JPH0922933A - 基板搬送方法及びその装置 - Google Patents

基板搬送方法及びその装置

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JPH0922933A
JPH0922933A JP7194216A JP19421695A JPH0922933A JP H0922933 A JPH0922933 A JP H0922933A JP 7194216 A JP7194216 A JP 7194216A JP 19421695 A JP19421695 A JP 19421695A JP H0922933 A JPH0922933 A JP H0922933A
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JP
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JP7194216A
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Kiyoshi Kogure
清 小暮
Yuuki Yoshikawa
勇希 吉川
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Nikon Corp
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Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 搬送中の基板の撓みの発生を効果的に防止す
る。 【構成】 基板14を保持部材16上に保持させ、基板
14を保持した保持部材16を搬送アーム20上に載置
する。搬送アーム20により保持部材16と一体的に基
板14を基板ステージ上の基板ホルダ38へ向けて搬送
し、搬送終了後に、基板14を保持した保持部材16を
上下動ピン46により基板ホルダ38上に受け渡す。こ
れによれば、基板14は保持部材16と一体的に搬送さ
れ、基板ホルダ38に受け渡されるので、保持部材16
として基板14の撓みを阻止できる程度の強度の薄板等
を使用すれば、搬送中に基板14に撓みが生じることが
なく、受け渡し時の不都合は解消する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は基板搬送方法及びそ
の装置に係り、更に詳しくは液晶用露光装置等における
大型の基板の搬送に適用して好適な基板搬送方法及びそ
の装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の液晶用露光装置において、基板
(液晶用ガラス基板)の搬送は次のようにしてなされて
いた。即ち、図4に示されるように、基板100はフォ
ークアーム102上に載置され、図示しない吸着手段を
介して吸着された状態で露光ステージ(図示省略)上の
基板ホルダ104に向けて搬送される。このようにし
て、フォークアーム102により基板100が基板ホル
ダ104の上方まで搬送されると、基板ホルダ104に
穿設された孔を介して4本の上下動ピン106が上昇し
て基板100を下方から支持した状態で上方へ所定量持
ち上げ停止する。
【0003】次に、フォークアーム102が退避する
と、上下動ピン106が下降し、図示しない真空ポンプ
が作動して真空吸着用の孔108を介して基板100が
基板ホルダ104に吸着される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】例えば、液晶ディスプ
レイの生産性を上げるため、1枚の基板からより多くの
枚数の液晶ディスプレイがとれるように基板の大型化が
進んでいる。また、液晶テレビ等では液晶ディスプレイ
の大画面化が要求されるようになり、この観点からも基
板は大型化する傾向にある。一方、基板の肉厚を厚くす
ることは、装置の軽量化の要求に反するので好ましくな
い。このような理由により、基板は大型かつ薄型化する
傾向にある。
【0005】しかしながら、このように基板が大型かつ
薄型化すると、上記従来技術のような手法により基板1
00を搬送する場合に、次のような不都合が発生する。
【0006】 フォークアーム102による搬送中
に、基板100がその自重により撓んでその両端もしく
は中央部が浮き上がってしまい、基板100とフォーク
アーム102との吸着が不十分となる。
【0007】 フォークアーム102による搬送中
に、基板100がその自重によりU字状等に撓んで破
損、破壊してしまう。
【0008】 基板100の受け渡しのため、基板ホ
ルダ104上まで基板100を搬送した際に、上下動ピ
ン106を最大限上昇させても、基板100の逆U字状
の撓みのため、フォークアーム102から基板100が
離れない。これは、露光装置では高い露光解像力が要求
