JP2000513456A - プラズマアドレス指定液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 データ素子の電子アレイ、特に、プラズマチャネルを有機材料、好適にはポリイミド材料で画成したＰＡＬＣ型の平坦な表示装置である。ポリイミド壁部上には保護層を設けて劣化を防止する。離間電極部分を壁部の対向面に設ける。好適な製造方法ではポリイミド材料の肉厚層を設け、その上にフォトレジストの薄膜を設け、フォトレジストをパターン化し、次に、フォトレジストを用いてポリイミド層を所望の壁部の形態にパターン化する。次いで、壁部を肉薄誘電体シート状部材で被覆してプラズマチャネルを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】 プラズマアドレス指定液晶表示装置発明の技術分野 本発明はプラズマアドレス指定液晶（ＰＡＣＬ）表示装置と一般に称されるプ ラズマアドレス指定液晶表示パネルに関するものである。 発明の背景 かかる装置はインジウム−錫酸化物が代表的に用いられているために“ＩＴＯ ”と称され、カラーフィルタが堆積された平行透明列電極が上側に堆積される第 １基板と；各々がヘリウム、ネオンおよび／またはアルゴンのような低圧イオン 化ガスで充填されたＩＴＯ列の全部と交差する表示行に相当し、肉薄透明誘電体 シートにより密封された並列密封プラズマチャネルを具え、これらチャネルに沿 って離間陰極および陽極電極を含みガスをイオン化してプラズマを発生する第２ 基板と；これら基板間に配列された液晶材料（ＬＣ）とをサンドウィッチ状に具 えるものである。この構体は、各画素の箇所に薄膜トランジスタスイッチの代わ りにプラズマチャネルを配置して行スイッチとして作用させるとともにＬＣ画素 の行を選択的にアドレス指定し得るアクティブマトリックス液晶ディスプレイと 同様に機能するものである。作動に当たり、表示すべき像を表わすデータ信号の 順次のラインを行位置でサンプル化し、サンプル化されたデータ電圧をＩＴＯ列 にそれぞれ供給する。行プラズマチャネルは１つを除く全部が脱イオン化または 非導通状態になる。１つのイオン化された選択チャネルのプラズマが導通状態と なり、実際上ＬＣ層の画素行の隣接する側に基準電圧を確立し、これによって各 ＬＣ画素をデータ信号の供給された列電位まで充電する。このイオン化されたチ ャネルがターンオフしてＬＣ画素の電荷を分離しデータ電圧をフレーム周期に亘 って蓄積する。データの次の行がＩＴＯ列に現われると、続くプラズマチャネル 行のみがイオン化されてＬＣ画素の続く行にデータ電圧を蓄積し、以下同様とな る。既知のように、バックライトまたは入射光に対する各ＬＣ画素の減衰は画素 の両端間の蓄積電圧の関数となる。かかる点の一層詳細な説明は不必要である。 その 理由はかかるＰＡＣＬ装置の構成、製造および作動が、以下の米国特許および刊 行物：Buzaki et al.著“１６インチフルカラー プラズマアドレス指定液晶表 示装置”ダイジェスト オブ テクニカル ペーパ，パリ，１９９３年，SID In t.，Symp.，Soc．for Info．Displ．pp．883-886に記載されているからである。発明の概要 上述したところから明らかなように、パネルは画素の形態のデータ素子の電子 アレイであり、プラズマチャネルはチャネル内の電極を順次選択的にアドレス指 定することにより順次ガスを選択的にイオン化して１つ以上のデータ素子をアド レス指定するようにしたアレイのアドレス指定構体として作用する。 １９９３年SID Digestに記載されたプラズマアドレス指定液晶表示装置の断面 を図２に示す。プラズマチャネルを形成するための上記刊行物に記載された方法 では平坦なガラス基板を化学的にエッチング離間リッジまたはメサにより画成さ れた並列条溝を形成するとともにこのメサの頂部に厚さが３０−５０μｍの範囲 の肉薄誘電体カバーシートを接着するようにしている。