JP2000319360A - 封止用樹脂組成物および半導体封止装置 - Google Patents

封止用樹脂組成物および半導体封止装置

Info

Publication number
JP2000319360A
JP2000319360A JP11125484A JP12548499A JP2000319360A JP 2000319360 A JP2000319360 A JP 2000319360A JP 11125484 A JP11125484 A JP 11125484A JP 12548499 A JP12548499 A JP 12548499A JP 2000319360 A JP2000319360 A JP 2000319360A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sealing
resin composition
resin
semiconductor
allyl ether
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11125484A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3096287B1 (ja
Inventor
Nobuhiro Sudo
信博 須藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Chemical Corp filed Critical Toshiba Chemical Corp
Priority to JP11125484A priority Critical patent/JP3096287B1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3096287B1 publication Critical patent/JP3096287B1/ja
Publication of JP2000319360A publication Critical patent/JP2000319360A/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 特にハロゲン(塩素、臭素)化合物および金
属酸化物を含有しない、アリルエーテルを有するフェノ
ール樹脂の使用により、難燃性、成形性、耐湿性および
信頼性のよい、封止用樹脂組成物および半導体封止装置
を提供する。 【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹
脂、(C)アリルエーテルを有するフェノール樹脂およ
び(D)無機充填剤を必須成分とし、樹脂組成物全体に
対して、前記(C)アリルエーテルを有するフェノール
樹脂を0.1〜50重量%、また前記(D)無機充填剤
を40〜95重量%の割合で含有してなる封止用樹脂組
成物である。また、この封止用樹脂組成物の硬化物によ
って半導体チップを封止してなる半導体封止装置であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン(塩素、
臭素)化合物および金属酸化物を添加することなしに、
優れた難燃性を有し、また、成形性、耐湿性および信頼
性に優れた封止用樹脂組成物および半導体封止装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置では、その封止樹脂に難燃性
をもたせることが一般的であり、難燃の処方として、ハ
ロゲン(塩素、臭素)化合物および金属酸化物を単独も
しくは併用することで難燃効果を現している。しかし、
封止用樹脂組成物の難燃効果を現すために添加されるハ
ロゲン(塩素、臭素)化合物、特に臭素化エポキシ樹脂
およびその難燃効果を助けるために添加される金属酸化
物、特に三酸化アンチモンは、半導体装置の信頼性を低
下させるという欠点があった。そればかりか、最近では
環境への悪影響も指摘され始めている。このため、成形
性、耐湿性、信頼性に優れた、ハロゲン(塩素、臭素)
化合物および金属酸化物を含有しない封止用の樹脂組成
物の開発が強く要望されており、その代替材として、リ
ン系難燃剤、金属水和物などの検討が広く進められてい
る。しかし、リン系難燃剤の多くはリン酸エステル系の
ものが多く、難燃効果が得られても、加水分解により発
生するリン酸が、半導体封止装置の耐湿信頼性をを低下
させる原因となってしまい、十分な信頼性を確保するこ
とができていない。また、金属水和物についても十分な
成形性が確保できないばかりか、その吸湿特性の劣化
は、半導体封止装置の信頼性を大きく低下させてしまう
欠点があった。そのため、成形性、耐湿性および信頼性
に優れたハロゲン(塩素、臭素)化合物および金属酸化
物を含有しない封止用の樹脂組成物の開発が強く要望さ
れてきた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点を
解消し、上記要望に応えるためになされたもので、ハロ
ゲン(塩素、臭素)化合物および金属酸化物を含有する
ことなく、十分な難燃性を付与しつつ、成形性、耐湿性
および信頼性のよい、封止用樹脂組成物および半導体封
止装置を提供しようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、樹脂組成物に、
