JP2000339701A - 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録トラックに沿ってグルーブが形成されて
なる光記録媒体に、トラック密度の異なる複数の記録領
域を混在させても、トラッキングサーボやトラックシー
クを安定に行えるようにする。 【解決手段】 光記録媒体に、記録トラックに沿って所
定の深さのグルーブが形成された第１のプリフォーマッ
ト領域と、記録トラックに沿って浅いグルーブと深いグ
ルーブとが隣り合うように形成された第２のプリフォー
マット領域とを設ける。このとき、第１のプリフォーマ
ット領域に形成されたグルーブ間の間隔と、第２のプリ
フォーマット領域に形成された浅いグルーブ間の間隔と
を等しくするとともに、第２のプリフォーマット領域に
形成された深いグルーブを、浅いグルーブ間の略中央に
形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録トラックに沿
ってグルーブが形成されてなる光記録媒体に関する。ま
た、本発明は、記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れてなる光記録媒体を製造する際に使用される光記録媒
体製造用原盤に関する。また、本発明は、記録トラック
に沿ってグルーブが形成されてなる光記録媒体の記録及
び／又は再生を行う光記録再生装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体には、例えば、磁気光学効果
を利用して記録再生を行う光磁気ディスクや、記録層の
相変化を利用して記録再生を行う相変化型光ディスク
や、予めエンボスピットにより情報が記録された再生専
用の光ディスクなどがあり、これらの光記録媒体では、
高記録密度化へ向けての開発が進められている。

【０００３】例えば、光磁気ディスクにおいては、当初
に開発された１倍密度光磁気ディスクに対して、その
後、２倍密度光磁気ディスク、４倍密度光磁気ディス
ク、５倍密度光磁気ディスクと、更なる高記録密度化を
進めたものが次々に実用化されている。

【０００４】これらの各光磁気ディスクでは、主とし
て、光記録再生装置の光学ヘッドの再生分解能を向上す
ることで狭トラックピッチ化を進めて、高記録密度を達
成してきた。ここで、光学ヘッドの再生分解能の向上
は、主として、再生に使用するレーザ光の波長λを短波
長化することと、当該レーザ光を集光する対物レンズの
開口数ＮＡを大きくすることとにより、行われてきた。

【０００５】表１に、上記各光磁気ディスクにおいて、
再生に使用するレーザ光の波長λと、当該レーザ光を集
光する対物レンズの開口数ＮＡと、トラックピットとを
示す。表１に示すように、再生に使用するレーザ光の波
長λを短波長化したり、当該レーザ光を集光する対物レ
ンズの開口数ＮＡを大きくしたりすることで、トラック
ピッチを狭めることが可能となり、その結果、記録密度
の向上が図られている。

【０００６】

【表１】

【０００７】ところで、従来の光記録媒体において、ト
ラックピッチは通常、光記録再生装置の光学ヘッドのカ
ットオフ周波数の１／２〜１／３程度とされている。な
お、光学ヘッドのカットオフ周波数とは、再生信号振幅
がゼロになる周波数であり、２ＮＡ／λで表される。

【０００８】トラックピッチをカットオフ周波数の１／
２〜１／３程度とするのは、記録再生時に光スポットを
記録トラックに追従させるトラッキングサーボや、光ス
ポットを所望する記録トラックに移動させるトラックシ
ークを安定に行えるように、十分なレベルのトラッキン
グサーボ信号が得られるようにするためである。

【０００９】なお、光記録媒体の記録再生時には、光記
録媒体に光スポットを照射し、その戻り光を、記録トラ
ック中心に対して対称に配置された２つの光検出器によ
り検出する。そして、トラッキングサーボやトラックシ
ークには、一方の光検出器で検出される光量をＡ、他方
の光検出器で検出される光量をＢとしたときに、Ａ−Ｂ
で表される差信号（いわゆるプッシュプル信号）や、Ａ
＋Ｂで表される和信号（いわゆるＣＴＳ信号）などが用
いられる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、光記
録媒体は、高記録密度化へ向けての開発が進められてお
り、記録密度の異なる様々な種類の光記録媒体が実用化
されるようになっている。そして、それに伴って、記録
密度の異なる記録領域が混在するような光記録媒体も求
められるようになってきている。

【００１１】しかしながら、トラックピッチを変えるこ
とで記録密度の異なる複数の記録領域を混在させようと
すると、トラッキングサーボやトラックシークを安定に
行えなくなってしまうという問題が生じる。このこと
を、１倍密度光磁気ディスクと５倍密度光磁気ディスク
とを例に挙げて説明する。

【００１２】図５（ａ）に示すように、１倍密度光磁気
ディスクにおいて、データが記録される領域は、記録ト
ラックに沿って予めグルーブＧ１が形成されたプリフォ
ーマット領域とされている。そして、このプリフォーマ
ット領域に形成されたグルーブＧ１とグルーブＧ１の間
のランドＬ１の部分にデータが記録される。また、グル
ーブ中心とグルーブ中心の間隔、すなわちトラックピッ
チＴｐは１．６０μｍとされている。

【００１３】このような１倍密度光磁気ディスクにおい
て、光スポットを記録トラックに直交する方向に移動さ
せたとき、プッシュプル信号やＣＴＳ信号（以下、これ
らをまとめてサーボ信号と称する。）の波形は、図５
（ａ）に示すように、トラックピッチＴｐを１周期とし
たサイン波形となる。

【００１４】また、図５（ｂ）に示すように、５倍密度
光磁気ディスクにおいても、データが記録される領域
は、記録トラックに沿って予めグルーブＧ２が形成され
たプリフォーマット領域とされている。そして、このプ
リフォーマット領域に形成されたグルーブＧ２とグルー
ブＧ２の間のランドＬ２の部分にデータが記録される。
また、グルーブ中心とグルーブ中心の間隔、すなわちト
ラックピッチＴｐは１．１０μｍとされている。

【００１５】このような５倍密度光磁気ディスクにおい
ても、光スポットを記録トラックに直交する方向に移動
させたとき、サーボ信号の波形は、図５（ｂ）に示すよ
うに、トラックピッチＴｐを１周期としたサイン波形と
なる。

【００１６】以上のように、１倍密度光磁気ディスクで
も、５倍密度光磁気ディスクでも、サーボ信号の波形
は、トラックピッチＴｐを１周期としたサイン波形とな
る。そして、１倍密度光磁気ディスクと５倍密度光磁気
ディスクとではトラックピッチＴｐが大きく異なる。そ
のため、１倍密度光磁気ディスクにおいて形成したよう
なプリフォーマット領域（以下、１倍密度領域と称す
る。）と、５倍密度光磁気ディスクにおいて形成したよ
うなプリフォーマット領域（以下、５倍密度領域と称す
る。）とを混在させようとすると、１倍密度領域におけ
るサーボ信号の周期と、５倍密度領域におけるサーボ信
号の周期とが異なるものとなり、トラッキングサーボや
トラックシークを安定に行うことができなくなる。

【００１７】特に、トラックピッチＴｐの切り換えを行
うポイント（すなわち、１倍密度領域と５倍密度領域と
の境界）では、サーボ信号が突然変化してしまうため、
トラッキングサーボが乱れやすくなる。例えば、図５中
一点鎖線Ａで示すように、トラックピッチＴｐが１．６
０μｍの１倍密度領域においてランドＬ１上を走査して
いた光スポットが、トラックピッチＴｐが１．１０μｍ
の５倍密度領域に入ると、プッシュプル信号がゼロから
ΔＬに突然変化する。このように、トラッキングサーボ
に必要が不連続に突然変化してしまうと、トラックピッ
チＴｐの切り換えを行うポイントにおいて、トラッキン
グサーボが外れてしまう可能性が高く、トラッキングサ
ーボを安定に行うことは非常に困難なものとなる。

【００１８】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、トラックピッチを変えること
で記録密度の異なる複数の記録領域を混在させても、ト
ラッキングサーボやトラックシークを安定に行うことが
可能な光記録媒体を提供することを目的としている。ま
た、本発明は、そのような光記録媒体を製造することが
可能な光記録媒体製造用原盤を提供することも目的とし
ている。また、本発明は、そのような光記録媒体の記録
及び／又は再生を行う光記録再生装置を提供することも
目的としている。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光記録媒体
は、記録トラックに沿って所定の深さのグルーブが形成
された第１のプリフォーマット領域と、記録トラックに
沿って浅いグルーブと深いグルーブとが隣り合うように
形成された第２のプリフォーマット領域とを備え、第１
のプリフォーマット領域に形成されたグルーブ間の間隔
と、第２のプリフォーマット領域に形成された浅いグル
ーブ間の間隔とが略同一であり、第２のプリフォーマッ
ト領域に形成された深いグルーブは、浅いグルーブ間の
略中央に形成されていることを特徴とする。

