JP2000325751A - エチレンオキサイドガス排出処理装置 - Google Patents
エチレンオキサイドガス排出処理装置Info
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- JP2000325751A JP2000325751A JP11142350A JP14235099A JP2000325751A JP 2000325751 A JP2000325751 A JP 2000325751A JP 11142350 A JP11142350 A JP 11142350A JP 14235099 A JP14235099 A JP 14235099A JP 2000325751 A JP2000325751 A JP 2000325751A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、水封式真空ポンプが使用可能であ
り、公害防止対策に万全を期すことができるエチレンオ
キサイドガス排出処理装置を提供する。 【解決手段】本発明のエチレンオキサイドガス排出処理
装置は、外部から取り入れたエチレンオキサイドガスを
滅菌加圧して送り出す滅菌庫５３と、この滅菌庫５３か
らのエチレンオキサイドガスを吸入して水とともに送り
出す水封式真空ポンプ８０を用いた給水系７０と、滅菌
庫５３からのエチレンオキサイドガスを取り入れてヒー
タ２による加熱処理、触媒３、４による清浄化処理及び
冷却装置８による冷却処理を行い、又は、前記給水系７
０からの水とエチレンオキサイドガスとの気液分離を行
う気化器５により分離したエチレンオキサイドガスを取
り入れてヒータ２による加熱処理、触媒３、４による清
浄化処理及び冷却装置８による冷却処理を行い、低温で
清浄化された排ガスを外部に排気する排出処理装置本体
１００とを有するものである。
り、公害防止対策に万全を期すことができるエチレンオ
キサイドガス排出処理装置を提供する。 【解決手段】本発明のエチレンオキサイドガス排出処理
装置は、外部から取り入れたエチレンオキサイドガスを
滅菌加圧して送り出す滅菌庫５３と、この滅菌庫５３か
らのエチレンオキサイドガスを吸入して水とともに送り
出す水封式真空ポンプ８０を用いた給水系７０と、滅菌
庫５３からのエチレンオキサイドガスを取り入れてヒー
タ２による加熱処理、触媒３、４による清浄化処理及び
冷却装置８による冷却処理を行い、又は、前記給水系７
０からの水とエチレンオキサイドガスとの気液分離を行
う気化器５により分離したエチレンオキサイドガスを取
り入れてヒータ２による加熱処理、触媒３、４による清
浄化処理及び冷却装置８による冷却処理を行い、低温で
清浄化された排ガスを外部に排気する排出処理装置本体
１００とを有するものである。
Description
【発明の属する技術分野】本発明は、エチレンオキサイ
ドガス排出処理装置に関し、詳しくは、エチレンオキサ
イドガスを効率よく清浄化処理して大気中に排出できる
エチレンオキサイドガス排出処理装置に関するものであ
る。
ドガス排出処理装置に関し、詳しくは、エチレンオキサ
イドガスを効率よく清浄化処理して大気中に排出できる
エチレンオキサイドガス排出処理装置に関するものであ
る。
【従来の技術】従来の病院等におけるエチレンオキサイ
ドガスの排出処理は、滅菌装置を使用したり、希釈した
りして処理している場合もあるが、ほとんどがそのまま
排出処理を行っている。また、一般産業分野でも、ガス
燃焼処理が一部実行されているにすぎす、大半は二次処
理なしで大気放出したり、又は排水として流している。
ところで、酸化エチレンオキサイドガスは、水と反応し
てエチレングリコールを形成する。エチレングリコール
は、無害物質であるから安全であるとの説明は必ずしも
間違いではないが、厳密には正確性に疑問がある。水と
水質汚染上の問題があるエチレンオキサイドガスは、馴
染みやすいが反応速度が遅い。従って、水封式真空ポン
プの使用、又は滅菌装置内に処理タンクを取付ける程度
の設備では、エチレングリコールを形成するには至らな
い。また、エチレングリコールも完全な無害物質ではな
い。短時間に混入した時は酸化エチレンガスが単体とし
て水中に溶解しているにすぎず、時間の経過とともに水
面より大気中に放出されてしまう。
ドガスの排出処理は、滅菌装置を使用したり、希釈した
りして処理している場合もあるが、ほとんどがそのまま
排出処理を行っている。また、一般産業分野でも、ガス
燃焼処理が一部実行されているにすぎす、大半は二次処
理なしで大気放出したり、又は排水として流している。
ところで、酸化エチレンオキサイドガスは、水と反応し
てエチレングリコールを形成する。エチレングリコール
は、無害物質であるから安全であるとの説明は必ずしも
間違いではないが、厳密には正確性に疑問がある。水と
水質汚染上の問題があるエチレンオキサイドガスは、馴
染みやすいが反応速度が遅い。従って、水封式真空ポン
プの使用、又は滅菌装置内に処理タンクを取付ける程度
の設備では、エチレングリコールを形成するには至らな
い。また、エチレングリコールも完全な無害物質ではな
