JP2000321764A - Photosetting resin composition and pattern forming method - Google Patents

Photosetting resin composition and pattern forming method

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JP2000321764A
JP2000321764A JP13510099A JP13510099A JP2000321764A JP 2000321764 A JP2000321764 A JP 2000321764A JP 13510099 A JP13510099 A JP 13510099A JP 13510099 A JP13510099 A JP 13510099A JP 2000321764 A JP2000321764 A JP 2000321764A
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acrylate
photocurable resin
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Masayoshi Kamitsura
雅義 上面
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aqueous development type photosetting resin composition capable of aqueous development and superior in the water and solvent resistances of the photosetting product having elasticity and to provide the pattern forming method using this composition. SOLUTION: This resin composition is obtained by reaction of reactants containing (a) polylactonediol, (b) diols selected from alkylenediol and polyalkylenediol and bisphenols or their hydrogenated alkyleneoxide adduct type diols, (c) polyisocyanate, and (d) compounds having ethylenically unsaturated groups, and further, an urethane compound having a carboxyl group in the molecule. The pattern is formed by using this photosetting resin composition to form a film and imagewise exposing it and removing the unexposed parts with an aqueous alkaline solution or an organic solvent containing an alkali or its mixture.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線または電子
線の照射によって硬化可能でかつ水系現像が可能な、光
硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターンの製造法に
関する。特に、硬化物の耐水性及び耐溶剤性が優れ、さ
らに硬化物が弾性体の性質を有する水系現像型の光硬化
性樹脂組成物及びこれを用いたパターンの製造法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photocurable resin composition which can be cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams and which can be subjected to aqueous development, and a method for producing a pattern using the same. In particular, the present invention relates to a water-based development-type photocurable resin composition in which the cured product has excellent water resistance and solvent resistance, and furthermore, the cured product has an elastic property, and a method for producing a pattern using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】水系現像型の光硬化性樹脂としては、カ
ルボン酸やスルホン酸などのアルカリ金属やアミンとイ
オンを形成する官能基を側鎖に導入したり、アミンなど
の酸とイオンを形成する官能基を側鎖や主鎖中に導入し
た、ウレタン(メタ)アクリレート[(メタ)アクリレ
ートは、メタクリレート及びアクリレートを意味する、
以下同様]、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリ
エーテル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アク
リレート等の(メタ)アクリレート化合物が知られてい
る。その中でも、ウレタン(メタ)アクリレートは可と
う性、強靭性、耐薬品性等が優れており、光硬化性コー
ティング剤、フォトレジスト材料、光硬化性インキ、感
光性刷版用材料などの各種用途への応用がなされてきて
いる。
2. Description of the Related Art As a water-based photo-curable resin, a functional group capable of forming an ion with an alkali metal such as carboxylic acid or sulfonic acid or an amine is introduced into a side chain or an ion such as an amine is formed with an acid. Urethane (meth) acrylate [(meth) acrylate means methacrylate and acrylate, in which a functional group is introduced into a side chain or a main chain.
The same applies hereinafter), and (meth) acrylate compounds such as polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate are known. Among them, urethane (meth) acrylate is excellent in flexibility, toughness, chemical resistance, etc., and is used in various applications such as photocurable coating agents, photoresist materials, photocurable inks, and materials for photosensitive printing plates. Applications are being made.

【0003】しかし、水系現像可能な樹脂では、未硬化
部だけでなく硬化部も水系溶剤や有機溶剤またはそれら
の混合物により、膨潤したり、硬化パターンの一部にか
け等が生じ、製品製造上、効率や収率が低下するという
問題があった。また、ウレタン(メタ)アクリレートの
一般的な性質である強度の低さや脆さ等のため、硬化物
が柔軟性を必要とする用途では不都合な点が多かった。
However, in the case of a water-based developable resin, not only an uncured part but also a cured part is swollen or partially applied to a cured pattern by an aqueous solvent, an organic solvent, or a mixture thereof, which causes a problem in product production. There was a problem that efficiency and yield were reduced. In addition, due to the low strength and brittleness, which are general properties of urethane (meth) acrylate, there are many disadvantages in applications where a cured product requires flexibility.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、水系現像が
可能で、硬化物の耐水性及び耐溶剤性に優れ、さらに硬
化物が弾性体の性質を有する水系現像型光硬化性樹脂組
成物を得るべく、鋭意研究努力した結果、かかる水系現
像型光硬化性樹脂組成物を見出すことに成功し、本発明
を完成するに至った。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a water-based development type photocurable resin composition which is capable of aqueous development, has excellent water resistance and solvent resistance of the cured product, and has a cured product having an elastic property. As a result of diligent research and effort to obtain the above, the present inventors have succeeded in finding such an aqueous development type photocurable resin composition, and have completed the present invention.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、
(a)ポリラクトンジオール、(b)アルキレンジオー
ル、ポリオキシアルキレンジオール及びビスフェノール
類若しくはその水素添加物のアルキレンオキシド付加型
ジオールから選択されるジオール、(c)ポリイソシア
ナート、(d)エチレン性不飽和基を有する化合物を含
む反応成分を反応させて得られ、かつ、その分子中にカ
ルボキシル基を有するウレタン化合物を含有してなる光
硬化性樹脂組成物に関する。また本発明は、さらに光重
合開始剤を含む前記の光硬化性樹脂組成物に関する。ま
た本発明は、前記ウレタン化合物が、両末端にエチレン
性不飽和基をもつものである光硬化性樹脂組成物に関す
る。
That is, the present invention provides:
(A) diols selected from polylactone diols, (b) alkylene diols, polyoxyalkylene diols and diols of alkylene oxide addition of bisphenols or hydrogenated products thereof, (c) polyisocyanates, (d) ethylenic The present invention relates to a photocurable resin composition obtained by reacting a reaction component containing a compound having a saturated group and containing a urethane compound having a carboxyl group in its molecule. The present invention also relates to the photocurable resin composition further containing a photopolymerization initiator. The present invention also relates to a photocurable resin composition wherein the urethane compound has an ethylenically unsaturated group at both ends.

【0006】また本発明は、前記ウレタン化合物のカル
ボキシル基が、反応成分として、(e)カルボキシル基
を有するジオールを用いることによるものである光硬化
性樹脂組成物に関する。また本発明は、前記ウレタン化
合物のカルボキシル基が、(a)成分として、カルボキ
シル基含有ジオールとラクトンを反応させて得られるポ
リラクトンジオールを用いることによるものである光硬
化性樹脂組成物に関する。また本発明は、前記(a)成
分が、数平均分子量300〜5000のポリラクトンジ
オールであり、前記(b)成分が、数平均分子量62〜
3000のアルキレンジオール、ポリオキシアルキレン
ジオール及びビスフェノール類若しくはその水素添加物
のアルキレンオキシド付加型ジオールから選択されるジ
オールである光硬化性樹脂組成物に関する。
The present invention also relates to a photocurable resin composition wherein the carboxyl group of the urethane compound is obtained by using (e) a diol having a carboxyl group as a reaction component. The present invention also relates to a photocurable resin composition wherein the carboxyl group of the urethane compound is obtained by using a polylactone diol obtained by reacting a carboxylic acid-containing diol with a lactone as the component (a). In the present invention, the component (a) is a polylactone diol having a number average molecular weight of 300 to 5000, and the component (b) is a polylactone diol having a number average molecular weight of 62 to
The present invention relates to a photocurable resin composition which is a diol selected from 3,000 alkylene diols, polyoxyalkylene diols, and alkylene oxide addition type diols of bisphenols or hydrogenated products thereof.

【0007】また本発明は、前記(c)成分が、脂肪族
ジイソシアナートである光硬化性樹脂組成物に関する。
また本発明は、前記の光硬化性樹脂組成物を用いて膜を
形成し、この膜に像的に光を露光し、アルカリ性水溶
液、アルカリ含有有機溶媒又はそれら両者の混合液によ
り未露光部を除去することを特徴とするパターンの製造
法に関する。
The present invention also relates to a photocurable resin composition wherein the component (c) is an aliphatic diisocyanate.
Further, the present invention also forms a film using the photocurable resin composition, imagewise exposes the film to light, and exposes an unexposed portion with an alkaline aqueous solution, an alkali-containing organic solvent, or a mixture thereof. The present invention relates to a method for producing a pattern characterized by being removed.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において用いるウレタン化合物は、(a)ポリラ
クトンジオール、(b)アルキレンジオール、ポリオキ
シアルキレンジオール及びビスフェノール類若しくはそ
の水素添加物のアルキレンオキシド付加型ジオールから
選択されるジオール、(c)ポリイソシアナート、
(d)エチレン性不飽和基を有する化合物を含む反応成
分を反応させて得られ、かつ、その分子中にカルボキシ
ル基を有するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The urethane compound used in the present invention includes: (a) a diol selected from polylactone diol, (b) an alkylene diol, a polyoxyalkylene diol and an alkylene oxide addition type diol of a bisphenol or a hydrogenated product thereof, and (c) a polyisocyanate. Nart,
(D) It is obtained by reacting a reaction component containing a compound having an ethylenically unsaturated group, and has a carboxyl group in the molecule.

