JP2000503012A - 置換(アリール、ヘテロアリール、アリールメチル又はヘテロアリールメチル)ヒドロキサム酸化合物 - Google Patents

置換(アリール、ヘテロアリール、アリールメチル又はヘテロアリールメチル)ヒドロキサム酸化合物

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Abstract

(57)【要約】 本発明は式Iの化合物を意図し、ここで置摸基は本明細書に記載した通りである。本発明の範囲内の化合物は有用な諸特性、より具体的には薬理特性をもつ。これらは、生理的に有害な程に過剰の腫瘍壊死因子(TNF)と関連する疾患状態に罹った患者の治療において、TNF の生産またはその生理的作用を阻害するのに特に有用である。本発明の範囲内の化合物は、また環状AMP ホスホジエステラーゼを阻害し、かつ環状AMP ホスホジエステラーゼ、特にタイプIの環状AMP ホスホジエステラーゼを阻害することにより改善される病理的状態に関連する疾患状態、例えば炎症および自己免疫疾患の治療において有用である。また、本発明の範囲内の化合物は、MMP を阻害することもでき、従ってMMP を阻害することにより改善される病理的状態に関連する疾患状態、例えば組織破壊、並びに生理的に有害な程に過剰のTNF と関連する疾患状態を治療するのに有用である。従って、本発明は該化合物の薬理的使用、該化合物を含有する薬理組成物、該化合物に導く中間体、および該化合物およびその中間体の製造方法をも意図する。

Description

【発明の詳細な説明】置換(アリール、ヘテロアリール、アリールメチル又はヘテロアリールメチル) ヒドロキサム酸化合物 発明の分野 本発明は(アリール、ヘテロアリール、アリールメチル又はヘテロアリールメ チル)]ヒドロキサム酸化合物、それらの調製、これらの化合物を含む医薬組成 物、及びマトリックスメタロプロテイナーゼ(MMP)、腫瘍壊死因子(TNF)又は環状 AMP ホスホジエステラーゼを抑制することにより調節し得る細胞活性を媒介する タンパク質と関連する症状の治療におけるそれらの医薬上の使用、又は細胞活性 を媒介するそれと関連するタンパク質に関する。又、本発明は(アリール、ヘテ ロアリール、アラルキル又はヘテロアラルキル)ヒドロキサム酸化合物を調製す るのに有益な中間体に関する。 TNF の如きサイトカインの異常に高い生理学的レベルと関連する症状が本発明 に従って治療可能である。TNF は腫瘍の出血性壊死を生じ、かつその他の重要な 生物活性を有する重要なプロ炎症サイトカインである。TNF はその他の細胞の中 でも活性化マクロファージ、活性化Tリンパ球、ナチュラルキラー細胞、マスト 細胞並びに好塩基性細胞、繊維芽細胞、内皮細胞及び脳星状細胞により放出され る。 TNF の主たるin vivo 作用は炎症及び異化として広く分類し得る。それは内毒 素ショック、関節及び気道の炎症、免疫不全症状、同種移植拒絶の媒介物質とし て、又、悪性腫瘍疾患及び幾つかの寄生虫感染症と関連する悪液質に関係してい た。敗血症、移植片対宿主疾患及び急性呼吸困難症候群の不十分な予知とのTNF の高血清レベルの関連、並びに多くのその他の免疫学的プロセスにおけるその役 割に鑑みて、この因子は全般の炎症の重要な媒介物質と見なされる。 TNF は好中球、好酸球、繊維芽細胞及び内皮細胞を感作又は活性化して組織損 傷媒介物質を放出する。又、TNF は単球、マクロファージ及びTリンパ球を活性 化してコロニー刺激因子及びその他のプロ炎症サイトカイン、例えば、IL1 、 IL6 、IL8 及びGM-CSFの産生を生じ、これらが或る場合にTNF の最終効果を媒介 する。Tリンパ球、単球、マクロファージ及び関連細胞を活性化するTNF の能力 はヒト免疫不全ウイルス(HIV)感染症の進行に関係していた。これらの細胞がHIV で感染されるようになり、HIV 複製が起きるためには、細胞が活性化状態で維持 される必要がある。TNF の如きサイトカインは単球及びマクロファージ中でHIV 複製を活性化することが示されていた。内毒素ショック、例えば、発熱、代謝性 アシドーシス、低血圧及び脈管内凝固の特徴は海馬に対するTNF の作用により媒 介され、又、血管内皮細胞の血液凝固阻止活性を低下する際に媒介されるものと 考えられる。或る症状と関連する悪液質はタンパク質異作用に対する間接的作用 により媒介される。又、TNF は骨吸収及び急性期タンパク質合成を促進する。 TNF と関連する症状に関する本明細書中の説明はTNF それ自体の産生に関する 疾患、及びTNF との会合により調節されるその他のサイトカイン、例えば、IL-1 、又はIL-6(これらに限定されない)と関連する症状を含む。それ故、例えば、 IL-1関連症状は、IL-1産生又は作用がTNF に応答して再燃又は分泌される場合、 TNFと関連する症状と考えられるであろう。又、TNF-α及びTNF-βは特にことわ らない限り本明細書中で集約的に“TNF”と称される。何となれば、TNF-α(カ ケクチン)とTNF-β(リンホトキシン)の間に密接な構造相同性があり、それら の夫々が同様の生物学的応答を誘発し、同じ細胞レセプターに結合する能力を有 するからである。 又、酵素(これらは二次細胞メッセンジャーと関連する)、例えば、環状AMP ホスホジエステラーゼを抑制することにより調節される病状と関連する症状が本 発明に従って治療可能である。環状AMP ホスホジエステラーゼは環状AMP レベル を調節し、順に、それによりその他の重要な生物学的反応を調節する重要な酵素 である。それ故、型IV環状AMP ホスホジエステラーゼを含む、環状AMP ホスホジ エステラーゼを調節する能力は種々雑多の生物学的状態を治療することができる ものと関係していた。特に、型IV環状AMP ホスホジエステラーゼのインヒビター は気管支拡張剤及び喘息予防剤としてかかわっており、又、好酸球蓄積を抑制し 、好酸球の機能の抑制のための薬剤としてかかわっており、又、病的好酸球蓄積 を伴う病因を特徴とし、又はその病因を有するその他の疾患及び症状を治療する た めの薬剤としてかかわっていた。又、環状AMP ホスホジエステラーゼのインヒビ ターは炎症性疾患、増殖性皮膚疾患及び脳代謝抑制と関連する症状を治療するこ とに関係している。 マトリックスメタロプロテイナーゼ(MMP)、特に、コラゲナーゼ、ストロメリ シン及びゼラチナーゼの活性と関連する症状、又はSchwartz MA,Van Wart HE, Prog.Med.Chem.,29,271-334(1992)により記載されたような症状が本発明に従 って治療可能である。こうして、本発明は式Iの化合物、及び式Iの化合物を含 む組成物を提供し、これらはMMP のインヒビターの投与により回復又は防止し得 る症状を患っており、又はかかり易い患者の治療方法に使用される。例えば、本 発明の化合物は結合組織破壊の抑制並びにこのような組織破壊を伴う症状、例え ば、慢性関節リウマチ、骨関節炎、オステオペニア、例えば、骨多孔症、歯根膜 21炎、歯肉炎、角膜表皮潰瘍又は胃潰瘍、及び腫瘍転移、浸潤及び増殖の治療 又は予防に有益である。又、MMP インヒビターとしての本発明の範囲内の化合物 はTNFの産生を抑制でき(Mohler ら,Nature,370,218-220(1994); Gearing AJH ら,Nature,370,555- 557(1994): McGeehan GM ら,Nature,370,558-561(19 94))、こうして、TNF の産生又は作用の抑制が上記のようにTNF の有害な量と関 連する症状の治療又は予防に潜在的に有益であると考えられる症状の治療又は予 防に有益である。 報告された開発 EP特許出願公開No.606046-A1 は慢性関節リウマチ、組織潰瘍、骨の病気、腫 瘍転移及びHIV 感染症の治療に有益であるマトリックスメタロプロテイナーゼイ ンヒビターである式 の化合物に関する。その文献はその化合物がTNF を抑制することを開示していな いし、又は示唆していない。 日本特許出願公開第JP07196598-Aは、式(式中、R1 はアルキル基を表し、R2 は水素原子、低級アルキル基又はベンジ ル基を表し、R3 は水素原子又は低級アルキル基を表し、Xは硫黄原子、スルフ ィニル基又はスルホニル基を表してもよく、Yは酸素原子又はNHを表し、かつ nは1〜3の整数を表す)の化合物が慢性関節リウマチ、骨関節炎、腫瘍浸潤及 び骨吸収を治療し、予防するのに有益であるコラゲナーゼインヒビターであるこ とを開示している。その文献はその化合物がTNF を抑制することを開示していな いし、又は示唆していない。 発明の要約 本発明は式I: の化合物又はそのn−オキサイド、その溶媒和物、その水和物もしくはその医薬 上許される塩に関する。 式中、 R1 水素、必要により置換されていてもよいアルキル、必要により置換されて いてもよいアルケニル、必要により置換されていてもよいシクロアルキル、必 要により置換されていてもよいシクロアルケニル、必要により置換されていても よいアリール、必要により置換されていてもよいヘテロアリール、必要により置 換されていてもよいアラルキル、必要により置換されていてもよいヘテロアラル キル、必要により置換されていてもよいアラルキルオキシアルキル、必要により 置換されていてもよいアリールオキシアルキル、ヒドロキシ、必要により置換さ れていてもよいアルコキシ、必要により置換されていてもよいアリールオキシ、 必要により置換されていてもよいアラルキルオキシ、Y3 Y4 N−、Y1 Y2 N CO−アルキル、アリール−SO2 Y1 N−アルキル、アリールスルファニルア ルキル、アリールスルフィニルアルキル、アリールスルホニルアルキル、シクロ カルバモイルアルキル又はイミドアルキルであり、 R2 、R4 、R5 、R6 は独立に水素又は必要により置換されていてもよいア ルキルであり、又はR2 及びR4 はR2 及びR4 が結合されている炭素原子と一 緒にされて必要により置換されていてもよいシクロアルキル又は必要により置換 されていてもよいシクロアルケニルを形成し、又はR1 及びR2 はR1 及びR2 が結合されている炭素原子と一緒にされて必要により置換されていてもよいシク ロアルキルを形成し、 R3 は必要により置換されていてもよいアルキル、必要により置換されていて もよいアルケニル、必要により置換されていてもよいシクロアルキル、必要によ り置換されていてもよいシクロアルケニル、必要により置換されていてもよいア リール、必要により置換されていてもよいヘテロアリール、必要により置換され ていてもよいアラルキル、必要により置換されていてもよいアラルケニル、必要 により置換されていてもよいアラルキニル、必要により置換されていてもよいヘ テロアラルキル、必要により置換されていてもよいヘテロアラルケニル、必要に より置換されていてもよいヘテロアラルキニル、必要により置換されていてもよ いアルキルオキシアルキル、必要により置換されていてもよいアリールオキシア ルキル、必要により置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、必要 により置換されていてもよいアリールオキシアルケニル、必要により置換されて いてもよいヘテロアリールオキシアルケニル、必要により置換されていてもよい アラルキルオキシアルキル、必要により置換されていてもよいアラルキルオキシ アルケニル、必要により置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシアルキル 、必要により置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシアルケニル、必要に より置換されていてもよいシクロアルキルオキシ、必要により置換されていても よいシクロアルキルオキシアルキル、必要により置換されていてもよい複素環、 必要により置換されていてもよい複素環オキシアルキル又は必要により置換され ていてもよい複素環オキシ、Y3 Y4 Nアルキル、Y1 Y2 NCO2 アルキル、 Y1 Y2 NCO−アルキル、イミドアルキルであり、又はR3 及びR4 はR3 及 びR4 が結合されている炭素と一緒にされて必要により置換されていてもよいシ クロアルキルを形成し、又はR1 及びR2 の一つとR3 及びR4 の一つはR1 及 びR2 の一つとR3 及びR4 の一つが結合されている炭素と一緒にされて結合又 は必要により置換されていてもよいシクロアルキルもしくは必要により置換され ていてもよいシクロアルケニルを形成し、 Arは必要により置換されていてもよいアリール又は必要により置換されていて もよいヘテロアリールであり、 Y1 及びY2 は独立に水素、必要により置換されていてもよいアルキル、必要 により置換されていてもよいアリール又は必要により置換されていてもよいアラ ルキルであり、又はY1 及びY2 はY1 及びY2 が結合されている窒素原子と一 緒にされて必要により置換されていてもよい複素環を形成し、 Y3 及びY4 は独立にY1 及びY2 、又は必要により置換されていてもよいア シル、必要により置換されていてもよいアロイル、必要により置換されていても よいアラルキルオキシカルボニル、必要により置換されていてもよいヘテロアラ ルキルオキシカルボニルもしくは必要により置換されていてもよいアルコキシカ ルボニルであり、 nは0、1又は2であり、 mは0又は1であり、 pは0又は1であり、かつ qは0又は1である。 本発明の範囲内の化合物は有益な性質、更に特別には医薬特性を有する。それ らは生理学的に有害な過剰の腫瘍壊死因子(TNF)と関連する疾患を患っている患 者の治療においてTNF の産生又は生理学的効果を抑制するのに特に有益である。 又、本発明の範囲内の化合物は環状AMP ホスホジエステラーゼを抑制し、又、環 状AMP ホスホジエステラーゼを抑制することにより調節される病状と関連する症 状、例えば、炎症及び自己免疫疾患、特に型IV環状AMP ホスホジエステラーゼを 含むこのような症状を治療するのに有益である。又、本発明の範囲内の化合物は マトリックスメタロプロテイナーゼを抑制し、MMP を抑制することにより調節さ れる病状と関連する症状、例えば、組織破壊を伴うこのような症状及び生理学的 に有害な過剰のTNF と関連する症状を治療するのに有益である。それ故、本発明 は又これらの化合物の医薬上の使用、これらの化合物を含む医薬組成物、それら をもたらす中間体並びにこれらの化合物及びそれらの中間体の調製方法に関する 。 発明の詳細な説明 先に使用され、又本発明の説明中に使用される以下の用語は、特にことわらな 限り、以下の意味を有するものと理解されるべきである。 定義 “患者”はヒト及びその他の哺乳類の両方を含む。 “アルキル”は鎖中に約1個〜約15個の炭素原子を有する、直鎖又は分枝して いてもよい脂肪族炭化水素基を意味する。好ましいアルキル基は鎖中に1個〜約 12個の炭素原子を有する。分枝は、一つ以上の低級アルキル基、例えば、メチル 、エチル又はプロピルが線状アルキル鎖に結合されていることを意味する。“低 級アルキル”は直鎖又は分枝していてもよい鎖中の約1個〜約4個の炭素原子を 意味する。アルキル基は一つ以上のヒドロキシ、ハロ、シクロアルキル、シクロ アルケニル又は複素環により置換されていてもよい。アルキル基の例として、メ チル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、シクロプロピ ルメチル、シクロペンチルメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n− ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、3−ペンチル、ヘプチル、オクチル、ノニ ル、 デシル及びドデシルが挙げられる。 “アルケニル”は炭素−炭素二重結合を含み、かつ鎖中に約2個〜約15個の炭 素原子を有して直鎖又は分枝していてもよい脂肪族炭化水素基を意味する。好ま しいアルケニル基は鎖中に2個〜約12個の炭素原子、更に好ましくは鎖中に約2 個〜約4個の炭素原子を有する。分枝は、一つ以上の低級アルキル基、例えば、 メチル、エチル又はプロピルが線状アルケニル鎖に結合されていることを意味す る。“低級アルケニル”は直鎖又は分枝していてもよい鎖中の約2個〜約4個の 炭素原子を意味する。アルケニル基は一つ以上のハロ又はシクロアルキルにより 置換されていてもよい。アルケニル基の例として、エテニル、プロペニル、n− ブテニル、i−ブテニル、3−メチルブタ−2−エニル、n−ペンテニル、ヘプ テニル、オクテニル、シクロヘキシルブテニル及びデセニルが挙げられる。 “シクロアルキル”は約3個〜約10個の炭素原子の非芳香族単環式環系又は多 環式環系を意味する。好ましい単環式シクロアルキル環として、シクロペンチル 、フルオロシクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチルが挙げられる。 シクロペンチルが更に好ましい。シクロアルキル基は一つ以上のハロ、メチレン (H2C=)、アルキル、アラルキル、ヘテロアラルキル、縮合アリール又は縮合ヘテ ロアリールにより置換されていてもよい。多環式シクロアルキル環の例として、 1−デカリン、アダマント−(1−又は2−)イル及びノルボルニルが挙げられ る。 “シクロアルケニル”は炭素−炭素二重結合を含み、かつ約3個〜約10個の炭 素原子を有する非芳香族単環式環系又は多環式環系を意味する。好ましい単環式 シクロアルケニル環として、シクロペンテニル、シクロヘキセニル又はシクロヘ プテニルが挙げられる。シクロペンテニルが更に好ましい。好ましい多環式シク ロアルケニル環はノルボルニレニルである。シクロアルケニル基は一つ以上のハ ロ、メチレン(H2C=)、アルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルにより置換さ れていてもよい。 “アリール”は約6個〜約10個の炭素原子を含む芳香族炭素環基を意味する。 アリールの例として、フェニルもしくはナフチル、又は一つ以上のアリール基置 換基(これらは同じであってもよく、又異なっていてもよい)で置換されたフェ ニルもしくはナフチルが挙げられ、この場合、“アリール基置換基”として、水 素、アルキル、アリール、アラルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキ シ、アラルコキシ、カルボキシ、アシル、アロイル、ハロ、ニトロ、シアノ、カ ルボキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルコキシカ ルボニル、アシルアミノ、アロイルアミノ、アルキルスルホニル、アリールスル ホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルチオ、アリー ルチオ、アラルキルチオ、オキシアルキレニルオキシ、Y1 Y2 N−、Y1 Y2 NCO−又はY1 Y2 NSO2 −(式中、Y1 及びY2 は独立に水素、アルキル 、アリール、及びアラルキルである)が挙げられる。好ましいアリール基置換基 として、水素、アルキル、ヒドロキシ、アシル、アロイル、ハロ、ニトロ、シア ノ、アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アルキルチオ、Y1 Y2 N−、Y1 Y2 NCO−又はY1 Y2 NSO2 −(式中、Y1 及びY2 は独立に水素及びア ルキルである)が挙げられる。 “ヘテロアリール”は約5員〜約10員の芳香族単環式炭化水素環系又は多環式 炭化水素環系(その環系中の一つ以上の炭素原子は炭素以外の一つ以上の元素、 例えば、窒素、酸素又は硫黄である)を意味する。又、“ヘテロアリール”は一 つ以上のアリール基置換基により置換されていてもよい。ヘテロアリール基の例 として、ピラジニル、フラニル、チエニル、ピリジル、ピリミジニル、イソオキ サゾリル、イソチアゾリル、キノリニル、及びイソキノリニルが挙げられる。好 ましいヘテロアリール基として、ピラジニル、チエニル、ピリジル、ピリミジニ ル、イソオキサゾリル及びイソチアゾリルが挙げられる。 “複素環”は約4員〜約10員の単環式環系又は多環式環系(その環系中の一つ 以上の原子は窒素、酸素又は硫黄の中から選ばれた炭素以外の元素である)を意 味する。複素環は必要により一つ以上のアルキル基置換基により置換されていて もよい。複素環部分の例として、キヌクリジン、ペンタメチレンスルフィド、テ トラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピロリジニル又はテトラヒド ロフラニルが挙げられる。 “アラルキル”はアリール−アルキル−基(そのアリール及びアルキルは先に 記載されたとおりである)を意味する。好ましいアラルキルは低級アルキル部分 を含む。アラルキル基の例として、ベンジル、2−フェネチル及びナフタレンメ チルが挙げられる。 “アラルケニル”はアリール−アルケニル−基(そのアリール及びアルケニル は先に記載されたとおりである)を意味する。好ましいアラルケニルは低級アル ケニル部分を含む。アラルケニル基の例として、スチリル及びフェニルアリルが 挙げられる。 “アラルキニル”はアリール−アルキニル−基(そのアリール及びアルキニル は先に記載されたとおりである)を意味する。好ましいアラルキニルは低級アル キニル部分を含む。アラルキニル基の例はフェニルアセチレニルである。 “ヘテロアラルキル”はヘテロアリール−アルキル−基(そのヘテロアリール 及びアルキルは先に記載されたとおりである)を意味する。好ましいヘテロアラ ルキルは低級アルキル部分を含む。ヘテロアラルキル基の例は4−ピリジルメチ ルである。 “ヘテロアラルケニル”はヘテロアリール−アルケニル−基(そのヘテロアリ ール及びアルケニルは先に記載されたとおりである)を意味する。好ましいヘテ ロアラルケニルは低級アルケニル部分を含む。アラルケニル基の例は4−ピリジ ルビニルである。 “ヘテロアラルキニル”はヘテロアリール−アルキニル−基(そのヘテロアリ ール及びアルキニルは先に記載されたとおりである)を意味する。好ましいヘテ ロアラルキニルは低級アルキニル部分を含む。ヘテロアラルキニル基の例は4− ピリジルエチニルである。 “複素環アルキル”は複素環−アルキル−基(その複素環及びアルキルは先に 記載されたとおりである)を意味する。好ましい複素環アルキルは低級アルキル 部分を含む。複素環アルキル基の例はテトラヒドロピラニルメチルである。 “複素環アルキルオキシアルキル”は複素環−アルキル−O−アルキル−基( その複素環及びアルキル基は独立に先に記載されたとおりである)を意味する。 ヘテロアラルキル基の例はテトラヒドロピラニルメチルオキシメチルである。 “ヒドロキシ置換アルキル”はHO−アルキル−基(そのアルキルは先に記載 されたとおりである)を意味する。好ましいヒドロキシアルキルは低級アルキル を含む。ヒドロキシアルキル基の例として、ヒドロキシメチル及び2−ヒドロキ シエチルが挙げられる。 “アシル”はH−CO−又はアルキル−CO−基(そのアルキル基は先に記載 されたとおりである)を意味する。好ましいアシルは低級アルキルを含む。アシ ル基の例として、ホルミル、アセチル、プロパノイル、2−メチルプロパノイル 、ブタノイル及びパルミトイルが挙げられる。 “アロイル”はアリール−CO−基(そのアリール基は先に記載されたとおり である)を意味する。例示の基として、ベンゾイル並びに1−ナフトイル及び2 −ナフトイルが挙げられる。 “アルコキシ”はアルキル−O−基(そのアルキル基は先に記載されたとおり である)を意味する。アルコキシの例として、メトキシ、エトキシ、n−プロポ キシ、i−プロポキシ、n−ブトキシ及びヘプトキシが挙げられる。 “シクロアルキルオキシ”はシクロアルキル−O−基(そのシクロアルキル基 は先に記載されたとおりである)を意味する。シクロアルキルオキシ基の例とし て、シクロペンチルオキシ及びシクロヘキシルオキシが挙げられる。 “アルコキシアルキル”はアルキル−O−アルキル−基(そのアルキル基は独 立に先に記載されたとおりである)を意味する。アルコキシ基の例として、メト キシエチル、エトキシメチル、n−ブトキシメチル及びシクロペンチルメチルオ キシエチルが挙げられる。 “アリールオキシ”はアリール−O−基(そのアリール基は先に記載されたと おりである)を意味する。アリールオキシ基の例として、フェノキシ及びナフト キシが挙げられる。 “アラルキルオキシ”はアラルキル−O−基(そのアラルキル基は先に記載さ れたとおりである)を意味する。アラルキルオキシ基の例として、ベンジルオキ シ並びに1−ナフタレンメトキシ又は2−ナフタレンメトキシが挙げられる。 “アラルキルオキシアルキル”はアラルキル−O−アルキル基(そのアラルキ ル基及びアルキル基は先に記載されたとおりである)を意味する。アラルキルオ キシアルキル基の例はベンジルオキシエチルである。 “アラルキルオキシアルケニル”はアラルキル−O−アルケニル基(そのアラ ルキル基及びアルケニル基は先に記載されたとおりである)を意味する。アラル キルオキシアルケニル基の例は3−ベンジルオキシアリルである。 “アリールオキシアルキル”はアリール−O−アルキル−基(そのアリール又 はアルキル基は先に記載されたとおりである)を意味する。アリールオキシアル キル基の例はフェノキシプロピルである。 “アリールオキシアルケニル”はアリール−O−アルケニル−基(そのアリー ル又はアルケニル基は先に記載されたとおりである)を意味する。アリールオキ シアルケニル基の例はフェノキシアリルである。 “ヘテロアラルキルオキシ”はヘテロアラルキル−O−基(そのヘテロアラル キル基は先に記載されたとおりである)を意味する。ヘテロアラルキルオキシ基 の例は4−ピリジルメチルオキシである。 “ヘテロアラルキルオキシアルキル”はヘテロアラルキル−O−アルキル基( そのヘテロアラルキル基及びアルキル基は先に記載されたとおりである)を意味 する。ヘテロアラルキルオキシ基の例は4−ピリジルメチルオキシエチルである 。 “ヘテロアラルキルオキシアルケニル”はヘテロアラルキル−O−アルケニル 基(そのヘテロアラルキル基及びアルケニル基は先に記載されたとおりである) を意味する。ヘテロアラルキルオキシアルケニル基の例は4−ピリジルメチルオ キシアリルである。 “アルキルチオ”はアルキル−S−基(そのアルキル基は先に記載されたとお りである)を意味する。アルキルチオ基の例として、メチルチオ、エチルチオ、 i−プロピルチオ及びヘプチルチオが挙げられる。 “アリールチオ”はアリール−S−基(そのアリール基は先に記載されたとお りである)を意味する。アリールチオ基の例として、フェニルチオ及びナフチル チオが挙げられる。 “アラルキルチオ”はアラルキル−S−基(そのアラルキル基は先に記載され たとおりである)を意味する。アラルキルチオ基の例はベンジルチオである。 “オキシアルキレニルオキシ”は−O−低級アルキル−O−基(その低級アル キル基は先に記載されたとおりである)を意味する。アルキレンジオキシ基の例 は−O−CH2 −O−である。 “シクロカルバモイルアルキル”は式 (そのシクロカルバモイル基はオキソオキサアザ複素環環部分からなり、そのア ルキル基は先に記載されたとおりである) の化合物を意味する。そのアルキル部分はカルバモイル部分の炭素原子又は窒素 原子を介してカルバモイルに結合されていてもよい。シクロカルバモイルアルキ ル基の例はN−オキサゾリジニルプロピルである。 “イミドアルキル”は式 (そのイミド基はオキソジアザ複素環部分からなり、そのアルキル基は先に記載 されたとおりである) の化合物を意味する。そのアルキル部分はカルバモイル部分の炭素原子又は窒素 原子を介してカルバモイルに結合されていてもよい。イミドアルキル基の例はn −フタルイミドプロピルである。 “Y1 Y2 N−”は置換又は未置換アミノ基(Y1 及びY2 は先に記載された とおりである)を意味する。例示の基として、アミノ(H2 N−)、メチルアミ ノ、エチルメチルアミノ、ジメチルアミノ及びジエチルアミノが挙げられる。 “アルコキシカルボニル”はアルキル−O−CO−基を意味する。アルコキシ カルボニル基の例として、メトキシカルボニル及びエトキシカルボニルが挙げら れる。 “アリールオキシカルボニル”はアリール−O−CO−基を意味する。アリー ルオキシカルボニル基の例として、フェノキシカルボニル及びナフトキシカルボ ニルが挙げられる。 “アラルコキシカルボニル”はアラルキル−O−CO−基を意味する。アラル コキシカルボニル基の例はベンジルオキシカルボニルである。 “Y1 Y2 NCO−”は置換又は末置換カルバモイル基(Y1 及びY2 は先に 記載されたとおりである)を意味する。例示の基はカルバモイル(H2 NCO− )及びジメチルアミノカルバモイル(Me2 NCO−)である。 “Y1 Y2 NSO2 −”は置換又は末置換スルファモイル基(Y1 及びY2 は 先に記載されたとおりである)を意味する。例示の基はアミノスルファモイル( H2 NSO2 −)及びジメチルアミノスルファモイル(Me2 NSO2 −)である 。 “アシルアミノ”はアシル−NH−基(アシルは本明細書に記載されたとおり である)である。 “アロイルアミノ”はアロイル−NH−基(アロイルは本明細書に記載された とおりである)である。 “アルキルスルホニル”はアルキル−SO2 −基を意味する。好ましい基は、 そのアルキル基が低級アルキルである基である。 “アルキルスルフィニル”はアルキル−SO−基を意味する。好ましい基は、 そのアルキル基が低級アルキルである基である。 “アリールスルホニル”はアリール−SO2 −基を意味する。 “アリールスルフィニル”はアリール−SO−基を意味する。 “ハロ”はフルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨードを意味する。フルオロ、ク ロロ又はブロモが好ましく、フルオロ又はクロロが更に好ましい。好ましい実施態様 本発明の好ましい化合物局面は式Iの化合物であり、式中、 R1 は水素、必要により置換されていてもよいアルキル、必要により置換され ていてもよいアルケニル、必要により置換されていてもよいシクロアルキル、ヒ ドロキシ、Y1 Y2 N−、アリールスルファニルアルキル、アリールスルフィニ ルアルキル又はアリールスルホニルアルキルであり、 R2 、R4 、R5 、R6 は独立に水素又は必要により置換されていてもよいア ルキルであり、又はR4 は必要により置換されていてもよいアリール又は必要に より置換されていてもよいヘテロアリールであり、又はR2 とR4 はR2 とR4 が結合されている炭素原子と一緒にされて必要により置換されていてもよいシク ロアルキル又は必要により置換されていてもよいシクロアルケニルを形成し、又 はR1 とR2 はR1 とR2 が結合されている炭素原子と一緒にされて必要により 置換されていてもよいシクロアルキルを形成し、 R3 は必要により置換されていてもよいアルキル、必要により置換されていて もよいアリール、必要により置換されていてもよいヘテロアリール、必要により 置換されていてもよいアラルキル、必要により置換されていてもよいヘテロアラ ルキル、Y3 Y4 Nアルキル、Y1 Y2 NCO2 アルキル、Y1 Y2 NCO−ア ルキル、イミドアルキルであり、又はR3 とR4 はR3 とR4 が結合されている 炭素と一緒にされて必要により置換されていてもよいシクロアルキルを形成し、 又はR1 とR2 の一つとR3 とR4 の一つはR1 とR2 の一つとR3 とR4 の一 つが結合されている炭素と一緒にされて結合又は必要により置換されていてもよ いシクロアルキルもしくは必要により置換されていてもよいシクロアルケニルを 形成し、 Arは必要により置換されていてもよいアリール又は必要により置換されていて もよいヘテロアリールであり、 Y1 及びY2 は独立に水素、必要により置換されていてもよいアルキル又は必 要により置換されていてもよいアリールであり、又はY1 とY2 はY1 とY2 が 結合されている窒素原子と一緒にされて必要により置換されていてもよい複素環 を形成し、かつ Y3 及びY4 は独立にY1 又はY2 、又は必要により置換されていてもよいア ロイルもしくは必要により置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニルで ある。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R1 が必要により置換されていてもよい アルキル、必要により置換されていてもよいアルケニル、必要により置換されて いてもよいアラルキル又は必要により置換されでいてもよいヘテロアラルキルで ある化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R1 が必要により置換されていてもよい アルキルである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R1 がヒドロキシである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R1 が必要により置換されていてもよい アルキルである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R1 がY1 Y2 N−であり、かつY1 又 はY2 が水素である化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R2 が水素である化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R1 及びR2 が必要により置換されてい てもよいアルキルである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R3 が必要により置換されていてもよい アリール、必要により置換されていてもよいヘテロアリール、必要により置換さ れていてもよいアラルキル、必要により置換されていてもよいヘテロアラルキル 又はY3 Y4 Nアルキルである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R3 が必要により置換されていてもよい アラルキルである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R4 が水素又は必要により置換されてい てもよいアルキルである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R4 が必要により置換されていてもよい アルキルである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、R3 及びR4 が結合されている炭素原子 と一緒にされてR3 及びR4 が必要により置換されていてもよいシクロアルキル を形成する化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、Arが必要により置換されていてもよいア リールであり、更に好ましくは4−メトキシフェニル又は3,4−ジメトキシフ ェニルである化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、nが0又は2である化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、mが0である化合物である。 本発明の別の好ましい化合物局面は、qが1である化合物である。 本発明の使用に好ましい化合物は下記の種から選ばれる。 A 7−フェニル−3−フェニルスルホニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 B 7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 C 3−(4−アセトアミドフェニルスルホニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒ ドロキシアミド、 D 3−(4−アセトアミドフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミド、 E 3−(2−ナフタレニルスルホニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシ アミド、 F 3−(2−ナフタレニルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキ シアミド、 G 3−(4−メトキシフェニルスルホニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒドロ キシアミド、 H 3−(4−メトキシフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒド ロキシアミド、 I 3−(ベンジルスルホニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 J 3−(ベンジルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 、 K N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−4−フェニル ブチルアミド、 L N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルファニル)−4−フェニ ルブチルアミド、 M N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−フェニル プロピオンアミド、 N N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルファニル)−3−フェニ ルプロピオンアミド、 O 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−5−フェニルペンタン酸ヒドロ キシアミド、 P 3−(4−メトキシベンゼンスルファニル)−5−フェニルペンタン酸ヒド ロキシアミド、 Q 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−6−フェニルヘキサン酸ヒドロ キサミド、 R 3−(4−メトキシベンゼンスルファニル)−6−フェニルヘキサン酸ヒド ロキサミド、 S 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−メチル−7−フェニルヘプ タン酸ヒドロキサミド T 3−(4−メトキシベンゼンスルファニル)−3−メチル−7−フェニルヘ プタン酸ヒドロキサミド U (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル−4 −(4−ビフェニル)ブチルアミド、 V (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル−4 −(4−フェニルオキシフェニル)ブチルアミド、 W (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル−4 −(4−ベンジルオキシフェニル)ブチルアミド、 X (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル−4 −(4−n−ブチルオキシフェニル)ブチルアミド、 Y (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4− (4−ビフェニル)ブチルアミド、 Z (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4− (4−フェニルオキシフェニル)ブチルアミド、 AA (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4 −(4−ベンジルオキシフェニル)ブチルアミド、 AB (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4 −(4−n−ブチルオキシフェニル)ブチルアミド、 AC 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−エチル−7−フェニルヘ プタン酸ヒドロキサミド、 AD 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3,7−ジフェニルヘプタン 酸ヒドロキサミド、 AE N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−メチル ブチルアミド、 AF N−ヒドロキシ−2−[1−(4−メトキシベンゼンスルホニル)シクロ ペンチル]アセトアミド、 AG N−ヒドロキシ−2−[1−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−4− フェニルシクロヘキシル]アセトアミド、 AH (2R* ,3R* )−2−アミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルホ ニル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 AI N−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル]− 6−フェニルヘキサンアミド、 AJ (E)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ] −7−フェニル−2−ヘプテンアミド、 AK (E)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホ ニル]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド、 AL (Z)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ] −7−フェニル−2−ヘプテンアミド、 AM N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)チオ−2−(1−プロパ ン−3−イル)−7−フェニルヘプタンアミド、 AN N−ヒドロキシ−2−(1−プロパン−3−イル)−3−(4−メトキシ フェニル)スルホニル−7−フェニルヘプタンアミド、 AO N−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−3−( 3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボキサミド、 AP N−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル]− 3−(3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボキサミド 、 AQ N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル−7−フェニル−2 −ヘプテンアミド、 AR N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル−7−フェニルヘプ タンアミド、 AS (−)−(2S,3R)−N−ヒドロキン−2−(2−ベンゼンスルホニ ルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)−7−フェニルヘ プタンアミド、 AT (+)−(2S,3R)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスルホニ ルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)−7−フェニルヘ プタンアミド、 AU (−)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3− (3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタンアミド、 AV (+)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3− (3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタンアミド、 AW N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−4− フェニルブチルアミド、 AX N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−4 −フェニルブチルアミド、 AY N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−3− フェニルプロピオンアミド、 AZ N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−3 −フェニルプロピオンアミド、 BA 3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−5−フェニルペンタ ン酸ヒドロキサミド、 BB 3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)−5−フェニルペンタン 酸ヒドロキサミド、 BC 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−6−フェニルヘキサン 酸ヒドロキサミド、 BD 3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−6−フェニルヘキサ ン酸ヒドロキサミド、 BE 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−6−フェニルヘキサン 酸ヒドロキサミド、 BF 3−(R* )−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−2−(S* )−イソプロピル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキサミド、 BG 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルファニル)−2−イソプロピル− 7−フェニルヘプタン酸ヒドロキサミド、 BH (+)−(2R,3R)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニ ル)−2−メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 BI (+)−(2R,3R)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル )−2−メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 BJ (+)−(2R,3R)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニ ル)−2−メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 BK (+)−(2R,3R)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル )−2−メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 BL 1−[1−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)−5−フェニルペ ンチル]シクロペンタンカルボン酸ヒドロキシアミド、 BM 1−[1−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−5−フェニル ペンチル]シクロペンタンカルボン酸ヒドロキシアミド、 BN 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−2,2−ジメチル−7 −フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 BO 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−2,2−ジメチル−7−フェ ニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 BP 3−(4−メトキシベンゼンスルフィニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒ ドロキサミド、 BQ (±)−N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニ ル−7−フェニルヘプタンアミド、 BR (±)−N−ヒドロキシ−3−(3,4−メチレンジオキシフェニル)ス ルホニル−7−フェニルヘプタンアミド、 BS (±)−N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル)スルフィ ニル−7−フェニルヘプタンアミド、 BT (±)−N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル)スルファ ニル−7−フェニルヘプタンアミド、 BU (±)−N−ヒドロキシ−3−(3,4−メチレンジオキシフェニル)ス ルファニル−7−フェニルヘプタンアミド、 BV (−)−N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニ ル−7−フェニルヘプタンアミド、 BW (+)−N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニ ル−7−フェニルヘプタンアミド、 BX (±)−(2R* ,3R* )−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル) −7−フェニル−2−(2−フェノキシエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド、 BY (±)−(2R* ,3R* )−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル) −7−フェニル−2−(2−フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキ シアミド、 BZ (2R* ,3R* )−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−7−フ ェニル−2−(2−フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド 、 CA (±)−(2R* ,3S* )−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル) −7−フェニル−2−(ベンゼンスルホニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミ ド、 CB (±)−(2R* ,3S* )−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル) −7−フェニル−2−(フェニルスルファニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシア ミド、 CC (±)2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−2− メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 CD (±)−3−(4−メトキシフェニルスルファニル)−2−メチル−7− フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 CE (±)−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−2−メチル−7−フ ェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 CF 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−5−メチルヘキサン酸 ヒドロキシアミド、 CG 5−(4−ブトキシフェニル)−3−(3,4−ジメトキシベンゼンスル ホニル)−ペンタン酸ヒドロキシアミド、 CH 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘキサン酸ヒドロキシア ミド、 CI 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−4−メチルペンタン酸 ヒドロキシアミド、 CJ 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−5−メチルヘキサン酸 ヒドロキシアミド、 CK 3−(3−ベンジルオキシフェニル)−3−(3,4−ジメトキシベンゼ ンスルホニル)−N−ヒドロキシプロピオンアミド、 CL 3−(2−ベンジルオキシフェニル)−3−(3,4−ジメトキシベンゼ ンスルホニル)−N−ヒドロキシプロピオンアミド、 CM 3−(3−ベンジルオキシ−4−メトキシフェニル)−3−(3,4−ジ メトキシベンゼンスルホニル)−N−ヒドロキシプロピオンアミド、 CN 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−N−ヒドロキシ−3− (3−フェノキシフェニル)プロピオンアミド、 CO 3−(3−(4−クロロフェノキシ)フェニル)−3−(3,4−ジメト キシベンゼンスルホニル)−N−ヒドロキシプロピオンアミド、 CP 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−N−ヒドロキシ−3− (3−(4−メトキシフェノキシ)フェニル)プロピオンアミド、 CQ N−[2−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−3−ヒドロキシ カルバモイル−プロピル]−N−メチルベンズアミド、 CR N−[2−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−3−ヒドロキシ カルバモイル−ブチル]−N−メチルベンズアミド、 CS メチル−フェニル−カルバミン酸3−(3,4−ジメトキシベンゼンスル ホニル)−4−ヒドロキシカルバモイル−ブチルエステル、 CT [3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−4−ヒドロキシカル バモイルブチル]メチルカルバミン酸ベンジルエステル、 CU 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘキサンジ酸−1−ヒド ロキシアミド−6−(メチルフェニルアミド)、 CV 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘプタンジ酸−1−ヒド ロキシアミド−7−(メチルフェニルアミド)、 CW 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−6−(1,3−ジオキ ソ−1,3−ジヒドロイソインドール−2−イル)ヘキサン酸ヒドロキシアミド 、 CX 7−(3,4−ジヒドロ−2H−キノリン−1−イル)−3−(3,4− ジメトキシベンゼンスルホニル)−7−オキソヘプタン酸ヒドロキシアミド、 CY 7−(3,4−ジヒドロ−2H−キノリン−1−イル)−3−(3,4− ジメトキシベンゼンスルホニル)−6−オキソヘキサン酸ヒドロキシアミド、 CZ 7−ベンゾ(1,3)ジオキソール−5−イル−3−(3,4−ジメトキ シベンゼンスルホニル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DA 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−3−(チエン−3−イ ル)−N−ヒドロキシプロピオンアミド、 DB 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−5−フェニルペンタン 酸ヒドロキシアミド、 DC 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−5−(3−フェノキシ フェニル)ペンタン酸ヒドロキシアミド、 DD 5−(4−ベンジルオキシフェニル)−3−(3,4−ジメトキシベンゼ ンスルホニル)ペンタン酸ヒドロキシアミド、 DE 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシフェニル]メチル}−4−メチルペンタン酸ヒドロキシアミド 、 DF 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−7−フェニル−2−( 4−フェニルブチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DG 2−[1−(3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−5−フェ ニルペンチル]−N1−ヒドロキシ−N4−メチル−N4−フェニルスクシンア ミド、 DH 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−7−フェニル−2−( 3−フェニルプロピル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DI 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−2−イソプロピル−7 −フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DJ 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−2−イソブチル−7− フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DK 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−7−フェニル−2−ブ ロピルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DL 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−7−フェニル−2−( 4−フェニルブチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DM 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−2−[2−(2−メト キシエトキシ)エチル]−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DN 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−2−ベンゼンスルホニ ルエチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DO 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−7−フェニル−2−( 5−フェニルペンチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド、 DP 4−ベンゼンスルホニル−2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニ ル)−[4−(4−フルオロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−N−ヒドロ キシ−ブチルアミド、 DQ 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−N−ヒドロキシ−4−フェニル−ブチ ルアミド、 DR 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−N−ヒドロキシ−4−(2−メトキシ エトキシ)ブチルアミド、 DS 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−N−ヒドロキシ−ブチルアミド、 DT 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−ペンタン酸ヒドロキシアミド、 DU 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−4−メチルペンタン酸ヒドロキシアミ ド、 DV 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−N−ヒドロキシ−3−メチルブチルア ミド、 DW 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシア ミド、 DX 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−5−フェニルペンタン酸ヒドロキシア ミド、 DY 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−N1−ヒドロキシ−N4−メチル−N 4−フェニル−スクシンイミド、 DZ 2−{(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−[4−(4−フルオ ロベンジルオキシ)フェニル]メチル}−6−フェニルヘキサン酸ヒドロキシア ミド、 EA 2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )メチル]−4−メチルペンタン酸ヒドロキシアミド、 EB 2−[(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−(4−フェノキシフ ェニル)メチル]−N−ヒドロキシ−4−(2−メトキシエトキシ)ブチルアミ ド、 EC 2−[(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−(4−フェノキシフ ェニル)メチル]−N−ヒドロキシ−ブチルアミド、 ED 4−ベンゼンスルホニル−2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメ トキシベンゼンスルホニル)メチル]−N−ヒドロキシブチルアミド、 EE 2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )メチル]−N−ヒドロキシ−4−フェニルブチルアミド、 EF 2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )メチル]−N−ヒドロキシ−4−(2−メトキシエトキシ)ブチルアミド、 EG 2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )メチル]−N−ヒドロキシブチルアミド、 EH 2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )メチル]−4−メチルペンタン酸ヒドロキシアミド、 EI 2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )メチル]−N−ヒドロキシ−3−メチル−ブチルアミド、 EJ 2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )メチル]−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 EK 2−[ビフェニル−4−イル−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )メチル]−5−フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド、 EL 2−[(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−(4−フェノキシフ ェニル)メチル]−N−ヒドロキシ−3−メチルブチルアミド、 EM 2−[(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−(4−フェノキシフ ェニル)メチル]−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 EN 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−2−エチルヘキサン酸 ヒドロキシアミド、 EO 3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)−2−(3−フェニル− プロピル)ヘキサン酸ヒドロキシアミド、 EP 2−[(3−ベンジルオキシフェニル)−(3,4−ジメトキシベンゼン スルホニル)メチル]−5−フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド、 EQ 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−(4−エトキシフェニル )プロピオン酸ヒドロキシアミド、 ER 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−(4−ビフェニル)プロ ピオン酸ヒドロキシアミド)、 ES 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−(4−フェノキシフェニ ル)プロピオン酸ヒドロキシアミド、 ET 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−(4−ベンジルオキシフ ェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド、 EU 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−(4−フルオロベンジル オキシフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド、及び EV 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−(4−(3−トリフルオ ロメチルフェノキシ)フェニルプロピオン酸ヒドロキシアミド、 EW (+)−3−(4−メトキシフェニルスルホニル)−7−フェニルヘプタ ン酸ヒドロキサミド、 EX (−)−3−(4−メトキシフェニルスルホニル)−7−フェニルヘプタ ン酸ヒドロキサミド、 EY (−)−(2S,3S)−3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルファニ ル)−2−メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 EZ (−)−(2S,3S)−3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )−2−メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、 FA (−)−(2S,3R)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニ ル)−2−メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド、及び FB (−)−(2S,3R)−3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル )−2−メチル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド。 更に好ましい化合物として、G、Z、AA、AE−AG、AI、AP、AU、 BF、BH−BK、BN−BO、BQ、BS、BV−BW、CA、CZ、DI、 DM−DN、ES−EU、EW-EZ、及びFA−FBが挙げられる。 文字A〜FBは本明細書中の容易な参照のために化合物についてあてがわれる 。 式Iの化合物は既知の方法(これは従来使用された方法又は文献に記載された 方法を意味する)の適用又は採用により調製し得る。 又、本発明の化合物を調製するための一般的な方法は以下のスキームに記載さ れるようにして準備されてもよい。スキーム中の記号は、特にことわらない限り 先に記載されたとおりである。 本発明の化合物、特にα,α−二置換類縁体を調製するための一つの操作がス キームAに示される。 スキームA 例えば、極性溶媒、例えば、エタノール中で約20〜約90℃で適当なアルキルハ ライド(R1 −Cl、R1 −I、R1 −Br、好ましくはR1 −I、R1 −Br)及び 好適な塩基、例えば、炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カルシウム)、 水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム)又はアルコキシト( 例えば、ナトリウムメトキシド又はエトキシド)を使用してジエチル(A1)又 はジメチルの如きジアルキルマロネートをモノアルキル化してA2を得てもよ い。 次いで別の適当なアルキルハライド(R2 −Cl、R2 −I、R2 −Br、好まし くはR2 −I、R2 −Br)、及び最初のアルキル化と同様の反応条件を使用して A2をアルキル化してA3を得てもよい。 