JP2000347113A - 揺動反射ミラー及びレーザー加工機 - Google Patents
揺動反射ミラー及びレーザー加工機Info
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- JP2000347113A JP2000347113A JP11160081A JP16008199A JP2000347113A JP 2000347113 A JP2000347113 A JP 2000347113A JP 11160081 A JP11160081 A JP 11160081A JP 16008199 A JP16008199 A JP 16008199A JP 2000347113 A JP2000347113 A JP 2000347113A
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高速揺動が可能で、光路に配設した際に光路
を短くすることができる揺動反射ミラーを提供するこ
と。 【解決手段】 揺動軸と同軸上に重心を有し、揺動軸ま
わりに揺動してその反射面４０において入射レーザービ
ームを反射する反射ミラー４である。反射面４０を正面
視した外形輪郭に、所定の入射角で入射された入射ビー
ムに対する楕円形状の反射スポットＳの輪郭に沿う楕円
輪郭部４１、及び楕円輪郭部４１に連続し揺動軸Ｘに平
行な直線輪郭部４２を有している。
を短くすることができる揺動反射ミラーを提供するこ
と。 【解決手段】 揺動軸と同軸上に重心を有し、揺動軸ま
わりに揺動してその反射面４０において入射レーザービ
ームを反射する反射ミラー４である。反射面４０を正面
視した外形輪郭に、所定の入射角で入射された入射ビー
ムに対する楕円形状の反射スポットＳの輪郭に沿う楕円
輪郭部４１、及び楕円輪郭部４１に連続し揺動軸Ｘに平
行な直線輪郭部４２を有している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー加工機の
光路に配設する揺動反射ミラー及びレーザー加工機に係
わり、特に、ＩＣ、ＬＳＩ等の電子回路部品を搭載する
プリント基板の孔開け加工用のレーザー加工機の光路に
配設して好適な揺動反射ミラー及びこれを使用したレー
ザー加工機に関するものである。
光路に配設する揺動反射ミラー及びレーザー加工機に係
わり、特に、ＩＣ、ＬＳＩ等の電子回路部品を搭載する
プリント基板の孔開け加工用のレーザー加工機の光路に
配設して好適な揺動反射ミラー及びこれを使用したレー
ザー加工機に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣ、ＬＳＩ等の電子回路部品を搭載す
るプリント基板の孔開け加工用のレーザー加工機とし
て、レーザー発振器から発振されたパルス状のレーザー
ビームを、その光路に配設された反射ミラーで反射して
集光レンズに導き、加工対象であるプリント基板に照射
して複数の孔開け加工を行うものが知られている。
るプリント基板の孔開け加工用のレーザー加工機とし
て、レーザー発振器から発振されたパルス状のレーザー
ビームを、その光路に配設された反射ミラーで反射して
集光レンズに導き、加工対象であるプリント基板に照射
して複数の孔開け加工を行うものが知られている。
【０００３】近年、電子回路部品の高密度化、高集積化
に伴い、それを搭載するプリント基板にも高密度化、多
層化した配線パターンが求められており、孔開け加工に
もこれに対応した加工精度が要求されている。
に伴い、それを搭載するプリント基板にも高密度化、多
層化した配線パターンが求められており、孔開け加工に
もこれに対応した加工精度が要求されている。
【０００４】プリント基板の所定の加工エリアにレーザ
ービームを照射して加工を行う場合には、プリント基板
を載置したＸＹテーブルを、照射位置に移動させるもの
が一般的である。しかしながら、数ミリピッチで数１０
μｍといった加工精度の高い孔開け加工を行うには、Ｘ
Ｙテーブルを移動させて位置合わせを行うと、プリント
基板を載置したＸＹテーブルの慣性を考慮しなければな
らないため、得られる加工精度にも限界があった。この
ため、加工精度の高い孔開け加工を行うレーザー加工機
は、光学系の反射ミラーを走査することにより、焦点位
置を制御する光学系走査型のレーザー加工機を使用する
