JP2001237347A - Bare chip mounting board and mounting method using the same - Google Patents

Bare chip mounting board and mounting method using the same

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JP2001237347A
JP2001237347A JP2000048805A JP2000048805A JP2001237347A JP 2001237347 A JP2001237347 A JP 2001237347A JP 2000048805 A JP2000048805 A JP 2000048805A JP 2000048805 A JP2000048805 A JP 2000048805A JP 2001237347 A JP2001237347 A JP 2001237347A
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Japan
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bare chip
chip
hole
mounting
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JP2000048805A
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Japanese (ja)
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Hiroshi Suzuki
宏 鈴木
Tadanori Hishida
忠則 菱田
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Sharp Corp
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D62/00Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
    • H10D62/10Shapes, relative sizes or dispositions of the regions of the semiconductor bodies; Shapes of the semiconductor bodies
    • H10D62/117Shapes of semiconductor bodies
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/60Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
    • H10W70/67Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their insulating layers or insulating parts
    • H10W70/68Shapes or dispositions thereof
    • H10W70/682Shapes or dispositions thereof comprising holes having chips therein

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  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a packaging substrate for preventing the strength of the whole substrate packaged with chips from being reduced in the case where the number of chips to be packaged is extremely large or a packaging density in a substrate is increased or a substrate is enlarged in size, and a packaging method thereof. SOLUTION: A packaging method includes a step for making a hole larger than the outside size of a bare chip in a resin substrate by a molding method and burying a bare chip in the hole. The use of this packaging method and a resin packaging substrate made by the molding method prevents the strength of the substrate packaged with chips from being reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ベアチップの実装
方法に関し、詳しくは平面型表示装置やICカード等の
装置、器具、LED表示装置などであって、薄いことを
特徴とする装置等に用いられる回路基板に適したベアチ
ップ実装基板およびそれを用いた実装方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of mounting a bare chip, and more particularly to a device such as a flat display device or an IC card, a device, an LED display device, etc., which are characterized by being thin. The present invention relates to a bare chip mounting board suitable for a circuit board to be used and a mounting method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICチップを実装する場合、従来は、ワ
イヤボンデイングやバンプ接続により基板の表面上にI
Cチップが搭載される。図6に、特開平6−37140
号に示す薄いことを特徴とする装置等に用いられる回路
に適したベアチップ実装方法の断面図を示す。このチッ
プ実装方法は、表面に配線が形成された基板に対しその
裏面側から配線に至るICチップよりも径の大きな穴が
設けられ、ICチップが穴の中で基板の裏面側から電極
の対応する配線にバンプを介して接続されることによ
り、ICチップが基板に実装されるものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, when an IC chip is mounted, an IC chip is mounted on a surface of a substrate by wire bonding or bump connection.
A C chip is mounted. FIG.
1 is a cross-sectional view of a bare chip mounting method suitable for a circuit used in an apparatus or the like characterized by being thin as shown in FIG. In this chip mounting method, a hole having a larger diameter than the IC chip extending from the back side to the wiring is provided on the substrate having the wiring formed on the front surface, and the IC chip corresponds to the electrode from the back side of the substrate in the hole. An IC chip is mounted on a substrate by being connected to a wiring to be formed via a bump.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ベアチップ実装方法では、最近の平面型表示装置等に対
する大型化、薄型化の要求には対応できず、これらの装
置用の回路は、一層大型で且つ薄く実装する必要に迫ら
れている。例えば、平面型表示装置では1.1mm以
下、セルラーホンでは0.5mm以下、ICカードでは
0.2mm以下が求められている。これは、従来の一般的
な基板単体の厚さ或はICチップの厚さである1mm〜
0.3mmよりも薄いかほぼ同等の厚さである。
However, the conventional bare chip mounting method cannot cope with the recent demands for large and thin flat display devices and the like, and the circuits for these devices are much larger. In addition, it is necessary to mount it thinly. For example, a flat display device is required to be 1.1 mm or less, a cellular phone is required to be 0.5 mm or less, and an IC card is required to be 0.2 mm or less. This is from 1 mm, which is the thickness of a conventional general substrate or the thickness of an IC chip.
The thickness is less than or approximately equal to 0.3 mm.

【0004】この要求に応えるためには、基板およびI
Cチップを共に薄くする必要があり、例えばそれぞれが
許容厚さの半分以下の厚さになるようにしなければなら
ない。ところが、特開平6−37140号に示すベアチ
ップ実装方法は、表面に配線が形成された基板に対しそ
の裏面側から前記配線に至る経路を形成するために表面
から裏面に貫通する穴を形成する。そのために、ベアチ
ップ数が多い場合や、実装密度が大きな場合、基板が大
型化した場合等では、基板の強度が低下して簡単に壊れ
てしまう問題点があった。
In order to meet this demand, the substrate and the I
Both C chips need to be thin, for example, each must be less than half the allowable thickness. However, in the bare chip mounting method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-37140, a hole penetrating from the front surface to the rear surface is formed on the substrate having the wiring formed on the front surface in order to form a path from the rear surface side to the wiring. Therefore, when the number of bare chips is large, when the mounting density is large, or when the substrate is large, there is a problem that the strength of the substrate is reduced and the substrate is easily broken.

