JP2000334833A - Embossed cosmetic material - Google Patents
Embossed cosmetic materialInfo
- Publication number
- JP2000334833A JP2000334833A JP15142499A JP15142499A JP2000334833A JP 2000334833 A JP2000334833 A JP 2000334833A JP 15142499 A JP15142499 A JP 15142499A JP 15142499 A JP15142499 A JP 15142499A JP 2000334833 A JP2000334833 A JP 2000334833A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- convex
- pattern
- embossed
- decorative material
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Printing Methods (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光沢幅があり、且つ耐汚染性、耐スクラッチ
性のある化粧材を提供する。
【解決手段】 基材表面に、微小な凹凸形状を有する化
粧材であって、該凹凸形状が、曲面による連続的な高低
変化をもって互いに連接し合う凸部と凹部とからなり、
前記凸部を、複数の異なる径を有し、且つランダムに密
集して配列した平面パターンから形成される個々に独立
する凸状素子Tを累積させて形成する。
(57) [Problem] To provide a decorative material having a glossy width, and having stain resistance and scratch resistance. SOLUTION: This decorative material has a fine uneven shape on the surface of a base material, and the uneven shape is composed of a convex portion and a concave portion which are connected to each other with a continuous change in height by a curved surface,
The convex portions are formed by accumulating a plurality of individual convex elements T each having a plurality of different diameters and formed from a randomly densely arranged planar pattern.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、最適な光沢面と耐
汚染性、耐スクラッチ性を有するエンボス化粧材に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an embossed decorative material having an optimum glossy surface, stain resistance and scratch resistance.
【0002】[0002]
【従来の技術】内装材、家具等の化粧材には質感、高級
感、意匠性を高めるためにプラスチック仕上げ面の光沢
を制御した製品が多用されている。従来の、ポリ塩化ビ
ニルあるいはポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂層
を表面に有する化粧シートあるいはそれを貼り合わせた
化粧材が最終的に有する表面光沢を制御するには、微細
な凹凸形状のあるエンボス版によって凹凸形状を賦型す
ることが一般に行われている。このエンボス版における
凹凸形状の形成には、サンドブラスト法、マットクロム
メッキ法、グラビア印刷シリンダー彫刻機によって彫刻
する方法、マットOP法等がこれまで使用されてきてい
るがいずれも一長一短があるので、特開平10−287
099号公報では、サイズが異なり、ランダムに配列し
ている網点パターンをエンボスシリンダー面のレジスト
膜に焼き付けて腐食を行うフォトエッチング法を複数回
行ったエンボス版による賦型により、凸状素子が単体
で、あるいは重なって形成された最適な光沢を有し、し
かも、耐汚染性耐、スクラッチ性に優れたエンボス化粧
シートおよびそれを貼り合わせた化粧材(ドア)が提案
されている。2. Description of the Related Art For decorative materials such as interior materials and furniture, products in which the gloss of a plastic finished surface is controlled are frequently used in order to enhance texture, luxury, and design. In order to control the final surface gloss of a conventional decorative sheet having a thermoplastic resin layer such as polyvinyl chloride or polyolefin resin on the surface or a decorative material laminated with the same, embossing with fine irregularities is required. It is a common practice to form a concavo-convex shape using a plate. Sand blasting, matte chrome plating, engraving with a gravure printing cylinder engraving machine, matte OP method, etc. have been used to form the concavo-convex shape on this embossing plate, but all have their advantages and disadvantages. Kaihei 10-287
In Japanese Patent No. 099, a convex element is formed by embossing a plurality of times by performing a photoetching method in which a halftone dot pattern having a different size and randomly arranged is baked on a resist film on the surface of an embossed cylinder to perform corrosion, and the pattern is formed. There has been proposed an embossed decorative sheet having an optimum luster formed alone or overlapping, and having excellent stain resistance and scratch resistance, and a decorative material (door) obtained by laminating the embossed decorative sheet.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】特開平10−2870
99号公報に提案されているエンボス化粧シートの表面
は、全面あるいは各部に適切な光沢を持たせることがで
き、耐スクラッチ性、耐汚染性の点で従来のものに較べ
て改良はされている。しかるに、凸部は凸状素子の単体
若しくは凸状素子が重なって形成された集合体からなる
が、凸部同士の間には平坦面が残り、まだ完全な無光沢
状態には達していないという問題がある。従って、光沢
制御範囲はまだ狭く、艶消し表現が十分に行われていな
いという問題がある。さらに、凸部同士の間には切り込
まれた谷部あるいは水平面と曲面の交差線等が残り、凹
凸断面が連続的でないために、耐汚染性、耐スクラッチ
性はまだ完全に解決されていないという問題がある。本
発明は前記の問題点に鑑みてなされたもので、本発明
は、化粧材の各部に最適な低光沢(艶消し)を持たせる
ことによって意匠性を高め、且つより優れた耐スクラッ
