JP2000508377A - ホウ素及び窒素を含む超硬質コーティングを有する基体及びその製造方法 - Google Patents
ホウ素及び窒素を含む超硬質コーティングを有する基体及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2000508377A JP2000508377A JP53616797A JP53616797A JP2000508377A JP 2000508377 A JP2000508377 A JP 2000508377A JP 53616797 A JP53616797 A JP 53616797A JP 53616797 A JP53616797 A JP 53616797A JP 2000508377 A JP2000508377 A JP 2000508377A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- adhesion layer
- boron
- nitrogen
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 118
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 106
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 105
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 74
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 72
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 8
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 76
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 60
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 90
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 27
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 155
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 abstract description 28
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 28
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 28
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 21
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 20
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 20
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 9
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 9
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 8
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 8
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 6
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 6
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 5
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- TZHYBRCGYCPGBQ-UHFFFAOYSA-N [B].[N] Chemical compound [B].[N] TZHYBRCGYCPGBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 3
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 3
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011156 metal matrix composite Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007514 turning Methods 0.000 description 3
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000760 Hardened steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910009043 WC-Co Inorganic materials 0.000 description 2
- DZVPMKQTULWACF-UHFFFAOYSA-N [B].[C].[N] Chemical compound [B].[C].[N] DZVPMKQTULWACF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000011153 ceramic matrix composite Substances 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 2
- 239000012612 commercial material Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011160 polymer matrix composite Substances 0.000 description 2
- 229920013657 polymer matrix composite Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229920006384 Airco Polymers 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical class ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PPWPWBNSKBDSPK-UHFFFAOYSA-N [B].[C] Chemical compound [B].[C] PPWPWBNSKBDSPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APHXJPQGKXKULX-UHFFFAOYSA-N [B].[N].[Ti] Chemical group [B].[N].[Ti] APHXJPQGKXKULX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004573 interface analysis Methods 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007735 ion beam assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 238000009740 moulding (composite fabrication) Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021652 non-ferrous alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012255 powdered metal Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23B—TURNING; BORING
- B23B27/00—Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
- B23B27/14—Cutting tools of which the bits or tips or cutting inserts are of special material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0635—Carbides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
- C23C14/0647—Boron nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0664—Carbonitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/34—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/048—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with layers graded in composition or physical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T407/00—Cutters, for shaping
- Y10T407/27—Cutters, for shaping comprising tool of specific chemical composition
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
切削工具は、基体(28)及び基体(28)上に被覆されたコーティングを含む。コーティングは、少なくとも一部が基体(28)上に蒸着されているベース付着層(38)を含む。ホウ素及び第1の元素を含む第1の中間付着層(40)がベース付着層(38)上にある。ホウ素、第1の元素、及び窒素を含む第2の中間付着層(42)が第1の中間付着層上にある。ホウ素及び窒素を好ましくは立方晶窒化ホウ素の形状で含む外部付着層(44)が第2の中間付着層(42)上にある。その最内部層が外部付着層(44)上にあるように耐摩耗性コーティング機構(34)がある。
Description
【発明の詳細な説明】
ホウ素及び窒素を含む超硬質コーティングを有する基体及びその製造方法
発明者:Aharon Inspektor
発明の背景
本発明は、超硬質材料の外部層を有する基体とその生成方法に関する。更に詳
細には、本発明は、ホウ素及び窒素(主な結晶形態が立方晶窒化ホウ素(cBN
)である窒化ホウ素であると出願人は考える。)を含有する外部付着層を有する
切削工具とその製造方法に関する。
材料技術が進歩するにつれて、新規の硬質材料を含む多くの新規材料が市販実
用化されるようになっている。このような新規の硬質材料は、焼結された超微粉
末金属、金属マトリックス複合材料、熱処理化焼入れ鋼(硬度50〜65ロック
ウェルC)、及び高温合金を含むがこれらに限られない。これらの新規材料は、
例えば、硬度、靭性及び耐摩耗性などの特殊な特性の組み合わせを有し、それに
より重工業、宇宙空間、運搬、及び消費者製品への用途において非常に適したも
のとされている。
このような新規硬質材料がその商的能力を最大限に獲得するためには、これら
の材料が現存の生産及び加工プロセスに提供する難題を克服しなければならない
。このような難題が存在する理由のうちの1つとして、このような材料の掘削、
切削、及び形成が非常に困難で、コストがかかることがある。このような難題は
、超硬質コーティングを使用した強力な切削工具を用いることにより最も効果的
に対処することができる。
現在、2つの主な超硬質実用化切削工具として、多結晶質ダイヤモンド(PC
D)切削工具及び多結晶質立方晶窒化ホウ素(PCBN)切削工具が挙げられる
。ダイヤモンドは、約75GPa〜約100GPaのヌープ100硬度を有する。立方
晶窒化ホウ素は、約45GPaのヌープ100硬度を有する。
PCBN切削工具は、一般的に硬質第一鉄材料の機械加工において用いられる
。
PCD切削工具は、一般的に硬質非第一鉄合金及び難切削複合材料の機械加工に
用いられる。一般的な多結晶質(PCD又はPCBN)切削工具において、切削
端は炭化物ブランク(carbide blank)にろう付けされた超硬質チップを有する。
チップは、適切なバインダーによって連晶され、焼結炭化物支持体上に接合され
