JP2000334833A - エンボス化粧材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光沢幅があり、且つ耐汚染性、耐スクラッチ
性のある化粧材を提供する。 【解決手段】 基材表面に、微小な凹凸形状を有する化
粧材であって、該凹凸形状が、曲面による連続的な高低
変化をもって互いに連接し合う凸部と凹部とからなり、
前記凸部を、複数の異なる径を有し、且つランダムに密
集して配列した平面パターンから形成される個々に独立
する凸状素子Ｔを累積させて形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、最適な光沢面と耐
汚染性、耐スクラッチ性を有するエンボス化粧材に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】内装材、家具等の化粧材には質感、高級
感、意匠性を高めるためにプラスチック仕上げ面の光沢
を制御した製品が多用されている。従来の、ポリ塩化ビ
ニルあるいはポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂層
を表面に有する化粧シートあるいはそれを貼り合わせた
化粧材が最終的に有する表面光沢を制御するには、微細
な凹凸形状のあるエンボス版によって凹凸形状を賦型す
ることが一般に行われている。このエンボス版における
凹凸形状の形成には、サンドブラスト法、マットクロム
メッキ法、グラビア印刷シリンダー彫刻機によって彫刻
する方法、マットＯＰ法等がこれまで使用されてきてい
るがいずれも一長一短があるので、特開平１０−２８７
０９９号公報では、サイズが異なり、ランダムに配列し
ている網点パターンをエンボスシリンダー面のレジスト
膜に焼き付けて腐食を行うフォトエッチング法を複数回
行ったエンボス版による賦型により、凸状素子が単体
で、あるいは重なって形成された最適な光沢を有し、し
かも、耐汚染性耐、スクラッチ性に優れたエンボス化粧
シートおよびそれを貼り合わせた化粧材（ドア）が提案
されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】特開平１０−２８７０
９９号公報に提案されているエンボス化粧シートの表面
は、全面あるいは各部に適切な光沢を持たせることがで
き、耐スクラッチ性、耐汚染性の点で従来のものに較べ
て改良はされている。しかるに、凸部は凸状素子の単体
若しくは凸状素子が重なって形成された集合体からなる
が、凸部同士の間には平坦面が残り、まだ完全な無光沢
状態には達していないという問題がある。従って、光沢
制御範囲はまだ狭く、艶消し表現が十分に行われていな
いという問題がある。さらに、凸部同士の間には切り込
まれた谷部あるいは水平面と曲面の交差線等が残り、凹
凸断面が連続的でないために、耐汚染性、耐スクラッチ
性はまだ完全に解決されていないという問題がある。本
発明は前記の問題点に鑑みてなされたもので、本発明
は、化粧材の各部に最適な低光沢（艶消し）を持たせる
ことによって意匠性を高め、且つより優れた耐スクラッ
チ性、耐汚染性を有する化粧材の提供を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
になされた本発明は、基材表面に微小な凹凸形状を有す
る化粧材であって、該凹凸形状が、曲面による連続的な
高低変化をもって互いに連接し合う凸部と凹部とからな
り、少なくとも一部分の前記凸部が、複数種類の異なる
径を有し、且つランダムに密集して配列した平面パター
ンから形成された個々に独立する凸状素子の平面内配列
によって形成されてなることを特徴とするものである。
さらに、前記凸部に、前記凸状素子とは別の平面パター
ンから形成された凸部を累積させることができる。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明によって製造されるエンボ
ス化粧材とは、基材表面にエンボス加工により微小な凹
凸形状が施され、各部の光沢が制御されてなるものであ
る。基材の材料としては、通常、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、オレフィン系熱可塑性エラストマー等のポリ
オレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑
性ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、ポリ塩化
ビニル、ＡＢＳ，ポリスチレン等の熱可塑性樹脂、メラ
ミン樹脂、不飽和（熱硬化性）ポリエステル樹脂、２液
硬化（熱硬化）型ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、ラジ
カル重合型不飽和アクリレート（またはメタクリレー
ト）、又はカチオン重合型エポキシ樹脂を電離放射線
（紫外線、電子線等）で架橋させてなる電離放射線硬化
性樹脂等が用いられる。また基材は、一般に積層体であ
るが、単層であってもよい。