傾向にある。
ービームを照射して加工を行う場合には、プリント基板
を載置したＸＹテーブルを、照射位置に移動させるもの
が一般的である。しかしながら、数ミリピッチで数１０
μｍといった加工精度の高い孔開け加工を行うには、Ｘ
Ｙテーブルを移動させて位置合わせを行うと、プリント
基板を載置したＸＹテーブルの慣性を考慮しなければな
らないため、得られる加工精度にも限界があった。この
ため、加工精度の高い孔開け加工を行うレーザー加工機
は、光学系の反射ミラーを走査することにより、焦点位
置を制御する光学系走査型のレーザー加工機を使用する
傾向にある。
【０００５】斯かる光学系走査型のレーザー加工機は、
鉛直軸又は水平軸まわりに揺動する揺動反射ミラーを光
路に配設し、これらを所定角度に設定することにより、
照射位置の位置合わせを行っている。使用する揺動反射
ミラーには、通常反射面の外形輪郭が正面視して矩形形
状で平行平板のものを使用している。
鉛直軸又は水平軸まわりに揺動する揺動反射ミラーを光
路に配設し、これらを所定角度に設定することにより、
照射位置の位置合わせを行っている。使用する揺動反射
ミラーには、通常反射面の外形輪郭が正面視して矩形形
状で平行平板のものを使用している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したレ
ーザー加工機の光路に配設される揺動反射ミラーは、通
常定位置から発射される入射レーザービームに対して４
５度の入射角になるように配置されるが、反射面に形成
される反射スポットは楕円形状となるため、上述のよう
な反射面が矩形形状の揺動反射ミラーを使用した場合に
は、反射面の四隅部分に反射にかかわらない部分が存在
している。この部分の存在はその分慣性モーメントが大
きくなる要因となるため、揺動速度を向上させる上で好
ましくなかった。
ーザー加工機の光路に配設される揺動反射ミラーは、通
常定位置から発射される入射レーザービームに対して４
５度の入射角になるように配置されるが、反射面に形成
される反射スポットは楕円形状となるため、上述のよう
な反射面が矩形形状の揺動反射ミラーを使用した場合に
は、反射面の四隅部分に反射にかかわらない部分が存在
している。この部分の存在はその分慣性モーメントが大
きくなる要因となるため、揺動速度を向上させる上で好
ましくなかった。
【０００７】一方、斯かるレーザー加工機は、出力減衰
や光路誤差を抑える必要から光路の距離を可能な限り短
くすることが望まれている。従って、光路に配置される
揺動反射ミラー同士も近接配置されるが、矩形形状の揺
動反射ミラーを使用した場合には、四隅部分が干渉し合
うため、その配置間隔を狭めるにも限界があった。
や光路誤差を抑える必要から光路の距離を可能な限り短
くすることが望まれている。従って、光路に配置される
揺動反射ミラー同士も近接配置されるが、矩形形状の揺
動反射ミラーを使用した場合には、四隅部分が干渉し合
うため、その配置間隔を狭めるにも限界があった。
【０００８】従って、本発明の目的は、高速で揺動を行
うことができ、光路に配置した際にその配置間隔を短く
することが可能な、揺動反射ミラー及びこれを光路に配
設したレーザー加工機を提供することにある。
うことができ、光路に配置した際にその配置間隔を短く
することが可能な、揺動反射ミラー及びこれを光路に配
設したレーザー加工機を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、揺動軸と同軸上に重心を有し、該揺動軸まわ
りに揺動してその反射面において入射レーザービームを
反射する揺動反射ミラーにおいて、前記反射面を正面視
した外形輪郭に、所定の入射角で入射されたレーザービ
ームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に沿う楕円
輪郭部を有していることを第１の特徴としている。
本発明は、揺動軸と同軸上に重心を有し、該揺動軸まわ
りに揺動してその反射面において入射レーザービームを
反射する揺動反射ミラーにおいて、前記反射面を正面視
した外形輪郭に、所定の入射角で入射されたレーザービ
ームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に沿う楕円
