JPH10500623A - 殺菌すべき物質をガスで処理した後のガスの形のエチレンオキシドを除毒処理するための方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、殺菌室（５）に接続されていてかつガスにより処理後エチレンオキシドを酸を使用して作業が行なわれる洗浄装置（１５）に供給するポンプ（１０）を使用して、低圧に調節することができる殺菌室（５）内で殺菌されるべき物質のガスによる処理が行なわれた後、ガスの形のエチレンオキシドを除毒処理するための方法および装置に関する。殺菌室（５）、ポンプ（１０）および洗浄装置（１５）が密閉されたガス循環系を形成しており、その際ポンプ（１０）がエチレンオキシドを殺菌室（５）から連続的に洗浄装置（１５）に供給し、その排出ガスが戻されて殺菌室（５）に供給される。洗浄装置（１５）内でエチレンオキシドから生じるエチレングリコールが連続的に洗浄装置（１５）から排出され、その代わり洗浄装置（１５）に酸の消費量に相応して連続的に更に酸が供給され、その際この循環工程が、ガス循環系内に残留しているエチレンオキシドが所定の濃度以下に降下するまで維持される。特に、ガス循環系（５，３５，１０，３９，１５，４０，３８）に不活性ガス源（４８）が接続されており、この不活性ガス源がエチレンオキシドの洗浄によりガス循環系内で内圧が降下した、圧力降下が生じた際、規則的な方法により不活性ガスをガス循環系内に供給する。

Description

【発明の詳細な説明】 殺菌すべき物質をガスで処理した後のガスの形のエチレン オキシドを除毒処理するための方法 技術分野 本発明は、圧力密な殺菌室内で殺菌すべき物質をガスで処理した後のガスの形 のエチレンオキシドを除毒処理するための請求の範囲第１項に記載の方法並びに 請求の範囲第７項に記載の装置に関する。 従来の技術 多重使用のためのプラスチック成分を有する使い捨て物品或いは複合物品のよ うな熱に敏感な医療器具を殺菌するために殺菌装置が使用されるが、この殺菌装 置は殺菌のためにガスの形のエチレンオキシドガスを使用して作業が行なわれ、 かつ０，０５から約７０ｍ³の室面積を有する気密に密閉された殺菌室から成り 、この殺菌室に殺菌すべき物質が入れられる。密閉し、含まれている空気を排気 した後、殺菌すべき物質は一般に水蒸気で湿潤され、その後細菌と胞子とを殺す ために、５０，０００パスカル以下の蒸気圧でかつ数時間ガス状エチレンオキシ ドでガス作用により処理される。室内の絶対圧は、エチレンオキシド、二酸化炭 素或いは窒素のような添加される不活性ガス、水蒸気および排気されずに残って いる空気の分圧から組成されている。エチレンオキシドは２，５％から１００％ の濃度にあっては、高爆発性でありかつ極端に健康を阻害するガスであり、従っ て健康安全基準書およびＴＡ−空気に即応して除毒処理を行なわなければならな い。 ガスによる処理が行なわれた後、殺菌室は排気される。産業上の大規模な設備 にあっては、排ガスは一般に燃焼設備或いはガス洗浄装置を経て導かれ、除去さ れる。通常の真空ポンプは約ｐ＝５０００Ｐａの絶対圧以下で有効に働くので、 殺菌室は排気され、エチレンオキシドが燃焼設備或いはガス洗浄装置を経て導出 された後も、未だに多量のエチレンオキシドを含んでいる。殺菌室に新鮮な外気 が通気された際、残っているエチレンオキシドは供給された空気と混合され、こ れによりＴＡ−空気の規定による排ガスが生じ、この排ガスは同様に除毒処理さ れなければならない。この目的のため、殺菌室はあらためた排気され、排ガスは 上記のようにして除毒処理される。あらためて新鮮な外気が供給された後、残余 濃度は以前に行なわれた洗浄後の濃度の約１／２０に低減された。この工程は、 殺菌室内においてエチレンオキシドの残余濃度が法律上許容され得る濃度を確実 に下回る（ＴＲＫＣＢ※８＜１６ｍＥＯ／ｍ³）まで、繰り返し何度も行なわれ なければならない。 従って、殺菌物質の放出が起こることを考慮した際、殺菌室を少なくとも６回 の洗浄サイクルで清浄するが必要である。第一の排気の際エチレンオキシド濃度 を有する高爆発性の排ガス送られるが、次の除毒処理サイクルが行なわれた場合 は例えば自己発熱(autotherm)燃焼はもはや不可能である。少なくとも最後の洗 浄工程において排ガス中にエチレンオキシドの残余濃度が僅かになるので、ＴＡ −空気の要件（＜５ｍｇ／ｍ³）の維持は困難であり、極めて経費を要する。何 故なら、除毒処理装置を極端に異なる濃度（２０００ｇ／ｍ³＞ｃ＞５ｍｇ／ｍ³ ）を有する排ガス流に合わせて構成しなければならないからである。 更に、大きな半減期を有する殺菌物質からのエチレンオキシドの放出に対する 作業安全性の問題も生じる。洗浄サイクルの数が多くなり、八回目の洗浄の後の エチレンオキシドの物質流は放出により真空ポンプの物質流を超過してしまう。 従って、エチレンオキシドの必要とする残余濃度は、特に工業的な殺菌設備にあ って、一般に達せられない。何故なら、洗浄サイクルのための時間が長すぎるか らである。真空ポンプの構成に応じて、一回の洗浄サイクルには４０分以下の時 間が必要である。 文献Ｈ．Ｊ．Ｆｒｏｈｎ著『ＷＬＢ水、空気および底１−２』、１９８９、４ ３−４４頁により、比較的小さい殺菌装置からのエチレンオキシドの析出が放出 方法として知られており、この方法にあってはガス状のエチレンオキシドは化学 的に洗浄剤中に結合される。エチレンオキシドの化学的な結合とエチレングリコ ールへの反応により、気相と液相間に大きな増大する濃度勾配が生じる。洗浄剤 として、希硫酸が使用される。硫酸の水成分とエチレンオキシドが反応してエチ レングリコールに変換する。その際、硫酸はただ触媒として反応に関与するに過 ぎない。従って、その吸収能が尽きた洗浄溶液は硫酸−エチレングリコール−水 混合物から成る。洗浄剤は相前後して接続されている二つの充填剤塔を通って分 散され、これらの充填剤塔内に洗浄剤は塔頭部で供給され、充填物質を経て流れ る。エチレンオキシドを含有している排ガスは洗浄剤に対して向流で塔内を通過 する。この方法は非連続的にバッチ−吸収として行なわれ、その際洗浄剤は、消 耗した洗浄剤の交換が必要となる飽和状態が達せられるまでの間、循環して塔全 体を移動される。この方法にあって不利な点は、根本的に洗浄剤が循環されると 言うことにある。排ガスの滞留時間は、エチレンオキシドの濃度に相応して、任 意に制御することはできない。更に、貯蔵容器が小型の場合、高い酸濃度が必要 である。従って、多量のエチレンオキシドでは良好に処理することができない。 他の類似の吸収方法は、圧力室と真空室のためのＣｒｏｌｌ−Ｒｅｙｎｏｌｄ ｓによる方法であり、この方法にあってはエチレンオキシドの吸収後、続いてエ チレングリコールへの加水分解が行なわれる。 技術上の課題 本発明の根底をなす課題は、殺菌室で使用したエチレンオキシドを、その物理 的なかつ化学的な性質を利用して、殺菌工程の物理的な特性との密接な協働作用 で、かつ極めて爆発の危険ある設備内の成分を避けながら、並びに洗浄剤を循環 させて排ガスから完全に除去し、有用物質であるエチレングリコールに変換し、 同時に排ガス除毒処理の工程経過を時間的に著しく短縮し、排ガス量を低減する ことである。 