るマイクロメーターの大きさのダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素(cBN)結
晶質を有する。結晶質及び形板は、例えば50kbar、約1500℃のような高圧−高
温(HP−HT)状況下で合成及び焼成される。
HP−HT生産法は、このようなチップの加工法とともに、それぞれに高いコ
ストを伴う。その結果、PCD切削工具及びPCBN切削工具は、非常に高価と
なる。費用に加えて、このような切削工具はチップが平板状である比較的限定さ
れた型を有する単一の付け刃工具を備えているのが一般的である。これらの切削
工具が高価であり、比較的型が限られていたとしても、現時点では、切断が困難
な新規の硬質材料を経済的に機械加工するためには、これらが最も適した(時に
は唯一の)切削工具である。
ダイヤモンドの低圧蒸着技術の発達により、切削工具の形状寸法に何の特別な
制限もなくダイヤモンドの適合層(又はフィルム)を切削工具基体上に蒸着する
ことができるようになった。ダイヤモンドをコーティングした切削工具は、PC
D切削工具をしのぐ利点を有するが、ダイヤモンドをコーティングした切削工具
の用途にはいくつかの重要な制限が残る。
ダイヤモンド切削工具(例えば、PCD及びダイヤモンドをコーティングした
切削工具)の1つの使用上の主な制約には、高温下における作業中にダイヤモン
ドが二酸化炭素及び一酸化炭素へと酸化することがある。ダイヤモンド切削工具
による使用上のもう1つの主な制約には、ある物質とのダイヤモンド(即ち、炭
素)の高い化学反応性がある。更に詳細には、鉄、コバルト、又はニッケルのう
ち1種又はそれ以上を含有する物質が、ダイヤモンド中の炭素原子を溶解する。
ダイヤモンド切削工具はある一定の利点を備えてはいるが、このような制約によ
り、超硬質コーティングを有する切削工具を必要としていてもダイヤモンド切削
工具の使用が好適でない材料群が存在することがわかる。
ダイヤモンドをコーティングした切削工具と共に現存する上記の問題点を克服
することができる付着性超硬質コーティングを有する切削工具の提供が必要とさ
れることが、明白である。更に詳細には、高温下での使用中にコーティングが酸
化しない付着性超硬質コーティングを有する切削工具を提供するニーズがある。
更に、コーティングが鉄、コバルト、又はニッケルのうちいづれか1つ又はそれ
以上を含有する加工材料と化学反応しない付着性超硬質コーティングを有する切
削工具を提供することもニーズもある。
高温で保護酸化物を形成することにより不動態化する1つの超硬質物質は、窒
化ホウ素である。更に、窒化ホウ素は通常の金属細工温度下において鉄、ニッケ
ル又はコバルトのうちのいずれか1つ又はそれ以上と化学反応を起こさない。そ
の結果、鉄、コバルト、又はニッケルのうちいずれか1つ又はそれ以上を含有す
る加工物は、窒化ホウ素を溶解しない。窒化ホウ素の全ての結晶形状が窒化ホウ
素のこのような有利な特性を備えている。しかし、高い硬度を示して、超硬質コ
ーティングをもたらす窒化ホウ素のこのような形状は、特に優れた特性と好まし
い結晶質形状を有する立方晶窒化ホウ素(cBN)、及びウルツ鉱(wurtzitic)
窒化ホウ素(wBN)結晶質の形状をとる窒化ホウ素を含有する。しかしながら
、主にcBNであるコーティングが、窒化ホウ素のいくつかの他の結晶質形状(
例えば、アモルファス窒化ホウ素(aBN)及び六方晶窒化ホウ素(hBN)、
並びにhBNに含まれるaBN)を有し、尚も優れた硬度、耐化学反応性、及び
不動態化特性を示すことが望まれる。
従って、窒化ホウ素をコーティングした切削工具、特にcBNをコーティング
した切削工具は、切削が困難な新規の硬質材料を高温下で機械加工するために非
常に望ましい特性を所有することが明白である。更に、窒化ホウ素をコーティン
グした切削工具、特にcBNをコーティングした切削工具が、鉄、コバルト、又
はニッケルのうちいずれか1つ又はそれ以上を含有する切削が困難な新規の硬質
材料の機械加工に非常に望ましい特性を所有することも明白である。
文献は、中間層の使用に関連して、基体上へのcBNの薄膜(又は層)の蒸着
について表す多数の論文を含む。
例えば、Murakawa et al.の"Characteristics of C-BN Film Made by a Reac
tive Ion Plating Method(pp.1009-1104)"と題される論文は、基体とcBN外部
コーティングとの間の中間層の使用法についての2つの異なった基本的なアプロ
ーチを提案している。このうちの1つのアプローチは、ホウ素と窒素の勾配を示
す緩衝中間層のみを用いるというものである。この論文は、このコーティング機
構の後処理としてアニールを提案している。もう1つのアプローチとしては、上
記の緩衝層と基体との間にチタンの中間層を用いるものである。
”Preparation and Chatacterization of Cubic Boron Nitride and Meta1 Bo
ron Nitride Films,Surface and Interface Analysis,Vol.22,(1994),pp.13
9-148”と題されるGisslerによる論文では、次にアニール処理を伴うTi/BN
の複数層を順次蒸着することを提案している。Gisslerの論文は、更にホウ素及
び窒素に対して元素を追加すること(例えば、Ti−B−N化合物を形成するた
めのチタンの追加等)を提案している。しかしながら、Ti−B−N−C系内で
高い硬度を有するコーティングについてのGisslerの参考文献は、中間層を使用
しないTiB2コーティングを扱ったものである。この参考文献は、Mitteier et
al.,"Sputter Deposition of Ultrahard Coatings Within the System Ti-B-
C-N",Surface and Coatings Technology,41(1990),pp.351-363である。
"Formation and characterization of cubic boron nitride films by an ar
c-like plasma-enhanced ion plating method",Surface and Coating Technolo
gy,50(1991),pp.33-39と題されるIkeda et al.の論文は、チタンベース層、チ
タン層に隣接したホウ素リッチ−BN(iBN)組成から外部層に隣接した構成
要素BNへと変移する濃度勾配を有するホウ素と窒素との層、及びcBNの外部
層、を有するコーティング機構を提案する。Ikeda et al.は、iBN層を蒸着す
るイオンめっき技術の使用を提案する。
更に、中間層の使用に関連したcBN層の基体上への蒸着について論じる多数
の特許が、特許文献にも表される。これに関して、Hirano et al.のCUBIC BORO
N NITRIDE COATED MATERIAL AND PRODUCING METHOD OF THE SAMEの米国特許第4
,731,303号は、Al、Ga、In、及びT1のうちのどれか1つ又はそ
れ
以上の窒化物又はニトロオキシドの中間層の使用を提案する。BODY COATED WITH
CUBIC BORON NITRIDE & METHOD FOR MANUFACTURING THE SAMEについてのWatana
be et al.の米国特許第4,892,791号及び米国特許第5,137,77
2号は、それぞれ、IVb族、IIIb族、Vb族,IVa族、Va族、及びV
Ia族の元素の窒化物又はホウ化物を含有する中間層を用いることを示している
。
上記の文書は、ホウ素及び窒素を含有した超硬質コーティングの蒸着について
の様々なアプローチを示している。しかしながら、十分な厚みを有し、そのため
切削工具及び耐摩耗性製品として有用であるコーティングを蒸着するためのアプ
ローチを提供するニーズが依然存在する。
従って、付着性の超硬質コーティングを有する切削工具を提供することに加え
、好ましくはホウ素及び窒素を含有し、更に好ましくはcBNを含有し、該コー
ティングが十分な厚みを有するため適切な耐用寿命を備える、付着性超硬質コー
ティングを有する切削工具を提供することが望まれるであろう。
要旨
本発明の主要目的は、好ましくはホウ素及び窒素、更に好ましくはcBNを含
有し、コーティングが十分な厚みを有し、そのため適切な耐用寿命を備えた超硬
材料の付着性コーティングを有する基体を提供することである。
本発明のもう1つの目的は、好ましくはホウ素及び窒素、更に好ましくはcB
Nを含有し、コーティングが十分な厚みを有するため適切な耐用寿命を備えた超
硬材料の付着性コーティングを有する切削工具を提供することである。
その1つの形態として、本発明は、すくい面(race face)及び逃げ面(flank fa
ce)を有し、すくい面と逃げ面が交差して切削端を形成する基体を有してなる切
削工具である。基体上にはコーティングが施される。コーティングは、基体の少
なくとも一部にベース付着層と、ベース付着層上にホウ素及び第1の元素を含む
第1の中間付着層と、第1の中間付着層上にホウ素、第1の元素、及び窒素を含
む第2の中間付着層と、第2の中間付着層上にホウ素及び窒素を含む外部付着層
と、その最内部層が外部付着層上にある耐摩耗性コーティング機構(wear coat
ing scheme)、とを有する。
その他の形態として、本発明は、基体を備えた切削工具上へのコーティング機
構の蒸着方法であって、その方法が、基体上にベース付着層を蒸着する工程と、
ベース付着層上にホウ素及び第1の元素を含む第1の中間付着層を蒸着する工程
と、第1の中間付着層上にホウ素、第1の元素、及び窒素を含む第2の中間付着
層を蒸着する工程と、第2の中間付着層上にホウ素及び窒素を含む外部付着層を
蒸着する工程と、耐摩耗性コーティング機構の最内部層を外部付着層上に蒸着す
る工程、とを有する。
更に他の形態として、本発明は、少なくともその一部にコーティングを施され
た基体である。コーティングは、少なくとも基体の一部上に蒸着されたベース付
着層と、ベース付着層上にあるホウ素及び第1の元素を含む第1の中間付着層と
、第1の中間付着層上にあるホウ素、第1の元素、及び窒素を含む第2の中間付
着層と、第2の中間付着層上にあるホウ素及び窒素を含む外部付着層と、その最
内部層が外部付着層上にある耐摩耗性コーティング機構、とを有する。
図面の簡単な説明
本特許明細書の一部を構成する図面の簡単な説明を以下に示す。
図1は、本発明の切削工具の特有の実施形態の等角図である。
図2は、図1の2−2の線に沿った切削工具の断面図であり、この第1の特有
の実施形態のコーティング機構を図示する。
図3は、本発明の方法を実用化する装置の機構上の略図である。
発明の実施の形態
図面を参照して、図1及び図2は、本発明の第1の特有の実施形態である切削
工具(一般的に20として示される)を図示する。切削工具20は、交差して切
削端26を形成するすくい面22及び逃げ面24を表す。第1の特有の実施形態
(20)は、例えば、下記に示す実験番号1などの実際の作業の一部であったサ
ンプルを全般的に表示する。
切削工具20は、更に、大括弧30の中に図示される複数層のコーティング機
構をその上部に有する基体28を備える。実験番号1で使用した全てのサンプル
は、コバルト焼結炭化タングステン(cobalt cemented tungsten carbide)の基体
を有した。しかしながら、実験番号2で使用したサンプルが示すように、実際の
作業ではセラミックスの基体も含まれた。
基体材料のタイプに関して、基体は、金属、セラミックス、ポリマー、それら
の組み合わせによる複合材料、及び複合材料の組み合わせを有する。金属は、元
素、合金、及び/又は金属間化合物でありうる。金属として、IUPACの2〜
14族の元素が挙げられる。セラミックスとして、硼化物、炭化物、窒化物、酸
化物、その混合物、その固溶体、及びそれらの組み合わせが挙げられる。ポリマ
ーとして、コーティング機構がその一部に付加された後、所望される機械的特性
及び/又は物理的特性を保持する有機及び/又は無機ベースのポリマーが挙げら
れる。複合材料として、金属マトリックス複合材料(MMC)、セラミックマト
リックス複合材料(CMC)、ポリマーマトリックス複合材料(PMC)、及び
それらの組み合わせが挙げられる。好ましい複合材料として、サーメット、焼結
炭化物(cemented carbide(s))、及び特にコバルト焼結炭化タングステンが挙げ
られる。複合材料は、ダイヤモンドの先端部を有する基体又はダイヤモンドをコ
ーティングした基体、PCBN、又はPCDを含んでもよい。
他の一般的な材料として、単なる炭化物として又は固溶体中に存在する他の炭
化物(例えば、TaC、NbC、TiC、VC)を有する、炭化タングステンベ
ースの材料が挙げられる。焼結炭化物の場合、コバルトバインダーの量は、約0
.2重量%〜約20重量%の範囲内であるが、より一般的には、約5重量%〜約
16重量%の範囲内である。他のバインダーの使用もまた適切であることが理解