輪郭部を有していることを第１の特徴としている。
【００１０】また、本発明は、前記第１の特徴を有する
揺動反射ミラーにおいて、前記楕円輪郭部に連続し前記
揺動軸に平行な直線輪郭部を有していることを第２の特
徴としている。
揺動反射ミラーにおいて、前記楕円輪郭部に連続し前記
揺動軸に平行な直線輪郭部を有していることを第２の特
徴としている。
【００１１】また、本発明に係るレーザー加工機は、前
記第１又は第２の特徴を有する揺動反射ミラーを光路に
配設してなることを特徴としている。
記第１又は第２の特徴を有する揺動反射ミラーを光路に
配設してなることを特徴としている。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付図
面に基づいて説明する。なお、本発明は本実施形態に限
定されるものではない。
面に基づいて説明する。なお、本発明は本実施形態に限
定されるものではない。
【００１３】図１は、本発明の一実施形態におけるレー
ザー加工機を示したものである。同図において、符号１
はレーザー加工機、Ｐは加工対象であるプリント基板を
示している。
ザー加工機を示したものである。同図において、符号１
はレーザー加工機、Ｐは加工対象であるプリント基板を
示している。
【００１４】図１に示したように、レーザー加工機１
は、レーザー発振器２と、レーザー発振器２から発振さ
れたレーザービームをプリント基板Ｐに照射する集光レ
ンズ３と、レーザー発振器２と集光レンズ３との間の光
路Ｌに配設され鉛直軸まわり及び水平軸まわりに揺動す
る２つの揺動反射ミラー４，５とを備えている。
は、レーザー発振器２と、レーザー発振器２から発振さ
れたレーザービームをプリント基板Ｐに照射する集光レ
ンズ３と、レーザー発振器２と集光レンズ３との間の光
路Ｌに配設され鉛直軸まわり及び水平軸まわりに揺動す
る２つの揺動反射ミラー４，５とを備えている。
【００１５】レーザー発振器２及び集光レンズ３は、二
枚の揺動反射ミラーを備えた光学系走査型のレーザー加
工機に使用する、通常のものを使用する。
枚の揺動反射ミラーを備えた光学系走査型のレーザー加
工機に使用する、通常のものを使用する。
【００１６】なお、図には示していないが、プリント基
板Ｐを載置するＸＹテーブル、及びその駆動系等の各種
装置、本体フレーム等は、同様に、二枚の揺動反射ミラ
ーを備えた光学系走査型のレーザー加工機に使用する通
常のものである。
板Ｐを載置するＸＹテーブル、及びその駆動系等の各種
装置、本体フレーム等は、同様に、二枚の揺動反射ミラ
ーを備えた光学系走査型のレーザー加工機に使用する通
常のものである。
【００１７】上記揺動反射ミラー４は、鉛直に配置され
たガルバノ駆動装置６の把持部６０（図２参照）に接着
固定されており、鉛直な揺動軸Ｘと同軸上に重心を有
し、揺動軸Ｘまわりに揺動してその反射面４０において
入射レーザービームを反射するものである。
たガルバノ駆動装置６の把持部６０（図２参照）に接着
固定されており、鉛直な揺動軸Ｘと同軸上に重心を有
し、揺動軸Ｘまわりに揺動してその反射面４０において
入射レーザービームを反射するものである。
【００１８】図２（ａ）に示したように、反射面４０の
外形輪郭は、当該反射面４０を正面視したときに、４５
度の入射角で入射された入射レーザービームに対する楕
円形状の反射スポットＳの輪郭に沿う楕円輪郭部４１、
及び楕円輪郭部４１に連続し揺動軸Ｘに平行な直線輪郭
部４２を有している。また、本実施形態では、揺動反射
ミラー４は、平行平板（同図（ｂ））で構成している。
外形輪郭は、当該反射面４０を正面視したときに、４５
度の入射角で入射された入射レーザービームに対する楕
円形状の反射スポットＳの輪郭に沿う楕円輪郭部４１、
及び楕円輪郭部４１に連続し揺動軸Ｘに平行な直線輪郭
部４２を有している。また、本実施形態では、揺動反射
ミラー４は、平行平板（同図（ｂ））で構成している。
【００１９】上記外形輪郭を有する揺動反射ミラー４
は、その揺動角α（例えば、−７°＜α＜７°）に応じ
た反射スポットの面積をカバーできる面積とする。すな
わち、図３に示したように、揺動角αで入射した場合に
は、反射スポットの長軸の長さは、４５°で入射した場
合に形成される反射スポットの長軸Ｂの長さよりも長く
なる。従って、上記直線輪郭部４２間の距離（幅）Ｗ