本発明の目的は、極端に環境を害しかつ汚染する、高い爆発性のエチレンオキ シドを殺菌の際の使用後、完全に使用場所で室ガスから分離し、有用物質に転換 することである。 発明の開示とその利点 上記の課題は本発明により、殺菌室、ポンプおよびガス洗浄装置がエチレンオ キシドガスのための閉鎖されたガス循環系を形成しており、このガス循環系内に おいてポンプがエチレンオキシドを殺菌室から連続的にガス洗浄装置に供給し、 その排ガスを戻して殺菌室に供給し、その際ガス洗浄装置内でエチレンオキシド から生じるエチレングリコールが連続的に或いは非連続的にガス洗浄装置から排 出され、その代わりにガス洗浄装置に酸の消費量に相応して連続的に或いは非連 続的にもっと酸が供給されること、およびガス循環工程を、このガス循環系内に 留まり循環されるエチレンオキシドガスが所定の濃度に降下し、その後殺菌室が 通気されるまで維持することによって解決される。 優れた方法にあっては、ガス循環系に、特にポンプの手前に、不活性ガス源が 接続されており、この不活性ガス源はガス循環系内においてエチレンオキシドを 洗浄することにより不活性ガスの内圧が低下して、圧力降下が生じた際、規則的 な方法で不活性ガスをガス循環系に与える。殺菌室内における殺菌は特に、大気 圧に比して低圧で、特に０，５バールの圧力で行なわれる。本発明の他の有利な 構成は請求の範囲に記載した。 本発明は、ガス−循環系−このガス−循環系内に殺菌室が存在している−によ り、エチレンオキシドによるガス処理の後連続的にエチレンオキシドはガス循環 系で循環される排ガスから排出され、除去され、これによりエチレンオキシドの 除毒処理の時間が著しく短縮される。同様に、殺菌を行う場所と高い爆発性の、 かつ高い毒性のエチレンオキシドの除毒処理場所間に敷設される導管長さも著し く短縮され、従ってエチレンオキシドの危険発生の可能性が著しく低下される。 更に、ガスによる処理後のエチレンオキシドの燃焼が完全に回避され、従って公 知技術にあって必要とした燃焼のためのエネルギー供給、経費を要する工程の制 御および調整並びに技術的に必要とする爆発および燃焼に対する防護を行わなく て済む。同様にエチレンオキシドから有用物質であるエチレングリコールが回収 され、このエチレングリコールから外部において再びエチレンオキシドを回収す ることが可能である。総じて、エチレンオキシドおよびエチレングリコールを除 毒処理するための時間が著しく短縮される。 技術的な点に関して、今日従来の技術による殺菌設備において使用されている 技術的に経費を要するロータリベーンポンプは、メンテナンスも少なくて済む、 単純なかつ確実に作動する水封圧縮機(Wasserringpumpe)で置換えられている。 更に、小型の殺菌設備のためにも、室を空にする際、危険物質条例による法律 的に規則通りな許容値を容易にかつ確実に維持することが可能である。同様に、 本発明による方法を使用するに当たって工業的な規模の殺菌設備のための設備投 資および営業費が著しく低減される。 特に０，５バールの圧力の殺菌室での作業が行なわれるので、半分の室容量が 通常の圧力に比して低い圧力で循環され、引続き排ガスとして放出されるに過ぎ ない。このことは、新鮮な外気を使用した接触的な燃焼に比して、約２５０倍の ガス容量の低減を意味する。何故なら、その場合容量流が相応して希釈されなけ ればならないからである。 図面の簡単な説明 第１図は分岐する導管Ａ−Ｂまでを含む装置の基本フローシートの第一の部分 の図、 第２図は第１図から来る導管Ａ−Ｂからの装置の基本フローシートの第二の部 分の図。 本発明の優れた実施例 弁１が設けられている導管Ｅを介してエチレンオキシドＥが、弁２が存在して いる導管Ｆを介して新鮮な外気Ｆが殺菌室５に供給される。同時に殺菌室５は室 加熱部３，４により、特に水により、公知の方法で加熱され。エチレンオキシド Ｅを供給するために、並びに新鮮な外気Ｆを供給するために、公知の技術におい て公知の多数の方法が存在しており、新鮮な外気Ｆのためには新鮮な外気フイル タとの組合せも可能である。 使用に当たって約０，０５から７０ｍ³の大きさの殺菌室５内において殺菌物 質が通常所定の時間の間６００から１０００ｇ／ｍ³のガス濃度でエチレンオキ シドによりガス作用が行なわれる。エチレンオキシドの良好な混合を保証するた めに、約１０分毎にガス雰囲気が循環される。 装置の構造、従ってガス−循環系は、本質的に殺菌室５から成り、この殺菌室 は排出導管３５、この排出導管内に存在している弁９、真空ポンプ１０、導管３ ９およびこの導管内に存在している弁１１を介してガス洗浄装置１５と結合され ている。このガス洗浄装置の出口は、導管４０、この導管内に存在している弁１ ６、酸分離装置１７、供給導管３８、そしてこの供給導管内に存在している弁１ ８を経て酸分離装置１７経た後、そして再び殺菌室５へと戻されている。このガ ス−循環系は外部に対して完全に密閉されている。 ガスによる処理を実施する以前に、殺菌室５は真空ポンプで負圧、特に約３０ ００から５０００パスカルの負圧が作用され、従って引続き殺菌のためにエチレ ンオキシドが供給される。図示した実施例にあっては真空兼循環ポンプとして、 両方の機能を併せ持つポンプ１０が使用される。 殺菌室５においてガス雰囲気を循環させるには、弁１４を備え、導管３９と４ ０の間でそれぞれ弁１１と１６の前方に設けられている導管バイパス３７が役立 つ。このガス雰囲気を循環させるには、弁９，１４および１８が開かれており、 これに対して弁１１と１６は閉じられている。このようにして、真空ポンプ１０ はガス混合物を導管３５，３７，３８および殺菌室５を経て循環させる。 殺菌室５に対して平行に、導管３５と３８の間で、ポンプ１０の手前に、特に 真空ポンプとして水封圧縮機１０が使用されている場合、弁が前方に或いは後方 に設けられている、防爆性の循環空気送風機が設けられている。殺菌行程の間、 この循環空気送風機によりガス雰囲気を循環させるには、導管３５と３８内の弁 ９と１８が閉じられ、この循環空気送風機の弁のみが開かれている。 通常は、公知技術においては、安全性の理由から、ロータリベーンポンプ或い はピストンポンプが使用される。なぜなら、エチレンオキシドが水リング（水封 圧縮機）の水とエチレンオキシド間において接触が生じた際、このエチレンオキ シドが極めて著しい割合で、水中に溶解し、これにより、水封圧縮機が極めて確 実に作業を行うにもかかわらず、除毒処理に関する問題が生じるからである。本 発明にあっては、この欠点は利点に変えられる。何故なら、本発明によるガス洗 浄を行う際、希酸、特に５％の硫酸が水封圧縮機の循環水に使用され、エチレン オキシドと触媒として作用する水素イオンとの接触によりエチレンオキシドが自 然にエチレングリコールに変換し、これにより既に部分的にエチレンオキシドが 排ガスから吸引されるからである。 