JP2000321713A - Heat developable photosensitive material - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料、特
に写真製版用に適したスキャナー、イメージセッター用
熱現像感光材料に関する。さらに詳しくは、本発明は、
カブリが低く、高感度でかつ硬調で、高い黒化濃度(D
max)有する写真製版用熱現像感光材料に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material, particularly to a photothermographic material for a scanner or an image setter suitable for photolithography. More specifically, the present invention provides
Low fog, high sensitivity and high contrast, high blackening density (D
max) which relates to a photothermographic material for photoengraving.
【0002】[0002]
【従来の技術】支持体上に感光層を有し、画像露光する
ことで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により画像を形成する技
術が挙げられる。近年写真製版分野において環境保全、
省スペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれてい
る。そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イ
メージセッターにより効率的に露光させることができ、
高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成す
ることができる写真製版用途の熱現像感光材料に関する
技術が必要とされている。これら熱現像感光材料では、
溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことができる。2. Description of the Related Art There are many known photosensitive materials having a photosensitive layer on a support and forming an image by exposing the image. Among them, a technique for forming an image by thermal development is a system that can simplify environmental preservation and image forming means. In recent years, environmental preservation in the photoengraving field,
From the viewpoint of space saving, it is strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid. There, you can use a laser scanner or a laser imagesetter to make the exposure more efficient,
There is a need for a technique relating to a photothermographic material for photolithography capable of forming a sharp black image having high resolution and sharpness. In these photothermographic materials,
By eliminating the use of solution processing chemicals, it is possible to provide customers with a simpler and more environmentally friendly thermal development processing system.
【0003】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、およびD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermally Proces
sed Silver Systems)A」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and M
aterials)Neblette 第8版、スタージ(Sturge)、V.
ウォールワーズ(Walworth)、A.シェップ(Shepp)
編集、第2頁、1969年)に記載されている。このような
感光材料は、還元可能な非感光性の銀源(例えば有機銀
塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化銀)、お
よび銀の還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場
合に、還元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。また、従来から前記
熱現像感光材料は知られているが、これらの多くはトル
エン、メチルエチルケトン(MEK)、メタノールなど
の有機溶剤を溶媒とする塗布液を塗布することにより感
光層を形成している。有機溶剤を溶媒として用いること
は、製造工程での人体への悪影響だけでなく溶剤の回収
その他のためコスト上も不利である。[0003] A method of forming an image by heat development is described in, for example, US Pat.
Morgan and B.A. "Thermal Proces Silver System (Thermally Proces)" by Shely
sed Silver Systems) A "(Imaging Processes and Materials
aterials) Neblette 8th edition, Sturge, V.E.
Walworth, A .; Shepp
Edited, page 2, 1969). Such photosensitive materials are prepared by dispersing a reducible non-photosensitive silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a silver reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in. The photosensitive material is stable at room temperature, but when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure, silver is reduced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. Generate This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the reducible silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image. In addition, the photothermographic materials described above are conventionally known, but most of them form a photosensitive layer by applying a coating solution using an organic solvent such as toluene, methyl ethyl ketone (MEK) or methanol as a solvent. . The use of an organic solvent as a solvent is disadvantageous not only in adverse effects on the human body in the manufacturing process but also in cost due to recovery of the solvent and the like.
【0004】そこでこのような心配のない水溶媒の塗布
液を用いて画像形成層(以降「水系画像形成層」ともい
う。)を形成する方法が考えられている。例えば特開昭
49-52626号、特開昭53-116144号などにはゼラチンをバ
インダーとする例が記載されている。また特開昭50-151
138号にはポリビニルアルコールをバインダーとする例
が記載されている。さらに特開昭60-61747号にはゼラチ
ンとポリビニルアルコールを併用した例が記載されてい
る。これ以外の例として特開昭58-28737号には水溶性ポ
リビニルアセタールをバインダーとする画像形成層の例
が記載されている。確かにこのようなバインダーを用い
ると水溶媒の塗布液を用いて感光層を形成することがで
きて環境面、コスト面のメリットは大きい。しかしなが
ら、ゼラチン、ポリビニルアルコール、水溶性ポリアセ
タールなどのポリマーをバインダーとして用いると、有
機銀塩との相溶性が悪く、塗布面質上実用に耐える塗布
物が得られないばかりでなく、現像部の銀色調が本来好
ましいとされる黒色からかけ離れた茶色や黄色になった
り、露光部の黒化濃度が低く未露光部の濃度が高い等商
品価値の著しく損なわれたものしか得られなかった。Therefore, a method of forming an image forming layer (hereinafter also referred to as "aqueous image forming layer") using a coating solution of a water solvent which does not have such a concern has been considered. For example,
JP-A-49-52626 and JP-A-53-116144 describe examples using gelatin as a binder. Also Japanese Patent Laid-Open No. 50-151
No. 138 describes an example using polyvinyl alcohol as a binder. Further, JP-A-60-61747 describes an example in which gelatin and polyvinyl alcohol are used in combination. As another example, JP-A-58-28737 describes an example of an image forming layer using water-soluble polyvinyl acetal as a binder. Certainly, when such a binder is used, the photosensitive layer can be formed using a coating solution of a water solvent, and the merits in terms of environment and cost are great. However, when a polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, or water-soluble polyacetal is used as a binder, the compatibility with an organic silver salt is poor, and not only a coated material that can be practically used on a coated surface cannot be obtained, but also the silver color of a developed portion Only those having a markedly impaired commercial value, such as brown or yellow whose tone is far from black which is originally preferable, and a low blackening density of an exposed portion and a high density of an unexposed portion were obtained.
【0005】欧州特許762,196号、特開平9-90550号公報
等に熱現像感光材料に用いる感光性ハロゲン化銀粒子に
第VII族またはVIII族の金属イオンまたは金属錯体イオ
ンを含有させること、および感光材料中にヒドラジン誘
導体を含有せしめて高コントラストな写真特性を得るこ
とができることが開示されている。しかし、前述の水溶
媒の塗布液で用いるバインダーとヒドラジンのような造
核剤を併用すると、高コントラストな画像を得ることが
できるが、同時に高感度で高い黒化濃度を実現しようと
するとカブリが生じやすく、実用に耐えないという問題
があった。一方、感度は感光性ハロゲン化銀粒子の光感
度と画像形成層中に含有させる感光性ハロゲン化銀の粒
子数で決まっている。感光性ハロゲン化銀の塗布量すな
わち粒子数が多いほど高感度になるが、Dminが高く
なるという問題があった。また、造核剤を併用すると熱
現像時の環境が低温低湿になるほど低感化する問題があ
った。そこで、カブリが低く、高感度かつ硬調で、高い
黒化濃度(Dmax)、低いDminの写真性能を得る
ことが可能で、環境面・コスト面で有利な熱現像感光材
料を提供する技術が望まれていた。EP-A-762,196 and JP-A-9-90550 disclose that a photosensitive silver halide grain used for a photothermographic material contains a group VII or VIII metal ion or a metal complex ion. It is disclosed that high contrast photographic characteristics can be obtained by incorporating a hydrazine derivative into a material. However, when a nucleating agent such as hydrazine is used in combination with the binder used in the above-mentioned aqueous solvent coating solution, a high-contrast image can be obtained. There is a problem that it is likely to occur and is not practical. On the other hand, the sensitivity is determined by the light sensitivity of the photosensitive silver halide grains and the number of photosensitive silver halide grains contained in the image forming layer. The higher the coating amount of the photosensitive silver halide, that is, the larger the number of grains, the higher the sensitivity, but there is a problem that Dmin increases. In addition, when a nucleating agent is used in combination, there is a problem that the sensitivity becomes lower as the environment during thermal development becomes lower in temperature and humidity. Therefore, a technology for providing a photothermographic material which is low in fog, has high sensitivity and high contrast, can obtain high blackening density (Dmax), and low photographic performance in Dmin, and is advantageous in terms of environment and cost is desired. Was rare.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの従来
技術の問題点を解決することを課題とした。すなわち、
本発明は、特に写真製版用、特にスキャナー、イメージ
セッター用として、カブリが低く、高感度かつ硬調で、
高い黒化濃度(Dmax)を有し、Dminが低い写真
特性が得られる熱現像感光材料を提供することを第1の
解決すべき課題とした。さらに、本発明は環境面・コス
ト面で有利な水系塗布可能な熱現像感光材料を提供する
ことを第2の解決すべき課題とした。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve these problems of the prior art. That is,
The present invention, especially for photoengraving, especially for scanners, imagesetters, low fog, high sensitivity and high contrast,
It was a first problem to be solved to provide a photothermographic material having a high blackening density (Dmax) and low Dmin and photographic characteristics. It is a second object of the present invention to provide a photothermographic material which can be applied in an aqueous system and is advantageous in terms of environment and cost.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討を重ねた結果、支持体上に非感
光性銀塩、感光性ハロゲン化銀およびバインダーを有す
る熱現像感光材料において、感光性ハロゲン化銀の数平
均粒子サイズを0.01μm以上0.12μm以下の範
囲内に調節し、同時に造核剤と式(A)で表されるフェ
ノール誘導体を使用することによって、所望の効果を奏
する優れた熱現像感光材料を提供しうることを見出し、
本発明を提供するに至った。即ち、本発明によれば、支
持体上に非感光性銀塩、感光性ハロゲン化銀およびバイ
ンダーを有する熱現像感光材料において、数平均粒子サ
イズが0.01μm以上0.12μm以下の感光性ハロ
ゲン化銀を含有する画像形成層を有し、該画像形成層を
有する側に下記式(A)で表される少なくとも一種の化合
物と少なくとも一種の造核剤とを含有することを特徴と
する熱現像感光材料が提供される。The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a photothermographic method having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support is provided. In the material, by adjusting the number average grain size of the photosensitive silver halide within the range of 0.01 μm or more and 0.12 μm or less, and simultaneously using the nucleating agent and the phenol derivative represented by the formula (A), Have found that it is possible to provide an excellent photothermographic material having desired effects,
The present invention has been provided. That is, according to the present invention, in a photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, a photosensitive halogen having a number average particle size of 0.01 μm or more and 0.12 μm or less. A heat treatment comprising: an image forming layer containing silver halide; and at least one compound represented by the following formula (A) and at least one nucleating agent on the side having the image forming layer. A developed photosensitive material is provided.
【0008】[0008]
【化4】 Embedded image
【0009】[式(A)において、R1、R2、R3はそ
れぞれ独立に水素原子;ハロゲン原子;または炭素原
子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはリン原子で
ベンゼン環に結合する置換基を表す。X1、X2はそれぞ
れ独立に水素原子;ハロゲン原子;または炭素原子、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼ
ン環に結合する置換基を表す。ただしX1、X2の少なく
とも一方は−NR4R5で表される基である。R4、R5は
それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アリール基、もしくは−C(=O)−R
6、−C(=O)−C(=O)−R6、−SO2−R6、−
SO−R6、−P(=O)(−R6)−R7で表される基
である。R6、R7はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基から選ばれる基である。
これらの置換基はそれぞれ隣接する基同士が結合して環
を形成してもよい。][In the formula (A), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; Represents a group. X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituent bonded to a benzene ring by a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom. However, at least one of X 1 and X 2 is a group represented by —NR 4 R 5 . R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group,
Alkynyl group, aryl group, or -C (= O) -R
6, -C (= O) -C (= O) -R 6, -SO 2 -R 6, -
SO-R 6, -P (= O) - is a group represented by (R 6) -R 7. R 6 and R 7 are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group and a heterocyclic oxy group. is there.
These substituents may be bonded to each other to form a ring. ]
【0010】本発明において好ましくは、感光性ハロゲ
ン化銀は予め形成されたものであり、かつ化学増感剤で
化学増感されている。この場合さらに好ましくは、化学
増感剤が下記一般式(S)で表されるイオウ増感剤をで
ある。In the present invention, the photosensitive silver halide is preferably formed in advance and chemically sensitized with a chemical sensitizer. In this case, the chemical sensitizer is more preferably a sulfur sensitizer represented by the following general formula (S).
【0011】[0011]
【化5】 Embedded image
【0012】[式(S)において、R11〜R14はそれぞ
れ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル
基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは
無置換のアラルキル基、置換もしくは無置換のアリール
基、含窒素へテロ環基、アシル基である。R11とR12、
R13とR14、R11とR13又はR12とR14は互いに結合し
て炭素原子、窒素原子、酸素原子またはイオウ原子を含
む5員、6員又は7員環を形成してもよい。][In the formula (S), R 11 to R 14 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted A substituted aryl group, a nitrogen-containing heterocyclic group, and an acyl group. R 11 and R 12 ,
R 13 and R 14 , R 11 and R 13 or R 12 and R 14 may combine with each other to form a 5-, 6- or 7-membered ring containing a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. . ]
【0013】本発明において好ましくは、造核剤として
下記式(1)で表される置換アルケン誘導体、下記式(2)
で表される置換イソオキサゾール誘導体、あるいは下記
式(3)で表されるアセタール化合物から選ばれる化合物
を少なくとも1種使用する。In the present invention, a substituted alkene derivative represented by the following formula (1) is preferably used as a nucleating agent:
Or at least one compound selected from the acetal compounds represented by the following formula (3).
【0014】[0014]
【化6】 Embedded image
【0015】[式(1)において、R21,R22,R23は、
それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子
吸引性基またはシリル基を表す。式(1)においてR21と
Z、R22とR23、R21とR22、およびR23とZは、互い
に結合して環状構造を形成していてもよい。式(2)にお
いてR24は、置換基を表す。式(3)においてX,Yはそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、AおよびB
はそれぞれ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、
アニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基または
ヘテロ環アミノ基を表す。式(3)においてXとY、およ
びAとBは、互いに結合して環状構造を形成していても
よい。][In the formula (1), R 21 , R 22 and R 23 are
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (1), R 21 and Z, R 22 and R 23 , R 21 and R 22 , and R 23 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the formula (2), R 24 represents a substituent. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent;
Are each independently an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group,
Represents an anilino group, a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In the formula (3), X and Y, and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. ]
【0016】本発明において好ましくは、感光性ハロゲ
ン化銀を含有する画像形成層のバインダーの50重量%
以上として−30℃以上40℃以下のガラス転移温度を
有するポリマーのラテックスが用いられる。In the present invention, preferably, 50% by weight of the binder of the image forming layer containing photosensitive silver halide is used.
As the above, a polymer latex having a glass transition temperature of −30 ° C. or more and 40 ° C. or less is used.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の熱現像感光材料
の実施態様および実施方法について詳細に説明する。本
発明の熱現像感光材料は、支持体上に非感光性銀塩、感
光性ハロゲン化銀およびバインダーを有するものであ
り、感光性ハロゲン化銀の数平均粒子が特定の範囲内に
制御されていること、並びに造核剤と式(A)で表され
るフェノール誘導体とを含有していることを特徴とする
ものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments and methods of the photothermographic material of the present invention will be described in detail. The photothermographic material of the present invention has a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, and the number average grain of the photosensitive silver halide is controlled within a specific range. And a nucleating agent and a phenol derivative represented by the formula (A).
【0018】本発明で用いる感光性ハロゲン化銀の数平
均粒子サイズは0.01μm以上0.12μm以下であ
り、好ましくは0.02μm以上0.10μm以下であ
り、さらに好ましくは0.06μm以上0.10μm以
下である。数平均粒子サイズが上限値である0.12μ
mより大きくなると、保存後における写真性能に悪影響
が生じるので好ましくなく、また下限値が0.01μm
であるのは製造技術上の観点である。調製される感光性
ハロゲン化銀の数平均粒子サイズは粒子形成温度を選択
することによって調節することができる。一般的には、
粒子形成温度を低くするほど調製される感光性ハロゲン
化銀の数平均粒子サイズは小さくなる。例えば、以下の
実施例では、65℃から30℃の範囲の粒子形成温度で
調製することで0.16μmから0.06μmの数平均
粒子サイズを有する感光性ハロゲン化銀を調製した。
ここでいう数平均粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が
立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には
ハロゲン化銀粒子の稜の長さを粒子サイズとして、粒子
個数分の粒子サイズの和を粒子個数で割った値をいう。
また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には主
表面の投影面積と同面積の円像に換算したときの直径を
粒子サイズとして算出する。その他正常晶でない場合、
たとえば球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化
銀粒子の体積と同等な球を考えたときの直径を粒子サイ
ズとして算出する。Dminは画像形成層中のハロゲン
化銀含有量で決まっており、粒子サイズが小さいほどD
maxが高くDminが低くなる。これは、銀量が同じ
場合、粒子サイズが小さいほど粒子個数が多くなり熱現
像活性があがるためである。The number-average grain size of the photosensitive silver halide used in the present invention is from 0.01 μm to 0.12 μm, preferably from 0.02 μm to 0.10 μm, more preferably from 0.06 μm to 0 μm. .10 μm or less. Number average particle size is the upper limit of 0.12μ
If it is larger than m, the photographic performance after storage is adversely affected, which is not preferable, and the lower limit is 0.01 μm
Is from a manufacturing technology point of view. The number average grain size of the photosensitive silver halide prepared can be adjusted by selecting the grain formation temperature. In general,
The lower the grain formation temperature, the smaller the number average grain size of the photosensitive silver halide prepared. For example, in the following examples, photosensitive silver halide having a number average grain size of 0.16 μm to 0.06 μm was prepared by preparing at a grain formation temperature of 65 ° C. to 30 ° C.
When the silver halide grains are cubic or octahedral so-called normal crystals, the number average grain size referred to here is the sum of grain sizes for the number of grains, with the length of the edge of the silver halide grains as the grain size. Divided by the number of particles.
When the silver halide grains are tabular grains, the diameter calculated as a circular image having the same area as the projected area of the main surface is calculated as the grain size. If other than normal crystal,
For example, in the case of a spherical particle, a rod-like particle, or the like, the diameter of a sphere equivalent to the volume of a silver halide particle is calculated as the particle size. Dmin is determined by the silver halide content in the image forming layer.
max is high and Dmin is low. This is because when the amount of silver is the same, the smaller the particle size, the larger the number of particles and the higher the thermal development activity.
【0019】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:1がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
[100]面の占める割合が高いことが好ましい。その割合
としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、
80%以上が更に好ましい。ミラー指数[100]面の比率は増
感色素の吸着における[111]面と[100]面との吸着依存性
を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記
載の方法により求めることができる。The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3: 1. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high.
The proportion occupied by the [100] plane is preferably high. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more,
80% or more is more preferable. The Miller index [100] plane ratio was determined by T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985), which utilizes the adsorption dependence of [111] and [100] planes on the adsorption of sensitizing dyes. It can be determined by the method described.
【0020】感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界で
はよく知られており例えば、リサーチディスクロージャ
ー1978年6月の第17029号、および米国特許第3,700,458
号に記載されている方法を用いることができるが、具体
的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化
合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光
性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する
方法を用いる。感光性ハロゲン化銀は、良好な写真性能
を得る上で、有機銀塩の一部を感光性銀塩に変換するよ
うな方法によって調製されたものではなく、予め形成さ
れたものであることが好ましい。従って、本発明の好ま
しい態様の画像形成層においては、予め形成された感光
性ハロゲン化銀と、有機銀塩とを混合して画像形成層を
形成することが好ましい。Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, for example, Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458.
Can be used.Specifically, a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver-supplying compound and a halogen-supplying compound to gelatin or another polymer solution, and then the organic silver halide is added. A method of mixing with a silver salt is used. In order to obtain good photographic performance, the photosensitive silver halide is not prepared by a method of converting a part of the organic silver salt to the photosensitive silver salt, but may be formed in advance. preferable. Therefore, in the image forming layer according to a preferred embodiment of the present invention, it is preferable to form the image forming layer by mixing a photosensitive silver halide formed in advance and an organic silver salt.
【0021】本発明で用いる感光性ハロゲン化銀粒子
は、周期律表の第VIII族の金属または金属錯体を含有す
ることが好ましい。周期律表の第VIII族の金属または金
属錯体の中心金属として好ましくはロジウム、ルテニウ
ム、オスミウム、イリジウムである。これら金属錯体は
1種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を2種
以上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し
1×10-9モルから1×10-3モルの範囲が好ましく、
1×10-8モルから1×10-4モルの範囲がより好まし
い。具体的な金属錯体の構造としては特開平7-225449号
等に記載された構造の金属錯体を用いることができる。The photosensitive silver halide grains used in the present invention preferably contain a metal or a metal complex of Group VIII of the periodic table. Rhodium, ruthenium, osmium and iridium are preferred as the metal of Group VIII of the periodic table or the central metal of the metal complex. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol per mol of silver,
A range of 1 × 10 −8 mol to 1 × 10 −4 mol is more preferable. As a specific structure of the metal complex, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 or the like can be used.
【0022】本発明に用いられるロジウム化合物として
は、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たと
えば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、またはロジ
ウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラ
ト等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム(II
I)錯塩、ペンタクロロアコロジウム(III)錯塩、テト
ラクロロジアコロジウム(III)錯塩、ヘキサブロモロ
ジウム(III)錯塩、ヘキサアンミンロジウム(III)錯
塩、トリオキザラトロジウム(III)錯塩等が挙げられ
る。これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒
に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸
等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえばKCl、NaC
l、KBr、NaBr等)を添加する方法を用いることができ
る。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製
時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲ
ン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。As the rhodium compound used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound or a rhodium complex salt having a ligand such as halogen, amines, oxalato, etc., for example, hexachlororhodium (II)
I) Complex salts, pentachloroacolodium (III) complex salts, tetrachlorodiachodium (III) complex salts, hexabromorhodium (III) complex salts, hexaamminerhodium (III) complex salts, trioxalathrodium (III) complex salts, and the like. Can be These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent. A method generally used for stabilizing a solution of the rhodium compound is generally used, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (eg, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) Etc.) or alkali halides (eg KCl, NaC
l, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve other silver halide grains doped with rhodium during the preparation of silver halide.
【0023】これらのロジウム化合物の添加量はハロゲ
ン化銀1モル当り1×10-8モル〜5×10-4モルの範
囲が好ましく、特に好ましくは5×10-8モル〜1×1
0-5 モルである。これらの化合物の添加は、ハロゲン化
銀乳剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階に
おいて適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加
し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
い。The addition amount of these rhodium compounds is
1 × 10 per mole of silver halide-8Mol to 5 × 10-FourMolar range
Enclosure is preferable, and particularly preferably 5 × 10-8Mol ~ 1 x 1
0-Five Is a mole. The addition of these compounds
During the production of silver emulsion grains and before each step of coating the emulsion
Can be carried out as needed, but especially during emulsion formation.
And preferably incorporated into silver halide grains.
No.
【0024】本発明に用いられるルテニウム、オスミウ
ムは特開昭63-2042号、特開平1-285941号、同2-20852号、
同2-20855号等に記載された水溶性錯塩の形で添加され
る。特に好ましいものとして、以下の式で示される六配
位錯体が挙げられる。[ML6]n- ここでMはRuまた
はOsを表し、Lは配位子を表し、nは0、1、2、3
または4を表す。この場合、対イオンは重要性を持た
ず、アンモニウムもしくはアルカリ金属イオンが用いら
れる。また好ましい配位子としてはハロゲン化物配位
子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニトロシ
ル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。以下
に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本発明
はこれに限定されるものではない。Ruthenium and Osmiu used in the present invention
No. JP-A-63-2042, JP-A-1-285941, JP-A-2-20852,
It is added in the form of a water-soluble complex salt described in
You. Particularly preferred is a hexagonal compound represented by the following formula:
Position complex. [ML6]n- Where M is Ru
Represents Os, L represents a ligand, and n represents 0, 1, 2, 3
Or represents 4. In this case, the counterion is important
Without ammonium or alkali metal ions
It is. A preferable ligand is halide coordination.
Ligand, cyanide ligand, cyanide ligand, nitrosi
And thionitrosyl ligands. Less than
Examples of specific complexes used in the present invention are shown in
Is not limited to this.
【0025】 [RuCl6]3- [RuCl4(H2O)2]- [RuCl5(H2O)]2- [RuCl5(NO)]2- [RuBr5(NS)]2- [Ru(CO)3Cl3]2- [Ru(CO)Cl5]2- [Ru(CO)Br5]2- [OsCl6]3- [OsCl5(NO)]2- [Os(NO)(CN)5]2- [Os(NS)Br5]2- [Os(O)2(CN)4]4- [RuCl6]3- [RuClFour(HTwoO)Two]- [RuClFive(HTwoO)]2- [RuClFive(NO)]2- [RuBrFive(NS)]2- [Ru (CO)ThreeClThree]2- [Ru (CO) ClFive]2- [Ru (CO) BrFive]2- [OsCl6]3- [OsClFive(NO)]2- [Os (NO) (CN)Five]2- [Os (NS) BrFive]2- [Os (O)Two(CN)Four]Four-
【0026】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当り1×10-9モル〜1×10-4モルの範囲が好ま
しく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-5モル
である。これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒
子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階において適
宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハロ
ゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。これら
の化合物をハロゲン化銀の粒子形成中に添加してハロゲ
ン化銀粒子中に組み込むには、金属錯体の粉末もしくは
NaCl、KClと一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水
溶性塩または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方
法、あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合されると
き第3の溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロ
ゲン化銀粒子を調製する方法、あるいは粒子形成中に必
要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入する方法など
がある。特に粉末もしくはNaCl、KClと一緒に溶解した
水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加する方法が好まし
い。粒子表面に添加するには、粒子形成直後または物理
熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に必要量の
金属錯体の水溶液を反応容器に投入することもできる。The addition amount of these compounds is 1
The range is preferably from 1 × 10 -9 mol to 1 × 10 -4 mol, and particularly preferably from 1 × 10 -8 mol to 1 × 10 -5 mol, per mol. These compounds can be appropriately added at the time of the production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion, but it is particularly preferable to add them at the time of emulsion formation and incorporate them into the silver halide grains. . In order to add these compounds during silver halide grain formation and to incorporate them into silver halide grains, powder of metal complex or
A method in which an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl is added to a water-soluble salt or water-soluble halide solution during particle formation, or as a third solution when a silver salt and a halide solution are simultaneously mixed. And a method in which silver halide grains are prepared by a simultaneous three-liquid mixing method, or a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal complex is charged into a reaction vessel during grain formation. In particular, a method of adding a powder or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl to a water-soluble halide solution is preferable. In order to add the metal complex to the surface of the particles, a required amount of an aqueous solution of a metal complex can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or during the physical ripening, or at the time of chemical ripening.
【0027】本発明で用いられるイリジウム化合物とし
ては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロロイ
リジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラト
イリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタクロロニ
トロシルイリジウム等が挙げられる。これらのイリジウ
ム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられ
るが、イリジウム化合物の溶液を安定化させるために一
般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶
液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン
化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加す
る方法を用いることができる。水溶性イリジウムを用い
る代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめイリジウ
ムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶
解させることも可能である。As the iridium compound used in the present invention, various compounds can be used, and examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or a suitable solvent. However, a method generally used for stabilizing a solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or a method of adding an alkali halide (eg, KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.). Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another iridium-doped silver halide grain during silver halide preparation.
【0028】さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子に、コバルト、鉄、レニウム、ニッケル、クロム、パ
ラジウム、白金、金、タリウム、銅、鉛、等の金属原子
を含有してもよい。コバルト、鉄、クロムの化合物につ
いては六シアノ金属錯体を好ましく用いることができ
る。具体例としては、フェリシアン酸イオン、フェロシ
アン酸イオン、ヘキサシアノコバルト酸イオン、ヘキサ
シアノクロム酸イオン、ヘキサシアノルテニウム酸イオ
ンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。ハロゲン化銀中の金属錯体の含有相は均一でも、コ
ア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシェル部に
高濃度に含有させてもよく特に制限はない。上記金属は
ハロゲン化銀1モルあたり1×10-9〜1×10-4モル
が好ましい。また、上記金属を含有せしめるには単塩、
複塩、または錯塩の形の金属塩にして粒子調製時に添加
することができる。感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル
法、フロキュレーション法等、当業界で知られている方
法の水洗により脱塩することができるが本発明において
は脱塩してもしなくてもよい。Further, the silver halide grains used in the present invention may contain metal atoms such as cobalt, iron, rhenium, nickel, chromium, palladium, platinum, gold, thallium, copper and lead. As the compound of cobalt, iron and chromium, a hexacyano metal complex can be preferably used. Specific examples include, but are not limited to, ferricyanate, ferrocyanate, hexacyanocobaltate, hexacyanochromate, and hexacyanoruthenate. The phase containing the metal complex in the silver halide may be uniform, may be contained at a high concentration in the core portion, or may be contained at a high concentration in the shell portion, and there is no particular limitation. The amount of the metal is preferably 1 × 10 -9 to 1 × 10 -4 mol per mol of silver halide. In addition, to contain the above metal, a simple salt,
A metal salt in the form of a double salt or a complex salt can be added at the time of particle preparation. The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with a method known in the art such as a noodle method or a flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted.
【0029】本発明で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増
感することが好ましい。金増感を施す場合に用いられる
金増感剤としては、金の酸化数が+1価でも+3価でもよ
く、金増感剤として通常用いられる金化合物を用いるこ
とができる。代表的な例としては塩化金酸、カリウムク
ロロオーレート、オーリックトリクロライド、カリウム
オーリックチオシアネート、カリウムヨードオーレー
ト、テトラシアノオーリックアシド、アンモニウムオー
ロチオシアネート、ピリジルトリクロロゴールドなどが
あげられる。金増感剤の添加量は種々の条件により異な
るが、目安としてはハロゲン化銀1モル当り10-7モル
以上10-3モル以下、より好ましくは10-6モル以上5
×10-4以下である。The silver halide emulsion used in the present invention is preferably subjected to chemical sensitization. As the gold sensitizer used for gold sensitization, the oxidation number of gold may be +1 or +3, and gold compounds usually used as gold sensitizers can be used. Representative examples include chloroauric acid, potassium chloroaurate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodooleate, tetracyano auric acidide, ammonium aurothiocyanate, pyridyl trichlorogold and the like. The addition amount of the gold sensitizer may vary depending on various conditions, per mol of silver halide 10 -7 mol to 10 -3 mol or less as a guide, and more preferably 10 -6 mol to 5
× 10 -4 or less.
【0030】本発明で用いるハロゲン化銀乳剤は金増感
と他の化学増感とを併用することが好ましい。他の化学
増感の方法としては、硫黄増感法、セレン増感法、テル
ル増感法、貴金属増感法などの知られている方法を用い
ることができる。金増感法と組み合わせて使用する場合
には、例えば、硫黄増感法と金増感法、セレン増感法と
金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄
増感法とテルル増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン
増感法とテルル増感法と金増感法などが好ましい。本発
明に用いられるセレン増感剤としては、公知のセレン化
合物を用いることができる。すなわち、通常、不安定型
および/または非不安定型セレン化合物を添加して40
℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行わ
れる。不安定型セレン化合物としては特公昭44-15748
号、同43-13489号、特開平4-25832号、同4-109240号、同3-1
21798号等に記載の化合物を用いることができる。特に特
開平4-324855号中の一般式(VIII)および(IX)で示され
る化合物を用いることが好ましい。The silver halide emulsion used in the present invention is preferably used in combination with gold sensitization and another chemical sensitization. As other chemical sensitization methods, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method, and a noble metal sensitization method can be used. When used in combination with gold sensitization, for example, sulfur sensitization and gold sensitization, selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and selenium sensitization and gold sensitization, Sulfur sensitization, tellurium sensitization, and gold sensitization, and sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, and gold sensitization are preferred. As the selenium sensitizer used in the present invention, a known selenium compound can be used. That is, usually, unstable and / or non-unstable selenium compounds are added and
It is carried out by stirring the emulsion at a high temperature of not less than ℃ for a certain period of time. As an unstable selenium compound, Japanese Patent Publication No. 44-15748
No. 43-13489, JP-A-4-25832, 4-109240, 3-1
Compounds described in 21798 and the like can be used. In particular, it is preferable to use the compounds represented by formulas (VIII) and (IX) in JP-A-4-324855.
【0031】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成させる化合物である。ハロゲン化
銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5-3132
84号に記載の方法で試験することができる。テルル増感
剤としては例えばジアシルテルリド類、ビス(オキシカ
ルボニル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド
類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテ
ルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合
を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガ
ニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド
類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、
テルロスルホナート類、P-Te結合を有する化合物、含T
eヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化
合物、コロイド状テルルなどを用いることができる。具
体的には、米国特許第1,623,499号、同第3,320,069号、同
第3,772,031号、英国特許第235,211号、同第1,121,496号、
同第1,295,462号、同第1,396,696号、カナダ特許第800,9
58号、特開平4-204640号、同3-53693号、同3-131598号、同4
-129787号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアテ
ィー・ケミカル・コミュニケーション(J.Chem.Soc.Che
m.Commun.) 635(1980),ibid 1102(1979),ibid 645(197
9)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パ
ーキン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Tran
s.) 1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ・ケミス
トリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド・テ
ルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of Organic S
erenium and Tellunium Compounds),Vol 1(1986)、同 V
ol 2(1987)に記載の化合物を用いることができる。特に
特開平5-313284号中の一般式(II),(III),(IV)で示さ
れる化合物が好ましい。The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound which forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. The formation rate of silver telluride in a silver halide emulsion is described in JP-A-5-3132.
