JP2000347345A - Photosensitive heat-developable image forming material - Google Patents

Photosensitive heat-developable image forming material

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JP2000347345A
JP2000347345A JP19501199A JP19501199A JP2000347345A JP 2000347345 A JP2000347345 A JP 2000347345A JP 19501199 A JP19501199 A JP 19501199A JP 19501199 A JP19501199 A JP 19501199A JP 2000347345 A JP2000347345 A JP 2000347345A
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JP
Japan
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group
general formula
silver
photosensitive
dispersion
Prior art date
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Pending
Application number
JP19501199A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuta Fukui
康太 福井
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the photosensitive heat-developable image forming material good in surface conditions and superior in storage stability for forming a photographic printing plate (especially for a scanner and an image setter) and for a medical image. SOLUTION: The photosensitive heat-developable image forming material contains (a) a photosensitive silver halide (b) a non-photosensitive reducible organic silver salt, (c) a reducing agent, (d) a binder, and (e) a dispersed antifoggant having an average particle diameter of <=0.3 μm and a maximum particle diameter of <=2 μm salt, on at least one same side of a support and this antifoggant is composed of compounds represented by the formula in which Q is an alkyl or aryl or heterocyclic group; each of X1 and X2 is, independently, a halogen atom; Z is an H atom or an electron withdrawing group; Y is a-C(=0) or -SO- or a -SO2-group; and (m) is 0 or 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は感光性熱現像画像形
成材料に関する。さらに詳しくは、本発明は、写真製版
用途、医療用途に適した、レーザー光を走査して感光材
料に画像を記録するレーザー露光感光性熱現像画像形成
材料に関する。
The present invention relates to a photosensitive heat-developable image forming material. More specifically, the present invention relates to a laser-exposed photosensitive heat-developable image forming material suitable for photoengraving and medical applications, which scans a laser beam and records an image on the photosensitive material.

【0002】[0002]

【従来の技術】支持体上に感光層を有し、画像露光する
ことで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により画像を形成する技
術が挙げられる。近年写真製版分野において環境保全、
省スペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれてい
る。そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イ
メージセッターにより効率的に露光させることができ、
高解像度および鮮明さを有する鮮明な黒色画像を形成す
ることができる写真製版用途の感光性熱現像材料に関す
る技術が必要とされている。これら感光性熱現像材料で
は、溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環
境を損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給
することができる。
2. Description of the Related Art There are many known photosensitive materials having a photosensitive layer on a support and forming an image by exposing the image. Among them, a technique for forming an image by thermal development is a system that can simplify environmental preservation and image forming means. In recent years, environmental preservation in the photoengraving field,
From the viewpoint of space saving, it is strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid. There, you can use a laser scanner or a laser imagesetter to make the exposure more efficient,
There is a need for a technique relating to a photothermographic material for photolithography that can form a sharp black image having high resolution and sharpness. These photosensitive heat-developable materials eliminate the use of solution-based processing chemicals, and can provide customers with a simpler heat-development system that does not damage the environment.

【0003】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、およびD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermally Proces
sed Silver Systems)A」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and M
aterials) Neblette第8版、スタージ(Sturge)、V.
ウォールワーズ(Walworth)、A.シェップ(Shepp)
編集、第2頁、1969年)に記載されている。このような
感光材料は、還元可能な非感光性の銀源(例えば有機銀
塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化銀)、お
よび銀の還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場
合に、還元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。
[0003] A method of forming an image by heat development is described in, for example, US Pat.
Morgan and B.A. "Thermal Proces Silver System (Thermally Proces)" by Shely
sed Silver Systems) A "(Imaging Processes and Materials
aterials) Neblette 8th edition, Sturge, V.E.
Walworth, A .; Shepp
Edited, page 2, 1969). Such photosensitive materials are prepared by dispersing a reducible non-photosensitive silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a silver reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in. The photosensitive material is stable at room temperature, but when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure, silver is reduced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. Generate This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the reducible silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.

【0004】従来、熱現像により画像を形成する方法
は、有機溶剤を用いた塗布液を塗布して感光材料を作成
することがほとんどであったが、環境上、人体への影響
の観点で有機溶剤の使用は好ましくなく、水系の塗布液
を用いて感光材料が作成されることが望まれている。水
系塗布液を用いて塗布することは、特願平10-41304号、
特願平9-287891号、特願平10-213487号などに開示され
ているが、感光材料の面状(特にピンホール)や保存性
の点で問題があり、改善すべき課題が残されている。
Conventionally, in the method of forming an image by heat development, a photosensitive material is prepared by applying a coating solution using an organic solvent in most cases. The use of a solvent is not preferred, and it is desired that a photosensitive material be prepared using an aqueous coating solution. Application using an aqueous coating solution is disclosed in Japanese Patent Application No. 10-41304,
It is disclosed in Japanese Patent Application Nos. 9-287891 and 10-213487, but there are problems with the surface properties (especially pinholes) and storability of the photosensitive material, and there are still issues to be improved. ing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの従来
技術の問題点を解決することを課題とした。すなわち、
本発明は、写真製版用(特にスキャナー、イメージセッ
ター用)、医療画像用として、面状が良く、保存性に優
れる感光性熱現像画像形成材料を提供することを解決す
べき課題とした。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve these problems of the prior art. That is,
An object of the present invention is to provide a photosensitive heat-developable image forming material having a good surface condition and excellent storability for photoengraving (especially for scanners and imagesetters) and for medical images.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、平均粒子サイ
ズが0.3μm以下で最大粒子サイズが2μm以下であ
るカブリ防止剤分散物を使用することにより、所望の効
果を奏する優れた感光性熱現像画像形成材料を提供しう
ることを見出し、本発明を提供するに至った。すなわ
ち、本発明は、支持体の少なくとも一方の同一面上に、
(a)感光性ハロゲン化銀、(b)非感光性の還元可能
な有機銀塩、(c)還元剤、(d)バインダー、(e)
カブリ防止剤分散物を含有し、該カブリ防止剤分散物の
平均粒子サイズが0.3μm以下で最大粒子サイズが2
μm以下であることを特徴とする感光性熱現像画像形成
材料を提供するものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, it has been found that an antifoggant having an average particle size of 0.3 μm or less and a maximum particle size of 2 μm or less is dispersed. It has been found that the use of a product can provide an excellent photosensitive heat-developable image forming material exhibiting a desired effect, and have led to the present invention. That is, the present invention, on at least one same surface of the support,
(A) photosensitive silver halide, (b) non-photosensitive reducible organic silver salt, (c) reducing agent, (d) binder, (e)
An antifoggant dispersion having an average particle size of 0.3 μm or less and a maximum particle size of 2 μm or less.
The present invention provides a photosensitive heat-developable image forming material having a thickness of not more than μm.

【0007】本発明において好ましくは、カブリ防止剤
は、一般式(I)または一般式(II)の化合物あるい
は一般式(II)の化合物が一つの炭素原子を介して結
合したビスフェノール構造を有する化合物である。
In the present invention, preferably, the antifoggant is a compound having a bisphenol structure in which the compound of the general formula (I) or the general formula (II) or the compound of the general formula (II) is bonded via one carbon atom. It is.

【化3】 [一般式(I)中、Qはアルキル基、アリール基または
ヘテロ環基を表し、X1およびX2はそれぞれ独立にハロ
ゲン原子を表す。Zは水素原子または電子吸引性基を表
す。Yは−C(=O)−、−SO−または−SO2−を
表す。mは0または1を表す。一般式(II)中、Mは
水素原子またはk価の陽イオンを表し、Rは置換基を表
す。nは0〜4の整数で、n≧2の時、複数個あるR
は、同一でも異なっていても良い。kは1以上の整数で
あり、Mが水素原子の時k=1である。] 本発明の一態様では、カブリ防止剤分散物は固体微粒子
分散物である。本発明の別の態様では、カブリ防止剤分
散物は乳化分散物である。
Embedded image [In the general formula (I), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom. Z represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group. Y is -C (= O) -, - SO- or -SO 2 - represents a. m represents 0 or 1. In the general formula (II), M represents a hydrogen atom or a k-valent cation, and R represents a substituent. n is an integer of 0 to 4, and when n ≧ 2, a plurality of R
May be the same or different. k is an integer of 1 or more, and when M is a hydrogen atom, k = 1. In one aspect of the invention, the antifoggant dispersion is a solid particulate dispersion. In another aspect of the invention, the antifoggant dispersion is an emulsified dispersion.

【0008】本発明の感光性熱現像画像形成材料は好ま
しくは、更に超硬調化剤を有する。本発明において好ま
しくは、超硬調化剤として下記一般式(III)〜(V)で
表される置換アルケン誘導体、置換イソオキサゾール誘
導体、および特定のアセタール化合物の少なくとも1種
が用いられる。
[0008] The photosensitive heat-developable image-forming material of the present invention preferably further comprises a super-high contrast agent. In the present invention, at least one of a substituted alkene derivative, a substituted isoxazole derivative and a specific acetal compound represented by the following general formulas (III) to (V) is preferably used as the super-high contrast agent.

【化4】 [一般式(III)に於いてR1,R2,R3は、それぞれ独立に
水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基または
シリル基を表す。一般式(III)に於いてR1とZ、R2
3、R1とR2、或いはR3とZは、互いに結合して環状
構造を形成していてもよい。一般式(IV)に於いてR
4は、置換基を表す。一般式(V)に於いてX,Yはそれぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、A,Bはそれぞ
れ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルア
ミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環アミノ基を表す。一般式(V)に於いてXとY、あるい
はAとBは、互いに結合して環状構造を形成していても
よい。]
Embedded image [In the general formula (III), R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the general formula (III), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , or R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the general formula (IV), R
4 represents a substituent. In the general formula (V), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group. , A heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group. In the general formula (V), X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. ]

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下において、本発明の感光性熱
現像画像形成材料の実施態様および実施方法について詳
細に説明する。本発明の感光性熱現像画像形成材料は、
支持体の少なくとも一方の同一面上に感光性ハロゲン化
銀と非感光性の還元可能な有機銀塩と還元剤とバインダ
ーとを含有し、支持体に対して同一平面状に平均粒子サ
イズが0.3μm以下で最大粒子サイズが2μm以下で
あるカブリ防止剤分散物を含有することを特徴とするも
のであり、これにより、最高濃度部でピンホールのない
熱現像画像形成材料が得られる。これに対して、カブリ
防止剤分散物を用いずに水に可溶なカブリ防止剤を用い
ると画像保存性が悪化し、有機溶剤にカブリ防止剤を溶
かして添加すると塗布面状が大きく悪化してしまう。さ
らに、平均粒子サイズが0.3μmを超え、最大粒子サ
イズが2μmを超えるカブリ防止剤を用いた場合には、
最高濃度部でピンホールが発生し、保存性が悪化する。
ピンホール発生は硬調で最高濃度の高いことが要求され
る超硬調化剤を含有する写真製版用感光材料で、特に顕
著に現われ、本発明の手段は効果的である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the following, embodiments and methods of the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention are described in detail. The photosensitive heat-developable image forming material of the present invention is
A photosensitive silver halide, a non-photosensitive reducible organic silver salt, a reducing agent and a binder are contained on at least one same surface of the support, and the average particle size is 0 in the same plane as the support. It is characterized by containing an antifoggant dispersion having a maximum particle size of not more than 0.3 μm and a maximum particle size of not more than 2 μm, whereby a heat-developable image-forming material having no pinholes in the highest density portion can be obtained. On the other hand, if a water-soluble antifoggant is used without using an antifoggant dispersion, the image storability deteriorates, and when the antifoggant is dissolved in an organic solvent and added, the coated surface condition is greatly deteriorated. Would. Further, when using an antifoggant having an average particle size exceeding 0.3 μm and a maximum particle size exceeding 2 μm,
Pinholes occur in the highest concentration area, and the storage stability deteriorates.
The occurrence of pinholes is particularly prominent in a photographic plate-making photosensitive material containing a super-high contrast agent which is required to have a high contrast and a high maximum density, and the means of the present invention is effective.

【0010】先ず、本発明で用いるカブリ防止剤分散物
について説明する。本発明で用いられるカブリ防止剤分
散物の原料となるカブリ防止剤は、1種類のもの単独で
使用しても2種類以上のものを組合せて使用してもよ
い。また、カブリ防止剤の安定剤または安定剤前駆体を
併用してもよい。本発明での使用に適当なカブリ防止
剤、安定剤および安定剤前駆体は、米国特許第2,131,03
8号および同第2,694,716号に記載のチアゾニウム塩、米
国特許第2,886,437号および同第2,444,605号に記載のア
ザインデン、米国特許第2,728,663号に記載の水銀塩、
米国特許第3,287,135号に記載のウラゾール、米国特許
第3,235,652号に記載のスルホカテコール、英国特許第6
23,448号に記載のオキシム、ニトロン、ニトロインダゾ
ール、米国特許第2,839,405号に記載の多価金属塩、米
国特許第3,220,839号に記載のチウロニウム塩、ならび
に米国特許第2,566,263号および同第2,597,915号に記載
のパラジウム、白金および金塩、米国特許第4,108,665
号および同第4,442,202号に記載のハロゲン置換有機化
合物、米国特許第4,128,557号および同第4,137,079号、
第4,138,365号および同第4,459,350号に記載のトリアジ
ンならびに米国特許第4,411,985号に記載のリン化合
物、特願平11−5709号記載の式(I)化合物のサリチル
酸誘導体などである。
First, the antifoggant dispersion used in the present invention will be described. The antifoggant used as the raw material of the antifoggant dispersion used in the present invention may be used alone or in combination of two or more. Further, a stabilizer or a stabilizer precursor of an antifoggant may be used in combination. Antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors suitable for use in the present invention are described in U.S. Pat.
No. 8 and 2,694,716 thiazonium salt, U.S. Pat.Nos. 2,886,437 and 2,444,605 Azaindene, U.S. Pat.No. 2,728,663 Mercury salt,
Urazole described in U.S. Pat.No. 3,287,135, sulfocatechol described in U.S. Pat.
No. 23,448, oximes, nitrones, nitroindazoles, polyvalent metal salts described in U.S. Pat.No. 2,839,405, thyuronium salts described in U.S. Pat. Palladium, platinum and gold salts, U.S. Pat.No. 4,108,665
No. 4,442,202 and halogen-substituted organic compounds described in U.S. Pat.Nos. 4,128,557 and 4,137,079,
Nos. 4,138,365 and 4,459,350, triazines, phosphorus compounds described in U.S. Pat. No. 4,411,985, and salicylic acid derivatives of the compound of formula (I) described in Japanese Patent Application No. 11-5709.

【0011】本発明で用いられるカブリ防止剤分散物は
如何なる方法で分散されても構わないが、既によく知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート
あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチル
やシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機
械的に乳化分散物を作製して用いることができる。ある
いは固体分散法として知られている方法によって、カブ
リ防止剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コ
ロイドミル、あるいは超音波によって分散し用いること
ができる。本発明で用いられるカブリ防止剤分散物の平
均粒子サイズは0.3μm以下であり、好ましくは0.
01〜0.3μmであり、さらに好ましくは0.05〜
0.25μmである。最大粒子サイズは2μm以下であ
り、好ましくは0.01〜2μm、さらに好ましくは
0.05〜1.5μmである。粒子サイズ測定方法は如
何なる方法でも構わないが、HORIBA製レーザ回折/散乱
式粒度分布測定装置LA-910等で測定することができる。
本発明においては、上記したようにカブリ防止剤分散物
の平均粒子サイズおよび最大粒子サイズを制御すること
が重要である。粒子サイズの制御は、乳化分散法におい
ては、ポリビニルアルコール等の分散剤添加量、乳化時
間によってコントロールすることができる。本発明の微
細な粒子を得るためには、分散剤の増量、乳化時間を長
くすることが効果的である。しかし、分散剤を単純に増
量した場合、有機溶剤の脱溶媒時に、発砲が激しくなっ
てしまうことがあるので、消泡剤としてアルコール系
(たとえばサーフィノール104(日信化学工業社
製))等を用いることが効果的である。固体分散法にお
いては、分散時間を長くすることで一般的には微細な粒
子を得ることができる。
The antifoggant dispersion used in the present invention may be dispersed by any method. However, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate can be dispersed by a well-known emulsification dispersion method. And an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone to dissolve and mechanically produce and use an emulsified dispersion. Alternatively, the powder of the antifoggant can be dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used. The average particle size of the antifoggant dispersion used in the present invention is 0.3 μm or less, preferably 0.1 μm or less.
01 to 0.3 μm, more preferably 0.05 to 0.3 μm.
0.25 μm. The maximum particle size is 2 μm or less, preferably 0.01 to 2 μm, and more preferably 0.05 to 1.5 μm. The particle size can be measured by any method, but can be measured by a laser diffraction / scattering type particle size distribution analyzer LA-910 manufactured by HORIBA.
In the present invention, as described above, it is important to control the average particle size and the maximum particle size of the antifoggant dispersion. In the emulsification dispersion method, the particle size can be controlled by the amount of a dispersant such as polyvinyl alcohol and the emulsification time. In order to obtain the fine particles of the present invention, it is effective to increase the amount of the dispersant and lengthen the emulsification time. However, when the amount of the dispersant is simply increased, the firing may become intense at the time of removing the organic solvent. It is effective to use. In the solid dispersion method, fine particles can generally be obtained by lengthening the dispersion time.

【0012】本発明で用いるカブリ防止剤の種類は特に
限定されないが、好ましくは一般式(I)または一般式
(II)の化合物あるいは一般式(II)の化合物が一
つの炭素原子を介して結合したビスフェノール構造を有
する化合物である。先ず、本発明で用いることができる
一般式(I)の化合物について説明する。
The type of the antifoggant used in the present invention is not particularly limited. Preferably, the compound of the general formula (I) or the general formula (II) or the compound of the general formula (II) is bonded through one carbon atom. Is a compound having a modified bisphenol structure. First, the compound of the general formula (I) that can be used in the present invention will be described.

【0013】[0013]

【化5】 Embedded image

【0014】一般式(I)において、Qはアルキル基、
アリール基またはヘテロ環基を表す。Qで表されるアリ
ール基は、単環または縮環していてもよく、好ましくは
炭素数6〜30の単環または二環のアリール基(例えば
フェニル、ナフチル等)であり、より好ましくはフェニ
ル基、ナフチル基であり、更に好ましくはフェニル基で
ある。Qで表されるヘテロ環基は、N、OまたはS原子
の少なくとも一つを含む3ないし10員の飽和もしくは
不飽和のヘテロ環基であり、これらは単環であっても良
いし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ環
基として好ましくは、縮合環を有していてもよい5ない
し6員の不飽和ヘテロ環基であり、より好ましくは縮合
環を有していてもよい5ないし6員の芳香族ヘテロ環基
である。更に好ましくは窒素原子を含む5ないし6員の
芳香族ヘテロ環基であり、特に好ましくは窒素原子を1
ないし4原子含む5ないし6員の縮合環を有していても
よい芳香族ヘテロ環基である。
In the general formula (I), Q is an alkyl group,
Represents an aryl group or a heterocyclic group. The aryl group represented by Q may be monocyclic or condensed, is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group having 6 to 30 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl, etc.), and is more preferably phenyl. And a naphthyl group, and more preferably a phenyl group. The heterocyclic group represented by Q is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group containing at least one of N, O and S atoms, which may be monocyclic, It may form a condensed ring with another ring. The heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered unsaturated heterocyclic group optionally having a condensed ring, and more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring optionally having a condensed ring. Group. More preferably, it is a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group containing a nitrogen atom.
And an aromatic heterocyclic group which may have a 5- or 6-membered condensed ring containing 4 to 4 atoms.

【0015】ヘテロ環基中のヘテロ環の具体例として
は、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モル
フォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾー
ル、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピ
リダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、イ
ンダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリ
ン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジ
ン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チ
アゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズ
オキサゾール、ベンズチアゾール、ベンズセレナゾー
ル、インドレニン、テトラザインデンなどが挙げられ
る。ヘテロ環として好ましくは、イミダゾール、ピラゾ
ール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、
トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾー
ル、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノ
リン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナ
ゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナ
ントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、
オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾー
ル、ベンズチアゾール、インドレニン、テトラザインデ
ンであり、より好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピ
リミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリ
アジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾ
リン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサ
ゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベ
ンズチアゾール、テトラザインデンであり、更に好まし
くはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、
ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾー
ル、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリ
ン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾー
ル、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾールであり、特
に好ましくはピリジン、チアジアゾール、キノリン、ベ
ンズチアゾールである。
Specific examples of the heterocycle in the heterocyclic group include, for example, pyrrolidine, piperidine, piperazine, morpholine, thiophene, furan, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, Indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, benzoselenazole, india Renin, tetrazaindene and the like. Preferably as a heterocycle, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine,
Triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole,
Oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, indolenine, tetrazaindene, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline , Quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, tetrazaindene, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine,
Pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, benzimidazole and benzthiazole, particularly preferably pyridine, thiadiazole, quinoline and benzthiazole.

【0016】Qで表されるアリール基およびヘテロ環は
−(Y)m−CZ(X1)(X2)の他に置換基を有して
いても良く、置換基としては、例えばアルキル基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜1
2、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブ
チル、iso−ブチル、tert−ブチル、n−オクチ
ル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられ
る。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2
〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3
−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好
ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜12、特
に好ましくは2〜8であり、例えばプロパルギル、3−
ペンチニル等が挙げられる。)、アリール基(好ましく
は炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特
に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、
p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、
アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは
炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、
例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、ア
ルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましく
は炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であ
り、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げら
れる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜2
0、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭
素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフ
チルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましく
は炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特
に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、
ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等が挙げられ
る。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2
〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましく
は炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオ
キシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好
ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜1
0であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げ
られる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜2
0、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭
素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオ
キシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましく
は炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特
に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコ
キシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、
より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数
2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなど
が挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7
〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えば
フェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられ
る。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜2
0、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭
素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、
ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スル
ファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好まし
くは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12で
あり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、
ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなど
が挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好まし
くは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチ
ルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカル
バモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜1
6、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチ
ルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチ
オ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素
数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例
えばフェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば
メシル、トシル、フェニルスルホニルなどが挙げられ
る。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、
より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数
1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼン
スルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜1
6、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレ
イド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げら
れる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜2
0、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭
素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フ
ェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ
基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ
基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、ス
ルフィノ基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基(例えばイミダ
ゾリル、ピリジル、フリル、ピペリジル、モルホリノな
どが挙げられる。)などが挙げられる。これらの置換基
は更に置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上
ある場合は、同じでも異なっていてもよい。
The aryl group and heterocycle represented by Q may have a substituent in addition to-(Y) m -CZ (X 1 ) (X 2 ). (Preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 1 carbon atoms.
2, particularly preferably having 1 to 8 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, Cyclopropyl,
Cyclopentyl, cyclohexyl and the like can be mentioned. ), An alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably having 2 carbon atoms.
-8, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3
-Pentenyl and the like. ), Alkynyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, for example, propargyl,
Pentynyl and the like. ), An aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably having 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably having 6 to 12 carbon atoms, for example, phenyl,
p-Methylphenyl, naphthyl and the like. ),
An amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms,
For example, amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like can be mentioned. ), An alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably having 1 to 8 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, and butoxy), and an aryloxy group ( Preferably 6 to 2 carbon atoms
It has 0, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples include phenyloxy and 2-naphthyloxy. ), An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, acetyl,
Benzoyl, formyl, pivaloyl and the like can be mentioned. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 carbon atoms)
-20, more preferably 2-16 carbon atoms, particularly preferably 2-12 carbon atoms, for example, methoxycarbonyl,
Ethoxycarbonyl and the like. ), An aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 7 to 1 carbon atoms.
0, for example, phenyloxycarbonyl and the like. ), An acyloxy group (preferably having 2 to 2 carbon atoms)
It has 0, more preferably 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetoxy and benzoyloxy. ), An acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetylamino and benzoylamino), and an alkoxycarbonylamino group. (Preferably having 2 to 20 carbon atoms,
More preferably, it has 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino. ), An aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 carbon atoms)
To 16, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino. ), A sulfonylamino group (preferably having 1 to 2 carbon atoms)
0, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfonylamino,
Benzenesulfonylamino and the like. ), A sulfamoyl group (preferably having 0 to 20, more preferably 0 to 16, and particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl,
Dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like can be mentioned. ), A carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, and phenylcarbamoyl). An alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 1 carbon atoms)
6, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methylthio, ethylthio and the like. ), An arylthio group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 6 to 12 carbon atoms, such as phenylthio, etc.), and a sulfonyl group (preferably having 1 carbon atom). ~ 20, more preferably 1 carbon atom
To 16, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, mesyl, tosyl, phenylsulfonyl and the like. ), A sulfinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms,
More preferably, it has 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl and benzenesulfinyl. ), Ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 1 carbon atoms)
6, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, ureide, methylureide, phenylureide and the like. ), A phosphoric amide group (preferably having 1 to 2 carbon atoms)
It has 0, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include diethylphosphoramide and phenylphosphoramide. ), A hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom (for example, a fluorine atom,
Chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, heterocyclic group (for example, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholino, etc.) )). These substituents may be further substituted. When there are two or more substituents, they may be the same or different.

【0017】置換基として好ましくはアルキル基、アル
ケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニ
ルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、
カルバモイル基、スルホニル基、ウレイド基、リン酸ア
ミド基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキ
シル基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、より好ましくは
アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アシル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スル
ホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、
スルファモイル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、特に好ましくは
アルキル基、アリール基、ハロゲン原子である。
The substituent is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonyl. Amino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group,
A carbamoyl group, a sulfonyl group, a ureido group, a phosphoric acid amide group, a halogen atom, a cyano group, a sulfo group, a carboxyl group, a nitro group, and a heterocyclic group, and more preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group An acyl group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group,
Ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, nitro group, heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, acylamino group, sulfonylamino group,
A sulfamoyl group, a carbamoyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and a heterocyclic group, and particularly preferably an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom.

【0018】Qで表されるアルキル基は直鎖、分岐、ま
たは環状であってもよく、好ましくは炭素数1〜30の
ものであり、より好ましくは炭素数1〜15のものであ
り、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、3級オクチル基などが挙げられる。Qで表
されるアルキル基は−(Y)m−CZ(X1)(X2)の
他に置換基を有していても良く、置換基としては、Qが
ヘテロ環基、あるいはアリール基の場合にとり得る置換
基と同様なものが挙げられる。置換基として好ましく
は、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ
基、ハロゲン原子、ヘテロ環基であり、より好ましくは
アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル
アミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオ
キシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイ
ド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子であり、更に好ま
しくはアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、リ
ン酸アミド基である。これらの置換基は更に置換されて
いてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じ
でも異なっていてもよい。
The alkyl group represented by Q may be linear, branched or cyclic, and preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms. Examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and a tertiary octyl group. Alkyl group represented by Q - (Y) m -CZ (X 1) (X 2) in addition to may have a substituent, the substituent, Q is a heterocyclic group or an aryl group, And the same substituents as possible in the case of are mentioned. As the substituent, preferably an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a ureido group, and phosphorus Acid amide group, hydroxy group, halogen atom, heterocyclic group, more preferably aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, ureido group, A phosphoric amide group, a halogen atom, more preferably an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group,
An acylamino group, a sulfonylamino group, a ureido group, and a phosphoric amide group. These substituents may be further substituted. When there are two or more substituents, they may be the same or different.

【0019】Yは−C(=O)−、−SO−または−S
2−を表し、好ましくは−C(=O)−、−SO2−で
あり、より好ましくは−SO2−である。mは、0また
は1を表し、好ましくは1である。X1、X2は、それぞ
れ独立にハロゲン原子を表し、X1、X2で表されるハロ
ゲン原子は同一または互いに異なっていてもよくフッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、好まし
くは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、より好ま
しくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素
原子である。Zは水素原子または電子吸引性基を表し、
Zで表される電子吸引性基として好ましくは、ハメット
の置換基定数σp値が0.01以上の置換基であり、よ
り好ましくは0.1以上の置換基である。ハメットの置
換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistr
y, 1973,Vol.16,No.11,1207-1216 等を参考にする
ことができる。電子吸引性基としては、例えばハロゲン
原子(フッ素原子(σp値:0.06)、塩素原子(σ
p値:0.23)、臭素原子(σp値:0.23)、ヨ
ウ素原子(σp値:0.18))、トリハロメチル基
(トリブロモメチル(σp値:0.29)、トリクロロ
メチル(σp値:0.33)、トリフルオロメチル(σ
p値:0.54))、シアノ基(σp値:0.66)、
ニトロ基(σp値:0.78)、脂肪族・アリールもし
くは複素環スルホニル基(例えば、メタンスルホニル
(σp値:0.72))、脂肪族・アリールもしくは複
素環アシル基(例えば、アセチル(σp値:0.5
0)、ベンゾイル(σp値:0.43))、アルキニル
基(例えば、C≡CH(σp値:0.23))、脂肪族
・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基(例え
ば、メトキシカルボニル(σp値:0.45)、フェノ
キシカルボニル(σp値:0.44))、カルバモイル
基(σp値:0.36)、スルファモイル基(σp値:
0.57)、などが挙げられる。
Y is -C (= O)-, -SO- or -S
Represents O 2 —, preferably —C (= O) —, —SO 2 —, and more preferably —SO 2 —. m represents 0 or 1, and is preferably 1. X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom, and the halogen atoms represented by X 1 and X 2 may be the same or different from each other, and are preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom; Is a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, more preferably a chlorine atom and a bromine atom, and particularly preferably a bromine atom. Z represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group,
The electron-withdrawing group represented by Z is preferably a substituent having a Hammett's substituent constant σ p value of 0.01 or more, more preferably 0.1 or more. For the Hammett's substituent constant, see Journal of Medicinal Chemistr.
y, 1973, Vol. 16, No. 11, 1207-1216, etc. can be referred to. Examples of the electron-withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), a chlorine atom (σ
p value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.23), iodine atom (σp value: 0.18), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl ( σp value: 0.33), trifluoromethyl (σ
p value: 0.54)), a cyano group (σp value: 0.66),
Nitro group (σp value: 0.78), aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group (eg, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group (eg, acetyl (σp Value: 0.5
0), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (eg, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl (σp value: : 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value:
0.57).

【0020】Zは、好ましくは電子吸引性基であり、よ
り好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは
複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環
アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカル
ボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、
特に好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子の中
でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であ
り、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好
ましくは臭素原子である。一般式(I)で表される化合
物のうち、好ましくは下記一般式(I−a)で表される
化合物である。
Z is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, an aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, an aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, an aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl. Group, carbamoyl group, sulfamoyl group,
Particularly preferred is a halogen atom. Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferred, a chlorine atom and a bromine atom are more preferred, and a bromine atom is particularly preferred. Among the compounds represented by the general formula (I), a compound represented by the following general formula (Ia) is preferable.