い。短時間に混入した時は酸化エチレンガスが単体とし
て水中に溶解しているにすぎず、時間の経過とともに水
面より大気中に放出されてしまう。
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みてなされたものであり、水封式真空ポンプが使用可
能であり、エチレンオキサイドガスを効率よく清浄化処
理して大気中に排出でき公害防止対策に万全を期すこと
ができるエチレンオキサイドガス排出処理装置を提供す
ることを目的とする。
鑑みてなされたものであり、水封式真空ポンプが使用可
能であり、エチレンオキサイドガスを効率よく清浄化処
理して大気中に排出でき公害防止対策に万全を期すこと
ができるエチレンオキサイドガス排出処理装置を提供す
ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明のエ
チレンオキサイドガス排出処理装置は、外部から取り入
れたエチレンオキサイドガスを滅菌加圧して送り出す滅
菌装置と、この滅菌装置からのエチレンオキサイドガス
を吸入して水とともに送り出す水封式真空ポンプを用い
た給水系と、滅菌装置からのエチレンオキサイドガスを
取り入れて加熱処理、触媒による清浄化処理及び冷却処
理を行い、又は前記給水系からの水とエチレンオキサイ
ドガスとの気液分離を行う気化器により分離したエチレ
ンオキサイドガスを取り入れて加熱処理、触媒による清
浄化処理及び冷却処理を行い、低温で清浄化された排ガ
スを外部に排気する排出処理装置本体とを有することを
特徴とするものである。この発明によれば、エチレンオ
キサイドガスを滅菌加圧して送り出し、排出処理装置本
体により滅菌装置からのエチレンオキサイドガスを直接
取り入れて、又は水封式真空ポンプを経て水とともに送
り出されてくるエチレンオキサイドガスを取り入れて、
加熱処理、触媒による清浄化処理及び冷却処理を行い、
低温で清浄化された排ガスを外部に排気するようにした
ものである。従って、水封式真空ポンプが使用可能であ
り、エチレンオキサイドガスを効率よく清浄化処理して
大気中に排出でき、公害防止対策に万全を期すことがで
きるエチレンオキサイドガス排出処理装置を提供でき
る。請求項２記載のエチレンオキサイドガス排出処理装
置は、外部から取り入れたエチレンオキサイドガスを滅
菌加圧して送り出す滅菌装置と、この滅菌装置からのエ
チレンオキサイドガスを吸入して水とともに送り出す水
封式真空ポンプを用いた給水系と、滅菌装置からのエチ
レンオキサイドガスを取り入れてヒータによる加熱処
理、触媒による清浄化処理及び冷却装置による冷却処理
を行い、又は前記給水系からの水とエチレンオキサイド
ガスとの気液分離を行う気化器により分離したエチレン
オキサイドガスを取り入れてヒータによる加熱処理、触
媒による清浄化処理及び冷却装置による冷却処理を行
い、低温で清浄化された排ガスを外部に排気する排出処
理装置本体とを有することを特徴とするものである。こ
の発明によれば、エチレンオキサイドガスを滅菌加圧し
て送り出し、排出処理装置本体により滅菌装置からのエ
チレンオキサイドガスを直接取り入れて、又は水封式真
空ポンプを経て水とともに送り出されてくるエチレンオ
キサイドガスを取り入れて、ヒータによる加熱処理、触
媒による清浄化処理及び冷却装置による冷却処理を行
い、低温で清浄化された排ガスを外部に排気するように
したものである。従って、請求項１記載の発明と同様に
して、水封式真空ポンプが使用可能であり、エチレンオ
キサイドガスを効率よく清浄化処理して大気中に排出で
き、公害防止対策に万全を期すことができるエチレンオ
キサイドガス排出処理装置を提供できる。請求項３記載
の発明は、請求項１又は２記載のエチレンオキサイドガ
ス排出処理装置において、前記排出処理装置本体に備え
た気化器が、前記触媒による清浄化処理により生成され
る熱を伝達してこの気化器による気液分離を促進するこ
とを特徴とするものである。この発明によれば、前記請
求項１又は２記載の発明の作用に加えて、前記触媒によ
る清浄化処理により生成される熱を利用して気化器によ
る気液分離を促進するものであるから、前記水封式真空
ポンプを経て水とともに送り出されてくる水とエチレン
オキサイドガスとの気液分離を効率よく行い、処理能力
の向上を図ることが可能なエチレンオキサイドガス排出
処理装置を提供できる。請求項４記載の発明は、請求項
１乃至３のいずれかに記載のエチレンオキサイドガス排
出処理装置において、排出処理装置本体に備えた気化器
に、シャワーノズルを配設したとともに、コンプレッサ
と連通したバブリング用ノズルを配設したことを特徴と
するものである。この発明によれば、前記請求項１乃至
３のいずれかに記載の発明の作用に加えて、シャワーノ
ズルにより前記滅菌装置から気化器内に取り込んだ一部
エチレンオキサイドガスの分離を行うことができるとと
もに、コンプレッサと連通したバブリング用ノズルによ
り前記滅菌装置から気化器内に取り込んだ混合水を外部
に放出できるエチレンオキサイドガス排出処理装置を提
供できる。請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のい
