加
工方法における主要な工程をその工程順に表す断面図で
ある。
工方法における主要な工程をその工程順に表す断面図で
ある。
【図3】第1の切断工程の後の表面側の一部分の切断面
およびエッジ部分の状態を説明するための断面図であ
る。
およびエッジ部分の状態を説明するための断面図であ
る。
【図4】第1の切断工程によって形成された切断面の状
態および第1の切断工程による切断面の状態を定量的に
表す図である。
態および第1の切断工程による切断面の状態を定量的に
表す図である。
【図5】第2の切断工程によって形成された切断面およ
びそのエッジ部の、特に表面側の一部分の状態を表す断
面図である。
びそのエッジ部の、特に表面側の一部分の状態を表す断
面図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態における切込刻設工
程を説明するための断面図である。
程を説明するための断面図である。
【図7】ワイヤーソウをバーの切断溝の部分に当接させ
た状態を表す図である。
た状態を表す図である。
【図8】従来の一般的なスライダ加工工程の一例を説明
するための図である。
するための図である。
100…ワイヤーソウ装置、200…スライダ、201
…バー、202…支持体、203…逃げ、204…切断
溝、205,206…切断面、207…チッピング、2
08…切れ込み
…バー、202…支持体、203…逃げ、204…切断
溝、205,206…切断面、207…チッピング、2
08…切れ込み
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C058 AA03 AA05 AA07 AA09 AA18 AB04 AB08 BA02 BA07 BC02 CB01 CB02 DA16 5D042 NA01 RA04
Claims (5)
- 【請求項1】 1枚の基板に多面付けされた複数個の素
子を各素子ごとに分離するための多面付素子の加工方法
であって、 前記素子が多面付けされた前記基板の表面とは反対の裏
面に、前記素子を支持体によって支持させる支持工程
と、 前記基板の各素子間に設定した境界線の部分において、
切れ込みを前記基板の表面から前記基板の厚さ方向に向
かって前記基板の厚さの途中まで刻設する切込刻設工程
と、 前記切れ込みに前記切れ込みの幅よりも大きな直径のワ
イヤーソウを当接し、前記ワイヤーソウを長手方向にス
ライドさせながら、前記基板の厚さ方向に向かって前記
基板の全厚に亙ってスライスさせて、前記基板を切断し
つつ切断により形成される切断面を平滑化する基板切断
工程とを含むことを特徴とする多面付素子の加工方法。 - 【請求項2】 1枚の基板に多面付けされた複数個の素
子を各素子ごとに分離するための多面付素子の加工方法
であって、 前記素子が多面付けされた前記基板の表面とは反対の裏
面に、前記素子を支持持体によって支持させる支持工程
と、 前記基板の各素子間に設定した境界線の部分を、前記基
板の表面から前記基板の厚さ方向に前記基板の全厚に亙
って切断する第1の切断工程と、 前記第1の切断工程にて切断された部分の幅よりも大き
な直径のワイヤーソウを当接し前記ワイヤーソウを長手
方向にスライドさせながら前記基板の厚さ方向に向かっ
て前記基板の全厚に亙ってスライスさせて、前記基板を
切断しつつ切断により形成される切断面を平滑化する第
2の切断工程とを含むことを特徴とする多面付素子の加
工方法。 - 【請求項3】 1枚の基板に多面付けされた複数個のス
ライダを各スライダごとに分離するためのスライダの加
工方法であって、 前記スライダが多面付けされた前記基板の表面とは反対
の裏面に、前記スライダを支持体によって支持させる支
持工程と、 前記基板の各スライダ間に設定された境界線の部分に、
切れ込みを前記基板の表面から前記基板の厚さ方向に向
かって前記基板の厚さの途中まで刻設する切込刻設工程
と、 前記切れ込みに前記切れ込みの幅よりも大きな直径のワ
イヤーソウを当接し前記ワイヤーソウを長手方向にスラ
イドさせながら前記基板の厚さ方向に向かって前記基板
の全厚に亙ってスライスさせて、前記基板を切断しつつ
切断により形成される切断面を平滑化する基板切断工程
とを含むことを特徴とするスライダの加工方法。 - 【請求項4】 1枚の基板に多面付けされた複数個のス
ライダを各スライダごとに分離するためのスライダの加
工方法であって、 前記基板の前記スライダが多面付けされた表面とは反対
の裏面に、前記スライダを支持体によって支持させる支
持工程と、 前記基板の各スライダ間に設定された境界線の部分を、
前記基板の表面から前記基板の厚さ方向に前記基板の全
厚に亙って切断する第1の切断工程と、 前記第1の切断工程にて切断された部分の幅よりも大き
な直径のワイヤーソウを当接し前記ワイヤーソウを長手
方向にスライドさせながら前記基板の厚さ方向に向かっ
て前記基板の全厚に亙ってスライスさせて、前記基板を
切断しつつ切断により形成される切断面を平滑化する第
2の切断工程とを含むことを特徴とするスライダの加工
方法。 - 【請求項5】 前記基板切断工程が、5μm以下の粒径
の砥粒を用いたスラリーと前記ワイヤーソウとを用いて
行なわれることを特徴とする請求項3または4に記載の
スライダの加工方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11103627A JP2000298818A (ja) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | 多面付素子の加工方法およびスライダの加工方法 |
| US09/538,298 US6398623B1 (en) | 1999-04-12 | 2000-03-30 | Processing method of device and processing method of slider |
| SG200001864A SG84586A1 (en) | 1999-04-12 | 2000-03-31 | Processing method of device and processing method of slider |
| CN00106805.9A CN1205615C (zh) | 1999-04-12 | 2000-04-12 | 器件加工方法和滑动触头加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11103627A JP2000298818A (ja) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | 多面付素子の加工方法およびスライダの加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000298818A true JP2000298818A (ja) | 2000-10-24 |
Family
ID=14359016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11103627A Pending JP2000298818A (ja) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | 多面付素子の加工方法およびスライダの加工方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6398623B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000298818A (ja) |
| CN (1) | CN1205615C (ja) |
| SG (1) | SG84586A1 (ja) |
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-
1999
- 1999-04-12 JP JP11103627A patent/JP2000298818A/ja active Pending
-
2000
- 2000-03-30 US US09/538,298 patent/US6398623B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-31 SG SG200001864A patent/SG84586A1/en unknown
- 2000-04-12 CN CN00106805.9A patent/CN1205615C/zh not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1205615C (zh) | 2005-06-08 |
| US6398623B1 (en) | 2002-06-04 |
| CN1270089A (zh) | 2000-10-18 |
| SG84586A1 (en) | 2001-11-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
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