【0021】[0021]

【化6】 Embedded image

【0022】式中、Qは一般式(I)におけるそれと同
義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Qが
とり得る置換基は一般式(I)におけるQがとり得る置
換基と同義である。X1、X2、Y、Zはそれぞれ一般式
(I)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲
も同様である。
In the formula, Q has the same meaning as in formula (I), and the preferred range is also the same. Further, the substituent that Q can take is the same as the substituent that Q can take in general formula (I). X 1 , X 2 , Y, and Z have the same meanings as those in formula (I), and the preferred ranges are also the same.

【0023】一般式(I)で表される化合物のうち、よ
り好ましくは一般式(I−b)で表される化合物であ
る。
Among the compounds represented by the general formula (I), more preferred are the compounds represented by the general formula (Ib).

【0024】[0024]

【化7】 Embedded image

【0025】式中、Qは一般式(I)におけるそれと同
義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Qが
とり得る置換基は一般式(I)におけるQがとり得る置
換基と同義である。X1、X2、Zは一般式(I)におけ
るそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様であ
る。以下に一般式(I)で表される化合物の具体例を挙
げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the formula, Q has the same meaning as in formula (I), and the preferred range is also the same. Further, the substituent that Q can take is the same as the substituent that Q can take in general formula (I). X 1 , X 2 and Z have the same meanings as those in formula (I), and the preferred ranges are also the same. Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0026】[0026]

【化8】 Embedded image

【0027】[0027]

【化9】 Embedded image

【0028】[0028]

【化10】 Embedded image

【0029】[0029]

【化11】 Embedded image

【0030】[0030]

【化12】 Embedded image

【0031】本発明で用いる一般式(I)で表される化
合物は、Y=−SO−、−SO2−の場合、(1)アリ
ール、或いはヘテロ環メルカプタンとα−ハロゲノ酢酸
誘導体、或いはα−ハロゲノ酢酸エステル誘導体等から
α−アリールチオ、或いはヘテロ環チオ酢酸酸誘導体を
合成し、(2)該当する酢酸誘導体を酸化・臭素化する
ことによって合成することができる。また、特開平2−
304059号等に記載されているように対応するスル
フィド誘導体を酸化・臭素化する方法や特開平2−26
4754等に記載されているように対応するスルホン誘
導体をハロゲン化する方法を利用することもできる。α
−アリールチオ、或いはヘテロ環チオ酢酸誘導体への変
換は該当するメルカプタン化合物を塩基性条件下α−ハ
ロゲノ酢酸誘導体等と反応させることにより合成するこ
とができる。α−アリールチオ、或いはヘテロ環チオ酢
酸誘導体の酸化・ハロゲン化については例えば米国特許
3874946号、欧州特許公開第60598号等に記
載されているように次亜ハロゲン酸或いは、その塩の塩
基性水溶液へα−アリールチオ、或いはヘテロ環チオ酢
酸誘導体、或いはその塩を添加・反応させることにより
酸化・ハロゲン化を同時に行うことができる。また、α
−アリールチオ、或いはヘテロ環チオ酢酸誘導体を過酸
化水素などの酸化剤を用いて予めスルホキシド、或いは
スルホニル酢酸誘導体に変換した後にハロゲン化して合
成することもできる。
When Y = —SO— or —SO 2 —, the compound represented by the general formula (I) used in the present invention is (1) aryl or heterocyclic mercaptan and α-halogenoacetic acid derivative, or α Α-arylthio or heterocyclic thioacetic acid derivative from a halogenoacetic acid ester derivative or the like, and (2) oxidation and bromination of the corresponding acetic acid derivative. In addition, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
A method for oxidizing and brominating a corresponding sulfide derivative as described in JP-A-304059 or the like;
A method of halogenating the corresponding sulfone derivative as described in 4754 and the like can also be used. α
Conversion to an arylthio or heterocyclic thioacetic acid derivative can be carried out by reacting the corresponding mercaptan compound with an α-halogenoacetic acid derivative or the like under basic conditions. Oxidation / halogenation of α-arylthio or heterocyclic thioacetic acid derivatives is described in, for example, U.S. Pat. Oxidation and halogenation can be performed simultaneously by adding and reacting an α-arylthio or heterocyclic thioacetic acid derivative or a salt thereof. Also, α
-It can also be synthesized by converting an arylthio or heterocyclic thioacetic acid derivative into a sulfoxide or a sulfonylacetic acid derivative in advance using an oxidizing agent such as hydrogen peroxide, and then halogenating the derivative.

【0032】原料として用いるアルキル、アリール或い
はヘテロ環メルカプタン類の合成法としては、例えばア
ルキル、アリールメルカプタンについては新実験化学講
座(丸善)14−III、8章8−1、ORGANIC FUNCTIONA
L GROUP PREPARATIONS(Sandler,Karo ACADEMIC PRESS
New York and Rondon)I-Chapt.18あるいはTHE CHEMIST
RY OF FUNCTIONAL GROUPS(Patai, JONE WILLY&;SON
S)"The Chemistry of the thiol group"Chapt4.に記載
のあるような種々の方法が知られており、ヘテロ環メル
カプタンについては、Comprehensive Heterocyclic Che
mistry, Pergamaon Press , 1984やHeterocyclic Compo
unds, John Wiley and Sons, Vol.1〜9,1950-1967等に
記載のあるような種々の方法が知られている。
As a method for synthesizing alkyl, aryl or heterocyclic mercaptans used as raw materials, for example, alkyl and aryl mercaptans are described in New Experimental Chemistry Course (Maruzen) 14-III, Chapter 8, 8-1, ORGANIC FUNCTIONA.
L GROUP PREPARATIONS (Sandler, Karo ACADEMIC PRESS
New York and Rondon) I-Chapt.18 or THE CHEMIST
RY OF FUNCTIONAL GROUPS (Patai, JONE WILLY &; SON
S) Various methods are known as described in "The Chemistry of the thiol group", Chapter 4. For heterocyclic mercaptans, Comprehensive Heterocyclic Che
mistry, Pergamaon Press, 1984 and Heterocyclic Compo
Various methods are known as described in unds, John Wiley and Sons, Vol. 1-9, 1950-1967 and the like.

【0033】本発明で用いる一般式(I)で表される化
合物は、Y=−C(=O)−の場合には(1)アセトフ
ェノン、或いはカルボニル置換ヘテロ環誘導体を合成
し、(2)カルボニル化合物をα−ハロゲン化すること
によって合成できる。カルボニル化合物のα−ハロゲン
化については新実験化学講座(丸善)14−I、2章な
どに記載されているような方法が利用できる。m=0の
場合は、トルエン、キシレン、あるいはメチル基を有す
るヘテロ環化合物をハロゲン化することで合成できる。
ハロゲン化の方法としては上記と同様に新実験化学講座
(丸善)14−I、2章などに記載されているような方
法が利用できる。
When the compound represented by the general formula (I) used in the present invention is Y = -C (= O)-, (1) acetophenone or a carbonyl-substituted heterocyclic derivative is synthesized, and (2) It can be synthesized by α-halogenating a carbonyl compound. For the α-halogenation of a carbonyl compound, a method described in New Experimental Chemistry Course (Maruzen) 14-I, Chapter 2, etc. can be used. When m = 0, the compound can be synthesized by halogenating a heterocyclic compound having a toluene, xylene, or methyl group.
As a halogenation method, a method as described in New Experimental Chemistry Course (Maruzen) 14-I, Chapter 2, etc. can be used in the same manner as described above.

【0034】本発明で用いる一般式(I)の化合物は粒
子サイズの小さい、凝集のない微粒子を得る目的で、分
散剤を使用した固体微粒子分散物とする方法で添加して
もよい。一般式(I)の化合物を固体微粒子分散化する
方法は、分散助剤の存在下で公知の微細化手段(例え
ば、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、サ
ンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミ
ル)を用い、機械的に分散することができる。分散剤を
使用して一般式(I)の化合物を固体微粒子化する際に
は、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸の共重合体、
マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合
体、アクリロイルメチルプロパンスルホン酸共重合体、
などの合成アニオンポリマー、カルボキシメチルデンプ
ン、カルボキシメチルセルロースなどの半合成アニオン
ポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのアニオン性ポ
リマー、特開昭52-92716号、WO88/04794号などに記載
のアニオン性界面活性剤、特願平7-350753号に記載の化
合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオ
ン性界面活性剤や、その他ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチル
セルロース等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の自
然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いること
ができる。
The compound of the general formula (I) used in the present invention may be added by a method of preparing a solid fine particle dispersion using a dispersant for the purpose of obtaining fine particles having a small particle size and without aggregation. The method of dispersing the compound of the general formula (I) into solid fine particles can be carried out by a known means for making fine particles in the presence of a dispersing agent (for example, ball mill, vibrating ball mill, planetary ball mill, sand mill, colloid mill, jet mill, roller mill) And can be dispersed mechanically. When the compound of the general formula (I) is formed into solid fine particles using a dispersant, for example, polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid,
Maleic acid copolymer, maleic acid monoester copolymer, acryloylmethylpropanesulfonic acid copolymer,
Synthetic anionic polymers such as carboxymethyl starch and carboxymethyl cellulose; anionic polymers such as alginic acid and pectic acid; and anionic surfactants described in JP-A-52-92716 and WO88 / 04794. The compounds described in Japanese Patent Application No. 7-350753, or known anionic, nonionic, cationic surfactants and other polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, etc. A polymer or a polymer compound existing in the natural world such as gelatin can be appropriately selected and used.

【0035】分散助剤は、分散前に一般式(I)化合物
の粉末またはウェットケーキ状態の一般式(I)の化合
物と混合し、スラリーとして分散機に送り込むのは一般
的な方法であるが、予め一般式(I)の化合物と混ぜ合
わせた状態で熱処理や溶媒による処理を施して粉末また
はウェットケーキとしても良い。分散前後または分散中
に適当なpH調整剤によりpHコントロールしても良い。機
械的に分散する以外にも、pHコントロールすることで溶
媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存在下でpHを変化
させて微粒子化させても良い。このとき、粗分散に用い
る溶媒として有機溶媒を使用しても良く、通常有機溶媒
は微粒子化終了後除去される。調製された分散物は、保
存時の微粒子の沈降を抑える目的で攪拌しながら保存し
たり、親水性コロイドにより粘性の高い状態(例えば、
ゼラチンを使用しゼリー状にした状態)で保存したりす
ることもできる。また、保存時の雑菌などの繁殖を防止
する目的で防腐剤を添加することもできる。
It is a general method that the dispersing aid is mixed with a powder of the compound of the general formula (I) or the compound of the general formula (I) in the form of a wet cake before dispersion and then sent to a dispersing machine as a slurry. Alternatively, a heat treatment or treatment with a solvent may be performed in a state where the compound is mixed with the compound of the general formula (I) in advance to obtain a powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion. Instead of mechanically dispersing, fine particles may be formed by coarsely dispersing in a solvent by controlling the pH and then changing the pH in the presence of a dispersing agent. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after the completion of the fine particle formation. The prepared dispersion may be stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or may be stored in a highly viscous state by a hydrophilic colloid (for example,
(In a jelly state using gelatin). Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.

【0036】一般式(I)の化合物は添加位置に限定は
なく、画像形成層(感光層や感熱層)、保護層、その他
の層に添加される。有機銀塩を含む層と同一層や、ハロ
ゲン化銀を含む層と同一層であることが特に好ましい。
一般式(I)の化合物は1種のみ用いても2種以上併用
してもよい。一般式(I)の化合物は画像形成層を有す
る面に銀1モル当たりの1×10-6 〜0.5モルの量含
まれることが好ましく、1×10-5〜1×10-1含まれ
ることがさらに好ましい。
The compound of the general formula (I) is not limited to the addition position.
No image forming layer (photosensitive layer or heat sensitive layer), protective layer, etc.
Is added to the layer. The same layer as the layer containing organic silver salt or halo
It is particularly preferred that this is the same layer as the layer containing silver genide.
The compounds of the general formula (I) may be used alone or in combination of two or more.
May be. The compound of the general formula (I) has an image forming layer
1 × 10 per mole of silver-6 Up to 0.5 mol
Preferably 1 × 10-Five~ 1 × 10-1Included
More preferably,

【0037】次に、本発明に用いることができる一般式
(II)の化合物および一般式(II)の化合物が一つ
の炭素原子を介して結合したビスフェノール構造を有す
る化合物について、詳細に説明する。一般式(II)を
下記に示す。
Next, the compound of the general formula (II) which can be used in the present invention and the compound having a bisphenol structure in which the compound of the general formula (II) is bonded via one carbon atom will be described in detail. The general formula (II) is shown below.

【0038】[0038]

【化13】 Embedded image

【0039】一般式(II)において、Mは水素原子ま
たはk価の陽イオン(例えば、ナトリウムイオン、カリ
ウムイオン、カルシウムイオン、バリウムイオン、亜鉛
イオン、鉄イオン、マンガンイオン、カドミニウムイオ
ン、クロムイオン、コバルトイオン、ルテニウムイオ
ン、ロジウムイオン、銀イオン等の金属イオン、テトラ
メチルアンモニウムイオン、テトラブチルアンモニウム
イオン等のアンモニウムイオン等)を表す。kは例示さ
れるイオンが示すように1以上の整数であり、通常1ま
たは2である。また、Mが水素原子の時k=1である。
Mは重金属イオンであることが好ましく、具体的には亜
鉛、鉄、マンガン、カドミニウム、クロム、コバルト、
ルテニウム、ロジウム、銀などのイオンである。一般式
(II)において、Rは置換基を表し、例えば直鎖、分
岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、
より好ましくは1〜12、特に好ましくは1〜8であり、
例えば、メチル、エチル、iso−プロピル、t−ブチ
ル、n−オクチル、1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル、t−アミル、シクロヘキシルなどが挙げられ
る。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より
好ましくは2〜12、特に好ましくは2〜8であり、例え
ば、ビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニルなどが
挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜
20、より好ましくは2〜12、特に好ましくは2〜8であ
り、例えば、プロパルギル、3-ペンチニルなどが挙げら
れる。)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜30、
より好ましくは7〜20、特に好ましくは7〜16であ
り、例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α−エチ
ルベンジル、ジフェニルメチル、ナフチルメチル、ナフ
チルフェニルメチルなどが挙げられる。)、アリール基
(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜20、特
に好ましくは6〜12であり、例えば、フェニル、p-メチ
ルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、アミノ基
(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは0〜10、更
に好ましくは0〜6であり、例えば、アミノ、メチルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルア
ミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは
炭素数1〜20、より好ましくは1〜12、特に好ましくは
1〜8であり、例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ
などが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは
炭素数6〜20、より好ましくは6〜16、特に好ましくは
6〜12であり、例えば、フェニルオキシ、2-ナフチルオ
キシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素
数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜
12であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、
ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニ
ル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜1
6、特に好ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、
アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜2
0、より好ましくは7〜16、特に好ましくは7〜10であ
り、例えば、フェノキシカルボニルなどが挙げられ
る。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜10であり、例
えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられ
る。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜10であり、例
えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げら
れる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは
炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは
2〜12であり、例えば、メトキシカルボニルアミノなど
が挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは7〜16、特
に好ましくは7〜12であり、例えば、フェニルオキシカ
ルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜1
6、特に好ましくは1〜12であり、例えば、メタンスル
ホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げら
れる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜2
0、より好ましくは0〜16、特に好ましくは0〜12であ
り、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、
ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなど
が挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数
0〜20、より好ましくは0〜16、特に好ましくは0〜12
であり、例えば、カルバモイル、ジエチルカルバモイ
ル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、ウレ
イド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜
16、特に好ましくは1〜12であり、例えば、ウレイド、
メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられ
る。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例
えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、
アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好まし
くは6〜16、特に好ましくは6〜12であり、例えば、フ
ェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ま
しくは1〜12であり、例えば、メシル、トシルなどが挙
げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であ
り、例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニ
ルなどが挙げられる。)、燐酸アミド基(好ましくは炭
素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1
〜12であり、例えば、ジエチル燐酸アミド、フェニル燐
酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカ
プト基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カ
ルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム基、スルフィノ
基、ヒドラジノ基、スルホニルチオ基、チオスルホニル
基、ヘテロ環基(例えば、イミダゾリル、ピリジル、フ
リル、ピペリジル、モリホリルなどが挙げられる。)、
ジスルフィド基などが挙げられる。
In the general formula (II), M is a hydrogen atom or a k-valent cation (for example, sodium ion, potassium ion, calcium ion, barium ion, zinc ion, iron ion, manganese ion, cadmium ion, chromium ion, Metal ions such as cobalt ion, ruthenium ion, rhodium ion and silver ion, and ammonium ions such as tetramethylammonium ion and tetrabutylammonium ion). k is an integer of 1 or more as shown by the exemplified ion, and is usually 1 or 2. When M is a hydrogen atom, k = 1.
M is preferably a heavy metal ion, specifically, zinc, iron, manganese, cadmium, chromium, cobalt,
It is an ion such as ruthenium, rhodium, and silver. In the general formula (II), R represents a substituent, for example, a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms,
More preferably 1 to 12, particularly preferably 1 to 8,
For example, methyl, ethyl, iso-propyl, t-butyl, n-octyl, 1,1,3,3-tetramethylbutyl, t-amyl, cyclohexyl and the like can be mentioned. ), An alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl and the like), alkynyl Group (preferably having 2 to 2 carbon atoms)
20, more preferably 2 to 12, particularly preferably 2 to 8, for example, propargyl, 3-pentynyl and the like. ), An aralkyl group (preferably having 7 to 30 carbon atoms,
It is more preferably from 7 to 20, particularly preferably from 7 to 16, and examples include benzyl, α-methylbenzyl, α-ethylbenzyl, diphenylmethyl, naphthylmethyl, naphthylphenylmethyl and the like. ), An aryl group (preferably having 6 to 30, more preferably 6 to 20, and particularly preferably 6 to 12; examples thereof include phenyl, p-methylphenyl, and naphthyl); and an amino group (preferably). Has 0 to 20, more preferably 0 to 10, and still more preferably 0 to 6 carbon atoms. Examples thereof include amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like, and an alkoxy group (preferably, It has from 1 to 20 carbon atoms, more preferably from 1 to 12, particularly preferably from 1 to 8, and includes, for example, methoxy, ethoxy, butoxy, etc., and an aryloxy group (preferably from 6 to 20, more preferably Is from 6 to 16, particularly preferably from 6 to 12, for example, phenyloxy, 2-naphthyloxy and the like.), An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, Ri preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to
12, for example, acetyl, benzoyl, formyl,
Pivaloyl and the like. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 1
6, particularly preferably 2 to 12, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like. ),
Aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 2 carbon atoms)
It is 0, more preferably 7 to 16, particularly preferably 7 to 10, and examples include phenoxycarbonyl. ), An acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as acetoxy and benzoyloxy, etc.), and an acylamino group (preferably having 1 carbon atom). -20, more preferably 2-16, particularly preferably 2-10, for example, acetylamino, benzoylamino and the like.), Alkoxycarbonylamino group (preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms) To 16, particularly preferably 2 to 12, for example, methoxycarbonylamino and the like.), An aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 to 16 carbon atoms). 12, for example, phenyloxycarbonylamino and the like), a sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, Ri is preferably 1 to 1
6, particularly preferably 1 to 12, for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like. ), A sulfamoyl group (preferably having 0 to 2 carbon atoms)
0, more preferably 0 to 16, particularly preferably 0 to 12, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl,
Dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like can be mentioned. ), A carbamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms).
And examples thereof include carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like. ), Ureido group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to
16, particularly preferably 1 to 12, for example, ureido,
Methyl ureide, phenyl ureide and the like can be mentioned. ), An alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include methylthio and ethylthio).
An arylthio group (preferably having 6 to 20, more preferably 6 to 16, particularly preferably 6 to 12, and examples thereof include phenylthio, etc.) and a sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably Is 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include mesyl and tosyl.), A sulfinyl group (preferably having 1 to 1 carbon atoms)
20, more preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like. ), A phosphoramide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 16 carbon atoms).
To 12, for example, diethylphosphoramide, phenylphosphoramide and the like. ), Hydroxy, mercapto, halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine), cyano, sulfo, carboxy, nitro, hydroxam, sulfino, sulfino, hydrazino, sulfonylthio Thiosulfonyl group, heterocyclic group (for example, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholinyl, etc.),
And a disulfide group.

【0040】これらの置換基は、更に、置換されていて
も良く、塩形成が可能な基である場合は塩を形成してい
ても良い。また、nは0〜4の整数であるが、置換基が
2つ以上ある場合、即ちn≧の2場合は、同じでも異な
っていても良い。nは1〜3が好ましく、2が最も好ま
しい。また、これらの置換基は互いに結合して5員ない
し7員環の非芳香族または芳香族の炭素環(例えばベン
ゼン環)を形成しても良い。さらに、この環は他の置換
基(例えばハロゲン原子、カルボキシ基)で置換されて
いても良い。Rで表される置換基として好ましくは、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル
基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミ
ノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド
基、アルキルチオ基、スルホニル基、ヒドロキシ基、メ
ルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カル
ボキシ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、さらに好まし
くは、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アミ
ノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、
メルカプト基、ハロゲン原子、スルホ基、カルボキシ基
である。
These substituents may be further substituted and may form a salt if the group is capable of forming a salt. In addition, n is an integer of 0 to 4, but when there are two or more substituents, that is, when n ≧ 2, they may be the same or different. n is preferably 1 to 3, and most preferably 2. These substituents may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered non-aromatic or aromatic carbon ring (for example, a benzene ring). Further, this ring may be substituted with another substituent (eg, a halogen atom, a carboxy group). The substituent represented by R is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an acyl group,
Alkoxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, alkylthio group, sulfonyl group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxy Group, a nitro group, a heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an amino group, an alkoxy group, an alkylthio group, a hydroxy group,
A mercapto group, a halogen atom, a sulfo group, and a carboxy group.

【0041】さらに、一般式(II)において、水酸基
のオルト位および/またはパラ位にアルキル基が置換す
ることが特に好ましい。また、一般式(II)の化合物
が一つの炭素を介して結合したビスフェノール構造もよ
り好ましい。この場合、一般式(II)の化合物を連結
する一つの炭素原子とは置換または未置換のメチレン基
である。メチレン基上の置換基の数は1または2であ
り、置換基としては、例えば、アルキル基(例えば、炭
素数1から6のアルキル基)、アリール基(例えば、フ
ェニル基、ナフチル基など)などが挙げられ、これら置
換基はさらにアルキル基、ハロゲン原子(塩素原子な
ど)、水酸基、ニトロ基またはカルボキシル基などの置
換基で置換されていてもよい。次に一般式(II)の化
合物および一般式(II)の化合物が一つの炭素を介し
て結合したビスフェノール構造を有する化合物の具体例
を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
Further, in the general formula (II), it is particularly preferable that the hydroxyl group is substituted with an alkyl group at the ortho position and / or the para position. Further, a bisphenol structure in which the compound of the general formula (II) is bonded via one carbon is more preferable. In this case, one carbon atom linking the compound of the general formula (II) is a substituted or unsubstituted methylene group. The number of substituents on the methylene group is 1 or 2, and examples of the substituent include an alkyl group (for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), an aryl group (for example, a phenyl group, a naphthyl group, and the like). These substituents may be further substituted with a substituent such as an alkyl group, a halogen atom (such as a chlorine atom), a hydroxyl group, a nitro group or a carboxyl group. Next, specific examples of the compound of the general formula (II) and the compound having a bisphenol structure in which the compound of the general formula (II) is bonded through one carbon atom are shown, but the present invention is not limited thereto.

【0042】[0042]

【化14】 Embedded image

【0043】[0043]

【化15】 Embedded image

【0044】[0044]

【化16】 Embedded image

【0045】[0045]

【化17】 Embedded image

【0046】[0046]

【化18】 Embedded image

【0047】[0047]

【化19】 Embedded image

【0048】一般式(II)の化合物は、市販のものを
用いても良く、また、例えば、特開平2-251838号に開示
されている方法やJ.Med.Chem,34,342(1991)に記載のサ
リチル酸とカルボニル化合物との酸触媒縮合反応等によ
って容易に合成できる。本発明の感光性熱現像画像形成
材料は、好ましくは超硬調化剤を含む。本発明で用いる
超硬調化剤の種類は特に限定されないが、好ましくは、
一般式(III),一般式(IV),および一般式(V)で表される
置換アルケン誘導体、置換イソオキサゾール誘導体、お
よび特定のアセタール化合物が用いられる。
As the compound of the general formula (II), a commercially available compound may be used. Can be easily synthesized by an acid-catalyzed condensation reaction of salicylic acid with a carbonyl compound. The photothermographic image-forming material of the present invention preferably contains a super-high contrast agent. The kind of the super-high contrast agent used in the present invention is not particularly limited, but preferably,
Substituted alkene derivatives, substituted isoxazole derivatives, and specific acetal compounds represented by the general formulas (III), (IV), and (V) are used.

【0049】[0049]

【化20】 Embedded image

【0050】一般式(III)に於いてR1,R2,R3は、そ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸
引性基を表す。一般式(III)に於いてR1とZ、R2
3、R1とR2、或いはR3とZは、互いに結合して環状
構造を形成していてもよい。一般式(IV)に於いてR
4は、置換基を表す。一般式(V)に於いてX,Yはそれぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、A,Bはそれぞ
れ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルア
ミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環アミノ基を表す。一般式(V)に於いてXとY、あるい
はAとBは、互いに結合して環状構造を形成していても
よい。一般式(III)に於いてR1,R2,R3が置換基を表
す時、置換基の例としては、例えばハロゲン原子(フッ
素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、ア
ルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチ
ン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、ヘテロ環基(Nー置換の含窒素ヘテロ環基を含
む)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えば
ピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボ
キシ基またはその塩、イミノ基、N原子で置換したイミ
ノ基、チオカルボニル基、スルホニルカルバモイル基、
アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル
基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、
シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしく
はアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキ
ル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、イソチオウレイド基、イミド基、(アルコキシもし
くはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモ
イルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド
基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイル
アミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウ
レイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルア
ミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル,アリー
ル,またはヘテロ環)チオ基、アシルチオ基、(アルキ
ルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはア
リール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スル
ファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルス
ルファモイル基またはその塩、ホスホリル基、リン酸ア
ミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、シリル基、
スタニル基等が挙げられる。これら置換基は、これら置
換基でさらに置換されていてもよい。
In the general formula (III), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group. In the general formula (III), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , or R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the general formula (IV), R
4 represents a substituent. In the general formula (V), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group. , A heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group. In the general formula (V), X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. When R 1 , R 2 and R 3 represent a substituent in the general formula (III), examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chloro atom, a bromine atom or an iodine atom) and an alkyl group (Including aralkyl groups, cycloalkyl groups, active methine groups, etc.), alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups (including N-substituted nitrogen-containing heterocyclic groups) and quaternized nitrogen atoms A heterocyclic group (eg, a pyridinio group), an acyl group, an alkoxycarbonyl group,
An aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a carboxy group or a salt thereof, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a thiocarbonyl group, a sulfonylcarbamoyl group,
Acylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group,
Cyano group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group units), aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group , Carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocycle) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, isothioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonyl Amino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, acyluree Group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group, acylthio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or A salt thereof, a sulfamoyl group, an acylsulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a phosphoryl group, a group containing a phosphate amide or phosphate ester structure, a silyl group,
And a stannyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0051】一般式(III)に於いてZで表される電子吸
引性基とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取り
うる置換基のことであり、具体的には、シアノ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、
チオカルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原
子、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンア
ミド基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホ
スホリル基、カルボキシ基、スルホ基(またはその
塩)、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル基、アシ
ルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ基、また
はこれら電子吸引性基で置換されたアリール基等であ
る。ここにヘテロ環基とは、芳香族もしくは非芳香族
の、飽和もしくは不飽和のヘテロ環基で、例えばピリジ
ル基、キノリル基、ピラジニル基、ベンゾトリアゾリル
基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒダント
インー1―イル基、ウラゾール−1−イル基、スクシン
イミド基、フタルイミド基等がその例として挙げられ
る。一般式(III)に於いてZで表される電子吸引性基
は、さらに任意の置換基を有していてもよい。一般式(I
II)に於いてZで表される電子吸引性基として好ましく
は、総炭素数0から30の以下の基、即ち、シアノ基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、カルバモイル基、チオカルボニル基、イミノ基、N
原子で置換したイミノ基、スルファモイル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、パー
フルオロアルキル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリ
ル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、または任意の電
子吸引性基で置換されたフェニル基等であり、さらに好
ましくは、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、チオカルボニル基、イミノ基、N原子で置換
したイミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アシル基、ホルミル基、ホ
スホリル基、トリフルオロメチル基、または任意の電子
吸引性基で置換されたフェニル基等であり、特に好まし
くはシアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、または
ホルミル基である。
The electron-withdrawing group represented by Z in the general formula (III) is a substituent whose Hammett's substituent constant σ p can take a positive value. Group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted by N atom,
Thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom, perfluoroalkyl group, perfluoroalkaneamide group, sulfonamide group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, carboxy group, sulfo group (Or a salt thereof), a heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, an acyloxy group, an acylthio group, a sulfonyloxy group, or an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. Here, the heterocyclic group is an aromatic or non-aromatic, saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group, a pyrazinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group, a hydantoin group. Examples thereof include a 1-yl group, a urazol-1-yl group, a succinimide group, and a phthalimide group. The electron-withdrawing group represented by Z in the general formula (III) may further have an optional substituent. General formula (I
In II), the electron-withdrawing group represented by Z is preferably a group having a total carbon number of 0 to 30 or less, that is, a cyano group,
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, thiocarbonyl group, imino group, N
Substituted with an atom-substituted imino group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, acyloxy group, acylthio group, or any electron-withdrawing group And further preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a thiocarbonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group , A formyl group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, or a phenyl group substituted with an arbitrary electron-withdrawing group, and particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, and a group substituted with an N atom. Imino group, alkylsulfonyl group, ant Rusuruhoniru group, an acyl group, or a formyl group,.

