JP2000507573A - 2′―保護,3′―ジメチルアミン,9―エーテルオキシム エリスロマイシンa誘導体 - Google Patents

2′―保護,3′―ジメチルアミン,9―エーテルオキシム エリスロマイシンa誘導体

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Abstract

(57)【要約】 2′−保護,9−エーテルオキシムエリスロマイシンA中間体を用いて6−O−メチルエリスロマイシンA誘導体を製造する方法を提供する。2′−位に好ましい保護基はアセチルである。2′−保護,9−エーテルオキシムエリスロマイシンA誘導体も提供する。3′N−保護基を必要とせずに3′アミンの第四級塩の生成を阻害する方法も開示する。

Description

【発明の詳細な説明】2′−保護,3′−ジメチルアミン,9−エーテルオキシム エリスロマイシン A誘導体 発明の技術分野 本発明の分野はエリスロマイシン誘導体である。より特定的に言えば、本発明 は、2′−保護,3′−ジメチルアミン,9−オキシムエリスロマイシンA誘導 体、及び6−O−アルキルエリスロマイシンAの製造における該誘導体の使用に 関する。発明の背景 以下に示す6−O−メチルエリスロマイシンA(クラリスロマイシン)は、強 力なマクロライド抗生物質である(米国特許第4,331,803号)。 種々の6−O−メチルエリスロマイシンA製造法が記載されている。6−O− メチルエリスロマイシンAは、エリスロマイシンAの2′−O−3′−N−ジベ ンジルオキシカルボニル−デス−N−メチル誘導体をメチル化することにより製 造し得る(米国特許第4,331,803号)。6−O−メチルエリスロマイシ ンAは、9−オキシムエリスロマイシンA誘導体からも製造し得る(例えば、米 国特許第5,274,085号;同第4,680,386号;同第4,668, 776号;同第4,670,549号及び同第4,672,109号並びにヨー ロッパ特許出願第0260938 A2号参照)。 9−オキシムエリスロマイシンA誘導体に関する上記文献では、メチル化の間 、オキシムを、2−アルケニル基(米国特許第4,670,549号)、ベンジ ル若しくは置換ベンジル基(米国特許第4,680,386号及び同第4,67 0,549号)、又は低級アルキル、置換アルキル、低級アルケニル、アリール 置換メチル、置換オキシアルキル及び置換チオメチルからなる群から選択される 基(米国特許第4,672,109号)を用いて保護する。 現行の6−O−メチルエリスロマイシンA製造法には難点が ある。例えば、2′−OH基の保護が不十分だと、望まれていない該基のメチル 化が生ずる。2′−OH基の現行の保護法は満足すべきものではない。というの は、該方法では3′−窒素の保護も必要だからである。米国特許第4,680, 386号は、ベンジルオキシカルボニル基を用いた2′−OH基の保護法を開示 している。しかし、そのような環境下では、3′−窒素もN−脱メチル化され、 それによってN−ベンジルオキシカルボニルが生成する。この3′−N−ベンジ ルオキシカルボニル基は6−O−メチル化後に脱保護しなければならない。3′ −ジメチルアミノ基は6−O−メチル化後にN−メチル化すると再生する。米国 特許第4,670,549号は、ベンジル又は類似の置換基として2′−OHを 保護する方法を開示している。これらの条件下では、3′−窒素基も、第四級塩 として保護しなければならない。この第四級塩を6−O−メチル化後に除去して 3′−ジメチルアミノ基を再生しなければならない。オキシアルキルで保護され た9−オキシムの脱保護は過酷な条件下に実施しなければならず、それによって 不要な副生成物が生成する。他の例として、2′−ヒドロキシ基の保護にベンジ ルオキシカルボニル基を用いる場合(米国特許第4,311, 803号)には、極めて刺激性且つ毒性のクロロギ酸ベンジルを大量に必要とす る。 穏和な中性合成条件を用いる6−O−アルキルエリスロマイシンAの迅速で効 率的な製造法を提供することが引き続き求められている。特に、6−O−アルキ ルエリスロマイシンA誘導体製造法のアルキル化ステップにおいてデソサミン窒 素で第四級アンモニウム塩が生成することを回避又は最小限にすることが望まし い。発明の要旨 本発明は、クラリスロマイシン及びエリスロマイシンAの他の6−O−アルキ ル類似体の効率的且つ実用的な合成法を提供する。該合成法は、9−O−保護オ キシムエリスロマイシンA誘導体で出発し、該誘導体の2′位をO−保護基で保 護して、2′−保護,3′−ジメチルアミン,9−O−保護オキシムエリスロマ イシンAを生成し、該2′−保護誘導体を、メチル−t−ブチルエーテルの存在 下に、アルキル化剤、典型的にはメチル化試薬と反応させる。好ましい9−O− 保護オキシムはアルキルシクロヘキシルオキシム又はハロベンジルオキシムであ る。2′−位に好ましいO−保護基はアセチルまたはベンゾイ ルである。 本発明はさらに、6−O−アルキルエリスロマイシンAの製造における中間体 として用いられる、2′−保護,3′−ジメチルアミン,9−O−保護オキシム エリスロマイシンA誘導体を提供する。 本発明は、さらに別の態様において、6−O−アルキルエリスロマイシンA化 合物の製造における第四級アンモニウム塩の生成を阻害する方法を提供し、該方 法は: メチル−t−ブチルエーテルの存在下に、保護エリスロマイシンA化合物をア ルキル化剤と反応させるステップ(ここで、該保護エリスロマイシンA化合物は 、少なくとも1種の9−オシキム保護基と、アルコキシカルボニル、アルコキシ アルコキシ−カルボニル、ハロアルコキシカルボニル、不飽和アルコキシカルボ ニル、置換ベンジルオキシカルボニル、置換フェノキシカルボニル、アシル及び アロイルからなる群から選択される1種の2′−ヒドロキシル保護基を含む); 及び 9−位及び2′−位を脱保護して、6−O−アルキルエリスロマイシンAを得 るステップ; を含む。 アルキル化剤が、6−O−メチルエリスロマイシンA、クラリスロマイシンを 生成させるメチル化剤であるのが好ましい。 特定の原理に拘束されることは本意ではないが、アルキル化反応におけるメチ ル−t−ブチルエーテルの作用はアルキル化反応の速度を制御したり、遅らせた りすることであると考えられる。該作用は、3′Nが保護されていないときでも 第四級アンモニウム塩の生成を減少させ且つ目的化合物の収率を増大させると考 えられる。