JP2000317672A - 部品実装用クリームはんだ - Google Patents
部品実装用クリームはんだInfo
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- JP2000317672A JP2000317672A JP11129680A JP12968099A JP2000317672A JP 2000317672 A JP2000317672 A JP 2000317672A JP 11129680 A JP11129680 A JP 11129680A JP 12968099 A JP12968099 A JP 12968099A JP 2000317672 A JP2000317672 A JP 2000317672A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 リフロー後のはんだボールの発生を抑制する
ことができる部品実装用クリームはんだを提供するこ
と。 【解決手段】 はんだ粉12の融点よりも高い融点を有
し、かつ、はんだ粉12を構成する粒子の粒度分布内で
その上限側に粒度分布を有する金属微粉末13を混合す
ることにより、リフロー時に金属微粉末13が配線基板
4のランド部4aと部品3の電極部3aとの間に介在さ
せて、表面張力により溶融はんだ12Aがランド部4a
上へ集まる領域を大きくし、ランド部4aの周辺に取り
残されるはんだの量を減らす。
ことができる部品実装用クリームはんだを提供するこ
と。 【解決手段】 はんだ粉12の融点よりも高い融点を有
し、かつ、はんだ粉12を構成する粒子の粒度分布内で
その上限側に粒度分布を有する金属微粉末13を混合す
ることにより、リフロー時に金属微粉末13が配線基板
4のランド部4aと部品3の電極部3aとの間に介在さ
せて、表面張力により溶融はんだ12Aがランド部4a
上へ集まる領域を大きくし、ランド部4aの周辺に取り
残されるはんだの量を減らす。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、部品実装用クリー
ムはんだに関し、更に詳しくは、リフロー後のはんだボ
ール発生の抑制を図った部品実装用クリームはんだに関
する。
ムはんだに関し、更に詳しくは、リフロー後のはんだボ
ール発生の抑制を図った部品実装用クリームはんだに関
する。
【0002】
【従来の技術】現在、電子部品の高密度実装用クリーム
はんだとして主に、化学組成が重量比でSn(錫)63
%、Pb(鉛)37%の共晶はんだ粉をフラックス中に
分散させたものが使用されている。
はんだとして主に、化学組成が重量比でSn(錫)63
%、Pb(鉛)37%の共晶はんだ粉をフラックス中に
分散させたものが使用されている。
【0003】配線基板への部品の実装は図3に示すよう
に、あらかじめクリームはんだ1を塗布した配線基板の
ランド部4aに部品3の電極部3aを載置し、リフロー
炉にてクリームはんだ中のはんだ粉2を溶融して上記ラ
ンド部4aと電極部3aとを接合することにより行われ
る。このとき、クリームはんだ中のフラックスは印刷に
よる塗布を可能とするとともに、リフロー時、はんだ粉
2やランド部4aあるいは電極部3aの表面の酸化膜を
除去し、はんだの接合を助ける働きをする。
に、あらかじめクリームはんだ1を塗布した配線基板の
ランド部4aに部品3の電極部3aを載置し、リフロー
炉にてクリームはんだ中のはんだ粉2を溶融して上記ラ
ンド部4aと電極部3aとを接合することにより行われ
る。このとき、クリームはんだ中のフラックスは印刷に
よる塗布を可能とするとともに、リフロー時、はんだ粉
2やランド部4aあるいは電極部3aの表面の酸化膜を
除去し、はんだの接合を助ける働きをする。
【0004】ここで問題となるとは、図3Bに示すよう
に、リフロー処理後にランド部4aまたは部品3の周辺
に発生するはんだボール10である。図4に示すよう
に、部品3は配線基板4上のはんだ粉2上に載置された
状態で予備加熱が行われ(図4A)、本加熱時にはそれ
が溶融はんだ2Aとなって周辺に拡がり(図4B)、は
んだ自身の表面張力でランド部4aに集中して、はんだ
フィレット2Bを形成する。はんだボール10は、ラン
ド部4aに集中せずに取り残されたはんだによって形成
されるもので(図4C)、例えばφ100μmぐらいの
大きさである。
に、リフロー処理後にランド部4aまたは部品3の周辺
に発生するはんだボール10である。図4に示すよう
に、部品3は配線基板4上のはんだ粉2上に載置された
状態で予備加熱が行われ(図4A)、本加熱時にはそれ
が溶融はんだ2Aとなって周辺に拡がり(図4B)、は