ずれかに記載のエチレンオキサイドガス排出処理装置に
おいて、前記滅菌装置からのエチレンオキサイドガスの
常時一定量の取り入れ手段を、コントロールバルブをも
って行うことを特徴とするものである。この発明によれ
ば、前記請求項１乃至３のいずれかに記載の発明の作用
に加えて、以下の作用を発揮できる。即ち、この種の技
術においては、触媒（燃焼）処理を成立させる条件とし
てエチレンオキサイドガスを、常時、一定量流すことが
最も重要なことであり、エチレンオキサイドガスの流量
が多過ぎると、熱負荷がかかり触媒劣化となり、触媒反
応温度がすぐ６００℃以上になる。また、エチレンオキ
サイドガスの流量が少な過ぎると、ヒータ容量が大きく
なり装置が大型となり不経済である。従って、触媒（燃
焼）処理を行う触媒機能が長期間安定するような温度条
件でエチレンオキサイドガスの流量を常時コントロール
して、触媒反応温度の発熱量を安定させる必要があり、
請求項５記載の発明によれば、コントロールバルブの設
置により、エチレンオキサイドガスの流量を常時コント
ロールすることができ、適格、高効率に触媒（燃焼）処
理を成立させることができる。
チレンオキサイドガス排出処理装置は、外部から取り入
れたエチレンオキサイドガスを滅菌加圧して送り出す滅
菌装置と、この滅菌装置からのエチレンオキサイドガス
を吸入して水とともに送り出す水封式真空ポンプを用い
た給水系と、滅菌装置からのエチレンオキサイドガスを
取り入れて加熱処理、触媒による清浄化処理及び冷却処
理を行い、又は前記給水系からの水とエチレンオキサイ
ドガスとの気液分離を行う気化器により分離したエチレ
ンオキサイドガスを取り入れて加熱処理、触媒による清
浄化処理及び冷却処理を行い、低温で清浄化された排ガ
スを外部に排気する排出処理装置本体とを有することを
特徴とするものである。この発明によれば、エチレンオ
キサイドガスを滅菌加圧して送り出し、排出処理装置本
体により滅菌装置からのエチレンオキサイドガスを直接
取り入れて、又は水封式真空ポンプを経て水とともに送
り出されてくるエチレンオキサイドガスを取り入れて、
加熱処理、触媒による清浄化処理及び冷却処理を行い、
低温で清浄化された排ガスを外部に排気するようにした
ものである。従って、水封式真空ポンプが使用可能であ
り、エチレンオキサイドガスを効率よく清浄化処理して
大気中に排出でき、公害防止対策に万全を期すことがで
きるエチレンオキサイドガス排出処理装置を提供でき
る。請求項２記載のエチレンオキサイドガス排出処理装
置は、外部から取り入れたエチレンオキサイドガスを滅
菌加圧して送り出す滅菌装置と、この滅菌装置からのエ
チレンオキサイドガスを吸入して水とともに送り出す水
封式真空ポンプを用いた給水系と、滅菌装置からのエチ
レンオキサイドガスを取り入れてヒータによる加熱処
理、触媒による清浄化処理及び冷却装置による冷却処理
を行い、又は前記給水系からの水とエチレンオキサイド
ガスとの気液分離を行う気化器により分離したエチレン
オキサイドガスを取り入れてヒータによる加熱処理、触
媒による清浄化処理及び冷却装置による冷却処理を行
い、低温で清浄化された排ガスを外部に排気する排出処
理装置本体とを有することを特徴とするものである。こ
の発明によれば、エチレンオキサイドガスを滅菌加圧し
て送り出し、排出処理装置本体により滅菌装置からのエ
チレンオキサイドガスを直接取り入れて、又は水封式真
空ポンプを経て水とともに送り出されてくるエチレンオ
キサイドガスを取り入れて、ヒータによる加熱処理、触
媒による清浄化処理及び冷却装置による冷却処理を行
い、低温で清浄化された排ガスを外部に排気するように
したものである。従って、請求項１記載の発明と同様に
して、水封式真空ポンプが使用可能であり、エチレンオ
キサイドガスを効率よく清浄化処理して大気中に排出で
き、公害防止対策に万全を期すことができるエチレンオ
キサイドガス排出処理装置を提供できる。請求項３記載
の発明は、請求項１又は２記載のエチレンオキサイドガ
ス排出処理装置において、前記排出処理装置本体に備え
た気化器が、前記触媒による清浄化処理により生成され
る熱を伝達してこの気化器による気液分離を促進するこ
とを特徴とするものである。この発明によれば、前記請
求項１又は２記載の発明の作用に加えて、前記触媒によ
る清浄化処理により生成される熱を利用して気化器によ
る気液分離を促進するものであるから、前記水封式真空
ポンプを経て水とともに送り出されてくる水とエチレン
オキサイドガスとの気液分離を効率よく行い、処理能力
の向上を図ることが可能なエチレンオキサイドガス排出
処理装置を提供できる。請求項４記載の発明は、請求項
１乃至３のいずれかに記載のエチレンオキサイドガス排
出処理装置において、排出処理装置本体に備えた気化器
に、シャワーノズルを配設したとともに、コンプレッサ
と連通したバブリング用ノズルを配設したことを特徴と
するものである。この発明によれば、前記請求項１乃至
３のいずれかに記載の発明の作用に加えて、シャワーノ
ズルにより前記滅菌装置から気化器内に取り込んだ一部