殺菌室５へのガスによる処理を準備するために、この殺菌室は殺菌物質が充填 された後、真空ポンプ１０の工率一杯まで（約４０〜５０ｍバール）排気される 。この目的のため、弁１，２，１１，１６，１８が閉じられ、弁９，１４は開か れる。同様に、排ガス導管４２内に存在している弁１９が開かれ、真空ポンプ１ ０が作動され、空気が導管３７と４２を介して排気される。導管３７と４０は二 重Ｔ−導管を介して導管４２と交差しており、この際交差の手前で導管４０内に 弁１６が、その後方で弁１８が存在している。殺菌室５の排気が終了したら、弁 ９，１４，１９が閉じられ、真空ポンプ１０が停止される。その後、公知の方法 に より、エチレンオキシドの供給が導管Ｅを介して、場合によっては水蒸気の供給 も弁１を介して行われる。 殺菌室５内で殺菌物質に対して所定の時間にわたってガスによる処理が行なわ れた後、エチレンオキシドは制御の下殺菌室５から導出され、除毒排出される。 この目的のため、ガス−循環系の核としてガス洗浄装置１５が使用され、このガ ス洗浄装置に弁１１と導管３９とを介してエチレンオキシドが真空ポンプ１０に より給送される。即ち、この目的のための真空ポンプが再び作動される。ガス洗 浄装置１５の導出導管４０は弁１６と１８を介して希酸分離機１７に通じており 、この希酸分離機には導管１８が続いており、この導管は殺菌室５に開口してい る。従って、弁９，１１，１６，１８が開いている場合、エチレンオキシドをそ のガス洗浄を行なうために、殺菌室５−真空ポンプ１０−ガス洗浄装置１５−希 酸分離機１７−殺菌室５間に除毒処理循環系が形成される。しかもその際大気に 対する設備の開放は行われない。そのガス循環が真空ポンプ１０により維持され る洗浄の間、設備の外方へと通じている弁、例えば弁１，２，１４，１９が閉じ られている。 ガス洗浄装置１５が大きさに応じて、エチレンオキシドが殺菌室５から、ガス 洗浄装置１５内に存在している、特に５％の硫酸である希酸の表面以下の一定の 高さｈだけ、下方から微細な形で吹込まれるように構成されている。この高さは 、ガス流の流通量に応じて、室の大きさおよび個々の吹込み物の希酸内の流通時 間に依存して算出され、これから小型の設備のためには、少なくとも５００ｍｍ の高さである一定の流通長さが算出される。 エチレンオキシドと希酸の排ガスの吹込み物間の大きな相境界面により、排ガ ス内に含有されているエチレンオキシドが、希酸に含有されている触媒としての Ｈ＋イオンおよび水と反応し、殆ど完全に次式の エチレングリコールとなる。 エチレンオキシドを更にエチレングリコールに変換するための洗浄装置１５内 の希酸の液水準が吹出し位置の上方で少なくとも２ｍでなければならないので、 真空ポンプは２００ｍバールの圧力差に対抗して働けばよく、これにより最大の 移送効率の実現が可能である。これにより、エチレンオキシドの十分な洗浄が実 際に、公知技術による２から３の洗浄サイクルにとって必要であると同じ時間で 行われると言う利点が得られる。 ガス洗浄の間、二種類の方法で作業を行うことが可能である。非連続的な方法 として、完全な殺菌行程の間、洗浄装置内で、事情によては多数の循環系で、消 費される希酸の補充が行われず、また形成されるエチレングリコールの取出しも 行われず、従って全体として設備の外部へと通じている弁が完全な殺菌行程の間 閉じられており、殺菌行程および全体の作業が簡潔した後始めて開かれ、その後 始めて消費された希酸が補充され、エチレングリコールが処理される工程が採用 されるか、或いは連続的な方法として、洗浄の間洗浄装置内で消費された希酸が 連続的に補充され、エチレングリコールが同様に洗浄の間連続的に処理されるか 、或いは非連続的に全洗浄行程が終了した後処理される。 安全性の理由から、エチレンオキシドの洗浄のための時間は、エチレンオキシ ドの最後の残渣をも確実に除毒処理するための基準としてのガス洗浄のための通 常の作業よりも、殺菌室５を排気するには約３倍から４倍の時間がとられるよう に選択される。 室ガスからのエチレンオキシドの洗浄とそのエチレングリコールへの変換によ り、殺菌室５内とガス循環系内の内圧が連続して逓減する。従って、圧力制御装 置５０により、制御弁４９が、ガスボンベ４８からガス循環系から洗浄により排 出されている量の不活性ガス、特に窒素或いは二酸化炭素が供給されるように制 御される。これにより、殺菌室５内の内圧は５０，０００パスカル以下には降下 しない。起こるであろう希酸の蒸発の低減により、酸分離装置が除荷され、ガス 洗浄が安定して維持される。 ガス洗浄が終了した後、弁１１，１６および１８が閉じられ、弁１４と１９が 開かれ、真空ポンプ１０が接続され、このようにして殺菌室５が排気導管４２を 介して排気される。このような方法により、特に使用した、環境に無害な、濃度 が比較的高く、しかも特に健康に有害な不活性ガスが導出される。排気が終わっ た後、弁１４と１９が閉じられ、真空ポンプ１０が停止され、弁９、１１、１６ も閉じられる。弁２を介して殺菌室５に新鮮な外気が圧力が均衡されるまで供給 される。その後、殺菌室５が開かれ、殺菌物質が取出される。 弁１６と１８間の導管３８〜４０内の希酸分離装置１７は、微細に分散された 液体滴を、洗浄装置１５をその出口で導管４０を経て去る循環されない排ガスか ら分離する。このようにして回収される希酸は導管４１、開いている弁１２およ び逆止め弁１３を経て洗浄装置１５内に戻し案内される。 洗浄装置１５内で、洗浄工程の経過の際、希酸は約３５％までエチレングリコ ールで富化されている場合、希酸はその正常な反応力を失う。除毒処理されたエ チレンオキシドの１ｋｇ当たりから、約１，４１ｋｇのエチレングリコールが生 じ、これにより１ｋｇのエチレンオキシド当たり、洗浄工程が終了した後、約４ ，６１の洗浄液体が洗浄装置１５から弁２８を備えた導管４３を経て自体公知の 中和兼析出ユニット３４に供給されなければならない。ｐＨ値−調節ユニット３ １により、水酸化カルシウムのｐＨ値−調節された配量が配量装置３２から、内 部にポンプ２９が設けられている導管４５を介して行われる。これにより中和兼 析出ユニット３４内に石膏が生じ、この石膏はこの中和兼析出ユニット３４内で 沈殿され、そこから取出される。中和兼析出ユニット３４の出口において生じる ３０％のエチレングリコール溶液は導管４４の弁３３を経て取出され、次位の処 理に供給され、その際外部においてそこから再びエチレンオキシドが回収される 。 希酸を洗浄装置１５に供給するには、自体公知の希酸ユニット２１が使用され 、この希酸ユニットは導管４６と弁２０とを介して洗浄装置１５に接続されてい る。弁２２を介しての水の供給、およびポンプ２４により弁２３と、同時にｐＨ 値−調節ユニット３１が接続されている希酸ユニット２１の導管４７とを介して 供給が行われる容器２５からの硫酸の供給とにより、ｐＨ値が調節された５％の 硫酸（希酸）が混合される。