JP2000231745A - 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及びその製造方法 - Google Patents

光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及びその製造方法

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JP2000231745A
JP2000231745A JP11031546A JP3154699A JP2000231745A JP 2000231745 A JP2000231745 A JP 2000231745A JP 11031546 A JP11031546 A JP 11031546A JP 3154699 A JP3154699 A JP 3154699A JP 2000231745 A JP2000231745 A JP 2000231745A
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groove
signal
pattern
recording medium
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Somei Endo
惣銘 遠藤
Masaki Kanno
正喜 管野
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 グルーブ形成領域とピット列形成領域とを兼
ね備えた光記録媒体において、ピット列形成領域から得
られる再生信号のアシンメトリを劣化させることなく、
ピット列形成領域からもグルーブ形成領域と同等のプッ
シュプル信号を得られるようにする。 【解決手段】 ピット列を構成する各ピットのマーク長
を、記録対象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化した
ときのマーク長よりも短くする。また、ピット列を構成
する各ピットのうち、最短ピットのマーク長を、記録対
象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化したときの最短
マーク長の６４．８〜８０．０％の長さとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録トラックに沿
ってグルーブが形成された領域と、所定のビット間隔Ｔ
で規格化された信号がピット列として記録された領域と
を有する光記録媒体に関する。また、本発明は、そのよ
うな光記録媒体を製造する際に使用される光記録媒体製
造用原盤及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体として、円盤状に形成されて
なり、光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディス
クが実用化されている。このような光ディスクとして
は、例えば、コンパクトディスクやレーザディスク等の
ように、記録信号に対応したピット列がディスク基板に
予め形成されてなる再生専用光ディスクがある。ここ
で、ピット列を構成する各ピットのマーク長は、記録対
象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化した長さとされ
る。すなわち、ピット列を構成する各ピットのマーク長
は、ビット間隔Ｔの整数倍となる。
【０００３】また、光ディスクとしては、例えば、ミニ
ディスク等のように、磁気光学効果を利用して信号の記
録再生を行う光磁気ディスクや、ＤＶＤ等のように、記
録膜の相変化を利用して信号の記録再生を行う相変化型
光ディスクなどもある。光磁気ディスクや相変化型光デ
ィスクのように書き込みが可能な光ディスクでは、通
常、記録トラックに沿ったグルーブがディスク基板に形
成される。ここで、グルーブとは、主にトラッキングサ
ーボを行えるようにするために、記録トラックに沿って
形成された、いわゆる案内溝のことである。
【０００４】グルーブが形成されてなる光ディスクで
は、例えばプッシュプル法によりトラッキングサーボが
なされる。プッシュプル法では、グルーブで反射回折さ
れた光から得られるプッシュプル信号に基づいて、トラ
ッキングサーボを行う。ここで、プッシュプル信号は、
グルーブで反射回折された光を、トラック中心に対して
対称に配置された２つの光検出器により検出し、それら
２つの光検出器からの出力の差をとることにより得られ
る。
【０００５】ところで、以上のような光ディスクの製造
工程は、ピット列やグルーブ等の凹凸パターンに対応し
た表面形状を有する光記録媒体製造用原盤を作製する工
程（以下、原盤工程と称する。）と、当該光記録媒体製
造用原盤の表面形状をディスク基板に転写する工程と、
光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写されてなるディ
スク基板上に記録膜や保護膜等を形成し光ディスクとし
て製品化する工程とに大別される。
【０００６】これらの工程のうち、原盤工程において
は、通常、先ず、表面を研磨した円盤状のガラス基板を
洗浄し乾燥させ、その後、このガラス基板上に感光材料
であるフォトレジストを塗布する。次に、このフォトレ
ジストに対してレーザ光による露光を行うことによっ
て、ピット列やグルーブ等の凹凸パターンに対応した潜
像を形成する。なお、このようにフォトレジストをレー
ザ光によって露光して潜像を形成することは、一般にレ
ーザカッティングと呼ばれており、フォトレジストをレ
ーザ光によって露光して潜像を形成する装置は、一般に
レーザカッティング装置と呼ばれている。
【０００７】その後、レーザ光による露光によって潜像
が形成されたフォトレジストに対して現像処理を施す。
これにより、ガラス基板上にピット列やグルーブ等に対
応した凹凸パターンが形成される。そして、この凹凸パ
ターン上に電鋳等によって金属膜を形成し、その後、こ
の金属膜を剥離する。これにより、ガラス基板上に形成
されていた凹凸パターンが転写された金属膜からなる光
記録媒体製造用原盤が得られる。なお、このように作製
された光記録媒体製造用原盤は、一般にスタンパと称さ
れている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】光ディスクに対する要
求には様々なものがあり、その一つとして、書き込み可
能領域と再生専用領域とを兼ね備えた光ディスクが要求
されている。そして、このような光ディスクとして、記
録トラックに沿ってグルーブが形成された領域（以下、
グルーブ形成領域と称する。）と、記録信号がピット列
として記録された領域（以下、ピット列形成領域と称す
る。）とを有する光ディスクが考案されている。ここ
で、グルーブ形成領域は書き込み可能領域となり、ピッ
ト列形成領域は再生専用領域となる。
【０００９】しかしながら、このような光ディスクにお
いて、ピット列形成領域に形成されたピット列を構成す
る各ピットの幅（以下、ピット幅と称する。）と、グル
ーブ形成領域に形成されたグルーブの幅（以下、グルー
ブ幅と称する。）とが等しいと、ピット列形成領域にお
いて得られるプッシュプル信号量が、グルーブ形成領域
において得られるプッシュプル信号量のほぼ半分になっ
てしまう。そのため、ピット列形成領域において、安定
なトラッキングサーボを行うことが出来なくなってしま
う。
【００１０】一方、ピット幅を広げると、ピット列形成
領域において得られるプッシュプル信号量は大きくな
る。したがって、ピット幅をグルーブ幅よりも十分に広
いものとすれば、ピット列形成領域において得られるプ
ッシュプル信号量と、グルーブ形成領域において得られ
るプッシュプル信号量とをほぼ等しくすることができ、
ピット列形成領域においても安定なトラッキングサーボ
を行うことが可能となる。
【００１１】しかしながら、ピット幅を広げると、ピッ
ト列形成領域にピット列として記録された信号を再生す
るときに、再生信号のアシンメトリが低下してしまう。
例えば、記録信号に１−７変調を施してピット列として
記録するとともに、ピット列形成領域において得られる
プッシュプル信号量と、グルーブ形成領域において得ら
れるプッシュプル信号量とがほぼ等しくなるようにピッ
ト幅をトラックピッチの半分程度にまで広げた場合、ピ
ット列から得られる再生信号のアシンメトリは−１５％
以下になってしまう。これでは、安定な信号再生は困難
である。
【００１２】以上のように、従来、書き込み可能領域と
なるグルーブ形成領域と、再生専用領域となるピット列
形成領域とを兼ね備えた光ディスクにおいては、グルー
ブ形成領域において得られるプッシュプル信号量と、ピ
ット列形成領域において得られるプッシュプル信号量と
を同等にすることと、ピット列形成領域から得られる再
生信号のアシンメトリの向上との両立を図ることが出来
なかった。なお、以下の説明では、グルーブ形成領域に
おいて得られるプッシュプル信号量と、ピット列形成領
域において得られるプッシュプル信号量とを同等にする
ことを、「プッシュプル信号量を均一化する」という。
【００１３】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、グルーブ形成領域とピット列
形成領域とを兼ね備えた光記録媒体として、プッシュプ
ル信号量の均一化と、ピット列形成領域から得られる再
生信号のアシンメトリ向上との両立を図ることが可能な
光記録媒体を提供することを目的としている。また、本
発明は、そのような光記録媒体を製造することが可能な
光記録媒体製造用原盤及びその製造方法を提供すること
も目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光記録媒体
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成された領域
と、所定のビット間隔Ｔで規格化された信号がピット列