エチレンオキサイドガスの分離を行うことができるとと
もに、コンプレッサと連通したバブリング用ノズルによ
り前記滅菌装置から気化器内に取り込んだ混合水を外部
に放出できるエチレンオキサイドガス排出処理装置を提
供できる。請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のい
ずれかに記載のエチレンオキサイドガス排出処理装置に
おいて、前記滅菌装置からのエチレンオキサイドガスの
常時一定量の取り入れ手段を、コントロールバルブをも
って行うことを特徴とするものである。この発明によれ
ば、前記請求項１乃至３のいずれかに記載の発明の作用
に加えて、以下の作用を発揮できる。即ち、この種の技
術においては、触媒（燃焼）処理を成立させる条件とし
てエチレンオキサイドガスを、常時、一定量流すことが
最も重要なことであり、エチレンオキサイドガスの流量
が多過ぎると、熱負荷がかかり触媒劣化となり、触媒反
応温度がすぐ６００℃以上になる。また、エチレンオキ
サイドガスの流量が少な過ぎると、ヒータ容量が大きく
なり装置が大型となり不経済である。従って、触媒（燃
焼）処理を行う触媒機能が長期間安定するような温度条
件でエチレンオキサイドガスの流量を常時コントロール
して、触媒反応温度の発熱量を安定させる必要があり、
請求項５記載の発明によれば、コントロールバルブの設
置により、エチレンオキサイドガスの流量を常時コント
ロールすることができ、適格、高効率に触媒（燃焼）処
理を成立させることができる。
【発明の実施の形態】以下に本発明に係るエチレンオキ
サイドガス排出処理装置の実施の形態を添付図面の図１
を参照して説明する。本実施の形態のエチレンオキサイ
ドガス排出処理装置は、エチレンオキサイドガス（以下
「ＥＯＧガス」という）をＥＯＧガスボンベから吸入管
５１を経て吸入し気化する導入気化器（温水槽）５２
と、この導入気化器５２に連設した滅菌処理及び加圧処
理を行う滅菌装置である滅菌庫５３と、滅菌庫５３から
詳細は後述する排出処理装置本体１００へＥＯＧガスを
送るガス供給系６０と、水封式真空ポンプ８０を使用し
た給水系７０と、ＥＯＧガスの清浄化処理を行う排出処
理装置本体１００とを有している。ＥＯＧガスは、導入
気化器（温水槽）５２を通り、三方バルブ３１から滅菌
庫５３内に送られ滅菌され加圧される。このＥＯＧガス
の加圧圧力は、圧力計５４に設定して管理するようにな
っている。前記加圧されたＥＯＧガスは、滅菌庫５３か
らガス供給系６０の三方バルブ３１、バルブ３２を経て
排出処理装置本体１００へ供給されるようになってい
る。更に、ＥＯＧガスは滅菌庫５３からストレーナー５
７、バルブ５８を経て、給水系７０の水の一部を吸引す
る水封式真空ポンプ８０へ供給され、水封式真空ポンプ
８０は、水とＥＯＧガスを排出処理装置本体１００へ供
給するようになっている。また、前記滅菌庫５３には、
フィルタ５５、吸気バルブ５６を経て空気が導入される
ようになっている。次に、排出処理装置本体１００につ
いて説明する。この排出処理装置本体１００は、加熱手
段であるヒータ２及び第１触媒３、第２触媒４を備えた
ガス処理系１１０と、フロートレススイッチ５ａを備え
た気化器５と、排ガスの冷却を行う冷却装置８と、排出
処理装置本体１００による処理に必要な空気の送風を行
う送風系１２０と、気化器５及び冷却装置８からの排水
を行う排水系１３０とを具備している。前記ガス処理系
１１０は、前記ガス供給系６０の三方バルブ３１、バル
ブ３２を経て供給されてくるＥＯＧガスをコントロール
バルブ１を経て前記ヒータ２へ導き、第１触媒３、第２
触媒４に反応させて排ガスとし、更に、前記気化器５に
添設した配管系を経て排ガスを冷却装置８に送り冷却し
て４１℃程度とし、更に、排気管１４から外部に４１℃
程度の温度となった排ガスを排気するようになってい
る。前記気化器５は、前記水封式真空ポンプ８０からの
水とＥＯＧガスを供給管５９から取り込み、水と分離し
たＥＯＧガス成分のみをバルブ１２を経て前記ヒータ２
へ導くようになっている。また、前記気化器５には圧力
計７が設けられている。前記気化器５にはシャワーノズ
ル１５０が配設されていて、このシャワーノズル１５０
により前記供給管５９から取り込んだ一部ＥＯＧガスの
分離を行う。また、前記気化器５には、バブリング用ノ
ズル１５１が配設されていて、このバブリング用ノズル
１５１と連通して設けたコンプレッサ１５２により、前
記供給管５９から取り込んだ混合水は大部分が外部に放
出される。前記冷却装置８には、水封式真空ポンプ８０
により吸入する水の一部が冷却管９１を経て供給され、
また、この冷却装置８から冷却処理後の水が排水系１３
０の冷却水排出管９２から活性炭触媒フィルタ９３を経
て排水されるようになっている。前記気化器５からの排
水も、前記排水バルブ９４から前記活性炭触媒フィルタ
９３を経て清浄に処理された後、４３℃程度の温度とな
って排水されるようになっている。前記送風系１２０
は、空気をフィルタ１２２を介してブロワー１２１によ
り吸気するとともに、このブロワー１２１から前記ヒー
タ２へ連なる配管及び気化器５へ連なる配管へバルブ１
