JP2000343392A - 基板の面取り装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 面取り時に、砥石または基板をスライドさせ
る必要がない程度に砥石の寸法を設定すると共に、砥石
に回転駆動機構を直結または近接させることにより、省
スペース化とタクトタイムの短縮化を図る。 【解決手段】 面取りをすべき基板１２の稜線部を一度
に面取りすることができる円盤状の砥石１と、該砥石に
対して基板１２の稜線部１２ａを接近・離間させる基板
保持部４と、砥石へ直結または近接させたモータ２とを
有し、砥石を水平に設置させると共に、基板保持部は、
砥石近傍に設置された支持部６へ揺動自在に枢着され、
かつ基板の稜線部を砥石上面へ押当可能な基板保持ステ
ージ７を有し、さらに該ステージの基板保持面に当接し
て揺動を停止させるストッパ１０を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置、ＥＬ
表示装置、プラズマ表示装置等のガラス基板の面取りを
行う面取り装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置、ＥＬ表示装置、プラズマ
表示装置等の一連の製造工程において、電極パターンが
形成されたガラス基板を切断により所定の寸法に分断す
る工程が設けられているが、分断後のガラス基板の稜線
部は鋭いエッジを形成して危険である等の理由により、
例えば特開平４−２７８９１７号公報に示されているよ
うに稜線部の面取りが行われている。

【０００３】面取りは自動機または手動機で行われてい
るが、いずれの場合も保管カセットからガラス基板を一
枚づつ取り出して、これを研磨部へ投入して面取し、面
取り後のガラス基板は再び保管カセットへ挿入するとい
う動作を繰り返すことで複数のガラス基板の面取りを実
施している。研磨部を構成する面取り装置には、ディス
ク型砥石の面取り装置と、回転ベルト型の面取り装置と
がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかながら、ディスク
型砥石の面取り装置は砥石が基板より小さいため、砥石
または基板のどちらかを面取り方向へスライドさせなけ
ればならず、このため少なくとも１軸のスライドユニッ
トが必要となり装置が大型化せざるを得なかった。

【０００５】一方、回転ベルト型の面取り装置は、エン
ドレスベルトに基板の一辺を一度に接触させて面取りを
行うものの、エンドレスベルトが面取り角度分だけ傾斜
して基板保持ステージ上に覆いかぶさっているため、基
板が供給される位置からベルトへ接触される位置までの
スライドストロークを長くせざるを得ず、また、エンド
レスベルトはモータに連結部材を介して連結され、直接
に連結されていないため上記同様に装置が大型化せざる
を得なかった。

【０００６】本発明は、前記の問題点を解消するためな
されたものであって、面取り時に、砥石または基板をス
ライドさせる必要がない程度に砥石の寸法を設定すると
共に、砥石にモータ等の回転駆動機構を直結又は近接し
て設けることにより、省スペース化とタクトタイムの短
縮化を図ることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、次の構成を有する。請求項１の発明は、
面取りをすべき基板の稜線部を一度に面取りすることが
できる円盤状の研磨部材と、該研磨部材に対して基板の
稜線部を接近・離間させる基板保持部と、前記研磨部材
へ直結または近接した回転駆動機構とを有することを特
徴とする基板の面取り装置である。

【０００８】請求項２の発明は、前記基板保持部は、研
磨部材近傍に設置された支持部へ揺動自在に設けられ、
かつ基板の稜線部を研磨部材へ押当可能な基板保持ステ
ージを有し、さらに該基板保持ステージの基板保持面に
当接して揺動を停止させるストッパを設けたことを特徴
とする請求項１記載の基板の面取り装置である。