として記録された領域とを有する。そして、ピット列を
構成する各ピットのマーク長が、記録対象の信号を所定
のビット間隔Ｔで規格化したときのマーク長よりも短
く、且つ、ピット列を構成する各ピットのうち、最短ピ
ットのマーク長が、記録対象の信号を所定のビット間隔
Ｔで規格化したときの最短マーク長の６４．８〜８０．
０％の長さであることを特徴とする。
【００１５】以上のように、本発明に係る光記録媒体で
は、ピット列を構成する各ピットのマーク長を、記録対
象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化したときのマー
ク長よりも短くし、且つ、ピット列を構成する各ピット
のうち、最短ピットのマーク長を、記録対象の信号を所
定のビット間隔Ｔで規格化したときの最短マーク長の６
４．８〜８０．０％の長さとする。このように各ピット
のマーク長を規定することにより、ピット幅を広げてプ
ッシュプル信号の均一化を図っても、ピット列形成領域
から得られる再生信号のアシンメトリが低下してしまう
ようなことがなくなる。
【００１６】なお、上記光記録媒体において、ピット列
を構成する各ピットの幅をｔｐとし、グルーブの幅をｔ
ｇとしたとき、１．２２＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４である
ことが好ましい。１．２２＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４とす
ることで、安定なトラッキングサーボを行うのに十分な
レベルにまで、プッシュプル信号を均一化することがで
きる。
【００１７】また、本発明に係る光記録媒体製造用原盤
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成された領域
と、所定のビット間隔Ｔで規格化された信号がピット列
として記録された領域とを有する光記録媒体を製造する
際に使用される光記録媒体製造用原盤であり、グルーブ
に対応した凹凸パターンであるグルーブパターンと、ピ
ット列に対応した凹凸パターンであるピット列パターン
とを有する。そして、ピット列パターンを構成する各ピ
ットパターンのマーク長が、記録対象の信号を所定のビ
ット間隔Ｔで規格化したときのマーク長よりも短く、且
つ、ピット列パターンを構成する各ピットパターンのう
ち、最短ピットパターンのマーク長が、記録対象の信号
を所定のビット間隔Ｔで規格化したときの最短マーク長
の６４．８〜８０．０％の長さであることを特徴とす
る。なお、この光記録媒体製造用原盤において、ピット
列パターンを構成する各ピットパターンの幅をｔｐと
し、グルーブパターンの幅をｔｇとしたとき、１．２２
＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４であることが好ましい。
【００１８】また、本発明に係る光記録媒体製造用原盤
の製造方法は、記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れた領域と、所定のビット間隔Ｔで規格化された信号が
ピット列として記録された領域とを有する光記録媒体を
製造する際に使用される光記録媒体製造用原盤であっ
て、上記グルーブに対応した凹凸パターンであるグルー
ブパターンと、上記ピット列に対応した凹凸パターンで
あるピット列パターンとが形成されてなる光記録媒体製
造用原盤の製造方法に関する。そして、ピット列パター
ンを構成する各ピットパターンのマーク長を、記録対象
の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化したときのマーク
長よりも短くし、且つ、ピット列パターンを構成する各
ピットパターンのうち、最短ピットパターンのマーク長
を、記録対象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化した
ときの最短マーク長の６４．８〜８０．０％の長さとす
ることを特徴とする。なお、この光記録媒体製造用原盤
の製造方法において、ピット列パターンを構成する各ピ
ットパターンの幅をｔｐとし、上記グルーブパターンの
幅をｔｇとしたとき、ピット列パターン及びグルーブパ
ターンを、１．２２＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４を満たすよ
うに形成することが好ましい。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、ここで
は、「ＭＤData2」の規格に準拠した光磁気ディスクに
対して、本発明を適用した場合を例に挙げて説明する。
ただし、本発明は、グルーブ形成領域とピット列形成領
域とを有する光記録媒体に対して広く適用可能であり、
ＭＤData2の規格に準拠した光磁気ディスク以外の光記
録媒体に対しても適用可能である。なお、ＭＤData2
は、既に商品化されている光磁気ディスクである「ミニ
ディスク（ＭＤ）」の次世代の光磁気ディスクとして開
発が進められている光磁気ディスクである。
【００２０】＜光磁気ディスク＞本発明の実施の形態と
して以下に説明する光磁気ディスクは、円盤状に形成さ
れてなり、磁気光学効果を利用して信号の記録再生が行
われるとともに、記録再生時にプッシュプル法によりト
ラッキングサーボが行われる。
【００２１】この光磁気ディスクは、ポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）等か
らなるディスク基板上に、光磁気記録がなされる記録層
と、当該記録層を保護する保護層とが形成されてなる。
ここで、記録層は、例えば、ＳｉＮ等からなる誘電体膜
と、ＴｅＦｅＣｏ合金等からなる垂直磁気記録膜と、Ｓ
ｉＮ等からなる誘電体膜と、Ａｌ等からなる反射膜とが
積層されてなる。また、保護層は、例えば、記録層の上
に紫外線硬化樹脂がスピンコートされてなる。なお、本
発明において、記録層や保護層の構成は任意であり、本
例に限定されるものではない。
【００２２】また、この光磁気ディスクは、記録領域の
一部を拡大した図１に示すように、記録領域の一部が、
多数のピット１からなるピット列によってＴＯＣ（Tabl
e OfContents）情報等が予め書き込まれた再生専用の領
域Ｂ１とされており、その他の領域が、光磁気記録によ
る信号の書き込みが可能な領域Ｂ２となっている。
【００２３】なお、ピット列によってＴＯＣ情報等が書
き込まれている領域Ｂ１は、再生専用領域であり、以下
の説明では、この領域のことをピット列形成領域Ｂ１と
称する。また、光磁気記録による信号の書き込みが可能
となっている領域Ｂ２には、後述するようにグルーブ
２，３が形成されており、以下の説明では、この領域の
ことをグルーブ形成領域Ｂ２と称する。
【００２４】この光磁気ディスクにおいて、ピット列形
成領域Ｂ１に形成されたピット列は、記録対象の信号に
対応したピットパターンとして、シングルスパイラル状
に形成されている。すなわち、記録トラックに沿ってシ
ングルスパイラル状に形成されたピット列により、ピッ
ト列形成領域Ｂ１にＴＯＣ情報等が書き込まれている。
【００２５】ここで、ピット列形成領域Ｂ１に記録され
る信号は、１−７変調が施され、所定のビット間隔Ｔで
規格化される。そして、ピット列を構成する各ピットの
マーク長は、記録対象の信号を所定のビット間隔Ｔで規
格化したときのマーク長よりも短くなされる。また、ピ
ット列を構成する各ピットのうち、最短ピットのマーク
長は、記録対象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化し
たときの最短マーク長の６４．８〜８０．０％の長さと
される。このように各ピットのマーク長を規定すること
により、後述する実験結果からも分かるように、ピット
幅を広げてプッシュプル信号の均一化を図っても、ピッ
ト列形成領域Ｂ１から得られる再生信号のアシンメトリ
が低下してしまうようなことがなくなる。
【００２６】一方、グルーブ形成領域Ｂ２には、所定の
周期で蛇行するように形成されたウォブリンググルーブ
２と、蛇行することなく形成されたストレートグルーブ
３とがダブルスパイラル状に形成されている。ここで、
ウォブリンググルーブ２は、所定の周期で蛇行するよう
に形成されたグルーブであり、グルーブを蛇行させるこ
とにより、グルーブ自体にアドレス情報を付加したグル
ーブである。なお、ウォブリンググルーブ２とストレー
トグルーブ３は、ほぼ同じ幅としておく。
【００２７】この光磁気ディスクでは、ウォブリンググ
ルーブ２とストレートグルーブ３との間のランドの部分
に、光磁気記録によるデータの記録が行われる。すなわ
ち、図１に示すように、ウォブリンググルーブ２とスト
レートグルーブ３の間であって、ディスク内周側がスト
レートグルーブ３となっている部分が、第１の記録トラ
ックTrackＡとなり、ウォブリンググルーブ２とストレ
ートグルーブ３の間であって、ディスク内周側がウォブ
リンググルーブ２となっている部分が、第２の記録トラ
ックTrackＢとなる。そして、これらの記録トラックTra
ckＡ，TrackＢに、光磁気記録によるデータの記録が行
われる。
【００２８】ここで、ウォブリンググルーブ２は、±２
０ｎｍの振幅にて一定の周期で蛇行するように形成され
る。すなわち、この光磁気ディスクでは、一方のグルー
ブ（すなわちウォブリンググルーブ２）を±２０ｎｍの
振幅にてウォブリングさせることにより、グルーブ自体
にアドレス情報を付加している。
【００２９】また、この光磁気ディスクにおいて、ピッ
ト列形成領域Ｂ１のトラックピッチＴPitchは０．９５
μｍとされ、同様に、グルーブ形成領域Ｂ２のトラック
ピッチＴPitchは０．９５μｍとされている。ここで、
ピット列形成領域Ｂ１のトラックピッチＴPitchは、隣
接するピット列の間隔に相当する。すなわち、この光磁
気ディスクにおいて、隣接するピット列の間隔は、０．
９５μｍとされている。また、グルーブ形成領域Ｂ２の
