JP2000340635A - 基板の搬送手段および搬送機構ならびに露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】基板の厚みに係わりなく基板を変形せずに吸着
保持でき、また、基板の移動速度を向上させ、かつ、基
板の落下を防止することができる搬送手段および搬送機
構ならびに露光装置を提供することを課題とする。 【解決手段】移動レールおよびハンドラからなる搬送手
段において、前記ハンドラ８は、移動レール７に沿って
移動する移動躯体６と、この移動躯体に設けられた保持
板４と、この保持板に取り付けられた吸着部２とを備
え、前記吸着部は、水平下面に形成された溝部２ｂと、
この溝部に取り付けられた当接パット３とを備え、前記
当接パットは、軸線方向に沿って間隔を開けて形成した
吸引孔３ｃを有する胴体部３ｂと、この胴体部に連続し
て設けられ前記吸引孔の開口が形成される吸引空間３ｄ
を有する吸着支持部３ａとを備え、前記基板を吸着した
際に、前記吸着支持部が、前記水平下面より突出してそ
の基板を支持する搬送手段として構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板
や、液晶基板などの所定パターンを露光して形成する基
板の搬送手段および、その基板の搬送機構ならびに露光
装置に係り、特に、基板の厚みに影響されずに確実で迅
速な搬送をすることができる搬送手段および搬送機構な
らびに露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来において、プリント配線板、液晶基
板などの基板に所定パターンを露光して形成する場合
は、搬送手段により基板を各作業位置に搬送して各作業
位置で整合作業および露光作業（同一位置あるいは別位
置）などを行っている。図７（ａ），（ｄ）で示すよう
に、前記搬送手段５０の構成は、各作業位置（搬入位置
６０、整合位置および露光位置６５、搬出位置７０）に
沿って配置した移動レール５１と、この移動レール５１
に沿って移動する移動躯体５２と、この移動躯体５２に
支持された複数の吸着パット５３と、移動躯体５２を昇
降移動させる昇降機構５４とを備えている。なお、吸着
パット５３は、弾性部材であるゴムなどにより下方に向
かって末広がりとなるカップ状に形成されている。

【０００３】したがって、搬送手段５０を作動させ基板
Ｗの搬送を露光装置で行う場合は、つぎのような動作を
行う。図７（ａ），（ｄ）で示すように、搬入位置６０
の送りローラ６１に基板Ｗが搬入されると、搬入位置６
０の上方に待機していた移動躯体５２が昇降機構５４を
介して降下し、基板Ｗに吸着パット５３を当接すると共
に、真空吸着動作を行い、その吸着パット５３に基板Ｗ
を吸着保持する。

【０００４】そして、昇降機構５４を介して移動躯体５
２を上昇させ、移動レール５１に沿って移動躯体５２を
整合露光位置６５の上方に移動させる。さらに、昇降機
構５４を介して基板Ｗを保持する移動躯体５２を降下さ
せ整合台上に基板Ｗを載置し、吸着パット５３の真空吸
引動作を停止することで基板Ｗを受け渡している。基板
Ｗを受け渡した移動躯体５２は、昇降機構５４を介して
上昇し、搬入位置６０に再び移動する。

【０００５】整合露光位置６５に搬送された基板Ｗは、
整合機構６８により整合作業が行われ、さらに、光源装
置６６、６７により紫外線を含む光線を照射することで
露光作業が行われる。そして、露光作業が終了すると、
搬出側に配置された移動躯体５２が移動して来て、昇降
機構５４を介して降下し、吸着パット５３により基板Ｗ
を吸着保持して再び昇降機構５４を介して上昇し、搬出
位置７０に移動する。そして、昇降機構５４を介して降
下し基板Ｗを搬出位置７０の搬出ローラ７１上に載置す
る動作を行う。このように、常に、作業位置にある基板
Ｗを移動躯体５２が水平移動すると共に昇降移動するこ
とで、受け取りあるいは受け渡しのどちらか一方を行う
ことで搬送作業を行っている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の基板の
搬送手段および搬送機構ならびにそれを使用する露光装
置では、以下のような問題点が存在した。すなわち、従
来の基板の搬送手段では、基板を吸着する吸着パットの
構成が、ゴムなどの弾性部材で末広がりとなるカップ状
（図７（ｂ）参照）に形成されていることから、基板が
薄板である場合は、吸着する際に基板を真空吸着力によ
り変形させてしまう（図７（ｃ）参照）。