チ性、耐汚染性を有する化粧材の提供を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-2870
The surface of the embossed decorative sheet proposed in Japanese Patent Publication No. 99 can be provided with an appropriate gloss on the whole surface or each part, and is improved as compared with the conventional one in terms of scratch resistance and stain resistance. . However, the convex portion is composed of a single convex element or an aggregate formed by overlapping convex elements, but a flat surface remains between the convex portions, and it has not yet reached a completely matte state. There's a problem. Therefore, there is a problem that the gloss control range is still narrow and the matte expression is not sufficiently performed. Furthermore, a cut-out valley or an intersection line between a horizontal plane and a curved surface remains between the projections, and the concavo-convex cross section is not continuous, so contamination resistance and scratch resistance have not yet been completely solved. There is a problem. The present invention has been made in view of the above problems, and the present invention enhances the design by giving each part of the decorative material an optimal low gloss (matte), and has a more excellent scratch resistance. It is intended to provide a cosmetic material having stain resistance.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
になされた本発明は、基材表面に微小な凹凸形状を有す
る化粧材であって、該凹凸形状が、曲面による連続的な
高低変化をもって互いに連接し合う凸部と凹部とからな
り、少なくとも一部分の前記凸部が、複数種類の異なる
径を有し、且つランダムに密集して配列した平面パター
ンから形成された個々に独立する凸状素子の平面内配列
によって形成されてなることを特徴とするものである。
さらに、前記凸部に、前記凸状素子とは別の平面パター
ンから形成された凸部を累積させることができる。Means for Solving the Problems The present invention has been made to solve the above problems, and is a decorative material having fine irregularities on the surface of a substrate, wherein the irregularities have a continuous change in height due to a curved surface. A convex portion and a concave portion which are connected to each other with at least a part of the convex portions having a plurality of different diameters, and individually independent convex shapes formed from a randomly densely arranged planar pattern. It is characterized by being formed by an in-plane arrangement of elements.
Further, it is possible to accumulate the convex portions formed from a different planar pattern from the convex elements on the convex portions.
【0005】[0005]
【発明の実施の形態】本発明によって製造されるエンボ
ス化粧材とは、基材表面にエンボス加工により微小な凹
凸形状が施され、各部の光沢が制御されてなるものであ
る。基材の材料としては、通常、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、オレフィン系熱可塑性エラストマー等のポリ
オレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑
性ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、ポリ塩化
ビニル、ABS,ポリスチレン等の熱可塑性樹脂、メラ
ミン樹脂、不飽和(熱硬化性)ポリエステル樹脂、2液
硬化(熱硬化)型ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、ラジ
カル重合型不飽和アクリレート(またはメタクリレー
ト)、又はカチオン重合型エポキシ樹脂を電離放射線
(紫外線、電子線等)で架橋させてなる電離放射線硬化
性樹脂等が用いられる。また基材は、一般に積層体であ
るが、単層であってもよい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The embossed decorative material produced by the present invention is a material in which fine irregularities are formed on the surface of a substrate by embossing and the gloss of each part is controlled. As the material of the substrate, usually, polyethylene, polypropylene, polyolefin resin such as olefin thermoplastic elastomer, acrylic resin such as polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyethylene terephthalate, thermoplastic polyester resin such as polybutylene terephthalate, heat Thermoplastic resins such as plastic urethane resin, polyvinyl chloride, ABS, polystyrene, etc., thermosetting resins such as melamine resin, unsaturated (thermosetting) polyester resin, two-pack curing (thermosetting) type urethane resin, radical polymerization type An ionizing radiation curable resin obtained by crosslinking an unsaturated acrylate (or methacrylate) or a cationic polymerization type epoxy resin with ionizing radiation (ultraviolet rays, electron beams, etc.) is used. The substrate is generally a laminate, but may be a single layer.
