JP2000507499A - メタロセン用共触媒 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ボラタベンゼン共触媒、特に新規なペンタフルオロフェニルボラタベンゼン類は、メタロセン類と一緒に用いるに有用な共触媒または活性化剤である。それらは従来技術の活性化剤よりも高価でなく、溶解性を示し、かつより不可逆的な反応を与える。組成物に少なくとも１種のメタロセン触媒と少なくとも１種のジヒドロボラタベンゼンもしくはそれのアニオンを含める。方法に、メタロセン類をボラタベンゼン共触媒の存在下で用いた重合および活性化方法を包含させ、この活性化方法にバルク電解技術を包含させる。

Description

【発明の詳細な説明】 メタロセン用共触媒 本発明は、メタロセン（ｍｅｔａｌｌｏｃｅｎｅ）触媒、特にオレフィンポリ マー類の製造で用いられるメタロセン触媒と一緒に用いるに有用な共触媒または 活性化剤に関する。 メタロセン触媒は特にオレフィン類の重合でよく知られている。希土類もしく は遷移金属が少なくとも１種の炭素５員（好適にはシクロペンタジエニル）環の 員と配位状態にある有機金属化合物を意味する目的で用語「メタロセン触媒」を 用いる。 特にオレフィン類の重合ではメタロセン触媒と一緒に共触媒または活性化剤を 用いるのが有効であると一般に認識されている。公知の活性化用共触媒には、例 えばポリマー状もしくはオリゴマー状のアルモキサン類（ａｌｕｍｏｘａｎｅｓ ）、特にメチルアルモキサン、トリイソブチルアルミニウム修飾メチルアルモキ サンまたはジイソブチルアルモキサン；強ルイス酸［本明細書で用語「強ルイス 酸」を用いる場合、トリヒドロカルビルで置換されている１３族の化合物、特に トリ（ヒドロカルビル）アルミニウム化合物またはトリ（ヒドロカルビル）ホウ 素化合物、そしてそれらのハロゲン置換誘導体（各ヒドロカルビルもしくはハロ ゲン置換ヒドロカルビル基中に炭素を１から１０個有する）、より特別には完全 フッ素置換トリ（アリール）ホウ素化合物、最も特別にはトリス（ペンタフルオ ロフェニル）ボランであるとしてそれを定義する］；ハロゲン置換トリ（Ｃ_1-10 ヒドロカルビル）ホウ素化合物のアミン、ホスフィン、脂肪族アルコールおよび メルカプタン付加体、特に完全フッ素置換トリ（アリール）ホウ素化合物の上記 付加体；非ポリマー状で適合 性を示すイオン性で配位しない活性化用化合物（このような化合物を酸化条件下 で用いることを包含）；バルク電解（ｂｕｌｋ ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ）（ 本明細書の以下により詳細に説明）；そして前記活性化用共触媒と技術の組み合 わせなどが含まれる。好適な種には、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン 、そしてアニオンであるテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを含有 するイオン性活性化剤が含まれる。このような化合物は有効であるが、ペンタフ ルオロフェニル基を１分子に当たりに数個要することで入手または合成が困難で あり、従って極めて高価である。イオン性活性化剤とメタロセン類は不可逆的に 反応し、従って中性の強ルイス酸である活性化剤（これとメタロセンは可逆的な 反応を起こし得る）よりも好適であり得る。しかしながら、このようなイオン性 活性化剤の商業的な欠点は、それらが重合媒体、即ち炭化水素溶媒中で示す溶解 度が劣る点である。 炭化水素溶媒中で良好な溶解度を保持していて好適には結果として可逆的な反 応を起こす傾向が低くそして／またはあまり高価でない、即ち入手が困難なペン タフルオロフェニル基の使用量が少ない活性化剤または共触媒が得られれば、こ れは望ましいことである。 ボラタベンゼン類（ｂｏｒａｔａｂｅｎｚｅｎｅｓ）は公知で配位子として用 いられてきたが、メタロセン触媒用の共触媒としても活性化剤としても対イオン としても用いられていない。 このボラタベンゼン類は、ベンゼンに類似したホウ素含有類似物であるアニオ ン種である。それらは以前から本技術分野で知られていて、Ｇ．Ｈｅｒｂｅｒｉ ｃｈ他がＯｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ、１４、１、４７１−４８０（１９９ ５）に記述している。それらは、スタノシクロ ヘキサジエンを三ハロゲン化ホウ素と反応させた後にヒドロカルビル基で置換す ることを通して調製可能である。 ここに、ヒドロボラタベンゼン類またはボラタベンゼンアニオン類を好適には 中性の１，４−ジヒドロボラタベンゼンとして含む共触媒または活性化剤がメタ ロセン触媒を用いたオレフィン重合で用いるに有用であることを見い出した。ボ ラタベンゼン共触媒が有するペンタフルオロフェニル基の数は、有利に、それぞ れ好適なトリスペンタフルオロフェニルボランおよびテトラキス（ペンタフルオ ロフェニル）ボレート含有塩が有するそれよりも少ない。更に、１，４−ジヒド ロボラタベンゼン類とメタロセン類の反応に伴う可逆的反応の度合は有利に低い 。 本発明は、メタロセン触媒を１，４−ジヒドロボラタベンゼンまたはボラタベ ンゼンを含む少なくとも１種の活性化剤（集合的にボラタベンゼン共触媒）の存 在下で用いてオレフィン類を重合させる方法を包含することに加えて、少なくと も１種のメタロセン触媒を用いてこの触媒をボラタベンゼンを含有する少なくと も１種の活性化剤で活性化させることを通してオレフィン類を重合させる方法も 包含する。 本発明は、また、ボラタベンゼン類を含む電解質組成物、特にバルク電解活性 化技術用の組成物を支持することも包含する。 更に、本発明は、少なくとも１種のメタロセン触媒を含みかつボラタベンゼン を含有する少なくとも１種の共触媒を含む組成物も包含し、かつその結果として 生じるカチオン性メタロセン触媒とアニオン性ボラタベンゼン対イオンを含む組 成物（好適には酸化状態が＋４のメタロセン類とボラタベンゼン含有共触媒の反 応で生じる）も包含する。 追加的に、本発明は、式１［式中、Ｒ’はペンタフルオロベンゼン基 基である］で表されるパーフルオロフェニルヒドロボラタベンゼン類、特に１− ペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン、即ち［Ｃ₅Ｈ₆Ｂ− Ｃ₆Ｆ₅］およびそれのアニオン、即ち［Ｃ₅Ｈ₅Ｂ−Ｃ₆Ｆ₅］^-を包含する。 本発明の組成物に含める追加的成分に、トリアルキルアルミニウムおよび／ま たはメチルアルモキサン類またはそれらの誘導体、例えばトリイソプロピルアル ミニウム修飾メチルアルモキサンを含める。本発明は、また、本発明の組成物の 反応生成物、特に反応（重合）条件下で生じる反応生成物も包含する。 図１は、カチオン性メタロセン触媒の調製でボラタベンゼンを共触媒として用 いた本発明を説明する式である。 図２は、［ＮＨＲ₃］［Ｃ₅Ｈ₅ＢＲ’］を活性化種として用いた本発明を説明 する式である。 図３は、強ルイス酸であるカチオン性活性化剤を用いた本発明を説明する式で ある。 上記例は制限するものでなく、酸化状態が＋３または＋２のメタロセン類とボ ラタベンゼン共触媒はいろいろな様式で反応し得ると理解する。 本明細書では、メタロセンと一緒にした時に結果として同じメタロセンを活性 化剤なしに用いた場合の活性よりも高い活性を示す触媒をもたらす化合物を指す 目的で用語「活性化剤」または「共触媒」を用いる。本発明の活性化剤は下記の ２分類に分かれる。即ち１）式１で表される中性の１，４−ジヒドロボラタベン ゼンと２）式２で表されるボラタベンゼンアニオン含有塩に分かれる。この１， ４−ジヒドロボラタベンゼン類の４位に位置するプロトンが酸性であると、この 種類の化合物は特 にメタロセン類に対して反応性を示す。式１で表される錯体を用いた活性化の説 明的非制限例を図１に示し、ここでは、式１で表される化合物がメタロセンとの プロトン分解（ｐｒｏｔｏｎｌｙｓｉｓ）反応に関与してメタンが放出される。 式２で表される錯体を用いた活性化の説明的非制限例を図２に示し、ここでは、 式２で表される化合物がメタロセンとのプロトン分解反応に関与してメタンが放 出される。 １，４−ジヒドロボラタベンゼン類（本明細書では以降またヒドロボラタベン ゼン類と呼ぶか或はボラタベンゼンアニオン類を伴う場合には集合的にボラタベ ンゼン共触媒とも呼ぶ）は、式１： で表される化合物であり、ここで、Ｒ’は、ヒドロカルビル基、シリルヒドロカ ルビル、パーフルオロヒドロカルビル基、ジアルキルアミド基またはハライド（ Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ、好適にはＣｌ、ＢｒまたはＦ、より好適にはＦ）であ る。上記ヒドロカルビル基は線状、分枝、環状、芳香族、アルキル芳香族または アリールアルキルであり、これは未置換または不活性な様式で（ｉｎｅｒｔｌｙ ）置換されており、好適には炭素原子を２４個以下、より好適には炭素原子を１ から２４個、最も好適には炭素原子を１から１２個、特に好適には炭素原子を６ 個有し、特別には未置換または不活性な様式で置換されているフェニル環である 。「不活性な様式で置換されている」は、メタロセン触媒の活性化で共触媒が果 す機能も結果として活性化を受けた触媒の触媒活性も望ましくな く妨害することのない置換基を持つことを意味する。そのような不活性な置換基 には、ハロゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ、より好適にはＣｌ、Ｂｒまたは Ｆ、最も好適にはＦ）、活性水素を持たない窒素含有基、例えば第三級アミンま たはアミド基など、シリル基、エーテル酸素、ヒドロカルビル、パーハロヒドロ カルビル、好適にはペンタフルオロフェニルなどが含まれる。好適なヒドロカル ビル基には、未置換およびフルオロ置換ヒドロカルビル基（これらは現実に電子 求引性である）が含まれる。ジアルキルアミド基が持つアルキル基は互いに同じ か或は異なっており、独立して未置換であるか或は不活性な様式で置換されてお り、例えばヒドロカルビル基などで置換されており、好適には各々が炭素原子を １から２４個、好適には１から１２個、最も好適には１から６個有する。各Ｒ’ は、独立して、任意にＤ、即ち本明細書の以下に記述する連結基であるか或はそ れを含んでいてもよい。 各Ｒ”は、独立して、Ｈ、または未置換もしくは不活性な様式で置換されてい るヒドロカルビル、シリルヒドロカルビル、パーフルオロカルビル、アルコキサ イドまたはジヒドロカルビルアミド基である。各炭素含有基はＲ’で記述した通 りであり、好適には炭素原子を１から１２個有する（ジアルキルアミド基の場合 には炭素原子を好適には全体で２４個以下の数で有する）。任意に、２つ以上の Ｒ”またはＲ’と少なくとも１つのＲ”が結合して環または環類を形成していて もよく、このような環は適切には芳香族、アルキルもしくはヘテロ原子含有環ま たはそれらの組み合わせである環である。合成を容易に行おうとする場合、好適 には全てのＲ”をＨにする。負電荷を非局在化させようとする場合、好適には各 Ｒ”をフッ素、フルオロヒドロカルビル、フルオロカルビル、 塩素、より好適にはフッ素またはフッ素含有基から選択する。また、かさ高いヒ ドロカルビル基、例えば第三ブチルなども望ましいＲ”基である、と言うのは、 そのような基を存在させるとしばしばボラタベンゼンアニオンが配位しなくなる に役立つからである。各Ｒ”は、独立して、任意にＤ、即ち本明細書の以下に記 述する連結基であるか或はそれを含んでいてもよい。 有利には、Ｒ’およびＲ”を、好適には、負電荷が非局在化することで相当す るアニオンが安定になるように選択する。Ｒ”が水素でない場合には、それらの いずれも好適にはボラタベンゼン環のホウ素原子に対するオルソもしくはパラ位 、より好適にはパラ位に位置させる。 式１で表される化合物は水素原子が酸性であることから容易に式２のアニオン を形成することが知られている。ボラタベンゼン環が負電荷を非局在化させる能 力を高める置換基を用いると酸性度が高くなる。式２： ［式中、 Ｒ’およびＲ”は、式１で定義した通りである］。本発明の実施で式２のボラタ ベンゼンアニオンを用いる場合には、それをカチオンＧ⁺と結合させておく。本 発明の１つの態様におけるＧ⁺はイオン性活性化剤のカチオンである。この態様 におけるＧ⁺は、好適には［ＮＨＲ₃］⁺、［ＮＲ₄］⁺、［ＳｉＲ₃］⁺［ＣＰｈ³］⁺ 、または［（Ｃ₅Ｈ₅）₂Ｆｅ］⁺またはＡｇ⁺であり、ここで、Ｒは、各場合とも 独立して、炭素数が１ から２４、より好適には炭素数が１から１２のヒドロカルビル、シリルヒドロカ ルビルまたはパーフルオロカルビルであり、その炭素の配列は線状、分枝または 環構造であり得る。Ｐｈはフェニルである。好適な態様における［ＮＨＲ₃］⁺は ［ＮＨ（ＣＨ₃）（Ｃ₁₈Ｈ₃₇）₂］⁺である。 本発明の第二態様におけるＧ⁺ま、メタロセンと式１で表される１，４−ジヒ ドロボラタベンゼンの反応で生じるカチオンである。この態様におけるＧ⁺は、 メタロセンのカチオンであるか或は結果として起こる反応で生じるカチオン種の いずれかであり得る。 式１で表される１，４−ジヒドロボラタベンゼン共触媒の説明的非制限例は、 １−フェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−メチル−１，４−ジヒド ロボラタベンゼン；１−エチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタ フルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−１ ，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチル−１，４−ジヒドロボラタベ ンゼン；１−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシ リル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチル−１，４ −ジヒドロボラタベンゼン：１−フルオロ−１，４−ジヒドロボラタベンゼン； １−（３，５−ビス−トリフルオロメチル−フェニル）−１，４−ジヒドロボラ タベンゼン；１−フェニル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１ −メチル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル−４−メ チル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−４−メ チル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−４−メチル−１ ，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチル−４−メチル−１，４−ジヒ ドロボラタベンゼ ン；１−ｔ−ブチル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリ メチルシリル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチル シリルメチル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ− ４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフル オロメチル−フェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１− フェニル−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−メチル−４ −ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル−４−ｔ−ブチル −１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−４−ｔ−ブ チル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−４−ｔ−ブチル −１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチル−４−ｔ−ブチル−１， ４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒ ドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒド ロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチル−４−ｔ−ブチル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラ タベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフルオロメチル−フェニル）−４−ｔ− ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フェニル−２，４−ジメチル− １，４−ジヒドロボラタベンゼン；１，２，４−トリメチル−１，４−ジヒドロ ボラタベンゼン；１−エチル−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベン ゼン；１−ペンタフルオロフェニル−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラ タベンゼン；１−ジメチルアミド−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタ ベンゼン；１−ネオペンチル−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベン ゼン；１−ｔ−ブチル−２，４ -ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−２，４ −ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチル− ２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ−２，４− ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス-トリフルオ ロメチル-フェニル）−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン； １−フェニル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベ ンゼン；１−メチル−２−メトキサィド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボ ラタベンゼン；１−エチル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒ ドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−２−メトキサイド−４−ｔ −ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−２−メトキ サイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチル −２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１− ｔ−ブチル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベン ゼン；１−トリメチルシリル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチル−２−メトキサイド−４− ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ−２−メトキサイ ド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス− トリフルオロメチル−フェニル）−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４ −ジヒドロボラタベンゼン；１−フェニル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシ リル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−メチル−４−ｔ−ブチル−６−ト リメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル−４−ｔ−ブチ ル−６−トリメチルシリル −１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−４−ｔ−ブ チル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチル アミド−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベン ゼン；１−ネオペンチル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリ ル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−４−ｔ−ブチル −６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシ リルメチル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタ ベンゼン；１−フルオロ−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフルオロメチル−フェニル） −４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン； １−フェニル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタ ベンゼン；１−メチル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒド ロボラタベンゼン；１−エチル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４ −ジヒドロボラタベンゼン：１−ペンタフルオロフェニル−２−ジエチルアミド −４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−２ −ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネ オペンチル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベ ンゼン；１−ｔ−ブチル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒ ドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブ チル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチル−２−ジ エチルアミド−４−ｔ−ブチ ル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ−２−ジエチルアミド−４ −ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフ ルオロメチル−フェニル）−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−フェニル−４−ペンタフルオロフェニル−１，４− ジヒドロボラタベンゼン；１−メチル−４−ペンタフルオロフェニル−１，４− ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル−４−ペンタフルオロフェニル−１，４− ジヒドロボラタベンゼン；１−４−ビスペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒ ドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−４−ペンタフルオロフェニル−１， ４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチル−４−ペンタフルオロフェニル −１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−４−ペンタフルオロフェ ニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−４−ペンタフ ルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチ ル−４−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フル オロ−４−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；および １−（３，５−ビス−トリフルオロメチル−フェニル）−４−ペンタフルオロフ ェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン、そしてそれらの混合物である。 