JP2000500805A - クリーニング組成物およびデリケートな表面のクリーニング法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 デリケートな表面、即ち、大理石およびラッカー塗表面、例えば、ラッカー塗木材フロアの安全なクリーニングに好適である組成物を開示する。ここに開示の組成物は、少なくとも１種の陰イオン界面活性剤を含み、強ビルダーを含まず、弱酸性から弱アルカリ性のｐＨ範囲内に処方され、且つ組成物中の陰イオン界面活性剤を飽和する量の正の二価イオンを含む。

Description

【発明の詳細な説明】 クリーニング組成物およびデリケートな表面のクリーニング法 技術分野 本発明は、硬質表面クリーニング組成物に関する。本組成物は、詳細には、大 理石およびペイント塗／ラッカー塗表面、特に、ラッカー塗／ペイント塗木材の 安全なクリーニングのために設計される。 背景技術 硬質表面用の各種のクリーニング組成物は、従来当該技術において開示されて きた。これらの組成物の大部分は、各種の条件下での各種のしみに対する性能に 関するものにすぎない。そして、大抵の硬質表面は、これらの表面がクリーニン グ組成物によって永久に損傷されることは一般に問題ではない点で、どちらかと いえば抵抗性である。 しかしながら、大理石およびラッカー塗表面は、クリーニングのためのクリー ニング組成物を処方する時に特定の注意を必要とする２つの種類の表面である。 事実、大理石は、主として、炭酸カルシウムからなり、それゆえ、酸性および／ またはビルダーを含むクリーニング組成物であれば不相容性である。事実、酸性 度は、大理石を「溶解する」一方、水および汚れ粒子に存在するイオンを特に結 合する機能のビルダーは、大理石中のカルシウムをも結合し、それによって表面 を非常に光輝性から艶消しにするであろう。その理由は、導入された表面の不規 則性が表面の反射率を下げるからである。多分陰イオン界面活性剤も前記のよう に大理石中のカルシウムを結合するからであろうが、本発明者等は、中性ｐＨで 処方され且つ陰イオン界面活性剤を含有するクリーニング製品も大理石を損傷す ることも見出した。このように、陰イオン界面活性剤を含まないアルカリ性組成 物の処方は、現在の状況下で示されているであろう。 しかしながら、アルカリ性組成物の処方は、ラッカー塗／ペイント塗表面、例 えば、ペイント塗金属表面、またはラッカー塗／ペイント塗木材表面、例えば、 ラッカー塗木材フロアのクリーニングに調和しない。ここで使用するラッカーは 、典型的には、ポリウレタンまたはポリアクリレートまたは両方の混合物から調 製され且つペイントは、主として顔料入りポリアクリレート、ポリ酢酸ビニルま たはアルキド樹脂である。事実、このような表面は、アルカリ度によって永久に 損傷される。詳細には、アルカリ度は、ラッカーを破壊し、それゆえ、ラッカー 塗表面に艶消の外観または変色を与えるであろう。このように、大理石とラッカ ー塗表面との両方をクリーニングするのに好適であるクリーニング組成物を処方 することは、不適合ｐＨ要件によって妨げられるであろう。 また、大理石を保存するのに望ましい陰イオン界面活性剤の不在は、良好な全 クリーニング性能、特に汚れ可溶化／グリース乳化とあまり両立しない。 したがって、本発明の目的は、大理石とラッカー塗表面との両方のクリーニン グに好適であり、即ち、安全であり且つ良好なクリーニング性能を与えるために 陰イオン界面活性剤を含み、特にグリース除去をよく行う液体組成物を処方する ことにある。 この目的に応答して、本発明者等は、少なくとも１種の陰イオン界面活性剤を 含み、強ビルダーを含まず、弱酸性から弱アルカリ性のｐＨで処方され、組成物 中の陰イオン界面活性剤を飽和するための量の正の二価イオンを含むことを特徴 とする液体組成物を処方した。 事実、本発明者等は、本組成物においては、弱酸性から弱アルカリ性のｐＨが 大理石もラッカーも損傷しないことを見出した。また、陰イオン界面活性剤用の 飽和量の正の二価イオンは、大理石上の損傷を防止する一方、陰イオン界面活性 剤がクリーニング作用を依然として遂行することを可能にする。 デリケートな表面用であると言われるクリーニング組成物は、ＥＰ第５１１ ０９１号明細書、ＣＮ第１０５５１９８号明細書（タイトル）およびＣＮ第１０ ３２ ３６０号明細書（タイトル）に記載されている。 発明の開示 本発明は、少なくとも１種の陰イオン界面活性剤を含み、強ビルダーを含まず 、弱酸性から弱アルカリ性のｐＨに処方され、組成物中の陰イオン界面活性剤を 飽和するための量の正の二価イオンを含むことを特徴とする液体クリーニング組 成物を包含する。 本発明は、更に、有効量の前記組成物を適用して大理石またはラッカー塗表面 をクリーニングし、前記組成物を除去することを特徴とする大理石またはラッカ ー塗表面のクリーニング法を包含する。 発明を実施するための最良の形態 本組成物は、液体組成物である。