トラックピッチは、ウォブリンググルーブ２とストレー
トグルーブ３の中心位置の間隔に相当する。すなわち、
この光磁気ディスクにおいて、ウォブリンググルーブ２
とストレートグルーブ３の中心位置の間隔は、０．９５
μｍとされる。なお、以下の説明では、隣接するストレ
ートグルーブ３の中心位置の間隔のことをトラックピリ
オドＴPeriodと称する。トラックピリオドＴPeriodは、
トラックピッチＴPitchの２倍に相当し、この光磁気デ
ィスクにおいてトラックピリオドＴPeriodは、１．９０
μｍとされている。
【００３０】また、この光磁気ディスクにおいて、ピッ
ト列形成領域Ｂ１とグルーブ形成領域Ｂ２との間の領域
を遷移領域Ｂ３と称する。そして、この光磁気ディスク
では、ピット列形成領域Ｂ１とグルーブ形成領域Ｂ２と
のディスク半径方向における間隔、すなわち遷移領域Ｂ
３の幅ｔ１を２０μｍ以内とする。このように遷移領域
Ｂ３の幅ｔ１を十分に小さくしておくことにより、記録
再生時に、記録再生位置がピット列形成領域Ｂ１からグ
ルーブ形成領域Ｂ２に遷移したり、或いは、記録再生位
置がグルーブ形成領域Ｂ２からピット列形成領域Ｂ１に
遷移したりした場合にも、記録トラックを見失うことな
く、連続して記録再生を安定に行うことが可能となる。
【００３１】また、光磁気ディスクにおいて、ピット列
形成領域Ｂ１に形成されるピット列を構成する各ピット
１の幅をｔｐとし、グルーブ形成領域Ｂ２に形成される
グルーブ２，３の幅をｔｇとしたとき、ピット１及びグ
ルーブ２，３は、１．２２＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４とな
るようにする。１．２２＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４とする
ことにより、後述する実験結果からも分かるように、プ
ッシュプル信号を均一化して、トラッキングサーボを安
定に行えるようにすることができる。
【００３２】＜レーザカッティング装置＞以上のような
光磁気ディスクを製造する際には、その原盤となる光記
録媒体製造用原盤を作製する際に、レーザカッティング
装置が使用される。以下、レーザカッティング装置の一
例について、図２を参照して説明する。
【００３３】図２に示したレーザカッティング装置１０
は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１
２を露光して潜像を形成するためのものである。このレ
ーザカッティング装置１０でフォトレジスト１２に潜像
を形成する際、フォトレジスト１２が塗布されたガラス
基板１１は、移動光学テーブル上に設けられた回転駆動
装置に取り付けられる。そして、フォトレジスト１２を
露光する際、ガラス基板１１は、フォトレジスト１２の
全面にわたって所望のパターンでの露光がなされるよう
に、図中矢印Ｃ１に示すように回転駆動装置によって回
転駆動されるとともに、移動光学テーブルによって平行
移動される。
【００３４】このレーザカッティング装置１０は、２つ
の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光するこ
とが可能となっており、ピット１に対応した潜像と、ウ
ォブリンググルーブ２に対応した潜像と、ストレートグ
ルーブ３に対応した潜像とを、２つの露光ビームを用い
て形成する。すなわち、このレーザカッティング装置１
０では、第１の露光ビームによってウォブリンググルー
ブ２に対応した潜像を形成し、第２の露光ビームによっ
てピット１及びストレートグルーブ３に対応した潜像を
形成する。
【００３５】このレーザカッティング装置１０は、レー
ザ光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯ
Ｍ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変
調器１４から出射されたレーザ光の光軸上に配された検
光子１５と、検光子１５を透過してきたレーザ光を反射
光と透過光とに分割する第１のビームスプリッタ１６
と、第１のビームスプリッタ１６を透過してきたレーザ
光を反射光と透過光とに分割する第２のビームスプリッ
タ１７と、第２のビームスプリッタ１７を透過してきた
レーザ光を検出するフォトディテクタ（ＰＤ：Photo De
tector）１９と、電気光学変調器１４に対して信号電界
を印加して当該電気光学変調器１４から出射されるレー
ザ光強度を調整するオートパワーコントローラ（ＡＰ
Ｃ：Auto Power Controller）２０とを備えている。
【００３６】上記レーザカッティング装置１０におい
て、光源１３から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ２０から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器１４によって、所定の光強
度とされた上で検光子１５に入射する。ここで、検光子
１５はＳ偏光だけを透過する検光子であり、この検光子
１５を透過してきたレーザ光はＳ偏光となる。
【００３７】なお、光源１３には、任意のものが使用可
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが４１３ｎｍ
のレーザ光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザ光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザなどが、光源
１３として好適である。
【００３８】そして、検光子１５を透過してきたＳ偏光
のレーザ光は、先ず、第１のビームスプリッタ１６によ
って反射光と透過光とに分けられ、更に、第１のビーム
スプリッタ１６を透過したレーザ光は、第２のビームス
プリッタ１７によって反射光と透過光とに分けられる。
なお、このレーザカッティング装置１０では、第１のビ
ームスプリッタ１６によって反射されたレーザ光が第１
の露光ビームとなり、第２のビームスプリッタ１７によ
って反射されたレーザ光が第２の露光ビームとなる。
【００３９】一方、第２のビームスプリッタ１７を透過
したレーザ光は、フォトディテクタ１９によって、その
光強度が検出され、当該光強度に応じた信号がフォトデ
ィテクタ１９からオートパワーコントローラ２０に送ら
れる。そして、フォトディテクタ１９から送られてきた
信号に応じて、オートパワーコントローラ２０は、フォ
トディテクタ１９によって検出される光強度が所定のレ
ベルにて一定となるように、電気光学変調器１４に対し
て印加する信号電界を調整する。これにより、電気光学
変調器１４から出射するレーザ光の光強度が一定となる
ように、自動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）
が施され、ノイズの少ない安定したレーザ光が得られ
る。
【００４０】また、上記レーザカッティング装置１０
は、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第１の変調光学系２１
と、第２のビームスプリッタ１７によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第２の変調光学系２２
と、第１及び第２の変調光学系２１，２２によって光強
度変調が施された各レーザ光を再合成してフォトレジス
ト１２上に集光するための光学系２４とを備えている。
【００４１】そして、第１のビームスプリッタ１６によ
って反射されてなる第１の露光ビームは、第１の変調光
学系２１に導かれ、第１の変調光学系２１によって光強
度変調が施される。同様に、第２のビームスプリッタ１
７によって反射されてなる第２の露光ビームは、第２の
変調光学系２２に導かれ、第２の変調光学系２２によっ
て光強度変調が施される。
【００４２】第１の変調光学系２１に入射した第１の露
光ビームは、集光レンズ２５によって集光された上で音
響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical Modulator）
２６に入射し、この音響光学変調器２６によって、所望
する露光パターンに対応するように光強度変調される。
ここで、音響光学変調器２６に使用される音響光学素子
としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2）からなる音
響光学素子が好適である。そして、音響光学変調器２６
によって光強度変調された第１の露光ビームは、コリメ
ートレンズ２７によって平行光とされた上で、第１の変
調光学系２１から出射される。
【００４３】ここで、音響光学変調器２６には、当該音
響光学変調器２６を駆動するための駆動用ドライバ２８
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号が駆動
用ドライバ２８に入力され、当該信号に応じて駆動用ド
ライバ２８によって音響光学変調器２６が駆動され、第
１の露光ビームに対して光強度変調が施される。
【００４４】具体的には、一定の深さのウォブリンググ
ルーブ２に対応したグルーブパターンの潜像をフォトレ
ジスト１２に形成する場合に、一定レベルのＤＣ信号Ｓ
１が駆動用ドライバ２８に入力され、当該ＤＣ信号Ｓ１
に応じて駆動用ドライバ２８によって音響光学変調器２
６が駆動される。これにより、所望するグルーブパター
ンに対応するように、第１の露光ビームに対して光強度
変調が施される。
【００４５】また、第２の変調光学系２２に入射した第
２の露光ビームは、集光レンズ２９によって集光された
上で音響光学変調器３０に入射し、この音響光学変調器
３０によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器３０に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔ
ｅＯ2）からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器３０によって光強度変調された第２の露
光ビームは、コリメートレンズ３１によって平行光とさ
れるとともに、λ／２波長板３６を透過することにより
偏光方向が９０°回転させられた上で、第２の変調光学
系２２から出射される。
【００４６】ここで、音響光学変調器３０には、当該音
響光学変調器３０を駆動するための駆動用ドライバ３２
が取り付けられている。そして、フォトレジストの露光
時には、所望する露光パターンに応じた信号が駆動用ド
ライバ３２に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライ
バ３２によって音響光学変調器３０が駆動され、第２の
露光ビームに対して光強度変調が施される。
【００４７】具体的には、一定の深さのストレートグル
ーブ３に対応したグルーブパターンの潜像をフォトレジ
スト１２に形成する場合に、一定レベルのＤＣ信号Ｓ２
が駆動用ドライバ３２に入力され、当該ＤＣ信号Ｓ２に
応じて駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０
が駆動される。これにより、所望するグルーブパターン
に対応するように、第２の露光ビームに対して光強度変
調が施される。
【００４８】また、例えば１−７変調が施されたピット
パターンの潜像をフォトレジスト１２に形成するような
場合には、１−７変調が施されたピットパターンに対応
した信号Ｓ３が、フォーマッタ３３及びパルス補償器３
４を介して駆動用ドライバ３２に入力され、当該信号Ｓ
３に応じて駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器
３０が駆動される。これにより、１−７変調が施された
ピットパターンに対応するように、第２の露光ビームに
対して光強度変調が施される。
【００４９】ここで、フォーマッタ３３は、記録対象の
信号に対して１−７変調を施して、１−７変調信号を出
力する。１−７変調信号の一例を図３（Ａ）に示す。図
３（Ａ）に示すように、１−７変調信号は、ピット列を
構成する各ピットに対応したパルスを含む信号であり、
各パルスのパルス長は、記録対象の信号を所定のビット
間隔Ｔで規格化したときのマーク長に相当する。なお、
ピット列を構成する各ピットのマーク長は、ビット間隔
Ｔの整数倍となり、１−７変調を施した場合、最短ピッ
トのマーク長は２Ｔとなる。
【００５０】この１−７変調信号は、パルス補償器３４
に入力され、パルス補償器３４によって各パルスのパル
ス長が補正される。ここで、パルス補償器３４は、図３
（Ｂ）に示すように、１−７変調信号に含まれる各パル
スを一律に所定の補正量ΔＣだけ短くし、このようにパ
ルス長を補正した信号（以下、１−７変調補正信号と称
する。）を出力する。そして、この１−７変調補正信号
が、上述したように、ピットパターンに対応した信号Ｓ
３として駆動用ドライバ３２に入力される。
【００５１】なお、光磁気ディスクに記録されるピット
列を構成する各ピットのうち、最短ピットのマーク長を
Ａとし、記録対象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化
したときの最短マーク長をＢとしたとき、以下の説明で
は、Ａ／Ｂのことをマーク長補正率と称する。このマー
ク長補正率は、上述のように記録対象の信号に対して１
−７変調を施す場合、１−７変調補正信号に含まれる最
短パルスのパルス長と、１−７変調信号に含まれる最短
パルスのパルス長との比であり、（２Ｔ−ΔＣ）／２Ｔ
となる。そして、本発明では、このマーク長補正率を６
４．８〜８０．０％とする。
【００５２】以上のようにして、第１の露光ビームは第
１の変調光学系２１によって光強度変調が施され、第２
の露光ビームは第２の変調光学系２２によって光強度変
調が施される。このとき、第１の変調光学系２１から出
射する第１の露光ビームはＳ偏光のままであるが、第２
の変調光学系２２から出射する第２の露光ビームは、λ
／２波長板３６を透過することにより偏光方向が９０°
回転させられているので、Ｐ偏光となっている。
【００５３】そして、第１の変調光学系２１から出射さ
れた第１の露光ビームは、ミラー４０によって反射さ
れ、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。同
様に、第２の変調光学系２２から出射された第２の露光
ビームは、ミラー４１によって反射され、移動光学テー
ブル上に水平且つ平行に導かれる。
【００５４】そして、ミラー４０によって反射され、移
動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第１の露光
ビームは、偏向光学系４６によって光学偏向が施された
上で、ミラー４４によって反射されて進行方向が９０°
曲げられた上で偏光ビームスプリッタ４５に入射する。
また、ミラー４１によって反射され、移動光学テーブル
上に水平且つ平行に導かれた第２の露光ビームは、その
まま偏光ビームスプリッタ４５に入射する。
【００５５】ここで、偏向光学系４６は、ウォブリング
グルーブ２のウォブリングに対応するように、第１の露
光ビームに対して光学偏向を施すためのものである。す
なわち、第１の変調光学系２１から出射され偏向光学系
４６に入射した第１の露光ビームは、ウェッジプリズム
４７を介して音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optica
l Deflector）４８に入射し、この音響光学偏向器４８
によって、所望する露光パターンに対応するように光学
偏向が施される。ここで、音響光学偏向器４８に使用さ
れる音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔｅ
Ｏ2）からなる音響光学素子が好適である。そして、音
響光学偏向器４８によって光学偏向が施された第１の露
光ビームは、ウエッジプリズム４９を介して偏向光学系
４６から出射される。
【００５６】なお、ウェッジプリズム４７，４９は、音
響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面に対してブラ
ッグ条件を満たすように第１の露光ビームが入射するよ
うにするとともに、音響光学偏向器４８によって第１の
露光ビームに対して光学偏向を施したとしてもビーム水
平高さが変わらないようにするためのものである。換言
すれば、ウエッジプリズム４７、音響光学偏向器４８及
びウエッジプリズム４９は、音響光学偏向器４８の音響
光学素子の格子面が第１の露光ビームに対してブラッグ
条件を満たし、且つ、偏向光学系４６から出射される第
１の露光ビームのビーム水平高さが変わらないように配
置される。
【００５７】ここで、音響光学偏向器４８には、当該音
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、当該駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor）５１からの高周波信号が、アドレス情報を含む制
御信号Ｓ４によりＦＭ変調され供給される。そして、フ
ォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パターン
に応じた信号が、電圧制御発振器５１から駆動用ドライ
バ５０に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ５
０によって音響光学偏向器４８が駆動され、これによ
り、第１の露光ビームに対して光学偏向が施される。
【００５８】具体的には、例えば、周波数８８．２ｋＨ
ｚにてグルーブをウォブリングさせることにより、グル
ーブにアドレス情報を付加するような場合には、例えば
中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信号を周波数８８．
２ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調した信号を、電圧制御
発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給する。そし
て、この信号に応じて、駆動用ドライバ５０によって音
響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏向器４８の
音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、周
波数８８．２ｋＨｚのウォブリングに対応するように、
第１の露光ビームに対して光学偏向を施す。
【００５９】そして、このような偏向光学系４６によっ
て、ウォブリンググルーブ２のウォブリングに対応する
ように光学偏向が施された第１の露光ビームは、上述し
たように、ミラー４４によって反射されて進行方向が９
０°曲げられた上で偏光ビームスプリッタ４５に入射す
る。
【００６０】ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、Ｓ
偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようにしておく。第１
の変調光学系２１から出射された第１の露光ビームはＳ
偏光であり、第２の変調光学系２２から出射された第２
の露光ビームはＰ偏光である。したがって、第１の露光
ビームは、偏光ビームスプリッタ４５によって反射さ
れ、第２の露光ビームは、偏光ビームスプリッタ４５を
透過する。これにより、第１の変調光学系２１から出射
され偏向光学系４６によって光学偏向が施された第１の
露光ビームと、第２の変調光学系２２から出射された第
２の露光ビームとは、進行方向が同一方向となるように
再合成される。
【００６１】そして、進行方向が同一方向となるように