図面の簡単な説明 本明細書の一部を構成する図面において: 図1は、9−オキシムにはイソプロピルシクロヘキシルケタール保護基を、ま た2′−OHにはアセチル保護基を用いる、6−O−メチルエリスロマイシンA の製造法の第1の実施態様を示している。 図2は、9−オキシムには2−クロロベンジル保護基を、また2′−OHには アセチル保護基を用いる、6−O−メチルエリスロマイシンAの製造法の第2の 実施態様を示している。 図3は、9−オキシムにはシクロヘキシルケタール保護基を、また2′−OH にはベンゾイル保護基を用いる、6−O−メチ ルエリスロマイシンAの製造法の第3の実施態様を示している。 図4は、9−オキシムには2−クロロベンジル保護基を、また2′−OHには ベンゾイル保護基を用いる、6−O−メチルエリスロマイシンAの製造法の第4 の実施態様を示している。発明の詳細な説明 本明細書では、本発明の特定の成分を示すために多くの規定用語が用いられて いる。該目的で使用されている場合、該用語は以下の意味を有するものとする: 用語「アルキル」とは、1〜10個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖の飽和炭 化水素基を指し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチ ル、t−ブチル及びネオペンチルを含むがそれらには限定されない。該アルキル が1〜4個の炭素を有するものであればなお好ましい。 用語「アルキル化剤」とは、求核部位上にアルキル基を置き得る試薬を指し、 例えば、臭化メチル、臭化エチル、臭化n−プロピル、ヨウ化メチル、ヨウ化エ チル及び臭化n−プロピルなどのハロゲン化アルキル;硫酸ジメチル、硫酸ジエ チル及び硫酸ジ−n−プロピルなどの硫酸ジアルキル;並びにp−トルエンスル ホン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスル ホン酸n−プロピルなどのアルキル又はアリールスルホン酸などを含むがそれら には限定されない。 用語「アリール(低級アルキル)」とは、1〜3個の芳香族炭化水素基が付加 した低級アルキル基、例えば、ベンジル、ジフェニルベンジル、トリチル及びフ ェニルエチルなどを指す。 用語「アリールオキシ」とは、エーテル結合を介して(即ち、酸素原子を介し て)分子の残りの成分に結合した芳香族炭化水素基、例えばフェノキシを指す。 用語「シクロアルキル」とは、環中に3〜8個の炭素原子を有し、場合によっ て、低級アルキル、ハロ(低級アルキル)、低級アルコキシ及びハロゲンから選 択される1〜3個の追加の基で置換された飽和単環式炭化水素基を指す。シクロ アルキル基の例には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ ヘキシル、シクロペプチル、1−フルオロシクロプロピル及び2−フルオロシク ロプロピルが含まれるがそれらには限定されない。 用語「低級アルケニル」とは、2〜6個の炭素原子を含み且つ少なくとも1個 の炭素−炭素二重結合を有する直鎖又は分枝鎖炭化水素基を指す。低級アルケニ ル基の例としては、ビニル、 アリル、2−又は3−ブテニル、2−、3−又は4−ペンテニル、2−、3−、 4−又は5−ヘキセニル及びその異性体が挙げられる。 用語「低級アルコキシ」とは、エーテル結合を介して(即ち、酸素原子を介し て)分子の残りの成分に結合した低級アルキル基を指す。低級アルコキシ基の例 には、メトキシ及びエトキシが含まれるがそれらには限定されない。 用語「低級アルキル」とは、1〜6個の炭素原子を含むアルキル基を指し、例 えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル及び ネオペンチルを含むがそれらには限定されない。 用語「極性非プロトン性溶媒」とは、容易に除去し得るプロトンを欠く極性有 機溶媒を指し、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド 、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、テトラヒドロ フラン、1,2−ジメトキシエタン、アセトニトリル又は酢酸エチルなどを含む がそれらには限定されない。 用語「強アルカリ金属塩基」とは、弱共役酸を有するアルカリ金属塩基を指し 、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウムt−ブトキシドなどを含むが それらには限定されない。 用語「置換アリール(低級アルキル)」とは、それぞれ独立に、ハロゲン、低 級アルコキシ、低級アルキル、ヒドロキシ置換低級アルキル及び(低級アルキル )アミノから選択される1〜3個の非水素環置換基を有する上記定義のアリール (低級アルキル)残基を指す。置換アリール(低級アルキル)基の例には、2− フルオロフェニルメチル、4−フルオロフェニルエチル及び2,4−ジフルオロ フェニルプロピルが含まれる。 用語「弱有機アミン塩基」とは、強共役酸を有する有機アミン塩基を指し、例 えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、 2−メトキシピリジン、1−メチルピロリジン、1−メチルピペリジン及び1− エチルピペリジンなどが含まれるがそれらには限定されない。 本発明は、1つの態様において、エリスロマイシンAの6−O−アルキル誘導 体の製造法を提供する。該方法は、9−O−保護オキシムエリスロマイシンA誘 導体の2′位を選択的に保護するステップと、該2′−保護誘導体を、メチル− t−ブチルエーテルの存在下に、アルキル化剤、典型的にはメチル化剤 と反応させるステップとを含む。 本発明の方法は、9−オキシムエリスロマイシンA誘導体で出発する。9−オ キシムエリスロマイシンA誘導体は、当業界で周知の標準法を用いて製造する。 簡潔に言えば、エリスロマイシンAを、塩酸ヒドロキシルアミン及び塩基、メタ ノール中の遊離ヒドロキシルアミン、又はヒドロキシルアミン及び有機酸と反応 させる〔例えば、米国特許第5,274,085号(該特許の開示は本明細書に 参照として組み込むものとする)〕。 