【0052】一般式(III)に於いてR1で表される置換基
として好ましくは、総炭素数0から30の基で、具体的
には上述の一般式(III)のZで表される電子吸引性基と
同義の基、およびアルキル基、アルケニル基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ
基、ウレイド基、アシルアミノ基、シリル基、または置
換もしくは無置換のアリール基であり、さらに好ましく
は上述の一般式(III)のZで表される電子吸引性基と同
義の基、置換もしくは無置換のアリール基、アルケニル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基、
シリル基、またはアシルアミノ基であり、より好ましく
は電子吸引性基、アリール基、アルケニル基、またはア
シルアミノ基である。R1が電子吸引性基を表す時、そ
の好ましい範囲はZで表される電子吸引性基の好ましい
範囲と同じである。
The substituent represented by R 1 in the general formula (III) is preferably a group having a total carbon number of 0 to 30, specifically, represented by Z in the general formula (III). A group having the same meaning as the electron-withdrawing group, and an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group,
An alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a ureido group, an acylamino group, a silyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, more preferably an electron represented by Z in the above general formula (III) Group having the same meaning as the attraction group, substituted or unsubstituted aryl group, alkenyl group, alkylthio group, arylthio group, alkoxy group,
A silyl group or an acylamino group, more preferably an electron-withdrawing group, an aryl group, an alkenyl group, or an acylamino group. When R 1 represents an electron-withdrawing group, its preferred range is the same as the preferred range of the electron-withdrawing group represented by Z.

【0053】一般式(III)に於いてR2およびR3で表さ
れる置換基として好ましくは、上述の一般式(III)のZ
で表される電子吸引性基と同義の基、アルキル基、ヒド
ロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその
塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ
環アミノ基、アシルアミノ基、置換もしくは無置換のフ
ェニル基等である。R2およびR3はさらに好ましく
は、どちらか一方が水素原子で、他方が置換基を表す時
である。その置換基として好ましくは、アルキル基、ヒ
ドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその
塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ
環アミノ基、アシルアミノ基(特にパーフルオロアルカ
ンアミド基)、スルホンアミド基、置換もしくは無置換
のフェニル基、またはヘテロ環基等であり、さらに好ま
しくはヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(ま
たはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテ
ロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテ
ロ環チオ基、アミノ基、またはヘテロ環基であり、特に
好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、アルコキシ
基、またはヘテロ環基である。
The substituent represented by R 2 and R 3 in the general formula (III) is preferably Z
A group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by, an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, Examples include a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group, and a substituted or unsubstituted phenyl group. R2 and R3 are more preferably when one of them is a hydrogen atom and the other represents a substituent. The substituent is preferably an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group. Group, an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group (particularly a perfluoroalkaneamide group), a sulfonamide group, a substituted or unsubstituted phenyl group, or a heterocyclic group, and more preferably a hydroxy group (Or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, or a heterocyclic group, and particularly preferably. It is a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, or a heterocyclic group.

【0054】一般式(III)に於いてZとR1、或いはまた
2とR3とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。
この場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環も
しくは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは5員〜7
員の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は1〜4
0、さらには3〜35が好ましい。一般式(III)で表さ
れる化合物の中で、より好ましいものの1つは、Zがシ
アノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、イミノ基、またはカルバモイル基を表し、R1が電
子吸引性基を表し、R2またはR3のどちらか一方が水素
原子で、他方がヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプ
ト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、またはヘテロ環基を表
す化合物である。さらにまた一般式(III)で表される化
合物の中でより好ましいものの1つは、ZとR1とが連
結して非芳香族の5員〜7員の環状構造を形成してい
て、R2またはR3のどちらか一方が水素原子で、他方が
ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはそ
の塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基、アミノ基、またはヘテロ環基を表す化合物であ
る。ここでZとR1とが形成する非芳香族の5員〜7員
の環状構造とは具体的に、インダン−1,3−ジオン
環、ピロリジン−2,4−ジオン環、ピラゾリジン−
3,5−ジオン環、オキサゾリジン−2,4−ジオン
環、5−ピラゾロン環、イミダゾリジン−2,4−ジオ
ン環、チアゾリジン−2,4−ジオン環、オキソラン−
2,4−ジオン環、チオラン−2,4−ジオン環、1、
3―ジオキサン−4,6−ジオン環、シクロヘキサン−
1,3−ジオン環、1,2,3,4−テトラヒドロキノ
リン−2,4−ジオン環、シクロペンタン−1,3−ジ
オン環、イソオキサゾリジン−3,5−ジオン環、バル
ビツール酸環、2,3−ジヒドロベンゾフラン−3−オ
ン環、ピラゾロトリアゾール環(例えば7H−ピラゾロ
[1,5−b][1,2,4]トリアゾール,7H−ピ
ラゾロ[5,1−c][1,2,4]トリアゾール,7
H−ピラゾロ[1,5−a]ベンズイミダゾール等)、
ピロロトリアゾール環(例えば5H−ピロロ[1,2−
b][1,2,4]トリアゾール,5H−ピロロ[2,
1−c][1,2,4]トリアゾール等)、2−シクロ
ペンテン−1,3−ジオン環、2,3−ジヒドロベンゾ
チオフェン−3−オン−1,1−ジオキシド環、クロマ
ン−2,4−ジオン環、オキサゾリン−5―オン環等が
挙げられ、中でもインダン−1,3−ジオン環、ピロリ
ジン−2,4−ジオン環、ピラゾリジン−3,5−ジオ
ン環、5−ピラゾロン環、バルビツール酸環、オキサゾ
リン−5―オン環等が好ましい。
In the general formula (III), it is also preferable that Z and R 1 , or R 2 and R 3 form a cyclic structure.
The cyclic structure formed in this case is a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring, and preferably has 5 to 7 members.
Having a total carbon number of 1 to 4 including substituents.
0, more preferably 3 to 35. Among the compounds represented by formula (III), more One of preferred, Z represents a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group,, R 1 is an electron withdrawing One of R 2 and R 3 is a hydrogen atom, and the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group. A compound representing a group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group or a heterocyclic group Furthermore, one of the more preferable compounds represented by the general formula (III) is that Z and R 1 are linked to form a non-aromatic 5- to 7-membered cyclic structure, Either 2 or R 3 is a hydrogen atom and the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, A compound representing a ring thio group, an amino group, or a heterocyclic group. Here, the non-aromatic 5- to 7-membered cyclic structure formed by Z and R 1 is specifically an indane-1,3-dione ring, a pyrrolidine-2,4-dione ring, a pyrazolidine-
3,5-dione ring, oxazolidine-2,4-dione ring, 5-pyrazolone ring, imidazolidine-2,4-dione ring, thiazolidine-2,4-dione ring, oxolane-
2,4-dione ring, thiolan-2,4-dione ring, 1,
3-dioxane-4,6-dione ring, cyclohexane-
1,3-dione ring, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline-2,4-dione ring, cyclopentane-1,3-dione ring, isoxazolidine-3,5-dione ring, barbituric acid ring, 2,3-dihydrobenzofuran-3-one ring, pyrazolotriazole ring (for example, 7H-pyrazolo [1,5-b] [1,2,4] triazole, 7H-pyrazolo [5,1-c] [1, 2,4] triazole, 7
H-pyrazolo [1,5-a] benzimidazole and the like),
Pyrrolotriazole ring (for example, 5H-pyrrolo [1,2-
b] [1,2,4] triazole, 5H-pyrrolo [2,
1-c] [1,2,4] triazole, etc.), 2-cyclopentene-1,3-dione ring, 2,3-dihydrobenzothiophen-3-one-1,1-dioxide ring, chroman-2,4 -Dione ring, oxazoline-5-one ring and the like, among which indane-1,3-dione ring, pyrrolidine-2,4-dione ring, pyrazolidine-3,5-dione ring, 5-pyrazolone ring, barbitur Acid rings and oxazolin-5-one rings are preferred.

【0055】一般式(IV)に於いてR4で表される置換基
の例としては、一般式(III)のR1〜R3の置換基につい
て説明したものと同じものが挙げられる。一般式(IV)に
於いてR4で表される置換基は、好ましくは電子吸引性
基またはアリール基である。R4が電子吸引性基を表す
時、好ましくは、総炭素数0〜30の以下の基、即ち、
シアノ基、ニトロ基、アシル基、ホルミル基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、パーフルオロアルキル基、ホス
ホリル基、イミノ基、スルホンアミド基、またはヘテロ
環基であり、さらにシアノ基、アシル基、ホルミル基、
アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモ
イル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホンアミド基、ヘテロ環基が好ましい。R4
アリール基を表す時、好ましくは総炭素数0〜30の、
置換もしくは無置換のフェニル基であり、置換基として
は、一般式(III)のR1,R2,R3が置換基を表す時にそ
の置換基として説明したものと同じものが挙げられる
が、電子吸引性基が好ましい。
Examples of the substituent represented by R 4 in the general formula (IV) are the same as those described for the substituents R 1 to R 3 in the general formula (III). The substituent represented by R 4 in the general formula (IV) is preferably an electron-withdrawing group or an aryl group. When R 4 represents an electron-withdrawing group, preferably the following groups having a total carbon number of 0 to 30, ie,
Cyano group, nitro group, acyl group, formyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, perfluoroalkyl group, phosphoryl group, imino group, sulfonamide group, Or a heterocyclic group, and further a cyano group, an acyl group, a formyl group,
Preferred are an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonamide group, and a heterocyclic group. When R 4 represents an aryl group, it preferably has a total of 0 to 30 carbon atoms,
It is a substituted or unsubstituted phenyl group, and examples of the substituent include the same as those described as the substituent when R 1 , R 2 , and R 3 in the general formula (III) represent the substituent. Electron withdrawing groups are preferred.

【0056】一般式(V)に於いてX,Yで表される置換
基としては、一般式(III)のR1〜R3 の置換基について
説明したものと同じものが挙げられる。X,Yで表され
る置換基は、好ましくは総炭素数1から50の、より好
ましくは総炭素数1から35の基であり、シアノ基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
カルバモイル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、チオカルボニル基、スルファモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、パーフ
ルオロアルキル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル
基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、
ヘテロ環基、アルキルチオ基、アルコキシ基、またはア
リール基等が好ましい。より好ましくはシアノ基、ニト
ロ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アシ
ル基、ホルミル基、アシルチオ基、アシルアミノ基、チ
オカルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、イミノ基、N原子で置換
したイミノ基、ホスホリル基、トリフルオロメチル基、
ヘテロ環基、または置換されたフェニル基等であり、特
に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニ
ル基、アシル基、アシルチオ基、アシルアミノ基、チオ
カルボニル基、ホルミル基、イミノ基、N原子で置換し
たイミノ基、ヘテロ環基、または任意の電子吸引性基で
置換されたフェニル基等である。
The substitution represented by X and Y in the general formula (V)
As the group, R of the general formula (III)1~ RThree About the substituents
The same ones as described are mentioned. Represented by X, Y
Substituents are preferably 1 to 50 carbon atoms in total, more preferably
It is preferably a group having a total carbon number of 1 to 35, a cyano group, an a
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group,
Carbamoyl group, imino group, imino substituted with N atom
Group, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkyls
Ruphonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perf
Fluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl
Group, acylamino group, acyloxy group, acylthio group,
A heterocyclic group, an alkylthio group, an alkoxy group, or an
Reel bases and the like are preferred. More preferably a cyano group, nitro
B, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, reed
Group, formyl group, acylthio group, acylamino group,
Ocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfoni
Group, arylsulfonyl group, imino group, substituted with N atom
Imino group, phosphoryl group, trifluoromethyl group,
A heterocyclic group or a substituted phenyl group;
Is preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group,
Bamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfoni
Group, acyl group, acylthio group, acylamino group, thio
Substituted with a carbonyl, formyl, imino or N atom
Imino group, heterocyclic group, or any electron-withdrawing group
And a substituted phenyl group.

【0057】XとYが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。この時、形成される環は5員〜7員環が好
ましく、具体的には一般式(III)のZとR1とが互いに結
合して形成しうる非芳香族の5員〜7員環の例と同じも
のが挙げられ、その好ましい範囲もまた同じである。こ
れらの環はさらに置換基を有していても良く、その総炭
素数は1〜40、さらには1〜35が好ましい。一般式
(V)に於いてA,Bで表される基は、さらに置換基を有
していてもよく、好ましくは総炭素数1から40の、よ
り好ましくは総炭素数1から30の基である。一般式
(V)に於いてA,Bは、これらが互いに結合して環状構
造を形成している場合がより好ましい。この時形成され
る環状構造は5員〜7員環の非芳香族のヘテロ環が好ま
しく、その総炭素数は1〜40、さらには3〜30が好
ましい。この場合に、A,Bが連結した例(−A−B−)
を挙げれば、例えば−O−(CH22−O−,−O−
(CH23−O−,−S−(CH22−S−,−S−
(CH23−S−,−S−ph−S−,−N(CH3
−(CH22−O−,−O−(CH23−S−,−N
(CH3)−ph−S−,−N(ph)−(CH22
S−等である。
It is also preferred that X and Y combine with each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. The ring formed at this time is preferably a 5- to 7-membered ring, and specifically, a non-aromatic 5- to 7-membered ring which can be formed by bonding Z and R 1 of the general formula (III) to each other. And the preferred range is also the same. These rings may further have a substituent, and the total carbon number is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 35. General formula
The group represented by A or B in (V) may further have a substituent, and is preferably a group having a total carbon number of 1 to 40, more preferably a group having a total carbon number of 1 to 30. . General formula
In (V), A and B more preferably combine with each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed at this time is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic hetero ring, and preferably has a total carbon number of 1 to 40, and more preferably 3 to 30. In this case, an example in which A and B are connected (-AB-)
By way of, for example, -O- (CH 2) 2 -O - , - O-
(CH 2) 3 -O -, - S- (CH 2) 2 -S -, - S-
(CH 2 ) 3 -S-, -S-ph-S-, -N (CH 3 )
- (CH 2) 2 -O - , - O- (CH 2) 3 -S -, - N
(CH 3 ) -ph-S-, -N (ph)-(CH 2 ) 2-
S- and so on.

【0058】一般式(III)〜一般式(V)で表される化合物
は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込
まれていてもよい。カプラ−等の不動性写真用添加剤に
おいて常用されているバラスト基またはポリマ−が組み
込まれているものでもよく、またカチオン性基(具体的
には、4級のアンモニオ基を含む基、または4級化され
た窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキ
シ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む
基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、
あるいは塩基により解離しうる解離性基(カルボキシ
基、スルホ基、アシルスルファモイル基、カルバモイル
スルファモイル基等)が含まれていてもよい。これらの
基の例としては、例えば特開昭63−29751号、米
国特許第4,385,108号、同4,459,347
号、特開昭59−195233号、同59−20023
1号、同59−201045号、同59−201046
号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号、特開平2−285344号、特開
平1−100530号、特開平7−234471号、特
開平5−333466号、特開平6−19032号、特
開平6−19031号、特開平5−45761号、米国
特許4994365号、米国特許4988604号、特
開平73−259240号、特開平7−5610号、特
開平7−244348号、独特許4006032号等に
記載の化合物が挙げられる。一般式(III)〜一般式(V)で
表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明
は以下の化合物に限定されるものではない。
The compounds represented by the general formulas (III) to (V) may have incorporated therein an adsorptive group which adsorbs to silver halide. Ballast groups or polymers commonly used in immobile photographic additives such as couplers may be incorporated, and cationic groups (specifically, groups containing a quaternary ammonium group, or A nitrogen-containing heterocyclic group containing a graded nitrogen atom), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group,
Alternatively, it may contain a dissociable group (such as a carboxy group, a sulfo group, an acylsulfamoyl group, or a carbamoylsulfamoyl group) that can be dissociated by a base. Examples of these groups include, for example, JP-A-63-29751, U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,347.
And JP-A-59-195233 and JP-A-59-20023.
No. 1, No. 59-201045, No. 59-201046
Nos. 59-201047 and 59-201048
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
Nos. 3, 61-270744, 62-948, 63-234244, 63-234245, and 6
JP-A-3-234246, JP-A-2-285344, JP-A-1-100530, JP-A-7-234471, JP-A-5-333466, JP-A-6-19032, JP-A-6-19031, JP-A-5 No. 4,5761,365, U.S. Pat. No. 4,994,365, U.S. Pat. No. 4,988,604, JP-A-73-259240, JP-A-7-5610, JP-A-7-244348, and German Patent 4006032. Specific examples of the compounds represented by the general formulas (III) to (V) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0059】[0059]

【化21】 Embedded image

【0060】[0060]

【化22】 Embedded image

【0061】[0061]

【化23】 Embedded image

【0062】[0062]

【化24】 Embedded image

【0063】一般式(III)〜一般式(V)で表される化合物
は公知の方法により容易に合成することができるが、例
えば、米国特許5545515号、米国特許56353
39号、米国特許5654130号、国際公開WO97
/34196号、或いは特願平9―354107号、特
願平9―309813号、特願平9―272002号に
記載の方法を参考に合成することができる。一般式(II
I)〜一般式(V)で表される化合物は、1種のみ用いて
も、2種以上を併用しても良い。また上記のものの他
に、米国特許5545515号、米国特許563533
9号、米国特許5654130号、米国特許57053
24号、米国特許5686228号に記載の化合物、或
いはまた特開平10―161270号、特願平9―27
3935号、特願平9―354107号、特願平9―3
09813号、特願平9―296174号、特願平9―
282564号、特願平9―272002号、特願平9
―272003号、特願平9―332388号に記載さ
れた化合物を併用して用いても良い。さらに本発明に於
いては、特開平10―161270号に記載の種々のヒ
ドラジン誘導体を組み合わせて用いることもできる。
The compounds represented by the general formulas (III) to (V) can be easily synthesized by a known method. For example, US Pat.
No. 39, US Pat. No. 5,654,130, International Publication WO97
/ 34196, or Japanese Patent Application Nos. 9-354107, 9-309813, and 9-272002. General formula (II
The compounds represented by (I) to (V) may be used alone or in combination of two or more. In addition to the above, US Pat. No. 5,545,515 and US Pat.
9, U.S. Pat. No. 5,654,130, U.S. Pat.
No. 24, the compound described in U.S. Pat.
3935, Japanese Patent Application No. 9-354107, Japanese Patent Application No. 9-3
No. 09813, Japanese Patent Application No. 9-296174, Japanese Patent Application No. 9-296
No. 282564, Japanese Patent Application No. 9-272002, Japanese Patent Application No. 9
-272003 and Japanese Patent Application No. 9-332388 may be used in combination. Further, in the present invention, various hydrazine derivatives described in JP-A-10-161270 can be used in combination.

【0064】一般式(III)〜一般式(V)で表される化合物
は、水または適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メ
タノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコ
ール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチル
セルソルブなどに溶解して用いることができる。また、
既によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフ
タレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルト
リアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイ
ル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用
いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いること
ができる。あるいは固体分散法として知られている方法
によって、一般式(III)〜一般式(V)で表される化合物の
粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。一般式(III)〜一般式(V)で表される化合物は、支持
体に対して画像記録層側の該画像記録層あるいは他のど
の層に添加してもよいが、該画像記録層あるいはそれに
隣接する層に添加することが好ましい。一般式(III)〜
一般式(V)で表される化合物の添加量は、銀1モルに対
し1×10-6〜1モルが好ましく、1×10-5〜5×1
-1モルがより好ましく、2×10-5〜2×10-1モル
が最も好ましい。
The compounds represented by the general formulas (III) to (V) can be prepared by using water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol) and ketones (acetone, methyl ethyl ketone). ,
It can be used by dissolving in dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve and the like. Also,
By an already well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate is dissolved using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and the emulsified dispersion is mechanically dispersed. It can be manufactured and used. Alternatively, by a method known as a solid dispersion method, a powder of a compound represented by the general formula (III) to the general formula (V) is dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves. Can be used. The compounds represented by the general formulas (III) to (V) may be added to the image recording layer or any other layer on the image recording layer side with respect to the support. It is preferable to add it to the layer adjacent thereto. General formula (III)-
The addition amount of the compound represented by the general formula (V) is preferably 1 × 10 −6 to 1 mol per 1 mol of silver, and 1 × 10 −5 to 5 × 1.
0 -1 mol is more preferred, and 2 × 10 -5 to 2 × 10 -1 mol is most preferred.

【0065】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記の超硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用すること
ができる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載のア
ミン化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,507
に記載のヒドロキサム酸類、具体的にはHA-1〜HA-1
1、同5,545,507に記載のアクリロニトリル類、具体的に
はCN-1〜CN-13、同5,558,983に記載のヒドラジン化
合物、具体的にはCA-1〜CA-6、特開平9−2973
68に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはA-1〜A-4
2、B-1〜B-27、C-1〜C-14などを用いることができ
る。これらの超硬調化剤、および硬調化促進剤の合成方
法、添加方法、添加量等は、それぞれの前記引用特許に
記載されているように行うことができる。
Further, the present invention provides a method for forming a super-high contrast image.
A high contrast accelerator can be used in combination with the above-mentioned super-high contrast agent. For example, the amine compounds described in U.S. Patent No. 5,545,505, specifically AM-1 to AM-5, and 5,545,507
The hydroxamic acids, specifically HA-1 to HA-1
1, acrylonitriles described in 5,545,507, specifically CN-1 to CN-13, hydrazine compounds described in 5,558,983, specifically CA-1 to CA-6, JP-A-9-2973
68. Onium salts according to 68, specifically A-1 to A-4
2, B-1 to B-27, C-1 to C-14 and the like can be used. The synthesis method, addition method, addition amount, and the like of these super-high contrast agents and high-contrast accelerators can be performed as described in each of the cited patents.

【0066】次に本発明に用いられる感光性ハロゲン化
銀について詳細に説明する。本発明に用いられる感光性
ハロゲン化銀は、ハロゲン組成として特に制限はなく、
塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀
を用いることができる。粒子内におけるハロゲン組成の
分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状
に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したもの
でもよい。また、コア/シェル構造を有するハロゲン化
銀粒子を好ましく用いることができる。構造としては好
ましくは2〜5重構造、より好ましくは2〜4重構造の
コア/シェル粒子を用いることができる。また塩化銀ま
たは塩臭化銀粒子の表面に臭化銀を局在させる技術も好
ましく用いることができる。本発明における感光性ハロ
ゲン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており例え
ば、リサーチディスクロージャー1978年6月の第17029
号、および米国特許第3,700,458号に記載されている方
法を用いることができる。本発明で用いることのできる
具体的な方法としては、調製された有機銀塩中にハロゲ
ン含有化合物を添加することにより有機銀塩の銀の一部
を感光性ハロゲン化銀に変換する方法、ゼラチンあるい
は他のポリマー溶液の中に銀供給化合物及びハロゲン供
給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀粒子
を調製し有機銀塩と混合する方法を用いることができ
る。本発明において好ましくは後者の方法を用いること
ができる。感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形
成後の白濁を低く抑える目的のために小さいことが好ま
しく具体的には0.20μm以下、より好ましくは0.01μm
以上0.15μm以下、更に好ましくは0.02μm以上0.12μ
m以下がよい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化
銀粒子が立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶である
場合にはハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、ハ
ロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には主表面の投
影面積と同面積の円像に換算したときの直径をいう。そ
の他正常晶でない場合、たとえば球状粒子、棒状粒子等
の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考え
たときの直径をいう。
Next, the photosensitive silver halide used in the present invention will be described in detail. The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition,
Silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide can be used. The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may change stepwise, or may change continuously. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. As the structure, core / shell particles having preferably a 2- to 5-layer structure, more preferably a 2- to 4-layer structure, can be used. A technique for localizing silver bromide on the surface of silver chloride or silver chlorobromide grains can also be preferably used. The method of forming the photosensitive silver halide in the present invention is well known in the art, for example, Research Disclosure No. 17029 of June 1978.
And the methods described in U.S. Pat. No. 3,700,458. Specific methods that can be used in the present invention include a method of converting a part of the silver of the organic silver salt to a photosensitive silver halide by adding a halogen-containing compound to the prepared organic silver salt, gelatin. Alternatively, a method of preparing a photosensitive silver halide grain by adding a silver supply compound and a halogen supply compound to another polymer solution and mixing the resultant with an organic silver salt can be used. In the present invention, the latter method can be preferably used. The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing the white turbidity after image formation, specifically, 0.20 μm or less, more preferably 0.01 μm or less.
0.15μm or less, more preferably 0.02μm or more 0.12μ
m or less is good. Here, the grain size means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case where the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to a diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-like grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.

【0067】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:1がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
[100]面の占める割合が高いことが好ましい。その割合
としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、
80%以上が更に好ましい。ミラー指数[100]面の比率は増
感色素の吸着における[111]面と[100]面との吸着依存性
を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記
載の方法により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3: 1. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high.
The proportion occupied by the [100] plane is preferably high. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more,
80% or more is more preferable. The Miller index [100] plane ratio was determined by T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985), which utilizes the adsorption dependence of [111] and [100] planes on the adsorption of sensitizing dyes. It can be determined by the method described.

【0068】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀粒
子は、周期律表の第VII族あるいは第VIII族の金属また
は金属錯体を含有することが好ましい。周期律表の第VI
I族あるいは第VIII族の金属または金属錯体の中心金属
として好ましくはロジウム、レニウム、ルテニウム、オ
スニウム、イリジウムである。これら金属錯体は1種類
でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を2種以上併
用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し10-9
モルから10-2モルの範囲が好ましく、10-8 モルから
10-4モルの範囲がより好ましい。具体的な金属錯体の
構造としては特開平7-225449号等に記載された構造の金
属錯体を用いることができる。本発明に好ましく用いら
れるロジウム化合物としては、水溶性ロジウム化合物を
用いることができる。たとえば、ハロゲン化ロジウム
(III)化合物、またはロジウム錯塩で配位子としてハ
ロゲン、アミン類、オキザラト等を持つもの、たとえ
ば、ヘキサクロロロジウム(III)錯塩、ペンタクロロ
アコロジウム(III)錯塩、テトラクロロジアコロジウ
ム(III)錯塩、ヘキサブロモロジウム(III)錯塩、ヘ
キサアンミンロジウム(III)錯塩、トリザラトロジウ
ム(III)錯塩等が挙げられる。これらのロジウム化合
物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、
ロジウム化合物の溶液を安定化させるために一般によく
行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液(たと
えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アル
カリ(たとえばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方
法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代わ
りにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをドー
プしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる
ことも可能である。
The photosensitive silver halide grains used in the present invention
Are metals or metals of group VII or VIII of the periodic table
Preferably contains a metal complex. VI of the Periodic Table
Central metal of Group I or VIII metals or metal complexes
Is preferably rhodium, rhenium, ruthenium,
They are sunium and iridium. One of these metal complexes
Or two or more complexes of the same and different metals.
May be used. The preferred content is 10 moles per mole of silver.-9
10 from mole-2The molar range is preferably 10-8 From mole
10-FourA molar range is more preferred. Specific metal complex
As the structure, gold having the structure described in JP-A-7-225449
A genus complex can be used. Preferably used in the present invention
Examples of the rhodium compound include a water-soluble rhodium compound.
Can be used. For example, rhodium halide
(III) Compound or rhodium complex as ligand
Those having a logene, amines, oxalato, etc.
For example, hexachlororhodium (III) complex salt, pentachloro
Achodium (III) complex salt, tetrachlorodiachodium
(III) complex salt, hexabromorhodium (III) complex salt,
Oxaminmine rhodium (III) complex salt, Trizaratrodiu
(III) complex salts. These rhodium compounds
The substance is used after being dissolved in water or a suitable solvent.
Generally well used to stabilize solutions of rhodium compounds
The method to be performed, ie, the aqueous solution of hydrogen halide (
For example, hydrochloric acid, bromic acid, hydrofluoric acid, etc.)
Those who add potassium (eg KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.)
Method can be used. An alternative to using water-soluble rhodium
When preparing silver halide, rhodium is
Add and dissolve another silver halide grain
It is also possible.

【0069】これらのロジウム化合物の添加量はハロゲ
ン化銀1モル当り1×10-8モル〜5×10-6モルの範
囲が好ましく、特に好ましくは5×10-8モル〜1×1
-6 モルである。これらの化合物の添加は、ハロゲン化
銀乳剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階にお
いて適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加
し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
い。本発明に好ましく用いられるレニウム、ルテニウ
ム、オスミニウムは特開昭63-2042号、特開平1-285941
号、同2-20852号、同2-20855号等に記載された水溶性錯塩
の形で添加される。特に好ましいものとして、以下の式
で示される六配位錯体が挙げられる。 [ML6-n ここでMはRu、Re、またはOsを表し、Lは配位子
を表し、nは0、1、2、3または4を表す。この場
合、対イオンは重要性を持たず、アンモニウムもしくは
アルカリ金属イオンが用いられる。また好ましい配位子
としてはハロゲン化物配位子、シアン化物配位子、シア
ン酸化物配位子、ニトロシル配位子、チオニトロシル配
位子等が挙げられる。以下に本発明に用いられる具体的
錯体の例を示すが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。
The addition amount of these rhodium compounds is
1 × 10 per mole of silver halide-8Mol to 5 × 10-6Molar range
Enclosure is preferable, and particularly preferably 5 × 10-8Mol ~ 1 x 1
0-6 Is a mole. The addition of these compounds
During the production of silver emulsion grains and before each step of coating the emulsion,
Can be carried out as needed, but especially when the emulsion is formed.
And preferably incorporated into silver halide grains.
No. Rhenium and ruthenium preferably used in the present invention
And osmium are disclosed in JP-A-63-2042 and JP-A-1-285941
No. 2-20852, water-soluble complex salts described in 2-20855, etc.
It is added in the form of Particularly preferred are the following formulas
And a six-coordinate complex represented by [ML6]-n  Here, M represents Ru, Re, or Os, and L represents a ligand.
And n represents 0, 1, 2, 3 or 4. This place
If the counterion is not important, ammonium or
Alkali metal ions are used. Also preferred ligand
As halide ligand, cyanide ligand,
Oxide ligand, nitrosyl ligand, thionitrosyl ligand
And the like. Hereinafter, specific examples used in the present invention
Examples of complexes are shown, but the present invention is not limited to these.
Absent.