【０００７】また、基板の変形を防止するため、吸着パ
ットの数を増やして基板を吸着保持するように構成する
ものも提案されているが、吸着パットの数を増やしただ
けでは、基板を均等に吸着することが困難で却って基板
の吸着保持する力を減少させてしまうことになった。

【０００８】さらに、基板の変形が生じると、その基板
の変形分をあらかじめ予想し、それだけ移動躯体および
吸着パットの昇降する距離を大きくする必要が生じ、基
板の搬送時間を余計に取ることになった。

【０００９】そして、搬送手段が昇降することで基板を
受け取りあるいは受け渡し（授受）を行うことから、基
板を搬送手段が保持した状態で昇降する際に、基板に対
する空気の抵抗が大きく、基板を落下させる原因になっ
ていた。

【００１０】また、露光装置に前記の構成の搬送手段あ
るいは搬送機構を使用した場合は、特に、搬入機構の位
置および整合機構の位置での基板の受け渡しの際に搬送
手段から基板が落下する可能性が高く、基板が落下する
と、露光装置の一連の動作を停止させて調整する必要が
生じるために不都合であった。さらに、移動躯体および
吸着パットが昇降移動して基板を作業位置から授受する
搬送機構である場合は、基板の変形をあらかじめ考慮し
て上下動する距離を長く取る必要から、装置が大型化し
てしまう共に、基板の移動時間がかかるため、露光装置
として不都合であった。そして、特に、基板が薄板であ
る場合は、基板を上昇させる場合に、その空気の抵抗に
より基板の端が垂れ下がって次作業に支障を来した。

【００１１】本発明は、前述の問題点を解決すべく創案
されたもので、基板の厚みに係わりなく基板を変形せず
に吸着保持でき、また、基板の移動速度を向上させ、か
つ、基板の落下を防止することができる搬送手段および
搬送機構ならびに露光装置を提供することを目的とす
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め、本発明は、所定パターンを露光して形成する基板を
各作業位置に搬送する移動レールおよびハンドラからな
る搬送手段において、前記移動レールは、前記各作業位
置の上方でそれら各作業位置に亘って配置され、前記ハ
ンドラは、移動レールに沿って移動する移動躯体と、こ
の移動躯体に設けられた保持板と、この保持板に取り付
けられた吸着部とを備え、前記吸着部は、水平下面に形
成された溝部と、この溝部に取り付けられた当接パット
とを備え、前記当接パットは、軸線方向に沿って間隔を
開けて形成した吸引孔を有する胴体部と、この胴体部に
連続して設けられ前記吸引孔の開口が形成される吸引空
間を有する吸着支持部とを備え、前記基板を吸着した際
に、前記吸着支持部が、前記水平下面より突出してその
基板を支持する搬送手段として構成した。

【００１３】このように構成することで、当接パットの
吸引孔から分散されて吸引空間で均等化した吸引力によ
り基板を吸着保持することができると共に、当接部が水
平下面より突出して基板を吸引保持するため、基板が薄
板の場合であっても変形させずに吸引保持して搬送する
ことができる。

【００１４】また、前記吸着支持部を環状に形成し、前
記吸着部の水平下面の位置で、前記吸着支持部から内周
側に凸面部を設け、前記凸面部は、前記吸着支持部が基
板を吸着する際に、その基板に当接する位置まで突出し
て形成される構成とした。

【００１５】このように構成することで、特に、基板が
薄板の場合に、吸着支持部の内周側の基板の窪み状の変
形を防止することができる。

【００１６】また、前記移動躯体と前記保持板との間な
らびに保持板と前記吸着部との間の少なくとも一箇所
に、前記基板の授受における衝撃を緩和する緩衝部を設
けた前記搬送手段としても良い。このように構成する
と、基板の受け渡しおよび受け取り（授受）の際に、基
板を損傷させることを最小限に抑えることができる。

【００１７】さらに、所定パターンを露光して形成する
基板を、各作業位置に搬送するための前記請求項１ない
し３のいずれか一項に記載の搬送手段と、この搬送手段
に前記基板の受け渡しあるいは受け取りの少なくとも一
方を行う授受手段とを備える搬送機構であって、前記授
受手段は、前記各作業位置に配置され、前記基板を載置
する載置板と、この載置板を昇降させる昇降部とを備え
る搬送機構とした。

