JP2000513366A - フタリドの精製法 - Google Patents
フタリドの精製法Info
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- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 102
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims description 9
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims abstract description 27
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 claims abstract description 18
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000005506 phthalide group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 4
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 4
- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 2
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 20
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FNJSWIPFHMKRAT-UHFFFAOYSA-N Monomethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O FNJSWIPFHMKRAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- FPBHDEJPPIKJMR-UHFFFAOYSA-N 3a,4,5,6-tetrahydro-3h-2-benzofuran-1-one Chemical compound C1CCC=C2C(=O)OCC21 FPBHDEJPPIKJMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIFFBTOJCKSRJY-UHFFFAOYSA-N 3α,4,7,7α-tetrahydro-1h-isoindole-1,3(2h)-dione Chemical compound C1C=CCC2C(=O)NC(=O)C21 CIFFBTOJCKSRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000009997 thermal pre-treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
- C07D307/88—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans with one oxygen atom directly attached in position 1 or 3
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
精製すべきフタリドにポリエチレングリコールおよび/またはポリプロピレングリコールを添加し、この後に分別蒸留を行うことを特徴とする、カルボン酸および/またはその誘導体で汚染されたフタリドの精製法。
Description
【発明の詳細な説明】
フタリドの精製法
本発明は、カルボン酸、無水カルボン酸および/またはカルボン酸エステルに
より汚染されたフタリドの精製法に関する。
フタル酸誘導体を出発材料とするフタリドの製造に関して種々の方法が開示さ
れている。通常、フタリドは無水フタル酸の接触的水素添加により製造される(
ドイツ特許第2803319号公報)。
フタリドの合成では、カルボン酸、およびその誘導体、例えばフタル酸、無水
フタル酸、フタル酸モノメチル、テトラヒドロフタリドおよび2−メチル安息香
酸により汚染された粗生成物が製造されてしまうことはほとんど避けられず、こ
のため、合成された状態での反応生成物の後処理および精製に問題を伴うことが
多い。上記副生成物の除去には多大な費用がかかり、蒸留のみによって副生成物
が除去されないこともある。
特に無水フタル酸およびフタル酸モノメチルは、フタリドから蒸留により完全
には除去されないことが知られている。粗生成物がフタル酸を含有する場合、蒸
留の間に無水フタル酸が付加的に生成される。
副生成物の除去の際、高価な生成物であるフタリドの、蒸留による後処理にお
いての収率および純度が不満足であるという問題が存在する。
ドイツ特許第3245544号公報にはカルボン酸類により汚染されているフ
タリドの蒸留による精製法が開示されているが、この方法では精製すべきフタリ
ドを、蒸留前にn−ブタノールまたはイソブタノールと混合し、この混合物を1
50℃〜280℃のオートクレーブ中で数時間加熱し、この後分別蒸留に付す。
この方法の欠点は、時間がかかること、および過剰のブタノールをフタリドの蒸
留前に留去しなければならないことである。
しかるに本発明は、主にカルボン酸類とその誘導体により汚染されたフタリド
を精製する簡単かつ優れた方法を提供することをその課題とする。
本発明者等は、本発明の上記課題が、精製すべきフタリドにポリエチレングリ
コールおよび/またはポリプロピレングリコールを添加し、次いで分別蒸留に付
すことを特徴とする、カルボン酸類、無水カルボン酸および/またはカルボン酸
エステルにより汚染されたフタリドの精製法により効果的に解決されることを見
出した。
一般的に、ポリエチレングリコールおよび/またはポリプロピレングリコール
を、精製すべきフタリドに対して、1〜50重量%、特に2〜40重量%、更に
好ましくは3〜30重量%、特に好ましくは5〜15重量%、最も好ましくは8
〜12重量%の量で添加する。
平均モル質量200〜600の範囲の、好ましくは250〜400の範囲のポ
リエチレングリコールおよびポリプロピレングリコールを使用すると有利である
。
ポリエチレングリコールは、エチレンオキシドを、一般的に少量の水を含む組
成物中の開始剤分子としてのエチレングリコールに重付加することにより有効に
得られる。ポリプロピレングリコールは、プロピレンオキシドを、開始剤分子と
しての1,2−プロパンジオールに対応する方法で重付加することにより生成さ
れる。
本発明の方法では、一般的に、比較的少量のポリエチレングリコールまたはポ
リプロピレングリコールの粗フタリド生成物への添加でも、この精製法には十分
であるという利点を有する。本発明の方法の更なる利点は、粗フタリドとポリエ
チレングリコールまたはポリプロピレングリコールの混合物の、時間のかかる熱
的前処理が省略可能な点である。還流を行うための、またはオートクレーブ中の
