JP2000339675A - Magnetic tape manufacturing method and magnetic tape manufacturing apparatus - Google Patents
Magnetic tape manufacturing method and magnetic tape manufacturing apparatusInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ベースフィルム上に金属磁性薄膜を成膜した
時に生じるカッピングと2本シワを低減する。
【解決手段】 真空槽内で帯状のベースフィルムを冷却
キャンロールの周面に沿って走行させながら、冷却キャ
ンロールの下方に設置したルツボ内の金属磁性材料を蒸
発させて、ベースフィルム8の一方の面8aに金属磁性
薄膜Magを成膜した後に、真空中(真空槽2内)でベ
ースフィルム8の一方の面8aと反対側の他方の面8b
に低パワー電子ビームを照射することを特徴とする磁気
テープの製造方法を提供する。
(57) [Problem] To reduce cupping and two wrinkles generated when a metal magnetic thin film is formed on a base film. SOLUTION: While moving a strip-shaped base film along a peripheral surface of a cooling can roll in a vacuum chamber, a metal magnetic material in a crucible installed below the cooling can roll is evaporated to form one of the base films 8. After the metal magnetic thin film Mag is formed on the surface 8a of the base film 8, the other surface 8b opposite to the one surface 8a of the base film 8 in a vacuum (in the vacuum chamber 2).
And a method for manufacturing a magnetic tape, comprising irradiating a magnetic tape with a low-power electron beam.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープの製造
方法及び磁気テープの製造装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic tape manufacturing method and a magnetic tape manufacturing apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ディジタル・ビデオ・テープレコ
ーダなどに適用される磁気テープは、高密度及び薄膜化
を達成するために、とくに、薄膜磁気テープ,垂直磁気
テープが注目されている。2. Description of the Related Art In recent years, thin-film magnetic tapes and perpendicular magnetic tapes have attracted attention as magnetic tapes applied to digital video tape recorders and the like in order to achieve high density and thin film.
【0003】図4は斜方蒸着法を適用した一般的な薄膜
磁気テープ製造用蒸着装置の構成を示した構成図、図5
は一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置内の冷却キャ
ンロール近傍を示した斜視図、図6は一般的な薄膜磁気
テープ製造用蒸着装置によりベースフィルム上に金属磁
性薄膜を蒸着により成膜した時のフィルム位置に対する
温度を示した熱解析結果図、図7は一般的な薄膜磁気テ
ープ製造用蒸着装置によりベースフィルム上に金属磁性
薄膜を蒸着により成膜した時に生じるカッピングと2本
シワとを説明するための図である。FIG. 4 is a block diagram showing the structure of a general thin film magnetic tape manufacturing evaporation apparatus to which the oblique evaporation method is applied.
FIG. 6 is a perspective view showing the vicinity of a cooling can roll in a general thin film magnetic tape manufacturing vapor deposition apparatus. FIG. 6 is a diagram illustrating a general thin film magnetic tape manufacturing vapor deposition apparatus in which a metal magnetic thin film is formed on a base film by vapor deposition. FIG. 7 is a thermal analysis result diagram showing the temperature with respect to the film position at the time. FIG. 7 shows the cupping and two wrinkles generated when a metal magnetic thin film is formed on a base film by evaporation using a general thin film magnetic tape manufacturing evaporation apparatus. It is a figure for explaining.
【0004】図4に示した如く、斜方蒸着法を適用した
一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置(以下、装置と
記す)1の真空槽2内は真空状態に保たれている。この
真空槽2内には、供給ロール3と、巻取ロール4と、ガ
イドロール5,6と、冷却キャンロール7とが回転自在
に配置されている。As shown in FIG. 4, a vacuum chamber 2 of a general thin film magnetic tape manufacturing evaporation apparatus (hereinafter, referred to as an apparatus) 1 to which an oblique evaporation method is applied is kept in a vacuum state. In this vacuum chamber 2, a supply roll 3, a take-up roll 4, guide rolls 5, 6, and a cooling can roll 7 are rotatably arranged.
【0005】そして、真空槽2内で、供給ロール3に巻
回した帯状のベースフィルム8は、供給側のガイドロー
ル5、冷却キャンロール7の周面、巻取側のガイドロー
ル5に沿いながら巻取ロール4に向かって矢印方向に走
行している。[0005] In the vacuum chamber 2, the strip-shaped base film 8 wound around the supply roll 3 is moved along the guide roll 5 on the supply side, the peripheral surface of the cooling can roll 7, and the guide roll 5 on the winding side. It is running in the direction of the arrow toward the winding roll 4.
【0006】ここで、ベースフィルム8はポリエチレン
テレフタレート(PET)フィルムを使用しており、こ
のベースフィルム8は供給ロール3にロール状に数千〜
数万m巻いたものを真空槽2内にセットし、ベースフィ
ルム8の一方の面に冷却キャンロール7の下方に設置し
た後述のルツボ9から蒸発した金属磁性材料10を連続
して1ロール蒸着を行う方法が一般的に取られている。Here, the base film 8 uses a polyethylene terephthalate (PET) film.
A roll of tens of thousands of meters is set in the vacuum chamber 2, and a metal magnetic material 10 evaporated from a crucible 9, which will be described below, provided below the cooling can roll 7 on one surface of the base film 8, is continuously deposited in one roll. The method of doing is generally taken.