【0006】本発明を図面によりさらに詳細に説明す
る。図1は、本発明によるエンボス化粧材の凸状素子を
形成する平面パターンの説明図である。また、図4は本
発明によるエンボス化粧材の凹凸形状の斜視図である。
本発明によるエンボス化粧材の凹凸形状は、図4に示す
ように、曲面による連続的な高低変化をもって互いに連
接し合う凸部と凹部とからなる複雑な形状を呈してお
り、これらの凸部は、凸部を構成する最小単位である凸
状素子が、平面内に配列されて形成されている。この凸
状素子は、複数種類の異なる径を有し、且つランダムに
配列した平面パターンからフォトエッチングによって得
られたエンボス版面の凹凸形状を基材にエンボッシング
により賦型されて得られるものであるが、前記平面パタ
ーンの位相を平面内に於いてずらして得られる別の平面
パターンか、或いは全く別の平面パターンを用いて一旦
得られたエンボス版面に少なくとも2回以上のフォトエ
ッチングを繰り返すことによって凸状素子が累積して形
成されたさらに複雑な凹凸形状を有するエンボス版が得
られる。このようなエンボス版を用いて基材表面に賦型
したものが本発明によるエンボス化粧材である。以上の
凸状素子を形成するための平面パターンは、網点状のも
のが好適に使用され、図1(a)に実線で示すように、
直径が0.02〜0.6mmの範囲にある少なくとも2
種類以上の網点をランダムに配列した集合網点パターン
Pである。この集合網点パターンPを構成する個々の網
点形状は、図示の如く円形とすることが、エンボス化粧
材の光沢の等方性を得るために好ましいが、必ずしも円
形である必要はなく4角形、6角形等の形状であっても
よい。この製作は、複数種類の大きさの網点をランダム
に所定のトレランスを持たせた間隔で配列させるソフト
ウエアーを用いてコンピュータによるデジタル画像処理
方式で、CRT等のディスプレイ画面上において行うこ
とができる。また、コンピュータでのパターン配列計算
時において、隣接する網点の半径によってそれぞれの網
点同士の間隔ΔLをその都度設定していくようにしても
よい。本発明によるエンボス化粧材においては、この集
合網点パターンPにおける個々の網点の密集度合いが重
要である。この密集度合に関しては、図1(b)に示す
ように、隣接する網点P1,P2間の間隔ΔLと網点P
1,P2のサイドエッチングの幅F1,F2との間に
は、ΔL≦F1+F2なる関係があることが必要であ
る。換言すると、サイドエッチングの幅Fまで見越した
点線で示す網点の集合が細密充填の状態か或いはそれを
越えて密になることが望ましい。以上の隣接する網点同
士の間隔ΔLは、また、網点面積と、腐食深度Dと、腐
食方法を勘案して決定されなければならない。それは、
網点面積が大きいほど腐食深度Dが大きくなり、腐食深
度Dが大きいほどサイドエッチングの幅Fは大きくな
り、また腐食方法によってもF/Dは変化するからであ
る。本発明によるエンボス化粧材の実施例においては、
半径10〜50mμの網点を20mμの腐食深度に腐食
する場合のΔLは10mμと設定し、半径50〜100
mμの網点を同じく20mμの腐食深度に腐食する場合
のΔLを20mμとしている。The present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view of a plane pattern forming a convex element of an embossed decorative material according to the present invention. FIG. 4 is a perspective view of the uneven shape of the embossed decorative material according to the present invention.
As shown in FIG. 4, the uneven shape of the embossed decorative material according to the present invention has a complicated shape including a convex portion and a concave portion connected to each other with a continuous change in height due to a curved surface. The convex elements, which are the minimum units constituting the convex portions, are arranged in a plane. This convex element has a plurality of types of different diameters, and is obtained by embossing a base material with a concave-convex shape of an embossed plate surface obtained by photoetching from a randomly arranged plane pattern. A different plane pattern obtained by shifting the phase of the plane pattern in the plane, or a pattern obtained by repeating photoetching at least twice or more on the embossed plate once obtained using a completely different plane pattern. An embossing plate having a more complicated uneven shape formed by accumulating the shape elements can be obtained. The embossed decorative material according to the present invention is obtained by shaping the surface of a substrate using such an embossing plate. As the planar pattern for forming the above-mentioned convex element, a halftone dot-shaped one is suitably used, and as shown by a solid line in FIG.
At least 2 with a diameter in the range of 0.02-0.6 mm
This is a set halftone dot pattern P in which half or more types of halftone dots are randomly arranged. It is preferable that the individual halftone dots forming the aggregated halftone dot pattern P have a circular shape as shown in the figure in order to obtain the isotropic gloss of the embossed decorative material. , Hexagons and the like. This production can be performed on a display screen of a CRT or the like by a digital image processing method using a computer using software for arranging a plurality of types of halftone dots at intervals with a predetermined tolerance at random. . Further, at the time of calculating the pattern arrangement by the computer, the interval ΔL between the halftone dots may be set each time according to the radius of the halftone dot. In the embossed decorative material according to the present invention, the degree of denseness of individual halftone dots in the aggregate halftone dot pattern P is important. Regarding this density, as shown in FIG. 1B, the interval ΔL between the adjacent halftone dots P1 and P2 and the halftone dot P
It is necessary that there be a relationship of ΔL ≦ F1 + F2 between the side etching widths F1 and F2 of P1 and P2. In other words, it is desirable that a set of halftone dots indicated by dotted lines anticipating up to the width F of the side etching be in a state of fine packing or be dense beyond the state. The distance ΔL between the adjacent halftone dots must be determined in consideration of the halftone dot area, the corrosion depth D, and the corrosion method. that is,
This is because the corrosion depth D increases as the halftone dot area increases, and the width F of the side etching increases as the corrosion depth D increases, and the F / D varies depending on the corrosion method. In the embodiment of the embossed decorative material according to the present invention,
In the case where a halftone dot having a radius of 10 to 50 mμ is corroded to a corrosion depth of 20 mμ, ΔL is set to 10 mμ and a radius of 50 to 100 is set.
