JP2000338506A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 着色フィルタ層のカケや欠損に起因する光抜
けによる輝点欠陥を防止すると共に、シール部材とカラ
ーフィルタ基板の十分な接着強度を確保する。 【解決手段】 カラーフィルタ基板２Ａの遮光膜を、各
着色フィルタ層７を取り囲む樹脂遮光膜８と、この樹脂
遮光膜８の外周にその外縁に接するように配置された額
縁状の金属遮光膜９で構成し、基板貼り合わせ用のシー
ル部材１２を金属遮光膜９上に形成する。樹脂遮光膜８
は、金属遮光膜９及び着色フィルタ層７をマスクとした
裏面露光により形成されるので、着色フィルタ層７にパ
ターン不良によるカケや欠損が生じても樹脂遮光膜８に
よって埋められるため、光抜けによる輝点欠陥を防止す
ることができる。さらに、金属遮光膜９はシール部材１
２との接着強度が大きいため、十分な基板の貼り合わせ
強度が確保でき、表示品質及び信頼性の高い液晶表示装
置が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関
し、特に、カラーフィルタ基板の着色フィルタ層のカケ
または欠損に起因する光抜けによる輝点欠陥を防止し、
且つ十分な基板貼り合わせ強度を確保できる表示品質及
び信頼性の高い液晶表示装置及びその製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】図６は、従来の液晶表示装置の一例を示
す断面図である。図において、１００Ｂは従来の液晶表
示装置であり、アレイ基板１Ｂとカラーフィルタ基板２
Ｂより構成されている。アレイ基板１Ｂの構成要素は以
下の通りである。１は例えばガラス基板等の透明絶縁性
基板であり、透明絶縁性基板１上にはスイッチング素子
である複数の薄膜トランジスタ３とこれに接続された複
数の画素電極４が形成されている。また、５は窒化シリ
コンや透明性絶縁樹脂からなる保護膜、６はポリイミド
からなる配向膜である。次に、カラーフィルタ基板２Ｂ
の構成要素について説明する。２は例えばガラス基板等
の透明絶縁性基板、７はアレイ基板１Ａの画素電極４に
対応するように配置された着色フィルタ層であり、赤、
緑及び青の着色フィルタ層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが一定間隔
をおいて周期的に配置されている。９はＣｒ等の金属か
らなる金属遮光膜、１０はＩＴＯ等の透明導電膜からな
る透明電極、１１はポリイミドからなる配向膜である。
また、１２はアレイ基板１Ｂ及びカラーフィルタ基板２
Ｂ間の外縁部に設けられ、両基板を貼り合わせるエポキ
シ樹脂からなるシール部材であり、少なくとも一方の透
明絶縁性基板の所定の非表示領域に印刷により形成され
ている。さらに、１３はアレイ基板１Ｂ、カラーフィル
タ基板２Ｂ及びシール部材１２によって形成される空間
に配置された液晶層である。図６に示す従来の液晶表示
装置では、シール部材１２は、カラーフィルタ基板２Ｂ
上の外周部に額縁状に形成された金属遮光膜９と、対向
するアレイ基板１Ｂ上に形成されたの保護膜５を介して
それぞれの基板と接着されることにより、十分な接着強
度が確保されていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように構成された従来の液晶表示装置において、例えば
図７に示すように、カラーフィルタ基板２Ｂの着色フィ
ルタ層７にカケや欠損が発生した場合、その部分が光抜
けによる輝点欠陥となり、表示品質の低下や歩留まり低
下の大きな要因となっていた。図７において、１５は緑
の着色フィルタ層７Ｇに発生したカケを示している。こ
のような問題点を解決する方法として、例えば特開平１
−２９３３０６号公報では、カラーフィルタ基板に赤、
緑、青の着色フィルタ層を順次形成した後に黒色レジス
トを塗布し、表示領域内の着色フィルタ層をマスクとし
て裏面露光し樹脂遮光膜を形成する方法が提案されてい
る。この方法によれば、着色フィルタ層にカケまたは欠
損があっても、その部分が黒色レジストからなる樹脂遮
光膜で埋められるため、光抜けによる輝点欠陥を自己修
復的に回避することが可能となり、表示品質や歩留まり
の低下を防止することができる。しかしながら、この構
造では、樹脂遮光膜上にシール部材を形成することにな
り、一般にエポキシ樹脂からなるシール部材と樹脂遮光
膜の接着強度は小さいため、カラーフィルタ基板とアレ
イ基板の貼り合わせ強度が低下するという問題が発生し
ていた。