【0007】即ち、冷却キャンロール7の斜め下方に
は、ルツボ材料としてMgO(マグネシア)を用いて箱
状に形成したルツボ9が設置されている。このルツボ9
内には、Co又はCoNiなどの強磁性材料(以下、金
属磁性材料と記す)10が収容されている。That is, a crucible 9 formed in a box shape using MgO (magnesia) as a crucible material is installed diagonally below the cooling can roll 7. This crucible 9
Inside, a ferromagnetic material such as Co or CoNi (hereinafter, referred to as a metal magnetic material) 10 is accommodated.
【0008】また、真空槽2の側壁2aには、ルツボ9
内に収容した金属磁性材料10を溶融して蒸発させるピ
アス型電子銃11が取り付けられている。このピアス型
電子銃11は、ルツボ9内の金属磁性材料10に向かっ
て電子ビーム12が出射されており、金属磁性材料10
を溶融してベースフィルム8の一方の面側に蒸発させて
いる。A crucible 9 is provided on the side wall 2a of the vacuum chamber 2.
A piercing type electron gun 11 for melting and evaporating the metal magnetic material 10 housed therein is attached. In this pierce-type electron gun 11, an electron beam 12 is emitted toward a metal magnetic material 10 in a crucible 9, and the metal magnetic material 10
Is melted and evaporated to one surface side of the base film 8.
【0009】また、冷却キャンロール7に沿って入射角
規制マスク部材13がルツボ9側に向かって取り付けら
れており、この入射角規制マスク部材13は、ベースフ
ィルム8の走行時にルツボ9から蒸着した金属磁性材料
10のベースフィルム8に対する最大入射角θmax及
び最小入射角θminを規制している。An incident angle regulating mask member 13 is mounted along the cooling can roll 7 toward the crucible 9, and the incident angle regulating mask member 13 is deposited from the crucible 9 when the base film 8 runs. The maximum incident angle θmax and the minimum incident angle θmin of the metal magnetic material 10 with respect to the base film 8 are regulated.
【0010】また、入射角規制マスク部材13のうちで
最小入射角θmin側の内側にはノズル14が取り付け
られており、このノズル14から酸素が蒸発した金属磁
性材料10に向かって射出されている。A nozzle 14 is mounted inside the incident angle regulating mask member 13 on the side of the minimum incident angle θmin, and oxygen is emitted from the nozzle 14 toward the evaporated metal magnetic material 10. .
【0011】また、ピアス型電子銃11から出射される
電子ビーム12は、軌道に偏向磁界を印加するための偏
向マグネット15と、ルツボ9に近設した偏向マグネッ
ト16とにより制御されている。従って、ルツボ9の長
手方向に電子ビーム12を走査することによりベースフ
ィルム8の幅方向にスキャンされて、蒸発したCo又は
CoNiなどの金属磁性材料10がベースフィルム8の
幅方向にCoO又はCoNiOなどの金属磁性薄膜とし
て成膜され、これをベースフィルム8の長さ方向に繰り
返すことにより長尺な薄膜磁気テープ8が巻取ロール4
側に巻き取れている。The electron beam 12 emitted from the pierce-type electron gun 11 is controlled by a deflection magnet 15 for applying a deflection magnetic field to a trajectory and a deflection magnet 16 provided near the crucible 9. Accordingly, by scanning the crucible 9 with the electron beam 12 in the longitudinal direction, the metal magnetic material 10 such as Co or CoNi is scanned in the width direction of the base film 8 and is evaporated in the width direction of the base film 8 such as CoO or CoNiO. By repeating this in the longitudinal direction of the base film 8, a long thin magnetic tape 8 is formed on the take-up roll 4.
Winded up to the side.
【0012】ここで、ルツボ9から蒸発した金属磁性材
料10をベースフィルム8上に成膜する際、ベースフィ
ルム8への耐熱性を考慮して、図5に示したように、矢
印方向に回転する冷却キャンロール7の内部には、冷却
器(図示せず)が設置され、蒸着時にベースフィルム8
の温度上昇による変形などを抑制している。そして、こ
の様な斜方蒸着方法では、冷却した回転自在な冷却キャ
ンロール7の周面にルツボ9からの金属磁性材料10が
付着しない様に、ベースフィルム8のエッジ部分を入射
角規制マスク部材13によって覆っており、ベースフィ
ルム8の幅寸法に対して入射角規制マスク部材13の幅
方向の開口寸法が狭く設定されている。Here, when the metal magnetic material 10 evaporated from the crucible 9 is formed on the base film 8, it is rotated in the direction of the arrow as shown in FIG. A cooler (not shown) is installed inside the cooling can roll 7 to be formed, and a base film 8 is formed at the time of vapor deposition.