アリルエーテルを有するフェノール樹脂を配合すること
によって、十分な難燃性、成形性とともに耐湿性と信頼
性が向上し、上記目的が達成されることを見いだし、本
発明を完成させたものである。
【0005】即ち、本発明は、(A)エポキシ樹脂、
(B)フェノール樹脂、(C)アリルエーテルを有する
フェノール樹脂および(D)無機充填剤を必須成分と
し、樹脂組成物に対して、前記(C)アリルエーテルを
有するフェノール樹脂を0.1〜50重量%、また前記
(D)無機充填剤を40〜95重量%の割合で含有して
なることを特徴とする封止用樹脂組成物である。また、
この封止用樹脂組成物の硬化物によって、半導体チップ
を封止してなることを特徴とする半導体封止装置であ
る。
【0006】以下、本発明を詳細に説明する。
【0007】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂として
は、その分子中にエポキシ基を少なくとも2個有する化
合物である限り、分子構造および分子量など特に制限は
なく、一般に封止用材料として使用されるものを広く包
含することができる。例えば、ビフェニル型、ビスフェ
ノール型の芳香族系、シクロヘキサン誘導体等脂肪族
系、また、次の一般式で示されるようなものが挙げられ
る。
【0008】
【化1】 (但し、式中、R1 、R2 は水素原子あるいはアルキル
基を、またnは1以上の整数をそれぞれ表す) これらのエポキシ樹脂は、単独もしくは2種類以上混合
して用いることができる。
【0009】本発明に用いる(B)フェノール樹脂とし
ては、前記(A)のエポキシ樹脂と反応し得るフェノー
ル性水酸基を2個以上有するものであれば、特に制限す
るものではない。具体的なものとしては、例えば、次の
式に示されるものがある。
【0010】
【化2】 (但し、式中、nは0または1以上の整数を表す)
【化3】 (但し、式中、nは1以上の整数を表す)等が挙げら
れ、これらの樹脂は、単独もしくは2種類以上混合して
用いることができる。
【0011】フェノール樹脂の配合割合は、前述したエ
ポキシ樹脂のエポキシ基(a)とフェノール樹脂のフェ
ノール性水酸基(b)との当量比(a)/(b)の値が
0.1〜10の範囲内であることが望ましい。当量比が
0.1未満あるいは10を超えると、耐湿性、耐熱性、
成形作業性および硬化物の電気特性が悪くなり、いずれ
の場合も好ましくない。従って上記の範囲内に限定する
のがよい。
【0012】本発明に用いる(C)のアリルエーテルを
有するフェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を
2個以上有するもので、その水酸基の一部にアリル基を
導入してアリルオキシ基としたものであれば特に制限す
るものではない。具体的な化合物としては、例えば、
【化4】 式中のアリルエーテルは、加熱によりクライゼン転移す
るようなアリル基などの置換基を有するものであればよ
い。
【0013】アリルエーテルを有するフェノール樹脂の
配合割合は、全体の樹脂組成物に対して0.1〜50重
量%含有することが望ましい。この割合が0.1重量%
未満では、充分な難燃効果が得られず、また50重量%
を超えると、耐湿性、機械的特性および成形性が悪くな
り、実用に適さず好ましくない。
【0014】本発明に用いる(D)の無機充填剤として
は、シリカ粉末、アルミナ粉末、タルク、炭酸カルシウ
ム、酸化チタンおよびガラス繊維等が挙げられ、これら
は、単独もしくは2種類以上混合して用いることができ
る。これらのなかでも特にシリカ粉末やアルミナ粉末が
好ましく、これらはよく使用される。無機充填剤の配合
割合は、全体の樹脂組成物に対して40〜95重量%の
割合で含有することが望ましい。その割合が40重量%
未満では、耐熱性、耐湿性、半田耐熱性、機械的特性お
よび成形性が悪くなり、また、95重量%を超えると、
かさばりが大きくなり成形性に劣り実用に適さない。
【0015】本発明の封止用樹脂組成物は、前述したエ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、アリルエーテルを有する
フェノール樹脂および無機充填剤を主成分とするが、本
発明の目的に反しない限度において、また必要に応じて
例えば、天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪族
の金属塩、酸アミド類、エステル類、パラフィン系等の
離型剤、エラストマー等の低応力化成分、カーボンブラ
ック等の着色剤、シランカップリング剤等の無機充填剤
の処理剤、種々の硬化促進剤などを適宜、添加配合する
ことができる。
【0016】本発明の封止用樹脂組成物を成形材料とし
て調製する場合の一般的な方法としては、前述したエポ
キシ樹脂、フェノール樹脂、アリルエーテルを有するフ
ェノール樹脂、無機充填剤およびその他の成分を配合
し、ミキサー等によって十分均一に混合した後、さらに
熱ロールによる溶融混合処理、またはニーダ等による混
合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉
砕して成形材料とすることができる。こうして得られた
成形材料は、半導体封止をはじめとする電子部品あるい
は電気部品の封止、被覆、絶縁等に適用すれば、優れた
特性と信頼性を付与させることができる。
【0017】本発明の半導体装置は、上記のようにして