【００１８】このように構成することで、授受手段の昇
降部を介して載置板に載置した基板を上昇させ、前記ハ
ンドラの吸着部に受け渡し、前記ハンドラを移動レール
に沿って次作業位置の上方に移動させ、次作業位置に配
置した授受手段の昇降部を介して載置板を上昇させ、ハ
ンドラが保持している基板を載置板上に受け取り降下し
て基板の次作業を行う。そのため、搬送手段は水平方向
に基板を移動させ、各作業位置に配置した載置板に基板
を載置した状態で昇降部により昇降させて基板の搬送を
行うことが可能となり、基板を搬送手段に授受する際に
落下することがない。また、基板の搬送速度を向上する
ことが可能となる。

【００１９】さらに、前記載置板は、基板を載置する載
置面に、前記基板が離間する際にその基板と載置面との
減圧による密着を解除するための分離手段を形成した構
成としている。そのため、基板が搬送手段に授受される
際に、基板の受け取りが確実に行われる。

【００２０】また、基板を搬入する搬入機構と、前記基
板を位置決めする整合機構と、前記基板を露光する光源
機構と、前記基板を搬出する搬出機構と、前記基板を前
記各機構に搬送する搬送機構とを、前記基板の搬送経路
に沿って備える露光装置において、前記搬送機構は、請
求項４または５に記載の構成を備える露光装置として構
成した。

【００２１】このように構成することで、露光装置の各
機構に基板を搬送する場合、基板の落下を防止でき、か
つ、露光装置で行われている一連の動作を停止すること
を防止することができる。また、搬送手段は、基板を水
平方向に移動させ、各機構に配置した載置板の昇降移動
により基板を搬送するため、搬送時に基板の変形を起こ
すことがなく、基板の搬送速度を向上させることがで
き、露光装置で処理する基板の処理枚数の向上を図るこ
とができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照して説明する。図１は搬送手段を示す斜視図、
図２（ａ），（ｂ），（ｃ）は搬送手段の緩衝部、吸着
部の縦断面図、吸着部の底面図、図３（ａ），（ｂ）は
吸着部の応用例を示す断面図および平面図、図４は搬送
機構の全体を示す模式図、図５は露光装置の全体を示す
模式図、図６（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は搬送機
構の載置板の応用例を示す斜視図である。

【００２３】図１で示すように、搬送手段１は、水平方
向に亘って配置される移動レール７と、この移動レール
７に沿って移動するハンドラ８とから構成される。ハン
ドラ８は、移動躯体６と、この移動躯体６の中央に設け
た緩衝部５と、この緩衝部５に支持される保持板４と、
この保持板４に支持される複数（図面では４個）の吸着
部２とから構成されている。

【００２４】図１で示すように、移動レール７は、左右
に平行に配置したシリンダレール７ａおよび従動レール
７ｂとから構成されている。そして、移動レール７に沿
って移動する移動躯体６は、前記左右のシリンダーレー
ル７ａおよび従動レール７ｂに掛け渡されて構成される
移動本体６ａと、この移動本体６ａの一端に設けられシ
リンダレール７ａ内を移動する駆動部６ａと、移動本体
６ａの他端に設けられ従動レール７ｂに案内されて移動
する摺動部６ｂとを備えている。

【００２５】また、移動躯体６と保持板４を接続する緩
衝部５は、図２（ａ）で示すように、移動本体６ａと保
持板４の保持板本体４ｂに亘って設けた複数（図面では
４箇所）のシリンダ５ａと、このシリンダ５ａに並設し
た弾性部材としてのコイルスプリング５ｂとを備えてい
る。保持板４は、保持板本体４ｂと、この保持板本体４
ｂの長手方向に移動自在に調整長孔を介して係合される
取付板４ａ，４ａとから構成されている。なお、取付板
４ａ，４ａの長手方向にも調整長孔が形成され、吸着部
２の配置が自在に設置できるように形成されている。