再合成されて偏光ビームスプリッタ４５から出射した第
１及び第２の露光ビームは、拡大レンズ５２によって所
定のビーム径とされた上でミラー５３によって反射され
て対物レンズ５４へと導かれ、当該対物レンズ５４によ
ってフォトレジスト１２上に集光される。これにより、
フォトレジスト１２が露光され、フォトレジスト１２に
潜像が形成されることとなる。このとき、フォトレジス
ト１２が塗布されているガラス基板１１は、上述したよ
うに、フォトレジスト１２の全面にわたって所望のパタ
ーンでの露光がなされるように、図中矢印Ｃ１に示すよ
うに回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移
動光学テーブルによって平行移動される。この結果、第
１及び第２の露光ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フ
ォトレジスト１２の全面にわたって形成されることとな
る。
【００６２】なお、露光ビームをフォトレジスト１２の
上に集光するための対物レンズ５４は、より微細なピッ
トパターンやグルーブパターンを形成できるようにする
ために、開口数ＮＡが大きい方が好ましい。具体的に
は、開口数ＮＡが０．９程度の対物レンズが好適であ
る。
【００６３】また、このように第１及び第２の露光ビー
ムをフォトレジスト１２に照射する際は、必要に応じ
て、拡大レンズ５２によって第１及び第２の露光ビーム
のビーム径を変化させ、対物レンズ５４に対する有効開
口数を調整する。これにより、フォトレジスト１２の表
面に集光される第１及び第２の露光ビームのスポット径
を変化させることができる。
【００６４】具体的には、例えば、第１及び第２の露光
ビームでウォブリンググルーブ２及びストレートグルー
ブ３に対応した潜像を形成する場合は、露光ビームのス
ポット径が小さくなるように、拡大レンズ５２によって
第１及び第２の露光ビームのビーム径を大きくして、対
物レンズ５４の有効開口数を大きくし、また、第２の露
光ビームでピット列に対応した潜像を形成する場合は、
露光ビームのスポット径が大きくなるように、拡大レン
ズ５２によって第２の露光ビームのビーム径を小さく
し、対物レンズ５４の有効開口数を小さくする。
【００６５】ところで、偏光ビームスプリッタ４５に入
射した第１の露光ビームは、当該偏光ビームスプリッタ
４５の反射面にて、第２の露光ビームと合成される。こ
のとき、偏光ビームスプリッタ４５の反射面は、当該反
射面で合成されて出射される光の進行方向に対して適度
な反射角をなすようにしておく。これにより、この偏光
ビームスプリッタ４５から出射された第１及び第２の露
光ビームが対物レンズ５４の結像集光面（即ち、露光対
象であるフォトレジスト１２の表面）に集光される際
に、第１の露光ビームに対応するスポットと、第２の露
光ビームに対応するスポットとが、異なる位置に形成さ
れる。
【００６６】そして、偏光ビームスプリッタ５４の反射
面の反射角は、第１の露光ビームに対応するスポット
と、第２の露光ビームに対応するスポットとの、ガラス
基板１１の半径方向における間隔が、トラックピッチＴ
Pitchに対応するように設定しておく。これにより、第
１の露光ビームによりウォブリンググルーブ２に対応す
る部分を露光し、同時に、第２の露光ビームによりスト
レートグルーブ３に対応する部分を露光することが可能
となる。
【００６７】このレーザカッティング装置１０では、第
１の露光ビームと第２の露光ビームとを合成するための
偏向ビームスプリッタ４５の向きを調整することによ
り、第１の露光ビームの照射位置と第２の露光ビームの
照射位置とを容易に調整することができる。したがっ
て、このレーザカッティング装置１０を用いることで、
ウォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３の中
心位置ずれを殆ど無くすことができる。
【００６８】以上のようなレーザカッティング装置１０
では、ウォブリンググルーブ２に対応した潜像を形成す
るための第１の露光ビームに対応した光学系と、ピット
１或いはストレートグルーブ３に対応した潜像を形成す
るための第２の露光ビームに対応した光学系とを備えて
いるので、このレーザカッティング装置１０だけで、ピ
ット１に対応した潜像と、ウォブリンググルーブ２に対
応した潜像と、ストレートグルーブ３に対応した潜像と
をそれぞれ形成することができる。
【００６９】すなわち、このレーザカッティング装置１
０では、ピット１に対応した潜像の形成を行うことがで
きるとともに、２つの露光ビームを用いることにより、
ダブルスパイラル状に形成されるウォブリンググルーブ
２とストレートグルーブ３に対応した潜像の形成も行う
ことができる。換言すれば、このレーザカッティング装
置１０では、ダブルスパイラル状に形成されるウォブリ
ンググルーブ２及びストレートグルーブ３に対応した潜
像の形成と、ピット１に対応した潜像の形成とを、一台
の装置だけで行うことができる。
【００７０】＜光磁気ディスクの製造方法＞つぎに、光
磁気ディスクの製造方法について、具体的な一例を挙げ
て詳細に説明する。
【００７１】光磁気ディスクを作製する際は、先ず、原
盤工程として、ピット１、ウォブリンググルーブ２及び
ストレートグルーブ３に対応した凹凸パターンを有する
光記録媒体製造用原盤を作製する。
【００７２】この原盤工程においては、先ず、表面を研
磨した円盤状のガラス基板１１を洗浄し乾燥させ、その
後、このガラス基板１１上に感光材料であるフォトレジ
スト１２を塗布する。次に、このフォトレジスト１２を
上記レーザカッティング装置１０によって露光し、ピッ
ト１、ウォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ
３に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【００７３】なお、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際、レーザカッティング装置１０の光源１３に
は、波長λが４１３ｎｍのレーザ光を出射するＫｒレー
ザを使用し、第１及び第２の露光ビームをフォトレジス
ト１２上に集光するための対物レンズ５４には、開口数
ＮＡが０．９のものを使用した。
【００７４】また、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際、上記レーザカッティング装置１０の第１の変
調光学系２１において、集光レンズ２５には焦点距離が
８０ｍｍのレンズを使用し、コリメートレンズ２７には
焦点距離が１２０ｍｍのレンズを使用した。また、第２
の変調光学系２２において、集光レンズ２９には焦点距
離が８０ｍｍのレンズを使用し、コリメートレンズ３１
には焦点距離が１２０ｍｍのレンズを使用した。また、
拡大レンズ５２には焦点距離が８０ｍｍのレンズを使用
した。
【００７５】そして、フォトレジスト１２をレーザカッ
ティング装置１０によって露光する際は、先ず、第２の
露光ビームによってフォトレジスト１２を露光すること
により、ピット１に対応した潜像をフォトレジスト１２
に形成し、その後、第１及び第２の露光ビームによって
フォトレジスト１２を露光することにより、ウォブリン
ググルーブ２及びストレートグルーブ３に対応した潜像
をフォトレジスト１２に形成する。なお、ピット１に対
応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際、第１の
露光ビームは、フォトレジスト１２に入射しないよう
に、第１の変調光学系２１の音響光学変調器２６により
遮光しておく。
【００７６】第２の露光ビームによってフォトレジスト
１２を露光することにより、ピット１に対応した潜像を
フォトレジスト１２に形成する際は、第２の変調光学系
２２により第２の露光ビームに対して光強度変調を施
す。
【００７７】具体的には、例えば、１−７変調が施され
たピットパターンに対応した信号Ｓ３を、フォーマッタ
３３及びパルス補償器３４を介して駆動用ドライバ３２
に入力し、当該信号Ｓ３に基づいて駆動用ドライバ３２
によって音響光学変調器３０を駆動し、これにより、１
−７変調が施されたピットパターンに対応するように、
第２の露光ビームに対して光強度変調を施す。
【００７８】ここで、フォーマッタ３３は、記録対象の
信号に対して１−７変調を施し、図３（Ａ）に示したよ
うな１−７変調信号を出力する。そして、この１−７変
調信号は、パルス補償器３４に入力される。パルス補償
器３４は、１−７変調信号に含まれる各パルスのパルス
長を補正し、図３（Ｂ）に示したような１−７変調補正
信号を出力する。そして、この１−７変調補正信号が、
上述したように、ピットパターンに対応した信号Ｓ３と
して駆動用ドライバ３４に入力される。
【００７９】そして、以上のようにして光強度変調を施
した第２の露光ビームを、対物レンズ５４によってフォ
トレジスト１２上に集光する。これにより、フォトレジ
スト１２を露光して、ピット１に対応した潜像をフォト
レジスト１２に形成する。
【００８０】なお、このようにフォトレジスト１２を露
光して、ピット１に対応した潜像を形成する際は、フォ
トレジスト１２が塗布形成されているガラス基板１１
を、所定の回転速度にて回転駆動させるとともに、所定
の速度にて平行移動させる。
【００８１】具体的には、後述する評価用光磁気ディス
クを作製する際、ガラス基板１１の回転速度は、第２の
露光ビームによる光スポットとフォトレジスト１２との
相対的な移動速度が線速１．１０ｍ／ｓｅｃ又は１．９
４ｍ／ｓｅｃとなるようにした。そして、当該ガラス基
板１１を１回転毎に０．９５μｍ（すなわちトラックピ
ッチＴPitchの分）だけ、移動光学テーブルによってガ
ラス基板１１の半径方向に平行移動させた。
【００８２】以上のように第２の露光ビームによってフ
ォトレジスト１２を露光することにより、例えば１−７
変調が施されたピットパターンに対応した潜像が、シン