得られた封止用樹脂を用いて、半導体チップを封止する
ことにより容易に製造することができる。封止の最も一
般的な方法としては、低圧トランスファー成形方がある
が、射出成形、圧縮成形および注型などによる封止も可
能である。封止用樹脂組成物を封止の際に加熱して硬化
させ、最終的にはこの組成物の硬化物によって封止され
た半導体封止装置が得られる。加熱による硬化は、15
0℃以上に加熱して硬化させることが望ましい。封止を
行う半導体装置としては、例えば、集積回路、大規模集
積回路、トランジスタ、サイリスタおよびダイオード等
で特に限定されるものではない。
【0018】
【作用】本発明の封止用樹脂組成物および半導体封止装
置は、樹脂成分としてアリルエーテルを有するフェノー
ル樹脂を用いたことにより、目的とする特性が得られる
ものである。即ち、アリルエーテルを有するフェノール
樹脂は十分な成形性を保ちながら、樹脂組成物に優れた
難燃性を付与し、その化合物の安定性から半導体装置に
おいて耐湿性および信頼性を向上させることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明を実施例によって説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。以下の実施例および比較例において
「%」とは「重量%」を意味する。
【0020】実施例1 多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量164)5%に、ノ
ボラック型フェノール樹脂(フェノール当量97)1
%、前記の化4に示すアリルエーテルを有するフェノー
ル樹脂(フェノール当量122)を3%、溶融シリカ粉
末83%およびワックス類0.3%を配合し常温で混合
し、さらに90〜95℃で混練してこれを冷却粉砕して
成形材料を作成した。この成形材料を175℃に加熱し
た金型内にトランスファー注入し、硬化させて成形品
(封止品)を成形した。この成形品について燃焼性およ
び耐湿性の試験を行った。その結果を表1に示す。
【0021】実施例2 多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量164)8%に、前
記の化4に示すアリルエーテルを有するフェノール樹脂
(フェノール当量122)を3%、溶融シリカ粉末85
%およびワックス類0.3%を配合し常温で混合し、さ
らに90〜95℃で混練してこれを冷却粉砕して成形材
料を作成した。この成形材料を175℃に加熱した金型
内にトランスファー注入し、硬化させて成形品(封止
品)を成形した。この成形品について燃焼性および耐湿
性の試験を行った。その結果を表1に示す。
【0022】比較例1 多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量164)6%に、ノ
ボラック型フェノール樹脂(フェノール当量97)4
%、溶融シリカ粉末80%、三酸化アンチモン1%およ
びワックス類0.3%を配合し常温で混合し、さらに9
0〜95℃で混練してこれを冷却粉砕して成形材料を作
成した。この成形材料を175℃に加熱した金型内にト
ランスファー注入し、硬化させて成形品(封止品)を成
形した。この成形品について燃焼性および耐湿性の試験
を行った。その結果を表1に示す。
【0023】比較例2 多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量164)6%に、ノ
ボラック型フェノール樹脂(フェノール当量97)4
%、溶融シリカ粉末80%、ポリリン酸エステル6%お
よびワックス類0.3%を配合し常温で混合し、さらに
90〜95℃で混練してこれを冷却粉砕して成形材料を
作成した。この成形材料を175℃に加熱した金型内に
トランスファー注入し、硬化させて成形品(封止品)を
成形した。この成形品について燃焼性および耐湿性の試
験を行った。その結果を表1に示す。
【0024】
【表1】 *1:トランスファー成形によって120×12×
(0.8/1.6)mmの成形品をつくり、175℃、
8時間放置した後、UL−94V耐炎性試験規格に基づ
き燃焼性の試験を行った。
【0025】*2:成形材料を用いて2本のアルミ配線
を有するシリコン製チップ(テスト素子)を銅フレーム
に接着し、175℃で2分間トランスファー成形して、
TO−92の成形品をつくり、175℃において4時間
後硬化させた後、260℃の半田浸漬後、127℃、
2.5気圧の飽和水蒸気中において各時間吸水させたと
きの吸水率を測定した。
【0026】
【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の封止用樹脂組成物および半導体封止装置
は、難燃性に優れているにもかかわらず、耐湿信頼性に
優れ、長期にわたる信頼性を保証することができた。
【手続補正書】
【提出日】平成12年3月24日(2000.3.2
4)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 封止用樹脂組成物および半導体封止装
【特許請求の範囲】
【化1】 (D)無機充填剤を必須成分とし、樹脂組成物に対し
て、前記(C)のアリルエーテル構造を有するフェノー
ル化合物を0.1〜50重量%、また前記(D)無機充
填剤を40〜95重量%の割合で含有してなることを特