されるべきである。好適な金属バインダーとしては、コバルト及びコバルト合金
に加え、ニッケル、ニッケル合金、鉄、鉄合金、及び前述の物質のあらゆる組み
合わせ(例えば、コバルト、コバルト合金、ニッケル、ニッケル合金、鉄、及び
/又は鉄合金)が挙げられる。更に、PREFERENTIALLY BINDER ENRICHED CEMENTE
D CARBIDE BODIES AND METHOD OF MANUFACTUREについてNemeth et al.の米国再
発行特許第34,180号(本特許明細書の譲受人に譲渡された)に開示されて
いる基体の表面付近のバインダー(コバルト)リッチ領域を有する基体がコーテ
ィング機構での処理に適していることが理解されるべきである。
複数層コーティング機構30は、大括弧32で図示される付着コーティング機
構と、大括弧34で図示される耐摩耗性コーティング機構を含む。複数層コーテ
ィング機構の全体の厚みは、約1マイクロメーター(μm)〜5μm又はそれ以
上の範囲内であり、更に好ましくは約3μm〜約5μmの範囲内である。
図1及び2の特有のコーティング機構を参照して、付着コーティング機構32
は、基体28の表面に隣接したベース付着層38を有する。ベース付着層38は
、チタン金属を有する。しかしながら、ベース付着層がアルミニウム、マグネシ
ウム、ジルコニウム、又はハフニウムを有してもよい(又は前述の材料から成る
)ことを理解すべきである。ベース層38の厚さは、約10オングストローム(
Å)〜約10,000Åの範囲内で、その典型的な厚さは約1,000Åである。
第1の中間付着層40がベース層38の上にある。第1の中間付着層40は、
ホウ素及び炭素を含有する。ホウ素原子と炭素原子の原子比率(B:C)は、約
2.7〜約3.3である。第1の中間層40の厚さは、約10オングストローム
(Å)〜約10,000Åの範囲内で、その典型的な厚さは約2,000Åである。
第1の中間付着層40の上に第2の中間付着層42がある。第2の中間付着層
42は、ホウ素、炭素、及び窒素を含有する。ホウ素と窒素の原子比率(B:N
)は、29:71〜54:46(好ましくは29:71〜41:59)の範囲内
で、炭素の原子%は、約11%〜約26%の範囲内である。つまり、ホウ素の原
子%が約29%〜約54%である場合、窒素の炭素に対する原子比率(N:C)
は約74:26〜約89:11の範囲内である。第2の中間層42の厚さは、約
10オングストローム(Å)〜約10,000Åの範囲内で、その典型的な厚さは約2,
000Åである。
第2の中間付着層42の上部には、外部付着層44がある。外部付着層44は
、約0.6〜約5.7の原子比率のホウ素と窒素(例えば、ホウ素の原子%は約
38%〜約85%である)を有する。外部付着層44の厚さは、約1,000オング
ス
トローム(Å)〜約20,000Åの範囲内で、その典型的な厚さは約10,000Åであ
る。
付着コーティング機構32の上に複数層の耐摩耗性コーティング機構34があ
る。この特有の実施形態では、基本的耐摩耗性コーティング機構のある順序が用
いられる。しかしながら、出願人は、基本的な耐摩耗性コーティング機構は、あ
る一定の用途で扱われるために様々な順序で蒸着されることができると考える。
耐摩耗性コーティング機構の複数の順序による蒸着により、全体的なコーティン
グの厚さはほぼ所望の厚さにまで増加する。
耐摩耗性コーティング機構34を参照して、外部付着層44上に耐摩耗性ベー
ス層48がある。耐摩耗性ベース層48は、ホウ素、炭素、及び窒素を含有する
。ホウ素と窒素の原子比率(B:N)は、29:71〜54:46(好ましくは
29:71〜41:59)の範囲内で、炭素の原子%は約11%〜約26%の範
囲内である。つまり、ホウ素の原子%は約29%〜約54%の範囲内である場合
、窒素の炭素に対する原子比率(N:C)は約74:26〜89:11の範囲内
である。耐摩耗性ベース層48の厚さは、約10オングストローム(Å)〜約10
,000Åの範囲内で、その典型的な厚さは約2,000Åである。
耐摩耗性外部層50は、約0.6〜約5.の原子比率のホウ素と窒素(例えば
、ホウ素の原子%は約38%〜約85%である)を有してなる。耐摩耗性層50
の厚さは、約1,000オングストローム(Å)〜約20,000Åの範囲内で、その典型
的な厚さは約10,000Åである。
本コーティング機構によって少なくとも一部をコーティングされた切削工具は
、研削に置き換えられるいわゆる“硬質旋削(hard turning)”又は“硬質切削(h
ard machining)”において有益に用いられる。硬質旋削は、スチールなどの第一
鉄合金を含む硬質合金を最終形状又は仕上げ形状に切削する工程を含みうる。硬
質合金は、少なくとも約±0.0127mm(0.0005インチ)、好ましくは±約0.0O76mm
(0.0003インチ)の正確性で切削され、ラス(lath)又は旋回中心部上を約20マ
イクロメーターrmsよりも高速で加工される。切削の速度、送り量、及び深度(
DOC)は、所望の結果を達成するのに相応しいあらゆる数値を含む。切削速
度は、約50〜300m/分、好ましくは約75〜200m/分、更に好ましくは約80〜15
0m/分の範囲内である。同様に、送り量は約0.05〜1mm/回転、好ましくは0
.1〜0.6mm/回転、更に好ましくは約0.3〜0.6mm/回転の範囲内であ
る。更に、DOCは、約0.05〜1mm、好ましくは約0.1〜0.25mm、更に好まし
くは約0.1〜0.3mmの範囲内である。上記の切断パラメータは、切断又は冷
却流体と共に又は切断又は冷却流体なしで使用されることができる。
複数層コーティング機構30の全体の概ねの厚さは、約1マイクロメーター(
μm)〜約5μm又はそれ以上(好ましくは、約3μm〜約5μm)の範囲内で
あるべきである。理解されているように、耐摩耗性コーティング機構が複数の順
序によって蒸着される能力は、選択された全体の厚さを有するコーティングを蒸
着することを可能にする。切削工具30上に所望される全体の厚さのコーティン
グを施すことにより、切削工具30の耐用寿命が満足のいくものとなることが大
幅に見込まれる。
このようなコーティング層を付加する方法に関して、多数の蒸着技術が適切な
結果をもたらすことが期待できる。cBNコーティングの付加についての典型的
な工程は、イオンビーム助成PVD技術、窒素イオン注入、プラズマ化学輸送、
無線周波スパッタリング、イオンめっき、rfプラズマCVD、及び電子サイク
ロトロン共鳴CVDを含む。出願人は、更に不平衡マグネトロン(UBN)スパ
ッタリング技術も好適な結果をもたらすと考える。
CVD・cBN合成について表す技術として、例えば、"Deposition of cubic
BN on Diamond Interlayers"NASA Tech Briefs,Vol.18,No.8 p.53;Z.Song,
F.Zhang,Y.Guo,& G.Chin,"TEXTURED GROWTH OF CUBIC BORON NITRIDE FILM O
N NICKEL SUBSTRATES"Applied Physics Letter",Vol.65,No.21,1994,pp.2669
-2671;及びM.Kuhr,S.Reinke,& W Kulisch,"DEPOSITION OF CUBIC BORON NITR
IDE WITH AN INDUCTIVELY COUPLE PLASMA"Surface and Coating Technology,V
ol.74-75,1995,pp.806-812;及びMurakawa & S.Watanabe,”THE SYNT HESIS
OF CUBIC BN FILMS USING A HOT CATHODE PLASMA DISCHARGE IN A PARALLEL MAG
NETIC FIELD,”Coating Technology,Vol.43,1990,pp.128-136;に記述
されているものが挙げられる。
PVD・cBN合成について表す技術として、例えば、M.Mieno & T.Yoshida
,"PREPARATION OF CUBIC BORON NITRIDE FILMS BY SPUTTERING,"Japanese Jou
rnal Of Applied Physics,Vol.29,No.7,July 1990,pp.L1175-L117;Kester e
tal.,"PHASE CONTROL OF CUBIC BORON NITRIDE THIN FILMS",Journal of A
pplied Physics,Vol.72,No.2(July 1990);Wada et al.,"FORMATION OF CBN F
ILMS BY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION",Journal of Vacuum Science Technol
ogy A.,Vol.10,No.3(May/June 1992);Ikeda et al.,"FORMATION OF CUBIC B
ORON NITRIDE FILMS BY ARC-LIKE PLASMA-INDUCED ION PLATING METHOD",Journ
al of Vacuum Science Technology,Vol.8,No.4(July/August 1990);及びT.Ike
da,T.Satou,& H.Stoh,"FORMATION AND CHARACTERIZATION OF CUBIC BORON NI
TRIDE FILMS BY AN ARC-LIKE PLASMA-ENHANCED ION PLATING METHOD,"Surface
and Coating Technology,Vol.50,1991,pp.33-39;に記述されるものが挙げら
れる。
実験番号1及び2に用いられる特有の工程は、イオンビームを援用して窒素含
有層を形成する電子ビームPVDプロセスであった。PVD技術は、Aharon Ins
pektor(本特許明細書の出願人)によって本特許明細書と同日に提出され、本特
許明細書の譲渡人でもあるケンナメタル社(Kennameta1 Inc.)に譲渡されたBORON
AND NITROGEN CONTAINING COATING AND METHOD FOR MAKINGと題される米国特許
明細書に示されている。Aharon Inspektorによって作成され、BORON AND NITROG
EN CONTAINING COATING AND METHOD FOR MAKINGと題される上記の特許明細書は
、本明細書に参照として取り入れられる。
実際の実験、例えば、実験番号1及び2を行うために用いられた特有の装置及
び工程についての説明を下記に示す。
好適な装置とは、4−ポケットe−ビームガンと共に装備され、20℃の水が
冷却された高真空度チャンバを有するAIRCO テメスカル FC 1800
(AIRCO TEMESCAL FC 1800)高速サイクル電子ビーム(e−ビーム)エバポレータ
ー装置であり、また、無線周波(RF)にバイアスをかけられた基体ホルダーを
用いた。装置は、更に残存ガスアナライザー(インファイコン(Inficon)製のI
Q20 0)、チャンバ加熱のための石英水銀灯、イオン供給源としてコモンウ
ェールズ科学社(Commonwealth Scientific Corp.of Alexandria,Virginia)製
のマークIグリッドレスエンドーホール型(Mark I gridless end-Hall type)の
イオン銃、ファラデーカップ(インファイコン製のIQ6000にインターフェ
ースされている)、及び基体加熱を捕捉するためのフィラメント(又は追加の石
英水銀灯)も備える。この特有の装置では単一のイオン銃を用いたが、出願人は
2つのイオン銃の使用がコーティング機構の蒸着に好適でありえると考える。
図4は、基体ホルダー100、材料供給源104から蒸気を生成するための電子ビー
ム102、ファラデーカップ106、及びイオン供給源108を図示する。角度は、基体
ホルダーの平面(112)と、蒸気供給源の表面に対して垂直で蒸気供給源からの照
準ラインに実質的に平行であるラインとの間を測定した。角度βは、基体保持具
106の平面(112)と、イオン供給源108の照準ライン(110)との間を測定した。材料
供給源104の表面と基体の平面(112)との間の距離は、“d1”として認識される
。イオン供給源108と基体ホルダ−100の平面(112)との間の距離は、“d2”とし
て認識される。
図4に図示される装置の設定に着目すると、その動作パラメータは、角度約4
5°〜約75°、角度β約65°〜約80°、距離d1444mm、距離d2約90mm〜
約165mm、を有する。
実験番号1は、全部で8つの切削工具サンプルを有した。その切削工具のうち
の4つは、以下の組成及びその基本的な特性を備えたコバルト焼結炭化タングス
テン(WC−Co)基体(例えば、組成No.1)を有した。組成は、コバルト
約5.4〜約5.9重量%、タンタル約1.4〜約2.4重量%、チタン0.2
重量%以下、ニオブ約0.3重量%以下、及びバランスとして炭化タングステン