【００２０】この光記録媒体では、光スポットを記録ト
ラックに直交する方向に移動させたときのプッシュプル
信号及びＣＴＳ信号の周期及び極性が、第１のプリフォ
ーマット領域と第２のプリフォーマット領域とでほぼ等
しくなる。したがって、記録密度の異なる第１及び第２
のプリフォーマット領域が混在していても、トラッキン
グサーボやトラックシークを安定に行うことができる。

【００２１】また、本発明に係る光記録媒体製造用原盤
は、記録トラックに沿って所定の深さのグルーブが形成
された第１のプリフォーマット領域と、記録トラックに
沿って浅いグルーブと深いグルーブとが隣り合うように
形成された第２のプリフォーマット領域とを備えた光記
録媒体を製造する際の型となる光記録媒体製造用原盤で
ある。ここで、光記録媒体は、第１のプリフォーマット
領域に形成されたグルーブ間の間隔と、第２のプリフォ
ーマット領域に形成された浅いグルーブ間の間隔とが略
同一であり、且つ、第２のプリフォーマット領域に形成
された深いグルーブが、浅いグルーブ間の略中央に形成
されてなる。そして、本発明に係る光記録媒体製造用原
盤は、少なくとも、上記光記録媒体の第１及び第２のプ
リフォーマット領域に形成される各グルーブに対応した
凹凸パターンが形成されてなることを特徴とする。この
光記録媒体製造用原盤によれば、上述したような本発明
に係る光記録媒体を製造することができる。

【００２２】また、本発明に係る光記録再生装置は、記
録トラックに沿って所定の深さのグルーブが形成された
第１のプリフォーマット領域と、記録トラックに沿って
浅いグルーブと深いグルーブとが隣り合うように形成さ
れた第２のプリフォーマット領域とを備えた光記録媒体
の記録及び／又は再生を行う光記録再生装置である。こ
こで、光記録媒体は、第１のプリフォーマット領域に形
成されたグルーブ間の間隔と、第２のプリフォーマット
領域に形成された浅いグルーブ間の間隔とが略同一であ
り、且つ、第２のプリフォーマット領域に形成された深
いグルーブが、浅いグルーブ間の略中央に形成されてな
る。

【００２３】この光記録再生装置では、記録及び／又は
再生の対象となる光記録媒体として、上述したような本
発明に係る光記録媒体を用いる。したがって、光スポッ
トを記録トラックに直交する方向に移動させたときのプ
ッシュプル信号及びＣＴＳ信号の周期及び極性が、光記
録媒体の第１のプリフォーマット領域と第２のプリフォ
ーマット領域とでほぼ等しくなる。したがって、記録密
度の異なる第１及び第２のプリフォーマット領域が光記
録媒体上に混在していても、トラッキングサーボやトラ
ックシークを安定に行うことができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の
説明では、本発明を適用した光記録媒体として、光磁気
ディスクを例に挙げるが、本発明は光磁気ディスク以外
の光記録媒体にも適用可能である。すなわち、本発明
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成される光記録
媒体に対して広く適用可能であり、以下に挙げる光磁気
ディスク以外の光記録媒体に対しても適用可能である。

【００２５】＜光磁気ディスク＞図１に本発明を適用し
た光磁気ディスクの一例を示す。この光磁気ディスク１
は、円盤状のディスク基板２の上に、第１の誘電体膜
３、光磁気膜４、第２の誘電体膜５及び光反射膜６がこ
の順に積層形成されてなり、更に光反射膜６の上に紫外
線硬化樹脂等からなる保護膜７が形成されてなる。

【００２６】ディスク基板２は、ポリメチルメタクリレ
ート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）等からな
り、記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる。
なお、ディスク基板２には、グルーブの他に、所定の情
報信号に対応するようにエンボスピット列も形成してお
くようにしてもよい。

【００２７】第１及び第２の誘電体膜３，５は、ＳｉＯ
₂、Ｓｉ₃Ｎ₄又はＡｌ₂Ｏ₃等からなる。光磁気膜４は、
ＧｄＦｅＣｏやＴｂＦｅＣｏ等からなり、この光磁気膜
４に情報信号が光磁気記録により記録される。すなわ
ち、第１の光磁気ディスク１において、情報信号は光磁
気膜４の磁化方向として記録される。なお、光磁気膜４
は、単層構造であっても、多層構造であってもよい。光
反射膜６は、Ａｌ等からなり、記録再生時に入射光を反
射するとともに、光照射により生じた熱を拡散させる熱
拡散膜としても作用する。

【００２８】そして、本発明を適用した光磁気ディスク
１は、図２に示すように、記録トラックに沿って所定の
深さのグルーブＧａが形成された第１のプリフォーマッ
ト領域Ｐ１と、記録トラックに沿って浅いグルーブＧｂ
と深いグルーブＧｃとが隣り合うように形成された第２
のプリフォーマット領域Ｐ２とを備える。ここで、第１
のプリフォーマット領域Ｐ１のトラックピッチＴｐ１
は、第２のプリフォーマット領域Ｐ２のトラックピッチ
Ｔｐ２の２倍とされる。すなわち、第１のプリフォーマ
ット領域Ｐ１はトラックピッチの広い低記録密度領域で
あり、第２のプリフォーマット領域Ｐ２はトラックピッ
チの狭い高記録密度領域である。

【００２９】図２は、これらのプリフォーマット領域Ｐ
１，Ｐ２の一部を拡大した図であり、第１のプリフォー
マット領域Ｐ１と第２のプリフォーマット領域Ｐ２とを
まとめて図示するために、それらの境界近傍部分を拡大
して図示している。また、図２では、プリフォーマット
領域Ｐ１，Ｐ２に形成されるグルーブＧａ，Ｇｂ，Ｇｃ
を分かりやすく示すために、グルーブ構造だけを図示
し、ディスク基板２の上に形成される積層膜構造につい
ては図示を省略している。また、図２では、図中上部
に、第１のプリフォーマット領域Ｐ１から得られるプッ
シュプル信号及びＣＴＳ信号を示し、図中下部に、第２
のプリフォーマット領域Ｐ２から得られるプッシュプル
信号及びＣＴＳ信号を示している。

【００３０】図２に示すように、第１のプリフォーマッ
ト領域Ｐ１には、記録トラックに沿って所定の深さのグ
ルーブＧａが形成され、グルーブＧａとグルーブＧａの
間のランドＬａの部分にデータが記録される。この第１
のプリフォーマット領域Ｐ１において、グルーブ中心と
グルーブ中心の間隔、すなわちトラックピッチＴｐ１
は、例えば１．０μｍとされる。

【００３１】このような第１のプリフォーマット領域Ｐ
１において、光スポットを記録トラックに直交する方向
に移動させたとき、プッシュプル信号やＣＴＳ信号の波
形は、図２の上部に示すように、トラックピッチＴｐ１
を１周期としたサイン波形となる。

【００３２】また、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に
は、記録トラックに沿って浅いグルーブＧｂと深いグル
ーブＧｃとが隣り合うように形成される。ここで、第２
のプリフォーマット領域Ｐ２に形成された深いグルーブ
Ｇｃは、浅いグルーブＧｂの間のほぼ中央に形成され
る。なお、以下の説明では、このような第２のプリフォ
ーマット領域Ｐ２において、隣接する浅いグルーブＧｂ
の間隔のことをトラックピリオドＴｒと称する。

【００３３】そして、第２のプリフォーマット領域Ｐ２
では、これらのグルーブＧｂ、Ｇｃの間のランドＬｂ，
Ｌｃの部分にデータが記録される。すなわち、第２のプ
リフォーマット領域Ｐ２では、隣接する浅いグルーブＧ
ｂと深いグルーブＧｃの間隔がトラックピッチＴｐ２と
なる。そして、左側に浅いグルーブＧｂ、右側に深いグ
ルーブＧｃが位置するランドＬｂの部分が第１の記録ト
ラックＴ１となり、右側に浅いグルーブＧｂ、左側に深
いグルーブＧｃが位置するランドＬｃの部分が第２の記
録トラックＴ２となる。