【0005】本発明は、上記問題点を解決するものであ
って、例えば、大型平面型表示装置のアクティブマトリ
クス基板のスイッチング素子を実装する場合のように、
数十万から数メガピクセルの画素数有する大型平面型表
示装置のアクティブマトリクス基板に実装するTFTト
ランジスタのように、極めてチップ数が多い場合や、基
板内の実装密度が大きくした場合、基板寸法が大型化し
た場合、例えば基板寸法が360mm×465mm程度
であっても、チップ実装後の基板全体の強度が低下しな
いチップの実装方法を実現することである。
The present invention solves the above-mentioned problems. For example, as in the case of mounting a switching element of an active matrix substrate of a large flat display device,
When the number of chips is extremely large, such as when TFT transistors are mounted on the active matrix substrate of a large flat display device having several hundreds of thousands to several megapixels, or when the mounting density within the substrate is increased, the substrate dimensions are reduced. When the size is increased, for example, even if the substrate dimensions are about 360 mm × 465 mm, it is an object to realize a chip mounting method in which the strength of the entire substrate after chip mounting does not decrease.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
ベアチップ実装基板は、ベアチップの外寸法より大きな
穴と配線が形成された成型基板において、成型された穴
にベアチップを埋没させて、基板の表面側からベアチッ
プ電極と対応する基板側の配線部とを接続したことを特
徴とする。
A bare chip mounting board according to claim 1 of the present invention comprises a molded board having holes and wirings larger than the outer dimensions of the bare chip, wherein the bare chip is buried in the molded hole, A bare chip electrode is connected to a corresponding wiring portion on the substrate side from the front surface side of the substrate.

【0007】本発明の請求項2記載のベアチップ実装基
板は、ベアチップ実装基板にベアチップの外寸法より大
きな穴と配線が形成された成型基板において、配線が形
成された成型基板の穴壁の一部分がテーパ状に傾斜した
ことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a bare chip mounting board according to a second aspect of the present invention, wherein the bare chip mounting board has a hole and a wiring which are larger than the outer dimensions of the bare chip. It is characterized by being tapered.

【0008】本発明の請求項3記載のベアチップ実装基
板は、ベアチップが球状形状であることを特徴とする。
[0008] A bare chip mounting board according to a third aspect of the present invention is characterized in that the bare chip has a spherical shape.

【0009】本発明の請求項4記載のアクティブマトリ
クス基板は、ベアチップの外寸法より大きな穴の中にベ
アチップを埋没させて、基板の表面側からチップ電極の
対応するバスライン配線に接続されることを特徴とす
る。
In the active matrix substrate according to a fourth aspect of the present invention, the bare chip is buried in a hole larger than the outer dimension of the bare chip, and is connected to the corresponding bus line wiring of the chip electrode from the front surface side of the substrate. It is characterized by.

【0010】本発明の請求項5記載のベアチップ実装方
法は、ベアチップの電極パッドと基板の配線部とを接続
する際に、基板をベアチップより高い温度に加熱して、
前記チップよりも寸法の大きな穴にチップを挿入し、基
板に実装されることを特徴とする。
In the bare chip mounting method according to the fifth aspect of the present invention, when connecting the electrode pads of the bare chip to the wiring portion of the substrate, the substrate is heated to a temperature higher than that of the bare chip.
The chip is inserted into a hole larger in size than the chip, and is mounted on a substrate.

【0011】以下、上記構成による作用を説明する。The operation of the above configuration will be described below.

【0012】このような構成のベアチップ実装基板およ
びそれを用いた実装方法では、チップが基板に設けられ
た穴に埋設されて実装される。これにより、チップを実
装した基板等全体の厚さが、基板とチップの厚さの和と
はならず、基本的には基板厚さと電極厚さの和により決
定される。したがって、実装後の基板のトータル厚さ
は、チップ厚さ依存せず、実装前の基板厚さとなる。そ
こで、ベアチップ実装後の基板強度は実装前の基板強度
と比較して低下することがない。
In the bare chip mounting board having such a configuration and the mounting method using the same, the chip is mounted by being buried in a hole provided in the board. Thus, the total thickness of the substrate or the like on which the chip is mounted is not the sum of the thicknesses of the substrate and the chip, but is basically determined by the sum of the substrate thickness and the electrode thickness. Therefore, the total thickness of the board after mounting does not depend on the chip thickness, but becomes the board thickness before mounting. Therefore, the substrate strength after the bare chip mounting does not decrease as compared with the substrate strength before the mounting.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0014】(実施の形態1)本発明のベアチップ実装
方法の一実施例について説明する。図1は、その処理手
順を説明するための断面図群であり、(a)から(e)
まで時系列的に各断面を示す。ここで、1は成型基板、
2は配線、3はベアチップ、5は接続電極(バンプにす
る場合もある)、20は小穴、50は樹脂である。
(Embodiment 1) An embodiment of the bare chip mounting method of the present invention will be described. FIG. 1 is a group of cross-sectional views for explaining the processing procedure, and FIGS.
Each section is shown in chronological order up to. Here, 1 is a molded substrate,
2 is a wiring, 3 is a bare chip, 5 is a connection electrode (may be a bump), 20 is a small hole, and 50 is a resin.