【０００４】この問題を解決する方法が、例えば特開平
１０―１７０９３０号公報に開示されている。これによ
ると、シール部材を樹脂遮光膜よりも液晶表示装置の外
周側へずらし、遮光性のあるシール部材の内周側だけに
樹脂遮光膜が存在し、その外周部でＴＦＴアレイ基板と
カラーフィルタ基板を直接接着させる技術が開示されて
いる。しかしながら、このような構造では、カラーフィ
ルタ基板とシール部材の接着強度が未だ十分ではなく、
また、近年の液晶表示装置においては、パネルサイズに
比してＴＦＴ−ＬＣＤ本体のサイズ小型化が進んでいる
ことや生産性の向上のために、必要最小限のガラスサイ
ズで効率良くパネルの多面取りを行う必要があること等
から、パネルの表示領域外側の余裕度は少なく、いわゆ
る狭額緑化になる傾向にあるため、シール部材を外周方
向にずらして形成し、貼り合わせ強度を確保するという
方法は好ましくない。

【０００５】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、カラーフィルタ基板の着色フィ
ルタ層のカケや欠損に起因する光抜けによる輝点欠陥を
防止すると共に、シール部材とカラーフィルタ基板の十
分な接着強度を確保することが可能な表示品質及び信頼
性の高い液晶表示装置及びその製造方法を提供すること
を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明に係わる液晶表示
装置は、透明絶縁性基板上に複数の薄膜トランジスタと
これに接続された複数の画素電極が形成されたアレイ基
板と、別の透明絶縁性基板上に各画素電極に対応する複
数の着色フィルタ層と、各着色フィルタ層を取り囲む樹
脂遮光膜と、この樹脂遮光膜の外周にその外縁に接する
ように配置された額縁状の金属遮光膜が形成され、アレ
イ基板と対向配置されるカラーフィルタ基板と、アレイ
基板及びカラーフィルタ基板間の外縁部に設けられ、両
基板を貼り合わせるシール部材と、アレイ基板、カラー
フィルタ基板及びシール部材によって形成される空間に
配置された液晶層を備え、シール部材は、少なくともそ
の一部が金属遮光膜を介してカラーフィルタ基板と接着
しているものである。また、シール部材は、カラーフィ
ルタ基板との接着面全面において、金属遮光膜を介して
カラーフィルタ基板と接着しているものである。

【０００７】また、カラーフィルタ基板は、着色フィル
タ層及び樹脂遮光膜を完全に覆う透明導電膜を有するも
のである。また、カラーフィルタ基板は、着色フィルタ
層及び樹脂遮光膜を覆う平坦化膜を有するものである。
また、カラーフィルタ基板は、金属遮光膜と同じ材料で
形成された位置合わせ用マークを有するものである。さ
らに、金属遮光膜として、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｃｒ／ＣｒＯ
ｘ、Ｍｏ／Ｍo Ｏｘのいずれかを用いたものである。

【０００８】また、本発明に係わる液晶表示装置の製造
方法は、透明絶縁性基板表面上の外周部に、Ｃｒ等の金
属よりなる額縁状の金属遮光膜を形成する第一の工程
と、この基板表面上に複数色の着色フィルタ層を順次形
成する第二の工程と、この基板表面上にネガ型感光性の
黒色樹脂を塗布後、金属遮光膜、着色フィルタ層及び金
属遮光膜よりも基板外周部に形成された周辺マスクをマ
スクとして基板裏面側より露光し、現像することによ
り、各着色フィルタ層を取り囲み金属遮光膜と外縁が接
する樹脂遮光膜を形成する第三の工程と、この基板表面
上に、着色フィルタ層及び樹脂遮光膜を完全に覆うよう
に透明導電膜を形成する第四の工程と、第一の工程〜第
四の工程によって形成されたカラーフィルタ基板と、別
の工程によって形成されたアレイ基板を、シール部材の
少なくとも一部が金属遮光膜を介してカラーフィルタ基
板と接着するように貼り合わせる第五の工程を含んで製
造するようにしたものである。