9−オキシムエリスロマイシンA誘導体を、式R1−X{ここで、R1は、アル キル置換又は非置換シクロヘキシル(例えば、イソプロピルシクロヘキシル)、 低級アルケニル(例えば、アリル基など)、アリール置換メチル基(例えば、ベ ンジル基、p−メトキシベンジル基、p−クロロベンジル基、m−クロロベンジ ル基、o−クロロベンジル基、2,4−ジクロロベンジル基、p−ブロモベンジ ル基、m−ニトロベンジル基、p−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、トリ チル基、1−ナフチルメチル基など)、置換オキシアルキル基〔例えば、メトキ シメチル基、(2−メトキシエトキシ)メチル基、(2−エトキシエトキシ)メ チル基、(2−メチルプロポキシ)メチル基、 2−クロロエトキシメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシメチル基、2− エトキシエチル基、ベンジルオキシメチル基、p−クロロフェノキシエチル基な ど〕、置換アルキル基〔例えば、(1,3−ジオキソラン−2−イル)メチル基 、3,3−ジメチル−2−オキソブチル基など〕、又は置換チオメチル基(例え ば、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、フェニルチオメチル基など)の ような保護基であり、Xはハロゲン(例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物)又は スルホネート酸(例えば、メシラート、トシラート)である}の物質と反応させ て、9−O−保護オキシムに変換する。 9−O−保護オキシムエリスロマイシンA誘導体は、以下の構造I:{式中、R1は、 水素、 低級アルケニル基、 アリール(低級アルキル)基、又は 置換アリール(低級アルキル)基、及び 〔ここで、R2は、低級アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、アリール (低級アルキル)基からなる群から選択され; R3は、低級アルキル基、低級アルコキシメチル基からなる群から選択され; R4は、水素原子、低級アルキル基、フェニル基、アリール(低級アルキル) 基からなる群から選択されるか;あるいは、 R2とR3、R2とR4又はR3とR4は結合している原子と一緒になって、酸素原 子1個を含む5〜7員環を生成するか;あるいは、 R4とR3は結合している原子と一緒になって、5〜7員シクロアルキル基を生 成し;但し、置換基ペア(R2とR3)、(R2とR4)又は(R3とR4)のうち1 ペアのみが、結合している原子と一緒になって上9記定義の環を生成し得る〕 から選択される} を有する。 構造Iの化合物は、空間的結合配向無しで示されている。従って、構造Iは、 結合配向の全ての組み合わせを規定し、可能な立体構造(例えば、エピマー)を 全て包含するものとする。好ましい実施態様において、構造Iの結合配向は、6 −O−メチルエリスロマイシンAに関して先に示されたものと同一である。 当業界では周知のように、エリスロマイシンAを6−ヒドロキシル位で効率的 且つ選択的にアルキル化するためには、アルキル化に先だって2′位のヒドロキ シル基をO−保護する必要がある。該ヒドロキシル基のO−保護は、アルキル化 前のどの時点で行ってもよい。好ましい実施態様においては、2′位のO−保護 は、アルキル化の直前に行う。 2′−ヒドロキシルのO−保護は、慣用のO−保護基を用いて行う(例えば、 米国特許第4,672,109号参照)。そのようなO−保護基の好ましい例は 、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ ル基、イソプロプキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、n −ブトキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、S−ブチルオキシカ ルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボ ニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、メチルオキシカルボニル基など) ;アルコキシアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシメトキシカルボニル基 、エトキシメトキシカルボニル基、2−メトキシエトキシカルボニル基、2−エ トキシエチルカルボニル基、2−メトキシエトキシカルボニル基、2−ブトキシ エトキシカルボニル基、2−メトキシエトキシメトキシカルボニル基など);ハ ロアルコキシカルボニル基(例えば、2−クロロエトキシカルボニル基、2−ク ロロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基など );不飽和アルコキシカルボニル基(例えば、アリルオキシカルボニル基、プロ パルギルオキシカルボニル基、2−ブテノキシカルボニル基、3−メチル−2− ブテノキシカルボニル基など);置換ベンジルオキシカルボニル基(例えば、ベ ンジルオキシカルボニル基、p−メチルベンジルオキシカルボニル基、p−メト キシベンジルオキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基、2 ,4−ジニトロベンジルオキシカルボニル基、3,5−ジメチル ベンジルオキシカルボニル基、p−クロロベンジルオキシカルボニル基、p−ブ ロモベンジルオキシカルボニル基など);及び置換フェノキシカルボニル基(例 えば、フェノキシカルボニル基、p−ニトロフェノキシカルボニル基、o−ニト ロフェノキシカルボニル基、2,4−ジニトロフェノキシカルボニル基、p−メ チルフェノキシカルボニル基、m−メチルフェノキシカルボニル基、o−ブロモ フェノキシカルボニル基、3,5−ジメチルフェノキシカルボニル基、p−クロ ロフエノキシカルボニル基、2−クロロ−4−ニトロフェノキシカルボニル基な ど);通常の有機合成に用いられるアロイル基、アシル基(例えば、アセチル基 、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基などの低級アルキルモノカルボ ニル基;アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基などの低級アルケニルモノカル ボニル基;メトキシカルボニルメチルカルボニル基、エトキシカルボニルメチル カルボニル基、エトキシカルボニルエチルカルボニル基などの低級アルコキシカ ルボニルアルキルカルボニル基;ベンゾイル基、p−メトキシベンゾイル基、3 ,4,5−トリメトキシベンゾイル基、p−クロロベンゾイル基、2,4−ジク ロロベンゾイル基、3,5−ジクロロベンゾイル基、ジフェニル アセチル基、1−ナフタレンアセチル基、2−ナフタレンアセチル基などのアリ ールカルボニル基)である〔例えば、Greene及びWuts,Protec tive Groups in Organic Synthesis,第2版 ,John Wiley & Sons,Inc.,New York,199 1(該文献の開示は本明細書に参照として組み込むものとする)参照〕。 