【００３４】このように、浅いグルーブＧｂと深いグル
ーブＧｃとを隣接配置したフォーマットとすることによ
り、トラックピッチＴｐ２をカットオフ周波数以下にし
ても、十分なレベルのサーボ信号を得られるようにする
ことができる。すなわち、深さが異なるグルーブＧｂ，
Ｇｃを隣接配置することにより、いわゆる超解像を実現
して、一定の深さのグルーブだけからなるフォーマット
では実現不可能であったような非常に狭いトラックピッ
チのフォーマットを実現することが可能となる。

【００３５】換言すれば、第２のプリフォーマット領域
Ｐ２では、深さが異なるグルーブＧｂ，Ｇｃを隣接配置
して超解像を実現することにより、記録再生に使用する
レーザ光の波長λを短くしたり、当該レーザ光を集光す
る対物レンズの開口数ＮＡを大きくしたりすることな
く、トラックピッチＴｐ２を狭めて高記録密度化を図る
ことが可能となっている。

【００３６】このような第２のプリフォーマット領域Ｐ
２において、光スポットを記録トラックに直交する方向
に移動させたとき、プッシュプル信号やＣＴＳ信号の波
形は、図２の下部に示すように、トラックピリオドＰｒ
を１周期としたサイン波形となる。換言すれば、第２の
プリフォーマット領域Ｐ２におけるトラックピッチＴｐ
２は、プッシュプル信号やＣＴＳ信号の１／２周期に相
当する。

【００３７】また、この光磁気ディスク１において、第
１のプリフォーマット領域Ｐ１におけるトラックピッチ
Ｔｐ１と、第２のプリフォーマット領域Ｐ２におけるト
ラックピリオドＴｒとは、ほぼ同一とされる。すなわ
ち、第１のプリフォーマット領域Ｐ１に形成されたグル
ーブＧａ間の間隔と、第２のプリフォーマット領域Ｐ２
に形成された浅いグルーブＧｂ間の間隔とは、ほぼ同一
とされる。

【００３８】具体的には例えば、第１のプリフォーマッ
ト領域Ｐ１におけるトラックピッチＴｐ１を１．０μｍ
とする場合、第２のプリフォーマット領域Ｐ２における
トラックピリオドＴｒも１．０μｍとする。このとき、
第２のプリフォーマット領域Ｐ２におけるトラックピッ
チＴｐ２は０．５μｍとなり、第２のプリフォーマット
領域Ｐ２のトラック密度は、第１のプリフォーマット領
域Ｐ１のトラック密度の２倍となる。

【００３９】上述したように、第２のプリフォーマット
領域Ｐ２では、深さが異なるグルーブＧｂ，Ｇｃを隣接
配置することにより、いわゆる超解像を実現しており、
例えば０．５μｍというような非常に狭いトラックピッ
チであっても、十分なレベルのサーボ信号を得ることが
可能であり、トラッキングサーボやトラックシーク等の
動作を安定に行うことができる。

【００４０】なお、第１のプリフォーマット領域Ｐ１に
形成されたグルーブＧａ、及び第２のプリフォーマット
領域Ｐ２に形成された浅いグルーブＧｂは、第１のプリ
フォーマット領域Ｐ１と第２のプリフォーマット領域Ｐ
２とにわたって連続して形成される。そして、第１のプ
リフォーマット領域Ｐ１に形成されたグルーブＧａの深
さと、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成された浅
いグルーブＧｂの深さは、ほぼ同一としておく。

【００４１】以上のような光磁気ディスク１では、図２
に示したように、光スポットを記録トラックに直交する
方向に移動させたときのプッシュプル信号及びＣＴＳ信
号の周期及び極性が、第１のプリフォーマット領域Ｐ１
と第２のプリフォーマット領域Ｐ２とでほぼ等しくな
る。したがって、この光磁気ディスク１では、記録密度
の異なる第１及び第２のプリフォーマット領域Ｐ１，Ｐ
２が混在していても、トラッキングサーボやトラックシ
ークを安定に行うことができる。

【００４２】特に、上記光磁気ディスク１において、第
１のプリフォーマット領域Ｐ１に形成されたグルーブＧ
ａ、及び第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成された
浅いグルーブＧｂは、第１のプリフォーマット領域Ｐ１
と第２のプリフォーマット領域Ｐ２とにわたって連続し
て形成される。したがって、トラックピッチの切り換え
を行うポイント（すなわち、第１のプリフォーマット領
域Ｐ１と第２のプリフォーマット領域Ｐ２との境界）に
おいても、サーボ信号が突然変化してしまうようなこと
はなく、トラッキングサーボを安定に行うことができ
る。

【００４３】＜光磁気ディスクの製造方法＞つぎに、上
記光磁気ディスク１の製造方法について、具体的な例を
挙げて詳細に説明する。

【００４４】光磁気ディスク１を製造する際は、先ず、
原盤工程として、光磁気ディスク１に形成されるグルー
ブＧａ，Ｇｂ，Ｇｃに対応した凹凸パターンを有する光
記録媒体製造用原盤を作製する。

【００４５】原盤工程では、先ず、表面を研磨した円盤
状のガラス基板を洗浄し乾燥させ、その後、このガラス
基板上に感光材料であるフォトレジストを塗布する。次
に、このフォトレジストをレーザカッティング装置によ
って露光し、光磁気ディスク１に形成されるグルーブＧ
ａ，Ｇｂ，Ｇｃに対応した潜像をフォトレジストに形成
する。なお、レーザカッティング装置については、後で
詳細に説明する。

【００４６】そして、フォトレジストに潜像を形成した
ら、次に、フォトレジストが塗布されている面が上面と
なるように、ガラス基板を現像機のターンテーブル上に
載置する。そして、ターンテーブルを回転させることに
よりガラス基板を回転させながら、フォトレジスト上に
現像液を滴下して現像処理を施して、ガラス基板上にグ
ルーブＧａ，Ｇｂ，Ｇｃに対応した凹凸パターンを形成
する。

【００４７】次に、上記凹凸パターン上に無電解メッキ
法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板を電鋳装置に取り付け、
電解メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメッキ
層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成す
る。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキを
アセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写された
面に残存しているフォトレジストを除去する。

【００４８】以上の工程により、ガラス基板上に形成さ
れていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる光記
録媒体製造用原盤が完成する。なお、この光記録媒体製
造用原盤は、本発明に係る光記録媒体製造用原盤の実施
の形態の一つであり、光磁気ディスク１の第１のプリフ
ォーマット領域Ｐ１に形成されるグルーブＧａに対応し
た凹凸パターンと、光磁気ディスク１の第２のプリフォ
ーマット領域Ｐ２に形成されるグルーブＧｂ，Ｇｃに対
応した凹凸パターンとが形成されてなる。

【００４９】次に、転写工程として、フォトポリマー法
（いわゆる２Ｐ法）により、上記光記録媒体製造用原盤
の表面形状が転写されてなるディスク基板２を作製す
る。

【００５０】具体的には、先ず、光記録媒体製造用原盤
の凹凸パターンが形成された面上にフォトポリマーを平
滑に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フ
ォトポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、
フォトポリマー層上にベースプレートを密着させる。こ
こで、ベースプレートには、例えば、１．２ｍｍ厚のポ
リメチルメタクリレート（屈折率１．４９）からなるベ
ースプレートを使用する。その後、紫外線を照射してフ
ォトポリマーを硬化させ、フォトポリマー層の硬化後、
光記録媒体製造用原盤を剥離することにより、光記録媒
体製造用原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板
２を作製する。

【００５１】なお、ここでは、光記録媒体製造用原盤に
形成された凹凸パターンがより正確にディスク基板２に
転写されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板２を作
製する例を挙げたが、ディスク基板２を量産するような
場合には、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネー
ト等の透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板
２を作製するようにしても良いことは言うまでもない。

【００５２】次に、成膜工程として、光記録媒体製造用
原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２の上
に、第１の誘電体膜３、光磁気膜４、第２の誘電体膜
５、光反射膜６及び保護膜７を形成する。

【００５３】具体的には例えば、先ず、ディスク基板２
の凹凸パターンが形成された面上に、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ
₄又はＡｌ₂Ｏ₃等からなる第１の誘電体膜３と、ＧｄＦ
ｅＣｏ又はＴｅＦｅＣｏ等からなる光磁気膜４と、Ｓｉ
Ｏ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄又はＡｌ₂Ｏ₃等からなる第２の誘電体膜
５と、Ａｌ等からなる光反射膜６とをこの順にスパッタ
リング法により積層形成する。次に、紫外線硬化樹脂等
からなる保護膜材料を光反射膜６上にスピンコート法に
より塗布し、当該紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射
し硬化させることにより、保護膜７を形成する。