【０００９】また、第一の工程において、金属遮光膜を
形成すると同時に、位置合わせ用マークを形成するもの
である。さらに、第四の工程において、透明導電膜とし
て酸化インジウム、酸化錫または酸化亜鉛を単独または
組み合わせてなる材料を用い、スパッタリング法によっ
て成膜すると共に、成膜後、成膜時の基板温度よりも高
い温度で熱処理を行うものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】実施の形態１．以下に、本発明の
実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明
の実施の形態１における液晶表示装置を示す断面図であ
る。図において、１００Ａは本実施の形態における液晶
表示装置であり、アレイ基板１Ａとカラーフィルタ基板
２Ａより構成されている。アレイ基板１Ａの構成要素は
以下の通りである。１は例えばガラス基板等の透明絶縁
性基板であり、絶縁性透明基板１上には、複数のゲート
配線（図示せず）及びこれと交差する複数のソース配線
（図示せず）がマトリクス状に形成され、ゲート配線と
ソース配線の交差部付近にはスイッチング素子である複
数の薄膜トランジスタ３及びこれに接続された複数の画
素電極４が形成されている。また、５は窒化シリコンや
透明性絶縁樹脂からなる保護膜、６はポリイミドからな
る配向膜である。次に、アレイ基板１Ａと対向配置され
るカラーフィルタ基板２Ａの構成要素について説明す
る。２は例えばガラス基板等の透明絶縁性基板、７はア
レイ基板１Ａの画素電極４に対応するように配置された
複数の着色フィルタ層であり、赤、緑及び青の着色フィ
ルタ層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが一定間隔をおいて周期的に配
置されている。８は各着色フィルタ層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ
を取り囲む黒色の樹脂遮光膜、９は樹脂遮光膜８の外周
にその外縁に接するように配置されたＣｒ等よりなる額
縁状の金属遮光膜である。また、１０は樹脂遮光膜８及
び着色フィルタ層７を完全に覆うように形成されたＩＴ
Ｏ等の透明導電膜からなる透明電極、１１は透明電極１
０上に形成されたポリイミドからなる配向膜である。ま
た、１２はアレイ基板１Ａ及びカラーフィルタ基板２Ａ
間の外縁部に設けられ、両基板を貼り合わせるエポキシ
樹脂からなるシール部材、１３はアレイ基板１Ａ、カラ
ーフィルタ基板２Ａ及びシール部材１２によって形成さ
れる空間に配置された液晶層である。なお、本実施の形
態では、シール部材１２は、カラーフィルタ基板２Ａと
の接着面全面において、金属遮光膜９を介してカラーフ
ィルタ基板２Ａと接着されているものである。

【００１１】次に、本実施の形態における液晶表示装置
のカラーフィルタ基板２Ａの製造方法を図２を用いて説
明する。まず、例えばガラスからなる透明絶縁性基板２
の表面２ａ上にスパッタリング法により、Ｃr を１００
０Åの厚さで成膜し、レジストを用いたフォトリソグラ
フィ法を用いて、表示領域の外周部に額縁状の金属遮光
膜９を形成する（第一の工程：図２（ａ））。続いて、
この基板表面２ａ上に、赤の顔料を分散させたカラーレ
ジストを約１μｍの厚さになるように塗布し、露光、現
像、ポストベークを行い、所望の画素形状の赤の着色フ
ィルタ層７Ｒを形成する。なお、必要に応じ、色純度を
上げる等の目的でポスト露光をさらに行ってもよい。同
様にして、緑と青の着色フィルタ層７Ｇ、７Ｂも順次形
成する。なお、着色フィルタ層７形成用のカラーレジス
トは、ポジ型感光性、ネガ型感光性のどちらでもよい
（第二の工程：図２（ｂ））。次に、基板表面２ａ上
に、例えばカーボンブラックのような黒色顔料を分散さ
せたネガ型感光性レジスト等の黒色樹脂を塗布後、額縁
状の金属遮光謨９、着色フィルタ層７及び金属遮光膜９
よりもさらに基板外周部に形成されたレジストよりなる
周辺マスク１４をマスクとして、基板裏面２ｂ側より露
光し、現像することにより、各着色フィルタ層７を取り
囲み金属遮光膜９と外縁が接する樹脂遮光膜８を形成す
る（第三の工程：図２（ｃ）、（ｄ））。