2′−保護,9−O−保護オキシム誘導体は、上記構造Iの化合物を対応ハロ ゲン化アシル(例えば、塩化アシル)又は酸無水物と反応させて製造する。2′ −ヒドロキシルのO−保護により、以下の構造IIの2′−保護,9−O−保護オ キシムが生成する: 〔式中、R1は上記定義の通りであり; R5は、アルコキシカルボニル、アルコキシアルコキシ−カルボニル、ハロア ルコキシカルボニル、不飽和アルコキシカルボニル、置換ベンジルオキシカルボ ニル又は置換フェノキシカルボニルであり; R6は、水素であるか、又は上記定義の通りのR5である〕。 R5はアリールカルボニル又は低級アルキルモノカルボニルであるのが好まし い。R5がベンゾイル又はアセテートであればなお好ましい。 2′−位の保護は塩基及び溶媒の存在下に行う。適当な塩基は、トリエチルア ミン、ピリジン及びジエチルアミンなどの有機塩基である。好ましい溶媒の例は 、塩化メチレンなどの有機溶媒である。 次いで、上記構造IIの化合物を選択的にアルキル化するが、通常は6位をメチ ル化する。エリスロマイシンA誘導体の6位のアルキル化の手順及び試薬は当業 界では周知である(例えば、米国特許第4,672,109号及び同第4,67 0,549号参照)。 簡潔に言えば、構造IIの化合物を塩基の存在下に適当なアル キル化剤と反応させる。好ましいアルキル化剤の例は、臭化メチル、臭化エチル 、臭化n−プロピル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化n−プロピル、硫酸ジ メチル、硫酸ジエチル、硫酸ジ−n−プロピル、p−トルエンスルホン酸メチル 、メタンスルホン酸エチル及びメタンスルホン酸n−プロピルである。 好ましい塩基の例は、好ましくは、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属水酸 化物及びアルカリ金属アルコキシドからなる群から選択される強アルカリ金属塩 基や、好ましくはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、 ピリジン、2−メトキシピリジン、1−メチルピロリジン、1−メチルピペリジ ン及び1−エチルピペリジンからなる群から選択される弱有機アミン塩基である 。 メチル化ステップは、メチル−t−ブチルエーテルなどの適当な溶媒中で行う 。好ましい溶媒の例は、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド 、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、テトラヒドロ フラン、1,2−ジメトキシエタン、アセトニトリル若しくは酢酸エチルなどの 極性非プロトン性溶媒、又はそのような極性非プロトン性溶媒の混合物であり、 該溶媒は、アルキル化の実施に十分 な時間、好ましくは1〜8時間の間、十分な反応温度、好ましくは−15℃〜室 温に維持される。 生成した6−O−アルキル誘導体は以下の構造IIIを有する:(式中、R1、R5及びR6は上記定義の通りであり、R7はアルキルである)。R7 は低級アルキルであるのが好ましく、C1−C4アルキルであればなお好ましい 。メチル−t−ブチルエーテルが存在すると、恐らくアルキル化速度を制御及び /又は遅らせたりすることにより、デソサミン糖上でのN−アルキル化第四級塩 の生成を阻害したり、最小限にしたりするようである。 6−O−アルキルエリスロマイシンAの製造は、2′−位及 び9−オキシムからO−保護基を除去し、次いで9−オキシムを脱オキシム化し て行う。2′−位の保護基を除去する方法は当業界では周知であり、保護基の性 質に応じて異なる。 例えば、2′−位がアセチル化されている場合、該アセチル基は、アセチル化 誘導体をアルキルアルコール(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール 、イソプロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノールなど) と反応させて除去し得る。該反応は、酸(例えば、ギ酸、酢酸)、塩基(K2C O3、Na2CO3)又は水の存在下にも不在下にも生起し得る。 9−オキシム位のO−保護基を除去する方法は当業界では周知であり、保護基 の性質に応じて異なる。例えば、9−O−保護オキシムが9−オキシムケタール (例えば、9−オキシムイソプロピルシクロヘキシルケタール)である場合、9 −オキシムイソプロピルシクロヘキシルケタール誘導体をアルコールの存在下に 酸で処理して脱ケタール化する。好ましい酸は、ギ酸などの有機酸である。好ま しいアルコールはメタノールなどのアルキルアルコールである。9−O−保護オ キシムが9−オキシムハロベンジル化合物(例えば、9−オキシム−2−クロロ ベンジル)である場合、9−オキシムハロベンジル化合物をパラジウムの存在下 にアルコール中の酸と反応させて脱ベンジル化し得る。 6−O−アルキルエリスロマイシンAの製造における最終ステップは脱オキシ ム化である。脱オキシム化は、当業界で周知の標準法に従って行う(例えば、米 国特許第4,672,109号参照)。簡潔に言えば、9−オキシム誘導体を、 アルコール(例えば、エタノール)中の亜硫酸水素ナトリウムと反応させ、還流 させる。溶液を冷却、アルカリ化し、水性重炭酸ナトリウムで沈降させる。上記 反応で生成した沈降物を濾過して捕集し、洗浄して、アルコールで再結晶させる 。 