【００２６】吸着部２は、図２（ｂ），（ｃ）で示すよ
うに、水平下面に溝部である円環状の溝部２ｂを形成し
ており、その溝部２ｂに当接パット３を取り付けてい
る。なお、吸着部２は、金属あるいはプラスチックなど
の硬質部材で形成され、当接パット３は、ゴムあるいは
合成ゴムなどの弾性部材で形成されている。

【００２７】当接パット３は、溝部２ｂに挿入する円環
状の胴体部３ｂと、この胴体部３ｂの先端側に括れを介
して形成される円環状の吸着支持部３ａとから構成され
ている。そして、吸着支持部３ａは、基板表面に対面す
る位置に吸引空間３ｃを有するように構成されている。
そして、胴体部３ｂの円周方向（軸線方向）に沿って所
定の間隔毎に吸引孔３ｃが複数（図面では省略されたも
のも含めて６箇所）形成され、この吸引孔３ａの開口を
吸引空間３ｄ側に形成している。さらに、前記吸着支持
部３ａは、基板Ｗを吸着保持する場合、前記溝部２ｂに
入り込んでも水平下面２ａ，２ｃより突出するように
（厚みを有することや、また、突出位置を考慮して）形
成されている。

【００２８】そのため、吸着部２により基板Ｗを吸着保
持する場合は、吸着支持部３ａが吸引動作の際の変形が
少なく、かつ、吸引開口部３ｃが円周方向に沿って所定
間隔で形成されおり、吸引空間３ｄおよび基板Ｗで囲繞
する空間の空気を均等に吸引するため、吸引動作の集中
がなく、基板を平坦な状態で確実に吸着保持することが
できる。また、水平下面２ａ，２ｃが基板Ｗをガイドす
ることから、基板Ｗを吸着した際の垂れなどの変形を防
止して水平状態を維持することになる。なお、基板Ｗの
吸着保持に使用される接続ホース、開閉弁および真空ポ
ンプ等の真空吸引機構は、公知のものが使用できるため
ここでは省略する。

【００２９】また、図２で示す吸着部２の応用例として
図３（ａ），（ｂ）で吸着部２Ａを説明する。なお、吸
着部２と同じ構成は同じ符号を付して説明を省略する。
図３（ａ），（ｂ）で示すように、吸着部２Ａは、その
水平下面２ａの位置に凸面部２ｅを設けている。この凸
面部２ｅは、吸着支持部３ａが基板Ｗを吸着した際に、
その基板Ｗに当接してガイドするように構成されてい
る。この凸面部２ｅが基板Ｗを吸着したときのガイドと
なることで、特に、基板Ｗが薄い場合に、その基板Ｗの
窪み状の変形を防止することができる。

【００３０】なお、基板Ｗが薄い場合で吸着支持部３ａ
の内周側に基板Ｗの窪み状の変形が発生すると、その窪
み状の変形が、その基板Ｗを載置している載置面（特に
ガラス板やマスクなどの基板の分離手段を設けることと
できない載置面）を吸着するためのパットの役割を果し
てしまう。したがって、凸面部２ｅは、基板Ｗの窪み状
の変形が発生しないような高さおよび面積を備えていれ
ば、その凸面部２ｅの構成は特に限定されるものではな
い。例えば，図２（ｂ）で示す水平下面２ａに片面粘着
テープを重ねて貼ることで凸面部２ｅ構成しても構わな
い。

【００３１】つぎに、搬送機構２９の授受手段１２につ
いて図４を参照して説明する。なお、搬送手段１は、前
記したものと同じ構成であるため説明を省略する。水平
方向に移動するハンドラ８に、基板Ｗを昇降移動させて
受け渡す動作、あるいは、ハンドラ８が保持している基
板Ｗを昇降移動して受け取る動作、および、それら両方
の動作である授受動作を行う授受手段１２，２２は、基
板Ｗを載置する載置板１０，２８と、この載置板１０、
２８を昇降させる昇降部１４，２５とから構成されてい
る。

【００３２】前記載置板１０は、基板Ｗを載置すると共
に、移動躯体１に基板Ｗを受け渡す際に、基板面とその
載置板面との密着度が大きくなることで、載置板１０か
ら基板Ｗを受け渡しにくくなる状態を回避するため、分
離手段として貫通穴１３を複数形成している。そして、
昇降部１４は、載置板１０の下端を支持する支持脚１１
と、この支持脚１１の下端に設けた移動板１５と、この
移動板１５に取り付けた移動ブロック１７と、この移動
ブロック１７を上下動させる送りネジ１６と、この送り
ネジ１６を駆動ベルト１９を介して回転させる駆動モー
タ１８とを備えている。