【００５４】以上の工程により、光磁気ディスク１が完
成する。

【００５５】＜レーザカッティング装置＞以上のような
光磁気ディスク１を製造する際には、上述したように、
光記録媒体製造用原盤を作製する際に、レーザカッティ
ング装置が使用される。以下、レーザカッティング装置
の一例について、図３を参照して詳細に説明する。

【００５６】図３に示したレーザカッティング装置１０
は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１
２を露光して、フォトレジスト１２に潜像を形成するた
めのものである。このレーザカッティング装置１０でフ
ォトレジスト１２に潜像を形成する際、フォトレジスト
１２が塗布されたガラス基板１１は、移動光学テーブル
上に設けられた回転駆動装置に取り付けられる。そし
て、フォトレジスト１２を露光する際、ガラス基板１１
は、フォトレジスト１２の全面にわたって所望のパター
ンでの露光がなされるように、図中矢印Ａ１に示すよう
に回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移動
光学テーブルによって平行移動される。

【００５７】このレーザカッティング装置１０は、２つ
の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光するこ
とが可能となっており、これらの露光ビームにより、光
磁気ディスク１に形成されるグルーブＧａ，Ｇｂ，Ｇｃ
に対応した潜像を形成する。

【００５８】このレーザカッティング装置１０は、レー
ザ光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯ
Ｍ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変
調器１４から出射されたレーザ光の光軸上に配された検
光子１５と、検光子１５を透過してきたレーザ光を反射
光と透過光とに分割する第１のビームスプリッタ１７
と、第１のビームスプリッタ１７を透過してきたレーザ
光を反射光と透過光とに分割する第２のビームスプリッ
タ１８と、第２のビームスプリッタ１８を透過してきた
レーザ光を検出するフォトディテクタ（ＰＤ：Photo De
tector）１９と、電気光学変調器１４に対して信号電界
を印加して当該電気光学変調器１４から出射されるレー
ザ光強度を調整するオートパワーコントローラ（ＡＰ
Ｃ：Auto Power Controller）２０とを備えている。

【００５９】このレーザカッティング装置１０におい
て、光源１３から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ２０から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器１４によって所定の光強度
とされた上で検光子１５に入射する。ここで、検光子１
５はＳ偏光だけを透過するようになされており、この検
光子１５を透過してきたレーザ光はＳ偏光となる。

【００６０】なお、光源１３には、任意のものが使用可
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが３５１ｎｍ
のレーザ光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザ光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザなどが、光源
１３として好適である。

【００６１】検光子１５を透過してきたＳ偏光のレーザ
光は、先ず、第１のビームスプリッタ１７によって反射
光と透過光とに分けられ、更に、第１のビームスプリッ
タ１７を透過したレーザ光は、第２のビームスプリッタ
１８によって反射光と透過光とに分けられる。なお、こ
のレーザカッティング装置１０では、第１のビームスプ
リッタ１７によって反射されたレーザ光が第１の露光ビ
ームとなり、第２のビームスプリッタ１８によって反射
されたレーザ光が第２の露光ビームとなる。

【００６２】一方、第２のビームスプリッタ１８を透過
したレーザ光は、フォトディテクタ１９によって、その
光強度が検出され、当該光強度に応じた信号がフォトデ
ィテクタ１９からオートパワーコントローラ２０に送ら
れる。オートパワーコントローラ２０は、フォトディテ
クタ１９から送られてきた信号に応じて、フォトディテ
クタ１９によって検出される光強度が所定のレベルにて
一定となるように、電気光学変調器１４に対して印加す
る信号電界を調整する。これにより、電気光学変調器１
４から出射するレーザ光の光強度が一定となるように、
自動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）が施さ
れ、ノイズの少ない安定したレーザ光が得られる。

【００６３】また、このレーザカッティング装置１０
は、第１のビームスプリッタ１７によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第１の変調光学系２２
と、第２のビームスプリッタ１８によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第２の変調光学系２３
と、第１及び第２の変調光学系２１，２２によって光強
度変調が施された各レーザ光を再合成してフォトレジス
ト１２上に集光するための光学系２４とを備えている。

【００６４】そして、第１のビームスプリッタ１７によ
って反射されてなる第１の露光ビームは、第１の変調光
学系２２に導かれ、第１の変調光学系２２によって光強
度変調が施される。同様に、第２のビームスプリッタ１
８によって反射されてなる第２の露光ビームは、第２の
変調光学系２３に導かれ、第２の変調光学系２３によっ
て光強度変調が施される。

【００６５】第１の変調光学系２２に入射した第１の露
光ビームは、集光レンズ２９によって集光された上で音
響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical Modulator）
３０に入射し、この音響光学変調器３０によって、所望
する露光パターンに対応するように光強度変調される。
ここで、音響光学変調器３０に使用される音響光学素子
としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ₂）からなる音
響光学素子が好適である。そして、音響光学変調器３０
によって光強度変調された第１の露光ビームは、コリメ
ートレンズ３１によって平行光とされた上で、第１の変
調光学系２２から出射される。

【００６６】ここで、音響光学変調器３０には、当該音
響光学変調器３０を駆動するための駆動用ドライバ３２
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ１が
駆動用ドライバ３２に入力され、当該信号Ｓ１に応じて
駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０が駆動
され、第１の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。

【００６７】具体的には、例えば、第１の露光ビームに
よってフォトレジスト１２を露光することにより、第１
のプリフォーマット領域Ｐ１に形成されるグルーブＧａ
や、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成される浅い
グルーブＧｂに対応した潜像を形成するとする。この場
合、それらのグルーブＧａ，Ｇｂに対応したＤＣ信号が
駆動用ドライバ３２に入力され、当該ＤＣ信号に応じて
駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０が駆動
される。これにより、所望するグルーブＧａ，Ｇｂに対
応するように、第１の露光ビームに対して光強度変調が
施される。

【００６８】また、第２の変調光学系２３に入射した第
２の露光ビームは、集光レンズ３３によって集光された
上で音響光学変調器３４に入射し、この音響光学変調器
３４によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器３４に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔ
ｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器３４によって光強度変調された第２の露
光ビームは、コリメートレンズ３５によって平行光とさ
れるとともに、λ／２波長板３６を透過することにより
偏光方向が９０°回転させられた上で、第２の変調光学
系２３から出射される。

【００６９】ここで、音響光学変調器３４には、当該音
響光学変調器３４を駆動するための駆動用ドライバ３７
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ２が
駆動用ドライバ３７に入力され、当該信号Ｓ２に応じて
駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４が駆動
され、第２の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。

【００７０】具体的には、例えば、第２の露光ビームに
よってフォトレジスト１２を露光することにより、第２
のプリフォーマット領域Ｐ２に形成される深いグルーブ
Ｇｃに対応した潜像を形成するとする。この場合、グル
ーブＧｃに対応したＤＣ信号が駆動用ドライバ３７に入
力され、当該ＤＣ信号に応じて駆動用ドライバ３７によ
って音響光学変調器３４が駆動される。これにより、所
望するグルーブＧｃに対応するように、第２の露光ビー
ムに対して光強度変調が施される。

【００７１】以上のようにして、第１の露光ビームは第
１の変調光学系２２によって光強度変調が施され、第２
の露光ビームは第２の変調光学系２３によって光強度変
調が施される。このとき、第１の変調光学系２２から出
射する第１の露光ビームはＳ偏光のままであるが、第２
の変調光学系２３から出射する第２の露光ビームは、λ
／２波長板３６を通過することにより偏光方向が９０°
回転させられているので、Ｐ偏光となっている。

【００７２】そして、第１の変調光学系２２から出射し
た第１の露光ビームは、ミラー４１によって反射され、
移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。同様
に、第２の変調光学系２３から出射した第２の露光ビー
ムは、ミラー４２によって反射され、移動光学テーブル
上に水平且つ平行に導かれる。

【００７３】第１の変調光学系２２から出射し、移動光
学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第１の露光ビー
ムは、ミラー４４によって反射されて進行方向が９０°
曲げられ、偏光ビームスプリッタ４５に入射する。ま
た、第２の変調光学系２３から出射し、移動光学テーブ
ル上に水平且つ平行に導かれた第２の露光ビームは、そ
のまま偏光ビームスプリッタ４５に入射する。