であった。組成No.1について、炭化タングステンの平均粒度は約1〜4μm
、比重は約14.80〜約15.10g/cm3(gm/cc)、ロックウェルA硬度は約92.4〜
約93.0、磁気飽和は約85〜約98%(100%は約202マイクロテスラ立方メート
ル/コバルトのキログラム(μTm3/kg)(約160ガウス立方センチメート
ル/コバルトのグラム(ガウス−cm3/gm))に等しい)、また保磁力は約230〜
約300エルステッドである。
残りの4つの切削工具は、以下の組成と基本的な特性を備えたコバルト焼結炭
化タングステン基体(例えば、組成No.2)を有した。組成はコバルト約5.
7〜6.3重量%、タンタル約0.1重量%以下、チタン0.1重量%以下、ニ
オブ約0.1重量%、クロム約0.3〜約0.5重量%、及びバランスとして炭
化タングステンであった。組成No.1については、炭化タングステンの平均粒
度は約1〜5μmで、比重は約14.80〜約15.00gm/cc、ロックウェルA硬度は約9
2.6〜約93.4であり、磁気飽和は約83〜約95%(100%は約202マイクロテス
ラ立方メートル/コバルトのキログラム(μTm3/kg)(約160ガウス立方センチメ
ートル/コバルトのグラム(ガウス−cm3/gm))に等しい)、また保磁力は約25
0〜約350エルステッドである。
実験番号2のサンプルは、全部で10個の切削工具を有してなり、その切削工
具のうちの2つは組成No.1のコバルト焼結炭化タングステン(WC−Co)
基体を有した。切削工具のうちの6個は、組成No.2のコバルト焼結炭化タン
グステン基体を有した。
切削工具のうちの2つは、SiALONセラミック基体を有した。SiALONセラミック
基体は、二重シリコンアルミニウムオキシニトライド相α−SiALON及びβ−SiAL
ONセラミック(米国特許第4,563,433号の方法で実質的に生成される)
を有し、密度約3.26g/cm3、約18GPaのヌープ硬度200g、破壊靭性(KIC)約
6.5MPa m1/2、弾性係数約304GPa、剪断弾性係数約119GPa、体積弾性係数約2
27GPa、ポアソン比約0.27、引張強さ約450MPa、横破断強さ約745MPa、及び極限
圧縮強さ約3.75GPaを有した。
実験番号1及び2の第1の工程は、基体クリーニングエ程であった。この工程
の目的は、関連する環境(基体表面近くの体積を含む)及び基体表面を清掃する
ことであった。
表I〜XIIIで用いた測定装置に着目すると、ガスの流れは標準立方センチメー
トル毎分(sccm)で、圧力はパスカル(Pa)で測定し、温度は摂氏温度(℃)、
イオンビームエネルギーは電子ボルト(eV)、電子ビーム設定は最大パワー設定
のパーセンテージ(%)で測定し、蒸発速度を蒸発源の平面と基体ホルダーとの
間(蒸発源の表面から約254mmの位置及び蒸発源の中心部から約165mm離れた位置
)においてナノメーター毎分(nm/sec)で測定した。
実験番号1及び2のクリーニング工程のパラメータを下記の表Iに示す。
表I
基体クリーニングのパラメータ
実験番号1及び2の次に続く工程はチタン金属の薄層を基体表面上に直接蒸着
することであった。この工程の目的は、後続層の蒸着のために、基体の表面を調
製(又は調節)することであった。チタンはいわゆる“ゲッター”と呼ばれる反
応性合金である。つまり、チタンはチャンバ内又は基体表面上の酸素及び他の汚
染物と反応してチタン化合物を形成し、それにより、汚染物を除去する。出願人
は、例えば、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム又はハフニウムなどの
他の合金も、コーティングの蒸着に備えた基体の調製に機能するであろうと考え
る。
下記の表IIは、このチタンのベース付着層の蒸着についてのパラメータを示す
。
表II
チタンベース付着層の蒸着のパラメータ 実験番号1及び2について、チタンベース付着層を蒸着した後、付着コーティ
ング機構の蒸着における次の工程は、ホウ素及び炭素を含有する第1の中間付着
層のチタン層上に蒸着することであった。これに関して、第1の中間付着層の蒸
着のパラメータを、下記の表IIIに示す。
表III
ホウ素−炭素 第1の中間付着層の蒸着のパラメータ
実験番号1及び2について、第1の中間付着層(ホウ素及び炭素を含有する)
の蒸着後の次の工程は、ホウ素、窒素、及び炭素を含有する第2の中間付着層を
第1の中間付着層上に蒸着することであった。これに関し、下記の表IVは実験番
号1及び2を介する第2の中間付着層の蒸着のパラメータを示す。
表IV
ホウ素−炭素−窒素 第2の中間付着層
の蒸着のパラメータ 実験番号1及び2について、第2の中間付着層の蒸着後、付着コーティング機
構の蒸着における次の工程はホウ素及び窒素を含有する外部付着層(cBNの形
状であることが最も好ましい)の蒸着であった。これに関し、表Vは、以下に実
験番号1及び2に基づいたこの層の蒸着についてのパラメータを示す。
表V
ホウ素−窒素 外部付着層の蒸着のパラメータ
実験番号1及び2について、付着コーティング機構は外部付着層の蒸着によっ
て完了した。
付着コーティング機構に着目すると、上記の作業は、第1の中間付着層と第2
の中間付着層とが共通の2つの元素、即ち、ホウ素及び炭素を有することを示す
。しかしながら、出願人は、本発明の範囲をこのような共通の元素に限定する意
図はない。第1の中間付着層と第2の中間付着層は、共通する元素を2つ有する
が、出願人は、これらの層に共通の元素が少なくとも1つだけ存在するのが一般
的であると考える。出願人は、更に、第1及び第2の中間付着層間で他の元素や
複数の元素が共通であってもよいと考える。例えば、第1の中間付着層は、第2
の中間付着層の構成要素に共通する3つの元素(ホウ素及び炭素以外)を含有す
ることもある。
特有の実験サンプルは、更に、第2の中間付着層と外部付着層が2つの共通元
素、即ちホウ素及び窒素を有することも表す。しかしながら、出願人は本発明の
範囲をこれらの共通の元素に限定する意図はない。第2の中間付着層と外部付着
層は、共通する元素を2つ有するが、出願人は、2つのこれらの層の間に共通元
素が少なくとも1つだけ存在すると考える。更に、出願人は、第2の中間付着層
と外部付着層に共通する他の元素や複数の元素が存在してもよいと考える。例え
ば、第2の中間付着層は、外部付着層の構成要素に共通する3つの元素(ホウ素
及び窒素以外)を含有することができる。
第1の中間付着層、第2の中間付着層、及び外部付着層の特有の実施形態は、
3層全てに共通する1つの元素、即ちホウ素が存在することを示す。出願人は、
本発明の範囲をその全ての層(例えば、第1の中間付着層、第2の中間付着層、
及び外部付着層)に共通の1つの元素が存在するコーティング機構に限定する意
図はない。
更に、出願人は本発明の範囲をホウ素のみが共通の元素であるコーティング機
構に限定する意図はない。出願人は、第1の中間付着層、第2の中間付着層、及
び外部付着層に共通する元素(ホウ素以外)が1つ又はそれ以上存在してもよい
と考える。
複数層の耐摩耗性コーティング機構の蒸着に着目すると、このコーティング機
構は、付着性コーティング機構の完了後、次に続く工程であった。複数層の耐摩
耗性コーティング機構は各作業によって様々であるため、理解しやすくするため
に、それぞれの作業の複数層の耐摩耗性コーティング機構を下記に示す。
実験番号1の複数層の耐摩耗性コーティング機構
実験番号1の複数層の耐摩耗性コーティングを参照すると、耐摩耗性ベース層
は、ホウ素、炭素、及び窒素を含有した。この層の蒸着のパラメータを表VIに示
す。
表VI
ホウ素−炭素−窒素 耐摩耗性ベース層の蒸着
の実験番号1のパラメータ
耐摩耗性ベース層の蒸着後、次の工程は耐摩耗性外部層の蒸着であった。耐摩
耗性外部層は、ホウ素及び窒素を含有した。この層の蒸着についてのパラメータ
を下記の表VIIに示す。
表VII
ホウ素−窒素 耐摩耗性外部層の蒸着
の実験番号1のパラメータ
耐摩耗性外部層の蒸着によって実験番号1のコーティング機構の全体の蒸着は
完了した。
従って、実験番号1のサンプルの全体のコーティング機構は、付着コーティン
グ機構及び耐摩耗性コーティング機構から構成された。付着性コーティング機構
は、Ti/B−C/B−C−N/B−Nの層を有していた。耐摩耗性コーティン
グ機構は、B−C−N及びB−Nの層を有していた。
実験番号2の複数層耐摩耗性コーティング
実験番号2に基づいて作られたサンプルによると、耐摩耗性ベース層は、チタ
ン、ホウ素、及び窒素を有していた。この層の蒸着についてのパラメータを下記
表VIIIに示す。
表VIII
チタン−ホウ素−窒素 耐摩耗性ベース層の蒸着
の実験番号2のパラメータ
次の工程は、ホウ素と窒素を含有する耐摩耗性外部層の蒸着を有していた。こ
の層の蒸着のパラメータを、表IXに示す。
表IX
ホウ素−窒素 耐摩耗性外部層の蒸着
の実験番号2のパラメータ
耐摩耗性外部層の蒸着により、実験番号2のコーティング機構の全体が完了し
た。全体のコーティング機構は、4層(Ti/B−C/B−C−N/B−N)を
有する付着コーティングと、チタン、ホウ素、及び窒素を有するベース層を有す
る耐摩耗性コーティング機構と、ホウ素及び窒素を含有する外部層とを有してい
た。
蒸着の様々な工程の間に用いられる蒸気源材料は、チタン、炭化ホウ素、チタ
ンホウ化物(TiB2)、及びホウ素を含む。チタン及び炭化ホウ素はそれぞれ
、市販材料の99.9重量%(wt%)有する一方、ホウ素及びチタンホウ化物は市
販材料の99.5wt%を有する。
実験番号1及び2のサンプルは、外部付着層と耐摩耗性ベース層に共通する2
つの元素が存在することを表す。実験番号1のサンプルでは、この共通の元素は
ホウ素及び窒素である。実験番号2のサンプルでも、共通の元素はホウ素及び窒
素である。これはコーティング機構の必要条件ではないが、出願人は、好ましい
コーティング機構では外部付着層と耐摩耗性ベース層に共通する元素が少なくと
も1つ存在すると考える。
実験番号1及び2のサンプルは、耐摩耗性外部層と耐摩耗性ベース層に共通す
る元素が2つあることも示す。実験番号1及び2の両サンプルにおいて、これら
の層に共通する元素はホウ素及び窒素である。これはコーティング機構の必要条
件ではないが、出願人は、コーティング機構において外部付着層と耐摩耗性ベー
ス層に共通する元素が少なくとも1つ存在するのが好ましいと考える。
実験番号1及び2のサンプルは耐摩耗性ベース層と外部層との間の中間層の存
在を表示しないが、出願人は1つ又はそれ以上の中間層の蒸着が有用であると考
える。更に、実験番号1及び2のサンプルは反復可能な耐摩耗性コーティング機
構を表示しないが、耐摩耗性コーティング機構を1度又はそれ以上繰り返すこと
が可能なため、全体的に十分な厚さのコーティングを施すことができると出願人
は考える。これに関して、コーティングの全体の厚さ(例えば、付着コーティン
グ機構と耐摩耗性コーティング機構が組み合わされた厚さなど)は約1μm〜約
5μm又はそれ以上の範囲内(更に好ましくは、コーティングの概ねの厚さは約
3μm〜約5μmの範囲内)であるべきである。
本発明の上記に説明された態様は、ホウ素及び窒素、好ましくはcBNの使用
を許容し、例えば、孔あけ、旋削、磨砕、及び/又は硬質で難切削材料を成形す
るためのチップ形成切削インサート、及び他の表示される工具や表示されない工
具などの工具に被覆されるコーティングを含有するなどの多くの利点を有する。
更に、この工具を用いて金属、セラミックス、ポリマー、それら組み合わせによ
る複合材料、複合材料の組み合わせを機械加工することができる。特に、この工
具を用いて、ダイヤモンドと不適合な材料、例えば、鉄ベース合金、ニッケルベ
ース合金、コバルトベース合金、チタンベース合金、焼き入れ鋼、硬質鋳造鉄、
軟質鋳造鉄、及び焼結鉄などを切削、孔あけ、及び成形することができる。
本発明をその特定の好ましい態様を参照しながらかなり詳細にわたって説明し
てきたが、他の態様も可能である。その例として、電子的用途、ダイ、及びパン
チ用のTABバインダー等の用途に用いられる耐摩耗性部品へのコーティング;
採鉱工具、建設工具、穴掘工具、及び削岩工具の炭化物チップへのコーティング
;磁気抵抗(MR)コンピューターディスクドライブに用いられるスライダーへ
の薄いコーティング;及びバースキャナコードスキャナウィンドウへの透過性コ
ーティングが挙げられる。
本明細書において認識される全ての特許及び他の文書は、参照として本明細書
に取り入れられる。
本発明の他の実施形態は、本明細書に開示した本発明の仕様又は実用を考慮す
ることにより、当業者にとって明白であろう。本明細書に記述した仕様と実際の
実験は単に例示であることを意図しており、本発明の本来の範囲及び精神は以下