されるため、投影レンズ下面と基板ホルダ104上の基
板表面との間隔をあまり大きくできないため、上下動ピ
ン106の上下ストロークを大きく設定できないためで
ある。
【0009】本発明は、かかる従来技術の有する不都合
に鑑みてなされたもので、その目的は、搬送中の基板の
撓みの発生を効果的に防止することが可能な基板搬送方
法及びその装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、基板搬送方法であって、基板を保持部材上に保持さ
せる第1の工程と;前記基板を保持した前記保持部材を
搬送アーム上に載置する第2の工程と;前記搬送アーム
により前記保持部材と一体的に前記基板を基板ステージ
上の基板ホルダへ向けて搬送する第3の工程と;搬送終
了後に、前記基板ホルダ上に前記基板を保持した前記保
持部材を受け渡す第4の工程とを含む。
【0011】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の基板搬送方法における前記第1の工程において、前記
基板を保持部材上に位置決めがなされた状態で保持させ
ることを特徴とする。
【0012】請求項3に記載の発明は、請求項1又は2
に記載の基板搬送方法において、前記保持部材の前記基
板が載置される領域内の所定箇所に複数の孔を予め形成
し、前記第4の工程で前記基板ホルダ上に前記保持部材
が受け渡された後、前記基板ホルダに前記保持部材を吸
着させると同時に前記孔を介して前記基板をも吸着させ
る第5の工程を更に有することを特徴とする。
【0013】請求項4に記載の発明は、基板搬送装置で
あって、基板の位置決め手段が設けられた保持部材と;
前記保持部材を載置して基板ステージ上の基板ホルダへ
向けて搬送する搬送アームと;前記基板ステージ上に設
けられ、搬送後の前記保持部材を前記搬送アームから前
記基板ホルダ上に受け渡す受け渡し手段とを有する。
【0014】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の基板搬送装置において、前記基板ホルダは、前記保持
部材の載置面に複数の開口を有する吸着手段を備え、前
記保持部材は、前記複数の開口の少なくとも1つと対向
する位置に、前記基板の載置面と前記基板ホルダとの接
触面とを連通する連通孔を備えていることを特徴とす
る。
【0015】
【作用】請求項1に記載の発明によれば、基板は保持部
材と一体的に搬送され、基板ホルダに受け渡されるの
で、保持部材として基板の撓みを阻止できる程度の強度
の薄板等を使用すれば、搬送中に基板に撓みが生じるこ
とがなく、受け渡し時の不都合は解消する。
【0016】請求項2に記載の発明によれば、第1の工
程において、基板を保持部材上に位置決めがなされた状
態で保持させることから、基板ホルダに受け渡し後、保
持部材を位置決めするだけで、基板も自動的に位置決め
される。
【0017】請求項3に記載の発明によれば、第4の工
程で基板ホルダ上に保持部材が受け渡された後、基板ホ
ルダに保持部材を吸着させると同時に保持部材のプレー
トが載置される領域内の所定箇所に予め形成された孔を
介して基板をも吸着させることから、基板の平坦度が確
保されるとともに、基板ステージの移動による基板のず
れの発生を防止できる。
【0018】請求項4に記載の発明によれば、基板を保
持部材上に保持させる際に、位置決め手段により基板の
位置決めがなされる。次に、基板を保持した保持部材を
搬送アーム上に載置すると、搬送アームにより保持部材
と一体的に基板が基板ステージ上の基板ホルダへ向けて
搬送される。搬送後、基板ステージ上に設けられた受け
渡し手段によって保持部材が搬送アームから基板ホルダ
上に受け渡される。これによれば、基板は保持部材と一
体的に搬送され、基板ホルダに受け渡されるので、請求
項1に記載の発明と同様に、保持部材として基板の撓み
を阻止できる程度の強度の薄板等を使用すれば、搬送中
に基板に撓みが生じることがなく、受け渡し時の不都合
は解消する。また、位置決め手段により位置決めがなさ
れた状態で基板が保持部材上に保持されることから、請
求項2に記載の発明と同様に、基板ホルダに受け渡し
後、保持部材を位置決めするだけで、基板も自動的に位
置決めされる。
【0019】請求項5に記載の発明によれば、基板ホル
ダは、保持部材の載置面に複数の開口を有する吸着手段
を備え、保持部材は、複数の開口の少なくとも1つと対
向する位置に、基板の載置面と基板ホルダとの接触面と
を連通する連通孔を備えていることから、基板が保持部
材と一体的に基板ホルダ上に受け渡され適宜な位置決め
手段により保持部材の位置決めがなされた後、吸着手段
によって複数の開口を介して保持部材が基板ホルダに吸
着されると同時に、基板も連通孔及び開口を介して吸着
手段によって吸引され、保持部材の基板載置面に吸着さ