It can be tested by the method described in No. 84. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te Compounds having a bond, tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals,
Tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, containing T
e Heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used. Specifically, U.S. Patent Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, UK Patent 235,211 and 1,121,496,
No. 1,295,462, No. 1,396,696, Canadian Patent 800,9
No. 58, JP-A-4-204640, JP-A-3-53693, JP-A-3-31598, JP-A-4
-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication (J.Chem.Soc.Che)
m.Commun.) 635 (1980), ibid 1102 (1979), ibid 645 (197
9), Journal of Chemical Society Perkin Transaction (J. Chem. Soc. Perkin. Tran)
s.) 1,2191 (1980), edited by S. Patai, edited by The Chemistry of Organic S.
erenium and Tellunium Compounds), Vol 1 (1986), V
ol 2 (1987). In particular, compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in JP-A-5-313284 are preferred.
【0032】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3モ
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。本発
明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子の形
成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜硫酸
塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよい。The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention, the silver halide grains to be used, but the chemical ripening condition and the like and, generally, per mol of silver halide 10 -8 to 10 -2 mol, Preferably about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C. In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt, and the like may coexist in the process of forming silver halide grains or physical ripening.
【0033】本発明においては、還元増感を用いること
ができる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコ
ルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一ス
ズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導
体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等
を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはp
Agを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感す
ることができる。また、粒子形成中に銀イオンのシング
ルアディション部分を導入することにより還元増感する
ことができる。本発明に好ましく用いられる硫黄増感
は、通常、硫黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で
乳剤を一定時間攪拌することにより行われる。硫黄増感
剤としては公知の化合物を使用することができ、ゼラチ
ン中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、
例えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダ
ニン類等を用いることができる。特に、好ましい硫黄化
合物は、下記一般式(S)で表されるチオ尿素化合物で
ある。In the present invention, reduction sensitization can be used. As specific compounds of the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. . Also, when the pH of the emulsion is 7 or more or p
Reduction sensitization can be achieved by aging while keeping Ag at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ion during grain formation. The sulfur sensitization preferably used in the present invention is usually carried out by adding a sulfur sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. Known compounds can be used as the sulfur sensitizer, and in addition to the sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds,
For example, thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like can be used. In particular, a preferred sulfur compound is a thiourea compound represented by the following general formula (S).
【0034】[0034]
【化7】 Embedded image
【0035】式(S)において、R11〜R14は同一でも
異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、置換
もしくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエチル基、カルボキ
シペンチル基、ジエチルアミノプロピル基等)、置換も
しくは無置換のアルケニル基(アリル基等)、置換もし
くは無置換のアラルキル基(ベンジル基等)、置換もし
くは無置換のアリール基(フェニル基、p−トリル基、
m−メトキシフェニル基等)、含窒素へテロ環基(ピリ
ジル基、キノリン基、チアゾール基、チアジアゾール
基、オキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキ
サゾール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基、
トリアゾール基、モルホリン基、ベンゾトリアゾール基
等)、アシル基(メトキシ基、エトキシ基、ベンゾイル
基等)である。R11とR12、R13とR14、R11とR13又
はR12とR14は互いに結合して炭素原子、窒素原子、酸
素原子またはイオウ原子を含む5員、6員又は7員環を
形成してもよい。一般式(S)で表される化合物のう
ち、本発明で好ましく使用される代表的な具体例を以下
に示す。In the formula (S), R 11 to R 14 may be the same or different and each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group, a hydroxyethyl group). Group, carboxypentyl group, diethylaminopropyl group, etc.), substituted or unsubstituted alkenyl group (allyl group, etc.), substituted or unsubstituted aralkyl group (benzyl group, etc.), substituted or unsubstituted aryl group (phenyl group, p -A tolyl group,
m-methoxyphenyl group), a nitrogen-containing heterocyclic group (pyridyl group, quinoline group, thiazole group, thiadiazole group, oxazole group, benzothiazole group, benzoxazole group, imidazole group, benzimidazole group,
Triazole group, morpholine group, benzotriazole group, etc.) and acyl group (methoxy group, ethoxy group, benzoyl group, etc.). R 11 and R 12 , R 13 and R 14 , R 11 and R 13 or R 12 and R 14 are bonded to each other to form a 5-, 6- or 7-membered ring containing a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. May be formed. Among the compounds represented by the general formula (S), typical specific examples preferably used in the present invention are shown below.
【0036】[0036]
【化8】 Embedded image
【0037】[0037]
【化9】 Embedded image
【0038】硫黄増感剤の添加量は、化学熟成時のp
H、温度、ハロゲン化銀粒子の大きさなどの種々の条件
の下で変化するが、ハロゲン化銀1モル当り10-7〜1
0-2モルであり、より好ましくは10-5〜10-3モルで
ある。本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特29
3,917号に示される方法により、チオスルホン酸化合物
を添加してもよい。The amount of the sulfur sensitizer to be added depends on p during chemical ripening.
H, temperature, varies depending on various conditions such as the size of the silver halide grains, per mol of silver halide 10 -7 to 1
It is 0 -2 mol, more preferably 10 -5 to 10 -3 mol. The silver halide emulsion used in the present invention includes European special 29
A thiosulfonic acid compound may be added by the method shown in 3,917.
【0039】本発明の熱現像感光材料中のハロゲン化銀
乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均
粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、
晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用
してもよい。The silver halide emulsion in the photothermographic material of the present invention may be of one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, those having different halogen compositions,
Those having different crystal habits and those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination.
【0040】感光性ハロゲン化銀の使用量としては有機
銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.01モル以上0.5
モル以下が好ましく、0.02モル以上0.3モル以下がより
好ましく、0.03モル以上0.25モル以下が特に好ましい。
別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方
法及び混合条件については、それぞれ調製終了したハロ
ゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サ
ンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等
で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれ
かのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混
合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効
果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。The photosensitive silver halide is used in an amount of 0.01 to 0.5 mol of the photosensitive silver halide to 1 mol of the organic silver salt.
Mol or less, preferably 0.02 mol or more and 0.3 mol or less, particularly preferably 0.03 mol or more and 0.25 mol or less.
Regarding the mixing method and the mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. And the like, or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. There is no particular limitation as long as it appears in.
【0041】本発明の熱現像感光材料は、非感光性銀塩
を含む。本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に
対して比較的安定であるが、露光された光触媒(感光性
ハロゲン化銀の潜像など)及び還元剤の存在下で、80℃
或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成する銀
塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる源を含む任
意の有機物質であってよい。有機酸の銀塩、特に(炭素
数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪カルボン酸
の銀塩が好ましい。配位子が4.0〜10.0の範囲の錯安定
定数を有する有機または無機銀塩の錯体も好ましい。銀
供給物質は、好ましくは画像形成層の約5〜70重量%を構
成することができる。好ましい有機銀塩はカルボキシル
基を有する有機化合物の銀塩を含む。これらの例は、脂
肪族カルボン酸の銀塩および芳香族カルボン酸の銀塩を
含むがこれらに限定されることはない。脂肪族カルボン
酸の銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジ
ン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸
銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、
マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸銀、
酪酸銀及び樟脳酸銀、これらの混合物などを含む。本発
明においては、上記に挙げられる有機酸銀ないしは有機
酸銀の混合物の中でも、ベヘン酸銀含有率75モル%以
上の有機酸銀を用いることが好ましく、85モル%以上
がさらに好ましい。。ここでベヘン酸銀含有率とは、使
用する有機酸銀に対するベヘン酸銀のモル分率を示す。
本発明に用いる有機酸銀中に含まれるベヘン酸銀以外の
有機酸銀としては上記に挙げた物を好ましく用いること
ができる。The photothermographic material of the present invention contains a non-photosensitive silver salt. The organic silver salt that can be used in the present invention is relatively stable to light, but at 80 ° C. in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of a photosensitive silver halide) and a reducing agent.
Alternatively, it is a silver salt that forms a silver image when heated to a higher temperature. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, in particular silver salts of long-chain fatty carboxylic acids (with 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Also preferred are organic or inorganic silver salt complexes in which the ligand has a complex stability constant in the range of 4.0 to 10.0. The silver donor material can preferably make up about 5-70% by weight of the imaging layer. Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of an aliphatic carboxylic acid include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and silver palmitate.
Silver maleate, silver fumarate, silver tartrate, silver linoleate,
Silver butyrate and silver camphorate, and mixtures thereof. In the present invention, among the above-mentioned organic acid silver or a mixture of organic acid silver, it is preferable to use silver behenate having a content of 75 mol% or more, more preferably 85 mol% or more. . Here, the content of silver behenate indicates the molar fraction of silver behenate with respect to the organic acid silver used.
As the organic acid silver other than silver behenate contained in the organic acid silver used in the present invention, those mentioned above can be preferably used.
【0042】本発明に好ましく用いられる有機酸銀は、
上記に示した有機酸のアルカリ金属塩(Na塩,K塩,
Li塩等が挙げられる)溶液または懸濁液と硝酸銀を反
応させることで調製される。本発明で用いる有機酸アル
カリ金属塩は、上記有機酸をアルカリ処理することによ
って得られる。有機酸銀の調製は任意の好適な容器中で
回分式でまたは連続式で行うことができる。反応容器中
の攪拌は粒子の要求される特性によって任意の攪拌方法
で攪拌することができる。有機酸銀の調製法としては、
有機酸アルカリ金属塩溶液あるいは懸濁液の入った反応
容器に硝酸銀水溶液を徐々にあるいは急激に添加する方
法、硝酸銀水溶液の入った反応容器に予め調製した有機
酸アルカリ金属塩溶液あるいは懸濁液を徐々にあるいは
急激に添加する方法、予め調製した硝酸銀水溶液および
有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液を反応容器中に
同時に添加する方法のいずれもが好ましく用いることが
できる。The organic acid silver which is preferably used in the present invention is
Alkali metal salts of organic acids shown above (Na salt, K salt,
It is prepared by reacting silver nitrate with a solution or suspension. The alkali metal salt of an organic acid used in the present invention can be obtained by treating the above organic acid with an alkali. The preparation of the silver organic acid can be carried out batchwise or continuously in any suitable vessel. The stirring in the reaction vessel can be performed by any stirring method depending on the required characteristics of the particles. As a preparation method of the organic acid silver,
A method of slowly or rapidly adding an aqueous solution of silver nitrate to a reaction vessel containing an organic acid alkali metal salt solution or suspension. Either a method of slowly or rapidly adding, or a method of simultaneously adding a previously prepared aqueous solution of silver nitrate and a solution or suspension of an organic acid alkali metal salt into a reaction vessel can be preferably used.
【0043】硝酸銀水溶液および有機酸アルカリ金属塩
溶液または懸濁液は調製する有機酸銀の粒子サイズの制
御のために任意の濃度の物を用いることができ、また任
意の添加速度で添加することができる。硝酸銀水溶液お
よび有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液の添加方法
としては、添加速度一定で添加する方法、任意の時間関
数による加速添加法あるいは減速添加法にて添加するこ
とができる。また反応液に対し、液面に添加してもよ
く、また液中に添加してもよい。予め調製した硝酸銀水
溶液および有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液を反
応容器中に同時に添加する方法の場合には、硝酸銀水溶
液あるいは有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液のい
ずれかを先行させて添加することもできるが、硝酸銀水
溶液を先行させて添加することが好ましい。先行度とし
ては総添加量の0から50vol%が好ましく、0から2
5vol%が特に好ましい。また特開平9-127643号公報等
に記載のように反応中の反応液のpHないしは銀電位を
制御しながら添加する方法も好ましく用いることができ
る。The silver nitrate aqueous solution and the organic acid alkali metal salt solution or suspension may be of any concentration for controlling the particle size of the prepared organic acid silver, and may be added at any addition rate. Can be. The silver nitrate aqueous solution and the organic acid alkali metal salt solution or suspension can be added by a method of adding at a constant addition rate, an accelerated addition method by an arbitrary time function, or a deceleration addition method. Further, it may be added to the liquid surface or may be added to the reaction solution. In the case of a method in which a previously prepared aqueous silver nitrate solution and an organic acid alkali metal salt solution or suspension are simultaneously added to the reaction vessel, either the silver nitrate aqueous solution or the organic acid alkali metal salt solution or suspension is preceded. Although it can be added, it is preferable to add the silver nitrate aqueous solution in advance. The degree of precedence is preferably 0 to 50 vol% of the total amount added, and 0 to 2 vol%.
5 vol% is particularly preferred. As described in JP-A-9-127643, a method of adding while controlling the pH or silver potential of the reaction solution during the reaction can also be preferably used.
【0044】添加される硝酸銀水溶液や有機酸アルカリ
金属塩溶液または懸濁液は粒子の要求される特性により
pHを調整することができる。pH調整のために任意の
酸やアルカリを添加することができる。また、粒子の要
求される特性により、例えば調製する有機酸銀の粒子サ
イズの制御のため反応容器中の温度を任意に設定するこ
とができるが、添加される硝酸銀水溶液や有機酸アルカ
リ金属塩溶液または懸濁液も任意の温度に調整すること
ができる。有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液は液
の流動性を確保するために、50℃以上に加熱保温する
ことが好ましい。本発明に用いる有機酸銀は第3アルコ
ールの存在下で調製されることが好ましい。第3アルコ
ールとしては好ましくは総炭素数15以下の物が好まし
く、10以下が特に好ましい。好ましい第3アルコール
の例としては、tert-ブタノール等が挙げられるが、本
発明はこれに限定されない。本発明に用いられる第3ア
ルコールの添加時期は有機酸銀調製時のいずれのタイミ
ングでも良いが、有機酸アルカリ金属塩の調製時に添加
して、有機酸アルカリ金属塩を溶解して用いることが好
ましい。また、第3アルコールの使用量は有機酸銀調製
時の溶媒としてのH2Oに対して重量比で0.01〜10の範
囲で任意に使用することができるが、0.03〜1の範囲が
好ましい。The pH of the silver nitrate aqueous solution or organic acid alkali metal salt solution or suspension to be added can be adjusted according to the required characteristics of the particles. An optional acid or alkali can be added for pH adjustment. Depending on the required characteristics of the particles, for example, the temperature in the reaction vessel can be set arbitrarily for controlling the particle size of the prepared organic acid silver salt. Alternatively, the suspension can also be adjusted to any temperature. The organic acid alkali metal salt solution or suspension is preferably heated and kept at 50 ° C. or higher in order to ensure fluidity of the solution. The organic acid silver used in the present invention is preferably prepared in the presence of a tertiary alcohol. The tertiary alcohol is preferably one having a total carbon number of 15 or less, and particularly preferably 10 or less. Preferred examples of the tertiary alcohol include tert-butanol, but the present invention is not limited thereto. The tertiary alcohol used in the present invention may be added at any time during the preparation of the organic acid silver salt, but it is preferable to add the tertiary alcohol during the preparation of the organic acid alkali metal salt and dissolve the organic acid alkali metal salt before use. . The amount of the third alcohol can be used freely between 0.01 and 10 by weight ratio to of H 2 O as a solvent at the time of organic acid silver preparation, the range of 0.03 to 1 is preferred.
【0045】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm以上0.2
0μm以下、長軸0.10μm以上5.0μm以下が好ましく、短
軸0.01μm以上0.15μm以下、長軸0.10μm以上4.0μm以
下がより好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散
であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれ
の長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の10
0分率が好ましくは80%以下、より好ましくは50%以下、
更に好ましくは30%以下である。有機銀塩の形状の測定
方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より
求めることができる。単分散性を測定する別の方法とし
て、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方
法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動
係数)が好ましくは80%以下、より好ましくは50%以下、
更に好ましくは30%以下である。測定方法としては例え
ば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その
散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求め
ることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)か
ら求めることができる。この測定法での平均粒子サイズ
としては0.05μm以上10.0μm以下の固体微粒子分散物
が好ましい。より好ましくは平均粒子サイズ0.1μm以
上5.0μm以下、更に好ましくは平均粒子サイズ0.1μm
以上2.0μm以下である。The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but a needle crystal having a short axis and a long axis is preferable. In the present invention, the minor axis is 0.01 μm or more and 0.2 μm or more.
0 μm or less, major axis of 0.10 μm or more and 5.0 μm or less, minor axis of 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and major axis of 0.10 μm or more and 4.0 μm or less are more preferred. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse is the standard deviation of the lengths of the minor and major axes divided by the minor and major axes, respectively.
0 fraction is preferably 80% or less, more preferably 50% or less,
It is more preferably at most 30%. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring the monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, the percentage of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation) is preferably 80% or less, more Preferably 50% or less,
It is more preferably at most 30%. As a measuring method, for example, the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating a laser beam to an organic silver salt dispersed in a liquid and obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of fluctuation of the scattered light is obtained. Can be. A solid fine particle dispersion having an average particle size of 0.05 μm or more and 10.0 μm or less in this measurement method is preferable. More preferably average particle size 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, still more preferably average particle size 0.1 μm
Not less than 2.0 μm.
【0046】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
好ましくは脱塩をすることができる。脱塩を行う方法と
しては特に制限はなく公知の方法を用いることができる
が、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロ
ック形成水洗等の公知の濾過方法を好ましく用いること
ができる。本発明では、高S/Nで、粒子サイズが小さ
く、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画像
形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実質
的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降下
させる分散法を用いることが好ましい。そして、このよ
うな工程を経た後に、感光性銀塩水溶液と混合して感光
性画像形成媒体塗布液を製造する。このような塗布液を
用いて熱現像感光材料を作製するとヘイズが低く、低カ
ブリで高感度の熱現像感光材料が得られる。これに対
し、高圧、高速流に変換して分散する時に、感光性銀塩
を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下す
る。また、分散媒として水ではなく、有機溶剤を用いる
と、ヘイズが高くなり、カブリが上昇し、感度が低下し
やすくなる。一方、感光性銀塩水溶液を混合する方法に
かえて、分散液中の有機銀塩の一部を感光性銀塩に変換
するコンバージョン法を用いると感度が低下する。The organic silver salt that can be used in the present invention is
Preferably, desalting can be performed. The method for desalting is not particularly limited, and a known method can be used. However, a known filtration method such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, or floc-forming water washing by a coagulation method can be preferably used. In the present invention, for the purpose of obtaining an organic silver salt solid dispersion having a high S / N, a small particle size, and no aggregation, the organic silver salt containing an image forming medium is contained, and the photosensitive silver salt is substantially contained. It is preferable to use a dispersion method in which an aqueous dispersion is converted into a high-speed stream and then the pressure is reduced. After passing through such a process, the mixture is mixed with a photosensitive silver salt aqueous solution to produce a photosensitive image forming medium coating solution. When a photothermographic material is prepared using such a coating solution, a haze is low, and a low-fogging, high-sensitivity photothermographic material can be obtained. On the other hand, when the photosensitive silver salt is coexistent when the light is converted into a high-pressure, high-speed flow and dispersed, the fog increases and the sensitivity is remarkably lowered. When an organic solvent is used instead of water as a dispersion medium, haze increases, fog increases, and sensitivity tends to decrease. On the other hand, when a conversion method for converting a part of the organic silver salt in the dispersion to the photosensitive silver salt is used instead of the method of mixing the aqueous solution of the photosensitive silver salt, the sensitivity is reduced.
【0047】上記において、高圧、高速化に変換して分
散される水分散液は、実質的に感光性銀塩を含まないも
のであり、その含有量は非感光性の有機銀塩に対して0.
1モル%以下であり、積極的な感光性銀塩の添加は行わな
いものである。本発明において、上記のような分散法を
実施するのに用いられる固体分散装置およびその技術に
ついては、例えば『分散系レオロジーと分散化技術』
(梶内俊夫、薄井洋基 著、1991、信山社出版(株)、
p357〜p403)、『化学工学の進歩第24集』(社団法人
化学工学会東海支部 編、1990、槙書店、p184〜p18
5)、等に詳しいが、本発明での分散法は、少なくとも
有機銀塩を含む水分散物を高圧ポンプ等で加圧して配管
内に送入した後、配管内に設けられた細いスリットを通
過させ、この後に分散液に急激な圧力低下を生じさせる
ことにより微細な分散を行う方法である。本発明が関連
する高圧ホモジナイザーについては、一般には、(a)分
散質が狭間隙を高圧、高速で通過する際に生じる『剪断
力』、(b)分散質が高圧下から常圧に解放される際に生
じる『キャビテーション力』、等の分散力によって微細
な粒子への分散が行われると考えられている。この種の
分散装置としては、古くはゴーリンホモジナイザーが挙
げられるが、この装置では高圧で送られた被分散液が円
柱面上の狭い間隙で、高速流に変換され、その勢いで周
囲の壁面に衝突し、その衝撃力で乳化・分散が行われ
る。使用圧力は一般には100〜600kg/cm2、流速は数m〜3
0m/秒の範囲であり、分散効率を上げるために高流速部
を鋸刃状にして衝突回数を増やすなどの工夫を施したも
のも考案されている。これに対して、近年更に高圧、高
流速での分散が可能となる装置が開発されてきており、
その代表例としてはマイクロフルイダイザー(マイクロ
フルイデックス・インターナショナル・コーポレーショ
ン社)、ナノマイザー(特殊機化工業(株))などが挙
げられる。In the above, the aqueous dispersion which is dispersed by being converted to high pressure and high speed is substantially free of a photosensitive silver salt, and its content is based on the non-photosensitive organic silver salt. 0.
The content is 1 mol% or less, and the photosensitive silver salt is not positively added. In the present invention, for the solid dispersion apparatus and the technology used to carry out the dispersion method as described above, for example, "dispersion system rheology and dispersion technology"
(Toshio Kajiuchi, Hiroki Usui, 1991, Shinzansha Publishing Co., Ltd.,
p357-p403), "Progress in Chemical Engineering Vol. 24" (incorporated association)
Edited by The Society of Chemical Engineers, Tokai Branch, 1990, Maki Shoten, p184-p18
5), etc., the dispersion method according to the present invention is based on a method in which after a water dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and fed into a pipe, a thin slit provided in the pipe is formed. This is a method in which fine dispersion is performed by causing the dispersion to pass through and then causing a sharp pressure drop in the dispersion. As for the high-pressure homogenizer to which the present invention is related, generally, (a) the dispersoid is released at a normal pressure from a high pressure under a high pressure, and `` shearing force '' generated when the dispersoid passes through a narrow gap at a high speed. It is considered that the particles are dispersed into fine particles by a dispersing force such as “cavitation force” generated when the particles are dispersed. As an example of this type of dispersing apparatus, a Gaulin homogenizer is mentioned in the past.In this apparatus, the liquid to be dispersed sent at a high pressure is converted into a high-speed flow through a narrow gap on a cylindrical surface, and the force is applied to the surrounding wall by the force. The particles collide and are emulsified and dispersed by the impact force. Operating pressure is generally 100~600kg / cm 2, the number is the flow velocity m~3
It is in the range of 0 m / sec, and in order to increase the dispersion efficiency, a device in which the high flow velocity portion is saw-toothed and the number of collisions is increased has been devised. On the other hand, in recent years, devices capable of dispersing at higher pressure and higher flow rate have been developed,
Typical examples thereof include a microfluidizer (Microfluidex International Corporation) and a nanomizer (Special Kika Kogyo Co., Ltd.).
【0048】本発明の実施に適した分散装置としては、
マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポ
レーション社製マイクロフルイダイザーM−110S−
EH(G10Zインターラクションチャンバー付き)、
M−110Y(H10Zインターラクションチャンバー
付き)、M−140K(G10Zインターラクションチ
ャンバー付き)、HC−5000(L30ZまたはH2
30Zインターラクションチャンバー付き),HC−8
000(E230ZまたはL30Zインターラクション
チャンバー付き)等が挙げられる。これらの装置を用
い、少なくとも有機銀塩を含む水分散液を高圧ポンプ等
で加圧して配管内に送入した後、配管内に設けられた細
いスリットを通過させることにより所望の圧力を印加
し、この後に配管内の圧力を大気圧に急速に戻す等の方
法で分散液に急激な圧力降下を生じさせることにより本
発明に最適な有機銀塩分散物を得ることが可能である。The dispersion apparatus suitable for carrying out the present invention includes:
Microfluidizer M-110S- manufactured by Microfluidex International Corporation
EH (with G10Z interaction chamber),
M-110Y (with H10Z interaction chamber), M-140K (with G10Z interaction chamber), HC-5000 (L30Z or H2
With 30Z interaction chamber), HC-8
000 (with an E230Z or L30Z interaction chamber) and the like. Using these devices, an aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and fed into a pipe, and then a desired pressure is applied by passing through a narrow slit provided in the pipe. After that, a sudden pressure drop is caused in the dispersion by, for example, rapidly returning the pressure in the pipe to the atmospheric pressure, whereby an organic silver salt dispersion optimal for the present invention can be obtained.
【0049】分散操作に先だって、原料液を予備分散す
ることが好ましい。予備分散する手段としては公知の分
散手段(例えば、高速ミキサー、ホモジナイザー、高速
衝撃ミル、バンバリーミキサー、ホモミキサー、ニーダ
ー、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、ア
トライター、サンドミル、ビーズミル、コロイドミル、
ジェットミル、ローラーミル、トロンミル、高速ストー
ンミル)を用いることができる。機械的に分散する以外
にも、pHコントロールすることで溶媒中に粗分散し、そ
の後、分散助剤の存在下でpHを変化させて微粒子化させ
ても良い。このとき、粗分散に用いる溶媒として有機溶
媒を使用しても良く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除
去される。It is preferable that the raw material liquid is preliminarily dispersed before the dispersion operation. As means for preliminary dispersion, known dispersion means (e.g., high-speed mixer, homogenizer, high-speed impact mill, Banbury mixer, homomixer, kneader, ball mill, vibration ball mill, planetary ball mill, attritor, sand mill, bead mill, colloid mill,
Jet mill, roller mill, tron mill, high-speed stone mill) can be used. Instead of mechanically dispersing, fine particles may be formed by coarsely dispersing in a solvent by controlling the pH and then changing the pH in the presence of a dispersing agent. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after the completion of the fine particle formation.
【0050】有機銀塩分散においては、流速、圧力降下
時の差圧と処理回数の調節によって所望の粒子サイズに
分散することが可能であるが、写真特性と粒子サイズの
点から、流速が200m/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が
900〜3000kg/cm2の範囲が好ましく、流速が300m/秒〜60
0m/秒、圧力降下時の差圧が1500〜3000kg/cm2の範囲で
あることが更に好ましい。分散処理回数は必要に応じて
選択できるが、通常は1回〜10回の処理回数が選ばれる
が、生産性の点からは1回〜3回程度の処理回数が選ばれ
る。高圧下でこのような水分散液を高温にすることは、
分散性、写真特性の点から好ましくなく、90℃を越える
ような高温では粒子サイズが大きくなりやすくなると共
に、カブリが高くなる傾向がある。従って、本発明では
前記の高圧、高流速に変換する前の工程もしくは、圧力
降下させた後の工程、あるいはこれらの両工程に冷却工
程を含み、このような水分散の温度が冷却工程により5
〜90℃の範囲に保たれていることが好ましく、更に好ま
しくは5〜80℃の範囲、特に5〜65℃の範囲に保たれてい
ることが好ましい。特に、1500〜3000kg/cm2の範囲の高
圧の分散時には前記の冷却工程を設置することが有効で
ある。冷却器は、その所要熱交換量に応じて、二重管や
二重管にスタチックミキサーを使用したもの、多管式熱
交換器、蛇管式熱交換器等を適宜選択することができ
る。また、熱交換の効率を上げるために、使用圧力を考
慮して、管の太さ、肉厚や材質など好適なものを選べば
よい。冷却器に使用する冷媒は、熱交換量から、20℃の
井水や冷凍機で処理した5〜10℃の冷水、また必要に応
じて-30℃のエチレングリコール/水等の冷媒を使用する
こともできる。In the dispersion of an organic silver salt, it is possible to disperse the particles in a desired particle size by adjusting the flow rate, the differential pressure at the time of pressure drop, and the number of times of processing. / Sec to 600m / sec, differential pressure at pressure drop
Is preferably in the range of 900~3000kg / cm 2, the flow rate is 300 meters / sec to 60
More preferably, the pressure difference at the time of 0 m / sec and the pressure drop is in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . The number of times of dispersion processing can be selected as needed, but usually 1 to 10 times is selected, but from the viewpoint of productivity, about 1 to 3 times is selected. Heating such aqueous dispersions under high pressure is
At a high temperature exceeding 90 ° C., the particle size tends to increase and fog tends to increase. Therefore, in the present invention, the step before the conversion to the high pressure and high flow rate, the step after the pressure is reduced, or both of these steps include a cooling step, and the temperature of such water dispersion is reduced by the cooling step.
The temperature is preferably maintained in the range of 90 to 90 ° C, more preferably in the range of 5 to 80 ° C, particularly preferably in the range of 5 to 65 ° C. In particular, it is effective to provide the above cooling step at the time of high-pressure dispersion in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . As the cooler, a double tube, a double tube using a static mixer, a multi-tube heat exchanger, a coiled tube heat exchanger, or the like can be appropriately selected according to the required heat exchange amount. Further, in order to increase the efficiency of heat exchange, it is sufficient to select a suitable one such as a pipe thickness, a wall thickness and a material in consideration of a working pressure. As the refrigerant used for the cooler, use 20 ° C well water, 5-10 ° C cold water treated with a refrigerator, and, if necessary, -30 ° C ethylene glycol / water refrigerant, etc., based on the heat exchange amount. You can also.
【0051】分散操作では、水性溶媒可溶な分散剤(分
散助剤)の存在下で有機銀塩を分散することが好まし
い。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル酸、アク
リル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モ
ノエステル共重合体、アクリロメチルプロパンスルホン
酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カルボキシメ
チルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合
成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのア
ニオン性ポリマー、特開平7-350753号に記載の化合物、
あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界
面活性剤やその他のポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の自然界に
存在する高分子化合物を適宜選択して用いることができ
るが、ポリビニルアルコール類、水溶性のセルロース誘
導体が特に好ましい。分散助剤は、分散前に有機銀塩の
粉末またはウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、ス
ラリーとして分散機に送り込むのは一般的な方法である
が、予め有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒に
よる処理を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキと
しても良い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤に
よりpHコントロールしても良い。In the dispersion operation, the organic silver salt is preferably dispersed in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Examples of the dispersing agent include polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, a synthetic anionic polymer such as an acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and carboxymethyl. Starch, semi-synthetic anionic polymer such as carboxymethyl cellulose, alginic acid, anionic polymer such as pectic acid, the compound described in JP-A-7-350753,
Alternatively, known anionic, nonionic, cationic surfactants and other known polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, or naturally occurring polymer compounds such as gelatin Can be appropriately selected and used, but polyvinyl alcohols and water-soluble cellulose derivatives are particularly preferred. It is a general method that the dispersing aid is mixed with the organic silver salt powder or the organic silver salt in a wet cake state before dispersion and sent to a disperser as a slurry, but in a state where it is mixed with the organic silver salt in advance. And a heat treatment or a treatment with a solvent may be performed to obtain an organic silver salt powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion.
【0052】機械的に分散する以外にも、pHコントロー
ルすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存
在下でpHを変化させて微粒子化させても良い。このと
き、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使用しても良
く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去される。調製さ
れた分散物は、保存時の微粒子の沈降を抑える目的で撹
拌しながら保存したり、親水性コロイドにより粘性の高
い状態(例えば、ゼラチンを使用しゼリー状にした状
態)で保存したりすることもできる。また、保存時の雑
菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤を添加することも
できる。In addition to mechanical dispersion, the particles may be coarsely dispersed in a solvent by controlling the pH, and then finely divided by changing the pH in the presence of a dispersing agent. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after the completion of the fine particle formation. The prepared dispersion is stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or stored in a highly viscous state by a hydrophilic colloid (for example, in a jelly state using gelatin). You can also. Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.
【0053】本発明に用いる有機銀塩固体微粒子分散物
は、少なくとも有機銀塩と水から成るものである。有機
銀塩と水との割合は特に限定されるものではないが、有
機銀塩の全体に占める割合は5〜50重量%であること
が好ましく、特に10〜30重量%の範囲が好ましい。
前述の分散助剤を用いることは好ましいが、粒子サイズ
を最小にするのに適した範囲で最少量使用するのが好ま
しく、有機銀塩に対して0.5〜30重量%、特に1〜
15重量%の範囲が好ましい。本発明では有機銀塩水分
散液と感光性銀塩水分散液を混合して感光材料を製造す
ることが可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比
率は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性銀
塩の割合は1〜30モル%の範囲が好ましく、更に3〜2
0モル%、特に5〜15モル%の範囲が好ましい。混合
する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光
性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のた
めに好ましく用いられる方法である。本発明において有
機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量として0.1〜5g/
m2が好ましく、さらに好ましくは1〜3g/m2である。The organic silver salt solid fine particle dispersion used in the present invention comprises at least an organic silver salt and water. The ratio of the organic silver salt to water is not particularly limited, but the ratio of the organic silver salt to the whole is preferably 5 to 50% by weight, and more preferably 10 to 30% by weight.