【0015】先ず、工程1では(図1(a)参照)、ベ
アチップ3を実装する対象である基板1の具体的なもの
として、ポリエーテルスルホンフィルム(以下PESと
略称する)または透光性を有する熱硬化性エポキシ樹脂
等のプラスチック基板である。その厚さは、例えば1.
1mmである。凹み或は溝ともいえる小穴20は成型金
型を用いて成型された凹み或は溝である。上記以外の成
型可能な耐熱性プラスチック樹脂として、ポリアセター
ル(POM)樹脂、ポリブチレンテレフタレート(PB
T)樹脂、液晶ポリマー(LCP)樹脂、ポリフェニレ
ンサルファイド(PPS)等が使用可能である。
First, in step 1 (see FIG. 1A), a specific example of the substrate 1 on which the bare chip 3 is mounted is a polyethersulfone film (hereinafter abbreviated as PES) or a light-transmitting material. It is a plastic substrate such as a thermosetting epoxy resin. Its thickness is, for example, 1.
1 mm. The small holes 20 which can be called dents or grooves are dents or grooves molded using a molding die. Other heat-resistant plastic resins that can be molded include polyacetal (POM) resin and polybutylene terephthalate (PB).
T) Resin, liquid crystal polymer (LCP) resin, polyphenylene sulfide (PPS) and the like can be used.

【0016】次に、工程2では(図1(b)参照)、基
板1の表面に配線2がスパッタリングまたは導体ペース
トの印刷等により形成される。ベアチップ実装基板にベ
アチップの外寸法より大きな穴と配線が形成された成型
基板1において、配線が形成された成型基板の穴20壁
の一部分がテーパ状に傾斜したベアチップ実装基板を用
いることができる。図1(a)に示すベアチップ実装基
板を用いた場合は、次工程で、基板1の表面に配線2を
スパッタリングまたは導体ペーストの印刷等により形成
した場合に、穴壁の一部分がテーパ状に傾斜しているた
めに、配線の膜厚が200nm程度であっても、断面に
対するステップカバレッジが良好になるために、断線不
良が起こらず、電極材料費用と加工の寸法精度が著しく
向上させることができた。
Next, in step 2 (see FIG. 1B), the wiring 2 is formed on the surface of the substrate 1 by sputtering or printing a conductive paste. In the molded substrate 1 in which a hole and a wiring larger than the outer dimension of the bare chip are formed in the bare chip mounting substrate, a bare chip mounting substrate in which a part of the wall of the hole 20 of the molded substrate in which the wiring is formed is tapered may be used. When the bare chip mounting substrate shown in FIG. 1A is used, in the next step, when the wiring 2 is formed on the surface of the substrate 1 by sputtering or printing of a conductive paste, a part of the hole wall is tapered. Therefore, even if the film thickness of the wiring is about 200 nm, the step coverage with respect to the cross section is good, so that the disconnection failure does not occur, and the electrode material cost and the dimensional accuracy of the processing can be significantly improved. Was.

【0017】例えば、配線材料はTi、Crを下地とす
るCuとNiとAuの4層構造配線であり、その合計厚
さはテーパ状に傾斜している度合いが急峻であればある
ほど、200nm〜1000nmの範囲で厚くしないと
断線不良率が大きくなる。これは、その後フォトレジス
トを用いてパターニング、エッチング処理等によって形
成される過程で、ステップカバレッジに起因する、断線
不良と加工の寸法精度の関係から生じる現象である。
For example, the wiring material is a four-layered wiring of Cu, Ni and Au with Ti and Cr as bases, and the total thickness is 200 nm as the degree of taper is steeper. If the thickness is not increased in the range of up to 1000 nm, the disconnection failure rate increases. This is a phenomenon caused by the relationship between the disconnection defect and the dimensional accuracy of the processing due to the step coverage in the process of being formed by patterning, etching, or the like using a photoresist thereafter.

【0018】配線2は、Ti、Crを下地とするCuと
NiとAuの4層構造配線であり、その合計厚さは20
0nm〜1000nmである。その後フォトレジスト4
を用いてパターニング,エッチング処理等によって形成
される。その位置は実装すべきベアチップの電極の配置
に対応している。図1(b)は、エッチング処理によっ
て形成された配線2のパターンの断面図である。通常、
その厚さは200nmから1000nmである。
The wiring 2 is a four-layered wiring of Cu, Ni and Au with Ti and Cr as bases, and the total thickness thereof is 20
It is 0 nm to 1000 nm. Then photoresist 4
It is formed by patterning, etching, or the like using the above method. The position corresponds to the arrangement of the electrodes of the bare chip to be mounted. FIG. 1B is a cross-sectional view of the pattern of the wiring 2 formed by the etching process. Normal,
Its thickness is from 200 nm to 1000 nm.

【0019】工程3では(図1(c)参照)穴20の中
にベアチップ3が挿入される。ベアICチップ3の厚さ
は、0.5mmである。その外部接続用の電極がそれぞれ
対応する電極の接続部分に接するように位置合わせがな
されて、穴20の中にベアチップ3を挿入する。
In step 3 (see FIG. 1C), the bare chip 3 is inserted into the hole 20. The thickness of the bare IC chip 3 is 0.5 mm. Positioning is performed so that the electrodes for external connection are in contact with the connection portions of the corresponding electrodes, and the bare chip 3 is inserted into the hole 20.

【0020】前記ベアチップ3を挿入する際に、例え
ば、100℃〜200℃に基板1を、加熱して基板をベ
アチップより高い温度に加熱すれば、穴20はエッチン
グで加工した寸法より拡大するために穴20の中にベアチ
ップ3を挿入する場合のクリアランスが大きくなり実装
時の生産性が向上する効果がある。
When the bare chip 3 is inserted, for example, if the substrate 1 is heated to 100 ° C. to 200 ° C. and the substrate is heated to a temperature higher than that of the bare chip, the hole 20 becomes larger than the dimension processed by etching. In this case, the clearance when the bare chip 3 is inserted into the hole 20 is increased, and the productivity at the time of mounting is improved.

