JP2000338501A

JP2000338501A - 液晶表示パネルの製造方法

Info

Publication number: JP2000338501A
Application number: JP11145717A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Mochizuki; 秀晃望月
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1999-05-26
Filing date: 1999-05-26
Publication date: 2000-12-08

Abstract

(57)【要約】【課題】スペーサの設置位置を制御してパネルのギャ
ップを均一にし、パネルの全面にわたって均一な表示を
得ることができる液晶表示パネルの製造方法を提供す
る。【解決手段】感光性樹脂層が形成された基材に、特定
パターンの露光を実施して前記基板を貼り合わせた後に
間隔保持するスペーサ手段となる未硬化樹脂部とそれ以
外の硬化樹脂部とを形成し、感光性樹脂層の前記未硬化
樹脂部を転写材に転写し、転写材の未硬化樹脂部を前記
基板の一方の基板に再転写し、前記一方の基板を露光し
て未硬化樹脂部を硬化させて前記特定パターンのスペー
サ手段６ａを形成し、スペーサ手段６ａが形成された一
方の基板１ａを他方の基板１ｂと貼り合わせて形成した
液晶セルに液晶５を充填する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の基板の間に
液晶が充填された液晶表示パネルの製造方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】最近の液晶表示パネルの性能向上と低価
格化は、ノートパソコンの市場拡大に大きく貢献してい
る。ノートパソコンに用いられる液晶表示パネルには大
きく分けて、スイッチングに薄膜トランジスタ（以下、
ＴＦＴと称す）を用いたツイステッドネマチック（以
下、ＴＦＴ−ＴＮと称す）方式と、スーパーツイステッ
ドネマチック（以下、ＳＴＮと称す）方式の２種類の方
式が存在しているが、ＴＦＴ−ＴＮ方式の液晶表示パネ
ルが主流となっている。

【０００３】図６と図７は、従来のＴＦＴ−ＴＮ方式の
液晶表示パネルを示す。インジウム・錫酸化物（以下、
ＩＴＯと称す）電極２および配向膜４ａが形成された第
１の基板１ａと、画素電極３および配向膜４ｂが形成さ
れた第２の基板１ｂとをスペーサ１２を介してシール材
にて貼り合わせ、両基板の間に液晶５を充填して液晶セ
ルが形成される。この液晶セルの外表面には、偏光板７
ａ，７ｂが設けられている。

【０００４】第１の基板１ａには、光を遮断する遮光層
１１がマトリクス状に形成されており、この遮光層１１
によって表示領域を囲まれる第２の基板１ｂの画素電極
３には、スイッチング素子であるＴＦＴ８が設けられて
いる。このように構成された液晶表示パネルは、従来の
ブラウン管と同等の画質が得られるため、広く使用され
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この液
晶表示パネルは、画質面には優れているものの、輝度ム
ラが発生しやすく全画面にわたって均質な画質が得られ
にくいという問題がある。液晶表示パネルの輝度の均一
性を阻害する要因としては、パネルのギャップ（即ち、
液晶の層厚）のばらつきや、配向膜４ａ，４ｂとの界面
での液晶分子のプレチルト角のばらつきや、液晶層に加
わる電位差の変動などが挙げられるが、中でもパネルの
ギャップのばらつきは輝度ムラの大きな原因となる。

【０００６】液晶表示パネルのギャップのばらつきは、
液晶表示パネルを構成する一対の基板の間隙を保つため
に使用されるスペーサ１２の径のばらつきや、基板への
散布密度のばらつきによって生じるものである。スペー
サ１２の基板への散布方法は、溶剤中に必要量のスペー
サ粒子を分散した混合物を霧状に基板に散布する湿式散
布法や、スペーサ１２を乗せた皿に気流を吹きかけて粒
径が数μｍのスペーサ１２粒子を散布する乾式散布法な
どが一般に行なわれている。

【０００７】しかしながら、上記のようなスペーサ１２
の散布方法では、スペーサ１２粒子の単位面積当たりの
散布個数を基準値に対してプラス・マイナス２０％以内
に収めることが困難であるため、ギャップのバラツキが
発生しやすくなる。また、ＴＦＴ８が形成された基板の
表面には１μｍ程度の突起が形成されていることが多い
ため、突起が形成された領域でのスペーサ１２の有無に
よりギャップが部分的に変動することが多くなる。