It is preferable to use the above-mentioned dispersing aid, but it is preferable to use the dispersing aid in a minimum amount within a range suitable for minimizing the particle size, and 0.5 to 30% by weight, especially 1 to 30% by weight based on the organic silver salt.
A range of 15% by weight is preferred. In the present invention, it is possible to produce a photosensitive material by mixing the organic silver salt aqueous dispersion and the photosensitive silver salt aqueous dispersion, the mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose, The ratio of the photosensitive silver salt to the organic silver salt is preferably in the range of 1 to 30 mol%, more preferably 3 to 2 mol%.
A range of 0 mol%, especially 5 to 15 mol% is preferred. Mixing two or more aqueous dispersions of organic silver salts with two or more aqueous dispersions of photosensitive silver salts during mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics. In the present invention, the organic silver salt can be used in a desired amount, but the silver amount is 0.1 to 5 g /
m 2 is preferred, and more preferably 1-3 g / m 2 .
【0054】本発明にはCa、Mg、Zn及びAgから
選ばれる金属イオンを非感光性有機銀塩へ添加すること
が好ましい。Ca、Mg、Zn及びAgから選ばれる金
属イオンの非感光性有機銀塩への添加については、ハロ
ゲン化物でない、水溶性の金属塩の形で添加することが
好ましく、具体的には硝酸塩や硫酸塩などの形で添加す
ることが好ましい。ハロゲン化物での添加は処理後の感
光材料の光(室内光や太陽光など)による画像保存性、
いわゆるプリントアウト性を悪化させるので好ましくな
い。このため、本発明では前述のハロゲン化物でない、
水溶性の金属塩の形で添加することが好ましい。本発明
に好ましく用いるCa、Mg、Zn及びAgから選ばれ
る金属イオンの添加時期としては、該非感光性有機銀塩
の粒子形成後の、粒子形成直後、分散前、分散後及び塗
布液調製前後など塗布直前までであればいずれの時期で
もよく、好ましくは分散後、塗布液調製前後である。本
発明におけるCa、Mg、Zn及びAgから選ばれる金
属イオンの添加量としては、非感光性有機銀1モルあた
り10-3〜10-1モルが好ましく、特に5×10-3〜5×10-2モ
ルが好ましい。In the present invention, it is preferable to add a metal ion selected from Ca, Mg, Zn and Ag to the non-photosensitive organic silver salt. Regarding the addition of a metal ion selected from Ca, Mg, Zn and Ag to the non-photosensitive organic silver salt, it is preferable to add it in the form of a non-halide, water-soluble metal salt, specifically, nitrate or sulfuric acid. It is preferably added in the form of a salt or the like. Addition of halides can be used to preserve the image of the processed photosensitive material due to light (such as room light or sunlight),
This is not preferable because it deteriorates the so-called printout property. For this reason, in the present invention, it is not the above-mentioned halide,
It is preferably added in the form of a water-soluble metal salt. The addition time of the metal ion selected from Ca, Mg, Zn and Ag preferably used in the present invention is, for example, after the particle formation of the non-photosensitive organic silver salt, immediately before the particle formation, before the dispersion, after the dispersion and before and after the preparation of the coating solution. The timing may be any time as long as immediately before the coating, preferably after the dispersion and before and after the preparation of the coating solution. The addition amount of the metal ion selected from Ca, Mg, Zn and Ag in the present invention is preferably 10 -3 to 10 -1 mol per mol of non-photosensitive organic silver, and particularly preferably 5 × 10 -3 to 5 × 10 3 mol. -2 mol is preferred.
【0055】本発明の熱現像感光材料は、以下の式
(A)で表される化合物を少なくとも1種含有する。以
下に、式(A)で表される化合物について詳細に説明す
る。The photothermographic material of the present invention contains at least one compound represented by the following formula (A). Hereinafter, the compound represented by the formula (A) will be described in detail.
【0056】[0056]
【化10】 Embedded image
【0057】式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立に水
素原子;ハロゲン原子;または炭素原子、酸素原子、窒
素原子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼン環に結合
する置換基を表す。炭素原子でベンゼン環に結合する置
換基の例は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アリール基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環
基、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル
基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、
オキサリル基、オキサモイル基、チオカルバモイル基等
がある。酸素原子でベンゼン環に結合する置換基の例
は、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもし
くはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイ
ルオキシ基、スルホニルオキシ基などである。In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituent bonded to a benzene ring by a carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom or phosphorus atom. Examples of the substituent bonded to the benzene ring at a carbon atom include a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group , A carboxyl group, a heterocyclic group, a sulfonylcarbamoyl group, an acylcarbamoyl group, a sulfamoylcarbamoyl group, a carbazoyl group,
Examples include an oxalyl group, an oxamoyl group, and a thiocarbamoyl group. Examples of the substituent bonded to the benzene ring with an oxygen atom include a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group,
Examples include a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, an (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, a carbamoyloxy group, and a sulfonyloxy group.
【0058】窒素原子でベンゼン環に結合する置換基の
例は、アミノ基、ニトロ基、ヒドラジノ基、ヘテロ環
基、アシルアミノ基、(アルコキシもしくはアリールオ
キシ)カルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルフ
ァモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバ
ジド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモ
イルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、(アルキ
ルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウ
レイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ホスホリル
アミノ基、イミド基等である。硫黄原子でベンゼン環に
結合する置換基の例は、メルカプト基、ジスルフィド
基、スルホ基、スルフィノ基、スルホニルチオ基、チオ
スルホニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スル
ホニル基、スルフィニル基、スルファモイル基、アシル
スルファモイル基、スルホニルスルファモイル基、スル
ホ基、ヘテロ環チオ基等である。リン原子でベンゼン環
に結合する置換基の例は、ホスホニル基、ホスフィニル
基などである。これら置換基は、これら置換基で更に置
換されていてもよい。Examples of the substituent bonded to the benzene ring at the nitrogen atom include amino, nitro, hydrazino, heterocyclic, acylamino, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino, sulfonamide, and sulfamoyl. Amino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonio group, oxamoylamino group, ureido group, thioureido group, (alkyl or aryl) sulfonyluleide group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, phosphoryl Amino group, imide group and the like. Examples of the substituent bonded to the benzene ring with a sulfur atom include a mercapto group, a disulfide group, a sulfo group, a sulfino group, a sulfonylthio group, a thiosulfonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfamoyl group, and an acyl group. A sulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group, a sulfo group, a heterocyclic thio group and the like. Examples of the substituent bonded to the benzene ring with a phosphorus atom include a phosphonyl group and a phosphinyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.
【0059】X1、X2はそれぞれ独立に水素原子;ハロ
ゲン原子;または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄
原子もしくはリン原子でベンゼン環に結合する置換基を
表す。X1、X2が水素原子、ハロゲン原子以外の置換基
を表すとき、その具体例はR1、R2、R3が置換基を表
すときと同じ範囲内より選ばれる。ただしX1、X2の少
なくとも一方は−NR4R5で表される基である。R4、
R5はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アリール基、または−C(=O)
−R6、−C(=O)−C(=O)−R6、−SO2−
R6、−SO−R6、もしくは−P(=O)(−R6)−
R7で表される基である。R6、R7はそれぞれ独立に水
素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、ヘテロ環基、アミノ基、ヒドロキシ基、アル
コキシ基、アリールオキシ基から選ばれる基である。こ
れらの置換基はそれぞれ隣接する基同士が結合して環を
形成してもよい。X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituent bonded to a benzene ring by a carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom or phosphorus atom. When X 1 and X 2 represent a substituent other than a hydrogen atom and a halogen atom, specific examples are selected from the same range as when R 1 , R 2 and R 3 represent a substituent. However, at least one of X 1 and X 2 is a group represented by —NR 4 R 5 . R 4 ,
R 5 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or —C (= O)
—R 6 , —C (= O) —C (= O) —R 6 , —SO 2 —
R 6 , —SO—R 6 , or —P (= O) (— R 6 ) —
It is a group represented by R 7 . R 6 and R 7 are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, a hydroxy group, an alkoxy group, and an aryloxy group. These substituents may be bonded to each other to form a ring.
【0060】次に式(A)で表される化合物の好ましい
範囲について述べる。R1、R2、R3で好ましいものは
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の直鎖、分岐
または環状の、置換もしくは無置換のアルキル基(例え
ば、メチル、エチル、プロピル、iso-プロピル、tert-
ブチル、n-オクチル、tert-アミル、1,3-テトラメチル
ブチル、シクロヘキシル、トリフルオロメチル、ジフル
オロメチル)、炭素数1〜20のアルケニル基(例え
ば、ビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニル)、炭
素数1〜20のアルキニル基(例えば、プロパルギル、
3-ペンチニル)、炭素数6〜20のアリール基(例え
ば、フェニル、p-メチルフェニル、ナフチル)、炭素数
1〜20のアシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、
ホルミル、ピバロイル)、炭素数2〜20のアルコキシ
カルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル)、炭素数7〜20のアリールオキシカルボ
ニル基(例えば、フェノキシカルボニル)、炭素数1〜
20のカルバモイル基(例えば、カルバモイル、ジエチ
ルカルバモイル、フェニルカルバモイル)、シアノ基、
カルボキシル基、炭素数1〜20のヘテロ環基(例え
ば、1-イミダゾリル、モリホリル、3-ピラゾリル)、ヒ
ドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基(例えば、
メトキシ、エトキシ、ブトキシ)、炭素数6〜20のア
リールオキシ基(例えば、フェニルオキシ、2-ナフチル
オキシ)、炭素数1〜20のヘテロ環オキシ基(例え
ば、4-ピリジルオキシ)、炭素数2〜20のアシルオキ
シ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ)、炭素
数0〜20のアミノ基(例えば、アミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミ
ノ)、ニトロ基、炭素数1〜20のアシルアミノ基(例
えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ)、炭素数2
〜20のアルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メト
キシカルボニルアミノ)、炭素数7〜20のアリールオ
キシカルボニルアミノ基(例えば、フェニルオキシカル
ボニルアミノ)、炭素数1〜20のスルホンアミド基
(例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド)、炭素数1〜20のスルファモイルアミノ基、炭
素数0〜20のスルファモイル基(例えば、スルファモ
イル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイ
ル、フェニルスルファモイル)、炭素数0〜20のウレ
イド基(例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニル
ウレイド)、炭素数2〜20のイミド基(例えば、スク
シンイミド、フタルイミド、トリフルオロメタンスルホ
ンイミド)、メルカプト基、炭素数1〜20のジスルフ
ィド基、スルホ基、スルフィノ基、炭素数1〜20のア
ルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ)、炭
素数6〜20のアリールチオ基(例えば、フェニルチ
オ)、炭素数1〜20のスルホニル基(例えば、メシ
ル、トシル、フェニルスルホニル)、炭素数1〜20の
スルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル、ベンゼ
ンスルフィニル)、炭素数1〜20のヘテロ環チオ基
(例えば、2-イミダゾリルチオ)、炭素数1〜20のホ
スフィニル基(例えば、ジエトキシホスフィニル基、ジ
フェニルホスフィニル)、炭素数1〜20のホスホリル
アミノ基(例えば、ジエチルホスホリルアミノ)等があ
る。Next, the preferred range of the compound represented by the formula (A) will be described. R 1 , R 2 and R 3 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, propyl, iso- Propyl, tert-
Butyl, n-octyl, tert-amyl, 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, trifluoromethyl, difluoromethyl), an alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl) ), An alkynyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, propargyl,
3-pentynyl), an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl), an acyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, acetyl, benzoyl,
Formyl, pivaloyl), an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms (for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms (for example, phenoxycarbonyl),
20 carbamoyl groups (eg, carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl), a cyano group,
Carboxyl group, heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms (eg, 1-imidazolyl, morpholinyl, 3-pyrazolyl), hydroxy group, alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (eg,
Methoxy, ethoxy, butoxy), an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenyloxy, 2-naphthyloxy), a heterocyclic oxy group having 1 to 20 carbon atoms (eg, 4-pyridyloxy), and 2 carbon atoms To 20 acyloxy groups (eg, acetoxy, benzoyloxy), an amino group having 0 to 20 carbon atoms (eg, amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino), a nitro group, an acylamino having 1 to 20 carbon atoms Groups (eg, acetylamino, benzoylamino), 2 carbon atoms
To 20 alkoxycarbonylamino groups (for example, methoxycarbonylamino), 7 to 20 carbon atoms of an aryloxycarbonylamino group (for example, phenyloxycarbonylamino), and 1 to 20 carbon atoms of a sulfonamide group (for example, methanesulfonamide) Benzenesulfonamide), a sulfamoylamino group having 1 to 20 carbon atoms, a sulfamoyl group having 0 to 20 carbon atoms (for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl), and 0 carbon atoms -20 ureido groups (e.g., ureido, methylureide, phenylureide), imide groups having 2 to 20 carbon atoms (e.g., succinimide, phthalimide, trifluoromethanesulfonimide), mercapto groups, disulfide groups having 1 to 20 carbon atoms, Sulfo group, Fino group, alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methylthio, ethylthio), arylthio group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenylthio), sulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, mesyl, tosyl, phenylsulfonyl) ), A sulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methanesulfinyl, benzenesulfinyl), a heterocyclic thio group having 1 to 20 carbon atoms (eg, 2-imidazolylthio), a phosphinyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, Diethoxyphosphinyl group, diphenylphosphinyl), and a phosphorylamino group having 1 to 20 carbon atoms (eg, diethylphosphorylamino).
【0061】R1、R2、R3でより好ましいものは水素
原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状の、置換も
しくは無置換のアルキル基、アリール基、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、ヘテロ環
基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、アシルアミノ
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカ
ルボニルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、メル
カプト基、スルホ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルファモイル基である。R1、
R2、R3でさらに好ましいものは水素原子、ハロゲン原
子、直鎖、分岐または環状の、置換もしくは無置換のア
ルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボ
キシル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ニトロ基、ア
シルアミノ基、スルホンアミド基、メルカプト基、スル
ホ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル
基、スルファモイル基である。R 1 , R 2 and R 3 are more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxy group. Carbonyl group,
Cyano group, carboxyl group, carbamoyl group, heterocyclic group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group,
An acyloxy group, an amino group, a nitro group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonamide group, an imide group, a mercapto group, a sulfo group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonyl group, and a sulfamoyl group. R 1 ,
More preferred R 2 and R 3 are a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, Carboxyl group, carbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, nitro group, acylamino group, sulfonamide group, mercapto group, sulfo group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, and sulfamoyl group.
【0062】−NR4R5で表される基以外のX1、X2で
好ましいものはR1、R2、R3の好ましいものと同じ範
囲内より選ばれ、より好ましいものもまた同様の範囲よ
り選ばれる。−NR4R5で表される基において、−C
(=O)−R6、−C(=O)−C(=O)−R6、−S
O2−R6、−SO−R6、−P(=O)(−R6)−R7
で表される基以外のR4、R5で好ましいものは水素原
子、炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状の、置換も
しくは無置換のアルキル基(例えば、メチル、エチル、
プロピル、iso-プロピル、tert-ブチル、n-オクチル、t
ert-アミル、1,3-テトラメチルブチル、シクロヘキシ
ル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル)、炭素数
1〜20のアルケニル基(例えば、ビニル、アリル、2-
ブテニル、3-ペンテニル)、炭素数1〜20のアルキニ
ル基(例えば、プロパルギル、3-ペンチニル)、炭素数
6〜20のアリール基(例えば、フェニル、p-メチルフ
ェニル、ナフチル)であり、更に好ましくは水素原子、
炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状の、置換もしく
は無置換のアルキル基、炭素数1〜10のアルケニル
基、炭素数1〜10のアルキニル基、炭素数6〜12の
アリール基である。Preferred examples of X 1 and X 2 other than the group represented by —NR 4 R 5 are selected from the same ranges as preferred examples of R 1 , R 2 and R 3 , and more preferred are also the same. Selected from a range. In the group represented by -NR 4 R 5, -C
(= O) -R 6, -C (= O) -C (= O) -R 6, -S
O 2 -R 6, -SO-R 6, -P (= O) (- R 6) -R 7
R 4 and R 5 other than the group represented by are preferably a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methyl, ethyl,
Propyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, t
ert-amyl, 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, trifluoromethyl, difluoromethyl), an alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, vinyl, allyl, 2-
Butenyl, 3-pentenyl), an alkynyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, propargyl, 3-pentynyl), and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl), more preferably. Is a hydrogen atom,
A straight-chain, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. .
【0063】−C(=O)−R6、−C(=O)−C
(=O)−R6、−SO2−R6、−SO−R6、−P(=
O)(−R6)−R7で表される基において、R6、R7で
好ましいものは水素原子、炭素数1〜20の直鎖、分岐
または環状の、置換もしくは無置換のアルキル基(例え
ば、メチル、エチル、プロピル、iso-プロピル、tert-
ブチル、n-オクチル、tert-アミル、1,3-テトラメチル
ブチル、シクロヘキシル、トリフルオロメチル、ジフル
オロメチル)、炭素数1〜20のアルケニル基(例え
ば、ビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニル)、炭
素数1〜20のアルキニル基(例えば、プロパルギル、
3-ペンチニル)、炭素数6〜20のアリール基(例え
ば、フェニル、p-メチルフェニル、ナフチル)、ヒドロ
キシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基(例えば、メト
キシ、エトキシ、ブトキシ)、炭素数6〜20のアリー
ルオキシ基(例えば、フェニルオキシ、2-ナフチルオキ
シ)、炭素数1〜20のヘテロ環オキシ基(例えば、4-
ピリジルオキシ)、炭素数1〜20アミノ基(例えば、
アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジベンジルアミノ)、炭素数1〜20のヘテロ環基
(例えば、1-イミダゾリル、モリホリル、3-ピラゾリ
ル)である。より好ましくは水素原子、炭素数1〜10
の直鎖、分岐または環状の、置換もしくは無置換のアル
キル基、炭素数1〜10のアルケニル基、炭素数1〜1
0のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、ヒド
ロキシ基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜
12のアリールオキシ基、炭素数1〜10のヘテロ環オ
キシ基、炭素数1〜10のアミノ基、炭素数1〜10の
ヘテロ環基である。更に好ましくは水素原子、炭素数1
〜10の直鎖、分岐または環状の、置換もしくは無置換
のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、ヒドロキ
シ基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜12
のアリールオキシ基、炭素数1〜10のアミノ基、炭素
数1〜10のヘテロ環基である。-C (= O) -R 6 , -C (= O) -C
(= O) -R 6, -SO 2 -R 6, -SO-R 6, -P (=
O) In the group represented by (—R 6 ) —R 7 , preferred as R 6 and R 7 are a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. (Eg, methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, tert-
Butyl, n-octyl, tert-amyl, 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, trifluoromethyl, difluoromethyl), an alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl) ), An alkynyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, propargyl,
3-pentynyl), a C6-C20 aryl group (e.g., phenyl, p-methylphenyl, naphthyl), a hydroxy group, a C1-C20 alkoxy group (e.g., methoxy, ethoxy, butoxy), a C6-carbon To 20 aryloxy groups (for example, phenyloxy, 2-naphthyloxy), and a heterocyclic oxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, 4-
Pyridyloxy), an amino group having 1 to 20 carbon atoms (for example,
Amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino) and a heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms (eg, 1-imidazolyl, morpholinyl, 3-pyrazolyl). More preferably, a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10
Linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms,
0 alkynyl group, aryl group having 6 to 12 carbon atoms, hydroxy group, alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, 6 to carbon atoms
They are a 12 aryloxy group, a C1-C10 heterocyclic oxy group, a C1-C10 amino group, and a C1-C10 heterocyclic group. More preferably, a hydrogen atom and carbon number 1
10 to 10 linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl groups, C6 to C12 aryl groups, hydroxy groups, C1 to C10 alkoxy groups, C6 to C12
An aryloxy group, an amino group having 1 to 10 carbon atoms, and a heterocyclic group having 1 to 10 carbon atoms.
【0064】式(A)で表される化合物でより好ましく
はR1、R2、R3が水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分
岐または環状の、置換もしくは無置換のアルキル基、ア
リール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、カ
ルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アシルオキシ基、ニトロ基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、メルカプト基、スルホ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルファ
モイル基であり、X1、X2のどちらか一方が水素原子、
ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状の、置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ
基、カルボキシル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ニ
トロ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、メルカプ
ト基、スルホ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ス
ルホニル基、スルファモイル基であり、もう一方が−N
R4R5を表し、かつR4、R5のうち少なくとも一方が−
C(=O)−R6、−C(=O)−C(=O)−R6、−
SO2−R6、−SO−R6、−P(=O)(−R6)−R
7で表される基の時である。In the compound represented by the formula (A), R 1 , R 2 and R 3 are more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, Acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, carbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, nitro group, acylamino group, sulfonamide group, mercapto group, sulfo group, An alkylthio group, an arylthio group, a sulfonyl group, or a sulfamoyl group, wherein one of X 1 and X 2 is a hydrogen atom,
Halogen atom, linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, carbamoyl group, hydroxy group,
An alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a nitro group, an acylamino group, a sulfonamide group, a mercapto group, a sulfo group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, and the other is -N
R 4 represents R 5 , and at least one of R 4 and R 5 represents —
C (= O) -R 6, -C (= O) -C (= O) -R 6, -
SO 2 —R 6 , —SO—R 6 , —P (= O) (— R 6 ) —R
It is the time of the group represented by 7 .
【0065】式(A)で表される化合物で特に好ましく
はR1、R2、R3が水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分
岐または環状の、置換もしくは無置換のアルキル基、ア
リール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基、ヒ
ドロキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スル
ホニル基、スルファモイル基であり、X1、X2のどちら
か一方が水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環
状の、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、シアノ基、カルバモイル基、ヒドロキシ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル
基、スルファモイル基であり、もう一方が−NR4R5を
表し、かつR4、R5のうち一方が水素原子で他方が−C
(=O)−R6、−SO2−R6、−P(=O)(−R6)
−R7で表される基の時である。In the compound represented by the formula (A), R 1 , R 2 and R 3 are particularly preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, An acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, a carbamoyl group, a hydroxy group, an acylamino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, and a sulfamoyl group; one of X 1 and X 2 is a hydrogen atom or a halogen Atom, linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group,
An acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, a carbamoyl group, hydroxy group, an acylamino group, a sulfonamido group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, the other represents -NR 4 R 5, and R 4 , the other is -C one is a hydrogen atom of R 5
(= O) -R 6, -SO 2 -R 6, -P (= O) (- R 6)
It is the time of the group represented by —R 7 .
【0066】これらの置換基はさらに上記に記したよう
な置換基で置換されていても良い。またこれらの置換基
が酸性度の高い水素原子を持つものであれば、そのプロ
トンが解離して塩を形成していても良い。その対カチオ
ンとしては、金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホ
ニウムイオンが用いられる。このように活性水素を解離
させた状態は、化合物の現像時における揮散性が問題と
なるケースには有効な対処法となりうる。式(A)で表
される化合物の一つの分子に該フェノール構造を一つだ
け持つ場合には、置換基の総炭素数は好ましくは1〜200
個、より好ましくは1から150個、さらに好ましくは1か
ら100個である。ただし複数の該フェノール構造が高分
子鎖に結合している場合にはこの限りではなく、高分子
全体の平均分子量としては500000以下のものが用いられ
る。また炭素数1から100個までの連結基で結合されたビ
ス体、トリス体などの化合物も有効である。これらのよ
うに分子量を大きくすることは、化合物の現像時におけ
る揮散性が問題となるケースには有効な対処法となりう
る。These substituents may be further substituted with the substituents described above. Further, as long as these substituents have a highly acidic hydrogen atom, their protons may be dissociated to form a salt. As the counter cation, metal ions, ammonium ions, and phosphonium ions are used. Such a state in which active hydrogen is dissociated can be an effective countermeasure in cases where volatility during development of the compound becomes a problem. When one molecule of the compound represented by the formula (A) has only one phenol structure, the total number of carbon atoms of the substituent is preferably 1 to 200.
, More preferably 1 to 150, and still more preferably 1 to 100. However, this is not the case when a plurality of the phenol structures are bonded to a polymer chain, and those having an average molecular weight of 500,000 or less are used. In addition, compounds such as bis-forms and tris-forms bonded by a linking group having 1 to 100 carbon atoms are also effective. Increasing the molecular weight as described above can be an effective measure in cases where volatility during development of the compound becomes a problem.
【0067】本発明に用いられる式(A)で表される化
合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組
み込まれていてもよい。こうした吸着基としては、アル
キルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド
基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特
許第4,385,108号、同4,459,347号、
特開昭59−195233号、同59−200231
号、同59−201045号、同59−201046
号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号に記載された基が挙げられる。また
これらハロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化され
ていてもよい。その様なプレカーサーとしては、特開平
2−285344号に記載された基が挙げられる。本発
明に用いられる式(A)で表される化合物は、その中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性
に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの
中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例え
ば特開平1−100530号に記載のものが挙げられ
る。The compound represented by the formula (A) used in the present invention may have a built-in adsorptive group that adsorbs to silver halide. Examples of such adsorbing groups include U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,347 such as alkylthio, arylthio, thiourea, thioamide, mercapto heterocyclic, and triazole groups.
JP-A-59-195233 and JP-A-59-200231.
Nos. 59-201045 and 59-201046
Nos. 59-201047 and 59-201048
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
Nos. 3, 61-270744, 62-948, 63-234244, 63-234245, and 6
The group described in 3-234246 is mentioned. These adsorbing groups to silver halide may be precursors. Examples of such a precursor include the groups described in JP-A-2-285344. The compound represented by the formula (A) used in the present invention may be one in which a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers is incorporated. A ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties, for example, an alkyl group,
It can be selected from aralkyl groups, alkoxy groups, phenyl groups, alkylphenyl groups, phenoxy groups, alkylphenoxy groups and the like. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
【0068】本発明に用いられる式(A)で表される化
合物は、その中にカチオン性基(具体的には、4級のア
ンモニオ基を含む基、または4級化された窒素原子を含
む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基もしくはプ
ロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキ
ル、アリール、またはヘテロ環)チオ基、あるいは塩基
により解離しうる解離性基(カルボキシ基、スルホ基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基等)が含まれていてもよい。これらの基の具体例とし
ては、例えば特開平7−234471号、特開平5−3
33466号、特開平6−19032号、特開平6−1
9031号、特開平5−45761号、米国特許499
4365号、米国特許4988604号、特開平3−2
59240号、特開平7−5610号、特開平7−24
4348号、独国特許4006032号等に記載の化合
物が挙げられる。次に式(A)で表わされる化合物の好
ましい具体例を以下に示す。ただし本発明は以下の化合
物に限定されるものではない。The compound represented by the formula (A) used in the present invention contains a cationic group (specifically, a group containing a quaternary ammonium group, or a group containing a quaternized nitrogen atom). A group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, a (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, or a dissociable group (carboxy group, sulfo group,
Acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.). Specific examples of these groups include, for example, JP-A-7-234471 and JP-A-5-3
No. 33466, JP-A-6-19032, JP-A-6-1
No. 9031, JP-A-5-45761, U.S. Pat.
No. 4365, U.S. Pat. No. 4,988,604, JP-A-3-2
59240, JP-A-7-5610, JP-A-7-24
No. 4348, German Patent No. 4006032 and the like. Next, preferred specific examples of the compound represented by the formula (A) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0069】[0069]
【表1】 [Table 1]
【0070】[0070]
【表2】 [Table 2]
【0071】[0071]
【表3】 [Table 3]
【0072】[0072]
【表4】 [Table 4]
【0073】[0073]
【表5】 [Table 5]
【0074】[0074]
【表6】 [Table 6]
【0075】[0075]
【表7】 [Table 7]
【0076】式(A)で表される化合物は公知の方法に
より容易に合成することができるが、例えば、特開昭49
-80386号、特開平5-257227号、特開平10-221806号に記
載の方法を参考に合成することができる。式(A)で表
される化合物の使用量は、使用する有機銀塩1モルに対
して1×10-6モルから2×10-1モル、好ましくは1×10-5
モルから1×10-1モル、より好ましくは5×10-4モルから
5×10-2モルである。式(A)で表わされる化合物は、
水あるいは適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタ
ノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用い
ることができる。また、既によく知られている乳化分散
法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォス
フェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチル
フタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノ
ンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物
を作製して用いることができる。あるいは固体分散法と
して知られている方法によって、粉末を水の中にボール
ミル、コロイドミル、サンドグラインダーミル、マント
ンゴーリン、マイクロフルイダイザーあるいは超音波に
よって分散し用いることができる。The compound represented by the formula (A) can be easily synthesized by a known method.
-80386, JP-A-5-257227, and JP-A-10-221806. The amount of the compound represented by the formula (A) is from 1 × 10 -6 mol to 2 × 10 -1 mol, preferably 1 × 10 -5 mol, per mol of the organic silver salt used.
From 1 × 10 -1 mol, more preferably from 5 × 10 -4 mol
5 × 10 -2 mol. The compound represented by the formula (A) is
Dissolve in water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, etc. Can be. Also, by an already well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. An object can be prepared and used. Alternatively, the powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, a sand grinder mill, a Manton-Gaulin, a microfluidizer, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method.
【0077】式(A)で表わされる化合物は、支持体に
対して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいはこの
層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層ある
いはそれに隣接する層に添加することが好ましい。式
(A)で表わされる化合物は後述する有機銀塩を還元す
るための還元剤と併用することが好ましい。併用する還
元剤としては、フェノール化合物でそのベンゼン環上に
一つだけ水酸基を持ち、水酸基のオルト位に少なくとも
一つの置換基を有する化合物(いわゆるヒンダードフェ
ノール化合物)が好ましく用いられる。具体例としては
米国特許5496695号、特開平9-274274、特開平9-304876
等に記載されている化合物群が挙げられる。次に、本発
明に用いられる造核剤について説明する。本発明に用い
られる造核剤の種類は特には限定されないが、置換アル
ケン誘導体、置換イソオキサゾール誘導体および特定の
アセタール化合物が好ましく用いられ、中でも、下記式
(1)〜(3)で表わされる化合物が好ましい。本発明
で好ましく用いられる式(1)で表わされる置換アルケ
ン誘導体、式(2)で表わされる置換イソオキサゾール
誘導体、および式(3)で表わされる特定のアセタール
化合物について説明する。The compound represented by the formula (A) may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or any other layer on this layer side. It is preferably added to a layer adjacent thereto. The compound represented by the formula (A) is preferably used in combination with a reducing agent for reducing an organic silver salt described later. As the reducing agent to be used in combination, a compound (a so-called hindered phenol compound) having only one hydroxyl group on the benzene ring of a phenol compound and having at least one substituent at an ortho position of the hydroxyl group is preferably used. Specific examples are U.S. Pat.No. 5,496,955, JP-A-9-274274, JP-A-9-304876.
And the like. Next, the nucleating agent used in the present invention will be described. Although the type of the nucleating agent used in the present invention is not particularly limited, a substituted alkene derivative, a substituted isoxazole derivative and a specific acetal compound are preferably used, and among them, compounds represented by the following formulas (1) to (3) Is preferred. The substituted alkene derivative represented by the formula (1), the substituted isoxazole derivative represented by the formula (2), and the specific acetal compound represented by the formula (3) which are preferably used in the present invention will be described.
【0078】[0078]
【化11】 Embedded image
【0079】式(1)においてR21、R22、R23は、それ
ぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引
性基またはシリル基を表す。式(1)においてR21とZ、
R22 とR23、R21とR22、或いはR23とZは、互いに結
合して環状構造を形成していてもよい。式(2)において
R24は、置換基を表す。式(3)に於いてX、Yはそれぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、A、Bはそれぞ
れ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルア
ミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環アミノ基を表す。式(3)においてXとY、あるいはA
とBは、互いに結合して環状構造を形成していてもよ
い。式(1)で表される化合物について詳しく説明する。
式(1)においてR21、R22、R23は、それぞれ独立に水
素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基またはシ
リル基を表す。式(1)においてR21とZ、R22 とR23、
R21とR22、或いはR23とZは、互いに結合して環状構
造を形成していてもよい。R21、R22、R23が置換基を
表す時、置換基の例としては、例えばハロゲン原子(フ
ッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、
アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メ
チン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、ヘテロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含
む)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えば
ピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボ
キシ基またはその塩、イミノ基、N原子で置換したイミ
ノ基、チオカルボニル基、スルホニルカルバモイル基、
アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル
基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、
シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基またはそ
の塩、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピ
レンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アル
コキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、
カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ
基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、
チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリ
ールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミ
ノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒド
ラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ
基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド
基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ
基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、
またはヘテロ環)チオ基、アシルチオ基、(アルキルま
たはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリー
ル)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファ
モイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルフ
ァモイル基またはその塩、ホスホリル基、リン酸アミド
もしくはリン酸エステル構造を含む基、シリル基、スタ
ニル基等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基
でさらに置換されていてもよい。In the formula (1), Rtwenty one, Rtwenty two, Rtwenty threeIs it
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and Z is an electron-withdrawing atom.