希酸ユニット２１により、液面が制御されて正確に 、単位時間当たりの希酸の量が洗浄装置１５に供給され、この量は予めエチレン オキシドからエチレングリコールの形成によって、エチレングリコールの中和と 除毒処理のために、制御弁２８を介して単位時間当たり取出される。 参照符号６，７，８，８′は中和兼析出ユニット３４、洗浄装置１５、希酸ユ ニット２１並びに希酸分離装置１７内の液水準の調節に役立つ液水準調整機構を 示している。全設備は特に、液状の消費された材料を捕集するための耐酸性の底 部槽５７を備えている機枠或いは架台内に設けられている。導管５６と弁５５と を介して、洗浄水がこの底部槽５７内に導入される。弁５２とポンプ５４を介し て、均一に底部槽５７から排水が導管４４内に供給され、外部へと放出され、除 毒処理される。 工業的な使用分野 この方法および装置は、特に病院、養老院、研究所等における多重使用された 医療機器の消毒に使用可能であり、そこにおいてはガスであるエチレンオキシド により殺菌のための作業が行なわれる。方法と装置の有用性は特に、公知技術の ように接触的な燃焼が行われないことにある。何故なら、ガス循環がエチレンオ キシドの実際にもはや計量不可能な吸収が達成されるまでに作業を行うことがで き、従って排ガスが実際に計量可能な量のエチレンオキシドをもはや含んでいな いからである。 排ガス容量は公知の方法に比して排ガス量の数分の一から成るに過ぎない。 参照符号の説明 １，２，６，１１，１２，１４，１６，１８ １９，２０，２２，２３，３０，３２，５２，５５ 弁 ３，４ 室加熱機構 ５ 殺菌室 ７，８，９ 充填水準制御機構 １０ 真空ポンプ（水封圧縮機） １３ 逆止め弁 １５ ガス洗浄装置 １７ 希酸分離装置 ２１ 希酸ユニット ２４ ポンプ ２５ 酸容器 ２６ ｐＨ値調整ユニット ２８，４９ 制御弁 ２９，５４ ポンプ ３１ ｐＨ値調整ユニット ３２ 配量装置 ３４ 中和兼析出ユニット ３５ 排出導管 ３８ 供給導管 ３６，３７，３９，４０，４１，４２， ４３，４４，４５，４６，４７，５３， ５６，５８ 導管 ４８ 不活性ガスのためのガス容器 ５０ 圧力制御装置 ５７ 底槽

【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９６年９月２０日 【補正内容】 明細書 殺菌すべき物質をガスで処理した後のガスの形のエチレン オキシドを除毒処理するための方法 技術分野 本発明は、圧力密な殺菌室内で殺菌すべき物質をガスで処理した後のガスの形 のエチレンオキシドを除毒処理するための請求の範囲第１項に記載の方法並びに 請求の範囲第７項に記載の装置に関する。 従来の技術 多重使用のためのプラスチック成分を有する使い捨て物品或いは複合物品のよ うな熱に敏感な医療器具を殺菌するために殺菌装置が使用されるが、この殺菌装 置は殺菌のためにガスの形のエチレンオキシドガスを使用して作業が行なわれ、 かつ０，０５から約７０ｍ³の室面積を有する気密に密閉された殺菌室から成り 、この殺菌室に殺菌すべき物質が入れられる。密閉し、含まれている空気を排気 した後、殺菌すべき物質は一般に水蒸気で湿潤され、その後細菌と胞子とを殺す ために、５０，０００パスカル以下の蒸気圧でかつ数時間ガス状エチレンオキシ ドでガス作用により処理される。室内の絶対圧は、エチレンオキシド、二酸化炭 素或いは窒素のような添加される不活性ガス、水蒸気および排気されずに残って いる空気の分圧から組成されている。エチレンオキシドは２，５％から１００％ の濃度にあっては、高爆発性でありかつ極端に健康を阻害するガスであり、従っ て健康安全基準書およびＴＡ−空気に即応して除毒処理を行なわなければならな い。 ガスによる処理が行なわれた後、殺菌室は排気される。産業上の大規模な設備 にあっては、排ガスは一般に燃焼設備或いはガス洗浄装置を経て導かれ、除去さ れる。通常の真空ポンプは約ｐ＝５０００Ｐａの絶対圧以下で有効に働くので、 殺菌室は排気され、エチレンオキシドが燃焼設備或いはガス洗浄装置を経て導出 された後も、未だに多量のエチレンオキシドを含んでいる。殺菌室に新鮮な外気 が通気された際、残っているエチレンオキシドは供給された空気と混合され、こ れによりＴＡ−空気の規定による排ガスが生じ、この排ガスは同様に除毒処理さ れなければならない。この目的のため、殺菌室はあらためた排気され、排ガスは 上記のようにして除毒処理される。あらためて新鮮な外気が供給された後、残余 濃度は以前に行なわれた洗浄後の濃度の約１／２０に低減された。この工程は、 殺菌室内においてエチレンオキシドの残余濃度が法律上許容され得る濃度を確実 に下回る（ＴＲＫＣＢ※８＜１６ｍＥＯ／ｍ³）まで、繰り返し何度も行なわれ なければならない。 従って、殺菌物質の放出が起こることを考慮した際、殺菌室を少なくとも６回 の洗浄サイクルで清浄するが必要である。第一の排気の際エチレンオキシド濃度 を有する高爆発性の排ガス送られるが、次の除毒処理サイクルが行なわれた場合 は例えば自己発熱(autotherm)燃焼はもはや不可能である。少なくとも最後の洗 浄工程において排ガス中にエチレンオキシドの残余濃度が僅かになるので、ＴＡ −空気の要件（＜５ｍｇ／ｍ³）の維持は困難であり、極めて経費を要する。何 故なら、除毒処理装置を極端に異なる濃度（２０００ｇ／ｍ³＞ｃ＞５ｍｇ／ｍ³ ）を有する排ガス流に合わせて構成しなければならないからである。 更に、大きな半減期を有する殺菌物質からのエチレンオキシドの放出に対する 作業安全性の問題も生じる。洗浄サイクルの数が多くなり、八回目の洗浄の後の エチレンオキシドの物質流は放出により真空ポンプの物質流を超過してしまう。 従って、エチレンオキシドの必要とする残余濃度は、特に工業的な殺菌設備にあ って、一般に達せられない。何故なら、洗浄サイクルのための時間か長すぎるか らである。真空ポンプの構成に応じて、一回の洗浄サイクルには４０分以下の時 間が必要である。 Ｈ．Ｊ．Ｆｒｏｈｎ著『ＷＬＢ水、空気および底１−２』、１９８９、４３− ４４頁により、比較的小さい殺菌装置からのエチレンオキシドの析出が放出方法 として知られており、この方法にあってはガス状のエチレンオキシドは化学的に 洗浄剤中に結合される。エチレンオキシドの化学的な結合とエチレングリコール への反応により、気相と液相間に大きな増大する濃度勾配が生じる。洗浄剤とし て、希硫酸が使用される。硫酸の水成分とエチレンオキシドが反応してエチレン グリコールに変換する。その際、硫酸はただ触媒として反応に関与するに過ぎな い。従って、その吸収能が尽きた洗浄溶液は硫酸−エチレングリコール−水混合 物から成る。洗浄剤は相前後して接続されている二つの充填剤塔を通って分散さ れ、これらの充填剤塔内に洗浄剤は塔頭部で供給され、充填物質を経て流れる。 エチレンオキシドを含有している排ガスは洗浄剤に対して向流で塔内を通過する 。この方法は非連続的にバッチ−吸収として行なわれ、その際洗浄剤は、消耗し た洗浄剤の交換が必要となる飽和状態が達せられるまでの間、循環して塔全体を 移動される。この方法にあって不利な点は、根本的に洗浄剤が循環されると言う ことにある。