JP2000340986A - 電磁波シールド性光透過窓材及びパネル貼合材 - Google Patents
電磁波シールド性光透過窓材及びパネル貼合材Info
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- JP2000340986A JP2000340986A JP11150132A JP15013299A JP2000340986A JP 2000340986 A JP2000340986 A JP 2000340986A JP 11150132 A JP11150132 A JP 11150132A JP 15013299 A JP15013299 A JP 15013299A JP 2000340986 A JP2000340986 A JP 2000340986A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 PDP用電磁波シールドフィルター等として
好適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ耐熱、
耐候性に優れた電磁波シールド性光透過窓材と、この窓
材をPDPに一体化したパネル貼合材を提供する。 【解決手段】 2枚の透明基板2A,2B又は透明基板
とPDP本体とを、導電性メッシュ3を介在させて接着
用中間膜4A〜4Cで一体化した電磁波シールド性光透
過窓材1又はパネル貼合材。接着用中間膜4Aに配合す
る調色用顔料として耐熱、耐候性に優れたものを用い
る。
好適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ耐熱、
耐候性に優れた電磁波シールド性光透過窓材と、この窓
材をPDPに一体化したパネル貼合材を提供する。 【解決手段】 2枚の透明基板2A,2B又は透明基板
とPDP本体とを、導電性メッシュ3を介在させて接着
用中間膜4A〜4Cで一体化した電磁波シールド性光透
過窓材1又はパネル貼合材。接着用中間膜4Aに配合す
る調色用顔料として耐熱、耐候性に優れたものを用い
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材及びパネル貼合材に係り、特に、良好な電磁波
シールド性を備え、かつ耐熱、耐候性にも優れ、PDP
(プラズマディスプレーパネル)の前面フィルタ等とし
て有用な電磁波シールド性光透過窓材と、このような電
磁波シールド性光透過窓材をPDPに一体化させること
によりパネル貼合材自体に電磁波シールド性等の機能を
付与し、パネル貼合材の軽量、薄肉化、部品数の低減に
よる生産性の向上及びコストの低減を可能とすると共に
耐熱、耐候性を高めたガス放電型パネル貼合材に関す
る。
透過窓材及びパネル貼合材に係り、特に、良好な電磁波
シールド性を備え、かつ耐熱、耐候性にも優れ、PDP
(プラズマディスプレーパネル)の前面フィルタ等とし
て有用な電磁波シールド性光透過窓材と、このような電
磁波シールド性光透過窓材をPDPに一体化させること
によりパネル貼合材自体に電磁波シールド性等の機能を
付与し、パネル貼合材の軽量、薄肉化、部品数の低減に
よる生産性の向上及びコストの低減を可能とすると共に
耐熱、耐候性を高めたガス放電型パネル貼合材に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、OA機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。
【0003】そこで、従来、OA機器のPDPの前面フ
ィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性
の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓
材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護する
ために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材とし
ても利用されている。
ィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性
の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓
材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護する
ために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材とし
ても利用されている。
【0004】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。
【0005】本出願人は、このような従来の電磁波シー
ルド性光透過窓材の特性や施工性を改善するものとし
て、2枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させ
て、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド
性光透過窓材を提案した(特開平11−74683号公
報)。
ルド性光透過窓材の特性や施工性を改善するものとし
て、2枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させ
て、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド
性光透過窓材を提案した(特開平11−74683号公
報)。
【0006】この電磁波シールド性光透過窓材であれ
ば、良好な電磁波シールド性を有し、かつ光透過性で鮮
明な画像を得ることができ、また、導電性メッシュが介
在することにより破損時の透明基板の飛散も防止され
る。
ば、良好な電磁波シールド性を有し、かつ光透過性で鮮
明な画像を得ることができ、また、導電性メッシュが介
在することにより破損時の透明基板の飛散も防止され
る。
【0007】ところで、放電現像を利用したPDP(p
lasma display panel)は、液晶デ
ィスプレイ(LCD)やブラウン管(CRT)に比べ
て、次のような利点を有することから、近年、テレビや
パソコン、ワープロ等のOA機器、交通機器、看板、そ
の他の表示板等のパネル貼合材として研究開発及び実用
化が進められている。 放電光利用であり自発光である。 0.1〜0.3mmの放電ギャップであるのでパネ
ル型にできる。 螢光体を利用してカラー発光できる。 大画面パネルが作り易い。
lasma display panel)は、液晶デ
ィスプレイ(LCD)やブラウン管(CRT)に比べ
て、次のような利点を有することから、近年、テレビや
パソコン、ワープロ等のOA機器、交通機器、看板、そ
の他の表示板等のパネル貼合材として研究開発及び実用
化が進められている。 放電光利用であり自発光である。 0.1〜0.3mmの放電ギャップであるのでパネ
ル型にできる。 螢光体を利用してカラー発光できる。 大画面パネルが作り易い。
【0008】PDPの基本的な表示機構は、2枚のガラ
ス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に
放電発光させることで文字や図形を表示するものであ
り、例えば、図3に示すような構成とされている。図3
において21は前面板(フロントガラス)、22は背面
板(リヤガラス)、23は隔壁、24は表示セル(放電
セル)、25は補助セル、26は陰極、27は表示陽
極、28は補助陽極であり、各表示セル24の内壁に
は、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体(図示せ
ず。)が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印
加された電圧による放電で発光する。
ス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に
放電発光させることで文字や図形を表示するものであ
り、例えば、図3に示すような構成とされている。図3
において21は前面板(フロントガラス)、22は背面
板(リヤガラス)、23は隔壁、24は表示セル(放電
セル)、25は補助セル、26は陰極、27は表示陽
極、28は補助陽極であり、各表示セル24の内壁に
は、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体(図示せ
ず。)が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印
加された電圧による放電で発光する。
【0009】PDPの前面からは、電圧印加、放電、発
光により、周波数:数kHz〜数GHz程度の電磁波が
発生するため、これを遮蔽する必要がある。また、表示
コントラスト向上のためには、前面における外部光の反
射を防止する必要がある。更に、機器の本体側からの熱
で画面が過熱するという問題もあった。
光により、周波数:数kHz〜数GHz程度の電磁波が
発生するため、これを遮蔽する必要がある。また、表示
コントラスト向上のためには、前面における外部光の反
射を防止する必要がある。更に、機器の本体側からの熱
で画面が過熱するという問題もあった。
【0010】このため、従来においては、PDPからの
電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能
を有する透明板をPDPの前面に配置している。
電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能
を有する透明板をPDPの前面に配置している。
【0011】PDPと別体の透明板をPDPの前面に設
けたものでは、次のような欠点がある。 2つの板材を配置するため構造が複雑となる。 PDPにも電磁波シールド性の透明板にも、ガラス
等の透明基板を必要とするため、PDPと電磁波シール
ド性の透明板とを設けることで厚肉となり、また、重量
が重くなる。 部品点数、生産工程数が増え、コストアップを招
く。
けたものでは、次のような欠点がある。 2つの板材を配置するため構造が複雑となる。 PDPにも電磁波シールド性の透明板にも、ガラス
等の透明基板を必要とするため、PDPと電磁波シール
ド性の透明板とを設けることで厚肉となり、また、重量
が重くなる。 部品点数、生産工程数が増え、コストアップを招
く。
【0012】このような問題を解決し、PDPに電磁波
シールド材を一体化させることによりパネル貼合材自体
に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パネルの軽
量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコス
トの低減を可能とし、更には、電磁波シールド性と共
に、近赤外線カット性を兼備する表示パネルを提供する
べく、PDP本体と、該PDP本体の前面に透明接着剤
により接着された電磁波シールド材と、該電磁波シール
ド材の前面に透明接着剤により接着された透明基板とを
備えてなる表示パネルであって、該透明基板とPDP本
体との間に、更に、熱線カット層を設けたものを提案し
た(特開平11−119666号公報)。
シールド材を一体化させることによりパネル貼合材自体
に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パネルの軽
量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコス
トの低減を可能とし、更には、電磁波シールド性と共
に、近赤外線カット性を兼備する表示パネルを提供する
べく、PDP本体と、該PDP本体の前面に透明接着剤
により接着された電磁波シールド材と、該電磁波シール
ド材の前面に透明接着剤により接着された透明基板とを
備えてなる表示パネルであって、該透明基板とPDP本
体との間に、更に、熱線カット層を設けたものを提案し
た(特開平11−119666号公報)。
【0013】この特開平11−119666号公報の表
示パネルは、PDPと電磁波シールド材、熱線カット層
及び透明基板とが透明接着剤で一体化されているため、
表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性
の向上及びコストの低減を図ることができる。しかも、
電磁波シールド材と共に熱線カット層を積層一体化して
いるため、電磁波シールド性のみならず、良好な近赤外
線カット性を得ることができる。
示パネルは、PDPと電磁波シールド材、熱線カット層
及び透明基板とが透明接着剤で一体化されているため、
表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性
の向上及びコストの低減を図ることができる。しかも、
電磁波シールド材と共に熱線カット層を積層一体化して
いるため、電磁波シールド性のみならず、良好な近赤外
線カット性を得ることができる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】このような電磁波シー
ルド性光透過窓材や表示パネルにあっては、その使用環
境上、耐熱性や、耐紫外線性等の耐候性に優れることが
要求されるため、これらの性能をより一層改善すること
が望まれる。
ルド性光透過窓材や表示パネルにあっては、その使用環
境上、耐熱性や、耐紫外線性等の耐候性に優れることが
要求されるため、これらの性能をより一層改善すること
が望まれる。
【0015】本発明は上記従来の実情に鑑みてなされた
ものであって、PDP用電磁波シールドフィルター等と
して好適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ耐
熱ないし耐候性に優れた電磁波シールド性光透過窓材を
提供することを目的とする。
ものであって、PDP用電磁波シールドフィルター等と
して好適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ耐
熱ないし耐候性に優れた電磁波シールド性光透過窓材を
提供することを目的とする。
【0016】本発明はまた、このような窓材をPDPに
一体化させることにより、パネル貼合材自体に電磁波シ
ールド性等の機能と耐熱、耐候性を付与し、パネル貼合
材の軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及
びコストの低減を可能とするパネル貼合材を提供するこ
とを目的とする。
一体化させることにより、パネル貼合材自体に電磁波シ
ールド性等の機能と耐熱、耐候性を付与し、パネル貼合
材の軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及
びコストの低減を可能とするパネル貼合材を提供するこ
とを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
性光透過窓材は、2枚の透明基板間に電磁波シールド材
を介在させて、透明接着剤で接合一体化してなる電磁波
シールド性光透過窓材において、該透明接着剤に耐熱性
及び耐候性に優れた調色用顔料を配合したことを特徴と
する。
性光透過窓材は、2枚の透明基板間に電磁波シールド材