【0070】 [ReCl6]-3 [ReBr6]-3 [ReCl5(NO)]-2 [Re(NS)Br5]-2 [Re(NO)(CN)5]-2 [Re(O)2(CN)4]-3 [RuCl6]-3 [RuCl4(H2O)2]-1 [RuCl5(H2O)]-2 [RuCl5(NO)]-2 [RuBr5(NS)]-2 [Ru(CO)3Cl3]-2 [Ru(CO)Cl5]-2 [Ru(CO)Br5]-2 [OsCl6]-3 [OsCl5(NO)]-2 [Os(NO)(CN)5]-2 [Os(NS)Br5]-2 [Os(O)2(CN)4]-4 [ReCl6]-3 [ReBr6]-3 [ReClFive(NO)]-2  [Re (NS) BrFive]-2[Re (NO) (CN)Five]-2 [Re (O)Two(CN)Four]-3  [RuCl6]-3 [RuClFour(HTwoO)Two]-1 [RuClFive(HTwoO)]-2  [RuClFive(NO)]-2 [RuBrFive(NS)]-2  [Ru (CO)ThreeClThree]-2 [Ru (CO) ClFive]-2 [Ru (CO) BrFive]-2  [OsCl6]-3 [OsClFive(NO)]-2 [Os (NO) (CN)Five]-2  [Os (NS) BrFive]-2 [Os (O)Two(CN)Four]-Four

【0071】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当り1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が好ま
しく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-6モル
である。これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒
子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において適宜
行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハロゲ
ン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。これらの
化合物をハロゲン化銀の粒子形成中に添加してハロゲン
化銀粒子中に組み込むには、金属錯体の粉末もしくはNa
Cl、KClと一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶
性塩または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、
あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合されるとき第
3の溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン
化銀粒子を調製する方法、あるいは粒子形成中に必要量
の金属錯体の水溶液を反応容器に投入する方法などがあ
る。特に粉末もしくはNaCl、KClと一緒に溶解した水溶
液を、水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。
粒子表面に添加するには、粒子形成直後または物理熟成
時途中もしくは終了時または化学熟成時に必要量の金属
錯体の水溶液を反応容器に投入することもできる。
The addition amount of these compounds is 1
The range is preferably from 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −5 mol per mol, and particularly preferably from 1 × 10 −8 mol to 1 × 10 −6 mol. These compounds can be appropriately added at the time of the production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion, but it is particularly preferable to add them at the time of emulsion formation and to incorporate them into the silver halide grains. . In order to add these compounds during silver halide grain formation and incorporate them into silver halide grains, powder of metal complex or Na
A method in which an aqueous solution dissolved together with Cl and KCl is added to a water-soluble salt or water-soluble halide solution during particle formation,
Alternatively, when a silver salt and a halide solution are simultaneously mixed, they are added as a third solution to prepare silver halide grains by a three-solution simultaneous mixing method, or a required amount of an aqueous solution of a metal complex is reacted during grain formation. There is a method of putting it in a container. In particular, a method of adding a powder or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl to a water-soluble halide solution is preferable.
In order to add the metal complex to the surface of the particles, a required amount of an aqueous solution of a metal complex can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or during the physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0072】本発明に好ましく用いられるイリジウム化
合物としては種々のものを使用できるが、例えばヘキサ
クロロイリジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオ
キザラトイリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタ
クロロニトロシルイリジウム等が挙げられる。これらの
イリジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して
用いられるが、イリジウム化合物の溶液を安定化させる
ために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化
水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるい
はハロゲン化アルカリ(たとえばKCl、NaCl、KBr、NaBr
等)を添加する方法を用いることができる。水溶性イリ
ジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらか
じめイリジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子
を添加して溶解させることも可能である。さらに本発明
に用いられるハロゲン化銀粒子に、コバルト、鉄、ニッ
ケル、クロム、パラジウム、白金、金、タリウム、銅、
鉛、等の金属原子を含有してもよい。コバルト、鉄、ク
ロム、さらにルテニウムの化合物については六シアノ金
属錯体を好ましく用いることができる。具体例として
は、フェリシアン酸イオン、フェロシアン酸イオン、ヘ
キサシアノコバルト酸イオン、ヘキサシアノクロム酸イ
オン、ヘキサシアノルテニウム酸イオンなどが挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。ハロゲン化銀
中の金属錯体の含有相は均一でも、コア部に高濃度に含
有させてもよく、あるいはシェル部に高濃度に含有させ
てもよく特に制限はない。上記金属はハロゲン化銀1モ
ルあたり1×10-9〜1×10-4モルが好ましい。ま
た、上記金属を含有せしめるには単塩、複塩、または錯
塩の形の金属塩にして粒子調製時に添加することができ
る。
Various compounds can be used as the iridium compound preferably used in the present invention, and examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or a suitable solvent. However, a method generally used to stabilize the solution of the iridium compound, that is, a hydrogen halide aqueous solution (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or alkali halides (eg KCl, NaCl, KBr, NaBr
Etc.) can be used. Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another iridium-doped silver halide grain during silver halide preparation. Further, the silver halide grains used in the present invention, cobalt, iron, nickel, chromium, palladium, platinum, gold, thallium, copper,
It may contain a metal atom such as lead. For compounds of cobalt, iron, chromium, and ruthenium, hexacyano metal complexes can be preferably used. Specific examples include, but are not limited to, ferricyanate, ferrocyanate, hexacyanocobaltate, hexacyanochromate, and hexacyanoruthenate. The phase containing the metal complex in the silver halide may be uniform, may be contained at a high concentration in the core portion, or may be contained at a high concentration in the shell portion, and there is no particular limitation. The amount of the metal is preferably 1 × 10 -9 to 1 × 10 -4 mol per mol of silver halide. In addition, in order to incorporate the metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt, or a complex salt can be added at the time of preparing particles.

【0073】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。本発明で用いるハロゲン化銀乳
剤は化学増感されることが好ましい。化学増感の方法と
しては、硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法、貴
金属増感法などの知られている方法を用いることがで
き、単独または組み合わせて用いられる。組み合わせて
使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫
黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテル
ル増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法とテル
ル増感法と金増感法などが好ましい。本発明に用いられ
る硫黄増感は、通常、硫黄増感剤を添加して、40℃以
上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行われ
る。硫黄増感剤としては公知の化合物を使用することが
でき、例えば、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物のほ
か、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ尿素
類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることができ
る。好ましい硫黄化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合
物である。硫黄増感剤の添加量は、化学熟成時のpH、
温度、ハロゲン化銀粒子の大きさなどの種々の条件の下
で変化するが、ハロゲン化銀1モル当り10-7〜10-2
モルであり、より好ましくは10-5〜10-3モルであ
る。
The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with water by a method known in the art such as a noodle method or a flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted. . The silver halide emulsion used in the present invention is preferably chemically sensitized. As the method of chemical sensitization, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method, and a noble metal sensitization method can be used, and these are used alone or in combination. When used in combination, for example, sulfur sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and tellurium sensitization and gold sensitization, Sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, gold sensitization and the like are preferred. The sulfur sensitization used in the present invention is usually carried out by adding a sulfur sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain period of time. Known compounds can be used as the sulfur sensitizer. For example, in addition to sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like are used. be able to. Preferred sulfur compounds are thiosulfates and thiourea compounds. The amount of the sulfur sensitizer to be added depends on the pH during chemical ripening,
Temperature, varies under various conditions such as the size of the silver halide grains, per mol of silver halide 10 -7 to 10 -2
Mol, more preferably 10 -5 to 10 -3 mol.

【0074】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44-15748号、同43-13489号、特開平4-25832号、同
4-109240号、同3-121798号等に記載の化合物を用いるこ
とができる。特に特開平4−324855号中の一般式
(VIII)および(IX)で示される化合物を用いることが好
ましい。本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロゲン
化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定される
テルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン化銀
乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5−31
3284号に記載の方法で試験することができる。テル
ル増感剤としては例えばジアシルテルリド類、ビス(オ
キシカルボニル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テル
リド類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)
ジテルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te
結合を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オ
ルガニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリ
ド類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール
類、テルロスルホナート類、P-Te結合を有する化合物、
含Teヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テル
ル化合物、コロイド状テルルなどを用いることができ
る。具体的には、米国特許第1,623,499号、同第3,320,06
9号、同第3,772,031号、英国特許第235,211号、同第1,121,
496号、同第1,295,462号、同第1,396,696号、カナダ特許
第800,958号、特願平2-333819号、同3-53693号、同3-13159
8号、同4-129787号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサ
イアティー・ケミカル・コミュニケーション(J.Chem.S
oc.Chem.Commun.) 635(1980),ibid 1102(1979),ibid 6
45(1979)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティ
ー・パーキン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.
Trans.) 1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ・ケ
ミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド
・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of Organ
ic Serenium and Tellunium Compounds),Vol 1(1986)、
同 Vol 2(1987)に記載の化合物を用いることができる。
特に特開平5−313284号中の一般式(II),(II
I),(IV)で示される化合物が好ましい。
As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As unstable selenium compounds, JP-B-44-15748, JP-B-43-13489, JP-A-4-25832,
The compounds described in JP-A Nos. 4-109240, 3-21798 and the like can be used. In particular, it is preferable to use compounds represented by formulas (VIII) and (IX) in JP-A-4-324855. The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound that forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. The formation rate of silver telluride in a silver halide emulsion is described in JP-A-5-31.
It can be tested by the method described in No. 3284. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl)
Ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te
Compounds having a bond, tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond,
Te-containing heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used. Specifically, U.S. Pat.Nos. 1,623,499 and 3,320,06
No. 9, 3,772,031, British Patent No. 235,211 and No. 1,121,
No. 496, No. 1,295,462, No. 1,396,696, Canadian Patent No. 800,958, Japanese Patent Application No. 2-333819, No. 3-53693, No. 3-13159
No. 8, No. 4-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication (J. Chem. S.
oc.Chem.Commun.) 635 (1980), ibid 1102 (1979), ibid 6
45 (1979), Journal of Chemical Society Perkin Transaction (J. Chem. Soc. Perkin.
Trans.) 1,2191 (1980), edited by S. Patai, edited by The Chemistry of Organ, Selenium and Tellurium
ic Serenium and Tellunium Compounds), Vol 1 (1986),
The compounds described in Vol. 2 (1987) can be used.
In particular, JP-A-5-313284 discloses general formulas (II) and (II).
The compounds represented by I) and (IV) are preferred.

【0075】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。本発
明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好
ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的に
は、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオ
ーリチオシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン
化銀1モル当たり10-7〜10-2モル程度を用いること
ができる。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲ
ン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミ
ウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させて
もよい。本発明においては、還元増感を用いることがで
きる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビ
ン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、ア
ミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボ
ラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用い
ることができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを8.
3以下に保持して熟成することにより還元増感すること
ができる。また、粒子形成中に銀イオンのシングルアデ
ィション部分を導入することにより還元増感することが
できる。本発明で用いるハロゲン化銀乳剤は、欧州公開
特許EP293,917に示される方法により、チオスルホン酸
化合物を添加してもよい。本発明で用いるハロゲン化銀
乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均
粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、
晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用
してもよい。
The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains to be used, the conditions of chemical ripening, etc., but generally 10 -8 to 10 -2 mol per mol of silver halide, Preferably, about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C. Examples of the noble metal sensitizer used in the present invention include gold, platinum, palladium, and iridium, and gold sensitization is particularly preferable. Specific examples of the gold sensitizer used in the present invention include chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, and gold sulfide, and 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Degrees can be used. In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt, and the like may coexist in the process of forming silver halide grains or physical ripening. In the present invention, reduction sensitization can be used. As specific compounds of the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. . Further, the pH of the emulsion is 7 or more or the pAg is 8.
Reduction sensitization can be achieved by ripening while keeping at 3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ion during grain formation. To the silver halide emulsion used in the present invention, a thiosulfonic acid compound may be added according to the method described in EP 293,917. The silver halide emulsion used in the present invention may be only one kind, or two or more kinds (e.g., those having different average grain sizes, those having different halogen compositions,
Those having different crystal habits and those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination.

【0076】感光性ハロゲン化銀の使用量としては有機
銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.01モル以上0.5
モル以下が好ましく、0.02モル以上0.3モル以下がより
好ましく、0.03モル以上0.25モル以下が特に好ましい。
別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方
法及び混合条件については、それぞれ調製終了したハロ
ゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サ
ンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等
で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれ
かのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混
合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効
果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。
The photosensitive silver halide is used in an amount of 0.01 to 0.5 mol of the photosensitive silver halide per mol of the organic silver salt.
Mol or less, preferably 0.02 mol or more and 0.3 mol or less, particularly preferably 0.03 mol or more and 0.25 mol or less.
Regarding the mixing method and the mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. And the like, or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. There is no particular limitation as long as it appears in.

【0077】本発明の感光性熱現像画像形成材料は、非
感光性の還元可能な有機銀塩を含む。本発明に用いるこ
とのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定である
が、露光された光触媒(感光性ハロゲン化銀の潜像な
ど)及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱
された場合に銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は
銀イオンを還元できる源を含む任意の有機物質であって
よい。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましく
は15〜28の)長鎖脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。配
位子が4.0〜10.0の範囲の錯安定定数を有する有機また
は無機銀塩の錯体も好ましい。銀供給物質は、好ましく
は画像形成層の約5〜70重量%を構成することができる。
好ましい有機銀塩はカルボキシル基を有する有機化合物
の銀塩を含む。これらの例は、脂肪族カルボン酸の銀塩
および芳香族カルボン酸の銀塩を含むがこれらに限定さ
れることはない。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例
としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸
銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリ
スチン酸銀、パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸
銀、酒石酸銀、リノール酸銀、酪酸銀及び樟脳酸銀、こ
れらの混合物などを含む。メルカプト基またはチオン基
を含む化合物の銀塩及びこれらの誘導体を使用すること
もできる。これらの化合物の好ましい例としては、3-メ
ルカプト-4-フェニル-1,2,4-トリアゾールの銀塩、2-メ
ルカプトベンズイミダゾールの銀塩、2-メルカプト-5-
アミノチアジアゾールの銀塩、2-(エチルグリコールア
ミド)ベンゾチアゾールの銀塩、S-アルキルチオグリコ
ール酸(ここでアルキル基の炭素数は12〜22である)の銀
塩などのチオグリコール酸の銀塩、ジチオ酢酸の銀塩な
どのジチオカルボン酸の銀塩、チオアミドの銀塩、5-カ
ルボキシル-1-メチル-2-フェニル-4-チオピリジンの銀
塩、メルカプトトリアジンの銀塩、2-メルカプトベンズ
オキサゾールの銀塩、米国特許第4,123,274号に記載の
銀塩、例えば3-アミノ-5-ベンジルチオ-1,2,4-チアゾー
ルの銀塩などの1,2,4-メルカプトチアゾール誘導体の銀
塩、米国特許第3,301,678号に記載の3-(3-カルボキシエ
チル)-4-メチル-4-チアゾリン-2-チオンの銀塩などのチ
オン化合物の銀塩を含む。さらに、イミノ基を含む化合
物も使用することができる。これらの化合物の好ましい
例としては、ベンゾトリアゾールの銀塩及びそれらの誘
導体、例えばメチルベンゾトリアゾール銀などのベンゾ
トリアゾールの銀塩、5-クロロベンゾトリアゾール銀な
どのハロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀塩、米国特許
第4,220,709号に記載のような1,2,4-トリアゾールまた
は1-H-テトラゾールの銀塩、イミダゾール及びイミダゾ
ール誘導体の銀塩などを含む。例えば、米国特許第4,76
1,361号及び同第4,775,613号に記載のような種々の銀ア
セチリド化合物をも使用することもできる。
The photothermographic image-forming material of the present invention contains a non-photosensitive reducible organic silver salt. The organic silver salt that can be used in the present invention is relatively stable to light, but at 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of a photosensitive silver halide) and a reducing agent. It is a silver salt that forms a silver image when heated as described above. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, in particular silver salts of long-chain fatty carboxylic acids (with 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Also preferred are organic or inorganic silver salt complexes in which the ligand has a complex stability constant in the range of 4.0 to 10.0. The silver donor material can preferably make up about 5-70% by weight of the imaging layer.
Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of the aliphatic carboxylic acid include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver maleate, and fumarate. Silver acid, silver tartrate, silver linoleate, silver butyrate and silver camphorate, and mixtures thereof. Silver salts of compounds containing a mercapto group or a thione group and derivatives thereof can also be used. Preferred examples of these compounds include silver salt of 3-mercapto-4-phenyl-1,2,4-triazole, silver salt of 2-mercaptobenzimidazole, and 2-mercapto-5-
Silver salts of thioglycolic acid such as silver salts of aminothiadiazole, silver salts of 2- (ethylglycolamide) benzothiazole, silver salts of S-alkylthioglycolic acid (where the alkyl group has 12 to 22 carbon atoms) , Silver salts of dithiocarboxylic acids such as silver salts of dithioacetic acid, silver salts of thioamides, silver salts of 5-carboxyl-1-methyl-2-phenyl-4-thiopyridine, silver salts of mercaptotriazine, 2-mercaptobenzoxazole Silver salts described in U.S. Pat.No. 4,123,274, for example, silver salts of 1,2,4-mercaptothiazole derivatives such as silver salts of 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-thiazole, U.S. Pat. And silver salts of thione compounds such as silver salt of 3- (3-carboxyethyl) -4-methyl-4-thiazoline-2-thione described in Japanese Patent No. 3,301,678. Furthermore, compounds containing an imino group can also be used. Preferred examples of these compounds include silver salts of benzotriazole and derivatives thereof, for example, silver salts of benzotriazole such as silver methylbenzotriazole, silver salts of halogen-substituted benzotriazole such as silver 5-chlorobenzotriazole, and US Pat. No. 4,220,709, silver salts of 1,2,4-triazole or 1-H-tetrazole, and silver salts of imidazole and imidazole derivatives. For example, U.S. Pat.
Various silver acetylide compounds as described in 1,361 and 4,775,613 can also be used.

【0078】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm以上0.2
0μm以下、長軸0.10μm以上5.0μm以下が好ましく、短
軸0.01μm以上0.15μm以下、長軸0.10μm以上4.0μm以
下がより好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散
であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれ
の長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の10
0分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定
方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より
求めることができる。単分散性を測定する別の方法とし
て、有機銀塩の体積荷重平均直径の標準偏差を求める方
法があり、体積荷重平均直径で割った値の100分率(変動
係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例え
ば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その
散乱光のゆらぎの時間変化にたいする自己相関関数を求
めることにより得られた粒子サイズ(体積荷重平均直径)
から求めることができる。本発明に用いることのできる
有機銀塩は、好ましくは脱塩をすることができる。脱塩
を行う方法としては特に制限はなく公知の方法を用いる
ことができるが、円心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集
法によるフロック形成水洗等の公知の濾過方法を好まし
く用いることができる。
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but a needle crystal having a short axis and a long axis is preferable. In the present invention, the minor axis is 0.01 μm or more and 0.2 μm or more.
0 μm or less, major axis of 0.10 μm or more and 5.0 μm or less, minor axis of 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and major axis of 0.10 μm or more and 4.0 μm or less are more preferred. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse is the standard deviation of the lengths of the minor and major axes divided by the minor and major axes, respectively.
0 fraction is preferably 100% or less, more preferably 80% or less,
More preferably, it is 50% or less. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring the monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, 100% of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation) is preferably 100% or less , More preferably 80% or less,
More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, a particle size (volume weight average diameter) obtained by irradiating a laser beam to an organic silver salt dispersed in a liquid and obtaining an autocorrelation function for a time change of fluctuation of the scattered light.
Can be obtained from The organic silver salt that can be used in the present invention is preferably desalted. The method for desalting is not particularly limited, and a known method can be used. However, a known filtration method such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, and floc-forming water washing by a coagulation method can be preferably used. .

【0079】本発明では、高S/Nで、粒子サイズが小さ
く、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画像
形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実質
的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降下
させる分散法を用いることが好ましい。そして、このよ
うな工程を経た後に、感光性銀塩水溶液と混合して感光
性画像形成媒体塗布液を製造する。このような塗布液を
用いて熱現像感光材料を作製するとヘイズが低く、低カ
ブリで高感度の熱現像感光材料が得られる。これに対
し、高圧、高速流に変換して分散する時に、感光性銀塩
を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下す
る。また、分散媒として水ではなく、有機溶剤を用いる
と、ヘイズが高くなり、カブリが上昇し、感度が低下し
やすくなる。一方、感光性銀塩水溶液を混合する方法に
かえて、分散液中の有機銀塩の一部を感光性銀塩に変換
するコンバージョン法を用いると感度が低下する。上記
において、高圧、高速化に変換して分散される水分散液
は、実質的に感光性銀塩を含まないものであり、その含
水量は非感光性の有機銀塩に対して0.1モル%以下であ
り、積極的な感光性銀塩の添加は行わないものである。
In the present invention, in order to obtain an organic silver salt solid dispersion having a high S / N, a small particle size and no aggregation, an organic silver salt which is an image forming medium and a photosensitive silver salt are substantially contained. It is preferable to use a dispersion method in which a water dispersion liquid which is not included in the liquid is converted into a high-speed flow and then the pressure is reduced. After passing through such a process, the mixture is mixed with a photosensitive silver salt aqueous solution to produce a photosensitive image forming medium coating solution. When a photothermographic material is prepared using such a coating solution, a haze is low, and a low-fogging, high-sensitivity photothermographic material can be obtained. On the other hand, when the photosensitive silver salt is coexistent when the light is converted into a high-pressure, high-speed flow and dispersed, the fog increases and the sensitivity is remarkably lowered. When an organic solvent is used instead of water as a dispersion medium, haze increases, fog increases, and sensitivity tends to decrease. On the other hand, when a conversion method for converting a part of the organic silver salt in the dispersion to the photosensitive silver salt is used instead of the method of mixing the aqueous solution of the photosensitive silver salt, the sensitivity is reduced. In the above, the high-pressure, the aqueous dispersion is dispersed and converted to high speed, is substantially free of photosensitive silver salt, the water content is 0.1 mol% based on the non-photosensitive organic silver salt The following is the case where the photosensitive silver salt is not positively added.

【0080】本発明において、上記のような分散法を実
施するのに用いられる固体分散装置およびその技術につ
いては、例えば『分散系レオロジーと分散化技術』(梶
内俊夫、薄井洋基 著、1991、信山社出版(株)、p357
〜p403)、『化学工学の進歩第24集』(社団法人 化学
工学会東海支部 編、1990、槙書店、p184〜p185)、
等に詳しいが、本発明での分散法は、少なくとも有機銀
塩を含む水分散物を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送
入した後、配管内に設けられた細いスリットを通過さ
せ、この後に分散液に急激な圧力低下を生じさせること
により微細な分散を行う方法である。本発明が関連する
高圧ホモジナイザーについては、一般には、(a)分散質
が狭間隙を高圧、高速で通過する際に生じる『剪断
力』、(b)分散質が高圧下から常圧に解放される際に生
じる『キャビテーション力』、等の分散力によって微細
な粒子への分散が行われると考えられている。この種の
分散装置としては、古くはゴーリンホモジナイザーが挙
げられるが、この装置では高圧で送られた被分散液が円
柱面上の狭い間隙で、高速流に変換され、その勢いで周
囲の壁面に衝突し、その衝撃力で乳化・分散が行われ
る。使用圧力は一般には100〜600kg/cm2、流速は数m〜3
0m/秒の範囲であり、分散効率を上げるために高流速部
を鋸刃状にして衝突回数を増やすなどの工夫を施したも
のも考案されている。これに対して、近年更に高圧、高
流速での分散が可能となる装置が開発されてきており、
その代表例としてはマイクロフルイダイザー(マイクロ
フルイデックス・インターナショナル・コーポレーショ
ン社)、ナノマイザー(特殊機化工業(株))などが挙
げられる。
In the present invention, the solid dispersion apparatus and the technique used for carrying out the dispersion method as described above are described in, for example, “Dispersion Rheology and Dispersion Technology” (Toshio Kajiuchi and Hiroki Usui, 1991, Shinzansha Publishing Co., Ltd., p357
-P403), "The 24th Progress of Chemical Engineering", edited by The Society of Chemical Engineers, Tokai Branch, 1990, Maki Shoten, p184-p185),
Although detailed in the dispersing method of the present invention, the aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe, Thereafter, the dispersion is finely dispersed by causing an abrupt pressure drop in the dispersion. As for the high-pressure homogenizer to which the present invention is related, generally, (a) the dispersoid is released at a normal pressure from a high pressure under a high pressure, and `` shearing force '' generated when the dispersoid passes through a narrow gap at a high speed. It is considered that the particles are dispersed into fine particles by a dispersing force such as “cavitation force” generated when the particles are dispersed. As an example of this type of dispersing apparatus, a Gaulin homogenizer is mentioned in the past.In this apparatus, the liquid to be dispersed sent at a high pressure is converted into a high-speed flow through a narrow gap on a cylindrical surface, and the force is applied to the surrounding wall by the force. The particles collide and are emulsified and dispersed by the impact force. Operating pressure is generally 100~600kg / cm 2, the number is the flow velocity m~3
It is in the range of 0 m / sec, and in order to increase the dispersion efficiency, a device in which the high flow velocity portion is saw-toothed and the number of collisions is increased has been devised. On the other hand, in recent years, devices capable of dispersing at higher pressure and higher flow rate have been developed,
Typical examples thereof include a microfluidizer (Microfluidex International Corporation) and a nanomizer (Special Kika Kogyo Co., Ltd.).

【0081】本発明に適した分散装置としては、マイク
ロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーシ
ョン社製マイクロフルイダイザーM−110S−EH
(G10Zインターラクションチャンバー付き)、M−
110Y(H10Zインターラクションチャンバー付
き)、M−140K(G10Zインターラクションチャ
ンバー付き)、HC−5000(L30ZまたはH23
0Zインターラクションチャンバー付き),HC−80
00(E230ZまたはL30Zインターラクションチ
ャンバー付き)等が挙げられる。これらの装置を用い、
少なくとも有機銀塩を含む水分散液を高圧ポンプ等で加
圧して配管内に送入した後、配管内に設けられた細いス
リットを通過させることにより所望の圧力を印加し、こ
の後に配管内の圧力を大気圧に急速に戻す等の方法で分
散液に急激な圧力降下を生じさせることにより本発明に
最適な有機銀塩分散物を得ることが可能である。有機銀
塩分散においては、流速、圧力降下時の差圧と処理回数
の調節によって所望の粒子サイズに分散することが可能
であるが、写真特性と粒子サイズの点から、流速が200m
/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が900〜3000kg/cm2
範囲が好ましく、流速が300m/秒〜600m/秒、圧力降下時
の差圧が1500〜3000kg/cm2の範囲であることが更に好ま
しい。分散処理回数は必要に応じて選択できるが、通常
は1回〜10回の処理回数が選ばれるが、生産性の点から
は1回〜3回程度の処理回数が選ばれる。高圧下でこのよ
うな水分散液を高温にすることは、分散性、写真特性の
点から好ましくなく、90℃を越えるような高温では粒子
サイズが大きくなりやすくなると共に、カブリが高くな
る傾向がある。従って、本発明では前記の高圧、高流速
に変換する前の工程もしくは、圧力降下させた後の工
程、あるいはこれらの両工程に冷却工程を含み、このよ
うな水分散の温度が冷却工程により5〜90℃の範囲に保
たれていることが好ましく、更に好ましくは5〜80℃の
範囲、特に5〜65℃の範囲に保たれていることが好まし
い。特に、1500〜3000kg/cm2の範囲の高圧の分散時には
前記の冷却工程を設置することが有効である。冷却器
は、その所要熱交換量に応じて、二重管や二重管にスタ
チックミキサーを使用したもの、多管式熱交換器、蛇管
式熱交換器等を適宜選択することができる。また、熱交
換の効率を上げるために、使用圧力を考慮して、管の太
さ、肉厚や材質など好適なものを選べばよい。冷却器に
使用する冷媒は、熱交換量から、20℃の井水や冷凍機で
処理した5〜10℃の冷水、また必要に応じて-30℃のエチ
レングリコール/水等の冷媒を使用することもできる。
As a dispersing apparatus suitable for the present invention, a microfluidizer M-110S-EH manufactured by Microfluidics International Corporation is used.
(With G10Z interaction chamber), M-
110Y (with H10Z interaction chamber), M-140K (with G10Z interaction chamber), HC-5000 (L30Z or H23
With 0Z interaction chamber), HC-80
00 (with an E230Z or L30Z interaction chamber) and the like. Using these devices,
After the aqueous dispersion containing at least the organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into the pipe, a desired pressure is applied by passing through a narrow slit provided in the pipe, and thereafter, the inside of the pipe is It is possible to obtain an optimal organic silver salt dispersion for the present invention by causing a rapid pressure drop in the dispersion by, for example, rapidly returning the pressure to the atmospheric pressure. In organic silver salt dispersion, it is possible to disperse to a desired particle size by adjusting the flow rate, the differential pressure at the time of pressure drop, and the number of times of processing.
/ Sec ~600M / sec, preferably in the range differential pressure of 900~3000kg / cm 2 at the time of pressure drop, the range the flow rate is 300 meters / sec ~600M / sec, the pressure difference at the pressure drop of 1500~3000kg / cm 2 Is more preferable. The number of times of dispersion processing can be selected as needed, but usually 1 to 10 times is selected, but from the viewpoint of productivity, about 1 to 3 times is selected. It is not preferable to raise the temperature of such an aqueous dispersion under high pressure from the viewpoint of dispersibility and photographic characteristics.At a temperature higher than 90 ° C., the particle size tends to increase, and the fog tends to increase. is there. Therefore, in the present invention, the step before the conversion to the high pressure and high flow rate, the step after the pressure is reduced, or both of these steps include a cooling step, and the temperature of such water dispersion is reduced by the cooling step. The temperature is preferably maintained in the range of 90 to 90 ° C, more preferably in the range of 5 to 80 ° C, particularly preferably in the range of 5 to 65 ° C. In particular, it is effective to provide the above cooling step at the time of high-pressure dispersion in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . As the cooler, a double tube, a double tube using a static mixer, a multi-tube heat exchanger, a coiled tube heat exchanger, or the like can be appropriately selected according to the required heat exchange amount. Further, in order to increase the efficiency of heat exchange, it is sufficient to select a suitable one such as a pipe thickness, a wall thickness and a material in consideration of a working pressure. As the refrigerant used for the cooler, use 20 ° C well water, 5-10 ° C cold water treated with a refrigerator, and, if necessary, -30 ° C ethylene glycol / water refrigerant, etc., based on the heat exchange amount. You can also.

【0082】分散操作では、水性溶媒可溶な分散剤(分
散助剤)の存在下で有機銀塩を分散することが好まし
い。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル酸、アク
リル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モ
ノエステル共重合体、アクリロメチルプロパンスルホン
酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カルボキシメ
チルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合
成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのア
ニオン性ポリマー、特開平7-350753号に記載の化合物、
あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界
面活性剤やその他のポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の自然界に
存在する高分子化合物を適宜選択して用いることができ
るが、ポリビニルアルコール類、水溶性のセルロース誘
導体が特に好ましい。分散助剤は、分散前に有機銀塩の
粉末またはウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、ス
ラリーとして分散機に送り込むのは一般的な方法である
が、予め有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒に
よる処理を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキと
しても良い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤に
よりpHコントロールしても良い。
In the dispersion operation, it is preferable to disperse the organic silver salt in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Examples of the dispersing agent include polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, a synthetic anionic polymer such as an acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and carboxymethyl. Starch, semi-synthetic anionic polymer such as carboxymethyl cellulose, alginic acid, anionic polymer such as pectic acid, the compound described in JP-A-7-350753,
Alternatively, known anionic, nonionic, cationic surfactants and other known polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, or naturally occurring polymer compounds such as gelatin Can be appropriately selected and used, but polyvinyl alcohols and water-soluble cellulose derivatives are particularly preferred. It is a general method that the dispersing aid is mixed with the organic silver salt powder or the organic silver salt in a wet cake state before dispersion and sent to a disperser as a slurry, but in a state where it is mixed with the organic silver salt in advance. And a heat treatment or a treatment with a solvent may be performed to obtain an organic silver salt powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion.