Represents a functional group or a silyl group. In the formula (1), Rtwenty oneAnd Z,
Rtwenty two And Rtwenty three, Rtwenty oneAnd Rtwenty twoOr Rtwenty threeAnd Z are connected to each other
Together, they may form a ring structure. In equation (2)
Rtwenty fourRepresents a substituent. In equation (3), X and Y are each
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and A and B are each
Independently, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkyl group
Mino group, aryloxy group, arylthio group, anilino
Group, heterocyclic oxy group, heterocyclic thio group, or hetero
Represents a ring amino group. In equation (3), X and Y or A
And B may combine with each other to form a cyclic structure
No. The compound represented by the formula (1) will be described in detail.
In the formula (1), Rtwenty one, Rtwenty two, Rtwenty threeAre each independently water
Z represents an electron atom or a substituent;
Represents a ril group. In the formula (1), Rtwenty oneAnd Z, Rtwenty two And Rtwenty three,
Rtwenty oneAnd Rtwenty twoOr Rtwenty threeAnd Z are bonded to each other to form a ring structure.
The structure may be formed. Rtwenty one, Rtwenty two, Rtwenty threeIs a substituent
When represented, examples of the substituent include, for example, a halogen atom (F
Atom, chlorine atom, bromine atom or iodine atom),
Alkyl group (aralkyl group, cycloalkyl group, active
Alkenyl, alkynyl, ant
And heterocyclic groups (including N-substituted nitrogen-containing heterocyclic groups).
A) a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (eg,
Pyridinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carbo
Xy groups or salts thereof, imino groups, imines substituted with N atoms
No group, thiocarbonyl group, sulfonylcarbamoyl group,
Acylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl
Group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group,
Cyano group, thiocarbamoyl group, hydroxy group or
Salt, alkoxy group (ethyleneoxy group or propyl group)
Including groups containing repeating renoxy group units), aryl
Oxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (Al
A (oxy or aryloxy) carbonyloxy group,
Carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino
Group, (alkyl, aryl, or heterocycle) amino
Group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group,
Thioureido group, imide group, (alkoxy or ant
Oxy) carbonylamino group, sulfamoylamido
Group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydride
Radino group, quaternary ammonium group, oxamoylamino
Group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido
Group, acylureido group, acylsulfamoylamino
Group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl,
Or heterocycle) thio, acylthio, (alkyl
Or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl
B) sulfinyl group, sulfo group or salt thereof, sulfa
Moyl group, acyl sulfamoyl group, sulfonyl sulf
Amoyl group or its salt, phosphoryl group, phosphoric amide
Or a group containing a phosphate ester structure, a silyl group,
And the like. These substituents are those substituents
May be further substituted.
【0080】式(1)においてZで表される電子吸引性基
とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる置
換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモ
イル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカ
ルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基(またはその塩)、スルホ基(ま
たはその塩)、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ
基、またはこれら電子吸引性基で置換されたアリール基
等である。ここにヘテロ環基としては、飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリル基、
ピラジニル基、キノキサリニル基、ベンゾトリアゾリル
基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒダント
イン−1−イル基、スクシンイミド基、フタルイミド基
等がその例として挙げられる。式(1)においてZで表さ
れる電子吸引性基は、さらに置換基を有していてもよ
く、その置換基としては、式(1)のR21、R22、R23が
置換基を表す時に有していてもよい置換基と同じものが
挙げられる。式(1)においてR21とZ、R22とR23、R
21とR22、あるいはR23とZは、互いに結合して環状構
造を形成していてもよいが、この時形成される環状構造
とは、非芳香族の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ環で
ある。The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) is a substituent whose Hammett's substituent constant σ p can take a positive value. Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom,
A perfluoroalkyl group, a perfluoroalkaneamide group, a sulfonamide group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, a carboxy group (or a salt thereof), a sulfo group (or a salt thereof), a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, Examples include an acyloxy group, an acylthio group, a sulfonyloxy group, and an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. Here, the heterocyclic group is a saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group,
Examples thereof include a pyrazinyl group, a quinoxalinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group, a hydantoin-1-yl group, a succinimide group, and a phthalimide group. The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) may further have a substituent, and as the substituent, R 21 , R 22 and R 23 in the formula (1) represent The same substituents as the substituents which may be present at the time of expression are exemplified. In the formula (1), R 21 and Z, R 22 and R 23 , R
R 21 and R 22 or R 23 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed at this time is a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. It is.
【0081】次に式(1)で表される化合物の好ましい範
囲について述べる。式(1)に於いてZで表されるシリル
基として好ましくは、具体的にトリメチルシリル基、t
−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル
基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、
トリメチルシリルジメチルシリル基等である。式(1)に
おいてZで表される電子吸引性基として好ましくは、総
炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、チオカルボニル基、イミノ基、N原子で置換
したイミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロア
ルキル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシ
ルオキシ基、アシルチオ基、または任意の電子吸引性基
で置換されたフェニル基等であり、さらに好ましくは、
シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、
イミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、トリフルオロメチル基、または任意の電子吸引
性基で置換されたフェニル基等であり、特に好ましくは
シアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、イミノ基またはカルバモイル基である。式(1)に
おいてZで表される基は、電子吸引性基がより好まし
い。Next, a preferred range of the compound represented by the formula (1) will be described. The silyl group represented by Z in the formula (1) is preferably a trimethylsilyl group, t
-Butyldimethylsilyl group, phenyldimethylsilyl group, triethylsilyl group, triisopropylsilyl group,
And a trimethylsilyldimethylsilyl group. The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) is preferably a group having a total number of carbon atoms of 0 to 30, that is, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a thiocarbonyl group, Imino group, imino group substituted with N atom, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, acyloxy group, acylthio group, or any electron withdrawing A phenyl group substituted with a functional group, and more preferably,
Cyano group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group,
Imino group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group,
An arylsulfonyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group, and particularly preferably a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group , An imino group or a carbamoyl group. The group represented by Z in the formula (1) is more preferably an electron-withdrawing group.
【0082】式(1)においてR21、R22、およびR23で
表される置換基として好ましくは、総炭素数0〜30の
基で、具体的には上述の式(1)のZで表される電子吸引
性基と同義の基、およびアルキル基、ヒドロキシ基(ま
たはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ
基、ウレイド基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
または置換もしくは無置換のアリール基等が挙げられ
る。さらに式(1)においてR21は、好ましくは電子吸引
性基、アリール基、アルキルチオ基、アルコキシ基、ま
たはアシルアミノ基、水素原子、またはシリル基であ
る。R21が電子吸引性基を表す時、好ましくは総炭素数
0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ基、アシ
ル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、チオカルボニル基、イミノ基、N
原子で置換したイミノ基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、カルボキシ
基(またはその塩)、または飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、ホルミル
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミノ
基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル基、カ
ルボキシ基(またはその塩)、または飽和もしくは不飽
和のヘテロ環基が好ましい。特に好ましくはシアノ基、
ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環基で
ある。R21がアリール基を表す時、好ましくは総炭素数
6〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基であり、
置換基としては、任意の置換基が挙げられるが、中でも
電子吸引性の置換基が好ましい。式(1)においてR
21は、より好ましくは、電子吸引性基またはアリール基
を表す時である。The substituent represented by R 21 , R 22 and R 23 in the formula (1) is preferably a group having a total carbon number of 0 to 30, specifically, Z in the above formula (1). A group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented, and an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, Heterocyclic thio group, amino group,
Alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, ureido group, acylamino group, sulfonamide group,
Or a substituted or unsubstituted aryl group. Further, in the formula (1), R 21 is preferably an electron-withdrawing group, an aryl group, an alkylthio group, an alkoxy group, or an acylamino group, a hydrogen atom, or a silyl group. When R 21 represents an electron-withdrawing group, preferably the following groups having a total carbon number of 0 to 30, that is, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a thiocarbonyl group , Imino group, N
An atom-substituted imino group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a phosphoryl group, a carboxy group (or a salt thereof), or a saturated or unsaturated heterocyclic group; Preferred are a cyano group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, a carboxy group (or a salt thereof), or a saturated or unsaturated heterocyclic group. Particularly preferably, a cyano group,
A formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a saturated or unsaturated heterocyclic group. When R 21 represents an aryl group, it is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 30 carbon atoms,
Examples of the substituent include any substituent, and among them, an electron-withdrawing substituent is preferable. In the formula (1), R
21 is more preferably a group representing an electron-withdrawing group or an aryl group.
【0083】式(1)においてR22およびR23で表される
置換基として好ましくは、具体的に、上述の式(1)のZ
で表される電子吸引性基と同義の基、アルキル基、ヒド
ロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその
塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ
環アミノ基、アシルアミノ基、置換もしくは無置換のフ
ェニル基等である。式(1)においてR22およびR23は、
さらに好ましくは、どちらか一方が水素原子で、他方が
置換基を表す時である。その置換基として好ましくは、
アルキル基、ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト
基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリ
ノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基(特にパーフ
ルオロアルカンアミド基)、スルホンアミド基、置換も
しくは無置換のフェニル基、またはヘテロ環基等であ
り、さらに好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、メ
ルカプト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基であり、特
に好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、アルコキシ
基、またはヘテロ環基である。In the formula (1), the substituents represented by R 22 and R 23 are preferably specific examples of Z in the above formula (1)
A group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by, an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, Examples include a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group, and a substituted or unsubstituted phenyl group. In the formula (1), R 22 and R 23 are
More preferably, one of them is a hydrogen atom and the other represents a substituent. Preferably as the substituent,
Alkyl group, hydroxy group (or a salt thereof), mercapto group (or a salt thereof), alkoxy group, aryloxy group,
Heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group,
A heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group (particularly a perfluoroalkaneamide group), a sulfonamide group, a substituted or unsubstituted phenyl group, or a heterocyclic group; More preferably a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic group, Particularly preferred are a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, and a heterocyclic group.
【0084】式(1)においてZとR21、或いはまたR22
とR23とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。こ
の場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もし
くは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは5員〜7員
の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は1〜4
0、さらには3〜30が好ましい。式(1)で表される化
合物の中で、より好ましいものの1つは、Zがシアノ
基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
イミノ基、またはカルバモイル基を表し、R21が電子吸
引性基またはアリール基を表し、R22またはR23のどち
らか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ基(またはそ
の塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環
基を表す化合物である。さらにまた一般式(1)で表され
る化合物の中で特に好ましいものの1つは、ZとR21と
が非芳香族の5員〜7員の環状構造を形成していて、R
22またはR23のどちらか一方が水素原子で、他方がヒド
ロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその
塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、またはヘテロ環基を表す化合物である。この時、R
21と共に非芳香族の環状構造を形成するZとしては、ア
シル基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、チオカ
ルボニル基、スルホニル基等が好ましく、またR1とし
ては、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル
基、チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、N原
子で置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチ
オ基等が好ましい。In the formula (1), Z and R 21 , or alternatively, R 22
It is also preferred that and R 23 form a cyclic structure. The cyclic structure formed in this case is a non-aromatic carbocyclic ring or a non-aromatic hetero ring, preferably a 5- to 7-membered cyclic structure having a total carbon number including a substituent of 1 to 4
0, more preferably 3 to 30. Among the compounds represented by the formula (1), one of the more preferable ones is that Z is a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group,
Represents an imino group or a carbamoyl group, R 21 represents an electron-withdrawing group or an aryl group, one of R 22 and R 23 is a hydrogen atom, and the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or Salt), an alkoxy group,
The compound represents an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic group. Further, one of the particularly preferable compounds represented by the general formula (1) is that Z and R 21 form a non-aromatic 5- to 7-membered cyclic structure,
Either 22 or R 23 is a hydrogen atom, and the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, A compound representing a ring thio group or a heterocyclic group. At this time, R
As Z which forms a non-aromatic cyclic structure together with 21 , an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group, a thiocarbonyl group, a sulfonyl group and the like are preferable, and R 1 is an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group. And a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an acylamino group, and a carbonylthio group.
【0085】次に式(2)で表される化合物について説明
する。式(2)においてR24は置換基を表す。R24で表さ
れる置換基としては、式(1)のR21〜R23の置換基につ
いて説明したものと同じものが挙げられる。R24で表さ
れる置換基は、好ましくは電子吸引性基またはアリール
基である。R24が電子吸引性基を表す時、好ましくは、
総炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイ
ル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、イミノ
基、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、さ
らにシアノ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環基が
好ましい。特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、また
はヘテロ環基である。R24がアリール基を表す時、好ま
しくは総炭素数0〜30の、置換もしくは無置換のフェ
ニル基であり、置換基としては、式(1)のR21,R22,
R23が置換基を表す時にその置換基として説明したもの
と同じものが挙げられる。R4は、特に好ましくはシア
ノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヘテ
ロ環基、または置換もしくは無置換のフェニル基であ
り、最も好ましくはシアノ基、ヘテロ環基、またはアル
コキシカルボニル基である。Next, the compound represented by the formula (2) will be described. In the formula (2), R 24 represents a substituent. As the substituent represented by R 24 , the same substituents as described for the substituents of R 21 to R 23 in the formula (1) can be mentioned. The substituent represented by R 24 is preferably an electron-withdrawing group or an aryl group. When R 24 represents an electron-withdrawing group, preferably
The following groups having a total carbon number of 0 to 30, that is, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group,
Arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, trifluoromethyl group, phosphoryl group, imino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic group, further cyano group, acyl group, formyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, Sulfamoyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, and heterocyclic groups are preferred. Particularly preferred are a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a heterocyclic group. When R 24 represents an aryl group, preferably a total carbon number of 0 to 30, a substituted or unsubstituted phenyl group, the substituent, R 21, R 22 of formula (1),
When R 23 represents a substituent, the same as those described as the substituent can be mentioned. R 4 is particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted phenyl group, and most preferably a cyano group, a heterocyclic group, or an alkoxycarbonyl group.
【0086】次に式(3)で表される化合物について詳し
く説明する。式(3)においてX、Yはそれぞれ独立に水
素原子または置換基を表し、A、Bはそれぞれ独立に、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ア
リールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ
環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環アミノ基
を表す。XとY、あるいはAとBは、互いに結合して環
状構造を形成していてもよい。式(3)においてX、Yで
表される置換基としては、式(1)のR21〜R23の置換基
について説明したものと同じものが挙げられる。具体的
には、アルキル基(パーフルオロアルキル基、トリクロ
ロメチル基等を含む)、アリール基、ヘテロ環基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、イミノ基、N原子で
置換したイミノ基、カルバモイル基、チオカルボニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフ
ァモイル基、ホスホリル基、カルボキシ基(またはその
塩)、スルホ基(またはその塩)、ヒドロキシ基(また
はその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シ
リル基等が挙げられる。これらの基はさらに置換基を有
していてもよい。またXとYは、互いに結合して環状構
造を形成していてもよく、この場合に形成される環状構
造としては、非芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ
環であってもよい。Next, the compound represented by the formula (3) will be described in detail. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent:
Represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group. X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. As the substituents represented by X and Y in the formula (3), the same substituents as described for the substituents R 21 to R 23 in the formula (1) can be mentioned. Specifically, alkyl groups (including perfluoroalkyl groups, trichloromethyl groups, etc.), aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, alkenyl groups, alkynyl groups, acyl groups, formyl groups, alkoxy groups Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, carbamoyl group, thiocarbonyl group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group,
Alkylsulfonyl, arylsulfonyl, sulfamoyl, phosphoryl, carboxy (or salt thereof), sulfo (or salt thereof), hydroxy (or salt thereof), mercapto (or salt thereof), alkoxy, aryl Oxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group,
Examples thereof include an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, and a silyl group. These groups may further have a substituent. X and Y may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure formed in this case may be a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. .
【0087】式(3)においてX、Yで表される置換基
は、好ましくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総
炭素数1〜30の基であり、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が挙
げられる。式(3)においてX、Yは、より好ましくはシ
アノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、アシル基、ホルミル基、アシルチオ基、アシル
アミノ基、チオカルボニル基、スルファモイル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノ基、
N原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、トリフルオ
ロメチル基、ヘテロ環基、または置換されたフェニル基
等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、アシル基、アシルチオ基、アシルア
ミノ基、チオカルボニル基、ホルミル基、イミノ基、N
原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基、または任意の電
子吸引性基で置換されたフェニル基等である。XとY
が、互いに結合して非芳香族の炭素環、または非芳香族
のヘテロ環を形成している場合もまた好ましい。この
時、形成される環状構造は5員〜7員環が好ましく、そ
の総炭素数は1〜40、さらには3〜30が好ましい。
環状構造を形成するXおよびYとしては、アシル基、カ
ルバモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル
基、スルホニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基等が好ましい。The substituents represented by X and Y in the formula (3) are preferably groups having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, and include a cyano group, an alkoxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group , An acylamino group, an acyloxy group, an acylthio group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an alkoxy group, or an aryl group. In the formula (3), X and Y are more preferably cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acyl group, formyl group, acylthio group, acylamino group, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, aryl Sulfonyl group, imino group,
An imino group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, or a substituted phenyl group substituted with an N atom, particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group , Acyl group, acylthio group, acylamino group, thiocarbonyl group, formyl group, imino group, N
Examples include an imino group substituted with an atom, a heterocyclic group, and a phenyl group substituted with an arbitrary electron-withdrawing group. X and Y
Are preferably bonded to each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. At this time, the ring structure formed is preferably a 5- to 7-membered ring, and the total carbon number is preferably 1 to 40, and more preferably 3 to 30.
X and Y forming a cyclic structure are preferably an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group, a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, an imino group, an imino group substituted by an N atom, an acylamino group, a carbonylthio group, and the like.
【0088】式(3)においてA、Bはそれぞれ独立に、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ア
リールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ
環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環アミノ基
を表し、これらは互いに結合して環状構造を形成してい
てもよい。式(3)においてA、Bで表される基は、好ま
しくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総炭素数1
〜30の基であり、さらに置換基を有していてもよい。
式(3)においてA、Bは、これらが互いに結合して環状
構造を形成している場合がより好ましい。この時形成さ
れる環状構造は5員〜7員環の非芳香族のヘテロ環が好
ましく、その総炭素数は1〜40、さらには3〜30が
好ましい。この場合に、A,Bが連結した例(−A−B
−)を挙げれば、例えば-O-(CH2)2-O-、-O-(CH2)3-O-、-
S-(CH2)2-S-、-S-(CH2)3-S-、-S-ph-S-、-N(CH3)-(CH2)
2-O-、-N(CH3)-(CH2)2-S-、-O-(CH2)2-S-、-O-(CH2)3-S
-、-N(CH3)-ph-O-、-N(CH3)-ph-S-、-N(ph)-(CH2)2-S-
等である。In the formula (3), A and B are each independently:
Represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group, which are bonded to each other to form a cyclic structure. You may. In the formula (3), the groups represented by A and B preferably have a total carbon number of 1 to 40, more preferably a total carbon number of 1 to 40.
To 30 and may further have a substituent.
In the formula (3), A and B more preferably combine with each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed at this time is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic hetero ring, and preferably has a total carbon number of 1 to 40, and more preferably 3 to 30. In this case, an example in which A and B are linked (-AB
-), For example, -O- (CH 2 ) 2 -O-, -O- (CH 2 ) 3 -O-,-
S- (CH 2 ) 2 -S-, -S- (CH 2 ) 3 -S-, -S-ph-S-, -N (CH 3 )-(CH 2 )
2 -O-, -N (CH 3 )-(CH 2 ) 2 -S-, -O- (CH 2 ) 2 -S-, -O- (CH 2 ) 3 -S
-, -N (CH 3 ) -ph-O-, -N (CH 3 ) -ph-S-, -N (ph)-(CH 2 ) 2 -S-
And so on.
【0089】本発明で用いる式(1)〜式(3)で表される
化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が
組み込まれていてもよい。こうした吸着基としては、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミ
ド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国
特許第4,385,108号、同4,459,347
号、特開昭59−195233号、同59−20023
1号、同59−201045号、同59−201046
号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号に記載された基があげられる。また
これらハロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化され
ていてもよい。その様なプレカーサーとしては、特開平
2−285344号に記載された基が挙げられる。本発
明で用いる式(1)〜式(3)で表される化合物は、その中
にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されて
いるバラスト基またはポリマーが組み込まれているもの
でもよい。特にバラスト基が組み込まれているものは本
発明の好ましい例の1つである。バラスト基は8以上の
炭素数を有する、写真性に対して比較的不活性な基であ
り、例えばアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、
フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。また
ポリマーとしては、例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。The compounds represented by the formulas (1) to (3) used in the present invention may have incorporated therein an adsorptive group that adsorbs to silver halide. Examples of such an adsorbing group include U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,347 such as an alkylthio group, an arylthio group, a thiourea group, a thioamide group, a mercapto heterocyclic group and a triazole group.
And JP-A-59-195233 and JP-A-59-20023.
No. 1, No. 59-201045, No. 59-201046
Nos. 59-201047 and 59-201048
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
Nos. 3, 61-270744, 62-948, 63-234244, 63-234245, and 6
Groups described in JP-A-3-234246. These adsorbing groups to silver halide may be precursors. Examples of such a precursor include the groups described in JP-A-2-285344. The compounds represented by the formulas (1) to (3) used in the present invention may have incorporated therein a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers. Particularly, those incorporating a ballast group are one of preferred examples of the present invention. The ballast group has a carbon number of 8 or more and is relatively inert to photographic properties, such as an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group,
It can be selected from a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group and the like. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
【0090】本発明で用いる式(1)〜式(3)で表される
化合物は、その中にカチオン性基(具体的には、4級の
アンモニオ基を含む基、または4級化された窒素原子を
含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基もしくは
プロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキ
ル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、あるいは塩基
により解離しうる解離性基(カルボキシ基、スルホ基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基等)が含まれていてもよい。特にエチレンオキシ基も
しくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、あ
るいは(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基
が含まれているものは、本発明の好ましい例の1つであ
る。これらの基の具体例としては、例えば特開平7ー2
34471号、特開平5−333466号、特開平6−
19032号、特開平6−19031号、特開平5−4
5761号、米国特許4994365号、米国特許49
88604号、特開平3−259240号、特開平7−
5610号、特開平7−244348号、独国特許40
06032号等に記載の化合物が挙げられる。次に本発
明で用いる式(1)〜式(3)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。The compounds represented by the formulas (1) to (3) used in the present invention contain a cationic group (specifically, a group containing a quaternary ammonium group or a quaternized group). A nitrogen-containing heterocyclic group containing a nitrogen atom), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, or a dissociable group (carboxy group) dissociable by a base , A sulfo group,
Acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.). Particularly, a group containing a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group or a group containing an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group is one of preferred examples of the present invention. Specific examples of these groups include, for example, JP-A-7-2
No. 34471, JP-A-5-333466, JP-A-6-633
19032, JP-A-6-19031, JP-A-5-4
No. 5761, U.S. Pat. No. 4,994,365, U.S. Pat.
88604, JP-A-3-259240, JP-A-7-
No. 5610, JP-A-7-244348, German Patent 40
06032 and the like. Next, specific examples of the compounds represented by the formulas (1) to (3) used in the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0091】[0091]
【化12】 Embedded image
【0092】[0092]
【化13】 Embedded image
【0093】[0093]
【化14】 Embedded image
【0094】[0094]
【化15】 Embedded image
【0095】本発明で用いる式(1)〜式(3)で表される
化合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアルコール
類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化
アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。The compounds represented by the formulas (1) to (3) used in the present invention may be water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol) and ketones (acetone, acetone). Methylethylketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide,
It can be used by dissolving it in methylcellosolve or the like.
【0096】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、化合物の粉末を水等の適当
な溶媒中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波
によって分散し用いることができる。Further, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used to dissolve the compound. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, a compound powder can be dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used.
【0097】式(1)〜式(3)で表される化合物は、支持
体に対して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいは
他のどの層に添加してもよいが、画像形成層あるいはそ
れに隣接する層に添加することが好ましい。式(1)〜式
(3)で表される化合物の添加量は、銀1モルに対し1×
10-6〜1モルが好ましく、1×10-5〜5×10-1モ
ルがより好ましく、2×10-5〜2×10-1モルが最も
好ましい。The compounds represented by the formulas (1) to (3) may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, to the image forming layer or any other layer. It is preferably added to a layer or a layer adjacent thereto. Formula (1)-Formula
The amount of the compound represented by (3) is 1 × with respect to 1 mol of silver.
It is preferably from 10 -6 to 1 mol, more preferably from 1 x 10 -5 to 5 x 10 -1 mol, most preferably from 2 x 10 -5 to 2 x 10 -1 mol.
【0098】式(1)〜式(3)で表される化合物は公知の
方法により容易に合成することができるが、例えば、米
国特許5545515号、米国特許5635339号、
米国特許5654130号、国際公開WO97/341
96号、或いは特願平9―309813号、特願平9―
272002号に記載の方法を参考に合成することがで
きる。式(1)〜式(3)で表される化合物は、1種のみ用
いても、2種以上を併用しても良い。また上記のものの
他に、米国特許5545515号、米国特許56353
39号、米国特許5654130号、国際公開WO97
/34196号、米国特許5686228号に記載の化
合物、或いはまた特願平9―228881号、特願平9
―273935号、特願平9―309813号、特願平
9―296174号、特願平9―282564号、特願
平9―272002号、特願平9−272003号、特
願平9―332388号に記載された化合物を併用して
用いても良い。The compounds represented by the formulas (1) to (3) can be easily synthesized by known methods. For example, US Pat. No. 5,545,515, US Pat. No. 5,635,339,
U.S. Pat. No. 5,654,130, International Publication WO 97/341
No. 96 or Japanese Patent Application No. 9-309813, Japanese Patent Application No. 9-30983
The compound can be synthesized with reference to the method described in No. 272002. The compounds represented by the formulas (1) to (3) may be used alone or in combination of two or more. In addition to the above, US Pat. No. 5,545,515 and US Pat.
No. 39, US Pat. No. 5,654,130, International Publication WO97
/ 34196, compounds described in U.S. Pat. No. 5,686,228, or Japanese Patent Application Nos. 9-228888 and 9
No. 273935, Japanese Patent Application No. 9-309813, Japanese Patent Application No. 9-296174, Japanese Patent Application No. 9-282564, Japanese Patent Application No. 9-272002, Japanese Patent Application No. 9-272003, Japanese Patent Application No. 9-332388. The compounds described in the above items may be used in combination.
【0099】本発明で用いる造核剤としてヒドラジン誘
導体を用いてもよい。その場合には下記のヒドラジン誘
導体が好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられ
るヒドラジン誘導体はまた、下記の特許に記載された種
々の方法により、合成することができる。特公平6-7713
8号に記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同
公報3頁、4頁に記載の化合物。特公平6-93082号に記載
の一般式(I)で表される化合物で、具体的には同公報
8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物。特開平6-230497号に
記載の一般式(4)、一般式(5)および一般式(6)で
表される化合物で、具体的には同公報25頁、26頁に記載
の化合物4-1〜化合物4-10、28頁〜36頁に記載の化合物5
-1〜5-42、および39頁、40頁に記載の化合物6-1〜化合
物6-7。特開平6-289520号に記載の一般式(1)および一
般式(2)で表される化合物で、具体的には同公報5頁〜
7頁に記載の化合物1-1)〜1-17)および2-1)。特開平6
-313936号に記載の(化2)および(化3)で表される化
合物で、具体的には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。
特開平6-313951号に記載の(化1)で表される化合物
で、具体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平
7-5610号に記載の一般式(I)で表される化合物で、具
体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I-1〜I-38。
特開平7-77783号に記載の一般式(II)で表される化合
物で、具体的には同公報10頁〜27頁に記載の化合物II-1
〜II-102。特開平7-104426号に記載の一般式(H)およ
び一般式(Ha)で表される化合物で、具体的には同公
報8頁〜15頁に記載の化合物H-1〜H-44。特開平9-2208
2号に記載の,ヒドラジン基の近傍にアニオン性基また
はヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成するノ
ニオン性基を有することを特徴とする化合物で、特に一
般式(A)、一般式(B)、一般式(C)、一般式
(D)、一般式(E)、一般式(F)で表される化合物
で,具体的には同公報に記載の化合物N-1〜N-30。特開
平9-22082号に記載の一般式(1)で表される化合物で、
具体的には同公報に記載の化合物D-1〜D-55。さらに1
991年3月22日発行の「公知技術(1〜207頁)」(アズテック
社刊)の25頁から34頁に記載の種々のヒドラジン誘導
体。特開昭62-86354号(6頁〜7頁)の化合物D-2および
D-39。The nucleating agent used in the present invention may be a hydrazine derivative. In that case, the following hydrazine derivatives are preferably used. The hydrazine derivative preferably used in the present invention can also be synthesized by various methods described in the following patents. Tokiko 6-7713
A compound represented by Chemical formula 1 described in No. 8 and specifically described on pages 3 and 4 of the same publication. A compound represented by the general formula (I) described in JP-B-6-93082;
Compounds 1-38 on pages 8-18. Compounds represented by the general formulas (4), (5) and (6) described in JP-A-6-230497, specifically the compound 4- described on pages 25 and 26 of the same publication. 1 to compound 4-10, compound 5 described on pages 28 to 36
-1 to 5-42, and compounds 6-1 to 6-7 described on pages 39 and 40. Compounds represented by general formulas (1) and (2) described in JP-A-6-289520, specifically, from page 5 to
Compounds 1-1) to 1-17) and 2-1) described on page 7. JP Hei 6
Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in JP-A-313936, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same publication.
Compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-A-6-313951, specifically, compounds described on pages 3 to 5 of the same. JP
Compounds represented by formula (I) described in No. 7-5610, specifically, compounds I-1 to I-38 described on pages 5 to 10 of the same publication.
A compound represented by the general formula (II) described in JP-A-7-77783, specifically, a compound II-1 described on pages 10 to 27 of the publication;
~ II-102. Compounds represented by formulas (H) and (Ha) described in JP-A-7-104426, specifically, compounds H-1 to H-44 described on pages 8 to 15 of the same publication. JP 9-2208
The compound described in No. 2 which is characterized by having an anionic group or a nonionic group which forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine in the vicinity of the hydrazine group. B), compounds represented by the general formulas (C), (D), (E) and (F), specifically the compounds N-1 to N-30 described in the publication . A compound represented by the general formula (1) described in JP-A-9-22082,
Specifically, compounds D-1 to D-55 described in the publication. One more
Various hydrazine derivatives described on pages 25 to 34 of "Known Techniques (pages 1 to 207)" (Aztec) published on March 22, 991. Compounds D-2 and D-39 of JP-A-62-86354 (pages 6 to 7).
【0100】本発明に好ましく用いられるヒドラジン誘
導体は、適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタノ
ール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ルソルブなどに溶解して用いることができる。The hydrazine derivative preferably used in the present invention may be any suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve. It can be used by dissolving it in such as.
【0101】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波に
よって分散し用いることができる。本発明に好ましく用
いられるヒドラジン誘導体は、支持体に対して画像形成
層側の該画像形成層あるいは他のバインダー層のどの層
に添加してもよいが、該画像形成層あるいはそれに隣接
するバインダー層に添加することが好ましい。本発明に
好ましく用いられるヒドラジン誘導体の添加量は、銀1
モルに対し1×10-6〜1×10-2モルが好ましく、1×10-5
〜5×10-3モルがより好ましく、2×10-5 〜5×10-3モル
が最も好ましい。Also, the well-known emulsification dispersion method is used.
Therefore, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate
Or glyceryl triacetate or diethyl cover
Oils such as ethyl acetate and cyclohexanone
Dissolve with any cosolvent and mechanically create an emulsified dispersion.
It can be manufactured and used. Or as a solid dispersion method
The hydrazine derivative powder is prepared by a known method.
Ball mill, colloid mill or ultrasonic in water
Therefore, they can be dispersed and used. Preferably used in the present invention
The hydrazine derivative is used to form an image on a support.
Any layer of the image forming layer or other binder layer on the layer side
To the image forming layer or adjacent thereto.
It is preferably added to the binder layer. In the present invention
The amount of the hydrazine derivative preferably used is silver 1
1 × 10 per mole-6~ 1 × 10-2Mole is preferred, 1 × 10-Five
~ 5 × 10-3Mole is more preferred, 2 × 10-Five ~ 5 × 10-3Mole
Is most preferred.
【0102】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記の造核剤とともに硬調化促進剤を併用することがで
きる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載のアミン
化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,507に記
載のヒドロキサム酸類、具体的にはHA-1〜HA-11、
同5,545,507に記載のアクリロニトリル類、具体的には
CN-1〜CN-13、同5,558,983に記載のヒドラジン化合
物、具体的にはCA-1〜CA-6、特開平9−29736
8に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはA-1〜A-42、
B-1〜B-27、C-1〜C-14などを用いることができる。
これらの硬調化促進剤の合成方法、添加方法、添加量等
は、それぞれの前記引用特許に記載されているように行
うことができる。Further, the present invention provides a method for forming a super-high contrast image.