【0009】分子中にカルボキシル基に存在させること
により、良好な水系現像性を付与することができるが、
カルボキシル基を導入する方法に特に制限はなく、たと
えば、ジオール成分として前記(a)成分及び(b)成
分以外に、(e)カルボキシル基を有するジオールを併
用する方法や、前記(a)成分として、カルボキシル基
を有するジオールとラクトンを反応させて得られるポリ
ラクトンジオールを使用する方法が、好ましい方法とし
て挙げられる。
Although the presence of a carboxyl group in the molecule can provide good aqueous developability,
The method for introducing a carboxyl group is not particularly limited. For example, in addition to the above-mentioned components (a) and (b) as a diol component, (e) a diol having a carboxyl group may be used in combination, or the (a) component may be used as the (a) component. And a method using a polylactone diol obtained by reacting a diol having a carboxyl group with a lactone.

【0010】(a)成分のポリラクトンジオールとして
は、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクトン、δ−バ
レロラクトン等のラクトン類の開環重合物で両末端に水
酸基を持ったものや、前記のラクトン類と、エチレング
リコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレン
グリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリ1,2−ブ
チレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノー
ル等のジオールとを反応させて得られるものが挙げられ
る。このようなポリラクトンジオールとして市販品を使
用してもよく、市販品としては、ε−カプロラクトンと
ジオールの反応物であるプラクセル205、205A
L、208、208AL、212、212AL、22
0、220AL(商品名 いずれもダイセル化学工業
(株)製)等が挙げられる。
As the polylactone diol of the component (a), ring-opening polymers of lactones such as γ-butyrolactone, ε-caprolactone, δ-valerolactone and having hydroxyl groups at both ends, and the above-mentioned lactones And ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, poly1,2-butylene glycol, 1,4- Those obtained by reacting with a diol such as cyclohexane dimethanol are exemplified. A commercially available product may be used as such a polylactone diol. Examples of the commercially available product include Praxel 205, 205A, which is a reaction product of ε-caprolactone and a diol.
L, 208, 208AL, 212, 212AL, 22
0, 220AL (both trade names are Daicel Chemical Industries)
Co., Ltd.).

【0011】また、カルボキシル基を有するポリラクト
ンジオールとして、水酸基を持つ(ポリ)ラクトンと後
述するカルボキシル基を有するジオールの共重合物を用
いることができ、これはカルボキシル基を有するジオー
ルとラクトン類を適当な触媒等により開環重合して得る
ことができる。市販品を使用してもよく、市販品として
はプラクセル205A、210A、220A、205B
A、210BA、220BA(商品名 いずれもダイセ
ル化学工業(株)製)等が挙げられる。
Further, as the polylactone diol having a carboxyl group, a copolymer of a (poly) lactone having a hydroxyl group and a diol having a carboxyl group described below can be used. It can be obtained by ring-opening polymerization with an appropriate catalyst or the like. Commercially available products may be used, and commercially available products include Plaxel 205A, 210A, 220A, 205B
A, 210BA, 220BA (trade names, all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and the like.

【0012】(a)成分の数平均分子量としては、画像
形成及び硬化物の強度の点で、300〜5000が好ま
しく、500〜2000がより好ましい。なお、数平均
分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによる
標準ポリスチレン換算又は反応仕込み比及び水酸基価か
らの計算により求めることができる(以下同様)。
The number average molecular weight of the component (a) is preferably from 300 to 5,000, more preferably from 500 to 2,000, in view of the strength of image formation and the cured product. The number average molecular weight can be determined by gel permeation chromatography in terms of standard polystyrene or by calculation from the reaction charge ratio and hydroxyl value (the same applies hereinafter).

【0013】(a)成分は、光硬化性樹脂組成物の固形
分100重量部に対して、10〜90重量部用いること
が好ましく、20〜80重量部用いることがより好まし
い。この量が10重量部未満だと硬化物の強度、反擦弾
性に劣る傾向があり、30重量部を越えると、樹脂の結
晶性が強くなり露光前に濁りを生じたり硬化物のわれが
生じる傾向がある。
The component (a) is preferably used in an amount of 10 to 90 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the photocurable resin composition. If the amount is less than 10 parts by weight, the strength and the anti-rubbing elasticity of the cured product tend to be inferior. If the amount is more than 30 parts by weight, the crystallinity of the resin becomes strong, causing turbidity or exposure of the cured product before exposure. Tend.

【0014】本発明において(b)成分であるアルキレ
ンジオール、ポリオキシアルキレンジオール及びビスフ
ェノール類若しくはその水素添加物のアルキレンオキシ
ド付加型ジオールから選択されるジオールとしては、エ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラ
メチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5
−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、ポリ1,2−ブチレングリコー
ル、1,4−シクロヘキサンジメタノール、メチルペン
タンジオール変性ポリテトラメチレングリコール、プロ
ピレングリコール変性ポリテトラメチレングリコール、
エチレングリコール−プロピレングリコール・ブロック
コポリマー、エチレングリコール−テトラメチレングリ
コールコポリマー、2−メチル−1,8−オクタンジオ
ール、1,9−ノナンジオール、3−メチル−1,5−
ペンタンジオール、ビスフェノールAのエチレンオキシ
ド付加体、ビスフェノールAのプロピレンオキシド付加
体、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールAのエ
チレンオキシド付加体、水添ビスフェノールAのプロピ
レンオキシド付加体、ビスフェノールFのエチレンオキ
シド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキシド付
加体、水添ビスフェノールF、水添ビスフェノールFの
エチレンオキシド付加体、水添ビスフェノールFのプロ
ピレンオキシド付加体等が挙げられるが、特にこれらに
限定するものではない。
In the present invention, the diol selected from the alkylene diols, polyoxyalkylene diols and the alkylene oxide addition type diols of bisphenols or hydrogenated bisphenols as the component (b) include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, and the like. Tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5
-Pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, poly1,2-butylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, methylpentanediol-modified polytetramethylene glycol, propylene glycol-modified polytetramethylene glycol,
Ethylene glycol-propylene glycol block copolymer, ethylene glycol-tetramethylene glycol copolymer, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 3-methyl-1,5-
Pentanediol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, ethylene oxide adduct of bisphenol F, bisphenol Examples thereof include a propylene oxide adduct of F, hydrogenated bisphenol F, an ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol F, and a propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol F, but are not particularly limited thereto.

【0015】(b)成分の数平均分子量は、硬化物の強
度、反擦弾性等の点で、62〜3000が好ましく、6
2〜1000がより好ましく、100〜500がさらに
好ましい。
The number average molecular weight of the component (b) is preferably from 62 to 3,000 from the viewpoint of the strength of the cured product, the anti-rubbing property, and the like.
2-1000 is more preferable, and 100-500 is still more preferable.

【0016】(b)成分は、光硬化性樹脂組成物の固形
分100重量部に対して、10〜90重量部用いること
が好ましく、20〜80重量部用いることがより好まし
い。この量が10重量部未満だと、反擦弾性が劣る傾向
があり、90重量部を越えると硬化物の強度が劣る傾向
がある。
The component (b) is preferably used in an amount of 10 to 90 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the photocurable resin composition. If this amount is less than 10 parts by weight, the anti-rubbing elasticity tends to be inferior, and if it exceeds 90 parts by weight, the strength of the cured product tends to be inferior.

【0017】本発明におけるウレタン化合物において、
カルボキシル基を導入するための方法の1つに、(e)
成分としてカルボキシル基を有するジオールを前記
(a)成分及び(b)成分と併用する方法がある。この
カルボキシル基を有するジオールとしては、2,2−ビ
ス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス
(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス
(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、2,3−ジ
ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸、2,2−ビス
(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,2−ビス(2−ヒ
ドロキシエチル)ブタン酸、2,2−ビス(3−ヒドロ
キシプロピル)ブタン酸、2,3−ジヒドロキシブタン
酸、2,4−ジヒドロキシ−3,3−ジメチルブタン
酸、2,3−ジヒドロキシヘキサデカン酸、ビス(ヒド
ロキシメチル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、酒石
酸等が挙げられ、また、無水マレイン酸、無水フタル
酸、無水トリメリット酸等の多塩基酸と、グリセリン、
ペンタエリトリトール等のポリオールとのエステル化反
応により得られる化合物等も使用することができる。
In the urethane compound of the present invention,
One of the methods for introducing a carboxyl group is (e)
As a component, there is a method in which a diol having a carboxyl group is used in combination with the components (a) and (b). Examples of the diol having a carboxyl group include 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, 2,3-Dihydroxy-2-methylpropionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) butanoic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) butanoic acid 2,3-dihydroxybutanoic acid, 2,4-dihydroxy-3,3-dimethylbutanoic acid, 2,3-dihydroxyhexadecanoic acid, bis (hydroxymethyl) acetic acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid , 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, tartaric acid and the like; Maleic anhydride, phthalic anhydride, and a polybasic acid such as trimellitic anhydride, glycerin,
Compounds obtained by an esterification reaction with a polyol such as pentaerythritol can also be used.