を介在させて、透明接着剤で接合一体化してなる電磁波
シールド性光透過窓材において、該透明接着剤に耐熱性
及び耐候性に優れた調色用顔料を配合したことを特徴と
する。
【0018】本発明のパネル貼合材は、プラズマディス
プレイパネル本体と、該プラズマディスプレイパネル本
体の前面に透明接着剤により接着された電磁波シールド
材と、該電磁波シールド材の前面に透明接着剤により接
着された透明基板とを備えてなるパネル貼合材におい
て、該透明接着剤に耐熱性及び優れた耐候性に調色用顔
料を配合したことを特徴とする。
プレイパネル本体と、該プラズマディスプレイパネル本
体の前面に透明接着剤により接着された電磁波シールド
材と、該電磁波シールド材の前面に透明接着剤により接
着された透明基板とを備えてなるパネル貼合材におい
て、該透明接着剤に耐熱性及び優れた耐候性に調色用顔
料を配合したことを特徴とする。
【0019】本発明の電磁波シールド性光透過窓材及び
パネル貼合材では、透明接着剤に耐熱性及び耐候性に優
れた調色用顔料を配合したため、この透明接着剤を用い
た積層体は、耐熱性及び耐候性に優れたものとなる。即
ち、このような電磁波シールド性光透過窓材やパネル貼
合材においては、外観や品位の向上、更にはコントラス
トの向上の目的で透明接着剤に調色を施す必要がある
が、本発明では、この調色のための顔料として、耐熱、
耐候性に劣る染料系の調色用顔料を用いず、耐熱、耐候
性に優れた顔料を用い、接着層自体に耐熱、耐候性を付
与して得られる電磁波シールド性光透過窓材及びパネル
貼合材の耐熱、耐候性を高める。
パネル貼合材では、透明接着剤に耐熱性及び耐候性に優
れた調色用顔料を配合したため、この透明接着剤を用い
た積層体は、耐熱性及び耐候性に優れたものとなる。即
ち、このような電磁波シールド性光透過窓材やパネル貼
合材においては、外観や品位の向上、更にはコントラス
トの向上の目的で透明接着剤に調色を施す必要がある
が、本発明では、この調色のための顔料として、耐熱、
耐候性に劣る染料系の調色用顔料を用いず、耐熱、耐候
性に優れた顔料を用い、接着層自体に耐熱、耐候性を付
与して得られる電磁波シールド性光透過窓材及びパネル
貼合材の耐熱、耐候性を高める。
【0020】本発明において、調色用顔料としては、黄
鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロー、カドミウムイエロ
ー、モリブデートオレンジ、赤色酸化鉄、カドミウムレ
ッド、群青、紺青、コバルトブルー、酸化クロム、コバ
ルトグリーン、コバルト紫等に代表される無機顔料:β
−ナフトール系、ナフトールAS系、アセト酢酸アリー
ルアミド系、ピラゾロン系等の不溶性アゾ顔料、β−ナ
フトール系、β−オキシナフトエ酸系等のアゾレーキ顔
料、縮合アゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料;銅フタロシアニ
ン、ハロゲン化銅フタロシアニン、無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン顔料;アントラキノン系顔料、チ
オインジゴ顔料、ペリノン顔料、ペリレン顔料、キナク
リドン顔料、ジオキサジン顔料、イソインドリノン顔
料、キノフタロン顔料、イソインドリン顔料等の縮合多
環顔料に代表される有機顔料等を用いるのが好ましい。
鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロー、カドミウムイエロ
ー、モリブデートオレンジ、赤色酸化鉄、カドミウムレ
ッド、群青、紺青、コバルトブルー、酸化クロム、コバ
ルトグリーン、コバルト紫等に代表される無機顔料:β
−ナフトール系、ナフトールAS系、アセト酢酸アリー
ルアミド系、ピラゾロン系等の不溶性アゾ顔料、β−ナ
フトール系、β−オキシナフトエ酸系等のアゾレーキ顔
料、縮合アゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料;銅フタロシアニ
ン、ハロゲン化銅フタロシアニン、無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン顔料;アントラキノン系顔料、チ
オインジゴ顔料、ペリノン顔料、ペリレン顔料、キナク
リドン顔料、ジオキサジン顔料、イソインドリノン顔
料、キノフタロン顔料、イソインドリン顔料等の縮合多
環顔料に代表される有機顔料等を用いるのが好ましい。
【0021】本発明において、電磁波シールド材として
は、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなるメッ
シュを好適に用いることができ、このように透明基板間
又は透明基板とPDP本体との間に導電性メッシュを介
在させたものであれば、破損時の飛散防止効果が得ら
れ、安全性が高い。
は、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなるメッ
シュを好適に用いることができ、このように透明基板間
又は透明基板とPDP本体との間に導電性メッシュを介
在させたものであれば、破損時の飛散防止効果が得ら
れ、安全性が高い。
【0022】また、接着一体化に通常の接着剤を用いる
と、衝撃等で窓材又はパネル貼合材が破損した場合、破
片が飛散し、安全性の面で問題となるが、透明接着剤と
して透明弾性接着剤を用いることにより、衝撃等で窓材
又はパネル貼合材が破損した場合の破片の飛散を防止す
ることができ、安全性が高められる。
と、衝撃等で窓材又はパネル貼合材が破損した場合、破
片が飛散し、安全性の面で問題となるが、透明接着剤と
して透明弾性接着剤を用いることにより、衝撃等で窓材
又はパネル貼合材が破損した場合の破片の飛散を防止す
ることができ、安全性が高められる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材及びパネル貼合材の実施の形
態を詳細に説明する。
磁波シールド性光透過窓材及びパネル貼合材の実施の形
態を詳細に説明する。
【0024】図1は本発明の電磁波シールド性光透過窓
材の実施の形態を示す模式的な断面図であり、図2は本
発明のパネル貼合材の実施の形態を示す模式的な断面図
である図1の電磁波シールド性光透過窓材1は、2枚の
透明基板2A,2B間に、接着剤となる接着用中間膜4
A,4B,4Cを用いて導電性メッシュ3と近赤外線カ
ットフィルム5を積層させて一体化し、透明基板2Aの
周縁部からはみ出した導電性メッシュ3の周縁部を透明
基板2Aの周縁に沿って折り込むと共に、導電性粘着テ
ープ7で透明基板2Aに貼り付けたものである。
材の実施の形態を示す模式的な断面図であり、図2は本
発明のパネル貼合材の実施の形態を示す模式的な断面図
である図1の電磁波シールド性光透過窓材1は、2枚の
透明基板2A,2B間に、接着剤となる接着用中間膜4
A,4B,4Cを用いて導電性メッシュ3と近赤外線カ
ットフィルム5を積層させて一体化し、透明基板2Aの
周縁部からはみ出した導電性メッシュ3の周縁部を透明
基板2Aの周縁に沿って折り込むと共に、導電性粘着テ
ープ7で透明基板2Aに貼り付けたものである。
【0025】本実施の形態において、導電性粘着テープ
7は、透明基板2A、導電性メッシュ3、近赤外線カッ
トフィルム5及び透明基板2Bの積層体の全周におい
て、端面の全体に付着すると共に、この積層体の表裏の
角縁を回り込み、透明基板2Aの板面の端縁部と透明基
板2Bの板面の端縁部の双方にも付着している。
7は、透明基板2A、導電性メッシュ3、近赤外線カッ
トフィルム5及び透明基板2Bの積層体の全周におい
て、端面の全体に付着すると共に、この積層体の表裏の
角縁を回り込み、透明基板2Aの板面の端縁部と透明基
板2Bの板面の端縁部の双方にも付着している。
【0026】図2に示すパネル貼合材10は、透明基板
2とPDP本体20(このPDP本体としては図3に示
す構成、その他の一般的なPDP本体を適用できる。)
の間に、図1と同様の接着剤となる接着用中間膜4A,
4B,4Cと導電性メッシュ3と近赤外線カットフィル
ム5の積層構造が形成されていること以外は図1の電磁
波シールド性光透過窓材1と同様の構成とされている。
2とPDP本体20(このPDP本体としては図3に示
す構成、その他の一般的なPDP本体を適用できる。)
の間に、図1と同様の接着剤となる接着用中間膜4A,
4B,4Cと導電性メッシュ3と近赤外線カットフィル
ム5の積層構造が形成されていること以外は図1の電磁
波シールド性光透過窓材1と同様の構成とされている。
【0027】導電性粘着テープ7としては、図示の如
く、金属箔7Aの一方の面に、導電性粒子を分散させた
粘着層7Bを設けたものであって、この粘着層7Bに
は、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキ
シ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用い
ることができるが、特に架橋型導電粘着剤であるエチレ
ン−酢酸ビニル系共重合体を主成分とするポリマーとそ
の架橋剤とを含む後架橋型接着層であるものが好まし
い。
く、金属箔7Aの一方の面に、導電性粒子を分散させた
粘着層7Bを設けたものであって、この粘着層7Bに
は、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキ
シ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用い
ることができるが、特に架橋型導電粘着剤であるエチレ
ン−酢酸ビニル系共重合体を主成分とするポリマーとそ
の架橋剤とを含む後架橋型接着層であるものが好まし
い。
【0028】粘着層7Bに分散させる導電性粒子として
は、電気的に良好な導体であれば良く、種々のものを使
用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金
属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミッ
ク粉体等を使用することができる。また、その形状につ
いても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレ
ット状等の任意の形状をとることができる。
は、電気的に良好な導体であれば良く、種々のものを使
用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金
属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミッ
ク粉体等を使用することができる。また、その形状につ
いても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレ
ット状等の任意の形状をとることができる。
【0029】この導電性粒子の配合量は、粘着層7Bを
構成する後述のポリマーに対し0.1〜15容量%であ
ることが好ましく、また、その平均粒径は0.1〜10
0μmであることが好ましい。このように、配合量及び
粒径を規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止し
て、良好な導電性を得ることができるようになる。
構成する後述のポリマーに対し0.1〜15容量%であ
ることが好ましく、また、その平均粒径は0.1〜10
0μmであることが好ましい。このように、配合量及び
粒径を規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止し
て、良好な導電性を得ることができるようになる。
【0030】架橋型導電性粘着テープの場合、粘着層7
Bを構成するポリマーは、下記(I)〜(III)から選
ばれる、エチレン−酢酸ビニル系共重合体を主成分と
し、メルトインデックス(MFR)が1〜3000、特
に1〜1000、とりわけ1〜800であるものが好ま
しい。
Bを構成するポリマーは、下記(I)〜(III)から選
ばれる、エチレン−酢酸ビニル系共重合体を主成分と
し、メルトインデックス(MFR)が1〜3000、特
に1〜1000、とりわけ1〜800であるものが好ま
しい。
【0031】このようにMFRが1〜3000で、かつ
酢酸ビニル含有率が2〜80重量%の下記(I)〜(II
I)の共重合体を使用することにより、架橋前の粘着性
が上がり、作業性が向上すると共に、架橋後の硬化物は
3次元架橋密度が高くなり、強固な接着力を発現し、耐
湿・耐熱性も向上する。
酢酸ビニル含有率が2〜80重量%の下記(I)〜(II
I)の共重合体を使用することにより、架橋前の粘着性
が上がり、作業性が向上すると共に、架橋後の硬化物は
3次元架橋密度が高くなり、強固な接着力を発現し、耐
湿・耐熱性も向上する。
【0032】(I)酢酸ビニル含有率が20〜80重量
%であるエチレン−酢酸ビニル共重合体 (II)酢酸ビニル含有率が20〜80重量%であり、ア
クリレート系及び/又はメタクリレート系モノマーの含
有率が0.01〜10重量%であるエチレンと酢酸ビニ
ルとアクリレート系及び/又はメタクリレート系モノマ
ーとの共重合体 (III)酢酸ビニル含有率が20〜80重量%であり、
マレイン酸及び/又は無水マレイン酸の含有率が0.0
1〜10重量%であるエチレンと酢酸ビニルとマレイン
酸及び/又は無水マレイン酸との共重合体 上記(I)〜(III)のエチレン−酢酸ビニル系共重合
体において、エチレン−酢酸ビニル共重合体の酢酸ビニ
ル含有率は20〜80重量%であり、好ましくは20〜
60重量%である。酢酸ビニル含有率が20重量%より
低いと高温時に架橋硬化させる場合に十分な架橋度が得
られず、一方、80重量%を超えると、(I),(II)
のエチレン−酢酸ビニル系共重合体では樹脂の軟化温度
が低くなり、貯蔵が困難となり、実用上問題であり、
(III)のエチレン−酢酸ビニル系共重合体では接着層
強度や耐久性が著しく低下してしまう傾向がある。
%であるエチレン−酢酸ビニル共重合体 (II)酢酸ビニル含有率が20〜80重量%であり、ア
クリレート系及び/又はメタクリレート系モノマーの含
有率が0.01〜10重量%であるエチレンと酢酸ビニ
ルとアクリレート系及び/又はメタクリレート系モノマ
ーとの共重合体 (III)酢酸ビニル含有率が20〜80重量%であり、
マレイン酸及び/又は無水マレイン酸の含有率が0.0
1〜10重量%であるエチレンと酢酸ビニルとマレイン
酸及び/又は無水マレイン酸との共重合体 上記(I)〜(III)のエチレン−酢酸ビニル系共重合
体において、エチレン−酢酸ビニル共重合体の酢酸ビニ
ル含有率は20〜80重量%であり、好ましくは20〜
60重量%である。酢酸ビニル含有率が20重量%より
低いと高温時に架橋硬化させる場合に十分な架橋度が得
られず、一方、80重量%を超えると、(I),(II)
のエチレン−酢酸ビニル系共重合体では樹脂の軟化温度
が低くなり、貯蔵が困難となり、実用上問題であり、
(III)のエチレン−酢酸ビニル系共重合体では接着層
強度や耐久性が著しく低下してしまう傾向がある。
【0033】また、(II)のエチレンと酢酸ビニルとア
クリレート系及び/又はメタクリレート系モノマーとの
共重合体において、アクリレート系及び/又はメタクリ
レート系モノマーの含有率は0.01〜10重量%であ
り、好ましくは0.05〜5重量%である。このモノマ
