JP2000320865A - 汚染ガス除去空気調和装置 - Google Patents

汚染ガス除去空気調和装置

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JP2000320865A
JP2000320865A JP11130687A JP13068799A JP2000320865A JP 2000320865 A JP2000320865 A JP 2000320865A JP 11130687 A JP11130687 A JP 11130687A JP 13068799 A JP13068799 A JP 13068799A JP 2000320865 A JP2000320865 A JP 2000320865A
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州三 秋田
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正明 篠原
Tadashi Suzuki
正 鈴木
Toshihisa Shimizu
利壽 清水
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  • Central Air Conditioning (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Separation Of Particles Using Liquids (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 排気の搬送動力が小さく、消費エネルギーが
少なく、ケミカルフィルタの延命を図ることができる汚
染ガス除去空気調和装置を提供する。 【解決手段】 水噴霧室９８の空気入口側に最上流ワッ
シャメディア９９を配置し、空気出口側に最下流ワッシ
ャメディア１００を配置し、空気流とは逆方向に向けて
最上流ワッシャメディア９９に達する噴霧水を発生させ
る噴霧ノズル１０１を配置し、流下する噴霧水を受け止
める貯水槽１０３と、循環水を噴霧ノズル１０１に供給
する循環水供給系１０４を設け、最上流ワッシャメディ
ア９９の上流側に冷却コイル９２を配置し、最下流ワッ
シャメディア１００の下流側に加熱コイル９５を配置
し、加熱コイル９５の下流側にケミカルフィルタ９６を
配置し、冷却コイル９２と加熱コイル９５との間に熱媒
体を循環させる循環配管９０を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、空気調和機に関
し、高集積度半導体の生産ラインを設置するスーパーク
リーンルームにおける排気および循環空気の汚染ガスを
除去する汚染ガス除去空気調和装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の空気調和機としては、例えば図
７に示すものがある。図７において、外気ＯＡは外気処
理空気調和機１、顕熱冷却ユニット２を通り、給気流路
３に流入し、天井面に設けたファン・フィルタユニット
４を通ってクリーンルーム５に垂直層流で流入し、孔あ
き床６を通って還気流路７に流入し顕熱冷却ユニット２
に循環する。還気流路７に流入する空気の一部は排気ブ
ロア８により吸引されて、排気処理装置（スクラバー）
９を通って系外へ流れ出る。
【０００３】外気処理空気調和機１は、送風機１０によ
って外気ＯＡを吸い込んで顕熱冷却ユニット２に送気す
るものであり、プレフィルタ１１による粗塵除去と、中
性能フィルタ１２による細塵除去と、予冷・予熱コイル
１３による冷却もしくは加熱と、エアワッシャ１４によ
る水溶性汚染ガス除去および加湿と、冷却コイル１５に
よる冷却と、再熱コイル１６による加熱と、活性炭フィ
ルタや吸着剤含浸マット等のケミカルフィルタ１７によ
る非水溶性汚染ガス除去と、超高性能エアフィルタ（Ｈ
ＥＰＡフィルタ）１８による微細塵除去とを行なうこと
により、外気を適温、適湿の清浄空気として顕熱冷却ユ
ニット２に供給する。
【０００４】顕熱冷却ユニット２は、ファン・フィルタ
ユニット４の送風機によって還気空気を吸い込んで空気
を冷却するものである。ファン・フィルタユニット４
は、クリーンルーム５の空気を循環させるとともに、ク
リーンルーム内で発生した塵埃や汚染ガスの除去を行な