３を経て空気を送り出すようになっている。前記フィル
タ１２２の両側の圧力差は、差圧計１２３により計測さ
れるようになっている。次に、上述した構成の本実施の
形態のエチレンオキサイドガス排出処理装置によるＥＯ
Ｇガスの処理過程を説明する。このエチレンオキサイド
ガス排出処理装置は、コントロールバルブ１でＥＯＧガ
スの処理流量を常時コントロールして、ヒータ２で加熱
し、第１触媒３、第２触媒４で触媒処理を行い、給水系
の水の一部が供給される冷却装置８において排ガスを水
で冷却しながら余分な水分投入をしないので（冷却装置
８からの）排液は発生せず、排気温度４１℃前後にして
排気を行うものである。即ち、ＥＯＧガスボンベからの
ＥＯＧガスを吸入管５１を経て吸入し、導入気化器５２
により気化した後、前記三方バルブ３１から滅菌庫５３
内に送り加圧する。上記加圧されたＥＯＧガスは、滅菌
庫５３からガス供給系６０の三方バルブ３１、バルブ３
２を経て排出処理装置本体１００へ供給される。排出処
理装置本体１００は、コントロールバルブ１によりＥＯ
Ｇガスの流量を制御しながら、ＥＯＧガスを前記ヒータ
２へ導いて加熱し、第１触媒３、第２触媒４により、そ
れぞれ触媒反応させて清浄な排ガスとし、更に、気化器
５に添設した配管系を経て排ガスを冷却装置８に送り水
による冷却ノズルにより冷却して４１℃程度とし、更
に、前記排気管１４から外部に４１℃程度の温度となっ
た清浄な排ガスを排気する。なお、前述したように、前
記気化器５に設けたシャワーノズル１５０により前記供
給管５９から取り込んだ一部ＥＯＧガスの分離を行い、
また、気化器５に設けたバブリング用ノズル１５１、こ
のバブリング用ノズル１５１と連通して設けたコンプレ
ッサ１５２により、前記供給管５９から取り込んだ混合
水は大部分が外部に放出される。前記滅菌庫５３に設け
た圧力計５４が常圧に近くなると、ガス供給系６０を流
れるＥＯＧガスの流量は低下し、これにより、前記バル
ブ３２は図示しない制御手段により閉に制御され、前記
バルブ５８は開に制御される。これにより、ガス供給系
６０からのＥＯＧガスの供給はなくなり、前記水封式真
空ポンプ８０は、水とＥＯＧガスを排出処理装置本体１
００の気化器５へ供給する。気化器５は、加圧された水
とＥＯＧガスとから分離したガス成分のみをバルブ１２
を経てヒータ２へ送る。これ以降は、前述した場合と同
様な処理過程の基に、ヒータ２により加熱され、第１触
媒３、第２触媒４により、それぞれ触媒反応させて清浄
な排ガスとし、更に、気化器５に添設した配管系を経て
排ガスを冷却装置８に送り水による冷却ノズルから熱量
分の水をコントロール投入して冷却して４１℃程度と
し、更に、排気管１４から外部に４１℃程度の温度とな
った清浄な排ガスを外部に排気する。この場合、第２触
媒４の後段の配管系を気化器５へ接触させ、第２触媒３
の反応で生じる高温の熱を気化器５へ伝達し、熱交換を
促進している。前述したと同様に、前記気化器５に設け
たシャワーノズル１５０により前記供給管５９から取り
込んだ一部ＥＯＧガスの分離を行い、また、気化器５に
設けたバブリング用ノズル１５１、このバブリング用ノ
ズル１５１と連通して設けたコンプレッサ１５２によ
り、前記供給管５９から取り込んだ混合水は大部分が外
部に放出される。この種の技術においては、触媒（燃
焼）処理を成立させる条件として、エチレンオキサイド
ガスを、常時、一定量流すことが最も重要なことであ
り、エチレンオキサイドガスの流量が多過ぎると、熱負
荷がかかり触媒劣化となり、触媒反応温度がすぐ６００
℃以上になる。また、エチレンオキサイドガスの流量が
少な過ぎると、ヒータ容量が大きくなり装置が大型とな
り不経済である。従って、触媒（燃焼）処理を行う触媒
機能が長期間安定するような温度条件でエチレンオキサ
イドガスの流量を常時コントロールして、触媒反応温度
の発熱量を安定させる必要がある。本発明では、前記エ
チレンオキサイドガス流量の常時コントロールとして前
記コントロールバルブ１を採用し設置している。本発明
に係るエチレンオキサイドガス排出処理装置は、例え
ば、８０乃至６０（Ｌ／ｍｉｎ）程度の処理能力を発揮
することができ、水封式真空ンプ８０を使用できる。ま
た、自動運転用インターロック機能を持たせて連続した
自動運転も可能である。そして、本発明に係るエチレン
オキサイドガス排出処理装置によれば、前記冷却水排出
管９２から排出される冷却水等は、活性炭触媒フィル
タ、触媒処理を通して再処理排水も可能である。更に、
前記排出処理装置本体１００は、キャスター付移動、又
は、アンカー固定可とする構成も可能である。本発明に
係るエチレンオキサイドガス排出処理装置は、滅菌用ガ
ス、エチレンオキサイドガス、更に、エチレンオキサイ
ドガスと炭酸ガスの混合ガスを、排ガス自主規制に適合
させ、大気放出ができるようにすることが可能である。
更に、本処理装置には、ＥＯＧガス漏れ検知器を取付け
て、ガス漏れ検知機能を持たせることも可能である。
サイドガス排出処理装置の実施の形態を添付図面の図１
を参照して説明する。本実施の形態のエチレンオキサイ
ドガス排出処理装置は、エチレンオキサイドガス（以下