徴とする封止用樹脂組成物。
【化2】 (D)無機充填剤を必須成分とし、樹脂組成物に対し
て、前記(C)のアリルエーテル構造を有するフェノー
ル化合物を0.1〜50重量%、また前記(D)無機充
填剤を40〜95重量%の割合で含有した封止用樹脂組
成物の硬化物によって、半導体チップを封止してなるこ
とを特徴とする半導体封止装置。
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン(塩素、
臭素)化合物および金属酸化物を添加することなしに、
優れた難燃性を有し、また、成形性、耐湿性および信頼
性に優れた封止用樹脂組成物および半導体封止装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置では、その封止樹脂に難燃性
をもたせることが一般的であり、難燃の処方として、ハ
ロゲン(塩素、臭素)化合物および金属酸化物を単独も
しくは併用することで難燃効果を現している。しかし、
封止用樹脂組成物の難燃効果を現すために添加されるハ
ロゲン(塩素、臭素)化合物、特に臭素化エポキシ樹脂
およびその難燃効果を助けるために添加される金属酸化
物、特に三酸化アンチモンは、半導体装置の信頼性を低
下させるという欠点があった。そればかりか、最近では
環境への悪影響も指摘され始めている。このため、成形
性、耐湿性、信頼性に優れた、ハロゲン(塩素、臭素)
化合物および金属酸化物を含有しない封止用の樹脂組成
物の開発が強く要望されており、その代替材として、リ
ン系難燃剤、金属水和物などの検討が広く進められてい
る。しかし、リン系難燃剤の多くはリン酸エステル系の
ものが多く、難燃効果が得られても、加水分解により発
生するリン酸が、半導体封止装置の耐湿信頼性をを低下
させる原因となってしまい、十分な信頼性を確保するこ
とができていない。また、金属水和物についても十分な
成形性が確保できないばかりか、その吸湿特性の劣化
は、半導体封止装置の信頼性を大きく低下させてしまう
欠点があった。そのため、成形性、耐湿性および信頼性
に優れたハロゲン(塩素、臭素)化合物および金属酸化
物を含有しない封止用の樹脂組成物の開発が強く要望さ
れてきた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点を
解消し、上記要望に応えるためになされたもので、ハロ
ゲン(塩素、臭素)化合物および金属酸化物を含有する
ことなく、十分な難燃性を付与しつつ、成形性、耐湿性
および信頼性のよい、封止用樹脂組成物および半導体封
止装置を提供しようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、樹脂組成物に、
アリルエーテル構造を有する、特定構造のフェノール化
合物を配合することによって、十分な難燃性、成形性と
ともに耐湿性と信頼性が向上し、上記目的が達成される
ことを見いだし、本発明を完成させたものである。
【0005】即ち、本発明は、(A)エポキシ樹脂、
(B)フェノール樹脂、(C)アリルエーテル構造を有
する、下記構成式で示されるフェノール化合物および
【化3】 (D)無機充填剤を必須成分とし、樹脂組成物に対し
て、前記(C)のアリルエーテル構造を有するフェノー
ル化合物を0.1〜50重量%、また前記(D)無機充
填剤を40〜95重量%の割合で含有してなることを特
徴とする封止用樹脂組成物である。また、この封止用樹
脂組成物の硬化物によって、半導体チップを封止してな
ることを特徴とする半導体封止装置である。
【0006】以下、本発明を詳細に説明する。
【0007】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂として
は、その分子中にエポキシ基を少なくとも2個有する化
合物である限り、分子構造および分子量など特に制限は
なく、一般に封止用材料として使用されるものを広く包
含することができる。例えば、ビフェニル型、ビスフェ
ノール型の芳香族系、シクロヘキサン誘導体等脂肪族
系、また、次の一般式で示されるようなものが挙げられ
る。
【0008】
【化(但し、式中、R1 、R2 は水素原子あるいはアルキル
基を、またnは1以上の整数をそれぞれ表す) これらのエポキシ樹脂は、単独もしくは2種類以上混合
して用いることができる。
【0009】本発明に用いる(B)フェノール樹脂とし
ては、前記(A)のエポキシ樹脂と反応し得るフェノー
ル性水酸基を2個以上有するものであれば、特に制限す
るものではない。具体的なものとしては、例えば、次の
式に示されるものがある。
【0010】
【化(但し、式中、nは0または1以上の整数を表す)
【0011】
【化(但し、式中、nは1以上の整数を表す)等が挙げら
れ、これらの樹脂は、単独もしくは2種類以上混合して
用いることができる。
【0012】フェノール樹脂の配合割合は、前述したエ
ポキシ樹脂のエポキシ基(a)とフェノール樹脂のフェ
ノール性水酸基(b)との当量比(a)/(b)の値が
0.1〜10の範囲内であることが望ましい。当量比が
0.1未満あるいは10を超えると、耐湿性、耐熱性、
成形作業性および硬化物の電気特性が悪くなり、いずれ
の場合も好ましくない。従って上記の範囲内に限定する
のがよい。
【0013】本発明に用いる(C)のアリルエーテル構
造を有するフェノール化合物は、化3の構造式に示され
るものである。式中のアリルエーテル構造は、加熱によ