上述した１，４−ジヒドロボラタベンゼンのアニオン誘導体を含有する式２で 表されるイオン性共触媒の説明的非制限例は、トリｎ−ブチルアンモニウム塩； トリプロピルアンモニウム塩、トリｔ−ブチルアンモニウム塩、トリエチルアン モニウム塩、トリメチルアンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリウム塩、Ｎ， Ｎ−ジエチルアニリウム塩、トリフェニルカルベニウム塩、Ａｇ塩、フェロセニ ウム塩、テトラｎ−ブチルア ンモニウム塩、テトラプロピルアンモニウム塩、テトラｔ−ブチルアンモニウム 塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラｎ−ブ チルシリリウム塩、テトラプロピルシリリウム塩、テトラｔ−ブチルシリリウム 塩、テトラエチルシリリウム塩およびテトラメチルシリリウム塩である。 これらの化合物の中で式１および２で表される好適な種は、Ｒ’が芳香族、好 適にはフェニル、最も好適にはパーフルオロフェニルである種である。また、Ｒ ’は好適にはフルオロヒドロカルビル、好ましくはパーフルオロヒドロカルビル である。これらの中で好適な種は、１−パーフルオロフェニル−１，４−ジヒド ロボラタベンゼン、即ち［Ｃ₅Ｈ₆Ｂ−Ｃ₆Ｆ₅］および相当するアニオンである［ Ｃ₅Ｈ₅Ｂ−Ｃ₆Ｆ₅］^-、即ち、それぞれ、Ｒ’がパーフルオロフェニルでありそ して全てのＲ”がＨである式１および２で表される化合物である。このような化 合物は新規な化合物であり、それらは負電荷を非局在化させてアニオンを安定に する能力を有することから本発明の実施で用いるに好適な化合物である。 このようなボラタベンゼン共触媒はメタロセン触媒［これには拘束幾何（ｃｏ ｎｓｔｒａｉｎｅｄ ｇｅｏｍｅｔｒｙ）触媒が含まれる］の活性化で用いるに 有用である。 ヒドロボラタベンゼンおよびボラタベンゼン塩の合成は本技術における技術の 範囲内であり、例えばＡｓｈｅ他、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９７ １、９３、１８０４−１８０５（本明細書ではそこに含まれている学術用語に従 う）；Ｈｏｉｃ他、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９９５、１１７、８ ４８０−８４８１；Ｈｅｒｂｅｒｉｃｈ，Ｇ．Ｅ．著Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖ ｅ Ｏｒｇａｎｏ−Ｍａｔａ ｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ，Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ，ＳｔｏｎｅおよびＡｂｅ ｌ．Ｐｅｒｇａｍｏｎ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ．１巻３９２−４０９頁、１９８２そ してＨｅｒｂｅｒｉｃｈ，他Ｏｒｇａｎｏｍｅｔｅｌｌｉｃｓ， １９９５，１ ４，４７１−４８０に例示されている。好適な合成では、任意に置換されていて もよい１，４−ジアセチレン、例えば≡−ＣＨ₂−≡などとジアルキル錫ハイド ライド、例えば（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₂ＳｎＨ₂）などを反応させて相当するジヒドロジ アルキルスタノベンゼンを生じさせ、これを有機ホウ素ジブロマイド、例えばフ ェニルホウ素ジブロマイドなどと反応させる。置換種、例えば好適なペンタフル オロフェニルボラタベンゼンなどを生じさせようとする場合には、相当する置換 基を有する有機ホウ素ジブロマイド、例えばペンタフルオロフェニルホウ素ジブ ロマイドなどを用いる。ボラタベンゼン環に関する置換は、置換されている１， ５−ジアセチレンを用いるか或は別法として本技術における技術の範囲内の反応 をボラタベンゼン環またはジヒドロジアルキルスタナベンゼンに対して起こさせ ることで達成される。別法として、Ｈｅｒｂｅｒｉｃｈ他が開示した合成で置換 ２，４−ぺンタジエニルボラン類を出発材料として用いる。 メタロセン錯体は、有利に、それを１種以上の活性化用共触媒と一緒にするか 、活性化技術を用いるか或はそれらの組み合わせを用いることを通して、触媒活 性を示すようになる。活性化用共触媒および活性化技術はいろいろな金属錯体に 関して以前に下記の文献に教示された：ヨーロッパ特許出願公開第２７７，００ ３号、米国特許第５，１５３，１５７号、米国特許第５，０６４，８０２号、ヨ ーロッパ特許出願公開第４６８，６５１号（米国連続番号０７／５４７，７１８ に相当）、ヨーロッ パ特許出願公開第５２０，７３２号（米国連続番号０７／８７６，２６８に相当 ）およびヨーロッパ特許出願公開第５２０，７３２号（１９９２年５月１日付け で提出した米国連続番号０７／８８４，９６６に相当）。本分野の技術者は、メ タロセン触媒とボラタベンゼン類の混和物は結果として存在する分子種間で相互 作用を起こし得ることを認識している。そのような相互作用の結果として生じる 生成物を本明細書では相互作用生成物と呼ぶ［どのような形態の相互作用（例え ば化学反応、イオン反応、溶媒和など）が起ころうとも］。 本発明の実施は本技術における技術の範囲内の全てのメタロセン触媒に適用可 能である。好適な態様における少なくとも１種のメタロセン成分は橋状、ビスシ クロペンタジエニル、４、５もしくは６族の遷移金属およびランタニド類を包含 する。好適なメタロセン類は橋状ビスインデニル、４族のジハライド、ジヒドロ カルビルおよびジエン誘導体を包含する。本発明でジハライドメタロセン類を用 いる時には、有利に、それらをボラタベンゼン共触媒と反応させるに先立って最 初に少なくとも１種のトリヒドロカルビルアルミニウムまたはアルモキサン種に 接触させる。本技術分野で公知の具体的なメタロセン触媒がヨーロッパ特許第４ ８５,８２０；４８５,８２１；４８５,８２２；４８５,８２３；５１８,０９２ および５１９,２３７号、米国特許第５,１４５,８１９；５,２９６,４３４号な どの如き文献に考察されている。 本明細書で特定の族に属する元素または金属を言及する場合、これらは全て、 ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．が著作権を有していて１９８９年に出版した元素 周期律表（Ｐｅｒｉｏｄｉｃ Ｔａｂｌｅ ｏｆ ｔｈｅ Ｅｌｅｍｅｎｔｓ） を指す。また、族または族類を言及する場合 も、その全てにおいて、族の番号付けに関してＩＵＰＡＣシステムが用いられて いる上記元素周期律表に示されている如き族または族類を指す。 本明細書で用いるに有利な触媒は、有利に、何らかの遷移金属（ランタニド類 を包含）を含む誘導体であり、好適には形式的（ｆｏｒｍａｌ）酸化状態が＋２ 、＋３または＋４の３族、４族またはランタニド金属を含む誘導体である。好適 な化合物には、π結合を有するアニオン性もしくは中性配位子基（これは任意に 環状もしくは非環状の非局在化したπ結合を有するアニオン性配位子基である） を１から３個含む金属錯体が含まれる。そのようなπ結合を有するアニオン性配 位子基の例は共役もしくは非共役で環状もしくは非環状のジエニル基およびアリ ル基である。用語「π結合を有する（π−ｂｏｎｄｅｄ）」は、配位子基が遷移 金属にそれの非局在化したπ電子で結合することを意味する。 この非局在化したπ結合を有する基内の各原子は、独立して任意に、水素、ハ ロゲン、ヒドロカルビル、ハロヒドロカルビル、ヒドロカルビル置換メタロイド （ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）基［ここで、このメタロイドは元素周期律表の１４族か ら選択される］から成る群から選択される基で置換されていてもよく、そして更 に上記ヒドロカルビル基またはヒドロカルビル置換メタロイド基は１５族もしく は１６族のヘテロ原子を含む部分で置換されていてもよい。用語「ヒドロカルビ ル」の範囲には、Ｃ_1-20の直鎖、分枝および環状アルキル基、Ｃ_6-20の芳香族基 、Ｃ_7-20のアルキル置換芳香族基、そしてＣ_7-20のアリール置換アルキル基が含 まれる。加うるに、そのような２つ以上の隣接する基が一緒になって縮合環系、 水添縮合環系または金属を伴うメタロサイクル（ｍｅｔａｌｌｏｃｙｃｌｅ）を 形成していてもよい。適切なヒドロカルビル置換有機 メタロイド基には、１４族元素の一置換、二置換および三置換有機メタロイド基 が含まれ、ここで、上記ヒドロカルビル基は各々炭素原子を１から２０個含む。 有利なヒドロカルビル置換有機メタロイド基の例には、トリメチルシリル、トリ エチルシリル、エチルジメチルシリル、メチルジエチルシリル、トリフェニルゲ ルミルおよびトリメチルゲルミル基が含まれる。１５族もしくは１６族のヘテロ 原子を含む部分の例には、アミン、ホスフィン、エーテルもしくはチオエーテル 部分、またはそれらの一価誘導体、例えば遷移金属もしくはランタニド金属に結 合しているアミド、ホスフィド、エーテルまたはチオエーテル基、そしてヒドロ カルビル基またはヒドロカルビル置換メタロイド含有基に結合しているアミド、 ホスフィド、エーテルまたはチオエーテル基などが含まれる。 有利な非局在化したπ結合を有するアニオン性基の例には、シクロペンタジエ ニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、テトラヒドロフル オレニル、オクタヒドロフルオレニル、ペンタジエニル、シクロヘキサジエニル 、ジヒドロアントラセニル、ヘキサヒドロアントラセニルおよびデカヒドロアン トラセニル基に加えて、Ｃ_1-10ヒドロカルビルで置換されているか或はＣ_1-10ヒ ドロカルビル置換シリルで置換されているそれらの誘導体が含まれる。好適な非 局在化したπ結合を有するアニオン性基は、シクロペンタジエニル、ペンタメチ ルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシ リルシクロペンタジエニル、インデニル、２，３−ジメチルインデニル、フルオ レニル、２−メチルインデニル、２−メチル−４−フェニルインデニル、テトラ ヒドロフルオレニル、オクタヒドロフルオレニルおよびテトラヒドロインデニル である。 好適な種類の触媒は、式Ａ： Ｌ_lＭＸ_mＸ’_nＸ”_p ［式中、 Ｌは、Ｍに結合している非局在化したπ結合を有するアニオン性基であり、これ は非水素原子を５０以下の数で含み、任意に２つのＬ基が一緒になって橋状構造 を形成していてもよく、そして更に任意に１つのＬがＸに結合していてもよく、 Ｍは、元素周期律表の４族の金属であり、これの形式的酸化状態は＋２、＋３ま たは＋４であり、 Ｘは、任意の、非水素原子数が５０以下の二価置換基であり、これはＬと一緒に なってＭを伴うメタロサイクルを形成し、 Ｘ’は、各場合とも、任意の、非水素原子数が２０以下の中性ルイス塩基であり 、 Ｘ”は、各場合とも、非水素原子数が４０以下のアニオン性一価部分であり、任 意に２つのＸ”基が一緒に共有結合して二価のジアニオン部分（両方の原子価が Ｍに結合する）を形成していてもよいか、或は任意に２つのＸ”基が一緒に共有 結合して中性の共役もしくは非共役ジエン（これはＭにπ結合する）（この場合 のＭは酸化状態が＋２である）を形成していてもよいか、或は更に任意に、１つ 以上のＸ”と１つ以上のＸ’基が一緒に結合して、Ｍに共有結合すると共にそれ にルイス塩基官能性で配位する部分を形成していてもよく、 １は、０，１または２であり、 ｍは、０または１であり、 ｎは、０から３の数であり、 ｐは、０から３の整数であり、そして ｌ＋ｍ＋ｐの合計はＭの形式的酸化状態に等しいが、但し２つのＸ”基が一緒に なってＭにπ結合する中性の共役もしくは非共役ジエンを形成している場合には ｌ＋ｍの合計がＭの形式的酸化状態に等しいことを除く］ に相当する遷移金属錯体またはそれの二量体である。 好適な錯体には、Ｌ基を１つまたは２つ含む錯体が含まれる。後者の錯体には 、２つのＬ基をつなげる橋渡し基を含む錯体が含まれる。好適な橋渡し基は、式 （ＥＲ＊₂）_x［式中、Ｅはケイ素、ゲルマニウム、錫または炭素でありそしてＲ ＊は各場合とも独立して水素であるか或はシリル、ヒドロカルビル、ヒドロカル ビルオキシおよびそれらの組み合わせから選択される基であり、ここで、上記Ｒ ＊は炭素またはケイ素原子を３０個以下の数で有し、そしてｘは１から８である ］に相当する基である。好適には、Ｒ＊は各場合とも独立してメチル、エチル、 プロピル、ベンジル、ｔ−ブチル、フェニル、メトキシ、エトキシまたはフェノ キシである。 Ｌ基を２つ含む錯体の例は、式： ［式中、 Ｍは、形式的酸化状態が＋２または＋４のチタン、ジルコニウムまたはハフニウ ム、好適にはジルコニウムまたはハフニウムであり、 Ｒ³は、各場合とも独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シア ノ、ハロおよびそれらの組み合わせから成る群から選択され、ここで、上記Ｒ³ は非水素原子を２０個以下の数で有し、或は隣接するＲ³基が一緒になって二価 の誘導体（例えばヒドロカルバジイル、ゲルマジイル基など）を形成することに よって縮合環系を形成しており、そして Ｘ”は、各場合とも独立して、非水素原子数が４０以下のアニオン性配位子基で あるか、或は２つのＸ”が一緒になって非水素原子数が４０以下のアニオン性二 価配位子基を形成しているか、或は一緒になって非水素原子数が４から３０の共 役ジエンであり、それによってＭ（この場合のＭは形式的酸化状態が＋２である ）と一緒にπ錯体を形成しており、そして Ｒ＊、Ｅおよびｘはこの上で定義した通りである］ に相当する化合物である。 立体規則的分子構造を有するポリマー類を製造しようとする場合には上記金属 錯体を用いるのが特に適切である。そのような能力に関して、上記錯体にＣ_s対 称を持たせるか或はキラリティーを持つ立体剛性構造を持たせるのが好適である 。１番目の種類の例は、異なる非局在化したπ結合を有する系を持つ化合物、例 えばシクロペンタジエニル基を１つとフルオレニル基を１つ持つ化合物である。 Ｅｗｅｎ他、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１０、６２５５−６２５６（１９ ８０）に、シンジオタクティックオレフィンポリマー類を製造する目的で、Ｔｉ （ＩＶ） またはＺｒ（ＩＶ）を基とする同様な系が開示された。キラリティを持つ構造物 の例にはラセミ型ビスインデニル錯体が含まれる。Ｗｉｌｄ他、Ｊ．Ｏｒｇａｎ ｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．、２３２、２３３−４７、（１９８２）に、イソタクティ ックオレフィンポリマー類を製造する目的で、Ｔｉ（ＩＶ）またはＺｒ（ＩＶ） を基とする同様な系が開示された。 π結合を有する基を２つ含む典型的な橋状配位子は下記である：（ジメチルシ リル−ビス（シクロペンタジエニル））、（ジメチルシリル−ビス（メチルシク ロペンタジエニル））、（ジメチルシリル−ビス（エチルシクロペンタジエニル ））、（ジメチルシリル−ビス（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル））、（ジメ チルシリル−ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル））、（ジメチルシリル −ビス（インデニル））、（ジメチルシリル−ビス（テトラヒドロインデニル） ）、（ジメチルシリル−ビス（フルオレニル））、（ジメチルシリル−ビス（テ トラヒドロフルオレニル））、（ジメチルシリル−ビス（２−メチル−４−フェ ニルインデニル））、（ジメチルシリル−ビス（２−メチルインデニル））、（ ジメチルシリル−シクロペンタジエニル−フルオレニル）、（ジメチルシリル− シクロペンタジエニル−オクタヒドロフルオレニル）、（ジメチルシリル−シク ロペンタジエニル−テトラヒドロフルオレニル）、（１，１，２，２−テトラメ チル−１，２−ジシリル−ビス−シクロペンタジエニル）、（１，２−ビス（シ クロペンタジエニル）エタン、および（イソプロピリデン−シクロペンタジエニ ル−フルオレニル）。 好適なＸ”基は、ハイドライド、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロヒ ドロカルビル、ハロシリル、シリルヒドロカルビルおよびアミノヒドロカルビル 基から選択されるか、或は２つのＸ”基が一緒になって 共役ジエンの二価誘導体を形成しているか、さもなければそれらが一緒になって π結合を有する中性の共役ジエンを形成している。最も好適なＸ”基はＣ_1-20ヒ ドロカルビル基であり、それには任意に２つのＸ”基が一緒になることで生じる 基が含まれる。 本発明で用いるさらなる種類の金属錯体は、Ｘが非水素原子数が５０以下の二 価置換基でＬと一緒になってＭを伴うメタロサイクルを形成している前記式Ｌ_l ＭＸ_mＸ’_nＸ”_pまたはそれの二量体に相当する。 好適な二価のＸ置換基には、非局在化したπ結合を有する基に直接結合する原 子（これは酸素、硫黄、ホウ素、または元素周期律表の１４族の一員である）を 少なくとも１つ含みかつＭに共有結合する異なる原子（これは窒素、燐、酸素ま たは硫黄から成る群から選択される）を含む非水素原子数が３０以下の基が含ま れる。 本発明に従って用いる好適な種類の上記４族金属配位錯体は、式 ［式中、 Ｍは、形式的酸化状態が＋２または＋４のチタンまたはジルコニウムであり、 Ｘ”およびＲ³は、この上で式ＡＩおよびＡＩＩの場合に定義した通りであり、 Ｙは、−Ｏ−，−Ｓ，−ＮＲ^*−，−ＰＲ^*−であり、そして Ｚは、ＳｉＲ^* ₂，ＣＲ^* ₂，ＳｉＲ^* ₂ＳｉＲ^* ₂，ＣＲ^* ₂ＣＲ^* ₂，ＣＲ^*＝ＣＲ^*，Ｃ Ｒ^* ₂ＳｉＲ^* ₂またはＧｅＲ^* ₂であり、ここで、Ｒ＊はこの上て定義した通りであ る］ に相当する。 本発明の実施で使用可能な説明的４族金属錯体には下記が含まれる：シクロペ ンタジエニルチタントリメチル、シクロペンタジエニルチタントリエチル、シク ロペンタジエニルチタントリイソプロピル、シクロペンタジエニルチタントリフ ェニル、シクロペンタジエニルチタントリベンジル、シクロペンタジエニルチタ ン−２，４−ジメチルペンタジエニル、シクロペンタジエニルチタン−２，４− ジメチルペンタジエニル・トリエチルホスフィン、シクロペンタジエニルチタン −２，４−ジメチルペンタジエニル・トリメチルホスフィン、シクロペンタジエ ニルチタンジメチルメトキサイド、シクロペンタジエニルチタンジメチルクロラ イド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメチル、インデニルチタン トリメチル、インデニルチタントリエチル、インデニルチタントリプロピル、イ ンデニルチタントリフェニル、テトラヒドロインデニルチタントリベンジル、ペ ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリイソプロピル、ペンタメチルシクロ ペンタジエニルチタントリベンジル、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン ジメチルメトキサイド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタンジメチルクロ ライド、ビス（η⁵−２，４−ジメチルペンタジエニル）チタン、ビス（η⁵−２ ，４−ジメチルペンタジエニル）チタン・トリメチルホスフィン、ビス（η⁵− ２，４−ジメチルペンタジエニル）チタン・トリエチルホスフィン、オクタヒド ロフルオレニルチタントリメチル、テトラヒドロインデニルチタント リメチル、テトラヒドロフルオレニルチタントリメチル、（ｔ−ブチルアミド） （１，１−ジメチル−２，３，４，９，１０−η−１，４，５，６，７，８−ヘ キサヒドロナフタレニル）ジメチルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド ）（１，１，２，３−テトラメチル−２，３，４，９，１０−η−１，４，５， ６，７，８−ヘキサヒドロナフタレニル）ジメチルシランチタンジメチル、（ｔ −ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチルシラ ンチタンジベンジル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペン タジエニル）ジメチルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメ チル−η⁵−シクロペンタジエニル）−１，２−エタンジイルチタンジメチル、 （ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−インデニル）ジメチルシランチタ ンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニ ル）ジメチルシランチタン（ＩＩＩ）２−（ジメチルアミノ）ベンジル；（ｔ− ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチルシラン チタン（ＩＩＩ）アリル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロ ペンタジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩＩ）２，４−ジメチルペンタジエ ニル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジ メチル−シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、（ｔ −ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチル−シ ランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル インデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタ ジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン （ＩＩ）２，４−ヘキサジエン、（ｔ−ブチルアミド） （２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）２，３−ジメチル−１ ，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシ ランチタン（ＩＶ）イソプレン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル ）ジメチルシランチタン１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２，３− ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）２，３−ジメチル−１，３ −ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチル シランチタン（ＩＶ）イソプレン、（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルイ ンデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（２ ，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジベンジル、（ｔ− ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン１，３− ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシ ランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジ メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３ −ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシラン チタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルイン デニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（２− メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジベンジル、（ｔ−ブチルア ミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ） １，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル −４−フェニルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエ ン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシ ランチタン（ＩＩ）２，４−ヘキ サジエン、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル ）ジメチルシランチタン１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメ チル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチル−シランチタン（ＩＶ）２，３− ジメチル−１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵− シクロペンタジエニル）ジメチル−シランチタン（ＩＶ）イソプレン、（ｔ−ブ チルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチルシランチ タン（ＩＩ）１，４−ジベンジル−１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド） （テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ） ２，４−ヘキサジエン、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペ ンタジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）３−メチル−１，３−ペンタジエ ン、（ｔ−ブチルアミド）（２，４−ジメチルペンタジエン−３−イル）ジメチ ルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（６，６−ジメチルシクロヘキ サジエニル）ジメチル−シランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（１，１ −ジメチル−２，３，４，９，１０−η−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒド ロナフタレン−４−イル）ジメチルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド ）（１，１，２，３−テトラメチル−２，３，４，９，１０−η−１，４，５， ６，７，８−ヘキサヒドロナフタレン−４−イル）ジメチルシランチタンジメチ ル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）メチ ルフェニル−シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメ チル−η⁵−シクロペンタジエニル）メチルフェニルシランチタン（ＩＩ）１， ４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、１−（ｔ−ブチルアミド）−２−（テト ラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）エタ ンジイル−チタン（ＩＶ）ジメチル、および１−（ｔ−ブチルアミド）−２−（ テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）エタンジイル−チタン（ＩＩ）１ ，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン。 本発明で用いるに適切なＬ基を２つ含む錯体（橋状錯体を包含）には下記が含 まれる：ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（シクロペ ンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコ ニウムメチルベンジル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルフェ ニル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジフェニル、ビス（シクロペ ンタジエニル）チタン−アリル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメ チルメトキサイド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルクロライ ド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（ ペンタメチルシクロペンタジエニル）チタンジメチル、ビス（インデニル）ジル コニウムジメチル、インデニルフルオレニルジルコニウムジメチル、ビス（イン デニル）ジルコニウムメチル（２−（ジメチルアミノ）ベンジル）、ビス（イン デニル）ジルコニウムメチルトリメチルシリル、ビス（テトラヒドロインデニル ）ジルコニウムメチルトリメチルシリル、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエ ニル）ジルコニウムメチルベンジル、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル ）ジルコニウムジベンジル、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコ ニウムメチルメトキサイド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコ ニウムメチルクロライド、ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニ ウムジメチル、ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、 ビス（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメ チル、ビス（エチルテトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル 、ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、ビス （トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、ジメチル シリル−ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ジメチルシリル −ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタン−（ＩＩＩ）アリル、ジメ チルシリル−ビス（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ ド、ジメチルシリル−ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ クロライド、（メチレン−ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタン（ ＩＩＩ）２−（ジメチルアミノ）ベンジル、（メチレン−ビス（ｎ−ブチルシク ロペンタジエニル）チタン（ＩＩＩ）２−（ジメチルアミノ）ベンジル、ジメチ ルシリル−ビス（インデニル）ジルコニウムベンジルクロライド、ジメチルシリ ル−ビス（２−メチルインデニル）ジルコニウムジメチル、ジメチルシリル−ビ ス（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジルコニウムジメチル、ジメチルシ リル−ビス（２−メチルインデニル）ジルコニウム−１，４−ジフェニル−１， ３−ブタジエン、ジメチルシリル−ビス（２−メチル−４−フェニルインデニル ）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、ジメチルシ リル−ビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニ ル−１，３−ブタジエン、ジメチルシリル−ビス（フルオレニル）ジルコニウム メチルクロライド、ジメチルシリル−ビス（テトラヒドロフルオレニル）ジルコ ニウムビス（トリメチルシリル）、（イソプロピリデン）（シクロペンタジエニ ル）（フルオレニル）ジルコニウムジベンジル、およびジメチルシリル（テトラ メチルシクロペンタジエニル） （フルオレニル）ジルコニウムジメチル。 勿論、他の触媒、特に他の４族金属を含有する触媒も本分野の技術者に明らか であろう。 本発明の実施で用いるに好適なメタロセン種には、拘束幾何金属錯体（チタン 錯体を包含）が含まれ、それらの製造方法は、１９９０年７月３日付けで提出し た米国出願連続番号５４５，４０３（ヨーロッパ特許出願公開第４１６，８１５ 号）、１９９２年１０月２８日付けで提出した米国出願連続番号９６７，３６５ （ヨ−ロッパ特許出願公開第５１４，８２８号）、そして１９９２年５月１日付 けで提出した米国出願連続番号８７６，２６８（ヨーロッパ特許出願公開第５２ ０，７３２号）に加えて、米国特許第５,０５５,４３８、５,０５７,４７５、５ ,０９６,８６７、５,０６４,８０２、５,０９６,８６７、５,１３２,３８０，５ ,１３２,３８０、５,４７０,９９３、５,４８６,６３２および５,１３２,３８０ 、５,３２１,１０６号に開示されているように、本技術における技術の範囲内で ある。 下記の式３、４、５、６、７、８、９、１０、１１または１２で表されるメタ ロセン触媒が特に好適である。 式３： ｛式中、各Ｘは独立してヒドロカルビル、シリルヒドロカルビル［メタロシクロ ペンテン（ｍｅｔａｌｌｏｃｙｃｌｏｐｅｎｔｅｎｅ）様式で配位する共役ジエ ン配位子を包含］であり、Ｒ₁はヒドロカルビルまた はシリルヒドロカルビルであり、ＥはＣまたはＳｉであり、Ｒ₂はヒドロカルビ ル、シリルヒドロカルビルまたは水素であり、ｙは１または２であり、Ｍは遷移 金属、好適にはＨｆ、ＺｒまたはＴｉであり、各Ｒ₃は独立してヒドロカルビル またはシリルヒドロカルビルであり、ここで、任意に、２つの隣接するＲ₃基が 結合して環構造、例えばインデニル配位子を形成していてもよい｝［このような 触媒を本明細書では形式的酸化状態が＋４の拘束幾何触媒と呼び、これらは拘束 幾何触媒に関する米国特許に例示されているように本技術における技術の範囲内 である］。 式４： ｛式中、Ｘは安定化（ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ）ヒドロカルビルまたはシリルヒド ロカルビル部分［これは更に任意に少なくとも１個のアミン、エーテル、ホスフ ィンまたはチオエーテル基で置換されていてもよく、このような基は、還元を受 けた金属中心を安定にする能力を有する］であり、ここで、任意に、Ｘはアリル またはヒドロカルビル置換アリル部分であってもよく、Ｒ₁はヒドロカルビルま たはシリルヒドロカルビルであり、ＥはＣまたはＳｉであり、Ｒ₂はヒドロカル ビル、シリルヒドロカルビルまたは水素であり、ｙは１または２であり、Ｍは遷 移金属、好適にはＨｆ、ＺｒまたはＴｉであり、各Ｒ₃は独立してヒドロカルビ ルまたはシリルヒドロカルビルであり、ここで、任意に、２つの隣接するＲ₃基 が結合して環構造、例えばインデニル配位子を形成していてもよい｝［このよう な触媒を本明細書では形式的酸化状態が＋３の拘束幾 何触媒と呼び、これらは拘束幾何触媒に関する米国特許、特に米国特許第５，３ ７４，６９６号に例示されているように本技術における技術の範囲内である］。 式５： ｛式中、Ｌは、金属中心にπ結合で結合している共役ジエン配位子であり、Ｒ₁ はヒドロカルビルまたはシリルヒドロカルビルであり、ＥはＣまたはＳｉであり 、Ｒ₂はヒドロカルビル、シリルヒドロカルビルまたは水素であり、ｙは１また は２であり、Ｍは遷移金属、好適にはＺｒまたはＴｉであり、各Ｒ₃は独立して ヒドロカルビルまたはシリルヒドロカルビルであり、ここで、任意に、２つの隣 接するＲ₃基が結合して環構造、例えばインデニル配位子を形成していてもよい ｝［このような触媒を本明細書では形式的酸化状態が＋２の拘束幾何触媒と呼び 、これらは米国特許第５，４７０，９９３号（Ｄｅｖｏｒｅ他）に詳細に開示さ れている］。 式６： ｛式中、Ｘは、式３で定義した通りであり、Ｍは遷移金属、好適にはＺｒ、Ｔｉ またはＨｆであり、各Ｒ₄は独立してヒドロカルビルまたはシ リルヒドロカルビルであり、ここで、任意に、２つの隣接するＲ₄基が結合して 環構造、例えばインデニル配位子を形成していてもよく、そして任意に、１つの シクロペンタジエニル部分に属するＲ₄と２番目のシクロペンタジエニル部分に 付いているＲ₄基が結合して橋状（またはループ状）アンサ（ａｎｓａ）メタロ センを形成していてもよい（以下の式９に示すように）｝［このような触媒を本 明細書では形式的酸化状態が＋４のビスシクロペンタジエニル触媒と呼び、これ らは米国特許第３，２４２，０９９号および５，１９８，４０１号に例示されて いるように本技術における技術の範囲内である］。 式７： ｛式中、ＸおよびＭは式４で定義した通りでありそしてＲ₄は式６で定義した通 りである｝［このような触媒を本明細書では形式的酸化状態が＋３のビスシクロ ペンタジエニル触媒と呼び、これらは米国特許第５，３７４，６９６号および５ ，４９４，８７４号に例示されているように本技術における技術の範囲内である ］。 式８： ｛式中、ＬおよびＭは式５で定義した通りでありそしてＲ₄は式６で定義した通 りである｝［このような触媒を本明細書では形式的酸化状態が＋２のビスシクロ ペンタジエニル触媒と呼び、これらは１９９６年２月１５日付けで公開されたＰ ＣＴ特許出願９６／０４２９０（これは１９９５年６月７日付けで提出した認可 米国特許出願４８１，７９１に相当する）に詳細に開示されている］。 式９： ｛式中、Ｌ、ＭおよびＲ₄は式８で定義した通りであり、各Ｐｈは独立して未置 換または不活性な様式で置換されているフェニル基でありそして各Ｍｅは独立し て未置換または不活性な様式で置換されているメチル基であり、好適には、Ｐｈ およびＭｅは両方とも未置換である｝［このような触媒を本明細書ではアンサメ タロセン触媒と呼び、これらは１９９６年２月１５日付けで公開されたＰＣＴ特 許出願９６／０４２９０（これは１９９５年６月７日付けで提出した認可米国特 許出願４８１，７９１に相当する）に例示されているように本技術における技術 の範囲内であり、このようなアンサーメタロセン類はプロクリアル（ｐｒｏｃｈ ｒｉａｌ）モノマー類、例えばプロピレンなどの立体特異的重合で用いるに特に 有用である］。 式１０： ｛式中、Ｘは式３で定義した通りであり、Ｍは遷移金属、好適にはＨｆ、Ｚｒま たはＴｉであり、そして各Ｒ₅は独立して式６のＲ₄で定義した通りである｝［こ のような触媒を本明細書では形式的酸化状態が＋４のモノシクロペンタジエニル 触媒と呼び、これらは米国特許第５，０６４，９１８号、４，７７４，３０１号 、５，０４５，５１７号および４，８０８，６８０号に例示されているように本 技術における技術の範囲内である］。 式１１： ｛式中、Ｘは式４で定義した通りであり、Ｒ₅は式１０で定義した通りであり、 そしてＭは遷移金属、好適にはＺｒ、ＨｆまたはＴｉであり、Ｙはアニオン性ハ ライド、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジヒドロカルビル、アミドま たはアリル基である｝［このような触媒を本明細書では形式的酸化状態が＋３の モノシクロペンタジエニル触媒と呼び、これらは米国特許第５，３７４，６９６ 号および５，４９４，８７４号に例示されているように本技術における技術の範 囲内である］。 およびまたは、式１２： ｛式中、Ｘは式４で定義した通りであり、Ｌは式５で定義した通りであり、Ｒ₅ はヒドロカルビルまたはシリルヒドロカルビルであり、ここで、任意に、２つの 隣接するＲ₅基が結合して環構造、例えばインデニル配位子を形成していてもよ く、そしてＭは遷移金属、好適にはＨｆ、ＺｒまたはＴｉである｝［このような 触媒を本明細書では形式的酸化状態が＋２のモノシクロペンタジエニル触媒と呼 び、これらはＰＣＴ特許出願ＷＯ ９６／００７４２（これは１９９４年６月２ ８日付けで提出した認可米国特許出願２６７，９９１に相当）に開示されている ように本技術における技術の範囲内である］。 各式中の各ヒドロカルビル基は、好適には非水素原子数が１から５０、より好 適には１から２４、最も好適には１から１５のヒドロカルビル基である。 本発明の実施で用いる好適な別の族のメタロセン触媒は式１３： ［式中、Ｒ¹−Ｒ⁶、Ｅ、Ｅ’、Ｍ、Ｑ、ｘおよびｙは、本明細書の以下に示す式 １４、１５および１６で定義する通りであり、そしてｚ、Ｙ”およびＹ”’を下 記の如く定義する：ｚ＝０または１、（１）ｚが両方の場合とも１の時には、Ｙ ”はＥ’とＹ”’の両方に結合して環を形成する分子フラグメントであり、これ を式１４で定義する如き（ＣＲ⁶ ₂）_yから選択し、そしてＹ”’は式１４に記述 する如きＣＲ⁷Ｒ⁸であるとして定義し、或は（２）ｚが両方の場合とも０の時に は、窒素原子がＥに直接結合しておりそして（１つの態様において）Ｙ”’はＮ にのみ結合しており、これを式１５で定義する如きＣＲ¹⁰Ｒ¹¹Ｒ¹²であるとして 定義し、或は（３）（２番目の態様において）ｚが両方の場合とも０の時には、 Ｙ”’を式１６で定義する２，４，６−（Ｒ¹³）₃Ｃ₆Ｈ₂部分であるとして定義 する］ で表される。式１Ａは、有利にはまた式１４、１５または１６にも相当する化合 物を表す。 式１３で表される好適な種は、式１４：［式中、Ｍ＝形式的酸化状態が＋４、＋３または＋２のＴｉ、Ｚｒ、そして形式 的酸化状態が＋４のＨｆ］ で表される化合物が含まれる。上記形式的酸化状態はＱの選択に依存する。好適 には、Ｍ＝形式的酸化状態が＋４、＋３または＋２のＴｉまたはＺｒ、より好適 には形式的酸化状態が＋４、＋３または＋２のＴｉ、または形式的酸化状態が＋ ４のＺｒ、最も好適には形式的酸化状態が＋４または＋２のＴｉ、特に酸化状態 が＋２のＴｉ。 Ｍが＋４の形式的酸化状態にある時、ＱはＸ₂に等しく、ここで、各場合とも 独立してＸ＝ハライド、ハイドライド、ヒドロカルビル（好適にはＣ_1-20）、ヒ ドロカルビルオキシ（好適にはＣ_1-20）、またはジヒドロカルビルアミド（好適 には各ヒドロカルビルがＣ_1-10）。また、任意に、Ｘ₂が一緒になって、メタロ シクロペンテン様式で配位する共役ジエン（好適にはＣ_4-40）であってもよい。 好適には、各場合とも独立してＸ₂＝ハライド、ヒドロカルビル（好適にはＣ_1-6 ）、ヒドロカルビルオキシ（好適にはＣ_1-6）であるか、或はＸ₂が一緒になって 、メタロシクロペンテン様式で配位する共役ジエン（好適にはＣ_4-20）配位子で ある。 Ｍが＋３の形式的酸化状態にある時、ＱはＸ’に等しく、ここで、Ｘ’＝（１ ）アルキル、シクロアルキル、アリール、シリル、アミド、ホスフィド、アルコ キシ、アリールオキシ、スルフィド基およびそれらの混合物から成る群から選択 される安定化用のアニオン性一価配位子［これは、更に、Ｍと一緒に配位−共役 結合またはキレート結合を形成し得るアミン、ホスフィン、エーテルまたはチオ エーテル含有置換基で置換されており、ここで、上記配位子は非水素原子を５０ 個以下の数で有する］または（２）Ｍと一緒にη³結合を形成し得るエチレン系 不飽和を含むＣ_3-10ヒドロカルビル基。好適なＸ’配位子は、アルキル、シクロ ア ルキル、アリール、シリル基から成る群から選択される安定化用のアニオン性一 価配位子［これは、更に、Ｍと一緒に配位−共役結合またはキレート結合を形成 し得るアミン、ホスフィンまたはエーテル含有置換基で置換されていてもよく、 ここで、上記配位子は非水素原子を３０個以下の数で有する］であるか、或はＭ と一緒にη³結合を形成し得るエチレン系不飽和を含むヒドロカルビル（好適に はＣ_3-10）基である。最も好適なＸ’配位子は、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベ ンジル、アリルおよび１−メチル−アリルである。 Ｍが＋２の形式的酸化状態にある時、ＱはＬに等しく、ここで、Ｌ＝中性の共 役ジエン［これは任意に１つ以上のヒドロカルビルまたはシリルヒドロカルビル 基で置換されていてもよく、ここで、上記Ｌは炭素原子を４０個以下の数で含ん でいて、Ｍと一緒にπ錯体を形成する］。好適なＬ配位子は、中性の共役ジエン であり、これは任意に１つ以上のヒドロカルビル基で置換されていてもよく、こ こで、上記Ｌは炭素原子を３０個以下の数で含んでいて、Ｍと一緒にπ錯体を形 成する。最も好適なＬ配位子は、１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、１ ，３−ペンタジエン、３−メチル−１，３−ペンタジエン、２，４−ヘキサジエ ン、１−フェニル−１，３−ペンタジエン、１，４−ジベンジル−１，３−ブタ ジエン、ブタジエン、１，４−ジトリル−１，３−ブタジエン、１，４−ビス（ トリメチルシリル）−１，３−ブタジエンであり、上記Ｌ配位子はＭと一緒にπ 錯体を形成する。 Ｍに対してπ錯体を形成するジエン配位子とＭに対してσ錯体を形成するジエ ン配位子（即ちメタロシクロペンテン）の間の区別は、例えば米国特許第５，４ ７０，９９３号に説明されているように本技術における 技術の範囲内である。 各場合とも独立して、Ｅ＝Ｃ、Ｓｉ、ＳｎまたはＧｅ、好適には各場合とも独 立してＥ＝ＣまたはＳｉ。ｘ＝１，２，３または４、好適にはｘ＝１，２または ３。Ｅ’＝ＣまたはＳｉ。ｙ＝１、２、３、４、５または６、好適にはｙ＝２ま たは３。Ｒ¹＝Ｈまたはヒドロカルビル（好適にはＣ_1-10）、好適にはＨまたは ヒドロカルビル（好適にはＣ_1-6）、より好適にはメチル（Ｍｅ）。Ｒ²＝Ｈまた はヒドロカルビル（好適にはＣ_1-10）、ＮＲ⁹ ₂［各場合とも独立してＲ⁹＝ヒド ロカルビル（好適にはＣ_1-8）、任意に両方のＲ⁹が連成して環系を形成していて もよい］、またはＯＲ⁹、好適にはＨ、Ｃ_1-6ヒドロカルビル、ＮＲ⁹ ₂、より好適 にはＨ、フェニル（Ｐｈ）またはＮＲ⁹ ₂。