Deformation due to temperature rise is suppressed. In such an oblique deposition method, the edge of the base film 8 is made to have an incident angle regulating mask member so that the metal magnetic material 10 from the crucible 9 does not adhere to the peripheral surface of the cooled rotatable cooling can roll 7. The opening dimension of the incident angle regulating mask member 13 in the width direction is set to be smaller than the width dimension of the base film 8.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】ところで、斜方蒸着法
を適用した一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置1を
用いて、ルツボ9から蒸発したCo又はCoNiなどの
金属磁性材料10をベースフィルム8上に金属磁性薄膜
を薄く成膜する際に、ベースフィルム8を冷却キャンロ
ール7の周面に沿わせながら冷却キャンロール7でベー
スフィルム8を冷却しているものの、図6に示したよう
に、金属磁性材料10の蒸着時にベースフィルム8が急
激に熱負荷を受けて金属磁性薄膜が成膜され、且つ、金
属磁性薄膜の内部応力も負荷されて、ベースフィルム8
の金属磁性薄膜形成面側の最表面のみが急激な熱収縮を
起こす。A metal magnetic material 10 such as Co or CoNi evaporated from a crucible 9 is used as a base film using a general thin film magnetic tape manufacturing evaporation apparatus 1 to which the oblique evaporation method is applied. When a thin metal magnetic thin film is formed on the base film 8, the base film 8 is cooled by the cooling can roll 7 while the base film 8 is being formed along the peripheral surface of the cooling can roll 7, as shown in FIG. In addition, when the metal magnetic material 10 is deposited, the base film 8 is suddenly subjected to a thermal load to form a metal magnetic thin film, and the internal stress of the metal magnetic thin film is also applied.
Only the outermost surface on the side where the metal magnetic thin film is formed undergoes rapid thermal contraction.
【0014】とくに、ベースフィルム8の走行時に張力
の加わっていないフィルム幅方向の熱収縮は大きく、図
7(a),(b)に示したように金属磁性薄膜側が内側
に反ってベースフィルム8にカッピングが生じる。そし
て、ベースフィルム8上に金属磁性薄膜を成膜した後
に、保護膜層や潤滑層及びバックコート層等を形成し、
完成したベースフィルム8をスリッタにより所定の幅に
裁断して、磁気テープ化した時にカッピング(テープ幅
方向の反り)量が大きいことが問題であった。この際、
薄膜磁気テープに対して安定したヘッドタッチで良好な
電磁変換特性を得るために、蒸着時に生じたカッピング
量を一定値以内に抑える必要があった。In particular, the thermal shrinkage in the film width direction where no tension is applied during running of the base film 8 is large, and as shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b), the metal magnetic thin film side is warped inward and the base film 8 is warped inward. Cupping occurs. Then, after forming a metal magnetic thin film on the base film 8, a protective film layer, a lubricating layer, a back coat layer and the like are formed,
When the completed base film 8 is cut into a predetermined width by a slitter and formed into a magnetic tape, the amount of cupping (warpage in the tape width direction) is large. On this occasion,
In order to obtain good electromagnetic conversion characteristics with stable head touch on a thin film magnetic tape, it was necessary to suppress the amount of cupping generated during vapor deposition to within a certain value.
【0015】また、近年の蒸着磁気記録テープ(MEテ
ープ)では金属磁性薄膜形成後、保護膜層や潤滑層及び
バックコート層等を形成する工程が後工程としてあり、
裁断して磁気テープ化するまでの後工程でも上記フィル
ム幅方向の最表面の熱収縮は経時的に解放されて動くた
めに、図7(c)に示したようにフィルム幅方向の両側
に2本シワが発生し、後工程の走行性や膜厚分布に多大
な悪影響を及ぼしていた。このため歩留まりはかなり悪
くなっていた。Further, in a recent vapor-deposited magnetic recording tape (ME tape), a step of forming a protective film layer, a lubricating layer, a back coat layer and the like after forming a metal magnetic thin film is provided as a post-process.
Even in the post-process until the tape is cut into a magnetic tape, the thermal shrinkage of the outermost surface in the film width direction is released with time and moves, so that as shown in FIG. This wrinkle occurred, and had a great adverse effect on the runnability and film thickness distribution in the post-process. As a result, the yield was considerably reduced.
【0016】これらの問題を解決するために、ベースフ
ィルム8上に金属磁性薄膜を成膜した後、ベースフィル
ム8を加熱ロールに密着走行させることにより、ベース
フィルム8のガラス転移点Tg以上の温度で熱処理(ア
ニーリング)する方法が特開平6−295435号公報
に開示されている。しかしながら、この方法はベースフ
ィルム8の表面と加熱ロールの表面が密着走行すること
によるバンプ(密閉された気体が急激に膨張することに
よる気泡痕及び間に挟まれたゴミ等の異物やロール表面
突起の拡大痕)の発生原因にもなっていた。これらのバ
ンプは金属磁性薄膜の微小クラックを引き起こすことが
あり、これはドロップアウトの原因になっていた。また
安定したヘッドタッチで良好な電磁変換特性を得るため
には均一で微小なテープ表面粗さが求められ、これらの
不均一なバンプの発生を抑制する必要があった。In order to solve these problems, a metal magnetic thin film is formed on the base film 8, and then the base film 8 is brought into close contact with a heating roll so that the temperature of the base film 8 exceeds the glass transition point Tg. A method of heat treatment (annealing) is disclosed in JP-A-6-295435. However, in this method, bumps caused by the surface of the base film 8 and the surface of the heating roll running in close contact with each other (for example, foreign matter such as air bubble marks due to rapid expansion of a sealed gas, dusts interposed therebetween, and roll surface projections). (Enlarged marks). These bumps could cause microcracks in the metal magnetic thin film, which caused dropouts. In addition, in order to obtain good electromagnetic conversion characteristics with stable head touch, uniform and fine tape surface roughness is required, and it is necessary to suppress the occurrence of these uneven bumps.