次いで水性アルコール又はテトラヒドロフラン溶媒中で約20〜約90℃で1当量 の水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム)を使用することに よりA3を相当するモノ酸(A4)に脱保護する。 次いで有機溶媒、例えば、テトラヒドロフラン中で約0〜約40℃でジボランを 使用してA4の酸部分を選択的に還元してアルコール(A5)を生じる。 次いで有機溶媒中でスルホニルクロリド(ClSO2Rb )、例えば、p−トルエン スルホニルクロリド、メタンスルホニルクロリド又はトリフルオロメタンスルホ ニルクロリド及び好適な塩基、例えば、ピリジン又はトリエチルアミンを使用し てA5を相当するスルホネートエステル(A6)に変換する。 次いでスルホネートエステルをトリアルキルアミン又は水酸化物の存在下でチ オールと反応させてスルフィド(A7)を生じる。 次いで最小量の2当量の酸化剤、例えば、オキソン、m−クロロ過安息香酸又 は過酸化水素を使用してスルフィドをスルホン(A8)に酸化する。 A8がα,α−二置換される場合、溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ヘキ サメチルホスホルアミド、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン又はこれらの組 み合わせ中で約-75 ℃〜約20℃で塩基、例えば、リチウムジイソプロピルアミン 、リチウムビス(トリメチルシリル)アミン、ナトリウムビス(トリメチルシリ ル)アミン又はn−ブチルリチウムを使用してスルホンをアルキルヨージド又は アルキルブロミドでアルキル化してA9を得てもよい。 次いで水性アルコール又はテトラヒドロフラン溶媒中で約20℃〜約90℃で水酸 化物を使用してA8及びA9を夫々相当する酸A12及びA10に変換する。 次いでO−保護ヒドロキシルアミン、例えば、O−トリメチルシリルヒドロキ シルアミン、O−t−ブチルジメチルシリルヒドロキシルアミン、O−テトラヒ ドロピラニルヒドロキシルアミンを用いる通常のペプチドカップリング操作、続 いて酸処理を使用してA10を反応させてヒドロキサム酸A11を生じる。 A10を調製するための別の順序は、溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ヘキ サメチルホスホルアミド、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン又はこれらの組 み合わせ中で約75℃〜約20℃で2当量の塩基、例えば、リチウムジイソプロピル アミン、リチウムビス(トリメチルシリル)アミン、ナトリウムビス(トリメチ ルシリル)アミン又はブチルリチウムを使用してアルキルヨージド又はアルキル ブロミドでA12をアルキル化することを伴ってA10を生じる。 特にR1がアリール又はヘテロアリールである場合のA3を調製するための別 の順序はA13から約-78 ℃〜約25℃で好適な塩基、例えば、トリチルナトリウム 、リチウムジイソプロピルアミン、リチウムビス(トリメチルシリル)アミン又 はナトリウムビス(トリメチルシリル)アミン、続いてクロロホルメートによる 処理によるものである。 A4を調製するための別の順序は混合エステルマロネート、例えば、ベンジル エチルマロネート(A14)を伴う。極性溶媒、例えば、エタノール中で約20℃〜 約90℃でアルキルハライド(R1 −I、R1 −Br)、続いて(R2 −I、R2 − Br)及び好適な好適な塩基、例えば、炭酸塩、水素化ナトリウム、水酸化物又は アルコキシドを使用する連続アルキル化はA15を生じ得る。モノ酸A4へのベン ジルエステルの脱保護は、接触水素化を使用して行われてもよい。 本発明の化合物を調製するための別の操作がスキームBに示される。 スキームB本発明の化合物を調製するための別の操作がスキームCに示される。 スキームC t−ブチルジエチルホスホノアセテートを置換t−ブチルジアルキルホスホノ アセテートにより置換する以外は、スキームB又はCに示された操作に従って、 三置換オレフィン又は四置換オレフィンを夫々スキームDに示されるようにして 生成する。次いでスキームB又はCの残りの操作に従って、これらのオレフィン はα−置換ヒドロキサム酸に変換されてもよい。 スキームD スキームD、工程Bの例はt−ブチルジエチルホスホノプロピオネートを使用 してスキームAに概説された残りの工程を使用してヒドロキシアミドを調製し得 る。加えて、幾つかの置換t−ブチルジアルキルホスホノアセテートがテトラヒ ドロフランの如き溶媒中で塩基、例えば、水素化ナトリウム、リチウムジイソプ ロピルアミン又はナトリウムビス(トリメチルシリル)アミンの存在下で適当な アルキルハライドによるt−ブチルジエチルホスホノアセテートのアルキル化に より調製し得る。 次いでこれらのホスホノアセテートはスキームDの工程Bで置換し得る。 三置換オレフィンの別の調製はアルドール反応、続いてアルコールの脱離によ る。溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルホスホルアミド、ジエチ ルエーテル、ジメトキシエタン又はこれらの組み合わせ中で約-75℃〜約20℃で 適当な塩基、例えば、リチウムジイソプロピルアミン、リチウムビス(トリメチ ルシリル)アミン、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミン又はブチルリチ ウムの存在下のアルデヒドとのt−ブチルエステルの反応はアルドール付加物を 与え、これはメタンスルホニルクロリドの如きスルホニルハライド及びトリエチ ルアミンの如きトリアルキルアミン塩基で処理されてスルホネートエステルを与 え、これは付加的な塩基、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウン デカ−7−エンで直接脱離されて三置換オレフィンを生じ得る。次いでこのオレ フィンがスキームBに使用されてヒドロキサム酸を生じ得る。 スキームEはアルキルジアルキルホスホノアセテート及びアルデヒド/ケトン で開始して本発明の化合物を調製するための別の手段を示す。本明細書中以下に スキームE スキームFはアルキルジアルキルホスホノアセテート及びアルデヒド/ケトン で開始して本発明のβ,β’二置換化合物及びβ,β’スピロ化合物を調製する ための別の手段を示す。 スキームF スキームGは本明細書中のスキームに有益な物質で開始してケトンを調製する ための手段を示す。 スキームG スキームHは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。 スキームH スキームIは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。 スキームI スキームI(続き) スキームJは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。以下に使用されるX1 はハロ、好ましくはCl、Br又はIを表す。 スキームJ スキームKは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。 スキームK スキームLは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。 スキームL スキームMは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。 スキームM スキームNは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。 スキームN スキームOは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。 スキームO スキームPは、特にR1 とR2 が結合されている炭素原子と一緒にされてR1 とR2 が必要により置換されていてもよいシクロアルキルを形成する場合の本発 明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手段を示す。 スキームP スキームQは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示す。 スキームQ スキームRは、特にmが0である場合の本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合 物を調製するための別の手段を示す。 スキームR スキームSは本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製するための別の手 段を示し、これらは分割方法を使用して分割されてもよい。 スキームS スキームTは本発明の範囲内の立体異性体のヒドロキサム酸化合物を調製する ための手段を示す。 スキームT スキームUは本発明の範囲内の立体異性体のヒドロキサム酸化合物を調製する ための別の手段を示す。 スキームU スキームVは本発明の範囲内の立体異性体のヒドロキサム酸化合物に変換し得 る立体異性体の酸化合物を調製するための別の手段を示す。 スキームV スキームWは本発明の範囲内の立体異性体のヒドロキサム酸化合物に変換し得 る立体異性体の酸化合物を調製するための別の手段を示す。 スキームW スキームXは本発明の範囲内の立体異性体のヒドロキサム酸化合物を調製する ための別の手段を示す。 スキームX スキームX(続き) スキームYは本発明の範囲内の立体異性体のヒドロキサム酸化合物を調製する ための別の手段を示す。 スキームY スキームZは本発明の範囲内の立体異性体のヒドロキサム酸化合物を調製する ための別の手段を示す。 スキームZ スキームAAは固相を使用して本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を調製 するための別の手段を示す。 スキームAAa a 試薬及び条件:c)3−(4−メチルオキシフェニルスルホニル)プロピオン酸 (5当量);1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド 塩酸塩(EDCI 5当量);DMF ;25℃;12時間。d)CH2Cl2中50%のTFA(100当量);3 0分間。 樹脂IIIは、スキームAA、工程cのように、式(Ib)(式中、A1 は(R5R6C)m であり、かつAr、n、R1 、R2 、R3 及びR4 は先に定義されたとおりである )の酸とカップリングされてヒドロキサメートエステル樹脂(樹脂IV)を生じ得 る。そのカップリング反応はEDClの如きカルボジイミドの存在下で不活性溶媒、 例えば、ジメチルホルムアミド中でほぼ室温で都合良く行い得る。次いで樹脂IV はジクロロメタンの如き不活性溶媒中で酸、例えば、トリフルオロ酢酸で処理さ れて式(Ia)のヒドロキサム酸を遊離し得る。 又、スキームABは固相を使用して本発明の範囲内のヒドロキサム酸化合物を 調製するための別の手段を示す。 スキームABa 樹脂Vの如き樹脂は、スキームACに示されるように、式(Ib)(式中、Ar、A1 、n、R1 、R2 、R3 及びR4 は先に定義されたとおりである)の化合物を 調製するのに使用し得る。 スキームAC 例えば、ワング(Wang)樹脂(樹脂V)は、スキームAC、工程1で、ジメチル ホルムアミドの如き不活性溶媒中で2,6−ジクロロベンゾイルタロリド及びピ リジンの存在下でほぼ室温でジエチルホスホノ酢酸で処理されてエステル化樹脂 (樹脂VI)を生じる。 ジエチルホスホノアセトキシ−樹脂(樹脂VI)は、スキームAC、工程2で、 トルエンの如き不活性溶媒中で約0℃で塩基、例えば、カリウムビス(トリメチ ルシリル)アミドで処理され、続いてほぼ室温で式(II)のアルデヒド R3 −CHO (II) (式中、R3 は先に定義されたとおりである) と反応させられてアルケノエート樹脂(樹胞VII)を生じる。 次いで樹脂VIIがスキームAC、工程3のようにして式(III) Ar-A1−SH (III) (式中、Ar及びA1 は先に定義されたとおりである) のチオールと反応させられてアルカノエート樹脂(樹脂VIII)を生じる。そのミ カエル付加は温和な塩基性条件下で、例えば、水酸化リチウムの存在下でほぼ室 温で都合良く行い得る。 次いで樹脂VIIIがジクロロメタンの如き不活性溶媒中でトリフルオロ酢酸の如 き酸による処理により加水分解されて式(Ib)の酸を遊離し得る。 又、樹脂VIIIはジオキサンの如き不活性溶媒中でほぼ室温の温度でm−クロ口 過安息香酸の如き酸化剤で処理されて樹脂IXを生じ得る。 次いで樹脂IXがジクロロメタンの如き不活性溶媒中でトリフルオロ酢酸の如き 酸による処理により加水分解されて式(Ib)の酸を遊離し得る。 又、樹脂Vはヒドロキシルアミン誘導体化樹脂に変換されてもよく、これが本 発明の範囲内の化合物の調製に又使用し得る。ヒドロキシルアミン誘導体化樹脂 は一層酸安定性であり、スキームADのようにして合成される。 スキームADa a 試薬及び条件:a)N−ヒドロキシフタルイミド(5当量);トリフェニルホス フィン(3当量);DIAD(3当量);THF;0℃〜25℃;12時間、b)40%のメチ ルアミン水溶液(115当量);THF;40℃;2時間。 N−ヒドロキシフタルイミドは、ミツノブ条件(Mitsunobu,O.,Synthesis1981 ,1)を使用して樹脂にカップリングされる。フタルイミド保護はTHF 中で40℃で 約2時間のメチルアミノリシス又はt−ブタノールもしくはTHF/t−ブタノール 中で膨潤された樹脂のヒドラジノリシスにより除去される。フタルイミド保護を 開裂するためのメチルアミンの使用は、普通使用されるヒドラジノリシス操作(W o-lf,S.及びHasan,S.K.Can.J.Chem.48,3572(1970)よりも有意な利点を与え る。 スキームAEは本発明の範囲内のヒドロキサム酸を調製するための手段を示す 。固相ペプチド合成に使用される操作と同様の操作を使用して、カルボン酸が樹 脂に容易にカップリングされる。こうして、EDClがDMFに溶解された式Ib(例え ば、R1 及びR2 が水素である)のカルボン酸を樹脂に有効にカップリングする 。次いで得られるO−樹脂結合ヒドロキサム酸が10分間にわたってDCM 中10%の TFAとの反応により固相から遊離される。リンク(Rink)ハンドル(H.Rink,Tet.Le tt.,28,3787-3790,1987)は短時間の期間にわたって温和なアシドリシス下で開 裂されるという利点を有する(即ち、10〜15分間のDCM 中10%のTFA)。 スキームAE しかしながら、樹脂のコストのために、ワング担体((a)S.S.Wang,J.Am.Chem.S oc.,95,1328(1973); b)G.Lu,S.Mojsov,J.P.Tam.及びR.B.Merrifield,J.Org.Ch em.,46,3433(1981))で相当する機能性樹脂を合成することが望ましい。 スキームAFは本明細書中のスキームに有益な物質で開始してAr部分を調製す るための手段を示す。 スキームAF 本発明の化合物は遊離塩基又は酸の形態又はその医薬上許される塩の形態で有 益である。全ての形態が本発明の範囲内にある。 本発明の化合物が塩基性部分で置換されている場合、酸付加塩が生成され、使 用に単に一層好都合の形態である。実際には、塩形態の使用は遊離塩基形態の使 用に本来相当する。酸付加塩を調製するのに使用し得る酸として、好ましくは、 有機塩基と合わされた時に医薬上許される塩、即ち、陰イオンが塩の医薬投薬量 で患者に無毒性であり、その結果、遊離塩基に固有のTNF に対する有益な抑制効 果が陰イオンに起因する副作用により損なわれないような塩を生成する酸が挙げ られる。前記塩基性化合物の医薬上許される塩が好ましいが、特別な塩それ自体 が、例えば、塩が精製、及び同定の目的のみに生成される場合、又はそれがイオ ン交換操作により医薬上許される塩を調製する際の中間体として使用される場合 のように中間体生成物としてのみ所望されるとしても、全ての酸付加塩が遊離塩 基形態の源として有益である。本発明の範囲内の医薬上許される塩は、下記の酸 から誘導される塩である。鉱酸、例えば、塩酸、硫酸、リン酸及びスルファミン 酸、並びに有機酸、例えば、酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、マロン酸、メタン スルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸 、シクロヘキシルスルファミン酸、キナ酸等。相当する酸付加塩は下記の塩を含 む。ハロケン化水素酸塩、例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩 、硝酸塩、スルファミン酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、マロン 酸塩、シュウ酸塩、サリチル酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、フマル酸塩、 マレイン酸塩、メチレンービスーβ−ヒドロキシナフトエ酸塩、ケンチセート、 メシレート、イセチオネート及びジ−p−トルオイルタートレート、メタンスル ホネート、エタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、p−トルエンスルホネ ートシクロヘキシルスルファメート及びキナ酸塩の夫々。 本発明の更に別の特徴によれば、本発明の化合物の酸付加塩は既知の方法の適 用又は採用により適当な酸との遊離塩基の反応により調製される。例えば、本発 明の化合物の酸付加塩は、適当な酸を含む水性もしくは水性−アルコール溶液又 はその他の好適な溶媒に遊離塩基を溶解し、溶液を蒸発させることにより塩を単 離することにより、又は遊離塩基及び酸を有機溶媒中で反応させることにより (この場合には、塩が直接分離し、又は溶液の濃縮により得られる)調製される 。 本発明の化合物の酸付加塩は既知の方法の適用又は採用により塩から再生し得 る。例えば、本発明の親化合物はアルカリ、例えば、重炭酸ナトリウム水溶液又 はアンモニア水溶液による処理によりそれらの酸付加塩から再生し得る。 本発明の化合物が酸性部分で置換されている場合、塩基付加塩が生成され、使 用に単に一層好都合の形態である。実際には、塩形態の使用は遊離酸形態の使用 に本来相当する。塩基付加塩を調製するのに使用し得る塩基として、好ましくは 、有機酸と合わされた時に医薬上許される塩、即ち、陽イオンが塩の医薬投薬量 で動物生物に無毒性であり、その結果、遊離酸に固有のTNF に対する有益な抑制 効果が陽イオンに起因する副作用により損なわれないような塩を生成する塩基が 挙げられる。本発明の範囲内の、例えば、アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属 塩を含む医薬上許される塩は下記の塩基から誘導される塩である。水素化ナトリ ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニ ウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化亜鉛、アンモニア、トリメ チルアンモニア、トリエチルアンモニア、エチレンジアミン、n−メチル−グル カミン、リシン、アルギニン、オルニチン、コリン、N,N’−ジベンジルエチ レンジアミン、クロロプロカイン、ジエタノールアミン、プロカイン、n−ベン ジルフェネチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、トリス(ヒドロキシメチ ル)−アミノメタン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等。 本発明の化合物の金属塩は、水性溶媒又は有機溶媒中の選択された金属の水素 化物、水酸化物、炭酸塩又は同様の反応性化合物をその化合物の遊離酸形態と接 触させることにより得られる。使用される水性溶媒は水であってもよく、又はそ れは水と有機溶媒、好ましくはアルコール、例えば、メタノール又はエタノール 、ケトン、例えば、アセトン、脂肪族エーテル、例えば、テトラヒドロフラン、 又はエステル、例えば、酢酸エチルとの混合物であってもよい。このような反応 は周囲温度で通常行われるが、それらは所望により加熱して行われてもよい。 本発明の化合物のアミン塩は、水性溶媒又は有機溶媒中のアミンをその化合物 の遊離酸形態と接触させることにより得られる。好適な水性溶媒として、水及び 水とアルコール、例えば、メタノール又はエタノール、エーテル、例えば、テト ラヒドロフラン、ニトリル、例えば、アセトニトリル、又はケトン、例えば、ア セトンとの混合物が挙げられる。アミノ酸塩が同様に調製し得る。 本発明の化合物の塩基付加塩は既知の方法の適用又は採用により塩から再生し 得る。例えば、本発明の親化合物は、酸、例えば、塩酸による処理によりそれら の塩基付加塩から再生し得る。 本発明の化合物の塩は、活性化合物としてそれ自体で有益であるだけでなく、 例えば、当業者に公知の技術により塩と親化合物、副生物及び/または出発物質 との間の溶解性の相違の利用により化合物の精製の目的に有益である。 本発明の化合物は不斉中心を含み得る。これらの不斉中心は独立にR配置又は S配置であり得る。又、式Iの或る化合物は幾何異性を示し得ることが当業者に 明らかであろう。幾何異性体はアルケニル部分を含む本発明の化合物のシス形態 及びトランス形態を含む。本発明は個々の幾何異性体及び立体異性体並びにこれ らの混合物を含む。 このような異性体は、既知の方法の適用又は採用により、例えば、クロマトグ ラフィー技術及び再結晶技術によりそれらの混合物から分離でき、又はそれらは 、例えば、本明細書に記載された方法の適用又は採用によりそれらの中間体の適 当な異性体から別々に調製される。 出発物質及び中間体は既知の方法の適用又は採用により、例えば、参考例に記 載される方法又はそれらの自明の化学均等物により、又は本発明に従って記載さ れた方法により調製される。 本発明が本発明の化合物の調製を示す以下の例示の実施例により更に説明され るが、これらの実施例により限定されない。 核磁気共鳴スペクトル(NMR)では、化学シフトがテトラメチルシランに対しppm で表される。略号は下記の意味を有する。s=一重線、d=二重線、t=三重線、m= 多重線、dd= 二重線の二重線、ddd=二重線の二重線の二重線、dt= 三重線の二重 線、b=ブロード。 実施例1 7−フェニル−3−フェニルスルホニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A 5−フェニルペンタナール 方法1 -78 ℃の乾燥CH2Cl2(400mL)中の塩化オキサリル(21.6g、170 ミリモル)の機械 攪拌溶液に、DMSO(22.3g、360 ミリモル)を45分間にわたって滴下して添加する 。15分間攪拌した後、5−フェニルペンタノール(25g、150 ミリモル)を添加し 、内部温度を-55 ℃に温める。この温度で30分間攪拌した後、反応を-78 ℃に冷 却し、トリエチルアミン(104mL、750 ミリモル)を20分間にわたって徐々に添加 する。15分間攪拌した後、反応浴を除去し、温度を40分間にわたって20℃に温め る。次いで反応混合物を水500 mLで洗浄する。次いで水層をCH2Cl2(2x50mL)で 逆抽出する。合わせた有機フラクションを2NのHCl 300 mL、水100 mL、NaHCO3 2 00mL、食塩水100 mLで洗浄し、乾燥させる(MgSO4)。その溶液を真空で濃縮して 5−フェニルペンタナール(25g)を得、これを工程Bに直接使用する。 方法2 EtOAc、トルエン及び水の7:7:1混合物(258mL)中に5−フェニルペンタノール( 10g、60ミリモル)、臭化ナトリウム(6.45g、63ミリモル)及びテンポ(TEMPO)(95m g、0.6 ミリモル)を含む溶液を0℃に冷却する。激しく攪拌しながら、NaHCO3(4 3.85g、520 ミリモル)で飽和したNaOCl 水溶液(0.35M、571 mL、200ミリモル)を 10分間隔で5回に分けて添加する。最終の添加後のTLC 分析は完全な反応を示し た。エタノール(20 mL)を添加し、その混合物を水(500mL)とEtOAc(500mL)の間に 分配する。水層をEtOAc(2x500mL)で抽出し、合わせた有機相を5%のNa2S2O3 (500 mL)、水(200mL)及び食塩水(200mL)で連続して洗浄し、次いでMgSO4で乾燥 させ、濃縮して5−フェニルペンタナールをオレンジ色の油として得、これを更 に精製しないで使用する(推定収率100 %)。TLC 分析[石油エーテル/EtOAc 、9:1、Rf(アルコール)=0.20、Rf(アルデヒド)=0.60]1H NMR(300 MHz ,CDCl3)δ1.65(m,4H),2.35(m,2H),2.60(t,2H), 7.10-7.30(m,5H),9.75(s,1H)ppm 工程B t−ブチル7−フェニル−ヘプタ−2−エノエート t−ブチルジエチルホスホノアセテート(18g、70ミリモル)を乾燥THF(250mL )に溶解し、-40 ℃に冷却する。NaH(油中60%、2.8g、70ミリモル)を添加し、 反応を0℃に温める。ガス発生を冷却で調節し、次いで20℃で30分間攪拌する。 5−フェニルペンタナール(11.3g、70ミリモル)を添加し、反応液を20分間攪拌 する。反応液を半分の容積に濃縮し、石油エーテル(500mL)を添加する。反応液 を水100 mL、0.5NのHCl 100 mL、NaHCO3、食塩水で洗浄し、乾燥させる(MgSO4 )。溶液を真空で濃縮してt−ブチル7−フェニルヘプタ−2−エノエートを得 、これを工程Cに直接使用する。 工程C 7−フェニル−ヘプタ−2−エン酸 t−ブチル7−フェニルヘプタ−2−エノエート(19g、70ミリモル)を乾燥CH2 Cl2(120mL)に溶解し、トリフルオロ酢酸(25 mL)を徐々に添加する。5時間後、 反応液を真空で濃縮し、CH2Cl2を使用してカラムクロマトグラフィーにより精製 して7−フェニルヘプタ−2−エン酸(7g 、34ミリモル)を得る。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ12-10(br,1H),7.30-7.24(m,2H),7.20-7.12(m, 3H),7.06(dd,J=15.7,7 Hz,1H),5.80(d,J=15.7 Hz,1H),2.62(t,J=7.5 H z,2H),2.25(q,J=7 Hz,2H),1.70-1.61(m,2H),1.56-1.46(m,2H) 工程D 7−フェニルヘプタ−2−エン酸ヒドロキシアミド 7−フェニルヘプタ−2−エン酸(7g 、34ミリモル)を乾燥THF に溶解し、0 ℃に冷却する。ジフェニルホスフィンクロリド(ClP(O)Ph2)(7.1 mL、37ミリモル )を添加し、続いてトリエチルアミン(4.7mL、34ミリモル)を滴下して添加する。 0℃で45分後に、O−(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン(TMSONH2)(4.3 g 、37ミリモル)及びトリエチルアミン(4.7mL、34ミリモル)の混合物を0℃で 滴下して添加する。浴を除去し、反応液を20℃で2時間攪拌する。次いで反応液 を濾過し、固体をEtOAc(500mL)で抽出する。EtOAc を1NのHCl 60mL、食塩水50 mLで洗浄し、乾燥させる(MgSO4 )。得られる溶液を真空で濃縮して白色の固体 を得、これをEt2Oですり砕いて精製して7−フェニルヘプタ−2−エン酸ヒドロ キシアミド(3.9g、18ミリモル)を得る。MS(EI)m/e 219(M+)。 分析(C13H17NO2)C,H,N 工程E 7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 7−フェニルーヘプタ−2−エン酸ヒドロキシアミド(0.3g、1.4 ミリモル)を 1,4−ジオキサン(6ml)中でチオフェノール(0.26g、2.4 ミリモル)及びピ ペリジン(0.04g、0.5 ミリモル)と合わせ、4時間にわたって85℃に加熱する。 冷却後、反応液を真空で濃縮し、5%のMeOH/CH2Cl2を使用してカラムクロマト グラフィーにより精製して7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプタン酸 ヒドロキシアミドを得る。 工程F 7−フェニル−3−フェニルスルホニルヘプタン酸ヒドロキシアミド MeOH(8ml)中の7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプタン酸ヒドロ キシアミド(O.39g、1.2 ミリモル)の溶液を0℃に冷却し、水(8ml)中のオキ ソン(1.1g 、1.8 ミリモル)の溶液を10分間にわたって滴下して添加する。浴を 除去し、反応を20℃に温め、16時間攪拌する。次いでその混合物をCH2Cl270mLと 水50mLの間に分配し、水層を逆抽出し(2 X 20 mL)、有機フラクションを合わせ 、食塩水で洗浄し、乾燥させる(MgSO4 )。溶液を真空で濃縮し、CH3CN/0.1 % のTFA を使用して逆相HPLCにより精製して純粋な7−フェニル−3−フェニルス ルホニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る。1H NMR(300 MHz,CD3OD)δ7.88 (d,J=7 Hz,2H),7.74-7.58(m,3H),7.24-7.08(m,5H),3.66-3.61(m,1H),2 .64(dd,J=15.2,4.8 Hz,1H),2.50(t,J=7.1 Hz,2H),2.26(dd,J=15.2, 8.4 Hz,1H),1.89-1.79(m,1H),1.50-1.27(m,5H); MS(FAB)m/e 384(M+H)+ 分 析(C19H23NO4S)C,H,N 又、工程Eの生成物は以下の反応工程G−Iにより調製されてもよい。 工程G t−ブチル7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプタノエート t−ブチル7−フェニルヘプタ−2−エノエート(2g、7.7 ミリモル)及びチオ フェノール(1.2g、11ミリモル)をTHF(25mL)に溶解し、0℃に冷却する。n−ブ チルリチウム(ヘキサン中2.5M、0.3mL、0.7 ミリモル)を滴下して添加し、反 応を温め、20℃で3時間攪拌する。反応液を真空で濃縮し、5%のEt2O/石油エ ーテルを使用してカラムクロマトグラフィーにより精製してt−ブチル7−フェ ニル−3−フェニルスルファニルヘプタノエートを得る。 工程H 7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプタン酸 CH2Cl2(20 mL)中のt−ブチル7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプ タノエート(1.8g、6.5ミリモル)の溶液に、トリフルオロ酢酸(6ml)を徐々に 添加する。反応液を5時間攪拌し、真空で濃縮して7−フェニル−3−フェニル スルファニルヘプタン酸を得、これを工程Iに直接使用する。 工程I 7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 7−フェニル−3−フェニルスルファニルヘプタン酸(2g、6.5 ミリモル)をCH2 Cl2(20 mL)に溶解し、0℃に冷却する。塩化オキサリル(1.1mL、13ミリモル)を 滴下して添加し、浴を除去し、反応を温め、20℃で2時間攪拌する。次いで反応 液を真空で濃縮し、CH2Cl2で共沸する。得られる油をCH2Cl2(20 mL)に溶解し、 0℃に冷却し、O−(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン(1.7g、16ミリモ ル)を滴下して添加する。浴を除去し、反応を20℃に温める。次いで反応液をCH2 Cl2(100mL)と1NのHCl(50 mL)の間に分配し、次いで有機層を分離し、水 (40 mL)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4 )、真空で濃縮して7−フェニル−3− フェニルスルファニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る。 実施例2 3−(4−アセトアミドフェニルスルホニル)−7−フェニルヘプタ ン酸ヒドロキシアミド 実施例1、工程Eのチオフェノールを4−アセトアミドチオフェノールで置換 する場合、3−(4−アセトアミドフェニルスルフアニル)−7−フェニルヘプ タン酸ヒドロキシアミドを調製し、続いてこれを実施例1、工程Fのようにして 反応させた時、下記の特性を有する標題化合物を調製する。 m.p.165-169 ℃、1H NMR(300 MHz,CD30D)δ7.85-7.78(m,4H),7.24-7.19( m,2H),7.14-7.08(m,3H),3.63-3.55(m,1H),2.64(dd,J=15.1,4.9 Hz,1H) ,2.50(t,J=7.1 Hz,2H),2.24(dd,J=15.1,8.3 Hz,1H),2.17(S,3H),1.89 -1.79(m,1H),1.52-1.29(m,5H); MS(FAB)m/e 419(M+H)+分析(C21H26N2O5S)C ,H,N 実施例3 3−(2−ナフタレニルスルホニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒド ロキシアミド 実施例1、工程Eのチオフェノールを2−ナフタレンチオールで置換する場合 、3−(2−ナフタレニルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシ アミドを調製し、続いてこれを実施例1、工程Fのようにして反応させた時、下 記の特性を有する標題化合物を調製する。 M.P.60-64 ℃、1H NMR(300 MHz,CD3OD)δ8.51(s,1H),8.12-8.01(m,3H) ,7.85(dd,J=8.6,1.8 Hz,1H),7.76-7.64(m,2H),7.18-7.05(m,3H),6.98( d,J=6.7 Hz,1H),3.76-3.71(m,1H),2.73(dd,J=15.1,4.9 Hz,1H),2.45-2 .40(m,2H),2.30(dd,J=15.1,8.3 Hz,1H),1.91-1.85(m,1H),1.61-1.30(m ,5H); MS(FAB)m/e 411(M+H)+;分析(C23H25NO4S)C,H,N 実施例4 3−(4−メトキシフェニルスルホニル)−7−フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミド 実施例1、工程Eのチオフェノールを4−メトキシベンゼンチオールで置換す る場合、3−(4−メトキシフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミドを調製し、続いてこれを実施例1、工程Fのようにして反応さ せた時、下記の特性を有する標題化合物を調製する。 1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ7.79(d,J=8.7 Hz,1H),7.25(t,J=7.5 Hz,2H) ,7.17(d,J=6.7 Hz,1H),7.10(d,J=7.5 Hz,2H),3.89(s,3H),3.57-3.50(b m,1H),2.79-2.70(bm,1H),2.52(t,J=7.1 Hz,2H),2.48-2.37(bm,1H),1.8 1-1.70(bm,1H),1.59-1.22(bm,5H); MS(FAB)m/e 391(M+H)+;分析(C20H25NO5 S)C,H,N 実施例5 3−(ベンジルスルホニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシア ミド 実施例1、工程Eのチオフェノールをベンジルメルカプタンで置換する場合、 3−(ベンジルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを調 製し、続いてこれを実施例1、工程Fのようにして反応させた時、下記の特性を 有する標題化合物を調製する。 1H NMR(300 MHz,CD3OD)δ7.45-7.42(m,2H),7.39-7.36(m,3H),7.24-7.2 2(m,2H),7.16-7.11(m,3H),4.42(d,J=13.8 Hz,1H),4.37(d,J=13.8 Hz,1 H),3.55(m,1H),2.75(dd,J=15.4,5.6 Hz,1H),2.58(t,J=7.4 Hz,2H),2. 35(dd,J=15.4,7.4 Hz,1H),2.01-1.89(m,1H),1.68-1.33(m,5H);MS(FAB) m/e 376(M+H)+;分析(C20H25NO4S)C,H,N 実施例6 N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−4−フ ェニルブチルアミド 工程A t−ブチル−4−フェニルブタ−2−エノエート アルゴン雰囲気下の25℃のTHF100mL中のt−ブチルジエチルホスホノアセテー ト12.15 mL(45.78ミリモル)の溶液に、油分散液牛60%のNaH 1.83g(45.78ミリ モル)を添加する。その反応混合物を25℃で45分間攪拌し、その時点でフェニル アセトアルデヒド5.41mL(41.62ミリモル)を添加する。25℃で30分後に、反応液 を1NのHCl とエチルエーテルの間に分配する。有機層を無水MgSO4 で乾燥させ、 真空で濃縮する。フラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精製してt− ブチル−4−フェニルブタ−2−エノエート6.3g(69%)を黄色の油として得る 。 工程B 4−フェニルブタ−2−エン酸 CH2Cl2100 mL及びトリフルオロ酢酸30mL中のt−ブチル−4−フェニルブタ− 2−エノエート6.3g(28.86ミリモル)の溶液を25℃で18時間攪拌する。反応液 を真空で濃縮して4−フェニルブタ−2−エン酸4.67g(99.85%)を黄色の結晶 性固体として得る。 工程C 3−(4−メトキシフェニルスルファニル)−4−フェニル酪酸 4−フェニルブタ−2−エン酸2g(12.53ミリモル)、4−メトキシベンゼン チオール1.8 mL(14.8 ミリモル)、及びピペリジン0.4 mL(3.7ミリモル)の混合物 をボンベ中で18時間にわたって110 ℃で加熱する。反応液をエチルエーテルと1N のHCl の間に分配する。有機層を無水MgSO4 で乾燥させ、真空で濃縮する。フラ ッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して3−(4−メトキシフェニ ルスルファニル)−4−フェニル酪酸3.07g(82 %)を白色の結晶性固体として 得る。 工程D N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニルスルファニル)−4−フ ェニルブチルアミド アルゴン雰囲気中の25℃のCH2Cl230mL中の3−(4−メトキシフェニルスルフ ァニル)−4−フェニル酪酸1g(3.31ミリモル)の溶液に、DMF 0.2 mL、続いて CH2Cl2中の塩化オキサリルの2Mの溶液4.1 mL(8.27 ミリモル)を添加する。25℃ で1.5 時間攪拌した後、O−トリメチルシリルヒドロキシルアミン2.1 mL(16.53 ミリモル)を添加し、次いでこれを25℃で18時間攪拌する。反応液をCH2Cl2と1N のHCl の間に分配する。有機層を無水Na2SO4で乾燥させ、真空で濃縮する。フラ ッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精製してN−ヒドロキシ−3−(4 −メトキシフェニルスルファニル)−4−フェニルブチルアミド0.86g(82 %) を黄色の結晶性固体として得る。 工程E N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニルスルホニル)−4−フェ ニルブチルアミド 0℃のメタノール50mL中のN−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニルスル ファニル)−4−フェニルブチルアミド0.86g(2.71 ミリモル)の溶液に、水15 mLに溶解したオキソン2.5g(4.1 ミリモル)の溶液を滴下する。25℃で18時間攪 拌した後、反応液を真空で濃縮し、次いで酢酸エチルと水の間に分配する。有機 層を無水Na2SO4で乾燥させ、次いで真空で濃縮する。フラッシュシリカケルクロ マトグラフィーそしてCH2Cl2/ ヘキサンによる結晶化により精製してN−ヒドロ キシ−3−(4−メトキシフェニルスルホニル)−4−フェニルブチルアミド0. 38g(40 %)を白色の結晶性固体の形態で得る。m.p.118-120℃。1H NMR(DMSO- d6)δ2.05-2.15(m,1H),2.4-2.55(m,1H),2.6-2.75(m,1H),3.0-3.1(m,1H) ,3.8-3.95(m,1H),3.85(s,3H),7.05-7.3(m,7H),7.7-7.85(d,2H),8.8(s ,1H),10.5(s,1H) 実施例7 N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−フ ェニルプロピオンアミド 4−フェニルブタ−2−エン酸に代えてケイ皮酸を使用して、実施例6、工程 3〜5に従って標題化合物の調製を行ってN−ヒドロキシ−3−(4−メトキシ ベンゼンスルファニル)−3−フェニルプロピオンアミドを得、次いでこれを白 色の結晶性固体の形態のN−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルホニ ル)−3−フェニルプロピオンアミド0.744gに変換する。m.p.157-159℃。1H N MR(DMSO-d6)δ2.7-2.9(m,2H),3.85(s,3H),4.7-4.8(m,1H),7.0-7.1(d,2H) ,7.1-7.2(d,2H),7.2-7.35(m,3H),7.45-7.55(d,2H),8.8(s,1H),10.5(s ,1H) 実施例8 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−5−フェニルペンタン酸 ヒドロキシアミド 出発アルデヒドとしてフェニルアセトアルデヒドに代えてヒドロシンナムアル デヒドを使用して、実施例6、工程1〜5に従って標題化合物の調製を行って3 −(4−メトキシベンゼンスルファニル)−5−フェニルペンタン酸ヒドロキシ アミドを得、次いでこれをオフホワイトの結晶性固体の形態の3−(4−メトキ シベンゼンスルホニル)−5−フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド0.694gに変 換する。m.p. 65-68℃。1H NMR(DMSO-d6)δ1.6-1.8(m,1H),1.85-2.1(m,1H), 2.2-2.35(m,1H),2.45-2.8(m,3H),3.45-3.6(m,1H),3.85(s,3H),7.05-7.3 5(m,7H),7.7-7.85(d,2H),8.95(s,1H),10.6(s,1H) 実施例9 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−6−フェニルヘキサン酸 ヒドロキサミド 出発アルデヒドとして4−フェニルブチルアルデヒド(これを以下の操作によ り調製する)を使用して、実施例6、工程1〜5に従って標題化合物の調製を行 う。4−フェニルブタノールの酸化 アルゴン雰囲気下の-78℃のCH2Cl2100 mL中の塩化オキサリル20mL(39.94ミリ モル、1.2 当量)の溶液に、DMSO 5.7mL(79.88ミリモル)を滴下して添加する。-7 8℃で1時間攪拌した後、CH2Cl220mLに溶解した4−フェニルブタノール5g(33. 28ミリモル)を滴下して添加する。その反応混合物を-78℃で2時間攪拌した後 、トリエチルアミン23.2mL(166.42ミリモル)を滴下して添加する。次いでその反 応混合物を-78℃で0.5時間、0℃で1時問、そして25℃で1時間攪拌する。反応 液をCH2Cl2と1NのHCl の間に分配する。有機層を水で良く洗浄し、無水MgSO4 で 乾燥させ、真空で濃縮して4−フェニルブチルアルデヒド5g(100 %)を黄色の 油の形態で得る。 工程1〜5に従って3−(4−メトキシベンゼンスルファニル)−6−フェニ ルヘキサン酸を得、次いでこれを白色のフォームの形態の3−(4−メトキシベ ンゼンスルホニル)−6−フェニルヘキサン酸ヒドロキサミド1.23g に変換する 。 m.p.43-46℃。1H NMR(DMSO-d6)δ1.3-1.85(m,4H),2.05-2.2(m,1H),2.4-2.6 5(m,3H),3.45-3.6(m,1H),3.9(s,3H),7.05-7.35(m,7H),7.65-7.8(d,2H) ,8.85(s,1H),10.55(s,1H) 実施例10 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−メチル−7−フェニ ルヘプタン酸ヒドロキサミド 出発アルデヒドに代えてメチル5−フェニルブチルケトンを使用して、実施例 6、工程1〜5に従って、標題化合物の調製を行う。そのケトンを以下の操作に より調製する。 アルゴン雰囲気下の0℃のCH2Cl275mL中の5−フェニル吉草酸2g(11.22 ミリ モル)の溶液に、DMF 2滴、続いて塩化オキサリル7mL(14.03ミリモル)を添加す る。これを25℃で1時間攪拌し、次いでN,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩 酸塩1.4g(14.03 ミリモル)及びピリジン2.7 mL(33.66ミリモル、3当量)を連 続して添加し、25℃で72時間攪拌する。反応液をCH2Cl2と1NのHCl の間に分配す る。有機層を無水Na2SO4で乾燥させ、真空で濃縮して5−フェニルペンタン酸− メトキシ−メチルアミド2.5g(100 %)を黄色の油の形態で得る。 アルゴン雰囲気下の-78℃のTHF50 mL中の上からの5−フェニルペンタン酸− メトキシ−メチルアミド2.5g(11.30 ミリモル)の溶液に、ジエチルエーテル中 1.4MのMeLi9mL(12.43ミリモル、1.1 当量)を添加する。これを-78 ℃で0.5 時 間攪拌し、1NのHClの添加により反応を停止する。反応液をジエチルエーテルと 水の間に分配する。有機層を無水MgSO4で乾燥させ、真空で濃縮してメチル5− フェニルブチルケトン2g(100 %)を赤褐色の液体の形態で得る。 工程1〜5に従って、3−(4−メトキシベンゼンスルファニル)−3−メチ ル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキサミドを得、これを白色の固体の形態の3 −(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−メチル−7−フェニルヘプタン酸 ヒドロキサミド0.946gに変換する。m.p.52-55℃。1H NMR(CDCl3)δ1.35(s,3H ),1.45-1.7(m,4H),1.7-1.95(m,2H),2.5-2.75(m,4H),3.9(s,3H),6.95-7.0 5(d,2H),7.1-7.25(m,3H),7.25-7.35(m,2H),7.65-7.8(d,2H),7.6-8.1(bs ,1H),9.35(s,1H) 実施例11 本発明の化合物のR3位中の変化を行うための(E)−t−ブチル4 −アリール−2−ブテノエートの調製 工程A フェニルアセトアルデヒドの調製 Leannaら(Tetrahedron Lett.33,5029(1992))により記載された操作の改良に 従って、2−フェネチルアルコール(Ra=フェニル、O−フェニル、O−ベン ジル、O−n−ブチル)を酸化し、以下に4−ビフェニルアセトアルデヒド(即 ち、Raがフェニルである場合)の調製について記載する。 EtOAc 、トルエン、及び水の7:7:1 混合物(30 mL)中に2−(4−ビフェニル ) エチルアルコール(1g、5.04ミリモル)、NoBr(O.53g、 5.19ミリモル)、及びテ ンポ(8mg、0.05ミリモル)を含む溶液を0℃に冷却する。激しく攪拌しながら、N aHCO3(3.7g 、44ミリモル)で飽和したNaOCl 水溶液(0.35M、47mL、16.6ミリモル )を15分間隔で4回に分けて添加する。最後の添加後に、反応はTLC 分析により 完結している。白色の不均一の反応混合物を周囲温度に温め、ジエチルエーテル 及び水で希釈する。層を分離し、有機相をNa2S2O3 水溶液及び食塩水で連続して 洗浄し、無水MgSO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。その粗アルデヒドはTLC分析 により均一であり(ヘキサン/酢酸エチル、2:1 、Rf(アルコール)=0.35、 R6(アルデヒド)=0.55)、更に精製しないで直接使用する。 工程B (E)−t−ブチル4−フェニル−2−ブテノエートの調製 無水THF(3OmL)中に工程Bの粗アルデヒドを含む溶液に、(t−ブトキシカル ボニルメチレン)トリフェニルホスホラン(1.9g、5.04ミリモル)を添加する。15 分後に、ウィッテッヒ試薬の追加の部分(0.6g、1.5ミリモル)を添加して反応を 完結するように誘導する。その反応混合物を真空で濃縮し、粗エステルをフラッ シュシリカケルクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル、19:1)により精製 してt−ブチル4−(4−ビフェニル)−2−ブテノエート1.26g(85 %)を無 色の油として得、これはTLC 分析により均一である(ヘキサン/酢酸エチル、2: 1、Rf(エステル)=0.85)。1H N NHz(300 MHz,CDCl3)δ1.48(s,9H),3.5 2(d,2H),5.75(d,1H),7.02(dt,1H),7.21-7.62(m,9H)ppm実施例12 本発 明の化合物のR3位中の変化を行うための(±)−t−ブチル3−(4−メトキ シフェニル)スルファニル−4−アリールブタノエートの調製 Naito ら(J.Org.Chem.56,6556(1991))により記載された操作の改良に従って 、幾つかの(E)−t−ブチル4−アリール−2−ブテノエート(Ra=フェニ ル、O−フェニル、O−ベンジル、O−n−ブチル)への4−メトキシベンゼン チオールの共役付加を行い、(±)−t−ブチル3−(4−メトキシフェニル) スルファニル−4−(4−ベンジルオキシ)ブタノエートの調製について以下に 記載する。 0℃の無水THF(5 mL)中に4−メトキシベンゼンチオール(1.14g、 8.32ミリモ ル)を含む溶液に、n−BuLi(ヘキサン中1.1M、75mL、0.08ミリモル)を添加す る。15分後に、無水THF(3 mL)中に(E)−t−ブチル4−(4−ベンジルオキ シ)ブテノエート(0.54g、1.66ミリモル)を含む溶液を添加し、その反応混合物 を周囲温度に温める。16時間後に、その反応混合物をジエチルエーテル及び水で 希釈する。層を分離し、有機相をNa2CO3水溶液及び食塩水で連続して洗浄し、無 水MgSO4 で乾燥させ、濾過し、濃縮する。粗(±)−t−ブチル3−(4−メト キシフェニル)スルフィニル−4−(4−ベンジルオキシ)ブタノエート(0.61g 、79%)を更に精製しないで使用する。TLC 分析(ヘキサン/ジエチルエーテル 、10:1、Rf(ブテノエート)=0.60、Rf(ブタノエート)=0.25)1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.45(s,9H),2.36(m,2H),2.79(ABq,2H),3.44( 5重線,1H),3.80(s,3H),5.03(s,3H),6.80-7.45(m,13H)ppm実施例13 本 発明の化合物のR3 位中の変化を行うための(±)−3−(4−メトキシフェニ ル)スルファニル−4−アリールブタン酸の調製 CH2Cl2中のTFA を使用して、一連の(±)−t−ブチル3−(4−メトキシフ ェニル)スルフィニル−4−アリールブタノエート(Ra=フェニル、O−フェ ニル、O−ベンジル、O−n−ブチル)を脱エステル化するための一般的操作を 行い、以下に(±)−3−(4−メトキシフェニル)スルフィニル−4−(4− ベンジルオキシ)ブタン酸の調製について記載する。 CH2Cl2(12 mL)中に(±)−t−ブチル3−(4−メトキシフェニル)スルフ ィニル−4−(4−ベンジルオキシ)ブタノエート(0.61g、1.31ミリモル)を含 む溶液を0℃に冷却する。トリフルオロ酢酸(3mL)を一度に添加し、その反応 混合物を周囲温度に温める。16時問後に、その反応混合物を真空で濃縮する。粗 (±)−3−(4−メトキシフェニル)スルフィニル−4−(4−ベンジルオキ シ)ブタン酸(0.53g、100 %)を更に精製しないで使用する。TLC 分析(ヘキサ ン/酢酸エチル、1:1 、Rf (エステル)=0.95、Rf (酸)=0.30)1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ2.52(m,2H),2.83(ABq,2H),3.48(5重線,1H), 3.79(s,3H),5.01 (s,2H),6.80-7.45(m,13H),7.98(brs,1H)ppm 実施例14 本発明の化合物のR3位中の変化を行うための(±)−N−ヒドロキ シ−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル−4−アリールブチルアミドの 調製 (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル−4− (4−ビフェニル)ブチルアミドの調製について以下に記載される一般的操作を 使用して、一連の(±)−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル−4−ア リールブタン酸(Ra =フェニル、O−フェニル、O−ベンジル、O−n−ブチ ル)から相当するキドロキサム酸への変換を行う。 無水CH2Cl2(50 mL)中に(±)−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル −4−(4−ビフェニル)ブタン酸(0.82g、2.17ミリモル)及びDMF(0.17 mL、2 .17ミリモル)を含む溶液に、塩化オキサリル(0.69g、5.43ミリモル)をシリン ジにより添加する。1時間後に、TMSONH2(1.14g、10.8ミリモル)を一度に添加す る。その反応混合物をジクロロメタン及び水で希釈する。層を分離し、有機相を 1MのHCl、水及び食塩水で連続して洗浄し、無水MgSO4で乾燥させ、濾過し、濃縮 する。粗(±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルファニル −4−(4−ビフェニル)ブチルアミド(0.51g、 60%)を更に精製しないで使用 する。TLC 分析(酢酸エチル、1:1 、Rf (酸)=0.20、Rf(ヒドロキサム酸)=0 .20)1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ2.38(ABq,2H),2.90(m,2H),3.59(m,1H), 3.74(s,3H),6.81(d,2H),7.18-7.57(m,11H),8.01(s,1H)ppm 実施例15 本発明の化合物のR3 位中の変化を行うための(±)−N−ヒドロキ シ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4−アリールブチルアミドの調 製 (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4−( 4−n−ブトキシフェニル)ブチルアミド及び(±)−N−ヒドロキシ−3−( 4−メトキシフェニル)スルホニル−4−(4−フェノキシフェニル)ブチルア ミドの夫々の調製について以下に記載される一般的操作に従って、オキソン又は m−CPBAを使用して、一連の(±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシ フェニル)スルファニル−4−アリールブチルアミド(Ra=フェニル、O−フ ェニル、O−ベンジル、O−n−ブチル)の酸化を行う。 1.オキソンによる酸化 (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4−(4 −n−ブトキシフェニル)ブチルアミド 0℃のMeOH(25 mL)中に(±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニ ル)スルファニル−4−(4−n−ブトキシフェニル)ブチルアミド(540mg、1. 38ミリモル)を含む溶液に、水(20 mL)中のオキソン(1.27g、2.07ミリモル)の溶 液を添加する。不均一混合物を周囲温度に温める。16時間後に、その混合物をジ エチルエーテル及び水で希釈し、層を分離する。有機相をNa2S2O3 水溶液及び食 塩水で連続して洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。粗スルホン をフラッシュシリカゲルクロマトグラフィー(CH2Cl2〜10%MeOH/CH2Cl2)により 精製して(±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル− 4−(4−n−ブトキシフェニル)ブチルアミド270mg(47 %)を透明なガラス質 の固体として得、これはTLC 分析により均一である(酢酸エチル、Rf(スルフィ ド)=0.80、Rf (スルホン)=0.74)。m.p.55-60℃。1 H NMR(300 MHz,d6-DMSO)δ0.89(t,3H),1.39(m,2H),1.60(m,2H),2.22(ABq ,2H),2.72(ABq,2H),3.81 (s,3H),3.82(m,1H),6.70(d,2H),6.95(d,2H ),7.08(d,2H),7.72(d,2H),8.76(s,1H),10.5(s,1H)ppm;質量スペクトル (FAB),m/z 422 (M+H)+ (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル スルホニル−4−(4 −ベンジルオキシフェニル)ブチルアミド オキソンを使用して先の操作を適用して以下のように特性決定される標題化合 物を得る。白色の無定形粉末、m.p.128-130℃。TLC 分析(ヘキサン/酢酸エチ ル、1:2 、Rf(スルフィド)=0.45、Rf (スルホン)=0.33)1 H NMR(300 MHz,d6-DMSO)δ2.24(ABq,2H),2.75(ABq,2H),3.80(m,1H),3.81 (s,3H),4.99(s,2H),6.80(d,2H),6.99(d,2H),7.08(d,2H),7.22-7.42(m ,5H),7.71(d,2H),8.76(s,1H),10.44(s,1H)ppm;質量スペクトル(FAB),m/ z 456(M+H)+ 2.m−CPBAによる酸化 (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4−(4 −フェノキシフェニル)ブチルアミド 0℃の無水CH2Cl2(20 mL)中に(±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシ フェニル)スルファニル−4−(4−フェノキシフェニル)ブチルアミド(0.84g 、2.05ミリモル)を含む溶液に、m−CPBA(1.70g、10.2ミリモル)を添加する 。その反応混合物を周囲温度に温め、更に3時間攪拌する。不均一混合物をジエ チルエーテル及び水で希釈し、層を分離する。有機相をNaHSO3水溶液、NaHCO3水 溶液及び食塩水で連続して洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。 粗スルホンをフラッシュシリカゲルクロマトグラフィー(CH2Cl2〜5%MeOH/CH2 Cl2)により精製して(±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル) スルホニル−4−(4−フェノキシフェニル)ブチルアミド190mg(21 %)をガ ラス質の白色の固体として得、これはTLC 分析により均一である(ヘキサン/酢 酸エチル、1:2 、Rf(スルフィド)=0.50、Rf(スルホン)=0.40)。m.p.65-70℃ 。1H NMR(300 MHz,d6-DMSO)δ2.34(ABq,2H),2.83(ABq,2H),3.80(s,3H),3. 87(m,1H),6.78(d,2H),6.92(d,2H),7.08(m,5H),7.31(d,2H),7.72(d,2 H),8.78(s,1H),10.47(s,1H)ppm;質量スペクトル(FAB),m/z442(M+H)+ (±)−N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−4−(4 −ビフェニル)ブチルアミド m−CPBAを使用して先の操作を適用して以下のように特性決定される標題 化合物を得る。透明な粘稠なガラス、TLC 分析(5%のMeOH/CH2Cl2、Rf(スル フィド)=0.50、Rf(スルホン)=0.45)1H NMR(300 MHz,d6-DMSO)δ2.30(ABq,2H) ,2.84(ABq,2H),3.76(s,3H),3.90(m,1H),7.02-7.78(m,13H),8.76(s,1H ),10.49(s,1H)ppm;質量スペクトル(FAB),m/z 426(M+H)+ 実施例15 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−エチル−7−フェニ ルヘプタン酸ヒドロキサミド 実施例6に従って、標題化合物の調製を行うが、出発ケトン(エチル−5−フ ェニルブチルケトン)をスキームGに従って製造する。 アルゴン雰囲気下の-78℃のTHF 20mL中のN−メチル−N−メトキシ−5−フ ェニルペンタンアミド1.5g(6.78ミリモル)の溶液に、THF 中1MのEtMgBr 13.56 mL(13.56ミリモル、2当量)を添加する。これを-78℃で0.25時間、0℃で0.75時 間攪拌し、1NのHCl の添加により反応を停止する。反応液をジエチルエーテルと 水の間に分配する。有機層を無水MgSO4 で乾燥させ、真空で濃縮してエチル−5 −フェニルブチルケトン1.3g(100 %)を黄色の油の形態で得る。 次いでエチル−5−フェニルブチルケトンを実施例6、工程A−Cに従って反 応させて3−(4−メトキシフェニルスルファニル)−3−エチル−7−フェニ ルヘプタン酸を生成する。 0℃のMeOH 50 ml中の3−(4−メトキシフェニルスルファニル)−3−エチ ル−7−フェニルヘプタン酸0.95g(2.45ミリモル)の溶液に、水15mLに溶解した オキソン2.26g(3.68ミリモル、1.5当量)の溶液を滴下する。25℃で18時間攪拌し た後、反応液を真空で濃縮し、次いで酢酸エチルと水の間に分配する。有機層を 無水Na2SO4で乾燥させ、次いで真空で濃縮する。ヘキサンによる処理により結晶 化して3−(4−メトキシフェニルスルホニル)−3−エチル−7−フェニルヘ プタン酸1g(100 %)を白色の粉末として得た。 塩化メチレン50mL中の3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−エチル −7−フェニルヘプタン酸0.4g(0.99 ミリモル)の溶液に、O−ベンジル−ヒド ロキシルアミン塩酸塩0.47g(2.96ミリモル、3当量)、HOBT 0.13g(0.247ミリモ ル)、n−メチルモルホリン(NMM)0.54mL(4.94 ミリモル、5当量)、及びEDCl0.2 5g(1.28ミリモル、1.3当量)を添加する。25℃で18時間攪拌した後、反応液を塩 化メチレンと1Nの HClの間に分配する。有機層を無水Na2SO4で乾燥させ、次い で真空で濃縮する。フラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精製してN −ベンジルオキシ−3−(4−メトキシフェニルスルホニル)−3−エチル- 7−フェニルヘプタンアミド0.463g(92%)を無色の油の形態で得た。 EtOH75mL中のN−ベンジルオキシ−3−(4−メトキシフェニルスルホニル) −3−エチル−7−フェニルヘプタンアミドO.463g(0.91ミリモル)の溶液を50 psiのH2のもとに0.2gの10%のPd/ カーボンとともに3日間振とうする。混合物 を濾過し、真空で濃縮する。フラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより精 製して3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−エチル−7−フェニルヘ プタン酸ヒドロキサミド0.1g(26%)を白色のフォームの形態で得た。m.p.44-4 6℃。1H NMR(DMSO-d6)δ(TMS)0.97(t,3H),1.45-1.9(m,8H),2.4(s,2H),2.5 5(m,2H),3.87(s,3H),7.1-7.25(m,5H),7.28(d,2H),7.65(d,2H),8.83(s ,1H),10.6(s,1H) 実施例16 3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3,7−ジフェニルヘプ タン酸ヒドロキサミド 実施例6に従って、標題化合物の調製を行うが、出発ケトン(フェニル−5− フェニルブチルケトン)をスキームGに従って製造する。 アルゴン雰囲気下の-78℃のTHF 20mL中のN−メチル−N−メトキシ−5−フ ェニルペンタンアミド1.5g(6.78ミリモル)の溶液に、THF 中1.8MのPhLi 7.5mL (13.56ミリモル、2当量)を添加する。これを-78℃で0.5時間攪拌し、1NのHCl の添加により反応を停止する。反応液をジエチルエーテルと水の間に分配する。 有機層を無水MgSO4で乾燥させ、真空で濃縮する。フラッシュシリカゲルクロマ トグラフィーにより精製してフェニル−5−フェニルブチルケトン1.3g(80%) を黄色の油の形態で得た。 次いでフェニル−5−フェニルブチルケトンを実施例6、工程A−Eに従って 反応させて3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3,7−ジフェニルヘプ タン酸ヒドロキサミド0.051g(48%)をベージュ色の粉末の形態で得る。m.p.75 −78℃。1H NMR(DMSO-d5)δ(TMS)1.4-1.7(m,4H),2.4-2.55(m,2H),2.6(t,2 H),3.82(s,3H),6.93(d,2H),7.0(d,2H),7.1-7.35(m,10H),8.78(s,1H) ,10.65(s,1H) 実施例17 N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−3−メ チルブチルアミド 実施例6、工程C−Dのようにして、4−フェニルブタ−2−エン酸に代えて 市販の3,3−ジメチルアクリル酸を使用して標題化合物を調製する。生成物を 酢酸エチル及びエーテルで結晶化させてN−ヒドロキシ−3−(4−メトキシベ ンゼンスルホニル)−3−メチルブチルアミド0.275g(61%)を白色の粉末の形 態で得る。m.p.153-154 ℃。1H NMR(DMSO-d6)δ(TMS)1.25(s,6H),2.25(s,2H) ,3.87(s,3H),7.18(d,2H),7.73(d,2H),8.85(s,1H),10.6(s,1H) 実施例18 N−ヒドロキシ−2−[1−(4−メトキシベンゼンスルホニル)シ クロペンチル]アセトアミド フェニルアセトアルデヒドに代えてシクロペンタノンを使用した以外は実施例 6、工程A−Eに従って標題化合物を調製してN−ヒドロキシ−2−[1−(4 −メトキシベンゼンスルホニル)シクロペンチル]アセトアミド0.435g(74%) を白色の粉末の形態で得る。m.p.148-150 ℃。生成物をエーテル及びヘキサンで 再結晶する。1H NMR(DMSO-d6)δ(TMS)1.5(m,4H),2.0(m,2H),2.15(m,2H),2 .3(s,2H),3.85(s,3H),7.18(d,2H),7.78(d,2H),8.85(s,1H),10.65(s, 1H) 実施例18 N−ヒドロキシ−2−[1−(4−メトキシベンゼンスルホニル)− 4−フェニルシクロヘキシル]−アセトアミド フェニルアセトアルデヒドに代えて4−フェニルシクロヘキサノンを使用した 以外は実施例6、工程A−Eに従って標題化合物を調製してN−ヒドロキシ−2 −[1−(4−メトキシベンゼンスルホニル)−シクロペンチル]アセトアミド 0.396g(23%)を白色の粉末の形態で得る。m.p.210 ℃。生成物をフラッシュシ リカゲルクロマトグラフィーにより精製し、酢酸エチル及びメタノールで結晶化 させる。