グルスパイラル状にフォトレジスト１２に形成される。
【００８３】以上のようにしてピット１に対応した潜像
をフォトレジスト１２に形成した後、第１及び第２の露
光ビームによってフォトレジスト１２を露光することに
より、ウォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ
３に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【００８４】第１の露光ビームによってフォトレジスト
１２を露光することにより、ウォブリンググルーブ２に
対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第
１の露光ビームに対して、第１の変調光学系２１により
光強度変調を施すとともに、光学偏向系４６により光学
偏向を施す。
【００８５】具体的には、先ず、一定レベルのＤＣ信号
Ｓ１を第１の変調光学系２１に配された駆動用ドライバ
２８に入力し、当該ＤＣ信号Ｓ１に基づいて駆動用ドラ
イバ２８によって音響光学変調器２６を駆動し、これに
より、ウォブリンググルーブ２のパターンに対応するよ
うに、第２の露光ビームに対して光強度変調を施す。こ
こで、ウォブリンググルーブ２は一定の深さの連続した
溝であるので、ウォブリンググルーブ２に対応した潜像
を形成している間は、第１の露光ビームの光強度が一定
となるように光強度変調を施す。
【００８６】また、第１の変調光学系２１によって光強
度変調が施された第１の露光ビームに対して、偏向光学
系４６により光学偏向を施す。具体的には、電圧制御発
振器５１から高周波信号を制御信号にてＦＭ変調して駆
動用ドライバ５０に供給し、この信号に基づいて駆動用
ドライバ５０によって音響光学偏向器４８を駆動して、
当該音響光学偏向器４８の音響光学素子のブラッグ角を
変化させ、これにより、第１の露光ビームに対して光学
偏向を施す。
【００８７】なお、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際は、中心周波数２２４ＭＨｚの高周波信号を周
波数８８．２ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調して、電圧
制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給した。そ
して、この信号に基づいて、駆動用ドライバ５０によっ
て音響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏向器４
８の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これによ
り、フォトレジスト１２上に集光される第１の露光ビー
ムの光スポットの位置が、周波数８８．２ｋＨｚ，振幅
±２０ｎｍにて、ガラス基板１１の半径方向に振動する
ように光学偏向を行った。
【００８８】そして、このように光強度変調及び光学偏
向を施した第１の露光ビームを、対物レンズ５４によっ
てフォトレジスト１２上に集光することにより、フォト
レジスト１２を露光し、ウォブリンググルーブ２に対応
した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【００８９】また、第１の露光ビームによりフォトレジ
スト１２を露光するのと同時に、第２の露光ビームによ
ってフォトレジスト１２を露光することにより、ストレ
ートグルーブ３に対応した潜像をフォトレジスト１２に
形成する。
【００９０】第２の露光ビームによってフォトレジスト
１２を露光することにより、ストレートグルーブ３に対
応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第２
の露光ビームに対して、第２の変調光学系２２により光
強度変調を施す。
【００９１】具体的には、一定レベルのＤＣ信号Ｓ２を
第２の変調光学系２２に配された駆動用ドライバ３２に
入力し、当該ＤＣ信号Ｓ２に基づいて駆動用ドライバ３
２によって音響光学変調器３０を駆動し、これにより、
ストレートグルーブ３のパターンに対応するように、第
２の露光ビームに対して光強度変調を施す。ここで、ス
トレートグルーブ３は一定の深さの連続した溝であるの
で、ストレートグルーブ３に対応した潜像を形成してい
る間は、第２の露光ビームの光強度が一定となるように
光強度変調を施す。
【００９２】そして、このように光強度変調を施した第
２の露光ビームを、対物レンズ５４によってフォトレジ
スト１２上に集光することにより、フォトレジスト１２
を露光し、ストレートグルーブ３に対応した潜像をフォ
トレジスト１２に形成する。
【００９３】なお、このようにフォトレジスト１２を露
光して、ウォブリンググルーブ２及びストレートグルー
ブ３に対応した潜像を形成する際は、フォトレジスト１
２が塗布されているガラス基板１１を、所定の回転速度
にて回転駆動させるとともに、所定の速度にて平行移動
させる。
【００９４】具体的には、後述する評価用光磁気ディス
クを作製する際、ガラス基板１１の回転速度は、第１及
び第２の露光ビームによる光スポットとフォトレジスト
１２との相対的な移動速度が線速２．０ｍ／ｓｅｃとな
るようにした。そして、当該ガラス基板１１を１回転毎
に１．９０μｍ（すなわちトラックピリオドＴPeriodの
分）だけ、移動光学テーブルによってガラス基板１１の
半径方向に平行移動させた。
【００９５】以上のように第１及び第２の露光ビームに
よってフォトレジスト１２を露光することにより、ウォ
ブリンググルーブ２に対応した潜像と、ストレートグル
ーブ３に対応した潜像とが、ダブルスパイラル状にフォ
トレジスト１２に形成される。
【００９６】なお、このようにレーザカッティング装置
１０を用いて、ウォブリンググルーブ２に対応した潜像
と、ストレートグルーブ３に対応した潜像とを形成する
際は、第１の露光ビームに対応するスポットと、第２の
露光ビームに対応するスポットとのガラス基板１１の半
径方向における間隔が、トラックピッチＴPitchに対応
するように、偏光ビームスプリッタ４５の反射面の反射
角を設定しておく。
【００９７】このように偏光ビームスプリッタ４５の反
射面の反射角を設定した上で、第１及び第２の露光ビー
ムによってフォトレジスト１２を露光することにより、
第１の露光ブームによってウォブリンググルーブ２に対
応した潜像が形成されるとともに、当該ウォブリンググ
ルーブ２に隣接したストレートグルーブ３に対応した潜
像が第２の露光ビームによって形成されることとなる。
換言すれば、ウォブリンググルーブ２とストレートグル
ーブ３との相対的な位置決めは、偏光ビームスプリッタ
４５の向きを調整することにより実現できる。
【００９８】そして、以上のようにしてフォトレジスト
１２に潜像を形成した後、フォトレジスト１２が塗布さ
れている面が上面となるように、ガラス基板１１を現像
機のターンテーブル上に載置する。そして、当該ターン
テーブルを回転させることによりガラス基板１１を回転
させながら、フォトレジスト１２上に現像液を滴下して
現像処理を施して、ガラス基板１１上にピット１、ウォ
ブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３に対応し
た凹凸パターンを形成する。
【００９９】次に、上記凹凸パターン上に無電界メッキ
法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板１１を電鋳装置に取り付
け、電気メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメ
ッキ層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成
する。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキ
をアセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写され
た面に残存しているフォトレジスト１２を除去する。
【０１００】以上の工程により、ガラス基板１１上に形
成されていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる
光記録媒体製造用原盤、すなわち、ピット１、ウォブリ
ンググルーブ２及びストレートグルーブ３に対応した凹
凸パターンが形成された光記録媒体製造用原盤が完成す
る。
【０１０１】次に、転写工程として、フォトポリマー法
（いわゆる２Ｐ法）を用いて、上記光記録媒体製造用原
盤の表面形状が転写されてなるディスク基板を作製す
る。
【０１０２】具体的には、先ず、光記録媒体製造用原盤
の凹凸パターンが形成された面上にフォトポリマーを平
滑に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フ
ォトポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、
フォトポリマー層上にベースプレートを密着させる。こ
こで、ベースプレートには、例えば、１．２ｍｍ厚のポ
リメチルメタクリレート（屈折率１．４９）からなるベ
ースプレートを使用する。
【０１０３】その後、紫外線を照射してフォトポリマー
を硬化させ、その後、光記録媒体製造用原盤を剥離する
ことにより、光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写さ
れてなるディスク基板（いわゆる２Ｐディスク）を作製
する。
【０１０４】なお、ここでは、光記録媒体製造用原盤に
形成された凹凸パターンがより正確にディスク基板に転
写されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板を作製す
る例を挙げたが、ディスク基板を量産するような場合に
は、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネート等の