の請求の範囲によって示されることを意図している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. すくい面及び逃げ面とが交差して切削端を形成するすくい面及び逃げ面を有 する基体と、該基体上にコーティングとを有する切削工具であって、 前記コーティングが、 基体の少なくとも一部の上にあるベース付着層と、 該ベース付着層上にある、ホウ素及び第1の元素を含む第1の中間付着層 と、 該第1の中間付着層上にあるホウ素、第1の元素、及び窒素を含む第2の 中間付着層と、 該第2の中間付着層上にあるホウ素及び窒素を含む外部付着層と、 耐摩耗性コーティング機構の最内部層が前記外部付着層上にある耐摩耗性 コーティング機構と、 を有する、上記切削工具。 2. 前記ベース付着層が、反応性金属を含み、該反応性金属がチタン、ジルコ ニウム、ハフニウム、マグネシウム、及びアルミニウムから成る群から選択 される請求項1記載の切削工具。 3. 前記第1の元素が炭素である請求項1記載の切削工具。 4. 前記耐摩耗性コーティング機構が外部付着層上に耐摩耗性ベース層を有する 、請求項1記載の切削工具。 5. 前記耐摩耗性コーティング機構が、更に、耐摩耗性ベース層上に耐摩耗性外 部層を含む請求項4記載の切削工具。 6. 前記第1の元素が炭素であり、耐摩耗性ベース層がホウ素、窒素、及び炭素 を有し、耐摩耗性外部層がホウ素及び窒素を有する請求項5記載の切削工具 。 7. 前記第1の中間付着層と第2の中間付着層とが共通する元素を少なくとも1 つ有する請求項1記載の切削工具。 8. 前記第2の中間付着層と外部付着層とが共通する元素を少なくとも1つ有す る請求項1記載の切削工具。 9. 前記第1の中間付着層と第2の中間付着層とが、及び外部付着層が共通する 元素を少なくとも1つ有する請求項1記載の切削工具。 10.基体を備えた切削工具上へのコーティング機構の蒸着方法であって、 基体上にベース付着層を蒸着する工程と、 前記ベース付着層上にホウ素及び第1の元素を含む第1の中間付着層を蒸着 する工程と、 前記第1の中間付着層上にホウ素、第1の元素、及び窒素を含む第2の中間 付着層を蒸着する工程と、 前記第2の中間付着層上にホウ素及び窒素を含む外部付着層を蒸着する工程 と、 前記外部付着層上に耐摩耗性コーティング機構の最内部層を蒸着する工程と 、を有する、上記方法。 11.前記ベース付着層が反応性金属を含み、前記反応性金属がチタン、ジルコ ニウム、ハフニウム、マグネシウム、及びアルミニウムから成る群から選択 される請求項10記載の方法。 12.前記第1の元素が炭素である請求項10記載の方法。 13.耐摩耗性コーティング機構を蒸着する工程が、外部付着層上への耐摩耗性 ベース層の蒸着を含む請求項10記載の方法。 14.前記耐摩耗性コーティング機構の蒸着が、更に、耐摩耗性ベース層上への 耐摩耗性外部層の蒸着を含む請求項13記載の方法。 15.前記耐摩耗性ベース層がホウ素、窒素、及び炭素を有し、前記耐摩耗性外 部層がホウ素及び窒素を有する請求項14記載の方法。 16.少なくともその一部にコーティングを有する基体であって、該コーティ ングが、 基体の少なくとも一部上にあるベース付着層と、 前記ベース付着層上にある、ホウ素及び第1の元素を含む第1の中間付着層 と、 前記第1の中間付着層上にある、ホウ素、第1の元素、及び窒素を含む第2 の中間付着層と、 前記第2の中間付着層上にある、ホウ素及び窒素を含む外部付着層と、 耐摩耗性コーティング機構の最内部層が前記外部付着層上にある耐摩耗性コ ーティング機構と、 を有する、上記基体。 17.前記ベース付着層が反応性金属を含み、前記反応性金属がチタン、ジルコ ニウム、ハフニウム、マグネシウム及びアルミニウムから成る群から選択さ れ、且つ、第1の元素が炭素である請求項16記載の基体。 18.前記耐摩耗性コーティング機構が、外部付着層上の耐摩耗性ベース層を有 する請求項16記載の基体。 19.前記耐摩耗性コーティング機構が、更に、前記耐摩耗性ベース層上の前記 耐摩耗性外部層を有する請求項18記載の基体。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/627,464 US5976716A (en) | 1996-04-04 | 1996-04-04 | Substrate with a superhard coating containing boron and nitrogen and method of making the same |
| US08/627,464 | 1996-04-04 | ||
| PCT/US1997/000838 WO1997038151A1 (en) | 1996-04-04 | 1997-01-15 | Substrate with a superhard coating containing boron and nitrogen and method of making the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000508377A true JP2000508377A (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=24514746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53616797A Pending JP2000508377A (ja) | 1996-04-04 | 1997-01-15 | ホウ素及び窒素を含む超硬質コーティングを有する基体及びその製造方法 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5976716A (ja) |
| EP (1) | EP0900287B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000508377A (ja) |
| KR (1) | KR20000005021A (ja) |
| CN (1) | CN1215437A (ja) |
| AT (1) | ATE223517T1 (ja) |
| AU (1) | AU706148B2 (ja) |
| BR (1) | BR9708499A (ja) |
| CA (1) | CA2248692A1 (ja) |
| DE (3) | DE69715186T8 (ja) |
| WO (1) | WO1997038151A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA971602B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006526508A (ja) * | 2003-06-03 | 2006-11-24 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | 割り出し可能な切削インサート及びこの切削インサートの製造方法 |
| JP2008511751A (ja) * | 2004-09-02 | 2008-04-17 | フォルシュングスツェントルム カールスルーエ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 立方晶窒化ホウ素を有する積層複合材料 |
Families Citing this family (63)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT1239U1 (de) * | 1996-03-27 | 1997-01-27 | Plansee Ag | Verfahren zur herstellung eines verbundwerkstoffes |
| US6827976B2 (en) * | 1998-04-29 | 2004-12-07 | Unaxis Trading Ag | Method to increase wear resistance of a tool or other machine component |
| US6214473B1 (en) * | 1998-05-13 | 2001-04-10 | Andrew Tye Hunt | Corrosion-resistant multilayer coatings |
| SE519005C2 (sv) * | 1999-03-26 | 2002-12-17 | Sandvik Ab | Belagt hårdmetallskär |
| US6623791B2 (en) | 1999-07-30 | 2003-09-23 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating compositions having improved adhesion, coated substrates and methods related thereto |
| US6432480B1 (en) * | 1999-09-27 | 2002-08-13 | Caterpillar Inc. | Modified boron containing coating for improved wear and pitting resistance |
| US6593015B1 (en) * | 1999-11-18 | 2003-07-15 | Kennametal Pc Inc. | Tool with a hard coating containing an aluminum-nitrogen compound and a boron-nitrogen compound and method of making the same |
| US6779951B1 (en) * | 2000-02-16 | 2004-08-24 | U.S. Synthetic Corporation | Drill insert using a sandwiched polycrystalline diamond compact and method of making the same |
| CN1191144C (zh) * | 2000-05-08 | 2005-03-02 | 布莱阿姆青年大学 | 摩擦搅拌焊接的超级研磨工具和方法 |
| US6607782B1 (en) * | 2000-06-29 | 2003-08-19 | Board Of Trustees Of The University Of Arkansas | Methods of making and using cubic boron nitride composition, coating and articles made therefrom |
| US20030168539A1 (en) * | 2000-07-06 | 2003-09-11 | Ulrich Schoof | Refiner and method for treating the surface of a tool of a refiner of this type |
| JP3637882B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2005-04-13 | 住友電気工業株式会社 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
| US6988858B2 (en) * | 2001-02-28 | 2006-01-24 | Kennametal Inc. | Oxidation-resistant cutting assembly |
| WO2002087812A1 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Thk Co., Ltd. | Method of cutting long-sized hardened steel material and cutting device |
| US6592999B1 (en) | 2001-07-31 | 2003-07-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer composites formed from compositions having improved adhesion, coating compositions, and methods related thereto |
| US6641923B2 (en) | 2001-07-31 | 2003-11-04 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Weldable coating compositions having improved intercoat adhesion |
| US6592998B2 (en) | 2001-07-31 | 2003-07-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer composites formed from compositions having improved adhesion, coating compositions, and methods related thereto |