【0018】カルボキシル基を有するジオール(e)を
前記(a)成分及び(b)成分と併用する場合、カルボ
キシル基を有するジオールの量は、樹脂組成物の固形分
において酸価で10〜200mgKOH/gとなるように用い
ることが好ましく、20〜100mgKOH/gとなるように
用いることがより好ましい。この量が10mgKOH/g未満
だと、アルカリ現像性に劣る傾向があり、200mgKOH/
gを越えると硬化物の耐水性、耐溶剤性等が低下する傾
向がある。
When the diol (e) having a carboxyl group is used in combination with the components (a) and (b), the amount of the diol having a carboxyl group is 10 to 200 mgKOH / acid as an acid value in the solid content of the resin composition. g, more preferably 20 to 100 mgKOH / g. If this amount is less than 10 mgKOH / g, the alkali developability tends to be poor, and 200 mgKOH / g
If it exceeds g, the water resistance and solvent resistance of the cured product tend to decrease.

【0019】本発明においてポリイソシアナート(c)
としては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソ
シアネート、イソフォロンジイソシアネート、ノルボル
ネンジイソシアネート、水素添加されたトリレンジイソ
シアネート、水素添加されたキシリレンジイソシアネー
ト、水素添加されたジフェニルメタンジイソシアネート
等が挙げられるが、特にこれらに限定するものではな
い。
In the present invention, the polyisocyanate (c)
Examples include tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethyl hexamethylene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate Examples include, but are not limited to, isocyanates and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate.

【0020】これらの中で、特にイソフォロンジイソシ
アネート、ノルボルネンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアナート、トリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアネート、水素添加されたトリレンジイソシアネー
ト、水素添加されたキシリレンジイソシアネート、水素
添加されたジフェニルメタンジイソシアネート等の脂肪
族ジイソシアナート及びこれらの混合物が好ましい。
Among these, especially isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, etc. Are preferred. Aliphatic diisocyanates and mixtures thereof.

【0021】(c)成分の量は、樹脂組成物の固形分に
対して、5〜70重量部用いることが好ましく、10〜
50重量部用いることがより好ましい。この量が5重量
部未満だと、硬化物の耐薬品性や強度が劣る傾向があ
り、70重量部を越えるとワニス粘度が高すぎハンドリ
ング性などが低下する傾向がある。
The amount of the component (c) is preferably 5 to 70 parts by weight based on the solid content of the resin composition.
It is more preferable to use 50 parts by weight. If the amount is less than 5 parts by weight, the cured product tends to have poor chemical resistance and strength, and if it exceeds 70 parts by weight, the varnish viscosity is too high and the handling properties tend to decrease.

【0022】本発明において、(d)エチレン性不飽和
基を有する化合物としては、エチレン性不飽和基と水酸
基を持った化合物、エチレン性不飽和基とイソシアナー
ト基を持った化合物、エチレン性不飽和基とカルボキシ
ル基を持った化合物などが挙げられる。
In the present invention, (d) compounds having an ethylenically unsaturated group include compounds having an ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group, compounds having an ethylenically unsaturated group and an isocyanate group, and ethylenically unsaturated groups. Compounds having a saturated group and a carboxyl group are exemplified.

【0023】上記エチレン性不飽和基と水酸基を持った
化合物としては、2−ヒドロキエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒ
ドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレング
リコールモノ(メタ)アクリレート、エチレングリコー
ル−プロピレングリコール・ブロックコポリマーモノ
(メタ)アクリレート、エチレングリコール−テトラメ
チレングリコールコポリマーモノ(メタ)アクリレート
等を挙げることができる。
Examples of the compound having an ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate,
3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, ethylene glycol-propylene glycol block copolymer mono (meth) acrylate, ethylene glycol -Tetramethylene glycol copolymer mono (meth) acrylate and the like.

【0024】また、上記エチレン性不飽和基とイソシア
ナート基を持った化合物としては、イソシアナトメチル
(メタ)アクリレート、イソシアナトエチル(メタ)ア
クリレート、イソシアナトプロピル(メタ)アクリレー
ト、各種ジイソシアナートと前記のエチレン性不飽和基
と水酸基を持った化合物の反応物等を挙げることがで
き、また、市販品を使用することもできる。市販品とし
ては、カレンズMOI(昭和電工(株)製)等を挙げるこ
とができる。また、上記エチレン性不飽和基とカルボキ
シル基をもった化合物としては、アクリル酸、メタクリ
ル酸等を挙げることができる。
The compounds having an ethylenically unsaturated group and an isocyanate group include isocyanatomethyl (meth) acrylate, isocyanatoethyl (meth) acrylate, isocyanatopropyl (meth) acrylate, and various diisocyanates. And a reaction product of the aforementioned compound having an ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group, and a commercially available product can also be used. Commercial products include Karenz MOI (manufactured by Showa Denko KK). Examples of the compound having an ethylenically unsaturated group and a carboxyl group include acrylic acid and methacrylic acid.

【0025】本発明のエチレン性不飽和基を有する化合
物(d)としては、上記エチレン性不飽和基と水酸基を
持った化合物が好ましく、その中でも特に光感度の点か
らアクリレートが好ましい。
As the compound (d) having an ethylenically unsaturated group of the present invention, a compound having the above-mentioned ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group is preferable, and among them, acrylate is particularly preferable from the viewpoint of photosensitivity.

【0026】(d)成分の量は、樹脂組成物の固形分に
対して、0.5〜90重量部用いることが好ましく、2
〜50重量部用いることがより好ましい。この量が0.
5重量部未満だと、光硬化性が損なわれる傾向があり、
90重量部を越えると硬化物の安定性等が低下する傾向
がある。
The amount of the component (d) is preferably 0.5 to 90 parts by weight based on the solid content of the resin composition.
It is more preferable to use 50 to 50 parts by weight. If this amount is 0.
If it is less than 5 parts by weight, the photocurability tends to be impaired,
If the amount exceeds 90 parts by weight, the stability and the like of the cured product tend to decrease.

【0027】本発明のウレタン化合物の製造は、各反応
成分を混合し、40〜120℃で1〜120時間程度反
応させることにより製造することができる。上記の反応
において、メチルエチルケトントルエン、酢酸エチル等
のイソシアネート基とヒドロキシル基との反応を阻害し
ない溶媒を使用でき、またジブチルチンジラウリレート
等の触媒を使用してもよい。
The urethane compound of the present invention can be produced by mixing each reaction component and reacting at 40 to 120 ° C. for about 1 to 120 hours. In the above reaction, a solvent that does not inhibit the reaction between the isocyanate group and the hydroxyl group such as methyl ethyl ketone toluene and ethyl acetate can be used, and a catalyst such as dibutyltin dilaurate can be used.

【0028】以上の各成分を反応させて得られるウレタ
ン化合物の重量平均分子量は、1,000〜50,00
0が好ましく、2,000〜30,000がより好まし
い。ここでその分子量が1,000未満の場合、弾性体
の性質が失われる傾向にあり、またその分子量が50,
000を超えると光感度が悪くなり、硬化物の耐水性や
耐溶剤性が低下する傾向にある。なお、その分子量が5
0,000を超える場合、光重合性単量体として、単官
能性または多官能性のアクリレート系化合物を併用して
用いることにより、光感度を上昇させ、硬化物の耐水性
や耐溶剤性の低下を補うことができる。分子量は、ゲル
パーミエーションクロマトグラフにより測定し、標準ポ
リスチレン換算して求めることができる。
The weight average molecular weight of the urethane compound obtained by reacting each of the above components is from 1,000 to 50,000.
0 is preferable, and 2,000 to 30,000 is more preferable. Here, if the molecular weight is less than 1,000, the properties of the elastic body tend to be lost, and if the molecular weight is less than 50,
If it exceeds 000, the photosensitivity is deteriorated, and the water resistance and solvent resistance of the cured product tend to decrease. The molecular weight is 5
When it exceeds 000, the photosensitivity is increased by using a monofunctional or polyfunctional acrylate compound in combination as a photopolymerizable monomer, and the water resistance and solvent resistance of the cured product are increased. The decline can be compensated for. The molecular weight can be measured by gel permeation chromatography and calculated in terms of standard polystyrene.