【０００９】請求項３の発明は、前記基板保持部は、研
磨部材近傍に設置された支持部へ摺動自在に設けられ、
かつ基板を研磨部材に対して傾斜させてその稜線部を研
磨部材へ押当可能な基板保持ステージを有し、さらに該
基板保持ステージを往復動させる駆動部を設けたことを
特徴とする請求項１記載の基板の面取り装置である。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板の面取り
装置の実施の形態について図面を参照しながら説明す
る。図１および図２は第１の実施形態を示すもので、砥
石１はドーナツ状の円盤からなり、軸線が上下方向を向
くように水平に設置させ、かつ、回転駆動用のモータ２
の駆動軸３を砥石１の中心孔へ直接に連結させている。
尚、モータ２を駆動ギア等を介して砥石１に近接状態に
て接続してもよい。砥石２の上面を形成する円盤状又は
ドーナツ状の研磨部１ａの半径は、後述のガラス基板１
２の長辺よりも大きく設定している。なお、図２では砥
石１の半径はガラス基板１２の長辺よりも小さくなって
いるが、これは短辺だけを面取りする場合を示すためで
ある。砥石１としては、ダイヤモンド砥石や布・紙等に
砥粒を接着剤等で固着させた研磨材を使用する。

【００１１】符号４は、砥石１でガラス基板を研磨する
為にガラス基板を保持する揺動式の基板保持部４を示し
ている。揺動式の基板保持部４は、砥石１の側部上方に
設けた台板５と、該台板５から起立状に固着した支持台
６と、該支持台６の上部近傍に貫通係合する円柱状のシ
ャフト８と、該シャフト８に対して回動自在に軸着する
とともに他端を後述する基板保持ステージ７の一端に固
着されている支持部８Ｂと、該支持部８Ｂに固定される
側を基端として先端に位置決め板９を固着する平板状の
基板保持ステージ７とから概ね構成されている。

【００１２】符号１０は、台板５上の砥石１の中心方向
の端部近傍の両側に一対設置（一方は図示せず）された
柱状のストッパ１０であり、先端が基板保持ステージ７
の基板保持面７ａへ当接して基板保持ステージ７の反時
計方向への揺動を停止させることでガラス基板１２と砥
石１の研磨部１ａとの接触量を制限するものである。ス
トッパ１０の先端は、ガラス基板１２と研磨部１ａとの
接触量を制御可能とするため伸縮調整可能なゲージ１１
が設けられている。従って、ゲージ１１の伸縮調整を行
うことで、研磨部１ａに対するガラス基板１２の接触
量、角度が変化し、所望の面取り量、面取り角の調整が
可能となっている。また、各々のゲージ１１の伸縮調整
することでガラス基板１２の１辺が研磨部１ａ対して平
行に支持されるので斜め面取りを防止することができ
る。

【００１３】符号１２は液晶パネルを構成するガラス基
板で、２枚の矩形状のガラス板からなり、ステージ７の
基板保持面７ａへ保持させる。ガラス基板１２のステー
ジ７への保持方法は、図２に示すように真空吸着によっ
て行う。すなわち、所定厚みを有する基板保持ステージ
７の内部には、被研磨部であるガラス基板１２の稜線部
に平行に、一端を閉鎖する縦穴１３を所定の間隔をおい
て複数列形成すると共に、基板保持面７ａから縦穴１３
に連通する吸着孔１４を各縦穴１３毎に複数形成し、さ
らに、各縦穴１３の開口部には先端閉塞になるよう切替
コック１６を介してパイプ１５を接続し、図示しない真
空源へ連結させ、切替コック１６で選択させた吸着孔１
４により吸着力を発生させることで、基板保持面７ａ上
のガラス基板１２を所定位置に吸着保持する。異なる基
板サイズの段取替は、切替コック１６によって吸着孔１
４を選択することによって行う。このとき吸着孔１４の
列は個々に使用する縦穴１３での最短辺基板より短くす
ることで最大基板にも対応できる。

【００１４】また、基板保持ステージ７の基板保持面７
ａの裏面側には、基板保持ステージ７をオペレータが操
作する為の把手１７を設けている。１８は冷却ノズル
で、水または冷却剤を砥石１やガラス基板１２に供給す
るためのものである。

【００１５】次に本実施形態の作用について説明する。
ガラス基板１２を基板保持ステージ７に保持するため
に、図１に破線で示すように基板保持ステージ７の基板
保持面７ａを上向きにし、この保持面７ａ上にガラス基
板１２を載置させて先端（被研磨側）を位置決め板９へ
当接させた後、ガラス基板１２を真空吸着させる。次い
で、把手１７をもって基板保持ステージ７をシャフト８
を軸に回転し、ガラス基板１２の稜線部１２ａを回転す
る砥石１上面の研磨部１ａへ押当させることで研磨し、
１辺全域（稜線部１２ａ）の面取りを行う。