【0017】そこで、バンプの発生を抑えたうえで2本
シワの発生を防ぎ、カッピング量を低減させることを目
的とした磁気テープの製造方法及び磁気テープの製造装
置が望まれている。Therefore, there is a demand for a magnetic tape manufacturing method and a magnetic tape manufacturing apparatus for the purpose of preventing the occurrence of wrinkles and reducing the amount of cupping while suppressing the occurrence of bumps.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
てなされたものであり、第1の発明は、真空槽内で帯状
のベースフィルムを冷却キャンロールの周面に沿って走
行させながら、前記冷却キャンロールの下方に設置した
ルツボ内の金属磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィ
ルムの一方の面に金属磁性薄膜を成膜した後に、真空中
で前記ベースフィルムの一方の面と反対側の他方の面に
低パワー電子ビームを照射することを特徴とする磁気テ
ープの製造方法である。Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above problems, and a first invention is to make a belt-like base film run in a vacuum chamber along the peripheral surface of a cooling can roll. After evaporating a metal magnetic material in a crucible installed below the cooling can roll to form a metal magnetic thin film on one surface of the base film, the metal magnetic thin film is opposite to one surface of the base film in a vacuum. And irradiating the other surface on the side with a low-power electron beam.
【0019】また、第2の発明は、真空槽内で帯状のベ
ースフィルムを冷却キャンロールの周面に沿って走行さ
せながら、前記冷却キャンロールの下方に設置したルツ
ボ内の金属磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム
の一方の面に金属磁性薄膜を成膜する手段と、前記金属
磁性薄膜を成膜した後に、真空中で前記ベースフィルム
の一方の面と反対側の他方の面に低パワー電子ビームを
照射する手段とを備えたことを特徴とする磁気テープの
製造装置である。In the second invention, the metal magnetic material in the crucible installed under the cooling can roll is evaporated while running the strip-shaped base film along the peripheral surface of the cooling can roll in the vacuum chamber. Means for forming a metal magnetic thin film on one surface of the base film; and forming the metal magnetic thin film on the other surface opposite to the one surface of the base film in vacuum after forming the metal magnetic thin film. Means for irradiating a power electron beam.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】以下に本発明に係る磁気テープの
製造方法及び磁気テープの製造装置の一実施例を図1乃
至図3を参照して詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method for manufacturing a magnetic tape and an apparatus for manufacturing a magnetic tape according to the present invention will be described below in detail with reference to FIGS.
【0021】図1はベースフィルム上に金属磁性薄膜を
成膜した状態を示した図、図2は本発明に係る磁気テー
プの製造方法及び磁気テープの製造装置を説明するため
の図、図3は本発明に係る磁気テープの製造方法におい
て、実験1〜8の実験条件及び、実験1〜8の実験結果
を示した図である。FIG. 1 is a view showing a state in which a metal magnetic thin film is formed on a base film, FIG. 2 is a view for explaining a magnetic tape manufacturing method and a magnetic tape manufacturing apparatus according to the present invention, and FIG. FIG. 3 is a diagram showing experimental conditions of Experiments 1 to 8 and experimental results of Experiments 1 to 8 in the method of manufacturing a magnetic tape according to the present invention.
【0022】尚、説明の都合上、先に従来例で説明した
構成部材と同じ機能の構成部材について同一の符号を付
して適宜説明し、且つ、従来例と異なる構成部材に新た
な符号を付す共に、この実施例では従来例と異なる点を
中心に説明する。For convenience of explanation, the same reference numerals are given to constituent members having the same functions as those of the constituent members described in the conventional example, and the same reference numerals are used, and new reference numerals are given to constituent members different from the conventional example. In addition, this embodiment will be described focusing on points different from the conventional example.
【0023】本発明に係る磁気テープの製造方法及び磁
気テープの製造装置では、真空槽内でベースフィルムの
一方の面に金属磁性薄膜を成膜した直後に、真空槽内で
ベースフィルムの一方の面と反対側の他方の面に低パワ
ー電子銃からの低パワー電子ビームを照射することを特
徴とするものである。In the magnetic tape manufacturing method and the magnetic tape manufacturing apparatus according to the present invention, immediately after the metal magnetic thin film is formed on one surface of the base film in the vacuum chamber, one of the base films is formed in the vacuum chamber. The other surface opposite to the surface is irradiated with a low-power electron beam from a low-power electron gun.
【0024】そこで、本発明に係る磁気テープの製造装
置20は、先に図4で説明した一般的な薄膜磁気テープ
製造用蒸着装置1の真空槽2内を改造して、ベースフィ
ルム8の巻取側に側壁2b,2cを設けて蒸着側と低パ
ワー電子ビーム照射側とに2分させ、低パワー電子ビー
ム照射側に新たに付加するものとして、巻取側のガイド
ロール6により下流で図示左方にガイドロール21、小
径で回転自在な冷却キャンロール22、ガイドロール2
3,24、巻取ロール25を順に配設すると共に、小径
の冷却キャンロール22と対向して真空槽2の側壁2d
に低パワー電子銃26を取り付け、更に、低パワー電子
銃26の周囲に低パワー電子ビーム27をベースフィル
ム8の幅方向にスキャンさせるための偏向マグネット2
8を取り付けている。Therefore, the magnetic tape manufacturing apparatus 20 according to the present invention remodels the inside of the vacuum chamber 2 of the general thin film magnetic tape manufacturing vapor deposition apparatus 1 described above with reference to FIG. Side walls 2b and 2c are provided on the take-up side to divide into two parts, a vapor deposition side and a low-power electron beam irradiation side, and are newly added to the low-power electron beam irradiation side, and are illustrated downstream by a guide roll 6 on the take-up side. Guide roll 21 to the left, small-diameter rotatable cooling can roll 22, guide roll 2
3, 24, and a winding roll 25 are arranged in this order, and the side wall 2d of the vacuum chamber 2 is opposed to the small diameter cooling can roll 22.