| EP1434897A1 (de) * | 2001-10-08 | 2004-07-07 | Aixtron AG | Verfahren und vorrichtung zum abscheiden einer vielzahl von schichten auf einem substrat |
| KR20030052469A (ko) * | 2001-12-21 | 2003-06-27 | 한국야금 주식회사 | 내마모성 및 인성이 향상된 피복 초경합금 절삭공구의제조방법 |
| US6742970B2 (en) | 2002-06-12 | 2004-06-01 | Kennametal Inc. | Cutting tool |
| CN1304632C (zh) * | 2002-09-17 | 2007-03-14 | 湘潭大学 | 氮化硼复合涂层切削刀具及其制备方法 |
| US7374642B2 (en) * | 2004-01-30 | 2008-05-20 | Deutchman Arnold H | Treatment process for improving the mechanical, catalytic, chemical, and biological activity of surfaces and articles treated therewith |
| US9523144B2 (en) * | 2004-01-30 | 2016-12-20 | Beamalloy Reconstructive Medical Products, Llc | Orthopaedic implants having self-lubricated articulating surfaces designed to reduce wear, corrosion, and ion leaching |
| US10543094B2 (en) | 2004-01-30 | 2020-01-28 | Beamalloy Reconstructive Medical Products, Llc | Orthopaedic implants having self-lubricated articulating surfaces designed to reduce wear, corrosion, and ion leaching |
| DE102004028112B4 (de) | 2004-06-09 | 2019-12-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Werkzeugsubstrat mit borhaltigem Schichtsystem, bestehend aus einer Borcarbid-, einer B-C-N und einer kohlenstoffmodifizierten kubischen Bornitridschicht sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen Schichtsystems und Verwendung |
| US8227031B2 (en) * | 2004-09-02 | 2012-07-24 | Karlsruher Institut Fuer Technologie | Method of producing a layered composite including cubic boron nitride |
| EP1805338B1 (en) * | 2004-10-29 | 2017-05-03 | SECO TOOLS AB (publ) | Sintered cemented carbide |
| US7651758B2 (en) * | 2005-10-18 | 2010-01-26 | Endres Machining Innovations Llc | System for improving the wearability of a surface and related method |
| CN101395335B (zh) * | 2006-01-26 | 2013-04-17 | 犹他大学研究基金会 | 多晶磨料复合切削工具 |
| WO2007103578A1 (en) * | 2006-03-09 | 2007-09-13 | Cabot Microelectronics Corporation | Method of polishing a tungsten carbide surface |
| US8328471B2 (en) | 2007-01-18 | 2012-12-11 | Kennametal Inc. | Cutting insert with internal coolant delivery and cutting assembly using the same |
| US7625157B2 (en) * | 2007-01-18 | 2009-12-01 | Kennametal Inc. | Milling cutter and milling insert with coolant delivery |
| US8454274B2 (en) | 2007-01-18 | 2013-06-04 | Kennametal Inc. | Cutting inserts |
| US7883299B2 (en) * | 2007-01-18 | 2011-02-08 | Kennametal Inc. | Metal cutting system for effective coolant delivery |
| US20080175679A1 (en) * | 2007-01-18 | 2008-07-24 | Paul Dehnhardt Prichard | Milling cutter and milling insert with core and coolant delivery |
| US8727673B2 (en) | 2007-01-18 | 2014-05-20 | Kennametal Inc. | Cutting insert with internal coolant delivery and surface feature for enhanced coolant flow |
| US7963729B2 (en) | 2007-01-18 | 2011-06-21 | Kennametal Inc. | Milling cutter and milling insert with coolant delivery |
| US8439608B2 (en) * | 2007-01-18 | 2013-05-14 | Kennametal Inc. | Shim for a cutting insert and cutting insert-shim assembly with internal coolant delivery |
| US9101985B2 (en) | 2007-01-18 | 2015-08-11 | Kennametal Inc. | Cutting insert assembly and components thereof |
| GB0805493D0 (en) | 2008-03-26 | 2008-04-30 | Sun Chemical Bv | A jet ink and ink jet printing process |
| CA2685668A1 (en) | 2008-11-24 | 2010-05-24 | Smith International, Inc. | A cutting element and a method of manufacturing a cutting element |
| US7955032B2 (en) * | 2009-01-06 | 2011-06-07 | Kennametal Inc. | Cutting insert with coolant delivery and method of making the cutting insert |
| WO2011109016A1 (en) * | 2009-03-03 | 2011-09-09 | Diamond Innovations, Inc. | Thick thermal barrier coating for superabrasive tool |
| JP2011051060A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-03-17 | Mitsubishi Materials Corp | 表面被覆切削工具 |
| US8451921B2 (en) * | 2009-10-28 | 2013-05-28 | Qualcomm Incorporated | Method and an apparatus for adaptively learning a sparse impulse response of a continuous channel |
| KR100991770B1 (ko) * | 2010-03-15 | 2010-11-03 | 한국과학기술연구원 | 입방정계 질화붕소 박막의 증착 방법 |
| US8827599B2 (en) | 2010-09-02 | 2014-09-09 | Kennametal Inc. | Cutting insert assembly and components thereof |
| US8734062B2 (en) | 2010-09-02 | 2014-05-27 | Kennametal Inc. | Cutting insert assembly and components thereof |
| EP2714312B1 (en) | 2011-05-27 | 2019-11-27 | Nanomech Inc. | Coating layer with microstructure serrated edge |
| US9428967B2 (en) | 2013-03-01 | 2016-08-30 | Baker Hughes Incorporated | Polycrystalline compact tables for cutting elements and methods of fabrication |
| KR101381639B1 (ko) * | 2013-06-05 | 2014-04-04 | 주식회사 인팩 | 추력 분산을 갖는 부시 |
| RU2548852C2 (ru) * | 2013-07-19 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| DE102014018915A1 (de) * | 2014-12-22 | 2016-06-23 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Trübbach | AlCrN-basierte Beschichtung zur verbesserten Beständigkeit gegen Kolkverschleiß |
| DE102015222491B4 (de) * | 2015-11-13 | 2023-03-23 | Kennametal Inc. | Schneidwerkzeug und Verfahren zu dessen Herstellung |
| RU2622527C1 (ru) * | 2015-12-15 | 2017-06-16 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| RU2659537C1 (ru) * | 2017-09-26 | 2018-07-02 | Татьяна Сергеевна Картапова | Способ нанесения смешанного углеродно-азотного защитного покрытия для повышения коррозионной стойкости железа |
| EP3563952A1 (de) * | 2018-05-03 | 2019-11-06 | Ceratizit Austria Gesellschaft m.b.H. | Schneidvorrichtung |
| ES2966467T3 (es) * | 2018-05-08 | 2024-04-22 | Seco Tools Ab | Un método para fabricar un cuerpo sinterizado |
| US11426818B2 (en) | 2018-08-10 | 2022-08-30 | The Research Foundation for the State University | Additive manufacturing processes and additively manufactured products |
| CN111042745B (zh) * | 2018-10-12 | 2022-09-23 | 中国石油化工股份有限公司 | 钻铤 |