【００３３】なお、昇降部１４は、図４で示すように、
基板Ｗの作業内容が異なることでその構成を異ならせて
も良く、例えば、昇降部２５は、載置板２８の両側下方
に設けた支持脚２７、２７と、この支持脚２７、２７を
移動ブロック２６を介して上下に移動させる送りネジ２
４，２４と、この送りネジ２４，２４を回転させる駆動
モータ２３，２３とを備えている。なお、載置板２８
は、四角環状のフレームに形成されている。この載置板
２８の位置では基板Ｗの下方から光照射する作業を行う
ことから、載置板２８の直下には昇降部を配置すること
ができない。

【００３４】つぎに、基板Ｗを搬送する搬送機構２９の
作用を説明する。図４で示すように所定パターンを露光
することで形成される基板Ｗは、各作業位置で処理さ
れ、それぞれの作業位置間は、水平方向に移動するハン
ドラ８の吸着部２に吸着保持され移動レール７に沿って
搬送される。そして、ハンドラ８の吸着部２に、基板Ｗ
の受け渡しあるいは基板Ｗの受け取りを行う場合は、各
作業位置の載置板１０、２８が昇降部１４、２５により
昇降して行われる。

【００３５】そのため、基板Ｗを各作業位置に搬送する
ときに、基板Ｗを上下方向に移動させる場合は、載置板
１０，２８に載置した状態で行われるため、基板Ｗの落
下を防止することができる。また、ハンドラ８は、基板
Ｗを水平方向に移動する動作を行い、昇降しないため、
基板Ｗの搬送を迅速に行うことが可能となる。

【００３６】つぎに、図５で示すように露光装置Ｅにつ
いて説明する。なお、前記した搬送手段１および授受手
段１２、２２からなる搬送機構２９は、同じ構成である
ため説明を省略する。露光装置Ｅは、基板Ｗの搬入機構
Ａと、基板Ｗの整合機構Ｂと、基板Ｗの光源機構Ｃと、
基板Ｗの搬出機構Ｄと、基板を各機構Ａ，Ｂ，Ｄの作業
位置に搬送する搬送機構２９とから構成されている。

【００３７】搬入機構Ａは、基板Ｗを受け取る送りロー
ラ１３ａと、この送りローラ１３ａの上端が突出できる
貫通穴１３を有する載置板１０および載置板１０を昇降
させる昇降部１４からなる授受手段１２と、前記送りロ
ーラ１３ａの間に移動自在に設けた予備位置決め機構９
とを備えている。

【００３８】整合機構Ｂは、固定されている基準上焼枠
２１に設けたマスク（図示せず）を整合させる位置合わ
せ機構２１Ａと、基準上焼枠２１に当接離間自在に載置
板としての下焼枠２８に設けたマスク（図示せず）と、
基準上焼枠２１のマスク（図示せず）の整合状態（位置
決めマーク）を撮像するＣＣＤカメラ３７とから構成さ
れている。なお、整合機構Ｂでの授受手段は、載置板と
しての下焼枠２８と、この下焼枠２８を昇降する昇降部
２５とから構成されている。また、焼枠機構２０は、基
準上焼枠２１および下焼枠２８とから構成されている。

【００３９】光源機構Ｃは、紫外線照射ランプ３１と、
この紫外線照射ランプ３１からの光線を集光して反射す
る楕円反射鏡３２と、前記紫外線照射ランプ３１および
楕円反射鏡３２からの光線を反射する平板反射鏡３３
と、この平板反射鏡３４からの光線の照度分布を整えて
その光線を透過するフライアイレンズ３４と、このフラ
イアイレンズ３４からの光線を反射する平板反射鏡３５
と、この平板反射鏡３５からの光線を平行光として基準
上焼枠２１（下焼枠２８）側に反射する反射鏡３６とか
ら構成されている。なお、この例で示す光源機構Ｃは、
基板Ｗの両面を同時に露光するタイプであるため、上下
に各構成（紫外線照射ランプ３１〜反射鏡３６）が対称
に配置されている。