【００７４】ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、Ｓ
偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされている。
そして、第１の変調光学系２２から出射された第１の露
光ビームはＳ偏光であり、第２の変調光学系２３から出
射された第２の露光ビームはＰ偏光である。したがっ
て、第１の露光ビームは、偏光ビームスプリッタ４５に
よって反射され、また、第２の露光ビームは、偏光ビー
ムスプリッタ４５を透過する。これにより、第１の変調
光学系２２から出射された第１の露光ビームと、第２の
変調光学系２３から出射された第２の露光ビームとは、
進行方向が同一方向となるように再合成される。

【００７５】進行方向が同一方向となるように再合成さ
れて偏光ビームスプリッタ４５から出射した第１及び第
２の露光ビームは、拡大レンズ４６によって所定のビー
ム径とされた上でミラー４７によって反射されて対物レ
ンズ４８へと導かれ、当該対物レンズ４８によってフォ
トレジスト１２上に集光される。これにより、フォトレ
ジスト１２が露光され、フォトレジスト１２に潜像が形
成されることとなる。

【００７６】このとき、フォトレジスト１２が塗布され
ているガラス基板１１は、上述したように、フォトレジ
スト１２の全面にわたって所望のパターンでの露光がな
されるように、図中矢印Ａ１に示すように回転駆動装置
によって回転駆動されるとともに、移動光学テーブルに
よって平行移動される。この結果、第１及び第２の露光
ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト１２
の全面にわたって形成されることとなる。

【００７７】なお、フォトレジスト１２を露光する際
に、２つの露光ビームの両方を常に使うとは限らない。
そこで、第１の露光ビームが不要の場合には、第１の変
調光学系２２の音響光学変調器３０により第１の露光ビ
ームを遮光する。同様に、第２の露光ビームが不要の場
合には、第２の変調光学系２３の音響光学変調器３４に
より第２の露光ビームを遮光する。

【００７８】ところで、このレーザカッテング装置１０
において、露光ビームをフォトレジスト１２の上に集光
するための対物レンズ４８は、より微細な凹凸パターン
に対応した潜像を形成できるようにするために、開口数
ＮＡが大きい方が好ましく、具体的には、開口数ＮＡが
０．９程度の対物レンズが好適である。

【００７９】また、このレーザカッティング装置１０に
おいて、露光ビームをフォトレジスト１２に照射する際
は、必要に応じて、拡大レンズ４６によって露光ビーム
のビーム径を変化させ、対物レンズ４８に対する有効開
口数を調整する。これにより、フォトレジスト１２の表
面に集光される露光ビームのスポット径を調整すること
ができる。

【００８０】また、このレーザカッテング装置１０で
は、ミラー４１，４２，４４又は偏光ビームスプリッタ
４５の向きを調整することにより、第１及び第２の露光
ビームを対物レンズ４８によりフォトレジスト１２上に
集光する際に、それらの露光ビームに対応する各スポッ
トの相対的な位置を調整することができる。

【００８１】したがって、このレーザカッテング装置１
０では、例えば、光磁気ディスク１の第２のプリフォー
マット領域Ｐ２に形成される浅いグルーブＧｂと深いグ
ルーブＧｃに対応した潜像を同時に形成するような場合
に、ミラー４１，４２，４４又は偏光ビームスプリッタ
４５の向きを調整することにより、浅いグルーブＧｂに
対応した潜像と、深いグルーブＧｃに対応した潜像との
相対的な位置関係を調整することができる。

【００８２】＜光磁気ディスクの評価＞つぎに、上述し
た光磁気ディスク１を実際に作製し、その特性を評価し
た結果について説明する。なお、ここでは、グルーブＧ
ａ，Ｇｂの深さが異なる複数の評価用ディスクを作製
し、それらの特性を比較して評価した。

【００８３】評価用ディスクにおいて、第１のプリフォ
ーマット領域Ｐ１には、図２に示したように一定の深さ
のグルーブＧａを記録トラックに沿って形成し、第２の
プリフォーマット領域Ｐ２には、図２に示したように深
さの異なるグルーブＧｂ，Ｇｃを記録トラックに沿って
形成した。各評価用ディスクにおいて、第１のプリフォ
ーマット領域Ｐ１におけるトラックピッチＴｐ１は１．
０μｍとし、第２のプリフォーマット領域Ｐ２における
トラックピッチＴｐ２は０．５μｍ（トラックピリオド
Ｔｒ＝１．０μｍ）とした。

【００８４】評価用ディスクは、上述したように、レー
ザカッティング装置１０を用いて光記録媒体製造用原盤
を作製し、当該光記録媒体製造用原盤を型としてディス
ク基板２を作製し、その後、当該ディスク基板２の上に
第１の誘電体膜３、光磁気膜４、第２の誘電体膜５、光
反射膜６及び保護膜７を形成することで作製した。

【００８５】上述したようにレーザカッティング装置１
０を用いて、グルーブＧａ，Ｇｂ，Ｇｃに対応した潜像
を形成する際、第１のプリフォーマット領域Ｐ１に形成
するグルーブＧａに対応した潜像の形成は、第１の露光
ビームだけを用いて行った。一方、第２のプリフォーマ
ット領域Ｐ２に形成する浅いグルーブＧｂに対応した潜
像の形成と、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成す
る深いグルーブＧｃに対応した潜像の形成とは、第１の
露光ビームと第２の露光ビームの両方を用いて同時に行
った。すなわち、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形
成するグルーブＧｂ，Ｇｃに対応した潜像を形成する際
は、第１の露光ビームにより浅い方のグルーブＧｂに対
応した潜像の形成を行い、同時に、第２の露光ビームに
より深い方のグルーブＧｃに対応した潜像の形成を行っ
た。

【００８６】なお、光磁気ディスク１を作製するにあた
り、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成する深い方
のグルーブＧｃの深さ変化は、レーザカッティング装置
１０を用いて光記録媒体製造用原盤を作製する際に、ガ
ラス基板１１上に塗布するフォトレジスト１２の厚さを
変化させることにより得られる。

【００８７】具体的には、第２のプリフォーマット領域
Ｐ２に形成する深い方のグルーブＧｃに対応した潜像を
フォトレジスト１２に形成する際、第２の露光ビームに
よりフォトレジスト１２の底面に至るまで完全に露光す
るようにする。この場合、第２のプリフォーマット領域
Ｐ２に形成される深い方のグルーブＧｃの深さは、フォ
トレジスト１２の膜厚に相当することとなる。

【００８８】したがって、ガラス基板１１上に塗布する
フォトレジスト１２の厚さを変化させることにより、第
２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成する深い方のグル
ーブＧｃの深さを変化させることができる。

【００８９】そして、各評価用ディスクにおいて、第２
のプリフォーマット領域Ｐ２に形成される深い方のグル
ーブＧｃは、ガラス基板１１上に塗布するフォトレジス
ト１２の膜厚を調整して、各評価用ディスクにおいて２
１６ｎｍで一定となるようにした。

【００９０】また、光磁気ディスク１を作製するにあた
り、第１のプリフォーマット領域Ｐ１に形成するグルー
ブＧａや、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成する
浅い方のグルーブＧｂの深さ変化は、レーザカッティン
グ装置１０を用いて光記録媒体製造用原盤を作製する際
に、それらのグルーブＧａ，Ｇｂに対応した潜像を形成
する露光ビームのパワーを変化させることにより得られ
る。

【００９１】具体的には、第１のプリフォーマット領域
Ｐ１に形成するグルーブＧａや、第２のプリフォーマッ
ト領域Ｐ２に形成する浅い方のグルーブＧｂに対応した
潜像をフォトレジスト１２に形成する際、フォトレジス
ト１２の底面に至るまでは露光しないように、第１の露
光ビームによりフォトレジスト１２を露光する。この場
合、第１のプリフォーマット領域Ｐ１に形成されるグル
ーブＧａや、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成さ
れる浅い方のグルーブＧｂの深さは、第１の露光ビーム
によってフォトレジスト１２を露光する際の露光ビーム
パワーに依存することとなる。

【００９２】したがって、第１の露光ビームによってフ
ォトレジスト１２を露光する際の露光ビームパワーを変
化させることにより、第１のプリフォーマット領域Ｐ１
に形成するグルーブＧａの深さや、第２のプリフォーマ
ット領域Ｐ２に形成する深い方のグルーブＧｂの深さを
変化させることができる。

【００９３】そして、このように第１の露光ビームのパ
ワーを変化させて、各評価用ディスクにおいて、第１の
プリフォーマット領域Ｐ１に形成するグルーブＧａの深
さや、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成する深い
方のグルーブＧｂの深さが異なるようにした。