「ＥＯＧガス」という）をＥＯＧガスボンベから吸入管
５１を経て吸入し気化する導入気化器（温水槽）５２
と、この導入気化器５２に連設した滅菌処理及び加圧処
理を行う滅菌装置である滅菌庫５３と、滅菌庫５３から
詳細は後述する排出処理装置本体１００へＥＯＧガスを
送るガス供給系６０と、水封式真空ポンプ８０を使用し
た給水系７０と、ＥＯＧガスの清浄化処理を行う排出処
理装置本体１００とを有している。ＥＯＧガスは、導入
気化器（温水槽）５２を通り、三方バルブ３１から滅菌
庫５３内に送られ滅菌され加圧される。このＥＯＧガス
の加圧圧力は、圧力計５４に設定して管理するようにな
っている。前記加圧されたＥＯＧガスは、滅菌庫５３か
らガス供給系６０の三方バルブ３１、バルブ３２を経て
排出処理装置本体１００へ供給されるようになってい
る。更に、ＥＯＧガスは滅菌庫５３からストレーナー５
７、バルブ５８を経て、給水系７０の水の一部を吸引す
る水封式真空ポンプ８０へ供給され、水封式真空ポンプ
８０は、水とＥＯＧガスを排出処理装置本体１００へ供
給するようになっている。また、前記滅菌庫５３には、
フィルタ５５、吸気バルブ５６を経て空気が導入される
ようになっている。次に、排出処理装置本体１００につ
いて説明する。この排出処理装置本体１００は、加熱手
段であるヒータ２及び第１触媒３、第２触媒４を備えた
ガス処理系１１０と、フロートレススイッチ５ａを備え
た気化器５と、排ガスの冷却を行う冷却装置８と、排出
処理装置本体１００による処理に必要な空気の送風を行
う送風系１２０と、気化器５及び冷却装置８からの排水
を行う排水系１３０とを具備している。前記ガス処理系
１１０は、前記ガス供給系６０の三方バルブ３１、バル
ブ３２を経て供給されてくるＥＯＧガスをコントロール
バルブ１を経て前記ヒータ２へ導き、第１触媒３、第２
触媒４に反応させて排ガスとし、更に、前記気化器５に
添設した配管系を経て排ガスを冷却装置８に送り冷却し
て４１℃程度とし、更に、排気管１４から外部に４１℃
程度の温度となった排ガスを排気するようになってい
る。前記気化器５は、前記水封式真空ポンプ８０からの
水とＥＯＧガスを供給管５９から取り込み、水と分離し
たＥＯＧガス成分のみをバルブ１２を経て前記ヒータ２
へ導くようになっている。また、前記気化器５には圧力
計７が設けられている。前記気化器５にはシャワーノズ
ル１５０が配設されていて、このシャワーノズル１５０
により前記供給管５９から取り込んだ一部ＥＯＧガスの
分離を行う。また、前記気化器５には、バブリング用ノ
ズル１５１が配設されていて、このバブリング用ノズル
１５１と連通して設けたコンプレッサ１５２により、前
記供給管５９から取り込んだ混合水は大部分が外部に放
出される。前記冷却装置８には、水封式真空ポンプ８０
により吸入する水の一部が冷却管９１を経て供給され、
また、この冷却装置８から冷却処理後の水が排水系１３
０の冷却水排出管９２から活性炭触媒フィルタ９３を経
て排水されるようになっている。前記気化器５からの排
水も、前記排水バルブ９４から前記活性炭触媒フィルタ
９３を経て清浄に処理された後、４３℃程度の温度とな
って排水されるようになっている。前記送風系１２０
は、空気をフィルタ１２２を介してブロワー１２１によ
り吸気するとともに、このブロワー１２１から前記ヒー
タ２へ連なる配管及び気化器５へ連なる配管へバルブ１
３を経て空気を送り出すようになっている。前記フィル
タ１２２の両側の圧力差は、差圧計１２３により計測さ
れるようになっている。次に、上述した構成の本実施の
形態のエチレンオキサイドガス排出処理装置によるＥＯ
Ｇガスの処理過程を説明する。このエチレンオキサイド
ガス排出処理装置は、コントロールバルブ１でＥＯＧガ
スの処理流量を常時コントロールして、ヒータ２で加熱
し、第１触媒３、第２触媒４で触媒処理を行い、給水系
の水の一部が供給される冷却装置８において排ガスを水
で冷却しながら余分な水分投入をしないので（冷却装置
８からの）排液は発生せず、排気温度４１℃前後にして
排気を行うものである。即ち、ＥＯＧガスボンベからの
ＥＯＧガスを吸入管５１を経て吸入し、導入気化器５２
により気化した後、前記三方バルブ３１から滅菌庫５３
内に送り加圧する。上記加圧されたＥＯＧガスは、滅菌
庫５３からガス供給系６０の三方バルブ３１、バルブ３
２を経て排出処理装置本体１００へ供給される。排出処
理装置本体１００は、コントロールバルブ１によりＥＯ
Ｇガスの流量を制御しながら、ＥＯＧガスを前記ヒータ
２へ導いて加熱し、第１触媒３、第２触媒４により、そ
れぞれ触媒反応させて清浄な排ガスとし、更に、気化器
５に添設した配管系を経て排ガスを冷却装置８に送り水
による冷却ノズルにより冷却して４１℃程度とし、更
に、前記排気管１４から外部に４１℃程度の温度となっ
た清浄な排ガスを排気する。なお、前述したように、前
記気化器５に設けたシャワーノズル１５０により前記供
給管５９から取り込んだ一部ＥＯＧガスの分離を行い、
また、気化器５に設けたバブリング用ノズル１５１、こ
のバブリング用ノズル１５１と連通して設けたコンプレ
ッサ１５２により、前記供給管５９から取り込んだ混合