を、揺動角αで入射した場合における反射スポットの長
軸の最大長さよりも長くする。ここで、揺動角αとした
場合における反射スポットＳの長軸Ｂ’は、入射レーザ
ービームのビーム半径をｒとすると、 Ｂ’＝２ｒ／（ｓｉｎ（４５°−α）） である。
は、その揺動角α（例えば、−７°＜α＜７°）に応じ
た反射スポットの面積をカバーできる面積とする。すな
わち、図３に示したように、揺動角αで入射した場合に
は、反射スポットの長軸の長さは、４５°で入射した場
合に形成される反射スポットの長軸Ｂの長さよりも長く
なる。従って、上記直線輪郭部４２間の距離（幅）Ｗ
を、揺動角αで入射した場合における反射スポットの長
軸の最大長さよりも長くする。ここで、揺動角αとした
場合における反射スポットＳの長軸Ｂ’は、入射レーザ
ービームのビーム半径をｒとすると、 Ｂ’＝２ｒ／（ｓｉｎ（４５°−α）） である。
【００２０】上記直線輪郭部４２の長さＺは、当該揺動
反射ミラー４をガルバノ駆動装置６の把持部６０に取り
付ける際にその重心位置を合わせる上で、楕円輪郭部４
１の輪郭を形成する楕円の短軸Ｃの長さを１００とした
場合に、１２〜４０（例えば、短軸Ｃを２５mmとした場
合に３〜１０mm）とすることが好ましい。
反射ミラー４をガルバノ駆動装置６の把持部６０に取り
付ける際にその重心位置を合わせる上で、楕円輪郭部４
１の輪郭を形成する楕円の短軸Ｃの長さを１００とした
場合に、１２〜４０（例えば、短軸Ｃを２５mmとした場
合に３〜１０mm）とすることが好ましい。
【００２１】また、揺動反射ミラー４の厚さｔは、この
種の揺動反射ミラーに要求される面精度及び材料強度を
得る上で、１ｍｍ〜７ｍｍ、例えば、３ｍｍとすること
が好ましい。
種の揺動反射ミラーに要求される面精度及び材料強度を
得る上で、１ｍｍ〜７ｍｍ、例えば、３ｍｍとすること
が好ましい。
【００２２】揺動反射ミラー４の材質には、従来からプ
リント基板の孔開け加工用の光学系走査型レーザー加工
機に用いられる揺動反射ミラーの通常の材質、例えばシ
リコン、ベリリウム等の軽量な材料を使用する。
リント基板の孔開け加工用の光学系走査型レーザー加工
機に用いられる揺動反射ミラーの通常の材質、例えばシ
リコン、ベリリウム等の軽量な材料を使用する。
【００２３】揺動反射ミラー４を上記ガルバノ駆動装置
６の把持部６０に取り付ける際には、把持部の先端を、
上記楕円輪郭部４１を形成する楕円の上弦に接するよう
に（当該楕円の短軸Ｃの上端に）位置合わせして接着固
定する。
６の把持部６０に取り付ける際には、把持部の先端を、
上記楕円輪郭部４１を形成する楕円の上弦に接するよう
に（当該楕円の短軸Ｃの上端に）位置合わせして接着固
定する。
【００２４】上記揺動反射ミラー５は、図１に示したよ
うに、水平に配置されたガルバノ駆動装置７の把持部７
０（図４参照）に接着固定されており、水平な揺動軸Ｙ
と同軸上に重心を有し、揺動軸Ｙまわりに揺動してその
反射面５０において上記揺動反射ミラー４で反射された
入射レーザービームを反射して集光レンズ３に導くもの
である。
うに、水平に配置されたガルバノ駆動装置７の把持部７
０（図４参照）に接着固定されており、水平な揺動軸Ｙ
と同軸上に重心を有し、揺動軸Ｙまわりに揺動してその
反射面５０において上記揺動反射ミラー４で反射された
入射レーザービームを反射して集光レンズ３に導くもの
である。
【００２５】図４に示したように、上記揺動反射ミラー
５も、上記揺動反射ミラー４同様に、反射面５０の外形
輪郭は、当該反射面５０を正面視したときに、４５度の
入射角で入射された入射レーザービームに対する楕円形
状の反射スポットの輪郭に沿う楕円輪郭部５１、及び楕
円輪郭部５１に連続し揺動軸Ｘに平行な直線輪郭部５２
を有している。
５も、上記揺動反射ミラー４同様に、反射面５０の外形
輪郭は、当該反射面５０を正面視したときに、４５度の
入射角で入射された入射レーザービームに対する楕円形
状の反射スポットの輪郭に沿う楕円輪郭部５１、及び楕
円輪郭部５１に連続し揺動軸Ｘに平行な直線輪郭部５２
を有している。
【００２６】揺動反射ミラー５の場合には、図５に示し
たように、上記揺動反射ミラー４との距離（揺動反射ミ
ラー４，５を入射レーザービームに対して４５°に設定
した場合のレーザービームの各反射ミラーにおける反射
スポットの焦点間距離）Ｒ及び当該揺動反射ミラー４の