透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板を作製
するようにしても良いことは言うまでもない。
【０１０５】次に、成膜工程として、光記録媒体製造用
原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板上に記録
層及び保護層を形成する。具体的には、例えば、先ず、
ディスク基板の凹凸パターンが形成された面上に、Ｓｉ
Ｎ等からなる第１の誘電体膜と、ＴｅＦｅＣｏ合金等か
らなる垂直磁気記録膜と、ＳｉＮ等からなる第２の誘電
体膜とをスパッタリングによって順次成膜し、更に、第
２の誘電体膜上にＡｌ等からなる光反射膜を蒸着によっ
て成膜することにより、第１の誘電体膜、垂直磁気記録
膜、第２の誘電体膜及び光反射膜からなる記録層を形成
する。その後、上記記録層上に紫外線硬化樹脂をスピン
コート法により塗布し、当該紫外線硬化樹脂に対して紫
外線を照射し硬化させることにより、保護層を形成す
る。
【０１０６】以上の工程により、光磁気ディスクが完成
する。
【０１０７】＜光磁気ディスクの評価＞つぎに、上述の
ような製造方法にて評価用光磁気ディスクを複数作製
し、それらの評価を行った結果について説明する。
【０１０８】評価用光磁気ディスクの評価を行うにあた
って、まず、ピット１、ウォブリンググルーブ２及びス
トレートグルーブ３に対応した潜像を形成する際の露光
条件を変えて、複数の光記録媒体製造用原盤を作製し
た。
【０１０９】具体的には、グルーブ幅の異なる評価用光
磁気ディスクを作製するために、ウォブリンググルーブ
２及びストレートグルーブ３に対応した潜像を形成する
際の第１及び第２の露光ビームのパワーを１．０ｍＷを
中心として変化させた。
【０１１０】なお、ウォブリンググルーブ２及びストレ
ートグルーブ３に対応した潜像を形成する際、第１の露
光ビームのパワーと第２の露光ビームのパワーとは等し
くした。したがって、ウォブリンググルーブ２の幅と、
ストレートグルーブ３の幅とはほぼ等しい。したがっ
て、以下の説明において、グルーブ幅に関しては、ウォ
ブリンググルーブ２とストレートグルーブ３とを区別す
ることなく扱うものとする。
【０１１１】また、マーク長補正率の異なる評価用光磁
気ディスクを作製するために、１−７変調を行うフォー
マッタ３３として、クロック周波数の異なる２つのフォ
ーマッタ（以下、一方のフォーマッタをフォーマッタ
Ａ、他方のフォーマッタをフォーマッタＢと称する。）
を用いた。
【０１１２】フォーマッタＡは、クロック周波数ｆ＝
５．０ＭＨｚ（ビット間隔Ｔ＝２００ｎｓ）とした。し
たがって、フォーマッタＡを用いた場合、１−７変調信
号は、最短ピットのマーク長に相当する２Ｔが４００ｎ
ｓとなり、４Ｔが８００ｎｓ、８Ｔが１６００ｎｓとな
る。
【０１１３】フォーマッタＢは、クロック周波数ｆ＝
８．８２ＭＨｚ（ビット間隔Ｔ＝１１３．４ｎｓ）とし
た。したがって、フォーマッタＢを用いた場合、１−７
変調信号は、最短ピットのマーク長に相当する２Ｔが２
２７ｎｓとなり、４Ｔが４５４ｎｓ、８Ｔが９０７ｎｓ
となる。
【０１１４】ここで、パルス補償器３４による補正量Δ
Ｃは８０ｎｓとした。したがって、フォーマッタＡを用
いた場合、１−７変調補正信号は、１−７変調信号の２
Ｔを補正したパルスが３２０ｎｓ、４Ｔを補正したパル
スが７２０ｎｓ、８Ｔを補正したパルスが１５２０ｎｓ
となる。また、フォーマッタＢを用いた場合、１−７変
調補正信号は、１−７変調信号の２Ｔを補正したパルス
が１４７ｎｓ、４Ｔを補正したパルスが３７４ｎｓ、８
Ｔを補正したパルスが８２７ｎｓとなる。
【０１１５】また、ピット幅の異なる評価用光磁気ディ
スクを作製するために、フォーマッタＡを用いた場合に
は、ピット１に対応した潜像を形成する際の線速度を
１．１０ｍ／ｓｅｃとし、第２の露光ビームのパワーを
０．８ｍＷを中心として変化させた。また、フォーマッ
タＢを用いた場合には、ピット１に対応した潜像を形成
する際の線速度を１．９４ｍ／ｓｅｃとし、第２の露光
ビームのパワーを１．８ｍＷを中心として変化させた。
【０１１６】そして、以上のように条件を変えて作製し
た複数の光記録媒体製造用原盤を用いて２Ｐ法により評
価用光磁気ディスクを作製した。なお、評価用光磁気デ
ィスクのディスク基板の材料には、屈折率１．４９のポ
リメチルメタクリレートを使用した。
【０１１７】以上のように作製した複数の評価用光磁気
ディスクについて、グルーブ幅を測定した結果を表１に
示すとともに、ピット幅を測定した結果を表２に示す。
なお、グルーブ幅やピット幅の測定は、実際には、評価
用光磁気ディスク自体を測定するのではなく、光記録媒
体製造用原盤に形成された凹凸パターンを走査電子顕微
鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）で測定す
ることにより行った。すなわち、ここでは、光記録媒体
製造用原盤に形成された凹凸パターンがディスク基板に
精度良く転写されるものと仮定し、光記録媒体製造用原
盤に形成された凹凸パターンの形状を測定した結果を、
評価用光磁気ディスクに形成されたグルーブやピットの
幅を示す値として用いた。
【０１１８】
【表１】
【０１１９】表１は、レーザカッティング時の露光ビー
ムのパワーを変えて作製した各評価用光磁気ディスクに
ついて、それぞれのグルーブ幅を測定した結果を、露光
ビームのパワーが１．０ｍＷのときを１００％として示
している。ここで、グルーブ幅については、グルーブ上
部の幅Ｗ１と、グルーブ底部の幅Ｗ２とを測定し、グル
ーブ幅Ｗｇを（Ｗ１＋Ｗ２）／２と定義した。
【０１２０】
【表２】
【０１２１】表２は、レーザカッティング時の露光ビー
ムのパワーと、使用するフォーマッタとを変えて作製し
た各評価用光磁気ディスクについて、それぞれのピット
幅を測定した結果を示している。ここで、露光ビームの
パワーは、フォーマッタＡを用いた場合については、
０．８ｍＷのときを１００％として示しており、フォー
マッタＢを用いた場合については、１．８ｍＷのときを
１００％として示している。また、ピット幅について
は、ピット上部の幅Ｗ３と、ピット底部の幅Ｗ４とを測
定し、ピット幅Ｗｐを（Ｗ３＋Ｗ４）／２と定義した。
【０１２２】そして、以上のような各評価用光磁気ディ
スクについて、プッシュプル信号量の測定を行った。こ
こで、プッシュプル信号量の測定には、レーザ光の波長
λが６５０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡが０．５２の
光ピックアップを備えたＭＤData2用評価機を用いた。
【０１２３】その結果、全ての評価用光磁気ディスクに
ついて、グルーブ形成領域から得られるプッシュプル信
号量は十分であり、グルーブ形成領域では安定なトラッ
キングサーボを行うことができた。
【０１２４】一方、ピット列形成領域についても、十分
なプッシュプル信号量が得られ、安定なトラッキングサ
ーボを行うことができた。ＭＤData2の規格において、
プッシュプル信号量については、０．０１８〜０．０３
６の範囲内であることが要求されているが、各評価用光
磁気ディスクは、ピット列形成領域においても、ＭＤDa
ta2の規格を満足し、十分に安定なトラッキングサーボ
を行うことができた。
【０１２５】具体的には、フォーマッタＡを用いるとと
もに、パルス補償器３４によりマーク長を補正した場
合、ピット列形成領域から得られるプッシュプル信号量
は０．０１８〜０．０２４であった。また、フォーマッ
タＢを用いるとともに、パルス補償器３４によりマーク
長を補正した場合、ピット列形成領域から得られるプッ
シュプル信号量は０．０２０〜０．０２７であった。
【０１２６】また、各評価用光磁気ディスクについて、
ピット列形成領域にピット列として記録された信号を再
生し、そのときのジッターを測定した。ここで、ジッタ
ーの測定には、横河電機社製タイムインターバルアナラ
イザーＴＡ３２０を用いた。
【０１２７】その結果、フォーマッタＡを用いるととも
に、パルス補償器３４によりマーク長を補正した評価用
光磁気ディスクでは、ジッターは４％後半から５％前半
程度であり、良好な再生特性が得られた。また、フォー
マッタＢを用いるとともに、パルス補償器３４によりマ
ーク長を補正した評価用光磁気ディスクでは、ジッター
は５％前半から５％中頃程度であり、良好な再生特性が
得られた。しかも、各評価用光磁気ディスクにおいて、
再生信号のアシンメトリは、０〜１５％程度の範囲内で
あり、安定な信号再生が実現できた。
【０１２８】ところで、フォーマッタＡを用いるととも
に、パルス補償器３４によりマーク長を補正した評価用
光磁気ディスクにおいて、マーク長補正率は、３２０ｎ
ｓ／４００ｎｓ＝８０．０％であった。また、フォーマ
ッタＢを用いるとともに、パルス補償器３４によりマー
ク長を補正した評価用光磁気ディスクにおいて、マーク
長補正率は、１４７ｎｓ／２２７ｎｓ＝６４．８％であ
った。そして、これらの評価用光磁気ディスクはいずれ
も、安定なトラッキングサーボと、良好な再生信号の検
出とを両立することができた。これらのことから、マー
ク長補正率を６４．８％〜８０．０％の範囲内とし、表
１及び表２に示すようにピット幅をグルーブ幅よりも十
分に大きくすることで、安定なトラッキングサーボと、
良好な再生信号の検出とを両立できることが分かる。
【０１２９】ところで、ピット列形成領域とグルーブ形
成領域とを兼ね備えた光磁気ディスクでは、ピット幅を
グルーブ幅よりも大きくしないと、ピット列形成領域か
ら得られるプッシュプル信号量が、グルーブ形成領域か
ら得られるプッシュプル信号量よりも低くなってしま
い、ピット列形成領域において安定なトラッキングサー
ボを行えなくなる。しかし、マーク長の補正を行ってい
ない従来の光磁気ディスクでは、ピット幅をグルーブ幅
よりも大きくしすぎると、ピット列形成領域から得られ
る再生信号のアシンメトリが劣化して、安定な信号再生