んだ自身の表面張力でランド部4aに集中して、はんだ
フィレット2Bを形成する。はんだボール10は、ラン
ド部4aに集中せずに取り残されたはんだによって形成
されるもので(図4C)、例えばφ100μmぐらいの
大きさである。
【0005】はんだボール10は、品質面からいえば無
いのが望ましい。現在のところ、洗浄除去しなくても部
品間隔が相対的に広く、隣接するランド間の絶縁性を特
に悪化させていないことや、フラックスに包まれている
ため製品完成後でも配線基板から落ちたりしてどこかを
ショートさせる事故もない。
いのが望ましい。現在のところ、洗浄除去しなくても部
品間隔が相対的に広く、隣接するランド間の絶縁性を特
に悪化させていないことや、フラックスに包まれている
ため製品完成後でも配線基板から落ちたりしてどこかを
ショートさせる事故もない。
【0006】しかし、携帯用の電子部品が盛んに使用さ
れるようになり、配線基板は一層の軽薄短小化が検討・
導入されている。そのため、部品・ランドの間隔が狭ま
り(狭ピッチ化)、例えばφ100μmのはんだボール
でもランド間の絶縁性劣化をもたらし(ブリッジ)、問
題視されるようになる。
れるようになり、配線基板は一層の軽薄短小化が検討・
導入されている。そのため、部品・ランドの間隔が狭ま
り(狭ピッチ化)、例えばφ100μmのはんだボール
でもランド間の絶縁性劣化をもたらし(ブリッジ)、問
題視されるようになる。
【0007】一方、特開平7−303981号公報に
は、溶融時の流動性を抑えて形状保持性を高めるべく、
銀銅傾斜構造を有する金属粒子を混合したはんだ組成物
が開示されている。このはんだ組成物が、はんだボール
対策として有効かどうかは触れていないが、その形状保
持性試験で隣接するランド間にまたがって供給された上
記構造のはんだがリフロー後もその形態を保持すること
を求めている。したがって、上記公報に記載のはんだ組
成物から成るクリームはんだを用いて部品の高密度実装
を図ると、印刷のずれや部品搭載時にクリームはんだが
はみ出して隣接するランドと接触した場合、リフロー後
もその状態が保持されることになり、ブリッジとして絶
縁不良が発生してしまう。これでは高品質の高密度実装
基板を得ることはできない。
は、溶融時の流動性を抑えて形状保持性を高めるべく、
銀銅傾斜構造を有する金属粒子を混合したはんだ組成物
が開示されている。このはんだ組成物が、はんだボール
対策として有効かどうかは触れていないが、その形状保
持性試験で隣接するランド間にまたがって供給された上
記構造のはんだがリフロー後もその形態を保持すること
を求めている。したがって、上記公報に記載のはんだ組
成物から成るクリームはんだを用いて部品の高密度実装
を図ると、印刷のずれや部品搭載時にクリームはんだが
はみ出して隣接するランドと接触した場合、リフロー後
もその状態が保持されることになり、ブリッジとして絶
縁不良が発生してしまう。これでは高品質の高密度実装
基板を得ることはできない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の問題に
鑑みてなされ、リフロー後のはんだボールの発生を抑制
することができる部品実装用クリームはんだを提供する
ことを課題とする。
鑑みてなされ、リフロー後のはんだボールの発生を抑制
することができる部品実装用クリームはんだを提供する
ことを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するに
当たり、本発明に係るクリームはんだは、はんだ粉の融
点よりも高い融点を有し、かつ、はんだ粉を構成する粒
子の粒度分布内でその上限側に粒度分布を有する金属微
粉末を混合した。
当たり、本発明に係るクリームはんだは、はんだ粉の融
点よりも高い融点を有し、かつ、はんだ粉を構成する粒
子の粒度分布内でその上限側に粒度分布を有する金属微
粉末を混合した。
【0010】すなわち、リフロー時、上記金属微粉末を
配線基板のランド部と部品の電極部との間に介在させる
ことによって、溶融はんだが表面張力により集まるラン
ド部上の領域を大きくする。また、金属微粉末の粒度を
はんだ粉の粒度分布の上限側の領域内に分布させること
によって、溶融はんだ中の金属微粉末の拡散時間をすべ
てのランド部において一様にし、拡がった溶融はんだを
ランド部に集める時間を十分に確保する。したがって、
ランド部周辺に取り残されるはんだは従来よりも大幅に
低減し、はんだボールの発生が抑制される。
配線基板のランド部と部品の電極部との間に介在させる
ことによって、溶融はんだが表面張力により集まるラン
ド部上の領域を大きくする。また、金属微粉末の粒度を
はんだ粉の粒度分布の上限側の領域内に分布させること
によって、溶融はんだ中の金属微粉末の拡散時間をすべ
てのランド部において一様にし、拡がった溶融はんだを
ランド部に集める時間を十分に確保する。したがって、
ランド部周辺に取り残されるはんだは従来よりも大幅に
低減し、はんだボールの発生が抑制される。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
て図面を参照して説明する。
【0012】図1は、本実施の形態におけるクリームは
んだを構成する粒子の粒度分布を示し、符号S1は基本
材料として重量比でSn(錫)63%−Pb(鉛)37
%の共晶はんだの粉末の粒度分布曲線であり、符号S2
は重量比でSn95%−Ag(銀)5%で成る金属微粉
末の粒度分布曲線である。はんだ粉(Pb−Sn)の粒
度は20μm〜60μmに全体の70%が分布してお
り、金属微粉末(Sn−Ag)の粒度は50μm〜65
μmといった、はんだ粉の粒度分布の上限側の狭い範囲
に分布している。本実施の形態では金属微粉末をはんだ
粉に対して例えば重量比で5%均一に混合する。このよ
うな粒度分布を持つはんだ粉および金属微粉末をフラッ
クス中に分散させることにより、クリームはんだが形成
される。
んだを構成する粒子の粒度分布を示し、符号S1は基本
材料として重量比でSn(錫)63%−Pb(鉛)37
%の共晶はんだの粉末の粒度分布曲線であり、符号S2
は重量比でSn95%−Ag(銀)5%で成る金属微粉
末の粒度分布曲線である。はんだ粉(Pb−Sn)の粒
度は20μm〜60μmに全体の70%が分布してお
り、金属微粉末(Sn−Ag)の粒度は50μm〜65
μmといった、はんだ粉の粒度分布の上限側の狭い範囲
に分布している。本実施の形態では金属微粉末をはんだ
粉に対して例えば重量比で5%均一に混合する。このよ
うな粒度分布を持つはんだ粉および金属微粉末をフラッ
クス中に分散させることにより、クリームはんだが形成
される。
【0013】図2は、本発明の実施の形態を示してい
る。配線基板4上のランド部4aにスクリーン印刷やデ
ィスペンサーで上述した構成のクリームはんだが供給さ
れる。その後、次のリフロー工程で予備加熱、本加熱、
冷却という過程を経て、ランド部4aと電極部3aとの
接合が実現される。
る。配線基板4上のランド部4aにスクリーン印刷やデ
ィスペンサーで上述した構成のクリームはんだが供給さ
れる。その後、次のリフロー工程で予備加熱、本加熱、
冷却という過程を経て、ランド部4aと電極部3aとの
接合が実現される。
【0014】図2Aを参照して、クリームはんだは、例
えば0.5mm×0.25mmのランド部4a上に厚さ
120μmほどでスクリーン印刷され、その上に電極部
3aが対向するように部品3が搭載されるが、このとき
電極部3aとランド部4aが接触するまで押し付けられ
ることはない。したがって、電極部3aとランド部4a
との間にはクリームはんだ(はんだ粉12及び金属微粉
末13)が存在する。これが室温での状態である。
えば0.5mm×0.25mmのランド部4a上に厚さ
120μmほどでスクリーン印刷され、その上に電極部
3aが対向するように部品3が搭載されるが、このとき
電極部3aとランド部4aが接触するまで押し付けられ
ることはない。したがって、電極部3aとランド部4a
との間にはクリームはんだ(はんだ粉12及び金属微粉
末13)が存在する。これが室温での状態である。
【0015】予備加熱では、クリームはんだに含まれる
フラックスの粘度が低下し流動するようになるが、室温
の状態とあまり変わることはない。
フラックスの粘度が低下し流動するようになるが、室温
の状態とあまり変わることはない。
【0016】図2Bを参照して、次の本加熱(はんだ粉
12の融点以上の温度、本実施の形態では183℃以上
の温度での処理)の初期の状態では、はんだ粉12が溶
融し始め、ランド部4aおよび電極部3aに濡れ始める
とともに溶融はんだ12Aがランド部4a周辺に拡が
る。そして、はんだの表面張力で溶融はんだ12Aがラ
ンド部4a上に集まり始める。
12の融点以上の温度、本実施の形態では183℃以上
の温度での処理)の初期の状態では、はんだ粉12が溶
融し始め、ランド部4aおよび電極部3aに濡れ始める
とともに溶融はんだ12Aがランド部4a周辺に拡が
る。そして、はんだの表面張力で溶融はんだ12Aがラ
ンド部4a上に集まり始める。
【0017】金属微粉末13は、はんだ粉12の融点よ
りも高いので、はんだ粉12の溶融時に溶融することな
くランド部4a上で電極部3aを支えた状態となり、こ
れにより部品3は溶融はんだ12A中に沈み込まず、配
線基板4から浮いた状態にある。したがって、部品3が
配線基板4から浮いている分だけ、溶融はんだ12Aの
集まる領域が従来よりも大きくなり、溶融はんだ12A
の表面張力によるランド部4a上への集中がなされ易
く、ランド部4aの周辺に取り残されるはんだの量が従
来に比べて大幅に減少する。これにより、はんだボール
10の発生率が従来に比べて大幅に減少する。
りも高いので、はんだ粉12の溶融時に溶融することな
くランド部4a上で電極部3aを支えた状態となり、こ
れにより部品3は溶融はんだ12A中に沈み込まず、配
線基板4から浮いた状態にある。したがって、部品3が
配線基板4から浮いている分だけ、溶融はんだ12Aの
集まる領域が従来よりも大きくなり、溶融はんだ12A
の表面張力によるランド部4a上への集中がなされ易
く、ランド部4aの周辺に取り残されるはんだの量が従
来に比べて大幅に減少する。これにより、はんだボール
10の発生率が従来に比べて大幅に減少する。
【0018】同時に、金属微粉末13は熱により溶融は
んだ12A中に拡散して粒子径が次第に減少し、これに
より部品3は配線基板4に向かって沈み、最終的に電極
部3aとランド部4aとが接触する(図2C)。
んだ12A中に拡散して粒子径が次第に減少し、これに
より部品3は配線基板4に向かって沈み、最終的に電極
部3aとランド部4aとが接触する(図2C)。
【0019】また、金属微粉末13の粒度分布を、はん
だ粉12の粒度分布の上限側(50〜65μm)の狭い
範囲に分布させた理由は、粒径の小さな金属微粉末で
は、はんだへの拡散時間が短く、そのため拡がったはん
だを十分集める時間が確保できないうちに部品3がはん
だの中に沈み込んでしまう場合があるからである。逆
に、金属微粉末の粒度を必要以上に大きくすると、金属
微粉末が拡散しきれずにはんだが固化してしまい、部品
がバランスを崩し傾いた状態で固着される可能性があ
る。
だ粉12の粒度分布の上限側(50〜65μm)の狭い
範囲に分布させた理由は、粒径の小さな金属微粉末で
は、はんだへの拡散時間が短く、そのため拡がったはん
だを十分集める時間が確保できないうちに部品3がはん
だの中に沈み込んでしまう場合があるからである。逆
に、金属微粉末の粒度を必要以上に大きくすると、金属
微粉末が拡散しきれずにはんだが固化してしまい、部品
がバランスを崩し傾いた状態で固着される可能性があ
る。
【0020】本加熱の後期の状態から冷却過程では、は
んだはフィレット12Bを形成して冷却され、電極部3
aはランド部4aに接触した安定な状態で接合される。
このとき、リフロー時にランド部4aに集まりきれず周
辺に取り残されたはんだがあったとしても、従来よりも
その量が少ないので、はんだボール10の径は従来より
も小さなものとなる。
んだはフィレット12Bを形成して冷却され、電極部3
aはランド部4aに接触した安定な状態で接合される。
このとき、リフロー時にランド部4aに集まりきれず周
辺に取り残されたはんだがあったとしても、従来よりも
その量が少ないので、はんだボール10の径は従来より
も小さなものとなる。
【0021】次に、金属微粉末13の含有量について説
明する。本実施の形態では、Pb−Snの共晶はんだを
基本材料として、金属微粉末(Sn−Ag)を重量比で
5%混合したが、この場合、金属微粉末は1%以上15
%以下の範囲内で混合させるのが望ましい。
明する。本実施の形態では、Pb−Snの共晶はんだを
基本材料として、金属微粉末(Sn−Ag)を重量比で
5%混合したが、この場合、金属微粉末は1%以上15
%以下の範囲内で混合させるのが望ましい。
【0022】下限の1%は、部品3の端子(電極部3
a)1個あたりに少なくとも1個以上の金属微粉末が含
まれていなければならないことから規定される。例え
ば、0.5mm×0.25mmのランドに供給されるク
リームはんだの厚さが120μmであるとすると、クリ
ームはんだの供給量は1端子あたり0.015mm3 と
なる。リフロー後、フラックス中の溶剤などが揮発し溶
融したはんだの体積は供給量の1/2であるので、1端
子あたりのはんだ量は概略0.0075mm3 となる。
一方、金属微粉末の粒径をφ55μmとすると、この粒
子1個あたりの体積は、8.7×10-5mm3 となり、
1端子あたりのはんだ量の約1/100となることか
ら、少なくとも1%あれば、ランドに金属微粉末が少な
くとも1個存在することになる。
a)1個あたりに少なくとも1個以上の金属微粉末が含
まれていなければならないことから規定される。例え
ば、0.5mm×0.25mmのランドに供給されるク
リームはんだの厚さが120μmであるとすると、クリ
ームはんだの供給量は1端子あたり0.015mm3 と