排ガスの滞留時間は、エチレンオキシドの濃度に相応して、任意に 制御することはできない。更に、貯蔵容器が小型の場合、高い酸濃度が必要であ る。従って、多量のエチレンオキシドでは良好に処理することができない。 他の類似の吸収方法は、圧力室と真空室のためのＣｒｏｌｌ−Ｒｅｙｎｏｌｄ ｓによる方法であり、この方法にあってはエチレンオキシドの吸収後、続いてエ チレングリコールへの加水分解が行なわれる。 ドイツ連邦共和国特許第４１ ３８ ３２１号公報から、エチレンオキシドを 回収するための方法と設備が知られてれるが、この方法にあっては殺菌工程後殺 菌室から排出される殺菌ガスの少なくとも一部分が液体窒素による凍結により析 出される。析出された殺菌ガスを含まないガス流は殺菌室内に戻され、一方同時 に、析出された殺菌ガスの少なくとも一部分が不活性作用のあるガスの供給によ りこの殺菌ガスの濃度の低減の下に殺菌室内で置換えられる。極端な冷気が適用 されることにより、この方法は総体的に極めて故障が起きやすく、その際物理的 な理由から、排出されたガス流内に、ｍ³当たり２ｇのエチレンオキシドの残渣 が留まり、しかもこの残渣は析出により除去することかできない。 ヨーロッパ公開特許公報第０ １２９ ９８６号により、ガス−中−洗浄液或 いは反応溶液系において通常多様に使用されているような洗浄装置により、ガス 流からエチレンオキシドを洗浄分離するための方法が知られている。エチレンオ キシドで汚れている排ガスは、オンラインで、エチレンオキシドをエチレングリ コールに変換するための触媒としての硫酸を含有している洗浄装置を移動させら れ、残余ガスは大気に戻される。気体力学の観点から、このよう方法では、一回 の洗浄装置の流通では、エチレンオキシドを含む残余ガス含有量の５００から６ ００ｍｇ／ｍ³の低減は殆ど達せられない。 技術上の課題 本発明の根底をなす課題は、殺菌室で使用したエチレンオキシドを、その物理 的なかつ化学的な性質を利用して、殺菌工程の物理的な特性との密接な協働作用 で、かつ極めて爆発の危険ある設備内の成分を避けながら、並びに洗浄剤を循環 させて排ガスから完全に除去し、有用物質であるエチレングリコールに変換し、 同時に排ガス除毒処理の工程経過を時間的に著しく短縮し、排ガス量を低減する ことである。 本発明の目的は、極端に環境を害しかつ汚染する、高い爆発性のエチレンオキ シドを殺菌の際の使用後、完全に使用場所で室ガスから分離し、有用物質に転換 することである。 発明の開示とその利点 上記の課題は本発明により、エチレンオキシドによるガス処理後、酸を使用し て作業が行なわれる洗浄装置に供給しかつ殺菌室に接続されているポンプを使用 して、かつエチレンオキシドをエチレングリコールに変換して行う、圧力密に密 閉可能な殺菌室内で殺菌すべき物質をガスで処理した後ガスであるエチレンオキ シドを除毒処理するために、殺菌室、ポンプおよび洗浄装置がエチレンオキシド ガスのための閉鎖されたガス循環系を形成し、このガス循環系内においてポンプ がエチレンオキシドを殺菌室から連続的に洗浄装置に供給し、その排ガスが戻さ れて殺菌室に供給され、この排ガスが室加熱機構を加熱し、その際洗浄装置内で 生じるエチレングリコールが連続的に或いは非連続的に洗浄装置から排出され、 その代わり洗浄装置に酸の消費量に相応して連続的に或いは非連続的に更に酸か 供給され、室ガスからのエチレンオキシドの洗浄とそのエチレングリコールへの 変換により殺菌室とガス循環系内の内圧が連続的に低減されること、およびこの ガス−循環工程を、このガス−循環経過中に留まり循環されるガスのエチレンオ キシド−成分が所定の濃度以下に低減され、その後殺菌室が通気されるまで維持 することによって解決される。 殺菌室内における殺菌は特に、大気圧に比して低圧で、特に０，５バールの圧 力で行なわれる。本発明の他の有利な構成は請求の範囲に記載した。 本発明は、ガス−循環系−このガス−循環系内に殺菌室が存在している−によ り、エチレンオキシドによるガス処理の後連続的にエチレンオキシドはガス循環 系で循環される排ガスから排出され、除去され、これによりエチレンオキシドの 除毒処理の時間が著しく短縮される。同様に、殺菌を行う場所と高い爆発性の、 かつ高い毒性のエチレンオキシドの除毒処理場所間に敷設される導管長さも著し く短縮され、従ってエチレンオキシドの危険発生の可能性が著しく低下される。 更に、ガスによる処理後のエチレンオキシドの燃焼が完全に回避され、従って公 知技術にあって必要とした燃焼のためのエネルギー供給、経費を要する工程の制 御および調整並びに技術的に必要とする爆発および燃焼に対する防護を行わなく て済む。同様にエチレンオキシドから有用物質であるエチレングリコールが回収 され、このエチレングリコールから外部において再びエチレンオキシドを回収す ることが可能である。総じて、エチレンオキシドおよびエチレングリコールを除 毒処理するための時間が著しく短縮される。 技術的な点に関して、今日従来の技術による殺菌設備において使用されている 技術的に経費を要するロータリベーンポンプは、メンテナンスも少なくて済む、 単純なかつ確実に作動する水封圧縮機(Wasserringpumpe)で置換えられている。 更に、小型の殺菌設備のためにも、室を空にする際、危険物質条例による法律 的に規則通りな許容値を容易にかつ確実に維持することが可能である。同様に、 本発明による方法を使用するに当たって工業的な規模の殺菌設備のための設備投 資および営業費が著しく低減される。 特に０，５バールの圧力の殺菌室での作業が行なわれるので、半分の室容量が 通常の圧力に比して低い圧力で循環され、引続き排ガスとして放出されるに過ぎ ない。このことは、新鮮な外気を使用した接触的な燃焼に比して、約２５０倍の ガス容量の低減を意味する。何故なら、その場合容量流が相応して希釈されなけ ればならないからである。 図面の簡単な説明 第１図は分岐する導管Ａ−Ｂまでを含む装置の基本フローシートの第一の部分 の図、 第２図は第１図から来る導管Ａ−Ｂからの装置の基本フローシートの第二の部 分の図。 本発明の優れた実施例 弁１が設けられている導管Ｅを介してエチレンオキシドＥが、弁２が存在して いる導管Ｆを介して新鮮な外気Ｆが殺菌室５に供給される。同時に殺菌室５は室 加熱部３，４により、特に水により、公知の方法で加熱され。エチレンオキシド Ｅを供給するために、並びに新鮮な外気Ｆを供給するために、公知の技術におい て公知の多数の方法が存在しており、新鮮な外気Ｆのためには新鮮な外気フイル タとの組合せも可能である。 使用に当たって約０，０５から７０ｍ³の大きさの殺菌室５内において殺菌物 質が通常所定の時間の間６００から１０００ｇ／ｍ³のガス濃度でエチレンオキ シドによりガス作用が行なわれる。エチレンオキシドの良好な混合を保証するた めに、約１０分毎にガス雰囲気が循環される。 装置の構造、従ってガス−循環系は、本質的に殺菌室５から成り、この殺菌室 は排出導管３５、この排出導管内に存在している弁９、真空ポンプ１０、導管３ ９およびこの導管内に存在している弁１１を介してガス洗浄装置１５と結合され ている。