【0029】ウレタン化合物の酸価は、好ましくは10
〜200mgKOH/gであり、より好ましくは20〜100m
gKOH/gである。酸価が10mgKOH/g未満ではアルカリ現
像性に劣る傾向にあり、200mgKOH/gを超えると、硬
化部の耐水性や耐溶剤性が低下する傾向にある。
The acid value of the urethane compound is preferably 10
~ 200mgKOH / g, more preferably 20 ~ 100m
gKOH / g. If the acid value is less than 10 mgKOH / g, the alkali developability tends to be inferior, and if it exceeds 200 mgKOH / g, the water resistance and solvent resistance of the cured portion tend to decrease.

【0030】本発明の水系現像性光硬化性樹脂組成物
に、必要に応じ、さらに光重合性単量体を含むことがで
きる。光重合性単量体としては、単官能性または多官能
性の(メタ)アクリレート系化合物などを好ましく用い
ることができ、これらの光重合性単量体としては例え
ば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プ
ロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、t−ブ
チルアクリレート、イソブチルアクリレート、エチルヘ
キシルアクリレート、イソデシルアクリレート、n−ヘ
キシルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリ
ルアクリレート、トリデシルアクリレート、エトキシエ
チルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、グリ
シジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、2−メトキシエトキシアクリレー
ト、2−エトキシエトキシエチルアクリレート、メトキ
シジエチレングリコールアクリレート、エトキシジエチ
レングリコールアクリレート、メトキシジプロピレング
リコールアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリ
レート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、
N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、アリルア
クリレート、1,3−ブタンジオールアクリレート、
1,4−ブタンジオールアクリレート、1,6−ヘキサ
ンジオールアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ
アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペン
チルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ンジアクリレート、1,3−ビス(ヒドロキシエチル)
−5、5−ジメチルヒダントイン、3−メチルペンタン
ジオールアクリレート、α,ω−ジアクリルビスジエチ
レングリコールフタレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ペンタエリトリットアクリレート、ペ
ンタエリトリットヘキサアクリレート、ジペンタエリト
リットモノヒドロキシペンタアクリレート、α,ω−テ
トラアリルビストリメチロールプロパンテトラヒドロフ
タレート、2−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフ
ェート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタン
ジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジメタクリレート、ジアクリロキシエチルフォスフェ
ート、N−ビニルピロリドンなどが挙げられ、これらの
うちアクリル酸エステル誘導体が好ましい。
The aqueous developing photocurable resin composition of the present invention may further contain a photopolymerizable monomer, if necessary. As the photopolymerizable monomer, a monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate-based compound can be preferably used. Examples of the photopolymerizable monomer include methyl acrylate, ethyl acrylate, and n. -Propyl acrylate, n-butyl acrylate, t-butyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylhexyl acrylate, isodecyl acrylate, n-hexyl acrylate, stearyl acrylate, lauryl acrylate, tridecyl acrylate, ethoxyethyl acrylate, methoxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, Butoxyethyl acrylate, 2
-Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethoxy acrylate, 2-ethoxyethoxyethyl acrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, octafluoropentyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl Acrylate,
N, N-diethylaminoethyl acrylate, allyl acrylate, 1,3-butanediol acrylate,
1,4-butanediol acrylate, 1,6-hexanediol acrylate, polyethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol Diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, 1,3-bis (hydroxyethyl)
-5,5-dimethylhydantoin, 3-methylpentanediol acrylate, α, ω-diacrylbisdiethylene glycol phthalate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol acrylate, pentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate Α, ω-tetraallylbistrimethylolpropane tetrahydrophthalate, 2-hydroxyethylacryloyl phosphate, trimethylolpropane trimethacrylate,
Ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neo Pentyl glycol dimethacrylate, diacryloxyethyl phosphate, N-vinylpyrrolidone and the like can be mentioned, and among them, an acrylate derivative is preferable.

【0031】これらの光重合性単量体を用いる場合、ウ
レタン化合物100重量部に対して、1〜400重量部
配合することが好ましく、1〜200重量部配合するこ
とがより好ましい。この量が400重量部を超えると、
弾性体としての性質が失われていく傾向にある。
When these photopolymerizable monomers are used, the amount is preferably 1 to 400 parts by weight, more preferably 1 to 200 parts by weight, based on 100 parts by weight of the urethane compound. If this amount exceeds 400 parts by weight,
The property as an elastic body tends to be lost.

【0032】さらに本発明の光硬化性樹脂組成物には、
目的に応じて不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル
樹脂、ビニルウレタン樹脂、ビニルエステルウレタン樹
脂、ポリイソシアネート、ポリエポキシド、エポキシ末
端ポリオキサゾリドン、アクリル樹脂類、アルキド樹脂
類、尿素樹脂類、メラミン樹脂類、ポリジエン系エラス
トマー、ポリウレタン系エラストマー、飽和ポリエステ
ル類、飽和ポリエーテル類、ニトロセルロース、セルロ
ースアセテートブチレート等のセルロース誘導体、アマ
ニ油、桐油、大豆油、ヒマシ油、エポキシ化油等の油脂
類等の天然及び合成高分子物質を含有させることができ
る。これらを用いる場合、ウレタン化合物100重量部
に対して、1〜400重量部程度配合することが好まし
い。
The photocurable resin composition of the present invention further comprises
Depending on the purpose, unsaturated polyester resin, vinyl ester resin, vinyl urethane resin, vinyl ester urethane resin, polyisocyanate, polyepoxide, epoxy-terminated polyoxazolidone, acrylic resin, alkyd resin, urea resin, melamine resin, polydiene Natural and synthetic, such as elastomers, polyurethane elastomers, saturated polyesters, saturated polyethers, cellulose derivatives such as nitrocellulose, cellulose acetate butyrate, and oils and fats such as linseed oil, tung oil, soybean oil, castor oil, and epoxidized oil A polymer substance can be contained. When these are used, it is preferable to add about 1 to 400 parts by weight to 100 parts by weight of the urethane compound.

【0033】本発明の光硬化性樹脂組成物には光重合開
始剤を含むことが好ましい。使用できる光重合開始剤と
しては、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、カルボ
ニル系[ベンゾフェノン、ジアセチル、ベンジル、ベン
ゾイン、ω−ブロモアセトフェノン、クロロアセトン、
アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトン、p−ジメ
チルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピ
オフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p′−ビ
スジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテ
ル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンジルジメチ
ルケタール、、メチルベンゾイルホルメート、2,2−
ジエトキシアセトフェノン、4−N,N′−ジメチルア
セトフェノン類]、スルフィド系(ジフェニルジスルフ
ィド、ジベンジルジスルフィドなど)、キノン系(ベン
ゾキノン、アントラキノンなど)、アゾ系(アゾビスイ
ソブチロニトリル、2,2′−アゾビスプロパン、ヒド
ラジンなど)、スルホクロリド系、チオキサントンな
ど)、過酸化物系(過酸化ベンゾイル、ジ−t−ブチル
ペルオキシドなど)、o−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミル等が挙げられる。
The photocurable resin composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of usable photopolymerization initiators include 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-
2-methyl-1-phenylpropan-1-one, carbonyl [benzophenone, diacetyl, benzyl, benzoin, ω-bromoacetophenone, chloroacetone,
Acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone,
2,2-dimethoxy-2-phenylacetone, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin -N-butyl ether, benzyldimethyl ketal, methylbenzoyl formate, 2,2-
Diethoxyacetophenone, 4-N, N'-dimethylacetophenones], sulfides (such as diphenyl disulfide and dibenzyl disulfide), quinones (such as benzoquinone and anthraquinone), and azo (azobisisobutyronitrile, 2,2) '-Azobispropane, hydrazine, etc.), sulfochlorides, thioxanthone, etc., peroxides (benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, etc.), isoamyl o-dimethylaminobenzoate and the like.

【0034】光重合開始剤は、ウレタン化合物100重
量部に対して、0.01〜15重量部配合することが光
硬化性、硬化物の機械特性の点から好ましい。
The photopolymerization initiator is preferably added in an amount of 0.01 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane compound from the viewpoint of photocurability and mechanical properties of the cured product.