揺動角αに応じて、入射するレーザービームの位置が同
図中点線で示したように水平方向にずれてくるので、こ
のレーザービームを含むように面積を設定する。具体的
には、軸の長さＤを、少なくとも ２（Ｒｔａｎ２α＋ｒ／ｃｏｓ（２α）） を越える長さとする。
たように、上記揺動反射ミラー４との距離（揺動反射ミ
ラー４，５を入射レーザービームに対して４５°に設定
した場合のレーザービームの各反射ミラーにおける反射
スポットの焦点間距離）Ｒ及び当該揺動反射ミラー４の
揺動角αに応じて、入射するレーザービームの位置が同
図中点線で示したように水平方向にずれてくるので、こ
のレーザービームを含むように面積を設定する。具体的
には、軸の長さＤを、少なくとも ２（Ｒｔａｎ２α＋ｒ／ｃｏｓ（２α）） を越える長さとする。
【００２７】また、上記直線輪郭部５２間の距離（幅）
Ｗ’を、上記揺動反射ミラー４の場合と同様に、図３に
示したように、揺動角βにおける反射スポットの長軸の
最大長さＥ’よりも長くする。ここで、揺動反射ミラー
５の揺動角をβとした場合における反射スポットＳ’の
長軸Ｅ’は、入射レーザービームのビーム半径をｒとす
ると、 Ｅ’＝２ｒ／（ｓｉｎ（４５°−β）） となる。
Ｗ’を、上記揺動反射ミラー４の場合と同様に、図３に
示したように、揺動角βにおける反射スポットの長軸の
最大長さＥ’よりも長くする。ここで、揺動反射ミラー
５の揺動角をβとした場合における反射スポットＳ’の
長軸Ｅ’は、入射レーザービームのビーム半径をｒとす
ると、 Ｅ’＝２ｒ／（ｓｉｎ（４５°−β）） となる。
【００２８】揺動反射ミラー５の厚さ及び材質は、上記
揺動反射ミラー４と同様とする。
揺動反射ミラー４と同様とする。
【００２９】揺動反射ミラー５を上記ガルバノ駆動装置
７の把持部７０に取り付ける際には、把持部７０の先端
を、上記楕円輪郭部を形成する楕円の上弦に接するよう
に（軸Ｄの上端に）位置合わせして接着固定する。
７の把持部７０に取り付ける際には、把持部７０の先端
を、上記楕円輪郭部を形成する楕円の上弦に接するよう
に（軸Ｄの上端に）位置合わせして接着固定する。
【００３０】本実施形態のレーザー加工機１は、その光
路Ｌに配設した揺動反射ミラー４，５に、反射面４０，
５０の四隅部分に反射にかかわらない部分がほとんど存
在しないので、その分慣性モーメントを小さく抑えるこ
とができる。従って、高速な揺動速度で、角度設定が可
能である。また、揺動反射ミラー４０，５０の両端部に
揺動軸Ｘ，Ｙに平行な直線輪郭部４２，５２を有してい
るので、当該揺動反射ミラー４，５をその駆動源のガル
バノ式駆動装置６，７の把持部６０，７０に取り付け
て、光路Ｌに配設する際にも、揺動軸Ｘ，Ｙの位置合わ
せを正確かつ容易に行うことができる。さらに、従来に
比べて四隅の反射にかかわらない部分がほとんどないた
め、揺動反射ミラー４，５同士の間隔を近づけることが
できる。従って、光路Ｌ自体を短くすることができ、出
力減衰、光路誤差の低減及び加工機の小型化を図ること
が可能である。
路Ｌに配設した揺動反射ミラー４，５に、反射面４０，
５０の四隅部分に反射にかかわらない部分がほとんど存
在しないので、その分慣性モーメントを小さく抑えるこ
とができる。従って、高速な揺動速度で、角度設定が可
能である。また、揺動反射ミラー４０，５０の両端部に
揺動軸Ｘ，Ｙに平行な直線輪郭部４２，５２を有してい
るので、当該揺動反射ミラー４，５をその駆動源のガル
バノ式駆動装置６，７の把持部６０，７０に取り付け
て、光路Ｌに配設する際にも、揺動軸Ｘ，Ｙの位置合わ
せを正確かつ容易に行うことができる。さらに、従来に
比べて四隅の反射にかかわらない部分がほとんどないた
め、揺動反射ミラー４，５同士の間隔を近づけることが
できる。従って、光路Ｌ自体を短くすることができ、出
力減衰、光路誤差の低減及び加工機の小型化を図ること
が可能である。
【００３１】なお、本発明の揺動反射ミラーの反射面の
外形輪郭は、上記実施形態におけるように当該反射面を
正面視したときに、４５度の入射角で入射された入射レ
ーザービームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に
沿う楕円輪郭部を有する形態とすることが好ましいが、
４５°及び揺動角αで入射するレーザービームをカバー