本発明の方法を用いた6−O−メチルエリスロマイシンAの合成法の詳細な説 明は以下の実施例に記載されている。本発明による合成図式の4つの実施態様の 概略図が、図1、図2、図3及び図4に示されている。 図1では、9−オキシムイソプロピルシクロヘキシルケタ−ルエリスロマイシ ンA誘導体(化合物1−1)を、ジクロロメタン(CH2Cl2)及びピリジンの 存在下に無水酢酸(Ac2O)と反応させて、2′−アセチル(AcO),9− オキシム イソプロピルシクロヘキシルケタールエリスロマイシンA誘導体(化合物1−2 )を生成する。 次いで、化合物1−2を、メチル−t−ブチルエーテル(MTBE)の存在下 に、適切な溶媒[ジメチルスルホキシド(DMSO)THF]中のメチル化剤( MeX)及び水酸化カリウム(KOH)と反応させて、2′−アセチル,6−O −メチル,9−オキシムイソプロピルシクロヘキシルケタールエリスロマイシン A誘導体(化合物1−3)を生成する。 化合物1−3をアルコール中のギ酸と反応させて9位のケタール基と2′−位 のアセチル基を除去し、2′−OH,6−O−メチル,9−オキシムエリスロマ イシンA誘導体(化合物1−4)を生成する。次いで、化合物1−4を脱オキシ ム化して、6−O−メチルエリスロマイシンA(クラリスロマイシン)を得る。 図2では、2′−OH,9−オキシムエリスロマイシンA誘導体(化合物2− 1)を、ジメチルスルホキシド(DMSO)及びテトラヒドロフラン(THF) の存在下に2−クロロベンジルクロリド及び水酸化カリウム(KOH)と反応さ せて、9−オキシム−2−クロロベンジルエリスロマイシンA誘導体 (化合物2−2)を生成する。 次いで、化合物2−2をジクロロメタン(CH2Cl2)及ピリジンの存在下に 無水酢酸(Ac2O)と反応させて、2′−アセチル(AcO),6−OH,9 −オキシム−2−クロロベンジルエリスロマイシンA誘導体(化合物2−3)を 生成する。 次いで、化合物2−3を適切な溶媒[DMSO、THF]及びメチル−t−ブ チルエーテル(MTBE)中の臭化メチル(MeBr)及び水酸化カリウム(K OH)と反応させて、2′−アセチル,6−O−メチル,9−オキシム−2−ク ロロベンジルエリスロマイシンA誘導体(化合物2−4)を生成する。 化合物2−4を水中のメタノール(MeOH)と反応させて2′位のアセチル 基を除去し、6−O−メチル,9−オキシム−2−クロロベンジルエリスロマイ シンA誘導体(化合物2−5)を生成する。次いで、化合物2−5を脱ベンジル 化及び脱オキシム化して、6−O−メチルエリスロマイシンA(クラリスロマイ シン)を得る。 図3では、ピリジンの存在下に、9−ケタールオキシムエリスロマイシンA誘 導体(化合物3−1)を安息香酸無水物(Bz2O)と反応させ、2′−ベンゾ イル,9−ケタールオキシ ムエリスロマイシンA誘導体(化合物3−2)を生成する。 次いで、メチル−t−ブチルエーテルの存在下に、化合物3−2を、適切な溶 媒[ジメチルスルホキシド(DMSO)THF]中のメチル化剤(Mex)及び 水酸化カリウム(KOH)と反応させ、2′−ベンゾイル,6−O−メチル,9 −ケタールオキシムエリスロマイシンA誘導体(化合物3−3)を生成する。化 合物3−3をアルコール/K2CO3、次いでアルコール/及びギ酸と反応させて 化合物3−3の2′位のベンゾイル基を除去し、6−O−メチル,9−オキシム エリスロマイシンA誘導体(化合物3−4)を生成する。 次いで、化合物3−4を脱オキシム化して、6−O−メチルエリスロマイシン A(クラリスロマイシン)を得る。 図4では、9−オキシムエリスロマイシンA誘導体(化合物4−1)をジメチ ルスルホキシド(DMSO)及びテトラヒドロフラン(THF)の存在下に、2 −クロロベンジルクロリド及び水酸化カリウム(KOH)と反応させ、9−オキ シム−2−クロロベンジルエリスロマイシンA誘導体(化合物4−2)を生成す る。 次いで、化合物4−2をジクロロメタン(CH2Cl2)及び トリエチルアミン(Et3N)の存在下に安息香酸無水物(Bz2O)と反応させ 、2′−ベンゾエート,9−オキシム−2−クロロベンジルエリスロマイシンA 誘導体(化合物4−3)を生成する。 次いで、化合物4−3を適切な溶媒[DMSO、THF及びメチル−t−ブチ ルエーテル(MTBE)]中の臭化メチル(MeBr)及び水酸化カリウム(K OH)と反応させ、2′−ベンゾエート,6−O−メチル,9−オキシム−2− クロロベンジルエリスロマイシンA誘導体(化合物4−4)を生成する。 化合物4−4を水中のメタノール(MeOH)及び炭酸カリウム(K2CO3) と反応させて2′位のベンゾイル基を除去し、6−O−メチル,9−オキシム− 2−クロロベンジルエリスロマイシンA誘導体(化合物4−5)を生成する。次 いで、化合物4−5を脱ベンジル化及び脱オキシム化して、6−O−メチルエリ スロマイシンA(クラリスロマイシン)を得る。 本発明はさらに、エリスロマイシンAの2′−保護,3′−ジメチルアミン, 9−O−保護オキシム誘導体を提供する。該誘導体は、6−O−アルキルエリス ロマイシンAの合成における中間体である。本発明のそのような誘導体は、6′ −位をア ルキル化(即ち、6−O−アルキル)し得る。従って、本発明の9−O−保護オ キシムエリスロマイシンA誘導体は以下の構造IVに対応する: (式中、R1、R5及びR6は上記定義の通りであり、R8は、水素又はアルキルで ある)。アルキルは低級アルキルであるのが好ましく、C1−C4アルキルであれ ばなお好ましい。 以下の実施例は本発明の好ましい実施態様を示すものであり、本明細書及び請 求の範囲を限定するものではない。 実施例1 2′−アセチル エリスロマイシンAオキシムIPCHケタールの調製 塩化メチレン(150ml)中のエリスロマイシンAオキシムイソプロピルシ クロヘキシル(IPCH)ケタール(20g,22.5mmol)、Ac2O( 20ml)及びピリジン(35ml)の混合物を室温で3時間攪拌し、水(10 0ml)でクエンチした。得られた混合物をt−ブチルメチルエーテル/飽和ブ ライン(500ml/150ml)中に注いだ。有機層を飽和ブラインで洗浄、 MgSO4で脱水、濾過、蒸発乾固して、固体として2′−アセチルエリスロマ イシンAオキシムIPCHケタール(18g)を得た。