【0035】本発明の水系現像性光硬化性樹脂組成物
に、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル、ベンゾキノン、p−t−ブチルカテコール、2,6
−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールなどの重合禁
止剤などを添加することができる。これらを用いる場
合、ウレタン化合物100重量部に対して、0.01〜
3重量部程度添加することが好ましい。
The aqueous developable photocurable resin composition of the present invention contains hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, benzoquinone, pt-butylcatechol, 2,6
A polymerization inhibitor such as -di-t-butyl-4-methylphenol can be added. When these are used, 0.01 to 100 parts by weight of the urethane compound are used.
It is preferable to add about 3 parts by weight.

【0036】本発明の光硬化性樹脂組成物には、樹脂の
粘度調節や樹脂合成効率等のため、メチルエチルケトン
やアセトン、メチルイソブチルケトンの様なケトン類や
酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル等のエステル
類、ブタノール、イソブタノール等のアルコール類、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコ
ール類、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等のポリオキシアルキレン類、γ−ブチロラクト
ン等のラクトン類、ジオキサン、テトラヒドロフランの
ような環状エーテル化合物、N,N−ジメチルフォルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミドのようなアミド
化合物等の、適当な有機溶剤を含有させることができ
る。これらを用いる場合、ウレタン化合物100重量部
に対して、10〜500重量部含有させることが好まし
い。
The photocurable resin composition of the present invention contains ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, and methyl isobutyl ketone, and butyl acetate, ethyl acetate, isobutyl acetate and the like for controlling the viscosity of the resin and the efficiency of resin synthesis. Esters, butanol, alcohols such as isobutanol, cellosolves such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve,
Glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, polyoxyalkylenes such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, lactones such as γ-butyrolactone, cyclic ether compounds such as dioxane and tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide; A suitable organic solvent such as an amide compound such as N-dimethylacetamide can be contained. When these are used, they are preferably contained in an amount of 10 to 500 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane compound.

【0037】本発明の光硬化性樹脂組成物は、光硬化性
コーティング剤、フォトレジスト材料、光硬化性イン
キ、感光性刷版用材料等に用いることができる。本発明
の光硬化性樹脂組成物は、水系現像が可能なものである
が、水系現像とは水、アルカリ性水溶液、酸性水溶液、
アルコール性水溶液、ケトン性水溶液、界面活性剤含有
水溶液、それらの混合溶液等、水を50重量%以上含む
溶液により、未硬化部が溶解または膨潤またはその他の
方法で除去できることをいう。本発明の光硬化性樹脂組
成物は、中でもアルカリ性水溶液、アルカリ含有有機溶
媒又はそれら両者の混合液を用いることが好ましい。
The photocurable resin composition of the present invention can be used as a photocurable coating agent, a photoresist material, a photocurable ink, a material for a photosensitive printing plate, and the like. The photocurable resin composition of the present invention is capable of aqueous development, but the aqueous development is water, an alkaline aqueous solution, an acidic aqueous solution,
It means that an uncured portion can be dissolved or swelled or removed by other methods using a solution containing 50% by weight or more of water, such as an alcoholic aqueous solution, a ketone aqueous solution, a surfactant-containing aqueous solution, and a mixed solution thereof. As the photocurable resin composition of the present invention, it is preferable to use an alkaline aqueous solution, an alkali-containing organic solvent, or a mixed solution of both.

【0038】すなわち、光硬化性樹脂組成物を用いて膜
を形成し、この膜に像的に光を露光し、アルカリ性水溶
液、アルカリ含有有機溶媒又はそれら両者の混合液を用
いて未露光部を除去することでパターンを製造すること
ができる。露光する光としては、紫外線などを用いるこ
とができる。像的に光を露光する方法としては、目的と
するパターンが形成されたフォトマスクを介して露光す
る方法などを用いることができる。現像に用いるアルカ
リ水溶液としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の1〜10重量%水
溶液が挙げられる。アルカリ水溶液により、未露光部を
溶解又は膨潤させて除去することにより露光部に対応す
る硬化物のパターンを製造することができる。
That is, a film is formed using the photocurable resin composition, and this film is imagewise exposed to light, and an unexposed portion is exposed using an alkaline aqueous solution, an alkali-containing organic solvent, or a mixture thereof. The pattern can be manufactured by removing. Ultraviolet light or the like can be used as light for exposure. As a method of imagewise exposing light, a method of exposing through a photomask on which a target pattern is formed can be used. Examples of the aqueous alkali solution used for development include an aqueous solution of 1 to 10% by weight of sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like. By dissolving or swelling the unexposed portions with an alkaline aqueous solution and removing them, a pattern of a cured product corresponding to the exposed portions can be produced.

【0039】[0039]

【実施例】次に、本発明を実施例及び比較例により詳細
に説明する。なお、以下において、「部」及び「%」
は、特に断りのない限り、全て重量基準である。
Next, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples. In the following, "part" and "%"
All are by weight unless otherwise specified.

【0040】合成例1 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、次式
Synthesis Example 1 After introducing air gas into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air gas introduction pipe, the following formula was used.

【化1】 で示されるポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学
工業(株)製、商品名プラクセル205、数平均分子量5
00)211.8部、ジメチロールブタン酸62.7
部、ジエチレングリコール40.4部、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート93.4部、p−メトキシフェノー
ル0.51部、ジブチル錫ラウレート(東京ファインケ
ミカル(株)製、商品名 L101)0.51部及びメチ
ルエチルケトン102.1部を仕込み、空気気流下で6
5℃まで攪拌しながら昇温した。
Embedded image (Placcel 205, trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., number average molecular weight 5)
00) 211.8 parts, dimethylolbutanoic acid 62.7
Parts, 40.4 parts of diethylene glycol, 93.4 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, 0.51 part of p-methoxyphenol, 0.51 part of dibutyltin laurate (trade name L101, manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.), and 102. Charge 1 part, 6 under air flow
The temperature was raised while stirring to 5 ° C.

【0041】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)338.1部を仕込み、3時間かけて反
応容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±
3℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケ
トン84.5部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容
器にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保温
した後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクト
ルのイソシアナート由来のピークが消失するまで、75
±3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソシ
アナート由来のピークが消失した。このピークの消失を
確認後60℃まで降温し、メタノール10.3部を添加
し、60±3℃で30分保温した。その後メチルエチル
ケトンを55.7部添加し、樹脂固形分75%、重量平
均分子量3250、酸価22.5のウレタンアクリレー
ト溶液を調整した。
In a dropping container, trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA, manufactured by Huls Japan)
(TTMDI) 338.1 parts was charged, and the mixture was uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ±
It was kept at 3 ° C. After the completion of the dropping, the dropping vessel was washed with 84.5 parts of methyl ethyl ketone, and the solution after the washing was directly charged into the reaction vessel. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears, 75
The stirring and warming were continued at ± 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., 10.3 parts of methanol was added, and the temperature was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 55.7 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 3250 and an acid value of 22.5.

【0042】合成例2 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、次式
Synthesis Example 2 After introducing air gas into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air gas introduction pipe, the following formula was used.

【化2】 で示されるカルボン酸変性ポリカプロラクトンジオール
(ダイセル化学工業(株)製、商品名プラクセル205B
A、数平均分子量500)265.9部、ジエチレング
リコール50.7部、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト117.2部、p−メトキシフェノール0.54部、
ジブチル錫ラウレート(東京ファインケミカル(株)製、
商品名 L101)0.54部及びメチルエチルケトン
108.5部を仕込み、空気気流下で65℃まで攪拌し
ながら昇温した。
Embedded image Carboxylic acid-modified polycaprolactone diol (Placcel 205B, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
A, number average molecular weight 500) 265.9 parts, diethylene glycol 50.7 parts, 2-hydroxyethyl acrylate 117.2 parts, p-methoxyphenol 0.54 parts,
Dibutyltin laurate (Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.
0.54 parts of trade name L101) and 108.5 parts of methyl ethyl ketone were charged, and the mixture was heated to 65 ° C. while stirring in an air stream.

【0043】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)312.7部を仕込み、3時間かけて反
応容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±
3℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケ
トン78.2部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容
器にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保温
した後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクト
ルのイソシアナート由来のピークが消失するまで、75
±3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソシ
アナート由来のピークが消失した。このピークの消失を
確認後60℃まで降温し、メタノール9.5部を添加
し、60±3℃で30分保温した。その後メチルエチル
ケトンを56.2部添加し、樹脂固形分75%、重量平
均分子量2790、酸価28.3のウレタンアクリレー
ト溶液を調整した。
In a dropping vessel, trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA, manufactured by Huls Japan)
(TTMDI) 312.7 parts were charged, and the mixture was uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ±
It was kept at 3 ° C. After the completion of the dropping, the dropping container was washed with 78.2 parts of methyl ethyl ketone, and the solution after the washing was directly charged into the reaction container. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears, 75
The stirring and warming were continued at ± 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., 9.5 parts of methanol was added, and the temperature was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 56.2 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 2790 and an acid value of 28.3.