【0021】工程4では(図1(d)参照)その外部接
続用の電極がそれぞれ対応するバンプ状凸電極の接続部
分に接するように位置合わせがなされて、導電接着剤等
によりこれらが接続される。
In step 4 (see FIG. 1D), the electrodes for external connection are positioned so as to be in contact with the connection portions of the corresponding bump-shaped convex electrodes, and these are connected by a conductive adhesive or the like. You.

【0022】工程5では(図1(e)参照)、最後に、
シリコン樹脂等の絶縁性樹脂50が穴20の中に充填さ
れ、電気的絶縁や機械的保持に加えて防水や熱放散等に
よって、ベアチップ3の保護が図られる。または、シリ
コン樹脂50等をコーテングして、電気的絶縁や機械的
保持に加えて防水や熱放散等によって、ベアチップ3の
保護が図られる。
In step 5 (see FIG. 1E), finally,
The hole 20 is filled with an insulating resin 50 such as a silicon resin, and the bare chip 3 is protected by waterproofing, heat dissipation, and the like in addition to electrical insulation and mechanical holding. Alternatively, the bare chip 3 is protected by coating the silicon resin 50 or the like, and waterproofing or dissipating heat in addition to electrical insulation and mechanical holding.

【0023】なお、図1では各断面図の対比を明瞭にす
べく図示されている。このようにして、基板1内にベア
チップ3が埋設される。そこで、ベアチップ実装後の基
板全体の厚さは、基板1の厚さと配線2の厚さの和に等
しく、約1.1〜1.2mmで済む。ベアICチップの
厚さ0.5mmは、全体の厚さには何ら影響しない。
In FIG. 1, the cross-sectional views are shown for clarity. Thus, the bare chip 3 is embedded in the substrate 1. Therefore, the thickness of the entire substrate after the bare chip mounting is equal to the sum of the thickness of the substrate 1 and the thickness of the wiring 2 and is only about 1.1 to 1.2 mm. The 0.5 mm thickness of the bare IC chip has no effect on the overall thickness.

【0024】また、ベアチップ30として直径1.0m
m以下の球状のシリコン半導体ICチップ31を用いて
もよい。図3は、本発明の球状のシリコン半導体ICベ
アチップ31を用いた実装方法の一実施例を示す断面図
である。このような場合も、穴20内に完全に埋没す
る。球状のチップ31を実装する基板は、断面を球状と
する必要があるが、このような断面構造を得るために
は、本実施の形態1で用いた凹み或は溝を球状のチップ
31と外接する円弧の断面となるように、成型金型を用
いて成型する。凹み或は溝となる穴20が円弧の断面と
なるようにするには、成型金型を用いてプラスチック樹
脂を成型する方法が、寸法精度を確保する点、基板コス
トを低減させる点、大型化を行う点等の要請に対して好
適な方法である。
The bare chip 30 has a diameter of 1.0 m.
m or less spherical silicon semiconductor IC chip 31 may be used. FIG. 3 is a sectional view showing one embodiment of a mounting method using the spherical silicon semiconductor IC bare chip 31 of the present invention. Also in such a case, it is completely buried in the hole 20. The substrate on which the spherical chip 31 is mounted needs to have a spherical cross section. In order to obtain such a cross-sectional structure, the dent or groove used in the first embodiment is circumscribed with the spherical chip 31. It molds using a molding die so that it may become the cross section of the circular arc. In order for the hole 20 serving as a recess or groove to have an arc-shaped cross section, a method of molding a plastic resin using a molding die requires securing dimensional accuracy, reducing substrate cost, and increasing the size. This method is suitable for the request of performing the above.

【0025】(実施の形態2)この発明のベアチップ実
装方法を用いた液晶表示装置用アクティブマトリクス基
板の作製方法の一実施例について説明する。図2は、そ
の処理手順を説明するための断面図群であり、(a)か
ら(e)まで時系列的に各断面を示す。ここで、1は樹
脂基板、40はソースまたはゲートバスライン配線、3
0、31はTFT(スイッチング用)ベアチップ、5は
接続電極(バンプにする場合もある)、20は小穴、5
0は樹脂である。
(Embodiment 2) An embodiment of a method for manufacturing an active matrix substrate for a liquid crystal display device using the bare chip mounting method of the present invention will be described. FIG. 2 is a group of cross-sectional views for explaining the processing procedure, and shows each cross-section in a time series from (a) to (e). Here, 1 is a resin substrate, 40 is a source or gate bus line wiring, 3
Reference numerals 0 and 31 denote TFT (switching) bare chips, 5 denotes connection electrodes (may be bumps), 20 denotes small holes, 5
0 is a resin.

【0026】工程1では(図2(a)参照)、ベアチッ
プ3を実装する成型樹脂基板の断面図である。樹脂基板
10は、ポリエーテルスルホンフィルム(以下PESと
略称する)または透光性を有する熱硬化性エポキシ樹脂
等のプラスチック基板である。その厚さは、例えば1.
1mmである。凹み或は溝ともいえる小穴20は成型金型
を用いて成型された凹み或は溝である。
In step 1 (see FIG. 2A), it is a sectional view of the molded resin substrate on which the bare chip 3 is mounted. The resin substrate 10 is a plastic substrate such as a polyethersulfone film (hereinafter abbreviated as PES) or a translucent thermosetting epoxy resin. Its thickness is, for example, 1.
1 mm. The small holes 20 which can be called dents or grooves are dents or grooves molded using a molding die.