【００９４】なお、レーザカッティング装置１０により
グルーブＧａ，Ｇｂ，Ｇｃに対応した潜像をフォトレジ
スト１２に形成する際、光源１３には、波長λが３５１
ｎｍのレーザ光を出射するＫｒレーザを用いた。また、
拡大レンズ４６には、焦点距離が７０ｍｍのものを用い
た。また、対物レンズ４８には、開口数ＮＡが０．９の
ものを用いた。

【００９５】また、露光ビームによりフォトレジスト１
２を露光する際は、ガラス基板１１を回転駆動させると
ともに移動光学テーブルによって平行移動させたが、こ
のときの線速は１．０ｍ／ｓｅｃとし、送りピッチは
１．００μｍとした。なお、ここでの送りピッチは、第
１のプリフォーマット領域Ｐ１におけるトラックピッチ
Ｔｐ１、或いは、第２のプリフォーマット領域Ｐ２にお
けるトラックピリオドＴｒに相当する。

【００９６】また、第２の露光ビームにより、第２のプ
リフォーマット領域Ｐ２に形成する深い方のグルーブＧ
ｃに対応した潜像を形成する際、当該第２の露光ビーム
のレーザパワーは約０．５５ｍＷとした。すなわち、各
評価用ディスクを作製する際に、第２の露光ビームのレ
ーザパワーを約０．５５ｍＷで一定とした。

【００９７】一方、第１の露光ビームにより、第１のプ
リフォーマット領域Ｐ１に形成するグルーブＧａに対応
した潜像や、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成す
る浅い方のグルーブＧｂに対応した潜像を形成する際、
当該第１の露光ビームのレーザパワーは約０．３５ｍＷ
程度とした。すなわち、各評価用ディスクを作製する際
に、評価用ディスク毎にグルーブＧａ，ｇｂの深さが異
なるものとなるように、評価用ディスク毎に第１の露光
ビームのレーザパワーを０．３５ｍＷを中心として変化
させた。

【００９８】そして、光磁気ディスク１の評価を行うた
めに、以上のような製造方法により、グルーブｇａ，ｇ
ｂの深さの異なる複数の評価用ディスクを作製した。そ
れらの評価用ディスクに形成されたグルーブＧａ，Ｇ
ｂ，Ｇｃの形状を測定した結果を表２に示す。

【００９９】

【表２】

【０１００】なお、各評価用ディスクにおいて、グルー
ブＧａ，Ｇｂ，Ｇｃの断面形状のうち、深さ以外のパラ
メータについては、ほぼ一定であった。具体的には、第
１のプリフォーマット領域Ｐ１に形成されたグルーブＧ
ａ、及び第２のプリフォーマット領域Ｐ２に形成された
浅い方のグルーブＧｂの断面形状は、ほぼＶ字状であ
り、上幅が約２００ｎｍ、底幅が約０ｎｍであった。ま
た、各評価用ディスクにおいて、第２のプリフォーマッ
ト領域Ｐ２に形成された深い方のグルーブＧｃの断面形
状はほぼ台形上であり、上幅が約２００ｎｍ、底幅が約
１４０ｎｍであった。

【０１０１】ここで、グルーブＧａ，Ｇｂ，Ｇｃの形状
の測定は、実際には、評価用ディスク自体を測定するの
ではなく、光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パタ
ーンを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic Force Microsc
ope）で測定することにより行った。すなわち、ここで
は、光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターンが
ディスク基板２に精度良く転写されるものと仮定し、光
記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターンの形状を
測定した結果を、評価用ディスクに形成されたグルーブ
Ｇａ，Ｇｂ，Ｇｃの形状を示す値として用いた。

【０１０２】そして、各評価用ディスクについて、光磁
気ディスク用評価機を用いて、トラッキングサーボ特性
やトラックシーク特性を評価するとともに、それらの評
価用ディスクから得られるプッシュプル信号量及びクロ
ストラック信号量を測定した。なお、光磁気ディスク用
評価機は、光磁気ディスクの記録再生を実際に行い、そ
のときの記録再生特性を測定するものであり、ここで
は、レーザ光の波長が６５０ｎｍ、対物レンズの開口数
ＮＡが０．５２の光学ヘッドを用いて記録再生を行う光
磁気ディスク用評価機を用いた。

【０１０３】ここで、トラッキングサーボはプッシュプ
ル法を用いて行い、第１のプリフォーマット領域Ｐ１で
は、グルーブＧａとグルーブＧａとの間のランドＬａの
部分に光スポットが位置するようにトラッキングをかけ
た。また、第２のプリフォーマット領域Ｐ２では、浅い
グルーブＧｂと深いグルーブＧｃの間のランドＬｂ，Ｌ
ｃの部分に光スポットが位置するようにトラッキングを
かけた。

【０１０４】また、第１及び第２のプリフォーマット領
域Ｐ１，Ｐ２において、トラックシークはＣＴＳ信号に
基づいて行った。すなわち、光スポットを所望する記録
トラックに移動させる場合は、ＣＴＳ信号に基づいて光
スポットが横切った記録トラックの数をカウントして、
光スポットを所望する記録トラックへ移動させるように
した。

【０１０５】表３に、各評価用ディスクについて、光磁
気ディスク用評価機を用いて、プッシュプル信号量及び
ＣＴＳ信号量を測定した結果を示す。なお、プッシュプ
ル信号は、光磁気ディスク１からの反射光を、トラック
中心に対して対称に配置された２つの光検出器Ａ，Ｂに
より検出し、それら２つの光検出器Ａ，Ｂからの出力の
差（Ａ−Ｂ）をとることにより得られる。また、ＣＴＳ
信号は、それら２つの光検出器Ａ，Ｂからの出力の和
（Ａ＋Ｂ）をとることにより得られる。そして、プッシ
ュプル信号の振幅をＣ（peak to peak値）、ＣＴＳ信号
の振幅をＤ（peakto peak値）、グルーブ等が形成され
ていない鏡面部位におけるＣＴＳ信号の値をＭmaxとす
ると、プッシュプル信号量はＣ／Ｍmaxで表され、ＣＴ
Ｓ信号量はＤ／Ｍmaxで表される。

【０１０６】

【表３】

【０１０７】表３に示すように、各評価用ディスクで
は、いずれもプッシュプル信号量が０．１３８以上であ
った。これは、プッシュプル信号を用いてトラッキング
サーボを安定に行うのには十分なレベルであり、全ての
評価用ディスクにおいて、トラッキングサーボを安定に
行うことができた。

【０１０８】また、表３に示すように、各評価用ディス
クでは、いずれもＣＴＳ信号量が０．０６５以上であっ
た。これは、ＣＴＳ信号を用いてトラックシークを安定
に行うのには十分なレベルであり、全ての評価用ディス
クにおいて、トラックシークを安定に行うことができ
た。

【０１０９】ところで、図２上部に示したように、第１
のプリフォーマット領域Ｐ１から得られるプッシュプル
信号は、グルーブＧａの中心及びランドＬａの中心でゼ
ロ点を示し、ＣＴＳ信号は、グルーブＧａの中心で極
小、ランドＬａの中心で極大を示す。一方、図２下部に
示したように、第２のプリフォーマット領域Ｐ２から得
られるプッシュプル信号は、浅いグルーブＧｂの中心及
び深いグルーブＧｃの中心でゼロ点を示し、ＣＴＳ信号
は、浅いグルーブＧｂの中心で極小、深いグルーブＧｃ
の中心で極大を示す。

【０１１０】このように、本発明を適用した光磁気ディ
スク１では、第１のプリフォーマット領域Ｐ１と第２の
プリフォーマット領域Ｐ２とで、プッシュプル信号及び
ＣＴＳ信号の周期や極性が変わるようなことがないた
め、第１のプリフォーマット領域Ｐ１と第２のプリフォ
ーマット領域Ｐ２とにわたって、トラッキングサーボ及
びトラックシークを安定に行うことができる。

【０１１１】そして、実際に作製した評価用ディスクに
おいても、安定したトラッキングサーボ及びトラックシ
ークを行えることが確認できた。このことから、本発明
を適用することにより、トラックピッチの異なるプリフ
ォーマット領域が混在していても、安定したトラッキン
グサーボ及びトラックシークを行えることが検証でき
た。