できるものであれば、他の入射角で入射されたレーザー
ビームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に沿う楕
円輪郭部を有する形態としてもよい。
外形輪郭は、上記実施形態におけるように当該反射面を
正面視したときに、４５度の入射角で入射された入射レ
ーザービームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に
沿う楕円輪郭部を有する形態とすることが好ましいが、
４５°及び揺動角αで入射するレーザービームをカバー
できるものであれば、他の入射角で入射されたレーザー
ビームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に沿う楕
円輪郭部を有する形態としてもよい。
【００３２】また、上記実施形態では、揺動反射ミラー
に、反射面が平行平板のものを使用したが、例えば、図
６（ａ）及び（ｂ）に示した、揺動反射ミラー８のよう
に、反射面８０を正面視した形状は、上記反射ミラー４
と同様に形成し、反射面８０の背面側に、揺動軸に対し
て対称なテーパ面（例えば同図におけるテーパー面８
１，８２，３３）を形成し、剛性を損なわずに慣性モー
メントをさらに小さく抑えたものを使用してもよい。
に、反射面が平行平板のものを使用したが、例えば、図
６（ａ）及び（ｂ）に示した、揺動反射ミラー８のよう
に、反射面８０を正面視した形状は、上記反射ミラー４
と同様に形成し、反射面８０の背面側に、揺動軸に対し
て対称なテーパ面（例えば同図におけるテーパー面８
１，８２，３３）を形成し、剛性を損なわずに慣性モー
メントをさらに小さく抑えたものを使用してもよい。
【００３３】
【発明の効果】本発明によれば、以下の効果を奏する。
【００３４】上記第１の特徴を有する揺動反射ミラーに
よれば、高速揺動が可能であり、光路に配設した際に光
路を短くすることが可能である。
よれば、高速揺動が可能であり、光路に配設した際に光
路を短くすることが可能である。
【００３５】上記第２の特徴を有する揺動反射ミラーに
よれば、揺動反射ミラーを光路に配設する際に、揺動軸
の位置合わせを正確かつ容易に行うことができる。
よれば、揺動反射ミラーを光路に配設する際に、揺動軸
の位置合わせを正確かつ容易に行うことができる。
【００３６】上記特徴を有するレーザー加工機によれ
ば、高速で、加工精度の高い孔開け加工が可能である。
ば、高速で、加工精度の高い孔開け加工が可能である。
【図１】本発明に係るレーザー加工機の一実施形態にお
ける光学系の概略構成を示す斜視図である。
ける光学系の概略構成を示す斜視図である。
【図２】同実施形態における揺動反射ミラーの形態を示
す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【図３】同実施形態における揺動反射ミラーを揺動させ
た場合の光路の変化を示す概略図である。
た場合の光路の変化を示す概略図である。
【図４】同実施形態における揺動反射ミラーの形態を示
す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【図５】同実施形態における揺動反射ミラーを揺動させ
た場合の光路の変化を示す概略図である。
た場合の光路の変化を示す概略図である。
【図６】揺動反射ミラーの他の実施形態を示す図であり
（ａ）は背面図、（ｂ）は側面図である。
（ａ）は背面図、（ｂ）は側面図である。
１：レーザー加工機、４，５：揺動反射ミラー、４０，
５０：反射面、４１，５１：楕円輪郭部、４２，５２：
直線輪郭部、Ｌ：光路、Ｓ，Ｓ’：反射スポット、Ｘ，
Ｙ：揺動軸。
５０：反射面、４１，５１：楕円輪郭部、４２，５２：
直線輪郭部、Ｌ：光路、Ｓ，Ｓ’：反射スポット、Ｘ，
Ｙ：揺動軸。
Claims (3)
- 【請求項１】 揺動軸と同軸上に重心を有し、該揺動軸
まわりに揺動してその反射面においてレーザービームを
反射する揺動反射ミラーにおいて、前記反射面を正面視
した外形輪郭に、所定の入射角で入射されたレーザービ
ームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に沿った楕
円輪郭部を有していることを特徴とする揺動反射ミラ
ー。 - 【請求項２】 請求項１に記載の揺動反射ミラーにおい