1 H NMR δ:1.45(3H,6−CH3),3.65(1H,11−CH ),1.14(3H,12−CH3),2.07(3H,2′−Ac),2.3 1(6H,N−(CH32),3.36(3H,3″−OCH3);13 C NMR δ:67.2(6−C),70.6(11−C),74.1(1 2−C),170.0(2′−C=O),63.6(3″−CH),77.9( 4″−CH),49.4(3″−OCH3),169.8(9−C)。 MS(CI)m/z 930。 実施例22′−アセチル 6−O−メチル−エリスロマイシンAオキシムIPCHケター ルの調製 テトラヒドロフラン(20ml)及びジメチルスルホキシド(30ml)中の 2′−アセチルエリスロマイシンAオキシムIPCHケタール(5.0g,5. 4mmol)の溶液を0〜5℃に冷却し、t−ブチルメチルエーテル中2Mの臭 化メチルの溶液(20ml,40mmol)を加えた。次いで、粉末化水酸化カ リウム(1.2g,2.1mmol)を加えた。得られた混合物を1.5時間攪 拌し、次いで、メチルアミン水溶液(5ml)でクエンチした。混合物を室温で 15分間攪拌し、次いで、t−ブチルメチルエーテル(350ml)で抽出した 。有機層を水(2×50ml)及び飽和ブライン(50ml)で洗浄し、MgS O4で脱水した。溶媒を真空除去し、ガラス状固体として2′−アセチル 6− O−メチルエリスロマイシンAオキシムIPCHケタール(4.2g)を得た。1 H NMR δ:1.41(3H,6−CH3),3.08(3H,6−OCH3 ),3.71(1H,11−CH),2.06(3H,2′−Ac),2.3 2(6H,N−(CH32), 3.05(1H,4″−CH);13 C NMR δ:68.7(6−C),70.1(11−C),170.0( 2′−C=O),63.6(3″−CH),77.8(4″−CH)。 MS(CI)m/z 944。 実施例36−O−メチルエリスロマイシンAオキシムIPCHの調製 メタノール(100ml)及び水(20ml)中の2′−アセチル6−O−メ チルエリスロマイシンAオキシムIPCHケタール(2.6g,2.2mmol )の溶液を室温で58時間攪拌した。溶液をメチルt−ブチルエーテル(300 ml)中に注いだ。有機層をブラインで洗浄し、MgSO4で脱水した。溶媒を 真空除去し、6−O−メチルエリスロマイシンAオキシムIPCH(2.4g) を得た。1 H NMR δ:1.45(3H,6−CH3),3.11(3H,6−OCH3 ),3.20(1H,2′−CH),2.30(6H,(N−CH32);13 C NMR δ:78.7(6−C),51.2(6−OCH3),169. 8(9−C),71.1(2′−CH)。 MS(CI)m/z 902。 実施例42′−アセチルエリスロマイシンAオキシムIPCHケタールからのクラリスロ マイシンの調製 2′−アセチルエリスロマイシンAオキシムIPCHケタール(1.37g, 1.46mmol)をTHF(12.5ml)及びDMSO(12.5ml)に 溶解した。溶液を0〜5℃に冷却し、トリエチルアミン(1.8g,17.8m mol)及び臭化メチル(1.75g,18.4mmol)を加えた。さらに、 粉末化KOH(0.3g,4.3mmol)を加え、混合物を9分間攪拌し、次 いで、ヘプタン(50ml)及び2N NaOH(10ml)でクエンチした。 層を分離し、溶媒を除去して、メチル化生成物(1.04g)を得た。固体をメ タノール(30ml)及び5%炭酸カリウム溶液(8ml)に溶解した。混合物 を室温で一晩攪拌し、酢酸イソプロピル(50ml)で抽出した。有機層を硫酸 マグネシウムで脱水し、固体を濾過して除去した。溶媒を真空下にストリッピン グし、ジアセチル生成物(0.9g)を得た。 該ジアセチル生成物を3Aアルコール(60ml)及び水(6 0ml)に溶解した。ギ酸(13滴)を加え、溶液を4時間60〜65℃に加熱 した。重亜硫酸ナトリウム(13g)を加え、反応混合物をさらに4時間加熱し た。溶液を室温に冷却し、次いで、沈降物が現れるまで真空下にストリッピング した。不均一混合物を酢酸イソプロピル(100ml)で抽出した。層を分離し た後、有機層を硫酸マグネシウムで脱水、濾過し、溶媒を除去して、クラリスロ マイシン(0.41g)を得た。該水溶液を塩化メチレンで再分離して、さらに 0.2gのクラリスロマイシンを得た。 実施例5 エリスロマイシンA9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム]の調製 ジメチルスルホキシド(25ml)及びテトラヒドロフラン(25ml)中の エリスロマイシンA 9−オキシム(15g)の溶液を5℃に冷却した。この溶 液に、2−クロロベンジルクロリド(3.2g)及び85%水酸化カリウム粉末 (1.5g)を加えた。混合物を5〜10℃で3時間攪拌した。40%メチルア ミン水溶液(5ml)及び水(50ml)を加え、混合物を酢酸イソプロピル( 200ml)で抽出した。有機層を水(2 ×100ml)で洗浄し、MgSO4で脱水した。溶媒を真空下に蒸発乾固し、 白色固体生成物をヘプタンですり砕き、濾過、乾燥して、生成物11gを得た。1 H NMR(CDCl3,500MHz)δ:2.28(6H,s,−N(CH32),3.31(3H,s,3″−OCH3),5.16(2H,s,OCH2 );13 C NMR(CDCl3)δ:40.2(−N(CH32),49.4(3″ −OCH3),73.0(−OCH2)。 MS(CI,MH+)m/z 872。 実施例6エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム]−2′アセ テートの調製 ジクロロメタン(60ml)中のエリスロマイシンA 9−[O−(2−クロ ロベンジル)オキシム](6g)の溶液に、ピリジン(12ml)及び無水酢酸 (6ml)を加えた。反応混合物を室温で1時間攪拌し、水(100ml)を加 えた。有機層を分離し、水性層をメチル−t−ブチルエーテルで抽出した。有機 層を合わせ、水(100ml)で洗浄し、MgSO4で脱水した。溶媒を蒸発乾 固して、白色固体として生成物(6 g)を得た。該生成物を酢酸イソプロピルから再結晶した。生成物を1H及び13 C NMRにかけて特性決定した。1 H NMR(CDCl3,300MHz)δ:2.05(3H,s,−COCH3 ),2.27(6H,s,−N(CH32),3.35(3H,s,3″−O CH3),5.17(2H,s,−OCH2)。 