1H NMR(DMSO-d6)δ(TMS)1.72(m,6H),2.1(m,2H),2.37(m,1H),2.53 (s,2H),3.85(s,3H),7.15(d,2H),7.25(m,5H),7.78(d,2H),8.75(s,1H) ,10.55(s,1H) 実施例19 (2R*,3R*)−2−アミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スル ホニル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A (Z)−アリル2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−7−フェニル− 2−ヘプテノエート 0℃に冷却したEtOAc(60 mL)、トルエン(60 mL)、及び水(9mL)中の5−フェ ニルペンタノール(5g、30.4ミリモル)、NaBr(3.2g、31.3ミリモル)、及び 100.4 ミリモル)及びNaHCO3(22.2g、264.8 ミリモル)を含む溶液を30分間に わたって少しずつ(50 mL)添加する。反応をEtOH(10mL)の添加により停止する 。2相混合物を分離し、有機相をNa2S2O3水溶液(2 X 100mL)、食塩水(100mL)で 洗浄し、無水MgSO4で乾燥させ、濾過し、濃縮して粗5−フェニルペンタナール を得、これはTLC 分析により均一であり[ヘキサン/EtOAc、4:1、Rf(5−フ ェニルペンタノール)=0.30、Rf(5−フェニルペンタナール)=0.65]、こ れを更に精製しないで使用する。 無水THF(20 mL)中の粗アルデヒドを無水THF(200mL)中にn−(ベンジルオ キシカルボニル)−α−ホスホノグリシントリメチルエステル(12.1g、36.5ミリ モル)、及びDBU(6.1g、39.5ミリモル)を含む溶液に0℃で添加する。30分後に 、反応混合物をEtOAc(200mL)及び水(200mL)で希釈する。希HCl 水溶液(1M、50 mL)を添加し、層を分離する。有機相を1MのHCl(50 mL)、水(50 mL)、食塩水(5 0 mL)で洗浄し、無水MgSO4で乾燥させ、濾過し、濃縮して粗(Z)−メチ ル2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−7−フェニル−2−ヘプテノエートを 得、これはTLC 分析により均一であり[ヘキサン/EtOAC、4:1 、Rf(メチル2 −ベンジルオキシカルボニルアミノ−7−フェニル−2−ヘプテノエート)=0. 45]、これを更に精製しないで使用する。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.49(m, 2H),1.66(m,2H),2.22(q,2H),2.60(t,2H),3.74(s,3H),5.13(s,2H),6. 19(br s,1H),6.62(t,1H),7.12-7.40(m,10H)ppm 1,4−ジオキサン(100mL)中に粗エステルを含む溶液に、Na0H水溶液(1M、 50mL)を周囲温度で添加する。16時間後に、追加部分のNa0H(1M、50mL)を添加し 、TLC 分析がエステルの完全な消費を明らかにするまで攪拌を2時間続ける。反 応混合物をジエチルエーテル(200mL)及び水(200mL)で希釈し、層を分離する。水 相を濃HCl(10 mL)で酸性にし、ジエチルエーテル(2 X 100mL)で抽出する。合 わせた有機抽出物を水(50 mL)、食塩水(50 mL)で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させ 、濾過し、濃縮して粗(Z)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−7−フェ ニル−2−ヘプテン酸を得、これはTLC 分析により均一であり[ヘキサン/EtOA c 、4:1 、Rf(2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−7−フェニル−2−ヘ プテン酸)=0.01]、これを更に精製しないで使用する。1H NMR(300 MHz,CDC l3)δ1.50(m,2H),1.64(m,2H),2.26(q,2H),2.60(t,2H),5.13(s,2H),6 .22(br s,1H),6.79(t,1H),7.10-7.38(m,10H)ppm 臭化アリル(3.6g、0.4ミリモル)を無水DMF(60 mL)中の粗酸及びK2CO3(8.6g 、62ミリモル)の激しく攪拌した混合物に周囲温度で添加する。2時間後に、反 応混合物をジエチルエーテル(200mL)及び水(100mL)で希釈し、層を分離する。有 機相を水(5 X 100mL)、食塩水(50 mL)で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させ、濾過し 、濃縮する。粗エステルをシリカゲルでクロマトグラフィー(ヘキサン/EtOAc 、19:1)にかけて(Z)−アリル2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−7−フ ェニル−2−ヘプテノエート9.5g(79%、3工程)を無色透明の油として得、こ れはTLC 分析により均一である[ヘキサン/EtOAc、4:1、Rf(アリル2−ベン ジルオキシカルボニルアミノ−7−フェニル−2−ヘプテノエート) =0.40]。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.48(m,2H),1.62(m,2H),2.21(q,2H ),2.58(t,2H),4.61(d,2H),5.07(s,2H),5.20(d,1H),5.28(d,1H),5.87 (m,1H),6.26(br s,1H),6.63(t,1H),7.10-7.34(m,10H)ppm 工程B (2R*,3R*)−アリル2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3− (4−メトキシフェニル)スルファニル−7−フェニルヘプタノエート n−ブチルリチウム(ヘキサン中1.1M、1.1 mL、1.21ミリモル)を無水THF(20 0mL)中に4−メトキシベンゼンチオール(17.1g、121 ミリモル)を含む溶液に0 ℃で添加する。15分後に、無水THF(40 mL)中に(Z)−アリル2−ベンジルオ キシカルボニルアミノ−7−フェニル−2−ヘプテノエート(9.5g、24.2ミリモ ル)を含む溶液を添加する。反応混合物を徐々に周囲温度に温める。16時間後、 反応混合物を濃縮し(約30%v/v)、残渣をジエチルエーテル(300mL)に溶解する。 エーテル溶液を5%のNa2C03水溶液(5 X 50 mL)、食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。粗スルフィドをシリカゲルでクロマトグ ラフィー(ヘキサン/EtOAc、19:1〜9:1)にかけて(2R*,3R*)−アリル2 −ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニ ル−7−フェニルヘプタノエート12.5g(96 %)を無色透明な油として得、これ はTLC 分析により均一である[ヘキサン/EtOAc、4:1 、Rf(アリル2−ベンジ ルオキシカルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7− フェニルヘプタノエート)=0.42]。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.64(m,6H) ,2.62(m,2H),3.54(m,1H),3.79(s,3H),4.07(dd,1H),4.37(dd,1H),4.7 0(dd,1H),5.15(s,2H),5.23(m,1H),5.62-5.80(m,2H),6.82(m,2H),7.22 (m,2H),7.28-7.47(m,10H)ppm; 質量スペクトル(FAB)m/z 534(M+H)+ 工程C (2R*,3R*)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−(4− メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニルヘプタン酸 無水THF(200 mL)中に(2R*,3R*)−アリル2−ベンジルオキシカルボニ ルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニルヘプタノ エート(12.5g、23.4ミリモル)、Ph3P(6g、23.4ミリモル)、(Ph3P)4,Pd(2g、2. 34ミリモル)、及び氷酢酸HOAc(4 mL)を含む溶液を周囲温度で4時間攪拌する 。反応混合物を濃縮し、次いでEtOAc(200mL)に溶解する。EtOAc 溶液を希NaOH 水溶液(3 X 50 mL)、1MのHCl 水溶液(50 mL)、食塩水(50 mL)で洗浄し、無水N a2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。粗酸をシリカゲルでクロマトグラフィー (CH2Cl2〜10%のMeOH/CH2Cl2)にかけて(2R*,3R*)−2−ベンジルオキ シカルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニ ルヘプタン酸11.4g(99 %)を吸湿性の白色のフオームとして得、これはTLC 分 析により均一である[5%のMeOH/CH2Cl2、Rf(アリル2−ベンジルオキシカ ルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニルヘ プタノエート)=0.85; Rf (2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−( 4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フエニルヘプタン酸)=0.45]。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.63(m,6H),2.60(m,2H),3.47(m,1H),3.71(s ,3H),4.59(m,1H),5.10(s,2H),5.56(d,1H),6.72(d,2H),7.10−7.40(m ,12H)ppm;質量スペクトル(FAB)m/z 494(M+H)+ 工程D (2R*,3R*)−N−ベンジルオキシ−2−ベンジルオキシカルボニ ルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニルヘプタン アミド 無水CH2Cl2(70 mL)中に(2R*,3R*)−2−ベンジルオキシカルボニルア ミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニルヘプタン酸( 3.1g、 6.28ミリモル)、HOBT(0.85g、 6.28ミリモル)、O−ベンジル−ヒド ロキシルアミンHCl(3g、18.8ミリモル)、n−メチルモルホリン(3.1g、31.4ミ リモル)、及びEDAC・HCl(1.6g、8.16ミリモル)を含む溶液を周囲温度で16時間 攪拌する。反応混合物を濃縮し、残渣をEtOAc(100mL)に溶解する。EtOAc溶液 を0.5MのHCl 水溶液(3 X 30 mL)、食塩水(30 mL)で洗浄し、無水MgSO4で 乾燥させ、濾過し、濃縮する。粗アミドをシリカゲルでクロマトグラフィー(ヘ キサン/EtOAc、4:1〜2:1)にかけて(2R*,3R*)−N−ベンジルオキシ−2 −ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニ ル−7−フェニルヘプタンアミド3g(79%)を白色のフォームとして得、これは TLC 分析により均一である[ヘキサン/EtOAc、1:1、Rf(2−ベンジルオキシカ ルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニルヘ プタン酸)=0.01; Rf(N−ベンジルオキシ−2−ベンジルオキシカルボニル アミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニルヘプタンア ミド)=0.75]。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.38-1.74(m,6H),2.57(m,2H) ,3.40(m,1H),3.76(s,3H),4.07(m,1H),4.84(m,2H),5.05(m,2H),5.79( m,1H),6.77(d,2H),7.13-7.36(m,17H),9.07(br s,1H)ppm 工程E (2R*,3R*)−N−ベンジルオキシ−2−ベンジルオキシカルボニ ルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルホニル−7−フェニルヘプタンア ミド MeOH(200mL)中に(2R*,3R*)−N−ベンジルオキシ−2−ベンジルオキ シカルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルファニル−7−フェニ ルヘプタンアミド(3g、5.01ミリモル)を含む0℃の溶液に、水(200mL)中のオキ ソン(6.2 g、10ミリモル)を添加する。白色の2相混合物を周囲温度に徐々に温 める。16時間後に、反応混合物を真空で濃縮してMeOHを除去し、水(100mL)で希 釈し、CH2Cl2(2 X 100 mL)で洗浄する。合わせた有機抽出物をNaHSO3(3X 50m L)、食塩水(50 mL)で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。粗ス ルホキシドをシリカゲルでクロマトグラフィー(ヘキサン/EtOAc、4:1)にかけて スルホキシドのジアステレオマー混合物1.8g(58%)を得、これはTLC 分析によ り均一であることが明らかであった[ヘキサン/EtOAc、1:1、Rf(スルホキシ ド)=0.55]。 0℃で、実用銘柄のm−CPBA(1g、5.85ミリモル)をCH2Cl2(60 mL)中に 先に調製したスルホキシドの混合物(1.8g、2.92ミリモル)を含む溶液に添加する 。反応混合物を周囲温度に温める。1時間後に、反応混合物を真空で濃縮し、残 渣をジエチルエーテル(100mL)に溶解する。エーテル溶液をNa2S2O3水溶液(3 X 20mL)、NaHCO3水溶液(3 X 20mL)、食塩水(20 mL)で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥 させ、濾過し、濃縮する。粗スルホンをシリカゲルでクロマトグラフィー(ヘキ サン/EtOAc、4:1)にかけて(2R*,3R*)−N−ベンジルオキシ−2−ベン ジルオキシカルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルホニル−7− フェニルヘプタンアミド1.8g(97%)をオフホワイトの固体として得、これはTL C 分析により均一である[ヘキサン/EtOAc、1:1、Rf(N−ベンジルオキシ− 2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルホニ ル−7−フェニルヘプタンアミド)=0.72]。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.24-1.58(m,4H),1.70(m,2H),2.46(m,2H),3. 85(s,3H),3.98(m,1H),4.72(m,1H),4.91(dd,2H),5.09(s,3H),5.99(d, 1H),6.96(d,2H),7.04(d,2H),7.12-7.44(m,13H),7.74(d,2H),9.01 (br s,1H)ppm; 質量スペクトル(FAB)m/z 631 (M+H)+ 工程F (2R*,3R*)−2−アミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルホ ニル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド MeOH(250 mL)中に(2R*,3R*)−N−ベンジルオキシ−2−ベンジルオ キシカルボニルアミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルホニル−7−フェニ ルヘプタンアミド(10g、15.8ミリモル)、及び10%のパラジウム/カーボン(50 0mg)を含む溶液を周囲温度で8時間にわたって水素の雰囲気(60 PSI)のもとに 振とうする。反応混合物をセライトのパッドで濾過し、固体をMeOH(3 X 50mL) で洗浄する。透明な濾液を真空で濃縮して粗生成物を得、これを水性Me0Hで再結 晶して(2R*,3R*)−2−アミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルホニ ル−7−フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド4.6g(71%)をオフホワイトの固 体として得、これはTLC 分析により均一である[n−BuOH/HOAc/水、4:1:1、 Rf(N−ベンジルオキシ−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−(4− メトキシベンゼン)スルホニル−7−フェニルヘプタンアミド)=0.99;Rf(2 −アミノ−3−(4−メトキシベンゼン)スルホニル−7−フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミド)=O.62]。m.p.103-106 ℃。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.14-1.42(m,2H),1.43-1.63(m,2H),1.81(m,2H ),2.47(t,2H),3.68(br s,1H),3.84(s,4H),6.97(d,2H),7.03(d,2H), 7.14-7.25(m,3H),7.77(d,2H)ppm 分析、C20H26N2O5Sとしての計算値: C ,59.1; H,6.45; N,6.89 実測値: C,57.6; H,6.53; N,6.51 実施例20 N−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル ]−6−フェニルヘキサンアミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A メチル2−(3,4−ジメトキシフェニルチオ)アセテート アセトン(40 mL)中の3,4−ジメトキシチオフェノール(3g、17.6ミリモル) 、メチルブロモアセテート(1.67 mL、17.6ミリモル)及び炭酸カリウム(2.4g、17 .6ミリモル)の混合物を4時間にわたって還流下で加熱する。混合物を濾過し、 濾液を水に添加し、エーテルで抽出する。エーテル層を水洗し、MgSO4 で乾燥さ せ、溶媒を真空で除去する。残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(7:3のヘ キサン:酢酸エチル)にかけて1を油(2.6g、65%)として得る。1 H NMR(330 MHz,CDCl3)δ(TMS)3.57(s,2H),3.72(s,3H),3.88(s,6H),6. 79(d,1H),7.00-7.10(m,2H) 工程B メチル(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)アセテート ジクロロメタン(70 mL)中のメチル2−(3,4−ジメトキシフェニルチオ) アセテート(2.6g、11.5ミリモル)の溶液に、5分間にわたって50%のm−クロロ ペルオキシ安息香酸(11.8g、34.5ミリモル)を少しずつ添加する。混合物を室 温で2時間攪拌し、濾過する。濾液をメタ重亜硫酸ナトリウム水溶液で抽出し、 次いで重炭酸ナトリウム水溶液で抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させ 、溶媒を真空で除去する。残渣を熱い酢酸エチルに溶解し、溶液をヘキサンで希 釈してメチル(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)アセテート(1.6g、52 %)を沈殿させる。m.p.81-3℃。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)3.72(s,3H) ,3.94(d,6H),4.12(s,2H),6.98(d,1H),7.39(s,1H),7.58(d,1H) 工程C メチル2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル]−6−フェ ニルヘキサノエート 無水DMF(15mL)中の60%のNaH(0.23g、5.84ミリモル)の懸濁液に、DMF 20mL 中のメチル(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)アセテート(1.6g、5.84 ミリモル)の溶液を10分間にわたって滴下して添加する。その混合物を室温で20 分間攪拌する。1−ブロモ−4−フェニルブタン(1.6g、5.84ミリモル)を添加し 、その混合物を室温で24時間攪拌する。その混合物を5%のHCl に添加し、エー テルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、 残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(7:3のヘキサン:酢酸エチル)にかけて メチル2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル]−6−フェニルヘキ サノエート(1.3g、55%)を得る。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.30-1.42(m ,2H),1.52-1.68(m,2H),1.95-2.12(m,2H),2.48-2.68(m,2H),3.64(s,3H) ,3.92(d,7H),6.95(d,1H),7.07-7.18(m,2H),7.20-7.30(m,4H),7.44(d, 1H); MS(EI)m/e 406(M+)工程D 2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スル ホニル]−6−フェニルヘキン酸 エタノール(15 mL)中のメチル2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホ ニル]−6−フェニルヘキサノエート(1.3g、3.2 ミリモル)及び10%の水酸化ナ トリウム(15 mL)の溶液を20分間にわたって還流下に加熱する。その溶液を冷 却し、HCl 水溶液に添加し、エーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾 燥させる。溶媒を真空で除去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、その溶液をヘキサ ンで希釈して2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル]−6−フェニ ルヘキン酸(0.5g、40%)を沈殿させる。m.p.114-16℃。分析(C20H24O6S)C,H1H N MR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.28-1.48(m,2H),1.54-1.70(m,2H),1.87-2.05 (m,2H),2.48-2.64(m,2H),3.88(d,7H),6.97(d,1H),7.12-7.20(m,2H),7 .20-7.30(m,4H),7.40-7.50(m,1H) 工程E N−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル] −6−フェニルヘキサンアミド ジクロロメタン(10 mL)中の2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニ ル]−6−フェニルヘキン酸(0.3g、0.76ミリモル)の溶液に、1Mの塩化オキサリ ル(1.5mL、1.5 ミリモル)を添加する。その溶液を室温で1時間攪拌する。更に 数mLの塩化オキサリルを添加し、溶液を室温で一夜攪拌する。溶媒を真空で除去 し、残渣をジクロロメタンに溶解し、O−(トリメチルシリル)ヒドロキシルア ミン(2mL)を添加する。その混合物を室温で30分間攪拌する。その混合物を5 %のHCl に注ぎ、ジクロロメタンで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥さ せる。溶媒を真空で除去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、その溶液をヘキサンで 希釈してN−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル] −6−フェニルヘキサンアミド(0.3g、100 %)を沈殿させる。m.p.180-8 ℃。分 析(C20H25NO6S)C,H,N1H NMR(300 MHz,CDCl,-DMSO-d6)δ(TMS)1.18-1.45(m,2H ),1.50-1.68(m,2H),1.72-2.02(m,2H),2.42-2.60(m,2H),3.69−3.80(m,1 H),3.90(d,6H),6.96(d,1H),7.08-7.18(m,2H),7.18-7.28(m,2H),7.40-7 .52(m,3H) 実施例21 (E)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)チ オ]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A メチル3−ケト−7−フェニルヘプテノエート 0℃の無水DMF(50 mL)中の60%のNaH(2.76g、69ミリモル)の懸濁液に、DM F(50 mL)中のメチルアセトアセテート(8g)の溶液を10分間にわたって滴下して 添加する。その混合物を-25 ℃に冷却し、2.5Mのn−ブチルリチウム(27.6mL、6 9ミリモル)を5分間で滴下して添加する。その混合物を5分間攪拌し、1−ブロ モ−3−フェニルプロパン(10.48mL、 69ミリモル)を5分間で滴下して添加する 。冷却浴を除去し、混合物を室温で2時間攪拌する。その混合物を水に注ぎ、エ ーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し 、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(6:1のヘキサン:酢酸エチル)にかけ てメチル3−ケト−7−フェニルヘプテノエートを油(8g、50%)として生成する 。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.50-1.68(m,4H),2.42-2.62(m,4H),3.4 0(s,2H),3.70(s,3H),7.10-7.18(m,2H),7.18-7.30(m,3H) 工程B メチル(E)及び(Z)−3−クロロ−7−フェニルーヘプテノエート ヘキサン(60 mL)中のメチル3−ケト−7−フェニルヘプテノエート(8g,34ミ リモル)及び五塩化リン(14.1g、68ミリモル)の混合物を2時間にわたって還流下 に加熱する。その溶液を氷で冷却し、メタノール(5mL)を徐々に添加する。 その混合物を室温で10分間攪拌し、水に添加し、ヘキサンで抽出する。有機層を MgSO4 で乾燥させ、溶媒を真空で除去する。残渣をジクロロメタン(70 mL)に溶 解し、2Mの塩化オキサリル17mLを添加する。その溶液を2時間攪拌し、溶媒を真 空で除去する。残渣をジクロロメタンに溶解し、若干のメタノールを添加する。 30分間攪拌した後、溶媒を減圧で除去する。残渣をシリカゲルでクロマトグラフ ィー(20:1 のヘキサン:酢酸エチル)にかけてメチル(E)−3−クロロ−7− フェニル−2−ヘプテノエート(2.1g、25%)をカラムからの最初の成分として得 、メチル(Z)−3−クロロ−7−フェニル−2−ヘプテノエート(1.4g、17 %)をカラムからの第二成分として得る。メチル(E)−3−クロロ−7−フェ ニル−2−ヘプテノエート、1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.58-1.69(m,4H ),2.57-2.60(m,2H),2.92-3.04(m,2H),3.68(s,3H),6.06(s,1H),7.12-7. 22 (m,3H),7.22-7.45(m,2H);メチル(Z)−3−クロロ−7−フェニル− 2−ヘプテノエート、1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.58-1.78(m,4H),2. 38-2.50(m,2H),2.57-2.62(m,2H),3.72(s,3H),6.00(s,1H),7.12-7.27(m ,3H),7.27-7.38(m,2H) 工程C メチル(E)−3−[(3,4−メトキシフェニル)チオ]−7−フェ ニル−2−ヘプテノエート メタノール(50 mL)中のメチル(E)−3−クロロ−7−フェニル−2−ヘプ テノエート(1.3g、5.1ミリモル)、3,4−ジメトキシチオフェノール(0.86g、5 .1 ミリモル)及び炭酸カリウム(0.7g、5.1 ミリモル)の混合物を3時間にわた って還流下に加熱する。その混合物を濾過し、濾液を水に注ぎ、エーテルで抽出 する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、残渣をクロ マトグラフィー(4:1のヘキサン:酢酸エチル)にかけてメチル(E)−3−[( 3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−7−フェニル−2−ヘプテノエート(0. 6g、31%)を得る。少量をヘキサンで再結晶してm.p.53-5℃を得る。 分析(C22H26O4S)C,H 1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.68-1.82(m,4H),2.60 -2.70(m,2H),2.80-2.92(m,2H),3.57(s,3H),3.86(s,3H),3.90(s,3H),5 .12(s,1H),6.82-6.92(m,2H),6.98-7.08(m,1H),7.13-7.31(m,5H); MS(EI )m/e 386(M+) 工程D (E)−[3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−7−フェニル−2− ヘプテン酸 エタノール(15 mL)中のメチル(E)−3−[(3,4−ジメトキシフェニル )チオ]−7−フェニル−2−ヘプテノエート(1.3g、3.3 ミリモル)及び10%の 水酸化ナトリウム(10 mL)の溶液を2時間にわたって還流下に加熱する。少量の 水を添加して固体を沈殿させ、これを空気乾燥させる。固体を酢酸エチルに溶解 し、その溶液をヘキサンで曇点に希釈して(E)−[3,4−ジメトキシフェニ ル)チオ]−7−フェニル−2−ヘプテン酸(0.4g)37%)を沈殿させる。 m.p.138-40℃。分析(C21H24O4S)C,H 1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.62-1.7 8(m,4H),2.53-2.67(m,2H),2.80-2.90(m,2H),3.86(s,3H),3.96(s,3H), 5.12(s,1H),6.84-6.92(m,2H),7.00-7.08(m,1H),7.12-7.31(m,5H) 工程F (E)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ ]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド ジクロロメタン(20 mL)中の(E)−[3,4−ジメトキシフェニル)チオ] −7−フェニル−2−ヘプテン酸(0.4g、1.1 ミリモル)の溶液に、2Mの塩化オキ サリル数mLを添加する。その溶液を室温で2時間攪拌する。溶媒を真空で除去し 、残渣をジクロロメタンに溶解し、O−(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミ ン(2mL)を添加する。その混合物を1時間攪拌し、HCl 水溶液に注ぎ、ジクロ ロメタンで抽出する。有機層を真空で除去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、その 溶液をヘキサンで曇点に希釈して(E)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジ メトキシフェニル)チオ]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド(0.3g、75%)を 沈殿させる。m.p.165-7 ℃。分析(C21H25NO4S・1/4 H2O)C,H,N1H NMR(300 MH z,CDCl3)δ(TMS)1.68-1.80(m,4H),2.58-2.62(m,2H),2.88-3.00(m,2H),3 .86(s,3H),3.91(s,3H),4.88(s,1H),6.82-6.92(m,2H),7.00-7.08(m,1H) ,7.11-7.30(m,5H); MS(FAB)m/e 387(M+H)+ 実施例22 (E)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)ス ルホニル]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド メタノール(20 mL)中の(E)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキ シフェニル)チオ]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド(0.3g、0.77ミリモル) の溶液に、水10mLに溶解したオキソン1g(1.6 ミリモル)を添加する。その混合 物を室温で18時間攪拌する。その混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有 機層をMgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する 。その溶液をヘキサンで曇点に希釈して(E)−N−ヒドロキシ−3−[(3, 4−ジメトキシフェニル)スルホニル]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド(0 .16g、50%)を沈殿させる。m.p.123-6 ℃。分析(C21H25NO6S)C,H,N1 H NMR(300 MHz,CDCl3-DMSO-d6)δ(TMS)1.36-1.60(m,4H),2.42-2.55(m,2H) ,2.69-2.82(m,2H),3.88(s,3H),3.93(s,3H),6.89-7.20(m,7H),7.40-7.5 0(m,1H); MS(FAB)m/e 419(M+H)+ 実施例23 (Z)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)チ オ]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A メチル(Z)−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−7−フ ェニル−2−ヘプテノエート メタノール(30 mL)中のメチル(Z)−3−クロロ−7−フェニル−ヘプテノ エート(0.7g、2.77ミリモル)、3,4−ジメトキシチオフェノール(0.47g、2.77 ミリモル)及び炭酸カリウム(0.38g、2.77ミリモル)の混合物を3時間にわたって 還流下に加熱する。その混合物をHCl 水溶液に添加し、エーテルで抽出する。有 機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、残渣をシリカゲルで クロマトグラフィー(4:1のヘキサン:酢酸エチル)にかけてメチル(Z)−3− [(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−7−フェニル−2−ヘプテノエート を油(0.8g、31%)として得る。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.30-1.53(m,3H),1.62-1.76(m,1H),2.03 -2.18(m,2H),2.38-2.48(m,1H),2.64-2.74(m,1H),3.72(s,3H), 3.78-3.90(m,6H),5.78(s,1H),6.72-6.82(m,1H),6.92-7.00(m,1H),7.05- 7.10(m,1H),7.20-7.38(m,5H) 工程B (Z)−[3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−7−フェニル−2− ヘプテン酸 エタノール(15 mL)中のメチル(Z)−3−[(3,4−ジメトキシフェニル )チオ]−7−フェニル−2−ヘプテノエート(0.9g、2.3ミリモル)及び2Nの水 酸化ナトリウム数mLの溶液を3時間にわたって還流下に加熱する。その混合物を HCl 水溶液に注ぎ、エーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる 。溶媒を真空で除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。その溶液をヘキサンで曇 点に希釈して(Z)−3−[3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−7−フェニ ル−2−ヘプテン酸(0.13g、15%)を沈殿させる。m.p.128-30℃。 分析(C21H24O4S)C,H 1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.32-1.48(m,4H),2 .08-2.18(m,2H),2.40-2.50(m,2H),3.80(s,3H),3.88(s,3H),5.82(s,1H) ,6.78(d,1H),6.98(s,1H),6.98-7.10(m,3H),7.10-7.28(m,3H) 工程C (Z)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ ]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド ジクロロメタン(20 mL)中の(Z)−3−[3,4−ジメトキシフェニル)チ オ]−7−フェニル−2−ヘプテン酸(0.3g、0.8 ミリモル)の溶液に、2Mの塩化 オキサリル数mLを添加する。その溶液を室温で20分間攪拌する。溶媒を真空で除 去し、残渣をジクロロメタンに溶解する。この溶液に、O−(トリメチルシリル )ヒドロキシルアミン(1mL)を添加する。その混合物を室温で40分間攪拌し、 HCl 水溶液に添加する。その混合物をエーテルで抽出する。有機層を水洗し、Mg SO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去する。残渣を酢酸エチルに溶解し、その溶 液をヘキサンで曇点に希釈して(E)形態の一部を得る。濾液をヘキサンで更に 希釈して(E)−N−ヒドロキシ−3−[(3,4−ジメトキシフェニル)チ オ]−7−フェニル−2−ヘプテンアミド(0.078g、26%)を生成する。 m.p.148-50℃。分析(C21H25NO4S)C,H,N1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.35-1.50(m,4H),2.04-2.18(m,2H),2.42-2 .52(m,2H),3.80(s,3H),3.90(s,3H),5.68(s,1H),6.78(d,1H),6.96(s, 1H),6.98-7.11(m,3H),7.11-7.30(m,3H) 実施例24 N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)チオ−2−(1−プ ロパン−3−イル)−7−フェニルヘプタンアミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A メチル3−オキソ−2−(1−プロペン−3−イル)ブタノエート アセトン(70 mL)中のメチルアセトアセテート(11.6g、100 ミリモル)、臭化ア リル(12.1g、100 ミリモル)及び炭酸カリウム(13.8g、100 ミリモル)の混合物 を18時間にわたって還流下に加熱する。その混合物を濾過し、濾液を蒸発させる 。残渣をシリカケルでクロマトグラフィー(15:1のヘキサン:酢酸エチル)にか けてメチル3−オキソ−2−(1−プロペン−3−イル)ブタノエート(8.8g、4 7%)を得る。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)2.22(s,3H),2.58(t,2H),3.5 4(t,IH),3.72(s,3H),4.90-5.12(m,2H),5.60-5.82(m,1H) 工程B メチル3−オキソ−2−(1−プロパン−3−イル)−7−フェニルヘ プタノエート 無水THF(70 mL)中の60%の水素化ナトリウム(2g、51.2ミリモル)の懸濁液に 、THF(20 mL)中のメチル3−オキソ−2−(1−プロペン−3−イル)ブタノ エート(8g、51.2ミリモル)を10分間にわたって滴下して添加する。その混合物 を-25 ℃に冷却し、2.5Mのn−ブチルリチウム(20.4 mL、51.2ミリモル)を5分 間にわたって滴下して添加する。その混合物を5分間攪拌し、THF(10 mL)中 の1−ブロモ−3−フェニルプロパン(7.78 mL、51.2ミリモル)を5分間にわた って滴下して添加する。その混合物を室温で2時間攪拌する。その混合物を5% のHCl 水溶液に注ぎ、エーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させ る。溶媒を真空で除去し、残渣をシリカゲルでダロマトグラフィー(9:1のヘキサ ン:酢酸エチル)にかけてメチル3−オキソ−2−(1−プロパン−3−イル) −7−フェニルヘプタノエート(7.4g、53%)を得る。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.53-1.68(m,4H),2.08-2.20(m,1H),2.42- 2.62(m,4H),3.48(t,1H),3.52(t,IH),3.68(s,3H),4.94-5.18(m,2H),5.6 2-5.70(m,1H),7.08-7.30(m,5H) 工程C メチル3−ヒドロキシ−2−(1−プロペン−3−イル)−7−フェニ ルヘプタノエート メタノール(30 mL)中のメチル3−オキソ−2−(1−プロパン−3−イル) −7−フェニルヘプタノエート(7.4g、26.98 ミリモル)の溶液に、ホウ水素化ナ トリウム(1.2g、32ミリモル)を5分間にわたって少しずつ添加する。その混合物 を室温で30分間攪拌する。その混合物を5%のHCl 水溶液に注ぎ、エーテルで抽 出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去してメチル3 −ヒドロキシ−2−(1−プロペン−3−イル)−7−フェニルヘプタノエート を油(6.5g、91%)として得る。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.42-1.72(m, 4H),2.08-2.22(m,1H),2.30-2.62(m,4H),2.78(t,1H),3.48(t,1H),3.66( s,3H),3.72-3.98(m,1H),4.90-5.12(m,2H),5.60-5.88a(m,1H),7.07-7.30 (m,5H); MS(FAB)m/e 276(M+H)+ 工程D メチル3−メタンスルホニルオキシ−2−(1−プロパン−3−イル) −7−フェニルヘプタノエート ジクロロメタン(70 mL)中のメチル3−ヒドロキシ−2−(1−プロペン−3 −イル)−7−フェニルヘプタノエート(6.5g、23.5ミリモル)の溶液に、トリ エチルアミン(4.7g、47ミリモル)を添加する。この混合物に、メタンスルホニル クロリド(1.96 mL、25.5ミリモル)を5分間にわたって滴下して添加する。DMAP 数mgを添加し、その混合物を室温で1時間攪拌する。その混合物を5%のHCl に 注ぎ、エーテルで抽出する。有機層を水洗,し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真 空で除去してメチル3−メタンスルホニルオキシ−2−(1−プロパン−3−イ ル)−7−フェニルヘプタノエートを油(7.1g、85%)として得る。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.38-1.80(m,4H),2.08-2.18(m,1H),2.32-2 .48(m,2H),2.48-2.68(m,2H),2.70-2.90(m,1H),2.90-3.00(m,3H),3.48(t ,1H),3.65(s,3H),4.82-4.92(m,1H),4.92-5.12(m,2H),5.60-5.82(m,1H) ,7.10-7.35(m,5H); MS(FAB)m/e 354(M+H)+ 工程E メチル3−(4−メトキシフェニル)チオ−2−(1−プロパン−3− イル)−7−フェニルヘプタノエート メタノール(70 mL)中のメチル3−メタンスルホニルオキシ−2−(1−プロ パン−3−イル)−7−フェニルヘプタノエート(7.1g、20ミリモル)、4−メト キシチオフェノール(2.8g、20ミリモル)及び炭酸カリウム(2.76g、20ミリモル) の混合物を4時間にわたって還流下に加熱する。その混合物を濾過し、濾液をHC l 水溶液に添加し、エーテルで抽出する。エーテル層を5%の水酸化ナトリウム で抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、残渣 をシリカゲルでクロマトグラフィー(20:1 のヘキサン:酢酸エチル)にかけてメ チル3−(4−メトキシフェニル)チオ−2−(1−プロパン−3−イル)−7 −フェニルヘプタノエート(1g、12.5%)を得る。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.5840-1.70(m,4H),2.48-2.75(m,2H),3.0 0(m,1H),3.58(s,1H),3.78(s,6H),4.13(s,1H),4.90-5.08(m,2H),5.60- 5.80(m,1H),6.80(m,3H),7.10-7.48(m,6H); MS(FAB)m/e 398(M+) 工程F 3−(4−メトキシフェニル)チオ−2−(1−プロパン−3−イル) −7−フェニルヘプタン酸 1Nの水酸化ナトリウム(10 mL)を含むエタノール(15 mL)中のメチル3−(4− メトキシフェニル)チオ−2−(1−プロパン−3−イル)−7−フェニルヘプ タノエート(1g、2.5ミリモル)の混合物を3時間にわたって還流下に加熱する。 その混合物を冷却し、5%のHCl に添加し、エーテルで抽出する。有機層を水洗 し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグ ラフィー(1:1のヘキサン:酢酸エチル)にかけて3−(4−メトキシフェニル) チオ−2−(1−プロパン−3−イル)−7−フェニルヘプタン酸を油(0.2g、 21%)として得る。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.35-1.65(m,4H),1.70-1 .90(m,1H),2.02-2.36(m,1H),2.45-2.62(m,2H),2.68-2.87(m,1H),3.02-3 .32(m,2H),3.62-3.92(m,4H),4.87-5.09(m,2H),5.42-5.68(m,1H),6.7862 -6.90(m,3H),7.02-7.42(m,6H); MS(FAB)m/e 384(M+H)+ 工程G N−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)チオ−2−(1−プロ パン−3−イル)−7−フェニルヘプタンアミド ジクロロメタン(20 mL)中の3−(4−メトキシフェニル)チオ−2−(1− プロパン−3−イル)−7−フェニルヘプタン酸(0.2g、0.52ミリモル)の溶液に 、1Mの塩化オキサリル数mLを添加する。その混合物を室温で2時間攪拌する。溶 液を蒸発させ、残渣をジクロロメタン(15 mL)に溶解する。この溶液に、O−( トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン2mLを添加する。その混合物を室温で1 時間攪拌する。混合物を5%のHCl 水溶液に注ぎ、ジクロロメタンで抽出する。 有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去してN−ヒドロキシ− 3−(4−メトキシフェニル)チオ−2−(1−プロパン−3−イル)−7−フ ェニルヘプタンアミド0.2gを油として得、これを更に精製しないで次の工程に使 用する(100 %); MS(FAB)m/e 399(M+)。 実施例25 N−ヒドロキシ−2−(1−プロパン−3−イル)−3−(4−メト キシフェニル)スルホニル−7−フェニルヘプタンアミド メタノール(10 mL)中のN−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)チオ −2−(1−プロパン−3−イル)−7−フェニルヘプタンアミド(0.2g、0.5ミ リモル)の溶液に、水5mL中のオキソン(0.3g、0.5 ミリモル)の溶液を添加する 。その混合物を室温で18時間攪拌する。その混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽 出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、残渣をシ リカゲルでクロマトグラフィー(4:1のヘキサン:酢酸エチル、次いで100 %のメ タノール)にかける。メタノール残渣を逆相HPLC(55-60 %のアセトニトリル:0.1 %のTFA)により更に精製してN−ヒドロキシ−2−(1−プロパン−3−イル) −3−(4−メトキシフェニル)スルホニル−7−フェニルヘプタンアミド(0.0 2g、10%)をフォームとして得る。MS(FAB)m/e 431(M+H)+ メタノール(30 mL)中のN−ヒドロキシ−3−(4−メトキシフェニル)チオ −2−(1−プロパン−3−イル)−7−フェニルヘプタンアミド(0.9g、2.2ミ リモル)の溶液に、水20mL中のオキソン(2.77g、4.4 ミリモル)の溶液を5分間に わたって徐々に添加する。その混合物を室温で18時間攪拌する。その混合物を水 に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を 真空で除去し、残渣をキラルHPLCによりクロマトグラフィーにかけて四つのフラ クション−0.01g、0.02g、0.033g及び0.08g を得る。 実施例26 N−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−3 −(3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボキサミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A メチル2−オキソ−3−(3−フェニルプロピル−1−イル)シクロペ ンタンカルボキシレート 氷浴中の無水THF(30 mL)中の60%のNaH(1.2g、30ミリモル)の懸濁液に、T HF 10mL中のメチル2−オキソシクロペンタン−カルボキシレート(4.26g、30ミ リモル)の溶液を5分間にわたって滴下して添加する。その混合物を室温で20分 間攪拌する。その混合物を-25 ℃に冷却し、2.5Mのn−ブチルリチウムを5分間 にわたって添加する(12mL、30ミリモル)。5分間攪拌した後、1−ブロモ−3 −フェニルプロパン(4.6mL、30ミリモル)を添加する。その混合物を室温で3時 間攪拌する。その混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出する。有機層を水洗し、Mg SO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィ ー(6:1のヘキサン:酢酸エチル)にかけてメチル2−オキソ−3−(3−フェニ ルプロピル−1−イル)シクロペンタンカルボキシレート(1g、13%)を得る。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.22-1.50(m,2H),1.62-1.90(m,4H),2.12-2. 38(m,4H),2.58-2.69(m,2H),3.75(s,3H),7.10-7.32(m,5H);MS(EI)m/e 260(M+) 工程B メチル2−クロロ−3−(3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シ クロペンテンカルボキシレート ヘキサン(40 mL)中のメチル2−オキソ−3−(3−フェニルプロピル−1− イル)シクロペンタンカルボキシレート(1g、3.8 ミリモル)の混合物に、五塩化 リン(1.5g、7.6 ミリモル)を添加する。その混合物を2.5 時間にわたって還流下 に加熱する。その溶液を氷中で冷却し、メタノール(数mL)を添加する。その混 合物を室温で15分間攪拌する。その混合物を水に注ぎ、ヘキサンで抽出する。有 機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。有機層を真空で除去し、残渣をジクロロメ タンに溶解する。この溶液に、2Mの塩化オキサリル(数mL)を添加する。その混 合物を室温で2時間攪拌する。溶媒を真空で除去し、残渣をジクロロメタンに溶 解し、メタノール(数mL)を添加する。その溶液を室温で15分間攪拌する。溶媒 を真空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(20:1 のヘキサン:酢 酸エチル)にかけてメチル2−クロロ−3−(3−フェニルプロピル−1−イル )−1−シクロペンテンカルボキシレート(0.2g、20%)を得る。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.50-1.70(m,4H),1.78-1.92(m,1H),2.07- 2.19(m,1H),2.53-2.71(m,4H),2.78-2.92(m,1H),3.78(s,3H),7.17-7.32( m,5H); MS(EI)m/e 278(M+) 工程C メチル2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−3−(3−フェ ニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボキシレート メタノール(20 mL)中のメチル2−クロロ−3−(3−フェニルプロピル−1 −イル)−1−シクロペンテンカルボキシレート(0.2g、0.72ミリモル)、3,4 −ジメトキシチオフェノール(0.12g、0.72ミリモル)及び炭酸カリウム(0.1g、0. 72ミリモル)の混合物を6時間にわたって還流下に加熱する。室温で2日間放置 した後、その混合物を更に4時間にわたって還流下に加熱する。その混合物を水 に注ぎ、エーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真 空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(4:1のヘキサン:酢酸エチ ル)にかけてメチル2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−3−(3− フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボキシレート(0.17g、 58%)を得る。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.10-1.70(m,5H),1.88-1.98( m,1H),2.31-2.4o(t,3H),2.58-2.70(t,3H),3.78(s,3H),3.84(s,3H),3 .90(s,3H),6.68-6.75(d,1H),6.95-7.09(m,4H),7.17-7.30(m,3H); MS(EI )m/e 412(M+) 工程D 2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−3−(3−フェニルプ ロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボン酸 エタノール(10 mL)中のメチル2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ] −3−(3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボキシレ ート(0.5g、1.2 ミリモル)及び10%の水酸化ナトリウム(5mL)の混合物を4時 間にわたって還流下に加熱する。その混合物を冷却し、HCl 水溶液に注ぐ。その 混合物をエーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を 真空で除去して2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−3−(3−フェ ニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボン酸(0.4g、85%)を得る 。m.p.146-8 ℃。分析(C23H26O4S)C,H,N 1H-NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1. 10-1.70(m,5H),1.83-2.02(m,1H),2.32-2.41 (t,2H),2.60-2.72(m,3H),3 .84(s,3H),3.90(s,3H),6.69-6.75(d,1H),6.94-7.00(m,2H),7.00-7.10(d ,2H),7.18-7.32(m,3H); MS(EI)m/e 398(M+) 工程E N−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]−3− (3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボキサミド ジクロロメタン(20 mL)中の2−[(3,4−ジメトキシフェニル)チオ]− 3−(3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボン酸(0.6 g、1.5ミリモル)の溶液に、2Mの塩化オキサリル(1.5mL、3ミリモル)を添加す る。その混合物を室温で15分間攪拌する。溶媒を真空で除去し、残渣をジクロロ メタンに溶解し、O−(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン(0.3mL、3ミリ モル)を添加する。その混合物を室温で30分間攪拌する。その混合物を5%のHCl に注ぎ、ジクロロメタンで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。 溶媒を真空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(100%の酢酸エチ ル)にかける。生成物を最小量の酢酸エチルに溶解し、その溶液をヘキサンで曇 点に希釈し、室温で一夜放置してN−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシ フェニル)チオ]−3−(3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペン テンカルボキサミドを沈殿させる(0.1g、16%)。m.p.44-6℃。 分析(C23H27NO4S・1/4 H2O)C,H,N 1H-NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.42-1.7 8(m,5H),1.90-2.08(m,1H),2.38-2.50(m,2H),2.59-2.78(m,3H),3.82(s, 3H),3.90(s,3H),6.72-6.79(d,1H),6.88-6.98(m,2H),6.98-7.10(d,2H), 7.10-7.30(m,3H),9.02(s,1H); MS(イオン噴霧)m/e413(M+H)+ 実施例27 N−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニル)スルホニル ] −3−(3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカルボキサミ ド メタノール(15 mL)中のN−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメトキシフェニ ル)チオ]−3−(3−フェニルプロピル−1−イル)−1−シクロペンテンカ ルボキサミド(0.2g、0.4ミリモル)の溶液に、水5mLに溶解したオキソン0.5g(0. 8ミリモル)を添加する。その混合物を室温で18時間攪拌する。その混合物を水に 注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真 空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(100%の酢酸エチル、次い で100 %のメタノール)にかける。メタノールを真空で除去し、残渣をエーテル( 50 mL)ですり砕き、濾過する。濾液を真空で除去し、残渣をメタノールに溶解し 、その溶液を水で希釈し、凍結乾燥してN−ヒドロキシ−2−[(3,4−ジメ トキシフェニル)スルホニル]−3−(3−フェニルプロピル−1−イル)−1 −シクロペンテンカルボキサミド(0.02g、11%)を得る。m.p.70-3℃。 分析(C23H27N06S・1/4H2O)C,H,N 1H-NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.22-1.9 0(m,6H),2.40-2.60(m,2H),2.75-2.88(m,2H),3.08-3.12(m,1H),3.95(s, 3H),3.98(s,3H),6.88-6.98(d,1H),7.08-7.32(m,5H);MS(Fab)m/e446(M+ H)+ 実施例28 N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル−7−フェニル −2−ヘプテンアミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A 1−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−オキソ−5−フェニルペン タン ジクロロメタン(70 mL)中の5−フェニル吉草酸(10g、56.1ミリモル)の溶液に 、2Mの塩化オキサリル(33.5 mL、67ミリモル)を添加する。その混合物を室温 で18時間攪拌する。溶媒を真空で除去する。残渣をジクロロメタン(60 mL)に溶 解し、ベラトロール(11.6g、84ミリモル)を添加する。その混合物を氷中で冷却 し、塩化アルミニウム(7.4g、56.1ミリモル)を10分間にわたって少しずつ添加す る。その混合物を室温に温めて3時間攪拌する。その混合物をHCl 水溶液に添加 し、ジクロロメタンで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を 真空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(7:3のヘキサン:酢酸エ チル)にかけて1−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−オキソ−5−フェニ ルペンタン(5.5g、33%)を得る。m.p.56-8℃。 1H-NMR(300 MHz,CDCl3)δ(T Ms)1.68-1.82(m,4H),2.52-2.61 (t,2H),2.88-2.98(t,2H),3.95(s,6H), 6.82-6.92(m,2H),7.10-7.30(m,4H),7.48-7.60(m,2H); MS(EI)m/e 298(M+ ) 工程B エチル3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェニル−2−ヘプ テノエート 氷浴中で冷却した無水THF(15 mL)中のトリエチルホスホノアセテート(0.38g 、1.68ミリモル)の溶液に、0.5Mのカリウムビス(トリメチルシリル)アミド(3. 36mL、1.68ミリモル)を3分間で滴下して添加する。その混合物を20分間攪拌し 、THF(10mL)中の1−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−オキソ−5−フ ェニルペンタン(0.5g、1.68ミリモル)の溶液を3分間で滴下して添加する。その 混合物を3日間にわたって還流下に加熱する。その混合物を飽和塩化アンモニウ ム溶液に添加し、エーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgS04 で乾燥させる。 溶媒を真空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(4:1のヘキサン: 酢酸エチル)にかけてエチル3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェニ ル−2−ヘプテノエート(0.1g、16%)を得る。1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TM S)1.29-1.36(t,3H),1.42-1.58(m,2H),1.62-1.75(m,2H),2.53-2.62(t,2H ),3.08-3.19(t,2H),3.89(s,6H),4.16-4.26(q,2H),6.02(s,1H),6.82-6. 88(d,1H),6.90-7.10(d,1H),7.00-7.10(m,1H),7.10-7.20(m,3H),7.20-7. 30(m,2H); MS(EI)m/e 368(M+) 工程C 3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェニル−2−ヘプテン酸 エタノール(30 mL)中にエチル3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フ ェニル−2−ヘプテノエート(0.9g、2.4 ミリモル)及び10%の水酸化ナトリウム (10 mL)を含む混合物を1時間にわたって還流下に加熱する。その混合物を冷却 し、HCl 水溶液に添加し、エーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥 させる。溶媒を真空で除去して3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェ ニル−2−ヘプテン酸を油(0.7g、87%)として得る。1 H-NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.48-1.60(m,2H),1.60-1.80(m,2H),2.58- 2.69(t,2H),3.10-3.20(t,2H),3.90(s,6H),6.08(s,1H),6.80-6.90(d,1H ),6.90-6.98(s,1H),6.98-7.09(d,1H),7.09-7.32(m,5H);MS(EI)m/e 340 (M+) 工程D N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル−7−フェニル− 2−ヘプテンアミド ジクロロメタン(20 mL)中の33(0.7g、2.1 ミリモル)の溶液に、2Mの塩化オキ サリル(3mL、6ミリモル)を添加する。その混合物を室温で15分間攪拌する。溶 媒を真空で除去し、残渣をジクロロメタンに溶解する。この溶液に、O−(トリ メチルシリル)ヒドロキシルアミン(0.5mL、3.6 ミリモル)を添加する。その混 合物を室温で30分間攪拌する。その混合物をHCl 水溶液に添加し、ジクロロメタ ンで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真空で除去し、残 渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(1:1のヘキサン:酢酸エチル、次いで100 %の酢酸エチル)にかける。生成物残渣をエーテル(1mL)に溶解し、蒸発させ てN−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル−7−フェニル−2−ヘ プテンアミドを吸湿性フォーム(0.08g、11%)として得る。