ーの含有率が0.01重量%より低いと接着力の改善効
果が低下し、一方、10重量%を超えると加工性が低下
してしまう場合がある。なお、アクリレート系及び/又
はメタクリレート系モノマーとしては、アクリル酸エス
テル又はメタクリル酸エステル系モノマーの中から選ば
れるモノマーが挙げられ、アクリル酸又はメタクリル酸
と炭素数1〜20、特に〜18の非置換又はエポキシ基
等の置換基を有する置換脂肪族アルコールとのエステル
が好ましく、例えばアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸グリシジル等が挙げられる。
クリレート系及び/又はメタクリレート系モノマーとの
共重合体において、アクリレート系及び/又はメタクリ
レート系モノマーの含有率は0.01〜10重量%であ
り、好ましくは0.05〜5重量%である。このモノマ
ーの含有率が0.01重量%より低いと接着力の改善効
果が低下し、一方、10重量%を超えると加工性が低下
してしまう場合がある。なお、アクリレート系及び/又
はメタクリレート系モノマーとしては、アクリル酸エス
テル又はメタクリル酸エステル系モノマーの中から選ば
れるモノマーが挙げられ、アクリル酸又はメタクリル酸
と炭素数1〜20、特に〜18の非置換又はエポキシ基
等の置換基を有する置換脂肪族アルコールとのエステル
が好ましく、例えばアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸グリシジル等が挙げられる。
【0034】また、(III)のエチレンと酢酸ビニルと
マレイン酸及び/又は無水マレイン酸との共重合体にお
いて、マレイン酸及び/又は無水マレイン酸の含有率は
0.01〜10重量%であり、好ましくは0.05〜5
重量%である。この含有率が0.01重量%より低いと
接着力の改善効果が低下し、一方、10重量%を超える
と加工性が低下してしまう場合がある。
マレイン酸及び/又は無水マレイン酸との共重合体にお
いて、マレイン酸及び/又は無水マレイン酸の含有率は
0.01〜10重量%であり、好ましくは0.05〜5
重量%である。この含有率が0.01重量%より低いと
接着力の改善効果が低下し、一方、10重量%を超える
と加工性が低下してしまう場合がある。
【0035】本発明に係るポリマーは、上記(I)〜
(III)のエチレン−酢酸ビニル系共重合体を40重量
%以上、特に60重量%以上含むこと、とりわけ上記
(I)〜(III)のエチレン−酢酸ビニル系共重合体の
みから構成されることが好ましい。ポリマーがエチレン
−酢酸ビニル系共重合体以外のポリマーを含む場合、エ
チレン−酢酸ビニル系共重合体以外のポリマーとして
は、主鎖中に20モル%以上のエチレン及び/又はプロ
ピレンを含有するオレフィン系ポリマー、ポリ塩化ビニ
ル、アセタール樹脂等が挙げられる。
(III)のエチレン−酢酸ビニル系共重合体を40重量
%以上、特に60重量%以上含むこと、とりわけ上記
(I)〜(III)のエチレン−酢酸ビニル系共重合体の
みから構成されることが好ましい。ポリマーがエチレン
−酢酸ビニル系共重合体以外のポリマーを含む場合、エ
チレン−酢酸ビニル系共重合体以外のポリマーとして
は、主鎖中に20モル%以上のエチレン及び/又はプロ
ピレンを含有するオレフィン系ポリマー、ポリ塩化ビニ
ル、アセタール樹脂等が挙げられる。
【0036】このポリマーの架橋剤としては、熱硬化型
接着層を形成するためには熱架橋剤としての有機過酸化
物が、また、光硬化型接着層を形成するためには光架橋
剤としての光増感剤を用いることができる。
接着層を形成するためには熱架橋剤としての有機過酸化
物が、また、光硬化型接着層を形成するためには光架橋
剤としての光増感剤を用いることができる。
【0037】ここで、有機過酸化物としては、70℃以
上の温度で分解してラジカルを発生するものであればい
ずれも使用可能であるが、半減期10時間の分解温度が
50℃以上のものが好ましく、粘着剤の塗工温度、調製
条件、貯蔵安定性、硬化(接着)温度、被貼着対象の耐
熱性等を考慮して選択される。
上の温度で分解してラジカルを発生するものであればい
ずれも使用可能であるが、半減期10時間の分解温度が
50℃以上のものが好ましく、粘着剤の塗工温度、調製
条件、貯蔵安定性、硬化(接着)温度、被貼着対象の耐
熱性等を考慮して選択される。
【0038】使用可能な有機過酸化物としては、例えば
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオ
キサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチル
パーオキシ)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルパーオキサ
イド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメ
チル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、
ジクミルパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチル
パーオキシイソプロピル)ベンゼン、n−ブチル−4,
4’−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、1,
1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、
1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−
トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベン
ゾエート、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパー
オキシアセテート、メチルエチルケトンパーオキサイ
ド、2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキ
シベンゾエート、ブチルハイドロパーオキサイド、p−
メンタンハイドロパーオキサイド、p−クロロベンゾイ
ルパーオキサイド、ヒドロキシヘプチルパーオキサイ
ド、クロロヘキサノンパーオキサイド、オクタノイルパ
ーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイル
パーオキサイド、クミルパーオキシオクトエート、サク
シニックアシッドパーオキサイド、アセチルパーオキサ
イド、t−ブチルバーオキシ(2−エチルヘキサノエー
ト)、m−トルオイルパーオキサイド、t−ブチルパー
オキシイソブチレート、2,4−ジクロロベンゾイルパ
ーオキサイド等が挙げられる。有機過酸化物としては、
これらのうちの少なくとも1種が単独で又は混合して用
いられ、通常前記ポリマーに対し0.1〜10重量%が
添加される。
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオ
キサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチル
パーオキシ)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルパーオキサ
イド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメ
チル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、
ジクミルパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチル
パーオキシイソプロピル)ベンゼン、n−ブチル−4,
4’−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、1,
1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、
1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−
トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベン
ゾエート、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパー
オキシアセテート、メチルエチルケトンパーオキサイ
ド、2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキ
シベンゾエート、ブチルハイドロパーオキサイド、p−
メンタンハイドロパーオキサイド、p−クロロベンゾイ
ルパーオキサイド、ヒドロキシヘプチルパーオキサイ
ド、クロロヘキサノンパーオキサイド、オクタノイルパ
ーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイル
パーオキサイド、クミルパーオキシオクトエート、サク
シニックアシッドパーオキサイド、アセチルパーオキサ
イド、t−ブチルバーオキシ(2−エチルヘキサノエー
ト)、m−トルオイルパーオキサイド、t−ブチルパー
オキシイソブチレート、2,4−ジクロロベンゾイルパ
ーオキサイド等が挙げられる。有機過酸化物としては、
これらのうちの少なくとも1種が単独で又は混合して用
いられ、通常前記ポリマーに対し0.1〜10重量%が
添加される。
【0039】一方、光増感剤(光重合開始剤)として
は、ラジカル光重合開始剤が好適に用いられる。ラジカ
ル光重合開始剤のうち、水素引き抜き型開始剤としては
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−
ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、イ
ソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、
4−(ジエチルアミノ)安息香酸エチル等が使用可能で
ある。また、ラジカル光重合開始剤のうち、分子内開裂
型開始剤として、ベンゾインエーテル、ベンゾイルプロ
ピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロ
キシアルキルフェノン型として、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、アルキルフェニル
グリオキシレート、ジエトキシアセトフェノンが、ま
た、α−アミノアルキルフェノン型として、2−メチル
−1− [4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォ
リノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1
が、またアシルフォスフィンオキサイド等が用いられ
る。光増感剤としては、これらのうちの少なくとも1種
が単独で又は混合して用いられ、通常前記ポリマーに対
し0.1〜10重量%が添加される。
は、ラジカル光重合開始剤が好適に用いられる。ラジカ
ル光重合開始剤のうち、水素引き抜き型開始剤としては
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−
ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、イ
ソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、
4−(ジエチルアミノ)安息香酸エチル等が使用可能で
ある。また、ラジカル光重合開始剤のうち、分子内開裂
型開始剤として、ベンゾインエーテル、ベンゾイルプロ
ピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロ
キシアルキルフェノン型として、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、アルキルフェニル
グリオキシレート、ジエトキシアセトフェノンが、ま
た、α−アミノアルキルフェノン型として、2−メチル
−1− [4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォ
リノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1
が、またアシルフォスフィンオキサイド等が用いられ
る。光増感剤としては、これらのうちの少なくとも1種
が単独で又は混合して用いられ、通常前記ポリマーに対
し0.1〜10重量%が添加される。
【0040】本発明に係る粘着層は、接着促進剤として
シランカップリング剤を含むことが好ましい。シランカ
ップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン等の1種又は2種
以上の混合物が用いられる。これらのシランカップリン
グ剤は、前記ポリマーに対し、通常0.01〜5重量%
程度用いられる。
シランカップリング剤を含むことが好ましい。シランカ
ップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン等の1種又は2種
以上の混合物が用いられる。これらのシランカップリン
グ剤は、前記ポリマーに対し、通常0.01〜5重量%
程度用いられる。
【0041】更に接着促進剤としてはエポキシ基含有化
合物を配合しても良く、この場合、エポキシ基含有化合
物としては、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエ
チル)イソシアヌレート、ネオペンチルグリコールジグ
リシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−エチル
ヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエー
テル、フェノール(EO)5グリシジルエーテル、p−
t−ブチルフェニルグリシジルエーテル、アジピン酸ジ
グリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、
グリシジルメタクリレート、ブチルグリシジルエーテル
等が挙げられる。また、エポキシ基を含有するポリマー
をアロイ化することによっても同様の効果を得ることが
できる。これらのエポキシ基含有化合物は、1種又は2
種以上の混合物として、前記ポリマーに対し、通常0.
1〜20重量%程度用いられる。
合物を配合しても良く、この場合、エポキシ基含有化合
物としては、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエ
チル)イソシアヌレート、ネオペンチルグリコールジグ
リシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−エチル
ヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエー
テル、フェノール(EO)5グリシジルエーテル、p−
t−ブチルフェニルグリシジルエーテル、アジピン酸ジ
グリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、
グリシジルメタクリレート、ブチルグリシジルエーテル