一般に、ウエットエッチ ングにより代表的にはほぼ１００−１５０μｍの深さのプラズマチャネルを形成 することによって均一な寸法のチャネルを得るにっはある問題があり、しかも時 間がかかる。均一な寸法の問題は、かかるファクタのため、エッチング速度、チ ャネル壁部の粗さ、メサの局部欠陥および多重チャネルを分離する構体の不均一 性にある。 プラズマチャネル部分のカバーシートを一層剛固とするために、米国特許第5, 214,421には電極を平坦な底部プレートに堆積し、頂部プレートをエッチングバ ックして半円筒状のチャネル（図２に示すものの反転型）を形成し、チャネルの 頂部の残存ガラスを充分に薄くして隣接ＬＣ材料のアドレス指定を行い得るよう にした構体が記載されている。しかし、頂部プレートの円形曲線のため、プラズ マ放電およびＬＣ材料間においてガラスの厚さ、従ってＬＣ材料の両端間の電圧 降下が各画素に対して著しく変化する。実際の状態では、これによってデディス プレイのグレイレベルの数が減少する。 また、米国特許第5,349,454には、電極を平坦な基板上に形成し、これら電極 の頂部に横方向メサまたは各プラズマチャネルの分離壁部を構成する絶縁リブを 形成し、これらリブの頂部に平坦な肉薄誘電体シートを被着するようにした構体 が記載されている。この米国特許にはかかるリブを形成する方法が記載されては おらず、かかるリブの形成にスクリーンプリンティングを用いることはヨーロッ パ特許出願公開第500 085 A2に記載されている。 本発明の目的は電子アレイ、特に、平坦なディスプレイ装置に対する改良され たチャネルプレートを提供せんとするにある。 本発明の他の目的は改良されたプラズマアドレス指定表示装置を提供せんとす るにある。 本発明のさらに他の目的はＰＡＬＣ表示装置のプラズマチャネルを製造する方 法を提供せんとするにある。 本発明の第１例によれば、電子アレイのチャネルプレート、特に、平坦な表示 装置はほぼ透明な基板と、チャネルを平坦化し且つ画成する複数のメサによって 基板上にこれから離間して配列された肉薄誘電体シート状部材とを具える。メサ の各々は有機材料のパターン化層によって形成する。好適には、有機材料をポリ イミド材料とする。各チャネルには分離電極層を設ける。好適には、電極はチャ ネルを画成する各対のメサの対向表面に設ける。 好適な例では、表示装置をＰＡＬＣ表示装置とし、基板、離間ポリイミド壁部 またはメサおよび上側の肉薄誘電体シート状部材の組合せによってＰＡＬＣ表示 装置のプラズマチャネルまたはチャネルプレートを構成する。 本発明の第２例では、ポリイミドメサは１つ以上の肉薄保護層によって被覆す る。好適には、保護層はほぼ透明で電気的に絶縁され且つ蒸着技術によって形成 する。このポリイミドはある種の半導電性装置の製造において一般に保護層とし て用いられる。かかる装置は代表的には排気容器内では作動せず、ガス中で作動 して活性化されプラズマを発生する。従って、半導体装置にポリイミドを適用す る場合には、保護層は通常ポリイミド材料に対しては必要ではない。これに対し 、ＰＡＬＣ表示装置のチャネルプレートの製造に適用するためには、ポリイミド メサをガス充填包囲体内に存在させて、そのガスの組成によってプラズマの動作 性能を純粋にせぎし得るようにする。この場合にはポリイミド材料からの蒸気の 劣化によってチャネルプレートの動作に劣化の影響を尾よぼし得るようになる。 ポ リイミドメサ上に保護層を設けることによってプラズマが発生する際にイオン衝 突からポリイミドメサを保護し、従ってプラズマチャンバー内が劣化するのを防 止する。 本発明方法の好適な例では、基板をポリイミドの肉厚層で被覆し、次いでこの 肉厚組成を感光レジストの薄層で被覆する。次に、このフォトレジストを露光し て被覆基板に現像処理を施し、次いで未露光フォトレジスト部分を除去して適正 位置のパターン化フォトレジストを残存させる。