【０１１２】なお、第２のプリフォーマット領域Ｐ２に
おいて、プッシュプル信号量が最大になるのは、２つの
記録トラックＴ１，Ｔ２のうちの一方の記録トラック上
に光スポットが位置している場合であり、プッシュプル
信号量が最小になるのは、他方の記録トラック上に光ス
ポットが位置している場合である。したがって、プッシ
ュプル信号のレベルを検出することにより、光スポット
がどちらの記録トラック上に位置しているかを検出する
ことができる。

【０１１３】すなわち、本発明を適用することにより、
トラックピッチＴｐ２の非常に狭い第２のプリフォーマ
ット領域Ｐ２においても、隣接する記録トラックＴ１，
Ｔ２をそれぞれ判別して、所望する記録トラック上に光
スポットが位置するようにトラッキングをかけることが
できる。

【０１１４】そして、実際に作製した評価用ディスクに
おいても、第２のプリフォーマット領域Ｐ２において、
プッシュプル信号のレベルを検出することにより、光ス
ポットがどちらの記録トラック上に位置しているかを容
易に検出できることが確認できた。

【０１１５】以上の評価結果から分かるように、本発明
を適用することにより、トラックピッチの異なる第１の
プリフォーマットＰ１と第２のプリフォーマットＰ２と
が混在していても、第１のプリフォーマットＰ１と第２
のプリフォーマットＰ２とで同様な周期や極性のサーボ
信号（プッシュプル信号及びＣＴＳ信号）が得られるよ
うになり、トラッキングサーボやトラックシークを安定
に行うことが可能となる。

【０１１６】ところで、第１のプリフォーマット領域Ｐ
１において、ＣＴＳ信号は、グルーブＧａとグルーブＧ
ａの間のランドＬａの部分に光スポットが位置している
場合に最大となり、グルーブＧａの部分に光スポットが
位置している場合に最小となる。したがって、第１のプ
リフォーマット領域Ｐ１では、ＣＴＳ信号のレベルを検
出することにより、トラッキングサーボを行うことも可
能である。すなわち、上記の例では、プッシュプル信号
に基づいてプッシュプル法によりトラッキングサーボを
行うものとしたが、第１のプリフォーマット領域Ｐ１に
ついては、ＣＴＳ信号のレベルを検出することにより、
トラッキングサーボを行うことも可能である。

【０１１７】また、上記の例では、第１及び第２のプリ
フォーマット領域Ｐ１，Ｐ２において、トラックシーク
はＣＴＳ信号に基づいて行ったが、トラックシークはプ
ッシュプル信号に基づいて行うことも可能である。すな
わち、光スポットを所望する記録トラックに移動させる
場合に、プッシュプル信号に基づいて光スポットが横切
った記録トラックの数をカウントして、光スポットを所
望する記録トラックへ移動させるようにしてもよい。

【０１１８】＜光記録再生装置＞つぎに、上記光磁気デ
ィスク１に対して信号の記録再生を行う光記録再生装置
について、具体的な例を挙げて説明する。

【０１１９】図４に本発明を適用した光記録再生装置の
一構成例を示す。この光記録再生装置１２０は、第１の
プリフォーマット領域Ｐ１と第２のプリフォーマット領
域Ｐ２とが混在した光磁気ディスク１を記録媒体として
用いる光記録再生装置であり、光学ヘッド１２１と、磁
気ヘッド１２２と、光磁気ディスク１を回転駆動させる
スピンドルモータ１２３と、光学ヘッド１２１及び磁気
ヘッド１２２を動かすための送りモータ１２４と、所定
の変復調処理を行う変復調回路１２５と、光学ヘッド１
２１等のサーボ制御を行うサーボ制御回路１２６と、シ
ステム全体の制御を行うシステムコントローラ１２７と
を備えている。

【０１２０】スピンドルモータ１２３は、サーボ制御回
路１２６により駆動制御され、所定の回転数で回転駆動
される。すなわち、記録再生の対象となる光磁気ディス
ク１は、スピンドルモータ１２３にチャッキングされ、
サーボ制御回路１２６により駆動制御されるスピンドル
モータ１２３によって、所定の回転数で回転駆動され
る。

【０１２１】光学ヘッド１２１は、光磁気ディスク１か
ら信号を再生するときに、回転駆動される光磁気ディス
ク１に対してレーザ光を照射し、その戻り光を検出す
る。そして、当該戻り光から再生信号を検出し、当該再
生信号を変復調回路１２５に供給する。また、当該戻り
光から、トラッキングサーボやフォーカスサーボに必要
な信号を検出し、それらの信号をサーボ制御回路１２６
に供給する。

【０１２２】また、光学ヘッド１２１は、光磁気ディス
ク１に信号を記録するときに、回転駆動される光磁気デ
ィスク１に対してレーザ光を照射し、光磁気ディスク１
に対して光磁気記録方式による信号記録を行う。また、
その戻り光を検出して、当該戻り光から、トラックシー
クやトラッキングサーボやフォーカスサーボに必要な信
号（サーボ信号等）を検出し、それらの信号をサーボ制
御回路１２６に供給する。

【０１２３】磁気ヘッド１２２は、光磁気ディスク１に
信号を記録するときに、回転駆動される光磁気ディスク
１に対して磁界を印加し、光磁気ディスク１に対して光
磁気記録方式による信号記録を行う。

【０１２４】変復調回路１２５は、光磁気ディスク１か
ら信号を再生する際、システムコントローラ１２７によ
る制御のもとで、光磁気ディスク１から再生された再生
信号を光学ヘッド１２１から受け取り、当該再生信号に
対して所定の復調処理を施す。そして、復調した再生信
号を外部回路１２８へ出力する。

【０１２５】また、変復調回路１２５は、光磁気ディス
ク１に信号を記録する際、システムコントローラ１２７
による制御のもとで、外部回路１２８から記録信号を受
け取り、当該記録信号に対して所定の変調処理を施す。
そして、変調した記録信号を光学ヘッド１２１及び磁気
ヘッド１２２に供給する。変復調回路１２５から記録信
号を受け取った光学ヘッド１２１及び磁気ヘッド１２２
は、変復調回路１２５から受け取った記録信号を、光磁
気記録方式により光磁気ディスク１に記録する。

【０１２６】送りモータ１２４は、情報信号の記録再生
を行う際、光学ヘッド１２１及び磁気ヘッド１２２を光
磁気ディスク１の径方向の所定の位置に送るためのもの
であり、サーボ制御回路１２６からの制御信号に基づい
て駆動される。

【０１２７】サーボ制御回路１２６は、システムコント
ローラ１２７による制御のもとで、光学ヘッド１２１及
び磁気ヘッド１２２が光磁気ディスク１に対向する所定
の位置に送られるように、送りモータ１２４を制御す
る。また、サーボ制御回路１２６は、スピンドルモータ
１２３にも接続されており、システムコントローラ１２
７による制御のもとで、スピンドルモータ１２３の動作
を制御する。すなわち、サーボ制御回路１２６は、光磁
気ディスク１の記録再生時に、光磁気ディスク１が所定
の回転数で回転駆動されるように、スピンドルモータ１
２３を制御する。

【０１２８】また、サーボ制御回路１２６は、記録再生
時に、上述したように光学ヘッド１２１からトラックシ
ークやトラッキングサーボやフォーカスサーボに必要な
信号（サーボ信号等）を受け取り、それらの信号に基づ
いて、光学ヘッド１２１のトラックシーク、トラッキン
グサーボ及びフォーカスサーボの制御を行う。なお、ト
ラッキングサーボ及びフォーカスサーボは、例えば、光
学ヘッド１２１の対物レンズを２軸アクチュエータに搭
載し、当該２軸アクチュエータにより対物レンズを微細
に移動させることで行う。

【０１２９】以上のような構成を有する光記録再生装置
１２０で、光磁気ディスク１の第１のプリフォーマット
領域Ｐ１や第２のプリフォーマット領域Ｐ２に信号を記
録する際は、先ず、外部回路１２８から供給された記録
信号に対して、変復調回路１２５により所定の変調処理
を施す。そして、所定の変調処理を施した記録信号を、
光学ヘッド１２１及び磁気ヘッド１２２に供給し、光学
ヘッド１２１及び磁気ヘッド１２２により、光磁気ディ
スク１に記録信号を記録する。すなわち、光学ヘッド１
２１からのレーザ光を記録信号に応じて変調して光磁気
ディスク１に照射するとともに、磁気ヘッド１２２から
の磁界を記録信号に応じて変調して光磁気ディスク１に
印加することにより、光磁気ディスク１に対して光磁気
記録を行う。