A low-power electron gun 26 is mounted on the base film 8 and a deflection magnet 2 for scanning a low-power electron beam 27 around the low-power electron gun 26 in the width direction of the base film 8.
8 is installed.
【0025】まず、上記した本発明に係る磁気テープの
製造装置20を用いて、図2に示したようにベースフィ
ルム8の一方の面8aに金属磁性薄膜Magを成膜する
際に、冷却キャンロール7の直径は1000mm、冷却
キャンロール7の幅は600mm、ベースフィルム8の
幅は560mm、ベースフィルム8上に成膜した金属磁
性薄膜Magの成膜幅は540mm、ルツボ9の幅は7
00mm、ルツボ9内の金属磁性材料(純コバルトC
o)10の溶融、蒸着は出力300kWの90゜偏向の
ピアス型電子銃11を用いた。また、入射角規制マスク
部材13は15mm厚のステンレス製で水冷しながら成
膜エリア外周を囲んでいる。また、ルツボ9の付近に
は、ピアス型電子銃11から出射された電子ビーム12
の適正な入射に必要な偏向マグネット16を設置した。
また、ルツボ9の片端部分からは連続的に金属磁性材料
(純コバルトCo)10が一定量供給されるように供給
機(図示せず)を設置した。First, as shown in FIG. 2, when the metal magnetic thin film Mag is formed on one surface 8a of the base film 8 using the magnetic tape manufacturing apparatus 20 according to the present invention, a cooling can is performed. The diameter of the roll 7 is 1000 mm, the width of the cooling can roll 7 is 600 mm, the width of the base film 8 is 560 mm, the width of the metal magnetic thin film Mag formed on the base film 8 is 540 mm, and the width of the crucible 9 is 7 mm.
00 mm, metal magnetic material (pure cobalt C) in crucible 9
o) For melting and vapor deposition of 10, a 90 ° deflection piercing electron gun 11 having an output of 300 kW was used. The incident angle regulating mask member 13 is made of stainless steel having a thickness of 15 mm and surrounds the outer periphery of the film forming area while being cooled with water. In the vicinity of the crucible 9, an electron beam 12 emitted from a pierce type electron gun 11 is provided.
The deflection magnet 16 required for proper incidence of the light was installed.
Further, a feeder (not shown) was provided so that a constant amount of the metallic magnetic material (pure cobalt Co) 10 was continuously supplied from one end of the crucible 9.
【0026】ここで、真空槽2内で帯状のベースフィル
ム8を冷却キャンロール7の周面に沿って走行させなが
ら、冷却キャンロール8の下方に設置したルツボ9内の
金属磁性材料10を蒸発させて、帯状のベースフィルム
8の一方の面8aに金属磁性薄膜Magを成膜するにあ
たって、入射角規制マスク部材13の最小入射角θmi
n側から酸素ガス1800ccmを導入し、金属磁性薄
膜(CoO膜)の膜厚が0.18μmになるよう透過及
び反射型膜厚モニターで制御しながら、6.4μmPE
T(ポリエチレンテレフタレート)製のベースフィルム
8の一方の面8aにCoO膜を長手方向に5000mほ
ど成膜している。Here, the metal magnetic material 10 in the crucible 9 installed below the cooling can roll 8 is evaporated while the strip-shaped base film 8 runs along the peripheral surface of the cooling can roll 7 in the vacuum chamber 2. When the metal magnetic thin film Mag is formed on one surface 8a of the strip-shaped base film 8, the minimum incident angle θmi of the incident angle regulating mask member 13 is formed.
While introducing 1800 ccm of oxygen gas from the n-side and controlling the film thickness of the metal magnetic thin film (CoO film) to 0.18 μm with a transmission and reflection type film thickness monitor, 6.4 μm PE
On one surface 8a of a base film 8 made of T (polyethylene terephthalate), a CoO film is formed in a length of about 5000 m in a longitudinal direction.
【0027】この後、金属磁性薄膜Magを成膜したベ
ースフィルム8が巻取側のガイドロール6、ガイドロー
ル21を順に経て小径の冷却キャンロール22に至る
と、ベースフィルム8の一方の面8aを矢印方向に回転
自在な冷却キャンロール22の周面に沿って密着走行さ
せ、ここでベースフィルム8上で金属磁性薄膜Magが
形成されていない他方の面8b(図1)に冷却キャンロ
ール22と対向した低パワー電子銃26からの低パワー
電子ビーム27を偏向マグネット28でベースフィルム
8の幅方向にスキャンさせながら照射して、他方の面8
bを低パワー電子ビーム27により適当な温度に加熱
し、ガイドロール23,24を経由してベースフィルム
8を巻取ロール25に巻き取っている。Thereafter, when the base film 8 on which the metal magnetic thin film Mag is formed reaches the small diameter cooling can roll 22 through the guide roll 6 on the winding side and the guide roll 21 in this order, one surface 8a of the base film 8 is formed. Is made to adhere and run along the peripheral surface of the cooling can roll 22 which is rotatable in the direction of the arrow. Here, the cooling can roll 22 is formed on the other surface 8b (FIG. 1) of the base film 8 where the metal magnetic thin film Mag is not formed. A low-power electron beam 27 from a low-power electron gun 26 facing the laser beam is radiated while being scanned in the width direction of the base film 8 by a deflection magnet 28, and the other surface 8 is irradiated.
b is heated to an appropriate temperature by the low-power electron beam 27, and the base film 8 is wound on a winding roll 25 via guide rolls 23 and 24.