う。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記した構成におい
て、排気処理装置（スクラバー）９は、充填物２３にお
ける圧力損失が大きく、排気ブロア８による排気搬送動
力が大きくなり、装置自体が高価である。ファン・フィ
ルタユニット４に汚染ガス除去のためのケミカルフィル
タを組み込んだ場合、ケミカルフィルタは、汚染ガスの
除去性能が経時変化（劣化）し、その性能劣化の度合い
を把握することが難しので、劣化する以前に半年から１
年毎に定期的に交換する必要ある。クリーンルーム５の
内部においての交換作業は煩わしく、取り外したフィル
タは有害成分を含むので廃棄処理を必要とする。
【０００６】本発明は上記した課題を解決するものであ
り、排気の搬送動力が小さく、消費エネルギーが少な
く、ケミカルフィルタの延命や削減を図ることができる
汚染ガス除去空気調和装置を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために、本発明の汚染ガス除去空気調和装置は、空気入
口と空気出口とを有し、空気入口から空気出口に向かっ
て空気流が生じる水噴霧室を形成する本体ケーシング
と、空気入口側に配置する最上流ワッシャメディアと、
空気出口側に配置する最下流ワッシャメディアと、最上
流ワッシャメディアより下流側の水噴霧室内に位置し、
空気流とは逆方向に向けて最上流ワッシャメディアに達
する噴霧水を発生させる噴霧ノズルと、水噴霧室から流
下する噴霧水を受け止める貯水槽と、貯水槽内の循環水
を噴霧ノズルに循環供給する循環水供給系と、補給水を
供給する補給水供給系と、最上流ワッシャメディアの上
流側に配置する冷却コイルと、最下流ワッシャメディア
の下流側に配置する加熱コイルと、加熱コイルの下流側
に配置するケミカルフィルタとを備え、冷却コイルと加
熱コイルとの間に熱媒体を循環させる循環配管および循
環ポンプを設けたものである。
【０００８】上記した構成により、汚染ガスを含む空気
は、空気入口から本体ケーシングに流入し、冷却コイル
によって顕熱を奪われて後に、最上流ワッシャメディア
を通して水噴霧室に流入する。この空気流に対し、その
流れに対向するように噴霧ノズルから純水を噴霧する。
噴霧水は空気中の塵埃や汚染ガスに衝突し、衝突した空
気中の塵埃や汚染ガスが噴霧水とともに最上流ワッシャ
メディアに達し、最上流ワッシャメディアが汚染ガス、
塵埃を伴った噴霧水を捕捉する。最上流ワッシャメディ
アでは、噴霧水が汚染ガスを取り込んで貯水槽へ流下す
る。
【０００９】最上流ワッシャメディアに衝突しなかった
噴霧水は、一部が水噴霧室の天井面、壁面または貯水面
に衝突するが、それ以外は空気流に乗って移動し、空気
中の塵埃や汚染ガスを取り込んで最下流ワッシャメディ
アに達し、最下流ワッシャメディアが塵埃や汚染ガスを
伴った噴霧水を捕捉する。最下流ワッシャメディアで
は、噴霧水が最下流ワッシャメディアに付着した塵埃を
洗い流して流下するとともに、汚染ガスを取り込んで貯
水槽へ流下する。このエアワッシャの排水は、その不純
物質含有量が水道水質基準以下のクリーン度であり、放
流が可能である。
【００１０】最下流ワッシャメディアを通過した飽和湿
度の空気は、浄化して十分に加湿した清浄な空気として
加熱コイルに導入し、加熱コイルによる加熱によってケ
ミカルフィルターのガス除去性能を低下させない適値の
相対湿度に低下させて後に、ケミカルフィルターに導
き、ケミカルフィルターで非水溶性の汚染ガスを除去す
る。
【００１１】したがって、上記した構成を、半導体を生
産するクリーンルームから排気する空気の処理に使用す
る場合に、ワッシャメディア、冷却コイル、加熱コイル
における空気圧力損失は小さいので、従来のスクラバー
に比べて排気搬送動力を大幅に抑制（２／３以下）する
ことができる。ケミカルフィルターにおける負荷が少な
いので、ケミカルフィルターの延命を図ることができ
る。補給する純水量は空気流重量の１．５％程度、循環
して噴霧する噴霧水量が空気流重量の６０％程度でよ
く、純水製造コストとポンプ動力費の合計は、ケミカル
フィルターの交換費用に比べて大幅に小さく（１／２以
下）なる。
【００１２】冷却コイルと加熱コイルとの間で熱媒体を
循環することで、浄化後の空気の加熱は、汚染ガスを含
む空気が当初に有していた顕熱を利用して行なうことが
