JP2000330265A - 画像形成材料 - Google Patents

画像形成材料

Info

Publication number
JP2000330265A
JP2000330265A JP14328099A JP14328099A JP2000330265A JP 2000330265 A JP2000330265 A JP 2000330265A JP 14328099 A JP14328099 A JP 14328099A JP 14328099 A JP14328099 A JP 14328099A JP 2000330265 A JP2000330265 A JP 2000330265A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
ureido
resin
soluble resin
methacrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP14328099A
Other languages
English (en)
Inventor
Ikuo Kawachi
幾生 河内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP14328099A priority Critical patent/JP2000330265A/ja
Publication of JP2000330265A publication Critical patent/JP2000330265A/ja
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐薬品性及び耐刷性に優れるダイレクト製版
用の赤外線レーザ用ポジ型画像形成材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に、(A)側鎖に尿素結合を有
するアルカリ水溶液可溶性樹脂と、(B)光を吸収し熱
を発生する化合物とを含有してなる感光層を有すること
を特徴とする画像形成材料である。前記感光層は、
(C)フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶
性樹脂を更に含有するのが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、オフセット印刷マ
スターとして使用可能な画像形成材料に関し、特に、コ
ンピュータ等のディジタル信号から直接製版可能な、い
わゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ用のポジ型画像
形成材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ固
体レーザや半導体レーザでは、高出力・小型化が進んで
いる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータ
から直接製版する際の露光光源として、これらのレーザ
は非常に有用である。
【0003】前述の赤外線領域に発光領域を持つ赤外線
レーザを露光光源として使用する、赤外線レーザ用ポジ
型平版印刷版材料は、アルカリ水溶液可溶性のバインダ
ー樹脂と、光を吸収し熱を発生するIR染料等とを必須
成分とする平版印刷版材料である。該赤外線レーザ用ポ
ジ型平版印刷版材料に、前記赤外線レーザを露光する
と、非露光部(画像部)では、該赤外線レーザ用ポジ型
平版印刷版材料中のIR染料等が、前記バインダー樹脂
との相互作用により、該バインダー樹脂の溶解性を実質
的に低下させる溶解阻止剤として働く。一方、露光部
(非画像部)では、前記IR染料等が、光を吸収して熱
を発生するため、該IR染料等と前記バインダー樹脂と
の相互作用が弱くなる。したがって、現像時には、前記
露光部(非画像部)が、アルカリ現像液に溶解し、平版
印刷版が形成される。しかし、このような赤外線レーザ
用ポジ型平版印刷版材料においては、UV露光により製
版するポジ型平版印刷版材料と比べ、バインダー樹脂と
して、アルカリ現像液に対する溶解性の高い樹脂をせざ
るを得ないため、使用中の耐薬品性が悪く、クリーナー
の使用によって、耐刷性が劣化してしまうという問題が
あった。
【0004】前記問題は、以下の、前記赤外線レーザ用
ポジ型平版印刷版材料と、前記UV露光により製版する
ポジ型平版印刷版材料との製版メカニズムの本質的な相
違に起因する。
【0005】前記UV露光により製版するポジ型平版印
刷版材料は、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂
と、オニウム塩やキノンジアジド化合物類とを必須成分
とする。ここで、該UV露光により製版するポジ型平版
印刷版材料を露光すると、前記オニウム塩やキノンジア
ジド化合物類は、非露光部(画像部)においては、前記
赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料におけるのと同様
に、溶解阻止剤として作用するが、露光部(非画像部)
においては、前記赤外線レーザ用ポジ型平版印刷材料に
おけるのとは異なり、光によって分解して酸を発生し、
前記バインダー樹脂の溶解促進剤として作用する。した
がって、該UV露光により製版するポジ型平版印刷版材
料においては、バインダー樹脂として、あらかじめアル
カリ現像液に対する溶解性の高い樹脂を使用する必要は
ない。
【0006】これに対し、前記赤外線レーザ用ポジ型平
版印刷版材料においては、露光時に、露光部(非画像
部)では、IR染料等と前記バインダー樹脂との相互作
用は弱まるものの、該IR染料が、該バインダーの溶解
促進剤として作用するわけではないため、非露光部と露
光部との溶解性の差を大きくするためには、前述のよう
に、バインダー樹脂として、あらかじめアルカリ現像液
に対する溶解性の高い樹脂を使用せざるを得ないのであ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記諸問題
を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即
ち、本発明は、耐薬品性及び耐刷性に優れるダイレクト
製版用の赤外線レーザ用ポジ型画像形成材料を提供する
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。即ち、支持体上に、
(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ水溶液可溶性樹
脂と、(B)光を吸収して熱を発生する化合物とを含有
してなる感光層を有することを特徴とする画像形成材料
である。
【0009】また、前記画像形成材料においては、前記
感光層が、(C)フェノール性水酸基を有するアルカリ
水溶液可溶性樹脂をさらに含有するのが好ましい。
【0010】(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ水
溶液可溶性樹脂において、該尿素結合基自体はアルカリ
水溶液可溶性基としては作用しない。また、導入された
側鎖の尿素結合基の特性により、露光後は、耐薬品性、
強度(硬度)が向上する。したがって、露光部(画像
部)全体としては、アルカリ水溶液に対する溶解性は低
下する。一方、前記尿素結合基は、現像時の(A)アル
カリ水溶液可溶性樹脂のアルカリ水溶液(現像液)への
溶解性を阻害することもない。したがって、(A)側鎖
に尿素結合を有するアルカリ水溶液可溶性を使用した画
像形成材料は、耐薬品性に優れ、クリーニングによって
も耐刷性が低下しないものと推察される。
【0011】
【発明の実施の形態】−感光層− 感光層は、(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ水溶
液可溶性樹脂と、(B)光を吸収して熱を発生する化合
物とを含有してなる。
【0012】[(A)側鎖に尿素結合を有するアルカリ
水溶液可溶性樹脂](A)側鎖に尿素結合を有するアル
カリ水溶液可溶性樹脂(以下、単に「(A)アルカリ水
溶液可溶性樹脂」と称することがある。)としては、尿
素結合を側鎖に有するアルカリ水溶液可溶性樹脂であれ
ば、特に制限はなく、公知のものを用いることができ
る。特に、印刷薬品を使用しながら印刷する際の耐薬品
性の観点から、下記一般式(a)から(c)のいずれか
で表される構成単位を有するビニル重合系又は縮重合系
の高分子化合物、又は側鎖に尿素結合を有するノボラッ
ク樹脂が、特に好適に挙げられる。さらに、側鎖に、尿
素結合に加え、アルカリ水溶液可溶性に寄与するような
官能基が存在することが、感度の向上という観点から好
ましい。
【0013】
【化1】
【0014】前記一般式(a)〜(c)において、R1
及びR2は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ア
リール基、カルボキシル基、又はそれらの塩を表す。R
3は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリー
ル基を表す。Xは、2価の連結基を表し、例えば置換基
を有してもよいアルキレン基又はフェニレン基等が好適
に挙げられる。Yは置換基を有してもよい2価の芳香族
基を表し、例えば、置換基を有してもよいフェニレン基
又はナフチレン基等が好適に挙げられる。
【0015】前記一般式(a)から(c)のいずれかで
表される構成単位の、(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂
における含有量としては、仕込み比で10〜80モル%
含まれる共重合体であることが好ましく、15〜70モ
ル%がより好ましく、20〜60モル%が特に好まし
い。前記含有量が、10モル%未満の場合には、耐薬品
性に乏しく、80モル%を超える場合には、アルカリ水
溶液への溶解性が低く、低感度となることがある。
【0016】前記一般式(a)から(c)のいずれかで
表される構成単位を有する高分子化合物の製造方法とし
ては、特に制限はなく、公知の種々の方法で製造するこ
とが可能であり、例えば、重合性単量体を、重合開始剤
を用いて溶媒中で重合する方法等が挙げられる。
【0017】前記重合性単量体を、重合開始剤を用いて
溶媒中で重合する方法において、前記重合性単量体とし
ては、1分子中に1以上の尿素結合と、1以上の重合可
能な不飽和結合とを有する単量体であり、例えば、下記
一般式(d)で表される化合物等が好適に挙げられる。
【0018】
【化2】
【0019】一般式(d)において、Rは、水素原子又
はアルキル基を表す。Xは2価の連結基を表し、例え
ば、置換基を有してもよいアルキレン基又はフェニレン
基が挙げられる。Yは、置換基を有してもよい2価の芳
香族基を表し、例えば、置換基を有してもよいフェニレ
ン基又はナフチレン基等が挙げられる。
【0020】前記一般式(d)で表される化合物として
は、例えば、1−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)
ウレイド)メチルアクリレート、1−(N’−(3−ヒ
ドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1
−(N’−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチ
ルアクリレート、1−(N’−(3−ヒドロキシ−4−
メチルフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−
(N’−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレ
イド)メチルアクリレート、1−(N’−(5−ヒドロ
キシナフチル)ウレイド)メチルアクリレート、1−
(N’−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウ
レイド)メチルアクリレート、2−(N’−(4−ヒド
ロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−
(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチル
アクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシフェニ
ル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−(3
−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)エチル
アクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシ−5−メ
チルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−
(N’−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)エチル
アクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシ−5−フ
ェニルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、4−
(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチル
アクリレート、4−(N’−(3−ヒドロキシフェニ
ル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(2
−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルアクリレー
ト、4−(N’−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニ
ル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(2
−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)ブチル
アクリレート、4−(N’−(5−ヒドロキシナフチ
ル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(2
−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)ブチ
ルアクリレートの如きアクリレート誘導体:1−(N’
−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタク
リレート、1−(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウ
レイド)メチルメタクリレート、1−(N’−(2−ヒ
ドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、
1−(N’−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)
ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N’−(2−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)メチルメ
タクリレート、1−(N’−(5−ヒドロキシナフチ
ル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N’−
(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)
メチルメタクリレート、2−(N’−(4−ヒドロキシ
フェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−
(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチル
メタクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシフェニ
ル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−
(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)エ
チルメタクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレー
ト、2−(N’−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイ
ド)エチルメタクリレート、2−(N’−(2−ヒドロ
キシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)エチルメタク
リレート、4−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウ
レイド)ブチルメタクリレート、4−(N’−(3−ヒ
ドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、
4−(N’−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブ
チルメタクリレート、4−(N’−(3−ヒドロキシ−
4−メチルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレー
ト、4−(N’−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N’−
(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)ブチルメタクリ
レート、4−(N’−(2−ヒドロキシ−5−フェニル
フェニル)ウレイド)ブチルメタクリレートのようなメ
タクリレート誘導体等が挙げられる。これらは、1種単
独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0021】前記重合性単量体は、尿素結合に基づく赤
外線吸収スペクトルの1600〜1700cm-1に特性
吸収を持つため、赤外線吸収スペクトルの測定により、
同定することができる。また、融点、プロトンNMR等
での同定も可能である。例えば、前述の具体例中、2−
(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチル
メタクリレートは、融点が131〜133℃であり、水
酸基及び前記尿素結合に基づくIRスペクトルの吸収か
ら同定可能である。
【0022】また、前記一般式(d)で表される化合物
以外にも、例えば、2−(N’−(4−カルボキシルフ
ェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−
(4−スルファモイルフェニル)ウレイド)エチルアク
リレート、2−(N’−(4−スルホフェニル)ウレイ
ド)エチルアクリレート、2−(N’−(4−ホスホノ
フェニル)ウレイド)エチルアクリレート等のような酸
性基を有するアクリレート類:2−(N’−(4−カル
ボキシルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、
2−(N’−(4−スルファモイルフェニル)ウレイ
ド)エチルメタクリレート、2−(N’−(4−スルホ
フェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−
(N’−(4−ホスホノフェニル)ウレイド)エチルメ
タクリレート等のような酸性基を有するメタクリレート
類:2−(N’−メチルウレイド)エチルアクリレー
ト、2−(N’−プロピルウレイド)エチルアクリレー
ト、2−(N’−フェニルウレイド)エチルアクリレー
ト、2−(N’−(4−メチルフェニル)ウレイド)エ
チルアクリレート、2−(N’−(2−メチルフェニ
ル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−ナフ
チルウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−(2
−フェニルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート等
のような酸性基を有していないアクリレート類:2−
(N’−メチルウレイド)エチルメタクリレート、2−
(N’−プロピルウレイド)エチルメタクリレート、2
−(N’−フェニルウレイド)エチルメタクリレート、
2−(N’−(4−メチルフェニル)ウレイド)エチル
メタクリレート、2−(N’−(2−メチルフェニル)
ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−ナフチ
ルウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−(2
−フェニルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート
等のような酸性基を有していないメタクリレート類等の
重合性単量体が好ましく挙げられる。
【0023】前述の具体例中、2−(N’−(4−カル
ボキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレートは、
分解温度が220℃であり、カルボキシル基及び前記尿
素結合に基づくIRスペクトルの吸収から同定可能であ
る。
【0024】前記重合性単量体の製造方法については、
特に制限はなく、例えば、下記一般式(e)で表される
イソシアネート化合物と、下記一般式(f)で表される
アミン化合物とを反応させる公知の製造方法等が好適に
挙げられる。
【0025】
【化3】
【0026】一般式(e)において、Rは、水素原子又
はアルキル基を表す。Xは前記一般式(d)と同様であ
る。一般式(f)において、R’は、水素原子、又は置
換基を有してもよいアルキル基を表す。Yは、前記一般
式(d)と同様である。Zは、水酸基、カルボキシル
基、又はスルホンアミド基を表す。
【0027】前記製造方法において、前記一般式(e)
の化合物と、前記一般式(f)で、Zが水酸基、R’
が、水素原子である化合物とを用いることにより、前記
一般式(d)で表される重合性単量体を好適に得ること
ができる。
【0028】前記製造方法においては、一般式(f)に
おけるアミノ基は、水酸基、カルボキシル基、又は−N
H−CO−基等に比べ、イソシアネート基に対する活性
が高いため、容易に前記一般式(d)で表されるような
重合成単量体を得ることができる。また、所望により、
前記一般式(f)で表されるアミン化合物を過剰にし、
これに、徐々に前記一般式(e)で表されるイソシアネ
ート化合物を加えることにより、より有効に反応を進め
ることができる。
【0029】前記溶媒としては、公知の有機溶媒であれ
ば特に制限はないが、活性水素原子を有しないものが好
適に挙げられ、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、1−エトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−
2−プロパノールアセテート、1−メトキシ−2−プロ
ピルアセテート、1−エトキシ−2−プロピルアセテー
ト、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳
酸メチル、乳酸エチル、ジオキサン等が挙げられる。こ
れらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用
してもよい。
【0030】前記反応の時間としては、前記一般式
(e)で表されるイソシアネート化合物が無くなるま
で、又は、尿素結合の量が一定量となるまで行えばよ
く、通常は、15分〜24時間である。また、前記反応
の温度としては、0〜40℃が好ましい。
【0031】前記重合性単量体は、前記一般式(f)で
表されるアミン化合物の過剰系で反応させた場合の未反
応の原料成分や副生成物を除去する目的で、所望によ
り、希塩酸等の酸性化合物で中和して、一般式(f)で
表されるアミン化合物を塩とした後、水洗、濾過、真空
乾燥することにより、高純度とすることができる。
【0032】前記(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂は、
前記尿素結合を含む各重合性単量体の単独重合体又は2
種以上の共重合体であってもよいが、1以上の重合可能
な不飽和結合を有し、かつ尿素結合を含まない化合物と
の共重合体であることが、耐刷性の観点から好ましい。
該共重合体としては、ブロック体、ランダム体、又はグ
ラフト体等のいずれの構造であってもよい。
【0033】前記共重合体は、前記重合性単量体と1以
上の重合可能な不飽和結合を有し、かつ尿素結合を含ま
ない化合物との合計量の100モル%に対し、前記重合
性単量体を10〜80モル%用いて共重合させたものが
好ましい。
【0034】前記1以上の重合可能な不飽和結合を有
し、かつ尿素結合を含まない化合物としては、例えば、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロ
ピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル
酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸-
t-オクチル、クロロエチルアクリレート、2,2−ジ
メチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキ
シペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノ
アクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、
メトキシベンジルアクリレート、テトラヒドロアクリレ
ートの如きアクリル酸エステル類:フェニルアクリレー
ト、フルフリルアクリレートの如きアリールアクリレー
ト類:メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレー
ト、アミルメタクリレートヘキシルメタクリレート、シ
クロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリ
レート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−
3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトール
モノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フル
フリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレートの如きメタクリル酸エステル類:フェニルメタ
クリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタク
リレートの如きアリールメタクリレート類:アクリルア
ミドまたはその誘導体としてはN−メチルアクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリル
アミド、N−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルア
クリルアミド、N−ヘプチルアクリルアミド、N−オク
チルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミ
ド、N−ベンジルアクリルアミドの如きN−アルキルア
クリルアミド類:N−フェニルアクリルアミド、N−ト
リルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、N−ナフチルアクリルアミド、N−ヒドロキシフェ
ニルアクリルアミドの如きN−アリールアクリルアミド
類:N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチ
ルアクリルアミド、N,N−ジブチルアクリルアミド、
N,N−ジブチルアクリルアミド、N,N−ジイソブチ
ルアクリルアミド、N,N−ジエチルヘキシルアクリル
アミド、N,N−ジシクロヘキシルアクリルアミドの如
きN,N−ジアルキルアクリルアミド類:N−メチル−
N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミドエチ
ル−N−アセチルアクリルアミドの如きN,N−アリー
ルアクリルアミド類:メタクリルアミドまたはその誘導
体としてはN−メチルメタクリルアミド、N−エチルメ
タクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−
ブチルメタクリルアミド、N−t−ブチルメタクリルア
ミド、N−エチルヘキシルメタクリルアミド、N−ヒド
リキシエチルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルメ
タクリルアミドの如きN−アルキルメタクリルアミド
類:N−フェニルメタクリルアミド、N−ナフチルメタ
クリルアミドの如きN−アリールメタクリルアミド類:
N,N−ジエチルメタクリルアミド、N,N−ジプロピ
ルメタクリルアミド、N,N−ジブチルメタクリルアミ
ドの如きN,N−ジアルキルメタクリルアミド類:N,
N−ジフェニルメタクリルアミドの如きN,N−ジアリ
ールメタクリルアミド類:N−ヒドロキシエチル−N−
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタクリル
アミドの如きメタクリルアミド誘導体:酢酸アリル、カ
プロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリ
ル、パルチミン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香
酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、アリルオキ
シエタノールの如きアリル化合物類:ヘキシルビニルエ
ーテル、オクチルビニルエーテル、ドデシルビニルエー
テル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチル
ビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロ
ロエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチ
ルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエ
ーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレン
グリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニ
ルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブ
チルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエー
テル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニル
フェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロ
ロフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロロフェニ
ルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラ
ニルエーテルの如きビニルエーテル類:ビニルブチレー
ト、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテー
ト、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニ
ルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメト
キシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフ
ェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラ
クテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシ
クロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリ
チル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安
息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルの如きビニルエステル
類:メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロ
ピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シ
クロヘキシルスチレン、ドデシルスチレン、ベンジルス
チレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルス
チレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルス
チレン、メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチル
スチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジク
ロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチ
レン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロ
モスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、2−
ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン、4−フルオ
ロ−3−トリフルオロメチルスチレンの如きスチレン
類:クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、クロトン
酸、グリセリンモノクロトネートの如きクロトン酸エス
テル類:イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イ
タコン酸ジブチルの如きイタコン酸ジアルキル類:ジメ
チルマレート、ジブチルフマレートの如きマレイン酸あ
るいはフマール酸のジアルキル類:マレイミド、N−フ
ェニルマレイミド、N−2−メチルフェニルマレイミ
ド、N−2,6−ジエチルフェニルマレイミド、N−2
−クロロフェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレ
イミド、N−ラウリルマレイミド、N−ヒドロキシフェ
ニルマレイミドの如きマレイミド類:その他、N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらの化合
物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用し
てもよい。
【0035】これらの化合物のうち、(メタ)アクリル
酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、マレイミド
類、(メタ)アクリロニトリル類が特に好ましい。
【0036】尚、本明細書において、(メタ)アクリレ
ートと称した記載は、アクリレート及びメタアクリレー
トを意味し、(メタ)アクリル酸と称した記載は、アク
リル酸及びメタクリル酸を意味するものとする。また、
(メタ)アクリロニトリルと称した記載は、アクリロニ
トリル及びメタクリロニトリルを意味し、(メタ)アク
リルアミドは、アクリルアミド及びメタクリルアミドを
意味するものとする。
【0037】前記共重合体の分子量としては、重量平均
分子量では、2000以上が好ましく、3000〜50
万がより好ましい。また、数平均分子量では、1000
以上が好ましく、2000〜40万がより好ましい。
【0038】前記感光層は、(C)フェノール性水酸基
を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂(以下、「(C)フ
ェノール性水酸基を有する樹脂」と称することがあ
る。)をさらに含有するのが好ましい。
【0039】(C)フェノール性水酸基を有する樹脂の
(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂に対する配合比
((C)フェノール性水酸基を有する樹脂:(A)アル
カリ水溶液可溶性樹脂)としては、重量比で、1:10
〜10:1が好ましく、1:5〜5:1がより好まし
い。前記配合比が、前記数値範囲に満たない場合には、
前記フェノール性水酸基を有する樹脂との相互作用が十
分でなく、現像ラチチュードが低下することがある一
方、前記配合比が、前記数値範囲を超える場合には、前
記感光層の耐薬品性が乏しくなることがある。
【0040】(C)フェノール性水酸基を有する樹脂と
しては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルム
アルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p
−,またはm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホル
ムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂等が挙げられ
る。
【0041】(C)フェノール性水酸基を有する樹脂の
分子量としては、重量平均分子量で500〜2000
0、数平均分子量で200〜10000が好ましい。
【0042】また、米国特許第4123279号明細書
に記載されているt−ブチルフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂や、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂等
の炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェ
ノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよ
い。これらのフェノール性水酸基を有する樹脂は、1種
単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0043】[(B)光を吸収して熱を発生する化合
物](B)光を吸収して熱を発生する化合物としては、
公知の種々の顔料や染料等が好適に挙げられる。前記顔
料としては、市販の顔料およびカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられ
る。
【0044】前記顔料の種類としては、黒色顔料、黄色
顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔
料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その
他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶
性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレート
アゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔
料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔
料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソイ
ンドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ
顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が挙げら
れる。
【0045】前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。該表面処理の
方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活
性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカ
ップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート
等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記
表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書
房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、198
6年刊)に記載されている。
【0046】前記顔料の粒径としては、0.01〜10
μmが好ましく、0.05〜1μmがより好ましく、
0.1〜1μmが特に好ましい。前記顔料の粒径が、
0.01μm未満の場合には、分散物の感光層塗布液中
での安定性の点で好ましくないことがあり、一方、10
μmを超える場合には、感光層の均一性の点で好ましく
ない。
【0047】前記顔料を分散する方法としては、インク
製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用
できる。前記分散には、超音波分散器、サンドミル、ア
トライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、
インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、
ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等の分散
機が用いられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CM
C出版、1986年刊)に記載されている。
【0048】前記染料としては、市販の染料および文献
(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45
年刊)に記載されている公知のものが挙げられ、例え
ば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。前記顔料、又は染料のう
ち赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料・染料が、赤外
光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点
で、特に好ましい。
【0049】前記赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料
としては、カーボンブラックが好適に用いられる。ま
た、前記赤外光、又は近赤外光を吸収する染料として
は、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−
84356号、特開昭59−202829号、特開昭6
0−78787号等に記載されているシアニン染料、特
開昭58−173696号、特開昭58−181690
号、特開昭58−194595号等に記載されているメ
チン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−
224793号、特開昭59−48187号、特開昭5
9−73996号、特開昭60−52940号、特開昭
60−63744号等に記載されているナフトキノン染
料、特開昭58−112792号等に記載されているス
クワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシ
アニン染料等を挙げることができる。
【0050】また、前記染料としては、米国特許第5,
156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用い
られ、また、米国特許第3,881,924号記載の置
換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭
57−142645号(米国特許第4,327,169
号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−
181051号、同58−220143号、同59−4
1363号、同59−84248号、同59−8424
9号、同59−146063号、同59−146061
号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−
216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,2
83,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩
等や特公平5−13514号、同5−19702号公報
に開示されているピリリウム化合物、Epolight
III−178、EpolightIII−130、Epo
light III−125、EpolightV−176
A等は特に好ましく用いられる。
【0051】また、前記染料として、特に好ましい別の
例として米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料
が挙げられる。前記顔料又は染料の添加量としては、印
刷版材料全固形分に対し0.01〜50重量%が好まし
く、0.1〜10重量%がより好ましい。前記染料の場
合には、0.5〜10重量%が特に好ましく、顔料の場
合には、3.1〜10重量%が特に好ましい。前記顔料
又は染料の添加量が、0.01重量%未満の場合には、
感度が低くなることがある一方、50重量%を超える場
合には、感光層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪
くなることがある。
【0052】前記染料又は顔料は、他の成分と同一の層
に添加してもよいし、別の層に添加してもよい。他の成
分とは別の層に添加する場合には、熱分解性でありかつ
分解しない状態では結着樹脂の溶解性を実質的に低下さ
せる物質を含む層と隣接している層中に添加するのが好
ましい。また、前記染料又は顔料と結着樹脂とは同一の
層中に含まれるのが好ましいが、別の層に含まれていて
もよい。
【0053】[その他の成分]前記感光層には、所望に
より、その他の成分を含有させることができる。前記そ
の他の成分としては、種々の添加剤が挙げられ、そのよ
うな添加剤としては、例えばオニウム塩、o−キノンジ
アジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン
酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態
では(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的
に低下させる物質が挙げられる。前記添加剤を添加すれ
ば、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図ることが
できる。
【0054】前記オニウム塩としてはジアゾニウム塩、
アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、ス
ルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等が挙
げられる。
【0055】前記オニウム塩としては、例えば、S. I.
Schlesinger, Photogr. Sci. Eng.,18, 387(1974)、T.
S. Bal et al, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−
158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許
第4,069,055 号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の
明細書に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et al,
Macromolecules, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, T
eh, Proc. Conf. Rad.Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct
(1988)、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記
載のホスホニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromor
ecules, 10(6),1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov.
28, p31 (1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第33
9,049 号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平
2-296514号に記載のヨードニウム塩、J. V. Crivello e
t al, Polymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et
al. J. Org. Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt eta
l, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1
984) 、J. V. Crivelloet al, Polymer Bull., 14, 279
(1985) 、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14
(5) ,1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer
Sci., PolymerChem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特
許第370,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,
442 号、米国特許第4,933,377 号、同3,902,114 号、同
410,201号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,4
44 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同
3,604,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム
塩、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 10(6), 1
307 (1977)、J. V. Crivelloet al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノ
ニウム塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. C
uring ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニ
ウム塩等が好適に挙げられる。これらの中でも、ジアゾ
ニウム塩が特に好ましく、該ジアゾニウム塩としては、
特開平5−158230号公報に記載のものが好まし
い。
【0056】前記o−キノンジアジド化合物としては、
1以上のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分
解によりアルカリ可溶性を増すものであれば、種々の構
造の化合物が好適に挙げられる。前記o−キノンジアジ
ドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能を失わせる効果
と、o−キノンジアジド自体が、アルカリ可溶性の物質
に変化する効果との双方の効果を有するため、結着剤の
溶解促進剤として作用することができる。
【0057】前記o−キノンジアジド化合物としては、
例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・シス
テムズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第339〜352
頁に記載の化合物が挙げられ、特に、種々の芳香族ポリ
ヒドロキシ化合物又は芳香族アミノ化合物と反応させた
o−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン
酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403 号公報
に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジア
ジドスルホン酸クロライドまたはナフトキノン−(1,
2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロ
ール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,12
0 号および同第3,188,210 号に記載されているベンゾキ
ノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライドまた
はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン
酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂との
エステルも好適に挙げられる。
【0058】さらに、ナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド
−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも同様に好適に挙げられる。その他の
有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特
許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、
特開昭48−63802 号、特開昭48−63803 号、特開昭48−
96575 号、特開昭49−38701 号、特開昭48−13354 号、
特公昭41−11222 号、特公昭45−9610号、特公昭49−17
481 号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、
同第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号などの各明
細書中に記載されているものが挙げられる。これらの化
合物は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用し
てもよい。
【0059】前記o−キノンジアジド化合物の添加量と
しては、印刷版材料全固形分に対して1〜50重量%が
好ましく、5〜30重量%がより好ましく、10〜30
重量%が特に好ましい。
【0060】前記オニウム塩の対イオンとしては、四フ
ッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタ
レンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼ
ンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フ
ルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−
メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼン
スルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げるこ
とができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリ
イソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチル
ベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸
が好適に挙げられる。
【0061】前記o−キノンジアジド化合物以外の添加
剤の添加量としては、1〜50重量%が好ましく、5〜
30重量%がより好ましく、10〜30重量%が特に好
ましい。前記添加剤と結着剤とは、同一層へ含有させる
ことが好ましい。
【0062】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物、フェノール類、有機酸類を添加することもで
きる。前記環状酸無水物としては、米国特許第4,115,12
8 号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−
エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マ
レイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水ピロメリット酸などが挙げられる。前記フェノ
ール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノ
ール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,
4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,
4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,
5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。前記機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平
2−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸
類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、
リン酸エステル類およびカルボン酸類などがあり、具体
的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フ
ェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェ
ニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、ア
ジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。前記環
状酸無水物、フェノール類又は有機酸類の印刷版材料中
に占める割合としては、0.05〜20重量%が好まし
く、0.1〜15重量%がより好ましく、0.1〜10
重量%が特に好ましい。
【0063】前記感光層には、塗布性を向上させるため
に、界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載
のフッ素系界面活性剤等を含有させることができる。該
界面活性剤の含有量としては、前記画像形成材料の0.
01〜1重量%が好ましく、0.05〜0.5重量%が
より好ましい。
【0064】本発明の画像形成材料は、前記各成分を溶
媒に溶解させた後、後述の支持体上に塗布して形成され
る。
【0065】−支持体− 前記支持体としては、寸度的に安定な板状物が好まし
く、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートさ
れた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅
等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしく
は蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が含
まれる。
【0066】前記支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板およ
びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金
板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着
されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合
金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、
マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チ
タンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10重
量%以下である。アルミニウム板としては、純アルミニ
ウムが好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技
術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するも
のでもよい。このように、アルミニウム板は、その組成
が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材の
アルミニウム板を適宜に利用することができる。前記ア
ルミニウム板の厚みとしては、およそ0.1〜0.6m
m程度が好ましく、0.15〜0.4mmがより好まし
く、0.2〜0.3mmが特に好ましい。
【0067】前記アルミニウム板を粗面化するに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば
界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによ
る脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化
処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的
に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する
方法および化学的に表面を選択溶解させる方法により行
われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研
磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を
用いることができる。また、電気化学的な粗面化法とし
ては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行
う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に
開示されているように両者を組み合わせた方法も利用す
ることができる。
【0068】この様に粗面化されたアルミニウム板は、
必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理さ
れた後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるた
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を
形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。
【0069】前記陽極酸化処理の条件としては、用いる
電解質によって異なるため、一概に特定し得ないが、一
般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温が5
〜70℃、電流密度が5〜60A/dm2、電圧が1〜
100V、電解時間が10秒〜5分であるのが好まし
い。前記陽極酸化による、陽極酸化皮膜の量は、1.0
g/m2以上が好ましい。前記陽極酸化皮膜の量が、
1.0g/m2未満の場合には、耐刷性が不十分であっ
たり、平版印刷版として用いた場合には、非画像部に傷
が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着す
るいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなることがある。
【0070】前記陽極酸化処理を施された後、前記アル
ミニウムの表面は、必要により親水化処理が施される。
該親水化処理の方法としては、米国特許第2,714,066
号、同第3,181,461 号、第3,280,734 号および第3,902,
734 号に開示されているようなアルカリ金属シリケート
(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法が挙げられる。こ
の方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で
浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−
22063 号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第3,276,868 号、同第4,153,461 号、同
第4,689,272 号の各明細書に開示されているようなポリ
ビニルホスホン酸で処理する方法などが挙げられる。
【0071】前記溶媒としては、特に制限はなく、公知
の溶媒、例えば、エチレンジクロライド、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、
プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエ
チルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテー
ト、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムア
ミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクト
ン、トルエン等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独
で使用してもよいし、2種以上を混合して用いてもよ
い。
【0072】前記本発明の画像形成材料の各成分(添加
剤を含む全固形分)の前記溶媒中の濃度としては、1〜
50重量%が好ましい。また塗布、乾燥後に得られる支
持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、
感光性印刷版に用いる場合には、一般的に、0.5〜
5.0g/m2が好ましい。
【0073】前記塗布の方法としては、特に制限はな
く、公知の塗布方法、例えば、バーコーター塗布、回転
塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エ
アーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げら
れる。前記塗布の量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、感光層の皮膜特性は低下する。
【0074】本発明の画像形成材料においては、前記支
持体と前記感光層との間に、所望により、下塗層を設け
ることができる。前記下塗層の成分としては、種々の有
機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロ
ース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチル
ホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換
基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホ
ン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチ
レンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有
機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、
ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸
などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホス
フィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン
酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン
酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、および
トリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有
するアミンの塩酸塩等が挙げられる。これらは、1種単
独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0075】前記下塗層は以下のような方法で設けるこ
とができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メ
チルエチルケトン等の有機溶剤もしくはそれらの混合溶
剤に前記有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板
上に塗布、乾燥して設ける方法や、水又はメタノール、
エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしく
はそれらの混合溶剤に前記有機化合物を溶解させた溶液
に、アルミニウム板を浸漬して前記化合物を吸着させ、
その後水などによって洗浄、乾燥して設ける方法等であ
る。
【0076】前者の方法においては、前記有機化合物を
溶解させた溶液中の該有機化合物の濃度は、0.005
〜10重量%が好ましい。また後者の方法においては、
前記有機化合物を溶解させた溶液中の該有機化合物の濃
度は、0.01〜20重量%が好ましく、0.05〜5
重量%がより好ましく、また、前記浸漬の温度は、20
〜90℃が好ましく、25〜50℃がより好ましく、前
記浸漬の時間は、0.1秒〜20分が好ましく、2秒〜
1分がより好ましい。
【0077】前記有機化合物を溶解させた溶液には、ア
ンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩
基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質を含有させ
て、pHを1〜12に調整することもできる。また、画
像形成材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加す
ることもできる。
【0078】有機下塗層の被覆量としては、2〜200
mg/m2が好ましく、5〜100mg/m2がより好ま
しい。前記被覆量が、前記数値範囲外である場合には、
十分な耐刷性能が得られないことがある。
【0079】前記画像形成材料には、現像条件に対する
処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や
特開平3−208514号公報に記載されているような非イオ
ン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13
149 号公報に記載されているような両性界面活性剤を含
有させることができる。
【0080】前記非イオン界面活性剤としては、ソルビ
タントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリ
ド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙
げられる。前記両面活性剤としては、アルキルジ(アミ
ノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシ
ン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テト
ラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモ
ーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。前記
非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の前記画像形成
材料中における含有量としては、0.05〜15重量%
が好ましく、0.1〜5重量%がより好ましい。
【0081】また、前記画像形成材料には、露光による
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を含有させることができる。前
記焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放
出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料
の組合せを代表として挙げることができる。具体的に
は、特開昭50−36209 号、同53−8128号の各公報に記載
されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−
36223 号、同54−74728 号、同60−3626号、同61−1437
48号、同61−151644号および同63−58440 号の各公報に
記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染
料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチ
ル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン
系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な
焼き出し画像を与える。
【0082】前記画像の着色剤としては、前述の塩形成
性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形
成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と
塩基性染料をあげることができる。具体的にはオイルイ
エロー#101、オイルイエロー#103、オイルピン
ク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBO
S、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイ
ルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリ
エント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバ
イオレット(CI42535)、エチルバイオレット、
ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI520
15)などを挙げることができる。また、特開昭62−29
3247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これ
らの染料の含有量としては、前記画像形成材料の全固形
分に対し、0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜
3重量%がより好ましい。更に、前記画像形成材料に
は、必要に応じ、感光層の柔軟性等を付与するために可
塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチ
レングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよび
ポリマー等が用いられる。
【0083】前記画像形成材料は、通常、像露光、現像
処理を施される。前記像露光に用いられる活性光線の光
源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、
キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等
がある。放射線としては、電子線、X線、イオンビー
ム、遠赤外線などがある。またg線、i線、Deep−UV
光、高密度エネルギービーム(レーザービーム)も使用
される。レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレー
ザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウ
ム・カドミウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が
挙げられる。本発明においては、近赤外から赤外領域に
発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レ
ーザが特に好ましい。
【0084】前記現像処理に用いる現像液又は補充液と
しては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用で
きる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無
機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプ
ロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレ
ンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アル
カリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種
単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0085】これらのアルカリ水溶液の中で、ケイ酸ナ
トリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液が特に好
ましい。その理由としては、ケイ酸塩の成分である酸化
珪素SiO2とアルカリ金属酸化物 M2Oとの比率と濃度によ
って現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特
開昭54−62004 号公報、特公昭57−7427号に記載されて
いるようなアルカリ金属ケイ酸塩が好適に挙げられる。
【0086】前記現像が、自動現像機を用いて行われる
場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補
充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タン
ク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を好適に
処理できることができる。
【0087】前記現像液及び補充液には、現像性の促進
や抑制、現像カスの分散又は、印刷版画像部の親インキ
性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や
有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニ
オン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤
が好ましい。更に、前記現像液及び補充液には、必要に
応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸
水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還
元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加
えることができる。
【0088】前記現像液及び補充液を用いて現像処理さ
れた画像形成材料は、水洗水、界面活性剤等を含有する
リンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液
で後処理される。前記画像形成材料を印刷版として使用
する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。
【0089】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【0090】前記画像形成材料を感光性平版印刷版とし
て使用する場合について説明する。まず、前記画像形成
材料を画像露光して、現像した後、水洗及び/又はリン
ス及び/又はガム引きし、得られた平版印刷版に不必要
な画像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡な
ど)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行な
われる。このような消去は、例えば特公平 2−13293 号
公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗
布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗すること
により行なう方法が好ましいが、特開平59−174842号公
報に記載されているようなオプティカルファイバーで導
かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する
方法も利用できる。
【0091】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−
2518号、同55−28062 号、特開昭62−31859 号、同61−
159655号の各公報に記載されているような整面液で処理
することが好ましい。その方法としては、該整面液を浸
み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布
するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して
塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用さ
れる。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキー
ジローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好
ましい結果を与える。
【0092】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が好ましい。整面液が塗布された
平版印刷版は、必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の温度で1〜20分間程度行われるの
が好ましい。
【0093】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来から行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【0094】
【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に何ら限定されるもので
はない。
【0095】[(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂の合
成] <合成例1:(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂1の合成
> −重合性単量体を含む高分子化合物の合成− メタクリロイルオキシエチルイソシアネート15.5g
と、4−アミノ安息香酸15.0gとをジオキサン溶媒
150gに加えて溶解させた後、これを2時間攪拌し
て、下記構成単位を有する2−(N’−(4−カルボキ
シフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート28.0
gを得た。
【0096】
【化4】
【0097】−(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂1の合
成− 得られた2−(N’−(4−カルボキシフェニル)ウレ
イド)エチルメタクリレートと、N−フェニルマレイミ
ド(1以上の重合可能な不飽和結合を有し、かつ尿素結
合を含まない化合物)とを、重量比(2−(N’−(4
−カルボキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレー
ト/N−フェニルマレイミド)が75/25の割合で重
合させ、(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂1(重量平均
分子量(Mw)=15,000)を20g得た。
【0098】<合成例2:(A)アルカリ水溶液可溶性
樹脂2の合成>合成例1の重合性単量体を含む高分子化
合物の合成において、メタクリロイルオキシエチルイソ
シアネートを15.5gとし、4−アミノフェノールを
12.0gとし、ジオキサン溶媒を140gとした外
は、合成例1と同様にして、下記構成単位を有する2−
(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチル
メタクリレート25.0gを得た。
【0099】
【化5】
【0100】次に、合成例1のアルカリ水溶液可溶性樹
脂1の合成において、重合性単量体を含む高分子化合物
として、前記で得られた2−(N’−(4−ヒドロキシ
フェニル)ウレイド)エチルメタクリレートを用いた外
は、合成例1と同様にして、(A)アルカリ水溶液可溶
性樹脂2(重量平均分子量(Mw)=16,000)を
20g得た。
【0101】<合成例3:(A)アルカリ水溶液可溶性
樹脂3の合成>合成例1の(A)アルカリ水溶液可溶性
樹脂1の合成において、尿素結合を含まない化合物とし
て、N−フェニルマレイミド及びメタクリルアミドを用
い、重量比(2−(N’−(4−カルボキシフェニル)
ウレイド)エチルメタクリレート/N−フェニルマレイ
ミド/メタクリルアミド)が75/13/12の割合で
重合させた外は、合成例1と同様にして、(A)アルカ
リ水溶液可溶性樹脂3(重量平均分子量(Mw)=3
4,000)を20g得た。
【0102】<合成例4:(A)アルカリ水溶液可溶性
樹脂4の合成>合成例2の(A)アルカリ水溶液可溶性
樹脂2の合成において、尿素結合を含まない化合物とし
て、メタクリル酸メチル及びメタクリルアミドを用い、
重量比(2−(N’−(4−カルボキシフェニル)ウレ
イド)エチルメタクリレート/メタクリル酸メチル/メ
タクリルアミド)が72/14/14の割合で重合させ
た外は、合成例2と同様にして、(A)アルカリ水溶液
可溶性樹脂4(重量平均分子量(Mw)=68,00
0)を20g得た。
【0103】<合成例5:(A)アルカリ水溶液可溶性
樹脂5の合成>合成例2の(A)アルカリ水溶液可溶性
樹脂2の合成において、尿素結合を含まない化合物とし
て、アクリロニトリル及びメタクリルアミドを用い、重
量比(2−(N’−(4−カルボキシフェニル)ウレイ
ド)エチルメタクリレート/メタクリル酸メチル/メタ
クリルアミド)が65/20/15の割合で重合させた
外は、合成例1と同様にして、(A)アルカリ水溶液可
溶性樹脂5(重量平均分子量(Mw)=45,000)
を20g得た。
【0104】<合成例6:(A)アルカリ水溶液可溶性
樹脂6の合成>イソシアン酸フェニル11.9gと4−
アミノフェノール12.0gとをジオキサン溶媒120
gに加えて溶解させた後、2時間攪拌させて、4−
(N’−フェニルウレイド)フェノール22.0gを得
た。
【0105】得られた4−(N’−フェニルウレイド)
フェノール18.3gと、パラホルムアルデヒド2.4
0gとを、しゅう酸100gに溶解させ、これを攪拌し
た後、100℃に加熱して、下記構造式で表される
(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂6(重量平均分子量
(Mw)=2,000)を20g得た。
【0106】
【化6】
【0107】前記構造式中、nは、1〜15であり、
( )内のPhは、ベンゼン環である。
【0108】[支持体Aの作製]厚み0.3mmのアル
ミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗
浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュの
パミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよ
く洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム
水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さ
らに20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の
砂目立て表面のエッチング量は約3g/m 2であった。
次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/
dm2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗
し、乾燥し、さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を9
0℃で1分乾燥し、下塗り層が設けられた支持体Aを得
た。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg/m2であった。
【0109】 −下塗り液− ・β−アラニン 0.5g ・メタノール 95g ・水 5g
【0110】[支持体Bの作製]厚み0.3mmのアル
ミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗
浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュの
パミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよ
く洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム
水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さ
らに20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の
砂目立て表面のエッチング量は約3g/m 2であった。
次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/
dm2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、珪酸
ナトリウム2.5重量%水溶液で30℃で10秒処理
し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を80℃で15秒間乾
燥し、下塗り層が設けられた支持体Bを得た。乾燥後の
塗膜の被覆量は15mg/m2であった。
【0111】 −下塗り液− ・下記化合物 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g
【0112】
【化7】
【0113】(実施例1)得られた支持体Aに、下記成
分を含む感光液を、塗布量が1.3g/m2となるよう
塗布し、平版印刷版を得た。
【0114】 −感光液− ・下記構造式で表されるフッ素含有ポリマー 0.03g ・合成例1で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性 0.20g 樹脂1 ・m,p−クレゾールノボラック(m,p比=6/ 0.80g 4、重量平均分子量=3,500、未反応クレ ゾール0.5重量%含有) ・p−トルエンスルホン酸 0.003g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g ・下記構造式で表される染料A 0.017g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1− 0.015g ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 ・メガファックF−177(大日本インキ化学工業 0.05g (株)製、フッ素系界面活性剤) ・γ−ブチルラクトン 10g ・メチルエチルケトン 10g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8g
【0115】フッ素含有ポリマー
【化8】
【0116】染料A
【化9】
【0117】−耐刷性の評価− 得られた平版印刷版を、露光器(Trendsethe
r、Creo社製)を用いて、露光(レーザーパワー:
8.0W、回転数:140rpm)し、自動現像機(L
P−900H、富士フイルム(株)製)及び現像液(L
H−DP(1:7.8希釈))を用いて、30℃で、1
2秒間現像処理を行った。その後、前記平版印刷版を、
印刷機(ハイデルKOR−D機)で印刷した。尚、印刷
は、5000枚印刷毎に、クリーナー(プレートクリー
ナーCL−1、富士フイルム(株)製)で、前記平版印
刷版面をふきながら行った。この時の耐刷性を、印刷枚
数によって評価した。尚、前記耐刷性は、目視により判
断を行い、印刷初期の画質を維持し得る、最大印刷枚数
により評価した。前記耐刷性は、通常、50000枚程
度であれば、実用上使用する上で問題ないといえる。結
果を表1に示した。
【0118】(実施例2)実施例1において、合成例1
で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂1の代わり
に、合成例2で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹
脂2を用いた外は、実施例1と同様にして平版印刷版を
作製し、実施例1と同様にして、耐刷性を評価した。結
果を表1に示した。
【0119】(実施例3)実施例1において、合成例1
で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂1の代わり
に、合成例3で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹
脂3を用いた外は、実施例1と同様にして平版印刷版を
作製し、実施例1と同様にして、耐刷性を評価した。結
果を表1に示した。
【0120】(実施例4)実施例1において、合成例1
で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂1の代わり
に、合成例4で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹
脂4を用いた外は、実施例1と同様にして平版印刷版を
作製し、実施例1と同様にして、耐刷性を評価した。結
果を表1に示した。
【0121】(実施例5)実施例1において、合成例1
で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂1の代わり
に、合成例5で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹
脂5を用い、前記構造式で表される染料Aの代わりに、
下記構造式で表される染料Bを用いた外は、実施例1と
同様にして平版印刷版を作製し、実施例1と同様にし
て、耐刷性を評価した。結果を表1に示した。
【0122】染料B
【化10】
【0123】(実施例6)実施例1において、合成例1
で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂1の代わり
に、合成例6で得られた(A)アルカリ水溶液可溶性樹
脂6を用いた外は、実施例1と同様にして平版印刷版を
作製し、実施例1と同様にして、耐刷性を評価した。結
果を表1に示した。
【0124】(実施例7)実施例1において、下塗り層
が設けられた支持体Aの代わりに、下塗り層が設けられ
た支持体Bを用い、合成例1で得られた(A)アルカリ
水溶液可溶性樹脂1の代わりに、合成例3で得られた
(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂3を用い、前記構造式
で表される染料Aの代わりに、前記構造式で表される染
料Bを用いた外は、実施例1と同様にして平版印刷版を
作製し、実施例1と同様にして、耐刷性を評価した。結
果を表1に示した。
【0125】(実施例8)実施例1において、下塗り層
が設けられた支持体Aの代わりに、下塗り層が設けられ
た支持体Bを用い、合成例1で得られた(A)アルカリ
水溶液可溶性樹脂1の代わりに、合成例6で得られた
(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂6を用いた外は、実施
例1と同様にして平版印刷版を作製し、実施例1と同様
にして、耐刷性を評価した。結果を表1に示した。
【0126】(比較例1)実施例1において、合成例1
で得られたアルカリ水溶液可溶性樹脂1の0.20gの
代わりに、m,p−クレゾールノボラックの1.0gを
用いた外は、実施例1と同様にして平版印刷版を作製
し、実施例1と同様にして、耐刷性を評価した。結果を
表1に示した。
【0127】(比較例2)実施例1において、下塗り層
が設けられた支持体Aの代わりに、下塗り層が設けられ
た支持体Bを用い、合成例1で得られたアルカリ水溶液
可溶性樹脂1の0.20gの代わりに、m,p−クレゾ
ールノボラックの1.0gを用いた外は、実施例1と同
様にして平版印刷版を作製し、実施例1と同様にして、
耐刷性を評価した。結果を表1に示した。
【0128】
【表1】
【0129】表1より、本発明の画像形成材料は、クリ
ーナーを繰り返し使用しても、耐刷性に優れるため、耐
薬品性及び耐刷性に優れることがわかる。
【0130】
【発明の効果】本発明によれば、耐薬品性及び耐刷性に
優れるダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型画像形
成材料を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA06 AA07 AA08 AA12 AC08 AD03 CB14 CB15 CB29 CB52 CC20 FA03 FA17 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 EA04 GA08 2H114 AA04 AA15 AA23 BA01 DA04 DA24 DA25 DA26 DA32 DA35 DA49 DA59 DA73 DA78 EA03 GA09 GA34

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に、(A)側鎖に尿素結合を有
    するアルカリ水溶液可溶性樹脂と、(B)光を吸収して
    熱を発生する化合物とを含有してなる感光層を有するこ
    とを特徴とする画像形成材料。
  2. 【請求項2】 前記感光層が、(C)フェノール性水酸
    基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂をさらに含有する
    請求項1に記載の画像形成材料。
JP14328099A 1999-05-24 1999-05-24 画像形成材料 Abandoned JP2000330265A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14328099A JP2000330265A (ja) 1999-05-24 1999-05-24 画像形成材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14328099A JP2000330265A (ja) 1999-05-24 1999-05-24 画像形成材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000330265A true JP2000330265A (ja) 2000-11-30

Family

ID=15335076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14328099A Abandoned JP2000330265A (ja) 1999-05-24 1999-05-24 画像形成材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000330265A (ja)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003051631A1 (en) * 2001-12-13 2003-06-26 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate
US6824947B2 (en) 2002-02-19 2004-11-30 Kodak Polychrome Graphics, Llc Photosensitive composition comprising a phenol resin having a urea bond in the main chain
US6893783B2 (en) 2003-10-08 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Lld Multilayer imageable elements
US6902860B2 (en) 2000-12-29 2005-06-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Two-layer imageable element comprising thermally reversible polymers
US6969579B1 (en) 2004-12-21 2005-11-29 Eastman Kodak Company Solvent resistant imageable element
US6969570B1 (en) 2004-10-26 2005-11-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Solvent resistant imageable element
US7049045B2 (en) 2003-08-14 2006-05-23 Kodak Polychrome Graphics Llc Multilayer imageable elements
US7060416B2 (en) 2004-04-08 2006-06-13 Eastman Kodak Company Positive-working, thermally sensitive imageable element
EP1705004A1 (en) 2005-03-22 2006-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
US7163777B2 (en) 2001-09-07 2007-01-16 Eastman Kodak Company Thermally sensitive imageable element
US7163770B1 (en) 2006-01-23 2007-01-16 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element containing sulfonamido resin
JP2007025354A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Fujifilm Holdings Corp 画像形成材料
US7175967B1 (en) 2006-03-02 2007-02-13 Eastman Kodak Company Heat treatment of multilayer imageable elements
US7223506B1 (en) 2006-03-30 2007-05-29 Eastman Kodak Company Imageable members with improved chemical resistance
US7291440B2 (en) 2005-05-16 2007-11-06 Eastman Kodak Company Bakeable multi-layer imageable element
JP2009255495A (ja) * 2008-03-28 2009-11-05 Fujifilm Corp ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法
US20110271859A1 (en) * 2008-12-24 2011-11-10 Shiyou Li Thermosensitive imaging composition and lithographic plate comprising the same
US8323874B2 (en) 2008-01-22 2012-12-04 Eastman Kodak Company Method of making lithographic printing plates

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6902860B2 (en) 2000-12-29 2005-06-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Two-layer imageable element comprising thermally reversible polymers
US7163777B2 (en) 2001-09-07 2007-01-16 Eastman Kodak Company Thermally sensitive imageable element
CN1309561C (zh) * 2001-12-13 2007-04-11 柯达彩色绘图有限公司 光敏性组合物和光敏性平版印版
WO2003051631A1 (en) * 2001-12-13 2003-06-26 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate
US6824947B2 (en) 2002-02-19 2004-11-30 Kodak Polychrome Graphics, Llc Photosensitive composition comprising a phenol resin having a urea bond in the main chain
US7049045B2 (en) 2003-08-14 2006-05-23 Kodak Polychrome Graphics Llc Multilayer imageable elements
US6893783B2 (en) 2003-10-08 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Lld Multilayer imageable elements
US7060416B2 (en) 2004-04-08 2006-06-13 Eastman Kodak Company Positive-working, thermally sensitive imageable element
US6969570B1 (en) 2004-10-26 2005-11-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Solvent resistant imageable element
US6969579B1 (en) 2004-12-21 2005-11-29 Eastman Kodak Company Solvent resistant imageable element
EP1705004A1 (en) 2005-03-22 2006-09-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
US7291440B2 (en) 2005-05-16 2007-11-06 Eastman Kodak Company Bakeable multi-layer imageable element
JP2007025354A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Fujifilm Holdings Corp 画像形成材料
US7163770B1 (en) 2006-01-23 2007-01-16 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element containing sulfonamido resin
US7241556B1 (en) 2006-01-23 2007-07-10 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element containing sulfonamido resin
US7175967B1 (en) 2006-03-02 2007-02-13 Eastman Kodak Company Heat treatment of multilayer imageable elements
US7223506B1 (en) 2006-03-30 2007-05-29 Eastman Kodak Company Imageable members with improved chemical resistance
US8323874B2 (en) 2008-01-22 2012-12-04 Eastman Kodak Company Method of making lithographic printing plates
JP2009255495A (ja) * 2008-03-28 2009-11-05 Fujifilm Corp ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法
US20110271859A1 (en) * 2008-12-24 2011-11-10 Shiyou Li Thermosensitive imaging composition and lithographic plate comprising the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1225478B1 (en) Photosensitive resin composition
JP3996305B2 (ja) ポジ型平版印刷用材料
JPH1144956A (ja) 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
JPH11288093A (ja) 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
JP2000330265A (ja) 画像形成材料
JP3917318B2 (ja) ポジ型平版印刷用材料
JP3842471B2 (ja) 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
JP4137345B2 (ja) 平版印刷版原版
JP2001042509A (ja) 感光感熱記録材料
JPH11102071A (ja) ネガ型画像記録材料
EP1287984B1 (en) Lithographic printing plate precursor sensitive to infrared laser radiation
JP2003029400A (ja) 画像形成材料
JP2002055446A (ja) 平版印刷版原版
JPH1029292A (ja) ネガ型画像記録材料
JP4098923B2 (ja) 画像記録材料
JP3920451B2 (ja) 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
JP2004061947A (ja) 平版印刷版原版
JP4404792B2 (ja) 平版印刷版原版
JP3853910B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JPH11218903A (ja) ネガ型画像記録材料
JP2000035666A (ja) 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
JP3825178B2 (ja) ポジ型平版印刷用原版
JP3839593B2 (ja) ポジ型平版印刷用材料
JP4041620B2 (ja) 画像記録材料
JP2002062660A (ja) 平版印刷版原版

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060517

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070112

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090106

A762 Written abandonment of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762

Effective date: 20090225