水は大部分が外部に放出される。前記滅菌庫５３に設け
た圧力計５４が常圧に近くなると、ガス供給系６０を流
れるＥＯＧガスの流量は低下し、これにより、前記バル
ブ３２は図示しない制御手段により閉に制御され、前記
バルブ５８は開に制御される。これにより、ガス供給系
６０からのＥＯＧガスの供給はなくなり、前記水封式真
空ポンプ８０は、水とＥＯＧガスを排出処理装置本体１
００の気化器５へ供給する。気化器５は、加圧された水
とＥＯＧガスとから分離したガス成分のみをバルブ１２
を経てヒータ２へ送る。これ以降は、前述した場合と同
様な処理過程の基に、ヒータ２により加熱され、第１触
媒３、第２触媒４により、それぞれ触媒反応させて清浄
な排ガスとし、更に、気化器５に添設した配管系を経て
排ガスを冷却装置８に送り水による冷却ノズルから熱量
分の水をコントロール投入して冷却して４１℃程度と
し、更に、排気管１４から外部に４１℃程度の温度とな
った清浄な排ガスを外部に排気する。この場合、第２触
媒４の後段の配管系を気化器５へ接触させ、第２触媒３
の反応で生じる高温の熱を気化器５へ伝達し、熱交換を
促進している。前述したと同様に、前記気化器５に設け
たシャワーノズル１５０により前記供給管５９から取り
込んだ一部ＥＯＧガスの分離を行い、また、気化器５に
設けたバブリング用ノズル１５１、このバブリング用ノ
ズル１５１と連通して設けたコンプレッサ１５２によ
り、前記供給管５９から取り込んだ混合水は大部分が外
部に放出される。この種の技術においては、触媒（燃
焼）処理を成立させる条件として、エチレンオキサイド
ガスを、常時、一定量流すことが最も重要なことであ
り、エチレンオキサイドガスの流量が多過ぎると、熱負
荷がかかり触媒劣化となり、触媒反応温度がすぐ６００
℃以上になる。また、エチレンオキサイドガスの流量が
少な過ぎると、ヒータ容量が大きくなり装置が大型とな
り不経済である。従って、触媒（燃焼）処理を行う触媒
機能が長期間安定するような温度条件でエチレンオキサ
イドガスの流量を常時コントロールして、触媒反応温度
の発熱量を安定させる必要がある。本発明では、前記エ
チレンオキサイドガス流量の常時コントロールとして前
記コントロールバルブ１を採用し設置している。本発明
に係るエチレンオキサイドガス排出処理装置は、例え
ば、８０乃至６０（Ｌ／ｍｉｎ）程度の処理能力を発揮
することができ、水封式真空ンプ８０を使用できる。ま
た、自動運転用インターロック機能を持たせて連続した
自動運転も可能である。そして、本発明に係るエチレン
オキサイドガス排出処理装置によれば、前記冷却水排出
管９２から排出される冷却水等は、活性炭触媒フィル
タ、触媒処理を通して再処理排水も可能である。更に、
前記排出処理装置本体１００は、キャスター付移動、又
は、アンカー固定可とする構成も可能である。本発明に
係るエチレンオキサイドガス排出処理装置は、滅菌用ガ
ス、エチレンオキサイドガス、更に、エチレンオキサイ
ドガスと炭酸ガスの混合ガスを、排ガス自主規制に適合
させ、大気放出ができるようにすることが可能である。
更に、本処理装置には、ＥＯＧガス漏れ検知器を取付け
て、ガス漏れ検知機能を持たせることも可能である。
【発明の効果】本発明によれば、水封式真空ポンプが使
用可能であり、エチレンオキサイドガスを効率よく清浄
化処理して大気中に排出でき、公害防止対策に万全を期
すことができるエチレンオキサイドガス排出処理装置を
提供できる。また、本発明によれば、水封式真空ポンプ
を経て水とともに送り出されてくる水とエチレンオキサ
イドガスとの気液分離を効率よく行い、処理能力の向上
を図ることができ、低濃度のエチレンオキサイドガスも
全て触媒を通りクリーンにすることが可能なエチレンオ
キサイドガス排出処理装置を提供できる。
用可能であり、エチレンオキサイドガスを効率よく清浄
化処理して大気中に排出でき、公害防止対策に万全を期
すことができるエチレンオキサイドガス排出処理装置を
提供できる。また、本発明によれば、水封式真空ポンプ
を経て水とともに送り出されてくる水とエチレンオキサ
イドガスとの気液分離を効率よく行い、処理能力の向上
を図ることができ、低濃度のエチレンオキサイドガスも
全て触媒を通りクリーンにすることが可能なエチレンオ
キサイドガス排出処理装置を提供できる。
【図１】本発明に係る実施の形態のエチレンオキサイド
ガス排出処理装置を示す概略構成図である。
ガス排出処理装置を示す概略構成図である。
１ コントロールバルブ ２ ヒータ ３ 第１触媒 ４ 第２触媒 ５ 気化器 ５ａ フロートレススイッチ ７ 圧力計 ８ 冷却装置 １２ バルブ １３ バルブ １４ 排気管 ３１ 三方バルブ ３２ バルブ ５１ 吸入管 ５２ 導入気化器 ５３ 滅菌庫 ５４ 圧力計 ５５ フィルタ ５６ 吸気バルブ ５７ ストレーナー ５８ バルブ ５９ 供給管 ６０ ガス供給系 ７０ 給水系 ８０ 水封式真空ポンプ ９１ 冷却管 ９２ 冷却水排出管 ９３ 活性炭触媒フィルタ ９４ 排水バルブ １００ 排出処理装置本体 １１０ ガス処理系 １２０ 送風系 １２１ ブロワー １２２ フィルタ １２３ 差圧計 １３０ 排水系 １５０ シャワーノズル １５１ バブリング用ノズル １５２ コンプレッサ