【０００８】このように、従来のスペーサ１２の散布方
法では、個々のスペーサ１２粒子を基板上の特定の位置
に落下させるよう制御することができず、また基板の表
面に凹凸がある場合には、全ての凸部および凹部に均一
にスペーサを分散させることは困難であり、単位面積当
たりの散布数の均一化を図ることが難しい。そのため、
粒子状のスペーサ１２を基板上に散布する代りに、配向
処理の施された基板上に樹脂を直接にパターニングして
スペーサとして使用するものが提案されている。

【０００９】例えば、配向処理を施した第１の基板１ａ
に感光性樹脂を塗布して、遮光層１１のパターンと同様
のパターンとなるようにフォトリソグラフィ法によって
樹脂層を形成し、この樹脂層をスペーサとして使用する
方法が提案されている。しかしながらこの樹脂層は、上
述のように基板に直接に形成されるため、露光や現像時
に配向膜の表面を汚染したり荒らしたりすることによ
り、配向状態に乱れが生じ、液晶表示パネルとしたとき
に表示ムラが発生するという問題がある。また、フォト
リソグラフィ法はプロセス的な時間が長いため、生産性
に劣るという問題もある。

【００１０】本発明は前記問題点を解決し、スペーサの
設置位置を制御してパネルのギャップを均一にし、パネ
ルの全面にわたって均一な表示を得ることができる液晶
表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示パネル
の製造方法は、スペーサの形状および設置位置を制御す
るとともに、スペーサの製造工程を特殊にして液晶表示
パネルのセルギャップを均一にしたことを特徴とする。
この本発明によると、輝度ムラがなく、パネルの全面に
わたって均一な表示が得られる液晶表示パネルを提供す
ることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】請求項１記載の液晶表示パネルの
製造方法は、一対の基板の間に液晶が充填された液晶表
示パネルを製造するに際し、感光性樹脂層が形成された
基材に、特定パターンの露光を実施して前記基板を貼り
合わせた後に間隔保持するスペーサ手段となる未硬化樹
脂部とそれ以外の硬化樹脂部とを形成し、感光性樹脂層
の前記未硬化樹脂部を転写材に転写し、転写材の未硬化
樹脂部を前記基板の一方の基板に再転写し、前記一方の
基板を露光して未硬化樹脂部を硬化させて前記特定パタ
ーンのスペーサ手段を形成し、このスペーサ手段が形成
された一方の基板を前記基板の他方の基板と貼り合わせ
て形成した液晶セルに液晶を充填することを特徴とす
る。

【００１３】この構成によると、転写法によりあらかじ
めパターン化された樹脂層をスペーサとして用いること
で、セルギャップを均一にできるとともに、液晶表示パ
ネルの基板上の凹凸部を考慮してスペーサの形成位置を
正確に制御することができる。請求項２記載の液晶表示
パネルの製造方法は、一対の基板の間に液晶が充填され
た液晶表示パネルを製造するに際し、感光性樹脂層が形
成された基材に、特定パターンの露光を実施して前記基
板を貼り合わせた後に間隔保持するスペーサ手段となる
未硬化樹脂部とそれ以外の硬化樹脂部とを形成し、感光
性樹脂層の前記未硬化樹脂部を転写材に転写し、転写材
の未硬化樹脂部を前記基板の一方の基板に再転写し、前
記一方の基板を露光して未硬化樹脂部を硬化させて前記
特定パターンのスペーサ手段を形成し、前記基板のいず
れかの基板の上に所定量の液晶を滴下して２枚の基板を
減圧雰囲気下で貼り合わせることを特徴とする。

【００１４】この構成によると、セルへの液晶の注入が
短時間で行うことができる。請求項３記載の液晶表示パ
ネルの製造方法は、請求項１または請求項２において、
転写された樹脂層が黒色の感光性樹脂層であることを特
徴とする。この構成によると、スペーサ材料を黒色にし
て光の透過を遮蔽することで、スペーサを遮光層として
利用することもできる。