1 H-NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TMS)1.42-1.78(m,4H),2.51-2.63(t,2H),3.08- 3.22(t,2H),4.01(s,6H),5.78(s,1H),6.80-6.92(m,2H),6.92-7.08(m,1H ),7.10-7.32(m,5H); MS(イオン噴霧)m/e 356(M+H)+ 実施例28 N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル−7−フェニル ヘプタンアミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A エチル3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェニルヘプタノエ ート 10%のPd/C(数mg)を含むエタノール(20 mL)中のエチル3−(3,4−ジメ トキシフェニル)−7−フェニル−2−ヘプテノエート(0.4g、1.1 ミリモル)の 溶液を室温で4時間にわたって水素の気球の下で攪拌する。触媒を濾過し、溶媒 を真空で除去してエチル3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェニルヘ プタノエート(0.3g、73%)を油として生成する。1H-NMR(300 MHz,CDCl,)δ( TMS)1.11-1.20(t,3H),1.20-1.65(m,6H),2.45-2.59(m,4H),2.92-3.10(m,1 H),3.82(s,6H),4.00-4.08(q,2H),6.62-6.82(m,3H),7.02-7.28(m,5H); M S(EI)m/e 370(M+) 工程B 3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェニルヘプタン酸 エタノール(10 mL)中のエチル3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フ ェニルヘプタノエート(0.3g、0.8ミリモル)及び10%の水酸化ナトリウム(5mL)の 溶液を30分間にわたって還流下に加熱する。その混合物を冷却し、HCl 水溶液に 添加し、エーテルで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥させる。溶媒を真 空で除去して3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェニルヘプタン酸(0 .25g、92%)を得る。MS(EI)m/e 342(M+) 工程C N−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル−7−フェニルヘ プタンアミド ジクロロメタン(20 mL)中の3−(3,4−ジメトキシフェニル)−7−フェ ニルヘプタン酸(0.25g、0.7ミリモル)の溶液に、2Mの塩化オキサリル(数mL)を 添加する。その溶液を室温で30分間攪拌する。溶媒を真空で除去し、残渣をジク ロロメタンに溶解する。この溶液に、O−(トリメチルシリル)ヒドロキシルア ミン(0.2mL)を添加する。その混合物を室温で1時間攪拌する。その混合物をHCl 水溶液に注ぎ、ジクロロメタンで抽出する。有機層を水洗し、MgSO4 で乾燥さ せる。溶媒を真空で除去し、残渣をシリカゲルでクロマトグラフィー(100%の酢 酸エチル、次いで100 %のメタノール)にかける。生成物残渣を酢酸エチルです り砕き、濾過する。蒸発させた濾液をメタノールに溶解し、水で希釈する。その 溶液を凍結乾燥してN−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメトキシフェニル−7− フェニルヘプタンアミド(0.03g、11%)を得る。1H-NMR(300 MHz,CDCl3)δ(TM S)1.10-1.78(m,6H),2.18-2.64(m,4H),2.94-3.08(m,1H),3.88(s,6H),6.6 0-6.82(m,3H),7.04-7.28(m,5H); MS(EI)m/e 357(M+) 実施例29 (+)−及び(−)−(2S,3R)−N−ヒドロキシ−2−(2− ベンゼンスルホニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル) −7−フェニルヘプタンアミド 標題化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A 4−フェニルスルファニルブタン酸 周囲温度の無水THF(400mL)中の水素化ナトリウム(鉱油中60%、10.4g、0.2 6モル)の懸濁液に、チオフェノール(26g、0.23モル)をシリンジにより滴下して 添加する。得られる白色の懸濁液を窒素雰囲気下で30分間攪拌し、次いでγ−ブ チロラクトン(22.4g、0.26モル)を添加する。その混合物を加熱して穏やかに還 流し、6時間攪拌し、その後それは固体塊になり、室温に冷却し、一夜放置する 。その混合物を1NのNaOH(100mL)を含む水(1200 mL)に溶解し、ジエチルエーテル (2 X 500mL)で抽出する。水層を1NのHCl で酸性にし、ジエチルエーテル (3 X 500mL)で抽出する。有機抽出物を食塩水(300mL)で洗浄し、次いでMgSO4で 乾燥させ、濾過し、濃縮して白色の固体を得、これをシリカゲルでクロマトグラ フィー(石油エーテル/EtOAc、19:1→9:1)にかけて4−フェニルスルファニルブ タン酸(36.6g、79%)を白色の固体として得る。TLC 分析[石油エーテル/EtOAc 、1:1、Rf(チオフェノール)=0.90、Rf(酸)=0.50]m.p.73-74℃。 1H NM R(300 MHz,CDCl3)δ1.95(5重線,J=7.1 Hz,2H),2.52(t,J=7.2Hz,2H),2. 97(t,J=7.1 Hz,2H),7.1-7.3(m,5H)ppm 質量スペクトル(EI)m/z 196(M)+ 工程B 4−フェニルスルホニルブタン酸 0℃のメタノール(300mL)中に4−フェニルスルファニルブタン酸(16g、81.5 ミリモル)を含む溶液に、水(300mL)中のオキソン(72.5g、122ミリモル)の溶液を 添加する。その反応混合物を周囲温度に徐々に温める。6時間後に、不均一混合 物を真空で濃縮してメタノールを除去し、濃縮物を水(300mL)に溶解する。その 水溶液を塩化ナトリウムで飽和し、次いでジエチルエーテル(2 x 200mL)及び酢 酸エチル(200mL)で抽出する。合わせた有機抽出物をNa2S2O3(100 mL)、食塩水(1 00mL)で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮して4−フェニルスルホ ニルブタン酸とメチル4−フェニルスルホニルブタノエートの混合物を得る。 その粗生成物混合物を1:1:1 のMeOH/THF/ 水(150mL)に溶解する。周囲温度で 、Li0H−水和物(3.8g、89.6ミリモル)を一度に添加する。16時間後に、反応混合 物を真空で濃縮し、水(100mL)で希釈する。黄色の溶液を脱色炭(2g)で処理し、 セライトのパッドで濾過する。固体を水(3 x 50 mL)で洗浄し、淡黄色の濾液を ジエチルエーテル(2 x 50 mL)で洗浄する。その水溶液を濃HCl(20mL)で濃縮し 、ジエチルエーテル(2 x 100mL)で抽出する。合わせた有機抽出物を食塩水(50 mL)で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。その粗酸をシリカゲ ルでクロマトグラフィー(CH2Cl2→5%のMeOH/CH2Cl2)により精製して4−フ ェニルスルホニルブタン酸(16.1g、87%)を白色の固体として得、これはTL C 分析により均一である(ヘキサン/酢酸エチル、1:1、Rf(スルフィド)=0. 45、Rf(スルホン)=0.15)。m.p.94-95 ℃。 1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ2. 01(dt,J=7.5,7.1 Hz,2H),2.50(t,J=7.1 Hz,2H),3.17(t,J=7.5 Hz,2H), 7.53-7.92(m,5H)ppm質量スペクトル(EI)m/z 229(M+H)+ 工程C (+)−4−ベンジル−3−(4−フェニルスルファニルブタノイル)オ キサゾリジン−2−オン -78 ℃の無水THF(50 mL)中に(S)−(−)−4−ベンジル−2−オキサゾ リジノン(4.9g、28ミリモル)を含む溶液に、n−ブチルリチウム(ヘキサン中2. 5m、11.2mL、28ミリモル)を10分間で滴下して添加し、得られる暗黄色の溶液を 窒素雰囲気下で1時間にわたって-78 ℃で攪拌する。セパレートフラスコ中、無 水THF(50 mL)中の4−フェニルスルファニルブタン酸(5g、25.5ミリモル)の溶 液を0℃に冷却し、トリメチルアセチルクロリド(3.5mL、28ミリモル)を添加す る。次いでトリエチルアミン(4.3mL、30.6ミリモル)を滴下して添加し、得られ る白色のスラリーを0℃で1時間攪拌する。その陰イオン溶液をカニューレによ り混合酸無水物スラリーに添加し、得られる淡黄色の不均一混合物を0℃で30分 間攪拌し、次いで飽和塩化アンモニウム水溶液で反応停止する。 その混合物を、同じ規模で行った反応の停止生成物と合わせ、真空で50%の容 積に濃縮する。残渣を水(200mL)と酢酸エチル(200mL)の間に分配し、水層を酢酸 エチル(2 x 200mL)で抽出する。合わせた有機抽出物を5%のNaHCO3(3 x 100 m L)、水(100mL)及び食塩水(100mL)で連続して洗浄し、MgSO4 で乾燥させ、濾過 し、濃縮して淡黄色の油を得、これは放置すると結晶化した。その粗生成物をジ エチルエーテルですり砕いて4−ベンジル−3−(4−フェニルスルファニルブ タノイル)オキサゾリジン−2−オン(12.5g、69%)を白色の固体として得る。T LC 分析[石油エーテル/EtOAc、2:1、Rf(酸)=0.30、Rf(オキサゾリジノ ン)=0.65]。m.p.84-85 ℃。[α]23 D+47.8゜(c0.5、CHCl3)1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ2.03(5重線,J=7.1 Hz,2H),2.75(dd,J=13.4,9.6 Hz,1H), 3.02(t,J=7.1 Hz,2H),3.09(dt,J=7.1,2.4 Hz,2H),3.27 (dd,J=13.4,3.4Hz,1H),4.17(m,2H),4.65(m,1H),7.1-7.4(m,10H)ppm質 量スペクトル(EI)m/z 355(M)+ 工程D (−)−4−ベンジル−3−(4−フェニルスルホニルブタノイル)オ キサゾリジン−2−オン 無水THF(50 mL)中に4−フェニルスルホニルブタン酸(5g、21.9ミリモル)を含 む溶液を-78 ℃に冷却する。次いでトリメチルアセチルクロリド(2.9g、24.1ミ リモル)を添加し、続いてトリエチルアミン(2.66g、26.3ミリモル)を添加する。 その不均一混合物を-78 ℃で1時間攪拌する。 セパレートフラスコ中で、無水THF(50 mL)中に(R)−(+)−4−ベンジ ル−2−オキサゾリジノン(4.27g、24.1ミリモル)を含む溶液を-78 ℃に冷却し 、続いてn−BuLi(ヘキサン中1M、15mL、24.1ミリモル)をシリンジにより添加 する。-78 ℃で1時間後に、その予備生成した混合酸無水物溶液をカニューレに より添加し、その反応混合を更に1時間にわたって-78 ℃に保つ。その反応を飽 和NH4Cl 水溶液(100mL)で停止し、周囲温度に温める。THF を真空で除去し、水 層を水(100mL)とCH2Cl2(100mL)の間に分配する。層を分離し、有機相を5%のNa HCO3(2 x 50 mL)、食塩水(50 mL)で洗浄し、無水Na2SO4 で乾燥させ、濾過し、 濃縮する。粗生成物をジエチルエーテル(200mL)ですり砕き、白色の固体(5.9g、 69%)をブフナーロートで回収し、次いで新しいジエチルエーテル(3 x 50 mL)で 洗浄し、乾燥させる。TLC 分析、ヘキサン/酢酸エチル、1:1、Rf(酸)=0.15 、Rf(2−オキサゾリジノン)=0.25、Rf(生成物)=0.47 m.p.110-111 ℃ 。[α]2 3D-33.8(c 1.4、CHCl3)1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ2.08(m,1H),2. 73(dd,J=13.3,9.5Hz,1H),3.04(dt,J=7.0,2.5Hz,2H),3.22(m,3H),4.16 (m,2H),4.61(m,1H),7.14-7.94(m,10H)ppm 質量スペクトル(EI)m/z 387(M)+ 工程E (+)−4−ベンジル−3−[3−ヒドロキシ−7−フェニル−2−( 2−フェニルスルファニルエチル)ヘプタノイル]−オキサゾリジン−2−オ ン 窒素雰囲気下の0℃の無水CH2Cl2(30 mL)中に(+)−4−ベンジル−3− (4−フェニルスルファニルブタノイル)オキサゾリジン−2−オン(2g、5.63 ミリモル)を含む溶液に、ジ−n−ブチルホウ素トリフレート(CH2Cl2中1M、6.6 mL、6.59ミリモル)を添加する。得られる褐色の溶液に、トリエチルアミン(1m L、7.38ミリモル)を添加する。淡黄色の溶液を-78 ℃に冷却し、CH2Cl2(5mL)中 の5−フェニル−1−ペンタナール(1g、6.25ミリモル)の溶液をシリンジにより 添加する。その混合物を-78 ℃で1時間攪拌し、0℃で45分間攪拌し、次いで3: 1 のメタノール/pH7のリン酸塩緩衝液(40 mL)、続いて2:1 のメタノール/30 %のH2O2(30 mL)の滴下添加により反応を停止する。2相混合物を0℃で1時間 攪拌し、次いで1.3gの規模で行った同じ反応液と合わせ、真空で50%の容積に蒸 発させる。残渣を5%のNaHCO3(200mL)とジエチルエーテル(200mL)の間に分配し 、層を分離する。水相をジエチルエーテル(200mL)で抽出する。合わせた有機抽 出物を5%のNaHCO3(3 x 100mL)、5%のNa2S2O3(3 x 100mL)、水(100mL)、食塩 水(100mL)で連続して洗浄し、無水MgSO4 で乾燥させ、濾過し、濃縮して黄色の 油を得、これをシリカゲルでクロマトグラフィー(石油エーテル/EtOAc 9:1→4: 1)にかけて(+)−4−ベンジル−3−[3−ヒドロキシ−7−フェニル−2− (2−フェニルスルファニルエチル)ヘプタノイル]−オキサゾリジン−2−オ ン(2g、43%)を無色の油として得る。TLC 分析[石油エーテル/EtOAc4:1、Rf (オキサゾリジノン)=0.50、Rf(アルドール生成物)=0.20][α]23 D +7. 2゜(c 1.3、CHCl3)1H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.50-1.60(m,7H),1.90(m,1 H),2.20(m,1H),2.31 (d,J=3.6 Hz,1H),2.58(t,J=7.5Hz),2.67(dd,J=13 .3,9.9 Hz),2.85(m,1H),3.00(m,1H),3.32(dd,J=13.3,3.4Hz),3.88(m, 1H),4.20(m,2H),4.65(m,1H),7.1-7.35(m,15H)ppm 質量スペクトル(FAB )m/z 517(M)+ 工程F (−)−4−ベンジル−3−[3−ヒドロキシ−7−フェニル−2−( 2−フェニルスルホニルエチル)ヘプタノイル]−オキサゾリジン−2−オン 無水CH2Cl2(20 mL)中に(−)−4−ベンジル−3−(4−フェニルスルホニ ルブタノイル)オキサゾリジン−2−オン(2g、5.16ミリモル)を含む溶液を0℃ に冷却する。ジ−n−ブチルホウ素トリフレート(CH2Cl2中1M、6mL、6.03ミリ モル)を15分間にわたってシリンジにより添加し、続いてトリエチルアミン(0. 68g、6.76ミリモル)を添加する。次いでその透明な黄色の溶液を-78 ℃に冷却 する。無水CH2Cl2(2mL)中の新たに蒸留した5−フェニルペンタナール(0.92g、5 .72ミリモル)をその反応混合物に滴下して添加する。30分後、その反応混合物を 0℃に温め、1時間にわたってこの温度に保つ。その反応混合物を温度を5℃未 満に慎重に保って3:1 のメタノール/pH7のリン酸塩緩衝液(30 mL)、続いて2:1 のメタノール/30%のH2O2(30 mL)の徐々の添加により反応を停止する。添加が 完結した後、反応を更に1時間にわたって0℃に保ち、次いで真空で半分の容積 に濃縮する。次いで混合物をジエチルエーテル(100mL)及び水(100mL)で希釈し、 層を分離する。有機相を5%のNaHC03(3 x 50mL)、NaHCO3水溶液(3 x50mL)、水( 50mL)、食塩水(50mL)で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。粗 生成物を同じ規模で行った四つの追加の反応から得られた粗物質と合わせ、シリ カゲルクロマトグラフィー(CH2Cl2/ジエチルエーテル、19:1→9:1)により精製 して(-)−4−ベンジル−3−[3−ヒドロキシ−7−フェニル−2−(2− フェニルスルホニルエチル)ヘプタノイル]−オキサゾリジン−2−オン4g(35 %)を無色の粘稠な油として得、これはTLC 分析により均一である[CH2Cl2/ジ エチルエーテル、19:1、Rf(オキサゾリジノン)=0.45、Rf(アルドール生成 物)=0.40]。[α]23 D -20(c 7.5、CHCl3)1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.42-1.58(m,6H),2.06(m,1H),2.20(m,1H),2. 24(d,J=4 Hz,1H),2.58(t,J=7.5 Hz,2H),2.69(dd,J=13.3,9.9 Hz,1H), 3.24(m,3H),3.86(m,1H),3.98(5重線,J=4.2 Hz,1H),4.16(m,2H),4.65( m,1H),7.18-7.52(m,10H),7.59(m,2H),7.68(m,1H),7.90(m,2H)ppm 質 量スペクトル(FAB)m/z 550(M+H)+ 工程G (+)−4−ベンジル−3−[3−ヒドロキシ−7−フェニル−2−( 2−フェニルスルホニルエチル)]−ヘプタノイル−オキサゾリジン−2−オ ン 0℃のCH2Cl2(100mL)中に(+)−4−ベンジル−3−[3−ヒドロキシ−7 −フェニル−2−(2−フェニルスルファニルエチル)ヘプタノイル]−オキサ ゾリジン−2−オン(2g、3.87ミリモル)を含む溶液に、m−CPBA(75 %、0. 89g、3.87ミリモル)を添加し、その混合物を0℃で更に20分間攪拌する。m− CPBA(75 %、0.89g、3.87ミリモル)を添加し、その混合物を0℃で更に20分 間攪拌し、次いで周囲温度で1時間攪拌する。次いでその混合物をCH2C12(200mL )で希釈し、水(200mL)、5%のNa2S2O3(2 x 100mL)、5%のNaHCO3(4x 100mL)、 水(100mL)、食塩水(100mL)で連続して洗浄し、無水MgSO4 で乾燥させ、濾過し、 濃縮して無色の油を得る。その粗生成物を同じ規模で行った反応からの生成物と 合わせ、シリカゲルでクロマトグラフィー(石油エーテル/EtOAc、2:1)にかけて (+)−4−ベンジル−3−[3−ヒドロキシ−7−フェニル−2−(2−フェ ニルスルホニルエチル)]−ヘプタノイルーオキサゾリジン−2-オン(3.8g、89 %)を白色のフォームとして得る。TLC 分析[石油エーテル/EtOAc、2:1、Rf( スルフィド)=0.70、 Rf(スルホン)=0.50]。 [α]23 D +20.3(c0.6、CHCl3) m.p.40-42 ℃。1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.42-1.58(m,6H),2.06(m,1H),2.20(m,1H),2 .24(d,J=4.0 Hz,1H),2.58(t,J=7.5 Hz,2H),2.69(dd,J=13.3,9.9 Hz,1H ),3.24(m,3H),3.86(m,1H),3.98(5重線,J=4.2 Hz,1H),4.16(m,2H),4.6 5(m,1H),7.18-7.52(m,10H),7.59(m,2H),7.68(m,1H),7.90(m,2H)ppm 質量スペクトル(FAB)m/z 550(M+H)+ 工程H (−)−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3−ヒドロキシ−7 −フェニルヘプタン酸 0℃のTHF(40 mL)及び水(10 mL)中に(+)−4−ベンジル−3−[3−ヒ ドロキシ−7−フェニル−2−(2−フェニルスルホニルエチル)]−ヘプタノ イル−オキサゾリジン−2−オン(3.8g、6.92ミリモル)を含む溶液に、30%の H2O2(2.83 mL、27.6ミリモル)を滴下して添加し、続いてLi0H一水和物(0.46g、 11ミリモル)を一度に添加する。その混合物を0℃で3.5 時間攪拌し、次いでチ オ硫酸ナトリウム(3g)を添加し、その混合物を15分間攪拌し、次いで1NのHCl(20 0mL)と酢酸エチル(200mL)の間に分配する。水層を酢酸エチル(2 x 100mL)で抽出 し、合わせた有機抽出物を5%のNa2S2O3(2 x 100mL)、水(50 mL)、食塩水(50 m L)で連続して洗浄し、無水MgS04 で乾燥させ、濾過し、濃縮して淡黄色の油を 得る。その粗生成物を190mg の規模で行った同じ反応の生成物と合わせ、シリカ ゲルでクロマトグラフィー(CH2Cl2→CH2Cl2:Et2O、2:1)にかけ、次いでシリカ で再度クロマトグラフィー(CH2Cl2→CH2Cl2:Et2O、 4:1→2:1→1:1 +5%のM eOH)にかけて(−)−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3−ヒドロキ シ−7−フェニルヘプタン酸(2.55g、90%)を吸湿性の白色のフォームとして得 る。TLC 分析[石油エーテル/Et0Ac、1:1、Rf(オキサゾリジノン)=0.90、 Rf(酸)=0.15]。[α]23 D -7.1゜(c0.9、CHCl3)1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.25-1.62(m,7H),1.91(ブロードs,1H),2.10(m ,1H),2.52(m,3H),3.15(m,1H),3.34(m,1H),3.88(ブロードs,1H),7.12 -7.25(m,5H),7.55(m,3H),7.87(d,J=7.6 Hz,2H)ppm 質量スペクトル(EI)m/z 390(M)+ 工程I (+)−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3−ヒドロキシ− 7−フェニルヘプタン酸 上記操作を使用して、(+)−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3− ヒドロキシ−7−フェニルヘプタン酸を(−)−4−ベンジル−3−[3−ヒド ロキシ−7−フェニル−2−(2−フェニルスルホニルエチル)]ヘプタノイル オキサゾリジン−2−オン(3.8g、6.91ミリモル)から調製する。最終生成物(2.4 5g、91%)を吸湿性の白色の固体として得、これはTLC 及び1H NMR分析によりそ の鏡像体と同じである。[α]23 D +2.1゜(c4.1、CHCl3)質量スペクトル(FAB) m/z 391(M+H)+ 工程J (−)−3−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−4−(4−フェニル ブチル)オキセタン−2−オン 0℃の窒素雰囲気下の無水ピリジン(17 mL)中に(−)−2−(2−ベンゼン スルホニルエチル)−3−ヒドロキシ−7−フェニルヘプタン酸(1g、2.56ミリ モル)を含む溶液に、新たに蒸留したベンゼンスルホニルクロリド(0.89g、5.13 ミリモル)をシリンジにより添加する。得られる暗黄色/オレンジ色の溶液を-20 ℃に冷却する。16時間後に、その混合物を氷/水(100mL)と酢酸エチル(50mL)の 間に分配し、層を分離する。水相を酢酸エチル(2 x 50 mL)で抽出し、合わせた 有機抽出物を水(4 x 50 mL)、食塩水(50 mL)で連続して洗浄し、無水MgSO4 で乾 燥させ、濾過し、濃縮して黄色の油を得る。粗生成物を1.55g の規模で行った同 じ反応の生成物と合わせ、シリカゲルでクロマトグラフィー(石油エーテル/EtO Ac、4:1)にかけて(−)−3−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−4−(4− フェニルブチル)オキセタン−2−オン(1.07g、44%)を淡黄色の油として得る 。TLC 分析[石油エーテル/EtOAc、2:1、Rf(酸)=0.05、Rf(ラクトン)= 0.65]。[α]23 D -10.1(c1.0、CHCl3)1 H NMR(300 MHz,CDCl3)δ1.36-1.80(m,6H),2.16(m,2H),2.62(t,J=7.5Hz ,2H),3.16(m,1H),3.35(m,1H),3.79(m,1H),4.56(m,1H),7.16(m,3H), 7.28(m,2H),7.69(m,2H),7.79(m,1H),7.91(m,2H)ppm 質量スペクトル(EI)m/z 373(M+H)+ 工程K (+)−3−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−4−(4−フェニル ブチル)オキセタン−2−オン 上記操作を使用して、(+)−3−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−4− (4−フェニルブチル)オキセタン−2−オンを(+)−2−(2−ベンゼンス ルホニルエチル)−3−ヒドロキシ−7−フェニルヘプタン酸(0.87g、2.22ミリ モル)から調製する。最終生成物(0.31g、37%)を粘稠なオレンジ色の油として 得、これはTLC、MS及び1H NMR分析によりその鏡像体と同じである。 [α]23 D +8.9゜(c2.2、CHCl3) 工程L (−)−2−(2−ベンゼンスルホニル−エチル)−3−(3,4−ジ メトキシ−フェニルスルファニル)−7−フェニル−ヘプタン酸 アルゴン雰囲気下の無水DMF(10 mL)中の炭酸セシウム(0.88g、2.69ミリモル )の激しく攪拌した懸濁液に、3,4−ジメトキシチオフェノール(0.45g、2.69 ミリモル)を滴下様式で添加する。白色の不均一混合物を15分間攪拌し、次いで 無水DMF(4 mL)中に(−)−3−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−4−(4 −フェニルブチル)オキセタン−2−オン(0.50g、1.34ミリモル)を含む溶液を 添加する。淡黄色の不均一混合物を室温で2.5 時間攪拌し、次いで水(50 mL)と ジエチルエーテル(50 mL)の間に分配する。HCl 水溶液(1N、5mL)を添加し、層 を分離する。水相をジエチルエーテル(2 x 20 mL)で抽出し、合わせた有機抽出 物を水(10 x 10 mL)、食塩水(20 mL)で洗浄し、無水MgSO4 で乾燥させ、濾過し 、濃縮して淡黄色の油を得る。粗生成物をシリカゲルでクロマトグラフィー(CH2 Cl2→CH2Cl2:MeOH、19:1)にかけて無色の油を得、これをジエチルエーテル(10 0mL)に溶解し、水(10 x 30 mL)で洗浄して残留DMF を除去する。有機相を食塩水 (30 mL)で洗浄し、無水MgSO4 で乾燥させ、濾過し、濃縮して(−)−2−(2 −ベンゼンスルホニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニル−スルファ ニル)−7−フェニルヘプタン酸(0.57g、78%)を白色のフォームとして得る。T LC 分析[ヘキサン/EtOAc、2:1、Rf(ラクトン)=0.65、 Rf(酸)=0.05]。[α]23 D -35.3(c1.0、CHCl3)1H NMR(300 MHz,CDCl3 )δ1.31-1.70(m,6H),2.00(m,1H),2.30(m,1H),2.56(m,3H),2.95(m,1H) ,3.25(m,2H),3.84(s,3H),3.85(s,3H),6.77(d,J=8.2 Hz,1H),6.95(m, 2H),7.15(m,3H),7.25(m,2H),7.55(m,2H),7.65(m,1H),7.90(m,2H)p pm 質量スペクトル(FAB)m/z 542(M)+ 工程M (+)−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3−(3,4−ジメ トキシフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸 上記操作を使用して、(+)−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3− (3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェニル−ヘプタン酸を( +)−3−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−4−(4−フェニルブチル)オ キセタン−2−オン(0.34g、0.91ミリモル)から調製する。最終生成物(0.42g、 85%)を白色のフォームとして得、これはTLC、MS及び1H NMR分析によりその鏡像 体と同じである。[α]23 D +24.8(c2.9、CHCl3) 工程N (−)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3 −(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタンアミド 窒素雰囲気下の無水CH2Cl2(10 mL)中に(−)−2−(2−ベンゼンスルホニ ルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェニル ヘプタン酸(285mg、0.53ミリモル)を含む溶液に、無水DMF(41μL、0.53ミリモル )、続いて塩化オキサリル(CH2Cl2中2M、0.66mL、1.31ミリモル)を添加する。 黄色の溶液を30分間攪拌し、次いでO−(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミ ン(O.32 mL、2.65ミリモル)を滴下して添加する。得られる白色の沈殿を10分間 攪拌し、次いで1NのHCl (50 mL)と酢酸エチル(50 mL)の間に分配する。水層を 酢酸エチル(2 x 20 mL)で抽出し、合わせた有機抽出物を水(30 mL)、食塩水(30 mL)で洗浄し、無水MgSO4 で乾燥させ、濾過し、濃縮して淡黄色の油を得る。粗 生成物を同じ規模で行った反応の生成物と合わせ、シリカゲルでクロマトグラフ ィー(CH2Cl2→CH2Cl2:MeOH、19:1)にかけて(−)−N−ヒドロキシ−2−( 2−ベンゼンスルホニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファ ニル)−7−フェニルヘプタンアミド(560mg、95%)をクリーム色のフォームと して得る。TLC 分析[石油エーテル/Et0Ac、1:2、Rf(カルボン酸)=0.45、Rf (ヒドロキサメート)=0.40]。[α]23 D -28(c1.1、CHCl3)1H NMR(300 M Hz,CDCl3)δ1.40-1.80(m,6H),2.10(m,1H),2.22(m,1H),2.60(m,2H),2. 68(m,1H),3.05(ブロードs,3H),3.83(s,3H),3.84(s,3H),6.76(d,J=8.7 Hz,1H),6.98(m,2H),7.12(m,3H),7.28(m,2H),7.52(m,2H),7.64(t,J=7 .3 Hz,1H),7.84(d,J=7.4 Hz,2H),8.85(ブロードs,1H)ppm 質量スペク トル(FAB)m/z 557(M)+ 工程O (+)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3 −(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタンアミド 上記操作を使用して、(+)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスルホニ ルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェニル ヘプタンアミドを(+)−2−(2−ベンゼンスルホニルエチル)−3−(3, 4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェニルヘプタン酸(0.5g、0.92 ミリモル)から調製する。最終生成物(0.25g、48%)を白色のフォームとして得 、これはTLC、MS及び1H NMR分析によりその鏡像体と同じである。 [α]23 D +27.1(c1.7、CHCl3) 工程P (−)−(2S,3R)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスルホ ニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)−7−フェニル ヘプタンアミド 0℃のCH2Cl2(25 mL)中に(−)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスル ホニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7−フェ ニルヘプタンアミド(560mg、1.01ミリモル)を含む溶液に、m−CPBA(75 % 、0.23g、1.01ミリモル)を一度に添加する。その混合物を0℃で15分間攪拌し、 次いでm−CPBA(75 %、0.23g、1.01ミリモル)を添加する。その混合物を周 囲温度で45分間攪拌し、次いでCH2Cl2(100mL)で希釈し、5%のNa2S2O3(50mL) 、5%のNaHCO3(50mL)、水(50 mL)、食塩水(50 mL)で連続して洗浄し、無水Mg SO4 で乾燥させ、濾過し、濃縮して無色の油を得る。粗生成物をシリカゲルでク ロマトグラフィー(CH2Cl2→1%のMeOH/CH2Cl2)にかけて吸湿性の白色のフォ ームを得、これを再度クロマトグラフィー(CH2Cl2→2%のMeOH/CH2Cl2→5% のMeOH/CH2Cl2)にかけて(−)−(2S,3R)−N−ヒドロキシ−2−(2 −ベンゼンスルホニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル )−7−フェニルヘプタンアミド(212mg、3%)を白色のフォームとして得る。T LC 分析[石油エーテル/EtOAc、1:2、Rf(スルフィド)=0.45、Rf(スルホ ン)=0.40]。m.p.78-81 ℃。[α]23 D -18.4゜(c3.7、CHCl3)1 H NMR(300 MHz,d6-DMSO)δ1.06(m,2H),1.22(m,2H),1.69(m,2H),1.90( m,2H),2.30(m,2H),2.82(m,1H),3.08(m,2H),3.34(m,1H),3.79(s,3H) ,3.83(s,3H),7.01 (d,J=6.9 Hz,2H),7.10(m,2H),7.20(m,2H),7.26(d,J= 2.1 Hz,1H),7.33(dd,J=8.5,2.1 Hz,1H),7.66(m,2H),7.85(m,1H),7.90 (m,2H),8.88(s,1H),10.68(s,1H)ppm 質量スペクトル(ISp)m/z 590(M+H)+ 分析(C29H25NO8S2)0.975 モルH2Oについ ての計算値: C,57.41; H,6.14; N,2.31 実測値C,57.40; H,5.90; N,2.16 工程Q (+)−(2S,3R)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼンスルホ ニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル)−7−フェニル ヘプタンアミド 上記操作を使用して、(+)−(2S,3R)−N−ヒドロキシ−2−(2− ベンゼンスルホニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニル) −7−フェニルヘプタンアミドを(+)−N−ヒドロキシ−2−(2−ベンゼン スルホニルエチル)−3−(3,4−ジメトキシフェニルスルファニル)−7− フェニルヘプタンアミド(0.10g、0.17ミリモル)から調製する。最終生成物(85m g、80%)を白色のガラスとして得、これはTLC 及び1H NMR分析によりその鏡像体 と同じである。m.p.76-80 ℃。[α]23 D +16.2(c1.7、CHCl3) 質量スペクトル(FAB)m/z 590(M+H)+ 分析(C29H35NO8S2)0.5 モルH2Oについて の計算値: C,58.18; H,6.06; N,2.34実測値C,58.19; H,6.00; N,2.26 実施例30: N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニル ブチルアミド 表記化合物を以下の工程に従って調製する。 工程A:3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルファニル)-4-フェニルブタン酸 実施例6の工程Bと同様にして調製した、4-フェニルブテン-2- 酸(2g,12.3 3mM)、3,4-ジメトキシベンゼンチオール(2.1 ml,14.79mM,1.2 eq.)およびピ ペリジン(0.4 ml,3.7mM,0.3 eq.)の混合物をボンベ中で110 ℃にて18時間加熱 する。この反応系をエチルエーテルと1N HClとの間で分配させる。得られる有機 相を無水MgSO4上で乾燥し、真空下で濃縮する。得られる生成物をフラッシュシ リカゲルクロマトグラフィーで精製し、3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニ ル)-4-フェニルブタン酸(4.1g,100%)を黄色油状物として得る:1H-NMR(300MHz ,CDCl3),δ(TMS):2.54(d,0.5x2H),2.56(d,0.5x2H),2.83(d,0.5x2H),2.98( d,0.5x2H),3.56(m,1H),3.85(s,3H),3.88(s,3H),6.8(d,1H),6.97(d,1H ),7.05(d,0.5x1H),7.09(d,0.5x1H),7.15-7.32(m,5H) 工程B:N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-4-フェニル ブチルアミド アルゴン雰囲気下で、25℃にて3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-4- フェニルブタン酸2g(6.02mM)を50mlのCH2Cl2に溶解した溶液に、0.2 mlのDMFを 、次いで6.02 ml(12.03mM,2eq.)のオキサリルクロリドをCH2Cl2に溶解した2M溶 液を添加する。25℃にて3時間攪拌した後、この混合物をO℃に冷却し、3.7ml(3 0.08mM,5eq.)のO-トリメチルシリルヒドロキシルアミンを添加する。次いで、 この混合物を25℃にて18時間攪拌する。この反応系をCH2Cl2と1N HClとの間で分 配させる。得られた有機相を無水Na2SO4上で乾燥し、真空下で濃縮する。この生 成物をフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、N-ヒドロキシ-3-(3, 4-ジメトキシフェニルスルファニル)-4-フェニルブチルアミドを黄色結晶性固体 として得る(1.7g,81%): 1H-NMR(300 MHz,DMSO-d6),δ(TMS):2.2 (m,2H),2.81 (m,2H),3.6(m,1H),3.75(s,6H),6.89-7(m,3H),7.17-7.35 (m,5H),8.85(s,1H),10.5(s,1H) 工程C:N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニル ブチルアミド 0℃にて、1.7g(4.9 mM)のN-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファ ニル)-4-フェニルブチルアミドを50mlのメタノールに溶解した溶液を、6g(9.79m M,2eq.)のオキソンを50mlの水に溶解した溶液に滴下する。18時間25℃にて攪拌 した後、この反応系を真空下で濃縮し、次いで酢酸エチルと水との問で分配させ る。得られた有機相を無水Na2SO4上で乾燥し、真空下で濃縮する。この生成物を フラッシュシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、Et20/ヘキサンから結晶化 させて、N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニルブチ ルアミドを白色の結晶性固体として得る(0.898g,48%): m.p.77-79℃。1H-NMR (300 MHz,DMSO-d6),δ(TMS):2.12(d,0.5x1H),2.18(d,0.5x1H),2.5(d,0.5x1 H),2.55(d,0.5x1H),2.68(d,0.5x1H),2.72(d,0.5x1H),3.05(d,0.5x1H), 3.09(d,0.5x1H),3.82(s,3H),3.89(s,3H),3.95(m,1H),7.08-7.28(m,7H) ,7.42(d,0.5x1H),7.45(d,0.5x1H),8.78(s,1H),10.5(s,1H) 実施例31: N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-フェニル プロピオンアミド 工程A:3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-4-フェニルプロピオン酸 表記化合物を実施例6の工程Cに従って、但し桂皮酸を、4-フェニルブテン-2 - 酸の代わりに使用し、かつ3,4-ジメトキシベンゼンチオールを、4-メトキシベ ンゼンチオールの代わりに使用して、白色の結晶性固体として得る(4.025g,94% ):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS): 2.95(m,2H),3.68(s,3H),3.85(s,3H ),4.48(t,1H),6.6(s,1H),6.75(d,1H),6.92(d,1H),7.15(d,2H),7.18 -7.28(m,3H) 工程B:N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-3-フェニル プロピオンアミド この表記化合物を、実施例6の工程Dにおけるように、淡い橙色の結晶性固体 として得る(1.36g,65%): 1H-NMR(300 MHz,DMSO-d6),δ(TMS):2.58(m,2H),3 .64(s,3H),3.72(s,3H),4.6(t,1H),6.7.(s,1H),6.85(s,2H),7.15-7.32 (m,5H),8.78(s,1H),10.45(s,1H) 工程C:N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニル プロピオンアミド この表記化合物を、実施例6の工程Eにおけるように、淡い橙色の結晶性固体 として得る。Et2Oで圧潰し、濾過して、白色の粉末として得る(0.43g,30%):m.p .183-184℃。1H-NMR(300 MHz,DMSO-d6),δ(TMS):2.3-2.4(m,2H),3.68(s,3H ),3.72(s,3H),4.72-4.82(m,1H),6.9(s,1H),7.08(d,1H),7.12-7.22(m, 3H),7.22-7.35(m,3H),8.78(s,1H),10.45(s,1H) 実施例32: 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-フェニルペンタン酸 工程A:5-フェニルペンテン-2- 酸t-ブチルエステル 表記化合物を実施例6の工程Aに従って、但し3-フェニルプロパナールを、フ ェニルアセトアルデヒドの代わりに使用して、黄色の油状物として得る(7.03g, 81%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):1.45(s,9H),2.45(m,2H),2.75(t,2 H),5.75(d,0.5x1H),5.8(d,0.5x1H),6.85(d,0.5x1H),6.9(t,0.5x1H),7. 1-7.3(m,5H) 工程B:5-フェニルペンテン-2- 酸 表記化合物を実施例6の工程Bに従って、白色の結晶性固体として得る(5.27g ,99%): 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):2.58(m,2H),2.8(t,2H),5.82(d, 0.5x1H),5.88(d,0.5x1H),7.05-7.35(m,6H) 工程C:3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニルペンタン酸 表記化合物を実施例31の工程Aに従って、白色の結晶性固体として得る (3.75g,95%): 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):1.89(m,2H),2.58(d,0.5x2 H),2.62(d,0.5x2H),2.82(m,1H),2.95(m,1H),3.3(m,1H),3.85(s,3H), 3.9(s,3H),6.8(d,1H),7(d,1H),7.05(d,0.5x1H),7.1(d,0.5x1H),7.15 -7.32(m,5H) 工程D:3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニルペンタン酸ヒ ドロキシアミド 表記化合物を実施例31の工程Bに従って、褐色の油状物として得る(1.77g,85 %): 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):1.85(m,2H),2.32(d,2H),2.7-2.95(m ,2H),3.32(m,1H),3.82(s,3H),3.88(s,3H),6.75(d,1H),6.92(s,1H), 7(d,1H),7.1-7.3(m,5H),8.7(bs,1H) 工程E:3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-フェニルペンタン酸ヒ ドロキシアミド この表記化合物を、実施例31の工程Cにおけるように調製し、得られた生成物 をヘキサン中の50% Et2Oで圧潰し、濾過して、白色の粉末として得る(1.5g,78% ): m.p.161-162 ℃。1H-NMR(300 MHz,DMSO-d6),δ(TMS): 1.7(m,1H),1.95(m ,1H),2.25(d,0.5x1H),2.3(d,0.5x1H),2.45-2.75(m,3H),3.6(m,1H),3. 82(s,3H),3.88(s,3H),7.08(d,2H),7.15-7.3(m,5H),7.42(d,1H),8.95( s,1H),10.62(s,1H) 実施例33: 3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-6-フェニルヘキサン酸 ヒドロキシアミド 工程A:4-フェニルブチルアルデヒド -78 ℃にて20ml(39.94mM,1.2eq.)のオキサリルクロリドを100 mlのCH2Cl2に 溶解した溶液に、5.7ml(79.88mM,2.4eq.)のDMSOを添加する。-78 ℃にて1時間 攪拌した後、5g(33.28mM)の4-フェニルブタノールを20mlのCH2Cl2に溶解した溶 液を滴下する。-78 ℃にて2時間攪拌した後、23.2ml(166.42mM,5eq.)のトリエ チルアミンを滴下する。次いで、これを-78 ℃にて0.5時間、0℃にて1時間、 および25℃にて1時間攪拌する。この反応系をCH2Cl2と1N HClとの間で分配させ る。得られた有機相を水で十分に洗浄し、無水MgSO4 上で乾燥し、真空下で濃縮 して、4-フェニルブチルアルデヒドを黄色油状物として得た(5g,100%):1H-NMR (300 MHz,CDCl3),δ(TMS):1.88-2.02(m,2H),2.45(t,2H),2.65(t,2H),2. 64(t,2H),7.1-7.35(m,5H),9.72(s,1H) 工程B:6-フェニルヘキセン-2-酸t-ブチルエステル 表記化合物を実施例6の工程Aに従って、但しフェニルアセトアルデヒドの代 わりに4-フェニルブチルアルデヒドを使用して、無色の油状物として得る(2.34g ,70%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):1.45(s,9H),1.78(m,2H),2.18(m ,2H),2.64(t,2H),5.75(d,1H),6.85(t,0.5x1H),6.9(t,0.5x1H),7.1-7. 3(m,5H) 工程C:6-フェニルヘキセン-2-酸 表記化合物を実施例6の工程Bに従って、褐色の油状物として得る(1.8g,100 %):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):1.8(m,2H),2.25(m,2H),2.65(t,2H) ,5.82(d,1H),7.05-7.3(m,6H),11.72(s,1H) 工程D:3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-6-フェニルヘキサン酸 表記化合物を実施例6の工程Cに従って、黄色の油状物として得る(2.93g,78 %):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):1.62(m,2H),1.75-2(m,2H),2.5-2.7( m,4H),3.32(m,1H),3.85(s,3H),3.9(s,3H),6.75(d,1H),6.95(s,1H), 7(d,1H),7.15-7.3(m,5H) 工程E:3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-6-フェニルヘキサン酸 ヒドロキシアミド 表記化合物を実施例6の工程Dに従って、黄色の油状物として得る(0.41g,98 %):1H-NMR(300 MHz,DMSO-d6),δ(TMS):1.32-1.6(m,2H),1.6-1.88(m,2H), 2.1-2.22(m,2H),2.74(s,1H),2.79(s,1H),3.35(m,1H),3.78(s, 6H),6.9(m,2H),6.95(s,1H),7.12-7.22(m,3H),7.22-7.3(m,2H),8.8(s, 1H),10.43(s,1H) 工程F:3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-6-フェニルヘキサン酸 ヒドロキシアミド 表記化合物を実施例6の工程Eに従って、白色の結晶性固体として得る(0.285 g,64%);m.p.161-162 ℃;1H-NMR(300 MHz,DMSO-d6),δ(TMS):1.35-1.85(m,4H) ,2.1-2.22(m,1H),2.4-2.6(m,4H),3.58(m,1H),3.85(s,3H),3.88(s,3H) ,7.04-7.32(m,7H),7.39(d,1H),8.91(s,1H),10.55(s,1H) 実施例34:3-(R*)-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-(S*)-イソプロ ピル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A:5-フェニルペンタナール -78 ℃にて、15.9ml(182.65mM,1.2eq.)のオキサリルクロリドを300 mlのCH2C l2に溶解した溶液に、アルゴン雰囲気下で、25.9ml(365.3mM,2.4eq.)のDMSOを4 0mlのCH2Cl2に溶解した溶液を滴下する。-78 ℃にて1時間攪拌した後、25g(152 .21mM)の5-フェニル-1-ペンタノールを40mlのCH2Cl2に溶解した溶液を滴下する 。-78 ℃にて2時間攪拌した後、106 ml(761.03mM,5eq.)のトリエチルアミンを 滴添する。次いで、これを-78 ℃にて1時間、次に25℃にて一夜攪拌する。この 反応系をCH2Cl2と1N HClとの間で分配させる。得られる有機相を十分に水洗し、 無水MgSO4 上で乾燥し、真空下で乾燥して、23.52g(95%)の5-フェニルペンタナ ールを黄色油状物として得る。 工程B:メチル3-ヒドロキシ-3-イソプロピル-7-フェニルヘプタノエート 2.4ml(18.49mM,1.5eq.)のイソプロピルアミンを50mlの無水THF に溶解した溶 液に、-78 ℃にて、アルゴン雰囲気下で、9.3ml(14.8mM,1.2eq.)の1.6MBuLiの ヘキサン溶液を添加する。これを-78 ℃にて1時間攪拌し、この時点で1.8ml(13 .56mM,1.1eq.)のメチルイソバレエートを滴下する。この混合物を-78 ℃にて1.5 時間攪拌し、この時点で2g(12.33mM)の5-フェニルペンタナールを10m lの無水THF に溶解した溶液を滴下する。これを-78 ℃にて1時間攪拌し、次い で3時間かけて徐々に0℃まで加温する。この反応を飽和NH4Cl 溶液で停止させ 、次いでエーテルと飽和NH4Cl 溶液との間で分配させる。得られた有機相を乾燥 (No2SO4)し、真空下で濃縮する。この生成物をフラッシュシリカゲルクロマトグ ラフィーで精製して、黄色油状物としてメチル3-ヒドロキシ-3-イソプロピル-7- フェニルヘプタノエートを得る(0.88g,26%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS ):0.95(t,6H),1.45(m,3H),1.6(m,3H),2.08(bs,1H),2.15(m,1H),2.35( t,1H),2.6(t,2H),3.68(s,3H),3.85(bm,1H),7.15(m,3H),7.25(m,2H) 工程C:3-イソプロピル-4-(4-フェニルブチル)オキセタン-2-オン 0.88g(3.17mM)の該メチル3-ヒドロキシ-3-イソプロピル-7-フェニルヘプタノ エートを30mlの1:1:1-THF:MeOH:H2Oに溶解した溶液に、1.08g(25.36mM,8eq.)の LiOH一水和物を添加し、これを25℃にて1カ月攪拌する。次いで、この混合物を 1N HClでpH=6の酸性にし、次に酢酸エチルと水との間で分配させる。得られた有 機相を乾燥(Na2SO4)し、真空下で濃縮して、淡黄色の結晶性固体として、メチル 3-ヒドロキシ-3- イソプロピル-7- フェニルヘプタン酸を得る(0.59g,70%):1H- NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):0.98(d,6H),1.35(m,1H),1.55(m,5H),2.1 (m,1H),2.35(t,1H),2.6(t,2H),3.88(m,1H),6.08(bs,2H),7.15(m,3H) ,7.25(m,2H) 工程D:3-イソプロピル-4-(4-フェニルブチル)オキセタン-2-オン 0.53g(2mM)の該メチル3-ヒドロキシ-3- イソプロピル-7- フェニルヘプタン酸 を20mlのピリジンに溶解した溶液に、アルゴン雰囲気下で、0.51ml(4mM,2eq.) のベンゼンスルホニルクロリドを添加する。この混合物を25℃にて18時間攪拌し 、次いで真空下で濃縮する。得られた生成物をフラッシュシリカゲルクロマトグ ラフィーにより精製して、黄色油状物として、3-イソプロピル-4-(4-フェニルブ チル)オキセタン-2- オンを得る(0.38g,77%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ (TMS):0.9(d,3H),1.15(d,3H),1.45(m,1H),1.7(m,5H),2.15(m,1H),2.6 2(t,2H),3.24(d,0.5x1H),3.28(d,0.5x1H),4.5(m,1H),7.15(m,3H),7.2 5(m,2H) 工程E:3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルファニル)-2-イソプロピル-7- フェ ニルヘプタン酸 0.35ml(2.47mM,1.6eq.)の3,4-ジメトキシベンゼンチオールを2mlの2-プロパ ノールに溶解した溶液に、0℃にて、1.85ml(1.85mM,1.2eq.)の1NNaOH溶液を添 加する。この混合物を15分間0℃にて、および30分間25℃にて攪拌し、次いで0 ℃に冷却する。これを、0.38g(1.54mM)の3-イソプロピル-4-(4-フェニルブチル )オキセタン-2- オンを5 mlの2-プロパノールに溶解した溶液に滴下する。これ を0℃にて1時間、次いで25℃にて3時間攪拌する。これを、1N HClを使用して pH=2の酸性とし、メタノールから数回真空下で濃縮する。フラッシュシリカゲル クロマトグラフィーにより精製して、黄色の油状物として、3-(3,4-ジメトキシ ベンゼンスルホニル)-2-イソプロピル-7- フェニルヘプタン酸を得る(0.53g,82 %):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS): 1.0(t,6H),1.45(m,1H),1.6(m,5H) ,2.13(m,1H),2.49(d,0.5x1H),2.52(d,0.5x1H),2.59(bt,2H),3.1(m,1H ),3.85(s,3H),3.88(s,3H),6.78(d,1H),7.05(m,2H),7.15(m,3H),7.25( m,2H) 工程F:3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルファニル)-2-イソプロピル-7- フェ ニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 0.53g(1.27mM)の3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルフアニル)-2-イソプロピル-7 - フェニルヘプタン酸を30mlのCH2Cl2に溶解した溶液に、25℃にて、アルゴン雰 囲気下で、3滴のDMF を、次いで1.3ml(2.54mM,2eq.)の2Mオキサリルクロリド のCH2Cl2溶液を添加する。これを25℃にて1.5 時間攪拌し、次いで0.78ml(6.36m M,5eq.)のO-トリメチルシリルヒドロキシルアミンを滴下する。これを25℃にて 2時間攪拌し、次にCH2Cl2と1N HClとの間で分配させる。得られる有機相を乾燥 (Na2SO4)し、真空下で濃縮する。得られる残渣をエーテルで圧潰し、 固体を濾別して、白色の粉末として3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルファニル)-2 -イソプロピル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る(0.37g,67%): 1H -NMR(300 MHz,CDCl3),δ(TMS):0.9(d,3H),0.98(d,3H),1.6(m,6H),2.1(m ,2H),2.49(t,2H),3.25(m,1H),3.85(s,3H),3.88(s,3H),6.78(d,1H), 7.0(m,2H),7.14(d,2H),7.18(d,1H),7.26(m,2H),8.35(m,1H) 工程G:3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-イソプロピル-7- フェニ ルヘプタン酸ヒドロキシアミド 0.37g(0.86mM)の該チオーヒドロキサミン酸(7)を20mlのMeOHに溶解した溶液を 、0℃にて、2.6g(4.29mM,5eq.)のオキソン(oxone)を15mlの水に溶解した溶液 に滴下する。これを0℃にて0.5 時間、次いで25℃にて18時間攪拌する。この混 合物を、酢酸エチルと水との間で分配させる。得られる有機相を乾燥(No2SO4)し 、真空下で濃縮する。フラッシュシリカケルクロマトグラフィーによって精製し 、引き続き得られる油状物をエーテルおよびヘキサンで圧潰して、白色粉末とし て、3-(R* )-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-(S* )-イソプロピル-7-フ ェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る(0.225g,57%)m.p.173-174℃; 1H-NM R(300 MHz,DMSO-d6),δ(TMS):0.8(d,3H),O.9(d,3H),1.2(m,1H),1.4(m, 3H),1.7(m,1H),1.85(m,1H),1.95(m,1H),2.45(m,3H),3.52(m,1H),3.8 (s,3H),3.85(s,3H),7.1 (m,4H),7.25(m,3H),7.38(d,1H),8.67(s,1H ),10.5(s,1H) 実施例35:(2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルファニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A: (1S,2R)-シス-1-(トルエン-4- スルホニルアミノ)インダン-2- イ ルー(2S,3S)-3- ヒドロキシ-2- メチル-7- フェニルヘプタノエート 氷浴で冷却した、(-)-(1S,2R)-シス-1- トルエンスルホンアミド-2- プロピオ ニルオキシインダン(6.4g,18mM)のCH2Cl2(80ml)溶液に、1Mの四塩化チタン (21ml,21mM)を10分間かけて滴下する。この混合物を室温まで昇温させ、更に15 分間攪拌する。次に、エチルジイソプロピルアミン(12ml,68mM)を2分間かけて 添加し、この混合物を1時間攪拌する。もう一つのフラスコ内で、5-フェニルペ ンタナール(5.8g,36mM)を、CH2Cl2(90ml)中に溶解し、1Mの四塩化チタン(42ml ,42mM)を6分間に渡り添加する。次いで、この溶液を-78 ℃に冷却する。これ に35分間かけて該エステルエノレートを滴下する。この混合物を-78 ℃にて1時 間攪拌し、次いで塩化アンモニウム溶液(25ml)で反応停止する。付随的な水(100 ml)を添加して、生成されたエマルションを破壊する。該相を分離し、得られた 水性相をCH2Cl2(50ml)で抽出する。併合した有機相を水で(3x200ml)、pHが6-7と なるまで洗浄し、MgSO4上で乾燥する。溶媒を真空下で除去したところ、12gの 残渣が得られた。2種の生成物を、プレプ(Prep)500 HPLC(シリカ,38% のエー テルの石油エーテル溶液)で精製することにより単離する。遅く溶出する物質(2g ,21%)は、syn-ジアステレオマーであることが確認され、これは鹸化した際に化 合物8を与えた。迅速に溶出する生成物は所定のアンチアイソマー、(1S,2R)-シ ス-1-(トルエン-4- スルホニルアミノ)インダン-2- イル-(2S,3S)-3- ヒドロ キシ-2- メチル-7- フェニルヘプタノエートであるものと確認されている(2.25g ,24%); 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.81(d,J=8.2Hz,2H),7.33-7.14(m,1 1H),5.96(d,J=9.8Hz,1H),5.37(t,J=5.1Hz,1H),4.89(dd,J=9.7,5.1Hz, 1H),3.57(m,1H),3.1 (dd,J=17.2,5.0Hz,1H),2.88(d,J=17.1Hz,1H),2. 58(t,J=7.5Hz,2H),2.44(s,3H),2.46-2.42(m,1H),1.54-1.25(m,6H),1. 08(d,J=7.3Hz,3H); MS(イオンスプレイ),m/e 522(M+H)+ 工程B:(-)-(2S,3S)-3- ヒドロキシ-2- メチル-7- フェニルヘプタン酸 (1S,2R)-シス-1-(トルエン-4- スルホニルアミノ)インダン-2- イル -(2S,3S)-3- ヒドロキシ-2- メチル-7- フェニルヘプタノエート(2.2g,4.3mM) をTHF(20 ml)に溶解し、これに水酸化リチウム一水和物(0.45g,11mM)の水(10ml )溶液を添加する。この混合物を室温にて2時間攪拌し、次いで水(20ml)で希釈 し、酢酸エチルで抽出する(3x30ml)。得られる水性相を2N HClでpH3の酸性とし 、再度酢酸エチルで抽出(2x10Oml)する。得られる有機相を塩水(15ml)で洗 浄し、MgSO4上で乾燥する。該溶媒を真空下で除去して、(-)-(2S,3S)-3-ヒドロ キシ-2- メチル-7- フェニルヘプタン酸を得る(0.81g,80%):[a]D 23-24゜(c=1 .0,CHCl3); 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.30-7.25(m,2H),7.20-7.16(m,3H) ,3.69(bs,1H),2.63(t,J=7.5Hz,2H),2.55(t,J=7.0Hz,1H),1.69-1.38(m ,6H),1.24(d,J=7.3Hz,3H); MS(FAB),m/e 237(M+H)+ 工程C:(3S,4S)-3-メチル-4-(4-フェニルブチル)オキセタン-2-オン (-)-(2S,3S)-3-ヒドロキシ-2-メチル-7-フェニルヘプタン酸(0.79g,3.3mM)の ピリジン(30ml)溶液を0゜に冷却し、ベンゼンスルホニルクロリド(0.85ml,6.7m M)を1分間かけて添加する。この反応系を氷中で5分間、室温にて2時間および 0゜にて16時間攪拌する。この反応系を氷(40ml)中に注ぎ、エーテル(100ml)で 抽出する。得られる有機相をNaHCO3(30ml)、1N HCl(2x20ml)および水(2x30ml)で 洗浄する。得られる有機相をMgSO4上で乾燥し、真空下で濃縮する。得られる粗 生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカ,25% のエーテルの石油エーテル溶 液)により精製して、(3S,4S)-3-メチル-4-(4-フェニルブチル)オキセタン-2-オ ンを得る(0.28g,39%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.31-7.21(m,2H),7.19-7 .15(m,3H),4.19-4.13(m,1H),3.25-3.16(m,1H),2.64(t,J=7.6Hz,2H),1. 95-1.64(m,4H),1.55-1.40(m,2H),1.36(d,J=7.8Hz,3H);MS(EI),m/e 218(M+ ) 工程D:(2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸 3,4-ジメトキシベンゼンチオール(0.33g,1.9mM)のイソプロパノール(3ml)溶 液を、氷浴中で冷却し、1Mの水酸化ナトリウム(1.4ml,1.4mM)を2分間かけて添 加する。(3S,4S)-3-メチル-4-(4-フェニルブチル)オキセタン-2-オン(0.28g,1. 3mM)をイソプロパノール(3 ml)に溶解し、0゜に冷却する。次いで、このチオレ ートを該オキセタノン溶液に3分に渡り添加する。この混合物を氷冷しつつ5分 間攪拌し、次いで室温まで昇温させ、3時間攪拌する。次に、この反応系をHCl/ エーテルによりpH5の酸性とする。メタノールを添加し、該反応混合物を、 半−固体残渣が得られるまで、数回共沸させる。この粗生成物をカラムクロマト グラフィー(シリカ,1%のMeOHのCH2Cl2溶液)により精製して、 (2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニルヘプタ ン酸を得る(0.35g,69%): 1H-NMR(300MHz,CDCl3),δ:7.28-7.23(m,2H),7.1 9-7.11(m,3H),7.04-6.97(m,2H),6.67(d,J=8.3Hz,1H),3.84(s,3H),3.83 (s,3H),3.27-3.25(m,1H),2.72-2.68(m,1H),2.56(t,J=7.1Hz,2H),1.63 -1.41(m,6H),1.26(d,J=7.1Hz,3H); MS(EI),m/e 389(M+H)+ 工程E:(+)-(2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル- 7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド (2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニルヘプ タン酸(0.33g,0.85mM)をCH2Cl2(4ml)に溶解し、0゜に冷却し、これに2Mのオキ サリルクロリドのCH2Cl2(1.3ml,2.6mM)溶液を、3分間に渡り添加する。