それらは、典型的には、水性であり且つ典型 的には全組成物の１０〜９９重量％、好ましくは１５〜９５重量％、最も好まし くは３０〜９２重量％の水を含む。陰イオン界面活性剤 第一の本質的な特徴として、本組成物は、クリーニングに必要とされる少なく とも１種の陰イオン界面活性剤を含む。ここで使用するのに好適な陰イオン界面 活性剤としては、石鹸の塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム 塩、および置換アンモニウム塩、例えば、モノエタノールアミン塩、ジエタノー ルアミン塩およびトリエタノールアミン塩を含めて）、Ｃ₉〜Ｃ₂₀直鎖アルキル ベンゼンスルホネート、Ｃ₈〜Ｃ₂₂第一級または第二級アルカンスルホネート、 Ｃ₈〜Ｃ₂₄オレフィンスルホネート、例えば、英国特許第１，０８２，１７９号 明細書に記載のようにアルカリ土類金属クエン酸塩の熱分解生成物のスルホン化 によって製造されるスルホン化ポリカルボン酸、Ｃ₈〜Ｃ₂₄アルキルポリグリコ ールエーテルサルフェート（エチレンオキシド１０モルまでを含有）、アルキル グリセロールスルホネート、脂肪アシルグリセロールスルホネート、脂肪オレイ ルグリセロールサルフェート、アルキルフェノールエチレンオキシドエーテルサ ルフェート、パラフィンスルホネート、アルキルホスフェート、イセチオネート 、例えば、アシルイセチオネート、Ｎ−アシルタウレート、アルキルスクシナメ ートおよびスルホスクシネート、スルホスクシネートのモノエステル（特に飽和 および不飽和Ｃ₁₂〜Ｃ₁₈モノエステル）、スルホスクシネートのジエステル（特 に飽和および不飽和Ｃ₆〜Ｃ₁₂ジエステル）、アシルサルコシネート、アルキル 多糖類のサルフェート、例えば、アルキルポリグルコシドのサルフェート（非イ オン非硫酸化化合物は以下に記載）、およびアルキルポリエトキシカルボキシレ ート、例えば、式 ＲＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_kＣＨ₂ＣＯＯ^-Ｍ⁺（式中、ＲはＣ₈〜 Ｃ₂₂アルキルであり、ｋは０〜１０の整数であり、Ｍは可溶性塩形成陽イオンで ある）のものが挙げられる。樹脂酸および水素添加樹脂酸、例えば、ロジン、水 素添加ロジン、およびトール油に存在するかトール油から誘導される樹脂酸およ び水素添加樹脂酸も、好適である。更に他の例は、「界面活性剤および洗剤」（ シュワルツ、ペリーおよびバーチによる第Ｉ巻および第II巻）に記載されている 。また、ここで使用するのに好適な陰イオン界面活性剤としては、アルキルエス テルスルホネート界面活性剤、即ち、「ザ・ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン ・オイル・ケミスツ・ソサエティー」，５２（１９７５），pp．３２３−３２９ に従ってガス状ＳＯ₃でスルホン化するＣ₈〜Ｃ₂₀カルボン酸（即ち、脂肪酸）の 線状エステルが挙げられる。好適な出発物質としては、タロー、パーム油などか ら誘導されるような天然脂肪酸物質が挙げられるであろう。 また、式 ＲＯＳＯ₃Ｍ〔式中、Ｒは好ましくはＣ₁₀〜Ｃ₂₄線状または分枝ヒ ドロカルビル、好ましくはＣ₁₀〜Ｃ₂₀アルキル成分を有するアルキルまたはヒド ロキシアルキル、より好ましくはＣ₁₂〜Ｃ₁₈アルキルまたはヒドロキシアルキル であり、ＭはＨまたは陽イオン、例えば、アルカリ金属陽イオン（例えば、ナト リウム、カリウム、リチウム）、またはアンモニウムまたは置換アンモニウム陽 イオン、例えば、メチル−、ジメチル−、およびトリメチルアンモニウム陽イオ ンおよび第四級アンモニウム陽イオン、例えば、テトラメチル−アンモニウムお よびジメチルピペリジニウム陽イオンおよびエチルアミン、ジエチルアミン、ト リエチルアミンなどのアルキルアミンから誘導される第四級アンモニウム陽イオ ン、およびそれらの混合物などである〕の水溶性塩または酸であるアルキルサル フェート界面活性剤は、ここで使用するための陰イオン界面活性剤として好適で ある。 ここで使用するのに好適な更に他の陰イオン界面活性剤は、式 ＲＯ（Ａ）_mＳＯ₃Ｍ〔式中、ＲはＣ₁₀〜Ｃ₂₄アルキル成分を有する非置換Ｃ₁₀〜 Ｃ₂₄アルキルまたはヒドロキシアルキル基、好ましくはＣ₁₂〜Ｃ₂₀アルキルまた はヒドロキシアルキル、より好ましくはＣ₁₂〜Ｃ₁₈アルキルまたはヒドロキシア ルキルであり、Ａはエトキシまたはプロポキシ単位であり、ｍは０より大きく、 典型的には約０．５〜約６、より好ましくは約０．５〜約３であり、ＭはＨまた は、例えば、金属陽イオン（例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、カルシ ウム、マグネシウムなど）、アンモニウムまたは置換アンモニウム陽イオンであ ることができる陽イオンである〕の水溶性塩または酸であるアルキルアルコキシ 化サルフェート界面活性剤である。アルキルエトキシ化サルフェート並びにアル キルプロポキシ化サルフェートは、ここで意図される。