でき、空気の冷却・加熱にポンプ動力以外のエネルギー
を消費しない。この加熱により、エアワッシャ後の１０
０％飽和湿度の空気は、その湿度が相対湿度７０％程度
になり、ケミカルフィルタの除去性能を低下させること
がない。
【００１３】上記した構成を、半導体を生産するクリー
ンルームにおける循環空気の処理に使用する場合には、
循環水供給系に循環水を冷却する熱交換器を設け、冷却
した循環水を噴霧することにより、循環空気を加湿する
ことなく、入口空気と同じ絶対湿度を維持しながら循環
空気の顕熱を冷却し、汚染ガスを除去できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は、半導体工場のスーパーク
リーンルーム用の空調システムの構成を示すものであ
り、外気ＯＡは外気処理空気調和機５１、顕熱冷却ユニ
ット５２を通り、給気流路５３に流入し、天井面に設け
たフィルタユニット５４を通ってクリーンルーム５５に
垂直層流で流入し、孔あき床５６を通って還気流路５７
に流入し顕熱冷却ユニット５２に循環する。還気流路５
７に流入する空気の一部は排気処理装置５８を通って系
外へ流れ出る。
【００１５】図２に示すように、外気処理空気調和機５
１は、送風機６０によって外気ＯＡを吸い込んで顕熱冷
却ユニット５２に送気するものであり、粗塵除去を行な
うプレフィルタ６１と、細塵除去を行なう中性能フィル
タ６２と、冷却もしくは加熱を行なう予冷・予熱コイル
６３と、水溶性汚染ガス除去および加湿を行なうエアワ
ッシャ６４と、冷却を行なう冷却コイル６５と、加熱を
行なう再熱コイル６６と、活性炭フィルタや吸着剤含浸
マット等からなり非水溶性汚染ガス除去を行なうケミカ
ルフィルタ６７と、微細塵除去を行なう超高性能エアフ
ィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）６８からなり、外気を適
温、適湿の清浄空気として顕熱冷却ユニット５２に供給
する。
【００１６】図３に示すように、顕熱冷却ユニット５２
は、還気空気ＲＡを吸い込んで空気を循環する送風機６
９と、顕熱冷却を行なう冷却コイル７０と、汚染ガス除
去を行なうエアワッシャ７１と、加熱を行なう加熱コイ
ル７２とを備え、冷却コイル７０と加熱コイル７２との
間に熱媒体としての冷・温水を循環させる循環配管７３
および循環ポンプ７４を設けている。
【００１７】エアワッシャ７１は、本体ケーシング７５
の内部に形成した水噴霧室７６の空気入口７６ａに最上
流ワッシャメディア７７を配置し、水噴霧室７６の最下
流位置に最下流ワッシャメディア７８を配置している。
各ワッシャメディア７７、７８は、ポリ塩化ビニルデン
系繊維やステンレスの線材等からなり、たとえば２５ｍ
ｍ〜５０ｍｍ程度の厚みを有するマット状のものであ
る。
【００１８】水噴霧室７６の内部には、後述する循環水
供給系に連通する複数の第１段ノズル７９を最上流ワッ
シャメディア７７より下流側に配置するとともに、後述
する補給水供給系に連通する複数の第２段ノズル８０を
第１段ノズル７９とほぼ同じ位置に配置している。第１
段ノズル７９は、空気流とは逆方向に向けて最上流ワッ
シャメディア７７に達する噴霧水を噴霧するものであ
り、第２段ノズル８０は、空気流と順方向に向けて最下
流ワッシャメディア７８に噴霧水を噴霧するものであ
る。
【００１９】水噴霧室７６の下部には、流下する噴霧水
を受け止める貯水槽８１が設けてあり、貯水槽８１に滞
留する循環水を第１段ノズル７９に循環供給する循環水
供給系８２が水噴霧室７６の下部に連通して設けてあ
る。循環水供給系８２は、貯水槽８１の下部に開口する
吸込管８３と、吸込管８３に接続した循環ポンプ８４
と、循環ポンプ８４の吐出口に接続して水噴霧室７６に
配置した吐出管８５と、吐出管８５から分岐して水噴霧
室７６に垂直方向に配設した複数の分岐管８６と、各分
岐管８６に設けた複数の第１段ノズル７９と、循環水を
冷却する熱交換器８７とからなる。
【００２０】第２段ノズル８０に補給水として純水を供
給する補給水供給系８８は、清浄水供給装置（図示せ
ず）もしくは純水供給装置（図示せず）に接続して水噴
霧室７６の上方に配置した給水管８９を有し、給水管８
９に複数の第２段ノズル８０を設けている。貯水槽８１
には、オーバーフロー管(図示省略)と、予備の補給水と
して清浄水を供給する予備補給水供給管(図示省略)が連