10分後 に、該氷浴を除去し、該反応系を室温にて2時間攪拌する。この反応系を真空下 で濃縮し、クロロホルムと共に2回共沸させる。得られる残渣をCH2Cl2(4ml)に 溶解し、氷中で冷却し、O-トリメチルシリルヒドロキシアミン(0.32ml,2.6mM) を2分間に渡り添加する。10分後に、この反応系を真空下で濃縮する。得られた 残渣をCH2Cl2(50ml)中に溶解し、1N HCl(20ml)で洗浄する。この有機相をMgSO4 上で乾燥し、該溶媒を真空下で除去して、 (+)-(2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニルヘ プタン酸ヒドロキシアミドを得る(0.27g,79%):[a]D 23 +40゜(c=1.0,CHCl3):1H- NMR(300 MHz,CD3OD),δ:7.25-7.20(m,2H),7.13-7.11(m,3H),7.00-6.96(m ,2H),6.88(d,J=8.0Hz,1H),3.81(s,3H),3.78(s,3H),3.01-2.95(m,1H) ,2.57-2.55(m,1H),2.23-2.15(m,1H),1.71-1.41(m,6H),1.34(d,J=6.9Hz ,3H); MS(FAB),m/e 404(M+H)+ 工程F:(+)-(2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル- 7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド (+)-(2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニ ルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る(0.17g,0.42mM)をMeOH(2ml)およびTHF(2m l)に溶解し、氷冷する。オキソン(0.52g,.84mM)を水(4ml)に溶解し、該スルフ ィド溶液に25分間かけて滴下する。5分後に該氷を除去し、該反応系を室温まで 昇温させ、一夜攪拌する。該溶媒を真空下で除去し、CH2Cl2(50ml)を添加し、こ の溶液を水(30ml)で洗浄する。得られる水性相をCH2Cl2(15ml)で逆抽出し、該有 機相を併合し、MgSO4 上で乾燥する。該溶媒を真空下で除去して、 (+)-(2R,3R)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7-フェニルヘプ タン酸ヒドロキシアミドを得る(0.16g,88%):[a]D 23+5.5゜(c=1.0,CHCl3):1H- NMR(300 MHz,CD3OD),δ:7.46(dd,J=8.3Hz,1.9Hz,1H),7.35(d,J=2.0Hz, 1H),7.23-7.18(m,2H),7.13-7.10(m,2H),7.03(d,J=7.0Hz,2H),3.91(s,3 H),3.87(s,3H),3.45-3.43(m,1H),2.82-2.77(m,1H),2.43-2.39(m,2H),1 .70-1.55(m,2H),1.41-1.28(m,3H),1.36(d,J=7.0Hz,3H),1.16-1.06(m,1H );MS(FAB),m/e 436(M+H)+ (1R,2S)インダンキラル助剤から出発して、上記工程A-F に従って、 (-)-(2S,3S)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルファニル)-2-メチル-7-フェニルヘ プタン酸ヒドロキシアミド:[a]D 23 -44゜(c=1.0,CHCl3)および (-)-(2S,3S)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7-フェニルヘプ タン酸ヒドロキシアミド:[a]D 23 -5.0゜(c=1.0,CHCl3)を得る。 実施例36: (2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A:4-(S)-ベンジル-3-(3-(R)-ヒドロキシ-2-(S)-メチル-7-フェニルヘ プタノイル)オキサゾリジン-2-オン 4-(S)-ベンジル-3-プロピオニル-2-オキサゾリジノン(8.4g,36mM)を CH2Cl2(60ml)に溶解し、氷浴中で冷却し、これに1Mのジブチルホウ素トリフレー トのCH2Cl2(40ml,40mM)溶液に5分間かけて添加する。トリエタノールアミン(6 .3ml,45mM)を、反応温度を<3℃に維持するような速度で滴下する。次いで、該 氷浴を、ドライアイス/アセトンに変え、5-フェニルペンタナール(7.8g,48mM) のCH2Cl2(20ml)溶液を5分間に渡り添加する。この混合物を-78 ℃にて20 分間、次いで0℃にて1時間攪拌する。この反応をpH7の燐酸バッファー(40ml) 、次いでMeOH(120ml)の添加により停止させる。次に、MeOH(80ml)と30% 過酸化 水素(40ml)との混合物を、反応温度を<10 ℃に維持するような速度で添加する。 この反応系を1時間攪拌し、次いで真空下で濃縮(浴温<30 ℃)する。この残渣 をエーテルで抽出(3x200ml)し、併合したエーテル相をNaHCO3(200ml)、塩水(20 0ml)で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、次に真空下で濃縮する。得られる粗生成物を カラムクロマトグラフィー(シリカ,10% の石油エーテルのCH2Cl2溶液、次いで 45% のエーテルの石油エーテル溶液を使用した第二の精製)で精製し、4-(S)-ベ ンジル-3-(3-(R)-ヒドロキシ-2-(S)-メチル-7-フェニルヘプタノイル)オキサゾ リジン-2-オンを得る(9.8g,70%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.37-7.14(m, 10H),4.73-4.65(m,1H),4.24-4.15(m,2H),3.96-3.91(m,1H),3.79-3.71(m, 1H),3.27-3.21(dd,J=13.4Hz,3.3Hz,1H),2.88(d,J=3.0Hz,1H),2.78(dd, J=13.3Hz,9.5Hz,1H),2.62(t,J=7.5Hz,2H),1.70-1.34(m,6H),1.25(d, J=6.8Hz,3H) 工程B:(+)-(2S,3R)--3-ヒドロキシ-2-メチル-7-フェニルヘプタン酸 4-(S)-ベンジル-3-(3-(R)-ヒドロキシ-2-(S)-メチル-7-フェニルヘプタノイル )オキサゾリジン-2-オン(7.64g,19mM)を4:1 THF-水(100ml)に溶解し、0℃に 冷却する。これに、30% の過酸化水素(8.2ml,80mM)を5分間に渡り添加し、次 いで水酸化リチウム一水和物(1.3g,32mM)を水(40ml)に溶解した溶液を10分間に 渡り添加し、反応温度を<10 ℃に維持する。この混合物を1時間攪拌する。次い で亜硫酸(10g,80mM)を水60mlに添加した溶液を、反応温度を<25 ℃に維持する ように注意して添加する。該溶媒を真空下で除去し、水性残渣をCH2Cl2で洗浄(3 x100ml)する。次に、この水性相を氷浴で冷却し、6N HClでpH1の酸性にし、生 成物を酢酸エチル(2x100ml)で抽出する。この溶液をMgSO4 上で乾燥し、真空下 で濃縮して、(+)-(2S,3R)--3-ヒドロキシ-2-メチル-7-フェニルヘプタン酸を得 る(3.76g,84%):m.p.75-77℃,[a]D 23 +20゜(c=1.0,CHCl3):1H-NMR(300MHz,C DCl3),δ:7.30-7.25(m,2H),7.20-7.16(m,3H),3.95-3.93(m,1H),2.65-2.5 4(m,3H),1.69-1.34(m,6H),1.20(d,J=7.2Hz,3H);MS(EI),m/e 236(M+ ) 工程C:(3S,4R)-3-メチル-4-(4-フェニルブチル)オキセタン-2-オン (+)-(2S,3R)--3-ヒドロキシ-2-メチル-7-フェニルヘプタン酸を、トリフェニ ルホスフィン(0.88g,3.4mM)および2,2'-ジピリジルジスルフィド(0.7g,3.2mM) のクロロホルム(20ml)溶液に添加し、20分間攪拌する。水銀(II)メタンスルホネ ート(1.6g,4.2mM)をアセトニトリル(52ml)に懸濁し、48℃に加温し、活性化し たエステル/クロロホルム溶液を5分間かけて添加する。この添加後、該混合物 を1分間加熱し、次いで冷却する。この混合物をセライトを介して濾過し、得ら れる濾液を真空下で濃縮し、得られる残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカ ,25% のエーテルの石油エーテル溶液)で精製して、(3S,4R)-3-メチル-4-(4-フ ェニルブチル)オキセタン-2-オンを得る(0.3g,66%):1H-NMR(300MHz,CDCl3), δ:7.31-7.26(m,2H),7.21-7.15(m,3H),4.19-4.13(m,1H),3.25-3.16(m,1 H),2.64(t,J=7.6Hz,2H),1.95-1.64(m,4H),1.55-1.40(m,5H),1.37(d,J= 7.5Hz,3H) 工程D:(2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸 3,4-ジメトキシベンゼンチオール(0.35g,2.1mM)をイソプロパノール(2 ml)に 溶解した溶液を氷浴で冷却し、1Mの水酸化ナトリウム(1.5ml,1.5mM)を徐々に添 加する。次に、この混合物を、(3S,4R)-3-メチル-4-(4-フェニルブチル)オキセ タン-2-オン(0.30g,1.4mM)をイソプロパノール(2 ml)に溶解した0℃の溶液を 3間かけて添加する。この反応系を5分間氷中で攪拌し、次いで室温まで昇温さ せる。全体で1.5 時間攪拌した後、該反応系をHCl/エーテルで中和する。メタノ ールを添加し、該反応混合物を2回共沸させる。得られる粗生成物を勾配溶出の カラムクロマトグラフィー(シリカ,1-5%のMeOHのCH2Cl2溶液)により精製して 、(2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニルヘプ タン酸を得る(0.48g,90%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.29-7.25(m,2H), 7.19-7.14(m,3H),7.03-6.99(m,2H),6.79(d,J=8.2Hz,1H),3.86(s, 3H),3.85(s,3H),3.35-3.25(m,1H),2.71-2.61(m,1H),2.60(t,J=7.0Hz, 2H),1.75-1.37(m,6H),1.23(d,J=7.0Hz,3H); MS(イオンスプレイ)m/e 389(M+ ) 工程E:(+)-(2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシフェニル-2-メチル-7-フェニルヘ プタン酸ヒドロキシアミド (2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニルヘプ タン酸(0.48g,1.2mM)をCH2Cl2(4.5ml)に溶解し、0℃に冷却し、これに、2Mの オキサリルクロリドのCH2Cl2(1.9ml,3.8mM)溶液を5分間かけて添加する。氷浴 を取り外し、この反応系を室温まで昇温させる。1.5 時間後に、この反応系を真 空下で濃縮し、クロロホルムと共に数回共沸させる。得られる粗生成物をCH2Cl2 (4 ml)に溶解し、O-トリメチルシリルヒドロキシアミド(0.4g,3.6mM)を徐々に 添加する。5分後に、この反応系をCH2Cl2(20ml)で希釈し、2N HCl(15ml)で洗浄 する。得られる水性相をCH2Cl2(10ml)で逆抽出し、併合した有機相を水洗(50ml) し、MgSO4 上で乾燥し、真空下で濃縮する。得られる粗生成物をエーテル/石油 エーテルで共沸させ、大量の石油エーテルで圧潰して、 (+)-(2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニル ヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る(0.45g,94%):[a]D 23 +22゜(c=1.0,CHCl3) :1H-NMR(300 MHz,CD3OD),δ:7.25-7.21(m,2H),7.15-7.10(m,3H),7.05-6.9 8(m,2H),6.87(d,J=8.2Hz,1H),3.81(s,3H),3.80(s,3H),3.17-3.14(m, 1H),2.58-2.52(m,2H),2.35-2.30(m,1H),1.75-1.65(m,1H),1.60-1.40(m, 5H),1.17(d,J=7.0Hz,3H); MS(イオンスプレイ),m/e404(M+H)+;元素分析( C22H29NO4S)C,H,N. 工程F:(+)-(2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル -7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド (+)-(2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニ ルヘプタン酸ヒドロキシアミド(0.226g,0.561mM)をTHF(2.5ml)およびMeOH(2.5m l)に溶解し、0℃に冷却する。オキソン(0.69g,1.12mM)を水 (2.5ml)に溶解し、これを2分間かけて添加する。冷却浴を取り外し、この反応 系を2時間攪拌する。次いで、この反応系をCH2Cl2(25ml)と水(15ml)との間で分 配させる。得られる水性相をCH2Cl2(2x10ml)で逆抽出し、併合した有機相をMgSO4 上で乾燥する。真空下で該溶媒を除去し、残渣をエーテルと共に共沸させるこ とにより、(+)-(2R,3S)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る(0.19g,78%):[a]D 23 +0.5゜(c= 1.0,CHCl3):1H-NMR(300 MHz,CD3OD),δ:7.47(dd,J=8.7,2.3Hz,1H),7.36 (d,J=2.0Hz,1H),7.23-7.14(m,2H),7.12-7.09(m,2H),7.05-7.03(m,2H), 3.92(s,3H),3.87(s,3H),3.56-3.51(m,1H),3.03-2.99(m,1H),2.47-2.43( m,2H),1.84-1.77(m,2H),1.47-1.25(m,4H),1.22(d,J=7.1Hz,3H); MS(FAB ),m/e 436(M +H)+;元素分析(C22H29NO6S・0.25H2O)C,H,N. (4R)-ベンジルオキサゾリジノンキラル助剤から出発して、上記工程A-F に従 って、(-)-(2S,3R)-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フ ェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド:[a]D 23 -22゜(c=1.0,CHCl3)および(-)- (2S,3R)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7-フェニルヘプタ ン酸ヒドロキシアミド:[a]D 23 -2.9゜(c=1.0,CHCl3)を得る。 実施例37:1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-5-フェニルペンチル〕 シクロペンタンカルボン酸ヒドロキシアミド 工程A:1-(1-ヒドロキシ-5-フェニルペンチル)シクロペンタンカルボン酸 ジイソプロピルアミン(17.5ml,124mM)をTHF(80 ml)に溶解し、-40 ℃に冷却 し、2.38M のn-ブチルリチウムのヘキサン溶液(52ml,124mM)を5分間に渡り添 加する。この反応系を0℃まで加温し、シクロペンタンカルボン酸(6.7ml,62mM )のTHF(60ml)溶液を5分間に渡り添加する。この反応系を40℃にて1時間加熱 する。この反応系を-78 ℃に冷却し、5-フェニルペンタナール(10g,62mM)のTHF (20ml)溶液を15分かけて滴下する。冷却浴を取り外し、この反応系を室温にて一 夜攪拌する。該反応系を2N HCl(120 ml)で酸性にし、有機物質を真空下で除去す る。得られる水性混合物をCH2Cl2(200ml)で抽出し、この有機相をMgSO4 上で乾燥する。この溶液を真空下で濃縮し、得られる残渣をカラムクロマトグラ フィー(シリカ,50% のエーテルの石油エーテル溶液)により精製して、1-(1- ヒドロキシ-5-フェニルペンチル)シクロペンタンカルボン酸を得る(13.1g,77% ): 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.29-7.24(m,2H),7.19-7.15(m,3H),3.53- 3.46(m,1H),2.64-2.58(m,2H),2.20-2.13(m,1H),2.07-1.99(m,1H),1.95- 1.73(m,1H),1.67-1.49(m,8H),1.44-1.32(m,3H);MS(EI),m/e276(M +) 工程B:3-(4-フェニルブチル)-2-オキサスピロ[3,4]オクタン-1-オン 1-(1-ヒドロキシ-5-フェニルペンチル)シクロペンタンカルボン酸(11.3g,40 .9mM)をピリジン(90ml)に溶解し、0℃に冷却する。ベンゼンスルホニルクロリ ド(10.4ml,81mM)を1分かけて添加し、この反応を0℃にて一夜維持する。この 反応系を氷(100ml)に注ぎ、生成物をエーテル(2x100ml)で抽出する。該エーテル 相をNaHCO3(100ml)、1N HCl(100ml)および水(2x100ml)で洗浄する。この溶液をM gSO4 上で乾燥し、該溶媒を(加熱なしに)真空下で除去する。得られる粗生成 物をカラムクロマトグラフィー(シリカ,15% のエーテルの石油エーテル溶液) により精製して、3-(4-フェニルブチル)-2-オキサスピロ[3,4]オクタン-1-オン を得る(5.6g,54%);1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.30-7.25(m,2H),7.20-7.1 5(m,3H),4.31-4.26(m,1H),2.63(t,J=7.6Hz,2H),2.22-2.13(m,1H),1.99 -1.26(m,13H) 工程C:1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニルペンチル〕 シクロペンタンカルボン酸 3-(4-フェニルブチル)-2-オキサスピロ[3,4]オクタン-1-オン(2g,7.7mM)およ び3,4-ジメトキシベンゼンチオール(2g,11.7mM)をイソプロパノール(30ml)に溶 解し、0℃に冷却する。1MのNaOH溶液(9.7ml,9.7mM)を徐々に添加し、5分後、 0℃にて、この反応系を室温にて一夜攪拌する。該溶媒を真空下で除去して、得 られる残渣をCH2Cl2(100ml)に溶解する。この溶液を1N HCl(50ml)、塩水(30ml) で洗浄し、MgSO4 上で乾燥する。この溶液を真空下で濃縮し、得られる粗 生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカ,1%のMeOHのCH2Cl2溶液)により精 製して、1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニルペンチル〕 シクロペンタンカルボン酸を得る(2.2g,65%);1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7. 28-7.23(m,2H),7.18-7.09(m,3H),7.01-6.91(m,2H),6.76(d,J=8.1Hz,1H) ,3.86(s,3H),3.84(s,3H),3.31(dd,J=10.0,3.0Hz,1H),2.58-2.51(m,2H ),2.18-2.08(m,2H),1.89-1.40(m,12H); MS(EI),m/e 428(M+) 工程D:1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-5-フェニルペンチル〕 シクロペンタンカルボン酸 1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニルペンチル〕シクロ ペンタンカルボン酸(1g,2.3mM)をMeOH(6 ml)およびTHF(6ml)に溶解し、0℃に 冷却する。オキソン(3.5g,5.7mM)を水(12ml)に溶解し、これを10分かけて滴下 する。この反応系を室温にて一夜攪拌する。該有機物を真空下で除去し、該混合 物をCH2Cl2(2x50ml)で抽出する。併合した有機相をMgSO4 上で乾燥し、真空下で 濃縮して、1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-5-フェニルペンチル〕 シクロペンタンカルボン酸を得る(0.93g,88%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7 .47(dd,J=8.5,1.9Hz,1H),7.36(d,J=2.1Hz,1H),7.27-7.14(m,3H),7.04( d,J=6.9Hz,2H),6.89(d,J=8.7Hz,1H),3.93(s,3H),3.91(s,3H),3.88-3. 85(m,1H),2.53(m,1H),2.48-2.43(m,2H),2.08-1.94(m,1H),1.86-1.77(m ,7H),1.65-1.50(m,1H),1.46-1.38(m,2H),1.25-1.17(m,2H); MS(EI),m/e 460(M+) 工程E:1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-5-フェニルペンチル〕 シクロペンタンカルボン酸ヒドロキシアミド 1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-5-フェニルペンチル〕シクロペ ンタンカルボン酸(0.69g,1.5mM)をCH2Cl2(6ml)に溶解し、0℃に冷却し、2Mの オキサリルクロリドのCH2Cl2(2.2ml,4.4mM)溶液を添加する。この反応系を加温 し、室温にて2時間攪拌する。該溶媒を真空下で除去し、残渣をクロロホルム(2 x10ml)と共に共沸させる。残渣をCH2Cl2(2ml)に溶解し、0℃にて冷却する。 トリメチルシリルヒドロキシアミン(0.52ml,4.5mM)を1分間かけて添加し、この 混合物を5分間攪拌する。次いで、氷浴を取り外し、該反応系を室温にて一夜攪 拌する。該溶媒を真空下で除去し、CH2Cl2(20ml)を添加し、該溶液を1NHCl(20ml )で洗浄する。この溶液をMgSO4 上で乾燥し、該溶媒を真空下で除去して1-[1-(3 ,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-5-フェニルペンチル〕シクロペンタンカル ボン酸ヒドロキシアミドを得る(0.48g,67%);1H-NMR(300 MHz,CD3OD),δ:7. 44(dd,J=8.3,2.0Hz,1H),7.36(d,J=2.3Hz,1H),7.22-7.05(m,4H),6.98(d, J=7.0Hz,2H),3.89(s,3H),3.87(m,4H),2.38(t,J=7.4Hz,2H),2.35-2.25 (m,1H),1.96-1.63(m,10H),1.34-1.27(m,2H),1.21-1.10(m,1H),1.00-0. 88(m,1H);MS(EI),m/e 476(M+) 実施例38: 1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニルペンチ ル〕シクロペンタンカルボン酸ヒドロキシアミド 実施例38の工程Eの手順を利用する。1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルファ ニル)-5-フェニルペンチル〕シクロペンタンカルボン酸(0.5g,1.2mM)から出発 して、この不純な生成物を逆相HPLC(50-100%のCH3CN の0.1%,TFA/H2O 溶液,30 分)により精製して、1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニ ルペンチル〕シクロペンタンカルボン酸ヒドロキシアミドを得る(0.15g,29%):1 H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:9.03(bs,1H),7.70(bs,1H),7.29-7.24(m,2H) ,7.20-7.13(m,3H),6.99(dd,J=8.2,2.0Hz,1H),6.94(d,J=2.0Hz,1H),6.78(d, J=8.5Hz,1H),3.87(s,3H),3.85(m,3H),3.04(d,J=11.0Hz,1H),2.63-2.57 (m,2H),2.38-2.30(m,1H),1.97-1.93(m,1H),1.81-1.38(m,12H); MS(EI) ,m/e443(M + ) 実施例39: 3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェ ニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A:メチル3-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタノエート ジイソプロピルアミン(7.2ml,52mM)をTHF(85ml)に溶解し、これを-78 ℃に冷 却し、n-ブチルリチウムのヘキサン(23ml,52mM)溶液を徐々に添加する。この 反応系を-30 ℃にて15分間冷却し、次いで-78 ℃にて再度冷却する。メチルイソ ブチレート(6ml,52mM)のTHF(15ml)溶液を20分かけて滴下し、次いで更に40分間 攪拌する。次に、5-フェニルペンタナール(7g,43mM)のTHF(10ml)溶液を10分か けて滴下し、この反応系を1時間攪拌する。酢酸(3ml)を徐々に添加し、次いでNH4 Cl(20ml)溶液を添加し、この反応系を室温まで加温する。この反応系をエーテ ル(200ml)と水(150ml)との間で分配させる。得られる有機相を1NHCl(2x50ml)、N aHCO3(50ml)および塩水(50ml)で洗浄する。この溶液をMgSO4 上で乾燥し、真空 下で濃縮して、メチル3-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタノエートを 得る(11.2g,99%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.30-7.24(m,2H),7.18-7.16 (m,3H),3.68(s,3H),3.60(dd,J=9.7,1.9Hz,1H),2.61(t,J=7.5Hz,2H) ,2.37(s,1H),1.73-1.20(m,6H),1.17(s,3H),1.15(s,3H);MS(EI),m/e264 (M + ) 工程B:メチル3-メタンスルホニルオキシ-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタ ノエート メチル3-ヒドロキシ-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタノエート(10g,38mM)お よびトリエチルアミン(6.3ml,45mM)をCH2Cl2(50ml)に溶解し、0℃に冷却する 。メタンスルホニルクロリド(3.2ml,42mM)を添加し、この反応系を室温にし1 時間攪拌する。次に、この反応混合物をNaHCO3(2x40ml)、1N HCl(40ml)および塩 水(40ml)で洗浄する。この溶液をMgSO4 上で乾燥し、真空下で溶媒を除去して、 メチル3-メタンスルホニルオキシ-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタノエートを得 る(11.2g,86%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.30-7.25(m,2H),7.19-7.15(m ,3H),4.99(dd,J=9.2,2.0Hz,1H),3.69(s,3H),2.93(s,3H),2.62(t,J=7 .4Hz,2H),1.71-1.38(m,6H),1.27(s,3H),1.18(s,3H);MS(FAB),m/e343( M+H)+ 工程C:メチル3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2,2-ジメチル-7- フェニルヘプタノエート ナトリウム(0.5g,2.2mM)をMeOH(10ml)に添加し、氷冷する。この反応が完了 したら、3,4-ジメトキシベンゼンチオール(6g,3.5mM)のMeOH(5 ml)溶液を添加 する。2分後に、メチル3-メタンスルホニルオキシ-2,2-ジメチル-7-フェニルヘ プタノエート(3g,8.8mM)のMeOH(5 ml)溶液を添加する。該冷却浴を取り外して 、該反応系を室温にて一夜攪拌する。該溶媒を真空下で除去し、CH2Cl2(50ml)を 添加し、この溶液を、NaHCO3(50ml)、1N HCl(50ml)および塩水(50ml)で洗浄する 。この溶液をMgSO4 上で乾燥し、真空下で該溶媒を除去する。この生成物をカラ ムクロマトグラフィー(シリカ,20% のエーテルの石油エーテル溶液)で精製し て、メチル3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2,2-ジメチル-7-フェニル ヘプタノエートを得る(0.65g,18%): 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ: 7.29-7.24(m,2H),7.19-7.11(m,3H),7.02-6.91(m,2H),6.77(d,J=8.2Hz, 1H),3.87(s,3H),3.85(s,3H),3.57(s,3H),3.22(dd,J=10.0,3.2Hz,1H), 2.64-2.51(m,3H),1.81-1.74(m,1H),1.66-1.42(m,4H),1.27(s,3H),1.22 (s,3H); MS(FAB),m/e 416(M+) 工程D:メチル3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7- フェニルヘプタノエート メチル3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘ プタノエート(0.81g,1.9mM)をMeOH(5ml)およびTHF(5ml)に溶解し、0℃に冷却 する。オキソン(2.39g,3.9mM)を水(10ml)に溶解し、45分かけてこれに滴下する 。この反応系を室温に加温し、一夜攪拌する。該溶媒を真空下で除去し、CH2Cl2 (50ml)を添加し、この溶液を水(50ml)で洗浄する。得られる水性相をCH2Cl2(20m l)で逆抽出し、併合した有機相をMgSO4 上で乾燥する。該溶媒を真空下で除去し て、メチル3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘ プタノエートを得る(0.80g,95%): 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.46(dd,J=8.3 ,2.0Hz,1H),7.33(d,J=2.0Hz,1H),7.26-7.16(m,3H),7.02(d,J=6.9Hz,2H), 6.91(d,J=8.3Hz,1H),3.94(s,3H),3.93(s,3H),3.77(s,3H),3.75-3.72(m ,1H),2.46-2.39(m,2H),2.04-1.94(m,1H),1.67-1.61(m,2H),1.46(s,3H) ,1.42-1.32(m,3H),1.23(s,3H); MS(FAB),m/e 449(M+H)+ 工程E:3-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニル ヘプタン酸 水酸化ナトリウム(0.31g,7.7mM)の水(4 ml)溶液を、メチル3-(3,4-ジメトキ シベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタノエート(0.78g,1.7mM )のMeOH(6 ml)溶液に添加する。この反応系を24時間還流加熱する。次いで該溶 媒を真空下で除去し、CH2Cl2(20ml)を添加し、この溶液を1N HCl(2x40ml)で洗浄 する。得られる有機相をMgSO4 上で乾燥し、該溶媒を真空下で除去して、 3-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタン酸を 得る(0.54g,73%): 1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.47(dd,J=8.5,2.1Hz,1H),7 .36(d,J=2.1Hz,1H),7.26-7.16(m,3H),7.02(d,J=7.0Hz,2H),6.90(d,J=8.4Hz ,1H),3.93(s,3H),3.92(s,3H),3.76-3.73(m,1H),2.46-2.41(m,2H),2.06-2 .00(m,1H),1.65-1.60(m,2H),1.48(s,3H),1.45-1.35(m,3H),1.29(s,3H ); MS(FAB),m/e 434(M+) 工程F:3-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニル ヘプタン酸ヒドロキシアミド 3-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタン酸 (0.5g,1.2mM)をCH2Cl2(6 ml)に溶解し、氷冷し、2MのオキサリルクロリドのCH2 Cl2(1.7l,3.5mM)溶液を添加する。この反応系を室温まで昇温し、4時間後に、 該溶媒を真空下で除去し、得られる残渣をクロロホルムで2回共沸させる。得ら れる残渣をCH2Cl2(4 ml)に溶解し、トリメチルシリルヒドロキシラミン(0.42ml ,3.6mM)を添加する。この反応系を15分攪拌し、次いで該溶媒を真空下で除去し 、CH2Cl2(10ml)を添加し、この溶液を1N HClで洗浄する。得られる有機相をMgSO4 上で乾燥し、該溶媒を真空下で除去して、3-(3,4-ジメトキシフェニルスルホ ニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る(0.34g,83%) :1H-NMR(300 MHz,CD3OD),δ:7.45(dd,J=8.3,2.0Hz,1H),7.38(d,J=2.2Hz,1 H),7.21-7.05(m,4H),6.98-6.95(m,2H),3.89(s,3H),3.88(s,3H),3.86-3. 84(m,1H),2.38-2.33(m,2H),1.93-1.84(m,1H), 1.69-1.64(m,1H),1.43(s,3H),1.34-1.23(m,3H),1.23(s,3H),0.98-0.85( m,1H); MS(FAB),m/e 450(M+H)+ 実施例40: 3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニル ヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A:メチル3-(4-メトキシフェニルスルファニル)-2,2-ジメチル-7-フェ ニルヘプタノエート メチル3-メタンスルホニルオキシ-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタノエート(7 .7g,23mM)および4-メトキシベンゼンチオール(5.5ml,45mM)をMeOH(40ml)に溶 解し、炭酸カリウム(4.8g,35mM)を添加し、この反応系を60℃にて24時間加熱す る。該溶媒を真空下で除去し、CH2Cl2(100ml)を添加し、次いでNaHCO3(60ml)、1 N HCl(60ml)および塩水(100ml)で洗浄する。該溶媒を真空下で除去し、得られる 残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカ,40% の石油エーテルのCH2Cl2溶液) により精製して、メチル3-(4-メトキシフェニルスルファニル)-2,2-ジメチル-7- フェニルヘプタノエートを得る(2.1g,24%):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.36 -7.33(m,2H),7.29-7.12(m,5H),6.82-6.79(m,2H),3.79(s,3H),3.55(s,3H ),3.18-3.15(m,1H),2.60-2.53(m,2H),1.85-1.73(m,1H),1.57-1.40(m,5H) ,1.26(s,3H),1.20(s,3H); MS(FAB),m/e 386(M+) 工程B:メチル3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェ ニルヘプタノエート メチル3-(4-メトキシフェニルスルファニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタ ノエート(1g,2.6mM)をMeOH(6 ml)およびTHF(6 ml)に溶解し、氷冷する。オキソ ン(3.2g,5.2mM)を水(12ml)に溶解し、30分かけて滴下する。この反応系を室温 にて一夜攪拌する。該溶媒を真空下で除去し、CH2Cl2(60ml)を添加し、次いで水 (40ml)で洗浄する。得られる水性相をCH2Cl2(15ml)で逆抽出し、併合した有機相 をMgSO4 上で乾燥し、該溶媒を真空下で除去して、メチル3-(4-メトキシベンゼ ンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタノエートを得る(1.1g,99%):1H -NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.79-7.75(m,2H),7.26-7.14(m,3H), 7.03-6.93(m,4H),3.86(s,3H),3.77(s,3H),3.73-3.69(m,1H),2.45-2.39( m,2H),2.05-1.92(m,1H),1.68-1.57(m,1H),1.45(s,3H),1.42-1.28(m,2H ),1.22(s,3H),1.18-1.05(m,2H); MS(FAB),m/e 419(M+H)+ 工程C:3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプ タン酸 水酸化ナトリウム(0.40g,10mM)の水(6 ml)溶液を、メチル3-(4-メトキシベン ゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタノエート(1.00g,2.4mM)のMeO H(8 ml)溶液に添加する。この反応系を24時間加熱還流する。次いで、該溶媒を 真空下で除去し、CH2Cl2(50ml)を添加し、該溶液を1N HCl(2x40ml)で洗浄する。 得られる有機相をMgSO4 上で乾燥し、該溶媒を真空下で除去して、3-(4-メトキ シベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタン酸を得る(0.64g,66% ):1H-NMR(300 MHz,CDCl3),δ:7.90-7.80(m,2H),7.26-7.16(m,3H),7.00 -6.92(m,4H),4.05-3.92(m,1H),3.78(s,3H),2.40-2.30(m,2H),2.00-1.85 (m,1H),1.70-1.55(m,1H),1.44(s,3H),1.40-1.25(m,3H),1.21(s,3H),1 .12-0.95(m,1H) 工程D:3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプ タン酸ヒドロキシアミド 3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタン酸(0.6 0g,1.5mM)をCH2Cl2(4 ml)に溶解し、氷冷し、2MのオキサリルクロリドのCH2Cl2 (2ml,4mM)溶液を添加する。この反応系を室温まで昇温し、3時間後に、該溶媒 を真空下で除去し、残渣を2回クロロホルムと共に共沸させる。得られる残渣を CH2Cl2(4 ml)に溶解し、トリメチルシリルヒドロキシアミン(0.2ml,4.5mM)を添 加する。この反応系を15分撹拌し、次いで該溶媒を真空下で除去し、CH2Cl2(40m l)を添加し、該溶液を1N HCl(40ml)および塩水(20ml)で洗浄する。得られる有機 相をMgSO4 上で乾燥し、該溶媒を真空下で除去して、3-(4-メトキシベンゼンス ルホニル)-2,2-ジメチル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る(0.49g, 78%):1H-NMR(300 MHz,CD3OD),δ:7.80-7.76(m,2H),7.22-7.05 (m,5H),6.99(d,J=7.0Hz,2H),3.87(s,3H),3.83-3.78(m,1H),2.37(t,J= 7.5Hz,2H),1.89-1.84(m,1H),1.68-1.65(m,1H),1.42(s,3H),1.35-1.25(m ,2H),1.23(s,3H),1.20-1.09(m,1H),0.99-0.85(m,1H);MS(FAB),m/e 420 (M+H)+ 実施例41: 3-(4-メトキシベンゼンスルフィニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒド ロキシアミド オキソン(2.34g,3.8mM)を10mlの水に溶解した溶液を、3-(4-メトキシベンゼ ンスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド(2.84g,7.9mM)を10ml のメタノールに溶解した溶液に、0℃にて25分かけて添加する。1時間後、該溶 媒を真空下で除去し、ジクロロメタンを添加し、水で洗浄する。得られる水性相 をジクロロメタンで抽出し、併合した有機相をMgSO4 上で乾燥し、該溶媒を真空 下で除去する。1H NMRはジアステレオマー比が9:1 であることを示した。この粗 生成物をジクロロメタン−メタノール−石油エーテルから再結晶して単一のジア ステレオマー29(0.21g,7%)を得た:m.p.150-1℃;1H NMR(300 MHz,CD3OD): δ:7.57-7.52(m,2H),7.26-7.20(m,2H),7.16-7.10(m,5H),3.86(s,3H),3 .14-3.09(m,1H),2.62-2.54(m,2H),2.26-2.22(m,2H),1.85-1.47(m,6H); M S(FAB),m/e 376(M+H)+ 実施例42: (±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7-フ ェニルヘプタンアミドおよび(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-メチレンジオキシフェ ニル)スルホニル-7-フェニルヘプタンアミド 工程A:(3,4-メチレンジオキシ)ベンゼンチオール マグネシウム粉末(1.35g,55.3mM)を無水THF(150ml)中に分散した懸濁液に、 還流条件下で、1,2-ジブロモエタン(0.32ml,3.69mM)を注射針を介して添加する 。この混合物を還流条件下で10分間攪拌し、次いで4-ブロモ-1,2-(メチレンジ オキシ)ベンゼン(36.9mM)のTHF(50ml)溶液を注射針を介して添加する。暗褐色 のこの混合物を還流条件下で1時間攪拌し、次に0℃に冷却し、カニューレを介 して、攪拌されている硫黄(1.3g,40.6mM)のTHF(50ml)懸濁液に添加する。得ら れる緑色の懸濁液を室温まで昇温させ、一夜攪拌する。 この混合物を、濃HCl(40 ml)を含有する氷水(400 ml)とエーテル(200 ml)との 間で分配させる。水性相をエーテルで抽出(3x20Oml)し、併合した有機相を連続 的に1N HCl(200 ml)、水(200 ml)、1NNaOH(200 ml)、水(200 ml)および塩水(200 ml)で洗浄し、次いでMgSO4 上で乾燥し、濃縮する。この残渣を同等なスケール の同等な反応により得た生成物と併合し、この混合物をシリカゲル上でクロマト グラフ処理(3% 石油エーテル/EtOAc)して、2:1のジスルフィドとチオールとの混 合物を得る。1.75gの(3,4-メチレンジオキシ)ベンゼンチオールを、無色油状物 として得る。このチオールをシリカゲル上でのクロマトグラフィーにより単離す る。TLC 分析〔石油エーテル/EtOAc,19:1;R f(ブロミド)=0.40,R f(チオ ール) =0.35,R f(ジスルフィド)=O.30];1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:3. 40(s,1H),5.95(s,2H),6.70(d,1H),6.82(m,2H)ppm; マススペクトル(EI),m/ z 154(M+) 工程B:(E)-t-ブチル7-フェニル-2-ヘプタノエート 5-フェニルペンタナール(60mM)の無水THF(100ml)溶液に、室温にて、(t-ブト キシカルボニルメチレン)トリフェニルホスホラン(27.5g,72mM)を添加する。 得られる橙色の溶液を2.5 時間攪拌し、その後のTLC 分析は反応が完全であるこ とを示した。この反応混合物を真空下で濃縮して、粗生成物を得、これをシリカ ゲル上でのクロマトグラフィー処理(ヘキサン/EtOAc,19:1)にかけて、12.4g のt-ブチル7-フェニル-2-ヘプタノエート(80%)を無色油状物として得る。TLC分 析〔石油エーテル/EtOAc,9:1;R f(アルデヒド)=0.60,R f(エステル)=0.8 0];1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:1.45(s,9H),1.65(m,4H),2.18(q,2H),2.6 1 (t,2H),5.70(d,1H),6.82(dt,1H),7.10-7.30(m,5H)ppm 工程C:(±)-t-ブチル-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フェ ニルヘプタノエート 3,4-ジメトキシチオフェノール(8.25ml,57.6mM)の無水THF(100ml)溶液に、0 ℃にて、n-BuLi(2.5Mヘキサン溶液,0.77ml,1.92mM)を添加し、この溶液を15分 間窒素雰囲気下で攪拌する。t-ブチル7-フェニル-2-ヘプタノエート(10g,38.4mM )のTHF(100ml)溶液を滴下し、得られた混合物を室温まで昇温させ、一夜撹拌す る。TLC 分析は反応が完了したことを示す。この反応混合物を水(300 ml)で希釈 し、エーテル(3x250ml)で抽出する。併合した有機抽出液を連続的に飽和Na2CO3 溶液(4x200ml)、水(200 ml)および塩水(200 ml)で洗浄し、次いでMgSO4 上で乾燥し、濃縮して淡黄色の油を得、これをシリカゲル上でのクロマトグラフ ィー〔石油エーテル/EtOAc,9:1)処理に付して、14.9g の(±)-t-ブチル-3-(3,4 -ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘプタノエート(90%)を無色油状 物として得る。TLC 分析〔石油エーテル/EtOAc,9:1; R f(ヘプテノエート)=0 .80,R f(ヘプタノエート)=0.50]; 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:1.44(s,9H) ,1.48-1.68(m,6H),2.42(dABq,2H),2.60(t,2H),3.28(t,1H),3.85(d,6H ),6.75(d,1H),7.0(dd,2H),7.15(d,3H),7.25(t,2H)pp; マススペクトル( FAB),m/z 447(M+H)+ 工程D:(±)-t-ブチル-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルファニル -7-フェニルヘプタノエート (3,4-メチレンジオキシ)ベンゼンチオールを使用して、上記の手順を適用して 、3.6gの(±)-t-ブチル-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルファニル-7-フ ェニルヘプタノエート(77%)を淡黄色の油状物として得る。TLC 分析〔石油エー テル/EtOAc,19:1; R f(ヘプテノエート)=0.75,R f(ヘプタノエート)=0.35 ]; 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:1.45(s,9H),1.58(m,6H),2.40(m,2H),2. 60(app.t,2H),3.25(m,1H),5.96(s,2H),6.74(d,1H),6.95(m,2H),7.10- 7.30(m,5H)ppm 工程E:(±)-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘプ タン酸 0℃に冷却した、t-ブチル-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フ ェニルヘプタノエート(14.9g,0.03M)のCH2Cl2(150ml)溶液に、トリフロロ酢酸( 30ml)を添加する。この溶液を室温まで昇温させ、一夜攪拌し、その後TLC 分析 は反応が完了したことを示す。この反応混合物を真空下で濃縮し、得られる褐色 の残渣をシリカゲル上でのクロマトグラフィー〔石油エーテル/EtOAc,1:1)処理 に付して、11.9g の(±)-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フェニル ヘプタン酸(91%)を淡黄色の油状物として得る。TLC 分析〔石油エーテル/EtOAc, 1:1;R f(ヘプタノエート)=0.95,R f(酸)=0.15]; 1H NMR(300 MHz, CDCl3):δ:1.5-1.65(m,6H),2.55(m,4H),3.30(t,1H),3.85(d,6H),6.80( d,1H),6.98-7.31(m,7H)ppm;マススペクトル(FAB),m/z 374(M+) 工程F:(±)-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルファニル-7-フェニ ルヘプタン酸 (±)-t-ブチル-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルファニル-7-フェニ ルヘプタノエートに、上記の手順を適用して、2.33g の(±)-3-(3,4-メチレンジ オキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘプタン酸(75%)を、淡黄色油状物と して得る。TLC 分析〔石油エーテル/EtOAc,4:1; R f(ヘプタノエート)=0.50, R f(酸)=0.15]; 1H NMR(300 MHz,CDCl2):δ:1.55(m,6H),2.55(m,4H),4.4 5(br s,1H),5.95(s,2H),6.72(d,1H),6.92(d,2H),7.10-7.30(m,5H)ppm ; マススペクトル(APCI),m/z 359(M+H)+ 工程G:(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7- フェニルヘプタンアミド (±)-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘプタン酸(0.5g ,1.34mM)およびDMF(0.1ml,1.34mM)の無水CH2Cl2(25ml)溶液に、オキサリルク ロリド(0.29ml,3.34mM)を滴下する。30分後に、TMSONH2(0.82ml,6.7mM)を滴添 し、得られる白色の懸濁液を10分間攪拌する。その後のTLC 分析は反応が完了し たことを示す。この反応混合物を1N HCl(100ml)とCH2Cl2(50ml)との間で分配さ せる。水性相をEtOAc(2x50ml)で抽出し、併合した有機相を水(50ml)および塩水( 50ml)で洗浄し、次いでMgSO4 上で乾燥し、濃縮して、僅かに褐色の油状物を得 る。 この粗製ヒドロキサム酸を、14mMスケールで実施した同等な2度の反応の生成 物と併合し、残渣をシリカゲル上でのクロマトグラフィー(CH2Cl2 → 2%MeOH/CH2Cl2 →3%MeOH/CH2Cl2)処理して、9.83g の(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4 -ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘプタンアミド(91%)を僅かに 褐色のガムとして得る。TLC 分析〔ヘキサン/EtOAc,1:2; R f(酸)=0.20,R f (ヒドロキサム酸)=0.20]; 1H NMR(300 MHz,d6-DMSO):δ: 1.30-1.60(m,6H),2.22(m,2H),2.50(m,2H),3.25(br s,1H),3.72(brs,6H ),6.92(d,3H),7.14(d,3H),7.25(t,2H),8.80(s,1H),10.40(s,1H)ppm; マススペクトル(FAB),m/z 389(M+) 工程H:(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルファニ ル-7-フェニルヘプタンアミド (±)-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘプタン 酸に対して、上記の手順を適用して、0.36gの(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-メチ レンジオキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘプタンアミド(35%)を淡黄色 の油状物として得る。TLC 分析〔石油エーテル/EtOAc,1:1; R f(酸)=0.20,R f(ヒドロキサム酸)=0.10]; 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:1.58(m,6H),2.31 (br d,2H),2.58(br t,2H),3.28(m,1H),5.95(s,2H),6.70(d,1H),6.90( d,2H),7.10-7.30(m,5H)ppm;マススペクトル(FAB),m/z 374(M+H)+ 工程I:(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド (±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘ プタンアミド(5.3g,13.6mM)のメタノール(200 ml)溶液に、0℃にて、オキソン (12.56g,20.4mM)の水(200 ml)溶液を、添加ロートを介して添加する。得られる 白色の懸濁液を室温まで加温し、一夜攪拌した。その後のTLC 分析は反応が完了 したことを示した。この混合物を半分の体積まで濃縮し、次いで水(200 ml)とEt OAc(200ml)との間で分配させる。得られる水性相をEtOAc(2x200ml)で抽出し、併 合した有機相を塩水(100 ml)で洗浄し、次いでMgSO4 上で乾燥し、蒸発させる。 この粗製スルホンをシリカゲル上でのクロマトグラフィー(CH2Cl2 →2%MeOH/CH2 Cl2)処理にかけ、次いでCHCl3により圧潰して、3.1gの(±)-N-ヒドロキシ-3-(3, 4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7-フェニルヘプタンアミド(54%)を白色固 体として得る。TLC 分析〔CH2Cl2/MeOH,19:1; R f(スルフィド)=0.2,R f( スルホン)=0.18]; m.p.157-159℃;1H NMR(300 MHz, d6-DMSO):δ:1.2-1.54(m,6H),1.72(m,1H),2.10(dd,1H),3.82(d,6H),7. 06-7.30(m,7H),7.40(d,1H),8.88(s,1H),10.50(s,1H)ppm;マススペクトル( FAB),m/z 422(M+H)+ 工程J:(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルホニル -7-フェニルヘプタンアミド 上記手順を、(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルファ ニル-7-フェニルヘプタンアミドに適用して、0.14gの(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4 -メチレンジオキシフェニル)スルホニル-7-フェニルヘプタンアミド(36%)を白 色泡状物として得る。TLC 分析〔石油エーテル/EtOAc,1:1; R f(スルフィド) =0.10,R f(スルホン)=0.05]; 1H NMR(300 MHz,d6-DMSO):δ:1.18-1.52(m, 6H),1.70(m,1H),2.08(dd,1H),2.40(m,2H),3.49(m,1H),6.15(s,2H),7 .10(dd,4H),7.20(m,2H),7.30(m,2H),8.88(s,1H),10.52(s,1H)ppm; マ ススペクトル(FAB),m/z 406(M+H)+ 実施例43:(-)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7-フェ ニルヘプタンアミドおよび(+)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スル ホニル-7-フェニルヘプタンアミド (±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7-フェニルヘプ タンアミドの2種のエナンショマーを、HPLC(キラルパック(Chiralpak)AD,ヘ プタン/イソプロパノール,3:1;流量: 1ml/分;230mnにてUV検出)により分離 して、2種のエナンショマー、即ち(+)-および(-)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメト キシフェニル)スルホニル-7-フェニルヘプタンアミドを、ジエチルエーテルによ り圧潰後に、白色の泡状物として得る。 (-)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7-フェニルヘプ タンアミド:HPLC分析:tR=7.12分,ee=99.5%;〔α〕D -7.8゜;m.p. 64-66 ℃ (+)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7-フェニルヘプタ ンアミド:HPLC分析:t R=9.08分,ee=99.3%;〔α〕D +8.0°;m.p. 62-66 ℃ 上記方法に従って、但し3-(4-メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプ タン酸ヒドロキシアミドを、 (±)-N-ヒドロキシ(3-(3,4-ジメトキシフェニル) スルホニル-7-フェニルヘプタンアミドのを代わりに使用して、(+)-3-(4-メトキ シフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドおよび (-)-3-(4-メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミ ドを得る。 実施例44:(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルフィニル -7-フェニルヘプタンアミド (±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7-フェニルヘ プタンアミド(1.26g,3.24mM)の無水CH2Cl2(20ml)溶液に、0℃にて、m-CPBA(0. 56g,3.24mM)を一度に添加する。この混合物を10分問攪拌する。その後のTLC 分 析は反応の完全であることを示した。エタノール(2 ml)を添加し、この混合物を 水(100 ml)とEtOAc(100ml)との問で分配させる。水性相をEtOAc(2x50ml)で抽出 し、併合した有機相を順次5%の水性Na2S2O2(50 ml)、水(50ml)、5%水性NaHCO3(5 0ml)、水(50ml)および塩水(50ml)で洗浄し、次いでMgSO4 上で乾燥し、濃縮する 。得られる黄色の油状物をシリカゲル上でのクロマトグラフィー(CH2Cl2 →2% M eOH/CH2Cl2 →5% MeOH/CH2Cl2)処理にかけて、0.5gの(±)-N-ヒドロキシ-3-(3, 4-ジメトキシフェニル)スルフィニル-7-フェニルヘプタンアミド(38%)を、白色 の泡状物形状にあるジアステレオマー混合物(2:1)として得る。TLC 分析〔CH2 Cl2/MeOH,19:1; R f(スルフィド)=0.20,Rf(スルホキシド)=0.10]; 1H NMR (300 MHz,d6-DMSO):δ:1.35-1.72(m,6H),1.88-2.20(m,2H),2.49(m,2H),3 .05(m,1H),3.78(br s,6H),7.0-7.18(m,6H),7.22(m,2H),8.88(m,1H) ,10.49(m,1H)ppm; マススペクトル(FAB),m/z 406(M+H)+ 実施例45:(±)-(2R*,3R*)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェ ニル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A:4-ベンジル,1-t-ブチル2-(ジエトキシホスホリル)サクシネート ナトリウムヘキサメチルジシリルアジドのTHF(111ml,111mM)溶液を、15分か けて、0℃にてt-ブチルジエチルホスホノアセテート(23.4g,92.8mM)のTHF(45m l)溶液に添加する。10分後に、ベンジル2-ブロモアセテート(24.4g,107mM)のTH F(15ml)溶液を30分かけて滴下する。次いで、この反応系を23℃にて12時間攪拌 する。次に、THF を真空下で除去し、得られる残渣をエーテル(200ml)中にと り、1N HCl(3x60ml)および塩水(100ml)で洗浄する。この溶液を乾燥(MgSO4)し、 真空下で濃縮して、4-ベンジル,1-t-ブチル2-(ジエトキシホスホリル)サクシ ネートを油状物(37g)として得、これを更に精製することなく使用する。 工程B:4-ベンジル,1-t-ブチル2-(5-フェニルペンチリデン)サクシネート 5-フェニルペンタナール(11g,68mM)および4-ベンジル,1-t-ブチル2-(ジエ トキシホスホリル)サクシネート(33g,81mM)の混合物を、THF(140ml)中に溶解し 、0℃に冷却する。ナトリウムヘキサメチルジシリルアジドのTHF(75ml,75mM) 溶液を20分かけて添加し、この反応系を23℃に加温する。30分後に、この反応系 を石油エーテル(300ml)と1N HCl(150ml)との間に分配させる。得られる有機相を NaHCO3(100ml)、塩水(75ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)し、真空下で濃縮する。得ら れる残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカ,20% のエーテルの石油エーテル 溶液)処理して、4-ベンジル,1-t-ブチル2-(5−フェニルペンチリデン)サクシ ネート(18.5g,67%,2段階)を、1H NMRにより明らかな通り、混合物(3.3:1; E /Z)として得る。1H NMR(300 MHz,CDCl3): δ:7.35-7.13(m,10H),6.86(t,0. 77H,(E)-CH=),5.94(t,0.23H,(Z)-CH=),5.12(s,0.23H),5.10(s,0.77H), 3.33(s,0.77H),3.24(s,0.23H),2.63-2.53(m,2.23H),2.17(q,2H),1.68-1. 56(m,2.77H),1.52-1.44(m,1H),1.41(s,9H);MS(FAB),m/e 409(M+H)+ 工程C:4-ベンジル,1-t-ブチル2-(R *)-[1-(R *)-(4-メトキシフェニル スルホニル)-5-フェニルペンチル〕サクシネート 4-メトキシベンゼンチオール(9.2g,66mM)をTHF(10ml)に溶解し、0℃に冷却 する。触媒量のn-BuLi(2.3M;1.6ml,3.7mM)を徐々に添加する。4-ベンジル,1- t-ブチル2-(5-フェニルペンチリデン)サクシネートのTHF(20ml)溶液を添加し、 この反応系を23℃に加温し、12時間攪拌する。 この粗製チオール付加生成物をTHF(170ml)およびMeOH(100 ml)に溶解し、0℃ に冷却する。オキソン(81g,132mM)の水(270 ml)溶液を15分かけて徐々に添加す る。この反応系を24時間攪拌し、得られる有機相を真空下で除去する。残留する 水性懸濁液をCH2Cl2(500ml)と追加の水(300 ml)との間で分配させる。これらの 相を分離し、得られる水性相を追加のCH2Cl2(2x100ml)で逆抽出する。併合した 有機溶液を乾燥(MgSO4)し、真空下で濃縮して、ジアステレオマーの混合物を得 、これを勾配溶出カラムクロマトグラフィー(シリカ,CH2Cl2中0.5%-3% MeOH) により分離する。迅速溶出異性体(2.2g,10%): 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7. 78(d,J=8.7Hz,2H),7.37-7.30(m,5H),7.28-7.20(m,2H),7.18-7.08(m,3H) ,6.98-6.95(m,2H),5.12(m,2H),3.85(s,3H),3.58-3.54(m,1H),3.47-3.4 2(m,1H),2.90(dd,J=16.7,2.6Hz,1H),2.67(dd,J=16.7,11.5Hz,1H),2.53 (t,J=7.5Hz,2H),2.09-1.95(m,1H),1.68-1.52(m,4H),1.32-1.27(m,1H), 1.29(s,9H); 4-ベンジル,1-t-ブチル2-(R *)-[1-(R *)-(4-メトキシフェニル スルホニル)-5-フェニルペンチル〕サクシネート(16.3g,76%): 1H NMR(300MHz ,CDCl3): δ:7.78(d,J=8.6Hz,2H),7.37-7.30(m,5H),7.25-7.15(m,3H), 7.05-6.97(m,4H),5.16(m,2H),3.85(s,3H),3.82-3.76(m,1H),3.33-3.16( m,2H),2.64(dd,J=16.5,2.0Hz,1H),2.44(t,J=7.5Hz,2H),1.73-1.65(m, 2H),1.57-1.18(m,4H),1.43(s,9H); MS(FAB),m/e 581(M+H)+ 工程D:(±)-1-t-ブチル2-(R *)-[1-(R *)-(4-メトキシフェニルスルホニ ル)-5-フェニルペンチル〕コハク酸 4-ベンジル,1-t-ブチル2-(R *)-[1-(R *)-(4-メトキシフェニルスルホニル) -5-フェニルペンチル〕サクシネート(4.6g,7.9mM)をMeOH(60ml)および THF(6ml)に溶解し、この溶液をN2でパージする。炭素担持パラジウム(10%)(0.5 5g)を添加し、この反応系を再度N2でパージする。次に、この反応系をH2でパー ジし、2時間激しく攪拌する。この反応系をN2でパージし、セライトを通して濾 過し、MeOHで洗浄する。