次いで下側のポリイミド部分を 選択的に除去してパターン化ポリイミド層を形成し、その後残存フォトレジスト 材料を除去する。次に、保護層をパターン化ポリイミド層に被着し電極およびカ バープレートを設ける。この場合の主な利点は、チャネルの壁部が粗面にならず 、処理は、ウエットケミカルエッチングを用いてチャネルプレートを形成する既 知の方法よりも時間の節約となる。図面の簡単な説明 図１は従来の平坦パネル表示装置の構成を示すブロック図、 図２は従来のＰＡＬＣ表示装置の一部の構成を示す斜視図、 図３−図６は本発明方法によってチャネルプレートを製造する際に用いられる パターン化ポリイミド層の種々の製造行程を示す断面図、 図７−図９は本発明方法によってチャネルプレートを製造する際に用いられる パターン化ポリイミド層のさらに他の種々の製造行程を示す断面図、 図１０はＰＡＬＣカラー表示装置に用いられる本発明チャネルプレートの一部 文の構成を示す断面図である。 発明を実施するための最良の形態 図１は代表的なＰＡＬＣ表示装置および作動電子回路を表わすフラットパネル 表示装置を示す。図１においてフラットパネル表示装置は表示面１２を具え、こ の表示面１２は垂直方向および水平方向に所定距離だけ相互に離間された通常同 一のデータ蓄積即ち表示素子１６の長方形プレーナアレイによって形成されたパ ターンを含む。このアレイの各表示素子は垂直列に発生した肉薄幅狭電極１８お よび水平行に配列された細長幅狭チャネル２０の重畳部分を表わす。（以下この 電極１８を時々“列電極”と称する。）チャネル２０の行の各々の表示素子１６ はデータの一ラインを表わす。 列電極１８およびチャネル２０の幅によって代表的には長方形形状の表示素子 １６の寸法を決める。行電極１８は第１非導電性透明基板３４（図２）の主面上 に堆積するとともにチャネル行は通常第２透明基板３６内に組込み得るようにす る。直視型または投影型の反射ディスプレイのようなあるシステムはただ１つの 基板が光学的に透明であると云うこおとは当業者にとって明らかである。 列電極１８はデータ駆動回路２４の出力増幅器２３（図２）の種々のものによ って並列出力導体２２’に発生するアナログ電圧型のデータ駆動信号を受けると ともにチャネル２０はデータストローブ手段、即ち、ストローブ回路２８の出力 増幅器２１（図２）種々のものによって並列出力手段２６’に発生する電圧パル ス型のデータストローブ信号ヲ受ける。各チャネル２０は基準電極３０（図２） を含み、この電極に各チャネル２０およびデータストローブ２８に共通の接地電 圧のような基準電位を供給する。 表示面１４の全区域の像を強調するためには、表示システム１０はデータ駆動 回路２４およびデータストローブ回路２８の機能と共働する走査制御回路３２を 用いて表示パネル１２の表示素子１６の全列が上述したように行走査状態で行毎 にアドレス指定されるようにする。表示パネル１２は種々の型の電気光学材料を 用いることができる。例えば、入射光線の偏光状態を変化させるような材料を用 いる場合には、表示パネル１２は一対の偏光フィルタ間に位置して、これらフィ ルタは表示パネル１２と共働してフィルタを通過する光の輝度を変化させるよう にする。しかし、電気光学材料として散乱液晶セルを用いる場合には偏光フィル タを用いる必要はない。伝送された光または反射された光を両端の電圧に応答し て減衰するかかる材料または材料層の全てを以下電気−光学材料と称する。現在 液晶材料が最も一般的な例であるため、詳細な記載は液晶材料で行うが、本発明 はこれに限定されるものではないこと明らかである。表示パネル内１２にカラー フィルタ（図示せず）を位置させて可制御色強度の多重カラー像を発生させるこ とができる。投影表示に対しては各々が１つの原色を制御する３つの個別の単色 パネル１２を用いて着色を行うこともできる。 図２は液晶材料を用いるかかるフラット表示パネルのＰＡＬＣの変形例を示す 。 図２には列電極１８の３つのみを示す。