通している。
【００２１】この構成により、還気空気ＲＡおよび外気
ＯＡは、顕熱冷却ユニット５２の本体ケーシング７５に
流入し、冷却コイル７０によって顕熱を奪われて後に、
最上流ワッシャメディア７７を通して水噴霧室７６に流
入する。この空気流に対し、その流れに対向するように
第１段ノズル７９から純水を噴霧する。噴霧水は空気中
の塵埃や汚染ガスに衝突し、衝突した空気中の塵埃や汚
染ガスが噴霧水とともに最上流ワッシャメディア７７に
達し、最上流ワッシャメディア７７が汚染ガス、塵埃を
伴った噴霧水を捕捉する。最上流ワッシャメディア７７
では、噴霧水が汚染ガスを取り込んで貯水槽８１へ流下
する。最上流ワッシャメディア７７に衝突しなかった噴
霧水は、空気流に乗って移動し、空気中の塵埃や汚染ガ
スを取り込んで最下流ワッシャメディア７８に達し、最
下流ワッシャメディア７８が塵埃や汚染ガスを伴った噴
霧水を捕捉する。
【００２２】この循環水供給系８２の循環水は、熱交換
器８７において冷却しており、冷却した循環水を噴霧す
ることにより、循環空気を加湿することなく、入口空気
と同じ絶対湿度を維持しながら循環空気の顕熱を冷却
し、汚染ガスを除去できる。第２段ノズル８０から噴霧
する噴霧水は、空気中の塵埃や汚染ガスに衝突し、衝突
した空気中の塵埃や汚染ガスが噴霧水とともに最下流ワ
ッシャメディア７８に達し、最下流ワッシャメディア７
８が汚染ガス、塵埃を伴った噴霧水を捕捉する。最下流
ワッシャメディア７８では、噴霧水が最下流ワッシャメ
ディア７８に付着した塵埃を洗い流して流下するととも
に、汚染ガスを取り込んで貯水槽１０３へ流下する。最
下流ワッシャメディア７８を通過した飽和湿度の空気
は、浄化した清浄な空気として加熱コイル７２に導入し
て適値の相対湿度に低下させて後に送気する。
【００２３】このとき、冷却コイル７０と加熱コイル７
２との間で熱媒体を循環することで、浄化後の空気の加
熱は、流入した空気が当初に有していた顕熱を利用して
行なうことができ、空気の冷却・加熱にポンプ動力以外
のエネルギーを消費しない。図５は、上述した過程にお
ける空気の状態変化を示すもので、図５の、、、
の各点は、図３に示す、、、の各点のそれぞ
れに対応する。
【００２４】図４に示すように、排気処理装置５８は、
送風機９１によって汚染ガスを含む排気ＥＡを排出する
ものであり、冷却を行なう冷却コイル９２と、水溶性汚
染ガス除去および加湿を行なうエアワッシャ９３と、水
滴を除去するエリミネータ９４と、加熱を行なう加熱コ
イル９５と、活性炭フィルタや吸着剤含浸マット等から
なるケミカルフィルタ９６とを備え、循環空気を清浄空
気として排出する。冷却コイル９２と加熱コイル９５と
の間に熱媒体としての冷・温水を循環させる循環配管９
０および循環ポンプ９０ａを設けている。
【００２５】エアワッシャ９３は、本体ケーシング９７
の内部に形成した水噴霧室９８の空気入口９８ａに最上
流ワッシャメディア９９を配置し、水噴霧室９８の空気
出口９８ｂに最下流ワッシャメディア１００を配置して
いる。各ワッシャメディア９９、１００は、ポリ塩化ビ
ニルデン系繊維やステンレスの線材等からなり、たとえ
ば２５ｍｍ〜５０ｍｍ程度の厚みを有するマット状のも
のである。
【００２６】水噴霧室９８の内部には、後述する循環水
供給系に連通する複数の第１段ノズル１０１を最上流ワ
ッシャメディア９９より下流側に位置して配置するとと
もに、後述する補給水供給系に連通する複数の第２段ノ
ズル１０２を第１段ノズル１０１とほぼ同じ位置に配置
している。第１段ノズル１０１は、空気流とは逆方向に
向けて最上流ワッシャメディア９９に達する噴霧水を噴
霧するものであり、第２段ノズル１０２は、空気流と順
方向に向けて最下流ワッシャメディア１００に噴霧水を
噴霧するものである。
【００２７】水噴霧室９８の下部には、流下する噴霧水
を受け止める貯水槽１０３が設けてあり、貯水槽１０３
に滞留する循環水を第１段ノズル１０１に循環供給する
循環水供給系１０４が水噴霧室９８の下部に連通して設
けてある。循環水供給系１０４は、貯水槽９８の下部に
開口する吸込管１０５と、吸込管１０５に接続した循環
ポンプ１０６と、循環ポンプ１０６の吐出口に接続して
水噴霧室９８に配置した吐出管１０７と、吐出管１０７
から分岐して水噴霧室９８に垂直方向に配設した複数の
分岐管１０８とからなり、各分岐管１０８に複数の第１