ΔL in the case where a halftone dot of mμ is similarly corroded to a corrosion depth of 20 mμ is set to 20 mμ.
【0007】図2は本発明によるエンボス化粧材の凹凸
形状を形成するフォトエッチングの説明図である。以上
のような密集度合いを有する集合網点パターンPは、エ
ンボス版面上の感光レジスト膜に焼き付けられて、現像
後、図1(a)に示す集合パターンPと略同形のレジス
トパターンR(実線で示す円形部分が非レジスト部分
(開口部)となる)が版面上に形成され、次いで、この
状態の版面を腐食すると、腐食はサイドエッチングを伴
いながら進行し、実線で示すレジストパターンRを越え
て、点線で示すサイドエッチングの領域にまで拡大し、
隣接する網点同士が腐食によって互いに連結するように
なる。そして、網点同士が連結されてからも、さらに腐
食が継続される。従って、本発明においては、腐食され
て形成された網点に相当する凹陥部間の土手部が腐食さ
れてしまうので、当初のエンボス版面がそのまま残るこ
とはなくなる。このフォトエッチングの模様を以下図2
を用いて説明する。は、図1(a)に示す集合網点パ
ターンPの略直線上に隣接して配列している3個の網点
P1,P2,P3の平面パターンである。以降は、こ
れらの網点のX−X’線で仮想的に切断された中央断面
で表される。は、エンボス版材1の版面に形成された
レジストパターンRのレジスト膜2を示す。エンボス版
材1は、銅、鉄等の金属が一般的に使用され、形状は、
平板、又はシリンダー(円筒)状である。この上に形成
されるレジストとしては、重クロム酸ゼラチン、ポリ桂
皮酸ビニル、アクリルアミド、ポリビニルアジドベンザ
ル等のネガ型、或いはO−キノンジアジドノボラック樹
脂等のポジ型の感光性レジストが用いられる。但し、い
づれの型のレジストを用いる場合でも、図示の如く網点
間の部分がレジストとなるように露光現像する。感光性
レジスト膜のエンボス版材1への塗工方法としては、コ
ンベンショナルグラビア法のように、予め離型性支持体
シート上に感光性レジスト膜を塗工したシート(カーボ
ンチッシュ等)上に網点パターンを露光した後、版材上
に該シート上の露光済みレジスト膜のみを転写し、しか
るのちに、現像処理して、ネガ型レジストの場合は非露
光部、ポジ型レジストの場合は露光部を溶解除去する方
式、或いはダイレクトグラビア方式のように、予め版材
上に感光性レジスト膜を塗工しておき、次いでその上に
網点パターンを露光し、しかるのちに現像処理する方式
のいずれも採用可能である。また、露光方式としては、
予め銀塩感光性写真フィルム等の表面に網点パターンを
ネガまたはポジとして形成しておき、網点部のみ遮光性
で他は透光性(ポジ)、或いは網点部のみ透光性で、他
は遮光性(ネガ)のフィルムを用意しておき、このフィ
ルムを感光性レジスト膜上に密着して重ね、その上から
水銀燈等の光源で全面露光する方式、或いは、感光性レ
ジスト膜上をレーザー光等の光ビームで平面的に走査し
つつ網点の画像に対応する電気信号(通常はデジタル信
号が用いられるがアナログ信号でも可)で光ビームをO
N−OFF又は強弱変調する方式のいずれも採用可能で
ある。FIG. 2 is an explanatory view of the photo-etching for forming the uneven shape of the embossed decorative material according to the present invention. The aggregated halftone dot pattern P having the above-mentioned density is printed on the photosensitive resist film on the embossing plate surface, and after development, the resist pattern R having substantially the same shape as the aggregated pattern P shown in FIG. A non-resist portion (opening) is formed on the plate surface, and then the plate surface in this state is corroded, the corrosion proceeds with side etching, and the corrosion proceeds beyond the resist pattern R indicated by the solid line. , Expanded to the area of the side etching indicated by the dotted line,
Adjacent halftone dots are connected to each other by corrosion. And even after the halftone dots are connected, the corrosion is further continued. Therefore, in the present invention, the bank between the concave portions corresponding to the halftone dots formed by the corrosion is corroded, so that the original embossed plate surface does not remain as it is. This photo-etched pattern is shown in FIG.