| RU2716384C1 (ru) * | 2019-09-17 | 2020-03-11 | федеральное государственное бюджетное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
| CN110791729A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-02-14 | 金华新亚机械制造有限公司 | 带pvd涂层的正畸钳及其制备方法 |
| CN114986261A (zh) * | 2022-06-02 | 2022-09-02 | 上海市轴承技术研究所有限公司 | 回转曲面硬质合金涂层的超精加工方法 |
Family Cites Families (62)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3767371A (en) * | 1971-07-01 | 1973-10-23 | Gen Electric | Cubic boron nitride/sintered carbide abrasive bodies |
| US4035541A (en) * | 1975-11-17 | 1977-07-12 | Kennametal Inc. | Sintered cemented carbide body coated with three layers |
| CH632944A5 (fr) * | 1978-06-22 | 1982-11-15 | Stellram Sa | Piece d'usure en metal dur. |
| US4399168A (en) * | 1980-01-21 | 1983-08-16 | Santrade Ltd. | Method of preparing coated cemented carbide product |
| US4282289A (en) * | 1980-04-16 | 1981-08-04 | Sandvik Aktiebolag | Method of preparing coated cemented carbide product and resulting product |
| US4717632A (en) * | 1983-08-22 | 1988-01-05 | Ovonic Synthetic-Materials Company, Inc. | Adhesion and composite wear resistant coating and method |
| US4594294A (en) * | 1983-09-23 | 1986-06-10 | Energy Conversion Devices, Inc. | Multilayer coating including disordered, wear resistant boron carbon external coating |
| JPS60234961A (ja) * | 1984-05-08 | 1985-11-21 | Mitsubishi Metal Corp | 耐摩耗性のすぐれた表面被覆工具部材 |
| JPS60243273A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-12-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質被覆部品 |
| US4619865A (en) * | 1984-07-02 | 1986-10-28 | Energy Conversion Devices, Inc. | Multilayer coating and method |
| US4643951A (en) * | 1984-07-02 | 1987-02-17 | Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. | Multilayer protective coating and method |
| US4724169A (en) * | 1984-10-09 | 1988-02-09 | Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. | Method of producing multilayer coatings on a substrate |
| US4919773A (en) * | 1984-11-19 | 1990-04-24 | Avco Corporation | Method for imparting erosion-resistance to metallic substrates |
| JPS6221778A (ja) * | 1985-07-17 | 1987-01-30 | 東芝タンガロイ株式会社 | 立方晶窒化ホウ素被覆体及びその製造方法 |
| JPS6258050A (ja) * | 1985-09-05 | 1987-03-13 | Toyota Motor Corp | ピストンリング |
| JPS6326349A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Kobe Steel Ltd | 立方晶窒化硼素被膜の形成方法 |
| US5310603A (en) * | 1986-10-01 | 1994-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray |
| US5433988A (en) * | 1986-10-01 | 1995-07-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray |
| US4751109A (en) * | 1987-01-20 | 1988-06-14 | Gte Laboratories Incorporated | A process for depositing a composite ceramic coating on a hard ceramic substrate |
| JPS63205562A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-25 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | クロマトグラフイ−用充填剤 |
| JPS63239103A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | Ulvac Corp | 立方晶窒化硼素被覆体およびその製造法 |
| US4807402A (en) * | 1988-02-12 | 1989-02-28 | General Electric Company | Diamond and cubic boron nitride |
| JPH0225562A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-29 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 立方晶窒化ホウ素被覆超硬合金 |
| US5389587A (en) * | 1988-11-10 | 1995-02-14 | Kabushiki Kaisha Kouransha | BN-group ceramics having excellent resistance to loss by dissolving |
| US5223337A (en) * | 1988-12-10 | 1993-06-29 | Fried. Krupp Gmbh | Tool produced by a plasma-activated CVD process |
| JP2745685B2 (ja) * | 1989-06-12 | 1998-04-28 | 東洋紡績株式会社 | 熱可塑性樹脂ペレット混合物およびそれを用いた成形体 |
| FR2649974B1 (fr) * | 1989-07-21 | 1991-09-27 | Aerospatiale | Materiau carbone protege contre l'oxydation par du carbonitrure de bore |
| US5242663A (en) * | 1989-09-20 | 1993-09-07 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of and apparatus for synthesizing hard material |
| US5053245A (en) * | 1989-10-26 | 1991-10-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of improving the quality of an edge surface of a cutting device |
| US5330611A (en) * | 1989-12-06 | 1994-07-19 | General Motors Corporation | Cubic boron nitride carbide films |
| DE69119614D1 (de) * | 1990-01-23 | 1996-06-27 | Sumitomo Electric Industries | Verfahren zum Herstellen eines Bornitridfilms |
| DE4006127A1 (de) * | 1990-02-27 | 1991-08-29 | Bayer Ag | Modifizierte ethylen/vinylacetat-copolymerisat mit erhoehter flexibilitaet bei niedriger temperatur |
| JPH03260054A (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-20 | Masao Murakawa | 耐剥離性にすぐれたcBN被覆部材及びその製作法 |
| JPH04228572A (ja) * | 1990-08-10 | 1992-08-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質窒化ホウ素合成法 |
| US5266388A (en) * | 1990-09-17 | 1993-11-30 | Kennametal Inc. | Binder enriched coated cutting tool |
| JPH04124272A (ja) * | 1990-09-17 | 1992-04-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 立方晶窒化ホウ素被覆部材及びその製造方法 |
| JPH04168263A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-16 | Kobe Steel Ltd | 窒化硼素被覆複合材料 |
| US5203977A (en) * | 1991-03-11 | 1993-04-20 | Regents Of The University Of California | Magnetron sputtered boron films and TI/B multilayer structures |
| US5670252A (en) * | 1991-03-11 | 1997-09-23 | Regents Of The University Of California | Boron containing multilayer coatings and method of fabrication |
| DE69203633T2 (de) * | 1991-03-18 | 1996-01-25 | Gen Motors Corp | Filme aus kohlenstofflegiertem, kubischem Bornitrid. |
| JP2909248B2 (ja) * | 1991-05-15 | 1999-06-23 | 三菱重工業株式会社 | 窒化硼素被覆部材 |
| JP3133388B2 (ja) * | 1991-05-27 | 2001-02-05 | 三洋電機株式会社 | ステンレス鋼の耐食性改善方法 |
| DE4126851A1 (de) * | 1991-08-14 | 1993-02-18 | Krupp Widia Gmbh | Werkzeug mit verschleissfester schneide aus kubischem bornitrid oder polykristallinem kubischem bornitrid, verfahren zu dessen herstellung sowie dessen verwendung |