置換アンモニウム陽イオ ンの特定例としては、メチル−、ジメチル−、トリメチル−アンモニウム陽イオ ンおよび第四級アンモニウム陽イオン、例えば、テトラメチル−アンモニウムお よびジメチルピペリジニウム陽イオンおよびエチルアミン、ジエチルアミン、ト リエチルアミンなどのアルキルアミンから誘導されるもの、それらの混合物など が挙げられる。各種のこのような界面活性剤は、一般にローリン等に１９７５年 １２月３０日発行の米国特許第３，９２９，６７８号明細書第２３欄第５８行〜 第２９欄第２３行（ここに参考文献として編入）にも開示されている。 本発明の組成物は、全組成物の０．１〜３０重量％、好ましくは０．５〜１５ 重量％、最も好ましくは０．５〜５重量％の前記陰イオン界面活性剤またはそれ らの混合物を含む。任意の補助界面活性剤 本組成物は、追加の非陰イオン界面活性剤を含んでもよい。好適なこのような 補助界面活性剤としては、非イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤および両性 界面活性剤が挙げられる。 本発明の組成物で使用するのに好適な陽イオン洗剤界面活性剤は、長鎖ヒドロ カルビル基を有するものである。このような陽イオン界面活性剤の例としては、 アンモニウム界面活性剤、例えば、アルキルジメチルアンモニウムハロゲナイド および式 〔Ｒ²（ＯＲ³）_y〕〔Ｒ⁴（ＯＲ³）_y〕₂Ｒ⁵Ｎ⁺Ｘ^- 〔式中、Ｒ²は、アルキル鎖中に約８〜約１８個の炭素原子を有するアルキルま たはアルキルベンジル基であり、各Ｒ³は−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃ ）−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₂ＯＨ）−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−およびそれらの混合 物からなる群から選ばれ；各Ｒ⁴はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ヒドロキシアル キル、ベンジル、２個のＲ⁴基を結合することによって形成された環構造、−Ｃ Ｈ₂ＣＨＯＨ−ＣＨＯＨＣＯＲ⁶ＣＨＯＨＣＨ₂ＯＨ（式中、Ｒ⁶はヘキソースまた は分子量約１０００以下を有するヘキソース重合体）および水素（ｙが０ではな い時）からなる群から選ばれ；Ｒ⁵はＲ⁴と同じであるかアルキル鎖であり、Ｒ² ＋Ｒ⁵の炭素原子の合計数は約１８以下であり；各ｙは０〜約１０であり、ｙ値 の和は０〜約１５であり；Ｘは相容性陰イオンである〕 を有する界面活性剤が挙げられる。 ここで有用な他の陽イオン界面活性剤も、１９８０年１０月１４日発行のキャ ンブレの米国特許第４，２２８，０４４号明細書（ここに参考文献として編入） に記載されている。 両性界面活性剤も、本発明の組成物で使用するのに好適である。これらの界面 活性剤は、脂肪族基が直鎖または分枝鎖であることができる第二級または第三級 アミンの脂肪族誘導体、または複素環式第二級および第三級アミンの脂肪族誘導 体と広く記載できる。脂肪族置換基の１つは、少なくとも約８個の炭素原子、典 型的には約８〜約１８個の炭素原子を有し且つ少なくとも１つは陰イオン水溶化 基、例えば、カルボキシ、スルホネート、サルフェートを含有する。両性界面活 性剤の例に関しては、１９７５年１２月３０日発行のローリン等への米国特許第 ３，９２９，６７８号明細書第１９欄第１８行〜第３５行（ここに参考文献とし て編入）参照。 双性界面活性剤も、本組成物で使用するのに好適である。これらの界面活性剤 は、第二級および第三級アミンの誘導体、複素環式第二級および第三級アミンの 誘導体、または第四級アンモニウム、第四級ホスホニウムまたは第三級スルホニ ウム化合物の誘導体と広く記載できる。双性界面活性剤の例に関しては、１９７ ５年１２月３０日発行のローリン等への米国特許第３，９２９，６７８号明細書 第１９欄第３８行〜第２２欄第４８行（ここに参考文献として編入）参照。 半極性非イオン界面活性剤は、特殊なカテゴリーの非イオン界面活性剤であり 、その例としては、炭素数約１０〜約１８のアルキル部分１個および炭素数約１ 〜約３のアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選ばれる部分２ 個を含有する水溶性アミンオキシド；炭素数約１０〜約１８のアルキル部分１個 および炭素数約１〜約３のアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群か ら選ばれる部分２個を含有する水溶性ホスフィンオキシド；および炭素数約１０ 〜 約１８のアルキル部分１個および炭素数約１〜約３のアルキルおよびヒドロキシ アルキル部分からなる群から選ばれる部分１個を含有する水溶性スルホキシドが 挙げられる。 