This will be described with reference to FIG. Is a plane pattern of three halftone dots P1, P2 and P3 arranged adjacent to each other on a substantially straight line of the set halftone dot pattern P shown in FIG. Hereinafter, these halftone dots are represented by a central cross section virtually cut along the line XX ′. Indicates a resist film 2 of a resist pattern R formed on the plate surface of the embossed plate material 1. The embossing plate 1 is generally made of a metal such as copper or iron, and has a shape of
It is a flat plate or a cylinder (cylindrical). As the resist formed thereon, a negative photosensitive resist such as gelatin dichromate, polyvinyl cinnamate, acrylamide, polyvinyl azidobenzal, or a positive photosensitive resist such as O-quinonediazido novolak resin is used. However, regardless of which type of resist is used, exposure and development are performed so that the portion between the halftone dots becomes the resist as shown in the figure. As a method for applying the photosensitive resist film to the embossing plate material 1, as in a conventional gravure method, a net is formed on a sheet (carbon tissue or the like) in which a photosensitive resist film is previously coated on a release support sheet. After exposing the point pattern, only the exposed resist film on the sheet is transferred onto the plate material, and then developed, and then exposed to light in the case of a negative resist or exposed in the case of a positive resist. A method in which a photosensitive resist film is applied on a plate material in advance, and then a halftone dot pattern is exposed thereon, followed by a development process, as in the method of dissolving and removing the part, or the direct gravure method Either can be adopted. Also, as the exposure method,
A halftone dot pattern is formed in advance as a negative or positive on the surface of a silver halide photosensitive photographic film or the like, and only halftone portions are light-shielding and others are light-transmitting (positive), or only halftone portions are light-transmitting, Otherwise, a light-shielding (negative) film is prepared, and the film is closely adhered to the photosensitive resist film, and the entire surface is exposed with a light source such as a mercury lamp, or the photosensitive resist film is exposed. While scanning two-dimensionally with a light beam such as a laser beam, the light beam is changed to an electric signal corresponding to a halftone dot image (usually a digital signal is used, but an analog signal may be used).
Either N-OFF or a method of intensity modulation can be adopted.
【0008】次に〜によって示すエッチング工程を
説明する。上記の方法でレジスト膜2が、に示すよう
に網点以外の部分に形成される。そして、隣接する網点
間に形成されるレジスト膜2の幅は略ΔLに略等しい。
このようなレジスト膜2が形成された版面の非レジスト
部に対して、腐食を開始する。以下、腐食の方向を矢印
で示す。腐食方法は、目的とする腐食深度D、サイドエ
ッチングの幅Fが達成されるような腐食液の供給方式、
腐食液濃度等を勘案して進める。一般に、スプレイ方式
は、サイドエッチを少なくして、深度を確保する場合に
適し、一方サイドエッチングを激しく起こさせるには、
モルトンローラー方式等が好ましい。腐食は先ず第1段
階で、に示すように非レジスト部を碗状に侵食する。
さらに腐食を進めると、に示すようにサイドエッチン
グがレジスト膜2の下部を両サイドから侵食し、レジス
ト膜2は自然に脱落する。また、に示す状態に至る直
前で腐食を一旦停止し、レジスト膜2の剥離後、さらに
腐食をすすめてもよい。に示す状態からさらに、レジ
スト膜の無い状態の版面を腐食すると、腐食は網点間の
突出部において特に激しく行われ、その結果、に示す
ような角が取れた連続曲線状の断面が形成される。この
時点で、始めて曲面による連続的な高低変化をもった凹
凸形状を有するエンボス版E’が得られる。このエンボ
ス版E’は、中間的なものであって、仮にこのエンボス
版E’をもって基材にエンボスすると’に示すよう
に、当初の網点P1,P2,P3に相当する凸状素子T
1,T2,T3が賦型される。図4は、その状態、すな
わち凸状素子が単層でランダムに配列した状態の斜視図
である。この凹凸形状は、曲面による連続的な高低変化
をもって互いに連接し合う凸部(凸状素子)と凹部(凸
状素子間の谷部)とからなるものである。無論この状態
でエンボス版として使用してもよいが、もしこの段階で
は、まだ凹凸形状が単純すぎて所定の光沢幅を得ること
ができない場合は、更に、図2、に示す状態のエンボ
ス版E’の版面に対して2回目のフォトエッチングを行
う。[0008] Next, the etching process indicated by (1) will be described. By the above method, the resist film 2 is formed in a portion other than the halftone dot as shown in FIG. The width of the resist film 2 formed between the adjacent halftone dots is substantially equal to ΔL.
Corrosion starts on the non-resist portion of the plate surface on which such a resist film 2 is formed. Hereinafter, the direction of corrosion is indicated by arrows. The corrosion method includes a method of supplying a corrosive liquid such that a target corrosion depth D and a side etching width F are achieved,
Proceed in consideration of the concentration of the etchant. In general, the spray method is suitable for reducing the side etch and securing the depth, while in order to make the side etching violent,
A Molton roller system is preferred. Corrosion first erodes the non-resist portion in a bowl shape as shown in FIG.
As the corrosion further proceeds, the side etching erodes the lower part of the resist film 2 from both sides as shown in FIG. Further, the corrosion may be temporarily stopped immediately before reaching the state shown in FIG. 1 and further promoted after the resist film 2 is peeled off. If the plate surface without the resist film is further eroded from the state shown in the above, the erosion is particularly violent at the protrusions between the halftone dots, and as a result, a continuous curved cross section with sharp corners as shown in the figure is formed. You. At this point, an embossing plate E 'having an uneven shape having a continuous height change due to the curved surface is obtained for the first time. This embossing plate E 'is an intermediate one. If the embossing plate E' is embossed on a base material, as shown in (1), the convex element T 'corresponding to the initial halftone dots P1, P2, P3
1, T2 and T3 are shaped. FIG. 4 is a perspective view of this state, that is, a state in which the convex elements are randomly arranged in a single layer. The concavo-convex shape is composed of convex portions (convex elements) and concave portions (valleys between convex elements) that are connected to each other with a continuous change in height due to a curved surface. Of course, it may be used as an embossing plate in this state. However, at this stage, if the uneven shape is still too simple to obtain a predetermined gloss width, the embossing plate E in the state shown in FIG. The second photo-etching is performed on the plate surface of '.
【0009】図3は、2回目のフォトエッチングとエン
ボッシング工程の説明図である。は、で得られたエ
ンボス版面に再度レジスト膜2を形成した状態を示す。
この場合に、焼き付けに使用する集合網点パターンP
は、一回目に使用した集合網点パターンPの位相を平面
内に於いてずらして使用するか、全く新規な網点の直径
分布を有する異なる集合網点パターンでもよく、また、
特定のエンボス柄においては、一回目に使用した網点状
とは全く異なる例えば、ヘアーラインのような線状パタ
ーンと組み合わすようにしてもよい。そうすることによ
って、網点から形成された凸状素子と、線状の凸部とが
互いに連結したエンボス柄が生まれ、特殊な意匠性を有
する凹凸形状が得られる。また、線状パターンは、単純
な線状の凸部をもたらすものだけに限定されることなく
曲線状でもよく、また網状にクロスしたものであっても
よい。に示す状態の版面に対して2回目の腐食を行っ
た結果、に示すようなより複雑な凹凸形状を有するエ
ンボス版Eが得られる。さらに複雑な形状にする場合に
はに示す形状のエンボス版面に対して3回目の腐食を
施せばよい。このようにして、最終的に得られた所定の
凹凸形状を有するエンボス版Eは、そのまま、次のエン
ボス工程で使用してもよいが、通常は耐磨耗性向上のた
め、全面にクロムメキを施して使用する。FIG. 3 is an explanatory diagram of the second photoetching and embossing steps. Shows a state in which the resist film 2 is formed again on the embossing plate surface obtained in the above.
In this case, the set halftone dot pattern P used for printing
May be used by shifting the phase of the first halftone dot pattern P used in the plane, or may be a different halftone dot pattern having a completely new halftone dot diameter distribution,
The specific embossed pattern may be combined with a linear pattern such as a hairline that is completely different from the halftone dot used for the first time. By doing so, an embossed pattern in which the convex elements formed from the halftone dots and the linear convex portions are connected to each other is produced, and a concave-convex shape having a special design property is obtained. In addition, the linear pattern is not limited to a pattern that provides a simple linear convex portion, and may be a curved pattern or a cross-shaped pattern. As a result of performing the second corrosion on the plate surface in the state shown in FIG. 1, an emboss plate E having a more complicated uneven shape as shown in FIG. In order to form a more complicated shape, the third embossing may be performed on the embossed plate having the shape shown in FIG. In this way, the finally obtained embossing plate E having a predetermined uneven shape may be used as it is in the next embossing step. However, usually, in order to improve abrasion resistance, chrome plating is applied to the entire surface. Apply and use.
【0010】は、エンボス版Eを用いたエンボッシン
グの工程を示す。エンボス版Eを用いて基材3上にエン
ボス版E上の凹凸形状を賦型して化粧材を得る代表的な
方法としては、加熱軟化させた熱可塑性樹脂基材表面に
エンボス版を押圧し、冷却、固化せしめて賦型する狭義
のエンボス加工がある。しかし、本発明によるエンボス
化粧材の製法は、これに限定されるものではなく、その
他の方法で製造することもできる。例えば、上記方法で
製版されたエンボス版の表面に不飽和アクリレート系の
プレポリマー、単量体等の未硬化の液状組成物を塗布し
て凹凸形状の少なくとも凹部内に液状組成物を充填し、
次いで該液状組成物に樹脂等のシート状の基材を重ねて
密着させた状態でシート側から紫外線又は電子線を照射
して該液状組成物を硬化(固化)せしめ、該シート面に
接着させ、且つエンボス版の凹凸形状が賦型された硬化
物層をエンボス版から離型する方法(特開平2−131
175号公報等に開示)を用いることもできる。無論、
エンボス版上の凹凸形状と化粧材上の凹凸形状とは図
3、とに示すように凹凸形状が逆転する。また、基
材3の形態としては、シート(乃至はフィルム)、板等
である。必要に応じて表面に凹凸形状を形成した基材3
の表面、裏面(基材が透明の場合)、又は表裏両面に公
知のインキ及び印刷法を用いて木目柄、石目柄、布目
柄、幾何学模様、全面ベタ等の絵柄層を形成したり、全
面又は部分的に、金属薄膜を形成したり、或いは基材自
体に公知の顔料、染料等の着色材を練り込んで装飾処理
を施しても良い。本発明によるエンボス化粧材の用途と
しては、壁、床、天井等の建築物の内装材、扉、窓枠、
扉枠、手摺等の建具の表面材、テレビジョン受像機等の
家電製品の筐体の表面材、箪笥等の家具の表面材、箱等
の容器の表面材、車両等の内装材、船舶内装材等であっ
て、必要に応じて更に任意の素材が裏打ちされて使用さ