【００４０】搬出機構Ｄは、基板Ｗを受け取る載置板１
０と、この載置板１０を昇降させる昇降部１４からなる
授受手段１２とから構成されている。なお、搬送手段１
の移動レール７は、搬入機構Ａと整合機構Ｂ間および、
整合機構Ｂと搬出機構Ｄ間に配置され、ハンドラ８をそ
れぞれの移動レール７に設け、各機構Ａ〜Ｄの作業状況
に応じてそれそれが作動するように構成されている。な
お、特に、基板Ｗが薄板の場合は、図３で示す構成の吸
着部２Ａの構成とすることが都合が良い。

【００４１】つぎに、露光装置Ｅの作用を図５を参照し
て説明する。載置板１０は、送りローラ１３ａの上端が
突出する位置まで、はじめは降下しており、その送りロ
ーラ１３ａ上に基板Ｗが搬入されると、送りローラ１３
ａが回転して送りローラ１３ａの所定位置に基板Ｗを送
り停止する。そして、載置板１０が、送りローラ１３ａ
から基板Ｗを受け取るように昇降部１４を介して上昇す
る。その上昇した載置板１０の位置で予備位置決め機構
９により載置板１０の基板Ｗの端面が押動され予備位置
決め作業が行われる。

【００４２】予備位置決め作業が終了すると、載置板１
０は昇降部１４を介してさらに上昇して基板Ｗをハンド
ラ８に受け渡す。このとき、基板Ｗにハンドラ８との接
触ににより衝撃が発生するが、ハンドラ８に設けた緩衝
部５（図２参照）により基板Ｗに対する衝撃を最小限に
抑えることができる。なお、以後、基板Ｗの受け渡しお
よび受け取り（授受）を行う場合には、緩衝部５（図２
参照）により衝撃を緩和することが可能となる。

【００４３】基板Ｗを受け取ったハンドラ８は、移動レ
ール７に沿って水平方向に移動し、整合機構Ｂの下焼枠
２８の上部まで移動する。ハンドラ８が停止すると、下
焼枠２８が昇降部２５により上昇して基板Ｗをハンドラ
８から受け取り降下する。そして、てハンドラ８が搬入
機構Ａ側に移動すると、再び昇降部２５を介して下焼枠
２８が上昇し、基準上焼枠２１側に当接し、真空吸着機
構（図示せず）を介して両焼枠２１、２８を真空密着さ
せる。

【００４４】さらに、ＣＣＤカメラ３７によりマスク
（図示せず）の整合状態を撮像して整合許容範囲外であ
れば、真空密着状態を解除して下焼枠２８を降下し、基
準上焼枠２１の位置合わせ機構２１Ａを使用してマスク
（図示せず）の位置をＸ，Ｙ，θ方向に整合する。再
び、下焼枠２８を上昇させ両焼枠２１、２８を真空密着
させＣＣＤカメラ３７により整合状態を確認して整合許
容範囲内であれば、光源機構Ｃの紫外線照射ランプ３１
から紫外線を含む光線を照射し、各反射鏡３２，３３，
３５，３６およびフライアイレンズ３４を介して基板Ｗ
の表裏にマスク（図示せず）を介して露光作業が行われ
る。

【００４５】露光作業を行っているときには、すでに搬
入機構Ａではつぎの基板Ｗの予備位置決め作業を行って
いる。そして、露光作業が終了すると、両焼枠２１，２
８の真空密着状態を解除して、下焼枠２８を降下させ、
搬出側にあるハンドラ８を移動させて下焼枠２８の上方
に到来させる。そして、下焼枠２８を上昇させハンドラ
８に基板Ｗを受け渡し、下焼枠２８は降下する。基板Ｗ
を受け取ったハンドラ８は、移動レール７に沿って搬出
機構Ｄの上部に移動する。さらに、授受手段１２の載置
板１０を昇降部１４により上昇させ基板Ｗを載置板１０
上に受け取る。なお、露光済み基板Ｗが搬送されると、
つぎの基板Ｗがハンドラ８により搬送され、一連の作業
を連続して行っている。