【0028】次に、上記した磁気テープの製造装置20
を用いて以下の実験を行った後、バンプの発生の有無及
び図7(c)に示す2本シワの発生の状況とベースフィ
ルムの熱負け状況を観察した。また、ベースフィルム8
をスリッターにより6.35mm幅に裁断して図7
(a),(b)に示すカッピング量の測定を行った。ベ
ースフィルム8上の金属磁性薄膜面側が凹状にカッピン
グしている場合を正(+)、凸状にカッピングしている
場合を負(−)として評価した。Next, the magnetic tape manufacturing apparatus 20 described above is used.
After the following experiment was performed using, the presence or absence of bumps, the state of generation of two wrinkles shown in FIG. 7C, and the state of heat loss of the base film were observed. Also, base film 8
Was cut to a width of 6.35 mm by a slitter, and FIG.
The cupping amounts shown in (a) and (b) were measured. Positive (+) when the metal magnetic thin film surface side on the base film 8 was concavely cupped, and negative (-) when convexly cupped.
【0029】図3に示した実験条件では、先に図6で説
明した一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置1を用い
てベースフィルム8の一方の面8aに金属磁性薄膜Ma
gを成膜した場合を比較例(実験1)とし、本発明に係
る磁気テープの製造装置20を用いてベースフィルム8
の一方の面8aに金属磁性薄膜Magを成膜した後にベ
ースフィルム8上で金属磁性薄膜Magが成膜されてい
ない他方の面(一方の面と反対側の面)8bに低パワー
電子銃26からの低パワー電子ビーム27のビームパワ
ーを可変して照射した場合を本発明(実験2〜実験8)
とした。Under the experimental conditions shown in FIG. 3, one surface 8a of the base film 8 is formed on the one surface 8a of the base film 8 using the general vapor deposition apparatus 1 for manufacturing a thin film magnetic tape described above with reference to FIG.
g was formed as a comparative example (Experiment 1), and the base film 8 was formed using the magnetic tape manufacturing apparatus 20 according to the present invention.
After the metal magnetic thin film Mag is formed on one surface 8a, the low power electron gun 26 is formed on the other surface (the surface opposite to the one surface) 8b where the metal magnetic thin film Mag is not formed on the base film 8. The present invention relates to the case where the beam power of the low-power electron beam 27 from the laser beam is varied (Experiments 2 to 8).
And
【0030】<実験1(比較例)>先に図6で説明した
一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置1を用いて、酸
素ガス導入量1800ccmで、CoO膜を膜厚0.1
8μmになるよう透過及び反射型膜厚モニターで制御し
ながら、6.4μmPET(ポリエチレンテレフタレー
ト)のベースフィルム8の一方の面8aに処理長500
0mを成膜し、ロール状に巻き取った。<Experiment 1 (Comparative Example)> Using the general vapor deposition apparatus 1 for manufacturing a thin film magnetic tape described above with reference to FIG.
While controlling with a transmission and reflection type film thickness monitor to be 8 μm, a processing length of 500 is applied to one surface 8 a of the base film 8 of 6.4 μm PET (polyethylene terephthalate).
A film of 0 m was formed and wound into a roll.
【0031】<実験2(本発明)>本発明に係る磁気テ
ープの製造装置20を用いて、上記実験1と同条件でベ
ースフィイルム8の一方の面8aにCoO膜を5000
m成膜した後、図2に示すようにロール状に巻き取る手
前に予め設置した低パワー電子銃26からの低パワー電
子ビーム27で、ベースフィイルム8の他方の面8bに
低パワー電子ビーム27のビーム径を最大限に広げた状
態でフィルム全幅方向にスキャンしながら低パワー電子
ビーム27を照射し、その後ロール状に巻き取った。低
パワー電子ビーム27のパワーは1kWとした。<Experiment 2 (Invention)> Using a magnetic tape manufacturing apparatus 20 according to the present invention, a CoO film was formed on one surface 8a of the base film 8 under the same conditions as in Experiment 1 above by 5000.
After the film is formed, a low-power electron beam 27 from a low-power electron gun 26 installed in advance before winding into a roll is applied to the other surface 8b of the base film 8 as shown in FIG. A low power electron beam 27 was irradiated while scanning in the full width direction of the film while the beam diameter of the beam 27 was maximized, and then the film was wound into a roll. The power of the low power electron beam 27 was 1 kW.
【0032】<実験3(本発明)>上記実験2と同条件
で低パワー電子ビーム27のパワーのみ2kWとした。<Experiment 3 (invention)> Under the same conditions as Experiment 2, only the power of the low power electron beam 27 was set to 2 kW.
【0033】<実験4(本発明)>上記実験2と同条件
で低パワー電子ビーム27のパワーのみ4kWとした。<Experiment 4 (invention)> Under the same conditions as Experiment 2, only the power of the low power electron beam 27 was set to 4 kW.