れる。従って、請求項3に記載の発明と同様に、基板の
平坦度が確保されるとともに、基板ステージの移動によ
る基板のずれの発生を防止できる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1ないし図3に
基づいて説明する。
【0021】図1には、液晶用露光装置に適用された一
実施例に係る基板搬送装置10の概略構成が示されてい
る。
【0022】図1において、土台部12上には、同図に
おける左から順に、基板14を保持した保持部材として
のパレット16が複数収納されたカセット18、パレッ
ト16と一体的に基板14を搬送する搬送アームとして
のフォークアーム20を含む搬送系(これについては後
述する)及び露光のためのXYステージ装置22が配置
されている。
【0023】カセット18は、カセット駆動系24(図
1では図示せず、図3参照)によって上下動可能に構成
されており、その内部には、上下方向にパレット16を
収納する複数段の収納棚(図示省略)が設けられてい
る。
【0024】前述した搬送系は、フォークアーム20
と、このフォークアーム20を駆動する駆動装置26と
から構成されている。この駆動装置26は、フォークア
ーム20を図1における左右方向(以下、便宜上「X方
向」という)に往復駆動する水平駆動機構28(図1で
は図示せず、図3参照)と、この水平駆動機構28によ
ってフォークアーム20と一体的にX方向に駆動される
回転機構30(図1では図示せず、図3参照)とを有し
ている。回転機構30は、フォークアーム20を水平面
内で旋回させるための機構で後述する制御装置50によ
ってその旋回角度が制御されるようになっている。この
ため、本実施例では、フォークアーム20の向きが図1
に実線で示される状態から仮想線で示される状態に変更
できるようになっている。
【0025】水平駆動機構28は、例えば、複数のプー
リと、これらのプーリに巻回されたベルトと、前記プー
リの内の駆動プーリを駆動するモータ等から成るベルト
機構によって構成される。
【0026】XYステージ装置22は、土台部12上に
固定されたベース32と、このベース32上を図1にお
ける紙面直交方向(以下、「Y方向」という)に移動可
能なYステージ34と、このYステージ34上をX方向
に移動可能な基板ステージとしてのXステージ36と、
このXステージ36上に載置された基板ホルダ38とを
有する。
【0027】なお、図1において、XYステージ装置2
2の上方には、投影レンズPLが配置され、この投影レ
ンズPLの上方には、レチクルホルダ23に保持された
レチクルRが配置されている。
【0028】図2には、搬送途中のパレット16がXY
ステージ装置22の一部と共に示されている。この図2
に示されるように、基板ホルダ38には、当該基板ホル
ダ38の一対の対角線上に中心点から同一距離となる位
置に各一対、合計4つの丸孔40が穿設され、これらの
4つの丸孔40の外側の対角線上に中心点から同一距離
となる位置に各一対、合計4つの開口部としての吸着用
孔42が形成され、更に、これら4つの吸着用孔42の
外側の対角線上に中心点から同一距離となる位置に各一
対、合計4つの開口部としての吸着用孔44が形成され
ている。丸孔40は、後述する上下動ピン46の挿通用
の孔である。吸着用孔42、吸着用孔44は、ほぼ同一
径の丸孔で、図示しないフレキシブルなチューブを介し
て真空ポンプ48(図2では図示せず、図3参照)に共
通に接続されている。即ち、これらの吸着用孔42、吸
着用孔44は、真空ポンプ48と共に吸着手段を構成し
ている。
【0029】フォークアーム20の先端部は、前述した
従来例のフォークアーム102と同様に二股状になって
おり、この二股部の上面(基板載置面)には、図示しな
いバキュームパッドが設けられている。このバキューム
パッドは、図示しないチューブを介して第2の真空ポン
プ49(図3参照)に接続されている。
【0030】Xステージ36上には、図1、図2に示さ
れるように、ピン駆動機構51(図1、図2では図示せ
ず、図3参照)によって上下動される受け渡し手段とし
ての4本の上下動ピン46が、基板ホルダ34中央部の
4つの丸孔40のそれぞれを介して上下動可能に設けら
れている。
【0031】前記パレット16は、図2に示されるよう
に、基板14と同様にほぼ矩形状の板状部材から成り、
その上面(基板載置面)には、基板14を同一方向に向
けてその中央部に位置決めするための位置決め手段が設
けられている。この位置決め手段は、基板14のX方向
の一端面の2箇所に同時に当接して基板14のX方向の
移動及び回転を規制する第1の位置決め駒52と、基板
14のY方向の一端面の中央部に当接して基板のY方向
の移動を規制する第2の位置決め駒54と、これらの位
置決め駒52、54に向けて基板14を付勢する第1、
第2の位置決めバネ56、58とによって構成されてい
る。