濾液を真空下で濃縮して、(±)-1-t-ブチル2-(R *)-[1- (R *)-(4-メトキシフェニルスルホニル)-5-フェニルペンチル〕コハク酸を得る( 3.8g,98%):1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:9.2(bs,1H),7.79(d,J=8.8Hz,2H) ,7.27-7.13(m,3H),7.05(d,J=7.0Hz,2H),7.00(d,J=8.8Hz,2H),3.87(s, 3H),3.73(m,1H),3.28-3.10(m,2H),2.65(d,J=16Hz,1H),2.52-2.47(m,2H) ,1.73-1.66(m,2H),1.62-1.18(m,4H),1.49(s,9H) 工程E:(±)-t-ブチル(2R *,3R*)-2-(2-ヒドロキシエチル)-3-(4-メト キシベンゼンスルホニル)-7-フェニルヘプタノエート (±)-1-t-ブチル2-(R *)-[1-(R *)-(4-メトキシフェニルスルホニル)-5-フェ ニルペンチル〕コハク酸(1.8g,3.7mM)をTHF(15ml)に溶解し、0℃に冷却する。 ボラン−THF(6.5ml,6.5mM)の1M溶液を5分かけて滴下する。5分後に、0℃に て、この反応系を23℃まで加温し、6時間攪拌する。この反応系を1NHCl(5ml)に より注意して反応停止し、CH2Cl2(100ml)で抽出する。得られる有機相を塩水(40 ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)し、濃縮して粗製アルコールを得る。この不純な生成 物を勾配溶出カラムクロマトグラフィー(シリカ,CH2Cl2中1%-3% MeOH)により 精製して、(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-(2-ヒドロキシエチル)-3-(4-メトキシ ベンゼンスルホニル)-7-フェニルヘプタノエート(1.66g,94%)を得る:1H NMR(3 00 MHz,CDCl3):δ:7.79(d,J=8.8Hz,2H),7.27-7.12(m,3H),7.08(d,J=6. 8Hz,2H),6.98(d,J=8.8Hz,2H),3.87(s,3H),3.73-3.61(m,2H),3.55-3.49 (m,1H),2.92-2.87(m,1H),2.50(t,J=7.5Hz,2H),2.28-2.17(m,1H),1.92- 1.75(m,3H),1.60-1.24(m,4H),1.49(s,9H); MS(FAB)m/e 477(M+H)+ 工程F:(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)- 7-フェニル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタノエート (±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-(2-ヒドロキシエチル)-3-(4-メトキシベンゼン スルホニル)-7-フェニルヘプタノエート(0.36g,0.75mM)、フェノール(92mg,0. 97mM)およびトリフェニルホスフィン(0.23g,0.9mM)をTHF(4ml)に溶解し、0℃ に冷却する。ジイソプロピルアゾジカルボキシレート(0.18ml,0.9mM)を滴下し 、この反応系を50℃にて7時間加熱する。この反応系を冷却し、エーテル(100ml )で希釈し、1N HCl(40ml)、水(40ml)、NaHCO3(50ml)および塩水(40ml)で洗浄す る。MgS04 上で乾燥した後、この溶液を真空下で濃縮し、得られる残渣をカラム クロマトグラフィー(シリカ,30% のエーテルの石油エーテル溶液)により精製 して、(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-3-(4−メトキシベンゼンスルホニル)-7-フ ェニル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタノエート(0.14g,34%)を得る:1H NMR(30 0 MHz,CDCl3):δ:7.80(d,J=8.8Hz,2H),7.30-6.91(m,10H),6.81(d,J=8. 0Hz,2H),4.15-4.09(m,1H),4.04(m,1H),3.87(s,3H),3.65(m,1H),3.02- 2.96(m,1H),2.61(t,J=7.7Hz,2H),2.50(m,2H),2.49-2.37(m,1H),2.23-2 .17(m,1H),1.84-1.76(m,1H),1.70-1.51(m,2H),1.50(s,9H),1.35-1.23(m ,1H) 工程G:(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニ ル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタン酸 (±)-t-ブチル(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2 -(2-フェノキシエチル)ヘプタノエート(0.14g,0.54mM)をCH2Cl2(7ml)に溶解し 、0℃に冷却し、THF(1ml)を徐々に添加する。該浴を取り除き、この反応系を4 時間攪拌する。この反応系を真空下で濃縮し、得られる残渣を逆相HPLC(0.1% TF A/H2O中50-100% CH3CN)により精製して、(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベン ゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタン酸(0.19g,70%) を得る:1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.81(d,J=8.8Hz,2H),7.29-7.15(m,5 H),7.08(d,J=7.3Hz,2H),6.98-6.91(m,3H),6.81(d,J=8.3Hz,2H),4.17-4 .03(m,2H),3.83(s,3H),3.80-3.75(m,1H),3.17-3.14(m,1H),2.58-2.50(m ,3H),2.30-2.18(m,1H),1.90-1.77(m,2H),1.60-1.45(m,3H),1.41-1.30(m ,1H);MS(FAB)m/e 497(M+H)+ 工程H:(±)-(2R *,R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニ ル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド (±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フェ ノキシエチル)ヘプタン酸(0.17g,0.34mM)をCH2Cl2(1ml)に溶解し、0℃に冷却 する。オキサリルクロリドのCH2Cl2(0.5ml,.1mM)溶液を滴下し、該浴を取り外 し、該反応系を加温し、23℃にて3時間攪拌する。次いで、この反応を真空下で 濃縮し、CHCl3と共に共沸させる。得られる油状物をCH2Cl2(3ml)に溶解し、0℃ に冷却し、O-(トリメチルシリル)ヒドロキシラミン(0.16g,1.7mM)を滴下する 。該浴を取り外し、該反応系を20℃まで昇温する。次いで、この反応系をCH2Cl2 (20ml)と1N HCl(10ml)との間で分配させる。次に、得られる有機相を分離し、水 (10ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)し、真空下で濃縮する。得られる生成物を逆相HPL C(0.1% TFA/H2O中65% CH3CN)により精製して、(±)-(2R *,R *)-3-(4-メトキシ ベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタン酸ヒドロキ シアミド(0.12g,69%)を得る:1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.73(d,J=8.8Hz ,2H),7.28-7.14(m,5H),7.08(d,J=7.0Hz,2H),6.97-6.89(m,3H),6.73(d ,J=8.1Hz,2H),3.89-3.71(m,5H),3.27-3.20(m,2H),2.51(t,J=7.2Hz,2H) ,2.45-2.32(m,1H),1.98-1.75(m,3H),1.55-1.38(m,3H),1.35-1.22(m,1H) ; 13C NMR(75.5MHz,CDCl3):δ:168.74,164.06,158.25,141.93.130.70,129 .46,128.88,128.34,128.30,125.78,121.06,114.63,114.36,66.37,65.1 6,55.67,38.36,35.30,31.00,30.35,27.75,25.34;MS(FAB)m/e 512(M+H )+;元素分析(C28H33NO6S・O.2H2O)C,H,N. 実施例46:(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェ ニル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシ アミド 工程A:(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-3-(4-メトキシフェニルスルホニル)- 7-フェニル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタノエート (±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-(2-ヒドロキシエチル)-3-(4-メトキシベン ゼンスルホニル)-7-フェニルヘプタノエート(1.1g,2.3mM)およびフェニルジス ルフィド(1g,4.6mM)をCH2Cl2(10ml)に溶解し、0℃に冷却し、n-トリブチルホ スフィン(1.2ml,4.6mM)を滴下する。2時間後、この反応系をNaHCO3(150ml)とC H2Cl2(100ml)との間で分配させる。得られる有機相をCH2Cl2(50ml)で逆抽出し、 併合した有機相をH2O(50ml)出洗浄し、乾燥(MgSO4)し、真空下で濃縮する。得ら れる残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカ,25% のエーテルの石油エーテル 溶液)により精製して、(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-3-(4-メトキシフェニルス ルホニル)-7-フェニル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタノエート(0.7 4g,57%)を得る:1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.76(d,J=8.9Hz,2H),7.27-7 .13(m,8H),7.06(d,J=8.3Hz,2H),6.97(d,J=8.9Hz,2H),3.86(s,3H),3.5 2-3.48(m,1H),3.27-3.18(m,1H),2.99-2.87(m,2H),2.45(t,J=7.3Hz,2H) ,2.43-2.32(m,1H),1.98-1.82(m,1H),1.72-1.58(m,3H),1.50(s,9H),1.4 5-1.15(m,3H);13C NMR(75.5MHz,CDCl3):δ: 171.23,163.63,141.98.135 .74,130.64,128.96,128.88,128.26,125.96,125.76,114.29,81.70,66.3 1,55.63,42.91,35.32,32.10,30.79,28.01,26.86,26.65,26.20;MS(FAB )m/e 568(M +) 工程B:(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニ ル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸 表記化合物を(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェ ニル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタン酸の調製で使用した方法に従って、但に し(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-3-(4-メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニル -2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタノエートを出発物質として使用して 、調製する。(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-3-(4-メトキシフェニルスルホニル)- 7-フェニル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタノエート(0.8g,1.4mM)は 、(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フ ェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸(0.7g,97%)を与える。分析的に純粋なサ ンプルは、再結晶化(EtOAc/ヘキサン)により調製する:m.p.99-101 ℃;1H NMR (300 MHz,CDCl3):δ:9.3-8.7(bs,1H),7.78(d,J=8.9Hz, 2H),7.28-7.13(m,8H),7.06(d,J=8.3Hz,2H),6.97(d,J=8.9Hz,2H),3.85( s,3H),3.70-3.64(m,1H),3.39-3.31(m,1H),3.19-3.15(m,1H),3.03-2.93( m,1H),2.57-2.50(m,1H),2.47(t,J=7.1Hz,2H),1.97-1.88(m,1H),1.72-1 .32(m,5H),1.25-1.12(m,1H);MS(FAB)m/e 512(M +);元素分析(C28H32O5S)C, H,N. 工程C:(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニ ル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド 表記化合物を(±)-(2R *,R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニ ル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミドの調製で使用した方法 に従って、但し(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェ ニル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸を出発物質として使用して 、調製する。(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニ ル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸(0.64g,1.2mM)は、(±)-(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フェニルス ルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド(0.5g,79%)を与える:1H NMR(3 00 MHz,CDCl3):δ:9.44(bs,1H),7.75(d,J=8.9Hz,2H),7.28-7.14(m,8H) ,7.05(d,J=7.2Hz,2H),6.99(d,J=9.0Hz,2H),3.88(s,3H),3.28-3.25(m ,1H),3.00-2.93(m,2H),2.75-2.66(m,1H),2.46(t,J=7.3Hz,2H),2.43-2. 30(m,1H),1.83-1.17(m,8H);MS(FAB)m/e 528(M+H)+;元素分析(C28H33O5NS2 ・0.3 H2O)C,H,N. エナンショマーを、キラル(Chiral)パック油カラムを使用し、EtOH/ヘキサン 中の0.1% THFの40/60 混合物で溶出する、キラルHPLCにより分離して、迅速溶出 異性体:(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フ ェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド:[a]D=-50゜および 遅延溶出異性体:(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル- 2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド:[a]D=+40 °を得る。 実施例47:(2R *,3R *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2- フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミドおよび(±)-(2R *,3 S *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-ベンゼンスルホニル メチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A:t-ブチル2-(1-ヒドロキシ-5-フェニルペンチル)アクリレート t-ブチルアクリレート(6.7g,46mM)、5-フェニルペンタナール(3.7g,23mM)お よび3-キヌクリジノール(0.38g,3mM)を併合し、N2雰囲気下で攪拌する。24時問 後に、攪拌を終了し、得られる溶液を周囲温度にて16時間放置する。TLC 分析(3 0%のエーテルの石油エーテル溶液)は、この反応がほぼ完了していることを示し た。この生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカ,20% のエーテルの石油エ ーテル溶液)により精製して、t-ブチル2-(1-ヒドロキシ-5-フェニルペンチル) アクリレート(6g,45%)を得る:1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.29-7.24(m,2H ),7.18-7.14(m,3H),6.10(d,J=1.1Hz,1H),5.67(s,1H),4.33(q,J=6.7Hz ,1H),2.74(d,J=6.7Hz,1H),2.61(t,J=7.6Hz,2H),1.70-1.53(m,4H),1.50 (s,9H),1.50-1.32(m,2H);13C NMR(75.5MHz,CDCl3):δ: 165.93,143.91 ,142.51,128.32,128.20,125.57,123.82,81.35,71.79,36.17,35.82,31 .26,28.04,25.54;MS(EI)m/e 291(M+H)+ 工程B:(E)-2-t-ブトキシカルボニル-7-フェニルヘプト-2-エニルベンゾ エート ジイソプロピルアゾジカルボキシレート(5ml,25mM)を5分間に渡り、t-ブチ ル2-(1-ヒドロキシ-5-フェニルペンチル)アクリレート(5.59g,19.3mM)、安息 香酸(3g,25mM)およびトリフェニルホスフィン(6.5g,25mM)のTHF(100ml)溶液に 、-55 ℃にて添加する。この反応を-55 〜-50 ℃にて45分間維持し、次にこの反 応系を0℃まで昇温する。該溶液をエーテル(300ml)で希釈し、1NNaOH(2x40ml) および塩水(70ml)で洗浄する。得られる溶液を乾燥(MgSO4)し、真空下で濃縮す る。この粗反応生成物を部分的に20% エーテル石油エーテルに溶解し、スラリー としてシリカゲルカラムに適用する。このカラムを勾配溶出(シリカ,10-20%の エーテルの石油エーテル溶液)を利用して溶出して、(E)-2-t-ブ トキシカルボニル-7-フェニルヘプト-2-エニルベンゾエート(6.2g,82%)を得る :1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:8.01(d,J=7.0Hz,2H),7.53-7.49(m,1H),7. 41(t,J=7.5Hz,2H),7.28-7.23(m,2H),7.20-7.10(m,3H),6.99(t,J=7.8Hz ,1H),5.05(s,2H),2.61(q,J=7.5Hz,2H),2.36(q,J=7.5Hz,2H),1.72-1.4 6(m,4H),1.47(s,9H);MS(FAB)m/e 395(M+H)+ 工程C:t-ブチル(E)-2-ヒドロキシメチル-7-フェニルヘプト-2-エノエート (E)-2-t-ブトキシカルボニル-7-フェニルヘプト-2-エニルベンゾエート(5.9g ,15mM)をMeOH(75ml)に溶解し、0℃に冷却する。K2CO3(2g,15mM)を攪拌しつつ 添加し、この反応系を23℃まで昇温させる。2時間後に、この反応系をHOAcで中 和し、その体積の約半分まで濃縮する。エーテル(500ml)で希釈した後、得られ る溶液を水(50ml)および塩水(50ml)で洗浄する。得られる溶液を乾燥(MgSO4)し 、真空下で濃縮する。この粗反応混合物をカラムクロマトグラフィー(シリカ, 25% のエーテルの石油エーテル溶液)で精製して、t-ブチル(E)-2-ヒドロキシメ チル-7-フェニルヘプト-2-エノエート(2.2g,51%)を得る:1HNMR(300 MHz,CDCl3 ):δ:7.30-7.25(m,2H),7.20-7.15(m,3H),6.75(t,J=7.7Hz,1H),4.28(d ,J=6.8Hz,2H),2.65-2.60(m,3H),2.26(q,J=7.5Hz,2H),1.71-1.61(m,2H ),1.53-1.43(m,11H) 工程D:(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-ヒドロキシメチル-3-(4-メトキシ フェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタノエート n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(0.6ml,1.4mM)を、0℃にて、4-メトキシベ ンゼンチオール(2g,14mM)とTHF(10ml)との混合物に徐々に添加する。2分後、t -ブチル(E)-2-ヒドロキシメチル-7-フェニルヘプト-2-エノエート(2.2g,7.59mM )のTHF(7ml)溶液を添加し、この反応系を室温まで昇温させる。1時間後、この 反応系を真空下で濃縮し、得られる粗生成物を、勾配溶出を利用したカラムクロ マトグラフィー(シリカ,15-30%のエーテルの石油エーテル溶液)で精製して、 (±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-ヒドロキシメチル-3-(4-メトキシフェニルスルフ ァニル)-7-フェニルヘプタノエート(3g,92%)を得る:1H NMR(300 MHz, CDCl3):δ:7.39-7.34(m,2H),7.30-7.25(m,2H),7.20-7.13(m,3H),6.86-6 .81(m,2H),4.07-3.98(m,1H),3.93-3.86(m,1H),3.80(s,3H),3.26-3.19(m ,1H),2.67-2.60(m,1H),2.58(t,J=7.2Hz,2H),2.38(t,J=6.6Hz,1H),1.6 5-1.47(m,6H),1.46(s,9H);MS(FAB)m/e 430(M +) 工程E:(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-ヒドロキシメチル-3-(4-メトキシ ベンゼンスルホニル)-7-フェニルヘプタノエート オキソン(6.4g,10mM)の水(30ml)溶液を、0℃にて、(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-ヒドロキシメチル-3-(4-メトキシフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプ タノエート(3g,7mM)のTHF(10ml)およびメタノール(15ml)溶液に滴下する。この 反応系を23℃にて6時間攪拌する。次いでこの混合物をCH2Cl2(150ml)と水(75ml )との間で分配させる。得られる相を分離し、該水性相をCH2Cl2(2x30ml)で逆抽 出する。これら有機相を併合し、NaHCO3(50ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)し、真空 下で濃縮して、(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-ヒドロキシメチル-3-(4-メトキシ ベンゼンスルホニル)-7-フェニルヘプタノエート(3.1g,96%)を得る。これを更 に精製することなしに使用する。1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.81-7.76(m,2H ),7.27-7.22(m,2H),7.19-7.14(m,1H),7.09-6.98(m,4H),4.30-4.21(m,1H ),3.91-3.82(m,1H),3.88(s,3H),3.67-3.61(m,1H),2.94-2.89(m,1H),2. 82(dd,J=9.0,5.5Hz,1H),2.48(t,J=7.4Hz,2H),1.76-1.69(m,2H),1.51( s,9H),1.51-1.35(m,3H),1.25-1.13(m,1H);MS(FAB)m/e 463(M+H)+ 工程F:(±)-(2R *,3R *)-2-ヒドロキシメチル-3-(4-メトキシベンゼンス ルホニル)-7-フェニルヘプタン酸 トリフルオロ酢酸(5ml)を、(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-ヒドロキシメチル- 3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニルヘプタノエート(3.1g,6.7mM) のCH2Cl2(20ml)溶液に添加する。この反応をTLC 分析(CH2Cl2中5%MeOH)により追 跡し、該エステルの全てが消費される前に該反応系を濃縮し、CHCl3(3x15ml)と 共に共沸させる。得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィ ー(シリカ,CH2Cl2中5%MeOH)により精製して、純粋な(±)-(2R *,3R *)-2-ヒ ドロキシメチル-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸(1.4 g,51%)を得る:1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.78(d,J=7.0Hz,2H),7.25-7. 11(m,3H),7.07-6.93(m,4H),6.5-5.7(bs,1H),4.34-4.26(bm,1H),3.95-3 .89(bm,1H),3.82(s,3H),3.81-3.69(bm,1H),3.13-3.06(bm,1H),2.46-2.3 7(bm,2H),1.75-1.67(bm,2H),1.48-1.30(bm,3H),1.22-1.09(bm,1H);MS(F AB)m/e 406(M+H)+ 工程G:(±)-3-(R *)-[1-(R *)-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-5-フェ ニルペンチル〕オキセタン-2-オン ジエチルアゾジカルボキシレート(0.45ml,2.7mM)を、トリフェニルホスフィ ン(0.71g,2.7mM)のTHF(18ml)溶液に -78℃にて滴下する。15分後に、(±)-(2R * ,3R *)-2-ヒドロキシメチル-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル ヘプタン酸(1g,2.5mM)のTHF(8ml)溶液を、5分間に渡り滴添する。30分後、該 浴を取り外し、該反応系を23℃まで昇温させ、45分間撹拌する。この反応系を真 空下で濃縮し、得られる粗反応混合物をカラムクロマトグラフィー(シリカ,CH2 Cl2)で精製して、純粋な(±)-3-(R *)-[1-(R *)-(4-メトキシベンゼンスルホ ニル)-5-フェニルペンチル〕オキセタン-2-オン(0.63g,63%)を得る:1H NMR(30 0 MHz,CDCl3):δ:7.75-7.70(m,2H),7.28-7.23(m,2H),7.19-7.14(m,1H) ,7.12-7.09(m,2H),7.03-6.95(m,2H),4.41(t,J=6.2Hz,1H),4.31(t,J=5. 4Hz,1H),4.03-3.95(m,1H),3.87(s,3H),3.44-3.37(m,1H),2.53(t,J=7.2 Hz,2H),1.89-1.81 (m,2H),1.58-1.38(m,4H);13CNMR(75.5MHz,CDCl3):δ :167.83,164.25,141.89,130.91,128.21,128.17,125.65,114.65,113.91 ,65.04,63.83,55.68,50.47,35.16,30.91,27.04,25.73;MS(FAB)m/e 389 (M+H)+ 工程H:(±)-(2R *,3S *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェ ニル-2-(フェニルスルファニルメチル)ヘプタン酸 無機油中のNaH の60% 懸濁液(84mg,2.2mM)を、チオフェノール(0.30g, 2.7mM)のTHF(10ml)溶液に、注意して0℃にて添加する。この混合物を周囲温度 まで加温し、(±)-3-(R *)-[1-(R *)-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-5-フェ ニルペンチル〕オキセタン-2-オン(0.63g,1.6mM)のTHF(10ml)溶液に移す。この 反応系を14時間攪拌し、次いで酢酸で酸性とする。この粗混合物をメタノール(2 x50ml)と共に共沸させ、勾配溶出を利用したカラムクロマトグラフィー(シリカ ,CH2Cl2中1-3%MeOH)により精製して、純粋な(±)-(2R *,3S *)-3-(4-メトキシ ベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(フェニルスルファニルメチル)ヘプタン 酸(0.64g,82%)を得る:m.p.133-135℃;1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.75(d ,J=8.6Hz,2H),7.30-7.17(m,8H),7.06(d,J=7.3Hz,2H),6.93(d,J=8.6Hz ,2H),3.84(s,3H),3.63(bs,1H),3.52(dd,J=14.2,7.7Hz,1H),3.14(dd, J=14.2,5.2Hz,1H),2.98(bs,1H),2.43(t,J=7.4Hz,2H),1.95-1.83(m,1H) ,1.78-1.62(m,1H),1.50-1.34(m,2H),1.28-1.07(m,2H);MS(FAB)m/e 489(M+ );元素分析(C27H30O5S2)C,H,N. 工程I:(±)-(2R *,3S *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェ ニル-2-(フェニルスルファニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド (±)-(2R *,3S *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(フェ ニルスルファニルメチル)ヘプタン酸(0.42g,0.84Mm)をCH2Cl3(3ml)に溶解し、 0℃に冷却する。オキサリルクロリドのCH2Cl2溶液(1.5ml,3mM)を滴下し、該浴 を取り外し、この反応系を加温し、23℃にて1時間撹拌する。次いで、この反応 系を真空下で濃縮し、CHCl3と共に共沸させる。得られる油状物をCH2Cl3(2ml)に 溶解し、0℃に冷却し、O-(トリメチルシリル)ヒドロキシアミン(0.3ml,2.6m M)を滴下する。該浴を取り外し、この反応系を20℃に昇温する。次いで、この反 応系をCH2Cl2(20ml)と1N HCl(10ml)との間で分配させる。次に、得られる有機相 を分離し、水(10ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)し、かつ真空下で濃縮して、(±)-(2 R *,3S *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(フェニルスル ファニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド(0.37g,87%)を得る。この反応か ら得られたこの物質は分析的に純粋である:m.p.133-135℃;1H NMR(300 MHz,C D3OD):δ:7.74-7.69(m,2H),7.32-7.17(m,1H), 7.15-7.08(m,1H),7.06-7.01(m,4H),3.87(s,3H),3.49(dd,J=13.8,5.3Hz, 1H),3.39(q,J=5.3Hz,1H),3.21(dd,J=13.8,9.8Hz,1H),2.98-2.85(m,1H) ,2.43(t,J=7.3Hz,2H),1.78-1.71(m,2H),1.41-1.10(m,4H);MS(FAB)m/e 51 4(M+H)+;元素分析(C27H31NO5S2)C,H,N. 工程J:(±)-(2R *,3S *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェ ニル-2-(ベンゼンスルホニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド (±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-ヒドロキシメチル-3-(4-メトキシフェニルスル ファニル)-7-フェニルヘプタノエートの、(±)-t-ブチル(2R *,3R *)-2-ヒドロ キシメチル-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニルヘプタノエートへの 酸化手順を利用して、(±)-(2R *,3S *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7 -フェニル-2-(フェニルスルファニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド(80mg) を(±)-(2R *,3S *)-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(ベン ゼンスルホニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド(78mg,87%)に転化する。 この反応から得た物質は分析的に純粋である;1H NMR(300 MHz,CD3OD):δ:7.9 2(d,J=7.5Hz,2H),7.78-7.61(m,5H),7.23-7.02(m,7H),3.92-3.78(m,5H) ,3.35-3.23(m,2H),2.41(t,J=7.4Hz,2H),1.68-1.62(m,2H),1.40-1.05(m ,4H);MS(FAB)m/e 545(M+H)+;元素分析(C27H31NO7S2)C,H,N. 実施例48:(±)2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル -7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド 工程A:1-(5-フェニルペンタン-1-スルホニル)-4-メトキシベンゼン ホスホラストリブロミド(7.1ml,75mM)を攪拌しつつ、徐々に、5-フェニルペ ンタノール(25g,150mM)に0℃にて添加する。該浴を取り外し、この反応系を23 ℃にて2時間攪拌し、次いで70℃に昇温する。3時間後に、該反応系を冷却し、 氷(250g)上に注ぐ。この混合物をエーテル(500ml)で抽出する。得られる有機相 を水(100ml)、NaHCO3(2x200ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)する。得られる溶液を真 空下で濃縮して上記ブロミド(28 g)を得る。これを更に精製することなく使用 する。この粗製ブロミドをEtOH(70ml)および4-メトキシベンゼンチオール(18g, 130mM)に溶解し、0℃に冷却する。21%(w/w)のNaOEt のEtOH溶液(46ml,120mM) を徐々に添加し、この反応系を50℃に加温する。26時間後、この反応系を冷却し 、真空下で濃縮して、粗製スルフィド(36g)を得、これを更に精製することなく 使用する。この粗製スルフィドをMeOH(500ml)およびTHF(75ml)に溶解し、10℃に 冷却する。オキソン(115g,187mM)の水(500ml)溶液を1時間かけて徐々に添加す る。この反応系を周囲温度まで昇温させ、18時間攪拌する。得られる有機相を真 空下で除去し、得られる混合物をCH2Cl2(800ml)と水(500ml)との間で分配させる 。この水性相をCH2Cl2(2x100ml)で逆抽出し、得られる有機相を併合する。乾燥( MgSO4)後、該有機相を真空下で濃縮し、得られる固体をMeOHから2回再結晶化さ せ、純粋な1-(5-フェニルペンタン-1-スルホニル)-4-メトキシベンゼン(28.3g, 3段階に対して58%)を得る:m.p.64-65℃;1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.81( d,J=8.7Hz,2H),7.28-7.23(m,2H),7.17(d,J=6.7Hz,1H),7.11(d,J=7.5Hz ,2H),7.01(d,J=8.7Hz,2H),3.88(s,3H),3.06-3.01(m,2H),2.57(t,J=7. 6Hz,2H),1.77-1.66(m,2H),1.62-1.54(m,2H),1.43-1.35(m,2H);MS(FAB)m /e 319(M+H)+ 工程B:(±)-メチル2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2-メ チル-7-フェニルヘプタノエート n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.9ml,4.4mM)を、1-(5-フェニルペンタン- 1-スルホニル)-4-メトキシベンゼン(1.35g,4.24mM)のTHF(15ml)溶液に、-78℃ にて滴下する。この反応系を-78℃にて15分間攪拌し、-30℃まで15分かけて昇温 し、次いで再度-78℃に戻す。次いで、この溶液を、カニューレにより、予め-78 ℃に冷却したメチルピルベート(0.82g,7.2mM)のTHF(5ml)溶液に注入する。15分 後に、この反応系を徐々に-30℃まで15分かけて昇温させ、その後NH4Cl(15ml)溶 液で反応停止する。この反応系を、エーテル(150 ml)と水(5Oml)との間で分配さ せ、得られる相を分離する。該エーテル相を塩水(50ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4) し、真空下で濃縮する。得られる粗生成物を勾配溶出クロマトグラフィー(シリ カ,CH2Cl2−CH2Cl2中の1%MeOH)により精製して、メチル2-ヒドロ キシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7-フェニルヘプタノエート 生成物(0.60g,35%)のジアステレオマー混合物(2:3の比)を得る。各異性体の分 析用サンプルは同一の条件を使用して更にクロマトグラフィー処理することによ り得る。上部異性体:メチル2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)- 2-メチル-7-フェニルヘプタノエート: 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.78(d,J =8.7Hz,2H),7.28-7.23(m,2H),7.19-7.14(m,1H),7.06(d,J=7.6Hz,2H),6 .99-6.94(m,2H),4.0-3.7(br,1H),3.87(s,3H),3.78(s,3H),3.34-3.30(m ,1H),2.45(t,J=7.5Hz,2H),1.98-1.75(m,2H),1.61(s,3H),1.48-1.38(m ,2H),1.29-1.10(m,2H);MS(FAB)m/e 421(M+H)+;下部異性体:メチル2-ヒ ドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7-フェニルヘプタノエ ート: 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.77-7.74(m,2H),7.28-7.23(m,2H),7 .20-7.15(m,1H),7.09(d,J=7.6Hz,2H),6.99-6.94(m,2H),3.87(s,3H),3. 84(s,3H),3.64(bs,1H),3.52(t,J=6.5Hz,1H),2.51(t,J=7.5Hz,2H),1.9 2-1.86(m,2H),1.52-1.33(m,4H),1.41(s,3H);MS(FAB)m/e 421(M+H)+ 工程C:(±)2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル- 7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド ナトリウム球(0.13g,5.7mM)を、0℃にて、ヒドロキシラミン塩酸塩(0.29g, 4.2mM)のMeOH(4ml)溶液に添加する。この反応系を、該ナトリウム全てが反応す るまで、加温する。この混合物を、 (±)-メチル2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシ ベンゼンスルホニル)-2-メチル-7-フェニルヘプタノエート(0.6g,1.4mM)に添加 し、23℃にて攪拌する。12時間後、追加のヒドロキシラミン塩酸塩(0.15g,2.2m M)およびナトリウム(60mg,2.6mM)を、冷却しつつ順次添加する。1時間後、こ の反応系をCH2Cl2(100ml)と飽和NH4Cl溶液(50ml)との間で分配させる。得られる 水性相を、CH2Cl2(2x20ml)で逆抽出する。併合した有機相を0.5N HCl(30ml)、塩 水(30ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)し、真空下で濃縮する。得られる粗生成物を逆 相HPLC(0.1% TFA/H2O 中40-100% CH3CN、30分)により精製して、ジアステレオマ ーの混合物としてヒドロキサム酸(±)2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼ ンスルホニル)-2-メチル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドを得る。これ らのジアステレオマーを分取TLC(シリカ,CH2Cl2中の4%MeOH)によって多重溶出 により分離する:上部異性体:2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル )-2-メチル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシ、アミド: 1H NMR(300 MHz,CDCl3 ):δ:9.25(bs,1H),7.77(d,J=8.7Hz,2H),7.27-7.12(m,3H),7.06-6.96(m, 4H),4.34(bs,1H),3.87(s,3H),3.47-3.42(m,1H),2.37(t,J=7.6Hz,2H), 1.78-1.52(m,4H),1.70(s,3H),1.45-1.10(m,2H);MS(イオンスプレイ)m/e 422(M+H)+;下部異性体:2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)- 2-メチル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド: 1HNMR(300 MHz,CDCl3):δ :9.50(bs,1H),7.74(bm,2H),7.28-7.12(m,3H),7.07-7.03(m,4H),5.0-4. 4(br,1H),3.87(s,3H),3.65-3.55(bm,1H),2.48(bt,2H),1.98-1.90(bm, 2H),1.55-1.18(bm,7H);MS(イオンスプレイ)m/e422(M+H)+ 実施例49:(±)-3-(4-メトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニ ルヘプタン酸ヒドロキシアミド (E)-エチル2-メチル-7-フェニルヘプト-2-エノエート トリエチル-2-ホスホノプロピオネート(12g,50mM)および5-フェニルペンタナ ール(7g,43mM)を無水THF(100ml)に溶解し、10℃に冷却する。ナトリウムエトキ シドのエタノール溶液(23ml,21%,43mM)を20分間かけて徐々に添加し、この反 応系を23℃に加温する。1時間攪拌した後、この反応を、飽和NH4Cl溶液(30ml) の添加により停止させる。この反応系を真空下で濃縮して該THFを除去し、石油 エーテル(400ml)で希釈し、1N HCl(100ml)、H2O(100ml)、NaHCO3(100ml)および 塩水(100ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)する。この溶液を真空下で濃縮し、2%エーテ ル/石油エーテルを溶出液として使用した、シリカゲルのプラグ(plug)を介して 濾過することにより精製して、(E)-エチル2-メチル-7-フェニルヘプト-2-エノエ ート(8.9g,84%)を得る。これは少量(10%)のZ-異性体を含有する:1H NMR(300 M Hz,CDCl3):δ:7.29-7.23(m,2H),7.19-7.14(m,3H),6.75(dt,J=15.5,1.5 Hz,1H),4.18(q,J=7.1Hz,2H),2.62(t,J=7.5Hz,2H),2.18 (q,J=7.0Hz,2H),1.81(s,3H),1.70-1.59(m,2H),1.54-1.42(m,2H),1.28( t,J=7.1Hz,3H);MS(FAB),m/e 247(M+H)+ 工程B:(E)-2-メチル-7-フェニルヘプト-2-エン酸 水酸化ナトリウム(1.4g,35mM)を、(E)-エチル2-メチル-7-フェニルヘプト-2- エノエート(8.6g,35mM)のMeOH(40ml)および水(2 ml)溶液に、0℃にて溶解する 。この反応系を23℃にて2時間攪拌し、次いで50℃にて24時間加熱する。冷却後 、この反応系を真空下で濃縮し、2N HCl(15ml)とCH2Cl2(60ml)との間で分配させ る。得られる水性相をCH2Cl2(2x30ml)で逆抽出し、得られる有機相を併合し、乾 燥(MgSO4)する。この溶液を真空下で濃縮し、勾配溶出クロマトグラフィー(シ リカ,20-40%のエーテルの石油エーテル溶液)により精製して、(E)-2-メチル-7 -フェニルヘプト-2-エン酸(4.9g,65%)を得る: 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ: 7.30-7.23(m,2H),7.20-7.14(m,3H),6.90(dt,J=15.4,1.3Hz,1H),2.62(t ,J:7.5Hz,2H),2.22(q,J=7.0Hz,2H),1.81(s,3H),1.69-1.58(m,2H),1.5 5-1.43(m,2H);MS(FAB),m/e 219(M+H)+ 工程C:(±)-3-(4-メトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニル ヘプタン酸 (E)-2-メチル-7-フェニルヘプト-2-エン酸(2.2g,10mM)、4-メトキシベンゼン チオール(2.8g,20mM)およびピペリジン(0.1ml,1mM)を併合し、85℃にて12時間 加熱する。この反応系を冷却し、かつ勾配溶出クロマトグラフィー(シリカ,35 -100% のエーテルの石油エーテル溶液)により精製して、(±)-3-(4-メトキシフ ェニルスルファニル)-2-メチル-7-フェニルヘプタン酸(0.9g,25%)を、50/50ジ アステレオマー混合物として得る: 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.39-7.34(m ,2H),7.29-7.25(m,2H),7.20-7.11(m,3H),6.81(m,2H),3.79(s,1.5H),3 .78(s,1.5H),3.30-3.16 (m,1H),2.70-2.54((m,3H),1.72-1.40(m,6H),1. 28(d,J=7.0Hz,1.5H),1.22(d,J=7.0Hz,1.5H);MS(FAB),m/e 359(M+H)+ 工程D:(±)-3-(4- メトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニル ヘプタン酸ヒドロキシアミド (±)-3-(4- メトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン 酸(0.38g,1.1mM)をCH2Cl2(1ml)に溶解し、0℃に冷却する。オキサリルクロ リドのCH。Cl2溶液(0.7ml,1.4mM)を滴下し、該浴を取り外し、この反応系を加 温し、23℃にて3時間攪拌する。次いで、この反応系を真空下で濃縮し、CHCI2 と共に共沸させる。得られる油状物をCH2Cl2(3ml)に溶解し、0℃に冷却し、O- (トリメチルシリル)ヒドロキシラミン(0.4ml,3.4mM)を滴添する。該浴を取り 外し、該反応系を20℃に加温する。次いで、この反応系をCH2Cl2(20ml)と1N HCl (10ml)との間で分配させる。次いで、得られる有機相を分離し、水(10ml)で洗浄 し、乾燥(MgSO4)し、真空下で濃縮して、(±)-3-(4- メトキシフェニルスルフ ァニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド(0.37g,90%)を得る 。これを更に精製することなく使用する: 1H NMR(300 MHz,CDCl3):δ:7.30-7.1 8(m,4H),7.14-7.07(m,3H),7.80-7.73(m,2H),3.73(s,1.5H),3.72(s,1.5 H),3.12-3.06(m,0.5H),2.97-2.90((m,0.5H),2.53(m,2H),2.32-2.19(m, 1H),1.68-1.25(m,6H),1.16(d,J=7.0Hz,1.5H),1.11(d,J=7.0Hz,1.5H);MS( FAB),M/e 374(M+H)+ 工程E:(±)-3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7- フェニル ヘプタン酸ヒドロキシアミド (±)-3-(4- メトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン 酸ヒドロキシアミド(0.37g,1.1mM)のMeOH(10ml)溶液を0℃に冷却し、オキソン (1.2g,1.9mM)の水(8 m1)溶液を10分間かけて滴下する。該浴を取り外し、該反 応系を20℃に昇温し、16時間攪拌する。次いで、この混合物をCH2Cl2(70ml)と水 (50ml)との間で分配させる。該水性相を逆抽出(2x20ml)し、有機画分を併合し、 塩水で洗浄し、乾燥(MgSO4)する。この溶液を真空下で濃縮し、CH3CN/0.1% TFA を使用した逆相HPLCで精製して、(±)-3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-2- メチル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド(0.35g,79%)を得る:MS(FAB),m /e 406(M+H)+。これらのジアステレオマーを、MeOH/0.2%TFAを使用した逆相 HPLCにより分離して、迅速溶出異性体:3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2− メチル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド(15mg):1H NMR(300 MHz,DMSO): δ: 10.60(s,1H),8.88(bs,1H),7.76(d,J=8.7Hz,2H),7.24(t,J=7.7Hz,2H ),7.16-7.12(m,3H),7.06(d,J=7.0Hz,2H),3.85(s,3H),3.34-3.27(m,1H), 2.65-2.58((m,1H),2.40-2.31(m,2H),1.62-1.05(m,6H),1.19(d,J=6.9Hz, 3H);および緩慢溶出異性体:3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7-フ ェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド(60mg):1HNMR(300 MHz,DMSO):δ:10.57(s, 1H),8.75(bs,1H),7.76(d,J=8.6Hz,2H),7.24(t,J=7.7HZ,2H),7.16-7.13 (m,3H),7.06(d,J=7.0Hz,2H),3.85(s,3H),3.43-3.38(m,1H),2.88-2.83(( m,1H),2.42-2.35(m,2H),1.75-1.67(m,2H),1.41-1.30(m,2H),1.23-1.10( m,2H),1.06(d,J=7.1Hz,3H) 実施例50:4-(2',4'- ジメトキシフェニル-O- メチルヒドロキシラミン)フェ ノキシメチル−コポリ(スチレン-1%-ジビニルベンゼン)-樹脂(100 -200メッシュ) リンク(Rink)酸樹脂(1g,0.63mM)を周囲温度にて、DMF(10ml)により15分間膨 潤させる。N-ヒドロキシフタルイミド(514mg,3.15mM)を、該樹脂懸濁液に添加 し、次いでベンゼンスルホン酸(19mg,0.13mM)を添加する。この混合物を機械的 攪拌装置により攪拌し、50℃にて5時間加熱する。次に、この混合物を周囲温度 まで冷却し、更に12時間攪拌し、その後該樹脂を濾別し、DMF(5x2ml)、DMF:H2O( 70:30; 5x25ml)、THF(10x25ml)およびジエチルエーテル(10x25ml)で強く洗浄す る。次に、該樹脂を40℃にて高真空下で一夜乾燥する。樹脂IIのIRスぺクトルは 、フタルイミドカルボニルの伸縮に対応する、1733cm-1にカルボニルの吸収を示 す。%Nに基づく元素分析は0.26:0.28(計算値)であることを示した(付加率=0. 18mM/g)。ベンゼンスルホン酸の代わりにカンファースルホン酸を使用して、も う一つの手順を以下のように実施する(1734cm-1にカルボニル伸縮を観測)。 該樹脂を10分間t-ブタノール20mlで膨潤させる。ヒドラジンハイドレート(10m l)を、該混合物に添加し、この反応系を機械的に攪拌しつつ12時間60℃に加温す る。その後この反応系を周囲温度まで冷却する。該樹脂を濾別し、DMF(10x25ml) 、THF(10x25ml)およびジエチルエーテル(10x25ml)で強く洗浄し、次いで40℃に て高真空下で一夜乾燥する。樹脂IIIのIRスペクトルは、出発物質中に存在する1 733cm-1にカルボニルの伸縮吸収を示さなかった。%Nに基づく元素分析は0.43:0. 42(付加レベルO.3mM/gに相当)(カンファースルホン酸を合成で使用)であること を示した。%Nは0.57; 0.54(付加率0.38mM/gに相当)。 実施例51: 3-(4- メトキシフェニルスルホニル)プロピオン酸の、樹脂IIIとのカ ップリング 樹脂III 200mgをDMF(3ml)で膨潤する。この懸濁液に、3-(4- メトキシフェニ ルスルホニル)プロピオン酸(610mg,2.5mM)および1-(3- ジメチルアミノプロピ ル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩(EDCl; 477mg,2.5mM)を、周囲温度にて添加 する。この反応混合物を渦流振盪器を使用して、12時間周囲温度にて振盪し、そ の後該樹脂を濾別し、かつDMF:H2O(80:20; 5x5ml)、DMF(5x5ml)、THF(5x5ml)お よびジエチルエーテル(5x5ml)で強く洗浄する。この樹脂IVを40℃にて12時間高 真空下で乾燥する。そのIRスペクトルは、該結合したヒドロキサメートに対応す る、1675cm-1におけるカルボニル吸収を示す。 実施例52:樹脂IVからのヒドロキサム酸の開裂 樹脂IV(200 mg)を、3 mlの塩化メチレンで10分間膨潤する。トリフルオロ酢 酸(TFA; 0.3ml)を、該混合物に周囲温度にて滴下し、得られる混合物を30分間攪 拌する。この樹脂は、該TFA の添加の際に暗青色に変わった。次いで、この混合 物を濾過し、塩化メチレン5mlづつで2回洗浄する。得られる濾液をロータリー エバポレーターで蒸発させて、20mgの粗生成物を得る。この粗反応混合物のLC/M Sトレースはこれが75面積%以上の所定の生成物(3-(4−メトキシフェニルスルホ ニル)プロピオン酸が6面積%で存在)を含むことを示す:1H NMR(Me0H-d4):2.45( t,2H),3.45(t,2H),3.90(s,3H),7.15(d,2H),7.85(d,2H)。 実施例53:4-O-メチルヒドロキシラミン)フェノキシメチルコポリ(スチレン -1%-ジビニルベンゼン)-樹脂(100-200メッシュ)の合成 11のジャケットを備えた、底部のバルブとオーバーヘッドスターラーをもつ反 応器(エース(Ace)カタログ#8090)に、ワン(Wang)樹脂(18.35g,20meq)およびテ トラヒドロフラン(THF,450ml)を投入する。この混合物を約15分間穏やかに攪拌 し、次いでできる限り、多孔質ガラスフリットを備えたチューブを介して、真空 吸引器により除去する。新たなTHF を添加し、次いでトリフェニルホスフィン(1 5.74g,60mM)およびN-ヒドロキシフタルイミド(16.31g,100mM)を添加する。得 られる混合物を攪拌し、-5〜0℃に冷却する。ジイソプロピルアゾジカルボキシ レート(11.8ml,60mM)を、温度を<5℃に維持するように、徐々に添加する。この 添加が完了したら、該攪拌した混合物を徐々に室温まで昇温させ、一夜攪拌する 。上記のような浸漬チューブを介して吸引することにより、反応液をできる限り 除去する。該樹脂を、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF,20ml)を投入することによ り洗浄し、該混合物を3-5 分攪拌し、次いで吸引によって可能な限りの洗液を除 去する。同様に、該樹脂を周期的に、追加部分のDMF およびメタノール(2回) 、THF(2回)およびメタノール(1回)で洗浄する。該樹脂の一部を分析の目的 で取り出す: IR 1734cm-1(C=O)。 該反応器内に残された該樹脂に、THF(400ml)および200 mlの、メチルアミン( 2.31M)の40% 水性溶液を添加する。この反応混合物を、40℃にて2時間穏やか に攪拌し、次いで室温まで冷却(この混合物をこの温度に一夜維持することがで きる)する。吸引により、可能な限りの反応液を除去し、該樹脂を上記のような 溶媒列で洗浄する。最後のメタノール洗浄に引き続き、追加のメタノールを使用 して、該樹脂を該反応器の底部からフラッシングし、これを濾過により単離する 。この濾過した樹脂を真空下で、NMT 40℃にて乾燥する。収量18-18.5g樹脂:ア ミン付加率1.02meq/g(p-トルエンスルホン酸によるTHF の電位差滴定に基づく); IR(微量)3316cm-1(w,-NH2)。元素分析によりC,87.07%; H,7.77%; N,1.58% であることが分かり、これは1.13窒素原子/g樹脂に相当する。 樹脂の検定 4-ニトロフェニルエタンヒドロキサム酸の調製:200 mgの該乾燥した樹脂のサ ンプル(約0.2mM)を、5-または10-ml の樹脂反応器(ポリプロピレンフリットを 備えたポリプロピレンシリンジバーレル)に投入する。この樹脂を無水DMF で約 15分間膨潤させ、次いで115 mgの1-(3- ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカル ボジイミド塩酸塩(EDCl,0.6mM)を添加する。次に、この混合物に、4-ニトロフ ェニル酢酸(115mg,0.6mM)を添加する。この反応器にキャップを施し、該混合物 を一夜ゆっくりと攪拌する(ロッカーベッド装置を使用)。この反応液を真空濾 過(該樹脂反応器は小さなゴム製の真空フラスコアダプタを介して挿入する)し て除去し、該樹脂を数部分(2-3ml)の以下の溶媒で洗浄する。即ち、DMF(4-5 部 分)、MeOHまたは50% 水性DMF(3-4 部分)、THF(3-4 部分)およびMe0H(2-3部分) 。この樹脂(依然としてシリンジ反応器内にある)を、NMT 40℃にて真空下で、 少なくとも4時間乾燥する。 この乾燥した樹脂に、2 mlのジクロロメタン(DCM)、次いで2 mlのトリフロロ 酢酸(TFA)を添加する。更に、20mlの水を添加する(ヒドロキサム酸生成物から の「無水物」の形成を減ずると考えられる)。この混合物を約1時間反応させ、 この反応液を、風袋の分かっているコレクタにあける。この樹脂を1-21mlづつの DCM で、次に1-21mlづつのトルエンで洗浄する。この併合した濾液をNMT 30℃に て約2 mlまで濃縮し、追加のトルエン2 mlを添加し、得られる溶液を真空下で濃 縮乾固する(ロータリーエバポレーター、次いでNMT 30℃にて真空オーブンで、 TFA の存在下での加熱は該「無水物」不純物の形成を促進することに注意)。得 られる残渣を秤量し、重量%純度について分析する(標準応答因子(responsefac tor)としてカルボン酸を使用する)。4-ニトロフェニルエタンヒドロキサム酸に 関する典型的な結果:60-70wt%純度において29-30 mgの固形分;90-97A% 純度(2 61 nm):1H NMR(CD3,OD)δ:8.13(d,2H),7.25(d,2H),4.85(bs,0H,NH),3.55(s ,2H);13C NMRδ:169.4,144.3,131.3,124.6,40.2。これは、1 meq/gにおけ る、樹脂からの50-55%なる付加/クリップ(load/clip)化学収率を反映する。 実施例54:ワン(Wang)樹脂の合成 工程A ワン樹脂(20g,15mM)を300 mlの無水DMF で15分間膨潤する。次いで、ジエチ ルホスホノ酢酸(8.83g,45mM)のDMF(50ml)溶液を、次いでピリジン(7.12g, 90mM)および2,6-ジクロロベンゾイルクロリド(9.4g,45mM)を添加する。得られ る混合物を室温にて20時間攪拌する。該樹脂を濾別し、連続的にDMF(3x)、H2O(3 x)、DMF(3x)、THF(10x)およびEt2O(10x)で洗浄し、次に40℃にて20時間真空下で 乾燥する。 IR(微量)ν(C=0)1738cm-1 工程B 工程Aの該投入樹脂(1g,0.75mM)を無水THF(10ml)で15分間膨潤させ、次いで カリウムビス(トリメチルシリル)アミドの0.5Mトルエン(4ml)溶液をO℃にて添 加する。この混合物を室温まで昇温させ、30分間振盪する。次いで、該溶媒を該 樹脂の上部から排液し、次いで無水シクロヘキサン(10ml)およびイソバレルアル デヒド(0.17g,2mM)を添加する。この混合物を約72時間振盪し、工程Aにおける ように処理する。 IR(微量)ν(C=O)1718cm-1 工程C 3,4-ジメトキシベンゼンチオール(11.9g,70mM)の無水THF(54.4ml)溶液に、0 ℃にて、2.5Mのn-ブチルリチウム(5.6ml,14mM)の溶液を添加し、この溶液を室 温にて15分間攪拌する。 該工程Bからの該樹脂(0.25g,0.19mM)を無水THF(2.5ml)で15分間膨潤させ、4 mlの上で調製した1Nチオール/チオレート母液を添加する。この混合物を約100 時問振盪し、工程Aにおけるように処理する。 IR(微量)ν(C=O)1732cm-1 工程D 工程3からの樹脂(0.25g,0.19mM)を、1,4-ジオキサン(5ml)で15分間膨潤させ 、m-クロロパーオキシ安息香酸(0.44g,2.5mM)の1,4-ジオキサン(2ml)溶液を添 加する。この混合物を16時間振盪し、工程Aにおけるように処理する。 工程E 工程Dからの樹脂(0.25g,0.19mM)を、1:1 ジクロロメタン/トリフロロ酢酸 (3ml)で1-2 時間処理する。この樹脂を濾過し、ジクロロメタン(2x1ml)で洗浄 する。併合した濾液を真空下で濃縮して、3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニ ル)-5-メチルヘキサン酸(9.8mg)を得る。 1H NMR(300MHz,CDCl3)δ:0.85(d,3H),0.92(d,3H),1.4(m,1H),1.6-1.8(m ,2H),2.55(dd,1H),2.9(dd,1H),3.65(m,1H),3.92(s,3H),3.95(s,3H),7. 0(d,1H),7.32(s,1H),7.5(d,1H) MS(APCI;ループ)m/z 348(M+NH4)+,331(M+H)+ 工程F 該ヒドロキシルアミン結合ワン樹脂(50mg,0.037mM)を、無水DMF(1ml)で15分 間膨潤させ、次いで1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩 酸塩(30mg,0.16mM)、および工程Eからの該カルボン酸の無水DMF(1ml)溶液を添 加する。この混合物を20時間振盪し、工程Aにおけるように処理する。 工程G 工程Fからの該樹脂を1:1 ジクロロメタン/トリフロロ酢酸(2ml)で1.5 時問 処理する。この樹脂を濾過し、ジクロロメタン(2x1ml)で洗浄する。併合した濾 液を真空下で濃縮して、3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-メチルヘキ サン酸ヒドロキシアミン(9.8mg)を得る。 MS(H-isp;LCMS)m/z 363(M+NH4)+,346(M+H)+ 以下のヒドロキサム酸化合物を、適当な出発物質を使用し、本実施例の工程に 従って合成する。 