【０１３０】ここで、光学ヘッド１２１は、光磁気ディ
スク１の記録トラックを中心に対称に配置された一対の
受光部を備えており、光磁気ディスク１への信号記録時
には、それらの受光部により、光磁気ディスク１からの
戻り光を検出する。そして、それら一対の受光部でそれ
ぞれ検出された光量の差をとったプッシュプル信号や、
それら一対の受光部でそれぞれ検出された光量の和をと
ったＣＴＳ信号を、トラックシークやトラッキングサー
ボを行うのに用いるサーボ信号として出力する。このサ
ーボ信号は、上述したようにサーボ制御回路１２６に送
られる。そして、サーボ制御回路１２６は、プッシュプ
ル信号に基づいてトラッキングサーボを行い、ＣＴＳ信
号に基づいてトラックシークを行う。

【０１３１】また、以上のような構成を有する光記録再
生装置１２０で、光磁気ディスク１の第１のプリフォー
マット領域Ｐ１や第２のプリフォーマット領域Ｐ２に記
録された信号を再生する際は、スピンドルモータ１２３
により光磁気ディスク１を回転駆動させ、当該光磁気デ
ィスク１に対して光学ヘッド１２１からレーザ光を照射
し、その戻り光を光学ヘッド１２１により検出する。そ
して、光学ヘッド１２１は、戻り光のカー回転角を検出
することで、光磁気ディスク１に記録された信号を再生
する。光学ヘッド１２１により再生された再生信号は、
変復調回路１２５に送られ、所定の復調処理が施された
上で、外部回路１２８へ出力される。

【０１３２】ここで、光学ヘッド１２１は、光磁気ディ
スク１の記録トラックを中心に対称に配置された一対の
受光部を備えており、光磁気ディスクからの信号再生時
に、それら一対の受光部でそれぞれ検出された光量の差
をとったプッシュプル信号や、それら一対の受光部でそ
れぞれ検出された光量の和をとったＣＴＳ信号を、トラ
ックシークやトラッキングサーボを行うのに用いるサー
ボ信号として出力する。このサーボ信号は、上述したよ
うにサーボ制御回路１２６に送られる。そして、サーボ
制御回路１２６は、プッシュプル信号に基づいてトラッ
キングサーボを行い、ＣＴＳ信号に基づいてトラックシ
ークを行う。

【０１３３】以上のような光記録再生装置１２０では、
記録媒体として本発明を適用した光磁気ディスク１を用
いているので、上述した評価用ディスクの評価結果から
も分かるように、トラッキングサーボやトラックシーク
を安定に行うことができる。

【０１３４】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、トラックピッチを変えることで記録密度の異なる
複数の記録領域を混在させても、トラッキングサーボや
トラックシークを安定に行うことが可能となる。したが
って、本発明によれば、記録密度の異なる記録領域が混
在するような光記録媒体を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光磁気ディスクの一例につい
て、その要部を拡大して示す断面図である。

【図２】図１に示した光磁気ディスクの記録領域の一部
を拡大して示す図である。

【図３】本発明に係る光記録媒体及び光記録媒体製造用
原盤を作製する際に使用されるレーザカッティング装置
の一例について、その光学系の概要を示す図である。

【図４】図１に示した光磁気ディスクを記録媒体として
用いる、本発明を適用した光記録再生装置の構成例を示
す図である。

【図５】図５（ａ）は、従来の１倍密度光磁気ディスク
の記録領域の一部を拡大して示す図であり、図５（ｂ）
は、従来の５倍密度光磁気ディスクの記録領域の一部を
拡大して示す図である。

【符号の説明】

１ 光磁気ディスク、 ２ ディスク基板、 ３ 第１
の誘電体膜、 ４ 光磁気膜、 ５ 第２の誘電体膜、
６ 光反射膜、 ７ 保護膜、 Ｇａ，Ｇｂ，Ｇｃ
グルーブ、 Ｌａ，Ｌｂ，Ｌｃ ランド

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録トラックに沿って所定の深さのグル
   ーブが形成された第１のプリフォーマット領域と、 記録トラックに沿って浅いグルーブと深いグルーブとが
   隣り合うように形成された第２のプリフォーマット領域
   とを備え、 第１のプリフォーマット領域に形成されたグルーブ間の
   間隔と、第２のプリフォーマット領域に形成された浅い
   グルーブ間の間隔とが略同一であり、 第２のプリフォーマット領域に形成された深いグルーブ
   は、浅いグルーブ間の略中央に形成されていることを特
   徴とする光記録媒体。
2. 【請求項２】 第１のプリフォーマット領域に形成され
   たグルーブと、第２のプリフォーマット領域に形成され
   た浅いグルーブとは、第１のプリフォーマット領域と第
   ２のプリフォーマット領域とにわたって連続して形成さ
   れていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
3. 【請求項３】 第１又は第２のプリフォーマット領域に
   光スポットを照射し、その戻り光を、記録トラック中心
   に対して対称に配置された２つの光検出器により検出し
   たときに、一方の光検出器で検出される光量をＡ、他方
   の光検出器で検出される光量をＢとしたとき、 光スポットを記録トラックに直交する方向に移動させた
   ときの、Ａ−Ｂで表される差信号の周期及び極性、並び
   に、Ａ＋Ｂで表される和信号の周期及び極性が、第１の
   プリフォーマット領域と第２のプリフォーマット領域と
   で略等しいことを特徴とする請求項１記載の光記録媒
   体。
4. 【請求項４】 記録トラックに沿って所定の深さのグル
   ーブが形成された第１のプリフォーマット領域と、記録
   トラックに沿って浅いグルーブと深いグルーブとが隣り
   合うように形成された第２のプリフォーマット領域とを
   備えた光記録媒体を製造する際の型となる光記録媒体製
   造用原盤であって、 上記光記録媒体は、第１のプリフォーマット領域に形成
   されたグルーブ間の間隔と、第２のプリフォーマット領
   域に形成された浅いグルーブ間の間隔とが略同一であ
   り、且つ、第２のプリフォーマット領域に形成された深
   いグルーブが、浅いグルーブ間の略中央に形成されてな
   り、 少なくとも、上記光記録媒体の第１及び第２のプリフォ
   ーマット領域に形成される各グルーブに対応した凹凸パ
   ターンが形成されてなることを特徴とする光記録媒体製
   造用原盤。
5. 【請求項５】 上記光記録媒体の第１のプリフォーマッ
   ト領域に形成されるグルーブと、上記光記録媒体の第２
   のプリフォーマット領域に形成される浅いグルーブと
   は、第１のプリフォーマット領域と第２のプリフォーマ
   ット領域とにわたって連続して形成されることを特徴と
   する請求項４記載の光記録媒体製造用原盤。
6. 【請求項６】 上記光記録媒体の第１又は第２のプリフ
   ォーマット領域に光スポットを照射し、その戻り光を、
   記録トラック中心に対して対称に配置された２つの光検
   出器により検出したときに、一方の光検出器で検出され
   る光量をＡ、他方の光検出器で検出される光量をＢとし
   たとき、 光スポットを記録トラックに直交する方向に移動させた
   ときの、Ａ−Ｂで表される差信号の周期及び極性、並び
   に、Ａ＋Ｂで表される和信号の周期及び極性が、第１の
   プリフォーマット領域と第２のプリフォーマット領域と
   で略等しいことを特徴とする請求項４記載の光記録媒体
   製造用原盤。
7. 【請求項７】 記録トラックに沿って所定の深さのグル
   ーブが形成された第１のプリフォーマット領域と、記録
   トラックに沿って浅いグルーブと深いグルーブとが隣り
   合うように形成された第２のプリフォーマット領域とを
   備えた光記録媒体の記録及び／又は再生を行う光記録再
   生装置であって、 上記光記録媒体は、第１のプリフォーマット領域に形成
   されたグルーブ間の間隔と、第２のプリフォーマット領
   域に形成された浅いグルーブ間の間隔とが略同一であ
   り、且つ、第２のプリフォーマット領域に形成された深
   いグルーブが、浅いグルーブ間の略中央に形成されてな
   ることを特徴とする光記録再生装置。
8. 【請求項８】 上記光記録媒体の第１のプリフォーマッ
   ト領域に形成されたグルーブと、上記光記録媒体の第２
   のプリフォーマット領域に形成された浅いグルーブと
   は、第１のプリフォーマット領域と第２のプリフォーマ
   ット領域とにわたって連続して形成されていることを特
   徴とする請求項７記載の光記録再生装置。