【0027】先ず、工程2では(図2(b)参照)、ベ
アチップ3を実装する成型樹脂基板10の表面に ソー
スまたはゲートバスライン配線40をTi、Crを下地
とするCuとNiとAuの4層連続スパッタリングによ
り形成される。その厚さは200nm〜1000nmで
ある。その後フォトレジスト4を用いてパターニング,
エッチング処理等によって形成される。その位置は実装
すべきスイッチング用(TFT)ベアチップ30の電極
の配置に対応している。
First, in step 2 (see FIG. 2 (b)), a source or gate bus line wiring 40 is formed on the surface of the molded resin substrate 10 on which the bare chip 3 is mounted by using Ti, Cr and Cu, Ni and Au. It is formed by four-layer continuous sputtering. Its thickness is between 200 nm and 1000 nm. After that, patterning using photoresist 4
It is formed by an etching process or the like. The position corresponds to the arrangement of the electrodes of the switching (TFT) bare chip 30 to be mounted.

【0028】次に、工程3では(図2(c)参照)、基
板10の表面にエッチング処理等によって形成されるた
配線40が、その外部接続用の配線と電極40が、それ
ぞれ対応する接続部分5に接するように位置合わせがな
されて、穴20の中にスイッチング用(TFT)ベアチッ
プ30を挿入する。
Next, in step 3 (see FIG. 2 (c)), the wiring 40 formed on the surface of the substrate 10 by etching or the like, the wiring for external connection and the electrode 40 correspond to the corresponding connection. The alignment is performed so as to be in contact with the portion 5, and the switching (TFT) bare chip 30 is inserted into the hole 20.

【0029】前記スイッチング用(TFT)ベアチップ
30を挿入する際に、例えば、100℃〜200℃に基
板1を、加熱して基板をベアチップより高い温度に加熱
すれば、穴20はエッチングで加工した寸法より拡大す
るために穴20の中にベアチップ30を挿入する場合のク
リアランスが大きくなり実装時の生産性が向上する効果
がある。
When the switching (TFT) bare chip 30 is inserted, for example, if the substrate 1 is heated to 100 ° C. to 200 ° C. to heat the substrate to a higher temperature than the bare chip, the hole 20 is processed by etching. When the bare chip 30 is inserted into the hole 20 in order to enlarge the size larger than the size, the clearance is increased and the productivity at the time of mounting is improved.

【0030】工程4では(図2(d)参照)その外部接
続用の電極がそれぞれ対応する電極の接続部分に接する
ように位置合わせがなされて、導電接着剤からなる接続
部分5により外部接続用の電極とTFTアクティブマト
リクス基板のバスラインとスイッチング用(TFT)ベ
アチップ30の電極とが接続される。
In step 4 (see FIG. 2D), the external connection electrodes are aligned so as to be in contact with the connection parts of the corresponding electrodes, and the connection parts 5 made of a conductive adhesive are used for external connection. And the bus line of the TFT active matrix substrate and the electrode of the switching (TFT) bare chip 30 are connected.

【0031】工程5では(図2(e)参照)、最後に、
シリコン樹脂等の絶縁性樹脂50が穴20の中に充填さ
れ、電気的絶縁や機械的保持に加えて防水や熱放散等に
よって、ベアチップ3の保護が図られる。または、シリ
コン樹脂50等をコーテングして、電気的絶縁や機械的
保持に加えて防水や熱放散等によって、ベアチップ3の
保護が図られる。
In step 5 (see FIG. 2E), finally,
The hole 20 is filled with an insulating resin 50 such as a silicon resin, and the bare chip 3 is protected by waterproofing, heat dissipation, and the like in addition to electrical insulation and mechanical holding. Alternatively, the bare chip 3 is protected by coating the silicon resin 50 or the like, and waterproofing or dissipating heat in addition to electrical insulation and mechanical holding.

【0032】なお、図2では各断面図の対比を明瞭にす
べく図示されている。このようにして、基板1内にスイ
ッチング用(TFT)ベアチップ30や直径1.0mm
以下の球状のTFTベアチップ31が埋設される。そこ
で、ベアチップ実装後の基板全体の厚さは、基板1の厚
さとソースまたはゲートバスライン配線40の厚さの和
に等しく、約1.1〜1.2mmで済む。スイッチング
用(TFT)ベアチップ30や直径1.0mm以下の球
状のTFTベアチップ31寸法は、全体の厚さには何ら
影響しない。このようにして、表面にソースまたはゲー
トバスライン配線40が形成された基板に対し、その表
面側から配線部の一部分の直下に、チップよりも外寸法
より大きな穴を設け、チップを穴の中に埋没させて、基
板表面側の穴20の中に、チップ電極の対応するソース
またはゲートバスライン配線40に接続されることによ
り、大型液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基
板が得られた。
FIG. 2 is shown for clarity of comparison between the sectional views. In this way, the switching (TFT) bare chip 30 and the diameter of 1.0 mm
The following spherical TFT bare chip 31 is embedded. Therefore, the thickness of the entire substrate after the bare chip mounting is equal to the sum of the thickness of the substrate 1 and the thickness of the source or gate bus line wiring 40, and is about 1.1 to 1.2 mm. The dimensions of the switching (TFT) bare chip 30 and the spherical TFT bare chip 31 having a diameter of 1.0 mm or less do not affect the overall thickness at all. In this manner, on the substrate having the source or gate bus line wiring 40 formed on the surface thereof, a hole larger than the outside dimension of the chip is provided directly below a part of the wiring portion from the surface side, and the chip is inserted into the hole. And connected to the corresponding source or gate bus line wiring 40 of the chip electrode in the hole 20 on the substrate surface side to obtain an active matrix substrate used for a large-sized liquid crystal display device.