て、前記楕円輪郭部に連続し前記揺動軸に平行な直線輪
郭部を有していることを特徴とする揺動反射ミラー。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の揺動反射
ミラーを光路に配設してなるレーザー加工機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11160081A JP2000347113A (ja) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | 揺動反射ミラー及びレーザー加工機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11160081A JP2000347113A (ja) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | 揺動反射ミラー及びレーザー加工機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000347113A true JP2000347113A (ja) | 2000-12-15 |
Family
ID=15707467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11160081A Pending JP2000347113A (ja) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | 揺動反射ミラー及びレーザー加工機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000347113A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012078437A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ガルバノスキャナ |
| JP2014059222A (ja) * | 2012-09-18 | 2014-04-03 | Denso Corp | 光レーダ装置 |
| JP7573701B1 (ja) | 2023-08-10 | 2024-10-25 | 株式会社アマダ | ガルバノミラー及びレーザ加工機 |
-
1999
- 1999-06-07 JP JP11160081A patent/JP2000347113A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012078437A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ガルバノスキャナ |
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| JP7573701B1 (ja) | 2023-08-10 | 2024-10-25 | 株式会社アマダ | ガルバノミラー及びレーザ加工機 |
| JP7617340B1 (ja) | 2023-08-10 | 2025-01-17 | 株式会社アマダ | レーザ加工機 |
| WO2025032952A1 (ja) * | 2023-08-10 | 2025-02-13 | 株式会社アマダ | ガルバノミラー及びレーザ加工機 |
| JP2025026448A (ja) * | 2023-08-10 | 2025-02-21 | 株式会社アマダ | レーザ加工機 |
| JP2025026034A (ja) * | 2023-08-10 | 2025-02-21 | 株式会社アマダ | ガルバノミラー及びレーザ加工機 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040913 |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060818 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060912 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070213 |