行電極２０は液晶材料の層４２の下側の 複数の細長くシールされた並列チャネル（図２）によって構成する。チャネル２ ０の各々は、これに代表的にはガラス製の肉薄誘電体シート４５で密封されたイ オン化ガス４４を充填し、且つ内部チャネル面に各チャネルの全長に亘って延在 する第１および第２の離間された細長電極３０，３１を含む。第１電極３０は接 地するとともに一般に陽極と称される。第２電極３１は陰極と称される。その理 由はこれによって電子を陰極３１から放出してガスをイオン化せしめるに充分な 負のストローブパルスを陽極電極に対して供給するからである。上述したように 、各チャネル２０は順次ストローブパルスによってガスイオン化され上述した液 晶層４２の画素行へのプラズマおよび接地ライン接続を形成する。ストローブパ ルスが終了するとともに脱イオン化が行われた後次のチャネルがストローブされ 、ターンオンする。列電極１８がそれぞれ全画素列と交差するため一度に１プラ ズマ行接続のみが行われて漏話を防止する。 ＰＡＬＣ装置は代表的には１９９３年ＳＩＤダイジェストの論文に記載されて いるように第１基板および第２基板３４，３６を設けることにより製造する。こ の第１基板３４はＩＴＯ列電極１８が蒸着されたガラスパネルを具え、ついでこ の電極上にカラーフィルタ処理を施してＲＧＢ細条（図示せず）を形成し、さら に黒色包囲処理ならびに液晶整列処理を施すようにして形成する。また、これも ガラスパネルである第２電極３６はマスク処理およびエッチング処理を施してチ ャネル２０を形成し、ついでプラズマ電極材料を堆積し、マスク処理およびエッ チング処理を施して陰極３１および陽極３０を形成する。次いで肉薄誘電体ガラ スマイクロシート４５をチャネルリッジ５０を横切って密封し、チャネル２０の シールオフを行い、これらチャネルを排気してヘリウムおよび／またはネオンの ような低圧イオン化ガス、または他のガスを任意にバック充填してシールオフを 行う。次いで、マイクロシート４５の露出面の液晶の配列を行う。次いで、２つ の組立基板は互いに離間し対向して配列された２つの液晶配列面と、このスペー スに導入された液晶材料４２と、列電極１８およびプラズマ電極３０，３１の形 成された電気接続部とを有するパネルに組み立てる。 本発明によれば、チャネルプレートは各平坦側壁を形成するほぼ垂直なメサ構 体で構成し、これらメサ構体は有機材料、特に、金属間誘電体の用途で半導体の 当業者に広く用いられているポリイミド材料のようなポリマー誘電体によって構 成される。かかるポリイミド材料が好適である理由はこれらポリイミド材料が高 い誘電体定数を有するとともに標準のスピン被膜によって容易に供給される溶液 を形成し、かつ多くの供給者から容易に入手し得る種々の溶液の形態を有するか らである。しかし、（ａ）所望の厚さの誘電体被膜または層を形成し得る、（ｂ ）ベーキングによるように硬化し得る、（ｃ）通常溶解、好適な溶媒での軟化、 または、溶解によるエッチングによりパターン化し得るものとすると、一般に任 意の有機材料を用いることができる。かかる材料が感光性である場合には、パタ ーン化に個別の材料を用いることができる。また、ＣＤの製作に用いる場合のよ うに、物理的なプレスによってパターン化を行うこともできる。 好適な方法でのチャネルプレート構体は以下のようにして形成する。出発点（ 図３）は例えばガラスのような肉厚の平坦な底板３６とし、これによってプラズ マチャネル用のほぼ透明な基板を形成する。この底板３６上には慣例のようにポ リイミド材料の層３８を所望の厚さに堆積する。ＰＡＬＣ被膜の好適な厚さは１ ００−１５０μｍとする。ポリイミド溶液の粘度に依存して、この層は、スピン コーティングによって、または、スプレイコーティングによって、あるいは、任 意の既知のコーティングによって１層または数層に所望の厚さに形成することが できる。このポリイミド層３８上にはフォトレジスト４０の層を設ける。