等が挙げられる。また、エポキシ基を含有するポリマー
をアロイ化することによっても同様の効果を得ることが
できる。これらのエポキシ基含有化合物は、1種又は2
種以上の混合物として、前記ポリマーに対し、通常0.
1〜20重量%程度用いられる。
【0042】粘着層ないし接着層の物性(機械的強度、
接着性、光学的特性、耐熱性、耐湿性、耐候性、架橋速
度等)の改良や調節のために、粘着層には、アクリロキ
シ基、メタクリロキシ基又はアリル基を有する化合物を
配合することもできる。
接着性、光学的特性、耐熱性、耐湿性、耐候性、架橋速
度等)の改良や調節のために、粘着層には、アクリロキ
シ基、メタクリロキシ基又はアリル基を有する化合物を
配合することもできる。
【0043】この目的で用いられる化合物としては、ア
クリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル
及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としては
メチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリルのよ
うなアルキル基のほかに、シクロヘキシル基、テトラヒ
ドロフルフリル基、アミノエチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−クロロ−2−
ヒドロキシプロピル基等が挙げられる。また、エチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコール
とのエステルも同様に用いられる。アミドとしては、ダ
イアセトンアクリルアミドが代表的である。多官能架橋
助剤としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトール、グリセリン等のアクリル酸又はメタクリル酸
エステル、アリル基を有する化合物としては、トリアリ
ルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル
酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリ
ル等が挙げられる。これらの化合物は1種又は2種以上
の混合物として、前記ポリマーに対し、通常0.1〜5
0重量%、好ましくは0.5〜30重量%添加使用され
る。この添加量が50重量%を超えると粘着剤の調製時
の作業性や塗工性を低下させることがある。
クリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル
及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としては
メチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリルのよ
うなアルキル基のほかに、シクロヘキシル基、テトラヒ
ドロフルフリル基、アミノエチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−クロロ−2−
ヒドロキシプロピル基等が挙げられる。また、エチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコール
とのエステルも同様に用いられる。アミドとしては、ダ
イアセトンアクリルアミドが代表的である。多官能架橋
助剤としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトール、グリセリン等のアクリル酸又はメタクリル酸
エステル、アリル基を有する化合物としては、トリアリ
ルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル
酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリ
ル等が挙げられる。これらの化合物は1種又は2種以上
の混合物として、前記ポリマーに対し、通常0.1〜5
0重量%、好ましくは0.5〜30重量%添加使用され
る。この添加量が50重量%を超えると粘着剤の調製時
の作業性や塗工性を低下させることがある。
【0044】更に、加工性や貼り合わせ等の向上の目的
で炭化水素樹脂を粘着層中に添加することができる。こ
の場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹
脂系のいずれでもよい。天然樹脂系としてはロジン、ロ
ジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジ
ンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用
いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれ
ぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化し
たものを用いることができる。テルペン系樹脂としては
α−ピネン、β−ピネン等のテルペン系樹脂の他、テル
ペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その
他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを
用いてもよい。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェ
ノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石
油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂
環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、
純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いる
ことができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノー
ル樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キ
シレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用
いることができる。これら炭化水素樹脂の添加量は適宜
選択されるが、ポリマーに対して1〜200重量%が好
ましく、更に好ましくは5〜150重量%である。
で炭化水素樹脂を粘着層中に添加することができる。こ
の場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹
脂系のいずれでもよい。天然樹脂系としてはロジン、ロ
ジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジ
ンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用
いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれ
ぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化し
たものを用いることができる。テルペン系樹脂としては
α−ピネン、β−ピネン等のテルペン系樹脂の他、テル
ペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その
他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを
用いてもよい。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェ
ノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石
油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂
環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、
純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いる
ことができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノー
ル樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キ
シレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用
いることができる。これら炭化水素樹脂の添加量は適宜
選択されるが、ポリマーに対して1〜200重量%が好
ましく、更に好ましくは5〜150重量%である。
【0045】以上の添加剤のほか、本発明においては、
老化防止剤、紫外線吸収剤、染料、加工助剤等を本発明
の目的に支承をきたさない範囲で粘着層中に配合しても
よい。
老化防止剤、紫外線吸収剤、染料、加工助剤等を本発明
の目的に支承をきたさない範囲で粘着層中に配合しても
よい。
【0046】導電性粘着テープ7Bの基材となる金属箔
7Aとしては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステ
ンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場
合、1〜100μm程度とされる。
7Aとしては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステ
ンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場
合、1〜100μm程度とされる。
【0047】粘着層7Bは、この金属箔7Aに、前記エ
チレン−酢酸ビニル系共重合体、架橋剤及び必要に応じ
てその他の添加剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に
混合したものをロールコーター、ダイコーター、ナイフ
コーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプ
レーコーター等により塗工することにより容易に形成す
ることができる。
チレン−酢酸ビニル系共重合体、架橋剤及び必要に応じ
てその他の添加剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に
混合したものをロールコーター、ダイコーター、ナイフ
コーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプ
レーコーター等により塗工することにより容易に形成す
ることができる。
【0048】この粘着層7Bの厚さは通常の場合5〜1
00μm程度とされる。
00μm程度とされる。
【0049】本発明において、透明基板2A,2B,2
の構成材料としては、ガラス、ポリエステル、ポリエチ
レンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ア
クリル板、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、
トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金
属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリ
ウレタン、セロファン等、好ましくは、ガラス、PE
T、PC、PMMAが挙げられる。
の構成材料としては、ガラス、ポリエステル、ポリエチ
レンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ア
クリル板、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、
トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金
属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリ
ウレタン、セロファン等、好ましくは、ガラス、PE
T、PC、PMMAが挙げられる。
【0050】透明基板2A,2B,2の厚さは得られる
窓材の用途による要求特性(例えば、強度、軽量性)等
によって適宜決定されるが、通常の場合、0.1〜10
mmの範囲とされる。
窓材の用途による要求特性(例えば、強度、軽量性)等
によって適宜決定されるが、通常の場合、0.1〜10
mmの範囲とされる。
【0051】透明基板2A,2Bは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、PDP前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板2Aを厚さ0.1〜1
0mm程度のガラス板とし、裏面側(電磁波発生源側)
の透明基板2Bを厚さ1μm〜10mm程度のPETフ
ィルム又はPET板、アクリルフィルム又はアクリル
板、ポリカーボネートフィルム又はポリカーボネート板
等とすることもできる。
ある必要はなく、例えば、PDP前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板2Aを厚さ0.1〜1
0mm程度のガラス板とし、裏面側(電磁波発生源側)
の透明基板2Bを厚さ1μm〜10mm程度のPETフ
ィルム又はPET板、アクリルフィルム又はアクリル
板、ポリカーボネートフィルム又はポリカーボネート板
等とすることもできる。
【0052】本実施例の電磁波シールド性光透過窓材1
では、裏面側となる透明基板2Bの周縁部にアクリル樹
脂をベースとする黒枠塗装6が設けられている。
では、裏面側となる透明基板2Bの周縁部にアクリル樹
脂をベースとする黒枠塗装6が設けられている。
【0053】また、本実施例の電磁波シールド性光透過
窓材1及びパネル貼合材10では、表面側となる透明基
板2A,2の表面に反射防止膜8が形成されている。こ
の透明基板2A,2の表面側に形成される反射防止膜8
としては、下記(1)の単層膜や、高屈折率透明膜と低
屈折率透明膜との積層膜、例えば、下記(2)〜(5)
のような積層構造の積層膜が挙げられる。
窓材1及びパネル貼合材10では、表面側となる透明基
板2A,2の表面に反射防止膜8が形成されている。こ
の透明基板2A,2の表面側に形成される反射防止膜8
としては、下記(1)の単層膜や、高屈折率透明膜と低
屈折率透明膜との積層膜、例えば、下記(2)〜(5)
のような積層構造の積層膜が挙げられる。
【0054】(1) 透明基板よりも屈折率の低い透明
膜を一層積層したもの (2) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を1層ずつ合
計2層に積層したもの (3) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を2層ずつ交
互に合計4層積層したもの (4) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透