【0032】また、パレット16の基板14が載置され
た領域内には、前述した基板ホルダ38上の4つの吸着
用孔42と同一間隔で、当該パレットの上面(基板の載
置面)と下面(基板ホルダとの接触面)とを連通する4
つの連通孔43が穿設されている。
【0033】更に、図示は省略したが、基板ホルダ38
上には、パレット16のXY2次元方向の移動及び回転
を規制する3つの基準ローラが設けられており、ベース
32上にはこれら3つの基準ローラに向けてパレット1
6を付勢することによりパレット16の位置決めを行な
う押し付けローラが設けられている。これらの基準ロー
ラと押し付けローラとによって、パレット16の位置決
め機構が構成されている。
【0034】図3には、基板搬送装置10の制御系の構
成が概略的に示されている。この制御系は、制御装置5
0を中心に構成されており、この制御装置50に、カセ
ット駆動系24、水平駆動機構28、回転機構30、真
空ポンプ48のON/OFFのためのスイッチ60、第
2の真空ポンプ49のON/OFFのためのスイッチ7
0及びピン駆動機構51が接続されている。なお、この
制御装置50の入力側には、実際には各種のセンサ類が
接続されているが、ここでは、これらのセンサについて
の説明は省略するものとする。
【0035】次に、上述のようにして構成された基板搬
送装置10による基板の搬送方法について、制御装置5
0の機能を中心として説明する。
【0036】前提として、フォークアーム20は、図
1中に実線で示される位置にあるものとする。また、基
板16は位置決め手段(位置決め駒52、54、位置決
めバネ56、58)によってパレット16に対して位置
決めがなされた状態でカセット18内に保管されている
ものとする。
【0037】 制御装置50は水平駆動機構28を介
してフォークアーム20を駆動し、フォークアーム20
の先端をカセット18内に挿入する。この状態で、制御
装置50は、カセット駆動系24を介してカセット18
を所定量下降させると同時にスイッチ70をONにして
第2の真空ポンプ49を作動させる。これにより、基板
14を保持したパレット16がフォークアーム20に載
置され、図示しないバキュームパッドにより吸着され
る。
【0038】 次に、制御装置50では、水平駆動機
構28を介してフォークアーム20を基板ホルダ38に
向けて駆動する。これにより、フォークアーム20によ
って基板14を保持したパレット16が基板ホルダ38
に向けて搬送される。この搬送中に、制御装置50では
回転機構30を制御してフォークアーム20を180度
旋回させて図1中に仮想線で示される向きに向ける。
【0039】 このようにして基板ホルダ38上方ま
でパレット16が搬送されると、制御装置50では水平
駆動機構28を停止してその位置でフォークアーム20
を停止すると同時に、第2の真空ポンプ49のスイッチ
70をOFFにしてフォークアーム20上のバキューム
パッドによるパレット16の吸着を解除する。この状態
で、制御装置50ではピン駆動機構51を介して上下動
ピン46を所定量上昇駆動する。これにより、パレット
16が上下動ピン46によって下方から保持された状態
で所定量持ち上げられる。次に、制御装置50では水平
駆動機構28を制御してフォークアーム20を退避させ
た後、パレット16の下面が基板ホルダ38の上面(保
持部材載置面)に当接するまでピン駆動機構51を介し
て上下動ピン46を下降駆動する。これにより、上下動
ピン46によるパレット16の基板ホルダ38上への受
け渡しが完了する。
【0040】 次に、制御装置50では、図示しない
押し付けローラを駆動してパレット16を図示しない基
準ローラに向けて付勢し、パレット16の位置決めを行
ない、スイッチ60をONにして真空ポンプ48を作動
させる。これにより、パレット16が吸着用孔44を介
して真空ポンプ48により吸引され基板ホルダ38の上
面(保持部材載置面)上に吸着される。また、本実施例
の場合、パレット16が基板ホルダ38上に位置決めさ
れた状態では、基板ホルダ38の4つの吸着用孔42と
パレット16の4つの連通孔43とが対向するようにな
っているので、4つの連通孔43を介して基板14の下
面と吸着用孔42とが連通される。従って、真空ポンプ
48によって、パレット16が基板ホルダ38上面に吸
着されると同時に基板14がパレット16上面に吸着さ
れる。
【0041】以上説明したように、本実施例によると、
パレット16に保持された状態で基板14を搬送するこ
とから、大面積の基板16であっても搬送中に撓みが生
じることがなく、従来問題となっていた基板16の撓み
に起因する数々の不都合を解消することができる。
【0042】また、位置決め手段(位置決め駒52、5
4、位置決めバネ56、58)により基板14をパレッ
ト16上に位置決めした状態で、パレット16と一体的
に基板14が搬送されるので、搬送終了後、基板ホルダ