【００１５】請求項４記載の液晶表示パネルの製造方法
は、請求項１〜請求項３において、転写材としてローラ
を使用することを特徴とする。請求項５記載の液晶表示
パネルの製造方法は、請求項１〜請求項４のいずれかに
おいて、再転写された樹脂層が液晶表示パネルの画素と
画素の間に形成されることを特徴とする。

【００１６】この構成によると、スペーサによる光モレ
や光の遮断などが無くなり、パネルとしてのコントラス
トや透過率を向上させることができる。請求項６記載の
液晶表示パネルの製造方法は、請求項１〜請求項５のい
ずれかにおいて、再転写は、前記一方の基板の遮光層の
上に行うことを特徴とする。以下、本発明の各実施の形
態を図１〜図５を用いて、具体的な実施例に基づいて説
明する。

【００１７】なお、上記従来例を示す図６および図７と
同様をなすものには同一の符号を付けて説明する。（実施の形態１）図１と図２は本発明の（実施の形態
１）を示す。この（実施の形態１）では、従来のＴＦＴ
−ＴＮモードの液晶表示パネルよりもセルギャップの精
度を上げるためにスペーサの構成を特殊にした点で異な
るが、それ以外の基本的な構成は上記従来例を示す図６
および図７とほぼ同様である。

【００１８】すなわち、上記従来例ではセルギャップを
均一にするためのスペーサとして、粒子状のスペーサ１
２を用い、これを基板の表面に分散させていたが、この
（実施の形態１）では、スペーサ手段として、粒子状ス
ペーサ１２の代りにパターン形成された樹脂層６ａを用
いる。パターン形成された樹脂層６ａは、以下の手順に
て作製される。

【００１９】まず、感光性樹脂層が形成された基材に、
特定パターンの露光を実施することにより、液晶セルの
間隔を保持するスペーサ手段となる未硬化樹脂部とそれ
以外の硬化樹脂部とが形成される。感光性樹脂層の未硬
化樹脂部は、転写材としてのローラに配置された版面に
転写され、版面上の未硬化樹脂部は液晶表示パネルを構
成する予め配向処理が施された第１の基板１ａの上に再
転写される。

【００２０】この第１の基板１ａを露光して未硬化樹脂
部を硬化することにより、特定パターンのスペーサ手段
としての樹脂層６ａが形成される。このスペーサ手段と
しての樹脂層６ａが形成された第１の基板１ａと第２の
基板１ｂとを対向させ、シール材９にて貼り合わせたセ
ルに液晶を充填することにより液晶セルが形成される。

【００２１】液晶セルの外周部には、両基板が互いに重
複していないエリアが形成されており、このエリアにド
ライバーＬＳＩ１０が実装されて液晶表示装置が形成さ
れる。このように構成された液晶表示装置は、スペーサ
となる樹脂層６ａが転写法によりあらかじめパターン化
されて形成されているため、樹脂層６ａの形成位置およ
び高さを制御することができ、セルギャップを均一にす
ることができる。

【００２２】なお、再転写された樹脂層６ａは、液晶表
示パネルの画素と画素との間に形成されることが好まし
く、このような構成によるとスペーサによる光もれや光
の遮断などが無くなり、パネルとしてのコントラストや
透過率を向上させることができる。また、樹脂層６ａの
厚みを液晶層の圧みと同じとすると、より一層セルギャ
ップを均一にすることができる。

【００２３】なお、上記（実施の形態１）では転写材と
してローラを用いたが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、未硬化の樹脂部を転写して転写した樹脂部を
液晶表示パネルを構成する基板に再転写できるものであ
れば好適に使用できる。以下にこの具体例を示す。実施例１第１のガラス基板１ａの片面には、パターン化していな
いＩＴＯ電極２を基板の全面に形成した。また、第２の
ガラス基板１ｂの片面には、上記従来例を示す図７と同
様にマトリクス状の金属配線１１とＴＦＴ８とを設け、
ＩＴＯ薄膜を用いた透明の画素電極３を形成して、画素
電極３での電界のスイッチングを各画素ごとに形成した
ＴＦＴ８が制御するよう構成した。