5-(4- ブトキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ペンタン酸ヒ ドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 466(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘキサン酸ヒドロキシアミド: MS(H-isp:LCMSm/z 332(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド :MS(H-isp;LCMS)m/z 332(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-メチルヘキサン酸ヒドロキシアミド :MS(H-isp;LCMS)m/z 346(M+H)+ 3-(3- ベンジルオキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒ ドロキシプロピオンアミド:MS(H-isp;LCMS)m/z 472(M+H)+ 3-(2- ベンジルオキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒ ドロキシプロピオンアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 472(M+H)+ 3-(3- ベンジルオキシ-4-メトキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスル ホニル)-N-ヒドロキシプロピオンアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 502(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシ-3-(3-フェノキシフェニ ル)プロピオンアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 458(M+H)+ 3-(3-(4-クロロフェノキシ)フェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル) -N-ヒドロキシプロピオンアミド:MS(H-isp;LCMS)m/z 492(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシ-3-(3-(4- メトキシフェ ノキシ)フェニル)プロピオンアミド:MS(H-isp;LCMS)m/z 488(M+H)+ 2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-メチル]-4-メチ ルペンタン酸(16mg)を介して、2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼ ンスルホニル)-メチル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド:1H NMR(300MHz , CDCl3)δ:0.9-1.1(2xd,6H),1.6(m,1H),1.9(m,1H),2.35(m,1H),3.55(s, 3H),3.7(m,1H),3.9(s,3H),4.3(d,1H),6.6-7.5(一連のm,12H);MS(APCI; LC MS)m/z 500(M+NH4)+,483(M+H)+;は2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメト キシベンゼンスルホニル)-メチル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド(4.9mg )を生成:MS(APCI;LCMS)m/z 515(MNH4)+,498(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチル]-N- ヒドロキシ-4-(2-メトキシエトキシ)ブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z560(M+H )+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチル]-N- ヒドロキシブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 486(M+H)+ 4-ベンゼンスルホニル-2-[ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホ ニル)-メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド:MS(isp;ループ)m/z 610(M+H)+2- 〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-メチル]-N-ヒドロ キシ-4- フェニルブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 546(M+H)+ 2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-メチル]-N-ヒド ロキシ-4-(2-メトキシエトキシ)ブチルアミド:MS(isp;ループ)m/z 544(M+H)+ 2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-メチル]-N-ヒド ロキシブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 470(M+H)+ 2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-メチル]-4-メチ ルペンタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 498(M+H)+ 2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-メチル]-N-ヒド ロキシ-3- メチルブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 484(M+H)+ 2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-メチル]-7-フェ ニルヘプタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 588(M+H)+ 2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-メチル]-5-フェ ニルペンタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 560(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチル]-N- ヒドロキシ-3- メチルブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 500(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチル]-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 604(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-エチルヘキサン酸ヒドロキシアミド :MS(APCI; LCMS)m/z 360(M+H)+:工程Cの改良法。反応温度:60℃;反応時間: 2 x20時間 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-(3- フェニルプロピル)ヘキサン酸 ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 450(M+H)+:工程Cの改良法。反応温度: 60℃; 反応時間: 2x20時間 2-[(3-ベンジルオキシフェニル)-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル] -5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI;ループ)m/z 590(M+H)+:工 程Cの改良法。反応温度: 60℃; 反応時間: 2x20時間 実施例55: リンク樹脂の合成 工程A 該ヒドロキシアミン結合リンク樹脂(0.1g,0.031mM)を無水DMF(1ml)で15分間 膨潤させ、次いで1-(3- ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸 塩(30mg,0.16mM)および無水DMF 1 ml中の、実施例54の工程A-E におけるよう に調製した適当なカルボン酸の溶液を添加する。この混合物を20時間振盪し、実 施例54の工程Aに記載のように処理する。 工程B 該工程Aからの樹脂(0.1g,0.031mM)を、9:1 ジクロロメタン/トリフロロ酢 酸(2ml)で1時間処理する。この樹脂を濾別し、ジクロロメタン(2x1ml)で洗浄す る。併合した濾液を真空下で濃縮して、以下のヒドロキサム酸を得る: N-[2-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-ヒドロキシカルバモイルプロピル ]-N-メチルベンズアミド:MS(APCI;ループ)m/z 437(M+H)+ N-[2-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-ヒドロキシカルバモイルブチル] -N-メチルベンズアミド:MS(APCI;ループ)m/z 451(M+H)+ メチル−フェニル−カルバミン酸3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-ヒ ドロキシカルバモイルブチルエステル:MS(APCI;ループ)m/z 452(M+H)+-15[3 -(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-ヒドロキシカルバモイルブチル]メチ ルカルバミン酸ベンジルエステル:MS(APCI;ループ)m/z 481(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘキサン二酸-1- ヒドロキシアミド-6 -(メチルフェニルアミド):MS(APCI;ループ)m/z 451(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘプタン二酸-1- ヒドロキシアミド-7 -(メチルフェニルアミド):MS(APCI;ループ)m/z 465(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-6-(1,3- ジオキソ-1,3- ジヒドロイソ インドール-2- イル)ヘキサン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI;ループ)m/z 477 (M+H)+ 7-(3,4- ジヒドロ-2H-キノリン-1-イル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニ ル)-7-オキソヘプタン酸ヒドロキサミド:MS(APCI;ループ)m/z 491(M+H)+ 7-(3,4- ジヒドロ-2H-キノリン-1-イル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニ ル)-6-オキソヘキサン酸ヒドロキサミド:MS(APCI;ループ)m/z 477(M+H)+ 7-ベンゾ(1,3).ジオキソール-5-イル-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘ プタン酸ヒドロキサミド:MS(APCI;ループ)m/z 466(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-(チエン-3- イル)-N-ヒドロキシプ ロピオンアミド:MS(APCI;ループ)m/z 372(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミ ド:MS(APCI;ループ)m/z 394(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-(3- フェノキシフェニル)ペンタン 酸ヒドロキシアミド:MS(APCI;ループ)m/z 486(M+H)+ 5-(4- ベンジルオキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ペン タン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI;ループ)m/z 500(M+H)+ 実施例56:付加樹脂を主体とする合成 工程A ワン樹脂(2g,1.5mM)をDMF(20ml)で15分間膨潤させる。次いで、該ホスホノ酢 酸のDMF(1.13g,4.5mM)溶液を添加し、次にピリジン(0.71g,9mM)および2,6-ジ クロロベンゾイルクロリド(0.94g,4.5mM)を添加する。この混合物を室温にて20 時間攪拌する。該樹脂を濾別し、連続的にDMF(3x)、H2O(3x)、DMF(3x)、 THF(10x)およびEt2O(10x)で洗浄し、次いで真空下で40℃にて20時間乾燥する。 IR(微量)ν(C=O)1730cm-1 工程B 工程Aからの処理樹脂(0.5g,0.375mM)を、無水THF(5ml)で15分間膨潤させ、 次いで0℃にて、カリウムビス(トリメチルシリル)アミドをトルエン(2ml)に 溶解した0.5M溶液を添加する。この混合物を室温まで昇温させ、30分間振盪する 。該溶媒を該樹脂の上部から排液し、次いで無水シクロヘキサン(10ml)および該 アルデヒド(0.25g,1mM)を添加する。該混合物を約72時間振盪し、かつ工程Aに 記載のように処理する。 IR(微量)ν(C=O)1704cm-1 工程C 3,4-ジメトキシベンゼンチオール(11.9g,70mM)の無水THF(54.4ml)溶液に、0 ℃にて2.5Mのn-ブチルリチウム(5.6ml,14mM)の溶液を添加し、この溶液を室温 にて15分間攪拌する。 工程2からの該樹脂(0.2g,0.15mM)を無水THF(2.5ml)で15分間膨潤させ、4ml の上で調製した1Nチオール/チオレート母液を添加する。この混合物を約100 時 間振盪し、工程1のように処理する。該チオール溶液は、IRスペクトル(ν(C= O)1703cm-1)により証拠付けられるように、完了しなかった。この反応を、上 記手順を2回繰り返すことにより完了させる。 IR(微量)ν(C=O)1731cm-1 工程D 工程Cからの樹脂(0.2g,0.15mM)をジオキサン(5ml)で15分間膨潤させ、m-ク ロロパーオキシ安息香酸(0.44g,2.5mM)のジオキサン(2 ml)溶液を添加する。こ の混合物を16時間振盪し、かつ上記工程1のように処理する。 工程E 工程Dの樹脂(0.2g,0.15mM)を、1:1 ジクロロメタン/トリフロロ酢酸(3ml) で1-2 時間処理する。この樹脂を濾別し、ジクロロメタン(2x1ml)で洗浄する。 併合した濾液を真空下で濃縮し、2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニ ル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシフェニル)メチル)]-4-メチルペンタン酸(40 mg)を得る。1 H NMR(300MHz,CDCl3)δ:0.7-1.1(2xd,6H),1.55(m,1H),1.85(m,1H),2.35( m,1H),3.65(s,3H),3.85(s,3H),4.18.(d,1H),4.9(s,2H),6.6-7.4(一連 のm,11H); MS(H-isp;ループ)m/z 548(M+NH,)+,531(M+H)+ 工程F 該ヒドロキシアミン結合リンク樹脂(0.1g,0.031mM)を無水DMF(1ml)で15分間 膨潤させ、次いで1-(3- ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸 塩(20mg,0.1mM)および工程5からのカルボン酸の無水DMF(1ml)溶液を添加する 。この混合物を20時間振盪し、工程Aに記載のように処理する。 工程G 工程Fからの樹脂(0.1g,0.031mM)を9:1 ジクロロメタン/トリフロロ酢酸(2 ml)で1時間処理する。この樹脂を濾別し、ジクロロメタン(2x1ml)で洗浄する 。併合した濾液を真空下で濃縮し、2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4 -(4-フルオロベンジルオキシフェニル)メチル)]月-4- メチルペンタン酸ヒドロ キシアミド(2.3mg)を得る:MS(H-isp;LCMS)m/z 546(M+H)+ 以下のヒドロキサム酸化合物を、適当な出発物質を使用し、かつ本実施例の諸 工程に従って合成する。 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(4-フェニルブチル)ヘ プタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 554(M+H)+ 2-[1-(3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-フェニルペンチル]-N 1-ヒド ロキシ-N 4- メチル-N 4- フェニルサクシンアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 568(M+ ) 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(3-フェニルプロピル) ヘプタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 540(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-イソプロピル-7- フェニルヘプタン 酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 464(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-イソブチル-7- フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 478(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2- プロピルヘプタン酸ヒ ドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 464(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(4-フェニルブチル)ヘ プタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 450(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-[2-(2-メトキシエトキシ)エチル]-7 -フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 524(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-ベンゼンスルホニルエチル-7- フェ ニルヘプタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 590(M+H)+ 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(5-フェニルペンチル) ヘプタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 568(M+H)+ 4-ベンゼンスルホニル-2-[(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオ ロベンジルオキシ)フェニル)メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド:MS(APCI;LCMS )m/z 658(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-N-ヒドロキシ-4- フェニルブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 594(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-N-ヒドロキシ-4-(2-メトキシエトキシ)ブチルアミド:MS(APCI;LC MS)m/z 592(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 518(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]ペンタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 532(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 546( M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-N-ヒドロキシ-3- メチルブチルアミド:MS(APCI; LCMS)m/z 532( M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z636 (M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z608 (M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-N 1-ヒドロキシ-N 4- メチル-N 4- フェニルサクシンイミド: MS(APCI; LCMS)m/z 637(M+H)+ 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル)メチル]-6-フェニルヘキサン酸ヒドロキシアミド:MS(APCI; LCMS)m/z622 (M+H)+ 実施例57:付加樹脂を主体とする合成 工程A ワン樹脂(20g,15mM)を無水DMF(300ml)で15分間膨潤させる。次いで、ジエチ ルホスホノ酢酸(8.83g,45mM)のDMF(50ml)溶液を添加し、次いでピリジン(7.12g ,90mM)および2,6-ジクロロベンゾイルクロリド(9.4g,45mM)を添加する。この 混合物を室温にて20時間攪拌する。該樹脂を濾別し、かつ連続的にDMF(3x)、H2O (3x)、DMF(3x)、THF(10x)およびEt2O(10x)で洗浄し、次に真空下で40℃にて20時 間乾燥する。 IR(微量)ν(C=O)1738cm-1 工程B 該工程Aからの処理樹脂(1g,0.63mM)を無水THF(10ml)で15分間膨潤させ、次 いで1Mのリチウムビス(トリメチルシリル)アミドのTHF(1.6ml,1.57eq.)溶液 を0℃にて添加する。この混合物を室温まで昇温させ、30分間振盪する。次に、 該溶媒を該樹脂の上部から排液し、次に無水シクロヘキサン(10ml)および4-エト キシベンザルデヒド(0.5g,3.3mM)を添加する。該混合物を約72時間振盪する。 次いで、該樹脂を濾別し、かつ連続的にDMF(3x)、H2O(3x)、DMF(3x)、THF(10x) およびEt2O(10x)で洗浄し、次に真空下で40℃にて20時問乾燥する。 IR(微量)ν(C=O)1709cm-1 工程C 4-メトキシベンゼンチオール(0.6ml,5mM)の無水THF(1ml)溶液に、0℃にて、 n-ブチルリチウム(ヘキサン中2.5M; 0.02m1,0.05mM)を添加し、かつこの溶液 を室温にて15分間攪拌する。ポリプロピレンペプチド合成カートリッジを含むこ の工程2からの樹脂(1g,0.63mM)を、無水THF(10ml)で15分間膨潤させる。上で 調製した1Nのチオール/チオレート母液を添加する。この混合物を約100 時間振 盪する。次いで、該樹脂を濾別し、連続的にDMF(3x)、H2O(3x)、DMF(3x)、THF(1 0x)およびEt2O(10x)で洗浄し、次に真空下で40℃にて20時間乾燥する。 IR(微量)ν(C=O)1734cm-1 工程D 工程Cからの樹脂(1g,0.63mM)を、1,4-ジオキサン(5ml)で15分間膨潤させ、m -クロロパーオキシ安息香酸(0.863g,5mM)の1,4-ジオキサン(2ml)溶液を添加す る。この混合物を16時間振盪し、次いで該樹脂を濾別し、連続的にDMF(3x)、H2O (3x)、DMF(3x)、THF(10x)およびEt2O(10x)で洗浄し、次に真空下で40℃にて20時 間乾燥する。 工程E 工程Dの樹脂(1g,0.63mM)を、1:1 ジクロロメタン/トリフロロ酢酸(8ml)で1 -2 時間処理する。この樹脂を濾別し、ジクロロメタン(2x1ml)で洗浄する。併合 した濾液を真空下で濃縮して、3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(エトキ シフェニル)プロピオン酸(84mg; 34%)を得る。1 H NMR(300MHz,CDCl2-d3)δ: 1.42(t,J=9.0Hz,3H),3.08(dd,J=10.8Hz,1H), 3.44(dd,J=7.2Hz,1H),3.86(s,3H),4.02(q,J=9.0Hz,2H),4.54(dd,J=7.1H z,1H),6.72(d,J=12.6Hz,2H),6.82(d,J=12.3Hz,2H),6.98(d,J=12.4Hz, 2H),7.42(d,J=12.3Hz,2H),7.52(bs,1H) MS(H-isp; LCMS);m/z=387(M+Na)+,382(M+NH4)+,365(M+H)+ 工程F 該ヒドロキシアミン結合リンク樹脂(200mg,0.04mM)を無水DMF(1ml)で15分間 膨潤させ、次いで1-(3- ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸 塩(38mg,0.2mM)および工程5からのカルボン酸(84mg,0.2mM)の無水DMF(1ml)溶 液を添加する。この混合物を20時間振盪し。次いで、この樹脂を濾別し、連続的 にDMF(3x)、H2O(3x)、DMF(3x)、THF(10x)およびEt2O(10x)で洗浄し、次に真空下 で40℃にて20時間乾燥する。 工程G 工程Fからの樹脂(200mg,0.04mM)を1:1 ジクロロメタン/トリフロロ酢酸(3m l)で30分間処理する。この樹脂を濾別し、ジ.クロロメタン(2x1ml)で洗浄する。 併合した濾液を真空下で濃縮し、3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- エトキシフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド(9.6mg)を得る: MS(H-isp; LCMS);m/z=402(M+Na)+,380(M+H)+ 以下のヒドロキサム酸化合物を、適当な出発物質を使用し、かつ本実施例の諸 工程に従って合成する。 3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- ビフェニル)プロピオン酸ヒドロキ シアミド:MS(H-isp; LCMS); m/z=412(M+H)+;A%=89%(約220 nm) 実施例3:3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- フェノキシフェニル)プ ロピオン酸ヒドロキシアミド:MS(H-isp; LCMS);m/z=428(M+H)+;A%=75%(約22 0 nm) 実施例4:3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- ベンジルオキシフェニ ル)プロピオン酸ヒドロキシアミド:MS(H-isp; LCMS); m/z=422(M+H)+;A%=60 %(約220 nm) 実施例6:3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- フルオロベンジルオキ シフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド:MS(H-isp; LCMS);m/z=460(M+H)+ ;A%=68%(約220 nm) 実施例7:3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4-(3-トリフルオロメチル フェノキシ)-フェニルプロピオン酸ヒドロキシアミド:MS(H-isp; LCMS); m/z=4 96(M+H)+;A%=74%(約220 nm) 式Iの化合物は有用な薬理活性を呈し、従って薬理組成物に配合して、幾つか の医学的諸疾患に罹った患者の治療に使用される。 より具体的には、本発明の範囲内の化合物は環状AMP ホスホジエステラーゼ阻 害剤、特にタイプIV環状AMP ホスホジエステラーゼ阻害剤である。本発明は、式 Iの化合物および該式Iの化合物を含有する組成物を提供し、これらは、環状AM P ホスホジエステラーゼ、特にタイプIV環状AMP ホスホジエステラーゼの阻害剤 の投与によって改善または予防できる、状態に罹った、または罹りやすい患者の 治療法において使用される。例えば、本発明の範囲内の化合物は、気管支拡張薬 および喘息−予防薬並びにエオジン好性蓄積および好酸球の機能を阻害する薬剤 、例えば炎症性気道疾患、特に可逆性気道障害または喘息の治療のための、およ び疾患性のエオジン好性蓄積を包含する、病因により特徴付けられる、あるいは 該病因をもつその他の疾患および状態の治療のための薬剤として有用である。環 状AMP ホスホジエステラーゼの阻害剤、例えば式Iの化合物の投与によって改善 または予防できる状態のその他の例としては、炎症性諸疾患、例えばアトピー性 皮膚炎、じんま疹、アレルギー性鼻炎、乾癬、リューマチ性関節炎、潰瘍性大腸 炎、クローン病、成人性呼吸器疾患症候群および尿崩症、他の増殖性皮膚疾患、 例えば角化症および種々の型の皮膚炎、大脳代謝阻害に関連する状態、例えば脳 性老化、多重梗塞性痴呆症、老化性痴呆症(アルツハイマー病)、およびパーキ ンソン病に関連する記憶障害、および神経保護(neuroprotectant)活性により改 善される状態、例えば心拍停止、卒中および間欠性跛行を例示できる。 更に、本発明の範囲内の化合物は、腫瘍壊死因子、特にTNF-αの阻害剤でもあ る。従って、本発明は式Iの化合物、および該式Iの化合物を含有する組成物を 提供し、これらはTNF-αの阻害剤の投与によって改善または予防できる、状態に 罹った、または罹りやすい患者の治療法において使用される。例えば、本発明の 範囲内の化合物は炎症性、感染性、免疫性または悪性諸疾患において有用である 。例えば、本発明の化合物は関節炎、リューマチ性関節炎およびその他の関節の 炎症状態、例えばリューマチ性脊椎炎および骨関節炎を包含する、接合部炎症の 治療において有用である。また、本発明の化合物はクローン病、血行力学的ショ ック、乾癬、鬱血性心臓障害、線維性疾患、多発性硬化症、放射線障害、免疫抑 制 性モノクローナル抗体の投与に伴う毒性、例えば0KT3またはCAMPATH-1 および超 毒性肺胞傷害、敗血症症候群、敗血症ショック、グラム陰性敗血症、毒物ショッ ク症候群、急性呼吸窮迫症候群、喘息および他の慢性肺疾患、骨吸収性疾患、再 灌流(reperfusion)傷害、移植片対宿主反応、同種移植片拒絶および癩病の治療 において有用である。更に、本発明の化合物はウイルス感染および寄生虫性感染 等の感染症、例えば脳性マラリア等のマラリア、ミコバクテリア感染、髄膜炎、 感染による熱病および筋痛症、HIV、AIDS、カヘキシー、例えばAIDSまたは癌カ ヘキシーによる二次的なカヘキシーの治療において有用である。 式Iの化合物で治療することのできる状態のもう一つの群は、中枢神経系の疾 患および障害、例えば脳の外傷、虚血、ハンチントン病および遅発性ジスキネジ ーを包含する。 式Iの化合物で治療することのできるその他の疾患状態は、クローン病、潰瘍 性大腸炎、熱病(pyresis)、全身性狼瘡、紅斑、多発性硬化症、タイプI真性糖 尿病、乾癬、ベーチェット病、アナフィラキシー様紫斑腎炎、慢性糸球体腎炎、 炎症性膀胱疾患および白血病を包含する。 本発明の治療法の特定の態様は、喘息の治療である。もう一つの本発明の治療 法の特定の態様は、接合部炎症の治療である。 更に、本発明の範囲内の化合物は、マトリックスメタロプロテイナーゼ(MMPs) 、特にコラーゲナーゼ、ストロメリシン(stromelysin)およびゼラチナーゼ、ま たはSchwartz MA,Van Wart HE,Prog.Med.Chem.,1992,29,pp.271-334に記 載されているものの阻害剤である。従って、本発明は式Iの化合物、および該式 Iの化合物を含有する組成物を提供し、これらはMMP の阻害剤の投与により改善 または予防できる、状態に罹った、または罹りやすい患者の治療法において使用 される。病理的状態、例えば組織破壊、例えばリューマチ性関節炎、骨関節炎、 骨減少症、例えばオステオポローシス、歯周炎、歯肉炎、隔膜性、表皮性または 胃性潰瘍、および腫瘍転移、侵襲または成長の治療または予防は、MMP の阻害剤 により媒介される可能性がある。MMP 阻害剤は、またTNF の生産を阻害し、従っ てTNF の生産または活性を阻害する状態の治療または予防、例えば上記のような 有害量のTNF に関連する疾患状態の治療または予防において有用である。 過度のTNF の生産は、同様にMMP-媒介組織分解により特徴付けられる幾つかの 疾患または状態において注目されているので、MMPsおよびTHF 両者を阻害する化 合物は、これら両メカニズムが関与している疾患または状態の治療または予防に おいて特に有利であり得る。 本発明の更なる特徴によれば、環状AMP ホスホジエステラーゼ、特にタイプIV 環状AMP ホスホジエステラーゼ、またはTNF 特にTNF-α、またはMMP の阻害剤の 投与により改善または予防できる状態、例えば前に記載した諸状態に罹っている 、または罹りやすいヒトまたは動物患者の治療法をも提供する。該方法は、有効 量の式Iの化合物または式Iの該化合物を含有する組成物を、該患者に投与する 工程を含む。ここで「有効量」とは、環状AMP ホスホジエステラーゼおよび/ま たはTNF の阻害において有効な、即ち所定の治療効果を発揮する本発明の化合物 の量を意味する。 本発明において、治療とは予防的治療並びに確定した状態の治療をも包含する ものと理解すベきである。 本発明は、またその範囲に薬理組成物をも含み、該組成物は製薬上許容される 量の、少なくとも1種の式Iの化合物を、製薬上許容される担体または賦形剤と の組み合わせで含有する。 実際に、本発明に従って治療するための化合物または組成物は、任意の適当な 手段、例えば吸入、局所、腸管外、直腸または口腔を介して投与することができ るが、これらは好ましくは経口投与される。 式Iの化合物は、最も適した経路での投与を可能とする剤形で与えられ、また 本発明は、ヒトまたは獣医学で使用するのに適した、本発明の少なくとも1種の 化合物を含有する薬理組成物にも関する。これらの組成物は通常の方法に従って 、1種以上の製薬上許容されるアジュバントまたは賦形剤を使用して調製するこ とができる。該アジュバントは、特に希釈剤、滅菌水性媒体および種々の無毒の 有機溶媒を包含する。本発明の組成物は錠剤、ピル、顆粒剤、粉剤、水性液剤ま たは懸濁剤、注射用溶液、エリキシルまたはシロップ等の剤形で与えることがで き、また甘味料、香味料、着色剤、または安定剤からなる群から選ばれる1種以 上の薬物を、製薬上許容される処方を得る目的で含むことができる。 賦形剤の選択および該賦形剤中の活性物質の含有率は、一般的に該物質の溶解 性および科学的特徴、投与の特定の形式および製薬実務において見られる規定に 従って決定される。賦形剤、例えばラクトース、クエン酸ナトリウム、炭酸カル シウム、燐酸二カルシウムおよび崩壊促進剤、例えば澱粉、アルギン酸およびマ グネシウムステアレート、ラウリル硫酸ナトリウムおよびタルク等の滑剤と組み 合わせた幾つかの複合シリカゲル等が、例えば錠剤の調製のために使用できる。 カプセルの調製のためには、ラクトースおよび高分子量ポリエチレングリコール を使用することが有利である。水性懸濁液を使用する場合、これらは乳化剤また は懸濁を容易にする試薬を含むことができる。希釈剤、例えばスクロース、エタ ノール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロールおよび クロロホルムまたはこれらの混合物を使用することができる。 腸管外投与のためには、食用油、例えばゴマ油、落花生油またはオリーブ油あ るいは水性有機溶媒、例えば水とプロピレングリコール、注射可能な有機エステ ル、例えばエチルオレエート、並びに製薬上許容される塩の滅菌水性溶液中に本 発明の化合物を分散させたエマルション、懸濁液または溶液を使用する。本発明 の化合物の塩の溶液は、特に筋肉内または皮下注射による投与のために特に有用 である。純粋な蒸留水に塩を溶解した溶液をも含む、該水性溶液は、静脈内投与 のために使用できるが、そのpHは調節され、適当に緩衝され、かつ十分な量のグ ルコースまたは塩化ナトリウムにより等張化されており、また加熱、照射および /または精密濾過により滅菌されていることを条件とする。 局所投与用の、本発明の化合物を含有するゲル(水性またはアルコールベース の)、クリームまたは軟膏剤を使用できる。本発明の化合物は、またパッチ形状 で適用するためのゲルまたはマトリックスベースに配合することも可能であり、 これは経皮バリヤーを通して、化合物の制御された放出を可能とする。 吸入による投与のためには、本発明の化合物は、ネブライザーまたは懸濁液も しくは溶液エーロゾルで使用するのに適した、適当な担体中に溶解または懸濁す ることができ、あるいは乾燥粉末吸入剤で使用するための適当な固体担体に吸収 または吸着させることも可能である。 直腸投与用の固体組成物は、公知の方法に従って処方され、少なくとも1種の 式Iの化合物を含有する坐剤を包含する。 本発明の組成物中の活性成分の割合は、変えることができ、適当な用量を達成 するような割合を構成すべきことが必要とされる。明らかに、幾つかの単位投与 剤形をほぼ同時に投与することができる。使用する用量は、医師または資格のあ る医療専門家により決定され、所定の治療効果、投与経路および治療期間および 患者の状態に依存する。成人の場合、該用量は一般的に、吸入に対しては約0.00 1 〜約50、好ましくは約0.001 〜約5mg/kg体重/日、経口投与に対しては、約0. 01〜100、好ましくは0.1 〜70、より好ましくは0.5 〜10mg/kg体重/日、また静 脈内投与に対しては、約0.001 〜約10、好ましくは0.01〜1mg/kg体重/日である 。各特定の場合において、該用量は治療すべき患者に特徴的な因子、例えば年齢 、体重、一般的な健康状態および本発明の化合物の有効性に影響を与える可能性 のあるその他の特徴に従って決定される。 本発明の化合物は、所定の治療効果を得るために必要な頻度で投与できる。幾 人かの患者は、より高いまたはより少量の用量に対して迅速に応答でき、またよ り一層低い持続的用量で十分な場合もあり得る。他の患者については、各特定の 患者の生理的要件に従って、1日当たり1〜4回の用量なる率で、長期間治療す る必要がある可能性がある。一般的に、該活性物質は1日当たり1〜4回経口投 与できる。勿論、他の患者に対しては、1日当たり1または2以上の用量を指示 する必要があろう。 本発明の化合物は、また他の治療薬、例えば環状AMP 産生を促進するb-作用薬 およびPGE2を包含する薬物との組み合わせで使用することも可能である。本発明 は、本発明の化合物と、1以上の上記治療薬物との組み合わせをも包含するもの と理解すべきである。 本発明の範囲内の化合物は、文献に記載されているテストに従って、顕著な薬 理活性を示し、該テスト結果は、ヒトおよび他の哺乳動物における薬理活性と相 関しているものと考えられている。以下の薬理的なインビボおよびインビトロテ スト結果は、本発明の化合物を特徴付けるのに典型的なものである。 インビボおよびインビトロテスト手順 1.(a)PDE IV活性に及ぼす化合物の阻害作用 1.1 モルモットのマクロファージ由来のPDE 調製 この方法は、Turner等によりBr.J.Pharmaco1.,1993,108,p.876に記載さ れている。簡単にいえば、ウマ−血清処理(0.5ml,i.p.)したダンキンハートレ イ(Dunkin Hartley)モルモット(250-400g)の腹腔から、細胞を収穫し、マクロフ ァージを不連続(55%,65%,70% v/v)勾配(パーコル(Percoll))遠心分離により精 製した。洗浄したマクロファージを細胞培養フラスコに適用し、接着させる。こ れらの細胞をハンクス(Hank's)液で洗浄し、該フラスコから掻きだし、遠心分離 処理(1000g)する。上澄を取り出し、使用するまで、該ペレットを-80 ℃にて保 存した。このペレットを、20mMのトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンHCI ,pH7.5、2mMの塩化マグネシウム、1mMのジチオスレイトール、5mMのEDTA、0 .25mMのスクロース、20mMのp-トシル-L- リジンクロロメチルケトン、10mg/mlの ロイペプチンおよび2000U/mlのアプロチニン中でホモジネートする。 1.2 PED 活性の測定 PED 活性は、トンプソン(Thompson)等の2段階放射性同位元素法(Adv.CyclicN ucl.Res.,1979,10 ,p.69)により、マクロファージホモジネート内で測定す る。この反応混合物は20mMのトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンHCl(pH8) 、10mMの塩化マグネシウム、4mMの2-メルカプトエタノール、0.2 mMのエチレン ビス(オキシエチレンニトリロ)テトラ酢酸および0.05mg/mlのウシ血清アルブ ミンを含む。該基質の濃度は1μMである。検査した化合物に対するIC50値(即 ち、基質加水分解の50% 阻害をもたらす濃度)を、濃度−応答カーブ(ここで濃 度範囲は0.01nM〜40μM である)から決定する。 1.3 ヒト血小板由来のPDE の調製 この方法は、R.E.ワイシャー(Weishaar)等(Biochem.Pharmacol.,1986,35, p.787)に記載されている。 1.4 PDE 活性の測定 PDE 活性を、トンプソン(Thompson)等の放射性同位元素法(Adv.Cyclic Nucl. Res.,1979,10,p.69)により測定する。30℃にて30分間のインキュベートに 引き続き、[3H]−グアノシン5'−モノホスフェートを、カチオン交換カラム上で の溶出により、該基質、即ちグアノシン[3H]−グアノシン3':5'-環状モノホスフ ェートから分離し、かつ液体シンチレーションカウンタ(LS 1701,Beckman)、液 体シンチレーションカクテル(フローシント(F1ow Scint)III,Packard)を使用し て測定する。基質の濃度は1μMである。検査した化合物に関する、該IC50の値 (即ち、基質加水分解の50% 阻害をもたらす濃度)は濃度−応答カーブ(ここで 濃度範囲は10-11M〜10-5M である)から決定する。 2.化合物のインビボ気管支拡張作用 2.1 気管支拡張の測定 アンダーウッド(Underwood)等のPulm.Pharmacol.,1992,5,p.203に記載さ れた方法に従って、麻酔したモルモットおよびラットにおけるインビボテストに より、気管支弛緩活性を測定する。該方法においては、ヒスタミン(または他の 痙攣原物質、例えばメタコリンまたはロイコトリエンD4)により誘発される気管 支痙攣に及ぼされる効果が測定される。化合物は痙攣原物質の投与前1時間に経 口投与する。 3.モルモットにおける抗原(オボアルブミン−誘発エオジン好性に及ぼす化 合物のインビボ活性 3.1 動物の処理および好酸球数の測定 雄のダンキンハートレイ(Dunkin Hartley)モルモット(体重200-250g)を、i. p.経路で、水酸化アルミニウムの100mg/ml懸濁液1 ml中の10μgのオボアルブミ ンを使用して感作し、該感作の28日後に、モルモットに化合物を経口投与する。 この手順の23時間後に投与を繰り返し、その60分後にモルモットを、噴霧塩水ま たはオボアルブミン(1% 塩水溶液)で15秒間感作する。この感作の24時間後に、 該モルモットを殺し、その肺臓を温塩水ですすぐ。全および差分細胞数計数を行 う。 4.インビボでのラットにおける抗原−誘発性エオジン好性に対する化合物の阻 害作用 4.1 ラットの処理および好酸球数の測定 体重150-250gの雄ブラウンノルウェイ(Brown Norway)ラットをO、12および21 日に、オボアルブミン(100μg,i.p.)で感作する。ラットに、27-32 日の間の何 れかの日に抗原投与する。該抗原投与の24時間および1時間前に、化合物をラッ トに経口投与する。ラットを、噴霧塩水またはオボアルブミン(1% 塩水溶液)に 30分間暴露することにより、抗原投与する。該抗原投与の24時間後に、該ラット を殺し、その気道を生理塩水溶液ですすぐ。全および差分細胞数計数を行う。 5.ヒト単球によるTNF-αの遊離に及ぼすインビトロ阻害作用 ヒト末梢血単球(PBMs)によるTNF-α産生に及ぼす、化合物の阻害作用を以下の ように検討する。 5.1 血液白血球の調製 血液を正常なドナーから取り出し、デキストランと混合し、赤血球を35分間37 ℃にて沈降させる。白血球を、不連続(18,20 22%)メトリザミド(metrizamide) 勾配を介する遠心処理により分画する。30-40%のPBMsを含有する単核細胞画分 をハンクス液に懸濁し、使用するまで4℃にて保存する。 5.2 TNF-αの測定 PBM に富むメトリザミド画分からの細胞を、沈降させ(200g にて20℃で10分間 )、106PBMs/ml培地にて再懸濁させる。ここで、該培地は1%(v/v)のFCS、50U/ml のペニシリンおよび50 mg/mlのストレプトマイシン(Gibco,UK)を含有するRPMI1 640である。次いで、96ウエルプレートに2x105 細胞/ウエルの密度で適用する 。該培地(200μl)を、全ての非付着細胞を除去すべく交換し、残りの付着したPB Msを一夜(18 時間)インキュベータ内に維持した。抗原投与の1時間前に、該培 地を、テストすべき化合物または薬物賦形剤を含有する培地と交換する。コント ロール処理およびテスト用の化合物は、濃度範囲3x10-10M〜3x10-6M の範囲内に ある。次いで、10ng/ml のLPS(Sigma,UK からのE.コリ055 B5)を含有するまた はこれを含まない培地(50 μl)を添加する。次に、インキュベーションを更に4 時間継続する。細胞上澄を取り出し、-20 ℃で保存する。 細胞上澄中のTNF-αの濃度は標準的なサンドイッチELISA 法を利用して定量す る。ELISA プレート(Costar,UK)を4℃にて一夜、pH 9.9の重炭酸バッファー中 の3 mg/ml のポリクローナル山羊抗−ヒトTNF-α抗体(British Biotechnology, UK)で被覆する。1/500 希釈のウサギポリクローナル抗−ヒトTNF-α抗体(Janss en Biochimicha,ベルギー)を、第二の抗体として使用し、また1/8000希釈のポ リクローナル山羊抗−ウサギIgG ホースラディッシュパーオキシダーゼ(Calbio chem,USA)を検出抗体として使用する。発色を、タイテック(Titek)プ レートリーダーを使用して、450 nmにおける吸光度により測定する。 TNF-αの濃度は、組み換えヒトTNF-α(British Biotechnology,UK)(0.125-8ng /ml)を使用した、標準的カーブから内挿法により算出する。データ(log(濃度) 対log(応答)カーブ)は、マルチカルク(Multicalc)(WallacPharmacia,UK)ソフ トウエアプログラムを使用して、線形回帰により適合させる(p>0.99)。基底TNF- αの濃度は、100pg/ml末満であり、一方で該PBMsのLPS(リポポリサッカライド) 刺激は、TNF-αの濃度を3-10ng/m1 まで増大する。 5.3 結果 本発明の範囲内の化合物は、濃度約0.01nM〜約10μMにおいて、ヒトPBMsから の誘発TNF-αの遊離の阻害を生ずる。 6.覚醒したモルモットにおける、抗原−誘発気管支狭窄に及ぼす、化合物の阻 害作用 6.1 モルモットの感作および抗原−誘発気管支狭窄の測定 雄ダンキンーハ−トレイモルモット(550-700g)を上記のように感作する。比気 道抵抗(SRaw)を、ペンノック(Pennock)等(J.Appl.Physiol.,1979,46,p.399)の 変法を利用して、全身体プレチスモグラフィーにより、覚醒した動物で測定する 。テスト化合物または賦形剤は、抗原投与の24時間および1時間前に経口投与す る。抗原投与の30分前に、該動物にメピラミン(mepyramine)(30mg/kg,i.p.経路 )を注入して、過敏性の虚脱を防止し、該プレチスモグラフィーチャンバーに入 れ、そこでSRawを1分間隔で測定する。次いで、静止SRawを測定する。動物をオ ボアルブミンのエーロゾルで抗原投与し、SRawを、5分毎に、15分に渡り測定す る。 7.インビボでの、麻酔したラットにおいて、抗原−誘発された気管支狭窄に対 する化合物の阻害作用 7.1 ラットの処理および抗原−誘発された気管支狭窄の測定 体重150-250gの雄ブラウンノルウェイラットをO、12および21日にオボアルブ ミン(100μg,i.p.)で感作する。ラットは、27-32 日の間の何れかの日に抗原投 与する。抗原投与の24時間および1時間前に、ラットに化合物を経口投与する。 ラットを麻酔にかけ、呼吸メカニックソフトウエアを使用して、肺機能(気道抵 抗および肺コンプライアンス)の記録を可能とす、る。ラットをi.v.経路でオボ アルブミンで感作し、気道抵抗および肺コンプライアンスにおけるピーク変化を 測定する。 8.LPS-感作マウスにおける血清TNF-α濃度に及ぼす化合物の阻害作用 8.1 動物の処理およびマウスTNF-αの測定 雌Ba1b/cマウス(6-8 週齢、体重20-22g、Charles River,UK)の5匹以上の群 に、p.o.経路で、1.5%(w/v)のカルボキシメチルセルロースに懸濁させた化合物 を投与し、次いで最小時間30分後に、30mgのLPS をi.p.経路で投与する。90分後 に、該動物を二酸化炭素による窒息によって殺し、心臓穿刺によって血液採取す る。血液を4℃にて凝固させ、遠心処理(12,000gで5分間)し、TNF-α分析用の 血清を採取する。TNF-α濃度を、市販品として入手でき、製造業者による推薦に よる、Genzyme(Cat.no.1509.00)のマウスTNF-αELISA キットを使用して測定 する。TNF-αの値は、組み換えマウスTNF-α標準カーブから計算する。 9.雌Balb/cマウスにおける全身性生体利用性;静脈内投与 投与用の頚静脈の露出のための外科手術に引き続き、テスト化合物のジメチル スルホキシド溶液を1mg/kg体重なる用量で添加する。経口投与。 1.5%水性カルボキシメチルセルロース中に分散したテスト化合物の懸濁液を1m g/kg体重なる用量で、ガバージュにより腹部に導入する。i.v.または経口投与に 引き続き、二酸化炭素による窒息後、心臓穿剌により血液を得、各動物に対して 投与後の単一時点において血液を採取する。3匹の動物を各時点において殺す。 血液サンプルは、i.v.および経口投与後の、以下の時点において採取する:5分 (i.v.のみ)、0.25、0.5、1、2、3、4、5.5、7および24時間。対応する血 漿を、各血液サンプルの遠心分離により得る。次いで、該血漿サンプル中の薬物 含有率を、公知の方法によって測定する。 9.1 代謝 (i)マウス肝臓ホモジネートの調製 新鮮なマウスの肝臓をスクロース−燐酸バッファー中でホモジネートする。遠 心分離処理に引き続き、得られる上澄(肝臓ホモジネート)を新鮮な状態で使用 するか、あるいは液体窒素中で1分間凍結し、使用前に -30〜 -40℃にて保存す る。 (ii)化合物とマウス肝臓ホモジネートとのインキュベーション 0.5 m1のマウス肝臓ホモジネートに、水性塩化マグネシウム(1ml,0.15M)、ニ コチンアミド(1ml,0.5M)およびpH 7.4のトリスバッファー(8.5ml,0.1M)の混合 物に8mgのNADPH を転化し、攪拌した混合物からとった0.5 mlを添加する。該化 合物は溶媒10ml中1mg/mlの濃度で添加する。インキュベートは37℃に維持する。 サンプルを0分、5分、10分、20分および30分に採取し、該インキュベートは10 0 mlのアセトニトリルの添加により停止する。このインキュベートサンプル中の 薬物含有率は公知の方法を利用して測定する。 10.ラットにおけるストレプトコッカス細胞壁−誘発関節炎 10.1 S.パイオゲネス(pyogenes)の精製細胞壁の調製 精製S.パイオゲネス細胞壁を、S.パイオゲネスグループA株D-58の対数増殖期 の培養物の細胞ペレットから調製する。全バクテリアを、ガラスビーズと共に粉 砕することによりホモジネートし、粗製細胞壁を遠心処理により集め、引き続き ドデシル硫酸ナトリウムの2%PBS 溶液、次いでPBS で洗浄し、混入しているタン パク質および核酸を除去する。この細胞壁を、超音波処理および分画遠心により 更に精製して、100,0O0gにてペレット化した精製処方物を得る。この物質を滅菌 したPBS に懸濁し、細胞壁の量を、該処方物のラムノース含有率(精製した細胞 壁は28重量%のラムノースを含む)を測定することにより決定する。この物質を 0.22mMフィルタを介して濾過し、関節炎誘発のために使用するまで、4℃にて保 存する。 10.2 関節炎誘発および関節部径の測定 第0日目に、体重140-160gの雌ルイス(Lewis)ラットの、左または右側の脛足 根骨関節内に、関節間分節経路で、精製S.パイオゲネス細胞壁抽出物(10mlの滅 菌塩水中10mg)を注入する。20日目に、尾の側面静脈を介して、精製細胞壁(100 mlの滅菌塩水中100mg)を静脈内注射した。関節部の径を、i.v.注射の直前に、カ リパスを使用して、以前に関節間分節経路で注射された関節部の側面および外側 のくるぶしを横切るように測定し、次いで24日目まで毎日測定する。正味の関節 部の径は、反対側の関節部についての値を差し引くことにより求める。体重も毎 日測定する。化合物または賦形剤は20-23 日に経口ガバージュにより投与する。 典型的には、1群当たり8〜10匹の動物を使用する。各用量に対して、毎日の全 投与量は、ほぼ9 a.m.および3p.m.に与えられる、2つの等価なアリコートに分 割される。MMP 検定 MMP 活性に関する検定は、Knight,C.Grahaln,Wi1lenbrock,Frances &Murp hy,Gillian FEBS.1992,296(3),pp.263-266に記載の方法を幾分改良した方法 により、本質的に保証される。 コラーゲナーゼ(MMP-1):バイオゲネシス(Biogenesis)#5980-0157; 最終濃度 5nM 基質:Mca-Pro-Leu-Gly-Leu-Dpa-Ala-Arg-NH2(BACHEM # M1895); 最終濃 度50nM(DMSO 中6.25mMのアリコートを凍結し、アッセイバッファー 中に62.5μMまで希釈) インキュベート時間:室温にて6時間 ゼラチナーゼ-A(MMP-2): バイオゲネシス(Biogenesis) # 5980-0257; 最終 濃度 2nM 基質:Mca-Pro-Leu-Gly-Leu-Dpa-Ala-Arg-NH2(BACHEM # M1895);最終濃 度25μM(DMSO中6.25mMのアリコートを凍結し、アッセイバッファ ー中に25μM まで希釈) インキュベート時間:室温にて1時間 ストロメリシン(MMP-3): バイオゲネシス(Biogenesis)# 5980-0357; 最終 濃度 2nM 基質:Mca-Arg-Pro-Lys-Pro-Tyr-Ala-Nva-Trp-Met-Lys(Dnp)-NH2(BACHEM # M2105); 最終濃度10μM(DMSO中1.25mMのアリコートを凍結し、アッ セイバッファー中に12.5μM まで希釈) インキュベート時間:室温にて6時間 アッセイバッファー:50mM HEPES,10mMCaCl2,0.1% BRIJ-35,0.2% NaN3, pH 7.O 酵素を、所定の最終濃度よりも11倍高い濃度でアッセイバッファー溶液として 調製し、1mlアリコートとして保存する。活性化:1mlアリコート当たり、50mlの トリプシン(Sigma # T-1426)を、添加(最終濃度10nMを得る)し、37℃にて30分 間インキユベートする。50μlのトリプシンインヒビタ(SIGMA # t-0637)を添加 し、混合し、ペレット化してビーズを除去する。アッセイバッファー中に10倍に 希釈する。 化合物を最終濃度10μMにてテストする(化合物ウエルと同一の濃度で、希釈 DMSOをコントロールに添加すべきである)。 活性は、340 nmにて励起し、400 nmで発光する、サイトフルオール(Cytofluor )蛍光プレートリーダーで測定する。 本発明は、その精神並びにその必須の属性から逸脱することなしに、他の特定 の形態で実施することも可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61P 19/02 A61K 31/00 619A 19/08 619D 25/28 626N 27/16 627H 27/02 627A 29/00 629 31/00 629A 33/06 631 37/00 633F A61K 31/165 637 31/381 31/165 31/4035 31/38 601 31/47 31/40 606 C07C 215/08 31/47 317/44 C07C 215/08 323/60 317/44 323/65 323/60 C07D 209/48 323/65 333/24 C07D 333/24 209/48 Z (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CZ, DE,DK,EE,ES,FI,GB,GE,HU,I L,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LK ,LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK, MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,R U,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,TR ,TT,UA,UG,US,UZ,VN (72)発明者 ナインシュワンダー ケント ダブリュー アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19473 シュウェンクスヴィル クリーク サイド ウェイ 103 (72)発明者 ジューリック スティーヴァン ダブリュ ー アメリカ合衆国 イリノイ州 60048 リ バティーヴィル ピーオーボックス 7704 (72)発明者 マッギーハン ジェラード エム アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19425 チェスター スプリングス スプ リング ハウス ロード 1711 (72)発明者 バーンズ クリストファー ジェイ アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19010 ローズモント モントローズ ア ベニュー 138 ユニット 49 (72)発明者 コンドン スティーヴン エム アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19425 チェスター スプリングス ヴィ レッジ レーン 1453 (72)発明者 モーリセッテト マシュー エム アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19464 ポッツタウン リンダ レーン 1922 (72)発明者 サルヴィーノ ジョゼフ エム アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19473 シュウェンスクヴィル セカンド ストリート 272 (72)発明者 スコーテス アントニー シー アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19406 キング オヴ プラッシャー ベ イドラ ロード 240 (72)発明者 ウルリック ジョン ダブリュー アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19473 シュウェンスクヴィル アスペン ウェイ 62