半極性非イオン洗剤界面活性剤としては、式 （式中、Ｒ³は炭素数約８〜約２２のアルキル、ヒドロキシアルキル、またはア ルキルフェニル基またはそれらの混合物であり；Ｒ⁴は炭素数約２〜約３のアル キレンまたはヒドロキシアルキレン基またはそれらの混合物であり；ｘは０〜約 ３であり；各Ｒ⁵は炭素数約１〜約３のアルキルまたはヒドロキシアルキル基ま たは約１〜約３個のエチレンオキシド基を含有するポリエチレンオキシド基であ る） を有するアミンオキシド界面活性剤が挙げられる。Ｒ⁵基は、例えば、酸素また は窒素原子を通して互いに結合して環構造を形成することができる。 これらのアミンオキシド界面活性剤としては、特にＣ₁₀〜Ｃ₁₈アルキルジメチ ルアミンオキシドおよびＣ₈〜Ｃ₁₂アルコキシエチルジヒドロキシエチルアミン オキシドが挙げられる。 ここで使用するのに好ましい補助界面活性剤は、非イオン界面活性剤である。 ここで好適な非イオン界面活性剤は、アルキルフェノールのポリエチレンオキシ ド縮合物、ポリプロピレンオキシド縮合物およびポリブチレンオキシド縮合物か らなり、ポリエチレンオキシド縮合物が好ましい。これらの化合物としては、直 鎖または分枝鎖配置のいずれかに約６〜約１４個の炭素原子、好ましくは約８〜 約１４個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキルフェノールとアルキレ ンオキシドとの縮合物が挙げられる。好ましい態様においては、エチレンオキシ ドは、アルキルフェノール１モル当たり約５〜約２５モル、より好ましくは約３ 〜約１５モルのエチレンオキシドに等しい量で存在する。この種の市販の非イオ ン界面活性剤としては、ＧＡＦコーポレーションによって市販されているイゲパ ール（Igepal^TM)ＣＯ−６３０、およびローム・エンド・ハース・カンパニーに よって市販されているトリトン（Triton^MT）Ｘ−４５、Ｘ−１１４、Ｘ−１００ およびＸ−１０２が挙げられる。これらの界面活性剤は、通常、アルキルフェノ ールアルコキシレート（例えば、アルキルフェノールエトキシレート）と称する 。 第一級および第二級脂肪族アルコールとエチレンオキシド約１〜約２５モルと の縮合物も、ここで使用するのに好適である。脂肪族アルコールのアルキル鎖は 、直鎖または分枝第一級または第二級であることができ、一般に、約８〜約２２ 個の炭素原子を有する。炭素数約８〜約２０、より好ましくは炭素数約１０〜約 １８のアルキル基を有するアルコールとアルコール１モル当たり約２〜約１０モ ルのエチレンオキシドとの縮合物が、好ましい。この種の市販の非イオン界面活 性剤の例としては、ユニオン・カーバイド・コーポレーションによって市販され ているタージトール（Tergitol^TM）１５−Ｓ−９（Ｃ₁₁〜Ｃ₁₅線状アルコールと エチレンオキシド９モルとの縮合物）、タージトール^TM２４−Ｌ−６ＮＭＷ（狭 い分子量分布を有するＣ₁₂〜Ｃ₁₄第一級アルコールとエチレンオキシド６モルと の縮合物）；シェル・ケミカル・カンパニーによって市販されているネオドール （Neodol^TM）４５−９（Ｃ₁₄〜Ｃ₁₅線状アルコールとエチレンオキシド９モルと の縮合物）、ネオドール^TM２３−６．５（Ｃ₁₂〜Ｃ₁₃線状アルコールとエチレン オキシド６．５モルとの縮合物）、ネオドール^TM４５−７（Ｃ₁₄〜Ｃ₁₅線状アル コールとエチレンオキシド７モルとの縮合物）、ネオドール^TM４５−４（Ｃ₁₄〜 Ｃ₁₅線状アルコールとエチレンオキシド４モルとの縮合物）、およびキロ（Kyro^TM ）ＥＯＢが挙げられる。 また、炭素数約６〜約３０、好ましくは炭素数約１０〜約１６の疎水基および 約１．３〜約１０、好ましくは約１．３〜約３、最も好ましくは約１．３〜約２ ．７個の糖単位を含有する多糖（例えば、ポリグリコシド）親水基を有する１９ ８６年１月２１日発行のレナドの米国特許第４，５６５，６４７号明細書に開示 のアルキル多糖類は、追加の非イオン界面活性剤として有用である。炭素数５ま たは６のいかなる還元糖も、使用でき、例えば、グルコシル部分の代わりにグル コース、ガラクトースおよびガラクトシル部分が、使用できる（場合によって、 疎水基は、２位、３位、４位などで結合して、グルコシドまたはガラクトシドに 対立するものとしてグルコースまたはガラクトースを与える）。糖間結合は、例 えば、追加の糖単位の１位と前の糖単位上の２位、３位、４位および／または６ 位との間にあることができる。 場合によって、それ程望ましくないが、疎水部分と多糖部分とを結合するポリ アルキレンオキシド鎖であることができる。好ましいアルキレンオキシドは、エ チレンオキシドである。典型的な疎水基としては、炭素数約８〜約１８、好まし くは約１０〜約１６の飽和または不飽和分枝または非分枝アルキル基が挙げられ る。好ましくは、アルキル基は、約３個までのヒドロキシ基を含有することがで き且つ／またはポリアルキレンオキシド鎖は、約１０個まで、好ましくは５個未 満のアルキレンオキシド部分を含有することができる。