【００２４】画素のピッチは、行方向３００μｍで６０
０本、列方向１００μｍで２４００本とし、画素間スペ
ースは縦・横ともに１５μｍとした。上記のように形成
された第１のガラス基板１ａと第２のガラス基板１ｂに
は、配向材料として透明樹脂であるポリイミド材料（日
本合成ゴム株式会社製、オプトマーＡＬ１２５４）を用
い、それぞれの基板の表面に印刷塗布して、２００℃で
１時間加熱乾燥して、膜厚５０ｎｍ配向膜４ａ，４ｂを
設けた。得られた配向膜４ａ，４ｂには、通常の回転ラ
ビング方法により配向処理を施した。

【００２５】液晶セルに充填する液晶５としては、ネマ
チック液晶材料を用いた。このネマチック液晶材料は、
正の屈折率異方性（Δｎ）をもち、Δｎ値は０.９８
で、液晶の螺旋ピッチが２０μｍになるようにカイラル
液晶を混合した混合液晶組成物である。スペーサとなる
樹脂層６ａは、以下のようにして形成した。

【００２６】厚さ５.１μｍの感光性ポリイミド材料を
形成した基材を用意し、図７の画素電極３に相当する部
分のみが開口したマスクを介して紫外線を照射して、未
硬化の樹脂部と硬化樹脂部とを作製した。この基材の表
面に、直径２０ｃｍの金属製ローラを５０℃に加温した
状態で回転しながら押し当てて、未硬化の樹脂部のみを
このローラに転写した。

【００２７】ローラに転写された未硬化の樹脂部は、６
０℃に加温されながら第１の基板１ａに回転しながら押
し当てられ、感光性ポリイミドが第１の基板１ａに再転
写された。そして前記第１の基板１ａに紫外線を照射し
て、転写した未硬化の感光性ポリイミドを硬化して、ス
ペーサとなる樹脂層６ａを形成した。

【００２８】この第１の基板１ａの外周部に、横２４６
ｍｍ×縦１８５ｍｍの長方形状になるようにディスペン
サーを用いてシール材９を塗布した。このシール材９
は、５.１μｍの直径のガラスビーズを１重量部混合し
た紫外線硬化性樹脂であり、シール材９の塗布量は、両
基板を貼り合わせた後にシール幅が０.５ｍｍになるよ
うに調整した。

【００２９】次に、第２の基板１ｂの上に必要量の液晶
５を滴下し、両基板を減圧（１００パスカル）下で貼り
合わせて、周囲を紫外線硬化樹脂で封じた後、パネル全
体を１２０℃で５時間、加熱放置した。最後に、作製し
た液晶パネルの外表面に、偏光板７ａ，７ｂを貼ってＴ
ＦＴ−ＴＮ液晶表示素子を作製した。

【００３０】このようにして作製した液晶表示素子に、
図１に示すようにドライバーＬＳＩ５２を取り付けてＴ
ＦＴ−ＴＮ液晶表示モジュールを完成した。得られたＴ
ＦＴ−ＴＮ液晶表示モジュールに電気信号を与えて、第
２の基板１ｂの側から拡散光で照明し、各画素を表示さ
せて表示特性を測定した。基板面に垂直な方向から測定
したコントラスト値は、最大１５０：１であった。ま
た、中間調表示の電圧をかけた状態で表示領域を観測し
たところ、全面にわたって均一な表示状態を示してお
り、ギャップムラに起因する輝度ムラの発生はなかっ
た。

【００３１】なお、上記実施例１では、滴下法により液
晶セルを作製したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、樹脂層を形成した基板と他方の基板とを貼り合
わせたセルに真空状態で液晶を注入する真空注入法にり
液晶セルを形成することもできる。ただし、この真空注
入法により液晶セルを形成する場合には、液晶の注入に
時間がかかるため、上記のような滴下工法によるものが
好適である。

【００３２】（実施の形態２）この（実施の形態２）で
は、第１の基板１ａとして遮光層１１の形成された基板
を用いた点で異なるが、それ以外の基本的な構成は上記
（実施の形態１）とほぼ同様である。図３と図４は、本
発明の（実施の形態２）を示す。

【００３３】以下にその具体例を示す。実施例２第１の基板１ａには、マトリクス状の遮光層１１が形成
されている。この遮光層１１が互いに交差する部分にス
ペーサとしての樹脂層６ｂが形成されるように、上記
（実施の形態１）と同様の透明樹脂であるポリイミド材
料を用いて、同様に転写法にてパターニングすることに
より樹脂層６ｂを形成した。

【００３４】このとき遮光層１１と樹脂層６ｂとを重ね
た厚みは、液晶層の厚みと同じになるように構成してい
る。得られた液晶表示パネルは、上記実施例１における
液晶表示パネルよりも、遮光層１１が設けられた分だけ
コントラスト比が上昇した。さらに、遮光層１１と樹脂
層６ｂとを重ねた厚みが液晶層の厚みと同じになるた
め、セルギャップの良いものが得られた。

【００３５】ここで、従来の粒状スペーサを用いたもの
との比較を行うために、以下の比較例１を行った。比較例１上記従来例を示す図６，図７と同様にして、ＴＦＴ−Ｔ
Ｎ方式の液晶表示パネルを作製した。

【００３６】第１，第２の基板１ａ，１ｂの形状および
電極パターン、配向膜４ａ，４ｂは、上記実施例１と同
一のものとした。遮光層１１は、アクリル系ネガ型黒色
レジストを用いて、第１の基板１ａの上に第２の基板１
ｂの画素電極３の周辺に相当する部分（金属配線部）
に、高さ１μｍとなるように形成した。

【００３７】液晶セルに充填する液晶５には、液晶５の
螺旋ピッチが８０μｍになるようにカイラル液晶を混合
した以外は、実施例１と同じ△ｎ値が０.９８の混合液
晶組成物でを用いた。また、第２の基板１ｂには、粒径
５.１μｍのプラスチックスペーサ１２を、１００個／
ｍｍ²密度で散布し、その後で必要量の液晶５を滴下し
た。

【００３８】その後、上記実施例１と同様にして第１の
基板１ａと第２の基板１ｂとをシール材にて貼り合わせ
て液晶セルを形成し、ドライバーＬＳＩ１０を取り付け
たＴＦＴ−ＴＮ液晶表示モジュールを作成した。このＴ
ＦＴ−ＴＮ液晶表示モジュールに電気信号を与えて、第
２の基板１ｂの側から拡散光で照明し、全画素を中間調
表示させたところ、部分的に輝度ムラのある表示となっ
た。

【００３９】また、表示部のうち暗い領域を顕微鏡で反
射観測したところ、画素を取り巻く配線部分やトランジ
スタ領域にスペーサが多く存在していた。また、方、表
示部の一番明るい領域を同じように顕微鏡で観察したと
ころ、画素を取り巻く配線部分やトランジスタ領域には
殆どスペーサが存在しておらず、かつ全体にスペーサ数
も少ないことが分かった。

【００４０】（実施の形態３）図５は、本発明の（実施
の形態３）を示す。この（実施の形態３）では、樹脂層
６ａ，６ｂを形成する樹脂として透明な樹脂の代りに、
黒色顔料を含有した樹脂を用いて樹脂層６ｃを形成する
点で異なるが、それ以外の基本的な構成は上記（実施の
形態１）（実施の形態２）とほぼ同様である。

【００４１】以下にこの（実施の形態３）を具体例を示
す。実施例３スペーサとしての樹脂層６ｃを第１の基板１ａに形成す
るに際し、樹脂材料として、感光性ポリイミド樹脂の代
りに、黒色顔料分散型のアクリル系フォトレジストを用
いた。

【００４２】そして、上記実施例１と同様の材料・構成
で、かつ同じプロセスを経てＴＦＴ−ＴＮ液晶表示モジ
ュールを作製した。得られたＴＦＴ−ＴＮ液晶表示モジ
ュールに電気信号を与えて、第２の基板１ｂの側から拡
散光で照明し、各画素を表示させて特性を測定したとこ
ろ、基板面に垂直な方向から測定したコントラスト値
は、最大２５０：１と実施例１よりもコントラスト値は
高くなっていた。

【００４３】また、中間調表示の電圧をかけた状態で表
示領域を観測したところ、全面にわたって均一な表示状
態を示しており、ギャップムラや配向乱れに起因するよ
うな輝度ムラは発生しなかった。