【０００６】本発明を図面によりさらに詳細に説明す
る。図１は、本発明によるエンボス化粧材の凸状素子を
形成する平面パターンの説明図である。また、図４は本
発明によるエンボス化粧材の凹凸形状の斜視図である。
本発明によるエンボス化粧材の凹凸形状は、図４に示す
ように、曲面による連続的な高低変化をもって互いに連
接し合う凸部と凹部とからなる複雑な形状を呈してお
り、これらの凸部は、凸部を構成する最小単位である凸
状素子が、平面内に配列されて形成されている。この凸
状素子は、複数種類の異なる径を有し、且つランダムに
配列した平面パターンからフォトエッチングによって得
られたエンボス版面の凹凸形状を基材にエンボッシング
により賦型されて得られるものであるが、前記平面パタ
ーンの位相を平面内に於いてずらして得られる別の平面
パターンか、或いは全く別の平面パターンを用いて一旦
得られたエンボス版面に少なくとも２回以上のフォトエ
ッチングを繰り返すことによって凸状素子が累積して形
成されたさらに複雑な凹凸形状を有するエンボス版が得
られる。このようなエンボス版を用いて基材表面に賦型
したものが本発明によるエンボス化粧材である。以上の
凸状素子を形成するための平面パターンは、網点状のも
のが好適に使用され、図１（ａ）に実線で示すように、
直径が０．０２〜０．６ｍｍの範囲にある少なくとも２
種類以上の網点をランダムに配列した集合網点パターン
Ｐである。この集合網点パターンＰを構成する個々の網
点形状は、図示の如く円形とすることが、エンボス化粧
材の光沢の等方性を得るために好ましいが、必ずしも円
形である必要はなく４角形、６角形等の形状であっても
よい。この製作は、複数種類の大きさの網点をランダム
に所定のトレランスを持たせた間隔で配列させるソフト
ウエアーを用いてコンピュータによるデジタル画像処理
方式で、ＣＲＴ等のディスプレイ画面上において行うこ
とができる。また、コンピュータでのパターン配列計算
時において、隣接する網点の半径によってそれぞれの網
点同士の間隔ΔＬをその都度設定していくようにしても
よい。本発明によるエンボス化粧材においては、この集
合網点パターンＰにおける個々の網点の密集度合いが重
要である。この密集度合に関しては、図１（ｂ）に示す
ように、隣接する網点Ｐ１，Ｐ２間の間隔ΔＬと網点Ｐ
１，Ｐ２のサイドエッチングの幅Ｆ１，Ｆ２との間に
は、ΔＬ≦Ｆ１＋Ｆ２なる関係があることが必要であ
る。換言すると、サイドエッチングの幅Ｆまで見越した
点線で示す網点の集合が細密充填の状態か或いはそれを
越えて密になることが望ましい。以上の隣接する網点同
士の間隔ΔＬは、また、網点面積と、腐食深度Ｄと、腐
食方法を勘案して決定されなければならない。それは、
網点面積が大きいほど腐食深度Ｄが大きくなり、腐食深
度Ｄが大きいほどサイドエッチングの幅Ｆは大きくな
り、また腐食方法によってもＦ／Ｄは変化するからであ
る。本発明によるエンボス化粧材の実施例においては、
半径１０〜５０ｍμの網点を２０ｍμの腐食深度に腐食
する場合のΔＬは１０ｍμと設定し、半径５０〜１００
ｍμの網点を同じく２０ｍμの腐食深度に腐食する場合
のΔＬを２０ｍμとしている。