【００４６】なお、搬送機構２９および露光装置Ｅで使
用される載置板１０，２８には、基板Ｗとの密着を防止
する分離手段を設けているが、図６で示すように構成し
ても良い。すなわち、図６（ａ）で示すように、載置板
１０Ａは、その基板Ｗの載置面に凹凸面１０ａを形成し
ている。そのため、基板Ｗと載置板１０Ａの間の接触面
積が小さくなり密着を防止することができる。この凹凸
面１０ａは、全面に設ける必要はなく部分的であっも良
い。

【００４７】また図６（ｂ）で示すように、載置板１０
Ｂの表面に長凹溝１０ｂを形成することで基板Ｗとの密
着を防止しても良い。この長凹溝１０ｂは、図示しない
が載置板に長凸部が形成されることでも同じ結果を得る
ことができる。なお、長凸部は片面粘着テープを貼るこ
とで形成することが可能となる。

【００４８】そして、図６（ｃ）で示すように、載置板
１０Ｃに貫通孔１０ｃを複数設けることでも基板Ｗとの
密着を防止することができる。なお、図６（ｄ）で示す
ように、載置板１０Ｄに貫通孔１０ｄを形成し、その貫
通孔１０ｄにポンプ１０ｅから空気を流出させる構成と
しても基板Ｗとの密着を防止することができる。

【００４９】なお、前記した各実施の形態で用いられる
吸着部の水平下面に形成された溝部は、円環状に形成し
ているが、四角環状に形成することや、その円環状ある
いは四角環状が２分割以上分割された状態で溝部を形成
しても良い。さらに、当接パットは、溝部に対応させ
て、四角環状に形成したり、あるいは、分割された溝部
に対応した当接パットの状態としても良い。そして、当
接パットの吸着支持部の吸引空間に連通して形成してい
る吸引孔は、２箇所以上形成されていれば良く、好まし
くは均等に配置すれば吸引空間で基板を吸引する吸引力
が均等になり都合が良い。

【００５０】また、授受手段の昇降部は、その構成をシ
リンダ機構や他の構成であっても良く、載置板を昇降で
きるものであれば限定されるものではない。さらに、露
光装置は、整合作業位置および露光作業位置が同じ位置
として図示したが、異なる位置にある場合でも良い。ま
た、露光形式は、片面露光、両面露光、平行光露光、散
乱光露光であっても良い。さらに、整合作業および露光
作業を行う場合は、マスクおよび基板の配置が水平状態
や、垂直状態や、あるいは、傾斜した状態であっても良
い。また、基板の構成は枚葉形式、ロールツウロール形
式であっても良い。

【００５１】

【発明の効果】前記した構成の本発明は、以下のように
優れた効果を発揮する。 搬送手段は、基板の当接面に対して凹状の吸引空間
を備える線溝状の吸着支持部により基板を吸着保持して
いるため、基板の当接面に対して吸引力が均等な状態で
吸引動作を行えると共に、吸着支持部が当接部の水平下
面から突出した状態で基板を保持することから、基板が
薄板であっも変形することなく適切に保持することが可
能となる。また、搬送手段は、緩衝部を備えることか
ら、基板を授受する場合に基板に対する衝撃を最小限に
緩和することができる。さらに、基板が薄板の場合は、
吸着支持部の内周側に凸面部を設けることで、基板の窪
み状の変形を確実に防止することができる。

【００５２】 搬送機構は、基板を作業位置から搬送
手段に基板を授受する授受手段が、基板を載置板上に載
置した状態で昇降して受け渡しあるいは受け取りの少な
くとも一方を行い、各作業位置間の移動はハンドラが基
板を吸着保持して水平方向に移動している。そのため、
基板を授受の際に落下することがない。また、基板の搬
送速度を向上することが可能となる。また、載置板に基
板との密着を防止する分離手段を備えていることから、
基板が載置板に密着して受け渡せないことがない。

【００５３】 露光装置は、基板を各機構に搬送する
際に、ハンドラが水平方向に移動すると共に、基板を各
機構で処理した後に載置板に載置して授受する授受手段
が昇降する構成としている。そのため、基板の搬送速度
を向上することができまた、基板を落下する原因がない
ことから、露光装置の処理能力の向上を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の搬送手段を示す斜視図である。

【図２】（ａ），（ｂ），（ｃ）は搬送手段の緩衝部、
吸着部の縦断面図、吸着部の底面図である。

【図３】（ａ），（ｂ）は、本発明の搬送手段の応用例
を示す吸着部の断面図および底面図である。

【図４】本発明の搬送機構の全体を示す模式図である。

【図５】本発明の露光装置の全体を示す模式図である。

【図６】（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は搬送機構の
載置板の応用例を示す斜視図である。