38上に受け渡されたパレット16を位置決めすること
により、自動的に基板14を位置決めすることができ
る。
【0043】更に、回転機構30によりフォークアーム
20の旋回角度を任意に設定できるので、搬送終了時点
で、パレット16及び基板14の回転方向(及びXY2
次元方向)を概略的に位置決めすることが可能となり、
これによりXステージ36を所定の待機位置に待機させ
ておくだけで、ある程度位置決めが完了した状態で基板
ホルダ38にパレット16を受け渡すことができる。従
って、搬送途中にプリアライメント装置等を設ける必要
がないという利点もある。
【0044】更に、真空ポンプ48によってパレット1
6が基板ホルダ38上面に吸着されたときには、基板1
4も連通孔を介して吸引され、パレット16上面に吸着
されるので、基板14の平坦度を確保できるとともに、
Xステージ36の移動により基板14がずれたりするこ
とがなく、基板14のずれに起因する露光不良を回避す
ることができる。
【0045】また、パレット16を、当該パレット16
がない場合に基板14に生じる撓み寸法より薄肉で、且
つ基板14の撓みを防止できる強度を有する板状部材に
より形成すれば、従来より多くの枚数の基板14をパレ
ット16と共にカセット18内に収納することも可能と
なる。
【0046】なお、パレット16に位置決め手段を必ず
しも設ける必要はないが、かかる場合には、基板ホルダ
38上に基板の位置決め機構を設ける必要がある。
【0047】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
大型の基板であっても搬送中に撓みが生じるのを効果的
に防止することができ、これにより従来問題となってい
た基板の撓みに起因する不都合、例えば搬送中の基板の
破損、基板ホルダへの受け渡し時の不都合等を回避する
ことができるという従来にない優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施例に係る基板搬送装置の全体構成を概略
的に示す図である。
【図2】搬送途中のパレットをXYステージ装置の一部
と共に示す概略斜視図である。
【図3】図1の基板搬送装置の制御系の構成を示すブロ
ック図である。
【図4】従来例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
10 基板搬送装置 14 基板 16 パレット(保持部材) 20 フォークアーム(搬送アーム) 36 Xステージ(基板ステージ) 38 基板ホルダ 42、44 吸着用孔(開口:吸着手段の一部) 43 連通孔 46 上下動ピン(受け渡し手段) 48 真空ポンプ(吸着手段の一部)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を保持部材上に保持させる第1の工
    程と;前記基板を保持した前記保持部材を搬送アーム上
    に載置する第2の工程と;前記搬送アームにより保持部
    材と一体的に前記基板を基板ステージ上の基板ホルダへ
    向けて搬送する第3の工程と;搬送終了後に、前記基板
    ホルダ上に前記基板を保持した前記保持部材を受け渡す
    第4の工程とを含む基板搬送方法。
  2. 【請求項2】 前記第1の工程において、前記基板を保
    持部材上に位置決めがなされた状態で保持させることを
    特徴とする請求項1に記載の基板搬送方法。
  3. 【請求項3】 前記保持部材の前記基板が載置される領
    域内の所定箇所に複数の孔を予め形成し、 前記第4の工程で前記基板ホルダ上に前記保持部材が受
    け渡された後、前記基板ホルダに前記保持部材を吸着さ
    せると同時に前記孔を介して前記基板をも吸着させる第
    5の工程を更に有する請求項1又は2に記載の基板搬送
    方法。
  4. 【請求項4】 基板の位置決め手段が設けられた保持部
    材と;前記保持部材を載置して基板ステージ上の基板ホ
    ルダへ向けて搬送する搬送アームと;前記基板ステージ
    上に設けられ、搬送後の前記保持部材を前記搬送アーム
    から前記基板ホルダ上に受け渡す受け渡し手段とを有す
    る基板搬送装置。
  5. 【請求項5】 前記基板ホルダは、前記保持部材の載置
    面に複数の開口を有する吸着手段を備え、 前記保持部材は、前記複数の開口の少なくとも1つと対
    向する位置に、前記基板の載置面と前記基板ホルダとの
    接触面とを連通する連通孔を備えていることを特徴とす
    る請求項4に記載の基板搬送装置。
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Cited By (10)

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