好適なアルキル多糖類は 、オクチル、ノニルデシル、ウンデシルドデシル、トリデシル、テトラデシル、 ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、およびオクタデシル、ジ−、トリ −、テトラ−、ペンタ−、およびヘキサグルコシド、ガラクトシド、ラクトシド 、グルコース、フルクトシド、フルクトースおよび／またはガラクトースである 。好適な混合物としては、ココナツアルキル、ジ−、トリ−、テトラ−、および ペンタグルコシドおよびタローアルキルテトラ−、ペンタ−、およびヘキサ−グ ルコシドが挙げられる。 好ましいアルキルポリグリコシドは、式 Ｒ²Ｏ（Ｃ_nＨ_2nＯ）_t（グルコシル）_x （式中、Ｒ²はアルキル、アルキルフェニル、ヒドロキシルアルキル、ヒドロキ シルアルキルフェニル、およびそれらの混合物からなる群から選ばれ、そしてア ルキル基は約１０〜約１８個、好ましくは約１２〜約１４個の炭素原子を有し； ｎは２または３、好ましくは２であり；ｔは０〜約１０、好ましくは０であり； ｘは約１．３〜約１０，好ましくは約１．３〜約３、最も好ましくは約１．３〜 約２．７である） を有する。グリコシルは、好ましくはグルコースに由来する。これらの化合物を 生成するために、先ず、アルコールまたはアルキルポリエトキシアルコールを生 成し、次いで、グルコースまたはグルコース源と反応させて、グルコシド（１位 で結合）を生成する。次いで、追加のグリコシル単位は、それらの１位と前のグ リコシル単位の２位、３位、４位および／または６位、好ましくは主として２位 との間で結合できる。 好ましいとはいえないが、プロピレンオキシドとプロピレングリコールとの縮 合によって生成された疎水性ベースとエチレンオキシドとの縮合物も、ここで使 用するのに適している。これらの化合物の疎水部分は、好ましくは、分子量約１ ５００〜約１８００を有するであろうし、水不溶性を示すであろう。この疎水部 分へのポリオキシエチレン部分の付加は、全体として分子の水溶性を増大する傾 向があり、生成物の液体特性は、ポリオキシエチレン含量が縮合物の全重量の約 ５０％（約４０モルまでのエチレンオキシドとの縮合に対応）である点まで保持 される。この種の化合物の例としては、ＢＡＳＦによって市販されている商業上 入手可能なプルロニック（Pluronic^TM）界面活性剤の或るものが挙げられる。 また好ましいとはいえないが、プロピレンオキシドとエチレンジアミンとの反 応から生ずる生成物とエチレンオキシドとの縮合物は、ここで非イオン界面活性 剤として使用するのに適している。これらの生成物の疎水部分は、エチレンジア ミンと過剰のプロピレンオキシドとの反応生成物からなり、一般に、分子量約２ ５００〜約３０００を有する。この疎水部分は、縮合物がポリオキシエチレン約 ４０〜約８０重量％を含有し且つ分子量約５，０００〜約１１０００を有する程 度までエチレンオキシドと縮合する。この種の非イオン界面活性剤の例としては 、ＢＡＳＦによって市販されている商業上入手可能なテトロニック（Tetronic^TM ）化合物の或るものが挙げられる。 ここで使用するのに好適な他の非イオン界面活性剤としては、構造式 〔式中、Ｒ¹はＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄ヒドロカルビル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒド ロキシプロピル、またはそれらの混合物、好ましくはＣ₁〜Ｃ₄アルキル、より好 ましくはＣ₁またはＣ₂アルキル、最も好ましくはＣ₁アルキル（即ち、メチル） であり；Ｒ²はＣ₅〜Ｃ₃₁ヒドロカルビル、好ましくは直鎖Ｃ₇〜Ｃ₁₉アルキルま たはアルケニル、より好ましくは直鎖Ｃ₉〜Ｃ₁₇アルキルまたはアルケニル、最 も好ましくは直鎖Ｃ₁₁〜Ｃ₁₇アルキルまたはアルケニル、またはそれらの混合物 であり；Ｚは鎖に直接連結された少なくとも３個のヒドロキシルを有する線状ヒ ドロカルビル鎖を有するポリヒドロキシヒドロカルビルまたはそのアルコキシ化 誘導体（好ましくはエトキシ化またはプロポキシ化）である〕 のポリヒドロキシ脂肪酸アミドが挙げられる。Ｚは、好ましくは還元アミノ化反 応において還元糖から誘導されるであろうし；より好ましくはＺはグリシチルで あろう。好適な還元糖としては、グルコース、フルクトース、マルトース、ラク トース、ガラクトース、マンノース、およびキシロースが挙げられる。原料とし て、高デキストロースコーンシロップが前記の個々の糖類と同様に利用できる。 これらのコーンシロップは、Ｚ用糖成分のミックスを調製することがある。他の 好適な原料を決して排除することを意図しないことを理解すべきである。Ｚは、 好ましくは−ＣＨ₂−（ＣＨＯＨ）_n−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ（ＣＨ₂ＯＨ）−（ＣＨ ＯＨ）_n-1−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂−（ＣＨＯＨ）₂（ＣＨＯＲ′）（ＣＨＯＨ）− ＣＨ₂ＯＨ（式中、ｎは３〜５の整数であり、Ｒ′はＨまたは環式または脂肪族 単糖である）、およびそれらのアルコキシ化誘導体からなる群から選ばれるであ ろう。