りクライゼン転移をするものである。(C)成分のフェ
ノール化合物の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して
0.1〜50重量%含有することが望ましい。この割合
が0.1重量%未満では、充分な難燃効果が得られず、
また50重量%を超えると、耐湿性、機械的特性および
成形性が悪くなり、実用に適さず好ましくない。
【0014】本発明に用いる(D)の無機充填剤として
は、シリカ粉末、アルミナ粉末、タルク、炭酸カルシウ
ム、酸化チタンおよびガラス繊維等が挙げられ、これら
は、単独もしくは2種類以上混合して用いることができ
る。これらのなかでも特にシリカ粉末やアルミナ粉末が
好ましく、これらはよく使用される。無機充填剤の配合
割合は、全体の樹脂組成物に対して40〜95重量%の
割合で含有することが望ましい。その割合が40重量%
未満では、耐熱性、耐湿性、半田耐熱性、機械的特性お
よび成形性が悪くなり、また、95重量%を超えると、
かさばりが大きくなり成形性に劣り実用に適さない。
【0015】本発明の封止用樹脂組成物は、前述したエ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、アリルエーテル構造を有
するフェノール化合物および無機充填剤を主成分とする
が、本発明の目的に反しない限度において、また必要に
応じて例えば、天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖
脂肪族の金属塩、酸アミド類、エステル類、パラフィン
系等の離型剤、エラストマー等の低応力化成分、カーボ
ンブラック等の着色剤、シランカップリング剤等の無機
充填剤の処理剤、種々の硬化促進剤などを適宜、添加配
合することができる。
【0016】本発明の封止用樹脂組成物を成形材料とし
て調製する場合の一般的な方法としては、前述したエポ
キシ樹脂、フェノール樹脂、アリルエーテル構造を有す
るフェノール化合物、無機充填剤およびその他の成分を
配合し、ミキサー等によって十分均一に混合した後、さ
らに熱ロールによる溶融混合処理、またはニーダ等によ
る混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさ
に粉砕して成形材料とすることができる。こうして得ら
れた成形材料は、半導体封止をはじめとする電子部品あ
るいは電気部品の封止、被覆、絶縁等に適用すれば、優
れた特性と信頼性を付与させることができる。
【0017】本発明の半導体装置は、上記のようにして
得られた封止用樹脂を用いて、半導体チップを封止する
ことにより容易に製造することができる。封止の最も一
般的な方法としては、低圧トランスファー成形方がある
が、射出成形、圧縮成形および注型などによる封止も可
能である。封止用樹脂組成物を封止の際に加熱して硬化
させ、最終的にはこの組成物の硬化物によって封止され
た半導体封止装置が得られる。加熱による硬化は、15
0℃以上に加熱して硬化させることが望ましい。封止を
行う半導体装置としては、例えば、集積回路、大規模集
積回路、トランジスタ、サイリスタおよびダイオード等
で特に限定されるものではない。
【0018】
【作用】本発明の封止用樹脂組成物および半導体封止装
置は、樹脂成分としてアリルエーテル構造を有するフェ
ノール化合物を用いたことにより、目的とする特性が得
られるものである。即ち、アリルエーテル構造を有する
フェノール化合物は十分な成形性を保ちながら、樹脂組
成物に優れた難燃性を付与し、その化合物の安定性から
半導体装置において耐湿性および信頼性を向上させるこ
とができる。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明を実施例によって説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。以下の実施例および比較例において
「%」とは「重量%」を意味する。
【0020】実施例1 多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量164)5%に、ノ
ボラック型フェノール樹脂(フェノール当量97)1
%、前記の化3に示すアリルエーテル構造を有するフェ
ノール化合物(フェノール当量122)を3%、溶融シ
リカ粉末83%およびワックス類0.3%を配合し常温
で混合し、さらに90〜95℃で混練してこれを冷却粉
砕して成形材料を作成した。この成形材料を175℃に
加熱した金型内にトランスファー注入し、硬化させて成
形品(封止品)を成形した。この成形品について燃焼性
および耐湿性の試験を行った。その結果を表1に示す。
【0021】実施例2 多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量164)8%に、前
記の化3に示すアリルエーテル構造を有するフェノール
化合物(フェノール当量122)を3%、溶融シリカ粉
末85%およびワックス類0.3%を配合し常温で混合
し、さらに90〜95℃で混練してこれを冷却粉砕して
成形材料を作成した。この成形材料を175℃に加熱し
た金型内にトランスファー注入し、硬化させて成形品
(封止品)を成形した。この成形品について燃焼性およ
び耐湿性の試験を行った。その結果を表1に示す。