予備加熱の必要がない。従って本発明の精製法の好ましい実施の形態においては
、粗フタリドへのポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールの添
加の後、この他の前処理をせずに直接分別蒸留が行われる。ポリエチレングリコ
ールまたはポリプロピレングリコールの化学構造およびモル質量が、この補助成
分がフタリドよりも低沸点を有する物質を含有しないように選択された場合フタ
リドが蒸留系中での低沸点物質の1種類となる。この好ましい操作を適用する場
合、未反応のポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールおよびこ
れらの反応生成物が、分別蒸留の塔底生成物として残存する。
本発明の方法により得られたフタリドは極めて優れた純度を有することで注目
に値し、またポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールを添加せ
ずに行われる蒸留により達成される収率よりも高収率で得られる。塔底生成物中
にポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールが残留することによ
り、塔底生成物が液体状を保つことになる。これは、一方では蒸留フラスコから
蒸留残留物を除去するにあたり有効であり、他方では、生成すべき粗フタリドの
分別蒸留の完了後ごとに、前回の分別蒸留により得られた蒸留残渣を除去せずに
、蒸留フラスコを他の分別蒸留用の粗フタリドで繰り返し再充填できるといった
利点を有する。
フタリドは、農作物保護剤の合成等に、重要な中間体である。
以下の実施例により本発明を更に説明する。本発明の実施例1
ほぼ以下の組成を有する1600gの粗フタリド溶液を用いて、分別蒸留を実
施した。
すなわち、46.0重量%のブチロラクトン、34.9重量%のフタリド、1
5.0重量%の水、2.5重量%の2−メチル安息香酸、1.0重量%の無水フ
タル酸、0.3重量%のテトラヒドロフタルイミド、および0.3重量%の他の
副生成物を有する粗フタリド溶液を用いた。この粗フタリド溶液を、176g(
フタリドに対して32重量%)の、平均モル質量300のポリエチレングリコー
ルと混合した。次いで、更に前処理を施さずに理論段数40、塔頂圧20ミリバ
ールの実験室用カラムを用いて分別蒸留に付した。98.5%を超過する高純度
のフタルイミドの蒸留収率は73%であった。
次いで蒸留残留物を除去、廃棄せずに、蒸留フラスコ中に残留させた。更にフ
ラスコに粗フタリド溶液を繰り返し充填し、繰り返し蒸留を行なった結果、フタ
リドの合計収量は87%に増加した。純粋なフタリド生成物の無水フタル酸含有
率は0.1%未満であり、2−メチル安息香酸含有率は0.2%未満であった。本発明の実施例2
平均モル質量300のポリエチレングリコールの使用量を、フタリドに対して
9重量%のみとして蒸留前に添加した以外は、本発明の実施例1と同様に分別蒸
留を行った。収率87%で得られたフタリドの純度は98.5%を超過するもの
であり、これに対する無水フタル酸含有率は0.1%未満であり、2−メチル安
息香酸含有率は0.3%未満であった。比較例
本発明の実施例と同様の組成の粗フタリド溶液1600gを用いて分別蒸留を
行った。粗フタリド溶液を理論段数40、塔頂圧20ミリバールの実験室用カラ
ムを用いて分別蒸留に付した。純度97.6%で得られたフタリドの蒸留収率は
58%であり、無水フタル酸含有率は1.0%であった。この純度のフタリド生
成物はほとんどの適用法に不適当である。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項
【提出日】平成10年8月7日(1998.8.7)
【補正内容】
請求の範囲
1. 精製すべきフタリドにポリエチレングリコールおよび/またはポリプロピ
レングリコールを添加し、この後に分別蒸留を行うことを特徴とする、カルボン
酸、無水カルボン酸および/またはカルボン酸エステルで汚染されたフタリドの
精製法。
2. 精製すべきフタリドに添加されたポリエチレングリコールおよび/または
ポリプロピレングリコールの平均モル質量が200−600の範囲にあることを
特徴とする、請求項1に記載の方法。
3. 精製すべきフタリドに添加されたポリエチレングリコールおよび/または
ポリプロピレングリコールの平均モル質量が250−400の範囲にあることを
特徴とする、請求項1に記載の方法。
4. 精製すべきフタリドに添加されたポリエチレングリコールおよび/または
ポリプロピレングリコールの使用量が、フタリドに対して1〜50重量%の範囲
にあることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
5. 2−40重量%のポリエチレングリコールを添加することを特徴とする請
求項1〜4のいずれかに記載の方法。
6. 精製すべきフタリドへ、ポリエチレングリコールおよび/またはポリプロ
ピレングリコールが添加された後に直接分別蒸留が行われ、他の前処理が行われ
ないことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
7. 添加されたポリエチレングリコールおよび/またはプロピレングリコール
がフタリドより低沸点の物質を含有しないことを特徴とする請求項1〜6のいず
れかに記載の方法。
8. 未反応のポリエチレングリコールおよび/またはポリプロピレングリコー
ルが分別蒸留の塔底生成物中に残留し、フタリドを低沸点物質として留去するこ
とを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
9. 各蒸留が完了した後、塔底生成物が蒸留フラスコ中に残留し、この蒸留フ
ラスコに粗フタリドが再充填されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
10. 98.5%を超過する純度のフタリドを生成することを特徴とする請求
項1〜9のいずれかに記載の方法。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ノイハウザー,ホルスト
ドイツ国、D―67373、ドゥーデンホーフ
ェン、ザリールシュトラーセ、24
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 精製すべきフタリドにポリエチレングリコールおよび/またはポリプロピ レングリコールを添加し、この後に分別蒸留を行うことを特徴とする、カルボン 酸、無水カルボン酸および/またはカルボン酸エステルで汚染されたフタリドの 精製法。 2. 精製すべきフタリドに添加されたポリエチレングリコールおよび/または ポリプロピレングリコールの平均モル質量が200−600の範囲にあることを 特徴とする、請求項1に記載の方法。 3. 精製すべきフタリドに添加されたポリエチレングリコールおよび/または ポリプロピレングリコールの平均モル質量が250−400の範囲にあることを 特徴とする、請求項1に記載の方法。 4. 精製すべきフタリドに添加されたポリエチレングリコールおよび/または ポリプロピレングリコールの使用量が、フタリドに対して1〜50重量%の範囲 にあることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。 5. 精製すべきフタリドへ、ポリエチレングリコールおよび/またはポリプロ ピレングリコールが添加された後に分別蒸留が行われ、他の前処理が行われない ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19625693.3 | 1996-06-27 | ||