【0034】<実験5(本発明)>上記実験2と同条件
で低パワー電子ビーム27のパワーのみ6kWとした。<Experiment 5 (invention)> Under the same conditions as Experiment 2, only the power of the low power electron beam 27 was set to 6 kW.
【0035】<実験6(本発明)>上記実験2と同条件
で低パワー電子ビーム27のパワーのみ8kWとした。<Experiment 6 (invention)> Under the same conditions as Experiment 2, only the power of the low power electron beam 27 was set to 8 kW.
【0036】<実験7(本発明)>上記実験2と同条件
で低パワー電子ビーム27のパワーのみ10kWとし
た。<Experiment 7 (invention)> Under the same conditions as in Experiment 2, only the power of the low-power electron beam 27 was set to 10 kW.
【0037】<実験8(本発明)>上記実験2と同条件
で低パワー電子ビーム27のパワーのみ15kWとし
た。<Experiment 8 (invention)> Under the same conditions as Experiment 2, only the power of the low power electron beam 27 was set to 15 kW.
【0038】次に、上記した実験1〜8の実験結果につ
いて、図3を用いて説明する。Next, the experimental results of Experiments 1 to 8 will be described with reference to FIG.
【0039】図3に示した如く、実験1の比較例、実験
2〜8の本発明について、バンプの発生、2本シワの発
生、熱負け、カッピング量について観察評価した。この
際、カッピング量は2本シワの内側の任意の箇所(同1
0チャンネル分)をそれぞれ測定した時の最大値を示し
ている。As shown in FIG. 3, for the comparative examples of Experiment 1, and the present inventions of Experiments 2 to 8, the occurrence of bumps, the occurrence of wrinkles, the loss of heat, and the amount of cupping were observed and evaluated. At this time, the amount of cupping is set at an arbitrary point inside the two wrinkles (the same
(For 0 channel) respectively.
【0040】図3に示した実験結果から明らかなよう
に、ベースフィルム8の一方の面8aに金属磁性薄膜M
agを成膜した後に、金属磁性薄膜Magを形成してい
ない他方の面8bに適当な低パワー電子ビーム27をベ
ースフィルム8の幅方向にスキャンしながら照射した場
合には、2本シワの発生を防ぐと共にカッピング量を大
幅に低減できることが判った。即ち、ベースフィルム8
の一方の面8aに金属磁性材料10を蒸着させた時に一
方の面8aに熱負荷が加わり、これによりカッピング
と、2本シワの発生が起きるが、ベースフィルム8の他
方の面8bに低パワー電子ビーム27を照射して他方の
面8bを低パワー電子ビーム27により適当な温度に加
熱することにより、蒸着時に対して逆補正することにな
りカッピング量及び2本シワを相殺できる。As is evident from the experimental results shown in FIG. 3, the metal magnetic thin film M
When the other surface 8b on which the metal magnetic thin film Mag is not formed is irradiated with an appropriate low-power electron beam 27 while scanning in the width direction of the base film 8 after the formation of the ag, two wrinkles occur. It was found that the amount of cupping could be significantly reduced and the amount of cupping could be significantly reduced. That is, the base film 8
When the metal magnetic material 10 is vapor-deposited on one surface 8a of the base film 8, a heat load is applied to the one surface 8a, thereby causing cupping and two wrinkles. However, low power is applied to the other surface 8b of the base film 8. By irradiating the electron beam 27 and heating the other surface 8b to an appropriate temperature with the low-power electron beam 27, reverse correction is performed with respect to vapor deposition, so that the amount of cupping and two wrinkles can be offset.
【0041】尚、上記した実施例では、ベースフィルム
8の一方の面8aに金属磁性薄膜Magを成膜する工
程、ベースフィルム8の他方の面8bに低パワー電子ビ
ーム27を照射する工程とを同一の真空槽2内で行った
が、これに限ることなく、図4に示した一般的な薄膜磁
気テープ製造用蒸着装置1によりベースフィルム8上に
金属磁性薄膜Magを成膜した後、巻取ロール4を真空
槽2内から取り出して、別の真空槽内でベースフィルム
8の他方の面8bに低パワー電子ビーム27を照射する
ように構成しても良い。In the above embodiment, the step of forming the metal magnetic thin film Mag on one surface 8a of the base film 8 and the step of irradiating the other surface 8b of the base film 8 with the low power electron beam 27 are described. The metal magnetic thin film Mag was formed on the base film 8 by the general thin film magnetic tape manufacturing vapor deposition apparatus 1 shown in FIG. The take-up roll 4 may be taken out of the vacuum chamber 2 and the other surface 8b of the base film 8 may be irradiated with the low-power electron beam 27 in another vacuum chamber.