段ノズル１０１を設けている。
【００２８】第２段ノズル１０２に補給水として純水を
供給する補給水供給系１０９は、清浄水供給装置（図示
せず）もしくは純水供給装置（図示せず）に接続して水
噴霧室９８の上方に配置した給水管１１０を有し、給水
管１１０に複数の第２段ノズル１０２を設けている。貯
水槽１０３には、オーバーフロー管（図示省略）と、予
備の補給水として清浄水を供給する予備補給水供給管
（図示省略）が連通している。
【００２９】上記した構成における作用を説明する。排
気ＥＡは、排気処理装置５８の本体ケーシング９７に流
入し、冷却コイル９２によって顕熱を奪われて後に、空
気入口９８ａから最上流ワッシャメディア９９を通して
水噴霧室９８に流入する。この空気流に対し、その流れ
に対向するように貯水槽１０３からの循環水を第１段ノ
ズル１０１から噴霧する。噴霧水は空気中の塵埃や汚染
ガスに衝突し、衝突した空気中の塵埃や汚染ガスが噴霧
水とともに最上流ワッシャメディア９９に達し、最上流
ワッシャメディア９９が塵埃や汚染ガスを伴った噴霧水
を捕捉する。最上流ワッシャメディア９９では、噴霧水
が最上流ワッシャメディア９９に付着した塵埃を洗い流
して流下するとともに、汚染ガスを取り込んで貯水槽１
０３へ流入する。最上流ワッシャメディア９９に衝突し
なかった噴霧水は、空気流に乗って移動し、空気中の塵
埃や汚染ガスを取り込んで最下流ワッシャメディア１０
０に達し、最下流ワッシャメディア１００が塵埃や汚染
ガスを伴った噴霧水を捕捉する。
【００３０】そして、水噴霧室９８の空気流に対して、
清浄水もしくは純水を第２段ノズル１０２から噴霧する
と、清浄水もしくは純水の噴霧水が空気中に残存する塵
埃や汚染ガスとともに最下流ワッシャメディア１００に
達し、最下流ワッシャメディア１００が塵埃や汚染ガス
を伴った噴霧水を捕捉する。最下流ワッシャメディア１
００では、噴霧水が最下流ワッシャメディア１００に付
着した塵埃を洗い流して流下するとともに、汚染ガスを
取り込んで貯水槽１０３へ流入する。噴霧水は流下する
過程において蒸発して空気を加湿する。貯水槽１０３へ
流入した清浄水もしくは純水は、補給水として循環水に
合流し、循環水供給系１０４を通って第１段ノズル１０
１から循環水として噴霧する。
【００３１】最下流ワッシャメディア１００を通過した
１００％飽和湿度の空気は、浄化して十分に加湿した清
浄な空気として加熱コイル９５に流入し、加熱によって
ケミカルフィルター９６のガス除去性能を低下させない
適値の相対湿度（７０％程度）に低下させて後に、ケミ
カルフィルター９６に導き、ケミカルフィルター９６で
非水溶性の汚染ガスを除去した後に、送風機９１を通っ
て排気する。
【００３２】このとき、冷却コイル９２と加熱コイル９
５との間で熱媒体を循環することで、浄化後の空気の加
熱は、流入した空気が当初に有していた顕熱を利用して
行なうことができ、空気の冷却・加熱にポンプ動力以外
のエネルギーを消費しない。図６は、上述した過程にお
ける空気の状態変化を示すもので、図６の、、、
の各点は、図４に示す、、、の各点のそれぞ
れに対応する。
【００３３】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ワ
ッシャメディア、冷却コイル、加熱コイルにおける空気
圧力損失は小さいので、従来のスクラバーに比べて排気
搬送動力を大幅に抑制（２／３以下）することができ、
ランニングコストがケミカルフィルターの交換費用に比
べて大幅に小さく（１／２以下）なる。冷却コイルと加
熱コイルとの間で熱媒体を循環することで、エネルギー
を消費せずに、浄化後の空気を、空気が当初に有してい
た顕熱を利用して行なうことができる。
【００３４】循環水供給系に設けた熱交換器で循環水を
冷却することにより、循環空気を加湿することなく、入
口空気と同じ絶対湿度を維持しながら循環空気の顕熱を
冷却し、汚染ガスを除去できるので、ケミカルフィルタ
の延命や削除が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す空気調和装置の平面
図である。
【図２】同外気処理空気調和機の縦断面図である。
【図３】同顕熱冷却ユニットの作用を示す模式図であ
る。
【図４】同排気処理装置の作用を示す模式図である。
【図５】同顕熱冷却ユニットにおける空気の状態変化を
示す湿り空気線図である。