【0083】機械的に分散する以外にも、pHコントロー
ルすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存
在下でpHを変化させて微粒子化させても良い。このと
き、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使用しても良
く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去される。調製さ
れた分散物は、保存時の微粒子の沈降を抑える目的で撹
拌しながら保存したり、親水性コロイドにより粘性の高
い状態(例えば、ゼラチンを使用しゼリー状にした状
態)で保存したりすることもできる。また、保存時の雑
菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤を添加することも
できる。有機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量とし
て0.1〜5g/m2が好ましく、さらに好ましくは1〜3g/m2
ある。
Instead of mechanically dispersing, fine particles may be formed by coarsely dispersing in a solvent by controlling the pH and then changing the pH in the presence of a dispersing aid. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after the completion of the fine particle formation. The prepared dispersion is stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or stored in a highly viscous state by a hydrophilic colloid (for example, in a jelly state using gelatin). You can also. Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage. Organic silver salts can be used in a desired amount, preferably 0.1-5 g / m 2 as silver amount, more preferably from 1 to 3 g / m 2.

【0084】本発明の感光性熱現像画像形成材料は、有
機銀塩のための還元剤を含む。有機銀塩のための還元剤
は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質、好ましく
は有機物質であってよい。フェニドン、ハイドロキノン
およびカテコールなどの従来の写真現像剤は有用である
が、ヒンダードフェノール還元剤が好ましい。還元剤
は、画像形成層を有する面の銀1モルに対して5〜50モル
%含まれることが好ましく、10〜40モル%で含まれること
がさらに好ましい。還元剤の添加層は画像形成層を有す
る面のいかなる層でも良い。画像形成層以外の層に添加
する場合は銀1モルに対して10〜50モル%と多めに使用す
ることが好ましい。また、還元剤は現像時のみ有効に機
能を持つように誘導化されたいわゆるプレカーサーであ
ってもよい。有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の還元剤が特開昭46-6074号、同47-1238号、
同47-33621号、同49-46427号、同49-115540号、同50-14
334号、同50-36110号、同50-147711号、同51-32632号、
同51-1023721号、同51-32324号、同51-51933号、同52-8
4727号、同55-108654号、同56-146133号、同57-82828
号、同57-82829号、特開平6-3793号、米国特許3,667,95
86号、同3,679,426号、同3,751,252号、同3,751,255
号、同3,761,270号、同3,782,949号、同3,839,048号、
同3,928,686号、同5,464,738号、独国特許2321328号、
欧州特許692732号などに開示されている。例えば、フェ
ニルアミドオキシム、2-チエニルアミドオキシムおよび
p-フェノキシフェニルアミドオキシムなどのアミドオキ
シム;例えば4-ヒドロキシ-3,5-ジメトキシベンズアル
デヒドアジンなどのアジン;2,2'-ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオニル-β-フェニルヒドラジンとアスコルビ
ン酸との組合せのような脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラジドとアスコルビン酸との組合せ;ポリヒドロキシベ
ンゼンと、ヒドロキシルアミン、レダクトンおよび/ま
たはヒドラジンの組合せ(例えばハイドロキノンと、ビ
ス(エトキシエチル)ヒドロキシルアミン、ピペリジノヘ
キソースレダクトンまたはホルミル-4-メチルフェニル
ヒドラジンの組合せなど);フェニルヒドロキサム酸、p
-ヒドロキシフェニルヒドロキサム酸およびβ-アリニン
ヒドロキサム酸などのヒドロキサム酸;アジンとスルホ
ンアミドフェノールとの組合せ(例えば、フェノチアジ
ンと2,6-ジクロロ-4-ベンゼンスルホンアミドフェノー
ルなど);エチル-α-シアノ-2-メチルフェニルアセテー
ト、エチル-α-シアノフェニルアセテートなどのα-シ
アノフェニル酢酸誘導体;2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビ
ナフチル、6,6'-ジブロモ-2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビ
ナフチルおよびビス(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)メタン
に例示されるようなビス-β-ナフトール;ビス-β-ナフ
トールと1,3-ジヒドロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4
-ジヒドロキシベンゾフェノンまたは2',4'-ジヒドロキ
シアセトフェノンなど)の組合せ;3-メチル-1-フェニル
-5-ピラゾロンなどの、5-ピラゾロン;ジメチルアミノ
ヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘキ
ソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリドン
ヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクトン;
2,6-ジクロロ-4-ベンゼンスルホンアミドフェノールお
よびp-ベンゼンスルホンアミドフェノールなどのスルホ
ンアミドフェノール還元剤;2-フェニルインダン-1,3-
ジオンなど;2,2-ジメチル-7-t-ブチル-6-ヒドロキシク
ロマンなどのクロマン;2,6-ジメトキシ-3,5-ジカルボ
エトキシ-1,4-ジヒドロピリジンなどの1,4-ジヒドロピ
リジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2-ヒドロキシ-3
-t-ブチル-5-メチルフェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒド
ロキシ-3-メチルフェニル)プロパン、4,4-エチリデン-
ビス(2-t-ブチル-6-メチルフェノール)、1,1,-ビス(2-
ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチル
ヘキサンおよび2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフ
ェニル)プロパンなど);アスコルビン酸誘導体(例え
ば、パルミチン酸1-アスコルビル、ステアリン酸アスコ
ルビルなど);ならびにベンジルおよびビアセチルなど
のアルデヒドおよびケトン;3-ピラゾリドンおよびある
種のインダン-1,3-ジオン;クロマノール(トコフェロー
ルなど)などがある。特に好ましい還元剤としては、ビ
スフェノール、クロマノールである。
The photothermographic image-forming material of the present invention contains a reducing agent for an organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent is used in an amount of 5 to 50 mol based on 1 mol of silver on the surface having the image forming layer.
%, More preferably 10 to 40 mol%. The layer to which the reducing agent is added may be any layer on the side having the image forming layer. When it is added to a layer other than the image forming layer, it is preferable to use a relatively large amount of 10 to 50 mol% with respect to 1 mol of silver. Further, the reducing agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development. In a photothermographic material using an organic silver salt, a wide range of reducing agents are disclosed in JP-A-46-6074, JP-A-47-1238,
47-33621, 49-46427, 49-115540, 50-14
No. 334, No. 50-36110, No. 50-147711, No. 51-32632,
No. 51-1023721, No. 51-32324, No. 51-51933, No. 52-8
4727, 55-108654, 56-146133, 57-82828
No. 57-82829, JP-A-6-3793, U.S. Pat.
No. 86, No. 3,679,426, No. 3,751,252, No. 3,751,255
Nos. 3,761,270, 3,782,949, 3,839,048,
3,928,686, 5,464,738, German patent 2321328,
It is disclosed in European Patent No. 692732 and the like. For example, phenylamide oxime, 2-thienylamide oxime and
Amide oximes such as p-phenoxyphenylamide oxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; combinations of 2,2′-bis (hydroxymethyl) propionyl-β-phenylhydrazine with ascorbic acid A combination of such an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide and ascorbic acid; a combination of polyhydroxybenzene and hydroxylamine, reductone and / or hydrazine (eg, hydroquinone and bis (ethoxyethyl) hydroxylamine, piperidinohexose reductone Or a combination of formyl-4-methylphenylhydrazine, etc.); phenylhydroxamic acid, p
Hydroxamic acids such as -hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; combinations of azines with sulfonamidophenols (eg, phenothiazine and 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol); ethyl-α-cyano Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as 2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′-dihydroxy Bis-β-naphthol as exemplified by -1,1′-binaphthyl and bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane; bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives (eg, 2,4
-Dihydroxybenzophenone or 2 ', 4'-dihydroxyacetophenone); 3-methyl-1-phenyl
5-pyrazolone, such as -5-pyrazolone; reductones as exemplified by dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone;
Sulfonamidophenol reducing agents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-
Dione and the like; chromanes such as 2,2-dimethyl-7-t-butyl-6-hydroxychroman; 1,4-dihydropyridines such as 2,6-dimethoxy-3,5-dicarbethoxy-1,4-dihydropyridine; Bisphenols (e.g., bis (2-hydroxy-3
-t-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4,4-ethylidene-
Bis (2-t-butyl-6-methylphenol), 1,1, -bis (2-
Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, etc.); ascorbic acid derivatives (for example, 1-palmitic acid) And aldehydes and ketones such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidones and certain indan-1,3-diones; chromanols (such as tocopherols). Particularly preferred reducing agents are bisphenol and chromanol.

【0085】本発明で用いる還元剤は、溶液、粉末、固
体微粒子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固
体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミ
ル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェ
ットミル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体
微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。画像を向
上させる「色調剤」として知られる添加剤を含むと光学
濃度が高くなることがある。また、色調剤は黒色銀画像
を形成させるうえでも有利になることがある。色調剤は
画像形成層を有する面に銀1モルあたりの0.1〜50%モル
の量含まれることが好ましく、0.5〜20%モル含まれるこ
とがさらに好ましい。また、色調剤は現像時のみ有効に
機能を持つように誘導化されたいわゆるプレカーサーで
あってもよい。
The reducing agent used in the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used. The addition of additives known as "toning agents" that improve the image may increase the optical density. The toning agent may also be advantageous in forming a black silver image. The color-toning agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 50% mol, more preferably 0.5 to 20% mol, per mol of silver on the surface having the image forming layer. Further, the toning agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.

【0086】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の色調剤が特開昭46-6077号、同47-10282
号、同49-5019号、同49-5020号、同49-91215号、同49-9
1215号、同50-2524号、同50-32927号、同50-67132号、
同50-67641号、同50-114217号、同51-3223号、同51-279
23号、同52-14788号、同52-99813号、同53-1020号、同5
3-76020号、同54-156524号、同54-156525号、同61-1836
42号、特開平4-56848号、特公昭49-10727号、同54-2033
3号、米国特許3,080,254号、同3,446,648号、同3,782,9
41号、同4,123,282号、同4,510,236号、英国特許138079
5号、ベルギー特許841910号などに開示されている。色
調剤の例は、フタルイミドおよびN-ヒドロキシフタルイ
ミド;スクシンイミド、ピラゾリン-5-オン、ならびに
キナゾリノン、3-フェニル-2-ピラゾリン-5-オン、1-フ
ェニルウラゾール、キナゾリンおよび2,4-チアゾリジン
ジオンのような環状イミド;ナフタルイミド(例えば、N
-ヒドロキシ-1,8-ナフタルイミド);コバルト錯体(例え
ば、コバルトヘキサミントリフルオロアセテート);3-
メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2,4-ジメルカプトピ
リミジン、3-メルカプト-4,5--ジフェニル-1,2,4-トリ
アゾールおよび2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾー
ルに例示されるメルカプタン;N-(アミノメチル)アリー
ルジカルボキシイミド、(例えば、(N,N-ジメチルアミノ
メチル)フタルイミドおよびN,N-(ジメチルアミノメチ
ル)-ナフタレン-2,3-ジカルボキシイミド);ならびにブ
ロック化ピラゾール、イソチウロニウム誘導体およびあ
る種の光退色剤(例えば、N,N'-ヘキサメチレンビス(1-
カルバモイル-3,5-ジメチルピラゾール)、1,8-(3,6-ジ
アザオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセ
テート)および2-トリブロモメチルスルホニル)-(ベンゾ
チアゾール));ならびに3-エチル-5[(3-エチル-2-ベン
ゾチアゾリニリデン)-1-メチルエチリデン]-2-チオ-2,4
-オキサゾリジンジオン;フタラジノン、フタラジノン
誘導体もしくは金属塩、または4-(1-ナフチル)フタラジ
ノン、6-クロロフタラジノン、5,7-ジメトキシフタラジ
ノンおよび2,3-ジヒドロ-1,4-フタラジンジオンなどの
誘導体;フタラジノンとフタル酸誘導体(例えば、フタ
ル酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタル酸およびテト
ラクロロ無水フタル酸など)との組合せ;フタラジン、
フタラジン誘導体(たとえば、4-(1-ナフチル)フタラジ
ン、6-クロロフタラジン、5,7-ジメトキシフタラジン、
6-iso-ブチルフタラジン、6-tert-ブチルフタラジン、
5,7-ジメチルフタラジン、および2,3-ジヒドロフタラジ
ンなどの誘導体)もしくは金属塩;フタラジンおよびそ
の誘導体とフタル酸誘導体(例えば、フタル酸、4-メチ
ルフタル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水
フタル酸など)との組合せ;キナゾリンジオン、ベンズ
オキサジンまたはナフトオキサジン誘導体;色調調節剤
としてだけでなくその場でハロゲン化銀生成のためのハ
ライドイオンの源としても機能するロジウム錯体、例え
ばヘキサクロロロジウム(III)酸アンモニウム、臭化ロ
ジウム、硝酸ロジウムおよびヘキサクロロロジウム(II
I)酸カリウムなど;無機過酸化物および過硫酸塩、例え
ば、過酸化二硫化アンモニウムおよび過酸化水素;1,3-
ベンズオキサジン-2,4-ジオン、8-メチル-1,3-ベンズ
オキサジン-2,4-ジオンおよび6-ニトロ-1,3-ベンズオキ
サジン-2,4-ジオンなどのベンズオキサジン-2,4-ジオ
ン;ピリミジンおよび不斉-トリアジン(例えば、2,4-ジ
ヒドロキシピリミジン、2-ヒドロキシ-4-アミノピリミ
ジンなど)、アザウラシル、およびテトラアザペンタレ
ン誘導体(例えば、3,6-ジメルカプト-1,4-ジフェニル-1
H,4H-2,3a,5,6a-テトラアザペンタレン、および1,4-ジ
(o-クロロフェニル)-3,6-ジメルカプト-1H,4H-2,3a,5,6
a-テトラアザペンタレン)などがある。
In a photothermographic material utilizing an organic silver salt, a wide range of color toning agents are disclosed in JP-A-46-6077 and JP-A-47-10282.
Nos. 49-5019, 49-5020, 49-91215, 49-9
No. 1215, No. 50-2524, No. 50-32927, No. 50-67132,
No. 50-67641, No. 50-114217, No. 51-3223, No. 51-279
No. 23, No. 52-14788, No. 52-99813, No. 53-1020, No. 5
3-76020, 54-156524, 54-156525, 61-1836
No. 42, JP-A-4-56848, JP-B-49-10727, 54-2033
No. 3, U.S. Pat.Nos. 3,080,254, 3,446,648, 3,782,9
No. 41, No. 4,123,282, No. 4,510,236, British Patent 138079
No. 5, Belgian Patent No. 841910 and the like. Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide, pyrazolin-5-one, and quinazolinone, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione Cyclic imides such as; naphthalimides (eg, N
-Hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-
Mercapto-1,2,4-triazole, 2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-4,5-diphenyl-1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole N- (aminomethyl) aryldicarboximides, such as (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide and N, N- (dimethylaminomethyl) -naphthalene-2,3-dicarboximide ); And blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N'-hexamethylenebis (1-
Carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2-tribromomethylsulfonyl)-(benzothiazole)); and 3-ethyl- 5 [(3-ethyl-2-benzothiazolinylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,4
-Oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione A combination of phthalazinone and a phthalic acid derivative (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride, etc.); phthalazine,
Phthalazine derivatives (e.g., 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine,
6-iso-butylphthalazine, 6-tert-butylphthalazine,
Derivatives such as 5,7-dimethylphthalazine and 2,3-dihydrophthalazine) or metal salts; phthalazine and its derivatives and phthalic acid derivatives (for example, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachloro Quinazolinedione, benzoxazine or naphthoxazine derivatives; rhodium complexes, such as hexachlororhodium, which function not only as a color tone control agent but also as a source of halide ions for silver halide formation in situ (III) ammonium, rhodium bromide, rhodium nitrate and hexachlororhodium (II
I) Potassium acid and the like; inorganic peroxides and persulfates, such as ammonium disulfide and hydrogen peroxide;
Benzoxazine-2,4 such as benzoxazine-2,4-dione, 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione -Diones; pyrimidines and asymmetric-triazines (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine, 2-hydroxy-4-aminopyrimidine, etc.), azauracil, and tetraazapentalene derivatives (eg, 3,6-dimercapto-1,4 -Diphenyl-1
H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene, and 1,4-di
(o-chlorophenyl) -3,6-dimercapto-1H, 4H-2,3a, 5,6
a-tetraazapentalene).

【0087】本発明で用いる色調剤は、溶液、粉末、固
体微粒子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固
体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミ
ル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェ
ットミル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体
微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。本発明の
感光性熱現像画像形成材料における画像形成層のうち少
なくとも1層は以下に述べるポリマーラテックスを全バ
インダーの50wt%以上含有する画像形成層であることが
好ましい。(以降この画像形成層を「本発明における画
像形成層」、バインダーに用いるポリマーラテックスを
「本発明で用いるポリマーラテックス」と表す。)ま
た、ポリマーラテックスは画像形成層だけではなく、保
護層やバック層に用いてもよく、特に寸法変化が問題と
なる印刷用途に本発明の感光性熱現像画像形成材料を用
いる場合には、保護層やバック層にもポリマーラテック
スを用いる必要がある。ただしここで言う「ポリマーラ
テックス」とは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子と
して水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態
としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳
化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポ
リマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身
が分子状分散したものなどいずれでもよい。なお本発明
で用いるポリマーラテックスについては「合成樹脂エマ
ルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(197
8))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、
鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(199
3))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊
行会発行(1970))」などに記載されている。分散粒子の
平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程度
の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に
制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径
分布を持つものでもよい。
The toning agent used in the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used. At least one of the image forming layers in the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention is preferably an image forming layer containing the polymer latex described below in an amount of 50% by weight or more of the total binder. (Hereinafter, this image forming layer is referred to as “image forming layer in the present invention” and the polymer latex used for the binder is referred to as “polymer latex used in the present invention.” When the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention is used for printing in which dimensional change is a problem, it is necessary to use a polymer latex for the protective layer and the back layer. However, the "polymer latex" referred to here is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. The dispersion state is such that the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partially dispersed in polymer molecules and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of them may be used. For the polymer latex used in the present invention, "Synthetic resin emulsion (Taira Okuda, edited by Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Kankokai (197
8))), `` Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka,
Edited by Souichi Suzuki and Keiji Kasahara, published by The Polymer Publishing Association (199
3)) "and" Synthesis of Synthetic Latex (Souichi Muroi, published by Kobunshi Kankokai (1970)) "and the like. The average particle size of the dispersed particles is preferably in the range of 1 to 50,000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. There is no particular limitation on the particle size distribution of the dispersed particles, and those having a wide particle size distribution or those having a monodispersed particle size distribution may be used.

【0088】本発明で用いるポリマーラテックスとして
は通常の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆる
コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合コアと
シェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合があ
る。本発明の感光性熱現像画像形成材料においてバイン
ダーとして用いるポリマーラテックスのガラス転移温度
(Tg)は保護層、バック層と画像形成層とでは好まし
い範囲が異なる。画像形成層にあっては熱現像時に写真
有用素材の拡散を促すため、40℃以下であり、さらには
-30〜40℃が好ましい。保護層やバック層に用いる場合
には種々の機器と接触するために25〜70℃のガラス転移
温度が好ましい。本発明で用いるポリマーラテックスの
最低造膜温度(MFT)は-30℃〜90℃、より好ましくは0℃
〜70℃程度が好ましい。最低造膜温度をコントロールす
るために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤
ともよばれポリマーラテックスの最低造膜温度を低下さ
せる有機化合物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成
ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(197
0))」に記載されている。本発明で用いるポリマーラテ
ックスに用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹
脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹
脂、ポリオレフィン樹脂、またはこれらの共重合体など
がある。ポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれ
したポリマーでも、また架橋されたポリマーでも良い。
またポリマーとしては単一のモノマーが重合したいわゆ
るホモポリマーでも良いし、2種以上のモノマーが重合
したコポリマーでも良い。コポリマーの場合はランダム
コポリマーでもブロックコポリマーでも良い。ポリマー
の分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好ましくは1
0000〜100000程度か好ましい。分子量が小さすぎるもの
は画像形成層の力学強度が不十分であり、大きすぎるも
のは製膜性が悪く好ましくない。
The polymer latex used in the present invention may be a so-called core / shell type latex other than a polymer latex having a normal uniform structure. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell. The glass transition temperature (Tg) of the polymer latex used as a binder in the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention is preferably different between the protective layer, the back layer and the image forming layer. In the image forming layer, the temperature is 40 ° C. or less to promote the diffusion of useful photographic materials during thermal development.
-30 to 40 ° C is preferred. When used for the protective layer or the back layer, a glass transition temperature of 25 to 70 ° C. is preferable for contacting various devices. The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex used in the present invention is -30 ° C to 90 ° C, more preferably 0 ° C.
About 70 ° C. is preferable. A film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature. The film-forming assistant is also called a plasticizer and is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex.
0)) ". Acrylic resin as the polymer species used in the polymer latex used in the present invention,
Examples include a vinyl acetate resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a rubber resin, a vinyl chloride resin, a vinylidene chloride resin, a polyolefin resin, and a copolymer thereof. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer.
The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The polymer has a number average molecular weight of 5000 to 10000000, preferably 1
It is preferably about 10,000 to 100,000. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable.

【0089】本発明の感光性熱現像画像形成材料の画像
形成層のバインダーとして用いられるポリマーラテック
スの具体例としては以下のようなものがある。メチルメ
タクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポ
リマーのラテックス、メチルメタクリレート/2−エチ
ルヘキシルアクリレート/スチレン/アクリル酸コポリ
マーのラテックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸
コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビ
ニルベンゼン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、
メチルメタクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリ
マーのラテックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレー
ト/アクリロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテ
ックスなど。また、このようなポリマーは市販もされて
いて、以下のようなポリマーが利用できる。例えばアク
リル樹脂の例として、セビアンA-4635,46583、4601(以
上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、82
1、820、857(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリエス
テル樹脂としては、FINETEX ES650、611、675、850(以
上大日本インキ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イー
ストマンケミカル製)など、ポリウレタン樹脂としてはH
YDRAN AP10、20、30、40(以上大日本インキ化学(株)
製)など、ゴム系樹脂としてはLACSTAR 7310K、3307B、4
700H、7132C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol L
x416、410、438C、2507、(以上日本ゼオン(株)製)な
ど、塩化ビニル樹脂としてはG351、G576(以上日本ゼオ
ン(株)製)など、塩化ビニリデン樹脂としてはL502、L
513(以上旭化成工業(株)製)、アロンD7020、D504、D5
071(以上三井東圧(株)製)など、オレフィン樹脂として
はケミパールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)
などを挙げることができる。これらのポリマーは単独で
用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用
いても良い。
Specific examples of the polymer latex used as a binder for the image forming layer of the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention include the following. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer ,
Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer and the like. Such polymers are also commercially available, and the following polymers can be used. For example, as an example of an acrylic resin, Sebian A-4635,46583,4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 82
Polyester resins such as 1,820, 857 (all manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) include FINETEX ES650, 611, 675, 850 (all manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), WD-size, WMS (all Eastman H) as polyurethane resin
YDRAN AP10, 20, 30, 40 (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.)
LACSTAR 7310K, 3307B, 4
700H, 7132C (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Nipol L
x416, 410, 438C, 2507, (Nippon Zeon Co., Ltd.), etc., vinyl chloride resins such as G351, G576 (Nippon Zeon Co., Ltd.), etc., vinylidene chloride resins L502, L
513 (manufactured by Asahi Kasei Corporation), Aron D7020, D504, D5
071 (Mitsui Toatsu Co., Ltd.) and other olefin resins include Chemipearl S120 and SA100 (Mitsui Petrochemical Co., Ltd.)
And the like. These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary.

【0090】本発明における画像形成層は全バインダー
の50重量%以上が上記ポリマーラテックスであるが、70
重量%以上が上記ポリマーラテックスであることが好ま
しい。本発明における画像形成層には必要に応じて全バ
インダーの50重量%以下、好ましくは10重量%以下の範囲
でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなど
の親水性ポリマーを添加しても良い。これらの親水性ポ
リマーの添加量は画像形成層の全バインダーの30重量%
以下、さらには5重量%以下が好ましい。本発明における
画像形成層は水系の塗布液を塗布後乾燥して調製するこ
とが好ましい。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液
の溶媒(分散媒)の60wt%以上が水であることをいう。塗
布液の水以外の成分はメチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール、メチルセルソルブ、エ
チルセルソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルな
どの水混和性の有機溶媒を用いることができる。具体的
な溶媒組成の例としては以下のようなものがある。水/
メタノール=90/10、水/メタノール=70/30、水/エタ
ノール=90/10、水/イソプロパノール=90/10、水/ジ
メチルホルムアミド=95/5、水/メタノール/ジメチル
ホルムアミド=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホ
ルムアミド=90/5/5。(ただし数字はwt%を表す。)
In the image forming layer in the present invention, 50% by weight or more of the total binder is the above polymer latex.
It is preferable that the polymer latex accounts for at least% by weight. The image forming layer in the present invention has a hydrophilicity such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose in the range of 50% by weight or less, preferably 10% by weight or less of the total binder, if necessary. A polymer may be added. The amount of these hydrophilic polymers added is 30% by weight of the total binder of the image forming layer.
Below, more preferably 5% by weight or less. The image forming layer in the invention is preferably prepared by applying an aqueous coating solution and then drying. However, the term “aqueous” as used herein means that 60% by weight or more of the solvent (dispersion medium) of the coating liquid is water. As components other than water of the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used. Specific examples of the solvent composition include the following. water/
Methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 90/10, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95/5, water / methanol / dimethylformamide = 80/15 / 5, water / methanol / dimethylformamide = 90/5/5. (However, the numbers represent wt%.)

【0091】本発明における画像形成層は全バインダー
量は0.2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範囲が
好ましい。画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性
改良のための界面活性剤などを添加してもよい。本発明
における増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した
際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感でき
るもので有ればいかなるものでも良い。増感色素として
は、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックス
シアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロ
ホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色
素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用い
ることができる。本発明に使用される有用な増感色素は
例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17643IV-A項(1978年12
月p.23)、同Item1831X項(1979年8月p.437)に記載もしく
は引用された文献に記載されている。特に各種レーザー
イメージャー、スキャナー、イメージセッターや製版カ
メラの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色
素を有利に選択することができる。赤色光への分光増感
の例としては、He-Neレーザー、赤色半導体レーザーやL
EDなどのいわゆる赤色光源に対しては、特開昭54-18726
号に記載のI-1からI-38の化合物、特開平6-75322号に
記載のI-1からI-35の化合物および特開平7-287338号
に記載のI-1からI-34の化合物、特公昭55-39818号に
記載の色素1から20、特開昭62-284343号に記載のI-1か
らI-37の化合物および特開平7-287338号に記載のI-1
からI-34の化合物などが有利に選択される。
The total amount of the binder in the image forming layer in the invention is preferably in the range of 0.2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 to 15 g / m 2 . A crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the image forming layer. As the sensitizing dye in the present invention, any dye can be used as long as it can spectrally sensitize the silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on the silver halide grains. As the sensitizing dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, a complex cyanine dye, a complex merocyanine dye, a holo-holerocyanine dye, a styryl dye, a hemicyanine dye, an oxonol dye, a hemioxonol dye, and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 17643, Section IV-A (Dec. 1978
(P. 23) and Item 1831X (August 1979, p. 437). In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers, scanners, imagesetters and plate making cameras can be advantageously selected. Examples of spectral sensitization to red light include He-Ne laser, red semiconductor laser and L
For a so-called red light source such as an ED, see JP-A-54-18726.
Compounds of I-1 to I-38 described in JP-A-6-75322, compounds of I-1 to I-35 described in JP-A-6-75322, and compounds of I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338. Compounds, dyes 1 to 20 described in JP-B-55-39818, compounds of I-1 to I-37 described in JP-A-62-284343, and I-1 described in JP-A-7-287338.
And the compound of I-34 are advantageously selected.

【0092】750〜1400nmの波長領域の半導体レーザー
光源に対しては、シアニン、メロシアニン、スチリル、
ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノールおよび
キサンテン色素を含む種々の既知の色素により、スペク
トル的に有利に増感させることができる。有用なシアニ
ン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピ
ロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール
核、セレナゾール核およびイミダゾール核などの塩基性
核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染
料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒ
ダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン
核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリ
ノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核などの酸
性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニン色素に
おいて、イミノ基またはカルボキシル基を有するものが
特に効果的である。例えば、米国特許3,761,279号、同
3,719,495号、同3,877,943号、英国特許1,466,201号、
同1,469,117号、同1,422,057号、特公平3-10391号、同6
-52387号、特開平5-341432号、同6-194781号、同6-3011
41号に記載されたような既知の色素から適当に選択して
よい。本発明に用いられる色素の構造として特に好まし
いものは、チオエーテル結合含有置換基を有するシアニ
ン色素(例としては特開昭62-58239号、同3-138638号、
同3-138642号、同4-255840号、同5-72659号、同5-72661
号、同6-222491号、同2-230506号、同6-258757号、同6-
317868号、同6-324425号、特表平7-500926号、米国特許
5,541,054号に記載された色素)、カルボン酸基を有する
色素(例としては特開平3-163440号、6-301141号、米国
特許5,441,899号に記載された色素)、メロシアニン色
素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色素(特開昭4
7-6329号、同49-105524号、同51-127719号、同52-80829
号、同54-61517号、同59-214846号、同60-6750号、同63
-159841号、特開平6-35109号、同6-59381号、同7-14653
7号、同7-146537号、特表平55-50111号、英国特許1,46
7,638号、米国特許5,281,515号に記載された色素)が挙
げられる。また、J-bandを形成する色素として米国特許
5,510,236号、同3,871,887号の実施例5記載の色素、特
開平2-96131号、特開昭59-48753号が開示されており、
本発明に好ましく用いることができる。
For a semiconductor laser light source in the wavelength region of 750 to 1400 nm, cyanine, merocyanine, styryl,
A variety of known dyes, including hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, can be spectrally sensitized favorably. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus, such as a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a pyrroline nucleus, a pyridine nucleus, an oxazole nucleus, a thiazole nucleus, a selenazole nucleus and an imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus. Including. Among the above-mentioned cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, U.S. Pat.
3,719,495, 3,877,943, British Patent 1,466,201,
No. 1,469,117, No. 1,422,057, No. 3-10391, No. 6
-52387, JP-A-5-341432, JP-A-6-94781, JP-A-6-3011
The dye may be appropriately selected from known dyes as described in No. 41. Particularly preferred as the structure of the dye used in the present invention is a cyanine dye having a thioether bond-containing substituent (for example, JP-A-62-58239, JP-A-3-38638,
3-138642, 4-255840, 5-72659, 5-72661
Nos. 6-222491, 2-230506, 6-258757, 6-
No. 317868, No. 6-324425, Tokuyohei No. 7-500926, U.S. Patent
5,541,054), a dye having a carboxylic acid group (for example, JP-A-3-163440, 6-301141, the dye described in U.S. Pat. Cyanine dye (JP-A-4
7-6329, 49-105524, 51-127719, 52-80829
No. 54-61517, No. 59-214846, No. 60-6750, No. 63
No. -159841, JP-A-6-35109, JP-A-6-59381, JP-A-7-14653
No.7, No.7-146537, JP-T-Hei 55-50111, UK Patent 1,46
7,638 and US Pat. No. 5,281,515). In addition, U.S. Patent
Nos. 5,510,236 and 3,871,887, dyes described in Example 5, JP-A-2-96131 and JP-A-59-48753 are disclosed.
It can be preferably used in the present invention.