このフ ォトレジスト層は２Ｐ即ち、ダイアクリル状レジストのような多くの市販されて いるレジストで構成し、その厚さを例えば数（１−３）μｍとすることができる 。 次いで、フォトレジスト層を好適なマスク４２を経て感光輻射線に露光し、次 に、全体にフォトレジスト４０に対して標準的な現像処理を施す。ポジフォトレ ジストを用いるものとすると、紫外線のようなフォトレジストが感光する任意の 輻射線とし得る輻射線によって露光フォトレジスト部分４４を脱重合化して軟化 し、この軟化部分を容易に除去し（図４）、未露光フォトレジスト部分４６を残 存させるようにする。次に、ポリイミド材料に対して好適に選定された第２現像 溶液を用いて残存フォトレジスト部分４４の下側のポリイミド領域を侵食、軟化 または溶解し、その結果図５に示すようにフォトレジストの孔４４の下側のポリ イミド領域をも除去し、従って、同様にパターン化されたポリイミド層４８の上 側のパターン化フォトレジスト層４６を残存させるようにする。 フォトレジストに対しては多くの既知の好適な現像溶液の任意のものを用いる ことができ、且つポリイミド残存に対しても多くの既知の好適な現像溶液の任意 のものを用いることができ、これら現像溶液は既に多くのものが市販されており 容易に入手することができる。 次いで、残存フォトレジスト材料４６を任意好適な溶剤で除去する（図６）。 この除去工程の後、基板に“ハードベイク”として既知の例えば４００℃程度の 温度でベイク工程の処理を施してパターン化ポリイミド層４８を硬化する。この 処理によってポリイミド材料を熱的にほぼ不活性化する。 図３−６はポリイミド壁部またはメサの任意所望のパターンを正規または非正 規にかかわらず、形成するために一般的に用いられる一連の工程を示すＰＡＬＣ 表示装置のメサのパターンは一般に極めて規則正しく、メサの全ては同一の高さ 、同一の幅および同一のピッチ（等間隔）を有する。 図７は図３−６の順次の製造工程後に得られた中間（半）製品を示し、これを ＰＡＬＣ表示装置のチャネルプレートの製造に特に用いる。この構体は前述した ように直立ベイクポリイミドメサまたは壁部５０を有する基板３６を具える。好 適な壁部の高さは画素寸法に依存してほぼ８０−１５０μｍとする。この基板に は保護材料５２の薄層を蒸着により被覆する（図８）。好適な材料はガラス、酸 化珪素、窒化珪素、および酸化アルミニウムのような電子技術の分野で通常用い られている材料とすることができる。保護層５２の好適な厚さは２０ｎｍ乃至１ ０μｍの範囲とする。化学的蒸着またはスパッタリングあるいは蒸発および一般 にこれら材料と両立し得る温度での任意の蒸着技術を用いることができる。保護 層５２をいずれの箇所にも適用する場合には、これが他のフォトリソグラフィッ ク工程への必要性を除去することができ、従って、保護層をほぼ透明とする必要 がある。その理由は、ＰＡＬＣ表示装置を作動させる通常の手段において、光源 をＰＡＬＣ表示装置の片側に配置するとともにユーザが反対側から像を観察し、 この像をアドレス指定されたＬＣＤ撮像素子によって入射光の減衰により形成す るからである。上述した厚さ範囲の保護材料は白色光に対して充分透明とする必 要がある。また、透明とし得るとともにポリイミド材料をプラズマからの劣化か ら保護し得るようにする他の材料をと置換することができる。 保護層５２を設けた後、各チャネルに電極５４を既知の任意の手段で設けるこ とができ、好適には任意の既知の手段によってポリイミドメサ５０の対向表面に 設けることができる。代表的には銅で厚さがほぼ２−１０μｍの電極の金属層は フォトリソグラフィを用いてパターン化することができる。上述した第２および 第３の従来例では、各チャネルの側壁部平坦化が一般に垂直且つ直線状であると ともに電極を一般にプラズマエッチングを含む種々の処理によって垂直側壁の対 向表面に形成する構成を記載している。前記第３の従来例に記載したプラズマエ ッチング処理は追加のフォトリソグラフィ工程（自己整列処理）を必要としない ため、好適な技術である。