【０００７】図２は本発明によるエンボス化粧材の凹凸
形状を形成するフォトエッチングの説明図である。以上
のような密集度合いを有する集合網点パターンＰは、エ
ンボス版面上の感光レジスト膜に焼き付けられて、現像
後、図１（ａ）に示す集合パターンＰと略同形のレジス
トパターンＲ（実線で示す円形部分が非レジスト部分
（開口部）となる）が版面上に形成され、次いで、この
状態の版面を腐食すると、腐食はサイドエッチングを伴
いながら進行し、実線で示すレジストパターンＲを越え
て、点線で示すサイドエッチングの領域にまで拡大し、
隣接する網点同士が腐食によって互いに連結するように
なる。そして、網点同士が連結されてからも、さらに腐
食が継続される。従って、本発明においては、腐食され
て形成された網点に相当する凹陥部間の土手部が腐食さ
れてしまうので、当初のエンボス版面がそのまま残るこ
とはなくなる。このフォトエッチングの模様を以下図２
を用いて説明する。は、図１（ａ）に示す集合網点パ
ターンＰの略直線上に隣接して配列している３個の網点
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の平面パターンである。以降は、こ
れらの網点のＸ−Ｘ’線で仮想的に切断された中央断面
で表される。は、エンボス版材１の版面に形成された
レジストパターンＲのレジスト膜２を示す。エンボス版
材１は、銅、鉄等の金属が一般的に使用され、形状は、
平板、又はシリンダー（円筒）状である。この上に形成
されるレジストとしては、重クロム酸ゼラチン、ポリ桂
皮酸ビニル、アクリルアミド、ポリビニルアジドベンザ
ル等のネガ型、或いはＯ−キノンジアジドノボラック樹
脂等のポジ型の感光性レジストが用いられる。但し、い
づれの型のレジストを用いる場合でも、図示の如く網点
間の部分がレジストとなるように露光現像する。感光性
レジスト膜のエンボス版材１への塗工方法としては、コ
ンベンショナルグラビア法のように、予め離型性支持体
シート上に感光性レジスト膜を塗工したシート（カーボ
ンチッシュ等）上に網点パターンを露光した後、版材上
に該シート上の露光済みレジスト膜のみを転写し、しか
るのちに、現像処理して、ネガ型レジストの場合は非露
光部、ポジ型レジストの場合は露光部を溶解除去する方
式、或いはダイレクトグラビア方式のように、予め版材
上に感光性レジスト膜を塗工しておき、次いでその上に
網点パターンを露光し、しかるのちに現像処理する方式
のいずれも採用可能である。また、露光方式としては、
予め銀塩感光性写真フィルム等の表面に網点パターンを
ネガまたはポジとして形成しておき、網点部のみ遮光性
で他は透光性（ポジ）、或いは網点部のみ透光性で、他
は遮光性（ネガ）のフィルムを用意しておき、このフィ
ルムを感光性レジスト膜上に密着して重ね、その上から
水銀燈等の光源で全面露光する方式、或いは、感光性レ
ジスト膜上をレーザー光等の光ビームで平面的に走査し
つつ網点の画像に対応する電気信号（通常はデジタル信
号が用いられるがアナログ信号でも可）で光ビームをＯ
Ｎ−ＯＦＦ又は強弱変調する方式のいずれも採用可能で
ある。

【０００８】次に〜によって示すエッチング工程を
説明する。上記の方法でレジスト膜２が、に示すよう
に網点以外の部分に形成される。そして、隣接する網点
間に形成されるレジスト膜２の幅は略ΔＬに略等しい。
このようなレジスト膜２が形成された版面の非レジスト
部に対して、腐食を開始する。以下、腐食の方向を矢印
で示す。腐食方法は、目的とする腐食深度Ｄ、サイドエ
ッチングの幅Ｆが達成されるような腐食液の供給方式、
腐食液濃度等を勘案して進める。一般に、スプレイ方式
は、サイドエッチを少なくして、深度を確保する場合に
適し、一方サイドエッチングを激しく起こさせるには、
モルトンローラー方式等が好ましい。腐食は先ず第１段
階で、に示すように非レジスト部を碗状に侵食する。
さらに腐食を進めると、に示すようにサイドエッチン
グがレジスト膜２の下部を両サイドから侵食し、レジス
ト膜２は自然に脱落する。また、に示す状態に至る直
前で腐食を一旦停止し、レジスト膜２の剥離後、さらに
腐食をすすめてもよい。に示す状態からさらに、レジ
スト膜の無い状態の版面を腐食すると、腐食は網点間の
突出部において特に激しく行われ、その結果、に示す
ような角が取れた連続曲線状の断面が形成される。この
時点で、始めて曲面による連続的な高低変化をもった凹
凸形状を有するエンボス版Ｅ’が得られる。このエンボ
ス版Ｅ’は、中間的なものであって、仮にこのエンボス
版Ｅ’をもって基材にエンボスすると’に示すよう
に、当初の網点Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３に相当する凸状素子Ｔ
１，Ｔ２，Ｔ３が賦型される。図４は、その状態、すな
わち凸状素子が単層でランダムに配列した状態の斜視図
である。この凹凸形状は、曲面による連続的な高低変化
をもって互いに連接し合う凸部（凸状素子）と凹部（凸
状素子間の谷部）とからなるものである。無論この状態
でエンボス版として使用してもよいが、もしこの段階で
は、まだ凹凸形状が単純すぎて所定の光沢幅を得ること
ができない場合は、更に、図２、に示す状態のエンボ
ス版Ｅ’の版面に対して２回目のフォトエッチングを行
う。

【０００９】図３は、２回目のフォトエッチングとエン
ボッシング工程の説明図である。は、で得られたエ
ンボス版面に再度レジスト膜２を形成した状態を示す。
この場合に、焼き付けに使用する集合網点パターンＰ
は、一回目に使用した集合網点パターンＰの位相を平面
内に於いてずらして使用するか、全く新規な網点の直径
分布を有する異なる集合網点パターンでもよく、また、
特定のエンボス柄においては、一回目に使用した網点状
とは全く異なる例えば、ヘアーラインのような線状パタ
ーンと組み合わすようにしてもよい。そうすることによ
って、網点から形成された凸状素子と、線状の凸部とが
互いに連結したエンボス柄が生まれ、特殊な意匠性を有
する凹凸形状が得られる。また、線状パターンは、単純
な線状の凸部をもたらすものだけに限定されることなく
曲線状でもよく、また網状にクロスしたものであっても
よい。に示す状態の版面に対して２回目の腐食を行っ
た結果、に示すようなより複雑な凹凸形状を有するエ
ンボス版Ｅが得られる。さらに複雑な形状にする場合に
はに示す形状のエンボス版面に対して３回目の腐食を
施せばよい。このようにして、最終的に得られた所定の
凹凸形状を有するエンボス版Ｅは、そのまま、次のエン
ボス工程で使用してもよいが、通常は耐磨耗性向上のた
め、全面にクロムメキを施して使用する。