【0093】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
2種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はRe
search Disclosure 176巻17643(1978年12月発行)第23頁
IVのJ項、あるいは特公昭49-25500号、同43-4933号、特
開昭59-19032号、同59-192242号等に記載されている。
増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加せしめるには、そ
れらを直接乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、メ
タノール、エタノール、プロパノール、アセトン、メチ
ルセルソルブ、2,2,3,3-テトラフルオロプロパノール、
2,2,2-トリフルオロエタノール、3-メトキシ-1-プロパ
ノール、3-メトキシ-1-ブタノール、1-メトキシ-2-プロ
パノール、N,N-ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独も
しくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。ま
た、米国特許3,469,987号明細書等に開示されているよ
うに、色素を揮発性の有機溶剤に溶解し、該溶液を水ま
たは親水性コロイド中に分散し、この分散物を乳剤中へ
添加する方法、特公昭44-23389号、同44-27555号、同57
-22091号等に開示されているように、色素を酸に溶解
し、該溶液を乳剤中に添加したり、酸または塩基を共存
させて水溶液として乳剤中へ添加する方法、米国特許3,
822,135号、同4,006,025号明細書等に開示されているよ
うに界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイド分
散物としたものを乳剤中に添加する方法、特開昭53-102
733号、同58-105141号に開示されているように親水性コ
ロイド中に色素を直接分散させ、その分散物を乳剤中に
添加する方法、特開昭51-74624号に開示されているよう
に、レッドシフトさせる化合物を用いて色素を溶解し、
該溶液を乳剤中へ添加する方法を用いることもできる。
また、溶液に超音波を用いることもできる。
These sensitizing dyes may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. Combinations of sensitizing dyes are often used, especially for supersensitization. In addition to the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are Re.
search Disclosure Volume 176, 17643 (Issued December 1978) Page 23
IV, J, or JP-B-49-25500, JP-B-43-4933, JP-A-59-19032, and JP-A-59-192242.
The sensitizing dyes may be added to the silver halide emulsion by dispersing them directly in the emulsion or by adding water, methanol, ethanol, propanol, acetone, methylcellosolve, 2,2,3,3 -Tetrafluoropropanol,
Dissolved in a single or mixed solvent such as 2,2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy-1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, N, N-dimethylformamide May be added to the emulsion. Further, as disclosed in U.S. Pat.No. 3,469,987, a dye is dissolved in a volatile organic solvent, the solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid, and this dispersion is added to the emulsion. Method, JP-B-44-23389, 44-27555, 57
As disclosed in U.S. Pat. No. 2,220,91, a method of dissolving a dye in an acid and adding the solution to an emulsion, or adding an acid or a base to an emulsion as an aqueous solution in the presence of an acid or base, US Pat.
No. 822,135, 4,006,025, etc., a method of adding an aqueous solution or a colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion as disclosed in JP-A-53-102,
No. 733, a method of directly dispersing a dye in a hydrophilic colloid as disclosed in JP-A-58-105141, and adding the dispersion to an emulsion, as disclosed in JP-A-51-74624. In, dissolve the dye using a compound to red shift,
A method of adding the solution to the emulsion can also be used.
Also, ultrasonic waves can be used for the solution.

【0094】増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する
時期は、これまで有用であることが認められている乳剤
調製のいかなる工程中であってもよい。例えば米国特許
2,735,766号、同3,628,960号、同4,183,756号、同4,22
5,666号、特開昭58-184142号、同60-196749号等の明細
書に開示されているように、ハロゲン化銀の粒子形成工
程または/および脱塩前の時期、脱銀工程中および/ま
たは脱塩後から化学熟成の開始前までの時期、特開昭58
-113920号等の明細書に開示されているように、化学熟
成の直前または工程中の時期、化学熟成後、塗布までの
時期の乳剤が塗布される前ならばいかなる時期、工程に
おいて添加されてもよい。また、米国特許4,225,666
号、特開昭58-7629号等の明細書に開示されているよう
に、同一化合物を単独で、または異種構造の化合物と組
み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学熟成工程中ま
たは化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成の前または
工程中と完了後とに分けるなどして分割して添加しても
よく、分割して添加する化合物および化合物の組み合わ
せの種類を変えて添加してもよい。本発明における増感
色素の使用量としては感度やカブリなどの性能に合わせ
て所望の量でよいが、感光性層のハロゲン化銀1モル当
たり10-6〜1モルが好ましく、10-4〜10-1モルがさらに
好ましい。
The sensitizing dye may be added to the silver halide emulsion at any time during the preparation of the emulsion which has been found to be useful. US Patent
2,735,766, 3,628,960, 4,183,756, 4,22
No. 5,666, JP-A-58-184142, JP-A-60-196749, etc., as disclosed in the silver halide grain forming step or / and the time before desalting, during the desilvering step and / or Alternatively, from the time after desalting to before the start of chemical ripening,
As disclosed in the specification such as -113920, the timing immediately before or during chemical ripening, at any time after the chemical ripening and before coating, the emulsion is added at any time during the process. Is also good. U.S. Pat. No. 4,225,666
As disclosed in the specification such as JP-A-58-7629, the same compound may be used alone or in combination with a compound having a different structure, for example, during the particle forming step and during the chemical ripening step or when the chemical ripening is completed. May be added separately, such as before or after chemical ripening or during the process and after completion, or may be added by changing the type of compound and compound combination to be added and divided. Good. The amount of the sensitizing dye used in the present invention may be a desired amount in accordance with the performance such as sensitivity and fog, but is preferably 10 -6 to 1 mol, more preferably 10 -4 to 1 mol per mol of silver halide in the photosensitive layer. 10 -1 mol is more preferred.

【0095】本発明におけるハロゲン化銀乳剤または/
および有機銀塩は、カブリ防止剤、安定剤および安定剤
前駆体によって、付加的なかぶりの生成に対して更に保
護され、在庫貯蔵中における感度の低下に対して安定化
することができる。単独または組合せて使用することが
できる適当なカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体
は、米国特許第2,131,038号および同第2,694,716号に記
載のチアゾニウム塩、米国特許第2,886,437号および同
第2,444,605号に記載のアザインデン、米国特許第2,72
8,663号に記載の水銀塩、米国特許第3,287,135号に記載
のウラゾール、米国特許第3,235,652号に記載のスルホ
カテコール、英国特許第623,448号に記載のオキシム、
ニトロン、ニトロインダゾール、米国特許第2,839,405
号に記載の多価金属塩、米国特許第3,220,839号に記載
のチウロニウム塩、ならびに米国特許第2,566,263号お
よび同第2,597,915号に記載のパラジウム、白金および
金塩、米国特許第4,108,665号および同第4,442,202号に
記載のハロゲン置換有機化合物、米国特許第4,128,557
号および同第4,137,079号、第4,138,365号および同第4,
459,350号に記載のトリアジンならびに米国特許第4,41
1,985号に記載のリン化合物などがある。
The silver halide emulsion according to the invention or /
And the organic silver salts can be further protected against the formation of additional fog by antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors, and can be stabilized against reduced sensitivity during stock storage. Suitable antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors that can be used alone or in combination are the thiazonium salts described in U.S. Pat.Nos. 2,131,038 and 2,694,716, U.S. Pat. Azaindene, U.S. Pat.
8,663 mercury salt, U.S. Pat.No. 3,287,135 urazole, U.S. Pat.
Nitron, nitroindazole, U.S. Patent No. 2,839,405
No. 3,220,839, thiuronium salts, and U.S. Pat.Nos. 2,566,263 and 2,597,915, palladium, platinum and gold salts, U.S. Pat.Nos. 4,108,665 and 4,442,202 No. 4,128,557
Nos. 4,137,079 and 4,138,365 and 4,
No. 4,59,350 and U.S. Pat.
And the phosphorus compounds described in 1,985.

【0096】本発明に好ましく用いられるカブリ防止剤
は有機ハロゲン化物であり、例えば、特開昭50-119624
号、同50-120328号、同51-121332号、同54-58022号、同
56-70543号、同56-99335号、同59-90842号、同61-12964
2号、同62-129845号、特開平6-208191号、同7-5621号、
同7-2781号、同8-15809号、米国特許第5,340,712号、同
5,369,000号、同5,464,737号に開示されているような化
合物が挙げられる。本発明に好ましく用いられるカブリ
防止剤としてサリチル酸誘導体も挙げられ、例として
は、特願平11-5709号に記載の式(I)で表される化合
物であり、具体例はA-1〜A-60の化合物から選択するこ
とができる。本発明で用いるカブリ防止剤は、溶液、粉
末、固体微粒子分散物などいかなる方法で添加してもよ
い。固体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボー
ルミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、
ジェットミル、ローラーミルなど)で行われる。また、
固体微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。
The antifoggant preferably used in the present invention is an organic halide, for example, as described in JP-A-50-119624.
No. 50-120328, No. 51-121332, No. 54-58022, No.
56-70543, 56-99335, 59-90842, 61-12964
No. 2, 62-129845, JP-A-6-208191, 7-5621,
Nos. 7-2781, 8-15809, U.S. Pat.No. 5,340,712,
Compounds such as those disclosed in US Pat. Nos. 5,369,000 and 5,464,737 can be mentioned. Salicylic acid derivatives are also preferred as the antifoggant preferably used in the present invention, and examples thereof include compounds represented by formula (I) described in Japanese Patent Application No. 11-5709, and specific examples are A-1 to A-1. -60 compounds. The antifoggant used in the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. Solid fine particle dispersion is known micronization means (for example, ball mill, vibrating ball mill, sand mill, colloid mill,
Jet mill, roller mill, etc.). Also,
When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0097】本発明を実施するために必要ではないが、
乳剤層にカブリ防止剤として水銀(II)塩を加えることが
有利なことがある。この目的に好ましい水銀(II)塩は、
酢酸水銀および臭化水銀である。本発明に使用する水銀
の添加量としては、塗布された銀1モル当たり好ましく
は1nモル〜1mモル、さらに好ましくは10nモル〜100μm
モルの範囲である。本発明の感光性熱現像画像形成材料
は高感度化やカブリ防止を目的として安息香酸類を含有
しても良い。安息香酸類はいかなる安息香酸誘導体でも
よいが、好ましい構造の例としては、米国特許4,784,93
9号、同4,152,160号、特願平8-151242号、同8-151241
号、同8-98051号などに記載の化合物が挙げられる。安
息香酸類は感光材料のいかなる部位に添加しても良い
が、添加層としては感光性層を有する面の層に添加する
ことが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさら
に好ましい。安息香酸類の添加時期としては塗布液調製
のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加
する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる
工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好まし
い。安息香酸類の添加法としては粉末、溶液、微粒子分
散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色
素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液とし
て添加しても良い。安息香酸類の添加量としてはいかな
る量でも良いが、銀1モル当たり1μモル以上2モル以下
が好ましく、1ミリモル以上0.5モル以下がさらに好まし
い。
Although not required to practice the present invention,
It may be advantageous to add a mercury (II) salt as an antifoggant to the emulsion layer. Preferred mercury (II) salts for this purpose are
Mercury acetate and mercury bromide. The addition amount of mercury used in the present invention is preferably 1 nmol to 1 mmol, more preferably 10 nmol to 100 μm per mol of silver applied.
Range of moles. The photosensitive heat-developable image forming material of the present invention may contain benzoic acids for the purpose of increasing the sensitivity and preventing fog. The benzoic acids may be any benzoic acid derivative, but examples of preferred structures include those described in U.S. Pat.
No. 9, No. 4, 152, 160, Japanese Patent Application No. 8-151242, No. 8-151241
And the compounds described in JP-A-8-98051 and the like. The benzoic acid may be added to any part of the photosensitive material, but it is preferably added to the layer having the photosensitive layer, more preferably to the organic silver salt-containing layer. The benzoic acid may be added at any time during the preparation of the coating solution, and when added to the organic silver salt-containing layer, may be added at any time from the preparation of the organic silver salt to the coating solution, but after the preparation of the organic silver salt. To just before application. The benzoic acid may be added by any method such as powder, solution, and fine particle dispersion. Further, it may be added as a solution mixed with other additives such as a sensitizing dye, a reducing agent and a color tone agent. The benzoic acid may be added in any amount, but is preferably 1 μmol or more and 2 mol or less, more preferably 1 mmol or more and 0.5 mol or less per 1 mol of silver.

【0098】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar-SM、Ar-S-S-Ar
で表されるものが好ましい。式中、Mは水素原子または
アルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、イオ
ウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム原子を有する芳
香環または縮合芳香環である。好ましくは、複素芳香環
はベンズイミダゾール、ナフスイミダゾール、ベンゾチ
アゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナ
フスオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラ
ゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、ト
リアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、トリアジ
ン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プ
リン、キノリンまたはキナゾリノンである。この複素芳
香環は、例えば、ハロゲン(例えば、BrおよびCl)、ヒド
ロキシ、アミノ、カルボキシ、アルキル(例えば、1個以
上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するも
の)、アルコキシ(例えば、1個以上の炭素原子、好まし
くは1〜4個の炭素原子を有するもの)およびアリール
(置換基を有していてもよい)からなる置換基群から選
択されるものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香
族化合物をとしては、2-メルカプトベンズイミダゾー
ル、2-メルカプトベンズオキサゾール、2-メルカプトベ
ンゾチアゾール、2-メルカプト-5-メチルベンズイミダ
ゾール、6-エトキシ-2-メルカプトベンゾチアゾール、
2,2'-ジチオビス-(ベンゾチアゾール、3-メルカプト-1,
2,4-トリアゾール、4,5-ジフェニル-2-イミダゾールチ
オール、2-メルカプトイミダゾール、1-エチル-2-メル
カプトベンズイミダゾール、2-メルカプトキノリン、8-
メルカプトプリン、2-メルカプト-4(3H)-キナゾリノ
ン、7-トリフルオロメチル-4-キノリンチオール、2,3,
5,6-テトラクロロ-4-ピリジンチオール、4-アミノ-6-ヒ
ドロキシ-2-メルカプトピリミジンモノヒドレート、2-
アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、3-アミノ
-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4-ヒドキロシ-2-
メルカプトピリミジン、2-メルカプトピリミジン、4,6-
ジアミノ-2-メルカプトピリミジン、2-メルカプト-4-メ
チルピリミジンヒドロクロリド、3-メルカプト-5-フェ
ニル-1,2,4-トリアゾール、1-フェニル-5-メルカプトテ
トラゾール、3-(5-メルカプトテトラゾール)-ベンゼン
スルフォン酸ナトリウム、N-メチル-N'-[3-(5-メルカプ
トテトラゾリル)フェニル]ウレア、2-メルカプト-4-フ
ェニルオキサゾールなどが挙げられるが、本発明はこれ
らに限定されない。これらのメルカプト化合物の添加量
としては乳剤層中に銀1モル当たり0.0001〜1モルの範
囲が好ましく、さらに好ましくは、銀の1モル当たり0.0
01〜0.1モルの量である。
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound are contained in order to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. be able to. When using a mercapto compound in the present invention, any structure may be used, but Ar-SM, Ar-SS-Ar
Is preferably represented by Wherein M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic or fused aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine , Pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring includes, for example, halogens (e.g., Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy, alkyl (e.g., those having one or more carbon atoms, preferably 1-4 carbon atoms), alkoxy ( For example, it may have one selected from a substituent group consisting of one or more carbon atoms, preferably having one to four carbon atoms) and aryl (which may have a substituent). Good. As mercapto-substituted heteroaromatic compounds, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole,
2,2'-dithiobis- (benzothiazole, 3-mercapto-1,
2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-
Mercaptopurine, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,3,
5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate, 2-
Amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino
-5-Mercapto-1,2,4-triazole, 4-hydrokilos-2-
Mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-
Diamino-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 3- (5-mercaptotetrazole ) -Sodium benzenesulfonate, N-methyl-N '-[3- (5-mercaptotetrazolyl) phenyl] urea, 2-mercapto-4-phenyloxazole, and the like, but the invention is not limited thereto. . The addition amount of these mercapto compounds is preferably in the range of 0.0001 to 1 mol per mol of silver in the emulsion layer, more preferably 0.01 to 1 mol per mol of silver.
It is in an amount of from 01 to 0.1 mol.

【0099】本発明における感光性層には、可塑剤およ
び潤滑剤として多価アルコール(例えば、米国特許第2,9
60,404号に記載された種類のグリセリンおよびジオー
ル)、米国特許第2,588,765号および同第3,121,060号に
記載の脂肪酸またはエステル、英国特許第955,061号に
記載のシリコーン樹脂などを用いることができる。本発
明の感光性熱現像画像形成材料には、画像形成層の付着
防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表
面保護層のバインダーとしてはいかなるポリマーでもよ
いが、カルボン酸残基を有するポリマーを100mg/m2以上
5g/m2以下含むことが好ましい。ここでいうカルボキシ
ル残基を有するポリマーとしては天然高分子(ゼラチ
ン、アルギン酸など)、変成天然高分子(カルボキシメチ
ルセルロース、フタル化ゼラチンなど)、合成高分子(ポ
リメタクリレート、ポリアクリレート、ポリアルキルメ
タクリレート/アクリレート共重合体、ポリスチレン/ポ
リメタクリレート共重合体など)などがあげられる。該
ポリマーのカルボキシ残基の含有量としてはポリマー10
0g当たり10mmol以上1.4mol以下であることが好ましい。
また、カルボン酸残基はアルカリ金属イオン、アルカリ
土類金属イオン、有機カチオンなどと塩を形成してもよ
い。表面保護層としては、いかなる付着防止材料を使用
してもよい。付着防止材料の例としては、ワックス、シ
リカ粒子、スチレン含有エラストマー性ブロックコポリ
マー(例えば、スチレン-ブタジエン-スチレン、スチレ
ン-イソプレン-スチレン)、酢酸セルロース、セルロー
スアセテートブチレート、セルロースプロピオネートや
これらの混合物などがある。また、表面保護層には架橋
のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを
添加してもよい。
In the photosensitive layer according to the present invention, a polyhydric alcohol (for example, US Pat.
Glycerin and diols of the type described in U.S. Pat. No. 60,404), fatty acids or esters described in U.S. Pat. Nos. 2,588,765 and 3,121,060, and silicone resins described in British Patent No. 955,061. The photosensitive heat-developable image forming material of the present invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. Any polymer may be used as the binder for the surface protective layer, but a polymer having a carboxylic acid residue is 100 mg / m 2 or more.
It is preferable to contain 5 g / m 2 or less. Examples of the polymer having a carboxyl residue include natural polymers (gelatin, alginic acid, etc.), modified natural polymers (carboxymethylcellulose, phthalated gelatin, etc.), synthetic polymers (polymethacrylate, polyacrylate, polyalkyl methacrylate / acrylate). Copolymer, polystyrene / polymethacrylate copolymer) and the like. The content of the carboxy residue of the polymer is 10
It is preferably from 10 mmol to 1.4 mol per 0 g.
Further, the carboxylic acid residue may form a salt with an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, an organic cation, or the like. Any anti-adhesion material may be used as the surface protective layer. Examples of anti-adhesion materials include wax, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers (e.g., styrene-butadiene-styrene, styrene-isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate and the like. And mixtures. Further, a crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the surface protective layer.

【0100】画像形成層もしくは画像形成層の保護層に
は、米国特許第3,253,921号、同第2,274,782号、同第2,
527,583号および同第2,956,879号に記載されているよう
な光吸収物質およびフィルター染料を含む写真要素にお
いて使用することができる。また、例えば米国特許第3,
282,699号に記載のように染料を媒染することができ
る。フィルター染料の使用量としては露光波長での吸光
度が0.1〜3が好ましく、0.2〜1.5が特に好ましい。本発
明の感光性熱現像画像形成材料における感光性層には色
調改良、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔
料を用いることができる。感光性層に用いる染料および
顔料はいかなるものでもよいが、例えばカラーインデッ
クス記載の顔料や染料があり、具体的にはピラゾロアゾ
ール染料、アントラキノン染料、アゾ染料、アゾメチン
染料、オキソノール染料、カルボシアニン染料、スチリ
ル染料、トリフェニルメタン染料、インドアニリン染
料、インドフェノール染料、フタロシアニンをはじめと
する有機顔料、無機顔料などが挙げられる。本発明に用
いられる好ましい染料としてはアントラキノン染料(例
えば特開平5-341441号記載の化合物1〜9、特開平5-1651
47号記載の化合物3-6〜18および3-23〜38など)、アゾメ
チン染料(特開平5-341441号記載の化合物17〜47など)、
インドアニリン染料(例えば特開平5-289227号記載の化
合物11〜19、特開平5-341441号記載の化合物47、特開平
5-165147号記載の化合物2-10〜11など)およびアゾ染料
(特開平5-341441号記載の化合物10〜16)が挙げられる。
これらの染料の添加法としては、溶液、乳化物、固体微
粒子分散物、高分子媒染剤に媒染された状態などいかな
る方法でも良い。これらの化合物の使用量は目的の吸収
量によって決められるが、一般的に1m2当たり1μg以上
1g以下の範囲で用いることが好ましい。
As the image forming layer or the protective layer of the image forming layer, US Pat. No. 3,253,921, US Pat. No. 2,274,782, US Pat.
It can be used in photographic elements containing light absorbing materials and filter dyes as described in 527,583 and 2,956,879. Also, for example, U.S. Pat.
Dyes can be mordant as described in 282,699. The amount of the filter dye used is preferably such that the absorbance at the exposure wavelength is 0.1 to 3, and particularly preferably 0.2 to 1.5. Various dyes and pigments can be used in the photosensitive layer in the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention from the viewpoint of improving color tone and preventing irradiation. Dyes and pigments used in the photosensitive layer may be any, for example, pigments and dyes described in the Color Index, specifically, pyrazoloazole dye, anthraquinone dye, azo dye, azomethine dye, oxonol dye, carbocyanine dye , Styryl dyes, triphenylmethane dyes, indoaniline dyes, indophenol dyes, organic pigments such as phthalocyanine, and inorganic pigments. Preferred dyes used in the present invention include anthraquinone dyes (e.g., compounds 1 to 9 described in JP-A-5-341441, JP-A-5-1651).
No. 47 described compounds 3-6-18 and 3-23-38), azomethine dyes (such as compounds 17-47 described in JP-A-5-341441),
Indoaniline dyes (e.g., compounds 11 to 19 described in JP-A-5-289227, compound 47 described in JP-A-5-341441,
5-165147 No. 2-10 to 11) and azo dyes
(Compounds 10 to 16 described in JP-A-5-341441).
As a method for adding these dyes, any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, and a state in which the dye is mordanted with a polymer mordant may be used. The amount of these compounds is determined by absorption of the purpose, generally 1 m 2 per 1μg more
It is preferable to use it in a range of 1 g or less.

【0101】本発明における感光性熱現像画像形成材料
は、支持体の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀
乳剤を含む感光性層を有し、他方の側にバック層を有す
る、いわゆる片面感光材料であることが好ましい。本発
明においてバック層は、所望の範囲での最大吸収が約0.
3以上2.0以下であることが好ましい。所望の範囲が750
〜1400nmである場合には、750〜360nmにおいての光学濃
度が0.005以上0.5未満であることが好ましく、さらに好
ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度を有するハレーシ
ョン防止層であることが好ましい。所望の範囲が750nm
以下である場合には、画像形成前の所望範囲の最大吸収
が0.3以上2.0以下であり、さらに画像形成後の360〜750
nmの光学濃度が0.005以上0.3未満になるようなハレーシ
ョン防止層であることが好ましい。画像形成後の光学濃
度を上記の範囲に下げる方法としては特に制限はない
が、例えばベルギー特許第733,706号に記載されたよう
に染料による濃度を加熱による消色で低下させる方法、
特開昭54-17833号に記載の光照射による消色で濃度を低
下させる方法等が挙げられる。
The photosensitive heat-developable image-forming material according to the present invention has a support having at least one photosensitive layer containing a silver halide emulsion on one side and a back layer on the other side, that is, a so-called one-sided surface. It is preferably a photosensitive material. In the present invention, the back layer has a maximum absorption of about 0.
It is preferably from 3 to 2.0. Desired range is 750
When it is from 1 to 1400 nm, the optical density at 750 to 360 nm is preferably from 0.005 to less than 0.5, more preferably an antihalation layer having an optical density from 0.001 to less than 0.3. Desired range is 750nm
If not more than the maximum absorption of the desired range before image formation is 0.3 or more and 2.0 or less, and further after 360-750 after image formation.
It is preferable that the antihalation layer has an optical density of 0.005 or more and less than 0.3. There is no particular limitation on the method of reducing the optical density after image formation to the above range, for example, a method of reducing the density by dyeing by heating to reduce the density by heating as described in Belgian Patent No. 733,706,
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 54-17833 discloses a method of reducing the density by decoloring by light irradiation.

【0102】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、該染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、処理後
に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層の好ま
しい吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合
物でも良い。例えば以下に挙げるものが開示されている
が本発明はこれに限定されるものではない。単独の染料
としては特開昭59-56458号、特開平2-216140号、同7-13
295号、同7-11432号、米国特許5,380,635号記載、特開
平2-68539号公報第13頁左下欄1行目から同第14頁左下欄
9行目、同3-24539号公報第14頁左下欄から同第16頁右下
欄記載の化合物があり、処理で消色する染料としては特
開昭52-139136号、同53-132334号、同56-501480号、同5
7-16060号、同57-68831号、同57-101835号、同59-18243
6号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭48-33692
号、同50-16648号、特公平2-41734号、米国特許4,088,4
97号、同4,283,487号、同4,548,896号、同5,187,049号
がある。本発明においてバック層の好適なバインダーは
透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマー合
成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形
成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポリ
(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロース、セ
ルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプン、ポ
リ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩
化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレン-無
水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニトリル)、
コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリ(ビニルアセター
ル)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)
類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エ
ポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセ
テート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類があ
る。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションか
ら被覆形成してもよい。
When an antihalation dye is used in the present invention, the dye has a desired absorption in a desired range, has a sufficiently low absorption in the visible region after treatment, and has a desirable absorbance spectrum shape of the back layer. Any compound can be used as long as it is possible. For example, the following are disclosed, but the present invention is not limited thereto. As a single dye, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140, 7-13
No. 295, No. 7-11432, U.S. Pat.No.5,380,635, JP-A-2-688539, page 13, lower left column, line 1 to page 14, lower left column
On the ninth line, JP-A-3-24539, there are compounds described in the lower right column of page 14 to the lower right column of page 16, and as the dye which can be decolorized by the treatment, JP-A Nos. 52-139136 and 53-132334. , 56-501480, 5
7-16060, 57-68831, 57-101835, 59-18243
6, JP-A-7-36145, JP-A-7-199409, JP-B-48-33692
No. 50-16648, Japanese Patent Publication No. 2-41734, U.S. Patent 4,088,4
Nos. 97, 4,283,487, 4,548,896, and 5,187,049. In the present invention, suitable binders for the back layer are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as: gelatin, gum arabic, poly
(Vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid) , Copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile),
Copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (e.g., poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane)
, Phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxide) s, poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amide) s. The binder may be coated from water or an organic solvent or an emulsion.

【0103】本発明の感光性熱現像画像形成材料が片面
感光材料の場合、搬送性改良のために感光性乳剤層の表
面保護層及び/またはバック層またはバック層の表面保
護層にマット剤を添加しても良い。マット剤は、一般に
水に不溶性の有機または無機化合物の微粒子である。マ
ット剤としては任意のものを使用でき、例えば米国特許
第1,939,213号、同2,701,245号、同2,322,037号、同3,2
62,782号、同3,539,344号、同3,767,448号等の各明細書
に記載の有機マット剤、同1,260,772号、同2,192,241
号、同3,257,206号、同3,370,951号、同3,523,022号、
同3,769,020号等の各明細書に記載の無機マット剤など
当業界で良く知られたものを用いることができる。例え
ば具体的にはマット剤として用いることのできる有機化
合物の例としては、水分散性ビニル重合体の例としてポ
リメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポ
リアクリロニトリル、アクリロニトリル-α-メチルスチ
レン共重合体、ポリスチレン、スチレン-ジビニルベン
ゼン共重合体、ポリビニルアセテート、ポリエチレンカ
ーボネート、ポリテトラフルオロエチレンなど、セルロ
ース誘導体の例としてはメチルセルロース、セルロース
アセテート、セルロースアセテートプロピオネートな
ど、澱粉誘導体の例としてカルボキシ澱粉、カルボキシ
ニトロフェニル澱粉、尿素-ホルムアルデヒド-澱粉反応
物など、公知の硬化剤で硬化したゼラチンおよびコアセ
ルベート硬化して微少カプセル中空粒体とした硬化ゼラ
チンなど好ましく用いることができる。無機化合物の例
としては二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化マグネシウ
ム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウ
ム、公知の方法で減感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラ
ス、珪藻土などを好ましく用いることができる。上記の
マット剤は必要に応じて異なる種類の物質を混合して用
いることができる。マット剤の大きさ、形状に特に限定
はなく、任意の粒径のものを用いることができる。本発
明の実施に際しては0.1μm〜30μmの粒径のものを用い
るのが好ましい。また、マット剤の粒径分布は狭くても
広くても良い。一方、マット剤は感光材料のヘイズ、表
面光沢に大きく影響することから、マット剤作製時ある
いは複数のマット剤の混合により、粒径、形状および粒
径分布を必要に応じた状態にすることが好ましい。
When the photosensitive heat-developable image-forming material of the present invention is a single-sided photosensitive material, a matting agent is added to the surface protective layer of the photosensitive emulsion layer and / or the back layer or the surface protective layer of the back layer to improve transportability. It may be added. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. Any matting agent can be used, for example, U.S. Patent Nos. 1,939,213, 2,701,245, 2,322,037, 3,2
62,782, 3,539,344, 3,767,448, etc., the organic matting agent described in each specification, 1,260,772, 2,192,241
Nos. 3,257,206, 3,370,951, 3,523,022,
Inorganic matting agents well-known in the art such as the inorganic matting agents described in the respective specifications such as 3,769,020 can be used. For example, specifically, examples of organic compounds that can be used as a matting agent include, as examples of water-dispersible vinyl polymers, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, acrylonitrile-α-methylstyrene copolymer, and polystyrene. , Styrene-divinylbenzene copolymer, polyvinyl acetate, polyethylene carbonate, polytetrafluoroethylene, etc., examples of cellulose derivatives such as methylcellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, and starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl Gelatin hardened with a known hardener such as starch, urea-formaldehyde-starch reactant, and hardened gelatin formed into microcapsule hollow granules by coacervate hardening are preferably used. Can be. Examples of the inorganic compound include silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by a known method, silver bromide, glass, and diatomaceous earth. The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary. The size and shape of the matting agent are not particularly limited, and those having an arbitrary particle size can be used. In practicing the present invention, it is preferable to use one having a particle size of 0.1 μm to 30 μm. Further, the particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, since the matting agent greatly affects the haze and surface gloss of the photosensitive material, the particle size, shape, and particle size distribution can be adjusted as needed during the preparation of the matting agent or by mixing a plurality of matting agents. preferable.