Ｒ³＝Ｈまたはヒドロカルビル（好適 にはＣ_1-16）、好適にはＨまたはヒドロカルビル（好適にはＣ_1-12）、より好適 にはアルキル、フェニル、ナフチル、ヒドロカルビル置換アリール（好適にはＣ₁₁ −Ｃ₁₆）、またはジアルキルナフチル（好適にはＣ₁₂からＣ₁₆）、最も好適に はＨ、フェニルまたは５，８−ジメチルナフチル。各場合とも独立してＲ⁴、Ｒ⁵ ＝ＨまたはＣ_1-8ヒドロカルビル、任意にＲ⁴とＲ⁵が連成して環系を形成してい てもよく、好適にはＨ、メチルまたは環系（ヒドロカルビルで置換されているか 或は未置換）（炭素原子数は全体で１２以下）を形成していてもよい。各場合と も独立してＲ⁶＝Ｈまたはヒドロカルビル（好適にはＣ_1-16）、任意に両方のＲ⁶ が連成して環系を形成していてもよく、好適にはヒドロカルビル（好適にはＣ_{1- 10} ）、または任意に両方のＲ⁶が連成して環系を形成していてもよく、より好適 にはメチル、フェニルであるか或は任意に両方のＲ⁶が連成して環系（ヒドロカ ルビルで置換されているか或は未置換） （炭素原子数は全体で１２以下）を形成していてもよい。Ｒ⁷、Ｒ⁸＝ヒドロカル ビル（好適にはＣ_1-20）、任意にＲ⁷とＲ⁸の両方が連結して環系を形成していて もよく、好適には芳香族（好適にはＣ_1-20）ヒドロカルビル環系（これはヒドロ カルビルで置換されているか或は未置換である）を形成していてもよいか、或は Ｒ⁷とＲ⁸の両方が連結して縮合芳香族環系を形成していてもよく、より好適には フェニル、ナフチルであるか或はＲ⁷とＲ⁸の両方が連結して縮合芳香族環系を形 成していている。 式１３に相当する他の好適な種の化合物または錯体は、式１５： ［式中、 Ｍ，Ｑ，Ｘ，Ｘ¹，Ｌ，Ｅ，ｘ，Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ⁹，Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵およびＲ⁶は、式 １４で定義した通りであるが、但しＲ³は最も好適には５，８−ジメチルナフチ ルであり、そしてＲ¹⁰＝Ｈまたはヒドロカルビル（好適にはＣ_1-20）、好適には Ｈ、ヒドロカルビル（好適にはＣ_1-12）、より好適にはＨ、フェニルまたはメチ ル］ で表されるものが含まれる。各場合とも独立してＲ¹¹、Ｒ¹²＝独立してヒドロカ ルビル（好適にはＣ_1-20）、任意にＲ¹¹とＲ¹²の両方が連成して環系を形成して いてもよく、好適にはフェニル、ナフチルまたは連成 した芳香族ヒドロカルビル環系（好適にはＣ_1-20）（各場合とも独立して）、任 意にＲ¹¹とＲ¹²の両方が連成して芳香族ヒドロカルビル環系（ヒドロカルビルで 置換されているか或は未置換）（炭素原子数は全体で２０以下）を形成していて もよい。 式１３で表される好適なさらなる態様には、式１６：［式中、 Ｑ，Ｘ，Ｘ¹，Ｌ，Ｅ，ｘ，Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ⁹，Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵およびＲ⁶は、式１５ で定義した通りであり、そしてＲ¹³＝ヒドロカルビル（好適にはＣ_6-20）、好適 には芳香族（好適にはＣ_6-20）ヒドロカルビル（ヒドロカルビルで置換されてい るか或は未置換）、より好適にはフェニルまたはナフチル］ に相当する化合物または錯体が含まれる。 式１３−１６に相当する種の中で、ポリプロピレン鎖の中に入って来るプロピ レンモノマーの挿入が主にイソタクティック的（ｉｓｏｔａｃｔｉｃ）に起こる ようにモデル化することによって予測される種が好適であり、イソタクティック 的挿入が起こるパーセントがより高いと予測 される方がィソタクティック的挿入が起こるパーセントが低いと予測されるより も好適である。触媒を用いてポリプロピレンを製造する時のイソタクティック性 を予測する評価方法では、Ｗａｖｅｆｕｎｃｔｉｏｎ，Ｉｎｃ．（１８４０１ Ｖｏｎ Ｋａｒｍａｎ Ａｖｅ．、＃３７０、Ｉｒｖｉｎｅ、ＣＡ ９２７１５ 、米国）から商業的に入手可能なプログラムＳＰＡＲＴＡＮ（Ｓｐａｒｔａｎバ ージョン４．１、ｃ １９９５ Ｗａｖｅｆｕｎｃｔｉｏｎ，Ｉｎｃ．）で計算 される如きＳｙｂｙｌ力場（ｆｏｒｃｅ ｆｉｅｌｄ）を用いる。調査すべき種 の初期構造を上記ＳＰＡＲＴＡＮプログラムで構築する。触媒が重合で果す役割 をモデル化する場合、プロピレンがその入って来るオレフィンのモデルになり、 そして２−メチルブチル基が、金属に直接結合して成長するポリマー鎖のモデル になる。加うるに、オレフィン二重結合の中間点は、挿入段階前のオレフィン− 触媒錯体を模擬した場合、金属から２．７Å離れた所に拘束される。このような 種の幾何形態はＳｙｂｙｌ力場で最適になる。 イソタクティック的挿入が起こるパーセントを式： Ｅイソタクティック−Ｅシンジオタクティック（ｋｃａｌ／モル）＠ΔΔＧ＝− ＲＴ ｌｎ（％イソタクティック／％シンジオタクティック） ［式中、 Ｅイソタクティックは、イソタクティック挿入に関してコンピューターで計算し たエネルギーであり、 Ｅシンジオタクティックは、シンジオタクティック挿入に関してコンピューター で計算したエネルギーであり、 ΔΔＧは、２つの状態の間の自由エネルギー（ΔＧ）の差であり、 Ｒは、一般ガス定数１．９８７ｃａｌ／モル・Ｋであり、 Ｔは、ケルビン温度（Ｋ）であり、 ％イソタクティックは、予測イソタクティック挿入のパーセントであり、％シン ジオタクティックは、予測シンジオタクティック挿入のパーセントである］ から計算する。 Ｓｙｂｙｌ力場から得られるエネルギーによって上記パーセントの比率が決定 される。Ｔ＝７０℃（３４３°ケルビン）においてシンジオタクティックに対す るイソタクティックの比率（ｒ）（即ち％イソタクティック挿入／％シンジオタ クティック挿入）を計算する。次に、イソタクティックパーセントを下記の式か ら計算した後、実験ペンタド（ｐｅｎｔａｄ）と比較する。 ％イソタクティック＝（ｒ／１＋ｒ）ｘ１００ ％シンジオタクティック＝１００−％イソタクティック。 式１４、１５および１６で表される化合物の例は下記である： ２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジクロライド；２，２−ジ−（ ２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル） −エチル）−ピペリジニルチタンジメチル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６ −（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリ ジニルチタンジメトキサイド；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン ジフェニル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル− ４−フェニル− インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジベンジル；２，２−ジ−（２− ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エ チル）−ピペリジニルチタンビス（ジメチルアミド）；２，２−ジ−（２−ナフ チル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル ）−ピペリジニルチタン（２−メチル−１，３−ブタジエン）；２，２−ジ−（ ２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル） −エチル）−ピペリジニルチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル；２，２ −ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イン デニル）−エチル）−ピペリジニルチタンアリル；２，２−ジ−（２−ナフチル ）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）− ピペリジニルチタン（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン）；２，２−ジ −（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニ ル）−エチル）−ピペリジニルチタン（１，３−ペンタジエン）；２，２−ジ− （２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル ）−メチル）−ピペリジニルチタンジクロライド；２，２−ジ−（２−ナフチル ）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）− ピペリジニルチタンジメチル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタン ジメトキサイド；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチ ル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタンジフェニル； ２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタンジベンジ ル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェ ニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタンビス（ジメチルアミド）； ２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタン（２−メチル−１，３−ブタジ エン）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４− フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチル アミノベンジル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチ ル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタンアリル；２， ２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イ ンデニル）−メチル）−ピペリジニルチタン（１，４−ジフェニル−１，３−ブ タジエン）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル− ４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタン（１，３−ペンタ ジエン）；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジクロライド；２，２−ジフェ ニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル） −ピペリジニルチタンジメチル；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２− メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジメトキ サイド；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル− インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジフェニル；２，２−ジフェニル −６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピ ペリジニルチタンジベンジル；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メ チル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニ ルチタンビス（ジメチルアミド）；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２ −メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン（２− メチル−１，３−ブタジエン）；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２− メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン２−Ｎ， Ｎ−ジメチルアミノベンジル；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メ チル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンアリル；２ ，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル ）−エチル）−ピペリジニルチタン（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン ）；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イン デニル）−エチル）−ピペリジニルチタン（１，３−ペンタジエン）；並びに式 １３中のＥまたはＥ’の少なくとも１つが炭素ではなくてケイ素でありそしてそ れのＲ⁶が独立してメチルまたはフェニルから選択される類似構造物；（９−（ ９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イン デニル）ジメチルシランチタンジクロライド；（９−（９−フェニルフルオレニ ル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシラン チタンジメチル；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メ チル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジベンジル；（９−（ ９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イン デニル）ジメチルシランチタンジメトキサイド；（９−（９−フェニルフルオレ ニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシラ ンチタンビス（ジメチルアミド）；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミ ド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメ チルシランチタン（２−メチル−１，３−ブタジエン）；（９−（９−フェニル フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメ チルシランチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル；（９−（９−フェニル フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメ チルシランチタンアリル；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（１，４−ジ フェニル−１，３−ブタジエン）；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミ ド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（１ ，３−ペンタジエン）；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵− ２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタンジイルチタンジクロライド；（ ９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）エタンジイルチタンジメチル；（９−（９−フェニルフルオレニ ル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタンジイルチ タンジベンジル；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メ チル−４−フェニル−インデニル）エタンジイルチタンジメトキサイド；（９− （９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イ ンデニル）エタンジイルチタンビス（ジメチルアミド）；（９−（９−フェニル フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタ ンジイルチタン（２−メチル−１，３−ブタジエン）；（９−（９−フェニルフ ルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタン ジイルチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル；（９−（９−フェニルフル オレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニ ル−インデニル）エタンジイルチタンアリル；（９−（９−フェニルフルオレニ ル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタンジイルチ タン（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン）；（９−（９−フェニルフル オレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタンジ イルチタン（１，３−ペンタジエン）；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジクロライド ；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデ ニル）ジメチルシランチタンジメチル；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジベンジル； （９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニ ル）ジメチルシランチタンジメトキサイド；（９−（フルオレニル））アミド（ η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンビス（ジ メチルアミド）；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フ ェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（２−メチル−１，３−ブタジエン ）；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イン デニル）ジメチルシランチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル；（９−（ フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメ チルシランチタンアリル；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル −４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（１，４−ジフェニル−１ ，３−ブタジエン）；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４ −フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（１，３−ペンタジエン）；（ ２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル −４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジクロライド；（２，４， ６−トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル ）ジメチルシランチタンジメチル；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（ η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジベンジ ル；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニ ル−インデニル）ジメチルシランチタンジメトキサイド；（２，４，６−トリフ ェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチル シランチタンビス（ジメチルアミド）；（２，４，６−トリフェニルアニリニド ）（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン２− Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（ η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンアリル； （２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニル− インデニル）ジメチルシランチタン（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン ）；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニ ル−インデニル）ジメチルシランチタン（１，３−ペンタジエン）；およびそれ らの混合物。 バルク電解活性化技術を伴う方法では特にボラタベンゼンアニオンを有するテ トラヒドロカルビルアンモニウム塩が有用である。バルク電解技術は、配位しな い不活性なアニオンを含む支持用電解質、本発明の実施ではボラタベンゼンの存 在下で金属錯体の電気化学酸化を電解条件下で行うことを伴う。この技術におけ る電解では、金属錯体を触媒的に不活性にする可能性がある電解副生成物を反応 中に実質的に生じないような溶媒、支持用電解質および電解圧を用いる。より詳 細には、適切な溶 媒は、電解条件（一般的には０から１００℃の温度）下で液状で、支持用電解質 を溶かす能力を有しかつ不活性な材料である。「不活性な溶媒」は、電解で用い る反応条件下で還元も酸化も受けない溶媒である。所望電解反応を考慮して、一 般的には、所望電解で用いる電位の影響を受けない溶媒および支持用電解質を選 択することができる。好適な溶媒にはジフルオロベンゼン（オルソ、メタまたは パラ異性体）、ジメトキシエタンおよびそれらの混合物が含まれる。 この電解は、任意に、陽極および陰極（またそれぞれ作用電極および対電極と も呼ぶ）が入っている標準的な電解槽内で実施可能である。この電解槽に適切な 構成材料はガラス、プラスチック、セラミックおよびガラス被覆金属である。上 記電極を不活性な導電性材料で作成するが、これは、反応混合物の影響も反応条 件の影響も受けない導電性材料を意味する。白金またはパラジウムが好ましい不 活性な導電性材料である。通常は、イオンを透過し得る膜、例えば微細なガラス フリットなどで上記電解槽を個別の区分室、即ち作用電極用区分室と対電極用区 分室に分ける。上記作用電極を、活性化を受けさせるべき金属錯体と溶媒と支持 用電解質と他の任意材料（電解の調節または結果として生じる錯体の安定化で望 まれる）が入っている反応媒体の中に浸す。上記対電極を上記溶媒と支持用電解 質の混合物の中に浸漬する。