MS(CI,MH+)m/z 915。 実施例7エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル オキシム]−2′−ア セテート−6−O−メチルの調製 ジメチルスルホキシド(20ml)及びテトラヒドロフラン(10ml)中の エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロベンジル)オキシム]−2′−アセ テート(5g)の溶液を3℃に冷却した。該混合物に、メチル−t−ブチルエー テル中2Mの臭化メチルの溶液(20ml)及び85%水酸化カリウム粉末(1 .1g)を加え、3〜5℃で5時間攪拌した。40%メチルアミン水溶液(5m l)及び水(50ml)を加え、混合物をメチル−t−ブチルエーテル(500 ml)で抽出した。有機層を水(2×100ml)で洗浄し、MgSO4で脱水 し た。溶媒を真空下に蒸発乾固して、白色固体として生成物(4.9g)を得た。 MS(CI,MH+)m/z 929。 実施例8エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム]−6−O− メチルの調製 エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム]−2′− アセテート−6−O−メチル(1.5g)をメタノール(12ml)及び水(2 ml)に溶解し、混合物を室温で50時間攪拌した。溶媒を真空蒸発させ、ガム 状残留物をメチル−t−ブチルエーテルに溶解した。有機溶液を水で洗浄し、M gSO4で脱水、蒸発乾固して、白色固体(1.5g)を得た。該生成物をメタ ノールから再結晶した。該生成物を1H及び13C NMRにかけて特性決定した 。1 H NMR(CDCl3,500MHz)δ:2.30(6H,s,−N(CH32),3.30(3H,s,6−OCH3),3.31(3H,s,3″−O CH3),5.13(2H,s,OCH2);13 C NMR(CDCl3)δ:40.2(−N(CH32), 49.4(3″−OCH3),50.8(6−OCH3),72.6(−OCH2 )。 MS(CI,MH+)m/z 887。 実施例92′−ベンゾイルエリスロマイシンA オキシムIPCHケタールの調製 塩化メチレン(90ml)中のエリスロマイシンAオキシムIPCHケタール (27g,22.5mmo1)、Bz2O(16g)及びトリエチルアミン(1 0ml)の混合物を室温で60時間攪拌し、水(100ml)でクエンチした。 得られた混合物を塩化メチレン中に注いだ。有機層を飽和水性NaHCO3及び ブラインで洗浄、MgSO4で脱水、シリカゲル(450g)を通して濾過し、 CH2Cl2中10%メタノールで溶離、蒸発乾固して、白色固体として生成物( 26.3g)を得た。1 H NMR δ:1.47(3H,6−CH3),2.38(6H,N−(CH32),7.38(2H,t,Ph),7.72(1H,d,Ph),8.02 (2H,d,Ph);13 C NMR(CDCl3)δ:40.3(−N(CH32),49.5(3″ −OCH3),75.2(6−C),165. 4(2′−PhCO)。 MS(CI)m/z 993、853、695、262。 MS(CI)m/z 993。 実施例102′−ベンゾイル 6−O−メチルエリスロマイシンAオキシムIPCHケター ルの調製 テトラヒドロフラン(12ml)及びジメチルスルホキシド(18ml)中の 2′−ベンゾイルエリスロマイシンAオキシムIPCHケタール(5.0g,5 .0mmol)の溶液を0〜5℃に冷却した。該溶液に、t−ブチルメチルエー テル中2Mの臭化メチルの溶液(16ml,32mmol)と粉末化水酸化カリ ウム(1.2g,21mmol)を加えた。得られた混合物を2.0時間攪拌し 、次いで、メチルアミン水溶液(5ml)でクエンチした。混合物を室温で15 分間攪拌し、次いで、t−ブチルメチルエーテル(400ml)で抽出した。有 機層を水(3×50ml)及び飽和ブライン(50ml)で洗浄し、MgSO4 で脱水した。溶媒を真空除去し、白色固体として2′−ベンゾイル 6−O−メ チルエリスロマイシンAオキシムIPCHケタール(4.2g)を得た。 MS(CI)m/z 1006。 実施例116−O−メチルエリスロマイシンAオキシムIPCHの調製 メタノール(45ml)中の2′−ベンゾイル 6−O−メチルエリスロマイ シンAオキシムIPCHケタール(2.0g,2.2mmol)の溶液に、10 %K2CO3水溶液(12ml)を加えた。濁った混合物を55〜60℃で48時 間加熱し、次いで、室温に冷却した。固体を濾過し、水で洗浄、50℃で20時 間真空乾燥して、6−O−メチルエリスロマイシンAオキシムIPCH(1.2 g)を得た。13 C NMR(CDCl3)δ:51.2(6−OCH3),78.7(6−C) ,71.1(2′−CH),169.8(9−C),49.5(3″−OCH3 ),75.2(6−C),165.4(2′−PhCO)。 MS(CI)m/z 902、763、745、605。 MS(CI)m/z 902。 実施例12エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム]−2′−ベ ンゾエート(3) ジクロロメタン(100ml)中のエリスロマイシンA 9−[O−(2−クロ ロベンジル)オキシム(25g)の溶液に、安息香酸無水物(12.5g)及び トリエチルアミン(8ml)を加え、反応混合物を室温で52時間攪拌した。溶 媒を真空蒸発させ、残留物を酢酸エチルに溶解した。水(100ml)を加え、 50%NaOHを用いて水性層のpHを13に調整した。有機層を分離し、水( 100ml)で洗浄、MgSO4で脱水した。溶媒を蒸発乾固し、白色固体とし て生成物(23g)を得、酢酸エチルから再結晶した。該生成物を1H及び13C NMRにかけて特性決定した。1 H NMR(CDCl3,500MHz)δ:2.26(6H,s,−N(CH32),3.41(3H,s,3″−OCH3),5.15(2H,s,OCH2 );13 C NMR(CDCl3)δ:40.7(−N(CH32),49.4(3″ −OCH3),73.0(−OCH2),175.2(C=O)。 MS(CI,MH+)m/z 977。 