【００１６】所定量だけ面取りされると、基板保持ステ
ージ７の基板保持面７ａがストッパ１０の先端ゲージ１
１へ当接して揺動が止まり１辺全域の面取りが終了す
る。なお、ストッパ１０は左右方向に一対設けて基板保
持ステージ７が傾くことを防いでいるので、均一した面
取りが可能となる。また、砥石が偏磨耗した場合はスト
ッパー１０の左右を調整することで均一した面取りを行
うことが可能となる。

【００１７】尚、ストッパ１０の先端の構成としては、
例えばゲージ１１の基端側にセンサを設けることで、よ
り正確にガラス基板１２と研磨部１ａとの接触量を制御
するができる。更に、シャフト８に回動量を制御可能と
するシリンダを設け、ストッパ１０のセンサー信号によ
り該シリンダの作動を停止し或いはモータ２の回転を停
止して、面取りを終了することも可能となる。

【００１８】また、図２では研磨部１ａの左右半分の一
方の領域を使用しているが、他方の領域を使用すること
も可能である。この選択に際しては、ガラス基板１２が
破損したり、あるいは基板保持ステージ７から外れて飛
散しても作業者に危険が及ばないことを考慮に入れるこ
とも必要である。

【００１９】なお、糸面取りの場合や、安全カバー等に
より基板の飛散防止が図られている場合には、砥石１の
研磨部１ａの左右両部にわたる最長面取り可能部Ａで面
取りを行うことができ、より大きなガラス基板の面取り
が可能になる。また、砥石１の左右両側にステージ７を
設け、左右交互に面取りを行うことも可能である。各辺
の面取りは、真空吸着を解除して、基板の方向を変える
ことで可能であり、同様に基板の上下の向きを変えるこ
とで上下両面の面取りが可能である。さらに、吸着孔１
４の形成領域を最小ガラス基板の面積よりも小さくする
ことで最大ガラス基板にも対応させることが可能であ
る。

【００２０】次に、図３を参照しつつ第２実施形態を説
明する。尚、前記した構成と同一部分には同一符号を付
して説明を省略する。前記第１の実施形態では砥石１へ
のガラス基板の離接を揺動式の基板保持部４を用いた
が、本実施形態ではコンパクトな装置とするために往復
動式の基板保持部を用いるものである。

【００２１】図３に示すように、所定幅を有した支持台
６に基板保持ステージ２０を台板５に対して前方へ傾斜
させ、かつ摺動（往復動）自在に支持すると共に、基板
保持ステージ２０に平行して支持台６に支持させたスラ
イドシリンダ２１のピストンロッド２２をロッド先端２
２ａを介してステージ２０下面へ接続している。また、
位置決め板２３は台板５上で軸８ａにより回動自在に軸
支されたレバー２４の一端へ固定されると共に、レバー
２４の他端部２４ａはピストンロッド２２のロッド先端
２２ａへ係合している。

【００２２】次に作用について説明する。ピストンロッ
ド２２の収縮状態では位置決め板２３が基板保持ステー
ジ２０の先端側に位置してガラス基板１２の先端の位置
決めに用いられる。ガラス基板１２を位置決め板２３に
て位置決めして基板保持ステージ２０へ吸引手段１３〜
１５等（図２参照）により保持した後、ピストンロッド
２２を伸長させる。これにより、ピストンロッド２２を
接続した基板保持ステージ２０は支持台６と摺動しなが
ら砥石１へと接近すると共に、係合するレバー２４の端
部２４ａを押圧することで他端側の位置決め板２３は上
昇する。よって、位置決め板２３の上昇と共にガラス基
板１２が前進し、砥石１に所定角度にて押当し、研磨可
能となる。研磨量は、ピストンロッド２２の伸長調整、
又はスライドシリンダ２１の取り付け位置調整にて予め
決定でき、第１本実施形態で示したストッパ１０は不要
となる。このように位置決め板２３は面取り時に上昇
し、かつ、ガラス基板１２の移動は直線的となるので、
ガラス基板１２と砥石１との位置関係を最短距離に設定
することができる。