A high contrast accelerator can be used in combination with the nucleating agent. For example, amine compounds described in U.S. Patent No. 5,545,505, specifically AM-1 to AM-5, hydroxamic acids described in 5,545,507, specifically HA-1 to HA-11,
Acrylonitrile described in 5,545,507, specifically CN-1 to CN-13, hydrazine compound described in 5,558,983, specifically CA-1 to CA-6, JP-A-9-29736
8. Onium salts according to 8, specifically A-1 to A-42,
B-1 to B-27, C-1 to C-14 and the like can be used.
The synthesis method, addition method, addition amount and the like of these high contrast enhancement agents can be carried out as described in each of the cited patents.
【0103】本発明においては五酸化二リンが水和して
できる酸またはその塩を造核剤と併用して用いることが
好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸またはその
塩としては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オ
ルトリン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン酸(塩)、
ヘキサメタリン酸(塩)などである。特に好ましく用い
られる五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩と
してはオルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)で
あり、具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オ
ルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリ
ウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがある。In the present invention, an acid or a salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide is preferably used in combination with a nucleating agent. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt),
Hexametaphosphoric acid (salt) and the like. Particularly preferred acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific salts include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, Examples include sodium hexametaphosphate and ammonium hexametaphosphate.
【0104】本発明に好ましく用いることができる五酸
化二リンが水和してできる酸またはその塩は、少量で所
望の効果を発現するという点から画像形成層あるいはそ
れに隣接するバインダー層に添加する。本発明に用いる
五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩の使用量
(感光材料1m2あたりの塗布量)としては感度やカブリ
などの性能に合わせて所望の量でよいが、0.1〜500mg
/m2が好ましく、0.5〜100mg/m2がより好ましい。The acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide, which can be preferably used in the present invention, is added to the image forming layer or the binder layer adjacent thereto from the viewpoint that the desired effect is exhibited in a small amount. . The amount of the acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide used in the present invention (the coating amount per 1 m 2 of the light-sensitive material) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog. ~ 500mg
/ m 2 is preferable, and 0.5 to 100 mg / m 2 is more preferable.
【0105】本発明の熱現像感光材料は有機銀塩のため
の還元剤を含むことが好ましい。有機銀塩のための還元
剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質、好まし
くは有機物質であってよい。フェニドン、ハイドロキノ
ンおよびカテコールなどの従来の写真現像剤は有用であ
るが、ヒンダードフェノール還元剤が好ましい。還元剤
は、画像形成層を有する面の銀1モルに対して5〜50モル
%含まれることが好ましく、10〜40モル%で含まれるこ
とがさらに好ましい。還元剤の添加層は画像形成層を有
する面のいかなる層でも良い。画像形成層以外の層に添
加する場合は銀1モルに対して10〜50モル%と多めに使用
することが好ましい。また、還元剤は現像時のみ有効に
機能を持つように誘導化されたいわゆるプレカーサーで
あってもよい。The photothermographic material of the present invention preferably contains a reducing agent for an organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent is preferably contained in an amount of 5 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, per 1 mol of silver on the surface having the image forming layer. The layer to which the reducing agent is added may be any layer on the side having the image forming layer. When it is added to a layer other than the image forming layer, it is preferable to use a relatively large amount of 10 to 50 mol% with respect to 1 mol of silver. Further, the reducing agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.
【0106】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の還元剤が特開昭46-6074号、同47-1238号、
同47-33621号、同49-46427号、同49-115540号、同50-14
334号、同50-36110号、同50-147711号、同51-32632号、
同51-1023721号、同51-32324号、同51-51933号、同52-8
4727号、同55-108654号、同56-146133号、同57-82828
号、同57-82829号、特開平6-3793号、米国特許3,679,42
6号、同3,751,252号、同3,751,255号、同3,761,270号、
同3,782,949号、同3,839,048号、同3,928,686号、同5,4
64,738号、独国特許2321328号、欧州特許692732号など
に開示されている。例えば、フェニルアミドオキシム、
2-チエニルアミドオキシムおよびp-フェノキシフェニル
アミドオキシムなどのアミドオキシム;例えば4-ヒドロ
キシ-3,5-ジメトキシベンズアルデヒドアジンなどのア
ジン;2,2'-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオニル-β-
フェニルヒドラジンとアスコルビン酸との組合せのよう
な脂肪族カルボン酸アリールヒドラジドとアスコルビン
酸との組合せ;ポリヒドロキシベンゼンと、ヒドロキシ
ルアミン、レダクトンおよび/またはヒドラジンの組合
せ(例えばハイドロキノンと、ビス(エトキシエチル)ヒ
ドロキシルアミン、ピペリジノヘキソースレダクトンま
たはホルミル-4-メチルフェニルヒドラジンの組合せな
ど);フェニルヒドロキサム酸、p-ヒドロキシフェニル
ヒドロキサム酸およびβ-アリニンヒドロキサム酸など
のヒドロキサム酸;アジンとスルホンアミドフェノール
との組合せ(例えば、フェノチアジンと2,6-ジクロロ-4-
ベンゼンスルホンアミドフェノールなど);エチル-α-
シアノ-2-メチルフェニルアセテート、エチル-α-シア
ノフェニルアセテートなどのα-シアノフェニル酢酸誘
導体;2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビナフチル、6,6'-ジブ
ロモ-2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビナフチルおよびビス(2
-ヒドロキシ-1-ナフチル)メタンに例示されるようなビ
ス-β-ナフトール;ビス-β-ナフトールと1,3-ジヒドロ
キシベンゼン誘導体(例えば、2,4-ジヒドロキシベンゾ
フェノンまたは2',4'-ジヒドロキシアセトフェノンな
ど)の組合せ;3-メチル-1-フェニル-5-ピラゾロンなど
の、5-ピラゾロン;ジメチルアミノヘキソースレダクト
ン、アンヒドロジヒドロアミノヘキソースレダクトンお
よびアンヒドロジヒドロピペリドンヘキソースレダクト
ンに例示されるようなレダクトン;2,6-ジクロロ-4-ベ
ンゼンスルホンアミドフェノールおよびp-ベンゼンスル
ホンアミドフェノールなどのスルホンアミドフェノール
還元剤;2-フェニルインダン-1,3-ジオンなど; 2,2-ジ
メチル-7-t-ブチル-6-ヒドロキシクロマンなどのクロマ
ン;2,6-ジメトキシ-3,5-ジカルボエトキシ-1,4-ジヒド
ロピリジンなどの1,4-ジヒドロピリジン;ビスフェノー
ル(例えば、ビス(2-ヒドロキシ-3-t-ブチル-5-メチルフ
ェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェ
ニル)プロパン、4,4-エチリデン-ビス(2-t-ブチル-6-メ
チルフェノール) 、1,1,-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメ
チルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサンおよび2,2-ビ
ス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンな
ど);アスコルビン酸誘導体(例えば、パルミチン酸1-ア
スコルビル、ステアリン酸アスコルビルなど);ならび
にベンジルおよびビアセチルなどのアルデヒドおよびケ
トン;3-ピラゾリドンおよびある種のインダン-1,3-ジ
オン;クロマノール(トコフェロールなど)などがある。
特に好ましい還元剤としては、ビスフェノール、クロマ
ノールである。In a photothermographic material using an organic silver salt, a wide range of reducing agents are disclosed in JP-A-46-6074 and JP-A-47-1238.
47-33621, 49-46427, 49-115540, 50-14
No. 334, No. 50-36110, No. 50-147711, No. 51-32632,
No. 51-1023721, No. 51-32324, No. 51-51933, No. 52-8
4727, 55-108654, 56-146133, 57-82828
No. 57-82829, JP-A-6-3793, U.S. Pat.
No. 6, 3,751,252, 3,751,255, 3,761,270,
3,782,949, 3,839,048, 3,928,686, 5,4
No. 64,738, German Patent 2321328, European Patent 692732 and the like. For example, phenylamide oxime,
Amide oximes such as 2-thienylamide oxime and p-phenoxyphenylamide oxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; 2,2′-bis (hydroxymethyl) propionyl-β-
A combination of an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide such as a combination of phenylhydrazine and ascorbic acid with ascorbic acid; a combination of polyhydroxybenzene with hydroxylamine, reductone and / or hydrazine (eg, hydroquinone and bis (ethoxyethyl) hydroxyl Amines, piperidinohexose reductone or a combination of formyl-4-methylphenylhydrazine); hydroxamic acids such as phenylhydroxamic acid, p-hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; azine and sulfonamide phenol (E.g., phenothiazine and 2,6-dichloro-4-
Benzenesulfonamidophenol); ethyl-α-
Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as cyano-2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′- Dihydroxy-1,1'-binaphthyl and bis (2
Bis-β-naphthol as exemplified by -hydroxy-1-naphthyl) methane; bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives (eg, 2,4-dihydroxybenzophenone or 2 ′, 4′-dihydroxy Acetophenone); 5-pyrazolone, such as 3-methyl-1-phenyl-5-pyrazolone; dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone. Reductones as exemplified; sulfonamide phenol reducing agents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-dione and the like; 2,2- Chromanes such as dimethyl-7-t-butyl-6-hydroxychroman; 2,6-dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-1,4-dihydrogen 1,4-dihydropyridines such as lopyridine; bisphenols (eg, bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4 , 4-Ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methylphenol), 1,1, -bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2 -Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, etc.); ascorbic acid derivatives (eg, 1-ascorbyl palmitate, ascorbyl stearate, etc.); and aldehydes and ketones such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidone and Certain indane-1,3-diones; chromanol (such as tocopherol).
Particularly preferred reducing agents are bisphenol and chromanol.
【0107】本発明で用いる還元剤は、溶液、粉末、固
体微粒子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固
体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミ
ル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェ
ットミル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体
微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。The reducing agent used in the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.
【0108】画像を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含むと光学濃度が高くなることがある。ま
た、色調剤は黒色銀画像を形成させるうえでも有利にな
ることがある。色調剤は画像形成層を有する面に銀1モ
ルあたりの0.1〜50%モルの量含まれることが好ましく、
0.5〜20%モル含まれることがさらに好ましい。また、色
調剤は現像時のみ有効に機能を持つように誘導化された
いわゆるプレカーサーであってもよい。When an additive known as a "toning agent" for improving an image is contained, the optical density may be increased. The toning agent may also be advantageous in forming a black silver image. The toning agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 50% mol per mol of silver on the surface having the image forming layer,
More preferably, it is contained in an amount of 0.5 to 20% by mole. Further, the toning agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.
【0109】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の色調剤が特開昭46-6077号、同47-10282
号、同49-5019号、同49-5020号、同49-91215号、同49-9
1215号、同50-2524号、同50-32927号、同50-67132号、
同50-67641号、同50-114217号、同51-3223号、同51-279
23号、同52-14788号、同52-99813号、同53-1020号、同5
3-76020号、同54-156524号、同54-156525号、同61-1836
42号、特開平4-56848号、特公昭49-10727号、同54-2033
3号、米国特許3,080,254号、同3,446,648号、同3,782,9
41号、同4,123,282号、同4,510,236号、英国特許138079
5号、ベルギー特許841910号などに開示されている。色
調剤の例は、フタルイミドおよびN-ヒドロキシフタルイ
ミド;スクシンイミド、ピラゾリン-5-オン、ならびに
キナゾリノン、3-フェニル-2-ピラゾリン-5-オン、1-フ
ェニルウラゾール、キナゾリンおよび2,4-チアゾリジン
ジオンのような環状イミド;ナフタルイミド(例えば、N
-ヒドロキシ-1,8-ナフタルイミド);コバルト錯体(例え
ば、コバルトヘキサミントリフルオロアセテート);3-
メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2,4-ジメルカプトピ
リミジン、3-メルカプト-4,5--ジフェニル-1,2,4-トリ
アゾールおよび2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾー
ルに例示されるメルカプタン;N-(アミノメチル)アリー
ルジカルボキシイミド、(例えば、(N,N-ジメチルアミノ
メチル)フタルイミドおよびN,N-(ジメチルアミノメチ
ル)-ナフタレン-2,3-ジカルボキシイミド);ならびにブ
ロック化ピラゾール、イソチウロニウム誘導体およびあ
る種の光退色剤(例えば、N,N'-ヘキサメチレンビス(1-
カルバモイル-3,5-ジメチルピラゾール)、1,8-(3,6-ジ
アザオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセ
テート)および2-トリブロモメチルスルホニル)-(ベンゾ
チアゾール));ならびに3-エチル-5[(3-エチル-2-ベン
ゾチアゾリニリデン)-1-メチルエチリデン]-2-チオ-2,4
-オキサゾリジンジオン;フタラジノン、フタラジノン
誘導体もしくは金属塩、または4-(1-ナフチル)フタラジ
ノン、6-クロロフタラジノン、5,7-ジメトキシフタラジ
ノンおよび2,3-ジヒドロ-1,4-フタラジンジオンなどの
誘導体;フタラジノンとフタル酸誘導体(例えば、フタ
ル酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタル酸およびテト
ラクロロ無水フタル酸など)との組合せ;フタラジン、
フタラジン誘導体(たとえば、4-(1-ナフチル)フタラジ
ン、6-クロロフタラジン、5,7-ジメトキシフタラジン、
6-iso-ブチルフタラジン、6-iso-プロピルフタラジン、
6-tert-ブチルフタラジン、5,7-ジメチルフタラジン、
および2,3-ジヒドロフタラジンなどの誘導体)もしくは
金属塩、;フタラジンおよびその誘導体とフタル酸誘導
体(例えば、フタル酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフ
タル酸およびテトラクロロ無水フタル酸など)との組合
せ;キナゾリンジオン、ベンズオキサジンまたはナフト
オキサジン誘導体;色調調節剤としてだけでなくその場
でハロゲン化銀生成のためのハライドイオンの源として
も機能するロジウム錯体、例えばヘキサクロロロジウム
(III)酸アンモニウム、臭化ロジウム、硝酸ロジウムお
よびヘキサクロロロジウム(III)酸カリウムなど;無機
過酸化物および過硫酸塩、例えば、過酸化二硫化アンモ
ニウムおよび過酸化水素;1,3-ベンズオキサジン-2,4-
ジオン、8-メチル-1,3-ベンズオキサジン-2,4-ジオン
および6-ニトロ-1,3-ベンズオキサジン-2,4-ジオンなど
のベンズオキサジン-2,4-ジオン;ピリミジンおよび不
斉-トリアジン(例えば、2,4-ジヒドロキシピリミジン、
2-ヒドロキシ-4-アミノピリミジンなど)、アザウラシ
ル、およびテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,6-
ジメルカプト-1,4-ジフェニル-1H,4H-2,3a,5,6a-テトラ
アザペンタレン、および1,4-ジ(o-クロロフェニル)-3,6
-ジメルカプト-1H,4H-2,3a,5,6a-テトラアザペンタレ
ン)などがある。In a photothermographic material using an organic silver salt, a wide range of color toning agents are disclosed in JP-A-46-6077 and JP-A-47-10282.
Nos. 49-5019, 49-5020, 49-91215, 49-9
No. 1215, No. 50-2524, No. 50-32927, No. 50-67132,
No. 50-67641, No. 50-114217, No. 51-3223, No. 51-279
No. 23, No. 52-14788, No. 52-99813, No. 53-1020, No. 5
3-76020, 54-156524, 54-156525, 61-1836
No. 42, JP-A-4-56848, JP-B-49-10727, 54-2033
No. 3, U.S. Pat.Nos. 3,080,254, 3,446,648, 3,782,9
No. 41, No. 4,123,282, No. 4,510,236, British Patent 138079
No. 5, Belgian Patent No. 841910 and the like. Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide, pyrazolin-5-one, and quinazolinone, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione Cyclic imides such as; naphthalimides (eg, N
-Hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-
Mercapto-1,2,4-triazole, 2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-4,5-diphenyl-1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole N- (aminomethyl) aryldicarboximides, such as (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide and N, N- (dimethylaminomethyl) -naphthalene-2,3-dicarboximide ); And blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N'-hexamethylenebis (1-
Carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2-tribromomethylsulfonyl)-(benzothiazole)); and 3-ethyl- 5 [(3-ethyl-2-benzothiazolinylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,4
-Oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione A combination of phthalazinone and a phthalic acid derivative (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride, etc.); phthalazine,
Phthalazine derivatives (e.g., 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine,
6-iso-butylphthalazine, 6-iso-propylphthalazine,
6-tert-butylphthalazine, 5,7-dimethylphthalazine,
And metal salts; and phthalazine and its derivatives with phthalic acid derivatives (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride). Combinations; quinazolinedione, benzoxazine or naphthoxazine derivatives; rhodium complexes, such as hexachlororhodium, which function not only as color-toning agents but also in-situ as sources of halide ions for silver halide formation
(III) ammonium, rhodium bromide, rhodium nitrate and potassium hexachlororhodate (III); inorganic peroxides and persulfates, such as ammonium disulfide and hydrogen peroxide; 1,3-benzoxazine- 2,4-
Benzoxazine-2,4-diones such as dione, 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione; pyrimidine and asymmetric -Triazines (e.g., 2,4-dihydroxypyrimidine,
2-hydroxy-4-aminopyrimidine, etc.), azauracil, and tetraazapentalene derivatives (e.g., 3,6-
Dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene, and 1,4-di (o-chlorophenyl) -3,6
-Dimercapto-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene).
【0110】本発明で用いる色調剤は、溶液、粉末、固
体微粒子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固
体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミ
ル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェ
ットミル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体
微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。The toning agent used in the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.
【0111】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理前の
膜面pHは6以下であることが保存時のカブリを低減さ
せる上で好ましく、特に5.5以下、さらに好ましくは
5.3以下である。その下限には特に制限はないが、3
程度である。膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有
機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発
性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという
観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗
布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜
面pHを達成する上で好ましい。The surface pH of the photothermographic material of the present invention before the heat development processing is preferably 6 or less from the viewpoint of reducing fogging during storage, particularly 5.5 or less, more preferably 5.3 or less. It is. There is no particular lower limit, but 3
It is about. The adjustment of the film surface pH is preferably performed using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a nonvolatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is preferable for achieving a low film surface pH since ammonia is easily volatilized and can be removed before the application step and the heat development.
【0112】なお、本発明の熱現像感光材料の膜面pH
を測定する場合には、熱現像処理前の熱現像感光材料
2.5cm×2.5cmを舟形に折り、その画像形成層
側に300μlの蒸留水を滴下し、30分静置した後
に、その滴下液をpH BOY−P2(新電元工業株式
会社製、半導体方式のpH計)にて1分間測定すること
が好ましい。The pH of the film surface of the photothermographic material of the present invention
When measuring the photothermographic material 2.5 mm × 2.5 cm before the heat development processing, the film was folded into a boat shape, 300 μl of distilled water was dropped on the image forming layer side, and the solution was allowed to stand for 30 minutes. It is preferable to measure the dropped solution for 1 minute with a pH BOY-P2 (a semiconductor type pH meter manufactured by Shindengen Kogyo Co., Ltd.).
【0113】本発明の熱現像感光材料のために用いるバ
インダーとしては以下に述べるポリマーラテックスを用
いることが好ましい。本発明の熱現像感光材料の感光性
ハロゲン化銀を含有する画像形成層のうち少なくとも1
層は以下に述べるポリマーラテックスを全バインダーの
50重量%以上として用いた画像形成層であることが好ま
しい。(以降この画像形成層を「本発明における画像形
成層」、バインダーに用いるポリマーラテックスを「本
発明で用いるポリマーラテックス」と表す。)また、ポ
リマーラテックスは画像形成層だけではなく、保護層や
バック層に用いてもよく、特に寸法変化が問題となる印
刷用途に本発明の熱現像感光材料を用いる場合には、保
護層やバック層にもポリマーラテックスを用いることが
好ましい。ただしここで言う「ポリマーラテックス」と
は水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の
分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリ
マーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合された
もの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中
に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散
したものなどいずれでもよい。なお本発明で用いるポリ
マーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥
田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合
成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、
笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラ
テックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(197
0))」などに記載されている。分散粒子の平均粒径は1〜
50000nm、より好ましくは5〜1000nm程度の範囲が好まし
い。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広
い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つもの
でもよい。As the binder used for the photothermographic material of the present invention, the following polymer latex is preferably used. At least one of the image forming layers containing the photosensitive silver halide of the photothermographic material of the present invention.
The layer contains the polymer latex described below for all binders.
The image forming layer is preferably used in an amount of 50% by weight or more. (Hereinafter, this image forming layer is referred to as “image forming layer in the present invention”, and the polymer latex used as a binder is referred to as “polymer latex used in the present invention.”) The polymer latex is not limited to the image forming layer, but may be a protective layer or a backing layer. When the photothermographic material of the present invention is used for printing in which dimensional change is a problem, it is preferable to use a polymer latex for the protective layer and the back layer. However, the "polymer latex" referred to here is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. The dispersion state is such that the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partially dispersed in polymer molecules and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of them may be used. For the polymer latex used in the present invention, `` Synthetic resin emulsion (Hei Okuda, edited by Hiroshi Inagaki, published by Polymer Publishing Association (1978)) '', `` Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka, Soichi Suzuki,
(Edited by Keiji Kasahara, published by the Society of Polymer Publishing (1993)), `` Chemistry of Synthetic Latex (Souichi Muroi, published by the Society of Polymer Publishing (197)
0)) ”. The average particle size of the dispersed particles is 1 to
The range is preferably 50,000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. There is no particular limitation on the particle size distribution of the dispersed particles, and those having a wide particle size distribution or those having a monodispersed particle size distribution may be used.
【0114】本発明で用いるポリマーラテックスとして
は通常の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆる
コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合コアと
シェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合があ
る。本発明の熱現像感光材料においてバインダーとして
好ましく用いるポリマーラテックスのガラス転移温度
(Tg)は保護層、バック層と画像形成層とでは好まし
い範囲が異なる。画像形成層にあっては熱現像時に写真
有用素材の拡散を促すため、-30〜40℃であることが好
ましい。保護層やバック層に用いる場合には種々の機器
と接触するために25〜70℃のガラス転移温度が好まし
い。本発明で用いるポリマーラテックスの最低造膜温度
(MFT)は-30℃〜90℃、より好ましくは0℃〜70℃程度が
好ましい。最低造膜温度をコントロールするために造膜
助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれポ
リマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合
物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテックスの
化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載さ
れている。The polymer latex used in the present invention may be a so-called core / shell type latex other than the polymer latex having a normal uniform structure. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell. The glass transition temperature (Tg) of the polymer latex preferably used as a binder in the photothermographic material of the present invention differs between the protective layer, the back layer and the image forming layer. In the image forming layer, the temperature is preferably -30 to 40 ° C. in order to promote diffusion of the photographically useful material during thermal development. When used for the protective layer or the back layer, a glass transition temperature of 25 to 70 ° C. is preferable for contacting various devices. Minimum film forming temperature of polymer latex used in the present invention
(MFT) is preferably -30 ° C to 90 ° C, more preferably about 0 ° C to 70 ° C. A film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature. The film-forming aid is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex, also called a plasticizer, and is described in, for example, `` Synthesis of Synthetic Latex (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Association (1970) )"It is described in.
【0115】本発明で用いるポリマーラテックスに用い
られるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリマ
ーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーで
も、また架橋されたポリマーでも良い。またポリマーと
しては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマー
でも良いし、2種以上のモノマーが重合したコポリマー
でも良い。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも
ブロックコポリマーでも良い。ポリマーの分子量は数平
均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜100000程
度が好ましい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の
力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪
く好ましくない。Examples of the polymer used in the polymer latex used in the present invention include acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polyolefin resin, and copolymers thereof. and so on. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is preferably from 5000 to 100000, more preferably from about 10,000 to 100,000 in number average molecular weight. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable.
【0116】本発明の熱現像感光材料の画像形成層のバ
インダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例
としては以下のようなものがある。メチルメタクリレー
ト/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラ
テックス、メチルメタクリレート/2−エチルヘキシル
アクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテ
ックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマー
のラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼ
ン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタ
クリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテ
ックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリ
ロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスな
ど。また、このようなポリマーは市販もされていて、以
下のようなポリマーが利用できる。例えばアクリル樹脂
の例として、セビアンA-4635,46583、4601(以上ダイセ
ル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、8
57(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリエステル樹脂と
しては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本イ
ンキ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イーストマンケ
ミカル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYDRAN AP1
0、20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、
ゴム系樹脂としてはLACSTAR 7310K、3307B、4700H、713
2C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx416、41
0、438C、2507、(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化
ビニル樹脂としてはG351、G576(以上日本ゼオン(株)
製)など、塩化ビニリデン樹脂としてはL502、L513(以上
旭化成工業(株)製)、アロンD7020、D504、D5071(以上
三井東圧(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパ
ールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙
げることができる。これらのポリマーは単独で用いても
よいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いても良
い。Specific examples of the polymer latex used as a binder for the image forming layer of the photothermographic material of the present invention include the following. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer, and the like. Such polymers are also commercially available, and the following polymers can be used. For example, as examples of acrylic resin, Sebian A-4635,46583,4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811,814,821,820,8
Polyester resins include FINETEX ES650, 611, 675, and 850 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), WD-size, WMS (all manufactured by Eastman Chemical) , HYDRAN AP1 as polyurethane resin
0, 20, 30, 40 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 713 as rubber resin
2C (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), Nipol Lx416, 41
0, 438C, 2507, (Nippon Zeon Co., Ltd.) and other vinyl chloride resins such as G351 and G576 (Nippon Zeon Co., Ltd.)
L502, L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), Aron D7020, D504, D5071 (manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.) Mitsui Petrochemical Co., Ltd.). These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary.
【0117】本発明における画像形成層は全バインダー
の50重量%以上として上記ポリマーラテックスが好まし
く用いられるが、70重量%以上として上記ポリマーラテ
ックスが用いられることがさらに好ましい。本発明にお
ける画像形成層には必要に応じて全バインダーの50重量
%以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロースなどの親水性ポリマーを添加しても良い。これら
の親水性ポリマーの添加量は画像形成層の全バインダー
の30重量%以下、さらには15重量%以下が好ましい。In the image forming layer of the present invention, the above polymer latex is preferably used as 50% by weight or more of the whole binder, and more preferably 70% by weight or more of the above polymer latex. In the image forming layer in the present invention, if necessary, 50% by weight of all binders
%, A hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose and hydroxypropylmethylcellulose may be added. The amount of the hydrophilic polymer to be added is preferably 30% by weight or less, more preferably 15% by weight or less of the total binder in the image forming layer.
【0118】本発明における画像形成層は水系の塗布液
を塗布後乾燥して調製することが好ましい。ただし、こ
こで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の60重量%
以上が水であることをいう。塗布液の水以外の成分はメ
チルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアル
コール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチ
ルホルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒
を用いることができる。具体的な溶媒組成の例としては
以下のようなものがある。水/メタノール=90/10、水
/メタノール=70/30、水/エタノール=90/10、水/イ
ソプロパノール=90/10、水/ジメチルホルムアミド=95
/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=80/15/
5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=90/5/5。
(ただし数字は重量%を表す。) 本発明における画像形成層の全バインダー量は0.2〜30g
/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範囲が好ましい。画
像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための
界面活性剤などを添加してもよい。The image forming layer in the present invention is preferably prepared by applying an aqueous coating solution and then drying. However, the `` water-based '' here is 60% by weight of the solvent (dispersion medium) of the coating liquid.
It means that the above is water. As components other than water of the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used. Specific examples of the solvent composition include the following. Water / methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 90/10, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95
/ 5, water / methanol / dimethylformamide = 80/15 /
5, water / methanol / dimethylformamide = 90/5/5.
(However, the numbers represent% by weight.) The total binder amount of the image forming layer in the present invention is 0.2 to 30 g.
/ M 2 , more preferably in the range of 1 to 15 g / m 2 . A crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the image forming layer.
【0119】本発明における増感色素としてはハロゲン
化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀
粒子を分光増感できるもので有ればいかなるものでも良
い。増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色
素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロ
シアニン色素、ホロホーラーシアニン色素、スチリル色
素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソ
ノール色素等を用いることができる。本発明に使用され
る有用な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17
643IV-A項(1978年12月p.23)、同Item1831X項(1979年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されてい
る。特に各種レーザーイメージャー、スキャナー、イメ
ージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。赤色光への分光増感の例としては、He-Neレーザ
ー、赤色半導体レーザーやLEDなどのいわゆる赤色光源
に対しては、特開昭54-18726号に記載のI-1からI-38の
化合物、特開平6-75322号に記載のI-1からI-35の化合物
および特開平7-287338号に記載のI-1からI-34の化合
物、特公昭55-39818号に記載の色素1から20、特開昭62-
284343号に記載のI-1からI-37の化合物および特開平7-2
87338号に記載のI-1からI-34の化合物などが有利に選択
される。As the sensitizing dye in the present invention, any dye can be used as long as it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains. As the sensitizing dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, a complex cyanine dye, a complex merocyanine dye, a holo-holerocyanine dye, a styryl dye, a hemicyanine dye, an oxonol dye, a hemioxonol dye, and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 17
Item 643IV-A (p.23, December 1978), Item 1831X (August 1979)
p.437) or in the literature cited. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers, scanners, imagesetters and plate making cameras can be advantageously selected. Examples of spectral sensitization to red light, He-Ne laser, for a so-called red light source such as red semiconductor laser and LED, the I-1 to I-38 described in JP-A-54-18726 Compound, compounds of I-1 to I-35 described in JP-A-6-75322 and compounds of I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338, dyes described in JP-B-55-39818 1 to 20, JP-A-62-2
Compounds of I-1 to I-37 described in 284343 and JP-A-7-2
Compounds I-1 to I-34 described in 87338 are advantageously selected.
【0120】750〜1400nmの波長領域の半導体レーザー
光源に対しては、シアニン、メロシアニン、スチリル、
ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノールおよび
キサンテン色素を含む種々の既知の色素により、スペク
トル的に有利に増感させることができる。有用なシアニ
ン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピ
ロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール
核、セレナゾール核およびイミダゾール核などの塩基性
核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染
料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒ
ダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン
核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリ
ノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核などの酸
性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニン色素に
おいて、イミノ基またはカルボキシル基を有するものが
特に効果的である。例えば、米国特許3,761,279号、同
3,719,495号、同3,877,943号、英国特許1,466,201号、
同1,469,117号、同1,422,057号、特公平3-10391号、同6
-52387号、特開平5-341432号、同6-194781号、同6-3011
41号に記載されたような既知の色素から適当に選択して
よい。For a semiconductor laser light source in the wavelength region of 750 to 1400 nm, cyanine, merocyanine, styryl,
A variety of known dyes, including hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, can be spectrally sensitized favorably. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus, such as a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a pyrroline nucleus, a pyridine nucleus, an oxazole nucleus, a thiazole nucleus, a selenazole nucleus and an imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus. Including. Among the above-mentioned cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, U.S. Pat.
3,719,495, 3,877,943, British Patent 1,466,201,
No. 1,469,117, No. 1,422,057, No. 3-10391, No. 6
-52387, JP-A-5-341432, JP-A-6-94781, JP-A-6-3011
The dye may be appropriately selected from known dyes as described in No. 41.
【0121】本発明に用いられる色素の構造として特に
好ましいものは、チオエーテル結合含有置換基を有する
シアニン色素(例としては特開昭62-58239号、同3-13863
8号、同3-138642号、同4-255840号、同5-72659号、同5-
72661号、同6-222491号、同2-230506号、同6-258757
号、同6-317868号、同6-324425号、特表平7-500926号、
米国特許5,541,054号に記載された色素) 、カルボン酸
基を有する色素(例としては特開平3-163440号、6-30114
1号、米国特許5,441,899号に記載された色素)、メロシ
アニン色素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色素
(特開昭47-6329号、同49-105524号、同51-127719号、同
52-80829号、同54-61517号、同59-214846号、同60-6750
号、同63-159841号、特開平6-35109号、同6-59381号、
同7-146537号、同7-146537号、特表平55-50111号、英国
特許1,467,638号、米国特許5,281,515号に記載された色
素)が挙げられる。また、J-bandを形成する色素とし
て、米国特許5,510,236号、同3,871,887号の実施例5に
記載の色素、特開平2-96131号、特開昭59-48753号に開
示されている色素があり、これらの色素を本発明に好ま
しく用いることができる。Particularly preferred as the structure of the dye used in the present invention is a cyanine dye having a thioether bond-containing substituent (for example, see JP-A-62-58239 and JP-A-3-13863).
No.8, No.3-138642, No.4-255840, No.5-72659, No.5-
No. 72661, No. 6-222491, No. 2-230506, No. 6-258757
No., 6-317868, 6-324425, Tokuyohei 7-500926,
Dyes described in U.S. Pat.No. 5,541,054), dyes having a carboxylic acid group (for example, JP-A-3-163440, 6-30114
No. 1, U.S. Pat.No. 5,441,899), merocyanine dyes, polynuclear merocyanine dyes and polynuclear cyanine dyes
(JP 47-6329, JP 49-105524, JP 51-127719, JP
52-80829, 54-61517, 59-214846, 60-6750
No. 63-159841, JP-A-6-35109, JP-A-6-59381,
And the dyes described in JP-A-7-146537, JP-A-7-146537, JP-T-55-50111, British Patent 1,467,638, and US Patent 5,281,515. Further, as a dye forming a J-band, U.S. Pat. These dyes can be preferably used in the present invention.