れる。図3は、エンボス加工された基材3が裏打ち材
4で裏打ちされた状態を示す。2 shows an embossing process using the embossing plate E. As a typical method of forming a concave-convex shape on the base material 3 on the substrate 3 using the embossing plate E to obtain a decorative material, the embossing plate is pressed on the surface of the thermoplastic resin substrate that has been softened by heating. There is an embossing in a narrow sense of cooling, solidifying and shaping. However, the method for producing the embossed decorative material according to the present invention is not limited to this, and it can be produced by other methods. For example, an unsaturated acrylate prepolymer, an uncured liquid composition such as a monomer is applied to the surface of the embossed plate made by the above method, and the liquid composition is filled into at least the concave portions of the uneven shape,
Next, in a state where a sheet-like base material such as a resin is overlaid on and adhered to the liquid composition, ultraviolet rays or an electron beam is irradiated from the sheet side to cure (solidify) the liquid composition and adhere to the sheet surface. And a method of releasing a cured product layer on which the embossed plate has been formed from the embossed plate (Japanese Patent Laid-Open No. 2-131).
175, etc.). Of course,
The uneven shape on the embossing plate and the uneven shape on the decorative material are reversed as shown in FIG. The form of the substrate 3 is a sheet (or a film), a plate, or the like. Substrate 3 with irregularities formed on the surface as required
Forming a pattern layer such as a wood pattern, a stone pattern, a cloth pattern, a geometric pattern, and a solid pattern on the front surface, the back surface (when the base material is transparent), or the front and back surfaces using a known ink and printing method. Alternatively, a decoration process may be performed by forming a metal thin film on the entire surface or a part, or kneading a known coloring material such as a pigment or dye into the base material itself. Examples of the use of the embossed decorative material according to the present invention include walls, floors, interior materials of buildings such as ceilings, doors, window frames,
Door frames, surface materials of fittings such as handrails, surface materials of housings of home appliances such as television receivers, surface materials of furniture such as chests, surface materials of containers such as boxes, interior materials of vehicles, interiors of ships A material, etc., which is optionally backed and used as needed. FIG. 3 shows a state in which the embossed base material 3 is backed with a backing material 4.
【0011】[0011]
【発明の効果】本発明によれば、基材表面に平坦部がな
く、曲面による連続的な高低変化をもって互いに連接し
合う凸部と凹部とからなる複雑な凹凸形状が形成される
ことにより、光沢の表現範囲が特に低光沢領域において
拡大され、高範囲の光沢変化で柄表現ができるいわゆる
艶柄を造りだすことができ、また木目柄のような印刷柄
にマッチングする光沢を与えることができるので、従来
にないリアルな質感と高度な意匠表現を生み出すことが
できる。また、耐汚染性が大幅に改善され、汚れが溜ま
りにくく、たとえ表面が汚れても、拭き取ることが容易
になる。さらに、耐スクラッチ性も大幅に改善され、引
っかき傷等の付きにくい化粧材を提供できる。According to the present invention, there is no flat portion on the surface of the base material, and a complex uneven shape composed of a convex portion and a concave portion connected to each other with a continuous change in height due to a curved surface is formed. The glossy expression range can be expanded especially in the low glossy region, so-called glossy patterns can be created that can express patterns with a high range of gloss change, and gloss matching printing patterns such as wood grain patterns can be given. Therefore, it is possible to create an unprecedented realistic texture and advanced design expression. In addition, the stain resistance is greatly improved, dirt is less likely to accumulate, and even if the surface is dirty, it is easy to wipe off. Further, the scratch resistance is greatly improved, and a cosmetic material which is hardly scratched can be provided.
【図1】本発明によるエンボス化粧材の凸状素子を形成
する平面パターンの説明図FIG. 1 is an explanatory view of a plane pattern forming a convex element of an embossed decorative material according to the present invention.
【図2】本発明によるエンボス化粧材の凹凸形状を形成
するフォトエッチングの説明図FIG. 2 is an explanatory view of photo-etching for forming an uneven shape of the embossed decorative material according to the present invention.
【図3】2回目のフォトエッチングとエンボッシング工
程の説明図FIG. 3 is an explanatory diagram of a second photoetching and embossing process.
【図4】本発明によるエンボス化粧材の凹凸形状の斜視
図FIG. 4 is a perspective view of the uneven shape of the embossed decorative material according to the present invention.