明膜の順で1層ずつ、合計3層に積層したもの (5) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を
交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの 高屈折率透明膜としては、ITO(スズインジウム酸化
物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO2、
SnO2、ZrO等の屈折率1.8以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、
低屈折率透明膜としてはSiO2、MgF2、Al2O3等
の屈折率が1.6以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形
成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可視光
領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心波長
により異なってくるが4層構造の場合、透明基板側の第
1層(高屈折率透明膜)が5〜50nm、第2層(低屈
折率透明膜)が5〜50nm、第3層(高屈折率透明
膜)が50〜100nm、第4層(低屈折率透明膜)が
50〜150nm程度の膜厚で形成される。
膜を一層積層したもの (2) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を1層ずつ合
計2層に積層したもの (3) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を2層ずつ交
互に合計4層積層したもの (4) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透
明膜の順で1層ずつ、合計3層に積層したもの (5) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を
交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの 高屈折率透明膜としては、ITO(スズインジウム酸化
物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO2、
SnO2、ZrO等の屈折率1.8以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、
低屈折率透明膜としてはSiO2、MgF2、Al2O3等
の屈折率が1.6以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形
成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可視光
領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心波長
により異なってくるが4層構造の場合、透明基板側の第
1層(高屈折率透明膜)が5〜50nm、第2層(低屈
折率透明膜)が5〜50nm、第3層(高屈折率透明
膜)が50〜100nm、第4層(低屈折率透明膜)が
50〜150nm程度の膜厚で形成される。
【0055】また、このような反射防止膜8の上に更に
汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるように
しても良い。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系
薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚1〜1000nm
程度の薄膜が好ましい。
汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるように
しても良い。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系
薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚1〜1000nm
程度の薄膜が好ましい。
【0056】本発明の電磁波シールド性光透過窓材及び
パネル貼合材では、表面側となる透明基板2A,2に
は、更に、シリコン系材料等によるハードコート処理、
或いはハードコート層内に光散乱材料を練り込んだアン
チグレア加工等を施しても良い。また、透明基板2A,
2に前述の反射防止フィルム、ハードコートフィルム、
アンチグレアフィルム等を透明粘着剤や透明接着剤で貼
り付けることもできる。裏面側となる透明基板2Bに
は、金属薄膜又は透明導電性膜等の熱線反射コート等を
施して機能性を高めることができる。透明導電性膜は表
面側の透明基板2A,2に形成することもできる。
パネル貼合材では、表面側となる透明基板2A,2に
は、更に、シリコン系材料等によるハードコート処理、
或いはハードコート層内に光散乱材料を練り込んだアン
チグレア加工等を施しても良い。また、透明基板2A,
2に前述の反射防止フィルム、ハードコートフィルム、
アンチグレアフィルム等を透明粘着剤や透明接着剤で貼
り付けることもできる。裏面側となる透明基板2Bに
は、金属薄膜又は透明導電性膜等の熱線反射コート等を
施して機能性を高めることができる。透明導電性膜は表
面側の透明基板2A,2に形成することもできる。
【0057】近赤外線カットフィルム5としては、ベー
スフィルム上に、銅系、フタロシアン系、酸化亜鉛、
銀、ITO(酸化インジウム錫)等の透明導電性材料、
ニッケル錯体系、インモニウム系等の近赤外線カット材
料のコーティング層を設けたものを用いることができ
る。このベースフィルムとしては、好ましくは、PE
T、PC、PMMA等よりなるフィルムを用いることが
できる。このフィルムは、得られる電磁波シールド性光
透過窓材及びパネル貼合材の厚さを過度に厚くすること
なく、取り扱い性、耐久性を確保する上で10μm〜2
0mm程度とするのが好ましい。またこのベースフィル
ム上に形成される近赤外線カット材料のコーティング層
の厚さは、通常の場合、500〜5000Å程度であ
る。
スフィルム上に、銅系、フタロシアン系、酸化亜鉛、
銀、ITO(酸化インジウム錫)等の透明導電性材料、
ニッケル錯体系、インモニウム系等の近赤外線カット材
料のコーティング層を設けたものを用いることができ
る。このベースフィルムとしては、好ましくは、PE
T、PC、PMMA等よりなるフィルムを用いることが
できる。このフィルムは、得られる電磁波シールド性光
透過窓材及びパネル貼合材の厚さを過度に厚くすること
なく、取り扱い性、耐久性を確保する上で10μm〜2
0mm程度とするのが好ましい。またこのベースフィル
ム上に形成される近赤外線カット材料のコーティング層
の厚さは、通常の場合、500〜5000Å程度であ
る。
【0058】本発明においては、近赤外線カットフィル
ムと共に、更に透明導電性フィルムを透明基板間又は透
明基板とPDP本体との間に設けても良く、この場合、
透明導電性フィルムとしては、導電性粒子を分散させた
樹脂フィルム、又はベースフィルムに透明導電性層を形
成したものを用いることができる。
ムと共に、更に透明導電性フィルムを透明基板間又は透
明基板とPDP本体との間に設けても良く、この場合、
透明導電性フィルムとしては、導電性粒子を分散させた
樹脂フィルム、又はベースフィルムに透明導電性層を形
成したものを用いることができる。
【0059】フィルム中に分散させる導電性粒子として
は、導電性を有するものであれば良く特に制限はない
が、例えば、次のようなものが挙げられる。 (i) カーボン粒子ないし粉末 (ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウ
ム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チ
タン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導
電性酸化物の粒子ないし粉末 (iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック粒
子の表面に上記(i),(ii)の導電性材料のコーティング層
を形成したもの これらの導電性粒子の粒径は、過度に大きいと光透過性
や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼすことから、
0.5mm以下であることが好ましい。好ましい導電性
粒子の粒径は0.01〜0.5mmである。
は、導電性を有するものであれば良く特に制限はない
が、例えば、次のようなものが挙げられる。 (i) カーボン粒子ないし粉末 (ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウ
ム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チ
タン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導
電性酸化物の粒子ないし粉末 (iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック粒
子の表面に上記(i),(ii)の導電性材料のコーティング層
を形成したもの これらの導電性粒子の粒径は、過度に大きいと光透過性
や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼすことから、
0.5mm以下であることが好ましい。好ましい導電性
粒子の粒径は0.01〜0.5mmである。
【0060】また、透明導電性フィルム中の導電性粒子
の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度
に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電
性フィルムの樹脂に対する重量割合で0.1〜50重量
%、特に0.1〜20重量%、とりわけ0.5〜20重
量%程度とするのが好ましい。
の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度
に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電
性フィルムの樹脂に対する重量割合で0.1〜50重量
%、特に0.1〜20重量%、とりわけ0.5〜20重
量%程度とするのが好ましい。
【0061】導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜
選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途か
ら、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場
合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整
することで、画面が見やすくなるという効果もある。
選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途か
ら、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場
合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整
することで、画面が見やすくなるという効果もある。
【0062】ベースフィルムに透明導電性層を形成した
ものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、CVD等により、スズインジウム酸化物、亜鉛
アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられ
る。この場合、透明導電層の厚さが0.01μm未満で
は、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、
十分な電磁波シールド性を得ることができず、5μmを
超えると光透過性が損なわれる恐れがある。
ものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、CVD等により、スズインジウム酸化物、亜鉛
アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられ
る。この場合、透明導電層の厚さが0.01μm未満で
は、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、
十分な電磁波シールド性を得ることができず、5μmを
超えると光透過性が損なわれる恐れがある。
【0063】なお、透明導電性フィルムのマトリックス
樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステ
ル、PET、ポリブチレンテレフタレート、PMMA、
アクリル板、PC、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、PET、PC、PMMAが挙げられ
る。
樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステ
ル、PET、ポリブチレンテレフタレート、PMMA、
アクリル板、PC、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、PET、PC、PMMAが挙げられ
る。
【0064】このような透明導電性フィルムの厚さは、
通常の場合、1μm〜5mm程度とされる。
通常の場合、1μm〜5mm程度とされる。
【0065】透明導電性フィルムを設けることにより、
より一層優れた電磁波シールド性を得ることができる。
より一層優れた電磁波シールド性を得ることができる。
【0066】透明基板2A,2B間又は透明基板2とP
DP本体20との間に介在させる導電性メッシュ3とし
ては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなるも
のを用いるが、本発明では、光透過性の向上、モアレ現
象の防止を図る上で、例えば、線径1μm〜1mm、開
口率40〜95%のものが好ましい。この導電性メッシ
ュにおいて、線径が1mmを超えると開口率が下がる
か、電磁波シールド性が下がり、両立させることができ
ない。1μm未満ではメッシュとしての強度が下がり、
取り扱いが非常に難しくなる。また、開口率は95%を
超えるとメッシュとして形状を維持することが難しく、
40%未満では光透過性が低く、ディスプレイからの光
線量が低減されてしまう。より好ましい線径は10〜5
00μm、開口率は50〜90%である。
DP本体20との間に介在させる導電性メッシュ3とし
ては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなるも
のを用いるが、本発明では、光透過性の向上、モアレ現
象の防止を図る上で、例えば、線径1μm〜1mm、開
口率40〜95%のものが好ましい。この導電性メッシ
ュにおいて、線径が1mmを超えると開口率が下がる