ｎが４であるグリシチル、特に−ＣＨ₂−（ＣＨＯＨ）₄−ＣＨ₂ＯＨが、 最も好ましい。 式（Ｉ）中、Ｒ¹は、例えば、Ｎ−メチル、Ｎ−エチル、Ｎ−プロピル、Ｎ− イソプロピル、Ｎ−ブチル、Ｎ−２−ヒドロキシエチル、またはＮ−２−ヒドロ キシプロピルであることができる。 Ｒ²−ＣＯ−Ｎ＜は、例えば、ココアミド、ステアロアミド、オレオアミド、 ラウリンアミド、ミリストアミド、カプリンアミド、パルミトアミド、タローア ミドなどであることができる。 Ｚは、１−デオキシグルシチル、２−デオキシフルクチチル、１−デオキシマ ルチチル、１−デオキシラクチチル、１−デオキシガラクチチル、１−デオキシ マンニチル、１−デオキシマルトトリオチチルなどであることができる。 アルキルフェノールのポリエチレンオキシド縮合物、第一級および第二級脂肪 族アルコールとエチレンオキシド約１〜約２５モルとの縮合物、アルキル多糖類 、およびそれらの混合物が、ここで非イオン界面活性剤として使用するのに好ま しい。３〜１５個のエトキシ基を有するＣ₈〜Ｃ₁₄アルキルフェノールエトキシ レートおよび２〜１０個のエトキシ基を有するＣ₈〜Ｃ₁₈アルコールエトキシレ ート（好ましくは平均Ｃ₁₀）、およびそれらの混合物が、最も好ましい。ここで 使用するのに好ましい補助界面活性剤は、グリース上でのクリーニング作用のた め に非イオン界面活性剤である。 本組成物は、全組成物の０．２〜９０重量％、好ましくは１〜５０重量％、最 も好ましくは２〜２０重量％の前記補助界面活性剤またはそれらの混合物を含ん でもよい。正の二価イオン 第二必須成分として、本組成物は、組成物に存在する陰イオン界面活性剤を飽 和するための量の正の二価イオンを含む。「飽和」とは、組成物に存在する実質 上すべての陰イオン界面活性剤（即ち、陰イオン界面活性剤の負電荷）、即ち、 陰イオン界面活性剤の少なくとも７５％、好ましくは陰イオン界面活性剤の少な くとも８０％、最も好ましくは少なくとも９０％またはすべてを結合するのに十 分な正の二価イオンがあるべきであることをここで意味する。陰イオン界面活性 剤の異なる種は、界面活性剤１モル当たり異なる数の陰イオンを有する。したが って、１００％飽和の場合には、Ｘが組成物に存在する陰イオン界面活性剤１モ ル当たりの負電荷の数であるならば、本組成物は、正の二価イオン対陰イオン界 面活性剤のモル比少なくともＸ：２の正の二価イオンを含むであろう。そして本 発明の目的およびそこで必要とされる正の二価イオンの量のためには、陰イオン 界面活性剤の陰イオンが存在する形（プロトン付加またはプロトン付加ではない ）は、重要とはいえない。 ここで使用するのに好適な正の二価イオンとしては、Ｍｇ²⁺、Ｂａ²⁺、Ｆｅ²⁺ ，Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺およびＮｉ²⁺が挙げられる。Ｍｇ²⁺およびＣａ²⁺、またはそれ らの混合物が、最も好ましい。イオンは、組成物にいかなる形でも導入できる。 Ｍｇに関する限り、ＭｇＣｌ₂は、商業上魅力的であることが見出された。しか しながら、ＭｇＳＯ₄およびＭｇＮＯ₃も、本組成物に好適なＭｇイオン源である 。理論によって限定するものではないが、本発明者等は、本発明のイオンはビル ダーがクリーニング操作を遂行するのを防止せずに、ビルダーが大理石中のカ ルシウムと結合するのをどういうわけか防止すると推測する。別の態様において は、陰イオン界面活性剤と二価正イオンとの塩は、組成物に導入前に予備生成で きる。ｐＨ 第三の必須の特徴としては、本組成物は、弱酸性から弱アルカリ性ｐＨに処方 される。従って、本組成物は、好ましくはｐＨ６〜９、より好ましくは６．５〜 ８、最も好ましくは６．５〜７．５を有する。より低いｐＨにおいては、組成物 は、大理石を損傷するであろうし、一方、より高いｐＨにおいては、ラッカーを 損傷するであろう。興味深いことに、本組成物を処方できる中性ｐＨにおいてさ え、飽和イオンの不在下で大理石の損傷が観察されるであろう。本組成物のｐＨ は、当業者に周知の手段のいずれか、例えば、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＭＥＡ、ＴＥ Ａ、ＭＤＥＡ、Ｋ₂ＣＯ₃、Ｎａ₂ＣＯ₃など、または硫酸、硝酸、塩酸、酢酸など の添加によって調整できる。強ビルダーを含まないこと 本組成物は強ビルダーを含まないことが必須である。強ビルダーとは、ここで 後述のポリカルボキシレートおよびポリホスフェートを意味する。 ここで除外される強ポリカルボキシレートは、有機ポリカルボキシレート（２ ５℃／０．１Ｍイオン強度で測定した最高ＬｏｇＫａは３〜８であり、２５℃／ ０．１Ｍイオン強度で測定したＬｏｇＫＣａとＬｏｇＫＭｇとの和は４より高く 且つ２５℃／０．