このガス洗浄装置の出口は、導管４０、この導管内に存在している弁１ ６、酸分離装置１７、供給導管３８、そしてこの供給導管内に存在している弁１ ８を経て酸分離装置１７経た後、そして再び殺菌室５へと戻されている。このガ ス−循環系は外部に対して完全に密閉されている。 ガスによる処理を実施する以前に、殺菌室５は真空ポンプで負圧、特に約３０ ００から５０００パスカルの負圧が作用され、従って引続き殺菌のためにエチレ ンオキシドが供給される。図示した実施例にあっては真空兼循環ポンプとして、 両方の機能を併せ持つポンプ１０が使用される。 殺菌室５においてガス雰囲気を循環させるには、弁１４を備え、導管３９と４ ０の間でそれぞれ弁１１と１６の前方に設けられている導管バイパス３７が役立 つ。このガス雰囲気を循環させるには、弁９，１４および１８が開かれており、 これに対して弁１１と１６は閉じられている。このようにして、真空ポンプ１０ はガス混合物を導管３５，３７，３８および殺菌室５を経て循環させる。 殺菌室５に対して平行に、導管３５と３８の間で、ポンプ１０の手前に、特に 真空ポンプとして水封圧縮機１０が使用されている場合、弁が前方に或いは後方 に設けられている、防爆性の循環空気送風機が設けられている。殺菌行程の間、 この循環空気送風機によりガス雰囲気を循環させるには、導管３５と３８内の弁 ９と１８が閉じられ、この循環空気送風機の弁のみが開かれている。 通常は、公知技術においては、安全性の理由から、ロータリベーンポンプ或い はピストンポンプが使用される。なぜなら、エチレンオキシドが水リング（水封 圧縮機）の水とエチレンオキシド間において接触が生じた際、このエチレンオキ シドが極めて著しい割合で、水中に溶解し、これにより、水封圧縮機が極めて確 実に作業を行うにもかかわらず、除毒処理に関する問題が生じるからである。本 発明にあっては、この欠点は利点に変えられる。何故なら、本発明によるガス洗 浄を行う際、希酸、特に５％の硫酸が水封圧縮機の循環水に使用され、エチレン オキシドと触媒として作用する水素イオンとの接触によりエチレンオキシドが自 然にエチレングリコールに変換し、これにより既に部分的にエチレンオキシドが 排ガスから吸引されるからである。 殺菌室５へのガスによる処理を準備するために、この殺菌室は殺菌物質が充填 された後、真空ポンプ１０の工率一杯まで（約４０〜５０ｍバール）排気される 。この目的のため、弁１，２，１１，１６，１８が閉じられ、弁９，１４は開か れる。同様に、排ガス導管４２内に存在している弁１９が開かれ、真空ポンプ１ ０が作動され、空気が導管３７と４２を介して排気される。導管３７と４０は二 重Ｔ−導管を介して導管４２と交差しており、この際交差の手前で導管４０内に 弁１６が、その後方で弁１８が存在している。殺菌室５の排気が終了したら、弁 ９，１４，１９が閉じられ、真空ポンプ１０が停止される。その後、公知の方法 により、エチレンオキシドの供給が導管Ｅを介して、場合によっては水蒸気の供 給も弁１を介して行われる。 殺菌室５内で殺菌物質に対して所定の時間にわたってガスによる処理が行なわ れた後、エチレンオキシドは制御の下殺菌室５から導出され、除毒排出される。 この目的のため、ガス−循環系の核としてガス洗浄装置１５が使用され、このガ ス洗浄装置に弁１１と導管３９とを介してエチレンオキシドが真空ポンプ１０に より給送される。即ち、この目的のための真空ポンプが再び作動される。ガス洗 浄装置１５の導出導管４０は弁１６と１８を介して希酸分離機１７に通じており 、この希酸分離機には導管１８が続いており、この導管は殺菌室５に開口してい る。従って、弁９，１１，１６，１８が開いている場合、エチレンオキシドをそ のガ ス洗浄を行なうために、殺菌室５−真空ポンプ１０−ガス洗浄装置１５−希酸分 離機１７−殺菌室５間に除毒処理循環系が形成される。しかもその際大気に対す る設備の開放は行われない。そのガス循環が真空ポンプ１０により維持される洗 浄の間、設備の外方へと通じている弁、例えば弁１，２，１４，１９が閉じられ ている。 ガス洗浄装置１５が大きさに応じて、エチレンオキシドが殺菌室５から、ガス 洗浄装置１５内に存在している、特に５％の硫酸である希酸の表面以下の一定の 高さｈだけ、下方から微細な形で吹込まれるように構成されている。この高さは 、ガス流の流通量に応じて、室の大きさおよび個々の吹込み物の希酸内の流通時 間に依存して算出され、これから小型の設備のためには、少なくとも５００ｍｍ の高さである一定の流通長さが算出される。 エチレンオキシドと希酸の排ガスの吹込み物間の大きな相境界面により、排ガ ス内に含有されているエチレンオキシドが、希酸に含有されている触媒としての Ｈ＋イオンおよび水と反応し、殆ど完全に次式の エチレングリコールとなる。 エチレンオキシドを更にエチレングリコールに変換するための洗浄装置１５内 の希酸の液水準が吹出し位置の上方で少なくとも２ｍでなければならないので、 真空ポンプは２００ｍバールの圧力差に対抗して働けばよく、これにより最大の 移送効率の実現が可能である。これにより、エチレンオキシドの十分な洗浄が実 際に、公知技術による２から３の洗浄サイクルにとって必要であると同じ時間で 行われると言う利点が得られる。 ガス洗浄の間、二種類の方法で作業を行うことが可能である。非連続的な方法 として、完全な殺菌行程の間、洗浄装置内で、事情によては多数の循環系で、消 費される希酸の補充が行われず、また形成されるエチレングリコールの取出しも 行われず、従って全体として設備の外部へと通じている弁が完全な殺菌行程の間 閉じられており、殺菌行程および全体の作業が簡潔した後始めて開かれ、その後 始めて消費された希酸が補充され、エチレングリコールが処理される工程が採用 されるか、或いは連続的な方法として、洗浄の間洗浄装置内で消費された希酸が 連続的に補充され、エチレングリコールが同様に洗浄の間連続的に処理されるか 、或いは非連続的に全洗浄行程が終了した後処理される。 安全性の理由から、エチレンオキシドの洗浄のための時間は、エチレンオキシ ドの最後の残渣をも確実に除毒処理するための基準としてのガス洗浄のための通 常の作業よりも、殺菌室５を排気するには約３倍から４倍の時間がとられるよう に選択される。 室ガスからのエチレンオキシドの洗浄とそのエチレングリコールへの変換によ り、殺菌室５内とガス循環系内の内圧が連続して低減する。ガス洗浄が終了した 後、弁１１，１６および１８が閉じられ、弁１４と１９が開かれ、真空ポンプ１ ０が接続され、このようにして殺菌室５が排気導管４２を介して排気される。こ のような方法により、特に使用した、環境に無害な、濃度が比較的高く、しかも 特に健康に有害な不活性ガスが導出される。排気が終わった後、弁１４と１９が 閉じられ、真空ポンプ１０が停止され、弁９、１１、１６も閉じられる。弁２を 介して殺菌室５に新鮮な外気が圧力が均衡されるまで供給される。