【0022】比較例1 多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量164)6%に、ノ
ボラック型フェノール樹脂(フェノール当量97)4
%、溶融シリカ粉末80%、三酸化アンチモン1%およ
びワックス類0.3%を配合し常温で混合し、さらに9
0〜95℃で混練してこれを冷却粉砕して成形材料を作
成した。この成形材料を175℃に加熱した金型内にト
ランスファー注入し、硬化させて成形品(封止品)を成
形した。この成形品について燃焼性および耐湿性の試験
を行った。その結果を表1に示す。
【0023】比較例2 多官能エポキシ樹脂(エポキシ当量164)6%に、ノ
ボラック型フェノール樹脂(フェノール当量97)4
%、溶融シリカ粉末80%、ポリリン酸エステル6%お
よびワックス類0.3%を配合し常温で混合し、さらに
90〜95℃で混練してこれを冷却粉砕して成形材料を
作成した。この成形材料を175℃に加熱した金型内に
トランスファー注入し、硬化させて成形品(封止品)を
成形した。この成形品について燃焼性および耐湿性の試
験を行った。その結果を表1に示す。
【0024】
【表1】 *1:トランスファー成形によって120×12×
(0.8/1.6)mmの成形品をつくり、175℃、
8時間放置した後、UL−94V耐炎性試験規格に基づ
き燃焼性の試験を行った。
【0025】*2:成形材料を用いて2本のアルミ配線
を有するシリコン製チップ(テスト素子)を銅フレーム
に接着し、175℃で2分間トランスファー成形して、
TO−92の成形品をつくり、175℃において4時間
後硬化させた後、260℃の半田浸漬後、127℃、
2.5気圧の飽和水蒸気中において各時間吸水させたと
きの吸水率を測定した。
【0026】
【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の封止用樹脂組成物および半導体封止装置
は、難燃性に優れているにもかかわらず、耐湿信頼性に
優れ、長期にわたる信頼性を保証することができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J002 CC03X CC073 CD00W CD02W CD03W CD05W DE136 DE146 DE236 DJ016 DJ046 DL006 FA046 FD016 GQ05 4J036 AA01 AA04 AC01 AD01 AJ08 FA01 FA03 FA05 FA06 FB07 FB08 JA07 4M109 AA01 BA01 CA21 EA02 EA06 EB03 EB08 EB09 EB12 EB19 EC01 EC03 EC20

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール
    樹脂、(C)アリルエーテルを有するフェノール樹脂お
    よび(D)無機充填剤を必須成分とし、樹脂組成物に対
    して、前記(C)アリルエーテルを有するフェノール樹
    脂を0.1〜50重量%、また前記(D)無機充填剤を
    40〜95重量%の割合で含有してなることを特徴とす
    る封止用樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール
    樹脂、(C)アリルエーテルを有するフェノール樹脂お
    よび(D)無機充填剤を必須成分とし、樹脂組成物に対
    して、前記(C)アリルエーテルを有するフェノール樹
    脂を0.1〜50重量%、また前記(D)無機充填剤を
    40〜95重量%の割合で含有した封止用樹脂組成物の
    硬化物によって、半導体チップを封止してなることを特
    徴とする半導体封止装置。
JP11125484A 1999-05-06 1999-05-06 封止用樹脂組成物および半導体封止装置 Expired - Fee Related JP3096287B1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11125484A JP3096287B1 (ja) 1999-05-06 1999-05-06 封止用樹脂組成物および半導体封止装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11125484A JP3096287B1 (ja) 1999-05-06 1999-05-06 封止用樹脂組成物および半導体封止装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP3096287B1 JP3096287B1 (ja) 2000-10-10
JP2000319360A true JP2000319360A (ja) 2000-11-21

Family

ID=14911240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11125484A Expired - Fee Related JP3096287B1 (ja) 1999-05-06 1999-05-06 封止用樹脂組成物および半導体封止装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3096287B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012017423A (ja) * 2010-07-08 2012-01-26 Nitto Denko Corp 熱硬化性樹脂組成物硬化体の製法およびそれにより得られた硬化物