なる。リフロー後、フラックス中の溶剤などが揮発し溶
融したはんだの体積は供給量の1/2であるので、1端
子あたりのはんだ量は概略0.0075mm3 となる。
一方、金属微粉末の粒径をφ55μmとすると、この粒
子1個あたりの体積は、8.7×10-5mm3 となり、
1端子あたりのはんだ量の約1/100となることか
ら、少なくとも1%あれば、ランドに金属微粉末が少な
くとも1個存在することになる。
【0023】また、上限の15%は、金属微粉末が15
%を超える混合比では、Sn:Pbの比が共晶から大き
くずれ、現行の温度プロファイルでは十分溶け切らない
こととなるからである。
%を超える混合比では、Sn:Pbの比が共晶から大き
くずれ、現行の温度プロファイルでは十分溶け切らない
こととなるからである。
【0024】次に、金属微粉末として用いたSn−Ag
のAgの含有量について説明する。これは実験結果から
得られたもので、重量比で5%を最良として、3%以上
7%以下の含有量のものは効果がみられた。3%未満や
7%を超えるものでも全く効果が期待できないとはいえ
ない。しかし、3%未満では金属粒子の共晶はんだへの
拡散時間が短くなり、周辺に拡がったはんだをランド内
に集めるのには時間が十分ではない。一方、7%を超え
るものでは先に述べたと同じように、Agの高比率が融
点の上昇を招く結果となり、現行の温度プロファイルで
は十分に溶け切らないこととなる。
のAgの含有量について説明する。これは実験結果から
得られたもので、重量比で5%を最良として、3%以上
7%以下の含有量のものは効果がみられた。3%未満や
7%を超えるものでも全く効果が期待できないとはいえ
ない。しかし、3%未満では金属粒子の共晶はんだへの
拡散時間が短くなり、周辺に拡がったはんだをランド内
に集めるのには時間が十分ではない。一方、7%を超え
るものでは先に述べたと同じように、Agの高比率が融
点の上昇を招く結果となり、現行の温度プロファイルで
は十分に溶け切らないこととなる。
【0025】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発
明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
たが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発
明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【0026】例えば以上の実施の形態では、金属微粉末
としてSn−Agを混合したが、これに代えてAg単体
を混合することも可能である。その他、はんだ粉12よ
りも高い融点を有するものであれば適用可能である。
としてSn−Agを混合したが、これに代えてAg単体
を混合することも可能である。その他、はんだ粉12よ
りも高い融点を有するものであれば適用可能である。
【0027】また、以上の実施の形態では、はんだ粉1
2をSn−Pb系で構成したが、これに限らず、例えば
Sn−Ag系などの、いわゆる無鉛はんだを用いること
も可能である。
2をSn−Pb系で構成したが、これに限らず、例えば
Sn−Ag系などの、いわゆる無鉛はんだを用いること
も可能である。
【0028】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の部品実装用
クリームはんだによれば、はんだボールの発生率が大幅
に減り、且つ、発生したはんだボールの平均粒径も小さ
くなるので、狭ピッチの実装基板の品質を維持、向上さ
せることができる。
クリームはんだによれば、はんだボールの発生率が大幅
に減り、且つ、発生したはんだボールの平均粒径も小さ
くなるので、狭ピッチの実装基板の品質を維持、向上さ
せることができる。
【0029】また、請求項2および請求項3の発明によ
れば、Sn−Pb系のはんだ粉を基本にSn−Ag系の
金属微粉末を混合した構成のクリームはんだに対して、
最も効果的にはんだボールの低減を実現することができ
る。
れば、Sn−Pb系のはんだ粉を基本にSn−Ag系の
金属微粉末を混合した構成のクリームはんだに対して、
最も効果的にはんだボールの低減を実現することができ
る。
【図1】本発明の実施の形態におけるクリームはんだ中
のはんだ粉の粒度分布と金属微粉末の粒度分布を示す図
である。
のはんだ粉の粒度分布と金属微粉末の粒度分布を示す図
である。
【図2】本発明の実施の形態による部品の接合過程を説
明する模式図であり、Aは室温または予備加熱時の状態
を示し、Bは本加熱初期の状態を示し、そしてCは本加
熱後期の状態を示している。