【0122】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
2種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はRe
search Disclosure 176巻17643(1978年12月発行)第23頁
IVのJ項、あるいは特公昭49-25500号、同43-4933号、特
開昭59-19032号、同59-192242号等に記載されている。
増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加させるには、それ
らを直接乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、アセトン、メチル
セルソルブ、2,2,3,3-テトラフルオロプロパノール、2,
2,2-トリフルオロエタノール、3-メトキシ-1-プロパノ
ール、3-メトキシ-1-ブタノール、1-メトキシ-2-プロパ
ノール、N,N-ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独もし
くは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。These sensitizing dyes may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. Combinations of sensitizing dyes are often used, especially for supersensitization. In addition to the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are Re.
search Disclosure Volume 176, 17643 (Issued December 1978) Page 23
IV, J, or JP-B-49-25500, JP-B-43-4933, JP-A-59-19032, and JP-A-59-192242.
The sensitizing dyes may be added to the silver halide emulsion by dispersing them directly in the emulsion or by adding water, methanol, ethanol, propanol, acetone, methylcellosolve, 2,2,3,3. -Tetrafluoropropanol, 2,
2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy-1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, N, dissolved in a solvent alone or a mixture of solvents such as N-dimethylformamide It may be added to the emulsion.
【0123】また、米国特許3,469,987号明細書等に開
示されているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解
し、この溶液を水または親水性コロイド中に分散し、こ
の分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭44-23389号、
同44-27555号、同57-22091号等に開示されているよう
に、色素を酸に溶解し、この溶液を乳剤中に添加した
り、酸または塩基を共存させて水溶液として乳剤中へ添
加する方法、米国特許3,822,135号、同4,006,025号明細
書等に開示されているように界面活性剤を共存させて水
溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤中に添加
する方法、特開昭53-102733号、同58-105141号に開示さ
れているように親水性コロイド中に色素を直接分散さ
せ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51-746
24号に開示されているように、レッドシフトさせる化合
物を用いて色素を溶解し、この溶液を乳剤中へ添加する
方法を用いることもできる。また、溶解に超音波を用い
ることもできる。As disclosed in US Pat. No. 3,469,987, a dye is dissolved in a volatile organic solvent, this solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid, and this dispersion is dispersed in an emulsion. To Japanese Patent Publication No. 44-23389,
As disclosed in JP-A-44-27555 and JP-A-57-22091, the dye is dissolved in an acid and this solution is added to the emulsion, or an acid or base is added to the emulsion as an aqueous solution in the presence of an acid or base. A method of adding an aqueous solution or a colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion, as disclosed in U.S. Patent Nos. 3,822,135 and 4,006,025, JP-A-53-102733. JP-A-51-746, a method in which a dye is directly dispersed in a hydrophilic colloid and the dispersion is added to an emulsion as disclosed in JP-A-58-105141.
As disclosed in Japanese Patent No. 24, a method in which a dye is dissolved using a compound that causes a red shift, and this solution is added to an emulsion can also be used. Also, ultrasonic waves can be used for dissolution.
【0124】増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する
時期は、これまで有用であることが認められている乳剤
調製のいかなる工程中であってもよい。例えば米国特許
2,735,766号、同3,628,960号、同4,183,756号、同4,22
5,666号、特開昭58-184142号、同60-196749号等の明細
書に開示されているように、ハロゲン化銀の粒子形成工
程または/および脱塩前の時期、脱塩工程中および/ま
たは脱塩後から化学熟成の開始前までの時期、特開昭58
-113920号等の明細書に開示されているように、化学熟
成の直前または工程中の時期、化学熟成後、塗布までの
時期の乳剤が塗布される前ならばいかなる時期、工程に
おいて添加されてもよい。また、米国特許4,225,666
号、特開昭58-7629号等の明細書に開示されているよう
に、同一化合物を単独で、または異種構造の化合物と組
み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学熟成工程中ま
たは化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成の前または
工程中と完了後とに分けるなどして分割して添加しても
よく、分割して添加する化合物および化合物の組み合わ
せの種類を変えて添加してもよい。本発明における増感
色素の使用量としては感度やカブリなどの性能に合わせ
て所望の量でよいが、画像形成層のハロゲン化銀1モル
当たり10-6〜1モルが好ましく、10-4〜10-1モルがさら
に好ましい。The sensitizing dye may be added to the silver halide emulsion at any time during the preparation of the emulsion which has been found to be useful. US Patent
2,735,766, 3,628,960, 4,183,756, 4,22
No. 5,666, JP-A-58-184142, JP-A-60-196749, etc., as disclosed in the silver halide grain forming step or / and the time before the desalting, during the desalting step and / or during the desalting step. Alternatively, from the time after desalination to before the start of chemical ripening,
As disclosed in the specification such as -113920, the timing immediately before or during chemical ripening, at any time after the chemical ripening and before coating, the emulsion is added at any time during the process. Is also good. Also, U.S. Patent 4,225,666
As disclosed in the specification such as JP-A-58-7629, the same compound may be used alone or in combination with a compound having a different structure, for example, during the particle forming step and during the chemical ripening step or when the chemical ripening is completed. May be added separately, such as before or after chemical ripening or during the process and after completion, or may be added by changing the type of compound and compound combination to be added and divided. Good. The amount of the sensitizing dye used in the present invention may be a desired amount in accordance with performance such as sensitivity and fog, but is preferably 10 -6 to 1 mol, more preferably 10 -4 to 1 mol per mol of silver halide in the image forming layer. 10 -1 mol is more preferred.
【0125】本発明は赤外分光増感効率を向上させるた
め、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いら
れる強色増感剤は、欧州特許第587338号、米国特許第38
77943号、同4873184号に開示されている化合物、複素芳
香族あるいは脂肪族メルカプト化合物、複素芳香族ジス
ルフィド化合物、スチルベン、ヒドラジン、トリアジン
から選択される化合物などが挙げられる。特に好ましい
強色増感剤は、特開平5-341432号に開示されている複素
芳香族メルカプト化合物、複素芳香族ジスルフィド化合
物、特開平10-73899に開示されているスチルベン化合
物、特願平10-78168号に記載の一般式(I)で表わされ
る化合物で具体的には同明細書に記載の化合物1〜57
である。これらの強色増感剤の添加量としては乳剤層中
に銀1モル当たり0.0001〜1.0モルの範囲が好ましく、さ
らに好ましくは、銀の1モル当たり0.001〜0.3モルの量
である。In the present invention, a supersensitizer can be used to improve the infrared spectral sensitization efficiency. The supersensitizer used in the present invention is disclosed in EP 587338 and U.S. Pat.
And compounds selected from heteroaromatic or aliphatic mercapto compounds, heteroaromatic disulfide compounds, stilbene, hydrazine, and triazine. Particularly preferred supersensitizers include heteroaromatic mercapto compounds disclosed in JP-A-5-341432, heteroaromatic disulfide compounds, stilbene compounds disclosed in JP-A-10-73899, and Japanese Patent Application No. 10-73899. Compounds represented by the general formula (I) described in No. 78168, specifically, compounds 1 to 57 described in the same specification
It is. The addition amount of these supersensitizers is preferably in the range of 0.0001 to 1.0 mol per mol of silver in the emulsion layer, more preferably 0.001 to 0.3 mol per mol of silver.
【0126】本発明で用いるハロゲン化銀乳剤または/
および有機銀塩は、カブリ防止剤、安定剤および安定剤
前駆体によって、付加的なかぶりの生成に対して更に保
護され、在庫貯蔵中における感度の低下に対して安定化
することができる。単独または組合せて使用することが
できる適当なカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体
は、米国特許第2,131,038号および同第2,694,716号に記
載のチアゾニウム塩、米国特許第2,886,437号および同
第2,444,605号に記載のアザインデン、米国特許第2,72
8,663号に記載の水銀塩、米国特許第3,287,135号に記載
のウラゾール、米国特許第3,235,652号に記載のスルホ
カテコール、英国特許第623,448号に記載のオキシム、
ニトロン、ニトロインダゾール、米国特許第2,839,405
号に記載の多価金属塩、米国特許第3,220,839号に記載
のチウロニウム塩、ならびに米国特許第2,566,263号お
よび同第2,597,915号に記載のパラジウム、白金および
金塩、米国特許第4,108,665号および同第4,442,202号に
記載のハロゲン置換有機化合物、米国特許第4,128,557
号および同第4,137,079号、第4,138,365号および同第4,
459,350号に記載のトリアジンならびに米国特許第4,41
1,985号に記載のリン化合物などがある。The silver halide emulsion used in the present invention and / or
And the organic silver salts can be further protected against the formation of additional fog by antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors, and can be stabilized against reduced sensitivity during stock storage. Suitable antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors that can be used alone or in combination are the thiazonium salts described in U.S. Pat.Nos. 2,131,038 and 2,694,716, U.S. Pat. Azaindene, U.S. Pat.
8,663 mercury salt, U.S. Pat.No. 3,287,135 urazole, U.S. Pat.
Nitrone, nitroindazole, U.S. Patent No. 2,839,405
No. 3,220,839, thiuronium salts, and U.S. Pat.Nos. 2,566,263 and 2,597,915, palladium, platinum and gold salts, U.S. Pat.Nos. 4,108,665 and 4,442,202 No. 4,128,557
Nos. 4,137,079 and 4,138,365 and 4,
No. 4,59,350 and U.S. Pat.
And the phosphorus compounds described in 1,985.
【0127】本発明に好ましく用いられるカブリ防止剤
としては有機ハロゲン化物であり、例えば、特開昭50-1
19624号、同50-120328号、同51-121332号、同54-58022
号、同56-70543号、同56-99335号、同59-90842号、同61
-129642号、同62-129845号、特開平6-208191号、同7-56
21号、同7-2781号、同8-15809号、米国特許第5,340,712
号、同5,369,000号、同5,464,737号に開示されているよ
うな化合物が挙げられる。本発明で用いるカブリ防止剤
は、溶液、粉末、固体微粒子分散物などいかなる方法で
添加してもよい。固体微粒子分散は公知の微細化手段
(例えば、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、
コロイドミル、ジェットミル、ローラーミルなど)で行
われる。また、固体微粒子分散する際に分散助剤を用い
てもよい。The antifoggant preferably used in the present invention is an organic halide.
19624, 50-120328, 51-121332, 54-58022
Nos. 56-70543, 56-99335, 59-90842, 61
No. -129642, No. 62-129845, JP-A-6-208191, No. 7-56
No. 21, 7-2781, 8-15809, U.S. Pat.No. 5,340,712
Nos. 5,369,000 and 5,464,737. The antifoggant used in the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. Solid fine particle dispersion is a known fine
(For example, ball mill, vibrating ball mill, sand mill,
(Colloid mill, jet mill, roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.
【0128】本発明を実施するために必要ではないが、
画像形成層にカブリ防止剤として水銀(II)塩を加えるこ
とが有利なことがある。この目的に好ましい水銀(II)塩
は、酢酸水銀および臭化水銀である。本発明に使用する
水銀の添加量としては、塗布された銀1モル当たり好ま
しくは1×10-9モル〜1×10-3モル、さらに好ましくは1
×10-8モル〜1×10-4モルの範囲である。Although not required to practice the present invention,
It may be advantageous to add a mercury (II) salt as an antifoggant to the image forming layer. Preferred mercury (II) salts for this purpose are mercury acetate and mercury bromide. The addition amount of mercury used in the present invention is preferably 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol, more preferably 1 × 10 −9 mol, per mol of silver coated.
The range is from × 10 −8 mol to 1 × 10 −4 mol.
【0129】本発明の熱現像感光材料は高感度化やカブ
リ防止を目的として安息香酸類を含有しても良い。安息
香酸類はいかなる安息香酸誘導体でもよいが、好ましい
構造の例としては、米国特許4,784,939号、同4,152,160
号、特開平9−329863号、同9−329864
号、同9−281637号などに記載の化合物が挙げら
れる。安息香酸類は熱現像感光材料のいかなる部位に添
加しても良いが、添加層としては画像形成層を有する面
の層に添加することが好ましく、有機銀塩を含有する層
に添加することがさらに好ましい。安息香酸類の添加時
期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、
有機銀塩を含有する層に添加する場合は有機銀塩調製時
から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調
製後から塗布直前が好ましい。安息香酸類の添加法とし
ては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っ
ても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添
加物と混合した溶液として添加しても良い。安息香酸類
の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル当た
り1×10-6モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3モル
以上0.5モル以下がさらに好ましい。The photothermographic material of the present invention may contain benzoic acids for the purpose of increasing the sensitivity and preventing fog. The benzoic acids may be any benzoic acid derivative, but examples of preferred structures include, for example, U.S. Pat.
No. 9-329864 and JP-A-9-329864.
And compounds described in JP-A No. 9-281637. The benzoic acid may be added to any part of the photothermographic material, but it is preferable to add the benzoic acid to the layer having the image forming layer, and it is preferable to add the benzoic acid to the layer containing the organic silver salt. preferable. The benzoic acid may be added in any step of preparing the coating solution,
When it is added to the layer containing the organic silver salt, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used, but it is preferable after the preparation of the organic silver salt and immediately before the coating. The benzoic acid may be added by any method such as powder, solution, and fine particle dispersion. Further, it may be added as a solution mixed with other additives such as a sensitizing dye, a reducing agent and a color tone agent. The benzoic acid may be added in any amount, but preferably 1 × 10 −6 mol or more and 2 mol or less, more preferably 1 × 10 −3 mol or more and 0.5 mol or less, per 1 mol of silver.
【0130】本発明の熱現像感光材料には現像を抑制あ
るいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向
上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなど
にメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合
物を含有させることができる。本発明にメルカプト化合
物を使用する場合、いかなる構造のものでも良いが、Ar
-SM 、Ar-S-S-Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以上
の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム原
子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましく
は、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイミダゾ
ール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テト
ラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラ
ジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノン
である。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン(例え
ば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、
アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4
個の炭素原子を有するもの)、アルコキシ(例えば、1個
以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有す
るもの)およびアリール(置換基を有していてもよい)
からなる置換基群から選択されるものを有してもよい。
メルカプト置換複素芳香族化合物としては、2-メルカプ
トベンズイミダゾール、2-メルカプトベンズオキサゾー
ル、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプト-5-
メチルベンズイミダゾール、6-エトキシ-2-メルカプト
ベンゾチアゾール、2,2'-ジチオビス-(ベンゾチアゾー
ル、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4,5-ジフェニ
ル-2-イミダゾールチオール、2-メルカプトイミダゾー
ル、1-エチル-2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メ
ルカプトキノリン、8-メルカプトプリン、2-メルカプト
-4(3H)-キナゾリノン、7-トリフルオロメチル-4-キノリ
ンチオール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ピリジンチオー
ル、4-アミノ-6-ヒドロキシ-2-メルカプトピリミジンモ
ノヒドレート、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジア
ゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、
4-ヒドキロシ-2-メルカプトピリミジン、2-メルカプト
ピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メルカプトピリミジン、2
-メルカプト-4-メチルピリミジンヒドロクロリド、3-メ
ルカプト-5-フェニル-1,2,4-トリアゾール、1-フェニル
-5-メルカプトテトラゾール、3-(5-メルカプトテトラゾ
ール)-ベンゼンスルフォン酸ナトリウム、N-メチル-N'-
[3-(5-メルカプトテトラゾリル)フェニル]ウレア、2-メ
ルカプト-4-フェニルオキサゾールなどが挙げられる
が、本発明はこれらに限定されない。これらのメルカプ
ト化合物の添加量としては乳剤層中に銀1モル当たり0.0
001〜1.0モルの範囲が好ましく、さらに好ましくは、銀
の1モル当たり0.001〜0.3モルの量である。The photothermographic material of the present invention contains a mercapto compound, a disulfide compound, a mercapto compound, a disulfide compound, or the like in order to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, to improve storage stability before and after development, and the like. A thione compound can be contained. When a mercapto compound is used in the present invention, any structure may be used.
-SM and Ar-SS-Ar are preferred. Wherein M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic or fused aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine , Pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring includes, for example, halogens (e.g., Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy,
Alkyl (e.g. one or more carbon atoms, preferably 1-4
Having one carbon atom), alkoxy (eg, having one or more carbon atoms, preferably 1-4 carbon atoms) and aryl (optionally having substituents)
And a substituent selected from the group consisting of:
As mercapto-substituted heteroaromatic compounds, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-
Methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-dithiobis- (benzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2- Mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto
-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate , 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole,
4-Hydrocyr-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2
-Mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole, 1-phenyl
-5-mercaptotetrazole, 3- (5-mercaptotetrazole) -sodium benzenesulfonate, N-methyl-N'-
Examples include [3- (5-mercaptotetrazolyl) phenyl] urea, 2-mercapto-4-phenyloxazole, and the like, but the present invention is not limited thereto. The addition amount of these mercapto compounds is 0.00 per mole of silver in the emulsion layer.
The range is preferably from 001 to 1.0 mole, more preferably from 0.001 to 0.3 mole per mole of silver.
【0131】本発明における画像形成層には、可塑剤お
よび潤滑剤として多価アルコール(例えば、米国特許第
2,960,404号に記載された種類のグリセリンおよびジオ
ール)、米国特許第2,588,765号および同第3,121,060号
に記載の脂肪酸またはエステル、英国特許第955,061号
に記載のシリコーン樹脂などを用いることができる。本
発明においては、画像形成層の上に保護層を設けること
が好ましく、保護層のバインダーとしては、前述のよう
に、ガラス転移温度が25℃以上70℃以下のポリマーのラ
テックスを用いることが好ましい。この場合保護層の全
バインダーの50重量%以上、好ましくは70重量%以上と
して前述のポリマーラテックスを用いることが好まし
い。本発明ではこのような保護層を少なくとも1層設け
ることが好ましい。このような保護層のバインダー構成
や塗設方法等については画像形成層と同様である。保護
層用のポリマーラテックスとしてはアクリル系、スチレ
ン系、アクリル/スチレン系、塩化ビニル系、塩化ビニ
リデン系のポリマーラテックスが好ましく用いられ、具
体的にはアクリル樹脂系のVONCORT R3370、4280、Nipo
l Lx857、メチルアクリレート/2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート/ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート/スチレン/(メタ)アクリル酸コポリマー、
塩化ビニル樹脂のNipol G576、塩化ビニリデン樹脂の
アロンD5071が好ましく用いられる。本発明に用いられ
る保護層用の全バインダー量は0.2〜5.0g/m2、より好
ましくは0.5〜4.0g/m2の範囲である。In the image forming layer according to the invention, a polyhydric alcohol (for example, US Pat.
Glycerin and diols of the type described in U.S. Pat. No. 2,960,404), fatty acids or esters described in U.S. Pat. Nos. 2,588,765 and 3,121,060, and silicone resins described in British Patent No. 955,061. In the present invention, it is preferable to provide a protective layer on the image forming layer, as the binder of the protective layer, as described above, it is preferable to use a polymer latex having a glass transition temperature of 25 ° C or more and 70 ° C or less. . In this case, it is preferable to use the polymer latex described above in an amount of 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more of the total binder in the protective layer. In the present invention, it is preferable to provide at least one such protective layer. The binder configuration and coating method of such a protective layer are the same as those of the image forming layer. As the polymer latex for the protective layer, an acrylic, styrene, acryl / styrene, vinyl chloride, or vinylidene chloride polymer latex is preferably used. Specifically, acrylic resin-based VONCORT R3370, 4280, Nipo
l Lx857, methyl acrylate / 2-ethylhexyl (meth) acrylate / hydroxyethyl (meth) acrylate / styrene / (meth) acrylic acid copolymer,
Nipol G576 as a vinyl chloride resin and Aron D5071 as a vinylidene chloride resin are preferably used. The total amount of the binder for the protective layer used in the present invention is in the range of 0.2 to 5.0 g / m 2 , more preferably 0.5 to 4.0 g / m 2 .
【0132】本発明における表面保護層においては、い
かなる付着防止材料を使用してもよい。付着防止材料の
例としては、ワックス、シリカ粒子、スチレン含有エラ
ストマー性ブロックコポリマー(例えば、スチレン-ブタ
ジエン-スチレン、スチレン-イソプレン-スチレン)、酢
酸セルロース、セルロースアセテートブチレート、セル
ロースプロピオネートやこれらの混合物などがある。ま
た、表面保護層には架橋のための架橋剤、塗布性改良の
ための界面活性剤などを添加してもよい。本発明におけ
る画像形成層もしくは画像形成層の保護層には、米国特
許第3,253,921号、同第2,274,782号、同第2,527,583号
および同第2,956,879号に記載されているような光吸収
物質およびフィルター染料を含む写真要素において使用
することができる。また、例えば米国特許第3,282,699
号に記載のように染料を媒染することができる。フィル
ター染料の使用量としては露光波長での吸光度が0.1〜3
が好ましく、0.2〜1.5が特に好ましい。In the surface protective layer of the present invention, any anti-adhesion material may be used. Examples of anti-adhesion materials include wax, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers (e.g., styrene-butadiene-styrene, styrene-isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate and the like. And mixtures. Further, a crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the surface protective layer. In the image forming layer or the protective layer of the image forming layer in the present invention, a light absorbing material and a filter dye as described in U.S. Pat. It can be used in photographic elements, including: Also, for example, U.S. Patent No. 3,282,699
The dye can be mordanted as described in the item. As the amount of the filter dye used, the absorbance at the exposure wavelength is 0.1 to 3
Is preferred, and 0.2 to 1.5 is particularly preferred.
【0133】本発明における画像形成層には色調改良、
イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料を用い
ることができる。画像形成層に用いる染料および顔料は
いかなるものでもよいが、例えばカラーインデックス記
載の顔料や染料があり、具体的にはピラゾロアゾール染
料、アントラキノン染料、アゾ染料、アゾメチン染料、
オキソノール染料、カルボシアニン染料、スチリル染
料、トリフェニルメタン染料、インドアニリン染料、イ
ンドフェノール染料、フタロシアニンをはじめとする有
機顔料、無機顔料などが挙げられる。本発明に用いられ
る好ましい染料としてはアントラキノン染料(例えば特
開平5-341441号記載の化合物1〜9、特開平5-165147号記
載の化合物3-6〜18および3-23〜38など)、アゾメチン染
料(特開平5-341441号記載の化合物17〜47など)、インド
アニリン染料(例えば特開平5-289227号記載の化合物11
〜19、特開平5-341441号記載の化合物47、特開平5-1651
47号記載の化合物2-10〜11など)およびアゾ染料(特開平
5-341441号記載の化合物10〜16)が挙げられる。これら
の染料の添加法としては、溶液、乳化物、固体微粒子分
散物、高分子媒染剤に媒染された状態などいかなる方法
でも良い。これらの化合物の使用量は目的の吸収量によ
って決められるが、一般的には感光材料1m2当たり1×10
-6g以上1g以下の範囲で用いることが好ましい。The image forming layer in the present invention has improved color tone,
Various dyes and pigments can be used from the viewpoint of prevention of irradiation. Dyes and pigments used in the image forming layer may be any, for example, pigments and dyes described in the color index, specifically, pyrazoloazole dye, anthraquinone dye, azo dye, azomethine dye,
Oxonol dyes, carbocyanine dyes, styryl dyes, triphenylmethane dyes, indoaniline dyes, indophenol dyes, organic pigments including phthalocyanine, and inorganic pigments. Preferred dyes used in the present invention include anthraquinone dyes (e.g., compounds 1 to 9 described in JP-A-5-341441, compounds 3-6 to 18 and 3-23 to 38 described in JP-A-5-165147), azomethine Dyes (e.g., compounds 17 to 47 described in JP-A-5-341441) and indoaniline dyes (e.g., compound 11 described in JP-A-5-289227).
To 19, compound 47 described in JP-A-5-341441, JP-A-5-1651
No. 47, compounds 2-10 to 11) and azo dyes (JP-A No.
Compounds 10 to 16) described in 5-341441 are exemplified. As a method for adding these dyes, any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, and a state in which the dye is mordanted with a polymer mordant may be used. The amount of these compounds is determined by absorption of the objects, but generally the light-sensitive material 1 m 2 per 1 × 10
It is preferable to use in the range of -6 g to 1 g.
【0134】本発明の熱現像感光材料は、支持体の一方
の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む画像形
成層を有し、他方の側にバック層を有する、いわゆる片
面感光材料であることが好ましい。本発明においてバッ
ク層は、所望の範囲での最大吸収が約0.3以上2.0以下で
あることが好ましい。所望の範囲が750〜1400nmである
場合には、750〜360nmにおいての光学濃度が0.005以上
0.5未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.001
以上0.3未満の光学濃度を有するハレーション防止層で
あることが好ましい。所望の範囲が750nm以下である場
合には、画像形成前の所望範囲の最大吸収が0.3以上2.0
以下であり、さらに画像形成後の360〜750nmの光学濃度
が0.005以上0.3未満になるようなハレーション防止層で
あることが好ましい。画像形成後の光学濃度を上記の範
囲に下げる方法としては特に制限はないが、例えばベル
ギー特許第733,706号に記載されたように染料による濃
度を加熱による消色で低下させる方法、特開昭54-17833
号に記載の光照射による消色で濃度を低下させる方法等
が挙げられる。The photothermographic material of the present invention is a so-called one-sided photosensitive material having at least one image forming layer containing a silver halide emulsion on one side of a support and a back layer on the other side. Preferably, there is. In the present invention, the back layer preferably has a maximum absorption in a desired range of about 0.3 or more and 2.0 or less. When the desired range is 750 to 1400 nm, the optical density at 750 to 360 nm is 0.005 or more.
It is preferably less than 0.5, more preferably 0.001
It is preferable that the antihalation layer has an optical density of at least 0.3 and less than 0.3. When the desired range is 750 nm or less, the maximum absorption of the desired range before image formation is 0.3 or more and 2.0 or more.
The antihalation layer is preferably such that the optical density at 360 to 750 nm after image formation is 0.005 or more and less than 0.3. The method for lowering the optical density after image formation to the above range is not particularly limited. For example, as described in Belgian Patent No. 733,706, a method in which the density of a dye is reduced by decolorization by heating, -17833
And the method of reducing the density by decoloring by light irradiation described in (1).
【0135】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、該染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、処理後
に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層の好ま
しい吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合
物でも良い。例えば以下に挙げるものが開示されている
が本発明はこれに限定されるものではない。単独の染料
としては特開昭59-56458号、特開平2-216140号、同7-13
295号、同7-11432号、米国特許5,380,635号記載、特開
平2-68539号公報第13頁左下欄1行目から同第14頁左下欄
9行目、同3-24539号公報第14頁左下欄から同第16頁右下
欄記載の化合物があり、処理で消色する染料としては特
開昭52-139136号、同53-132334号、同56-501480号、同5
7-16060号、同57-68831号、同57-101835号、同59-18243
6号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭48-33692
号、同50-16648号、特公平2-41734号、米国特許4,088,4
97号、同4,283,487号、同4,548,896号、同5,187,049号
がある。When an antihalation dye is used in the present invention, the dye has a desired absorption in a desired range, has a sufficiently low absorption in the visible region after treatment, and has a desirable absorbance spectrum shape of the back layer. Any compound can be used as long as it is possible. For example, the following are disclosed, but the present invention is not limited thereto. As a single dye, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140, 7-13
No. 295, No. 7-11432, U.S. Pat.No.5,380,635, JP-A-2-688539, page 13, lower left column, line 1 to page 14, lower left column
On the ninth line, JP-A-3-24539, there are compounds described in the lower right column of page 14 to the lower right column of page 16, and as the dye which can be decolorized by the treatment, JP-A Nos. 52-139136 and 53-132334. , 56-501480, 5
7-16060, 57-68831, 57-101835, 59-18243
6, JP-A-7-36145, JP-A-7-199409, JP-B-48-33692
No. 50-16648, Japanese Patent Publication No. 2-41734, U.S. Patent 4,088,4
Nos. 97, 4,283,487, 4,548,896, and 5,187,049.
【0136】本発明においてバック層の好適なバインダ
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロース、
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプン、ポ
リ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩
化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレン-無
水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニトリル)、
コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリ(ビニルアセター
ル)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)
類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エ
ポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセ
テート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類があ
る。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションか
ら被覆形成してもよい。In the present invention, suitable binders for the back layer are transparent or translucent, generally colorless, and natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as: gelatin, gum arabic, poly (vinyl) Alcohol), hydroxyethyl cellulose,
Cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (styrene-maleic anhydride) ), Copoly (styrene-acrylonitrile),
Copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (e.g., poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane)
, Phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxide) s, poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amide) s. The binder may be coated from water or an organic solvent or an emulsion.
【0137】本発明の熱現像感光材料が片面感光材料で
ある場合、搬送性改良のために画像形成層の表面保護層
及び/またはバック層またはバック層の表面保護層にマ
ット剤を添加しても良い。マット剤は、一般に水に不溶
性の有機または無機化合物の微粒子である。マット剤と
しては任意のものを使用でき、例えば米国特許第1,939,
213号、同2,701,245号、同2,322,037号、同3,262,782
号、同3,539,344号、同3,767,448号等の各明細書に記載
の有機マット剤、同1,260,772号、同2,192,241号、同3,
257,206号、同3,370,951号、同3,523,022号、同3,769,0
20号等の各明細書に記載の無機マット剤など当業界で良
く知られたものを用いることができる。例えば具体的に
はマット剤として用いることのできる有機化合物の例と
しては、水分散性ビニル重合体の例としてポリメチルア
クリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロ
ニトリル、アクリロニトリル-α-メチルスチレン共重合
体、ポリスチレン、スチレン-ジビニルベンゼン共重合
体、ポリビニルアセテート、ポリエチレンカーボネー
ト、ポリテトラフルオロエチレンなど、セルロース誘導
体の例としてはメチルセルロース、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘
導体の例としてカルボキシ澱粉、カルボキシニトロフェ
ニル澱粉、尿素-ホルムアルデヒド-澱粉反応物など、公
知の硬化剤で硬化したゼラチンおよびコアセルベート硬
化して微少カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなどを
好ましく用いることができる。無機化合物の例としては
二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、、酸
化アルミニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公知
の方法で減感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、珪藻
土などを好ましく用いることができる。上記のマット剤
は必要に応じて異なる種類の物質を混合して用いること
ができる。マット剤の大きさ、形状に特に限定はなく、
任意の粒径のものを用いることができる。本発明の実施
に際しては0.1μm〜30μmの粒径のものを用いるのが好
ましい。また、マット剤の粒径分布は狭くても広くても
良い。一方、マット剤は感光材料のヘイズ、表面光沢に
大きく影響することから、マット剤作製時あるいは複数
のマット剤の混合により、粒径、形状および粒径分布を
必要に応じた状態にすることが好ましい。When the photothermographic material of the present invention is a one-sided photosensitive material, a matting agent is added to the surface protective layer of the image forming layer and / or the back layer or the surface protective layer of the back layer in order to improve transportability. Is also good. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. Any matting agent can be used, for example, U.S. Pat.
No. 213, No. 2,701,245, No. 2,322,037, No. 3,262,782
Nos. 3,539,344, 3,767,448, etc., the organic matting agents described in each specification, 1,260,772, 2,192,241, 3,3
257,206, 3,370,951, 3,523,022, 3,769,0
Those well known in the art, such as an inorganic matting agent described in each specification such as No. 20, can be used. For example, specifically, examples of organic compounds that can be used as a matting agent include, as examples of water-dispersible vinyl polymers, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, acrylonitrile-α-methylstyrene copolymer, and polystyrene. , Styrene-divinylbenzene copolymer, polyvinyl acetate, polyethylene carbonate, polytetrafluoroethylene, etc., examples of cellulose derivatives such as methylcellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, etc., and starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl Starch, urea-formaldehyde-starch reactants, and the like, gelatin hardened with a known hardener and hardened gelatin that has been coacervated and hardened into microcapsule hollow granules are preferred. Can be used. Examples of the inorganic compound include silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by a known method, silver bromide, glass, and diatomaceous earth. . The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary. There is no particular limitation on the size and shape of the matting agent,
Any particle size can be used. In practicing the present invention, it is preferable to use one having a particle size of 0.1 μm to 30 μm. Further, the particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, since the matting agent greatly affects the haze and surface gloss of the photosensitive material, the particle size, shape, and particle size distribution can be adjusted as needed during the preparation of the matting agent or by mixing a plurality of matting agents. preferable.
【0138】本発明においてバック層にマット剤を添加
するのは好ましい態様であり、バック層のマット度とし
てはベック平滑度が1200秒以下50秒以上が好ましく、さ
らに好ましくは700秒以下100秒以上である。本発明にお
いて、マット剤は熱現像感光材料の最外表面層もしくは
最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層
に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として
作用する層に含有されることが好ましい。また、乳剤面
保護層のマット度は星屑故障が生じなければいかようで
も良いが、ベック平滑度が300秒以上5,000秒以下が好ま
しく、特に500秒以上2,000秒以下が好ましい。ある。In the present invention, it is a preferred embodiment to add a matting agent to the backing layer. The matting degree of the backing layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 50 seconds or more, more preferably 700 seconds or less and 100 seconds or more. It is. In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photothermographic material, a layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. Is preferably performed. The matte degree of the emulsion surface protective layer may be any value as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is preferably 300 seconds or more and 5,000 seconds or less, and particularly preferably 500 seconds or more and 2,000 seconds or less. is there.