【００２３】次に、図４を参照しつつ第３実施形態を説
明する。尚、前記した構成と同一部分には同一符号を付
して説明を省略する。前記第２の実施形態では砥石１を
平行にし、ガラス基板１２を傾けて接近させる場合を説
明したが、本実施形態では逆に砥石１を傾けることでガ
ラス基板１２を平行にして接近可能とするものである。

【００２４】砥石１は面取り角度にあわせて傾斜され、
基板保持ステージ２５は砥石１の下方に水平状態で、か
つ水平に設けられた台板５に対して平行に往復動可能と
なっている。詳しくは、台板５上に起立して設けられた
支持台６に長手方向を砥石１方向に向けて固定されたス
ライドシリンダ２６のピストンロッド２２の先端部２２
ａが基板保持ステージ２５下面へ固定されており、ピス
トンロッド２２の伸縮で支持台６と摺動可能に係合する
ステージ２５が前後動する。

【００２５】よって、基板保持ステージ２５上に載置さ
れたガラス基板１２の先端を位置決め板９にあわせ、図
示しない吸着手段１３〜１５（図２参照）の制御により
吸着してピストンロッド２２を伸長させと、これに伴っ
て基板保持ステージ２５が前進し、ガラス基板１２の先
端の稜線部分が砥石１の研磨部１ａにて一度に所定量、
角度に研磨できる。

【００２６】尚、第３実施形態では、台板５を水平状態
とし、その斜め上方に砥石１を設けてガラス基板１２と
研磨部１ａの所定角度を形成したが、装置の設置環境等
により例えば、台板５と砥石１を共に垂直に立てた状態
とすると共に、砥石１に対してガラス基板１２を角度を
つけて離接可能とすることで、同様の効果を得ることが
できる。

【００２７】

【発明の効果】請求項１ないし３記載の発明によれば、
研磨部材の半径を基板の稜線部を一度に面取りすること
ができる寸法、例えば基板の短辺よりも大きな寸法に形
成したので、研磨部材または基板を面取り方向へスライ
ドさせる必要がなく、このため省スペース化が可能にな
る。また、研磨部材へ回転駆動機構を直結または近接さ
せたので、余分なスペースが不要となり、上記と相俟っ
てさらなる省スペース化が図れる。さらに、面取り時
に、研磨部材または基板の面取り方向へのスライドが不
要であることからタクトタイムの削減が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板の面取り装置の第１の実施形
態を示す概略側面図である。

【図２】図１の概略平面図である。

【図３】本発明に係る基板の面取り装置の第２実施形態
を示す概略側面図である。

【図４】本発明に係る基板の面取り装置の第３実施形態
を示す概略側面図である。

【符号の説明】

１ 砥石 １ａ 研磨部 ２ モータ ４ 基板保持部 ７ 基板保持ステージ ７ａ 基板保持面 １０ ストッパ １２ ガラス基板 １２ａ 稜線部 ２１、２６ シリンダ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 面取りをすべき基板の稜線部を一度に面
   取りすることができる円盤状の研磨部材と、該研磨部材
   に対して基板の稜線部を接近・離間させる基板保持部
   と、前記研磨部材へ直結または近接した回転駆動機構と
   を有することを特徴とする基板の面取り装置。
2. 【請求項２】 前記基板保持部は、研磨部材近傍に設置
   された支持部へ揺動自在に設けられ、かつ基板の稜線部
   を研磨部材へ押当可能な基板保持ステージを有し、さら
   に該基板保持ステージの基板保持面に当接して揺動を停
   止させるストッパを設けたことを特徴とする請求項１記
   載の基板の面取り装置。
3. 【請求項３】 前記基板保持部は、研磨部材近傍に設置
   された支持部へ摺動自在に設けられ、かつ基板を研磨部
   材に対して傾斜させてその稜線部を研磨部材へ押当可能
   な基板保持ステージを有し、さらに該基板保持ステージ
   を往復動させる駆動部を設けたことを特徴とする請求項
   １記載の基板の面取り装置。