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 以下の式I: ここで、R1は水素、場合により置換されたアルキル基、場合により置換されたア ルケニル基、場合により置換されたシクロアルキル基、場合により置換されたシ クロアルケニル基、場合により置換されたアリール基、場合により置換されたヘ テロアリール基、場合により置換されたアラルキル基、場合により置換されたヘ テロアラルキル基、場合により置換されたアラルキルオキシアルキル基、場合に より置換されたアリールオキシアルキル基、ヒドロキシ基、場合により置換され たアルコキシ基、場合により置換されたアリールオキシ基、場合により置換され たアラルキルオキシ基、Y3Y4N-、Y1Y2NCO-アルキル基、アリール-SO2Y1N-アルキ ル基、アリールスルファニルアルキル基、アリールスルフィニルアルキル基、ア リールスルホニルアルキル基、シクロカルバモイルアルキル基またはイミドアル キル基であり、 R2、R4、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子または場合により置換され たアルキル基であり、あるいはR4は、場合により置換されたアリール基または場 合により置換されたヘテロアリール基であり、あるいはR2およびR4は、これらが 結合している炭素原子と共に、場合により置換されたシクロアルキル基または場 合により置換されたシクロアルケニル基を形成し、あるいはR1およびR2は、これ らが結合している炭素原子と共に場合により置換されたシクロアルキル基を形成 し、 R3は、場合により置換されたアルキル基、場合により置換されたアルケニル基 、場合により置換されたシクロアルキル基、場合により置換されたシクロアルケ ニ ル基、場合により置換されたアリール基、場合により置換されたヘテロアリール 基、場合により置換されたアラルキル基、場合により置換されたアラルケニル基 、場合により置換されたアラルキニル基、場合により置換されたヘテロアラルキ ル基、場合により置換されたヘテロアラルケニル基、場合により置換されたヘテ ロアラルキニル基、場合により置換されたアルキルオキシアルキル基、場合によ り置換されたアリールオキシアルキル基、場合により置換されたヘテロアリール オキシアルキル基、場合により置換されたアリールオキシアルケニル基、場合に より置換されたヘテロアリールオキシアルケニル基、場合により置換されたアラ ルキルオキシアルキル基、場合により置換されたアラルキルオキシアルケニル基 、場合により置換されたヘテロアラルキルオキシアルキル基、場合により置換さ れたヘテロアラルキルオキシアルケニル基、場合により置換されたシクロアルキ ルオキシ基、場合により置換されたシクロアルキルオキシアルキル基、場合によ り置換されたヘテロサイクリル基、場合により置換されたヘテロサイクリルオキ シアルキル基または場合により置換されたヘテロサイタリルオキシ基、Y3Y4N-ア ルキル基、Y1Y2NCO2- アルキル基、Y1Y2NCO-アルキル基、イミドアルキル基、ま たはR3とR4とは、これらが結合している炭素原子と共に、場合により置換された シクロアルキル基を形成し、あるいはR1およびR2の一方と、R3およびR4の一方と は、これらが結合している炭素原子と共に単結合または場合により置換されたシ クロアルキル基または場合により置換されたシクロアルケニル基を形成し、 Arは、場合により置換されたアリール基または場合により置換されたヘテロア リール基であり、 Y1およびY2は、それぞれ独立に水素原子、場合により置換されたアルキル基、 場合により置換されたアリール基または場合により置換されたアラルキル基、あ るいはY1とY2とはこれらが結合している窒素原子と共に、場合により置換された ヘテロサイクリル基を形成し、 Y3およびY4はそれぞれ独立に、Y1およびY2、または場合により置換されたアシ ル基、場合により置換されたアロイル基、場合により置換されたアラルキルオキ シカルボニル基、場合により置換されたヘテロアラルキルオキシカルボニル基ま たは場合により置換されたアルコキシカルボニル基であり、 nは0、1または2であり、 mは0または1であり、 pは0または1であり、および qは0または1である、 で表される化合物、またはそのN-オキシド、その溶媒和物、その水和物または製 薬上許容されるその塩。 2. R1が水素、場合により置換されたアルキル基、場合により置換されたアル ケニル基、場合により置換されたシクロアルキル基、ヒドロキシ基、Y1Y2N-、ア リールスルファニルアルキル基、アリールスルフィニルアルキル基またはアリー ルスルホニルアルキル基であり、 R2、R4、R5およびR6が、それぞれ独立に、水素原子または場合により置換され たアルキル基であり、あるいはR2およびR4は、これらが結合している炭素原子と 共に、場合により置換されたシクロアルキル基または場合により置換されたシク ロアルケニル基を形成し、あるいはR1およびR2は、これらが結合している炭素原 子と共に場合により置換されたシクロアルキル基を形成し、 R3は、場合により置換されたアルキル基、場合により置換されたアリール基、 場合により置換されたヘテロアリール基、場合により置換されたアラルキル基、 場合により置換されたヘテロアラルキル基、Y3Y4N-アルキル基、Y1Y2NCO2- アル キル基、Y1Y2NCO-アルキル基、イミドアルキル基、またはR3とR4とは、これらが 結合している炭素原子と共に、場合により置換されたシクロアルキル基を形成し 、あるいはR1およびR2の一方と、R3およびR4の一方とは、これらが結合している 炭素原子と共に単結合または場合により置換されたシクロアルキル基または場合 により置換されたシクロアルケニル基を形成し、 Arは、場合により置換されたアリール基または場合により置換されたヘテロア リール基であり、 Y1およびY2は、それぞれ独立に水素原子、場合により置換されたアルキル基、 場合により置換されたアリール基あるいはY1とY2とはこれらが結合している窒素 原子と共に、場合により置換されたヘテロサイクリル基を形成し、かつ Y3およびY4はそれぞれ独立に、Y1およびY2、または場合により置換されたアロ イル基または場合により置換されたアラルキルオキシカルボニル基である 請求の範囲第1項に記載の化合物。 3. R1が場合により置換されたアルキル基、場合により置換されたアルケニル 基場合により置換されたアラルキル基または場合により置換されたヘテロアラル キル基である、請求の範囲第1項に記載の化合物。 4. R1が場合により置換されたアルキル基である、請求の範囲第1項に記載の 化合物。 5. R1がヒドロキシ基である、請求の範囲第1項に記載の化合物。 6. R1が場合により置換されたアルキル基である、請求の範囲第1項に記載の 化合物。 7. R1がY1Y2N-であり、かつY1またはY2が水素原子である、請求の範囲第1項 に記載の化合物。 8. R2が水素原子である、請求の範囲第1項に記載の化合物。 9. R1およびR2が場合により置換されたアルキル基である、請求の範囲第1項 に記載の化合物。 10.R3が場合により置換されたアリール基、場合により置換されたヘテロアリー ル基、場合により置換されたアラルキル基、場合により置換されたヘテロアラル キル基またはY3Y4N-アルキル基である、請求の範囲第1項に記載の化合物。 11.R3が場合により置換されたアラルキル基である、請求の範囲第1項に記載の 化合物。 12.R4が水素原子または場合により置換されたアルキル基である、請求の範囲第 1項に記載の化合物。 13.R4が場合により置換されたアルキル基である、請求の範囲第1項に記載の化 合物。 14.R3とR4とが、これらが結合している炭素原子と共に、場合により置換された シクロアルキル基を形成する、請求の範囲第1項に記載の化合物。 15.Arが場合により置換されたアリール基である、請求の範囲第1項に記載の化 合物。 16.該アリール基が、4-メトキシフェニル基または3,4-ジメトキシフェニル基で ある、請求の範囲第15項に記載の化合物。 17.該アリール基が4-メトキシフェニル基である、請求の範囲第15項に記載の化 合物。 18.該アリール基が3,4-ジメトキシフェニル基である、請求の範囲第15項に記載 の化合物。 19.nが0または2である、請求の範囲第1項に記載の化合物。 20.mが0である、請求の範囲第1項に記載の化合物。 21.qが1である、請求の範囲第1項に記載の化合物。 22.該化合物が、7-フェニル-3- フェニルスルホニルヘプタン酸ヒドロキシアミ ド;7-フェニル-3- フェニルスルファニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(4- アセトアミドフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3- (4- アセトアミドフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミ ド;3-(2- ナフタレニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド; 3-(2- ナフタレニルスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3- (4- メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3- (4- メトキシフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド; 3-(ベンジルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(ベンジル スルファニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メ トキシベンゼンスルホニル)-4-フェニルブチルアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メト キシベンゼンスルファニル)-4-フェニルブチルアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メト キシベンゼンスルホニル)-3-フェニルプロピオンアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メ トキシベンゼンスルファニル)-3-フェニルプロピオンアミド;3-(4-メトキシベ ンゼンスルホニル)-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(4-メトキシベ ンゼンスルホファニル)-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキ シベンゼンスルホニル)-6-フェニルヘキサン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキ シベンゼンスルホファニル)-6-フェニルヘキサン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メ トキシベンゼンスルホニル)-3-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド ;3-(4- メトキシベンゼンスルファニル)-3-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒド ロキシアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スル ファニル-4-(4-ビフェニル)ブチルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフ ェニル)スルファニル-4-(4-フェニルオキシフェニル)ブチルアミド;(±)-N-ヒ ドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルファニル-4-(4-ベンジルオキシフェニル) ブチルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルファニル-4-(4- n-ブチルオキシフェニル)ブチルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェ ニル)スルホニル-4-(4-ビフェニル)ブチルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メ トキシフェニル)スルホニル-4-(4-フェニルオキシフェニル)ブチルアミド;(±) -N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルホニル-4-(4-ベンジルオキシフェニ ル)ブチルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルホニル-4-(4 -n-ブチルオキシフェニル)ブチルアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)- 3-エチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンス ルホニル)-3,7-ジフェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メ トキシベンゼンスルホニル)-3-メチルブチルアミド;N-ヒドロキシ-2-[1-(4- メ トキシベンゼンスルホニル)シクロペンチル〕アセタミド;N-ヒドロキシ-2-[1-( 4- メトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニルシクロヘキシル〕アセタミド;(2R * ,3R * )-2-アミノ-3-(4-メトキシベンゼン)スルホニル-7- フェニルヘプタン 酸ヒドロキシアミド;N-ヒドロキシ-2-[(3,4- ジメトキシフェニル)スルホニル] -6-フェニルヘキサンアミド;(E)-N-ヒドロキシ-3-[(3,4- ジメトキシフェニル) チオ]-7-フェニル-2- ヘプテンアミド;(E)-N-ヒドロキシ-3-[(3,4- ジメトキシ フェニル)スルホニル]-7-フェニル-2- ヘプテンアミド;(Z)-N-ヒドロキシ-3-[( 3,4- ジメトキシフェニル)チオ]-7-フェニル-2- ヘプテンアミド;N-ヒドロキシ -3-(4-メトキシフェニル)チオ-2-(1-プロパン-3- イル)-7-フェニルヘプタンア ミド;N-ヒドロキシ-2-(1-プロパン-3- イル)-3-(4- メトキシフェニル)スルホ ニル-7- フェニルヘプタンアミド;N-ヒドロキシ-2-[(3,4- ジメトキシフェニル )チオ]-3-(3- フェニルプロピル-1- イル)-1-シクロペンテンカルボキシアミド ;N-ヒドロキシ-2-[(3,4- ジメトキシフェニル)スルホニル]-3-(3- フェニルプ ロピル-1- イル)-1-シクロペンテンカルボキシアミド;N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジ メトキシフェニル-7- フェニル-2- ヘプテンアミド;N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメ トキシフェニル-7- フェニルヘ プタンアミド;(-)-(2S,3R)-N-ヒドロキシ-2-(2-ベンゼンスルホニルエチル)-3- (3,4- ジメトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタンアミド;(+)-(2S,3R )-N-ヒドロキシ-2-(2-ベンゼンスルホニルエチル)-3-(3,4- ジメトキシフェニル スルホニル)-7-フェニルヘプタンアミド;(-)-N-ヒドロキシ-2-(2-ベンゼンスル ホニルエチル)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタン アミド;(+)-N-ヒドロキシ-2-(2-ベンゼンスルホニルエチル)-3-(3,4- ジメトキ シフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタンアミド;N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジ メトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニルブチルアミド;N-ヒドロキシ-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-4-フェニルブチルアミド;N-ヒドロキシ-3-( 3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-フェニルプロピオンアミド;N-ヒドロキ シ-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-3-フェニルプロピオンアミド;3- (3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミ ド;3-(3,4- ジメトキシフェニルスルホニル)-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシ アミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-6-フェニルヘキサン酸ヒドロ キシアミド;3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-6-フェニルヘキサン酸 ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-6-フェニルヘキサ ン酸ヒドロキシアミド;3-(R* )-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-(S* )-イソプロピル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシ ベンゼンスルファニル)-2-イソプロピル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミ ド;(+)-(2R,3R)-3-(3,4- ジメトキフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニ ルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(+)-(2R,3R)-3-(3,4- ジメトキフェニルスルホ ニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(+)-(2R,3S)-3-(3,4 - ジメトキフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシ アミド;(+)-(2R,3S)-3-(3,4-ジメトキフェニルスルホニル)-2-メチル-7- フェ ニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;1-[1-(3,4-ジメトキフェニルスルホニル)-5- フェニルペンチル]シクロペンタンカルボン酸ヒドロキシアミド;1-[1-(3,4-ジ メトキフェニルスルファニル)-5-フェニルペンチル]シクロペンタンカルボン酸 ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7- フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7- フェ ニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホフィニル)-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシ フェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4- メチレンジオキシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド;(±)-N-ヒ ドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルフィニル-7- フェニルヘプタンアミ ド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7- フェニル ヘプタンアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルフ ァニル-7- フェニルヘプタンアミド;(-)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェ ニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド;(+)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメ トキシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド;(±)-(2R * ,3R * )- 3(-4- メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フェノキシエチル)ヘプ タン酸ヒドロキシアミド;(±)-(2R * ,3R * )-3-(4- メトキシベンゼンスルホ ニル)-7-フェニル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシア ミド;(2R * ,3R * )-3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フ ェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-(2R * ,3S * )- 3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(ベンゼンスルホニルメチル )ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-(2R * ,3S * )-3-(4- メトキシベンゼンス ルホニル)-7-フェニル-2-(フェニルスルファニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシ アミド;(±)-2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-3-(4- メトキシフェニルスルファ ニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-3-(4- メトキ シベンゼンスルホニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3- (3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-メチルヘキサン酸ヒドロキシアミド; 5-(4- ブトキシフェニル)-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)ペンタン酸ヒ ドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘキサン酸ヒドロキ シアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-メチルペンタン酸ヒドロ キシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-メチルヘキサン酸ヒド ロキシアミド;3-(3- ベンジルオ キシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシプロピオ ンアミド;3-(2- ベンジルオキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホ ニル)-N-ヒドロキシプロピオンアミド;3-(3- ベンジルオキシ-4- メトキシフェ ニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシプロピオンアミド ;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシ-3-(3-フェノキシフェ ニル)プロピオンアミド;3-(3-(4-クロロフェノキシ)フェニル)-3-(3,4- ジメト キシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシプロピオンアミド;3-(3,4- ジメトキシ ベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシ-3-(3-(4- メトキシフェノキシ)フェニル)プ ロピオンアミド;N-[2-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-ヒドロキシカル バモイルプロピル]-N-メチルベンズアミド;N-[2-(3,4-ジメトキシベンゼンスル ホニル)-3-ヒドロキシカルバモイルブチル]-N-メチルベンズアミド;メチル−フ ェニル−カルバミン酸3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-ヒドロキシカ ルバモイルブチルエステル;[3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-ヒドロ キシカルバモイルブチル]メチルカルバミン酸ベンジルエステル;3-(3,4- ジメ トキシベンゼンスルホニル)ヘキサン二酸-1- ヒドロキシアミド-6-(メチルフェ ニルアミド);3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘプタン二酸-1- ヒドロ キシアミド-7-(メチルフェニルアミド);3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニ ル)-6-(1,3- ジオキソ-1,3- ジヒドロイソインドール-2- イル)ヘキサン酸ヒド ロキシアミド;7-(3,4- ジヒドロ-2H-キノリン-1- イル)-3-(3,4- ジメトキシベ ンゼンスルホニル)-7-オキソヘプタン酸ヒドロキシアミド;7-(3,4- ジヒドロ-2 H-キノリン-1- イル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-6-オキソヘキサ ン酸ヒドロキシアミド;7-ベンゾ(1,3)ジオキソール-5- イル-3-(3,4-ジメトキ シベンゼンスルホニル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベン ゼンスルホニル)-3-(チエン-3- イル)-N-ヒドロキシプロピオンアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-( 3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-(3- フェノキシフェニル)ペンタン酸ヒ ドロキシアミド;5-(4- ベンジルオキシフェニル-3-(3,4-ジメトキシベンゼンス ルホニル)ペンタン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニ ル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシフェニ ル]メチル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼ ンスルホニル)-7-フェニル-2-(4-フェニルブチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド ;2-[1-(3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-フェニルフェニル]-N 1-ヒ ドロキシ-N 4- メチル-N 4- フェニルサクシンアミド;3-(3,4- ジメトキシベン ゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(3-フェニルプロピル)ヘプタン酸ヒドロキシア ミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-イソプロピル-7- フェニルヘ プタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-イソブ チル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンス ルホニル)-7-フェニル-2- プロピルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメ トキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(4-フェニルブチル)ヘプタン酸ヒド ロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-[2-(2-メトキシエト キシ)エチル]-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベ ンゼンスルホニル)-2-ベンゼンスルホニルエチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロ キシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(5-フェニ ルペンチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド;4-ベンゼンスルホニル-2-[(3,4-ジメ トキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル〕メチル] -N-ヒドロキシブチルアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4- フルオロベンジルオキシ)フェニル〕メチル]-N-ヒドロキシ-4- フェニルブチル アミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキ シ)フェニル〕メチル]-N-ヒドロキシ-4-(2-メトキシエトキシ)ブチルアミド;2- [(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニ ル〕メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニ ル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル〕メチル〕ペンタン酸ヒドロキシ アミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキ シ)フェニル〕メチル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメト キシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル〕メチル]-N -ヒドロキシ-3- メチルブチルアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル) -[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル〕メチル]-7-フェニルヘプタン酸ヒド ロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4- フルオロベンジルオキシ)フェニル〕メチル]-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシ アミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキ シ)フェニル〕メチル]-N 1-ヒドロキシ-N 4- メチル-N 4- フェニルサクシンイ ミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ )フェニル〕メチル]-6-フェニルヘキサン酸ヒドロキシアミド;2-〔ビフェニル- 4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシ アミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4-フェノキシフェニル)メチ ル]-N-ヒドロキシ-4-(2-メトキシエトキシ)ブチルアミド;2-[(3,4-ジメトキシ ベンゼンスルホニル)-(4-フェノキシフェニル)メチル]-N-ヒドロキシブチルアミ ド;4-ベンゼンスルホニル-2-[ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンス ルホニル)メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-N-ヒドロキシ-4- フェニルブチルアミ ド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-N- ヒドロキシ-4-(2-メトキシエトキシ)ブチルアミド;2-〔ビフェニル-4-イル-(3, 4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド;2-〔ビ フェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-4-メチルペン タン酸ヒドロキシアミド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンス ルホニル)メチル]-N-ヒドロキシ-3- チルブチルアミド;2-〔ビフェニル-4- イ ル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-7-フェニルヘプタン酸ヒドロ キシアミド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メ チル]-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンス ルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチル]-N-ヒドロキシ-3- メチルブチルア ミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチ ル]-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスル ホニル)-2-エチルヘキサン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンス ルホニル)-2-(3- フェニルプロピル)ヘキサン酸ヒドロキシアミド;2-[(3-ベン ジルオキシフェニル)-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-5-フェニ ルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- エ トキシフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキ シベンゼンスルホニル)-3-(4-ビフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド;3-(4 - メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- フェノキシフェニル)プロピオン酸ヒド ロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- ベンジルオキシフェ ニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-( 4- フルオロベンジルオキシフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メ トキシベンゼンスルホニル)-3-(4-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル プロピオン酸ヒドロキシアミド;(+)-3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-7-フ ェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(-)-3-(4- メトキシフェニルスルホニル)- 7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(-)-(2S,3S)-3-(3,4- ジメトキシベン ゼンスルファニル)-2-メチル-7- ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(-)-(2S,3S)-3- (3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7- ヘプタン酸ヒドロキシアミ ド;(-)-(2S,3R)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- ヘプ タン酸ヒドロキシアミド;または(-)-(2S,3R)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスル ホニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲 第1項に記載の化合物。 23.該化合物が、7-フェニル-3- フェニルスルホニルヘプタン酸ヒドロキシアミ ド;7-フェニル-3- フェニルスルファニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(4- アセトアミドフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3- (4- アセトアミドフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミ ド;3-(2- ナフタレニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド; 3-(2- ナフタレニルスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3- (ベンジルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;または3-(ベン ジルスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲 第22項に記載の化合物。 24.該化合物が、3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒ ドロキシアミド;3-(4- メトキシフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニ ルブチルアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルファニル)-4-フェニ ルブチルアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-3-フェニル プロピオンアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルファニル)-3-フェ ニルプロピオンアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-5-フェニルペンタ ン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルファニル)-5-フェニルペン タン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-6-フェニルヘキ サン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルファニル)-6-フェニルヘ キサン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルファニル)- 3-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4- メトキシフェニル)スルファニル-4-(4-ビフェニル)ブチルアミド;(±)-N-ヒド ロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルファニル-4-(4-フェニルオキシフェニル)ブ チルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルファニル-4-(4-ベ ンジルオキシフェニル)ブチルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニ ル)スルファニル-4-(4-n-ブチルオキシフェニル)ブチルアミド;(±)-N-ヒドロ キシ-3-(4-メトキシフェニル)スルホニル-4-(4-ビフェニル)ブチルアミド;(±) -N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルホニル-4-(4-フェニルオキシフェニ ル)ブチルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルホニル-4-(4 -ベンジルオキシフェニル)ブチルアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフ ェニル)スルホニル-4-(4-n-ブチルオキシフェニル)ブチルアミド;3-(4- メトキ シベンゼンスルホニル)-3-エチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3- (4- メトキシベンゼンスルホニル)-3,7-ジフェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド ;N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-3-メチルブチルアミド;N- ヒドロキシ-2-[1-(4- メトキシベンゼンスルホニル)シクロペンチル]アセタミド ;N-ヒドロキシ-2-[1-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニルシクロヘキ シル]アセタミド;(2R * ,3R * )-2-アミノ-3-(4-メトキシベンゼン)スルホニル -7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニ ル)チオ-2-(1-プロパン-3- イル)-7-フェニルヘプタンアミド;N-ヒドロキシ-2- (1-プロパン-3- イル)-3-(4-メトキシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタ ンアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7- フェニルヘプ タン酸ヒドロキシアミド; 3-(4- メトキシベンゼンスルフィニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド ;(±)-(2R * ,3R * )-3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2- フェノキシエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-(2R * ,3R * )-3-(4- メ トキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘ プタン酸ヒドロキシアミド;(2R * ,3R * )-3-(4- メトキシベンゼンスルホニル )-7-フェニル-2-(2-フェニルスルファニルエチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド ;(±)-(2R * ,3S * )-3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(ベ ンゼンスルホニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-(2R* ,3S * )-3-( 4- メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(フェニルスルファニルメチル) ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-2-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスル ホニル)-2-メチル-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-3-(4- メトキ シフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド; (±)-3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒ ドロキシアミド;3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-3-(4- エトキシフエニル )プロピオン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- ビフェニル)プロピオン酸ヒドロキシ;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-( 4- フェノキシフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼ ンスルホニル)-3-(4- ベンジルオキシフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミド ;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- フルオロベンジルオキシフェニル )プロピオン酸ヒドロキシアミド;3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4-(3 -トリフルオロメチルフェノキシ)フェニルプロピオン酸ヒドロキシアミド;(+)- 3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド; または(-)-3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキ シアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合物。 25.該化合物が、N-ヒドロキシ-2-[(3,4- ジメトキシフェニル)スルホニル]-6- フェニルヘキサンアミド;(E)-N-ヒドロキシ-3-[(3,4- ジメトキシフェニル)チ オ]-7-フェニル-2- ヘプタンアミド;(E)-N-ヒドロキシ-3-[(3,4- ジメトキシフ ェニル)スルホニル]-7-フェニル-2- ヘプタンアミド;(Z)-N-ヒドロキシ-3-[(3, 4- ジメトキシフェニル)チオ]-7-フェニル-2- ヘプタンアミド;N-ヒドロキシ-2 -[(3,4- ジメトキシフェニル)チオ]-3-(3- フェニルプロピル-1- イル)-1-シク ロペンテンカルボキサミド;N-ヒドロキシ-2-[(3,4- ジメトキシフェニル)スル ホニル]-3-(3- フェニルプロピル-1- イル)-1-シクロペンテンカルボキサミド; N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)-7-フェニル-2- ヘプタンアミド;N- ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)-7-フェニルヘプタンアミド;(-)-(2S, 3R)-N-ヒドロキシ-2-(2-ベンゼンスルホニルエチル)-3-(3,4- オキシフェニルス ルホニル)-7-フェニルヘプタンアミド;(+)-(2S,3R)-N-ヒドロキシ-2-(2-ベンゼ ンスルホニルエチル)-3-(3,4- オキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン アミド;(-)-N-ヒドロキシ-2-(2-ベンゼンスルホニルエチル)-3-(3,4- オキシフ ェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタンアミド;(+)-N-ヒドロキシ-2-(2-ベン ゼンスルホニルエチル)-3-(3,4- オキシフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプ タンアミド;N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-フェニル ブチルアミド;N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-4-フェ ニルブチルアミド;N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-フ ェニルプロピオンアミド;N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニ ル)-3-フェニルプロピオンアミド;3-(3,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5 -フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシフェニルスルホニ ル)-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスル ホニル)-6-フェニルヘキサン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシフェニル スルファニル)-6-フェニルヘキサン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベ ンゼンスルホニル)-6-フェニルヘキサン酸ヒドロキシアミド;3-(R* )-(3,4- ジ メトキシベンゼンスルホニル)-2-(S* )-イソプロピル-7- フェニルヘプタン酸ヒ ドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-イソプロピル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド; (+)-(2R,3R)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニル ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(+)-(2R,3R)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルホ ニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(+)-(2R,3S)-3-(3,4 - ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキ シアミド;(+)-(2R,3S)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルホニル)-2-メチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;1-[1-(3,4-ジメトキシフェニルスルホニ ル)-5-フェニルペンチル]シクロペンタンカルボン酸ヒドロキシアミド;1-[1-(3 ,4-ジメトキシフェニルスルファニル)-5-フェニルペンチル]シクロペンタンカル ボン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチ ル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメ トキシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3 -(3,4-メチレンジオキシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド;(± )-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルフィニル-7- フェニルヘプタ ンアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルファニル-7- フ ェニルヘプタンアミド;(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル) スルファニル-7- ヘプタンアミド;(-)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニ ル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド;(+)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメト キシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミド;3-(3,4- ジメトキシベ ンゼンスルホニル)-5-メチルヘキサン酸ヒドロキシアミド;5-(4- ブトキシフェ ニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ペンタン酸ヒドロキシアミド;3 -(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘキサン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4 - ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-メチルヘキサン酸ヒドロキシアミド;3-(3 - ベンジルオキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロ キシプロピオンアミド;3-(2- ベンジルオキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベ ンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシプロピオンアミド;3-(3- ベンジルオキシ-4- メトキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシプロ ピオンアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N-ヒドロキシ-3-(3-フ ェノキシフェニル)プロピオンアミド; 3-(3-(4-クロロフェノキシ)フェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル) -N-ヒドロキシプロピオンアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-N- ヒドロキシ-3-(3-(4- メトキシフェノキシ)フェニル)プロピオンアミド;N-[2-( 3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-ヒドロキシカルバモイルプロピル]-N-メ チルベンズアミド;N-[2-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-ヒドロキシカ ルバモイルブチル]-N-メチルベンズアミド;メチル−フェニル−カルバミン酸3- (3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-ヒドロキシカルバモイルブチルエステ ル;[3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-4-ヒドロキシカルバモイルブチル ]メチルカルバミン酸ベンジルエステル;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニ ル)ヘキサン二酸-1- ヒドロキシアミド-6-(メチルフェニルアミド);3-(3,4- ジ メトキシベンゼンスルホニル)ヘプタン二酸-1- ヒドロキシアミド-7-(メチルフ ェニルアミド);3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-6-(1,3- ジオキソ-1, 3- ジヒドロイソインドール-2- イル)ヘキサン酸ヒドロキシアミド;7-(3,4- ジ ヒドロ-2H-キノリン-1- イル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-オキ ソヘプタン酸ヒドロキシアミド;7-(3,4- ジヒドロ-2H-キノリン-1- イル)-3-(3 ,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-6-オキソヘキサン酸ヒドロキシアミド;7- ベンゾ(1,3)ジオキソール-5- イル-3-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)ヘプ タン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-3-(チエン- 3- イル)-N-ヒドロキシプロピオンアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホ ニル)-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンス ルホニル)-5-(3- フェノキシフェニル)ペンタン酸ヒドロキシアミド;5-(4- ベ ンジルオキシフェニル)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)ペンタン酸ヒ ドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベン ジルオキシフェニル]メチル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(4-フェニルブチル)ヘプタン酸 ヒドロキシアミド;2-[1-(3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-5-フェニル ペンチル]-N 1-ヒドロキシ-N4-メチル-N4-フェニルサクシンアミド;3-(3,4- ジ メトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(3-フェニルプロピル)ヘプタン酸 ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベ ンゼンスルホニル)-2-イソプロピル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド; 3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-イソブチル-7- フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2- プ ロピルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)- 7-フェニル-2-(4-フェニルブチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4-ジメト キシベンゼンスルホニル)-2-[2-(2-メトキシエトキシ)エチル]-7-フェニルヘプ タン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-ベンゼン スルホニルエチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキ シベンゼンスルホニル)-7-フェニル-2-(5-フェニルペンチル)ヘプタン酸ヒドロ キシアミド;4-ベンゼンスルホニル-2-[(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)- [4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル]メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド; 2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェ ニル]メチル]-N-ヒドロキシ-4- フェニルブチルアミド;2-[(3,4-ジメトキシベ ンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル]メチル]-N-ヒドロ キシ-4-(2-メトキシエトキシ)ブチルアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスル ホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル]メチル]-N-ヒドロキシブチル アミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキ シ)フェニル]メチル]ペンタン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼ ンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル]メチル]-4-メチルペン タン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フル オロベンジルオキシ)フェニル]メチル]-N-ヒドロキシ-3-メチルブチルアミド;2 -[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニ ル]メチル]-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベン ゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロベンジルオキシ)フェニル]メチル]-5-フェニル ペンタン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4- フルオロベンジルオキシ)フェニル]メチル]-N 1-ヒドロキシ-N4-メチル-N4-フェ ニルサクシンイミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-[4-(4-フルオロ ベンジルオキシ)フェニル]メチル]-6-フェニルヘキサン酸ヒドロキシアミド;2- 〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼン スルホニル)メチル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキ シベンゼンスルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチル]-N-ヒドロキシ-4-(2- メトキシエトキシ)ブチルアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド;4-ベンゼンスルホニ ル-2-[ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-N-ヒ ドロキシブチルアミド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスル ホニル)メチル]-N-ヒドロキシ-4- フェニルブチルアミド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-N-ヒドロキシ-4-(2-メトキ シエトキシ)ブチルアミド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼン スルホニル)メチル]-N-ヒドロキシブチルアミド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4 -ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-4-メチルペンタン酸ヒドロキシアミド ;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-N-ヒ ドロキシ-3- メチルブチルアミド;2-〔ビフェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベ ンゼンスルホニル)メチル]-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミド;2-〔ビフ ェニル-4- イル-(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-5-フェニルペン タン酸ヒドロキシアミド;2-[(3,4-ジメトキシベンゼンスルホニル)-(4- フェノ キシフェニル)メチル]-N-ヒドロキシ-3- メチルブチルアミド;2-[(3,4-ジメト キシベンゼンスルホニル)-(4- フェノキシフェニル)メチル]-7-フェニルヘプタ ン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-エチルヘキ サン酸ヒドロキシアミド;3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-(3- フェ ニルプロピル)ヘキサン酸ヒドロキシアミド;2-[(3-ベンジルオキシフェニル)-( 3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)メチル]-5-フェニルペンタン酸ヒドロキシ アミド;(-)-(2S,3S)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルファニル)-2-メチル-7- ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(-)-(2S,3S)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホ ニル)-2-メチル-7- ヘプタン酸ヒドロキシアミド;(-)-(2S,3R)-3-(3,4- ジメト キシフェニルスルファニル)-2-メチル-7- ヘプタン酸ヒドロキシアミド;または (-)-(2S,3R)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチル-7- フェニルヘ プタン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合物。 26.該化合物が、3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン酸ヒ ドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合物。 27.該化合物が、3-(4- メトキシフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタン酸 ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合物。 28.該化合物が、(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルホニル-4-(4- フェニルオキシフェニル)ブチルアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合 物。 29.該化合物が、(±)-N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシフェニル)スルホニル-4-(4- ベンジルオキシフェニル)ブチルアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合 物。 30.該化合物が、N-ヒドロキシ-3-(4-メトキシベンゼンスルホニル)-3-メチルブ チルアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合物。 31.該化合物が、N-ヒドロキシ-2-[1-(4- メトキシベンゼンスルホニル)シクロ ペンチル]アセトアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合物。 32.該化合物が、N-ヒドロキシ-2-[1-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-4-フェ ニルシクロヘキシル]アセトアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 33.該化合物が、N-ヒドロキシ-2-[(3,4- ジメトキシフェニル)スルホニル]-6- フェニルヘキサンアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 34.該化合物が、N-ヒドロキシ-2-[(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル]-3-(3 - フェニルプロピル-1- イル)-1-シクロペンテンカルボキシアミドである請求の 範囲第22項に記載の化合物。 35.該化合物が、(-)-N-ヒドロキシ-2-(2-ベンゼンスルホニルエチル)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-7-フェニルヘプタンアミドである請求の範囲 第22項に記載の化合物。 36.該化合物が、3-(R* )-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-(S* )- イ ソプロピル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に 記載の化合物。 37.該化合物が、(+)-(2R,3R)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メ チル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の 化合物。 38.該化合物が、(+)-(2R,3R)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルホニル)-2-メチ ル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の化 合物。 39.該化合物が、(+)-(2R,3S)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メ チル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の 化合物。 40.該化合物が、(+)-(2R,3S)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルホニル)-2-メチ ル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の化 合物。 41.該化合物が、3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7- フ ェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 42.該化合物が、3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-2,2-ジメチル-7- フェニ ルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 43.該化合物が、(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7 - フェニルヘプタンアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 44.該化合物が、(±)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルフィニル -7- フェニルヘプタンアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 45.該化合物が、(-)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 46.該化合物が、(+)-N-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメトキシフェニル)スルホニル-7- フェニルヘプタンアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 47.該化合物が、(±)-(2R * ,3S * )-3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-7- フェニル-2-(ベンゼンスルホニルメチル)ヘプタン酸ヒドロキシアミドである請 求の範囲第22項に記載の化合物。 48.該化合物が、7-ベンゾ(1,3)-ジオキソール-5- イル-3-(3,4-ジメトキシベン ゼンスルホニル)ヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の 化合物。 49.該化合物が3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-イソプロピル-7- フ ェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 50.該化合物が3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-[2-(2-メトキシエト キシ)エチル]-7-フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項 に記載の化合物。 51.該化合物が3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-ベンゼンスルホニル エチル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載 の化合物。 52.該化合物が3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- フェノキシフェニル )プロピオン酸ヒドロキシアミドである請求の範囲第22項に記載の化合物。 53.該化合物が、3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- ベンジルオキシフ ェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合 物。 54.該化合物が、3-(4- メトキシベンゼンスルホニル)-3-(4- フルオロベンジル オキシフェニル)プロピオン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記 載の化合物。 55.該化合物が、(+)-3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン 酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合物。 56.該化合物が、(-)-3-(4- メトキシフェニルスルホニル)-7-フェニルヘプタン 酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載の化合物。 57.該化合物が、(-)-(2S,3S)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルファニル)-2-メ チル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載 の化合物。 58.該化合物が、(-)-(2S,3S)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチ ル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載の 化合物。 59.該化合物が、(-)-(2S,3R)-3-(3,4- ジメトキシフェニルスルファニル)-2-メ チル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載 の化合物。 60.該化合物が、(-)-(2S,3R)-3-(3,4- ジメトキシベンゼンスルホニル)-2-メチ ル-7- フェニルヘプタン酸ヒドロキシアミドである、請求の範囲第22項に記載の 化合物。 61.製薬上許容される請求の範囲第1項に記載の化合物および製薬上許容される 担体を含むことを特徴とする、薬理組成物。 62.TNF を阻害することによって軽減することができる疾患状態を治療する方法 であって、該疾患状態に罹った患者に、有効量の、請求の範囲第1項に記載の化 合物を投与する工程を含むことを特徴とする、上記方法。 63.該疾患状態が炎症性疾患または自己免疫疾患である、請求の範囲第62項に記 載の方法。 64.該疾患状態が接合部炎症、関節炎、リューマチ性関節炎、リューマチ性脊椎 炎、骨関節炎、敗血症、敗血症ショック、グラム陰性敗血症、毒物ショック症候 群、急性呼吸窮迫症候群、喘息、骨吸収性疾患、再灌流傷害、移植片対宿主反応 、同種移植片拒絶、マラリア、筋痛症、HIV 、AIDS、カヘキシー、クローン病、 潰瘍性大腸炎、熱病(pyresis)、全身性狼瘡、紅斑、多発性硬化症、タイプI真 性糖尿病、乾癖、ベーチェット病、アナフィラキシー様紫斑腎炎、慢性糸球体腎 炎、炎症性膀胱疾患および白血病からなる群から選ばれる、請求の範囲第62項に 記載の方法。 65.該疾患状態が接合部炎症である、請求の範囲第64項に記載の方法。 66.環状AMP ホスホジエステラーゼの産生を阻害することにより軽減できる疾患 状態を治療する方法であって、該疾患状態に罹った患者に、有効量の、請求の範 囲第1項に記載の化合物を投与する工程を含むことを特徴とする、上記方法。 67.該疾患状態が、環状AMP ホスホジエステラーゼの機能、好酸球蓄積または該 好酸球の機能に関連する病理状態である、請求の範囲第66項に記載の方法。 68.該病理的状態が喘息、アトピー性皮膚炎、じんま疹、アレルギー性鼻炎、乾 癬、リューマチ性関節炎、潰瘍性大腸炎、クローン病、成人性呼吸器疾患症候群 、尿崩症、角化症、皮膚炎、脳性老化、多重梗塞性痴呆症、老化性痴呆症、パー キンソン病に関連する記憶障害、心拍停止、卒中および間欠性跛行である、請求 の範囲第67項に記載の方法。 69.該病理的状態が喘息である、請求の範囲第68項に記載の方法。 70.マトリックスメタロプロテイナーゼを阻害することにより改善し得る疾患状 態を治療する方法であって、該疾患状態に罹った患者に、有効量の、請求の範囲 第1項に記載の化合物を投与する工程を含むことを特徴とする、上記方法。
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