【0139】本発明における画像形成層は、支持体上に
一層またはそれ以上の層で構成される。一層の構成は有
機銀塩、ハロゲン化銀、現像剤およびバインダー、なら
びに色調剤、被覆助剤および他の補助剤などの所望によ
る追加の材料を含まなければならない。二層の構成は、
第1画像形成層(通常は基材に隣接した層)中に有機銀塩
およびハロゲン化銀を含み、第2層または両層中にいく
つかの他の成分を含まなければならない。しかし、全て
の成分を含む単一乳剤層および保護トップコートを含ん
でなる二層の構成も考えられる。多色感光性熱現像写真
材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含
んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されて
いるように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層は、
一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているよう
に、各感光層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー
層を使用することにより、互いに区別されて保持され
る。米国特許第4,460,681号および同第4,374,921号に示
されるような裏面抵抗性加熱層(backside resistive he
ating layer)を感光性熱現像写真画像系に使用すること
もできる。The image forming layer in the invention is composed of one or more layers on a support. One layer must contain additional optional materials such as organic silver salts, silver halides, developers and binders, and toning agents, coating aids and other auxiliaries. The two-layer configuration is
The first imaging layer (usually the layer adjacent to the substrate) must contain the organic silver salt and silver halide and the second or both layers must contain some other components. However, a two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The construction of a multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color, and may include all components in a single layer as described in U.S. Pat.No. 4,708,928. Is also good.
In the case of a multi-dye multi-color photosensitive heat-developable photographic material, each emulsion layer is
Generally, they are kept distinct from one another by using a functional or non-functional barrier layer between each photosensitive layer, as described in US Pat. No. 4,460,681. U.S. Pat.Nos. 4,460,681 and 4,374,921 show a backside resistive heating layer as shown in U.S. Pat.
ating layer) can also be used in the photothermographic image system.
【0140】本発明の熱現像感光材料における画像形成
層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良
い。硬膜剤の例としては、米国特許4,281,060号、特開
平6-208193号などに記載されているポリイソシアネート
類、米国特許4,791,042号などに記載されているエポキ
シ化合物類、特開昭62-89048号などに記載されているビ
ニルスルホン系化合物類などが用いられる。本発明には
塗布性、帯電改良などを目的として界面活性剤を用いて
も良い。界面活性剤の例としては、ノニオン系、アニオ
ン系、カチオン系、フッ素系などいかなるものも適宜用
いられる。具体的には、特開昭62-170950号、米国特許
5,380,644号などに記載のフッ素系高分子界面活性剤、
特開昭60-244945号、特開昭63-188135号などに記載のフ
ッ素系界面活性剤、米国特許3,885,965号などに記載の
ポリシロキサン系界面活性剤、特開平6-301140号などに
記載のポリアルキレンオキサイドやアニオン系界面活性
剤などが挙げられる。In the photothermographic material of the present invention, a hardener may be used for each layer such as an image forming layer, a protective layer and a back layer. Examples of the hardener include U.S. Pat.No.4,281,060, polyisocyanates described in JP-A-6-208193, epoxy compounds described in U.S. Pat.No.4,791,042, JP-A-62-89048. For example, vinyl sulfone compounds described in US Pat. In the present invention, a surfactant may be used for the purpose of improving coating properties and charging. As the surfactant, any surfactant such as nonionic, anionic, cationic, and fluorine can be used as appropriate. Specifically, JP-A-62-170950, U.S. Patent
Fluoropolymer surfactants described in 5,380,644 and the like,
JP-A-60-244945, fluorine-based surfactants described in JP-A-63-188135, etc., polysiloxane-based surfactants described in U.S. Pat. Examples thereof include a polyalkylene oxide and an anionic surfactant.
【0141】本発明における画像形成層およびその他の
層は、一般的には種々の支持体上に被覆させることがで
きる。典型的な支持体は、ポリエステルフィルム、下塗
りポリエステルフィルム、ポリ(エチレンテレフタレー
ト)フィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、硝
酸セルロースフィルム、セルロースエステルフィルム、
ポリ(ビニルアセタール)フィルム、ポリカーボネート
フィルムおよび関連するまたは樹脂状の材料、ならびに
ガラス、紙、金属などを含む。可撓性基材、特に、部分
的にアセチル化された、もしくはバライタおよび/また
はα-オレフィンポリマー、特にポリエチレン、ポリプ
ロピレン、エチレン−ブテンコポリマーなどの炭素数2
〜10のα-オレフィンのポリマーによりコートされた紙
支持体が、典型的に用いられる。該支持体は透明であっ
ても不透明であってもよいが、透明であることが好まし
い。これらのうちでも75〜200μm程度の2軸延伸したポ
リエチレンテレフタレートが特に好ましい。一方、プラ
スチックフィルムを80℃以上の処理の熱現像機に通すと
一般にフィルムの寸法が伸縮する。処理後の材料を印刷
製版用途として使用する場合、この伸縮は精密多色印刷
を行う時に重大な問題となる。よって、本発明では二軸
延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱
現像中に発生する熱収縮歪みをなくす工夫をした、寸法
変化の小さいフィルムを用いることが好ましい。例え
ば、画像形成層を塗布する前に100℃〜210℃の範囲で熱
処理したポリエチレンテレフタレートなどが好ましく用
いられる。ガラス転移点の高いものも好ましく、ポリエ
ーテルエチルケトン、ポリスチレン、ポリスルフォン、
ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポリカーボ
ネート等が使用できる。The image forming layer and other layers in the invention can be generally coated on various supports. Typical supports include polyester films, primed polyester films, poly (ethylene terephthalate) films, polyethylene naphthalate films, cellulose nitrate films, cellulose ester films,
Including poly (vinyl acetal) film, polycarbonate film and related or resinous materials, as well as glass, paper, metal and the like. Flexible substrates, especially partially acetylated or baryta and / or α-olefin polymers, especially polyethylene, polypropylene, ethylene-butene copolymers, etc.
Paper supports coated with polymers of 10 α-olefins are typically used. The support may be transparent or opaque, but is preferably transparent. Among these, polyethylene terephthalate biaxially stretched to about 75 to 200 μm is particularly preferred. On the other hand, when a plastic film is passed through a heat developing machine at a temperature of 80 ° C. or higher, the dimensions of the film generally expand and contract. When the processed material is used for printing plate making, this expansion and contraction becomes a serious problem when performing precision multicolor printing. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change, which is designed to reduce internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and eliminate thermal shrinkage distortion generated during thermal development. For example, polyethylene terephthalate which has been heat-treated at 100 to 210 ° C. before applying the image forming layer is preferably used. Those having a high glass transition point are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone,
Polyether sulfone, polyarylate, polycarbonate and the like can be used.
【0142】本発明の熱現像感光材料は、帯電防止のた
め、例えば、可溶性塩(例えば塩化物、硝酸塩など)、
蒸着金属層、米国特許第2,861,056号および同第3,206,3
12号に記載のようなイオン性ポリマーまたは米国特許第
3,428,451号に記載のような不溶性無機塩、特開昭60-25
2349号、同57-104931号に記載されている酸化スズ微粒
子などを含む層を有してもよい。本発明の熱現像感光材
料を用いてカラー画像を得る方法としては特開平7-1329
5号10頁左欄43行目から11左欄40行目に記載の方法があ
る。また、カラー染料画像の安定剤としては英国特許第
1,326,889号、米国特許第3,432,300号、同第3,698,909
号、同第3,574,627号、同第3,573,050号、同第3,764,33
7号および同第4,042,394号に例示されている。本発明に
おける画像形成層およびその他の層は、浸漬コーティン
グ、エアナイフコーティング、フローコーティングまた
は、米国特許第2,681,294号に記載の種類のホッパーを
用いる押出コーティングを含む種々のコーティング操作
により被覆することができる。所望により、米国特許第
2,761,791号および英国特許第837,095号に記載の方法に
より2層またはそれ以上の層を同時に被覆することがで
きる。本発明の熱現像感光材料の中に追加の層、例えば
移動染料画像を受容するための染料受容層、反射印刷が
望まれる場合の不透明化層、保護トップコート層および
光熱写真技術において既知のプライマー層などを含むこ
とができる。本発明の感光材料はその感光材料一枚のみ
で画像形成できることが好ましく、受像層等の画像形成
に必要な機能性層が別の感光材料とならないことが好ま
しい。The photothermographic material of the present invention may contain, for example, a soluble salt (eg, chloride, nitrate, etc.) for preventing electrification.
Evaporated metal layers, U.S. Pat.Nos. 2,861,056 and 3,206,3
No. 12 ionic polymer or U.S. Pat.
Insoluble inorganic salts as described in 3,428,451, JP-A-60-25
It may have a layer containing fine particles of tin oxide described in JP-A Nos. 2349 and 57-104931. A method for obtaining a color image by using the photothermographic material of the present invention is described in JP-A-7-1329.
No. 5, page 10, left column, line 43 to 11 left column, line 40. In addition, as a stabilizer for color dye images, UK Patent No.
No. 1,326,889, U.S. Pat.Nos. 3,432,300 and 3,698,909
No. 3,574,627, No. 3,573,050, No. 3,764,33
No. 7 and No. 4,042,394. The imaging layers and other layers in the present invention can be coated by various coating operations, including dip coating, air knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in U.S. Pat. No. 2,681,294. U.S. Pat.
Two or more layers can be coated simultaneously by the methods described in 2,761,791 and GB 837,095. Additional layers in the photothermographic material of the present invention, such as a dye-receiving layer for receiving a migrating dye image, an opacifying layer if reflective printing is desired, a protective topcoat layer and a primer known in the photothermographic art Layers and the like. The light-sensitive material of the present invention is preferably capable of forming an image with only one light-sensitive material, and it is preferable that a functional layer required for image formation such as an image receiving layer does not become another light-sensitive material.
【0143】本発明において、像様露光に用いられる露
光装置は露光時間が10-7秒未満の露光が可能な装置で
あればいずれでもよいが、一般的にはLaser Diode(L
D)、Light Emitting Diode(LED)を光源に使用
した露光装置が好ましく用いられる。特に、LDは高出
力、高解像度の点でより好ましい。これらの光源は目的
波長範囲の電磁波スペクトルの光を発生することができ
るものであればいずれでもよい。例えばLDであれば、
色素レーザー、ガスレーザー、固体レーザー、半導体レ
ーザーなどを用いることができる。露光は光源の光ビー
ムをオーバーラップさせて露光し、オーバーラップとは
副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オー
バーラップとは例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅
(FWHM)で表わしたときFWHM/副走査ピッチ幅
(オーバーラップ係数)で定量的に表現することがで
きる。本発明ではこのオーバラップ係数が0.2以上で
あることが好ましい。In the present invention, the exposure apparatus used for imagewise exposure may be any apparatus capable of performing exposure with an exposure time of less than 10 -7 seconds.
D), an exposure apparatus using a Light Emitting Diode (LED) as a light source is preferably used. In particular, LD is more preferable in terms of high output and high resolution. Any of these light sources may be used as long as it can generate light of an electromagnetic wave spectrum in a target wavelength range. For example, for LD,
Dye lasers, gas lasers, solid-state lasers, semiconductor lasers, and the like can be used. The exposure is performed by overlapping the light beams of the light source, and the overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. For example, the overlap can be quantitatively represented by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient) when the beam diameter is represented by a half width of beam intensity (FWHM). In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.2 or more.
【0144】本発明に使用する露光装置の光源の走査方
式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネル
が好ましく用いられる。本発明の熱現像感光材料は露光
時のヘイズが低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。
この干渉縞発生防止技術としては、特開平5-113548号な
どに開示されているレーザー光を感光材料に対して斜め
に入光させる技術や、国際公開WO95/31754号などに開
示されているマルチモードレーザーを利用する方法が知
られており、これらの技術を用いることが好ましい。The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylinder outer surface scanning method, a cylinder inner surface scanning method, a plane scanning method, or the like can be used. Also,
The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface type, a multi-channel is preferably used. The photothermographic material of the present invention has a low haze at the time of exposure and tends to cause interference fringes.
Examples of the interference fringe prevention technology include a technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 5-113548 and the like, in which a laser beam is obliquely incident on a photosensitive material, and a technology disclosed in International Publication WO95 / 31754 and the like. Methods using a mode laser are known, and it is preferable to use these techniques.
【0145】本発明の熱現像感光材料を画像形成する際
における加熱現像工程はいかなる方法で現像されても良
いが、通常イメージワイズに露光した感光材料を昇温し
て現像される。用いられる熱現像機の好ましい態様とし
ては、熱現像感光材料をヒートローラーやヒートドラム
などの熱源に接触させるタイプとして特公平5-56499
号、特許公報第684453号、特開平9-292695号、特開平9-
297385号および国際公開WO95/30934号に記載の熱現像
機、非接触型のタイプとして特開平7-13294号、国際公
開WO97/28489号、同97/28488号および同97/28487号に
記載の熱現像機がある。特に好ましい態様としては非接
触型の熱現像機である。好ましい現像温度としては80〜
250℃であり、さらに好ましくは100〜140℃である。現
像時間としては1〜180秒が好ましく、10〜90秒がさらに
好ましい。本発明の熱現像感光材料の熱現像時の寸法変
化による処理ムラを防止する方法として、80℃以上115
℃未満の温度で画像が出ないようにして5秒以上加熱し
た後、110℃以上140℃以下で熱現像して画像形成させる
方法(いわゆる多段階加熱方法)が有効である。In the heat development step of forming an image on the photothermographic material of the present invention, any method may be used for development, but usually the imagewise exposed photosensitive material is heated to develop. A preferred embodiment of the heat developing machine used is a type in which the photothermographic material is brought into contact with a heat source such as a heat roller or a heat drum.
No., Patent Publication No. 684453, JP-A-9-292695, JP-A-9-
297385 and the thermal developing machine described in WO95 / 30934, as a non-contact type, JP-A-7-13294, WO97 / 28489, WO97 / 28488 and WO97 / 28487. There is a heat developing machine. A particularly preferred embodiment is a non-contact type thermal developing machine. The preferred development temperature is 80 to
The temperature is 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C. The development time is preferably from 1 to 180 seconds, more preferably from 10 to 90 seconds. As a method for preventing processing unevenness due to dimensional change during thermal development of the photothermographic material of the present invention, 80 ° C or more 115
A method in which the image is heated at a temperature lower than 110 ° C. for 5 seconds or more so as not to form an image, and then thermally developed at 110 ° C. to 140 ° C. to form an image (a so-called multi-step heating method) is effective.
【0146】本発明の熱現像感光材料を熱現像処理する
とき、110℃以上の高温にさらされるため、該材料中
に含まれている成分の一部、あるいは熱現像による分解
成分の一部が揮発してくる。これらの揮発成分は現像ム
ラの原因になったり、熱現像機の構成部材を腐食させた
り、温度の低い場所で析出し異物として画面の変形を引
起こしたり、画面に付着して汚れとなる種々の悪い影響
があることが知られている。これらの影響を除くため
に、熱現像機にフィルターを設置し、また熱現像機内の
空気の流れを最適に調整することが知られている。これ
らを有効に組合わせて利用することができる。国際公開
WO95/30933号、同97/21150号、特表
平10―500496号には、結合吸収粒子を有し揮発
分を導入する第一の開口部と排出する第二の開口部とを
有するフィルターカートリッジを、フィルムと接触して
加熱する加熱装置に用いることが記載されている。国際
公開WO96/12213号、特表平10−50740
3号には、熱伝導性の凝縮捕集器とガス吸収性微粒子フ
ィルターを組合わせたフィルターが記載されている。When the photothermographic material of the present invention is subjected to thermal development processing, it is exposed to a high temperature of 110 ° C. or more, so that a part of the components contained in the material or a part of the components decomposed by the thermal development are removed. Volatilizes. These volatile components may cause uneven development, corrode the components of the heat developing machine, precipitate at low temperatures, cause deformation of the screen as foreign matter, and adhere to the screen and become dirty. Is known to have a bad effect. In order to eliminate these effects, it is known to install a filter in the heat developing machine and optimally adjust the flow of air in the heat developing machine. These can be effectively used in combination. International Publication Nos. WO 95/30933, WO 97/21150 and JP-T-Hei 10-500496 have a first opening for introducing and discharging volatile components having binding and absorbing particles. It describes that a filter cartridge is used in a heating device that heats in contact with a film. International Publication WO96 / 12213, Tokiohei 10-50740
No. 3 discloses a filter in which a heat-conductive condensation collector and a gas-absorbing fine particle filter are combined.
【0147】また、米国特許4518845号、特公平
3―54331号には、フィルムからの蒸気を除去する
装置とフィルムを伝熱部材へ押圧する加圧装置と伝熱部
材を加熱する装置とを有する構成が記載されている。国
際公開WO98/27458号には、フィルムから揮発
するかぶりを増加させる成分をフィルム表面から取り除
くことが記載されている。Also, US Pat. No. 4,518,845 and Japanese Patent Publication No. 3-54331 have a device for removing vapor from a film, a pressurizing device for pressing the film against a heat transfer member, and a device for heating the heat transfer member. The configuration is described. International Publication WO 98/27458 describes removing fog-increasing components from the film surface that evaporate from the film.
【0148】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用
いられる熱現像機の一構成例を図1に示す。図1は熱現
像機の側面図を示したものである。図1の熱現像機は熱
現像感光材料10を平面状に矯正及び予備加熱しながら
加熱部に搬入する搬入ローラー対11(下部ローラーが
ヒートローラー)と熱現像後の熱現像後の熱現像感光材
料10を平面状に矯正しながら加熱部から搬出する搬出
ローラー対12を有する。熱現像感光材料10は搬入ロ
ーラー対11から搬出ローラー対12へと搬送される間
に熱現像される。この熱現像中の熱現像感光材料10を
搬送する搬送手段は画像形成層を有する面が接触する側
に複数のローラー13が設置され、その反対側のバック
面が接触する側には不織布(たとえばポリフェニレンサ
ルファイトやテフロンから成る)等が貼り合わされた平
滑面14が設置される。熱現像感光材料10は画像形成
層を有する面に接触する複数のローラー13の駆動によ
り、バック面は平滑面14の上を滑って搬送される。加
熱手段はローラー13の上部及び平滑面14の下部に熱
現像感光材料10の両面から加熱されるように加熱ヒー
ター15が設置される。この場合の加熱手段としては板
状ヒーター等が挙げられる。ローラー13と平滑面14
とのクリアランスは平滑面の部材により異なるが、熱現
像感光材料10が搬送できるクリアランスに適宜調整さ
れる。好ましくは0〜1mmである。FIG. 1 shows an example of the configuration of a heat developing machine used in the heat developing process of the photothermographic material of the present invention. FIG. 1 is a side view of the heat developing machine. The thermal developing machine shown in FIG. 1 is a pair of carry-in rollers 11 (a lower roller is a heat roller) for carrying the thermal development photosensitive material 10 into a heating unit while correcting and preheating the thermal development photosensitive material 10 in a plane, and a photothermographic material after thermal development after thermal development. It has an unloading roller pair 12 that unloads the material 10 from the heating unit while correcting it into a flat shape. The photothermographic material 10 is thermally developed while being transported from the carry-in roller pair 11 to the carry-out roller pair 12. In the transporting means for transporting the photothermographic material 10 during the thermal development, a plurality of rollers 13 are provided on the side in contact with the surface having the image forming layer, and the non-woven fabric (for example, A smooth surface 14 on which polyphenylene sulfite or Teflon) is attached is installed. The back surface of the photothermographic material 10 is conveyed by sliding on the smooth surface 14 by driving a plurality of rollers 13 that come into contact with the surface having the image forming layer. As the heating means, a heater 15 is provided at an upper portion of the roller 13 and a lower portion of the smooth surface 14 so as to be heated from both sides of the photothermographic material 10. As a heating means in this case, a plate heater or the like can be used. Roller 13 and smooth surface 14
Is different depending on the member having a smooth surface, but is appropriately adjusted so that the photothermographic material 10 can be conveyed. Preferably it is 0 to 1 mm.
【0149】ローラー13の表面の材質及び平滑面14
の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料10の搬
送に支障がなければ何でも良いが、ローラー表面の材質
はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミドまた
はテフロン(PTFE)製の不織布が好ましい。加熱手
段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度を
自由に設定することが好ましい。なお、熱現像処理部の
上流の予備加熱部は、熱現像温度よりも低く(例えば1
0〜30℃程度程度低く)、熱現像感光材料中の水分量
を蒸発させるのに十分な温度および時間に設定すること
が望ましく、熱現像感光材料10の支持体のガラス転移
温度(Tg)よりも高い温度で、現像ムラが出ないよう
に設定することが好ましい。また、熱現像処理部の下流
にはガイド板16が設置され、さらに、徐冷部が設置さ
れる。ガイド板は熱伝導率の低い素材が好ましく、熱現
像感光材料に変形が起こらないようにするために冷却は
徐々に行うのが好ましい。The material of the surface of the roller 13 and the smooth surface 14
May be any material as long as it has high-temperature durability and does not hinder the conveyance of the photothermographic material 10, but the material of the roller surface is silicon rubber, and the material of the smooth surface is a nonwoven fabric made of aromatic polyamide or Teflon (PTFE). Is preferred. It is preferable to use a plurality of heaters as the heating means and to set the heating temperature freely. The preliminary heating section upstream of the thermal development processing section is lower than the thermal development temperature (for example, 1
It is desirable to set the temperature and time to be sufficient to evaporate the amount of water in the photothermographic material, and to set the glass transition temperature (Tg) of the support of the photothermographic material 10 It is preferable that the temperature is set so as not to cause uneven development at a high temperature. Further, a guide plate 16 is provided downstream of the thermal development processing section, and a slow cooling section is further provided. The guide plate is preferably made of a material having a low thermal conductivity, and is preferably cooled gradually to prevent deformation of the photothermographic material.
【0150】以上、図示例に従って説明したが、これに
限らず、例えば特開平7-13294号に記載のものなど、本
発明に用いられる熱現像機は種々の構成のものであって
もよい。また、本発明において好ましく用いられる多段
加熱方法の場合は、上述のような装置において、加熱温
度の異なる熱源を2個以上設置し、連続的に異なる温度
で加熱するようにすればよい。Although the above has been described with reference to the illustrated examples, the present invention is not limited to this. For example, the thermal developing machine used in the present invention, such as that described in JP-A-7-13294, may have various structures. In the case of the multi-stage heating method preferably used in the present invention, in the above-described apparatus, two or more heat sources having different heating temperatures may be provided, and heating may be performed continuously at different temperatures.
【0151】[0151]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、
操作等は、本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更す
ることができる。したがって、本発明の範囲は以下に示
す具体例に制限されるものではない。1. ハロゲン化銀乳剤の調製(乳剤A〜Iの調製) <乳剤A>水700mlにアルカリ処理ゼラチン(カルシウ
ム含有量として2700ppm以下)11g、臭化カリウム30mgお
よび4-メチルベンゼンスルホン酸ナトリウム1.24gを溶
解して、温度65℃にてpHを6.5に合わせた後、硝酸銀18.
6gを含む水溶液159mlと臭化カリウム1モル/リットルとK
3IrCl62×10-5モル/リットル含む水溶液をpAg7.7に保ち
ながらコントロールダブルジェット法で7分間かけて添
加した。次いで、硝酸銀55.4gを含む水溶液476mlと臭化
カリウム1モル/リットルとK3IrCl62×10-5 モル/リット
ル含む水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブル
ジェット法で30分間かけて添加した。その後、pHを下げ
て凝集沈降させて脱塩処理をし、化合物Aを0.17g、平
均分子量1万5千の低分子量ゼラチン(カルシウム含有
量として20ppm以下)を加え、pH5.9、pAg7.9に調整し
た。得られた粒子は平均粒子サイズ0.16μm、投影面積
直径の変動係数9%、(100)面比率90%の立方体粒子であっ
た。このようにして得られた粒子に対し、温度を60℃に
昇温して、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを5×10-4モル加えた後、40
℃に降温させた。その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン
化銀1モルに対して12.5×10-4モルの増感色素A、7.6×
10-3モルの化合物Bを攪拌しながら添加し、20分後に30
℃に急冷してハロゲン化銀乳剤Aの調製を終了した。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.
Will be described. The materials, amounts, proportions,
Operations and the like may be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention.
Can be Therefore, the scope of the present invention is shown below.
The present invention is not limited to the specific examples.1. Preparation of silver halide emulsion (preparation of emulsions A to I) <Emulsion A> Alkali-treated gelatin (calcium
11 g, potassium bromide 30 mg
And 1.24 g of sodium 4-methylbenzenesulfonate
After adjusting the pH to 6.5 at a temperature of 65 ° C, silver nitrate 18.
159 ml of an aqueous solution containing 6 g, 1 mol / l of potassium bromide and K
ThreeIrCl62 × 10-FiveKeep the aqueous solution containing mol / liter at pAg7.7
While using the control double jet method for 7 minutes
Added. Next, 476 ml of an aqueous solution containing 55.4 g of silver nitrate and bromide
Potassium 1 mol / l and KThreeIrCl62 × 10-Five Mol / lit
Control double while maintaining aqueous solution containing pAg7.7
It was added over 30 minutes by the jet method. Then lower the pH
And subjected to desalting treatment by coagulation and sedimentation.
Low molecular weight gelatin with an average molecular weight of 15,000 (containing calcium
Adjusted to pH 5.9 and pAg 7.9.
Was. The resulting particles have an average particle size of 0.16 μm, projected area
Cubic particles with a diameter variation coefficient of 9% and a (100) face ratio of 90%
Was. The temperature of the particles obtained in this way was raised to 60 ° C.
The temperature was raised and 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3
a, 7-tetrazaindene 5 × 10-FourAfter adding mol, 40
The temperature was lowered to ° C. After that, keep the temperature at 40 ℃, halogen
12.5 × 10 per mole of silver halide-FourMolar sensitizing dye A, 7.6 ×
Ten-3Mole of compound B is added with stirring and after 20 minutes 30
The mixture was rapidly cooled to ° C. to complete the preparation of silver halide emulsion A.
【0152】<乳剤B>ハロゲン化銀粒子Aの粒子形成
温度を60℃に変更した以外は、ハロゲン化銀粒子Aと同
様に平均粒子サイズ0.14μmハロゲン化銀粒子Bを調製
した。 <乳剤C>ハロゲン化銀粒子Aの粒子形成温度を55℃に
変更した以外は、ハロゲン化銀粒子Aと同様に平均粒子
サイズ0.12μmハロゲン化銀粒子Cを調製した。 <乳剤D>ハロゲン化銀粒子Aの粒子形成温度を45℃に
変更した以外は、ハロゲン化銀粒子Aと同様に平均粒子
サイズ0.1μmハロゲン化銀粒子Dを調製した。 <乳剤E>ハロゲン化銀粒子Aの粒子形成温度を40℃に
変更した以外は、ハロゲン化銀粒子Aと同様に平均粒子
サイズ0.08μmハロゲン化銀粒子Eを調製した。 <乳剤F>ハロゲン化銀粒子Aの粒子形成温度を30℃に
変更した以外は、ハロゲン化銀粒子Aと同様に平均粒子
サイズ0.06μmハロゲン化銀粒子Fを調製した。<Emulsion B> A silver halide grain B having an average grain size of 0.14 μm was prepared in the same manner as the silver halide grain A, except that the grain formation temperature of the silver halide grain A was changed to 60 ° C. <Emulsion C> Silver halide grains C having an average grain size of 0.12 μm were prepared in the same manner as the silver halide grains A except that the grain formation temperature of the silver halide grains A was changed to 55 ° C. <Emulsion D> A silver halide grain D having an average grain size of 0.1 μm was prepared in the same manner as the silver halide grain A except that the grain formation temperature of the silver halide grain A was changed to 45 ° C. <Emulsion E> Silver halide grains E having an average grain size of 0.08 μm were prepared in the same manner as the silver halide grains A except that the grain formation temperature of the silver halide grains A was changed to 40 ° C. <Emulsion F> Silver halide grains F having an average grain size of 0.06 μm were prepared in the same manner as for the silver halide grains A except that the grain formation temperature of the silver halide grains A was changed to 30 ° C.
【0153】<乳剤G>平均粒子サイズ0.08μmハロゲ
ン化銀粒子Eに対し、温度を60℃に昇温して、銀1モル
当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム76μモルを添
加し、3分後にチオ硫酸ナトリウム154μモルを添加して
100分熟成し、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,
3a,7−テトラザインデンを5×10-4モル加えた後、4
0℃に降温させた。 <乳剤H>平均粒子サイズ0.08μmハロゲン化銀粒子E
に対し、温度を60℃に昇温して、銀1モル当たりベンゼ
ンチオスルホン酸ナトリウム76μモルを添加し、3分後
にトリエチルチオ尿素71μモルを添加して100分熟成
し、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを5×10-4モル加えた後、40℃に降温
させた。 <乳剤I>平均粒子サイズ0.06μmハロゲン化銀粒子F
に対し、温度を60℃に昇温して、銀1モル当たりベンゼ
ンチオスルホン酸ナトリウム76μモルを添加し、3分後
にトリエチルチオ尿素71μモルを添加して100分熟成
し、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを5×10-4モル加えた後、40℃に降温
させた。<Emulsion G> To the silver halide grains E having an average grain size of 0.08 μm, the temperature was raised to 60 ° C., and 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate was added per 1 mol of silver. Add 154 μmol of sodium
Aged for 100 minutes, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3
After adding 5 × 10 -4 mol of 3a, 7-tetrazaindene, 4
The temperature was lowered to 0 ° C. <Emulsion H> Silver halide grains E having an average grain size of 0.08 μm
The temperature was raised to 60 ° C., 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate was added per 1 mol of silver, and 3 minutes later, 71 μmol of triethylthiourea was added, and the mixture was ripened for 100 minutes to give 4-hydroxy-6. -Methyl-1,3,3a, 7-
After addition of 5 × 10 −4 mol of tetrazaindene, the temperature was lowered to 40 ° C. <Emulsion I> Average grain size 0.06 μm Silver halide grains F
The temperature was raised to 60 ° C., 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate was added per 1 mol of silver, and 3 minutes later, 71 μmol of triethylthiourea was added, and the mixture was ripened for 100 minutes to give 4-hydroxy-6. -Methyl-1,3,3a, 7-
After addition of 5 × 10 −4 mol of tetrazaindene, the temperature was lowered to 40 ° C.
【0154】[0154]
【化16】 Embedded image
【0155】2. 有機酸銀分散物の調製<有機酸銀A
> ヘンケル社製ベヘン酸(製品名EdenorC22-85R)8
7.6g、蒸留水423ml、5N−NaOH水溶液49.2ml、tert−ブ
チルアルコール120mlを混合し、75℃にて1時間攪拌し反
応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液を得た。別に、硝酸銀
40.4gの水溶液206.2mlを用意し、10℃にて保温した。63
5mlの蒸留水と30mlのtert-ブチルアルコールを入れた反
応容器を30℃に保温し、攪拌しながら先のベヘン酸ナト
リウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそ
れぞれ62分10秒と60分かけて添加した。この時、硝酸銀
水溶液添加開始後7分20秒間は硝酸銀水溶液のみが添加
されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添
加開始し、硝酸銀水溶液添加終了後9分30秒間はベヘン
酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このと
き、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が上がらない
ようにコントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶
液の添加系の配管は、スチームトレースにより保温し、
添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるようにスチ
ーム量をコントロールした。また、硝酸銀水溶液の添加
系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることによ
り保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸
銀水溶液の添加位置は攪拌軸を中心として対称的な配置
とし、また反応液に接触しないような高さに調節した。
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度
で20分間攪拌放置し、25℃に降温した。その後、吸引濾
過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cm
になるまで水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥
させないでウエットケーキとして保管した。得られたベ
ヘン酸銀の粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価した
ところ、平均投影面積径0.52μm、平均粒子厚み0.14μ
m、平均球相当径の変動係数15%の鱗片状の結晶であっ
た。[0155]2. Preparation of Organic Acid Silver Dispersion <Organic Acid Silver A
> Behenic acid manufactured by Henkel (Product name Edenor C22-85R) 8
7.6 g, distilled water 423 ml, 5N-NaOH aqueous solution 49.2 ml, tert-butyl
Mix 120 ml of chilled alcohol and stir at 75 ° C for 1 hour.
To give a sodium behenate solution. Separately, silver nitrate
206.2 ml of a 40.4 g aqueous solution was prepared and kept at 10 ° C. 63
5ml distilled water and 30ml tert-butyl alcohol
Keep the reaction vessel at 30 ° C and stir with the above sodium behenate.