【図６】同排気処理装置における空気の状態変化を示す
湿り空気線図である。
【図７】従来の空気調和装置の平面図である。
【符号の説明】
ＯＡ 外気 ＲＡ 還気空気 ＥＡ 排気 ５１ 外気処理空気調和機 ５２ 顕熱冷却ユニット ５５ クリーンルーム ５８ 排気処理装置 ７０ 冷却コイル ７１ エアワッシャ ７２ 加熱コイル ７６ 水噴霧室 ７６ａ 空気入口 ７６ｂ 空気出口 ７７ 最上流ワッシャメディア ７８ 最下流ワッシャメディア ７９ 第１段ノズル ８１ 貯水槽 ８２ 循環水供給系 ８７ 熱交換器 ９２ 冷却コイル ９３ エアワッシャ ９５ 加熱コイル ９６ ケミカルフィルタ ９８ 水噴霧室 ９８ａ 空気入口 ９８ｂ 空気出口 ９９ 最上流ワッシャメディア １００ 最下流ワッシャメディア １０１ 第１段ノズル １０３ 貯水槽 １０４ 循環水供給系
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山形 允和 東京都千代田区有楽町１−４−１ 三機工 業株式会社内 (72)発明者 秋田 州三 栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空 調株式会社栃木工場内 (72)発明者 篠原 正明 栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空 調株式会社栃木工場内 (72)発明者 鈴木 正 栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空 調株式会社栃木工場内 (72)発明者 清水 利壽 栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空 調株式会社栃木工場内 Ｆターム(参考） 3L053 BD02 BD03 4D020 AA08 AA10 BA23 CB25 CC05 CD01 DA01 DB02 4D032 AC07 BA01 BA05 BB05

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 空気入口と空気出口とを有し、空気入口
    から空気出口に向かって空気流が生じる水噴霧室を形成
    する本体ケーシングと、空気入口側に配置する最上流ワ
    ッシャメディアと、空気出口側に配置する最下流ワッシ
    ャメディアと、最上流ワッシャメディアより下流側の水
    噴霧室内に位置し、空気流とは逆方向に向けて最上流ワ
    ッシャメディアに達する噴霧水を発生させる噴霧ノズル
    と、水噴霧室から流下する噴霧水を受け止める貯水槽
    と、貯水槽内の循環水を噴霧ノズルに循環供給する循環
    水供給系と、補給水を供給する補給水供給系と、最上流
    ワッシャメディアの上流側に配置する冷却コイルと、最
    下流ワッシャメディアの下流側に配置する加熱コイル
    と、加熱コイルの下流側に配置するケミカルフィルタと
    を備え、冷却コイルと加熱コイルとの間に熱媒体を循環
    させる循環配管および循環ポンプを設けたことを特徴と
    する汚染ガス除去空気調和装置。
  2. 【請求項２】 空気入口と空気出口とを有し、空気入口
    から空気出口に向かって空気流が生じる水噴霧室を形成
    する本体ケーシングと、空気入口側に配置する最上流ワ
    ッシャメディアと、空気出口側に配置する最下流ワッシ
    ャメディアと、最上流ワッシャメディアより下流側の水
    噴霧室内に位置し、空気流とは逆方向に向けて最上流ワ
    ッシャメディアに達する噴霧水を発生させる噴霧ノズル
    と、水噴霧室から流下する噴霧水を受け止める貯水槽
    と、貯水槽内の循環水を噴霧ノズルに循環供給する循環
    水供給系と、補給水を供給する補給水供給系と、最上流
    ワッシャメディアの上流側に配置する冷却コイルと、最
    下流ワッシャメディアの下流側に配置する加熱コイルと
    を備え、冷却コイルと加熱コイルとの間に熱媒体を循環
    させる循環配管および循環ポンプを設け、循環水供給系
    に循環水を冷却する熱交換器を設けたことを特徴とする
    汚染ガス除去空気調和装置。
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