実施例13エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム−2′−ベン ゾエート−6−O−メチル(4) ジメチルスルホキシド(35ml)及びテトラヒドロフラン(35ml)中のエ リスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム]−2′−ベン ゾエート(7g)の溶液を3℃に冷却した。該混合物に、メチル−t−ブチルエ ーテル中2Mの臭化メチルの溶液(35ml)及び85%水酸化カリウム粉末( 1.4g)を加え、混合物を3〜5℃で6.5時間攪拌した。40%メチルアミ ン水溶液(5ml)及び水(50ml)を加え、混合物をメチル−t−ブチルエ ーテル(2×200ml)で抽出した。有機層を水(2×100ml)で洗浄し 、MgSO4で脱水した。溶媒を真空下に蒸発乾固し、白色固体として生成物( 6.4g)を得た。 MS(CI,MH+)m/z 991。 実施例14エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム]−6−O− メチル(5) エリスロマイシンA 9−[O−(2−クロロベンジル)オキシム]−2′− ベンゾエート−6−O−メチル(4;1.0g)をメタノール(25ml)及び 水(7ml)に溶解した。次いで、K2CO3(700mg)を加え、混合物を5 5〜60℃ で48時間攪拌した。混合物を室温に冷却し、固体生成物を濾過し、50%水性 メタノール(10ml)で洗浄、乾燥して、白色固体(300mg)を得た。13 C NMR(CDCl3)δ:40.3(−N(CH32),49.5(3″ −OCH3),50.8(6−OCH3),72.7(−OCH2)。 MS(CI,MH+)m/z 887。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クー,イー―キン アメリカ合衆国、イリノイ・60089、バフ アロー・グローブ、サテンウツド・テラ ス・493 (72)発明者 リウ,チー―ホワ アメリカ合衆国、イリノイ・60048、グリ ーン・オークス、レイン・コート・31645

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 6−O−アルキル−エリスロマイシンAの製造方法であって、 エリスロマイシンAの9−O−保護オキシム誘導体の2′−ヒドロキシル位を 、アルコキシカルボニル、アルコキシアルコキシ−カルボニル、ハロアルコキシ カルボニル、不飽和アルコキシカルボニル、置換ベンジルオキシカルボニル、置 換フェノキシカルボニル、アシル又はアロイル保護基で保護して、エリスロマイ シンAの2′−保護,9−O−保護オキシム誘導体を生成するステップ; メチル−t−ブチルエーテルの存在下に、該2′−保護誘導体をアルキル化剤 と反応させるステップ;及び 9−位及び2′−位を脱保護して、6−O−アルキルエリスロマイシンAを得 るステップ; を含む方法。 2. 2′−位の保護基が、アリールカルボニル又は低級アルキルモノカルボニ ルである、請求項1に記載の方法。 3. アリールカルボニルがベンゾイルである、請求項2に記載の方法。 4. 低級アルキルモノカルボニルがアセチルである、請求項2に記載の方法。 5. 9−O−保護オキシムエリスロマイシンA誘導体が9−O−ハロベンジル オキシム又は9−O−アルキルシクロヘキシルオキシムエリスロマイシンA誘導 体である、請求項1に記載の方法。 6. 9−O−ハロベンジルオキシムエリスロマイシンA誘導体が9−O−2− クロロベンジルオキシムエリスロマイシンAである、請求項5に記載の方法。 7. 9−O−アルキルシクロヘキシルオキシムエリスロマイシンA誘導体が9 −オキシムイソプロピルシクロヘキシルケタ−ルエリスロマイシンAである、請 求項5に記載の方法。 8. 以下の構造:{式中、R1は、水素、低級アルケニル基、アリール(低級アルキル)基、置換 アリール(低級アルキル)基、及び 〔ここで、R2は、低級アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、アリール (低級アルキル)基からなる群から選択され; R3は、低級アルキル基、低級アルコキシメチル基からなる群から選択され; R4は、水素原子、低級アルキル基、フェニル基、アリール(低級アルキル) 基からなる群から選択されるか;あるいは、 R2とR3、R2とR4又はR3とR4はそれらが結合している 原子と一緒になって、酸素原子1個を含む5〜7員環を生成するか;あるいは、 R4とR3はそれらが結合している原子と一緒になって、5〜7員シクロアルキ ル基を生成し;但し、置換基ペア(R2とR3)、(R2とR4)又は(R3とR4) のうち1ペアのみが、それらが結合している原子と一緒になって上記定義の環を 生成し得る〕 から選択され; R5は、アルコキシカルボニル、アルコキシアルコキシーカルボニル、ハロア ルコキシカルボニル、不飽和アルコキシカルボニル、置換ベンジルオキシカルボ ニル、置換フェノキシカルボニル又はアルキルカルボニル若しくはアリールカル ボニルであり; R6は、水素又はR5であり; R8は水素又はアルキルである} の化合物。 9. R8が水素である、請求項8に記載の化合物。 10. R8がメチルである、請求項8に記載の化合物。 11. 6−O−アルキル−エリスロマイシンA化合物の製造に おける第四級アンモニウム塩の生成を阻害する方法であって、 メチル−t−ブチルエーテルの存在下に、保護エリスロマイシンA化合物をア ルキル化剤と反応させるステップ(ここで、該保護エリスロマイシンA化合物は 、少なくとも1種の9−オシキム保護基と、アルコキシカルボニル、アルコキシ アルコキシ−カルボニル、ハロアルコキシカルボニル、不飽和アルコキシカルボ ニル、置換ベンジルオキシカルボニル、置換フェノキシカルボニル、アシル及び アロイルからなる群から選択される2′−ヒドロキシル保護基とを含む); 9−位及び2′−位を脱保護して、6−O−アルキルエリスロマイシンAを得 るステップ; を含む方法。 12. アルキル化反応の速度を制御することにより、第四級アンモニウム塩の生 成を阻害する、請求項11に記載の方法。 13. アルキル化剤がメチル化剤である、請求項11に記載の方法。
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