理論的な計算を行うか或は基準電極、例えば銀電極 などを用いてそれを上記電解槽の電解質に浸漬してその電解槽を走査することを 通して実験的に所望電圧を決定することができる。また、電解槽の背景電流、即 ち所望の電解を起こさせていない時に引き出される電流も測定する。電流が所望 レベルから背景レベルに降下した時点で電解が完了する。このようにして、初期 金属錯体 の変換が完全に起こったことを容易に検出することができる。 メタロセン錯体に活性化をバルク電解で受けさせている間、支持用電解質のカ チオンが上記対電極の所に移行しかつボラタベンゼンアニオンが上記作用電極の 所に移行することで結果として酸化を受けた生成物のアニオンになる。上記作用 電極の所で酸化を受けた金属錯体が生じ、その量と等しいモル量で上記溶媒また は支持用電解質のカチオンのいずれかが上記対電極の所で還元を受ける。 バルク電解およびそれの変形の使用は米国特許第５，３７２，６８２号および ５，４２５，８７２号に例示されているように本技術における技術の範囲内であ る。 本発明の１つの態様で共触媒として用いるに有用で有利な化合物は、プロトン を供与し得るブレンステッド酸であるカチオンと適合性で不活性な配位しないボ ラタベンゼンアニオンを含むものである。好適なアニオンは、２つの成分を一緒 にした時に生じるカチオン成分の電荷の均衡を最も取り得るアニオンである。ま た、上記アニオンは、好適には、オレフィン系、ジオレフィン系およびアセチレ ン系不飽和化合物または他の中性ルイス塩基、例えばエーテル類またはニトリル 類などに置き換わるに充分な程不安定なアニオンである。 ボラタベンゼン類を含有する共触媒または活性化剤を、他の共触媒または活性 化剤に関する技術における技術の範囲内の量および条件下で用いる。それらの使 用は本技術における技術の範囲内のメタロセン触媒を用いた全ての方法に適用可 能であり、そのような方法には溶液、スラリー、塊状（特にプロピレン）および 気相重合方法が含まれる。そのような方法には引用した文献に詳細に開示されて いる方法が含まれる。重合 させるに有用なモノマー類にはエチレン、プロピレン、スチレン、ブテン、ヘキ セン、ペンテン、オクテンなどが含まれる。 使用する触媒／共触媒または活性化剤のモル比を好適には１：１０，０００か ら１００：１、より好適には１：５０００から１０：１、最も好適には１：１０ ００から１：１の範囲にする。任意に、上記共触媒をＣ_3-30トリヒドロカルビル アルミニウム化合物またはオリゴマー状もしくはポリマー状のアルモキサンと組 み合わせて用いてもよい。また、活性化用共触媒の混合物も使用可能である。そ のようなアルミニウム化合物は酸素、水およびアルデヒド類などの如き不純物を 重合混合物から捕捉すると言った有益な能力を有することからそれらを用いるこ とができる。好適なアルミニウム化合物にはＣ_2-6トリアルキルアルミニウム化 合物、特にアルキル基がエチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ チル、ペンチル、ネオペンチルまたはイソペンチルであるトリアルキルアルミニ ウム化合物、そしてメチルアルモキサン、修飾メチルアルモキサンおよびジイソ ブチル−アルモキサンが含まれる。このようなアルミニウム化合物と金属錯体の モル比を好適には１：１０，０００から１０００：１、より好適には１：５００ ０から１００：１、最も好適には１：１００から１００：１にする。 付加重合し得る有利なモノマー類には、エチレン系不飽和モノマー類、アセチ レン化合物、共役もしくは非共役ジエン類およびポリエン類が含まれる。好適な モノマー類にはオレフィン類、例えば炭素原子数が２から２０，０００、好適に は２から２０、より好適には２から８のアルファ−オレフィン類、そして上記ア ルファ−オレフィン類の２種以上から成る組み合わせが含まれる。特に適切なア ルファ−オレフィン類には、例 えばエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、４−メチルペンテン− １、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、１ −ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−テトラデセン、１−ペンタ デセンなど、またはそれらの組み合わせばかりでなく、重合中に生じる長鎖ビニ ル末端を有するオリゴマー状もしくはポリマー状の反応生成物、そしてＣ_10-30 α−オレフィン類、具体的には、結果として生じるポリマー類が比較的長い鎖分 枝を持つようにする目的で反応混合物に付加させるα−オレフィン類が含まれる 。このアルファ−オレフィン類は、好適にはエチレン、プロペン、１−ブテン、 ４−メチル−ペンテン−１、１−ヘキセン、１−オクテン、そしてエチレンおよ び／またはプロペンと上記他のアルファ−オレフィン類の１種以上から成る組み 合わせである。他の好適なモノマー類にはスチレン、ハロ置換もしくはアルキル 置換スチレン類、テトラフルオロエチレン、ビニルシクロブテン、１，４−ヘキ サジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネンおよび１，７−オク タジエンなどが含まれる。また、上述したモノマー類の混合物も使用可能である 。 重合をたいていは有利にチーグラー・ナッタまたはカミンスキー・シン型重合 反応に関する従来技術で公知の条件、即ち大気圧から３０００気圧の圧力下０− ２５０℃の温度で行う。バッチ式または連続式形態であるか或は他の工程条件（ これにはモノマー類または溶媒を凝縮させて再循環させることが含まれる）下で あるかに拘らず任意に懸濁、溶液、スラリー、気相または高圧を用いることがで きる。そのような方法の例は、例えばＷＯ ８８／０２００９−Ａ１または米国 特許第５，０８４，５３４号（これには重合触媒を用いた時に有利に用いられる 条件が開示 されている）などの如き技術でよく知られている。支持体、特にシリカ、アルミ ナまたはポリマー（特にポリテトラフルオロエチレンまたはポリオレフィン）を 任意に用いることができ、望ましくは、上記触媒を気相重合方法で用いる時に支 持体を用いる。そのような支持型触媒は、有利に、液状の脂肪族もしくは芳香族 炭化水素（例えば気相重合方法において縮合技術を用いる場合に任意に存在させ る如き）を存在させてもそれの影響を受けない。このような支持型触媒を調製す る方法は数多くの文献（その例は米国特許第４,８０８,５６１、４,９１２,０７ ５、５,００８,２２８、４,９１４,２５３および５,０８６,０２５号である）に 開示されていて、支持型触媒の調製で用いるに適切である。 また、所望特性を有するポリマーブレンド物を製造する目的で上記触媒を任意 に少なくとも１種の追加的均一もしくは不均一重合触媒と組み合わせて用いるこ とも可能であり、その場合には、それらを、直列もしくは並列連結させた個別の 反応槽に入れる。そのような方法の例がＷＯ ９４／００５００（これは米国出 願連続番号０７／９０４，７７０に相当）に開示されている。より具体的な方法 が１９９３年１月２９日付けで提出した同時係属中の出願である米国出願連続番 号０８／１０９５８に開示されている。 本発明の実施に従ってボラタベンゼン共触媒を用いると、トリス（ペンタフル オロフェニル）ボランまたはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート含 有塩［供給量が少なくて合成が困難なペンタフルオロフェニル基が好適なボラタ ベンゼン類のそれよりも１分子当たりに多く含まれている］の如き化合物が用い られている従来技術に比べて、共触媒または活性化剤の有効な活性をより安価に 得ることができる。 追加的に、ボラタベンゼン共触媒は、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラ ンまたはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート含有塩の如き従来技術 の化合物に比べて、図１に示す如き反応（この反応ではメチル基が脱離してメタ ンが生じる）で炭化水素が引き抜かれる時の反応が従来技術の好適な活性化剤お よび共触媒を用いた場合よりも可逆的でなくて再結合が容易には観察されない点 で、より有効な活性化剤である。 この使用するメタロセンを任意に不活性な担体に支持させてもよく、また任意 に前以て重合を受けさせておいてもよい。本技術分野では多様な支持技術が公知 である。米国特許第５，２４０，８９４号に従う１つの技術を用いる。有利には 、支持型メタロセンを予備重合様式で用いる。この予備重合体は任意に如何なる アルファオレフィン、好適にはエチレン、プロピレンまたはブテンの予備重合体 であってもよい。 上記ボラタベンゼン共触媒を任意に支持体に化学結合させてもよく、例えば上 記ボラタベンゼンに付いている置換基と支持体を化学的に反応させることなどで 上記結合を起こさせてもよいか、或は溶液を用いてそれを支持体上で蒸発させて もよい。 本発明で用いるに有利な無機酸化物支持体には、高い間隙率を有するシリカ、 アルミナ、アルミノシリケート類、アルミノホスフェート類、粘土、チタニアお よびそれらの混合物が含まれる。好適な無機酸化物はアルミナおよびシリカであ る。最も好適な支持材料はシリカである。この支持材料は粒状、凝集形態、ペレ ット形態または他の如何なる物理的形態であってもよい。 本発明で用いるに有利な支持体は、好ましくは、Ｂ．Ｅ．Ｔ．方法を 用いた窒素ポロシメトリー（ｐｏｒｏｓｉｍｅｔｒｙ）で測定した時の表面積が １０から１０００ｍ²／ｇ、好適には１００から６００ｍ²／ｇのものである。こ の支持体の細孔容積を、窒素吸着で測定して、有利には０．１から３ｃｍ³／ｇ 、好適には０．２から２ｃｍ³／ｇの範囲にする。平均粒子サイズは決定的では ないが、典型的には０．５か５００μｍ、好適には１から１５０μｍにする。 無機酸化物、特にシリカ、アルミナおよびアルミノシリケート類は、本質的に 、原子マトリックスに結合しているヒドロキシル官能性を少量有することが知ら れている。このような材料を反応性成分の調製で用いる場合、好適には、最初に それに熱処理および／または化学処理を受けさせてヒドロキシル含有量を０．０ ０１−１０ミリモル／ｇ、より好適には０．０１−１．０ミリモル／ｇ、最も好 適には０．１−０．８ミリモル／ｇにまで下げておく。有利には熱処理（焼成） を１５０から９００℃、好適には３００から８５０℃の温度で１０分から５０時 間実施する。有利な化学処理には、ルイス酸であるアルキル化剤、例えばトリヒ ドロカルビルアルミニウム化合物、トリヒドロカルビルクロロシラン化合物、ト リヒドロカルビルアルコキシシラン化合物または同様なアルキル化剤に接触させ ることが含まれる。残存ヒドロキシル官能性は、Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆ ｏｒｍ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ，Ｐ．Ｇｒｉｆｆｉｔｈ ｓおよびＪ．ｄｅ Ｈａｓｅｔｈ，８３ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ ，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９８６）、５４４頁に開示されて いる如きフーリエ変換赤外分光測定（ＤＲＩＦＴＳ ＩＲ）技術で検出可能であ る。 この上で開示したように表面にヒドロキシル基が存在する場合を除き、 任意に無機酸化物に官能化を受けさせなくてもよい。本発明のこの態様では、こ のような支持体が有するヒドロキシルの含有量は低いことで上記遷移金属錯体が 残存ヒドロキシル基で妨害されることはないと考えられることから（それに限定 するものでないが）、結果として得られる支持型触媒は優れた特性を示す。その ような支持体の好適なヒドロキシル含有量は０．８ミリモル／ｇ未満、好適には ０．５ミリモル／ｇ未満である。 任意に、また、この上で開示したように、そのような無機酸化物をシラン、ヒ ドロカルビルオキシシランまたはクロロシランである官能化剤で処理してペンダ ント型の反応性シラン官能性をそれに結合させることを通して、それに官能化を 受けさせることも可能である。適切な官能化剤は、上記無機酸化物の表面に存在 するヒドロキシル基と反応するか或は上記無機酸化物マトリックスの金属または メタロイド原子と反応する化合物である。有利な官能化剤の例にはフェニルシラ ン、ジフェニルシラン、メチルフェニルシラン、ジメチルシラン、ジエチルシラ ン、ジエトキシシランおよびクロロジメチルシランが含まれる。そのような官能 化を受けた無機酸化物化合物を製造する技術は以前に米国特許第３，６８７，９ ２０号および３，８７９，３６８号に開示された。 好適な態様では、上記シランと無機酸化物を、任意に炭化水素希釈剤の存在下 、塩基、好適にはＣ_1-4トリアルキルアミンの存在下で接触させる。この反応を ０から１１０℃、好適には２０から５０℃の温度で実施する。有利には、官能化 剤を過剰量で用いる。官能化剤の好適な比率は無機酸化物を基準にして１から２ ５００ミリモル／ｇである。上述した官能化反応の結果として、上記無機酸化物 の残存ヒドロキシル官能性 が更に低下して、この上に述べた低いレベルである１．０ミリモル／ｇ未満にま で低下する。この官能化を受けた支持体の残存ヒドロキシル含有量は、好適には ０．８ミリモル／ｇ未満、最も好適には０．５ミリモル／ｇ未満である。有利な 支持体調製では、非常に好適には、初期（即ち官能化を受けさせる前）の残存ヒ ドロキシル含有量が１．０ミリモル／ｇ未満の焼成シリカを用いそして官能化剤 をシリカ１ｇ当たり１から２０ミリモル用いる。使用する補助剤である塩基と官 能化剤のモル比を有利には０．７：１か２．０：１にする。好適には、例えば液 状炭化水素を用いた洗浄などで未反応の官能化剤を無機酸化物の表面から除去し 、そして好適には、この支持体を支持型触媒系の調製で用いる前に徹底的に乾燥 させておく。 本発明に従う活性化剤を支持体に連結させてもよく、これは、Ｒ’またはＲ” の少なくとも１つが少なくとも１種のＤ、即ち連結基［支持体とか、それの無機 酸化物マトリックスとか、それの残存ヒドロキシル官能性とか、或はそれに付い ている反応性シラン官能基、例えば任意に官能化を受けさせておいた無機酸化物 が有する反応性シラン官能基とか、或はそれらの組み合わせと反応を起こし得る 官能性を含む］を有する（構成するか、含むか或はそれで置換されている）式１ または２に相当する。 未修飾無機酸化物と一緒にか或はヒドロキシル官能性を残存量でのみ含む無機 酸化物と一緒に用いるに適切な連結用置換基Ｄには、シラン、シロキサン、ヒド ロカルビルオキシシラン、ハロシラン、アミノ、カルボン酸、カルボン酸エステ ル、アルデヒド、ケトンまたはエポキシド官能性を持っていて非水素原子数が１ から１ｘ１０⁶、より好適には非水素原子数が２から１０００、最も好適には非 水素原子数が４から２０の 部分が含まれる。実際問題として、適合性アニオンを含有するシランを用いる場 合には、それをヒドロキシル官能性を残存量でのみ含む基質と反応させる目的で 、塩基触媒、例えばトリ（Ｃ_1-4アルキル）アミンなどを用いる必要があり得る 。上記未修飾無機酸化物化合物と一緒に用いるＤは、好適には、シランもしくは クロロシランで置換されているヒドロカルビル基である。好適な連結用置換基Ｄ には、シリル置換アリール、シリル置換アラルキル、シリル置換アルカリール、 シリル置換アルキル、シリル置換ハロアリールまたはシリル置換ハロアルキル基 （ポリマー状の連結基を包含）、最も好適にはｐ−シリルフェニル（−Ｃ₆Ｈ₄Ｓ ｉＨ₃）、ｐ−シリルテトラフルオロフェニル（−Ｃ₆Ｆ₄ＳｉＨ₃）、シリルナフ チル（−Ｃ₁₀Ｈ₈ＳｉＨ₃）、シリルパーフルオロナフチル（−Ｃ₁₀Ｆ₈ＳｉＨ₃） および２−シリル−１−エチル（−Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＨ₃）基が含まれる。 反応性シラン官能性を用いた修飾を受けさせておいた無機酸化物と一緒に用い るに有利な連結用置換基Ｄには、シラン、シロキサン、ヒドロカルビルオキシシ ラン、ハロシラン、ヒドロキシル、チオール、アミノ、カルボン酸、カルボン酸 エステル、アルデヒド、ケトンまたはエポキシド官能性を持っていて非水素原子 数が１から１ｘ１０⁶、より好適には非水素原子数が２から１０００、最も好適 には非水素原子数が４から２０の部分が含まれる。この場合に好適なＤは、ヒド ロキシル置換ヒドロカルビル基、より好適なヒドロキシ置換アリール、ヒドロキ シ置換アラルキル、ヒドロキシ置換アルカリール、ヒドロキシ置換アルキル、ヒ ドロキシ置換ハロアリールまたはヒドロキシ置換ハロアルキル基（ポリマー状連 結基を包含）、最も好適にはヒドロキシフェニル、ヒドロキシト リル、ヒドロキシベンジル、ヒドロキシナフチル、ヒドロキシビスフェニル、ヒ ドロキシシクロヘキシル、Ｃ_1-4ヒドロキシアルキルおよびヒドロキシポリスチ リル基など、或はそれらのフッ素置換誘導体である。最も好適な連結用置換基Ｄ は、ｐ−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシベンジル、６−ヒドロキシ−２− ナフチル基、４−（４’−ヒドロキシフェニル）フェニル、４−（（４’−ヒド ロキシフェニル）ジメチルメチレン）フェニルまたはそれらのフッ素置換誘導体 である。また、基質との反応を補助する目的で塩基触媒、例えばトリ（Ｃ_1-4ア ルキル）アミンを用いることも可能である。 最も非常に好適には、Ｄは上記ヒドロキシ置換置換基の１つであり、これを反 応性シラン官能を持たせておいたシリカと組み合わせて用いる。 支持型触媒に含める活性化剤化合物のモルと遷移金属化合物のモルの比率を有 利には０．５：１から２：１、好適には０．５：１から１．５：１、最も好適に は０．７５：１から１．２５：１にする。この比率があまりにも低いと支持型触 媒があまり活性を示さなくなる一方、上記比率があまりにも高いと活性化剤化合 物の使用量が比較的高くなることが原因で触媒のコストが高くなる。結果として 得られる支持型触媒中の無機酸化物マトリックスに化学結合している遷移金属錯 体の量を好適には０．０００５から２０ミリモル／ｇ、より好適には０．００１ から１０ミリモル／ｇにする。 支持型触媒の調製は、支持材料と活性化剤化合物と金属錯体をいずれかの順で 一緒にすることを通して実施可能である。好適には、最初に無機酸化物材料と活 性化剤化合物を適切な液状希釈剤、例えば脂肪族もしくは芳香族炭化水素など中 で一緒にしてこの２成分を処理することでス ラリーを生じさせる。この処理で用いる温度、圧力および接触時間は決定的では ないが、一般に１Ｐａから１０，０００ＭＰａ、より好適には大気圧（１００ｋ Ｐａ）下−２０℃から１５０℃で５分から４８時間に及んで多様である。通常は 上記スラリーを撹拌する。この処理後、典型的には固体を上記希釈剤から分離す る。 上記支持体を用いるに先立って、好適には、自由流れする粉末が得られるよう に上記希釈剤または溶媒を除去しておく。これを、好適には、液体のみを除去し て結果として生じた固体を残存させる技術を適用することで行い、例えば熱、減 圧、蒸発またはそれらの組み合わせを用いることなどで行う。別法として、上記 液状希釈剤を除去するに先立って任意に上記支持体を更に遷移金属化合物（また はメタロセン触媒）に接触させてもよい。このような接触を行う場合には、上記 遷移金属化合物を好適には適切な溶媒、例えば液状炭化水素溶媒、有利にはＣ_{5- 10} 脂肪族もしくは環状脂肪族炭化水素またはＣ_6-10芳香族炭化水素などに溶解さ せて用いる。別法としてまた、上記遷移金属化合物が非溶媒に入っている懸濁液 または分散液を用いることも可能である。この接触温度は、この温度が上記遷移 金属の分解温度よりも低くかつ上記活性化剤の分解温度よりも低いことを条件と して決定的ではない。０から１００℃の範囲の温度を用いると良好な結果が得ら れる。このような接触は、全体を液状媒体の中に浸漬するか或は上記溶液、分散 液または懸濁液を噴霧したスプレーに接触させる接触であってもよい。この方法 では全ての段階を酸素も水分も存在させないで実施すべきである。その結果とし て得た支持型触媒は、溶媒除去後、自由流れする形態において、不活性な条件下 で貯蔵または輸送可能である。 本発明の支持型触媒は付加重合方法で使用可能であり、この重合方法では、付 加重合し得る１種以上のモノマー類を本発明の支持型触媒に付加重合条件下で接 触させる。 重合混合物に支持体またはそれの成分に加えて適切な遷移金属化合物を導入す ることを通して、支持型触媒を上記混合物中でインサイチュー生成させることも 可能である。このような支持型触媒を有利には高圧、溶液、スラリーもしくは気 相重合方法で用いることができる。高圧方法の場合には、これを通常は５００バ ール以上の圧力下１００から４００℃の温度で実施する。スラリー方法では典型 的に不活性な炭化水素希釈剤を用い、そして使用する温度は、０℃から、結果と して生じるポリマーがその不活性な重合媒体に実質的に溶解し得る温度よりも直 ぐ下の温度に及ぶ温度である。好適な温度は４０℃から１１５℃である。溶液方 法を実施する温度は、結果として生じるポリマーが不活性溶媒に溶解し得る温度 から２７５℃に及ぶ温度、好適には１３０℃から２６０℃、より好適には１５０ ℃から２４０℃の温度である。好適な不活性溶媒はＣ_1-20炭化水素、好適にはＣ_5-10 脂肪族炭化水素（それらの混合物を包含）である。溶液方法およびスラリー 方法を実施する圧力は通常１００ｋＰａから１０ＭＰａの範囲である。気相重合 に典型的な操作条件は２０から１００℃、より好適には４０から８０℃である。 気相方法に典型的な圧力は１０ｋＰａから１０ＭＰａである。蒸発潜熱による熱 除去の補助で、凝縮させたモノマーまたは希釈剤を反応槽に注入することも可能 である。 気相重合方法で支持体を用いる場合、これの粒子直径中央値を好適には２０か ら２００μｍ、より好適には３０μｍから１５０μｍ、最も好適 には５０μｍから１００μｍにする。スラリー重合方法で支持体を用いる場合、 これの粒子直径中央値を好適には１から２００μｍ、より好適には５０μｍから １００μｍ、最も好適には２０μｍから８０μｍにする。溶液または高圧重合方 法で支持体を用いる場合、これの粒子直径中央値を好適には１から４０μｍ、よ り好適には２μｍから３０μｍ、最も好適には３μｍから２０μｍにする。 本発明の重合方法では、上記支持型触媒を触媒毒、例えば水、酸素および極性 化合物などから保護する働きをする捕捉剤を用いてもよい。このような捕捉剤の 使用量は一般に不純物の量に応じて多様である。好適な捕捉剤には、上述した式 ＡｌＲ₃で表される有機アルミニウム化合物またはアルモキサン類が含まれる。 本重合方法ではまた分子量調節剤を用いることも可能である。そのような分子 量調節剤の例には、水素、トリアルキルアルミニウム化合物、または他の公知連 鎖移動剤が含まれる。本支持型触媒を用いることの特別な利点は、狭い分子量分 布を示すα−オレフィンホモポリマー類およびコポリマー類が生じ得る点である （反応条件に応じて）。好適なポリマー類が示すＭｗ／Ｍｎは２．５未満、より 好適には２．３未満である。そのような狭い分子量分布を示すポリマー製品、特 にスラリー方法で得られた製品は、引張り強度特性が向上していることから非常 に望ましい。 以下に示す実施例を用いて本発明の説明を行い、これは本発明を制限するもの でない。比率、部およびパーセントは特に明記しない限り重量である。本発明の 実施例（Ｅｘ）を数値で表示する一方、比較サンプル（Ｃ．Ｓ．）をアルファベ ットで表示し、これは本発明の実施例でない。実施例 以下に示す実施例で用いる目的で、１−フェニル−１，４−ジヒドロボラタベ ンゼンの合成および１−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼンの合成を Ｈｅｒｂｅｒｉｃｈ，Ｇ．他Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，１９９５，１４ ，４７１；Ａｓｈｅ，Ａ.，他Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ.，１９７１，９３， １８０４；Ａｓｈｅ，Ａ.，他Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ.，１９７５，９７， ６８６５そしてその中に示されている文献に記述されている方法に従って行う。 １−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼンの合成を、Ａｓ ｈｅ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ.，１９７１，９３，１８０４，に示されて いる１−フェニル−ボラタベンゼンの合成で報告された方法に類似した方法で行 ったが、但しＣ₆Ｈ₅ＢＢｒ₂の代わりにＣ₆Ｆ₅ＢＢｒ₂または別法としてＣ₆Ｆ₅Ｂ Ｃｌ₂を用いる。 リチウム塩の合成を、Ａｓｈｅ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ.，１９７１， ９３，１８０４の中にＬｉ［１−フェニル−ボラタベンゼン］に関して報告され ている方法を用いて行う。次に、Ｌｉ ［１−フェニル−ボラタベンゼン］とＭ ｅＩ（ヨウ化メチル）をＴＨＦ（テトラヒドロフラン）中で反応させた後に本技 術における技術の範囲内の手段を用いて精製を行うことを通して、１−フェニル −４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼンを合成する。同様に、Ｌｉ［１ −フェニル−４−メチル−ボラタベンゼン］の合成を、フッ素置換出発材料を用 いて出発する以外は報告されているＬｉ［１−フェニル−ボラタベンゼン］と類 似した様式で合成したＬｉ［１−ペンタフルオロフェニル−ボラタベンゼン］を 用いて出発して行う。 １，４−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼンの合成を 、Ｌｉ［１−ペンタフルオロフェニル−ボラタベンゼン］とＣ₆Ｆ₆を炭化水素ま たはエーテル含有溶媒中で反応させた後に本技術における技術の範囲内の手段を 用いて精製することで行う。次に、Ｌｉ［１，４−ペンタフルオロフェニル−ボ ラタベンゼン］の合成を、Ｌｉ［１−フェニル−ボラタベンゼン］で報告された 方法（上記引用文献Ａｓｈｅ）を用いて行う。実施例１：１−フェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン共触媒を用いたエチ レンとオクテンの重合 ２リットルの反応槽に、Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．から商標 Ｉｓｏｐｅｒ Ｅ^TMの下で商業的に入手可能な炭化水素溶媒を７５０ｇおよび１ −オクテンコモノマーを１２０ｇ仕込む。７５ｍｌの添加用タンクから水素を分 子量調節剤として３００ｐｓｉｇ（２０７０ｋＰａ）から２７５ｐｓｉｇ（１８ ９０ｋＰａ）の差圧膨張分（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｅ ｘｐａｎｓｉｏｎ）加える。この反応槽を重合温度である１４０℃にまで加熱し た後、エチレンを用いて５００ｐｓｉｇ（３４５０ｋＰａ）で飽和状態にする。 ５．００ミリモルの（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタ ジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン（トルエン中０ ．００５Ｍ溶液）を５ミリモルの１−フェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼ ン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）と一緒にして触媒添加用タンクに移す。この 触媒添加用タンクの内容物を高圧窒素で反応槽に注入することで重合を開始させ る。５００ｐｓｉｇに保持する必要に応じてエチレンを供給しながら重合条件を １０分間保持した後、反応混合 物を反応槽から取り出し、１２０℃に設定した真空オーブンに約２０時間入れて 揮発性化合物を反応混合物から除去することで、エチレンとオクテンから作られ たコポリマーの固体を得る。実施例２：１−フェニル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン共触媒 を用いたエチレンとオクテンの重合 ２リットルの反応槽に、Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．から商標 Ｉｓｏｐｅｒ Ｅ^TMの下で商業的に入手可能な炭化水素溶媒を７５０ｇおよび１ −オクテンコモノマーを１２０ｇ仕込む。この反応槽を重合温度である１４０℃ にまで加熱した後、エチレンを用いて５００ｐｓｉｇ（３４５０ｋＰａ）で飽和 状態にする。５．００ミリモルの（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵− シクロペンタジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジメチル（トルエン中０ ．００５Ｍ溶液）を５ミリモルの１−フェニル−４−メチル−１，４−ジヒドロ ボラタベンゼン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）と一緒にして触媒添加用タンク に移す。この触媒添加用タンクの内容物を高圧窒素で反応槽に注入することで重 合を開始させる。５００ｐｓｉｇ（３４５０ｋＰａ）に保持する必要に応じてエ チレンを供給しながら重合条件を１０分間保持した後、反応混合物を反応槽から 取り出し、１２０℃に設定した真空オーブンに約２０時間入れて揮発性化合物を 反応混合物から除去することで、エチレンとオクテンから作られたコポリマーの 固体を得る。実施例３：トリブチルアンモニウム１，４−ビス（ペンタフルオロフェニル）− ボラタベンゼン共触媒を用いたエチレンとオクテンの重合 トリブチルアンモニウム１，４−ビス（ペンタフルオロフェニル）−ボラタベン ゼンの合成 アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、トリブチルアンモニウムクロライド とリチウム１，４−ビス（ペンタフルオロフェニル）−ボラタベンゼンを等モル 量でＴＨＦに入れて一晩反応させる。このＴＨＦを除去した後、トルエンを加え る。そのスラリーをケイソウ土濾過助剤（Ｍａｎｖｉｌｌｅ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏｒｐ．から商標Ｃｅｌｉｔｅ^TMの下で商業的に入手可能）に通して濾過し た後、残留物を洗浄液が無色になるまでトルエンで洗浄する。その濾液の体積を 小さくした後、ヘキサンを加えて生成物を沈澱させる。固体をフリットで単離し 、１０ｍｌのヘキサンで２回洗浄した後、真空下で乾燥させることで、黄色−オ レンジ色の固体を得る。 ５．００ミリモルの（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペン タジェニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン（トルエン中 ０．００５Ｍ溶液）を５ミリモルのトリブチルアンモニウム１，４−ビス（ペン タフルオロフェニル）−ボラタベンゼン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）と一緒 にして用いて、実施例１の手順に従う。実施例４：トリフェニルカルベニウム１−メチルボラタベンゼン共触媒を用いた エチレンとオクテンの重合 トリフェニルカルベニウム１−メチル−ボラタベンゼンの合成 アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、トリフェニルメチルクロライドとリ チウム１−メチル−ボラタベンゼンを等モル量でトルエンに入れてスラリー状に して一晩置く。このトルエンを除去した後、ジクロロメタンを加える。そのスラ リーをケイソウ土濾過助剤（Ｍａｎｖｉｌｌｅ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏｒｐ． から商標Ｃｅｌｉｔｅ^TMの下で商業的に入手可能）に通して濾過して、その濾液 の体積を小さくした後、ヘ キサンを加えて生成物を沈澱させる。固体をフリットで単離し、１０ｍｌのヘキ サンで２回洗浄した後、真空下で乾燥させることで、黄色固体を得る。 重合： ５．００ミリモルの（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペン タジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジメチル（トルエン中０．００５Ｍ 溶液）を５ミリモルのトリフェニルカルベニウム１−メチル−ボラタベンゼン（ トルエン中０．００５Ｍ溶液）と一緒にして用いて、実施例２の手順に従う。実施例５：トリエチルシリリウム１−フェニル−４−メチルボラタベンゼン共触 媒を用いたエチレンとオクテンの重合 トリエチルシリリウム１−フェニル−４−メチル−ボラタベンゼンの合成 アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、トリフェニルカルベニウム１−フェニ ル−４−メチルボラタベンゼンを過剰量のトリエチルシランと一緒にして２５℃ で一晩撹拌する。黄色固体をフリットで単離し、ヘキサンで洗浄することにより 、ほぼ定量的収率で黄色−オレンジ色固体を得る。 重合： ５．００ミリモルの（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペン タジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタ ジエン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）を５ミリモルのトリエチルシリリウム１ −フェニル−４−メチル−ボラタベンゼン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）と一 緒にして用いて、実施例２の手順に従 う。実施例６：１−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン共触 媒を用いたプロピレンの重合 ２リットルの反応槽に、Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．から商標 Ｉｓｏｐｅｒ Ｅ^TMの下で商業的に入手可能な炭化水素溶媒を５００ｍｌおよび プロピレンコモノマーを５００ｍｌ仕込む。７５ｍｌの添加用タンクから水素を 分子量調節剤として３００ｐｓｉｇ（２０７０ｋＰａ）から２７５ｐｓｉｇ（１ ８９０ｋＰａ）の差圧膨張分加える。この反応槽を重合温度である７０℃にまで 加熱する。５．００ミリモルのｒａｃ−ジメチルシリル−ビス（２−メチル−４ −フェニル−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１， ３−ブタジエン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）を５ミリモルの１−ペンタフル オロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン（トルエン中０．００５Ｍ溶液 ）と一緒にして触媒添加用タンクに移す。この触媒添加用タンクの内容物を高圧 窒素で反応槽に注入することで重合を開始させる。この重合条件を１５分間保持 した後、反応槽の排気を行って、反応混合物を反応槽から取り出す。この反応混 合物を１２０℃に設定した真空オーブンに約２０時間入れて揮発性化合物を上記 反応混合物から除去することで、固体状のイソタクティックポリプロピレンを得 る。実施例７：１，４−ジペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼ ン共触媒を用いたプロピレンの重合 ２リットルの反応槽に、Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．から商標 Ｉｓｏｐｅｒ Ｅ^TMの下で商業的に入手可能な炭化水素溶媒を５００ｍｌおよび プロピレンコモノマーを５００ｍｌ仕込む。この反応 槽を重合温度である７０℃にまで加熱する。５．００ミリモルのｒａｃ−ジメチ ルシリル−ビス（２−メチル−４−フェニル−１−インデニル）ジルコニウム（ ＩＶ）ジメチル（トルエン中０．００５Ｍ溶液）を５ミリモルの１，４−ペンタ フルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン（トルエン中０．００５Ｍ 溶液）と一緒にして触媒添加用タンクに移す。この触媒添加用タンクの内容物を 高圧窒素で反応槽に注入することで重合を開始させる。この重合条件を１５分間 保持した後、反応槽の排気を行って、反応混合物を反応槽から取り出す。この反 応混合物を１２０℃に設定した真空オーブンに約２０時間入れて揮発性化合物を 上記反応混合物から除去することで、固体状のイソタクティックポリプロピレン を得る。実施例８：トリブチルアンモニウム１−ペンタフルオロフェニル−ボラタベンゼ ン共触媒を用いたプロピレンの重合 トリブチルアンモニウム１−ペンタフルオロフェニル−ボラタベンゼンの合成 アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、トリブチルアンモニウムクロライド とリチウム１−ペンタフルオロフェニル−ボラタベンゼンを等モル量でＴＨＦに 入れて一晩反応させる。このＴＨＦを除去した後、トルエンを加える。そのスラ リーをケイソウ土濾過助剤（Ｍａｎｖｉｌｌｅ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏｒｐ． から商標Ｃｅｌｉｔｅ^TMの下で商業的に入手可能）に通して濾過した後、残留物 を洗浄液が無色になるまでトルエンで洗浄する。その濾液の体積を小さくした後 、ヘキサンを加えて生成物を沈澱させる。固体をフリットで単離し、１０ｍｌの ヘキサンで２回洗浄した後、真空下で乾燥させることで、黄色−オレンジ色の固 体を得る。 重合： ５．００ミリモルのｒａｃ−ジメチルシリル−ビス（２−メチル−４−フェニ ル−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタ ジエン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）を５ミリモルのトリブチルアンモニウム １−ペンタフルオロフェニル−ボラタベンゼン（トルエン中０．００５Ｍ溶液） と一緒にして用いて、実施例６の手順に従う。実施例９：トリブチルアンモニウム１−フェニル−ボラタベンゼン共触媒を用い たプロピレンの重合 トリブチルアンモニウム１−フェニル−ボラタベンゼンの合成 アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、トリブチルアンモニウムクロライド とリチウム１−フェニル−ボラタベンゼンを等モル量でＴＨＦに入れて一晩反応 させる。このＴＨＦを除去した後、トルエンを加える。そのスラリーをケイソウ 土濾過助剤（Ｍａｎｖｉｌｌｅ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏｒｐ．から商標Ｃｅｌ ｉｔｅ^TMの下で商業的に入手可能）に通して濾過した後、残留物を洗浄液が無色 になるまでトルエンで洗浄する。その濾液の体積を小さくした後、ヘキサンを加 えて生成物を沈澱させる。固体をフリットで単離し、１０ｍｌのヘキサンで２回 洗浄した後、真空下で乾燥させることで、黄色−オレンジ色の固体を得る。 重合： ５．００ミリモルのｒａｃ−ジメチルシリル−ビス（２−メチル−４−フェニ ル−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジメチル（トルエン中０．００５Ｍ 溶液）を５ミリモルのトリブチルアンモニウム１−フェ ニル−ボラタベンゼン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）と一緒にして用いて、実 施例７の手順に従う。実施例１０：１−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン共触媒を用いたプロ ピレンの重合 ５．００ミリモルのｒａｃ−ジメチルシリル−ビス（２−メチル−４−フェニ ル−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタ ジエン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）を５ミリモルの１−メチル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）と一緒にして用いて、実 施例７の手順に従う。実施例１１：１−フェニル−１，４−ジヒドロボラタナフタレン共触媒を用いた エチレンとオクテンの重合 １−フェニル−１，４−ジヒドロボラタナフタレンの合成 ＴＨＦ（２０ｍｌ）に１．０５グラム（０．００５モル）のジ−ｎ−ブチル錫 ジハイドライドが入っている溶液に窒素下でジ−ｎ−ブチル錫ジクロライドを１ ．３６グラム（０．００５モル）加えた。この混合物を室温で１０分間撹拌した 。この混合物に１−ブロモ−２−（プロピ−２−イン）ベンゼン（１．７５グラ ム、０．００９モル）を加えて一晩撹拌した。リチウム（０．１４グラム、０． ０２モル）を加えて、その混合物を一晩撹拌した。飽和塩化アンモニウムを用い たクエンチング（ｑｕｅｎｃｈｉｎｇ）を受けさせた後の混合物を塩化メチレン で抽出し、その有機層を乾燥させて濃縮を行うことで、１−フェニル−１，４− ジヒドロスタナナフタレンを得た後、これをフェニルホウ素ジクロライドと反応 させるか或は代替手順としてフェニルホウ素ジブロマイドと反応させることを通 して、それを相当するボラタナフタレンに変化させる。 ５．００ミリモルの（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペン タジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタ ジエン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）を５ミリモルの１−フェニル−１，４− ジヒドロボラタナフタレン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）と一緒にして用いて 、実施例２の手順に従う。実施例１２：トリフェニルカルベニウム１−フェニル−ボラタナフタレン共触媒 を用いたプロピレンの重合 トリフェニルカルベニウム１−フェニル−ボラタナフタレンの合成 ＡｓｈｅがＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７１、９３、１８０４頁に報告 しているＬｉ［１−フェニル−ボラタベンゼン］の調製（１−フェニル−１，４ −ジヒドロボラタベンゼンを用いた）と同様な様式で、リチウム１−フェニル− ボラタナフタレンを１−フェニル−１，４−ジヒドロボラタナフタレンから調製 する。上記トリフェニルカルベニウム誘導体の調製では、アルゴン雰囲気のグロ ーブボックス内でトリフェニルメチルクロライドとリチウム１−フェニル−ボラ タナフタレンを等モル量でトルエンに入れてスラリー状にして一晩置く。このト ルエンを除去した後、ジクロロメタンを加える。そのスラリーをケイソウ土濾過 助剤（Ｍａｎｖｉｌｌｅ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏｒｐ．から商標Ｃｅｌｉｔｅ^TM の下で商業的に入手可能）に通して濾過して、その濾液の体積を小さくした後 、ヘキサンを加えて生成物を沈澱させる。固体をフリットで単離し、１０ｍｌの ヘキサンで２回洗浄した後、真空下で乾燥させることで、黄色固体を得る。 ５．００ミリモルのｒａｃ−ジメチルシリル−ビス（２−メチル−４−フェニ ル−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニ ル−１，３−ブタジエン（トルエン中０．００５Ｍ溶液）を５ミリモルのトリフ ェニルカルベニウム１−フェニル−ボラタナフタレン（トルエン中０．００５Ｍ 溶液）と一緒にして用いて、実施例７の手順に従う。実施例１３：トリフェニルカルベニウム１，４−ビス（ペンタフルオロフェニル ）−ボラタベンゼンの合成 アルゴン雰囲気のグローブボックス内でトリフェニルメチルクロライドとリチ ウム１，４−ビス（ペンタフルオロフェニル）−ボラタベンゼンを等モル量でト ルエンに入れてスラリー状にして一晩置く。このトルエンを除去した後、ジクロ ロメタンを加える。そのスラリーをケイソウ土濾過助剤（Ｍａｎｖｉｌｌｅ Ｐ ｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏｒｐ．から商標Ｃｅｌｉｔｅ^TMの下で商業的に入手可能） に通して濾過して、その濾液の体積を小さくした後、ヘキサンを加えて生成物を 沈澱させる。固体をフリットで単離し、１０ｍｌのヘキサンで２回洗浄した後、 真空下で乾燥させることで、黄色固体を得る。実施例１４：１−フェニル−ペンタフェニルフェニル−１，４−ジヒドロ−５， ６，７，８テトラフルオロボラタナフタレンの合成 １−ブロモ−３，４，５，６−テトラフルオロ−２（プロプ−２−ペンタフル オロフェニル−２−イル）ベンゼンを出発材料として用いて実施例１１の合成手 順を繰り返すことで相当する１−ジ−ｎ−ブチル−１，４−ジヒドロ−４−ペン タフルオロフェニル−５，６，７，８−テトラフルオロスタナナフタレンを生じ させた後、これをフェニルホウ素ジクロライドと反応させるか或は代替手順とし てフェニルホウ素ジブロマイドと反応させることで、相当するボラタナフタレン に変化させる。 本発明の実施で用いるに有用な追加的共触媒の合成は下記の通りであ る： トリフェニルカルベニウム１−フェニル−４−メチル−ボラタベンゼンの合成 アルゴン雰囲気のグローブボックス内でトリフェニルメチルクロライドとリチ ウム１−フェニル−４−メチル−ボラタベンゼンを等モル量でトルエンに入れて スラリー状にして一晩置く。このトルエンを除去した後、ジクロロメタンを加え る。そのスラリーをケイソウ土濾過助剤（Ｍａｎｖｉｌｌｅ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏｒｐ．から商標Ｃｅｌｉｔｅ^TMの下で商業的に入手可能）に通して濾過し て、その濾液の体積を小さくした後、ヘキサンを加えて生成物を沈澱させる。固 体をフリットで単離し、１０ｍｌのヘキサンで２回洗浄した後、真空下で乾燥さ せることで、黄色固体を得る。 トリエチルシリリウム１−メチル−ボラタベンゼンの合成 アルゴン雰囲気のグローブボックス内でトリフェニルカルベニウム１−メチル −ボラタベンゼンを過剰量のトリエチルシリルと一緒にして２５℃で一晩撹拌す る。固体をフリットで単離し、１０ｍＬのヘキサンで２回洗浄した後、真空下で 乾燥させることで、黄色−オレンジ色の固体をほぼ定量的収率で得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 少なくとも１種のメタロセン触媒もしくはそれのカチオンと式１または ２： 式１ ［式中、 Ｒ’は、ヒドロカルビル基、シリルヒドロカルビル、パーフルオロヒドロカルビ ル基、ジアルキルアミド基またはハライドであり、ここで、該ヒドロカルビル基 は線状、分枝、環状、芳香族、アルキル芳香族またはアリールアルキルでありそ してこれは未置換または不活性な様式で置換されていて炭素原子を２４以下の数 で有し、各Ｒ”は、独立して、Ｈであるか、或はＲ’で記述したように各々が未 置換または不活性な様式で置換されているヒドロカルビル、シリルヒドロカルビ ル、パーフルオロヒドロカルビル、アルコキサイドまたはジヒドロカルビルアミ ド基であり、ここで、任意に、２つ以上のＲ”またはＲ’と少なくとも１つのＲ ”が結合して芳香族、アルキルまたはヘテロ原子環またはそれらの組み合わせで ある環または環類を形成していてもよく、任意に、各Ｒ’およびＲ”は、独立し て、Ｄ、即ち連結基であるか或はそれを含んでいてもよい］ または式２： ［式中、 Ｒ’およびＲ”は、式１で定義した通りであり、Ｇ＋はカチオンである］で表さ れるボラタベンゼンもしくはそれのアニオンを含む少なくとも１種の活性化剤の 混和物または相互作用生成物を含有する組成物。 ２． 該メタロセン触媒が式Ｌ_lＭＸ_mＸ’_nＸ”_p、即ち式Ａで表されるか或は それの二量体でありそして該ボラタベンゼンが式１または２で表される請求の範 囲第１項記載の組成物。 ３． 該メタロセンが拘束幾何触媒である請求の範囲第１または２項記載の組 成物。 ４． 該メタロセンが式３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１ ３、１４、１５または１６で表される請求の範囲第１または２項記載の組成物。 ５． 該ボラタベンゼン共触媒が式１または２で表されそしてＲ’が芳香族ま たはフルオロヒドロカルビルである請求の範囲第１、２、３または４項記載の組 成物。 ６． Ｒ’がフェニル、パーフルオロフェニル、パーフルオロカルビルであり そして少なくとも１つのＲ”がＨである請求の範囲第１項記載の組成物。 ７． 該メタロセン触媒がシクロペンタジエニルチタントリメチル、シクロペ ンタジエニルチタントリエチル、シクロペンタジエニルチタン トリイソプロピル、シクロペンタジエニルチタントリフェニル、シクロペンタジ エニルチタントリベンジル、シクロペンタジエニルチタン−２，４−ジメチルペ ンタジエニル、シクロペンタジエニルチタン−２，４−ジメチルペンタジエニル ・トリエチルホスフィン、シクロペンタジエニルチタン−２，４−ジメチルペン タジエニル・トリメチルホスフィン、シクロペンタジエニルチタンジメチルメト キサイド、シクロペンタジエニルチタンジメチルクロライド、ペンタメチルシク ロペンタジエニルチタントリメチル、インデニルチタントリメチル、インデニル チタントリエチル、インデニルチタントリプロピル、インデニルチタントリフェ ニル、テトラヒドロインデニルチタントリベンジル、ペンタメチルシクロペンタ ジエニルチタントリイソプロピル、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタント リベンジル、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタンジメチルメトキサイド、 ペンタメチルシクロペンタジエニルチタンジメチルクロライド、ビス（η⁵−２ ，４−ジメチルペンタジエニル）チタン、ビス（η⁵−２，４−ジメチルペンタ ジエニル）チタン・トリメチルホスフィン、ビス（η⁵−２，４−ジメチルペン タジエニル）チタン・トリエチルホスフィン、オクタヒドロフルオレニルチタン トリメチル、テトラヒドロインデニルチタントリメチル、テトラヒドロフルオレ ニルチタントリメチル、（ｔ−ブチルアミド）（１，１−ジメチル−２，３，４ ，９，１０−η−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロナフタレニル）ジメチ ルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（１，１，２，３−テトラメチ ル−２，３，４，９，１０−η−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロナフタ レニル）ジメチルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル −η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチ ルシランチタンジベンジル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シク ロペンタジエニル）ジメチルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（テ トラメチル-η⁵−シクロペンタジエニル）−１，２−エタンジイルチタンジメチ ル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル-η⁵−インデニル）ジメチルシランチ タンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル-η⁵−シクロペンタジエニ ル）ジメチルシランチタン（ＩＩＩ）２−（ジメチルアミノ）ベンジル；（ｔ− ブチルアミド）（テトラメチル-η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチルシランチ タン（ＩＩＩ）アリル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル-η⁵−シクロペン タジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩＩ）２，４−ジメチルペンタジエニル 、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル-η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチル -シランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチ ルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチル−シランチ タン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデ ニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン 、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ ）２，４−ヘキサジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメ チルシランチタン（ＩＶ）２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチ ルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）イソプレン 、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン１，３ −ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチル シランチタン（ＩＶ）２，３−ジメチル−１，３−ブタジェン、（ｔ−ブチルア ミド）（２，３−ジメチルインデニル） ジメチルシランチタン（ＩＶ）イソプレン、（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジ メチルィンデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミ ド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジベンジル 、（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン １，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２，３−ジメチルインデニル）ジ メチルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２ ，３−ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル −１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチルインデニル）ジメチ ルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メ チルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド ）（２−メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ）ジベンジル、（ｔ− ブチルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシランチタン （ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２ −メチル−４−フェニルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）１，３−ペ ンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジ メチルシランチタン（ＩＩ）２，４−ヘキサジエン、（ｔ−ブチルアミド）（テ トラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチルシランチタン１，３−ブタ ジエン、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル） ジメチル−シランチタン（ＩＶ）２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、（ｔ −ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチル−シ ランチタン（ＩＶ）イソプレン、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵− シクロペンタジエニル）ジメチルシランチ タン（ＩＩ）１，４−ジベンジル−１，３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド） （テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ） ２，４−ヘキサジエン、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペ ンタジエニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ）３−メチル−１，３−ペンタジエ ン、（ｔ−ブチルアミド）（２，４−ジメチルペンタジエン−３−イル）ジメチ ルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（６，６−ジメチルシクロヘキ サジエニル）ジメチル−シランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（１，１ −ジメチル−２，３，４，９，１０−η−１，４，５，６，７，８−ヘキサヒド ロナフタレン−４−イル）ジメチルシランチタンジメチル、（ｔ−ブチルアミド ）（１，１，２，３−テトラメチル−２，３，４，９，１０−η−１，４，５， ６，７，８−ヘキサヒドロナフタレン−４−イル）ジメチルシランチタンジメチ ル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）メチ ルフェニル−シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメ チル−η⁵−シクロペンタジエニル）メチルフェニルシランチタン（ＩＩ）１， ４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、１−（ｔ−ブチルアミド）−２−（テト ラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）エタンジイル−チタン（ＩＶ）ジメチ ル、および１−（ｔ−ブチルアミド）−２−（テトラメチル−η⁵−シクロペン タジエニル）エタンジイル−チタン（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタ ジエン、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（シクロペ ンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコ ニウムメチルベンジル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルフェ ニル、ビス（シクロペンタジエニル）ジル コニウムジフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）チタン−アリル、ビス（シ クロペンタジエニル）ジルコニウムメチルメトキサイド、ビス（シクロペンタジ エニル）ジルコニウムメチルクロライド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエ ニル）ジルコニウムジメチル、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）チタ ンジメチル、ビス（インデニル）ジルコニウムジメチル、インデニルフルオレニ ルジルコニウムジメチル、ビス（インデニル）ジルコニウムメチル（２−（ジメ チルアミノ）ベンジル）、ビス（インデニル）ジルコニウムメチルトリメチルシ リル、ビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムメチルトリメチルシリル、 ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルベンジル、ビス （ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、ビス（ペンタ メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルメトキサイド、ビス（ペンタ メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルクロライド、ビス（メチルエ チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（ブチルシクロペンタ ジエニル）ジルコニウムジベンジル、ビス（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル） ジルコニウムジメチル、ビス（エチルテトラメチルシクロペンタジエニル）ジル コニウムジメチル、ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウム ジベンジル、ビス（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベ ンジル、ジメチルシリル−ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル 、ジメチルシリル−ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタン−（ＩＩ Ｉ）アリル、ジメチルシリル−ビス（ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコ ニウムジクロライド、ジメチルシリル−ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル ）ジルコニウムジクロライ ド、（メチレン−ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタン（ＩＩＩ） ２−（ジメチルアミノ）ベンジル、（メチレン−ビス（ｎ−ブチルシクロペンタ ジエニル）チタン（ＩＩＩ）２−（ジメチルアミノ）ベンジル、ジメチルシリル −ビス（インデニル）ジルコニウムベンジルクロライド、ジメチルシリル−ビス （２−メチルインデニル）ジルコニウムジメチル、ジメチルシリル−ビス（２− メチル−４−フェニルインデニル）ジルコニウムジメチル、ジメチルシリル−ビ ス（２−メチルインデニル）ジルコニウム−１，４−ジフェニル−１，３−ブタ ジエン、ジメチルシリル−ビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジルコ ニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン、ジメチルシリル−ビ ス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウム（ＩＩ）１，４−ジフェニル−１， ３−ブタジエン、ジメチルシリル−ビス（フルオレニル）ジルコニウムメチルク ロライド、ジメチルシリル−ビス（テトラヒドロフルオレニル）ジルコニウムビ ス（トリメチルシリル）、（イソプロピリデン）（シクロペンタジエニル）（フ ルオレニル）ジルコニウムジベンジル、およびジメチルシリル（テトラメチルシ クロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジメチル、２，２−ジ−（ ２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル） −エチル）ピペリジニルチタンジクロライド；２，２−ジ−（２−ナフチル）− ６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）ピペリ ジニルチタンジメチル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２ −メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジメト キサイド；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４ −フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリ ジニルチタンジフェニル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵− ２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジベ ンジル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４− フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンビス（ジメチルアミド ）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェ ニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン（２−メチル−１，３−ブ タジエン）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル− ４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメ チルアミノベンジル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２− メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンアリル； ２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン（１，４−ジフェニル−１，３ −ブタジエン）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチ ル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン（１，３−ペ ンタジエン）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル −４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタンジクロライド； ２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタンジメチル；２，２−ジ−（２− ナフチル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メ チル）−ピペリジニルチタンジメトキサイド：２，２−ジ−（２−ナフチル）− ６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペ リジニルチタンジフェニル；２，２−ジ−（２−ナフチ ル）−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル） −ピペリジニルチタンジベンジル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２− （η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチ タンビス（ジメチルアミド）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタン （２−メチル−１，３−ブタジエン）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（ ２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニ ルチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル；２，２−ジ−（２−ナフチル） −６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピ ペリジニルチタンアリル；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６−（２−（η⁵− ２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリジニルチタン（１ ，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン）；２，２−ジ−（２−ナフチル）−６ −（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−メチル）−ピペリ ジニルチタン（１，３−ペンタジエン）；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン ジクロライド；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェ ニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジメチル；２，２−ジフェ ニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル） −ピペリジニルチタンジメトキサイド；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジ フェニル；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタンジベンジ ル；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イン デニル）−エチル）−ピペリジニルチタンビス（ジメチルアミド）；２，２−ジ フェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチ ル）−ピペリジニルチタン（２−メチル−１，３−ブタジエン）；２，２−ジフ ェニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル ）−ピペリジニルチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル；２，２−ジフェ ニル−６−（２−（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル） −ピペリジニルチタンアリル；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵−２−メ チル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン（１，４− ジフェニル−１，３−ブタジエン）；２，２−ジフェニル−６−（２−（η⁵− ２−メチル−４−フェニル−インデニル）−エチル）−ピペリジニルチタン（１ ，３−ペンタジエン）；並びに式１３中のＥまたはＥ’の少なくとも１つが炭素 ではなくてケイ素でありそしてそれのＲ⁶が独立してメチルまたはフェニルから 選択される類似構造物；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵− ２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジクロライド； （９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニ ル−インデニル）ジメチルシランチタンジメチル；（９−（９−フェニルフルオ レニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシ ランチタンジベンジル；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵− ２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジメトキサイド ；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェ ニル−インデニル）ジメチルシランチタンビス（ジメチ ルアミド）；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル −４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（２−メチル−１，３−ブ タジエン）；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル −４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ ノベンジル；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル −４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンアリル；（９−（９−フェ ニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル） ジメチルシランチタン（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン）；（９−（ ９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−イン デニル）ジメチルシランチタン（１，３−ペンタジエン）；（９−（９−フェニ ルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エ タンジイルチタンジクロライド；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド （η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタンジイルチタンジメチル ；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェ ニル−インデニル）エタンジイルチタンジベンジル；（９−（９−フェニルフル オレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタンジ イルチタンジメトキサイド；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタンジイルチタンビス（ジメチ ルアミド）；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル −４−フェニル−インデニル）エタンジイルチタン（２−メチル−１，３−ブタ ジエン）；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル− ４−フェニル−インデニル）エタンジイルチタン２−Ｎ， Ｎ−ジメチルアミノベンジル；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（ η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）エタンジイルチタンアリル；（ ９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル −インデニル）エタンジイルチタン（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン ）；（９−（９−フェニルフルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フ ェニル−インデニル）エタンジイルチタン（１，３−ペンタジエン）；（９−（ フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメ チルシランチタンジクロライド；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２− メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジメチル；（９−（ フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメ チルシランチタンジベンジル；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メ チル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジメトキサイド；（９ −（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル） ジメチルシランチタンビス（ジメチルアミド）；（９−（フルオレニル））アミ ド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（２ −メチル−１，３−ブタジエン）；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２ −メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメ チルアミノベンジル；（９−（フルオレニル））アミド（η⁵−２−メチル−４ −フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンアリル；（９−（フルオレニル ））アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチ タン（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン）；（９−（フルオレニル）） アミド（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメ チルシランチタン（１，３−ペンタジエン）；（２，４，６−トリフェニルアニ リニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタ ンジクロライド；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル −４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジメチル；（２，４，６− トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジ メチルシランチタンジベンジル；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタンジメトキサ イド；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェ ニル−インデニル）ジメチルシランチタンビス（ジメチルアミド）；（２，４， ６−トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル ）ジメチルシランチタン２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル；（２，４，６− トリフェニルアニリニド）（η⁵−２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジ メチルシランチタンアリル；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵− ２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（１，４−ジフ ェニル−１，３−ブタジエン）；（２，４，６−トリフェニルアニリニド）（η⁵ −２−メチル−４−フェニル−インデニル）ジメチルシランチタン（１，３− ペンタジエン）；およびそれらの混合物から選択される化合物を含む請求の範囲 第１または２項記載の組成物。 ８． Ｒ’がペンタフルオロフェニル基でありそして少なくとも１つのＲ”が Ｈである式２で表されるアニオンを含む組成物。 ９． ペンタフルオロフェニルボラタベンゼン、即ち［Ｃ₅Ｈ₆Ｂ−Ｃ₆Ｆ₅］ま たはペンタフルオロフェニルボラタベンゼンアニオン、即ち［Ｃ₅ Ｈ₅Ｂ−Ｃ₆Ｆ₅］^-を含む請求の範囲第１または８項記載の組成物。 １０． 少なくとも２つのＲ”が結合して少なくとも１つの環を形成している 式１または２で表されるボラタベンゼン、即ちボラタナフタレン、５，６，７， ８−テトラフルオロボラタナフタレン、１−フェニルボラタナフタレンまたは１ −フェニル−１，４−ジヒドロボラタナフタレンを含む組成物。 １１． アルモキサンまたはアルミニウムトリアルキル、即ちＡｌＲ₃［ここ で、各Ｒはアルキル基である］とジハライドまたはジアルキル形態のメタロセン 触媒を相互作用させた後に式１または２で表されるボラタベンゼンを添加するこ とによって生じさせた組成物。 １２． 該ボラタベンゼンが不活性な担体に支持されている請求の範囲第１− １１項いずれか記載の組成物。 １３． ボラタベンゼン共触媒が支持体に化学的に結合しているか或はつなぎ 止められている請求の範囲第１２項記載の組成物。 １４． 該ボラタベンゼンが式１または２で表されそしてＲ’またはＲ”の少 なくとも１つがＤ、即ち連結基を少なくとも１つ有し、ここで、この連結基が、 該支持体、それの無機酸化物マトリックス、それの残存水酸化物官能性、それに 付いている反応性シラン官能基またはそれらの組み合わせの少なくとも１つと反 応し得る官能性を含む請求の範囲第１２または１３項記載の組成物。 １５． 該ボラタベンゼンが１−フェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン ；１−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル−１，４−ジヒド ロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボラタベン ゼン；１−ジメチルアミド−１，４−ジヒドロ ボラタベンゼン；１−ネオペンチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ｔ −ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−１，４− ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチル−１，４−ジヒドロボラ タベンゼン；１−フルオロ−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５− ビス−トリフルオロメチル−フェニル）−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１ −フェニル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−メチル−４− メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル−４−メチル−１，４− ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−４−メチル−１，４− ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−４−メチル−１，４−ジヒドロ ボラタベンゼン；１−ネオペンチル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベン ゼン；１−ｔ−ブチル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ト リメチルシリル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチ ルシリルメチル−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ −４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフ ルオロメチル−フェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１ −フェニル−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−メチル− ４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル−４−ｔ−ブチ ル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−４−ｔ− ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−４−ｔ−ブチ ル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチル−４−ｔ−ブチル−１ ，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−４−ｔ−ブチル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１− トリメチルシリル−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ト リメチルシリルメチル−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１ −フルオロ−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５ −ビス−トリフルオロメチル−フェニル）−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロ ボラタベンゼン；１−フェニル−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベ ンゼン；１，２，４−トリメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−エチ ル−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロ フェニル−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチル アミド−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチ ル−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−２ ，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−２ ，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチ ル−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ−２， ４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフ ルオロメチル−フェニル）−２，４−ジメチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼ ン；１−フェニル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラ タベンゼン；１−メチル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒド ロボラタベンゼン；１−エチル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４− ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−２−メトキサイド−４ −ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−２−メ トキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペン チル−２−メトキサイド−４− ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−２−メトキサ イド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリ ル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１ −トリメチルシリルメチル−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒ ドロボラタベンゼン；１−フルオロ−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１， ４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフルオロメチル−フェ ニル）−２−メトキサイド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン ；１−フェニル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボ ラタベンゼン；１−メチル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４− ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル −１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ペンタフルオロフェニル−４−ｔ−ブ チル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ジメチル アミド−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベン ゼン；１−ネオペンチル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリ ル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−４−ｔ−ブチル −６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシ リルメチル−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタ ベンゼン；１−フルオロ−４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフルオロメチル−フェニル） −４−ｔ−ブチル−６−トリメチルシリル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン： １−フェニル−２−ジエチルア ミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−メチル−２−ジ エチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−エチル −２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１ −ペンタフルオロフェニル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブ チル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチル−２−ジエチルアミ ド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−２− ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリ メチルシリル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタ ベンゼン：１−トリメチルシリルメチル−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル −１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ−２−ジエチルアミド−４− ｔ−ブチル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−（３，５−ビス−トリフル オロメチル−フェニル）−２−ジエチルアミド−４−ｔ−ブチル−１，４−ジヒ ドロボラタベンゼン；１−フェニル−４−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−メチル−４−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−エチル−４−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−４−ビスペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒド ロボラタベンゼン；１−ジメチルアミド−４−ペンタフルオロフェニル−１，４ −ジヒドロボラタベンゼン；１−ネオペンチル−４−ペンタフルオロフェニル− １，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−ｔ−ブチル−４−ペンタフルオロフェニ ル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリル−４−ペンタフル オロフェニル−１，４−ジ ヒドロボラタベンゼン；１−トリメチルシリルメチル−４−ペンタフルオロフェ ニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；１−フルオロ−４−ペンタフルオロフ ェニル−１，４−ジヒドロボラタベンゼン；および１−（３，５−ビス−トリフ ルオロメチル−フェニル）−４−ペンタフルオロフェニル−１，４−ジヒドロボ ラタベンゼン、それらの混合物およびそれらのアニオン類から選択される請求の 範囲第１−８項または１０−１４項いずれか記載の組成物。 １６． 該メタロセンが形式的酸化状態が＋２の遷移金属を含む請求の範囲第 １−６項または１０−１５項いずれか記載の組成物。 １７． 該ボラタベンゼンが炭素Ｇ＋を有するアニオンでありそしてＧ＋がイ オン性活性化剤のカチオン、即ち［ＮＨＲ₃］⁺、［ＮＲ₄］⁺、 ［ＳｉＲ₃］⁺、［ＣＰｈ₃］⁺、［（Ｃ₅Ｈ₅）₂Ｆｅ］⁺、Ａｇ⁺ ［ここで、Ｒは、各場合とも独立して、炭素数が１から２４のヒドロカルビル、 シリルヒドロカルビルまたはパーフルオロカルビルであり、そしてＰｈは、フェ ニル、［ＮＨ（ＣＨ₃）（Ｃ₁₈Ｈ₃₇）₂］⁺またはそれらの組み合わせである］か ら選択される請求の範囲第１−１６項いずれか記載の組成物。 １８． 請求の範囲第１−１７項いずれか記載の少なくとも１種の組成物を存 在させて少なくとも１種のオレフィンを重合させる方法。