１Ｍイオン強度で測定したＬｏｇＫＣａ＝ＬｏｇＫＭｇ±２単 位である）である。 このようなポリカルボキシレートとしては、サイトレートおよび式 ＣＨ(Ａ)(ＣＯＯＸ)-ＣＨ(ＣＯＯＸ)-Ｏ-ＣＨ(ＣＯＯＸ)-ＣＨ(ＣＯＯＸ) (Ｂ) （式中、ＡはＨまたはＯＨであり；ＢはＨまたは−Ｏ−ＣＨ（ＣＯＯＸ）−ＣＨ₂ （ＣＯＯＸ）であり、ＸはＨまたは塩形成陽イ オンである） の複合体が挙げられる。例えば、前記一般式中、ＡおよびＢが両方ともＨである ならば、化合物は、オキシジコハク酸およびその水溶性塩である。ＡがＯＨ、Ｂ がＨであるならば、化合物は、タルトレートモノコハク酸（ＴＭＳ）およびその 水溶性塩である。ＡがＨ、Ｂが−Ｏ−ＣＨ（ＣＯＯＸ）−ＣＨ₂（ＣＯＯＸ）で あるならば、化合物は、タルトレートジコハク酸（ＴＤＳ）およびその水溶性塩 である。これらのビルダーの混合物は、ここで使用するのに特に好ましい。特に ＴＭＳ対ＴＤＳの場合には、これらのビルダーは、１９８７年５月５日にブッシ ュ等に発行の米国特許第４，６６３，０７１号明細書に開示されている。 ここで除外されるさらに他のエーテルポリカルボキシレートとしては、無水マ レイン酸とエチレンまたはビニルメチルエーテルとの共重合体、１，３，５−ト リヒドロキシベンゼン−２，４，６−トリスルホン酸、およびカルボキシメチル オキシコハク酸が挙げられる。 ここで除外される他のポリカルボキシレートビルダーは、構造 ＨＯ−〔Ｃ（Ｒ）（ＣＯＯＭ）−Ｃ（Ｒ）（ＣＯＯＭ）−Ｏ〕_n−Ｈ 〔式中、Ｍは水素または陽イオン（得られる塩は水溶性）、好ましくはアルカリ 金属、アンモニウムまたは置換アンモニウム陽イオンであり、ｎは約２〜約１５ であり（好ましくは、ｎは約２〜約１０、より好ましくはｎは平均約２〜約４） 、各Ｒは同じであるか異なり、水素、Ｃ_{1 〜4}アルキルまたはＣ_{1 〜4}置換アルキル から選ばれる〕 で表わされるエーテルヒドロキシポリカルボキシレートである。 また、除外されるエーテルポリカルボキシレートは、環式化合物、特に脂環式 化合物、例えば、米国特許第３，９２３，６７９号明細書、第３，８３５，１６ ３号明細書、第４，１５８，６３５号明細書、第４，１２０，８７４号明細書お よび第４，１０２，９０３号明細書（これらのすべてをここに参考文献として編 入）に記載のもの、特にジピコリン酸およびケリダン酸である。 また、ここで除外されるポリカルボキシレートは、メリト酸、コハク酸、ポリ マレイン酸、ベンゼン１，３，５−トリカルボン酸、ベンゼンペンタカルボン酸 、およびカルボキシメチルオキシコハク酸、およびそれらの可溶性塩である。 ここで除外されたなお他のカルボキシレートビルダーは、１９７３年３月２８ 日発行のディールの米国特許第３，７２３，３２２号明細書（ここに参考文献と して編入）に開示のカルボキシル化炭水化物である。 ここで除外される他のカルボキシレートは、ポリ酢酸のアルカリ金属塩、アン モニウム塩および置換アンモニウム塩である。ポリ酢酸ビルダー塩の例は、エチ レンジアミン四酢酸およびニトリロ三酢酸のナトリウム塩、カリウム塩、リチウ ム塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩である。 ここで除外される他のポリカルボキシレートは、アルキルイミノ酢酸ビルダー として既知のもの、例えば、メチルイミノ二酢酸、アラニン二酢酸、メチルグリ シン二酢酸、ヒドロキシプロピレンイミノ二酢酸および他のアルキルイミノ酢酸 ビルダーである。 また、１９８６年１月２８日発行のブッシュの米国特許第４，５６６，９８４ 号明細書（ここに参考文献として編入）に開示の３，３−ジカルボキシ−４−オ キサ−１，６−ヘキサンジオートおよび関連化合物は、本発明の組成物から除外 される。コハク酸ビルダーとしては、Ｃ５〜Ｃ20アルキルコハク酸およびそれら の塩、特にドデセニルコハク酸が挙げられる。ここで除外されるアルキルコハク 酸は、典型的には、一般式 Ｒ−ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ₂（ＣＯＯＨ）を有し、 即ち、コハク酸の誘導体である（式中、Ｒは炭化水素、例えば、Ｃ₁₀〜Ｃ₂₀アル キルまたはアルケニルであり、またはＲは前記特許に記載のようなヒドロキシル 、スルホ、スルホキシまたはスルホン置換基で置換してもよい）。 ここで除外されるスクシネートビルダーの特定例は、コハク酸ラウリル、コハ ク酸ミリスチル、コハク酸パルミチル、コハク酸２−ドデセニル、コハク酸２− ペンタデセニルなどである。 除外されるビルダーの他の例は、ナトリウムおよびカリウムのカルボキシメチ ルオキシマロン酸塩、カルボキシメチルオキシコハク酸塩、ｃｉｓ−シクロヘキ サンヘキサカルボン酸塩、ｃｉｓ−シクロペンタンテトラカルボン酸塩、水溶性 ポリアクリル酸塩および無水マレイン酸とビニルメチルエーテルまたはエチレン との共重合体の塩である。 