【0033】ベアチップ30として直径1mm以下の球状
のTFTベアチップ31を用いた場合について説明す
る。図3は、本発明の球状のTFTベアチップ31を用
いた実装方法の一実施例を示す断面図である。このよう
な場合も、穴20内に完全に埋没する。球状のチップ3
1を実装する基板は、断面を球状とする必要があるが、
このような断面構造を得るためには、本実施の形態2で
用いた凹み或は溝を球状のチップ31と外接する円弧の
断面となるように、成型金型を用いて成型する。
A case where a spherical TFT bare chip 31 having a diameter of 1 mm or less is used as the bare chip 30 will be described. FIG. 3 is a sectional view showing one embodiment of a mounting method using the spherical TFT bare chip 31 of the present invention. Also in such a case, it is completely buried in the hole 20. Spherical tip 3
The board on which 1 is mounted must have a spherical cross section,
In order to obtain such a cross-sectional structure, the concave or groove used in the second embodiment is molded using a molding die so as to have an arc-shaped cross-section circumscribing the spherical chip 31.

【0034】凹み或は溝が円弧の断面となるようにする
には、成型金型を用いてプラスチック樹脂を成型する方
法が、穴の加工寸法精度を確保する点、基板コストを低
減させる点、大型化を行う点等の要請に対して好適な方
法である。
In order for the dent or groove to have an arc-shaped cross section, a method of molding a plastic resin using a molding die is to ensure the processing dimensional accuracy of the hole, to reduce the cost of the substrate, This is a suitable method for requests such as increasing the size.

【0035】(実施の形態3)本発明のベアチップ実装
方法を用いた発光ダイオード(以下LEDと記す)アレ
イ基板の作製方法の一実施例について説明する。実施の
形態2で説明したベアチップ実装方法を用いた液晶表示
装置用アクティブマトリクス基板の作製方法と略類似し
ているため図2を用いて、その一実施例について繰り返
して説明する。図2は、その処理手順を説明するための
断面図群であり、(a)から(e)まで時系列的に各断
面を示す。ここで、1は基板、40はアノードまたはカ
ソード配線、30、31はLEDベアチップ、5は接続
電極(バンプにする場合もある)、20は小穴、50は
樹脂である。
(Embodiment 3) An embodiment of a method for manufacturing a light emitting diode (hereinafter referred to as LED) array substrate using the bare chip mounting method of the present invention will be described. Since the method is substantially similar to the method for manufacturing an active matrix substrate for a liquid crystal display device using the bare chip mounting method described in Embodiment 2, an example thereof will be repeatedly described with reference to FIGS. FIG. 2 is a group of cross-sectional views for explaining the processing procedure, and shows each cross-section in a time series from (a) to (e). Here, 1 is a substrate, 40 is an anode or cathode wiring, 30 and 31 are LED bare chips, 5 is a connection electrode (may be a bump), 20 is a small hole, and 50 is a resin.

【0036】先ず、工程1では(図2(a)参照)、L
EDベアチップ30を実装する対象である樹脂基板1の
具体的なものとして、ポリエーテルスルホンフィルム
(以下PESと略称する)または透光性を有する熱硬化
性エポキシ樹脂等のプラスチック基板である。その厚さ
は、例えば1.1mmである。凹み或は溝ともいえる小穴
20は成型金型を用いて成型された凹み或は溝である。
First, in step 1 (see FIG. 2A), L
A specific example of the resin substrate 1 on which the ED bare chip 30 is mounted is a plastic substrate such as a polyether sulfone film (hereinafter abbreviated as PES) or a translucent thermosetting epoxy resin. Its thickness is, for example, 1.1 mm. The small holes 20 which can be called dents or grooves are dents or grooves molded using a molding die.

【0037】次に、工程2では(図2(b)参照)、基
板1の表面に ソースまたはゲートバスライン配線40
をTi、Crを下地とするCu電極の2層連続スパッタ
リングにより形成される。その厚さは200nm〜10
00nmである。その後フォトレジスト4を用いてパタ
ーニング,エッチング処理等によって形成される。その
位置は実装すべきLEDベアチップ30の電極の配置に
対応している。
Next, in step 2 (see FIG. 2B), the source or gate bus line wiring 40 is formed on the surface of the substrate 1.
Is formed by two-layer continuous sputtering of a Cu electrode with Ti and Cr as bases. Its thickness is 200nm ~ 10
00 nm. Thereafter, the photoresist 4 is formed by patterning, etching, and the like. The position corresponds to the arrangement of the electrodes of the LED bare chip 30 to be mounted.

【0038】図2(b)はエッチング処理等によって形
成されるた後のアノードまたはカソード配線40の断面
図である。通常、その厚さは200nmから1000n
mである。
FIG. 2B is a sectional view of the anode or cathode wiring 40 after being formed by an etching process or the like. Usually its thickness is from 200nm to 1000n
m.

【0039】工程3では(図2(c)参照)穴20の中
にLEDベアチップ30が挿入される。その外部接続用
の電極がそれぞれ対応するバンプ状凸電極の接続部分に
接するように位置合わせがなされる。LEDベアチップ
30の場合は、その厚さは0.3から0.5mmであり、
穴20内に完全に埋没する。また、LEDベアチップ3
0として直径1.0mm以下の球状のLEDチップ31
を用いても、穴20内に完全に埋没する。
In step 3 (see FIG. 2C), the LED bare chip 30 is inserted into the hole 20. Positioning is performed so that the external connection electrodes are in contact with the connection portions of the corresponding bump-shaped convex electrodes. In the case of the LED bare chip 30, its thickness is 0.3 to 0.5 mm,
It is completely buried in the hole 20. LED bare chip 3
A spherical LED chip 31 having a diameter of 1.0 mm or less as 0
Is completely buried in the hole 20.