【0104】本発明においてバック層にマット剤を添加
するのは好ましい態様であり、バック層のマット度とし
てはベック平滑度が250秒以下10秒以上が好ましく、さ
らに好ましくは180秒以下50秒以上である。本発明にお
いて、マット剤は感光材料の最外表面層もしくは最外表
面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有
されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用す
る層に含有されることが好ましい。また、乳剤面保護層
のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良い
が、ベック平滑度が500秒以上10,000秒以下が好まし
く、特に500秒以上2,000秒以下が好ましい。ある。本発
明における熱現像写真用乳剤は、支持体上に一またはそ
れ以上の層で構成される。一層の構成は有機銀塩、ハロ
ゲン化銀、現像剤およびバインダー、ならびに色調剤、
被覆助剤および他の補助剤などの所望による追加の材料
を含まなければならない。二層の構成は、第1乳剤層(通
常は基材に隣接した層)中に有機銀塩およびハロゲン化
銀を含み、第2層または両層中にいくつかの他の成分を
含まなければならない。しかし、全ての成分を含む単一
乳剤層および保護トップコートを含んでなる二層の構成
も考えられる。多色感光性熱現像写真材料の構成は、各
色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、
米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層
内に全ての成分を含んでいてもよい。多染料多色感光性
熱現像写真材料の場合、各乳剤層は、一般に、米国特許
第4,460,681号に記載されているように、各感光層の間
に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用すること
により、互いに区別されて保持される。
In the present invention, it is a preferred embodiment to add a matting agent to the backing layer. The matting degree of the backing layer is preferably such that the Bekk smoothness is 250 seconds or less and 10 seconds or more, more preferably 180 seconds or less and 50 seconds or more. It is. In the present invention, the matting agent is preferably contained in the layer functioning as the outermost surface layer or the outermost surface layer of the light-sensitive material, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. Is preferred. The degree of matting of the emulsion surface protective layer may be any value as long as stardust failure does not occur, but the Beck smoothness is preferably 500 seconds or more and 10,000 seconds or less, particularly preferably 500 seconds or more and 2,000 seconds or less. is there. The photothermographic emulsion of the present invention is composed of one or more layers on a support. One layer is composed of an organic silver salt, a silver halide, a developer and a binder, and a toning agent,
Optional additional materials such as coating aids and other auxiliaries must be included. The two-layer configuration requires that the first emulsion layer (usually the layer adjacent to the base) contain an organic silver salt and silver halide and the second layer or both layers contain some other components. No. However, a two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The composition of the multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color,
All components may be contained in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. In the case of a multi-dye, multi-color photothermographic material, each emulsion layer generally employs a functional or non-functional barrier layer between the light-sensitive layers, as described in U.S. Pat.No. 4,460,681. By doing so, they are kept distinct from each other.

【0105】米国特許第4,460,681号および同第4,374,9
21号に示されるような裏面抵抗性加熱層(backside resi
stive heating layer)を感光性熱現像写真画像系に使用
することもできる。本発明の感光性熱現像画像形成材料
における感光性層、保護層、バック層など各層には硬膜
剤を用いても良い。硬膜剤の例としては、米国特許4,28
1,060号、特開平6-208193号などに記載されているポリ
イソシアネート類、米国特許4,791,042号などに記載さ
れているエポキシ化合物類、特開昭62-89048号などに記
載されているビニルスルホン系化合物類などが用いられ
る。本発明には塗布性、帯電改良などを目的として界面
活性剤を用いても良い。界面活性剤の例としては、ノニ
オン系、アニオン系、カチオン系、フッ素系などいかな
るものも適宜用いられる。具体的には、特開昭62-17095
0号、米国特許5,380,644号などに記載のフッ素系高分子
界面活性剤、特開昭60-244945号、特開昭63-188135号な
どに記載のフッ素系界面活性剤、米国特許3,885,965号
などに記載のポリシロキサン系界面活性剤、特開平6-30
1140号などに記載のポリアルキレンオキサイドやアニオ
ン系界面活性剤などが挙げられる。
US Pat. Nos. 4,460,681 and 4,374,9
Backside resistive heating layer as shown in No. 21
stive heating layer) can also be used in a photosensitive heat developed photographic image system. A hardener may be used for each layer such as a photosensitive layer, a protective layer and a back layer in the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention. Examples of hardeners include U.S. Pat.
No. 1,060, polyisocyanates described in JP-A-6-208193, epoxy compounds described in U.S. Pat. And the like are used. In the present invention, a surfactant may be used for the purpose of improving coating properties and charging. As the surfactant, any surfactant such as nonionic, anionic, cationic, and fluorine can be used as appropriate. Specifically, JP-A-62-17095
No. 0, U.S. Pat.No.5,380,644, a fluorine-based polymer surfactant described in JP-A-60-244945, JP-A-63-188135, a fluorine-based surfactant described in U.S. Pat. Polysiloxane surfactant described, JP-A-6-30
Examples include polyalkylene oxide and anionic surfactant described in No. 1140 and the like.

【0106】本発明で用いる熱現像用写真乳剤は、一般
的には種々の支持体上に被覆させることができる。典型
的な支持体は、ポリエステルフィルム、下塗りポリエス
テルフィルム、ポリ(エチレンテレフタレート)フィル
ム、ポリエチレンナフタレートフィルム、硝酸セルロー
スフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリ(ビニ
ルアセタール)フィルム、ポリカーボネートフィルムお
よび関連するまたは樹脂状の材料、ならびにガラス、
紙、金属などを含む。可撓性基材、特に、部分的にアセ
チル化された、もしくはバライタおよび/またはα-オ
レフィンポリマー、特にポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10の
α-オレフィンのポリマーによりコートされた紙支持体
が、典型的に用いられる。該支持体は透明であっても不
透明であってもよいが、透明であることが好ましい。こ
れらのうちでも75〜200μm程度の2軸延伸したポリエチ
レンテレフタレートが特に好ましい。一方、プラスチッ
クフィルムを80℃以上の処理の熱現像機に通すと一般に
フィルムの寸法が伸縮する。処理後の材料を印刷製版用
途として使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を行う
時に重大な問題となる。よって、本発明では二軸延伸時
にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像中
に発生する熱収縮歪みをなくす工夫をした、寸法変化の
小さいフィルムを用いることが好ましい。例えば、熱現
像用写真乳剤を塗布する前に100℃〜210℃の範囲で熱処
理したポリエチレンテレフタレートなどが好ましく用い
られる。ガラス転移点の高いものも好ましく、ポリエー
テルエチルケトン、ポリスチレン、ポリスルフォン、ポ
リエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポリカーボネ
ート等が使用できる。
The photographic emulsion for thermal development used in the present invention can be generally coated on various supports. Typical supports include polyester films, primed polyester films, poly (ethylene terephthalate) films, polyethylene naphthalate films, cellulose nitrate films, cellulose ester films, poly (vinyl acetal) films, polycarbonate films and related or resinous Materials, as well as glass,
Including paper, metal, etc. Flexible substrates, in particular coated with partially acetylated or baryta and / or α-olefin polymers, especially polymers of C 2-10 α-olefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-butene copolymers A coated paper support is typically used. The support may be transparent or opaque, but is preferably transparent. Among these, polyethylene terephthalate biaxially stretched to about 75 to 200 μm is particularly preferred. On the other hand, when a plastic film is passed through a heat developing machine at a temperature of 80 ° C. or higher, the dimensions of the film generally expand and contract. When the processed material is used for printing plate making, this expansion and contraction becomes a serious problem when performing precision multicolor printing. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change, which is designed to reduce internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and eliminate thermal shrinkage distortion generated during thermal development. For example, polyethylene terephthalate, which is heat-treated at 100 to 210 ° C. before coating the photographic emulsion for thermal development, is preferably used. Those having a high glass transition point are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polycarbonate and the like can be used.

【0107】本発明の感光性熱現像画像形成材料は、帯
電防止のため、例えば、可溶性塩(例えば塩化物、硝酸
塩など)、蒸着金属層、米国特許第2,861,056号および同
第3,206,312号に記載のようなイオン性ポリマーまたは
米国特許第3,428,451号に記載のような不溶性無機塩、
特開昭60-252349号、同57-104931号に記載されている酸
化スズ微粒子などを含む層を有してもよい。本発明の感
光性熱現像画像形成材料を用いてカラー画像を得る方法
としては特開平7-13295号10頁左欄43行目から11左欄40
行目に記載の方法がある。また、カラー染料画像の安定
剤としては英国特許第1,326,889号、米国特許第3,432,3
00号、同第3,698,909号、同第3,574,627号、同第3,573,
050号、同第3,764,337号および同第4,042,394号に例示
されている。本発明で用いる熱現像写真乳剤は、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号に記載の種類のホ
ッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティ
ング操作により被覆することができる。所望により、米
国特許第2,761,791号および英国特許第837,095号に記載
の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆する
ことができる。
The photosensitive heat-developable image-forming material of the present invention may be prepared, for example, by adding soluble salts (for example, chlorides and nitrates), deposited metal layers, and those described in US Pat. Such ionic polymers or insoluble inorganic salts as described in U.S. Pat.No. 3,428,451;
It may have a layer containing tin oxide fine particles described in JP-A-60-252349 and JP-A-57-104931. As a method for obtaining a color image using the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention, JP-A-7-13295, page 10, left column, line 43 to 11 left column 40
There is a method described in the line. Also, as a stabilizer for color dye images, UK Patent No. 1,326,889, U.S. Patent No. 3,432,3
No. 00, No. 3,698,909, No. 3,574,627, No. 3,573,
Nos. 050, 3,764,337 and 4,042,394. The photothermographic emulsions used in this invention can be coated by a variety of coating operations, including dip coating, air knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the methods described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095.

【0108】本発明の感光性熱現像画像形成材料の中に
は、追加の層、例えば移動染料画像を受容するための染
料受容層、反射印刷が望まれる場合の不透明化層、保護
トップコート層および光熱写真技術において既知のプラ
イマー層などを含むことができる。本発明の画像形成材
料はその画像形成材料一枚のみで画像形成できることが
好ましく、受像層等の画像形成に必要な機能性層が別の
画像形成材料とならないことが好ましい。本発明の感光
性熱現像画像形成材料はいかなる方法で現像されても良
いが、通常イメージワイズに露光した感光材料を昇温し
て現像される。用いられる熱現像機の好ましい態様とし
ては、熱現像感光材料をヒートローラーやヒートドラム
などの熱源に接触させるタイプとして特公平5-56499
号、特許公報第684453号、特開平9-292695号、特開平9-
297385号および国際公開WO95/30934号に記載の熱現像
機、非接触型のタイプとして特開平7-13294号、国際公
開WO97/28489号、同97/28488号および同97/28487号に
記載の熱現像機がある。特に好ましい態様としては非接
触型の熱現像機である。好ましい現像温度としては80〜
250℃であり、さらに好ましくは100〜140℃である。現
像時間としては1〜180秒が好ましく、10〜90秒がさらに
好ましい。本発明の感光性熱現像画像形成材料の前述の
熱現像時の寸法変化による処理ムラを防止する方法とし
て、80℃以上115℃未満の温度で画像が出ないようにし
て5秒以上加熱した後、110℃以上で熱現像して画像形成
させる方法(いわゆる多段階加熱方法)が有効である。
In the light-sensitive heat-developable image-forming material of the present invention, additional layers such as a dye-receiving layer for receiving a transfer dye image, an opaque layer when reflective printing is desired, and a protective topcoat layer And a primer layer known in photothermography. It is preferable that the image forming material of the present invention can form an image with only one image forming material, and it is preferable that a functional layer such as an image receiving layer necessary for image formation does not become another image forming material. The photosensitive heat-developable image-forming material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by elevating the temperature of the photosensitive material exposed imagewise. A preferred embodiment of the heat developing machine used is a type in which the photothermographic material is brought into contact with a heat source such as a heat roller or a heat drum.
No., Patent Publication No. 684453, JP-A-9-292695, JP-A-9-
297385 and the thermal developing machine described in WO95 / 30934, as a non-contact type, JP-A-7-13294, WO97 / 28489, WO97 / 28488 and WO97 / 28487. There is a heat developing machine. A particularly preferred embodiment is a non-contact type thermal developing machine. The preferred development temperature is 80 to
The temperature is 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C. The development time is preferably from 1 to 180 seconds, more preferably from 10 to 90 seconds. As a method of preventing the processing unevenness due to the dimensional change during the above-mentioned heat development of the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention, after heating for 5 seconds or more so that an image does not appear at a temperature of 80 ° C. or more and less than 115 ° C. And a method of forming an image by heat development at 110 ° C. or higher (a so-called multi-stage heating method) is effective.

【0109】本発明の画像形成材料はいかなる方法で露
光されても良いが、露光光源としてレーザー光が好まし
い。本発明によるレーザー光としては、ガスレーザー、
YAGレーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが好
ましい。また、半導体レーザーと第2高調波発生素子な
どを用いることもできる。本発明の画像形成材料は露光
時のヘイズが低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。
この干渉縞発生防止技術としては、特開平5-113548など
に開示されているレーザー光を感光材料に対して斜めに
入光させる技術や、WO95/31754などに開示されているマ
ルチモードレーザーを利用する方法が知られており、こ
れらの技術を用いることが好ましい。本発明の画像形成
材料を露光するにはSPIE vol.169 Laser Printing 116-
128頁(1979)、特開平4-51043、WO95/31754などに開示さ
れているようにレーザー光が重なるように露光し、走査
線が見えないようにすることが好ましい。
The image forming material of the present invention may be exposed by any method, but a laser beam is preferred as an exposure light source. As laser light according to the present invention, gas lasers,
YAG lasers, dye lasers, semiconductor lasers and the like are preferred. Further, a semiconductor laser and a second harmonic generation element can be used. The image forming material of the present invention has a low haze at the time of exposure, and tends to cause interference fringes.
As the interference fringe generation prevention technology, a technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-113548 or the like that obliquely enters a laser beam into a photosensitive material or a multi-mode laser disclosed in WO95 / 31754 or the like is used. There are known methods for performing these methods, and it is preferable to use these techniques. To expose the image forming material of the present invention, SPIE vol.169 Laser Printing 116-
As disclosed in page 128 (1979), JP-A-4-51043, and WO95 / 31754, it is preferable to expose the laser beams so that they overlap each other so that the scanning lines are not visible.

【0110】本発明の感光性熱現像画像形成材料の熱現
像処理に用いられる熱現像機の一構成例を図1に示す。
図1は熱現像機の側面図を示したものである。図1の熱
現像機は感光性熱現像画像形成材料10を平面状に矯正
及び予備加熱しながら加熱部に搬入する搬入ローラー対
11(下部ローラーがヒートローラー)と熱現像後の熱
現像後の感光性熱現像画像形成材料10を平面状に矯正
しながら加熱部から搬出する搬出ローラー対12を有す
る。感光性熱現像画像形成材料10は搬入ローラー対1
1から搬出ローラー対12へと搬送される間に熱現像さ
れる。この熱現像中の感光性熱現像画像形成材料10を
搬送する搬送手段は画像形成層を有する面が接触する側
に複数のローラー13が設置され、その反対側のバック
面が接触する側には不織布(たとえばポリフェニレンサ
ルファイトやテフロンから成る)等が貼り合わされた平
滑面14が設置される。感光性熱現像画像形成材料10
は画像形成層を有する面に接触する複数のローラー13
の駆動により、バック面は平滑面14の上を滑って搬送
される。加熱手段はローラー13の上部及び平滑面14
の下部に感光性熱現像画像形成材料10の両面から加熱
されるように加熱ヒーター15が設置される。この場合
の加熱手段としては板状ヒーター等が挙げられる。ロー
ラー13と平滑面14とのクリアランスは平滑面の部材
により異なるが、感光性熱現像画像形成材料10が搬送
できるクリアランスに適宜調整される。好ましくは0〜
1mmである。
FIG. 1 shows an example of the configuration of a heat developing machine used for the heat developing process of the photosensitive heat-developable image forming material of the present invention.
FIG. 1 is a side view of the heat developing machine. The heat developing machine shown in FIG. 1 has a carry-in roller pair 11 (a lower roller is a heat roller) for carrying the photosensitive heat-developable image forming material 10 into a heating section while correcting and preheating the heat-developable photosensitive heat-developable image forming material 10 and a heat-developed heat-developed heat-developed image. It has a carry-out roller pair 12 that carries out the heat-developable image forming material 10 from the heating unit while correcting it into a planar shape. The photosensitive heat-developable image forming material 10 is a pair of carry-in rollers 1
While being transported from 1 to the discharge roller pair 12, it is thermally developed. The conveying means for conveying the photosensitive heat-developable image forming material 10 during the heat development is provided with a plurality of rollers 13 on the side where the surface having the image forming layer is in contact, and on the side where the back surface on the opposite side is in contact. A smooth surface 14 on which a non-woven fabric (for example, made of polyphenylene sulfite or Teflon) is attached is provided. Photothermographic image-forming material 10
Is a plurality of rollers 13 that contact the surface having the image forming layer.
, The back surface slides on the smooth surface 14 and is conveyed. The heating means is the upper part of the roller 13 and the smooth surface 14
A heater 15 is provided at the lower part of the photosensitive heat-developable image forming material 10 so as to be heated from both sides. As a heating means in this case, a plate heater or the like can be used. The clearance between the roller 13 and the smooth surface 14 varies depending on the member of the smooth surface, but is appropriately adjusted to a clearance that allows the photosensitive heat-developable image forming material 10 to be conveyed. Preferably 0
1 mm.

【0111】ローラー13の表面の材質及び平滑面14
の部材は、高温耐久性があり、感光性熱現像画像形成材
料10の搬送に支障がなければ何でも良いが、ローラー
表面の材質はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリ
アミドまたはテフロン(PTFE)製の不織布が好まし
い。加熱手段としては複数のヒーターを用い、それぞれ
加熱温度を自由に設定することが好ましい。なお、熱現
像処理部の上流の予備加熱部は、熱現像温度よりも低く
(例えば10〜30℃程度程度低く)、感光性熱現像画
像形成材料中の水分量を蒸発させるのに十分な温度およ
び時間に設定することが望ましく、感光性熱現像画像形
成材料10の支持体のガラス転移温度(Tg)よりも高
い温度で、現像ムラが出ないように設定することが好ま
しい。また、熱現像処理部の下流にはガイド板16が設
置され、さらに、徐冷部が設置される。ガイド板は熱伝
導率の低い素材が好ましく、感光性熱現像画像形成材料
に変形が起こらないようにするために冷却は徐々に行う
のが好ましい。以上、図示例に従って説明したが、これ
に限らず、例えば特開平7-13294号に記載のものなど、
本発明に用いられる熱現像機は種々の構成のものであっ
てもよい。また、本発明において好ましく用いられる多
段加熱方法の場合は、上述のような装置において、加熱
温度の異なる熱源を2個以上設置し、連続的に異なる温
度で加熱するようにすればよい。
The surface material of the roller 13 and the smooth surface 14
May be any material as long as it has high-temperature durability and does not hinder the conveyance of the photosensitive heat-developable image forming material 10, but the material of the roller surface is silicon rubber, and the material of the smooth surface is aromatic polyamide or Teflon (PTFE). Non-woven fabrics are preferred. It is preferable to use a plurality of heaters as the heating means and to set the heating temperature freely. The preheating section upstream of the heat development processing section has a temperature lower than the heat development temperature (for example, about 10 to 30 ° C. lower) and a temperature sufficient to evaporate the amount of water in the photosensitive heat development image forming material. And the time are desirably set, and it is preferable that the temperature is higher than the glass transition temperature (Tg) of the support of the photosensitive heat-developable image forming material 10 so that development unevenness does not occur. Further, a guide plate 16 is provided downstream of the thermal development processing section, and a slow cooling section is further provided. The guide plate is preferably made of a material having a low thermal conductivity, and is preferably cooled gradually so as not to deform the photosensitive heat-developable image forming material. As described above, the description has been made in accordance with the illustrated example. However, the present invention is not limited to this example.
The thermal developing machine used in the present invention may have various configurations. In the case of the multi-stage heating method preferably used in the present invention, in the above-described apparatus, two or more heat sources having different heating temperatures may be provided, and heating may be performed continuously at different temperatures.

【0112】[0112]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、
操作等は、本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更す
ることができる。したがって、本発明の範囲は以下に示
す具体例に制限されるものではない。 (実施例1)1.ハロゲン化銀乳剤の調製(乳剤A) 水700mlにアルカリ処理ゼラチン(カルシウム含有量と
して2700ppm以下)11gおよび臭化カリウム30mg、ベンゼ
ンチオスルホン酸ナトリウム10mgを溶解して温度40℃に
てpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.6gを含む水溶液159m
lと臭化カリウムを1モル/リットル(NH42RhCl5
(H2O)を5×10-6モル/リットル及びK3IrCl6
2×10-5モル/リットルで含む水溶液をpAg7.7に保ちな
がらコントロールダブルジェット法で6分30秒間かけて
添加した。ついで、硝酸銀55.5gを含む水溶液476mlと臭
化カリウムを1モル/リットル及びK3IrCl6を2×10
-5 モル/リットルで含むハロゲン塩水溶液をpAg7.7に保
ちながらコントロールダブルジェット法で28分30秒間か
けて添加した。その後pHを下げて凝集沈降させて脱塩処
理をし、化合物Aを0.17g、平均分子量1万5千の低分
子量ゼラチン(カルシウム含有量として20ppm以下)51.
1g加え、pH5.9、pAg8.0に調製した。得られた粒子は平
均粒子サイズ0.08μm、投影面積変動係数9%、(100)面比
率90%の立方体粒子であった。こうして得たハロゲン化
銀粒子を60℃に昇温して銀1モル当たりベンゼンチオス
ルホン酸ナトリウム76μモルを添加し、3分後にトリエ
チルチオ尿素71μモルを添加して、100分熟成し、4−
ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザ
インデンを5×10-4モル加えた後、40℃に降温させた。
その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀1モルに対し
て12.8×10-4モルの下記増感色素A、6.4×10-3モルの
化合物Bを攪拌しながら添加し、20分後に30℃に急冷し
てハロゲン化銀乳剤Aの調製を終了した。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.
Will be described. The materials, amounts, proportions,
Operations and the like may be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention.
Can be Therefore, the scope of the present invention is shown below.
The present invention is not limited to the specific examples. (Example 1)1. Preparation of silver halide emulsion (emulsion A)  700ml of alkali-treated gelatin (with calcium content
Less than 2700 ppm) 11 g and potassium bromide 30 mg, benze
Dissolve 10 mg of sodium thiosulfonate and bring the temperature to 40 ° C
After adjusting the pH to 5.0, 159 m of an aqueous solution containing 18.6 g of silver nitrate
l and potassium bromide at 1 mol / l (NHFour)TwoRhClFive
(HTwoO) 5 × 10-6Mol / l and KThreeIrCl6To
2 × 10-FiveDo not keep the aqueous solution containing mol / l at pAg 7.7.
It takes 6 minutes and 30 seconds by the control double jet method
Was added. Then, 476 ml of an aqueous solution containing 55.5 g of silver nitrate and odor
1 mol / liter of potassium iodide and KThreeIrCl62 × 10
-Five Keep the halogen salt aqueous solution containing pAg 7.7
28 minutes 30 seconds by the control double jet method
And added. After that, the pH is lowered to cause coagulation and sedimentation and desalination.
0.17 g of compound A and a low molecular weight of 15,000
Gelatin gelatin (less than 20 ppm as calcium content) 51.
The solution was adjusted to pH 5.9 and pAg 8.0 by adding 1 g. The resulting particles are flat
Uniform grain size 0.08μm, projected area variation coefficient 9%, (100) face ratio
The cubic particles had a rate of 90%. The halogenation thus obtained
The temperature of the silver particles is raised to 60 ° C, and benzenethios
Add 76 μmol of sodium sulfonate and after 3 min.
71 μmol of thiothiourea was added, and the mixture was aged for 100 minutes.
Hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetraza
5 × 10 inden-FourAfter mole addition, the temperature was lowered to 40 ° C.
Thereafter, the temperature was maintained at 40 ° C., with respect to 1 mole of silver halide.
12.8 × 10-FourMolar sensitizing dye A, 6.4 × 10-3Mole of
Compound B was added with stirring, and quenched to 30 ° C after 20 minutes.
Thus, the preparation of silver halide emulsion A was completed.

【0113】[0113]

【化25】 Embedded image

【0114】2.有機酸銀分散物の調製(有機酸銀A) ヘンケル社製ベヘン酸(製品名EdenorC22-85R)8
7.6g、蒸留水423ml、5N−NaOH水溶液49.2ml、tert−ブ
チルアルコール120mlを混合し、75℃にて1時間攪拌し反
応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液を得た。別に、硝酸銀
40.4gの水溶液206.2mlを用意し、10℃にて保温した。63
5mlの蒸留水と30mlのtert-ブチルアルコールを入れた反
応容器を30℃に保温し、攪拌しながら先のベヘン酸ナト
リウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそ
れぞれ62分10秒と60分かけて添加した。この時、硝酸銀
水溶液添加開始後7分20秒間は硝酸銀水溶液のみが添加
されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添
加開始し、硝酸銀水溶液添加終了後9分30秒間はベヘン
酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このと
き、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が上がらない
ようにコントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶
液の添加系の配管は、スチームトレースにより保温し、
添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるようにスチ
ーム量をコントロールした。また、硝酸銀水溶液の添加
系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることによ
り保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸
銀水溶液の添加位置は攪拌軸を中心として対称的な配置
とし、また反応液に接触しないような高さに調節した。
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度
で20分間攪拌放置し、25℃に降温した。その後、吸引濾
過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝導度が20μS/cm
になるまで水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥
させないでウエットケーキとして保管した。得られたベ
ヘン酸銀の粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価した
ところ、平均投影面積径0.52μm、平均粒子厚み0.14μ
m、平均球相当径の変動係数15%の鱗片状の結晶であっ
た。
[0114]2. Preparation of organic acid silver dispersion (organic acid silver A)  Behenic acid manufactured by Henkel (Product name Edenor C22-85R) 8
7.6 g, distilled water 423 ml, 5N-NaOH aqueous solution 49.2 ml, tert-butyl
Mix 120 ml of chilled alcohol and stir at 75 ° C for 1 hour.
To give a sodium behenate solution. Separately, silver nitrate
206.2 ml of a 40.4 g aqueous solution was prepared and kept at 10 ° C. 63
5ml distilled water and 30ml tert-butyl alcohol
Keep the reaction vessel at 30 ° C and stir with
The total volume of the lithium solution and the total volume of the aqueous silver nitrate solution were
It was added over 62 minutes, 10 seconds and 60 minutes, respectively. At this time, silver nitrate
7 minutes and 20 seconds after the start of aqueous solution addition, only silver nitrate aqueous solution is added
And then add the sodium behenate solution
9 minutes and 30 seconds after completion of the addition of the aqueous silver nitrate solution
Only the sodium acid solution was added. This and
The temperature inside the reaction vessel is 30 ° C and the liquid temperature does not rise
Was controlled as follows. In addition, sodium behenate
The piping of the liquid addition system is kept warm by steam tracing,
Make sure that the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip is 75 ° C.
The amount of the game was controlled. Addition of silver nitrate aqueous solution
The system piping is circulated by circulating cold water outside the double pipe.
And kept warm. Addition position of sodium behenate solution and nitric acid
Silver solution is added symmetrically around the stirring axis
The height was adjusted so as not to contact the reaction solution.
After addition of the sodium behenate solution, keep the temperature
For 20 minutes, and the temperature was lowered to 25 ° C. Then, suction filtration
The solid content is separated by filtration, and the conductivity of the filtrate is 20 μS / cm.
And washed with water. The solids thus obtained are dried
Stored as a wet cake without letting it go. The obtained bee
The morphology of silver henate particles was evaluated by electron microscopy
However, average projected area diameter 0.52 μm, average grain thickness 0.14 μm
m, scale-like crystals with a coefficient of variation of 15%
Was.

【0115】つぎに、以下の方法でベヘン酸銀の分散物
を作成した。乾燥固形分100g相当のウエットケーキに
対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA-217,平均重
合度:約1700)7.4gおよび水を添加し、全体量を385g
としてからホモミキサーにて予備分散した。次に予備分
散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザ
ーM−110S−EH、マイクロフルイデックス・イン
ターナショナル・コーポレーション製、G10Zインタ
ラクションチャンバー使用)の圧力を1750kg/cm2
調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却
操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの
前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで所望の
分散温度に設定した。こうして得たベヘン酸銀分散物に
含まれるベヘン酸銀粒子は体積加重平均直径0.52μm、
変動係数15%の粒子であった。粒子サイズの測定は、Mal
vern Instruments Ltd.製MasterSizerXにて行った。ま
た電子顕微鏡撮影により評価すると、長辺と短辺の比が
1.5、粒子厚み0.14μm、平均アスペクト比(粒子の投影
面積の円相当径と粒子厚みの比)が5.1であった。
Next, a dispersion of silver behenate was prepared by the following method. To a wet cake having a dry solid content of 100 g, 7.4 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217, average degree of polymerization: about 1700) and water are added, and the total amount is 385 g.
And then predispersed with a homomixer. Next, the pressure of the predispersed undiluted solution was adjusted to 1750 kg / cm 2 with a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a G10Z interaction chamber), and This was repeated to obtain a silver behenate dispersion. In the cooling operation, a coiled heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the temperature of the refrigerant was adjusted to a desired dispersion temperature. The silver behenate particles contained in the silver behenate dispersion thus obtained have a volume-weighted average diameter of 0.52 μm,
The particles had a coefficient of variation of 15%. Particle size measurement is Mal
Vern Instruments Ltd. made MasterSizerX. When evaluated by electron microscopy, the ratio of the long side to the short side is
The particle had a thickness of 0.14 μm and an average aspect ratio of 5.1 (the ratio of the circle equivalent diameter of the projected area of the particle to the particle thickness) was 5.1.