除外される他のポリカルボキシレートは、１９７９年３月１３日発行のクラッ チフィールド等の米国特許第４，１４４，２２６号明細書（ここに参考文献とし て編入）に開示のポリアセタールカルボキシレートである。 除外されるポリカルボキシレートビルダーは、１９６７年３月７日発行のディ ールの米国特許第３，３０８，０６７号明細書（ここに参考文献として編入）に も開示されている。このような物質は、マレイン酸、イタコン酸、メサコン酸、 フマル酸、アコニット酸、シトラコン酸、メチレンマロン酸などの脂肪族カルボ ン酸の単独重合体および共重合体の水溶性塩である。 ここで除外されるポリホスホネートは、ポリリン酸（トリポリホスフェート、 ピロホスフェート、およびガラス状高分子メタホスフェートによって例証）、ホ スホン酸のアルカリ金属塩、アンモニウム塩およびアルカノールアンモニウム塩 である。 本組成物は、香料、および染料を含めて各種の周知の任意成分を更に含むこと ができる。しかしながら、本組成物は、ビルダーを含まず且つラッカーを損傷す るであろう溶媒を実質上含むべきではない。 本発明の特に好ましい組成物は、有効量の式 ＸＨＣＯ₃（Ｘはアルカリ金属 、特にＫ⁺、Ｎａ⁺、またはＮＨ₄ ⁺である）のカーボネートを含む。事実、前記ｐ Ｈ調整効果のほかに、本発明者等は、それらの化合物の存在がデリケートな表 面に対する本組成物の安全性を更に改善することを見出した。理論によって限定 するものではないが、化合物は大理石の表面上のカルシウムと反応して大理石／ 溶液界面において不溶性炭酸カルシウム塩を生成し、保護層を作ると考えられる 。これらの化合物を前記飽和テクノロジーに加えて使用することは、デリケート な表面安全性に相乗効果を与える。本組成物で必要とされるこれらの化合物の量 は、試行錯誤によって決定できるが、全組成物の０．０５〜０．４重量％、好ま しくは０．０５〜０．１重量％の範囲内であるらしい。しかしながら、本発明者 等は余りに多い量のＸＨＣＯ₃がラッカー塗木材上の表面安全性に有害にさせる ことを観察したので、注意を払うことが必要である。 本発明は、大理石またはラッカー塗表面のクリーニング法を更に包含する。そ の方法においては、前記のような有効量の組成物は、前記大理石またはラッカー 塗表面上に適用し、前記組成物は場合によって除去する。 クリーニングすべき表面に応じて、本組成物は、未希釈、即ち、ニート(neat) 、または希釈して使用できる。典型的には、フロアなどの大きい表面上で使用す る時には、本組成物は、希釈形、即ち、製品がどの位濃縮されているかに応じて 、約０．５％〜１．５％の希釈水準で使用される。このような希釈状態において は、本組成物は、前記表面に適用し、乾燥させておき、即ち、すすぎは必要とさ れない。これらの表面上のやっかいなしみを除去するためには、製品は、表面上 にニートで適用して、外皮を形成した汚れをはるかに容易に除去することもでき る。より小さい表面、例えば、大理石から作ることができる浴室壁上で使用する 時には、組成物のニート使用が好ましいであろう。ニート使用においては、組成 物は、クリーニングするために適用した後に、除去するであろうし、即ち、すす ぎ落とすことが好ましい。 本発明は、下記の実施例によって更に例示する。実施例 下記の組成物は、表示の割合の表示の成分を混合することによって調製した。 これらの組成物は、大理石をクリーニングするためにはニートで使用し、ラッカ ー塗木材フロアをクリーニングするためには希薄して使用した。優秀なクリーニ ングおよび表面安全性性能が、観察された。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 少なくとも１種の陰イオン界面活性剤を含み、強ビルダーを含まず、弱 酸性から弱アルカリ性のｐＨで処方され、組成物に存在する陰イオン界面活性剤 を飽和するための量の正の二価イオンを含むことを特徴とする液体クリーニング 組成物。 ２． ６〜９、好ましくは６．５〜８、最も好ましくは６．５〜７．５のｐＨ 範囲内で処方されている、請求項１に記載の組成物。 ３． 全組成物の０．１〜３０重量％、好ましくは０．１〜２０重量％、最も 好ましくは０．１〜１０重量％の前記陰イオン界面活性剤を含む、請求項または ２に記載の組成物。 ４． 前記組成物が、非イオン補助界面活性剤を更に包含する、請求項１〜３ のいずれか１項に記載の組成物。 ５． 前記の正の二価イオンが、最も好ましくはＭｇ²⁺、Ｃａ²⁺またはそれら の混合物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。 ６． 有効量の式 ＸＨＣＯ₃（式中、Ｘはアルカリ金属またはアンモニウム イオンである）のカーボネートを更に含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載 の組成物。 ７． 請求項１〜６のいずれか１項に記載の有効量の組成物を適用して、大理 石またはラッカー塗表面をクリーニングし、前記組成物を場合によって除去する ことを特徴とする、大理石またはラッカー塗表面のクリーニング法。