The total volume of the lithium solution and the total volume of the aqueous silver nitrate solution were
It was added over 62 minutes, 10 seconds and 60 minutes, respectively. At this time, silver nitrate
7 minutes and 20 seconds after the start of aqueous solution addition, only silver nitrate aqueous solution is added
And then add the sodium behenate solution
9 minutes and 30 seconds after completion of the addition of the aqueous silver nitrate solution
Only the sodium acid solution was added. This and
The temperature inside the reaction vessel is 30 ° C and the liquid temperature does not rise
Was controlled as follows. In addition, sodium behenate
The piping of the liquid addition system is kept warm by steam tracing,
Make sure that the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip is 75 ° C.
The amount of the game was controlled. Addition of silver nitrate aqueous solution
The system piping is circulated by circulating cold water outside the double pipe.
And kept warm. Addition position of sodium behenate solution and nitric acid
Silver solution is added symmetrically around the stirring axis
The height was adjusted so as not to contact the reaction solution.
After addition of the sodium behenate solution, keep the temperature
For 20 minutes, and the temperature was lowered to 25 ° C. Then, suction filtration
The solid content is separated by filtration, and the solid content of the filtrate has a conductivity of 30 μS / cm.
And washed with water. The solids thus obtained are dried
Stored as a wet cake without letting it go. The obtained bee
The morphology of silver henate particles was evaluated by electron microscopy
However, average projected area diameter 0.52 μm, average grain thickness 0.14 μm
m, scale-like crystals with a coefficient of variation of 15%
Was.
【0156】つぎに、以下の方法でベヘン酸銀の分散物
を作成した。乾燥固形分100g相当のウエットケーキに
対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA-217,平均重
合度:約1700)7.4gおよび水を添加し、全体量を385g
としてからホモミキサーにて予備分散した。次に予備分
散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザ
ーM−110S−EH、マイクロフルイデックス・イン
ターナショナル・コーポレーション製、G10Zインタ
ラクションチャンバー使用)の圧力を1750kg/cm2に
調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却
操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの
前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで所望の
分散温度に設定した。こうして得たベヘン酸銀分散物に
含まれるベヘン酸銀粒子は体積加重平均直径0.52μm、
変動係数15%の粒子であった。粒子サイズの測定は、Mal
vern Instruments Ltd.製MasterSizerXにて行った。ま
た電子顕微鏡撮影により評価すると、長辺と短辺の比が
1.5、粒子厚み0.14μm、平均アスペクト比(粒子の投影
面積の円相当径と粒子厚みの比)が5.1であった。Next, a dispersion of silver behenate was prepared by the following method. To a wet cake having a dry solid content of 100 g, 7.4 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217, average degree of polymerization: about 1700) and water are added, and the total amount is 385 g.
And then predispersed with a homomixer. Next, the pressure of the predispersed undiluted solution was adjusted to 1750 kg / cm 2 with a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a G10Z interaction chamber), and This was repeated to obtain a silver behenate dispersion. In the cooling operation, a coiled heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the temperature of the refrigerant was adjusted to a desired dispersion temperature. The silver behenate particles contained in the silver behenate dispersion thus obtained have a volume-weighted average diameter of 0.52 μm,
The particles had a coefficient of variation of 15%. Particle size measurement is Mal
Vern Instruments Ltd. made MasterSizerX. When evaluated by electron microscopy, the ratio of the long side to the short side is
The particle had a thickness of 0.14 μm and an average aspect ratio of 5.1 (the ratio of the circle equivalent diameter of the projected area of the particle to the particle thickness) was 5.1.
【0157】3. 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチ
ルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン:還元剤固体微
粒子分散物の調製 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-
トリメチルヘキサン25gに対してクラレ(株)製MPポリ
マーのMP-203の20wt%水溶液を25g、日信化学(株)製サ
フィノール104Eを0.1g、メタノール2gと水48ml添加して
よく撹拌して、スラリーとして3時間放置した。その
後、1mmのジルコニアビーズを360g用意してスラリーと
一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグライン
ダーミル:アイメックス(株)製)にて3時間分散し還元
剤固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80wt
%が0.3μm以上1.0μm以下であった。[0157]3. 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethyl
Ruphenyl) -3,5,5-trimethylhexane: reducing agent solid fine
Preparation of particle dispersion 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-
Kuraray's MP poly for 25 g of trimethylhexane
25 g of a 20 wt% aqueous solution of MP-203 from Nisshin Chemical Co., Ltd.
0.1 g of Finol 104E, 2 g of methanol and 48 ml of water were added.
The mixture was stirred well and left as a slurry for 3 hours. That
After that, prepare 360g of 1mm zirconia beads and prepare slurry
Put together in the vessel and disperser (1 / 4G sand grinder)
Dermill: Imex Co., Ltd.) for 3 hours
An agent solid fine particle dispersion was prepared. Particle size is 80wt of particle
% Was 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.
【0158】4. ポリハロゲン化合物の固体微粒子分
散物の調製 ポリハロゲン化合物−Aの30gに対してクラレ(株)製
MPポリマーのMP-203を4g、化合物C0.25gと、水66gを
添加し良く撹拌し、その後0.5mmのジルコニアシリケー
トビーズを200g用意してスラリーと一緒にベッセルに入
れ、分散機(1/16Gサンドグラインダーミル:アイメッ
クス(株)製)にて5時間分散し、固体微粒子分散物を
調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm
以下であった。ポリハロゲン化合物−Bについてもポリ
ハロゲン化合物−Aと同様に固体微粒子分散物を調製
し、同様な粒子径となった。[0158]4. Solid fine particles of polyhalogen compounds
Preparation of powder Kuraray Co., Ltd. for 30g of polyhalogen compound-A
4 g of MP-203 of MP polymer, 0.25 g of compound C, and 66 g of water
Add and stir well, then add 0.5mm zirconia silicate
Prepare 200 g of toby beads and put it in the vessel with the slurry.
And a dispersing machine (1 / 16G sand grinder mill:
5 hours, and the solid fine particle dispersion is
Prepared. Particle size, 80% by weight of particles is 0.3μm or more and 1.0μm
It was below. Polyhalogen compound-B
Prepare solid fine particle dispersion in the same manner as halogen compound-A
And had the same particle diameter.
【0159】5. 造核剤の固体微粒子分散物の調製 表4に記載の造核剤10gに対して、ポリビニルアルコー
ル(クラレ製PVA-217)2.5g、水87.5gを添加し良く攪拌
してスラリーとして3時間放置した。その後、0.5mmのジ
ルコニアビーズを240g用意してスラリーと一緒にベッセ
ルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイ
メックス(株)製)にて10時間分散し、固体微粒子分散
物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.1μm以上1.
0μm以下で、平均粒径0.5μmであった。[0159]5. Preparation of solid fine particle dispersion of nucleating agent For 10 g of the nucleating agent described in Table 4, polyvinyl alcohol
2.5 g of water (Kuraray PVA-217) and 87.5 g of water
And left as a slurry for 3 hours. Then, 0.5mm
Prepare 240g of luconia beads and set the slurry together with the slurry.
And a dispersing machine (1 / 4G sand grinder mill: Eye
(Mex Corporation) for 10 hours to disperse solid fine particles
Was prepared. Particle size, 80 wt% of the particles is 0.1 μm or more 1.
It was 0 μm or less and the average particle size was 0.5 μm.
【0160】6. 化合物Zの固体微粒子分散物の調製 化合物Zの30gに対して、クラレ(株)製MPポリマー
のMP-203を3gと水87ml添加してよく攪拌して、スラリー
として3時間放置した。その後、上記還元剤固体微粒子
分散物の調製と同様にして、化合物Zの固体微粒子分散
物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.
0μm以下であった。[0160]6. Preparation of solid fine particle dispersion of compound Z For 30 g of compound Z, MP polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd.
3g of MP-203 and 87ml of water were added and stirred well,
Left for 3 hours. Then, the reducing agent solid fine particles
Dispersion of solid fine particles of compound Z in the same manner as in the preparation of the dispersion
Was prepared. The particle size is 80% by weight of the particles 0.3μm or more 1.
It was 0 μm or less.
【0161】7. 乳剤層塗布液の調製 上記で作成した有機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対し
て、以下のバインダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤
を添加して、水を加えて、乳剤層塗布液とした。 バインダー;ラックスター3307B 固形分として 397g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 149g ポリハロゲン化合物-A 固形分として 0.06モル ポリハロゲン化合物-B 固形分として 0.02モル 造核剤 表4に記載の種類および量(モル) 式(A)の化合物 表4に記載の種類および量(モル) エチルチオスルホン酸ナトリウム 0.30g ベンゾトリアゾール 1.04g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA-235) 10.8g 6-iso-プロピルフタラジン 15.0g オルトりん酸二水素ナトリウム・2水和物 0.37g 化合物Z 固形分として 9.7g 染料A 783nmの光学濃度が0.3になる塗布量(目安として0.37g) ハロゲン化銀乳剤A〜I Ag量として0.06モル[0161]7. Preparation of emulsion layer coating solution Based on 1 mol of silver of the organic acid silver microcrystal dispersion prepared above
And the following binders, materials, and silver halide emulsions
Was added, and water was added to obtain an emulsion layer coating solution. Binder; Luckstar 3307B 397 g as solid content (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5 , 5-Trimethylhexane 149 g as solid content Polyhalogen compound-A 0.06 mol as solid content Polyhalogen compound-B 0.02 mol as solid content Nucleating agent Kind and amount (mol) shown in Table 4 Compound of formula (A) Table Kind and amount (mol) described in 4 sodium ethylthiosulfonate 0.30 g benzotriazole 1.04 g polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd. PVA-235) 10.8 g 6-iso-propylphthalazine 15.0 g sodium dihydrogen orthophosphate • Dihydrate 0.37 g Compound Z 9.7 g as solid content Dye A Amount of coating that gives an optical density of 783 nm of 0.3 (0.37 g as a standard) 0.06 mol as silver halide emulsions A to IAg
【0162】[0162]
【化17】 Embedded image
【0163】8. 乳剤面下層保護層塗布液の調製 メチルメタクリレート/スチレン/2-エチルヘキシルア
クリレート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アク
リル酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2(wt%)の粒子径120
nmのポリマーラテックス溶液(共重合体でガラス転移温
度57℃、固形分濃度として21.5wt%、造膜助剤として化
合物Dをラテックスの固形分に対して15wt%含有)956g
にH2Oを加え、化合物E 1.62g、マット剤(ポリスチレ
ン粒子、平均粒径7μm)1.98gおよびポリビニルアルコ
ール(クラレ(株)製,PVA-235)23.6gを加え、さらにH2
Oを加えて、塗布液を調製とした。[0163]8. Preparation of coating solution for lower protective layer of emulsion surface Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexylurea
Acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / ac
Particle size 120 of lylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2 (wt%)
nm polymer latex solution (glass transition temperature of copolymer
Degree 57 ° C, 21.5wt% solids concentration
Compound D containing 15 wt% based on the solid content of the latex) 956 g
To HTwoO, compound E 1.62 g, matting agent (polystyrene)
Particles, average particle size 7μm) 1.98g and polyvinyl alcohol
23.6 g of Kuraray (Kuraray Co., Ltd., PVA-235)Two
O was added to prepare a coating solution.
【0164】9. 乳剤面上層保護層塗布液の調製 メチルメタクリレート/スチレン/2-エチルヘキシルア
クリレート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アク
リル酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2(wt%)の粒子径70n
mのポリマーラテックス溶液(共重合体でガラス転移温
度54℃、固形分濃度として21.5wt%、造膜助剤として化
合物Dをラテックスの固形分に対して15wt%含有)630g
にH2Oを加え、カルナヴァワックス(中京油脂(株)
製、セロゾール524)30wt%溶液6.30g、化合物E 0.72
g、化合物F 7.95g、化合物G 0.01モル、マット剤
(ポリスチレン粒子、平均粒径7μm、粒度分布9%)1.
18gおよびポリビニルアルコール(クラレ(株)製,PVA-2
35)8.30gを加え、さらにH2Oを加えて、塗布液を調製と
した。[0164]9. Preparation of coating solution for protective layer on emulsion surface Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexylurea
Acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / ac
Lyric acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2 (wt%) particle size 70n
m polymer latex solution (copolymer glass transition temperature
54 ° C, solid content concentration 21.5wt%, used as film-forming aid
Compound D (containing 15wt% based on the solid content of latex) 630g
To HTwoAdd O, Carnava wax (Chukyo Yushi Co., Ltd.)
Manufactured by Cellosol 524) 30 wt% solution 6.30 g, Compound E 0.72
g, compound F 7.95 g, compound G 0.01 mol, matting agent
(Polystyrene particles, average particle size 7 μm, particle size distribution 9%) 1.
18 g and polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., PVA-2
35) Add 8.30 g and add HTwoAdd O to prepare the coating solution
did.
【0165】[0165]
【化18】 Embedded image
【0166】10. バック/下塗り層のついたPET支
持体の作製 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、IV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラクロル
エタン=6/4(重量比)中25℃で測定)のPETを得
た。これをペレット化した後、130℃で4時間乾燥した
後、300℃で溶融後T型ダイから押し出した後急冷し、
熱固定後の膜厚が120μmになるような厚みの未延伸フ
イルムを作製した。これを周速の異なるロールを用い、
3.3倍に縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施
した。このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/cm2
で巻きとった。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、
厚み120μmのロールを得た。[0166]10. PET support with backing / priming layer
Production of holding body (1) Support Using terephthalic acid and ethylene glycol, follow standard methods.
IV (intrinsic viscosity) = 0.66 (phenol / tetrachlor
PET (measured at 25 ° C. in ethane = 6/4 (weight ratio))
Was. After pelletizing this, it was dried at 130 ° C. for 4 hours.
Then, after being melted at 300 ° C, extruded from a T-die and quenched,
An unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting
Ilm was made. Using rolls with different peripheral speeds,
Longitudinal stretching 3.3 times, then transverse stretching 4.5 times with a tenter
did. The temperatures at this time were 110 ° C and 130 ° C, respectively.
Was. After this, heat set at 240 ° C for 20 seconds and at the same temperature
Relaxed 4% in the lateral direction. After this, the chuck of the tenter is
After slitting, knurling both ends, 4.8kg / cm2
Rolled up. In this way, width 2.4m, length 3500m,
A roll having a thickness of 120 μm was obtained.
【0167】 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックス-(1)(コア部90wt%、シェル部10wt%のコアシェルタイ プのラテックスで、コア部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタ クリレート/アクリロニトリル/アクリル酸=93/3/3/0.9/0.1(wt%)、シェル 部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/アクリロニ トリル/アクリル酸=88/3/3/3/3(wt%)から成る重量平均分子量38000のポリマ ーラテックス) 固形分量として 3.0g/m2 2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン 23mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm、粒度分布9%) 1.5mg/m2 (2) Undercoat layer (a) Polymer latex- (1) (a core-shell type latex having a core portion of 90 wt% and a shell portion of 10 wt%, core portion: vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic) Acid = 93/3/3 / 0.9 / 0.1 (wt%), shell: weight consisting of vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 88/3/3/3/3 (wt%) Polymer latex with average molecular weight of 38000) 3.0 g / m3 as solid contentTwo 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 23mg / mTwo Matting agent (polystyrene, average particle size 2.4 μm, particle size distribution 9%) 1.5 mg / mTwo
【0168】 (3)下塗り層(b) 脱イオン処理ゼラチン (Ca2+含量0.6ppm、ゼリー強度230g) 50mg/m2 (4)導電層 ジュリマーET-410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(分子量約10000、Ca2+含量30ppm) 42mg/m2 脱イオン処理ゼラチン(Ca2+含量0.6ppm) 8mg/m2 化合物A 0.2mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10mg/m2 スミテックスレジンM-3 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 18mg/m2 染料A 783nmの光学濃度が1.2になる塗布量 SnO2/Sb(9/1重量比、針状微粒子、長軸/短軸=20〜30、 石原産業(株)製) 160mg/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μm) 7mg/m2 (3) Undercoat layer (b) Deionized gelatin (Ca2+Content 0.6ppm, jelly strength 230g) 50mg / mTwo (4) Conductive layer Jurimar ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96mg / mTwo Alkali-treated gelatin (molecular weight about 10,000, Ca2+Content 30ppm) 42mg / mTwo Deionized gelatin (Ca2+Content 0.6ppm) 8mg / mTwo Compound A 0.2mg / mTwo Polyoxyethylene phenyl ether 10mg / mTwo Sumitex Resin M-3 (Water-soluble melamine compound, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 18mg / mTwo Dye A Coating amount at which the optical density of 783 nm becomes 1.2 SnO2 / Sb (9/1 weight ratio, needle-like fine particles, major axis / minor axis = 20 to 30, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 160 mg / mTwo Matting agent (polymethyl methacrylate, average particle size 5μm) 7mg / mTwo
【0169】 (5)保護層 ポリマーラテックス−(2) (メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸 =59/9/26/5/1(重量%の共重合体)) 固形分量として 1000mg/m2 ポリスチレンスルホン酸塩(分子量1000〜5000) 2.6mg/m2 セロゾール524(中京油脂(株)) 25mg/m2 スミテックスレジンM-3 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 218mg/m2 (6)バック/下塗り層のついたPET支持体の作製 支持体(ベース)の両面に下塗り層(a)と下塗り層(b)を
順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した上の一方の側
の面に導電層と保護層を順次塗布し、それぞれ180℃、4
分間乾燥して、バック/下塗り層のついたPET支持体を
作製した。下塗り層(a)の乾燥厚みは2.0μmであっ
た。(5) Protective Layer Polymer Latex- (2) (Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (weight% copolymer) )) 1000mg / m as solid contentTwo Polystyrene sulfonate (molecular weight 1000-5000) 2.6mg / mTwo Cellsol 524 (Chukyo Yushi Co., Ltd.) 25mg / mTwo Sumitex Resin M-3 (Water-soluble melamine compound, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 218mg / mTwo (6) Preparation of PET support with back / undercoat layer An undercoat layer (a) and an undercoat layer (b) are provided on both sides of the support (base).
They were sequentially applied and dried at 180 ° C. for 4 minutes. About
One side on which the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) are applied
A conductive layer and a protective layer are sequentially applied to the surface of
Dry for 10 minutes and remove PET backing / subbing layer
Produced. The dry thickness of the undercoat layer (a) was 2.0 μm.
Was.
【0170】(7)搬送熱処理 (7-1)熱処理 このようにして作製したバック/下塗り層のついたPET
支持体を160℃設定した全長200m熱処理ゾーンに入れ、
張力3kg/cm2、搬送速度20m/分で搬送した。 (7-2)後熱処理 上記熱処理に引き続き、40℃のゾーンに15秒間通して後
熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力は10
kg/cm2であった。(7) Heat treatment for transport (7-1) Heat treatment The PET with back / undercoat layer produced in this way
Place the support in a heat treatment zone with a total length of 200 m set at 160 ° C,
It was transported at a tension of 3 kg / cm 2 and a transport speed of 20 m / min. (7-2) Post heat treatment Following the heat treatment, post heat treatment was performed by passing through a zone at 40 ° C for 15 seconds, and winding was performed. The winding tension at this time is 10
kg / cm 2 .
【0171】[0171]
【化19】 Embedded image
【0172】11. 熱現像感光材料の作製 前記下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した側のPET支持
体の下塗り層の上に前記の乳剤層塗布液を塗布銀量1.6g
/m2になるように塗布した。さらにその上に、前記乳剤
面下層保護層塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布
量が1.31g/m2になるように乳剤塗布液と共に同時重層塗
布した。その後でその上に前記乳剤面上層保護層塗布液
をポリマーラテックスの固形分塗布量が3.02g/m2になる
ように塗布し、熱現像感光材料を作製した。得られた熱
現像感光材料の画像形成側の膜面pHは4.9、ベック平
滑度が660秒であり、反対側の膜面pHは5.9、ベック平
滑度は560であった。[0172]11. Preparation of photothermographic materials PET support on the side where the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) are applied
The above emulsion layer coating solution was coated on the undercoat layer of the body by 1.6 g of silver.
/ mTwoIt was applied so that In addition, the emulsion
Coating solution for lower layer protective layer solid content of polymer latex
1.31g / mTwoLayer coating with emulsion coating solution
Clothed. After that, the above-mentioned emulsion layer upper layer protective layer coating solution
The solid content of the polymer latex is 3.02 g / mTwobecome
To form a photothermographic material. The heat gained
The pH of the film surface on the image forming side of the developed photosensitive material is 4.9,
The lubricity is 660 seconds, the pH of the opposite membrane surface is 5.9,
The slip was 560.
【0173】12. 写真性能の評価 (露光処理)得られた熱現像感光材料を、ビーム径(ビー
ム強度の1/2のFWHM)12.56μm、レーザー出力50m
W、出力波長783nmの半導体レーザーを搭載した単チャン
ネル円筒内面方式のレーザー露光装置を使用し、ミラー
の回転数を変化させることにより露光時間を、出力値を
変えることにより露光量を調整し、2×10-8秒で露光し
た。この時のオーバーラップ係数0.449にした。 (熱現像処理)露光済みの熱現像感光材料を図1の熱現像
機を用いて、熱現像処理を行った。熱現像処理部のロー
ラー表面材質はシリコンゴム、平滑面はテフロン不織布
にして、搬送の線速度16mm/秒で予備加熱部14.4秒(予
備加熱部と熱現像処理部の駆動系は独立しており、熱現
像部との速度差は-0.5%〜-1%に設定、各予熱部の金属ロ
ーラーの温度設定、時間は第1ローラー温度65℃、2.4
秒、第2ローラー温度78℃、2.4秒、第3ローラー温度9
5℃、2.4秒、第4ローラー温度温度109℃、2.4秒、第5
ローラー温度115℃、2.4秒、第6ローラー温度120℃、
2.4秒にした)、熱現像処理部120℃(熱現像感光材料面
温度)で13.6秒、徐冷部 16秒(120℃から70℃に連続的
に16秒かけて低下させ、冷却速度としては-2.45℃/秒で
あった)で熱現像処理を行った。なお、幅方向の温度精
度は±1℃であった。各ローラー温度の設定は熱現像感
光材料の幅(例えば幅61cm)よりも両側それぞれ5cm長
くして、その部分にも温度をかけて、温度精度が出るよ
うにした。なお、各ローラーの両端部分は温度低下が激
しいので、熱現像感光材料の幅よりも5cm長くした部分
はローラー中央部よりも1〜3℃温度が高くなるように設
定し、熱現像感光材料(例えば幅61cmの中で)の画像濃
度が均質な仕上がりになるように留意した。[0173]12. Evaluation of photographic performance (Exposure treatment) The obtained photothermographic material is
FWHM of 1/2 of the beam intensity) 12.56μm, laser output 50m
W, a single channel equipped with a semiconductor laser with an output wavelength of 783 nm
Using a laser exposure device with a tunnel inner surface method, a mirror
Exposure time and output value by changing the rotation speed of
Adjust the exposure by changing-8Exposure in seconds
Was. The overlap coefficient at this time was set to 0.449. (Heat development processing)
A heat development process was performed using a machine. Row of heat development processing section
The surface material is silicon rubber and the smooth surface is Teflon non-woven fabric
And the pre-heating section for 14.4 seconds (pre-
The drive systems of the heating unit and the heat development processing unit are independent,
The speed difference from the image area is set to -0.5% to -1%.
Roller temperature setting, time is the first roller temperature 65 ℃, 2.4
Second, second roller temperature 78 ° C, 2.4 seconds, third roller temperature 9
5 ° C, 2.4 seconds, 4th roller temperature 109 ° C, 2.4 seconds, 5th
Roller temperature 115 ° C, 2.4 seconds, 6th roller temperature 120 ° C,
2.4 sec.), Heat development processing section 120 ℃ (photothermographic material surface
Temperature) for 13.6 seconds, slow cooling section 16 seconds (continuous from 120 ° C to 70 ° C)
Over 16 seconds, at a cooling rate of -2.45 ° C / sec.
Was subjected to a heat development process. Note that the temperature
The degree was ± 1 ° C. The setting of each roller temperature is
5 cm longer on both sides than the width of the optical material (eg 61 cm wide)
Then, apply the temperature to that part, and the temperature accuracy will come out
Caught. The temperature at both ends of each roller drops sharply.
Part that is 5cm longer than the width of the photothermographic material
Is set so that the temperature is 1-3 ° C higher than the center of the roller.
Image density of a photothermographic material (for example, in a width of 61 cm)
Care was taken to achieve a homogeneous finish.
【0174】(写真性能の評価)上記露光と熱現像処理を
25℃、50%RH及び20℃、20%RHの環境下で行った。
なお、熱現像感光材料はその環境下で16時間以上経時し
て、熱現像感光材料の含水量がその環境下で一定になる
ようにした後、上記露光と熱現像処理を行った。得られ
た画像の評価をマクベスTD904濃度計により可視濃度
(約560nm)により行った。測定の結果は、Dmin、感度
(Dminより1.0高い濃度を与える露光量の比の逆数の相
対値で評価し、表4に記載の熱現像感光材料1を100とし
た)、Dmax(最高濃度)、γ(コントラスト:露光量の
対数を横軸として濃度0.2と2.5の点を結ぶ直線の傾きで
表わした値)で評価した。各熱現像感光材料について上
記評価を実施した結果を表4に示す。(Evaluation of photographic performance)
The test was performed in an environment of 25 ° C., 50% RH and 20 ° C., 20% RH.
The photothermographic material was aged in the environment for at least 16 hours so that the water content of the photothermographic material was constant under the environment, and then the above-described exposure and heat development were performed. Evaluation of the obtained image was performed with a Macbeth TD904 densitometer at a visible density (about 560 nm). The measurement results were Dmin, sensitivity (evaluated by the relative value of the reciprocal of the ratio of the exposure amount giving a density higher than Dmin by 1.0, and the photothermographic material 1 shown in Table 4 was set to 100), Dmax (maximum density) , Γ (contrast: a value represented by the slope of a straight line connecting the points of density 0.2 and 2.5 with the logarithm of the exposure amount as the horizontal axis). Table 4 shows the results of the above evaluations performed on each photothermographic material.
【0175】[0175]
【表8】 [Table 8]
【0176】表4より、本発明の熱現像感光材料は、D
minが低く、Dmax(最高濃度)が高く、高γにな
ることがわかる。特に、20℃、20%RH環境下で比較サ
ンプルに対しDmax(最高濃度)が高く、高γになる
ことがわかる。感度の観点では本発明に好ましく用いら
れる化学増感された乳剤を用いた方が高感度でDmax
が高く好ましいことがわかる。また、造核剤としてホル
ミルヒドラジン系化合物よりも本発明に好ましく用いら
れる式(1)〜(3)の化合物を用いた方が好ましいこ
ともわかる。以上より、本発明の効果は明らかである。As shown in Table 4, the photothermographic material of the present invention has a D
It can be seen that min is low, Dmax (maximum density) is high, and γ is high. In particular, it can be seen that Dmax (maximum concentration) is higher than that of the comparative sample in a 20 ° C., 20% RH environment, and the γ becomes high. From the viewpoint of sensitivity, the use of the chemically sensitized emulsion preferably used in the present invention provides higher sensitivity and higher Dmax.
Is high, which is preferable. Further, it can be seen that it is preferable to use the compounds of the formulas (1) to (3), which are preferably used in the present invention, as a nucleating agent rather than a formylhydrazine-based compound. From the above, the effect of the present invention is clear.
【0177】[0177]
【発明の効果】本発明により、特に写真製版用、特にス
キャナー、イメージセッター用として、カブリが低く、
高感度かつ硬調で、高い黒化濃度(Dmax)を有し、
Dminが低い写真特性が得られる熱現像感光材料を提
供することが可能になった。According to the present invention, fog is low especially for photoengraving, especially for scanners and imagesetters.
High sensitivity and high contrast, high blackening density (Dmax),
It has become possible to provide a photothermographic material capable of obtaining photographic characteristics having a low Dmin.
【図1】熱現像機の一構成例を示す側面図である。FIG. 1 is a side view illustrating a configuration example of a heat developing machine.
10 熱現像感光材料 11 搬入ローラー対 12 搬出ローラー対 13 ローラー 14 平滑面 15 加熱ヒーター 16 ガイド板 A 予備加熱部 B 熱現像処理部 C 徐冷部 DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS 10 photothermographic material 11 carry-in roller pair 12 carry-out roller pair 13 roller 14 smooth surface 15 heating heater 16 guide plate A preheating section B heat development processing section C slow cooling section
Claims (5)
ン化銀およびバインダーを有する熱現像感光材料におい
て、数平均粒子サイズが0.01μm以上0.12μm
以下の感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有
し、該画像形成層を有する側に下記式(A)で表される少
なくとも一種の化合物と少なくとも一種の造核剤とを含
有することを特徴とする熱現像感光材料。 【化1】 [式(A)において、R1、R2、R3はそれぞれ独立に
水素原子;ハロゲン原子;または炭素原子、酸素原子、
窒素原子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼン環に結
合する置換基を表す。X1、X2はそれぞれ独立に水素原
子;ハロゲン原子;または炭素原子、酸素原子、窒素原
子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼン環に結合する
置換基を表す。ただしX1、X2の少なくとも一方は−N
R4R5で表される基である。R4、R5はそれぞれ独立に
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、もしくは−C(=O)−R6、−C(=
O)−C(=O)−R6、−SO2−R6、−SO−R6、
−P(=O)(−R6)−R7で表される基である。
R6、R7はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ア
ミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基から選ばれる基である。これらの
置換基はそれぞれ隣接する基同士が結合して環を形成し
てもよい。]In a photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, the number average particle size is from 0.01 μm to 0.12 μm.
It has an image forming layer containing the following photosensitive silver halide, and contains, on the side having the image forming layer, at least one compound represented by the following formula (A) and at least one nucleating agent. A photothermographic material comprising: Embedded image [In the formula (A), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; or a carbon atom, an oxygen atom,
Represents a substituent bonded to a benzene ring by a nitrogen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom. X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituent bonded to a benzene ring by a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom. Provided that at least one of X 1 and X 2 is -N
It is a group represented by R 4 R 5 . R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group,
An aryl group or —C (= O) —R 6 , —C (=
O) -C (= O) -R 6, -SO 2 -R 6, -SO-R 6,
-P (= O) (- R 6) a group represented by -R 7.
R 6 and R 7 are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group and a heterocyclic oxy group. is there. These substituents may be bonded to each other to form a ring. ]
のであり、かつ化学増感剤で化学増感されていることを
特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive silver halide is formed in advance and is chemically sensitized with a chemical sensitizer.
るイオウ増感剤をであることを特徴とする請求項2に記
載の熱現像感光材料。 【化2】 [式(S)において、R11〜R14はそれぞれ独立に、水
素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしく
は無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアラル
キル基、置換もしくは無置換のアリール基、含窒素へテ
ロ環基、アシル基である。R11とR12、R13とR14、R
11とR13又はR12とR14は互いに結合して炭素原子、窒
素原子、酸素原子またはイオウ原子を含む5員、6員又
は7員環を形成してもよい。]3. The photothermographic material according to claim 2, wherein the chemical sensitizer is a sulfur sensitizer represented by the following general formula (S). Embedded image [In the formula (S), R 11 to R 14 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted aryl. Group, nitrogen-containing heterocyclic group and acyl group. R 11 and R 12 , R 13 and R 14 , R
11 and R 13 or R 12 and R 14 may combine with each other to form a 5-, 6- or 7-membered ring containing a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. ]
アルケン誘導体、下記式(2)で表される置換イソオキサ
ゾール誘導体、あるいは下記式(3)で表されるアセター
ル化合物から選ばれる化合物を少なくとも1種使用する
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の熱現
像感光材料。 【化3】 [式(1)において、R21,R22,R23は、それぞれ独立
に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基また
はシリル基を表す。式(1)においてR21とZ、R22とR
23、R21とR22、およびR23とZは、互いに結合して環
状構造を形成していてもよい。式(2)においてR24は、
置換基を表す。式(3)においてX,Yはそれぞれ独立に
水素原子または置換基を表し、AおよびBはそれぞれ独
立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、
ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘテロ環アミ
ノ基を表す。式(3)においてXとY、およびAとBは、
互いに結合して環状構造を形成していてもよい。]4. A nucleating agent selected from a substituted alkene derivative represented by the following formula (1), a substituted isoxazole derivative represented by the following formula (2), or an acetal compound represented by the following formula (3): 4. The photothermographic material according to claim 1, wherein at least one compound is used. Embedded image [In the formula (1), R 21 , R 22 and R 23 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (1), R 21 and Z, R 22 and R
23 , R 21 and R 22 , and R 23 and Z may combine with each other to form a cyclic structure. In the formula (2), R 24 is
Represents a substituent. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group,
Represents a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In the formula (3), X and Y, and A and B are
They may combine with each other to form a ring structure. ]
層のバインダーの50重量%以上として−30℃以上4
0℃以下のガラス転移温度を有するポリマーのラテック
スが用いられることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
かに記載の熱現像感光材料。5. A temperature of at least -30 ° C. and at least 50% by weight of the binder of the image forming layer containing the photosensitive silver halide.
5. The photothermographic material according to claim 1, wherein a latex of a polymer having a glass transition temperature of 0 [deg.] C. or less is used.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12824399A JP2000321713A (en) | 1999-05-10 | 1999-05-10 | Heat developable photosensitive material |
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