明する模式図であり、Aは室温または予備加熱時の状態
を示し、Bは本加熱初期の状態を示し、そしてCは本加
熱後期の状態を示している。
【図3】配線基板への部品の実装過程を説明する平面図
であり、Aは配線基板のランド部へのクリームはんだ塗
布工程を示し、Bはリフロー後の状態を示している。
であり、Aは配線基板のランド部へのクリームはんだ塗
布工程を示し、Bはリフロー後の状態を示している。
【図4】従来のクリームはんだによる部品の接合過程を
説明する模式図であり、Aは室温または予備加熱時の状
態を示し、Bは本加熱初期の状態を示し、そしてCは本
加熱後期の状態を示している。
説明する模式図であり、Aは室温または予備加熱時の状
態を示し、Bは本加熱初期の状態を示し、そしてCは本
加熱後期の状態を示している。
3…部品、3a…電極部、4…配線基板、4a…ランド
部、10…はんだボール、12…はんだ粉、12A…溶
融はんだ、12B…はんだフィレット、13…金属微粉
末。
部、10…はんだボール、12…はんだ粉、12A…溶
融はんだ、12B…はんだフィレット、13…金属微粉
末。
Claims (3)
- 【請求項1】 はんだ粉をフラックス中に分散させた部
品実装用クリームはんだであって、配線基板のランド部
に塗布され、部品搭載後、リフロー処理により前記はん
だ粉を溶融させ前記ランド部と前記部品の電極部とを接
合する部品実装用クリームはんだにおいて、 前記はんだ粉の融点よりも高い融点を有し、かつ、 前記はんだ粉を構成する粒子の粒度分布内でその上限側
に粒度分布を有する金属微粉末を混合したことを特徴と
する部品実装用クリームはんだ。 - 【請求項2】 前記はんだ粉はSn63重量%−Pb3
7重量%合金であるとともに、 前記金属微粉末は1重量%以上15重量%以下含まれる
AgまたはSn−Ag合金であることを特徴とする請求
項1に記載の部品実装用クリームはんだ。 - 【請求項3】 前記Sn−Ag合金のAgの含有量は、
3重量%以上7重量%以下であることを特徴とする請求
項2に記載の部品実装用クリームはんだ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129680A JP2000317672A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | 部品実装用クリームはんだ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129680A JP2000317672A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | 部品実装用クリームはんだ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000317672A true JP2000317672A (ja) | 2000-11-21 |
Family
ID=15015527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11129680A Pending JP2000317672A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | 部品実装用クリームはんだ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000317672A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2017154329A1 (ja) * | 2016-03-07 | 2018-11-22 | 株式会社村田製作所 | 接合体の製造方法及び接合材料 |
| CN114695623A (zh) * | 2022-03-23 | 2022-07-01 | Tcl华星光电技术有限公司 | 显示面板及其制备方法和显示装置 |
-
1999
- 1999-05-11 JP JP11129680A patent/JP2000317672A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2017154329A1 (ja) * | 2016-03-07 | 2018-11-22 | 株式会社村田製作所 | 接合体の製造方法及び接合材料 |
| CN114695623A (zh) * | 2022-03-23 | 2022-07-01 | Tcl华星光电技术有限公司 | 显示面板及其制备方法和显示装置 |
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