【００１０】は、エンボス版Ｅを用いたエンボッシン
グの工程を示す。エンボス版Ｅを用いて基材３上にエン
ボス版Ｅ上の凹凸形状を賦型して化粧材を得る代表的な
方法としては、加熱軟化させた熱可塑性樹脂基材表面に
エンボス版を押圧し、冷却、固化せしめて賦型する狭義
のエンボス加工がある。しかし、本発明によるエンボス
化粧材の製法は、これに限定されるものではなく、その
他の方法で製造することもできる。例えば、上記方法で
製版されたエンボス版の表面に不飽和アクリレート系の
プレポリマー、単量体等の未硬化の液状組成物を塗布し
て凹凸形状の少なくとも凹部内に液状組成物を充填し、
次いで該液状組成物に樹脂等のシート状の基材を重ねて
密着させた状態でシート側から紫外線又は電子線を照射
して該液状組成物を硬化（固化）せしめ、該シート面に
接着させ、且つエンボス版の凹凸形状が賦型された硬化
物層をエンボス版から離型する方法（特開平２−１３１
１７５号公報等に開示）を用いることもできる。無論、
エンボス版上の凹凸形状と化粧材上の凹凸形状とは図
３、とに示すように凹凸形状が逆転する。また、基
材３の形態としては、シート（乃至はフィルム）、板等
である。必要に応じて表面に凹凸形状を形成した基材３
の表面、裏面（基材が透明の場合）、又は表裏両面に公
知のインキ及び印刷法を用いて木目柄、石目柄、布目
柄、幾何学模様、全面ベタ等の絵柄層を形成したり、全
面又は部分的に、金属薄膜を形成したり、或いは基材自
体に公知の顔料、染料等の着色材を練り込んで装飾処理
を施しても良い。本発明によるエンボス化粧材の用途と
しては、壁、床、天井等の建築物の内装材、扉、窓枠、
扉枠、手摺等の建具の表面材、テレビジョン受像機等の
家電製品の筐体の表面材、箪笥等の家具の表面材、箱等
の容器の表面材、車両等の内装材、船舶内装材等であっ
て、必要に応じて更に任意の素材が裏打ちされて使用さ
れる。図３は、エンボス加工された基材３が裏打ち材
４で裏打ちされた状態を示す。

【００１１】

【発明の効果】本発明によれば、基材表面に平坦部がな
く、曲面による連続的な高低変化をもって互いに連接し
合う凸部と凹部とからなる複雑な凹凸形状が形成される
ことにより、光沢の表現範囲が特に低光沢領域において
拡大され、高範囲の光沢変化で柄表現ができるいわゆる
艶柄を造りだすことができ、また木目柄のような印刷柄
にマッチングする光沢を与えることができるので、従来
にないリアルな質感と高度な意匠表現を生み出すことが
できる。また、耐汚染性が大幅に改善され、汚れが溜ま
りにくく、たとえ表面が汚れても、拭き取ることが容易
になる。さらに、耐スクラッチ性も大幅に改善され、引
っかき傷等の付きにくい化粧材を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるエンボス化粧材の凸状素子を形成
する平面パターンの説明図

【図２】本発明によるエンボス化粧材の凹凸形状を形成
するフォトエッチングの説明図

【図３】２回目のフォトエッチングとエンボッシング工
程の説明図

【図４】本発明によるエンボス化粧材の凹凸形状の斜視
図

【符号の説明】

１ エンボス版材 ２ レジスト膜 ３ エンボスされた基材 ４ 裏打ち材 １０ 本発明による化粧材 Ｐ 集合網点パターン Ｒ レジストパターン Ｅ エンボス版 Ｔ 凸状素子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H113 AA06 BA28 BB07 CA05 DA47 DA57 DA62 FA05 FA28 FA29 FA43 FA45 4F209 AA03 AA04 AA11 AA13 AA15 AA21 AA25 AA31 AA39 AA45 AG01 AG05 AH26 AH48 AH51 PA03 PB02 PC05 PQ03

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材表面に微小な凹凸形状を有する化粧
   材であって、該凹凸形状が、曲面による連続的な高低変
   化をもって互いに連接し合う凸部と凹部とからなり、少
   なくとも一部分の前記凸部が、複数種類の異なる径を有
   し、且つランダムに密集して配列した平面パターンから
   形成された個々に独立する凸状素子の平面内配列によっ
   て形成されてなることを特徴とするエンボス化粧材。
2. 【請求項２】 前記凸部に、前記凸状素子とは別の平面
   パターンから形成された凸部が累積されてなることを特
   徴とする請求項１記載のエンボス化粧材。