【0042】[0042]
【発明の効果】以上詳述した本発明に係る磁気テープの
製造方法及び磁気テープの製造装置によれば、とくに、
ベースフィルムの一方の面に金属磁性薄膜を成膜した後
に、真空中でベースフィルムの一方の面と反対側の他方
の面に低パワー電子ビームを照射しているので、バンプ
発生が無く、また、2本シワの発生を防ぐと共にカッピ
ング量を大幅に低減でき、安定した電磁変換特性を有す
る良好な磁気テープが得られる。これは最終的には磁気
テープの製品歩留まりを向上せしめ、製品の低コスト化
に大きくつながるものである。According to the method for manufacturing a magnetic tape and the apparatus for manufacturing a magnetic tape according to the present invention described in detail above, in particular,
After the metal magnetic thin film is formed on one surface of the base film, the other surface opposite to the one surface of the base film is irradiated with a low-power electron beam in a vacuum, so there is no bump generation, and (2) The occurrence of wrinkles can be prevented and the amount of cupping can be significantly reduced, and a good magnetic tape having stable electromagnetic conversion characteristics can be obtained. This ultimately improves the product yield of the magnetic tape and greatly reduces the cost of the product.
【図1】ベースフィルム上に金属磁性薄膜を成膜した状
態を示した図である。FIG. 1 is a view showing a state in which a metal magnetic thin film is formed on a base film.
【図2】本発明に係る磁気テープの製造方法及び磁気テ
ープの製造装置を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a magnetic tape manufacturing method and a magnetic tape manufacturing apparatus according to the present invention.
【図3】本発明に係る磁気テープの製造方法において、
実験1〜8の実験条件及び、実験1〜8の実験結果を示
した図である。FIG. 3 shows a method of manufacturing a magnetic tape according to the present invention.
It is the figure which showed the experiment conditions of experiment 1-8, and the experiment result of experiment 1-8.
【図4】斜方蒸着法を適用した一般的な薄膜磁気テープ
製造用蒸着装置の構成を示した構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram showing a configuration of a general thin film magnetic tape manufacturing evaporation apparatus to which an oblique evaporation method is applied.
【図5】一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置内の冷
却キャンロール近傍を示した斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing the vicinity of a cooling can roll in a general vapor deposition apparatus for manufacturing a thin film magnetic tape.
【図6】一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置により
ベースフィルム上に金属磁性薄膜を蒸着により成膜した
時のフィルム位置に対する温度を示した熱解析結果図で
ある。FIG. 6 is a thermal analysis result showing a temperature with respect to a film position when a metal magnetic thin film is formed on a base film by vapor deposition using a general vapor deposition apparatus for manufacturing a thin film magnetic tape.
【図7】一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置により
ベースフィルム上に金属磁性薄膜を蒸着により成膜した
時に生じるカッピングと2本シワとを説明するための図
である。FIG. 7 is a diagram for explaining cupping and two wrinkles generated when a metal magnetic thin film is formed on a base film by vapor deposition using a general vapor deposition apparatus for manufacturing a thin film magnetic tape.
1…一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置、2…真空
槽、7…冷却キャンロール、8…ベースフィルム、8a
…一方の面、8b…他方の面、9…ルツボ、10…金属
磁性材料、11…ピアス型電子銃、12…電子ビーム、
13…入射角規制マスク部材、20…本発明に係る磁気
テープの製造装置、26…低パワー電子銃、27…低パ
ワー電子ビーム、Mag…金属磁性薄膜。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... General vapor deposition apparatus for thin-film magnetic tape manufacture, 2 ... Vacuum tank, 7 ... Cooling roll, 8 ... Base film, 8a
.. One surface, 8b the other surface, 9 a crucible, 10 a metal magnetic material, 11 a pierce type electron gun, 12 an electron beam,
13: Incident angle regulating mask member, 20: Magnetic tape manufacturing apparatus according to the present invention, 26: Low power electron gun, 27: Low power electron beam, Mag: Metal magnetic thin film.
Claims (2)
ャンロールの周面に沿って走行させながら、前記冷却キ
ャンロールの下方に設置したルツボ内の金属磁性材料を
蒸発させて、前記ベースフィルムの一方の面に金属磁性
薄膜を成膜した後に、真空中で前記ベースフィルムの一
方の面と反対側の他方の面に低パワー電子ビームを照射
することを特徴とする磁気テープの製造方法。1. A metal film material in a crucible installed under a cooling can roll is evaporated while a strip-shaped base film is moved along a peripheral surface of a cooling can roll in a vacuum chamber, thereby evaporating the base film. Forming a metal magnetic thin film on one surface of the base film, and irradiating the other surface of the base film opposite to the one surface with a low power electron beam in a vacuum.
ャンロールの周面に沿って走行させながら、前記冷却キ
ャンロールの下方に設置したルツボ内の金属磁性材料を
蒸発させて、前記ベースフィルムの一方の面に金属磁性
薄膜を成膜する手段と、 前記金属磁性薄膜を成膜した後に、真空中で前記ベース
フィルムの一方の面と反対側の他方の面に低パワー電子
ビームを照射する手段とを備えたことを特徴とする磁気
テープの製造装置。2. A method according to claim 1, wherein the step of moving the strip-shaped base film along the peripheral surface of the cooling can roll in a vacuum chamber evaporates a metal magnetic material in a crucible provided below the cooling can roll, thereby forming the base film. Means for forming a metal magnetic thin film on one surface of the base film; and, after forming the metal magnetic thin film, irradiating a low-power electron beam to the other surface opposite to the one surface of the base film in a vacuum. And a means for manufacturing a magnetic tape.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11146238A JP2000339675A (en) | 1999-05-26 | 1999-05-26 | Magnetic tape manufacturing method and magnetic tape manufacturing apparatus |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
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|---|---|
| JP (1) | JP2000339675A (en) |
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1999
- 1999-05-26 JP JP11146238A patent/JP2000339675A/en active Pending
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