1 エンボス版材 2 レジスト膜 3 エンボスされた基材 4 裏打ち材 10 本発明による化粧材 P 集合網点パターン R レジストパターン E エンボス版 T 凸状素子 REFERENCE SIGNS LIST 1 embossed plate material 2 resist film 3 embossed base material 4 backing material 10 decorative material according to the present invention P aggregate dot pattern R resist pattern E embossed plate T convex element
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H113 AA06 BA28 BB07 CA05 DA47 DA57 DA62 FA05 FA28 FA29 FA43 FA45 4F209 AA03 AA04 AA11 AA13 AA15 AA21 AA25 AA31 AA39 AA45 AG01 AG05 AH26 AH48 AH51 PA03 PB02 PC05 PQ03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H113 AA06 BA28 BB07 CA05 DA47 DA57 DA62 FA05 FA28 FA29 FA43 FA45 4F209 AA03 AA04 AA11 AA13 AA15 AA21 AA25 AA31 AA39 AA45 AG01 AG05 AH26 AH48 AH51 PA03 PB02 PC05 P03
Claims (2)
材であって、該凹凸形状が、曲面による連続的な高低変
化をもって互いに連接し合う凸部と凹部とからなり、少
なくとも一部分の前記凸部が、複数種類の異なる径を有
し、且つランダムに密集して配列した平面パターンから
形成された個々に独立する凸状素子の平面内配列によっ
て形成されてなることを特徴とするエンボス化粧材。1. A decorative material having fine irregularities on the surface of a base material, the irregularities comprising a convex portion and a concave portion connected to each other with a continuous change in height due to a curved surface, and at least a part of the convex portion and the concave portion. An embossed makeup characterized in that the projections are formed by an in-plane arrangement of individually independent convex elements formed from a plurality of types of different diameter and randomly arranged densely arranged planar patterns. Wood.
パターンから形成された凸部が累積されてなることを特
徴とする請求項1記載のエンボス化粧材。2. The embossed decorative material according to claim 1, wherein the convex portions are formed by accumulating convex portions formed from a different planar pattern from the convex elements.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15142499A JP2000334833A (en) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | Embossed cosmetic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15142499A JP2000334833A (en) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | Embossed cosmetic material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000334833A true JP2000334833A (en) | 2000-12-05 |
Family
ID=15518328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15142499A Withdrawn JP2000334833A (en) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | Embossed cosmetic material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000334833A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021165017A (en) * | 2020-04-07 | 2021-10-14 | キヤノン株式会社 | Resin molded product, manufacturing methods for resin molded product, molds, and manufacturing device for resin molded product |
-
1999
- 1999-05-31 JP JP15142499A patent/JP2000334833A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021165017A (en) * | 2020-04-07 | 2021-10-14 | キヤノン株式会社 | Resin molded product, manufacturing methods for resin molded product, molds, and manufacturing device for resin molded product |
| JP7490427B2 (en) | 2020-04-07 | 2024-05-27 | キヤノン株式会社 | Resin molded products, manufacturing methods for resin molded products, molds, manufacturing equipment for resin molded products, cameras, printers |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11254898A (en) | Embossed cosmetic material | |
| WO2019066026A1 (en) | Decorative material and mold for decorative material | |
| JP2000038000A (en) | Embossed cosmetic material | |
| JPH1170800A (en) | Cosmetic material | |
| JP2001113894A (en) | Cosmetic material with woven uneven pattern | |
| WO2019189407A1 (en) | Decorative material | |
| JP2000008538A (en) | Embossed cosmetic material | |
| JP7294408B2 (en) | decorative material | |
| JP3654936B2 (en) | Embossed plate and manufacturing method thereof | |
| JP2000033799A (en) | Embossed cosmetic material | |
| WO2019194202A1 (en) | Method for manufacturing decorative material | |
| JP3253967B2 (en) | Cosmetic material / embossed plate that reproduces the uneven structure of the wood channel groove, and its preparation method and preparation device | |
| JP2002211200A (en) | Cosmetic material | |
| JP7501730B2 (en) | Cosmetic materials | |
| JPWO1995021060A1 (en) | Decorative material/embossed plate that reproduces the uneven structure of wood grain vessel grooves, and its manufacturing method and manufacturing device | |
| JP2001277792A (en) | Embossed decorative material and method of manufacturing the same | |
| JPH11147399A (en) | Wood grain embossing material | |
| JP2000006598A (en) | Embossed cosmetic material | |
| JP2000355197A (en) | Embossed cosmetic material | |
| JP4011699B2 (en) | Embossed cosmetic material manufacturing method | |
| JPH11165497A (en) | Embossed cosmetic material | |
| JPH07144364A (en) | Embossing plate and manufacturing method thereof | |
| JPH1170797A (en) | Embossed cosmetic material | |
| JP7067203B2 (en) | Cosmetic material | |
| JPH081770A (en) | Embossing plate and manufacturing method thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060801 |