【0044】合成例3 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、カルボン酸変性
ポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学工業(株)
製、商品名プラクセル205BA)250.8部、ポリ
エチレングリコール(三洋化成工業(株)製、PEG20
0、数平均分子量200)90.3部、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート110.6部、p−メトキシフェノ
ール0.56部、ジブチル錫ラウレート(東京ファイン
ケミカル(株)製、商品名 L101)0.56部及びメ
チルエチルケトン112.9部を仕込み、空気気流下で
65℃まで攪拌しながら昇温した。
Synthesis Example 3 An air gas was introduced into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling pipe and an air gas introduction pipe, and then carboxylic acid-modified polycaprolactone diol (Daicel Chemical Industries, Ltd.)
250.8 parts of polyethylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., PEG20)
0, number average molecular weight 200) 90.3 parts, 2-hydroxyethyl acrylate 110.6 parts, p-methoxyphenol 0.56 parts, dibutyltin laurate (trade name L101, manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.) 0.56 parts And 112.9 parts of methyl ethyl ketone, and the mixture was heated to 65 ° C. while stirring in an air stream.

【0045】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)295.0を仕込み、3時間かけて反応
容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±3
℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケト
ン73.7部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容器
にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保温し
た後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクトル
のイソシアナート由来のピークが消失するまで、75±
3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソシア
ナート由来のピークが消失した。このピークの消失を確
認後60℃まで降温し、メタノール9.0部を添加し、
60±3℃で30分保温した。その後メチルエチルケト
ンを56.6部添加し、樹脂固形分75%、重量平均分
子量2970、酸価26.7のウレタンアクリレート溶
液を調整した。
In a dropping vessel, trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA manufactured by Huls Japan) is used.
(TTMDI) 295.0 was charged and uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ± 3
C. After the completion of the dropping, the dropping vessel was washed with 73.7 parts of methyl ethyl ketone, and the solution after the washing was directly charged into the reaction vessel. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, 75 ± until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears.
The stirring and warming were continued at 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., and 9.0 parts of methanol was added.
It was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 56.6 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 2,970 and an acid value of 26.7.

【0046】合成例4 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、カルボン酸変性
ポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学工業(株)
製、商品名プラクセル205BA)223.8部、ポリ
エチレングリコール(三洋化成工業(株)製、PEG40
0、数平均分子量400)161.1部、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート98.7部、p−メトキシフェノ
ール0.60部、ジブチル錫ラウレート(東京ファイン
ケミカル(株)製、商品名 L101)0.60部及びメ
チルエチルケトン120.9部を仕込み、空気気流下で
65℃まで攪拌しながら昇温した。
Synthesis Example 4 An air gas was introduced into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling pipe and an air gas introduction pipe, and then carboxylic acid-modified polycaprolactone diol (Daicel Chemical Industries, Ltd.)
223.8 parts of polyethylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., PEG40)
0, number average molecular weight 400) 161.1 parts, 2-hydroxyethyl acrylate 98.7 parts, p-methoxyphenol 0.60 parts, dibutyltin laurate (trade name L101, manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.) 0.60 parts And 120.9 parts of methyl ethyl ketone, and the mixture was heated to 65 ° C. while stirring in an air stream.

【0047】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)263.2を仕込み、3時間かけて反応
容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±3
℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケト
ン65.8部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容器
にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保温し
た後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクトル
のイソシアナート由来のピークが消失するまで、75±
3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソシア
ナート由来のピークが消失した。このピークの消失を確
認後60℃まで降温し、メタノール8.0部を添加し、
60±3℃で30分保温した。その後メチルエチルケト
ンを57.3部添加し、樹脂固形分75%、重量平均分
子量3350、酸価23.8のウレタンアクリレート溶
液を調整した。
In a dropping vessel, trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA, manufactured by Huls Japan)
(TTMDI) 263.2 was charged and uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ± 3
C. After the completion of the dropping, the dropping vessel was washed with 65.8 parts of methyl ethyl ketone, and the solution after the washing was directly charged into the reaction vessel. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, 75 ± until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears.
The stirring and warming were continued at 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., and 8.0 parts of methanol was added.
It was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 57.3 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 3350 and an acid value of 23.8.

【0048】合成例5 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、カルボン酸変性
ポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学工業(株)
製、商品名プラクセル205BA)202.0部、ポリ
エチレングリコール(三洋化成工業(株)製、PEG60
0、数平均分子量600)218.2部、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート89.1部、p−メトキシフェノ
ール0.64部、ジブチル錫ラウレート(東京ファイン
ケミカル(株)製、商品名 L101)0.64部及びメ
チルエチルケトン127.3部を仕込み、空気気流下で
65℃まで攪拌しながら昇温した。
Synthesis Example 5 After introducing air gas into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air gas introduction pipe, carboxylic acid-modified polycaprolactone diol (Daicel Chemical Industries, Ltd.)
202.0 parts of polyethylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., PEG60)
0, number average molecular weight 600) 218.2 parts, 2-hydroxyethyl acrylate 89.1 parts, p-methoxyphenol 0.64 parts, dibutyltin laurate (trade name L101, manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.) 0.64 parts And 127.3 parts of methyl ethyl ketone, and the mixture was heated to 65 ° C. while stirring in an air stream.

【0049】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)237.6を仕込み、3時間かけて反応
容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±3
℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケト
ン59.4部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容器
にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保温し
た後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクトル
のイソシアナート由来のピークが消失するまで、75±
3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソシア
ナート由来のピークが消失した。このピークの消失を確
認後60℃まで降温し、メタノール7.2部を添加し、
60±3℃で30分保温した。その後メチルエチルケト
ンを57.8部添加し、樹脂固形分75%、重量平均分
子量3730、酸価22.6のウレタンアクリレート溶
液を調整した。
In a dropping vessel, trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA, manufactured by Huls Japan)
(TTMDI) 237.6 was charged and uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ± 3
C. After the completion of the dropping, the dropping vessel was washed with 59.4 parts of methyl ethyl ketone, and the solution after the washing was directly charged into the reaction vessel. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, 75 ± until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears.
The stirring and warming were continued at 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., and 7.2 parts of methanol was added.
It was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 57.8 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 3,730, and an acid value of 22.6.

【0050】比較合成例1 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、ポリカプロラク
トンジオール(ダイセル化学工業(株)製、商品名プラク
セル205)344.7部、ジメチロールブタン酸5
1.0部、2−ヒドロキシエチルアクリレート76.0
部、p−メトキシフェノール0.59部、ジブチル錫ラ
ウレート(東京ファインケミカル(株)製、商品名 L1
01)0.59部及びメチルエチルケトン117.9部
を仕込み、空気気流下で65℃まで攪拌しながら昇温し
た。
Comparative Synthesis Example 1 After air gas was introduced into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air gas introduction pipe, polycaprolactone diol (Placcel 205, trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) ) 344.7 parts, dimethylolbutanoic acid 5
1.0 part, 2-hydroxyethyl acrylate 76.0
Parts, p-methoxyphenol 0.59 parts, dibutyltin laurate (trade name: L1 manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.)
01) 0.59 part and 117.9 parts of methyl ethyl ketone were charged and heated to 65 ° C. while stirring in an air stream.

【0051】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)275.1部を仕込み、3時間かけて反
応容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±
3℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケ
トン68.8部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容
器にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保温
した後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクト
ルのイソシアナート由来のピークが消失するまで、75
±3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソシ
アナート由来のピークが消失した。このピークの消失を
確認後60℃まで降温し、メタノール8.4部を添加
し、60±3℃で30分保温した。その後メチルエチル
ケトンを57.0部添加し、樹脂固形分75%、重量平
均分子量2470、酸価18.3のウレタンアクリレー
ト溶液を調整した。
In a dropping vessel, trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA, manufactured by Huls Japan)
(TTMDI) 275.1 parts were charged and uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ±
It was kept at 3 ° C. After the completion of the dropping, the dropping vessel was washed with 68.8 parts of methyl ethyl ketone, and the solution after the washing was directly charged into the reaction vessel. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears, 75
The stirring and warming were continued at ± 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming the disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., 8.4 parts of methanol was added, and the mixture was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 57.0 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 2470 and an acid value of 18.3.