【図７】（ａ）は従来の搬送手段を示す正面図、
（ｂ），（ｃ）は従来の搬送手段の吸着パットの状態を
示す模式図、（ｄ）は、従来の搬送機構を使用する露光
装置を示す模式図である。

【符号の説明】

１ 搬送手段 ２ 吸着部 ２ａ 水平下面 ２ｂ 溝部 ２ｃ 水平下面 ３ 当接パット ３ａ 吸着支持部 ３ｂ 胴体部 ３ｃ 吸引孔 ３ｄ 吸引空間 ４ 保持板 ５ 緩衝部 ６ 移動躯体 ７ 移動レール ８ ハンドラ ９ 予備位置決め機構 １０ 載置板 １１ 支持脚 １２ 授受手段 １３ 貫通穴 １４ 昇降部 １５ 移動板 １６ 送りネジ １７ 移動ブロック １８ 駆動モータ １９ 伝達ベルト ２０ 焼枠機構 ２１ 基準上焼枠 ２１Ａ 位置合わせ機構 ２２ 授受手段 ２３ 駆動モータ ２４ 送りネジ ２５ 昇降部 ２６ 移動ブロック ２７ 支持脚 ２８ 下焼枠（載置板） ２９ 搬送機構 Ａ 搬入機構 Ｂ 整合機構 Ｃ 光源機構 Ｄ 搬出機構 Ｅ 露光装置 Ｗ 基板

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定パターンを露光して形成する基板を
   各作業位置に搬送する移動レールおよびハンドラからな
   る搬送手段において、 前記移動レールは、前記各作業位置の上方でそれら各作
   業位置に亘って配置され、前記ハンドラは、移動レール
   に沿って移動する移動躯体と、この移動躯体に設けられ
   た保持板と、この保持板に取り付けられた吸着部とを備
   え、 前記吸着部は、水平下面に形成された溝部と、この溝部
   に取り付けられた当接パットとを備え、 前記当接パットは、軸線方向に沿って間隔を開けて形成
   した吸引孔を有する胴体部と、この胴体部に連続して設
   けられ、前記吸引孔の開口が形成される吸引空間を有す
   る吸着支持部とを備え、 前記基板を吸着した際に、前記吸着支持部が、前記水平
   下面より突出してその基板を支持することを特徴とする
   搬送手段。
2. 【請求項２】 前記吸着支持部を環状に形成し、前記吸
   着部の水平下面の位置で、前記吸着支持部から内周側に
   凸面部を設け、 前記凸面部は、前記吸着支持部が基板を吸着する際に、
   その基板に当接する位置まで突出して形成されることを
   特徴とする請求項１に記載の搬送手段。
3. 【請求項３】 前記移動躯体と前記保持板との間ならび
   に保持板と前記吸着部との間の少なくとも一箇所に、前
   記基板の授受における衝撃を緩和する緩衝部を設けたこ
   とを特徴とする請求項１または２に記載の搬送手段。
4. 【請求項４】 所定パターンを露光して形成する基板
   を、各作業位置に搬送するための前記請求項１ないし３
   のいずれか一項に記載の搬送手段と、この搬送手段に前
   記基板の受け渡しあるいは受け取りの少なくとも一方を
   行う授受手段とを備える搬送機構であって、 前記授受手段は、前記各作業位置に配置され、前記基板
   を載置する載置板と、この載置板を昇降させる昇降部と
   を備えることを特徴とする搬送機構。
5. 【請求項５】 前記載置板は、基板を載置する載置面
   に、前記基板が離間する際にその基板と載置面との減圧
   による密着を解除するための分離手段を形成したことを
   特徴とする請求項４に記載の搬送機構。
6. 【請求項６】 基板を搬入する搬入機構と、前記基板を
   位置決めする整合機構と、前記基板を露光する光源機構
   と、前記基板を搬出する搬出機構と、前記基板を前記各
   機構に搬送する搬送機構とを、前記基板の搬送経路に沿
   って備える露光装置において、 前記搬送機構は、請求項４または５に記載の構成を備え
   ることを特徴とする露光装置。