本発明方法は好適な電極材料のブランケット蒸着を含 み、かつ異方性プラズマエッチング工程をも含み、この異方性プラズマエッチン グによって図９に示すように底部の垂直区分５４以外のあらゆる箇所の電極材料 を好適にエッチング除去する。 処理の最後の工程は例えばガラスの肉薄平坦誘電体シート５６を保護層５２上 のメサの頂部に接着し、従って複数のチャネル５８を形成することにある。活性 チャネル５８は、側壁５０，５２、保護層で被覆されたほぼ平坦な基板部分およ び底部プレートと対向するほぼ平坦な頂壁部６４によって各々が平坦化された隣 接細長条溝によって形成する。頂部シート５６は例えば熔融ガラスフリットによ って、または陽極ボンディングによって既知のように側壁の頂部に沿って密封し 、密封プラズマチャネル５８を形成し得るようにする。一般に、ポリイミドは極 めて高い温度に対する耐性が制限されるため、熔融フリットを用いる場合には温 度をほぼ４５０℃以上としないのが好適である。或は又、頂部シートの縁部（図 示せず）は底部プレート３６の縁部（図示せず）に密封して構体を密封し、個別 のチャネルを密封する必要のないようにする。その理由は全てのチャネルに対し 共通のガスを用いるからである。頂部５６の外側面６６はＬＣ層（図示せず）と 対向させるようにする。これらチャネルにはプレートが上述したように発生する に好適なガスを後に充填する。保護層の表面５２によってポリイミドメサをプレ ー ト放電およびイオン衝撃から遮蔽して有機ポリイミド材料が所望のガス雰囲気を 汚染するのを防止する。 上述したように、図１０に示すものは一層大きな組立体の一部文を示す。その 理由は代表的にはモニタに用いるＰＡＬＣ表示装置が数百の列電極１８および数 百のプラズマチャネルを含むからである。上記従来例で記載された方法の全ては 本発明のパネルの残存部分を形成するに好適なものである。 本発明の他の利点はただ１つのフォトリソグラフィック工程を図３のマスク４ ２で示すように必要とするものである。 本発明は、アドレス指定を含むデータ素子の電子アレイ、特に、平坦なディス プレイ、プラズマアドレス指定型のディスプレイ、コンピュータのモニタ、ワー クステーションまたはＴＶ受像機に用いる小ピッチのチャネルを有するＰＡＬＣ ディスプレイのようなあらゆる種類のものに適用することができる。 ポリイミド材料はチャネルプレートのチャネルの平坦化壁部を形成するに好適 な有機材料であるが、本発明はこれに限定されるものではない。他の好適な有機 材料と置換することができる。例えば、感光後ウエットまたはドライ環境で現像 し得るフォトレジストを用いることもできる。 図１０の好適な例の実施例は幅がほぼ２０−５０μｍ、高さがほぼ５０−１６ ０μｍおよびピッチがほぼ２００−５００μｍの平坦化壁部である。 また、図面の寸法は実寸ではなく、特にチャネルは拡大されたものである。 さらに基板のチャネルは代表的には直線状としたが、これを蛇行型のような他 の計上をすることができる。 本発明は上述した例にのみ限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲内 で種々の変形や変更が可能である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ブルフマンス アドリアヌス エル イェ ー オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン ６ (72)発明者 ブロイニンク ヤコブ オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン ６ (72)発明者 カーン ババー アリ オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン ６ (72)発明者 クェイク カレル エルベルト オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン ６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．