【0040】工程4では(図2(d)参照)その外部接
続用の接続電極5がそれぞれ対応するベアチップ電極の
接続部分に接するように位置合わせがなされて、導電接
着剤等により接続電極5と接続される。例えば、100
℃〜200℃に加熱して、1バンプ当たり約100g重
で1〜2秒ほど加圧する。
In step 4 (see FIG. 2D), the connection electrodes 5 for external connection are positioned so as to be in contact with the connection portions of the corresponding bare chip electrodes, and are connected to the connection electrodes 5 by a conductive adhesive or the like. Connected. For example, 100
C. to 200.degree. C., and pressurize with a weight of about 100 g per bump for about 1 to 2 seconds.

【0041】工程5では(図2(e)参照) 最後に、
シリコン等の絶縁性樹脂50が穴20の中に充填され、
電気的絶縁や機械的保持に加えて防水や熱放散等によっ
て、ベアチップ3の保護が図られる。または、ポリイミ
ド等の樹脂50をコーテングして、電気的絶縁や機械的
保持に加えて防水や熱放散等によって、LED直方体の
ベアチップ30が保護される。
In step 5 (see FIG. 2 (e))
An insulating resin 50 such as silicon is filled in the hole 20,
The bare chip 3 is protected by waterproofing, heat dissipation, and the like in addition to electrical insulation and mechanical holding. Alternatively, by coating a resin 50 such as polyimide, the bare LED chip 30 of the LED rectangular parallelepiped is protected by waterproofing and heat dissipation in addition to electrical insulation and mechanical holding.

【0042】また、ベアチップ30として直径0.5mm
の球状のLEDチップ31を用いてもよい。図3は、本
発明の球状のLEDベアチップを用いた実装方法の一実
施例を示す断面図である。このような場合も、穴20内
に完全に埋没する。球状のチップ31を実装する基板
は、断面を球状とする必要があるが、このような断面構
造を得るためには、本実施の形態1で用いた凹み或は溝
を球状のチップ31と外接する円弧の断面となるよう
に、成型金型を用いて成型する。
The bare chip 30 has a diameter of 0.5 mm.
May be used. FIG. 3 is a sectional view showing one embodiment of a mounting method using the spherical LED bare chip of the present invention. Also in such a case, it is completely buried in the hole 20. The substrate on which the spherical chip 31 is mounted needs to have a spherical cross section. In order to obtain such a cross-sectional structure, the dent or groove used in the first embodiment is circumscribed with the spherical chip 31. It molds using a molding die so that it may become the cross section of the circular arc.

【0043】凹み或は溝が円弧の断面となるようにする
には、成型金型を用いてプラスチック樹脂を成型する方
法が、寸法精度を確保する点、基板コストを低減させる
点、大型化を行う点等の要請に対して好適な方法であ
る。凹み或は溝が円弧の断面となるようにすることによ
り、球状LEDベアチップ31に対してより優れた保護
ができる。
In order for the dent or groove to have an arc-shaped cross section, a method of molding a plastic resin using a molding die requires securing dimensional accuracy, reducing substrate cost, and increasing the size. This is a suitable method for the request of the point to be performed. By providing the recess or groove with an arc-shaped cross section, better protection against the spherical LED bare chip 31 can be achieved.

【0044】このようにして、基板1内にLEDベアチ
ップ30や球状のLEDベアチップ31が埋設される。
そこで、ベアチップ実装後の基板全体の厚さは、基板1
の厚さとアノードまたはカソード配線40の厚さの和に
等しく、約1.1〜1.2mmで済む。LEDベアチップ
30や直径1mm以下の球状のLEDベアチップ31
は、全体の厚さには何ら影響しない。このようにして、
表面にアノードまたはカソード配線40が形成された基
板に対し、その表面側から配線部の一部分の直下に、チ
ップよりも外寸法より大きな穴を設け、チップを穴の中
に埋没させて、基板表面側の穴20の中にてチップ電極
の対応するアノードまたはカソード配線40に接続し
た。このようにして、大型表示装置に用いる発光ダイオ
ードアレイ基板が得られた。
Thus, the LED bare chip 30 and the spherical LED bare chip 31 are embedded in the substrate 1.
Therefore, the thickness of the whole board after mounting the bare chip is
Is equal to the sum of the thickness of the anode or cathode wiring 40 and about 1.1 to 1.2 mm. LED bare chip 30 and spherical LED bare chip 31 having a diameter of 1 mm or less
Has no effect on the overall thickness. In this way,
On the surface of the substrate on which the anode or cathode wiring 40 is formed, a hole larger than the outer dimension of the chip is provided immediately below a part of the wiring portion from the surface side, and the chip is buried in the hole, and In the hole 20 on the side, the chip electrode was connected to the corresponding anode or cathode wiring 40 of the chip electrode. Thus, a light emitting diode array substrate used for a large-sized display device was obtained.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のベアチッ
プ実装基板および実装方法においては、チップが基板に
設けられた穴に埋設されて実装される。これにより、チ
ップを実装した基板等全体の厚さは、基板とチップの厚
さの和とはならず、基本的には基板厚さと電極厚さの和
により決定される。したがって、基板の厚さを、チップ
の厚さに関係なく略基板厚さ、すなわち実装前の基板厚
さにほぼ等しくすることができる。また、ベアチップ実
装後の基板に実装するベアチップの数が多くなった場合
や、実装密度が大きくまた基板寸法が大きくなった場合
であっても、基板強度は低下しない効果を奏する。
As described above, in the bare chip mounting board and the mounting method of the present invention, the chip is mounted by being buried in the hole provided in the board. Thus, the total thickness of the substrate or the like on which the chip is mounted is not the sum of the thicknesses of the substrate and the chip, but is basically determined by the sum of the substrate thickness and the electrode thickness. Therefore, the thickness of the substrate can be made substantially equal to the thickness of the substrate irrespective of the thickness of the chip, that is, substantially equal to the thickness of the substrate before mounting. Further, even when the number of bare chips mounted on the substrate after the mounting of the bare chip is increased, or when the mounting density is large and the size of the substrate is large, the effect that the strength of the substrate is not reduced is exerted.