| DE19625693A DE19625693A1 (de) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | Verfahren zur Reinigung von Phthalid |
| PCT/EP1997/003045 WO1998000417A1 (de) | 1996-06-27 | 1997-06-12 | Verfahren zur reinigung von phthalid |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000513366A true JP2000513366A (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=7798141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10503788A Withdrawn JP2000513366A (ja) | 1996-06-27 | 1997-06-12 | フタリドの精製法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5969162A (ja) |
| EP (1) | EP0907645B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000513366A (ja) |
| KR (1) | KR100451600B1 (ja) |
| CN (1) | CN1097589C (ja) |
| AT (1) | ATE213238T1 (ja) |
| DE (2) | DE19625693A1 (ja) |
| ES (1) | ES2172792T3 (ja) |
| TW (1) | TW375613B (ja) |
| WO (1) | WO1998000417A1 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2720929A1 (de) * | 1977-05-10 | 1978-11-16 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von phthalid |
| DE2803319C2 (de) * | 1978-01-26 | 1986-11-13 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung von Phthalid |
| DE3245544A1 (de) * | 1982-12-09 | 1984-06-14 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur reinigung von phthalid |
-
1996
- 1996-06-27 DE DE19625693A patent/DE19625693A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-06-12 US US09/202,482 patent/US5969162A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-12 CN CN97195874A patent/CN1097589C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-12 AT AT97927174T patent/ATE213238T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-06-12 EP EP97927174A patent/EP0907645B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-06-12 JP JP10503788A patent/JP2000513366A/ja not_active Withdrawn
- 1997-06-12 KR KR10-1998-0710648A patent/KR100451600B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-12 ES ES97927174T patent/ES2172792T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-06-12 WO PCT/EP1997/003045 patent/WO1998000417A1/de not_active Ceased
- 1997-06-12 DE DE59706392T patent/DE59706392D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-06-23 TW TW086108765A patent/TW375613B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1223646A (zh) | 1999-07-21 |
| WO1998000417A1 (de) | 1998-01-08 |
| US5969162A (en) | 1999-10-19 |
| DE19625693A1 (de) | 1998-01-02 |
| EP0907645B1 (de) | 2002-02-13 |
| KR100451600B1 (ko) | 2004-12-16 |
| ES2172792T3 (es) | 2002-10-01 |
| ATE213238T1 (de) | 2002-02-15 |
| DE59706392D1 (de) | 2002-03-21 |
| EP0907645A1 (de) | 1999-04-14 |
| KR20000022228A (ko) | 2000-04-25 |
| TW375613B (en) | 1999-12-01 |
| CN1097589C (zh) | 2003-01-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040528 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060329 |