が行えなくなる。
【０１３０】このことを検証するために、上記評価用光
磁気ディスクとは別に、ピット列形成領域とグルーブ形
成領域とを兼ね備えた光磁気ディスクとして、マーク長
の補正を行うことなく１−７変調信号をそのままピット
列として記録した光磁気ディスクを、ピット幅及びグル
ーブ幅を変化させて複数作製し、それらの再生特性を調
べた。その結果、ピット幅が２６９〜３０５ｎｍの範囲
内にあり、且つ、グルーブ幅が２５０〜３２１ｎｍの範
囲内であれば、再生信号のアシンメトリの劣化が許容範
囲内であり、１−７変調信号を再生できることが確認さ
れた。
【０１３１】ここで、最大ピット幅は３０５ｎｍ、最小
グルーブ幅は２５０ｎｍであり、（最大ピット幅／最小
グルーブ幅）は、３０５ｎｍ／２５０ｎｍ＝１．２２で
ある。このことから、従来の光磁気ディスクにおいて許
容される（ピット幅／グルーブ幅）の最大値は１．２２
であることが分かる。換言すれば、マーク長の補正を行
うことなく、１−７変調信号をそのままピット列として
記録した光磁気ディスクでは、（ピット幅／グルーブ
幅）を１．２２よりも大きくすることはできない。な
お、（ピット幅／グルーブ幅）を１．２２とした光磁気
ディスクにおいて、ピット列形成領域から得られるプッ
シュプル信号量は、０．０１０程度であり、安定にトラ
ッキングサーボを行うことは困難であった。
【０１３２】一方、本発明を適用して作製した上記評価
用光磁気ディスクのうち、フォーマッタＡを用いるとと
もに、パルス補償器３４によりマーク長を補正した評価
用光磁気ディスクにおいて、最大ピット幅は４３５ｎ
ｍ、最小グルーブ幅は２５０ｎｍであり、（最大ピット
幅／最小グルーブ幅）は、４３５ｎｍ／２５０ｎｍ＝
１．７４であった。すなわち、フォーマッタＡを用いる
とともに、パルス補償器３４によりマーク長を補正した
評価用光磁気ディスクでは、（ピット幅／グルーブ幅）
を１．７４にまで大きくしても、再生信号のアシンメト
リの劣化が少なく、安定な信号再生が実現できた。
【０１３３】また、本発明を適用して作製した上記評価
用光磁気ディスクのうち、フォーマッタＢを用いるとと
もに、パルス補償器３４によりマーク長を補正した評価
用光磁気ディスクにおいて、最大ピット幅は４６０ｎ
ｍ、最小グルーブ幅は２５０ｎｍであり、（最大ピット
幅／最小グルーブ幅）は、４６０ｎｍ／２５０ｎｍ＝
１．８４であった。すなわち、フォーマッタＢを用いる
とともに、パルス補償器３４によりマーク長を補正した
評価用光磁気ディスクでは、（ピット幅／グルーブ幅）
を１．８４にまで大きくしても、再生信号のアシンメト
リの劣化が少なく、安定な信号再生が実現できた。
【０１３４】以上のように、本発明を適用することによ
り、ピット幅を従来よりも格段に広げることが可能とな
り、具体的には、（ピット幅／グルーブ幅）を１．８４
にまで大きくすることができる。すなわち、本発明で
は、ピットのマーク長を補正することで、ピット幅を従
来よりも格段に広げることを可能とし、下記式（１）に
示す条件を満たすようなピット及びグルーブのプリフォ
ーマットを実現した。
【０１３５】 １．２２＜（ピット幅／グルーブ幅）≦１．８４ ・・・（１） なお、以上の説明では、記録対象の信号を１−７変調す
る場合を例に挙げて説明したが、本発明において、記録
信号の変調方式は特に限定されるものではない。したが
って、記録対象の信号は、例えば、ＥＦＭ信号、ＥＦＭ
＋信号等であってもよい。
【０１３６】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、グルーブ形成領域とピット列形成領域とを兼ね備
えた光記録媒体において、ピット列形成領域から得られ
る再生信号のアシンメトリを劣化させることなく、プッ
シュプル信号量の均一化を図ることができる。したがっ
て、本発明によれば、グルーブ形成領域とピット列形成
領域とを兼ね備えた光記録媒体において、安定なトラッ
キングサーボと、良好な信号再生とを両立することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した光磁気ディスクの一例につい
て、その記録領域の一部を拡大して示す図である。
【図２】本発明に係る光記録媒体及び光記録媒体製造用
原盤を作製する際に使用されるレーザカッティング装置
の一例について、その光学系の概要を示す図である。
【図３】図３（Ａ）は、１−７変調信号のパルスパター
ンの一例を示す図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）に
示した１−７変調信号に対してマーク長補正を施した１
−７変調補正信号のパルスパターンを示す図である。
【符号の説明】
１ ピット、 ２ ウォブリンググルーブ、 ３ スト
レートグルーブ、 Ｂ１ ピット列形成領域、 Ｂ２
グルーブ形成領域
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/10 ５４１ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５４１Ｄ Ｆターム(参考） 5D029 WA02 WA20 WA27 WC03 WC10 WD12 5D075 DD04 EE03 FG18 GG16 5D090 AA01 BB01 BB10 GG02 GG03 GG22 5D118 BA01 BB06 BB09 BC08 BC09 CA13 CD03 DA35 5D121 AA09 BB26

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
    れた領域と、所定のビット間隔Ｔで規格化された信号が
    ピット列として記録された領域とを有する光記録媒体に
    おいて、 上記ピット列を構成する各ピットのマーク長は、記録対
    象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格化したときのマー
    ク長よりも短く、 上記ピット列を構成する各ピットのうち、最短ピットの
    マーク長は、記録対象の信号を所定のビット間隔Ｔで規
    格化したときの最短マーク長の６４．８〜８０．０％の
    長さであることを特徴とする光記録媒体。
  2. 【請求項２】 上記ピット列を構成する各ピットの幅を
    ｔｐとし、上記グルーブの幅をｔｇとしたとき、１．２
    ２＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４であることを特徴とする請求
    項１記載の光記録媒体。
  3. 【請求項３】 プッシュプル法によりトラッキングサー
    ボが行われることを特徴とする請求項１記載の光記録媒
    体。
  4. 【請求項４】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
    れた領域と、所定のビット間隔Ｔで規格化された信号が
    ピット列として記録された領域とを有する光記録媒体を
    製造する際に使用される光記録媒体製造用原盤であっ
    て、 上記グルーブに対応した凹凸パターンであるグルーブパ
    ターンと、上記ピット列に対応した凹凸パターンである
    ピット列パターンとを有し、 上記ピット列パターンを構成する各ピットパターンのマ
    ーク長は、記録対象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格
    化したときのマーク長よりも短く、 上記ピット列パターンを構成する各ピットパターンのう
    ち、最短ピットパターンのマーク長は、記録対象の信号
    を所定のビット間隔Ｔで規格化したときの最短マーク長
    の６４．８〜８０．０％の長さであることを特徴とする
    光記録媒体製造用原盤。
  5. 【請求項５】 上記ピット列パターンを構成する各ピッ
    トパターンの幅をｔｐとし、上記グルーブパターンの幅
    をｔｇとしたとき、１．２２＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４で
    あることを特徴とする請求項４記載の光記録媒体製造用
    原盤。
  6. 【請求項６】 上記光記録媒体は、プッシュプル法によ
    りトラッキングサーボが行われることを特徴とする請求
    項４記載の光記録媒体製造用原盤。
  7. 【請求項７】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
    れた領域と、所定のビット間隔Ｔで規格化された信号が
    ピット列として記録された領域とを有する光記録媒体を
    製造する際に使用される光記録媒体製造用原盤であっ
    て、上記グルーブに対応した凹凸パターンであるグルー
    ブパターンと、上記ピット列に対応した凹凸パターンで
    あるピット列パターンとが形成されてなる光記録媒体製
    造用原盤を製造する際に、 上記ピット列パターンを構成する各ピットパターンのマ
    ーク長を、記録対象の信号を所定のビット間隔Ｔで規格
    化したときのマーク長よりも短くし、 上記ピット列パターンを構成する各ピットパターンのう
    ち、最短ピットパターンのマーク長を、記録対象の信号
    を所定のビット間隔Ｔで規格化したときの最短マーク長
    の６４．８〜８０．０％の長さとすることを特徴とする
    光記録媒体製造用原盤の製造方法。
  8. 【請求項８】 上記ピット列パターンを構成する各ピッ
    トパターンの幅をｔｐとし、上記グルーブパターンの幅
    をｔｇとしたとき、上記ピット列パターン及び上記グル
    ーブパターンを、１．２２＜ｔｐ／ｔｇ≦１．８４を満
    たすように形成することを特徴とする請求項７記載の光
    記録媒体製造用原盤の製造方法。
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