【００１２】次に、この基板表面２ａ上に、スパッタリ
ング法によりＩＴＯを約１５００Åの厚さで成膜し、着
色フィルタ層７及び樹脂遮光膜８を完全に覆うように透
明導電膜よりなる透明電極１０を形成する（第四の工
程）。この時、ＩＴＯの成膜後、成膜時の基板温度より
も高い温度で熱処理を行う。本実施の形態では、ＩＴＯ
成膜時の基板温度は１８０℃〜２５０℃が好ましく、成
膜後の熱処理温度は２００〜２７０℃、熱処理時間は３
０分〜６０分、雰囲気は真空中、不活性ガス中、窒素ガ
ス中、大気中のいずれでもよいが、大気が好ましい。こ
れは、成膜時の基板温度を高くすると、着色フィルタ層
７あるいは樹脂遮光膜８の有機樹脂の熱分解による放出
ガスの影響を受け、ＩＴＯの透過率が低下したり、シー
ト抵抗が増大する等の特性の劣化を生じるためである。
したがって、成膜時の基板温度を低く設定し、成膜面か
らの熱分解ガスの発生を抑えることが望ましい。なお、
基板温度を低く設定してスパッタリングをすることによ
りＩＴＯの透過率の低下やシート抵抗値の増大を招く
が、成膜後にスパッタリング時の基板温度よりも高い温
度で熱処理を行うことにより、ＩＴＯの特性を改善する
ことが可能となる。また、透明電極１０のパターニング
は、ＩＴＯ成膜後にフォトリソグラフィ法とエッチング
を用いて行っても良いが、金属遮光膜９を含む端縁側を
マスクとして成膜を行うマスクスパッタリング法を用い
ることにより低コスト化が図られる。

【００１３】さらに、基板表面２ａ上にポリイミドから
なる配向膜１１を形成して、本実施の形態におけるカラ
ーフィルタ基板２Ａを得る（図２（ｅ））。その後、カ
ラーフィルタ基板２Ａの金属遮光膜９上に印刷法を用い
て、額縁状にエポキシ樹脂からなるシール部材１２を形
成し、カラーフィルタ基板２Ａと、別の工程によって形
成されたアレイ基板１Ａを、シール部材１２が金属遮光
膜９を介してカラーフィルタ基板２Ａと接着するように
貼り合わせる（第五の工程）。さらに、所定の位置に設
けられた注入口（図示せず）より液晶を注入し、封止材
（図示せず）により封止することにより、本実施の形態
における液晶表示装置１００Ａが形成される。

【００１４】本実施の形態では、カラーフィルタ基板２
Ａの遮光膜を、各着色フィルタ層７を取り囲む樹脂遮光
膜８と、この樹脂遮光膜８の外周にその外縁に接するよ
うに配置された額縁状の金属遮光膜９で構成し、基板貼
り合わせ用のシール部材１２が金属遮光膜９を介してカ
ラーフィルタ基板２Ａと接着するようにした。樹脂遮光
膜８は、既に形成されている金属遮光膜９及び着色フィ
ルタ層７をマスクとした裏面露光により形成されるの
で、着色フィルタ層７に図３（ａ）及び図３（ｂ）に示
すようなパターン不良によるカケ１５や欠損が生じて
も、樹脂遮光膜８によって自己修復的に埋められるた
め、光抜けによる輝点欠陥を防止することができる。さ
らに、金属遮光膜９はシール部材１２との接着強度が大
きいため、十分な基板の貼り合わせ強度が確保できると
共に、液晶表示装置１００Ａ周縁部からの光漏れを防ぐ
こともできる。

【００１５】また、本実施の形態では、ＩＴＯからなる
透明電極１０を着色フィルタ層７及び樹脂遮光膜８上に
これらを完全に覆うように形成し、且つ透明電極１０が
シール部材１２と重ならないようにした。これにより、
シール部材１２と金属遮光膜９の間に透明電極１０が介
在しないため、カラーフィルタ基板２Ａとシール部材１
２の接着強度は十分に大きいものとなる。ただし、透明
電極１０の外縁を、シール部材１２の内周端と外周端の
中間に位置するように形成してもよい。この場合も、シ
ール部材１２の少なくとも一部は金属遮光膜９と接着す
るので、接着強度は実用上問題ない。また、透明電極１
０を着色フイルタ層７及び樹脂遮光膜８上にこれらを完
全に覆うように形成することにより、着色フイルタ層７
及び樹脂遮光膜８の成分が液晶層１３に溶け込むことを
防止する効果が得られる。