【0116】3. 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチ
ルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン:還元剤固体微
粒子分散物の調製 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-
トリメチルヘキサン25gに対してクラレ(株)製MPポリ
マーのMP-203の20%水溶液を25g、日信化学(株)製サフ
ィノール104Eを0.1g、メタノール2gと水48ml添加してよ
く撹拌して、スラリーとして3時間放置した。その後、1
mmのジルコニアビーズを360g用意してスラリーと一緒に
ベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミ
ル:アイメックス(株)製)にて3時間分散し還元剤固体
微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80重量%が
0.3μm以上1.0μm以下であった。
[0116]3. 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethyl
Ruphenyl) -3,5,5-trimethylhexane: reducing agent solid fine
Preparation of particle dispersion  1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-
Kuraray's MP poly for 25 g of trimethylhexane
25 g of a 20% aqueous solution of Ma-MP-203, manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.
0.1 g of INOL 104E, 2 g of methanol and 48 ml of water.
The mixture was stirred well and left as a slurry for 3 hours. Then 1
Prepare 360g of zirconia beads with mm and with slurry
Put in a vessel and disperser (1 / 4G sand grinder
3 hours by dispersing with a reducing agent solid
A fine particle dispersion was prepared. The particle size is 80% by weight of the particles
It was 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.

【0117】4.カブリ防止剤の固体微粒子分散物の調
(一般式(I)の化合物)一般式(I)の化合物30gに
対してクラレ(株)製MPポリマーのMP-203を4g、化合
物C0.25gと、水66gを添加し良く撹拌し、その後0.5mm
のジルコニアシリケートビーズを200g用意してスラリー
と一緒にベッセルに入れ、分散機(1/16Gサンドグライ
ンダーミル:アイメックス(株)製)にて分散し、固体
微粒子分散物を調製した。粒子径は分散時間を変化させ
て調節した。粒子サイズ、分散時間、化合物の種類は表
1に記載した。 (一般式(II)の化合物)一般式(II)の化合物30
gに対して、クラレ(株)製MPポリマーのMP-203を3g
と水87ml添加してよく攪拌して、スラリーとして3時間
放置した。その後、上記還元剤固体微粒子分散物の調製
と同様にして、固体微粒子分散物を調製した。粒子径は
分散時間を変化させて調節した。粒子サイズ、分散時
間、化合物の種類は表1に記載した。
[0117]4. Preparation of solid fine particle dispersion of antifoggant
Made  (Compound of the general formula (I)) 30 g of the compound of the general formula (I)
On the other hand, 4 g of MP-203 of MP polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd.
Material C 0.25g and water 66g are added and stirred well, then 0.5mm
Prepare 200g of zirconia silicate beads of slurry
Into a vessel together with a dispersing machine (1 / 16G
Under mill: IMEX Co., Ltd.)
A fine particle dispersion was prepared. Particle size changes dispersion time
Adjusted. See table for particle size, dispersion time, and compound type.
Described in 1. (Compound of the general formula (II)) Compound 30 of the general formula (II)
3g of MP-203 of MP polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd.
And add 87 ml of water and stir well to obtain a slurry for 3 hours
I left it. Then, the preparation of the above-mentioned solid dispersion of reducing agent solid
In the same manner as described above, a solid fine particle dispersion was prepared. The particle size is
The dispersion time was varied and adjusted. Particle size, dispersion
Meanwhile, the types of compounds are shown in Table 1.

【0118】5.カブリ防止剤の乳化分散物の調製 (一般式(I)の化合物)一般式(I)の化合物50gを
酢酸エチル60gに溶解した液をA液とした。クラレ(株)
製MPポリマーのMP-203(添加量は表1に記載)に水を
加水して100gになるように調整した液をB液とした。A
液とB液を混合しホモジナイザ−(HIGH-FLEX HOMOGENIZ
ER;(株)エスエムテー製)を用いて、回転数=12000rpm、
乳化時間=5分、乳化温度=60℃で乳化した。乳化分
散後、水を140g加え、脱有機溶剤を加熱温度=60
℃で行い、重量が166gなるまで脱溶媒を行った。残
存酢酸エチル量は0.1%以下であった。粒子径はMP203の
量を変化させて調節した。粒子サイズ、化合物の種類は
表1に記載した。 (一般式(II)の化合物)一般式(II)の化合物50
gをメチルイソブチルケトン60gに溶解した液をA液とし
た。クラレ(株)製MPポリマーのMP-203(添加量は表
1に記載)に水を加水して100gになるように調整した
液をB液とした。A液とB液を混合しホモジナイザ−(HIG
H-FLEX HOMOGENIZER;(株)エスエムテー製)を用いて、
回転数=12000rpm、乳化時間=5分、乳化温度=60℃
で乳化した。乳化分散後、水を140g加え、脱有機溶
剤を加熱温度=80℃で行い、重量が166gなるまで
脱溶媒を行った。残存メチルイソブチルケトン量は0.1
%以下であった。粒子径はMP203の量を変化させて調節
した。粒子サイズ、化合物の種類は表1に記載した。
[0118]5. Preparation of emulsified dispersion of antifoggant  (Compound of the general formula (I)) 50 g of the compound of the general formula (I)
The solution dissolved in 60 g of ethyl acetate was used as solution A. Kuraray Co., Ltd.
Water to MP-203 (made in Table 1)
The solution adjusted to 100 g by water addition was designated as solution B. A
Solution B and solution B are mixed and homogenized (HIGH-FLEX HOMOGENIZ
ER; manufactured by SMT Co., Ltd.)
Emulsification was performed at an emulsification time of 5 minutes and an emulsification temperature of 60 ° C. Emulsified
After the dispersion, 140 g of water was added, and the organic solvent was removed at a heating temperature of 60.
C. and the solvent was removed until the weight became 166 g. Remaining
The amount of existing ethyl acetate was 0.1% or less. Particle size of MP203
The amount was varied and adjusted. Particle size and compound type
It is described in Table 1. (Compound of the general formula (II)) Compound 50 of the general formula (II)
g solution in 60 g of methyl isobutyl ketone
Was. MP-203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.
Water) and adjusted to 100 g by adding water.
The solution was designated as solution B. A solution and B solution are mixed and homogenized (HIG
H-FLEX HOMOGENIZER; SMT Co., Ltd.)
Number of revolutions = 12000 rpm, emulsification time = 5 minutes, emulsification temperature = 60 ° C.
And emulsified. After emulsification and dispersion, 140 g of water was added, and the organic solvent was removed.
Perform the agent at a heating temperature of 80 ° C until the weight becomes 166 g.
The solvent was removed. The amount of residual methyl isobutyl ketone is 0.1
% Or less. Particle size is adjusted by changing the amount of MP203
did. Table 1 shows the particle size and compound type.

【0119】6.超硬調化剤の固体微粒子分散物の調製 表1に記載の造核剤10gに対して、ポリビニルアルコー
ル(クラレ製PVA-217)2.5g、水87.5gを添加し良く攪拌
してスラリーとして3時間放置した。その後、0.5mmのジ
ルコニアビーズを240g用意してスラリーと一緒にベッセ
ルに入れ、分散機(1/16Gサンドグラインダーミル:ア
イメックス(株)製)にて10時間分散し、固体微粒子分
散物を調製した。粒子径は、粒子の80重量%が0.1μm以
上1.0μm以下で、平均粒径0.5μmであった。
[0119]6. Preparation of solid fine particle dispersion of ultra-high contrast agent  For 10 g of the nucleating agent shown in Table 1, polyvinyl alcohol
2.5 g of water (Kuraray PVA-217) and 87.5 g of water
And left as a slurry for 3 hours. Then, 0.5mm
Prepare 240g of luconia beads and set the slurry together with the slurry.
Into a dispersing machine (1 / 16G sand grinder mill:
Disperse for 10 hours with Imex Co., Ltd.
A powder was prepared. Particle size: 80% by weight of particles is 0.1 μm or less
It was 1.0 μm or less and had an average particle size of 0.5 μm.

【0120】7.乳剤層塗布液の調製 上記で作成した有機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対し
て、以下のバインダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤
Aを添加して、水を加えて、乳剤層塗布液とした。 バインダー;ラックスター3307B 固形分として 397g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 149g 一般式(I)の化合物 表1に記載の種類及び量(モル) 一般式(II)の化合物 表1に記載の種類及び量(モル) エチルチオスルホン酸ナトリウム 0.30g 4−メチルベンゾトリアゾール 1.04g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA-235) 10.8g 6-iso-プロピルフタラジン 15.0g オルトりん酸二水素ナトリウム・2水和物 0.37g 超硬調化剤 表1に記載の種類及び量(モル) 染料A 783nmの光学濃度が0.3になる塗布量(目安として0.37g) ハロゲン化銀乳剤A Ag量として0.06モル
[0120]7. Preparation of emulsion layer coating solution  Based on 1 mol of silver of the organic acid silver microcrystal dispersion prepared above
And the following binders, materials, and silver halide emulsions
A was added, and water was added to obtain an emulsion layer coating solution. Binder; Luckstar 3307B 397 g as solid content (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5 , 5-trimethylhexane 149 g as solids Compound of general formula (I) Kind and amount (mol) shown in Table 1 Compound of general formula (II) Kind and amount (mol) shown in Table 1 Sodium ethylthiosulfonate 0.30 g 4-methylbenzotriazole 1.04 g Polyvinyl alcohol (PVA-235 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 10.8 g 6-iso-propylphthalazine 15.0 g Sodium dihydrogen orthophosphate dihydrate 0.37 g Super hardening agent Table Kind and amount (mol) described in 1 Dye A Coating amount at which the optical density of 783 nm becomes 0.3 (0.37 g as a standard) 0.06 mol as silver halide emulsion A Ag amount

【0121】[0121]

【化26】 Embedded image

【0122】8.乳剤面下層保護層塗布液の調製 メチルメタクリレート/スチレン/2-エチルヘキシルア
クリレート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アク
リル酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2(wt%)のポリマー
ラテックス溶液(共重合体でガラス転移温度57℃、固形
分濃度として21.5%、造膜助剤として化合物Dをラテッ
クスの固形分に対して15wt%含有)956gにH2 Oを加え、化
合物E 1.62g、化合物S 3.15g、マット剤(ポリスチ
レン粒子、平均粒径7μm)1.98gおよびポリビニルアル
コール(クラレ(株)製,PVA-235)23.6gを加え、さらに
H2Oを加えて、塗布液を調製とした。9.乳剤面上層保護層塗布液の調製 メチルメタクリレート/スチレン/2-エチルヘキシルア
クリレート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アク
リル酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2(wt%)のポリマー
ラテックス溶液(共重合体でガラス転移温度54℃、固形
分濃度として21.5%、造膜助剤として化合物Dをラテッ
クスの固形分に対して15wt%含有)630gにH2 Oを加え、カ
ルナヴァワックス(中京油脂(株)製、セロゾール52
4)30wt%溶液6.30g、化合物E 0.72g、化合物F 7.95
g、化合物S 0.90g、マット剤(ポリスチレン粒子、平
均粒径7μm)1.18gおよびポリビニルアルコール(クラ
レ(株)製,PVA-235)8.30gを加え、さらにH2Oを加え
て、塗布液を調製とした。
[0122]8. Preparation of coating solution for lower protective layer of emulsion surface  Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexylurea
Acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / ac
Polymer of lylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2 (wt%)
Latex solution (copolymer, glass transition temperature 57 ℃, solid
Compound D as a film-forming aid with a concentration of 21.5%
H to 956 g)Two Add O
Compound E 1.62 g, Compound S 3.15 g, matting agent (Polystyrene
1.98 g of Len particles, average particle size 7 μm) and polyvinyl alcohol
23.6 g of coal (Kuraray Co., Ltd., PVA-235) was added.
HTwoO was added to prepare a coating solution.9. Preparation of coating solution for protective layer on emulsion surface  Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexylurea
Acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / ac
Polymer of lylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2 (wt%)
Latex solution (copolymer, glass transition temperature 54 ℃, solid
Compound D as a film-forming aid with a concentration of 21.5%
H to 630 g)Two Add O
Lunava wax (Chukyo Yushi Co., Ltd., Cellosol 52
4) 30 wt% solution 6.30 g, Compound E 0.72 g, Compound F 7.95
g, compound S 0.90 g, matting agent (polystyrene particles, flat
1.18 g of average particle size 7 μm) and polyvinyl alcohol
8.30 g of PVA-235 manufactured by Re Co., Ltd.TwoAdd O
Thus, a coating solution was prepared.

【0123】[0123]

【化27】 Embedded image

【0124】10.バック/下塗り層のついたPET支持
体の作製 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、IV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラクロル
エタン=6/4(重量比)中25℃で測定)のPETを得
た。これをペレット化した後、130℃で4時間乾燥した
後、300℃で溶融後T型ダイから押し出した後急冷し、
熱固定後の膜厚が120μmになるような厚みの未延伸フ
イルムを作成した。これを周速の異なるロールを用い、
3.3倍に縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施
した。このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/cm2
で巻きとった。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、
厚み120μmのロールを得た。 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックス-(1)(コア部90重量%、シェル部10重量%のコアシェルタ イプのラテックスで、コア部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメ タクリレート/アクリロニトリル/アクリル酸=93/3/3/0.9/0.1(重量%)、シ ェル部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/アクリ ロニトリル/アクリル酸=88/3/3/3/3(重量%)から成る重量平均分子量38000の ポリマーラテックス) 固形分量として 3.0g/m2 2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン 23mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm) 1.5mg/m2 (3)下塗り層(b) 脱イオン処理ゼラチン (Ca2+含量0.6ppm、ゼリー強度230g) 50mg/m2 (4)導電層 ジュリマーET-410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(分子量約10000、Ca2+含量30ppm) 42mg/m2 脱イオン処理ゼラチン(Ca2+含量0.6ppm) 8mg/m2 化合物-A 0.2 mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10mg/m2 スミテックスレジンM-3(水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 18mg/m2 染料A 783nmの光学濃度が1.2になる塗布量 SnO2/Sb(9/1重量比,針状微粒子,長軸/短軸=20〜30,石原産業(株)製) 60mg/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μm) 7mg/m2 (5)保護層 ポリマーラテックス−(2) (メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸 =59/9/26/5/1(重量%の共重合体)) 固形分量として 1000mg/m2 ポリスチレンスルホン酸塩(分子量1000〜5000) 2.6mg/m2 セロゾール524(中京油脂(株)) 25mg/m2 スミテックスレジンM-3(水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 218mg/m2 (6)バック/下塗り層のついたPET支持体の作製 支持体(ベース)の両面に下塗り層(a)と下塗り層(b)を
順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した上の一方の側
の面に導電層と保護層を順次塗布し、それぞれ180℃、4
分間乾燥して、バック/下塗り層のついたPET支持体を
作製した。下塗り層(a)の乾燥厚みは2.0μmであっ
た。 (7)搬送熱処理 (7-1)熱処理 このようにして作製したバック/下塗り層のついたPET
支持体を160℃設定した全長200m熱処理ゾーンに入れ、
張力3kg/cm2、搬送速度20m/分で搬送した。 (7-2)後熱処理 上記熱処理に引き続き、40℃のゾーンに15秒間通して後
熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力は10
kg/cm2であった。
[0124]10. PET support with back / undercoat layer
Making the body  (1) Support Using terephthalic acid and ethylene glycol, follow standard methods.
IV (intrinsic viscosity) = 0.66 (phenol / tetrachlor
PET (measured at 25 ° C. in ethane = 6/4 (weight ratio))
Was. After pelletizing this, it was dried at 130 ° C. for 4 hours.
Then, after being melted at 300 ° C, extruded from a T-die and quenched,
An unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting
I created an Irum. Using rolls with different peripheral speeds,
Longitudinal stretching 3.3 times, then transverse stretching 4.5 times with a tenter
did. The temperatures at this time were 110 ° C and 130 ° C, respectively.
Was. After this, heat set at 240 ° C for 20 seconds and at the same temperature
Relaxed 4% in the lateral direction. After this, the chuck of the tenter is
After slitting, knurling both ends, 4.8kg / cm2
Rolled up. In this way, width 2.4m, length 3500m,
A roll having a thickness of 120 μm was obtained. (2) Undercoat layer (a) Polymer latex- (1) (a core-shell type latex having a core of 90% by weight and a shell of 10% by weight, core: vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 93/3/3 / 0.9 / 0.1 (% by weight), shell: weight consisting of vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 88/3/3/3/3 (% by weight) Polymer latex with average molecular weight of 38000) 3.0g / m as solid contentTwo  2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 23mg / mTwo  Matting agent (polystyrene, average particle size 2.4μm) 1.5mg / mTwo  (3) Undercoat layer (b) Deionized gelatin (Ca2+Content 0.6ppm, jelly strength 230g) 50mg / mTwo  (4) Conductive layer Jurimar ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96mg / mTwo  Alkali-treated gelatin (molecular weight about 10,000, Ca2+Content 30ppm) 42mg / mTwo  Deionized gelatin (Ca2+Content 0.6ppm) 8mg / mTwo  Compound-A 0.2 mg / mTwo  Polyoxyethylene phenyl ether 10mg / mTwo  Sumitex Resin M-3 (Water-soluble melamine compound, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 18mg / mTwo  Dye A Amount of coating at which optical density of 783 nm becomes 1.2 SnOTwo/ Sb (9/1 weight ratio, acicular fine particles, major axis / minor axis = 20-30, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)Two  Matting agent (polymethyl methacrylate, average particle size 5μm) 7mg / mTwo  (5) Protective layer Polymer latex- (2) (methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (weight% copolymer)) solid 1000mg / m as quantityTwo  Polystyrene sulfonate (molecular weight 1000-5000) 2.6mg / mTwo  Cellsol 524 (Chukyo Yushi Co., Ltd.) 25mg / mTwo  Sumitex Resin M-3 (water-soluble melamine compound, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 218mg / mTwo  (6) Preparation of PET support with back / undercoat layer An undercoat layer (a) and an undercoat layer (b) are provided on both sides of the support (base).
They were sequentially applied and dried at 180 ° C. for 4 minutes. About
One side on which the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) are applied
A conductive layer and a protective layer are sequentially applied to the surface of
Dry for 10 minutes and remove PET backing / subbing layer
Produced. The dry thickness of the undercoat layer (a) was 2.0 μm.
Was. (7) Heat treatment for transport (7-1) Heat treatment PET with back / undercoat layer produced in this way
Put the support in a 200m long heat treatment zone set at 160 ° C,
Tension 3kg / cmTwoAnd transported at a transport speed of 20 m / min. (7-2) Post heat treatment Following the above heat treatment, pass through the 40 ° C zone for 15 seconds.
Heat treatment was performed and the film was wound up. The winding tension at this time is 10
kg / cmTwoMet.

【0125】[0125]

【化28】 Embedded image

【0126】11.感光性熱現像画像形成材料の作製 前記下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した側のPET支持
体の下塗り層の上に前記の乳剤層塗布液を塗布銀量1.7g
/m2になるように塗布した。さらにその上に、前記乳剤
面下層保護層塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布
量が1.31g/m2になるように乳剤塗布液と共に同時重層塗
布した。その後でその上に前記乳剤面上層保護層塗布液
をポリマーラテックスの固形分塗布量が3.02g/m2になる
ように塗布し、感光性現像画像形成材料を作製した。得
られた感光性熱現像画像形成材料の画像形成側の膜面p
Hは4.9、ベック平滑度が660秒であり、反対側の膜面p
Hは5.9、ベック平滑度は560であった。
[0126]11. Preparation of photosensitive heat-developable image forming material  PET support on the side where the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) are applied
The above emulsion layer coating solution was coated on the undercoat layer of the body by 1.7 g of silver.
/ mTwoIt was applied so that In addition, the emulsion
Coating solution for lower layer protective layer solid content of polymer latex
1.31g / mTwoLayer coating with emulsion coating solution
Clothed. After that, the above-mentioned emulsion layer upper layer protective layer coating solution
The solid content of the polymer latex is 3.02 g / mTwobecome
To form a photosensitive developed image forming material. Profit
Surface p on the image forming side of the photosensitive heat-developable image forming material
H is 4.9, Beck smoothness is 660 seconds, and the opposite film surface p
H was 5.9 and Beck smoothness was 560.

【0127】12.写真性能の評価 (露光処理)得られた感光性熱現像画像形成材料を、ビー
ム径(ビーム強度の1/2のFWHM)12.56μm、レーザ
ー出力50mW、出力波長783nmの半導体レーザーを搭載し
た単チャンネル円筒内面方式のレーザー露光装置を使用
し、ミラーの回転数を変化させることにより露光時間
を、出力値を変えることにより露光量を調整し、2×10
-8秒で露光した。この時のオーバーラップ係数0.449に
した。 (熱現像処理)露光済みの感光性熱現像画像形成材料を図
1の熱現像機を用いて、熱現像処理部のローラー表面材
質はシリコンゴム、平滑面はテフロン不織布にして予備
加熱部90〜100℃で5秒、熱現像処理部120℃で20秒間熱
現像処理を行った。なお、幅方向の温度精度は±1℃で
あった。 (写真性能の評価)得られた画像の評価をマクベスTD904
濃度計(可視濃度)により行った。測定の結果は、Dmin、
感度(Dminより1.5高い濃度を与える露光量の比の逆数
の相対値で評価し、表1に記載の感光性熱現像画像形成
材料1を100とした)、Dmax、γ(コントラスト)で評価
した(表1のフレッシュ写真性の欄)。γは露光量の対
数を横軸として、Dmin部分を差し引いた濃度0.3と3.0の
点を結ぶ直線の傾きで表した。また、保存性の評価につ
いては感光性熱現像画像形成材料を25℃、湿度30%RH
調湿してシート状態に裁断後に3枚重ねて防湿袋に入れ
てたものをそれぞれ2組作り、それらを50℃に3日に保存
し、その後で保存する前の感光性熱現像画像形成材料と
保存後の3枚重ねた中央部(2枚目)について前記の露光
と熱現像処理を行い、Dmin、感度、Dmax、γ(コントラ
スト)を評価した(表1のエージングテスト後処理の
欄)。 (ピンホールの評価)得られた感材にDmaxが出る露光量で
曝光し、上記と同様に熱現像処理したサンプルを高輝度
シャーカステン((株)精光社製シャウカステン(型
式;KSHD5))で後ろから透化光を与え、前面からルーペ
(倍率10倍)を用いて、9平方センチメートル内のピ
ンホール数をカウントした。各感光性熱現像画像形成材
料について上記評価を実施した結果を表1に示す。
[0127]12. Evaluation of photographic performance  (Exposure treatment) The obtained photosensitive heat-developable image forming material is
Diameter (FWHM of 1/2 of beam intensity) 12.56μm, laser
-Equipped with a semiconductor laser with an output of 50 mW and an output wavelength of 783 nm
Using a single-channel cylindrical inner surface laser exposure system
The exposure time by changing the number of rotations of the mirror.
And adjust the exposure by changing the output value.
-8Exposure in seconds. At this time, the overlap coefficient is 0.449
did. (Heat development processing)
Roller surface material of heat development processing section using heat development machine
The quality is silicone rubber and the smooth surface is Teflon non-woven fabric.
Heat at 90-100 ° C for 5 seconds, heat at 120 ° C for 20 seconds
A development process was performed. Note that the temperature accuracy in the width direction is ± 1 ° C.
there were. (Evaluation of photographic performance) Macbeth TD904
The measurement was performed using a densitometer (visible density). The result of the measurement is Dmin,
Sensitivity (reciprocal of the ratio of exposure dose giving a density 1.5 higher than Dmin
The photosensitive heat development image formation described in Table 1 was evaluated by the relative value of
Evaluated by Dmax, γ (contrast)
(Fresh photographic properties in Table 1). γ is the exposure amount
With the number as the horizontal axis, the density of 0.3 and 3.0
It was represented by the slope of a straight line connecting the points. In addition, evaluation of storage stability
The photosensitive heat-developable image forming material at 25 ° C. and a humidity of 30% RH.
After adjusting the humidity and cutting it into a sheet state, put three sheets in a moisture-proof bag
Make two sets each and store them at 50 ° C for 3 days
And then the photosensitive heat-developable image forming material before storage
Exposure as described above for the central part (second sheet) of three stacked sheets after storage
And heat development processing, and Dmin, sensitivity, Dmax, γ (contra
(After the aging test in Table 1)
Field). (Evaluation of pinhole) The exposure amount at which Dmax appears in the obtained photosensitive material
Samples exposed to light and subjected to heat development in the same manner as above
Shakasten (Seiko Co., Ltd.)
Expression: KSHD5)) Gives translucent light from behind and magnifies from front
(Magnification: 10x) to determine the peak within 9 square centimeters.
The number of holes was counted. Each photosensitive heat-developable image forming material
Table 1 shows the results of the above evaluations of the materials.

【0128】[0128]

【表1】 [Table 1]

【0129】(結果)本発明の組み合わせによって、ピ
ンホールが少なく保存性の良い感光性熱現像画像形成材
料を提供することができ、さらに、本発明で用いるカブ
リ防止剤分散物の分散方法が固体分散に比較し乳化分散
の方がピンホールが少なく保存性に優れている。
(Results) According to the combination of the present invention, a photosensitive heat-developable image forming material having few pinholes and excellent storability can be provided, and the method of dispersing the antifoggant dispersion used in the present invention can be a solid. The emulsified dispersion has less pinholes and is excellent in storage stability as compared with the dispersion.

【0130】[0130]

【発明の効果】本発明により、写真製版用(特にスキャ
ナー、イメージセッター用)、医療画像用として、面状
が良く、保存性に優れる感光性熱現像画像形成材料を提
供することが可能になった。
According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive heat-developable image-forming material having a good surface condition and excellent storability for photoengraving (especially for scanners and imagesetters) and for medical images. Was.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】熱現像機の一構成例を示す側面図である。FIG. 1 is a side view illustrating a configuration example of a heat developing machine.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 感光性熱現像画像形成材料 11 搬入ローラー対 12 搬出ローラー対 13 ローラー 14 平滑面 15 加熱ヒーター 16 ガイド板 A 予備加熱部 B 熱現像処理部 C 徐冷部 REFERENCE SIGNS LIST 10 photosensitive heat-developable image forming material 11 carry-in roller pair 12 carry-out roller pair 13 roller 14 smooth surface 15 heating heater 16 guide plate A preheating section B heat development processing section C slow cooling section

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体の少なくとも一方の同一面上に、
(a)感光性ハロゲン化銀、(b)非感光性の還元可能
な有機銀塩、(c)還元剤、(d)バインダー、(e)
カブリ防止剤分散物を含有し、該カブリ防止剤分散物の
平均粒子サイズが0.3μm以下で最大粒子サイズが2
μm以下であることを特徴とする感光性熱現像画像形成
材料。
1. At least one surface of a support,
(A) photosensitive silver halide, (b) non-photosensitive reducible organic silver salt, (c) reducing agent, (d) binder, (e)
An antifoggant dispersion having an average particle size of 0.3 μm or less and a maximum particle size of 2 μm or less.
a photosensitive heat-developable image-forming material having a particle size of not more than μm.
【請求項2】 カブリ防止剤が、一般式(I)または一
般式(II)の化合物あるいは一般式(II)の化合物
が一つの炭素原子を介して結合したビスフェノール構造
を有する化合物であることを特徴とする請求項1記載の
感光性熱現像画像形成材料。 【化1】 [一般式(I)中、Qはアルキル基、アリール基または
ヘテロ環基を表し、X1およびX2はそれぞれ独立にハロ
ゲン原子を表す。Zは水素原子または電子吸引性基を表
す。Yは−C(=O)−、−SO−または−SO2−を
表す。mは0または1を表す。一般式(II)中、Mは
水素原子またはk価の陽イオンを表し、Rは置換基を表
す。nは0〜4の整数で、n≧2の時、複数個あるR
は、同一でも異なっていても良い。kは1以上の整数で
あり、Mが水素原子の時k=1である。]
2. The antifoggant is a compound of the general formula (I) or (II) or a compound having a bisphenol structure in which the compound of the general formula (II) is bonded through one carbon atom. 2. The photosensitive heat-developable image forming material according to claim 1, wherein: Embedded image [In the general formula (I), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom. Z represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group. Y is -C (= O) -, - SO- or -SO 2 - represents a. m represents 0 or 1. In the general formula (II), M represents a hydrogen atom or a k-valent cation, and R represents a substituent. n is an integer of 0 to 4, and when n ≧ 2, a plurality of R
May be the same or different. k is an integer of 1 or more, and when M is a hydrogen atom, k = 1. ]
【請求項3】 カブリ防止剤分散物が固体微粒子分散物
であることを特徴とする請求項1または2記載の感光性
熱現像画像形成材料。
3. The photothermographic image-forming material according to claim 1, wherein the antifoggant dispersion is a solid fine particle dispersion.
【請求項4】 カブリ防止剤分散物が乳化分散物である
ことを特徴とする請求項1または2記載の感光性熱現像
画像形成材料。
4. The photothermographic image-forming material according to claim 1, wherein the antifoggant dispersion is an emulsified dispersion.
【請求項5】 更に超硬調化剤を有することを特徴とす
る請求項1〜4のいずれかに記載の感光性熱現像画像形
成材料。
5. The photosensitive heat-developable image forming material according to claim 1, further comprising a super-high contrast agent.
【請求項6】 超硬調化剤として下記一般式(III)〜
(V)で表される置換アルケン誘導体、置換イソオキサ
ゾール誘導体、およびアセタール化合物を少なくとも1
種用いることを特徴とする請求項5記載の感光性熱現像
画像形成材料。 【化2】 [一般式(III)においてR1,R2,R3は、それぞれ独立に
水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基または
シリル基を表す。一般式(III)においてR1とZ、R2
3、R1とR2、或いはR3とZは、互いに結合して環状
構造を形成していてもよい。一般式(IV)においてR
4は、置換基を表す。一般式(V)においてX,Yはそれぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、A,Bはそれぞ
れ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルア
ミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環アミノ基を表す。一般式(V)においてXとY、あるい
はAとBは、互いに結合して環状構造を形成していても
よい。]
6. A super-high contrast agent represented by the following general formula (III):
At least one substituted alkene derivative, substituted isoxazole derivative and acetal compound represented by (V)
6. The photosensitive heat-developable image forming material according to claim 5, wherein the material is used as a seed. Embedded image [In the general formula (III), R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the general formula (III), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , or R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the general formula (IV), R
4 represents a substituent. In the general formula (V), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a hetero group. Represents a ring oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group. In the general formula (V), X and Y or A and B may combine with each other to form a cyclic structure. ]
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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AU2014240314B2 (en) * 2007-06-04 2016-09-01 Ben Gurion University Of The Negev Research And Development Authority Tri-aryl compounds and compositions comprising the same

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AU2014240314B2 (en) * 2007-06-04 2016-09-01 Ben Gurion University Of The Negev Research And Development Authority Tri-aryl compounds and compositions comprising the same

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