【0052】比較合成例2 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、カルボン酸変性
ポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学工業(株)
製、商品名プラクセル205BA)369.9部、2−
ヒドロキシエチルアクリレート81.5部、p−メトキ
シフェノール0.56部、ブチル錫ラウレート(東京フ
ァインケミカル(株)製、商品名 L101)0.56部
びメチルエチルケトン112.9部込み、空気気流下で
65℃まで攪拌しながら昇温した。
Comparative Synthesis Example 2 After introducing air gas into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air gas introduction pipe, carboxylic acid-modified polycaprolactone diol (Daicel Chemical Industries, Ltd.)
369.9 parts, manufactured by Plaxel 205BA)
81.5 parts of hydroxyethyl acrylate, 0.56 parts of p-methoxyphenol, 0.56 parts of butyltin laurate (trade name: L101, manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.) and 112.9 parts of methyl ethyl ketone, and 65 ° C. in an air stream. The temperature was raised while stirring.

【0053】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)295.2部を仕込み、3時間かけて反
応容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±
3℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケ
トン73.8部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容
器にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保温
した後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクト
ルのイソシアナート由来のピークが消失するまで、75
±3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソシ
アナート由来のピークが消失した。このピークの消失を
確認後60℃まで降温し、メタノール9.0部を添加
し、60±3℃で30分保温した。その後メチルエチル
ケトンを56.6部添加し、樹脂固形分75%、重量平
均分子量2190、酸価41.4のウレタンアクリレー
ト溶液を調整した。
In a dropping vessel, add trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA, manufactured by Huls Japan).
(TTMDI) 295.2 parts were charged and uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ±
It was kept at 3 ° C. After the completion of the dropping, the dropping vessel was washed with 73.8 parts of methyl ethyl ketone, and the solution after the washing was directly charged into the reaction vessel. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears, 75
The stirring and warming were continued at ± 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., 9.0 parts of methanol was added, and the mixture was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 56.6 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 2190, and an acid value of 41.4.

【0054】比較合成例3 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、ジエチレングリ
コール114.7部、ジメチロールブタン酸80.1
部、2−ヒドロキシエチルアクリレート119.3部、
p−メトキシフェノール0.39部、ジブチル錫ラウレ
ート(東京ファインケミカル(株)製、商品名 L10
1)0.39部及びメチルエチルケトン117.9部を
仕込み、空気気流下で65℃まで攪拌しながら昇温し
た。
COMPARATIVE SYNTHESIS EXAMPLE 3 After introducing air gas into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air gas introduction pipe, 114.7 parts of diethylene glycol and 80.1 parts of dimethylolbutanoic acid were used.
Parts, 119.3 parts of 2-hydroxyethyl acrylate,
0.39 parts of p-methoxyphenol, dibutyltin laurate (trade name: L10, manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.)
1) 0.39 parts and 117.9 parts of methyl ethyl ketone were charged and heated to 65 ° C. while stirring in an air stream.

【0055】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)431.8部を仕込み、3時間かけて反
応容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±
3℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケ
トン108.0部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応
容器にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保
温した後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペク
トルのイソシアナート由来のピークが消失するまで、7
5±3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソ
シアナート由来のピークが消失した。このピークの消失
を確認後60℃まで降温し、メタノール13.2部を添
加し、60±3℃で30分保温した。その後メチルエチ
ルケトンを53.7部添加し、樹脂固形分75%、重量
平均分子量2320、酸価28.8のウレタンアクリレ
ート溶液溶液を調整した。
In a dropping container, add trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA, manufactured by Huls Japan).
(TTMDI) 431.8 parts were charged and uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ±
It was kept at 3 ° C. After the completion of the dropping, the dropping vessel was washed with 108.0 parts of methyl ethyl ketone, and the washed solution was directly charged into the reaction vessel. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears, 7
The stirring and warming were continued at 5 ± 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., 13.2 parts of methanol was added, and the temperature was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 53.7 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 2320 and an acid value of 28.8.

【0056】比較合成例4 撹拌機、温度計、冷却管および空気ガス導入管を装備し
た反応容器に空気ガスを導入させた後、ポリエチレング
リコール(三洋化成工業(株)製、PEG400、数平均
分子量400)303.7部、ジメチロールブタン酸5
6.2部、2−ヒドロキシエチルアクリレート83.7
部、p−メトキシフェノール0.55部、ジブチル錫ラ
ウレート(東京ファインケミカル(株)製、商品名 L1
01)0.55部及びメチルエチルケトン110.9部
を仕込み、空気気流下で65℃まで攪拌しながら昇温し
た。
Comparative Synthesis Example 4 After introducing air gas into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air gas introduction pipe, polyethylene glycol (PEG400, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., number average molecular weight) 400) 303.7 parts, dimethylolbutanoic acid 5
6.2 parts, 2-hydroxyethyl acrylate 83.7
Parts, p-methoxyphenol 0.55 parts, dibutyltin laurate (trade name L1 manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.)
01) 0.55 parts and 110.9 parts of methyl ethyl ketone were charged, and the mixture was heated to 65 ° C. while stirring in an air stream.

【0057】滴下容器にトリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアナート(ヒュルスジャパン社製、VESTANA
T TMDI)303.0部を仕込み、3時間かけて反
応容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±
3℃に保った。滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケ
トン75.7部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容
器にそのまま投入した。さらに攪拌しながら2時間保温
した後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクト
ルのイソシアナート由来のピークが消失するまで、75
±3℃で攪拌保温を続けた。およそ6〜8時間でイソシ
アナート由来のピークが消失した。このピークの消失を
確認後60℃まで降温し、メタノール9.2部を添加
し、60±3℃で30分保温した。その後メチルエチル
ケトンを56.4部添加し、樹脂固形分75%、重量平
均分子量3440、酸価20.2のウレタンアクリレー
ト溶液を調整した。
In a dropping vessel, add trimethylhexamethylene diisocyanate (VESTANA, manufactured by Huls Japan).
(TTMDI) 303.0 parts were charged, and the mixture was uniformly dropped into the reaction vessel over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was set to 65 ±
It was kept at 3 ° C. After the completion of the dropping, the dropping container was washed with 75.7 parts of methyl ethyl ketone, and the solution after the washing was directly charged into the reaction container. After keeping the temperature for 2 hours with further stirring, the temperature was raised to 75 ° C. Thereafter, until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappears, 75
The stirring and warming were continued at ± 3 ° C. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 6 to 8 hours. After confirming disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., 9.2 parts of methanol was added, and the mixture was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 56.4 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a urethane acrylate solution having a resin solid content of 75%, a weight average molecular weight of 3440 and an acid value of 20.2.

【0058】実施例1〜5及び比較例1〜4 上記合成例1〜5及び比較合成例1〜4のウレタンアク
リレート溶液50部に、光開始剤としてイルガキュア6
51(チバガイギー社製)1部又は0.25部を加え、
よく攪拌し、光硬化性樹脂組成物を製造した。
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 Irgacure 6 was added as a photoinitiator to 50 parts of the urethane acrylate solution of the above Synthesis Examples 1 to 5 and Comparative Synthesis Examples 1 to 4.
Add 1 part or 0.25 part of 51 (manufactured by Ciba Geigy),
The mixture was stirred well to produce a photocurable resin composition.

【0059】評価例1 上記光硬化性樹脂組成物(イルガキュア651は1部)
をガラス板上にアプリケータを用い膜厚300μmで塗
布し、80℃で30分セッティングした。このガラス板
を80W/mの高圧水銀灯下コンベアスピード5m/分で2
回通過させ、硬化塗膜を得た。この塗膜を5×1.5cm
角に切り取った後両端から1.5cmをオートグラフのは
さみしろにして、破断強度と伸びを測定した。
Evaluation Example 1 The above photocurable resin composition (1 part of Irgacure 651)
Was applied on a glass plate with a thickness of 300 μm using an applicator and set at 80 ° C. for 30 minutes. The glass plate is fed under a high-pressure mercury lamp of 80 W / m at a conveyor speed of 5 m / min.
It was passed twice to obtain a cured coating film. 5 × 1.5cm
After being cut into corners, 1.5 cm from both ends were cut off by an autograph, and the breaking strength and elongation were measured.

【0060】評価例2 上記光硬化性樹脂組成物(イルガキュア651は1部)
を、10cmφ×1.5cmのシャーレ中に20g入れ、微
減圧(700mmHg)80℃で溶剤分を揮発させた。この
シャーレを80W/mの高圧水銀灯下コンベアスピード5m
/分で3回通過させ、硬化物を得た。反発弾性と表面硬
度を測定した。
Evaluation Example 2 The above photocurable resin composition (1 part for Irgacure 651)
Was placed in a Petri dish of 10 cmφ × 1.5 cm, and the solvent was evaporated at 80 ° C. under slightly reduced pressure (700 mmHg). Conveyor speed is 5m under 80W / m high pressure mercury lamp.
The mixture was passed three times at a time per minute to obtain a cured product. The rebound resilience and surface hardness were measured.