【００１６】実施の形態２．図４は、本発明の実施の形
態２における液晶表示装置を示す断面図である。図にお
いて、１６は着色フィルタ層７及び樹脂遮光膜８上に形
成された平坦化膜である。上記実施の形態１では、着色
フィルタ層７及び樹脂遮光膜８上に直接透明電極１０を
形成したが、本実施の形態では、着色フィルタ層７及び
樹脂遮光膜８をアクリル樹脂からなる厚さ１〜３μｍの
平坦化膜１６で覆い、その上から透明電極１０を形成し
たものである。なお、図中、同一、相当部分には同一符
号を付し、説明を省略する。

【００１７】次に、本実施の形態における液晶表示装置
のカラーフィルタ基板２Ａの製造方法を説明する。ただ
し、裏面露光による樹脂遮光膜８の形成（図２（ａ）〜
図２（ｄ））までの工程については上記実施の形態１と
同様であるので、説明を省略する。樹脂遮光膜８の形成
後、スピンコート法により、アクリル樹脂からなる厚さ
３μｍの平坦化膜１６を形成する。続いて、ＩＴＯをス
パッタリング法により成膜し、厚さ約１５００Åの透明
電極１０を形成する。さらに、ポリイミドからなる配向
膜１１を形成して、本実施の形態におけるカラーフィル
タ基板２Ａを得る。

【００１８】本実施の形態においても、上記実施の形態
１と同様に、シール部材１２はカラーフィルタ基板２Ａ
との接着面全面において、金属遮光膜９を介してカラー
フィルタ基板２Ａと接着しているため、シール部材１２
とカラーフィルタ基板２Ａの十分な接着強度が得られ、
且つ、着色フィルタ層７の一部にカケや欠損がある場合
にも、その部分には黒色の樹脂遮光膜８が形成されるた
め、光抜けによる輝点欠陥を防止することができる。さ
らに、本実施の形態では、着色フイルタ層７及び樹脂遮
光膜８上にアクリル樹脂からなる厚さ１〜３μｍの平坦
化膜１６を形成することにより、樹脂遮光膜８と着色フ
ィルタ層７間の段差を平坦化させることができるので、
ＩＴＯからなる透明電極１０のカバレッジが改善され、
表示品質と信頼性がさらに向上する。また、平坦化膜１
６を形成することにより配向膜１１も平坦化されるた
め、配向不良の発生を抑制することができる。また、ス
パッタリング法による透明電極１０形成の際に、着色フ
ィルタ層７が平坦化膜１６で保護されているので、スパ
ッタリングのプラズマイオンによる着色フィルタ層７の
色度の変化や透過率の低下等のダメージを防ぐことがで
きる。

【００１９】実施の形態３．上記実施の形態１及び２に
おいて、カラーフィルタ基板２Ａ上に金属遮光膜９を形
成する際に、図５（ａ）及び図５（ｃ）に示すような位
置合わせ用マークを形成することもできる。図５におい
て、１７はカラーフィルタ基板２Ａ上に形成された位置
合わせ用マークであり、１８はアレイ基板１Ａ上に形成
された位置合わせ用マークである。位置合わせ用マーク
１７、１８は、その後の工程におけるフォトリソグラフ
ィ用として、またはカラーフィルタ基板２Ａとアレイ基
板１Ａの貼り合わせ時の位置合わせ用として用いられ
る。なお、図５（ｃ）、（ｄ）は、それぞれ図５
（ａ）、（ｂ）の丸で囲んだ部分の拡大平面図である。
本実施の形態では、カラーフィルタ基板２Ａ上にＣｒ等
の金属を成膜、パターニングし、金属遮光膜９を形成す
る際に、図５（ｃ）に示すような位置合わせ用マーク１
７を同時に形成する。一方、アレイ基板１Ａ上には、金
属による配線（図示せず）を形成する際に、図５（ｄ）
に示すような位置合わせ用マーク１８を同時に形成す
る。これにより、工程を増やすことなく、位置合わせ精
度の高いマークを形成することが可能である。