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07145300A (ja) * 1993-11-24 1995-06-06 Arakawa Chem Ind Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH0931167A (ja) * 1995-07-19 1997-02-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 封止用液状エポキシ樹脂組成物およびその硬化物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07145300A (ja) * 1993-11-24 1995-06-06 Arakawa Chem Ind Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH0931167A (ja) * 1995-07-19 1997-02-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 封止用液状エポキシ樹脂組成物およびその硬化物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012017423A (ja) * 2010-07-08 2012-01-26 Nitto Denko Corp 熱硬化性樹脂組成物硬化体の製法およびそれにより得られた硬化物

Also Published As

Publication number Publication date
JP3096287B1 (ja) 2000-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3032528B1 (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2003213081A (ja) エポキシ樹脂組成物および半導体装置
JPS61166822A (ja) 封止用樹脂組成物
JP3096287B1 (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2000302948A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP3889206B2 (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP3957957B2 (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2001302880A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2000357765A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP3072099B1 (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2789002B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2641183B2 (ja) 封止用樹脂組成物
JP3877935B2 (ja) 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置
JP2001192535A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2002047337A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2001220493A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2002167425A (ja) エポキシ樹脂組成物および半導体封止装置
JPH0528243B2 (ja)
JP2002037979A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2001323134A (ja) 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置
JP2003003045A (ja) 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置
JP2002030199A (ja) 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置
JPH03177451A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体装置
JPH11140165A (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2000273284A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees