JP2000332380A - 基板乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】次工程ラインが停止状態にある場合でも、乾燥
された基板を装置内でストックできるように構成すると
ともに、機高を低くして保全管理を容易にできる基板乾
燥装置を提供すること。 【解決手段】基板乾燥装置Ｍは、上槽部Ｕ、中槽部Ｃ、
下槽部Ｂを有し、中槽部Ｂには加熱室２１が形成され加
熱室２１を挿通するように乾燥部コンベア５が配置され
ている。乾燥部コンベア５にはハンガ１３に把持され液
状レジストが塗布された基板Ｗが装着されて搬送され
る。上槽部Ｕには基板Ｗが取り外されたハンガ１３を復
帰搬送するリターンコンベア３が配置され、下槽部Ｂに
は次工程ラインが停止中の場合に乾燥終了した基板Ｗを
ストックするためのバッファコンベア７と加熱室２１に
熱風を送風するヒータ２２が配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、エッチング工程
やマスキング工程時にプリント配線板に塗布される液状
レジストを乾燥する基板乾燥装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、プリント配線板（以下、基板と
いう）は、絶縁板の表面に銅箔等を接着して電気導体を
形成し、回路設計に基づいて電子部品や回路部品を相互
接続する電気配線を配線図形に表したものであり、その
製法の一つは、例えば、絶縁板の表面に接着した銅箔上
に配線図形を印刷して、エッチングやマスキング等で不
要の銅箔部を溶かして除去し必要なパターンを残すよう
にして行なわれている。このエッチングやマスキングを
行なう際には液状のレジストが塗布される。液状レジス
トにはエッチング用レジストとソルダマスク用レジスト
があり、どちらも基板塗布後、仮乾燥（セミキュア）と
本乾燥（ポストキュア）の工程を経て乾かすようにして
いる。乾燥工程は、一般的には液状レジストが塗布され
た基板を乾燥炉の中で搬送することによって行なわれ、
乾燥温度と搬送時間とによって管理される。乾燥炉内を
搬送した基板は、高温での基板のそりを防止するため
に、乾燥終了後には速やかに次工程に搬送されることが
望ましい。

【０００３】従来の基板乾燥装置は、基板を投入する投
入部と、基板を搬送し搬送中の基板を加熱装置で乾燥す
る乾燥炉と、乾燥炉から取り出された基板を次工程に搬
出する搬出部と、を有して構成されていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの基板
は各種の工程を経て製造されるため一般的にライン化さ
れた中で製造される。長い製造工程の間には何らかの原
因でラインを停止することがあり、例えば、次工程で何
らかのトラブルが生じてラインが停止される場合、乾燥
終了した基板を搬出部に載置したままにはできないた
め、従来の基板乾燥装置では、人手を使って一旦搬出部
の近辺に設置したラックに仮置きをしている。そのた
め、ラインが正常に復帰したときには再び基板を搬出部
に移し替えるという作業を行なわなければならず、人手
がかかるため製造コストのアップにつながっていた。ま
た、従来の基板乾燥機は加熱装置が搬送中の基板の上部
に設置され、基板の上方から下方に向かって熱風を吹き
出していたため、塵や埃が底部にたまりやすく基板に付
着しやすい。しかも、加熱装置が乾燥装置の上部に配置
されるため乾燥装置の高さが大きくなり保守点検する作
業が困難になる。

【０００５】この発明は、上述の課題を解決するもので
あり、次工程ラインの停止時に基板のラックへの移し替
え作業をなくして省人化を図り、しかも装置全体を低く
構成して保守点検を容易に行なうことのできる基板乾燥
装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明にかかわる基板
乾燥装置では、上記の課題を解決するために、以下のよ
うに構成するものである。即ち、上槽部、中槽部、下槽
部を有して構成され、前記中槽部には、加熱室が形成さ
れるとともに、前記加熱室を挿通するように液状レジス
トが塗布され保持部材に保持された基板を搬送する乾燥
部コンベアが配設され、前記上槽部には、前記基板が取
り外された保持部材を復帰するためのリターンコンベア
が配設され、前記下槽部には、加熱室を加熱するための
加熱手段及び乾燥された前記基板をストックするための
バッファコンベアとが配設されていることを特徴とする
ものである。

【０００７】好ましくは、前記加熱室には、前記加熱手
段から接続される吹き出しダクトが配設され、前記吹き
出しダクトには、吹き出し口に空気を整流する吹き出し
ガイドが配設されることを特徴とするものであればよ
い。

【０００８】また、この基板乾燥装置は、液状レジスト
が塗布された基板を乾燥するためのものであって、前記
基板を搬送する投入コンベアと、投入コンベアに投入さ
れた前記基板を垂直方向に展開する垂直展開手段と、垂
直展開された前記基板を保持して懸吊する懸吊手段と、
前記基板を装着して搬送するコンベア手段と、前記コン
ベア手段で搬送される前記基板を加熱する加熱手段と、
加熱された前記基板を冷却する冷却手段と、前記コンベ
ア手段から前記基板を取り出す取出手段と、取り出され
た前記基板を水平方向に展開する水平展開手段と、水平
展開された前記基板を搬出する搬出手段と、前記コンベ
ア手段から取り出された前記基板を次工程ラインの停止
中にストックするストッカ手段と、前記基板を前記スト
ッカ手段に搬送する移送手段と、を有して構成されるこ
とを特徴とするものである。

【０００９】また、前記乾燥手段が、前記コンベア手段
の下方に配置されるヒータを有することを特徴とするも
のであればよい。

【００１０】さらに、前記ストッカ手段が、前記コンベ
ア手段の下方に配置されるバッファコンベアで構成され
ていることを特徴とするものであればなおよい。

【００１１】さらに好ましくは、前記懸吊手段が、前記
基板の上部を把持する把持部と前記コンベア手段に支持
される支持部とを有する単一の保持部材と、前記保持部
材を前記垂直展開手段に保持された基板に向かって移動
するとともに前記基板が保持された前記保持部材を前記
コンベア手段に装着する移動手段と、を有することを特
徴とするものであればよい。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面に基づいて説明する。本形態の基板乾燥装置Ｍは、
図１〜２に示すように、液状レジストが塗布されたプリ
ント配線板（以下、基板という）Ｗを搬送して乾燥する
ために、基板Ｗの搬送方向に沿って供給部１０、加熱部
２０、冷却部３０、取出部４０を有して構成されるとと
もに、長尺状に形成された機枠１で囲まれている。この
基板乾燥装置Ｍは、仮乾燥工程及び本乾燥工程において
略同様に構成される。ただし本乾燥工程では、仮乾燥工
程より加熱時間を長くするために加熱部２０を構成する
加熱室２１を複数有して加熱部２０自体を長くするよう
に形成されている。

【００１３】供給部１０は、水平状態で載置された基板
Ｗを搬送する投入コンベア１１と、一端が機枠１に軸支
されて揺動可能に配置されるとともに投入コンベア１１
上の基板Ｗの一端を保持して垂直状態に展開する基板立
てアーム１２と、立直された基板Ｗを保持する保持部材
（以下、ハンガという）１３を着脱可能に備え、ハンガ
１３を上方から基板Ｗに向かって移送して保持した後に
上方に懸吊する装着側移載機１７と、を有して構成され
ている。基板立てアーム１２は、本形態では例えば、図
３〜４に示すように、基板Ｗを支持する複数のロッド１
２ａが軸支部１２ｂに回動可能に配置されて形成される
とともに、少なくとも２個のロッド１２ａの先端部に
は、基板Ｗの一端を把持する爪部１２ｃがシリンダ等に
よって作動されるように配置されている。そして、移送
された基板Ｗを爪部１２ａで把持するとモータあるいは
シリンダ等により軸支部１２ｂを中心に回転され水平状
態の基板Ｗを垂直状態に展開する。

【００１４】ハンガ１３は、本形態では例えば、図５〜
７に示すように、基板Ｗの上部おもて面と裏面を把持す
る少なくとも２個の把持部１４と、把持部１４を固着す
る長尺プレート状の支持部１５と、を有し、装着側移載
機１７に保持搬送されて基板Ｗを把持部１４で把持した
後乾燥部コンベア５まで搬送される。把持部１４は、支
点部１４ａを中心に回動する把持レバー１４ｂと支持部
１５に固着される受け板１４ｃとを有して、把持レバー
１４ｂの回動によって基板Ｗを把持するように構成さ
れ、支持部１５は装着側移載機１７によって保持される
とともに乾燥部コンベア５上で係合可能に形成されてい
る。

【００１５】装着側移載機１７は、水平方向に移動する
水平移動板１８と水平移動板１８に対して上下方向に移
動する上下移動板１９とを有し、上下移動板１９にはシ
リンダ１９１に作動されハンガ１３の支持部１５を把持
するクランパ１９２と、シリンダ１９３に作動され把持
部１４の把持レバー１４ｂ揺動するクランパ１９４とが
各２個づつ装着されている。水平移動板１８は機枠１に
取り付けられたシリンダ１８１（図１参照）によって移
動され、上下移動板は１９水平移動板１８に取り付けら
れたシリンダ１８２（図１参照）によって移動される。

【００１６】加熱部２０及び冷却部３０には、上槽部
Ｕ、中槽部Ｃ、下槽部Ｂが形成され、上槽部Ｕには基板
Ｗを取り外したハンガ１３を装着させて復帰する方向に
移動するリターンコンベア３が配置され、中槽部Ｃには
加熱室２１及び加熱室２１の前方（図中、左方）に設け
られる冷却室３１が形成されるとともに加熱室２１及び
冷却室３１内を挿通する乾燥部コンベア５が配置されて
いる。そして、下槽部Ｂには加熱室２１の下方に、加熱
室２１に熱風を送風するヒータ２２が配置されるととも
に搬出側には乾燥された基板Ｗを一時的にストックする
バッファコンベア７が配置されている。

【００１７】さらに詳細に説明すると、リターンコンベ
ア３、乾燥部コンベア５、バッファコンベア７の一形態
の構成は、図８〜９に示すように、ハンガ１３の支持部
１５の両端部を支持するハンガガイド２５と、ハンガガ
イド２５を装着しエンドレス状に形成されるロープまた
はベルトあるいはチェーン等の可撓性部材２６と、可撓
性部材２６の両端部で可撓性部材２６を巻回するローラ
２７と、を有して構成され、ローラ２７をモータで駆動
することによってハンガガイド２５に係合されたハンガ
１３を搬送する。ハンガガイド２５はＬ字形に形成され
たガイド部２５ａをハンガの板圧分の隙間２５ｂを有し
て連続的に並設され、隙間２５ｂにハンガ１３の支持部
１５を係合することによってハンガ１３が支持される。

【００１８】また、加熱室２１内にはヒータ２２から接
続される吹き出しダクト２３が下部に配置され、吹き出
しダクト２３に対向するように加熱室２１の上部には吸
い込みダクト２４が配置されている。吹き出しダクト２
３には、図１０に示すように、複数個の吹き出し口２３
ａが並設するように形成され、各吹き出し口２３ａに吹
き出しガイド２３ｂが内方に向かって配置されている。
そのため、ヒータ２２から送風される熱風は吹き出しガ
イド２３ｂから搬送中の基板Ｗ間を直線方向に向かって
吹きつけることになり、乱流を防止できて基板Ｗの乾き
を向上させることができる。なお、ヒータ２２は１個で
も２個以上でもよく吹き出しダクト２３及び吸い込みダ
クト２４は１個のヒータ２２に対応して設けられる。そ
して、仮乾燥工程に設置される基板乾燥装置Ｍの場合で
はヒータ２２は１個あるいは２個でよく、本乾燥工程で
は、加熱室２１を２室に設けてそれぞれヒータ２２を１
個または２個設けるようにしてもよい。

【００１９】さらに、加熱室２１の正面側（図２中、下
方側）には吹き出しダクト２３（吸い込みダクト２４）
に沿って保全用扉２が開閉可能に取付けられている。

【００２０】冷却室３１に冷風を送風する冷水クーラ３
２は、冷却室３１の側部に配置され吹き出しダクト３３
から冷風を供給して加熱された基板Ｗを冷却する。冷却
室３１の下方には下槽部Ｂ内に設置されるバッファコン
ベア７が位置されている。

【００２１】乾燥部コンベア５の一端は加熱室２１の搬
入側に形成された開口部２１ａを挿通して供給部１０内
に突出され、乾燥部コンベア５の他端は冷却室３１の搬
出側に形成された開口部３１ａを挿通して取出部４０に
突出するように形成されている。また、リターンコンベ
ア３も乾燥部コンベア５に沿って配置されている。そし
て、乾燥部コンベア５から取り出されたハンガ１３は基
板Ｗを搬出側に送った後、上槽部Ｕのリターンコンベア
３に新たに支持される。

【００２２】取出部４０は、上部に乾燥部コンベア５の
搬出側端部から基板Ｗを把持したハンガ１３を取り出し
て下方あるいは左方に移送する取出側移載機４１と、直
立した基板Ｗを水平状態に展開する基板倒しアーム４２
と、水平状の基板Ｗを次工程に搬送する搬出コンベア４
３と、次工程の停止時にハンガ１３に支持された基板Ｗ
をハンガ１３ごと一旦仮置きしてバッファコンベア７に
搬送するバッファ受け台４４と、を有して構成されてい
る。

【００２３】取出側移載機４１は、供給部１０に配置さ
れる装着側移載機１７と略同様に構成され、ハンガ１３
に支持された基板Ｗを基板倒しアーム４２に装着した後
にハンガ１３だけをリターンコンベア３に装着するかあ
るいは基板Ｗを支持するハンガ１３ごとバッファコンベ
ア７に装着する。また、基板倒しアーム４２は、基板立
てアーム１２と略同様に構成されてモータあるいはシリ
ンダにより軸支部を中心に回動可能に構成され、バッフ
ァ受け台４４は、上部にハンガ１３の支持部１５を係止
する係止部４４ａが形成されるとともに上下方向に移動
可能に配置され、ハンガ１３に把持された基板Ｗを支持
した状態で下方に移動すると、バッファコンベア７の一
端にハンガ１３の支持部１５ｂが装着できるように配置
されている。

【００２４】次に、上記のように構成された基板乾燥装
置Ｍの作用について説明する。

【００２５】基板乾燥装置Ｍの各動作は供給部１０の裏
側（図２中、上側）に装着された制御ボックス８によっ
て行なわれ、供給部１０の搬入側サイドに取付けられた
操作ボックス９によって起動される。

【００２６】前工程で液状レジストが塗布された基板Ｗ
が水平状態で投入コンベア１１に搬入されると、基板Ｗ
の下方に水平状に位置されている基板立てアーム１２が
基板Ｗの一端を把持した後、加熱室２１に向かって垂直
方向に回転展開される。基板Ｗが基板立てアーム１２に
よって垂直状態に配置されると、装着側移載機１７の上
下移動板１９が基板Ｗに向かって下降される。この際、
装着側移載機１７はリターンコンベア３上に載置されて
いる１個のハンガ１３を取り出して装着側移載機１７の
上下移動板１９に装着させた状態にある。上下移動板１
９の下降により、ハンガ１３の把持部１４は基板Ｗの上
部を２か所で把持する。把持したことが確認されると、
上下移動板１９が上昇され、水平移動板１８とともにシ
リンダ１８１によって乾燥部コンベア５のハンガガイド
２５にハンガ１３の支持部１５を係合させるために前進
する。基板Ｗを保持したハンガ１３が乾燥部コンベア５
のハンガガイド２５上に装着されると、装着側移載機１
７は元の位置に復帰し基板立てアーム１２は投入コンベ
ア１１の直下に位置するように水平方向に回転展開され
る。

【００２７】乾燥部コンベア５上に装着された基板Ｗ
は、乾燥部コンベア５のローラ２７の間欠的な回転によ
り搬出側に向かって小ピッチで搬送される。この間、次
の基板Ｗが投入コンベア１１上に搬入され、前述と同様
の作用で乾燥部コンベア５上に装着される。乾燥部コン
ベア５の一端は加熱室２１より外方に突出しているた
め、所定の距離を搬送した基板Ｗはしばらくして加熱室
２１内に搬入される。そして前述と同様の作用で次々と
基板Ｗが加熱室２１に搬入されて加熱される。

【００２８】加熱室２１では、下槽部Ｂに配置されたヒ
ータ２２の作動によって熱風が吹き出しダクト２３の吹
き出しガイド２３ｂを通って室内に流入され高温に維持
されている。前述のように、仮乾燥工程においては、基
板Ｗは１室の加熱室２１を通過し、本乾燥工程において
は、基板Ｗは２室あるいは２室以上の加熱室２１を通過
することになる。

【００２９】加熱室２１を通過した基板Ｗは冷却室３１
に搬入される。冷却室３１では加熱されて乾燥された基
板Ｗを冷水クーラ３２の作動により冷却して搬出側に向
かって搬送する。冷却室３１を通過した基板Ｗは、冷却
室３１から取出部４０側に突出した乾燥部コンベア５の
端部に移動される。

【００３０】最前進位置にある基板Ｗが取り出し位置に
達すると、取出側移載機４１の上下移動板が下降され基
板Ｗを把持しているハンガ１３の支持部１５を持ち上げ
乾燥部コンベア５から取り出す。この際、次工程ライン
の停止状態が制御ボックス８に入力されている。次工程
ラインが正常に作動している場合には、取出側移載機４
１は垂直状態に展開されている基板倒しアーム４２に基
板Ｗだけを装着して、ハンガ１３を上槽部Ｕに配置され
ているリターンコンベア３のハンガガイド２５に装着す
る。基板Ｗが装着された基板倒しアーム４２は水平状態
になるように回転展開されて基板Ｗを搬出コンベア４３
上に載置させる。そして、搬出コンベア４３は基板Ｗを
次工程に搬送する。一方、取出側移載機４１は次の基板
Ｗを取り出すために乾燥部コンベア５の取り出し位置に
ある基板Ｗのハンガ１３を取り出すように作動され、リ
ターンコンベア３のハンガガイド２５に装着されたハン
ガ１３はローラ２７の作動により大ピッチで供給部１０
側に搬送される。

【００３１】次工程ラインに異常が入力されて停止状態
にある場合には、基板Ｗを把持しているハンガ１３をバ
ッファ受け台４４の係止部４４ａに係止させ、再び次の
基板Ｗを取り出すために次の基板Ｗの位置に移動する。
バッファ受け台４４は基板Ｗを装着した状態で下降さ
れ、バッファコンベア７に基板Ｗを把持したハンガ１３
を装着する。そしてバッファ受け台４４は元の位置に復
帰し、バッファコンベア７では基板Ｗを小ピッチで乾燥
部コンベア５の搬送方向と逆の方向に向かって搬送す
る。

【００３２】バッファコンベア７に基板Ｗがストックさ
れた状態で、次工程ラインが正常状態に復帰されると、
バッファ受け台４４が、バッファコンベア７に装着され
た基板Ｗをハンガ１３ごと取り出し、取出側移載機４１
との受け渡し位置に移動する。そして取出側移載機４１
がバッファ受け台４４の基板Ｗを取り出し、基板Ｗだけ
を基板倒しアーム４２に装着してハンガ１３をリターン
コンベア３に装着する。この間バッファ受け台４４はバ
ッファコンベア７から次の基板Ｗを取り出すために移動
する。そしてこれが繰り返される。

【００３３】上述のように基板乾燥装置Ｍは、次工程ラ
インが停止状態であっても人手を使わずに、基板Ｗを装
置内にストックできる。

【００３４】なお、上記形態の基板乾燥装置Ｍは一形態
を示すものであり、各部位の構成や形状は上記形態に限
るものではない。例えば、ハンガは基板の上端部を把持
できるものであれば板ばね状の把持部を有するものでも
よく、また、基板立てアームや基板倒しアームは、基板
の端部を保持できる保持部を有していれば板ばねで挟持
するようにしてもよい。さらに各コンベアは基板の長尺
状の支持部を保持して搬送できるように構成されていれ
ばその構成や形状にこだわるものではない。

【００３５】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、請求項１
の基板乾燥装置は、上槽部、中槽部、下槽部を有して構
成され、前記中槽部には、加熱室が形成されるととも
に、前記加熱室を挿通するように液状レジストが塗布さ
れ保持部材に保持された基板を搬送する乾燥部コンベア
が配設され、前記上槽部には、前記基板が取り外された
保持部材を復帰するためのリターンコンベアが配設さ
れ、前記下槽部には、加熱室を加熱するための加熱手段
及び乾燥された前記基板をストックするためのバッファ
コンベアとが配設されている。次工程ラインに異常が発
生してラインが停止される場合には、乾燥された基板は
一時的にバッファコンベアに搬送されてストックされる
ため、従来のように、人手を使って基板をラックに移し
替えるという作業をしなくてもよく省人化を達成するこ
とができる。しかも、基板を加熱する加熱手段が下槽部
に配置されているため装置全体の高さを低くすることが
でき保全管理を容易に行なうことができる。

【００３６】請求項２の基板乾燥装置は、前記加熱室に
は、前記加熱手段から接続される吹き出しダクトが配設
され、前記吹き出しダクトには、吹き出し口に空気を整
流する吹き出しガイドが配設されている。そのため、吹
き出しダクトから吹き出される熱風は、直線的に方向づ
けられて均一に流れるので乱流を防止でき基板の乾燥状
態を均一にして向上させることができる。

【００３７】請求項３の基板乾燥装置は、液状レジスト
が塗布された基板を乾燥するためのものであって、前記
基板を搬送する投入コンベアと、投入コンベアに投入さ
れた前記基板を垂直方向に展開する垂直展開手段と、垂
直展開された前記基板を保持して懸吊する懸吊手段と、
前記基板を装着して搬送するコンベア手段と、前記コン
ベア手段で搬送される前記基板を加熱する加熱手段と、
加熱された前記基板を冷却する冷却手段と、前記コンベ
ア手段から前記基板を取り出す取出手段と、取り出され
た前記基板を水平方向に展開する水平展開手段と、水平
展開された前記基板を搬出する搬出手段と、前記コンベ
ア手段から取り出された前記基板を次工程ラインの停止
中にストックするストッカ手段と、前記基板を前記スト
ッカ手段に搬送する移送手段と、を有して構成されてい
る。

【００３８】液状レジストが塗布された基板は投入コン
ベアから垂直方向に展開され、コンベア手段で搬送する
間に加熱手段で加熱されて乾燥される。乾燥された基板
はコンベア手段から取り出された後、次工程ラインの停
止有無状態によって、搬出手段に搬送されるか装置内で
ストックされる。従って次工程ラインが停止状態にある
場合でも、従来のように人手による作業を必要としない
ため、省人化を達成することができ、製造コストを低減
することができる。

【００３９】請求項４の基板乾燥装置は、前記加熱手段
が、前記コンベア手段の下方に配置されるヒータを有し
ているので、装置全体の高さを低くすることができ加熱
手段の保全管理を容易な作業で行なうことができる。

【００４０】請求項５の基板乾燥装置は、前記ストッカ
手段が、前記コンベア手段の下方に配置されるバッファ
コンベアで構成されているので、装置全体の高さを低く
することができるとともに、バッファコンベアの保全管
理を容易に行なうことができる。

【００４１】請求項６の基板乾燥装置は、前記懸吊手段
が、前記基板の上部を把持する把持部と前記コンベア手
段に支持される支持部とを有する単一の保持部材と、前
記保持部材を前記垂直展開手段に保持された基板に向か
って移動するとともに前記基板が保持された前記保持部
材を前記コンベア手段に装着する移動手段と、を有する
ため、基板を損傷させることなく容易にコンベア手段に
装着することができるとともに、コンベア手段での搬送
時に各基板が密着することを防止できるので確実に乾燥
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一形態を示す基板乾燥装置の簡略正面
断面図

【図２】図１における平面図

【図３】図１における一形態の基板立てアームを示す平
面図

【図４】図３における正面図

【図５】図１における一形態のハンガの正面を示す簡略
図

【図６】図５におけるVI−VI断面図

【図７】図５におけるVII −VII 断面図

【図８】図１におけるコンベアの一形態を示す簡略正面
図

【図９】図８におけるハンガガイドを示す一部拡大図

【図１０】図１における吹き出しダクトを示す簡略断面
図

【符号の説明】

Ｍ…基板乾燥装置 Ｗ…基板 Ｕ…上槽部 Ｃ…中槽部 Ｂ…下槽部 １…機枠 ３…リターンコンベア ５…乾燥部コンベア（コンベア手段） ７…バッファコンベア（ストッカ手段） １０…供給部 １１…投入コンベア １２…基板立てアーム（垂直展開手段） １３…ハンガ（懸吊手段及び保持部材） １７…装着側移載機（懸吊手段及び移動手段） ２０…加熱部 ２１…加熱室 ２２…ヒータ（加熱手段） ２３…吹き出しダクト ２３ａ…吹き出し口 ２３ｂ…吹き出しガイド ３０…冷却部 ３１…冷却室 ３２…冷水クーラ（冷却手段） ４０…取出部 ４１…取出側移載機（取出手段） ４２…基板倒しアーム（水平展開手段） ４３…搬出コンベア（搬出手段） ４４…バッファ受け台（移送手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小木曽 正敏 愛知県名古屋市守山区大字中志段味字南原 2646番地 新栄機工株式会社内 Ｆターム(参考） 3L113 AA02 AB02 AC01 AC21 AC31 AC35 AC45 AC46 AC48 AC49 AC52 AC55 AC57 AC63 AC75 AC76 AC79 BA34 DA06 DA07 DA08 DA14 DA15 DA22 4F042 AA02 DB01 DB17 DB36 DB37 DB39 5E314 AA24 BB05 BB11 BB12 CC01 DD05 EE10 FF01 GG24 5E339 CD01 CE12 CE19 EE04 EE05 GG10

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上槽部、中槽部、下槽部を有して構成さ
   れ、 前記中槽部には、加熱室が形成されるとともに、前記加
   熱室を挿通するように液状レジストが塗布され保持部材
   に保持された基板を搬送する乾燥部コンベアが配設さ
   れ、 前記上槽部には、前記基板が取り外された保持部材を復
   帰するためのリターンコンベアが配設され、 前記下槽部には、加熱室を加熱するための加熱手段及び
   乾燥された前記基板をストックするためのバッファコン
   ベアとが配設されていることを特徴とする基板乾燥装
   置。
2. 【請求項２】 前記加熱室には、前記加熱手段から接続
   される吹き出しダクトが配設され、前記吹き出しダクト
   には、吹き出し口に空気を整流する吹き出しガイドが配
   設されることを特徴とする請求項１記載の基板乾燥装
   置。
3. 【請求項３】 液状レジストが塗布された基板を乾燥す
   るための基板乾燥装置であって、 前記基板を搬送する投入コンベアと、 投入コンベアに投入された前記基板を垂直方向に展開す
   る垂直展開手段と、 垂直展開された前記基板を保持して懸吊する懸吊手段
   と、 前記基板を装着して搬送するコンベア手段と、 前記コンベア手段で搬送される前記基板を加熱する加熱
   手段と、 加熱された前記基板を冷却する冷却手段と、 前記コンベア手段から前記基板を取り出す取出手段と、 取り出された前記基板を水平方向に展開する水平展開手
   段と、 水平展開された前記基板を搬出する搬出手段と、 前記コンベア手段から取り出された前記基板を次工程ラ
   インの停止中にストックするストッカ手段と、 前記基板を前記ストッカ手段に搬送する移送手段と、を
   有して構成されることを特徴とする基板乾燥装置。
4. 【請求項４】 前記加熱手段が、前記コンベア手段の下
   方に配置されるヒータを有することを特徴とする請求項
   ３記載の基板乾燥装置。
5. 【請求項５】 前記ストッカ手段が、前記コンベア手段
   の下方に配置されるバッファコンベアで構成されている
   ことを特徴とする請求項３記載の基板乾燥装置。
6. 【請求項６】 前記懸吊手段が、前記基板の上部を把持
   する把持部と前記コンベア手段に支持される支持部とを
   有する単一の保持部材と、前記保持部材を前記垂直展開
   手段に保持された基板に向かって移動するとともに前記
   基板が保持された前記保持部材を前記コンベア手段に装
   着する移動手段と、を有することを特徴とする請求項３
   記載の基板乾燥装置。