【００２０】なお、上記実施の形態１〜３においては、
赤、緑及び青の着色フィルタ層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ及び樹
脂遮光膜８を、それぞれ赤、緑、青及び黒の顔料を分散
させたカラーレジストを用いてスピン塗布法により形成
する方法を示したが、各色材をフィルム材上に層状に加
工したものを加熱ロールにより基板にラミネート（転
写）してもよい。この場合、生産性が向上するため、コ
スト低減を図ることができる。また、上記実施の形態１
〜３では、金属遮光膜９としてＣｒを用いたが、これに
限るものではなく、他の光の反射率の低い金属材料、例
えばＭｏ等を用いることが可能である。またメタル自身
の酸化物を下地として形成したＣｒ／ＣｒＯｘ、Ｍｏ／
Ｍo Ｏｘ等も反射率を低くすることができるので好まし
い。また、透明電極１０は、ＩＴＯに限るものではな
く、酸化インジウム、酸化錫または酸化亜鉛を単独また
は組み合わせてなる材料を用いることができる。いずれ
の場合もスパッタリング法によって成膜すると共に、成
膜後、成膜時の基板温度よりも高い温度で熱処理を行う
ことが望ましい。

【００２１】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、カラー
フィルタ基板の遮光膜を、各着色フィルタ層を取り囲む
樹脂遮光膜と、この樹脂遮光膜の外周にその外縁に接す
るように配置された額縁状の金属遮光膜により構成し、
シール部材の少なくとも一部が金属遮光膜を介してカラ
ーフィルタ基板と接着するようにしたので、着色フィル
タ層にカケや欠損がある場合にも樹脂遮光膜によってそ
の部分を埋めることができ、光抜けによる輝点欠陥を防
止することができると共に、シール部材とカラーフィル
タ基板の十分な接着強度を確保することができ、表示品
質及び信頼性の高い液晶表示装置を得ることができる。

【００２２】また、カラーフィルタ基板は着色フィルタ
層及び樹脂遮光膜を完全に覆う透明導電膜を有するの
で、着色フィルタ層及び樹脂遮光膜の成分が液晶層に溶
け込むことを防止することができる。

【００２３】また、カラーフィルタ基板は着色フィルタ
層及び樹脂遮光膜を覆う平坦化膜を有するので、着色フ
ィルタ層を保護すると共に、着色フィルタ層と樹脂遮光
膜間の段差が解消され、透明導電膜のカバレッジの改善
や、配向不良の発生を抑制することができる。

【００２４】さらに、金属遮光膜を形成すると同時に位
置合わせ用マークを形成することにより、工程数を増や
すことなく、位置合わせ精度の高いマークを形成するこ
とが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態１における液晶表示装置
を示す断面図である。

【図２】 本発明の実施の形態１における液晶表示装置
を構成するカラーフィルタ基板の製造方法を示す断面図
である。

【図３】 本発明の実施の形態１におけるカラーフィル
タ基板の光抜けによる輝点欠陥の防止効果を説明する平
面図及び断面図である。

【図４】 本発明の実施の形態２における液晶表示装置
を示す断面図である。

【図５】 本発明の実施の形態３における液晶表示装置
を構成するアレイ基板及びカラーフィルタ基板を示す平
面図及び部分拡大平面図である。

【図６】 従来の液晶表示装置を示す断面図である。

【図７】 従来の液晶表示装置において発生する光抜け
による輝点欠陥を説明する断面図である。

【符号の説明】

１、２ 透明絶縁性基板、１Ａ、１Ｂ アレイ基板、２
Ａ、２Ｂ カラーフィルタ基板、３ 薄膜トランジス
タ、４ 画素電極、５ 保護膜、６ 配向膜、７ 着色
フィルタ層、７Ｒ 赤の着色フィルタ層、７Ｇ 緑の着
色フィルタ層、７Ｂ 青の着色フィルタ層、８ 樹脂遮
光膜、９ 金属遮光膜、１０ 透明電極、１１ 配向
膜、１２ シール部材、１３ 液晶層、１４ 周辺マス
ク、１５ 着色フィルタ層のカケ、１６ 平坦化膜、１
７、１８ 位置合わせ用マーク、１００Ａ、１００Ｂ
液晶表示装置。