その後、殺菌 室５が開かれ、殺菌物質が取出される。 弁１６と１８間の導管３８〜４０内の希酸分離装置１７は、微細に分散された 液体滴を、洗浄装置１５をその出口で導管４０を経て去る循環されない排ガスか ら分離する。このようにして回収される希酸は導管４１、開いている弁１２およ び逆止め弁１３を経て洗浄装置１５内に戻し案内される。 洗浄装置１５内で、洗浄工程の経過の際、希酸は約３５％までエチレングリコ ールで富化されている場合、希酸はその正常な反応力を失う。除毒処理されたエ チレンオキシドの１ｋｇ当たりから、約１，４１ｋｇのエチレングリコールが生 じ、これにより１ｋｇのエチレンオキシド当たり、洗浄工程が終了した後、約４ ，６１の洗浄液体が洗浄装置１５から弁２８を備えた導管４３を経て自体公知の 中和兼析出ユニット３４に供給されなければならない。ｐＨ値−調節ユニット３ １により、水酸化カルシウムのｐＨ値−調節された配量が配量装置３２から、内 部にポンプ２９が設けられている導管４５を介して行われる。これにより中和兼 析出ユニット３４内に石膏が生じ、この石膏はこの中和兼析出ユニット３４内で 沈殿され、そこから取出される。中和兼析出ユニット３４の出口において生じる ３０％のエチレングリコール溶液は導管４４の弁３３を経て取出され、次位の処 理に供給され、その際外部においてそこから再びエチレンオキシドが回収される 。 希酸を洗浄装置１５に供給するには、自体公知の希酸ユニット２１が使用され 、この希酸ユニットは導管４６と弁２０とを介して洗浄装置１５に接続されてい る。弁２２を介しての水の供給、およびポンプ２４により弁２３と、同時にｐＨ 値−調節ユニット２６が接続されている希酸ユニット２１の導管４７とを介して 供給が行われる容器２５からの硫酸の供給とにより、ｐＨ値が調節された５％の 硫酸（希酸）が混合される。希酸ユニット２１により、液面が制御されて正確に 、単位時間当たりの希酸の量が洗浄装置１５に供給され、この量は予めエチレン オキシドからエチレングリコールの形成によって、エチレングリコールの中和と 除毒処理のために、制御弁２８を介して単位時間当たり取出される。 参照符号６，７，８，８′は中和兼析出ユニット３４、洗浄装置１５、希酸ユ ニット２１並びに希酸分離装置１７内の液水準の調節に役立つ液水準調整機構を 示している。全設備は特に、液状の消費された材料を捕集するための耐酸性の底 部槽５７を備えている機枠或いは架台内に設けられている。導管５６と弁５５と を介して、洗浄水がこの底部槽５７内に導入される。弁５２とポンプ５４を介し て、均一に底部槽５７から排水が導管４４内に供給され、外部へと放出され、除 毒処理される。 工業的な使用分野 この方法および装置は、特に病院、養老院、研究所等における多重使用された 医療機器の消毒に使用可能であり、そこにおいてはガスであるエチレンオキシド により殺菌のための作業が行なわれる。方法と装置の有用性は特に、公知技術の ように接触的な燃焼が行われないことにある。何故なら、ガス循環がエチレンオ キシドの実際にもはや計量不可能な吸収が達成されるまでに作業を行うことがで き、従って排ガスが実際に計量可能な量のエチレンオキシドをもはや含んでいな いからである。 排ガス容量は公知の方法に比して排ガス量の数分の一から成るに過ぎない。 参照符号の説明 １，２，６，１１，１２，１４，１６，１８ １９，２０，２２，２３，３０，３２，５２，５５ 弁 ３，４ 室加熱機構 ５ 殺菌室 ７，８，９ 充填水準制御機構 １０ 真空ポンプ（水封圧縮機） １３ 逆止め弁 １５ ガス洗浄装置 １７ 希酸分離装置 ２１ 希酸ユニット ２４ ポンプ ２５ 酸容器 ２６ ｐＨ値調整ユニット ２８，４９ 制御弁 ２９，５４ ポンプ ３１ ｐＨ値調整ユニット ３２ 配量装置 ３４ 中和兼析出ユニット ３５ 排出導管 ３８ 供給導管 ３６，３７，３９，４０，４１，４２， ４３，４４，４５，４６，４７，５３， ５６，５８ 導管 ４８ 不活性ガスのためのガス容器 ５０ 圧力制御装置 ５７ 底槽 請求の範囲 １．エチレンオキシドによるガス処理後、酸を使用して作業が行なわれる洗浄装 置（１５）に供給しかつ殺菌室（５）に接続されているポンプ（１０）を使用し て、かつエチレンオキシドをエチレングリコールに変換して行う、圧力密に密閉 可能な殺菌室（５）内で殺菌すべき物質をガスで処理した後ガスであるエチレン オキシドを除毒処理する方法において、 殺菌室（５）、ポンプ（１０）および洗浄装置（１５）がエチレンオキシドガ スのための閉鎖されたガス循環系を形成し、このガス循環系内においてポンプ（ １０）がエチレンオキシドを殺菌室（５）から連続的に洗浄装置（１５）に供給 し、その排ガスが戻されて殺菌室（５）に供給され、この排ガスが室加熱機構（ ３，４）を加熱し、その際洗浄装置（１５）内で生じるエチレングリコールが連 続的に或いは非連続的に洗浄装置（１５）から排出され、その代わり洗浄装置（ １５）に酸の消費量に相応して連続的に或いは非連続的に更に酸が供給され、室 ガスからのエチレンオキシドの洗浄とそのエチレングリコールへの変換により殺 菌室（５）とガス循環系内の内圧が連続的に低減されること、およびこのガス− 循環工程を、このガス−循環経過中に留まり循環されるガスのエチレンオキシド −成分が所定の濃度以下に低減され、その後殺菌室（５）が通気されるまで維持 することを特徴とする方法。 ２．殺菌室（５）内での殺菌が大気圧に比して低圧で、特に０，５バールの圧力 で行なわれることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の方法。 ３．ポンプ（１０）が真空ポンプであり、また循環ポンプであり、ガスによる処 理工程を開始するために殺菌室（５）をポンプ力により空にし、かつ殺菌工程後 、ガス循環系を始動させ、維持し、特にポンプ（１０）が水封圧縮機であり、そ の水リングに、特に５％の硫酸から成る希酸が添加されることを特徴とする請求 の範囲第１項に記載の方法。 ４．エチレンオキシドが殺菌室（５）から洗浄装置（１５）内に存在している、 特に５％の硫酸である希酸の表面以下の一定の高さｈだけ、下方から微細な状態 で吹込まれ、その際高さｈが少なくとも５００ｍｍであることを特徴とする請求 の範囲第１項に記載の方法。 ５．請求の範囲第１項に記載の方法を実施するための装置において、 殺菌室（５）、真空ポンプであるポンプ（１０）および洗浄装置（１５）が導 管（３５，３８，３９，４０）を介して密閉されたたガス循環系にまとめられて おり、ポンプ（１０）がエチレンオキシドを殺菌室（５）から連続的に洗浄装置 （１５）に供給し、その排出導管（４０）が室加熱機構（３，４）を介して加熱 される殺菌室（５）に接続されており、その際洗浄装置（１５）内に生じるエチ レングリコールが連続的に或いは非連続的に洗浄装置（１５）から排出され、そ の代わり洗浄装置（１５）に酸の消費量に相応して連続的に或いは非連続的に希 酸ユニット（２１）から更に酸が供給されるように構成されていること、および この循環工程が、ガス循環系内に残留した循環されるガスのエチレンオキシド割 合が所定の濃度以下に降下するまで維持されるように構成されていることを特徴 とする装置。 ６．ガス循環系（５，３５，１０，３９，１５，４０，３８）内に酸分離装置（ １７）が設けられており、この酸分離装置の出口（４１）が逆止め弁（１３）を 介して洗浄装置（１５）に通じていることを特徴とする請求の範囲第７項或いは 第５項に記載の装置。 ７．ポンプ（１０）が真空ポンプであり、また循環ポンプであり、ガスによる処 理工程を開始するために殺菌室（５）をポンプ力により空にし、かつ殺菌工程後 、ガス循環系を始動させ、維持し、その際真空ポンプ（１０）が場合によっては バイパス（３７）を介して殺菌室（５）と結合されていることを特徴とする請求 の範囲第７項、第５項或いは第６項に記載の装置。 ８．真空ポンプが水封−真空ポンプ（１０）であり、その水リングが希酸、特に ５％の硫酸の形の希酸が添加されている循環水で作動することを特徴とする請求 の範囲第７項に記載の装置。 ９．殺菌室（５）に平行して循環送風機が設けられており、この循環送風機がエ チレンオキシド−ガス混合物質を殺菌工程の間殺菌室（５）内で循環させること を特徴とする請求の範囲第５項に記載の装置。

───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】 ンオキシドの洗浄によりガス循環系内で内圧が降下し た、圧力降下が生じた際、規則的な方法により不活性ガ スをガス循環系内に供給する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．圧力密に密閉可能な殺菌室（５）内で殺菌すべき物質をガスで処理した後ガ スであるエチレンオキシドを、このエチレンオキシドによるガス処理後、酸を使 用して作業が行なわれる洗浄装置（１５）に供給する、殺菌室（５）に接続され ているポンプ（１０）を使用して除毒処理する方法において、 殺菌室（５）、ポンプ（１０）および洗浄装置（１５）がエチレンオキシドガ スのための閉鎖されたガス循環系を形成し、このガス循環系内においてポンプ（ １０）がエチレンオキシドを殺菌室（５）から連続的に洗浄装置（１５）に供給 し、その排ガスが戻されて殺菌室（５）に供給され、その際洗浄装置（１５）内 でエチレンオキシドから生じるエチレングリコールが連続的に或いは非連続的に 洗浄装置（１５）から排出され、その代わり洗浄装置（１５）に酸の消費量に相 応して連続的に或いは非連続的に更に酸が供給されること、およびこのガス−循 環工程が、このガス−循環経過中に留まり循環されるエチレンオキシド−ガスが 所定の濃度以下に低減され、その後殺菌室（５）が通気されるまで維持されるこ とを特徴とする方法。 ２．ガス循環系（５，３５，１０，３９，１５，４０，３８）に、特にポンプ（ １０）の手前に、不活性ガス源（４８）が接続されており、この不活性ガス源が エチレンオキシドの洗浄によりガス循環系内で内圧が降下し、圧力降下が生じた 際、不活性ガスを規則的な方法によりガス循環系内に供給することを特徴とする 請求の範囲第１項に記載の方法。 ３．殺菌室（５）内での殺菌が大気圧に比して低圧で、特に０，５バールの圧力 で行なわれることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の方法。 ４．ガス循環系内に酸分離装置（１７）が設けられており、この酸分離装置内で エチレンオキシドをエチレングリコールに変換するために５％の硫酸の形の希酸 が使用されることを特徴とする請求の範囲第１項、第２項或いは第３項に記載の 方法。 ５．ポンプ（１０）が真空ポンプであり、また循環ポンプであり、ガスによる処 理工程を開始するために殺菌室（５）をポンプ力により空にし、かつ殺菌工程後 、ガス循環系を始動させ、維持し、特にポンプ（１０）が水封圧縮機であり、 その水リングに、特に５％の硫酸から成る希酸が添加されることを特徴とする請 求の範囲第１項に記載の方法。 ６．エチレンオキシドが殺菌室（５）から洗浄装置（１５）内に存在している、 特に５％の硫酸である希酸の表面以下の一定の高さｈだけ、下方から微細な状態 で吹込まれ、その際高さｈが少なくとも５００ｍｍであることを特徴とする請求 の範囲第１項に記載の方法。 ７．殺菌室（５）に接続されているポンプ（１０）を備えており、このポンプが 物質のガスによる処理が終了した後エチレンオキシドを酸により作業を行う洗浄 装置（１５）に供給する方法の、低圧に調節することができる殺菌室（５）内で 殺菌されるべき物質のガスによる処理が行なわれた後、ガスの形のエチレンオキ シドを除毒処理するための装置において、 殺菌室（５）、ポンプ（１０）および洗浄装置（１５）が導管（３５，３８， ３９，４０）を介して密閉されたたガス循環系にまとめられており、ポンプ（１ ０）がエチレンオキシドを殺菌室（５）から連続的に洗浄装置（１５）に供給し 、その排出導管（４０）が殺菌室（５）に接続されており、その際洗浄装置（１ ５）内に生じるエチレングリコールが連続的に或いは非連続的に洗浄装置（１５ ）から排出され、その代わり洗浄装置（１５）に酸の消費量に相応して連続的に 或いは非連続的に希酸ユニット（２１）から更に酸が供給されるように構成され ていること、およびこの循環工程が、ガス循環系内に残留した循環されるエチレ ンオキシドが所定の濃度以下に降下するまで維持されるように構成されているこ とを特徴とする装置。 ８．ガス循環系（５，３５，１０，３９，１５，４０，３８）に、特にポンプ（ １０）の手前に、特に制御弁を備えた不活性ガス源（４８）が接続されており、 この不活性ガス源がエチレンオキシドの洗浄により殺菌室（５）内で内圧が降下 した、圧力降下が生じた際、規則的な方法により不活性ガスをガス循環系内に供 給することが可能であるように構成されているを特徴とする請求の範囲第７項に 記載の装置。 ９．ガス循環系（５，３５，１０，３９，１５，４０，３８）内に酸分離装置（ １７）が設けられており、この酸分離装置の出口（４１）が逆止め弁（１３） を介して洗浄装置（１５）に通じていることを特徴とする請求の範囲第７項或い は第８項に記載の装置。 １０．ポンプ（１０）が真空ポンプであり、また循環ポンプであり、ガスによる 処理工程を開始するために殺菌室（５）をポンプ力により空にし、かつ殺菌工程 後、ガス循環系を始動させ、維持し、その際ポンプ（１０）が場合によってはバ イパス（３７）を介して殺菌室（５）と結合されていることを特徴とする請求の 範囲第７項、第８項或いは第９項に記載の装置。 １１．真空ポンプが水封−真空ポンプ（１０）であり、その水リングに希酸、特 に５％の硫酸の形の希酸が添加されていることを特徴とする請求の範囲第１０項 に記載の装置。 １２．殺菌室（５）に平行して循環送風機が設けられており、この循環送風機が エチレンオキシド−ガス混合物質を殺菌工程の間殺菌室（５）内で循環させるこ とが可能であるように構成されていることを特徴とする請求の範囲第７項に記載 の装置。