か、電磁波シールド性が下がり、両立させることができ
ない。1μm未満ではメッシュとしての強度が下がり、
取り扱いが非常に難しくなる。また、開口率は95%を
超えるとメッシュとして形状を維持することが難しく、
40%未満では光透過性が低く、ディスプレイからの光
線量が低減されてしまう。より好ましい線径は10〜5
00μm、開口率は50〜90%である。
【0067】導電性メッシュの開口率とは、当該導電性
メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合
を言う。
メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合
を言う。
【0068】導電性メッシュ3を構成する金属繊維及び
金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、ア
ルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、
鉛、鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好まし
くは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、ア
ルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、
鉛、鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好まし
くは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【0069】金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポ
リエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビ
ニロン、セルロース等が用いられる。
リエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビ
ニロン、セルロース等が用いられる。
【0070】本発明においては、特に、上記開口率及び
線径を維持する上で、メッシュ形状の維持特性に優れた
金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュを用いるのが
好ましい。
線径を維持する上で、メッシュ形状の維持特性に優れた
金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュを用いるのが
好ましい。
【0071】図1の電磁波シールド性光透過窓材1及び
図2のパネル貼合材10においては、導電性メッシュ3
としては、縁部が透明基板2A,2の縁部からはみ出
て、透明基板2A,2の縁部に沿って折り返すことがで
きるように、透明基板2A,2よりも面積の大きいもの
を用いる。
図2のパネル貼合材10においては、導電性メッシュ3
としては、縁部が透明基板2A,2の縁部からはみ出
て、透明基板2A,2の縁部に沿って折り返すことがで
きるように、透明基板2A,2よりも面積の大きいもの
を用いる。
【0072】透明基板2Aと透明基板2B又は透明基板
2とPDP本体20とを導電性メッシュ3及び近赤外線
カットフィルム5を介して接着する接着樹脂としては、
透明で弾性のあるもの、例えば、通常、合せガラス用接
着剤として用いられているものが好ましく、具体的に
は、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリ
ル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共
重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合
体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金
属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、
部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)ア
クリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニ
ル−(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重
合体が挙げられる(なお、「(メタ)アクリル」は「ア
クリル又はメタクリル」を示す。)。その他、ポリビニ
ルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、アクリル
樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹
脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で
最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体(EVA)である。また、耐衝撃性、耐貫通
性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用
いられているPVB樹脂も好適である。
2とPDP本体20とを導電性メッシュ3及び近赤外線
カットフィルム5を介して接着する接着樹脂としては、
透明で弾性のあるもの、例えば、通常、合せガラス用接
着剤として用いられているものが好ましく、具体的に
は、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリ
ル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共
重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合
体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金
属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、
部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)ア
クリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニ
ル−(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重
合体が挙げられる(なお、「(メタ)アクリル」は「ア
クリル又はメタクリル」を示す。)。その他、ポリビニ
ルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、アクリル
樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹
脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で
最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体(EVA)である。また、耐衝撃性、耐貫通
性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用
いられているPVB樹脂も好適である。
【0073】PVB樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が70〜95重量%、ポリ酢酸ビニル単位が1〜15重
量%で、平均重合度が200〜3000、好ましくは3
00〜2500であるものが好ましく、PVB樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。
が70〜95重量%、ポリ酢酸ビニル単位が1〜15重
量%で、平均重合度が200〜3000、好ましくは3
00〜2500であるものが好ましく、PVB樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。
【0074】PVB樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。
【0075】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、2−エチル酪酸、ヘプタン酸、n−オ
クチル酸、2−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸(n−
ノニル酸)、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−2−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−n−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。
酸、カプロン酸、2−エチル酪酸、ヘプタン酸、n−オ
クチル酸、2−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸(n−
ノニル酸)、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−2−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−n−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。
【0076】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数4〜8の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数4〜8の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。
【0077】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。
【0078】PVB樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂100重量部
に対して可塑剤を5〜50重量部、好ましくは10〜4
0重量部とする。
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂100重量部
に対して可塑剤を5〜50重量部、好ましくは10〜4
0重量部とする。
【0079】PVB樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。
【0080】以下に、樹脂としてEVAを用いた場合を
例示して本発明に係る接着用中間膜についてより詳細に
説明する。
例示して本発明に係る接着用中間膜についてより詳細に
説明する。
【0081】EVAとしては酢酸ビニル含有量が5〜5
0重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。
0重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。
【0082】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジ
ハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−
ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブ
チルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイ
ド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α’−
ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン;
n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バ
レレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタ
ン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキ
サン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオ
キシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブ
チルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5
−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1
−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオ
キシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサ
イド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオ
キシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイ
ド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロル
ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソ
ブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通
常EVA100重量部に対して、10重量部以下、好ま
しくは0.1〜10重量部の割合で使用される。
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジ
ハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−
ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブ
チルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイ
ド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α’−
ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン;
n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バ
レレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタ
ン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキ
サン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオ
キシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブ
チルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5
−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1
−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオ
キシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサ
イド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオ
キシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイ
ド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロル
ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソ
ブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通
常EVA100重量部に対して、10重量部以下、好ま
しくは0.1〜10重量部の割合で使用される。
【0083】有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。
【0084】なお、EVAの物性(機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。
【0085】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種
を単独で、或いは2種以上を混合して、通常EVA10
0重量部に対して0.1〜2重量部、好ましくは0.5
〜5重量部用いられる。
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種
を単独で、或いは2種以上を混合して、通常EVA10
0重量部に対して0.1〜2重量部、好ましくは0.5
〜5重量部用いられる。
【0086】EVAを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常EVA100重量部に対し
て10重量部以下、好ましくは0.1〜10重量部使用
される。
化物の代りに光増感剤が通常EVA100重量部に対し
て10重量部以下、好ましくは0.1〜10重量部使用
される。
【0087】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロア
ニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベ
ンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ−
1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1
種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができ
る。
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロア
ニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベ
ンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ−
1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1
種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができ
る。
【0088】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β
−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β
−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。
【0089】これらのシランカップリング剤は通常EV
A100重量部に対して0.001〜10重量部、好ま
しくは0.001〜5重量部の割合で1種又は2種以上
が混合使用される。
A100重量部に対して0.001〜10重量部、好ま
しくは0.001〜5重量部の割合で1種又は2種以上
が混合使用される。
【0090】なお、本発明に係る接着用中間膜4A〜4
Cには、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防
止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、カ
ーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充
填剤を適量配合してもよい。
Cには、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防
止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、カ
ーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充
填剤を適量配合してもよい。
【0091】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。
【0092】本発明に係る接着用中間膜は、接着樹脂と
上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した
後カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション
等の成膜法により所定の形状にシート成形することによ
り製造される。成膜に際してはブロッキング防止、透明
基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与
される。
上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した
後カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション
等の成膜法により所定の形状にシート成形することによ
り製造される。成膜に際してはブロッキング防止、透明
基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与
される。
【0093】なお、導電性メッシュ3及び近赤外線カッ
トフィルム5と接着用中間膜4A〜4Cとで形成される
接着層の厚さは、電磁波シールド性光透過窓材又はパネ
ル貼合材の用途等によっても異なるが、通常の場合2μ
m〜2mm程度とされる。従って、接着用中間膜4A〜
4Cは、このような厚さの接着層が得られるような厚さ
に成形される。
トフィルム5と接着用中間膜4A〜4Cとで形成される
接着層の厚さは、電磁波シールド性光透過窓材又はパネ
ル貼合材の用途等によっても異なるが、通常の場合2μ
m〜2mm程度とされる。従って、接着用中間膜4A〜
4Cは、このような厚さの接着層が得られるような厚さ
に成形される。
【0094】本発明においては、このような構成の電磁
波シールド性光透過窓材又はパネル貼合材において、接
着用中間膜4A〜4Cのうちのいずれか1種又は2種以
上、好ましくは、前面側の接着用中間膜4Aの透明接着
剤に耐熱、耐候性に優れた調色用顔料を配合する。この
調色用顔料としては、黄鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロ
ー、カドミウムイエロー、モリブデートオレンジ、赤色
酸化鉄、カドミウムレッド、群青、紺青、コバルトブル
ー、酸化クロム、コバルトグリーン、コバルト紫等に代
表される無機顔料:β−ナフトール系、ナフトールAS
系、アセト酢酸アリールアミド系、ピラゾロン系等の不
溶性アゾ顔料、β−ナフトール系、β−オキシナフトエ
酸系等のアゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、金属錯塩アゾ
顔料;銅フタロシアニン、ハロゲン化銅フタロシアニ
ン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン顔料;ア
ントラキノン系顔料、チオインジゴ顔料、ペリノン顔
料、ペリレン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔
料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料、イソイ
ンドリン顔料等の縮合多環顔料に代表される有機顔料等
を用いることができ、その配合量は、調色の度合や、成
形性の点から、通常の場合接着樹脂100重量部に対し
て0.01〜10重量部程度とされる。
波シールド性光透過窓材又はパネル貼合材において、接
着用中間膜4A〜4Cのうちのいずれか1種又は2種以
上、好ましくは、前面側の接着用中間膜4Aの透明接着
剤に耐熱、耐候性に優れた調色用顔料を配合する。この
調色用顔料としては、黄鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロ
ー、カドミウムイエロー、モリブデートオレンジ、赤色
酸化鉄、カドミウムレッド、群青、紺青、コバルトブル
ー、酸化クロム、コバルトグリーン、コバルト紫等に代
表される無機顔料:β−ナフトール系、ナフトールAS
系、アセト酢酸アリールアミド系、ピラゾロン系等の不
溶性アゾ顔料、β−ナフトール系、β−オキシナフトエ
酸系等のアゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、金属錯塩アゾ
顔料;銅フタロシアニン、ハロゲン化銅フタロシアニ
ン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン顔料;ア
ントラキノン系顔料、チオインジゴ顔料、ペリノン顔
料、ペリレン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔
料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料、イソイ
ンドリン顔料等の縮合多環顔料に代表される有機顔料等
を用いることができ、その配合量は、調色の度合や、成
形性の点から、通常の場合接着樹脂100重量部に対し
て0.01〜10重量部程度とされる。
【0095】なお、このような調色用顔料を配合する接
着用中間膜は、1枚の接着用中間膜のみであっても良
く、2枚又はすべての接着用中間膜であっても良い。ま
た、調色用顔料を配合した接着用中間膜は、前面側の接
着用中間膜4Aであっても、裏面側の接着用中間膜4C
であっても良いが、一般的には、上述の如く、前面側の
接着用中間膜4Aに調色用顔料が配合される。
着用中間膜は、1枚の接着用中間膜のみであっても良
く、2枚又はすべての接着用中間膜であっても良い。ま
た、調色用顔料を配合した接着用中間膜は、前面側の接
着用中間膜4Aであっても、裏面側の接着用中間膜4C
であっても良いが、一般的には、上述の如く、前面側の
接着用中間膜4Aに調色用顔料が配合される。
【0096】図1,2に示す電磁波シールド性光透過窓
材1又はパネル貼合材10を製造するには、反射防止膜
8を形成した透明基板2A,2と、黒枠塗装6を設けた
透明基板2B又はPDP本体20と近赤外線カットフィ
ルム5及び導電性メッシュ3と接着用中間膜4A〜4E
及び導電性粘着テープを準備し、透明基板2Aと透明基
板2Bとの間又は透明基板2とPDP本体20との間
に、導電性メッシュ3及び近赤外線カットフィルム5を
各々接着用中間膜4A,4B,4Cの間に挟んだものを
積層し、接着用中間膜4A〜4Cの硬化条件で加圧下、
加熱又は光照射して一体化した後、導電性メッシュ3の
周縁のはみ出し部分を折り返し、その後、導電性粘着テ
ープ7を積層体の周囲に周回させて該折り返し部分を留
め付け、用いた導電性粘着テープ7の硬化方法等に従っ
て、加熱圧着するなどして接着固定する。
材1又はパネル貼合材10を製造するには、反射防止膜
8を形成した透明基板2A,2と、黒枠塗装6を設けた
透明基板2B又はPDP本体20と近赤外線カットフィ
ルム5及び導電性メッシュ3と接着用中間膜4A〜4E
及び導電性粘着テープを準備し、透明基板2Aと透明基
板2Bとの間又は透明基板2とPDP本体20との間
に、導電性メッシュ3及び近赤外線カットフィルム5を
各々接着用中間膜4A,4B,4Cの間に挟んだものを
積層し、接着用中間膜4A〜4Cの硬化条件で加圧下、
加熱又は光照射して一体化した後、導電性メッシュ3の
周縁のはみ出し部分を折り返し、その後、導電性粘着テ
ープ7を積層体の周囲に周回させて該折り返し部分を留
め付け、用いた導電性粘着テープ7の硬化方法等に従っ
て、加熱圧着するなどして接着固定する。
【0097】導電性粘着テープ7に架橋型導電性粘着テ
ープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘着
層7Bの粘着性を利用して積層体に貼り付け(この仮り
止めは、必要に応じて、貼り直しが可能である。)、そ
の後、必要に応じて圧力をかけながら加熱又は紫外線照
射する。この紫外線照射時には併せて加熱を行っても良
い。なお、この加熱又は光照射を局部的に行うことで、
架橋型導電性粘着テープの一部分のみを接着させるよう
にすることもできる。
ープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘着
層7Bの粘着性を利用して積層体に貼り付け(この仮り
止めは、必要に応じて、貼り直しが可能である。)、そ
の後、必要に応じて圧力をかけながら加熱又は紫外線照
射する。この紫外線照射時には併せて加熱を行っても良
い。なお、この加熱又は光照射を局部的に行うことで、
架橋型導電性粘着テープの一部分のみを接着させるよう
にすることもできる。
【0098】加熱接着は、一般的なヒートシーラーで容
易に行うことができ、また、加圧加熱方法としては、架
橋型導電性粘着テープを貼り付けた積層体を真空袋中に
入れ脱気後加熱する方法でも良く、接着はきわめて容易
に行える。
易に行うことができ、また、加圧加熱方法としては、架
橋型導電性粘着テープを貼り付けた積層体を真空袋中に
入れ脱気後加熱する方法でも良く、接着はきわめて容易
に行える。
【0099】この接着条件としては、熱架橋の場合は、
用いる架橋剤(有機過酸化物)の種類に依存するが、通
常70〜150℃、好ましくは70〜130℃で、通常
10秒〜120分、好ましくは20秒〜60分である。
用いる架橋剤(有機過酸化物)の種類に依存するが、通
常70〜150℃、好ましくは70〜130℃で、通常
10秒〜120分、好ましくは20秒〜60分である。
【0100】また、光架橋の場合、光源としては紫外〜
可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高
圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンラン
プ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カ
ーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。
照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概に
は決められないが、通常数十秒〜数十分程度である。架
橋促進のために、予め40〜120℃に加熱した後、こ
れに紫外線を照射してもよい。
可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高
圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンラン
プ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カ
ーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。
照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概に
は決められないが、通常数十秒〜数十分程度である。架
橋促進のために、予め40〜120℃に加熱した後、こ
れに紫外線を照射してもよい。
【0101】また、接着時の加圧力についても適宜選定
され、通常5〜50kg/cm2、特に10〜30kg
/cm2の加圧力とすることが好ましい。
され、通常5〜50kg/cm2、特に10〜30kg
/cm2の加圧力とすることが好ましい。
【0102】このようにして導電性粘着テープ7を取り
付けた電磁波シールド性光透過窓材1又はパネル貼合材
10は、筐体に単にはめ込むのみで極めて簡便かつ容易
に筐体に組み込むことができ、同時に、導電性粘着テー
プ7を介して導電性メッシュ3と筐体との良好な導通を
その周縁部において均一にとることができる。このた
め、良好な電磁波シールド効果が得られると共に、近赤
外線カットフィルム5の存在で、良好な近赤外線カット
性能が得られ、しかも、色調、全光線透過率、近赤外領
域の透過率が良好にバランスしているため、高透明性で
意匠性にも優れたものとなる。
付けた電磁波シールド性光透過窓材1又はパネル貼合材
10は、筐体に単にはめ込むのみで極めて簡便かつ容易
に筐体に組み込むことができ、同時に、導電性粘着テー
プ7を介して導電性メッシュ3と筐体との良好な導通を
その周縁部において均一にとることができる。このた
め、良好な電磁波シールド効果が得られると共に、近赤
外線カットフィルム5の存在で、良好な近赤外線カット
性能が得られ、しかも、色調、全光線透過率、近赤外領
域の透過率が良好にバランスしているため、高透明性で
意匠性にも優れたものとなる。
【0103】なお、図1,2に示す電磁波シールド性光
透過窓材又はパネル貼合材は本発明の電磁波シールド性
光透過窓材又はパネル貼合材の一例であって、本発明は
図示のものに限定されるものではない。例えば、前述の
如く、近赤外線カットフィルムと共に又は近赤外線カッ
トフィルムの代りに透明導電性フィルムを設けたもので
あっても良く、更には、透明基板2B又はPDP本体2
0の板面に直接透明導電性膜を形成したものであっても
良い。このような電磁波シールド性光透過窓材又はパネ
ル貼合材としては、透明基板2B又はPDP本体20に
次のような透明導電性膜を形成したものが挙げられる。
透過窓材又はパネル貼合材は本発明の電磁波シールド性
光透過窓材又はパネル貼合材の一例であって、本発明は
図示のものに限定されるものではない。例えば、前述の
如く、近赤外線カットフィルムと共に又は近赤外線カッ
トフィルムの代りに透明導電性フィルムを設けたもので
あっても良く、更には、透明基板2B又はPDP本体2
0の板面に直接透明導電性膜を形成したものであっても
良い。このような電磁波シールド性光透過窓材又はパネ
ル貼合材としては、透明基板2B又はPDP本体20に
次のような透明導電性膜を形成したものが挙げられる。
【0104】 フォトレジストのコーティング、パタ
ーン露光及びエッチングの工程により所定パターンにエ
ッチングして形成した格子状又はパンチングメタル状の
金属膜。 導電性インキをパターン印刷して形成した格子状又
はパンチングメタル状の印刷膜。
ーン露光及びエッチングの工程により所定パターンにエ
ッチングして形成した格子状又はパンチングメタル状の
金属膜。 導電性インキをパターン印刷して形成した格子状又
はパンチングメタル状の印刷膜。
【0105】また、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材又はパネル貼合材は、透明導電性フィルムの代りに、
パターンエッチングにより格子状又はパンチングメタル
状とした金属箔を透明基板に接着したものであっても良
い。
材又はパネル貼合材は、透明導電性フィルムの代りに、
パターンエッチングにより格子状又はパンチングメタル
状とした金属箔を透明基板に接着したものであっても良
い。
【0106】また、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材又はパネル貼合材は、電磁波シールド材として導電性
メッシュの代りに上記のような金属箔や透明導電性膜を
透明基板間又は透明基板とPDP本体との間に介在させ
たものであっても良い。
材又はパネル貼合材は、電磁波シールド材として導電性
メッシュの代りに上記のような金属箔や透明導電性膜を
透明基板間又は透明基板とPDP本体との間に介在させ
たものであっても良い。
【0107】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
PDPの前面フィルタとして、或いは、病院や研究室等
の精密機器設置場所の窓材等としてきわめて好適であ
る。
PDPの前面フィルタとして、或いは、病院や研究室等
の精密機器設置場所の窓材等としてきわめて好適であ
る。
【0108】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、P
DP用電磁波シールドフィルター等として好適な、良好
な電磁波シールド性能を有し、かつ耐熱、耐候性にも優
れた電磁波シールド性光透過窓材、及びこのような窓材
をPDPに一体化させたパネル貼合材が提供される。
DP用電磁波シールドフィルター等として好適な、良好
な電磁波シールド性能を有し、かつ耐熱、耐候性にも優
れた電磁波シールド性光透過窓材、及びこのような窓材
をPDPに一体化させたパネル貼合材が提供される。
【図1】本発明の電磁波シールド性光透過窓材の実施の
形態を示す模式的な断面図である。
形態を示す模式的な断面図である。
【図2】本発明のパネル貼合材の形態を示す模式的な断
面図である。
面図である。
【図3】一般的なPDPの構成を示す一部切欠斜視図で
ある。
ある。
1 電磁波シールド性光透過窓材 2,2A,2B 透明基板 3 導電性メッシュ 4A,4B,4C 接着用中間膜 5 近赤外線カットフィルム 7 導電性粘着テープ 7A 金属箔 7B 粘着層 8 反射防止膜 10 パネル貼合材 20 PDP本体 21 前面板 22 背面板 23 隔壁 24 表示セル 25 補助セル 26 陰極 27 表示陽極 28 補助陽極
Claims (8)
- 【請求項1】 2枚の透明基板間に電磁波シールド材を
介在させて、透明接着剤で接合一体化してなる電磁波シ
ールド性光透過窓材において、 該透明接着剤に耐熱性及び耐候性に優れた調色用顔料を
配合したことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓
材。 - 【請求項2】 請求項1において、該調色用顔料が、黄
鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロー、カドミウムイエロ
ー、モリブデートオレンジ、赤色酸化鉄、カドミウムレ
ッド、群青、紺青、コバルトブルー、酸化クロム、コバ
ルトグリーン、コバルト紫等に代表される無機顔料:β
−ナフトール系、ナフトールAS系、アセト酢酸アリー
ルアミド系、ピラゾロン系等の不溶性アゾ顔料、β−ナ
フトール系、β−オキシナフトエ酸系等のアゾレーキ顔
料、縮合アゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料;銅フタロシアニ
ン、ハロゲン化銅フタロシアニン、無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン顔料;アントラキノン系顔料、チ
オインジゴ顔料、ペリノン顔料、ペリレン顔料、キナク
リドン顔料、ジオキサジン顔料、イソインドリノン顔
料、キノフタロン顔料、イソインドリン顔料等の縮合多
環顔料に代表される有機顔料よりなる群から選ばれる1
種又は2種以上であることを特徴とする電磁波シールド
性光透過窓材。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、該電磁波シー
ルド材が金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維のメッシ
ュよりなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓
材。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項におい
て、該透明接着剤が透明弾性接着剤であることを特徴と
する電磁波シールド性光透過窓材。 - 【請求項5】 プラズマディスプレイパネル本体と、該
プラズマディスプレイパネル本体の前面に透明接着剤に
より接着された電磁波シールド材と、該電磁波シールド
材の前面に透明接着剤により接着された透明基板とを備
えてなるパネル貼合材において、 該透明接着剤に耐熱性及び優れた耐候性に調色用顔料を
配合したことを特徴とするパネル貼合材。 - 【請求項6】 請求項5において、該調色用顔料が黄
鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロー、カドミウムイエロ
ー、モリブデートオレンジ、赤色酸化鉄、カドミウムレ
ッド、群青、紺青、コバルトブルー、酸化クロム、コバ
ルトグリーン、コバルト紫等に代表される無機顔料:β
−ナフトール系、ナフトールAS系、アセト酢酸アリー
ルアミド系、ピラゾロン系等の不溶性アゾ顔料、β−ナ
フトール系、β−オキシナフトエ酸系等のアゾレーキ顔
料、縮合アゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料;銅フタロシアニ
ン、ハロゲン化銅フタロシアニン、無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン顔料;アントラキノン系顔料、チ
オインジゴ顔料、ペリノン顔料、ペリレン顔料、キナク
リドン顔料、ジオキサジン顔料、イソインドリノン顔
料、キノフタロン顔料、イソインドリン顔料等の縮合多
環顔料に代表される有機顔料よりなる群から選ばれる1
種又は2種以上であることを特徴とするパネル貼合材。 - 【請求項7】 請求項5又は6において、該電磁波シー
ルド材が金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維のメッシ
ュよりなることを特徴とするパネル貼合材。 - 【請求項8】 請求項5ないし7のいずれか1項におい
て、該透明接着剤が透明弾性接着剤であることを特徴と
するパネル貼合材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11150132A JP2000340986A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 電磁波シールド性光透過窓材及びパネル貼合材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11150132A JP2000340986A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 電磁波シールド性光透過窓材及びパネル貼合材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000340986A true JP2000340986A (ja) | 2000-12-08 |
Family
ID=15490193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11150132A Pending JP2000340986A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 電磁波シールド性光透過窓材及びパネル貼合材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000340986A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002353684A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-06 | Kyodo Printing Co Ltd | シールド材 |
| KR100752969B1 (ko) | 2001-11-30 | 2007-08-30 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 전자파 차폐용 필터 및 그 제조 방법 |
| JP2007250641A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Asahi Glass Co Ltd | プラズマディスプレイ用保護板、その製造方法およびプラズマディスプレイ装置 |
| JP2008177222A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Bridgestone Corp | ディスプレイ用光学フィルタ、これを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08183132A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Nisshinbo Ind Inc | 透明で電磁波シールド効果のある合成樹脂板状体及びその製法 |
| JPH10217380A (ja) * | 1996-05-28 | 1998-08-18 | Mitsui Chem Inc | 透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター |
-
1999
- 1999-05-28 JP JP11150132A patent/JP2000340986A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPH08183132A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Nisshinbo Ind Inc | 透明で電磁波シールド効果のある合成樹脂板状体及びその製法 |
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