フロントページの続き (72)発明者 津村 顯 熊本県菊池郡西合志町御代志997番地 株 式会社アドバンスト・ディスプレイ内 (72)発明者 中口 佳祐 熊本県菊池郡西合志町御代志997番地 株 式会社アドバンスト・ディスプレイ内 Ｆターム(参考） 2H042 AA09 AA15 AA26 2H089 LA48 NA38 NA45 QA12 QA16 2H091 FA02Y FA35Y FB08 FC10 LA12 LA30

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明絶縁性基板上に複数の薄膜トランジ
   スタとこれに接続された複数の画素電極が形成されたア
   レイ基板、 別の透明絶縁性基板上に上記各画素電極に対応する複数
   の着色フィルタ層と、上記各着色フィルタ層を取り囲む
   樹脂遮光膜と、この樹脂遮光膜の外周にその外縁に接す
   るように配置された額縁状の金属遮光膜が形成され、上
   記アレイ基板と対向配置されるカラーフィルタ基板、 上記アレイ基板及び上記カラーフィルタ基板間の外縁部
   に設けられ、上記両基板を貼り合わせるシール部材、 上記アレイ基板、上記カラーフィルタ基板及び上記シー
   ル部材によって形成される空間に配置された液晶層を備
   え、 上記シール部材は、少なくともその一部が上記金属遮光
   膜を介して上記カラーフィルタ基板と接着していること
   を特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】 シール部材は、カラーフィルタ基板との
   接着面全面において、金属遮光膜を介して上記カラーフ
   ィルタ基板と接着していることを特徴とする請求項１記
   載の液晶表示装置。
3. 【請求項３】 カラーフィルタ基板は、着色フィルタ層
   及び樹脂遮光膜を完全に覆う透明導電膜を有することを
   特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装
   置。
4. 【請求項４】 カラーフィルタ基板は、着色フィルタ層
   及び樹脂遮光膜を覆う平坦化膜を有することを特徴とす
   る請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の液晶表示
   装置。
5. 【請求項５】 カラーフィルタ基板は、金属遮光膜と同
   じ材料で形成された位置合わせ用マークを有することを
   特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の
   液晶表示装置。
6. 【請求項６】 金属遮光膜として、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｃｒ／
   ＣｒＯｘ、Ｍｏ／Ｍo Ｏｘのいずれかを用いたことを特
   徴とする請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の液
   晶表示装置。
7. 【請求項７】 透明絶縁性基板表面上の外周部に、Ｃｒ
   等の金属よりなる額縁状の金属遮光膜を形成する第一の
   工程、 上記基板表面上に複数色の着色フィルタ層を順次形成す
   る第二の工程、 上記基板表面上にネガ型感光性の黒色樹脂を塗布後、上
   記金属遮光膜、上記着色フィルタ層及び上記金属遮光膜
   よりも基板外周部に形成された周辺マスクをマスクとし
   て上記基板裏面側より露光し、現像することにより、上
   記各着色フィルタ層を取り囲み上記金属遮光膜と外縁が
   接する樹脂遮光膜を形成する第三の工程、 上記基板表面上に、上記着色フィルタ層及び上記樹脂遮
   光膜を完全に覆うように透明導電膜を形成する第四の工
   程、 上記第一の工程〜第四の工程によって形成されたカラー
   フィルタ基板と、別の工程によって形成されたアレイ基
   板を、シール部材の少なくとも一部が上記金属遮光膜を
   介して上記カラーフィルタ基板と接着するように貼り合
   わせる第五の工程を備えたことを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
8. 【請求項８】 第一の工程において、金属遮光膜を形成
   すると同時に、位置合わせ用マークを形成することを特
   徴とする請求項７記載の液晶表示装置の製造方法。
9. 【請求項９】 第四の工程において、透明導電膜として
   酸化インジウム、酸化錫または酸化亜鉛を単独または組
   み合わせてなる材料を用い、スパッタリング法によって
   成膜すると共に、成膜後、成膜時の基板温度よりも高い
   温度で熱処理を行うことを特徴とする請求項７または請
   求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。