Claims (5)
- 【請求項１】外部から取り入れたエチレンオキサイドガ
スを滅菌加圧して送り出す滅菌装置と、 この滅菌装置からのエチレンオキサイドガスを吸入して
水とともに送り出す水封式真空ポンプを用いた給水系
と、 前記滅菌装置からのエチレンオキサイドガスを常時一定
量取り入れて加熱処理、触媒による清浄化処理及び冷却
処理を行い、又は前記給水系からの水とエチレンオキサ
イドガスとの気液分離を行う気化器により分離したエチ
レンオキサイドガスを取り入れて加熱処理、触媒による
清浄化処理及び冷却処理を行い、低温で清浄化された排
ガスを外部に排気する排出処理装置本体と、 を有することを特徴とするエチレンオキサイドガス排出
処理装置。 - 【請求項２】外部から取り入れたエチレンオキサイドガ
スを滅菌加圧して送り出す滅菌装置と、 この滅菌装置からのエチレンオキサイドガスを吸入して
水とともに送り出す水封式真空ポンプを用いた給水系
と、 前記滅菌装置からのエチレンオキサイドガスを取り入れ
てヒータによる加熱処理、触媒による清浄化処理及び冷
却装置による冷却処理を行い、又は前記給水系からの水
とエチレンオキサイドガスとの気液分離を行う気化器に
より分離したエチレンオキサイドガスを取り入れてヒー
タによる加熱処理、触媒による清浄化処理及び冷却装置
による冷却処理を行い、低温で清浄化された排ガスを外
部に排気する排出処理装置本体と、 を有することを特徴とするエチレンオキサイドガス排出
処理装置。 - 【請求項３】前記排出処理装置本体に備えた気化器は、
前記触媒による清浄化処理により生成される熱を伝達し
てこの気化器による気液分離を促進することを特徴とす
る請求項１又は２記載のエチレンオキサイドガス排出処
理装置。 - 【請求項４】前記排出処理装置本体に備えた気化器に
は、前記滅菌装置から気化器内に取り込んだ一部エチレ
ンオキサイドガスの分離を行うためのシャワーノズルを
配設したとともに、前記滅菌装置から気化器内に取り込
んだ混合水を外部に放出するためのコンプレッサと連通
したバブリング用ノズルを配設したことを特徴とする請
求項１乃至３のいずれかに記載のエチレンオキサイドガ
ス排出処理装置。 - 【請求項５】前記滅菌装置からのエチレンオキサイドガ
スの常時一定量の取り入れ手段は、コントロールバルブ
をもって行うことを特徴とする請求項１乃至４のいずれ
かに記載のエチレンオキサイドガス排出処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11142350A JP2000325751A (ja) | 1999-05-21 | 1999-05-21 | エチレンオキサイドガス排出処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11142350A JP2000325751A (ja) | 1999-05-21 | 1999-05-21 | エチレンオキサイドガス排出処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000325751A true JP2000325751A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=15313338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11142350A Pending JP2000325751A (ja) | 1999-05-21 | 1999-05-21 | エチレンオキサイドガス排出処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000325751A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003093483A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-02 | Miura Co Ltd | 滅菌ガス無害化処理装置における触媒温度制御方法 |
-
1999
- 1999-05-21 JP JP11142350A patent/JP2000325751A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003093483A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-02 | Miura Co Ltd | 滅菌ガス無害化処理装置における触媒温度制御方法 |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081111 |
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| A02 | Decision of refusal |
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