【0061】評価例3 上記光硬化性樹脂組成物(イルガキュア651は0.2
5部)を、銅板上にアプリケータを用い膜厚300μm
で塗布し、80℃で30分セッティングした。この銅板
上にマイラーフィルム(帝人(株)製)をのせ、その上に
21段ステップタブレットを置き、光照射量を変えて露
光した。21段ステップタブレットの8段目が硬化する
に要する露光量を光感度とした。
Evaluation Example 3 The photocurable resin composition (Irgacure 651 was 0.2
5 parts) using an applicator on a copper plate to a thickness of 300 μm.
And set at 80 ° C. for 30 minutes. A Mylar film (manufactured by Teijin Limited) was placed on this copper plate, and a 21-step tablet was placed on the Mylar film, and exposure was performed while changing the amount of light irradiation. The exposure required for curing the eighth stage of the 21-step tablet was taken as the light sensitivity.

【0062】評価例4 上記光硬化性樹脂組成物(イルガキュア651は0.2
5部)を、銅板上にアプリケータを用い膜厚300μm
で塗布し、80℃で30分セッティングした。この銅板
上にマイラーフィルム(帝人(株)製)をのせその上にネ
ガ及びポジパターンを置き、評価例3の光感度値の露光
量を照射し、現像性を検討した。
Evaluation Example 4 The above photocurable resin composition (Irgacure 651 was 0.2
5 parts) using an applicator on a copper plate to a thickness of 300 μm.
And set at 80 ° C. for 30 minutes. A mylar film (manufactured by Teijin Limited) was placed on the copper plate, and a negative and a positive pattern were placed thereon. The exposed amount of the light sensitivity value of Evaluation Example 3 was irradiated to examine the developability.

【0063】実験結果 評価例1〜4の結果を以下に示した。Experimental Results The results of Evaluation Examples 1 to 4 are shown below.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】[0065]

【発明の効果】本発明の光硬化性樹脂組成物は、水系現
像が可能で、現像性も良好であり、感度に優れ、硬化物
の耐水性および耐溶剤性が優れ、さらに硬化物が弾性体
の性質を有するものである。また本発明のパターンの製
造法によれば、アルカリ現像により良好に現像でき、硬
化物の耐水性および耐溶剤性が優れ、さらに硬化物が弾
性体の性質を有するパターンが得られる。
The photocurable resin composition of the present invention is capable of aqueous development, has good developability, is excellent in sensitivity, has excellent water resistance and solvent resistance of the cured product, and has an elastic cured product. It has the properties of the body. Further, according to the method for producing a pattern of the present invention, a pattern which can be favorably developed by alkali development, has excellent water resistance and solvent resistance of a cured product, and has a cured product having properties of an elastic body is obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA04 AA06 AB02 AB15 AB16 AB17 AC01 AC06 AD01 BC14 BC32 BC42 BC66 BC85 BJ07 CA01 CA18 CA23 CA27 CA31 FA03 FA17 2H096 AA00 AA02 AA25 AA26 AA27 BA05 BA06 BA20 EA02 EA06 GA08 4J034 BA07 BA08 CA04 CA22 CA24 CB03 CB04 CB07 CB08 CC03 CC08 CC12 CC23 CC26 CC45 CC52 CC61 CC62 CC65 CC67 CD04 CD06 DA01 DB04 DB07 DF11 DG03 DG04 DG06 DG08 DG12 DG14 DG15 DG16 FA02 FB01 FB04 FC01 FD01 FE04 HA01 HA04 HA07 HA18 HC03 HC12 HC17 HC22 HC46 HC52 HC53 HC61 HC64 HC67 HC71 HC73 JA21 KA01 KB02 KD03 KD06 KD08 KD11 KD12 KD21 KD24 KD25 LA13 LA23 LA33 QA05 QB11 RA07 RA13 5E339 CC01 CC02 CD01 CE12 CF16 CF17 DD02  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA01 AA04 AA06 AB02 AB15 AB16 AB17 AC01 AC06 AD01 BC14 BC32 BC42 BC66 BC85 BJ07 CA01 CA18 CA23 CA27 CA31 FA03 FA17 2H096 AA00 AA02 AA25 AA26 AA27 BA05 BA04 BA20 EA02 EA02EA06 BA08 CA04 CA22 CA24 CB03 CB04 CB07 CB08 CC03 CC08 CC12 CC23 CC26 CC45 CC52 CC61 CC62 CC65 CC67 CD04 CD06 DA01 DB04 DB07 DF11 DG03 DG04 DG06 DG08 DG12 DG14 DG15 DG16 FA02 FB01 FB04 FC01 HC04 HC03 HC04 HC61 HC64 HC67 HC71 HC73 JA21 KA01 KB02 KD03 KD06 KD08 KD11 KD12 KD21 KD24 KD25 LA13 LA23 LA33 QA05 QB11 RA07 RA13 5E339 CC01 CC02 CD01 CE12 CF16 CF17 DD02

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)ポリラクトンジオール、(b)ア
ルキレンジオール、ポリオキシアルキレンジオール及び
ビスフェノール類若しくはその水素添加物のアルキレン
オキシド付加型ジオールから選択されるジオール、
(c)ポリイソシアナート、(d)エチレン性不飽和基
を有する化合物を含む反応成分を反応させて得られ、か
つ、その分子中にカルボキシル基を有するウレタン化合
物を含有してなる光硬化性樹脂組成物。
1. A diol selected from (a) a polylactone diol, (b) an alkylene diol, a polyoxyalkylene diol and an alkylene oxide addition type diol of a bisphenol or a hydrogenated product thereof.
(C) a photocurable resin obtained by reacting a reaction component containing a polyisocyanate and (d) a compound having an ethylenically unsaturated group and containing a urethane compound having a carboxyl group in its molecule; Composition.
【請求項2】 さらに光重合開始剤を含む請求項1記載
の光硬化性樹脂組成物。
2. The photocurable resin composition according to claim 1, further comprising a photopolymerization initiator.
【請求項3】 ウレタン化合物が、両末端にエチレン性
不飽和基をもつものである請求項1又は2記載の光硬化
性樹脂組成物。
3. The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the urethane compound has an ethylenically unsaturated group at both ends.
【請求項4】 ウレタン化合物のカルボキシル基が、反
応成分として、さらに(e)カルボキシル基を有するジ
オールを用いることによるものである請求項1、2又は
3記載の光硬化性樹脂組成物。
4. The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the carboxyl group of the urethane compound is obtained by further using (e) a diol having a carboxyl group as a reaction component.
【請求項5】 ウレタン化合物のカルボキシル基が、
(a)成分として、カルボキシル基含有ジオールとラク
トンを反応させて得られるカルボキシル基含有ポリラク
トンジオールを用いることによるものである請求項1、
2又は3記載の光硬化性樹脂組成物。
5. A carboxyl group of a urethane compound,
The method according to claim 1, wherein a carboxyl group-containing polylactone diol obtained by reacting a carboxyl group-containing diol with a lactone is used as the component (a).
4. The photocurable resin composition according to 2 or 3.
【請求項6】 (a)成分が、数平均分子量300〜5
000のポリラクトンジオールであり、(b)成分が、
数平均分子量62〜3000のアルキレンジオール、ポ
リオキシアルキレンジオール及びビスフェノール類若し
くはその水素添加物のアルキレンオキシド付加型ジオー
ルから選択されるジオールである請求項1、2、3、4
又は5記載の光硬化性樹脂組成物。
6. The component (a) having a number average molecular weight of 300 to 5
000 polylactone diol, wherein the component (b) is
A diol selected from alkylene diols having a number average molecular weight of 62 to 3,000, polyoxyalkylene diols, and alkylene oxide addition diols of bisphenols or hydrogenated products thereof.
Or the photocurable resin composition according to 5.
【請求項7】 (c)成分が、脂肪族ジイソシアナート
である請求項1〜6のいずれかに記載の光硬化性樹脂組
成物。
7. The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the component (c) is an aliphatic diisocyanate.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の光硬化
性樹脂組成物を用いて膜を形成し、この膜に像的に光を
露光し、アルカリ性水溶液、アルカリ含有有機溶媒又は
それら両者の混合液により未露光部を除去することを特
徴とするパターンの製造法。
8. A film is formed using the photocurable resin composition according to claim 1, and the film is exposed imagewise to light, and an alkaline aqueous solution, an alkali-containing organic solvent or a mixture thereof. A method for producing a pattern, comprising removing unexposed portions with a mixture of the two.
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