基板に形成された細長チャネルと、これらチャネルの各々の電極表面とを具 え、基板の絶縁材料のチャネル画成平坦壁部にはその上に薄いシート状部材を 設けるようにした電子アレイ構体において、ａ）絶縁材料の前記平坦壁部を有 機材料で構成するようにしたことを特徴とする電子アレイ構体。 ２．前記平坦壁部をポリイミド材料で構成するようにしたことを特徴とする請求 項１に記載の電子アレイ構体。 ３．前記ポリイミド材料の平坦壁部に保護層を被覆して劣化を防止するようにし たことを特徴とする請求項１に記載の電子アレイ構体。 ４．ほぼ対向する平坦壁部によって形成された細条チャネルをほぼ透明な基板上 に具えるプラズマアドレス指定液晶（ＰＡＬＣ）表示装置に用いるプラズマチ ャネル板において、ａ）前記平坦壁部をポリイミド材料で構成するようにした ことを特徴とするプラズマチャネル板。 ５．前記平坦壁部の各々には保護層を被覆して劣化を防止するようにしたことを 特徴とする請求項４に記載の電子アレイ構体。 ６．前記平坦壁部の各々の保護層には対向電極を具えることを特徴とする請求項 ５に記載の電子アレイ構体。 ７．前記平坦壁部はその幅をほぼ２０−５０μｍ、その高さをほぼ５０−１６０ μｍ、およびそのピッチを２０００−５０００μｍとしたことを特徴とする請 求項５に記載の電子アレイ構体。 ８．データ電極を具える第１基板および請求項４に記載のチャネル板間に電子− 光学材料の層を具えるプラズマアドレス指定電子アレイ。 ９．電子アレイ用アドレス指定構体を製造するに当たり：次の工程により； （ａ）ほぼ透明な基板を設け、 （ｂ）この基板上に有機材料の複数の離間壁部を形成して複数のチャネルを 画成し、 （ｃ）各チャネル内に離間電極層部分を形成する、ようにしたことを特徴と する電子アレイ用アドレス指定構体の製造方法。 10．前記工程（ｂ）を実施するに当たり； （ｂ１）前記基板上にポリイミド材料の層を形成し、このポリイミド材料の 層の上にレジストの層を形成し、 （ｂ２）このレジスト層を照射し、現像して前記離間壁部間にスペースを形 成すべき箇所に開口を形成し、 （ｂ３）露出されたポリイミド材料にこれを除去する処理を施してポリイミ ド材料を除去して有機材料の離間壁部を形成する、ようにしたことを特徴とす る請求項９に記載の電子アレイ用アドレス指定構体の製造方法。 11．前記工程（ｂ）の後に前記離間壁部上に保護材料の層を被着するようにした ことを特徴とする請求項１０に記載の電子アレイ用アドレス指定構体の製造方 法。 12．前記保護材料の層は蒸着またはスパッタリングあるいは蒸発によって被着す るようにしたことを特徴とする請求項１１に記載の電子アレイ用アドレス指定 構体の製造方法。 13．前記離間壁部の対向表面に離間電極層部分を設けるようにしたことを特徴と する請求項１２に記載の電子アレイ用アドレス指定構体の製造方法。 14．電子−光学材料の層と、この電子−光学材料の層に結合されこの層の活性部 分に電圧を印加するデータ電極と、これらデータ電極に対し一般に直角に延在 し前記電子−光学部分を選択的にスイッチングオンする複数の細長プラズマチ ャネルと、各々が離間細長陰極および陽極プラズマ電極並びにイオン化充填ガ スを具えるプラズマチャネルを前記データ電極と対向する側で閉成する誘電体 シートを具えるプラズマアドレス指定電子光学表示装置を製造するに当たり： （ａ）ほぼ透明な基板を設け、 （ｂ）この基板上にポリイミド材料の複数の離間電極を形成し、 （ｃ）この離間壁部上に保護材料を蒸着して劣化を防止し、 （ｄ）この保護層上に離間電極層部分を形成し、 （ｅ）この離間層上の前記保護層上に肉薄誘電体シート状部材を配置する、 ようにしたことを特徴とする、プラズマアドレス指定電子光学表示装置の製造 方法。