| JP3169094B2 (ja) * | 1991-11-28 | 2001-05-21 | いすゞ自動車株式会社 | 車両用電源装置 |
| JPH0554594A (ja) * | 1992-02-05 | 1993-03-05 | Konica Corp | ビデオテープカセツトの製造方法 |
| CA2089288A1 (en) * | 1992-03-20 | 1993-09-21 | David E. Slutz | Multilayer cvd diamond films |
| JP3199127B2 (ja) * | 1992-04-06 | 2001-08-13 | 日本特殊陶業株式会社 | ダイヤモンド含有複合体被覆部材およびその製造方法 |
| JP3380294B2 (ja) * | 1992-06-30 | 2003-02-24 | 京セラ株式会社 | 超硬質膜付工具及びその製造方法 |
| US5441817A (en) * | 1992-10-21 | 1995-08-15 | Smith International, Inc. | Diamond and CBN cutting tools |
| US5372873A (en) * | 1992-10-22 | 1994-12-13 | Mitsubishi Materials Corporation | Multilayer coated hard alloy cutting tool |
| US5374471A (en) * | 1992-11-27 | 1994-12-20 | Mitsubishi Materials Corporation | Multilayer coated hard alloy cutting tool |
| US5249554A (en) * | 1993-01-08 | 1993-10-05 | Ford Motor Company | Powertrain component with adherent film having a graded composition |
| US5597625A (en) * | 1993-02-10 | 1997-01-28 | California Institute Of Technology | Low pressure growth of cubic boron nitride films |
| JP3309507B2 (ja) * | 1993-06-30 | 2002-07-29 | 三菱マテリアル株式会社 | 硬質被覆層がすぐれた密着性を有する表面被覆立方晶窒化ほう素基セラミックス製切削工具 |
| US5618509A (en) * | 1993-07-09 | 1997-04-08 | Showa Denko K.K. | Method for producing cubic boron nitride |
| US5483920A (en) * | 1993-08-05 | 1996-01-16 | Board Of Governors Of Wayne State University | Method of forming cubic boron nitride films |
| US5398639A (en) * | 1993-11-12 | 1995-03-21 | General Motors Corporation | Solid state conversion of hexagonal to cubic-like boron nitride |
| DE4407274C1 (de) * | 1994-03-04 | 1995-03-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung von verschleißfesten Schichten aus kubischem Bornitrid und ihre Anwendung |
| JP3175483B2 (ja) * | 1994-06-30 | 2001-06-11 | 日本鋼管株式会社 | 窒化ホウ素含有材料およびその製造方法 |
| US5691260A (en) * | 1994-12-30 | 1997-11-25 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Cubic system boron nitride sintered body for a cutting tool |
| US5928771A (en) * | 1995-05-12 | 1999-07-27 | Diamond Black Technologies, Inc. | Disordered coating with cubic boron nitride dispersed therein |
| US5639285A (en) * | 1995-05-15 | 1997-06-17 | Smith International, Inc. | Polycrystallline cubic boron nitride cutting tool |
-
1996
- 1996-04-04 US US08/627,464 patent/US5976716A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-01-15 JP JP53616797A patent/JP2000508377A/ja active Pending
- 1997-01-15 AU AU17042/97A patent/AU706148B2/en not_active Ceased
- 1997-01-15 AT AT97903006T patent/ATE223517T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-01-15 EP EP97903006A patent/EP0900287B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-15 DE DE1997615186 patent/DE69715186T8/de active Active
- 1997-01-15 WO PCT/US1997/000838 patent/WO1997038151A1/en not_active Ceased
- 1997-01-15 CN CN97193587A patent/CN1215437A/zh active Pending
- 1997-01-15 DE DE1997615186 patent/DE69715186D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-15 DE DE0900287T patent/DE900287T1/de active Pending
- 1997-01-15 CA CA 2248692 patent/CA2248692A1/en not_active Abandoned
- 1997-01-15 BR BR9708499A patent/BR9708499A/pt not_active Application Discontinuation
- 1997-01-15 KR KR1019980707641A patent/KR20000005021A/ko not_active Withdrawn
- 1997-02-25 ZA ZA9701602A patent/ZA971602B/xx unknown
-
1998
- 1998-12-09 US US09/208,567 patent/US6054185A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-09 US US09/208,189 patent/US6117533A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006526508A (ja) * | 2003-06-03 | 2006-11-24 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | 割り出し可能な切削インサート及びこの切削インサートの製造方法 |
| JP4782672B2 (ja) * | 2003-06-03 | 2011-09-28 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | 割り出し可能な切削インサート及びこの切削インサートの製造方法 |
| JP2008511751A (ja) * | 2004-09-02 | 2008-04-17 | フォルシュングスツェントルム カールスルーエ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 立方晶窒化ホウ素を有する積層複合材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1997038151A1 (en) | 1997-10-16 |
| BR9708499A (pt) | 1999-08-03 |
| US5976716A (en) | 1999-11-02 |
| DE69715186D1 (de) | 2002-10-10 |
| KR20000005021A (ko) | 2000-01-25 |
| AU706148B2 (en) | 1999-06-10 |
| AU1704297A (en) | 1997-10-29 |
| ATE223517T1 (de) | 2002-09-15 |
| DE69715186T8 (de) | 2010-06-02 |
| ZA971602B (en) | 1997-08-29 |
| US6117533A (en) | 2000-09-12 |
| CA2248692A1 (en) | 1997-10-16 |
| DE69715186T2 (de) | 2009-09-17 |
| US6054185A (en) | 2000-04-25 |
| EP0900287A1 (en) | 1999-03-10 |
| CN1215437A (zh) | 1999-04-28 |
| DE900287T1 (de) | 1999-08-19 |
| EP0900287B1 (en) | 2002-09-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000508377A (ja) | ホウ素及び窒素を含む超硬質コーティングを有する基体及びその製造方法 | |
| AU705821B2 (en) | Boron and nitrogen containing coating and method for making | |
| JP5902865B2 (ja) | 被覆工具 | |
| JP2010526680A (ja) | 切削工具 | |
| Klages et al. | Diamond coatings and cBN coatings for tools | |
| JP2004100004A (ja) | 被覆超硬合金およびその製造方法 | |
| JPWO2016047685A1 (ja) | 被覆工具 | |
| JP3914687B2 (ja) | 切削工具とその製造方法 | |
| KR102532558B1 (ko) | 고체 다이아몬드 재료의 코팅 방법 | |
| JPWO2017057456A1 (ja) | 被覆工具 | |
| CN106794522B (zh) | 被覆工具 | |
| JP2015085417A (ja) | 被覆工具 | |
| JPH0873289A (ja) | 工具用複合高硬度材料 | |
| JPH08104597A (ja) | ダイヤモンド複合膜およびダイヤモンド複合膜付部材 | |
| JPH03180464A (ja) | 耐摩耗性に優れた表面被覆硬質部材 | |
| US20080034669A1 (en) | Coated Abrasives | |
| JPH04280974A (ja) | 窒化ホウ素被覆硬質材料 | |
| JP2016155200A (ja) | 被覆工具 | |
| JPS63306805A (ja) | ダイヤモンド被覆切削工具 | |
| MXPA98007847A (en) | Substrate with a superdured coating containing boron and nitrogen and a method to manufacture elmi | |
| JPS59166673A (ja) | 耐摩耗性のすぐれた表面被覆工具部材 | |
| JPH04135105A (ja) | 被覆超硬質合金工具 | |
| JP2000119789A (ja) | 板状晶炭化タングステン含有の表面調質焼結合金およびその被覆表面調質焼結合金 | |
| JPH0456768A (ja) | ダイヤモンド被覆切削工具 | |
| MXPA98007846A (en) | Coating contains boron and nitrogen and method for factory |