【００４４】

【発明の効果】以上のように本発明の液晶表示パネルの
製造方法によると、感光性樹脂層が形成された基材に、
特定パターンの露光を実施して前記基板を貼り合わせた
後に間隔保持するスペーサ手段となる未硬化樹脂部とそ
れ以外の硬化樹脂部とを形成し、感光性樹脂層の前記未
硬化樹脂部を転写材に転写し、転写材の未硬化樹脂部を
前記基板の一方の基板に再転写し、前記一方の基板を露
光して未硬化樹脂部を硬化させて前記特定パターンのス
ペーサ手段を形成し、このスペーサ手段が形成された一
方の基板を前記基板の他方の基板と貼り合わせて形成し
た液晶セルに液晶を充填することで、転写法によりあら
かじめパターン化された樹脂層をスペーサとして用いる
ことができ、感光性樹脂層の厚さを制御することにより
スペーサの高さを一定にしてセルギャップを均一にでき
るとともに、液晶表示パネルの基板上の凹凸部を考慮し
てスペーサの形成位置を正確に制御することができる。

【００４５】また、スペーサ手段が形成された基板と他
方の基板とを貼り合わせて液晶セルを製造する際には、
滴下法にて液晶セルを形成することで、上記の効果に加
えてセルへの液晶の注入を短時間で行うことができ、製
造工程の短縮を図ることができる。また、転写された樹
脂層を黒色の感光性樹脂にて形成することで、スペーサ
を遮光層として利用することができる。

【００４６】また、再転写された樹脂層を液晶表示パネ
ルの画素と画素の間に形成することで、スペーサによる
光モレや光の遮断などが無くなり、パネルとしてのコン
トラストや透過率を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（実施の形態１）における液晶表示パネルの断
面図

【図２】（実施の形態１）における液晶表示パネルの平
面図

【図３】（実施の形態１）における別の液晶表示パネル
の断面図

【図４】図３に示す液晶表示パネルの模式図

【図５】（実施の形態２）における液晶表示パネルの断
面図

【図６】従来の液晶表示パネルの断面図

【図７】従来の液晶表示パネルの模式図

【符号の説明】

１ａ第１の基板１ｂ第２の基板２ＩＴＯ電極３画素電極５液晶６ａ，６ｂ樹脂層８ＴＦＴ１１遮光層１２スペーサ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板の間に液晶が充填された液晶表
示パネルを製造するに際し、感光性樹脂層が形成された基材に、特定パターンの露光
を実施して前記基板を貼り合わせた後に間隔保持するス
ペーサ手段となる未硬化樹脂部とそれ以外の硬化樹脂部
とを形成し、感光性樹脂層の前記未硬化樹脂部を転写材に転写し、転写材の未硬化樹脂部を前記基板の一方の基板に再転写
し、前記一方の基板を露光して未硬化樹脂部を硬化させて前
記特定パターンのスペーサ手段を形成し、このスペーサ手段が形成された一方の基板を前記基板の
他方の基板と貼り合わせて形成した液晶セルに液晶を充
填する液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】一対の基板の間に液晶が充填された液晶表
示パネルを製造するに際し、感光性樹脂層が形成された基材に、特定パターンの露光
を実施して前記基板を貼り合わせた後に間隔保持するス
ペーサ手段となる未硬化樹脂部とそれ以外の硬化樹脂部
とを形成し、感光性樹脂層の前記未硬化樹脂部を転写材に転写し、転写材の未硬化樹脂部を前記基板の一方の基板に再転写
し、前記一方の基板を露光して未硬化樹脂部を硬化させて前
記特定パターンのスペーサ手段を形成し、前記基板のいずれかの基板の上に所定量の液晶を滴下し
て２枚の基板を減圧雰囲気下で貼り合わせる液晶表示パ
ネルの製造方法。
【請求項３】転写された樹脂層が黒色の感光性樹脂層で
ある請求項１または請求項２記載の液晶表示パネルの製
造方法。
【請求項４】転写材としてローラを使用する請求項１〜
請求項３のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方
法。
【請求項５】再転写された樹脂層が液晶表示パネルの画
素と画素の間に形成される請求項１〜請求項４のいずれ
かに記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】再転写は、前記一方の基板の遮光層の上に
行う請求項１〜請求項５のいずれかに記載の液晶表示パ
ネルの製造方法。