【0046】穴壁の一部分をテーパ状に傾斜させると断
線不良が起こらず、電極膜厚を小さくできるために電極
材料として使用する材料費を低減できる他に加工時の寸
法精度を向上させる効果を奏する。
If a part of the hole wall is inclined in a tapered shape, no disconnection failure occurs, and the electrode film thickness can be reduced, so that the cost of material used as an electrode material can be reduced and the effect of improving the dimensional accuracy at the time of processing can be reduced. Play.

【0047】ベアチップを挿入する際に、基板をベアチ
ップより高い温度に加熱すれば、穴は成型加工した寸法
より拡大するために、ベアチップを挿入する場合のクリ
アランスが大きくなり、実装時の生産性が向上する効果
を奏する。
When the bare chip is inserted, if the substrate is heated to a temperature higher than that of the bare chip, the hole becomes larger than the formed dimension, so that the clearance for inserting the bare chip is increased, and the productivity at the time of mounting is reduced. It has the effect of improving.

【0048】球状のチップを実装する基板断面を円弧と
なる断面構造を得るためには、凹み或は溝状の穴を球状
のチップと外接する円弧形状の断面を、成型金型を用い
て成型して実現する。成型する方法は、円弧形状の断面
加工寸法精度を確保する点、基板コストを低減させる
点、大型化を行う点で効果を奏する。
In order to obtain a cross-sectional structure in which the cross section of the substrate on which the spherical chip is mounted becomes an arc, an arc-shaped cross section in which a dent or groove-shaped hole circumscribes the spherical chip is molded using a molding die. And realize it. The molding method is effective in securing the accuracy of the cross-section processing dimension of the arc shape, reducing the cost of the substrate, and increasing the size.

【0049】又、球状チップの保護のために、凹み或は
溝が円弧の断面となるようにすることにより、樹脂の使
用量が節減され、コストパフォーマンスが良好となる効
果が得られる。
In order to protect the spherical chip, the recess or groove is formed to have an arc-shaped cross section, so that the amount of resin used can be reduced and the effect of improving cost performance can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のベアチップ実装方法の一実施例につい
て、そのプロセスフローを示す断面図群と実装基板であ
る。
FIG. 1 is a sectional view showing a process flow of a bare chip mounting method according to an embodiment of the present invention and a mounting board.

【図2】本発明のベアチップ実装方法の一実施例を用い
た、アクティブマトリクスもしくは発光ダイオードアレ
イ基板の断面図群である。
FIG. 2 is a sectional view group of an active matrix or light emitting diode array substrate using one embodiment of the bare chip mounting method of the present invention.

【図3】本発明の球状のベアチップを用いた実装基板の
実装部分の一部を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a part of a mounting portion of a mounting board using the spherical bare chip of the present invention.

【図4】穴壁の一部分がテーパ状に傾斜しているベアチ
ップ実装状態についての断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a bare chip mounting state in which a part of a hole wall is tapered.

【図5】従来の他の実装方法によるベアチップ実装状態
についての断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a bare chip mounting state according to another conventional mounting method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 樹脂基板 2 配線 3 ベアチップ 5 接続電極 6 ベアチップの電極 7 TFTベアチップのソースまたはゲート電極ま
たはLEDアノードまたはカソード電極 20 穴 30 TFTベアチップまたはLEDベアチップ 31 球形ベアチップ(シリコン半導体ICまたは
TFTまたはLEDの球状ベアチップ) 40 TFTソースまたはゲートバスライン配線ま
たはLEDアノードまたはカソード配線 50 樹脂
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin board 2 Wiring 3 Bare chip 5 Connection electrode 6 Bare chip electrode 7 Source or gate electrode of TFT bare chip or LED anode or cathode electrode 20 Hole 30 TFT bare chip or LED bare chip 31 Spherical bare chip (silicon semiconductor IC or spherical bare chip of TFT or LED) 40) TFT source or gate bus line wiring or LED anode or cathode wiring 50 Resin

フロントページの続き Fターム(参考) 4M109 AA01 BA04 BA05 CA02 CA06 DA03 DA09 DB16 DB17 EA10 GA03 5E336 AA08 BB01 BB12 BB16 BC26 CC38 CC57 CC58 EE08 EE20 GG01 GG12 GG16 GG26 Continued on front page F-term (reference) 4M109 AA01 BA04 BA05 CA02 CA06 DA03 DA09 DB16 DB17 EA10 GA03 5E336 AA08 BB01 BB12 BB16 BC26 CC38 CC57 CC58 EE08 EE20 GG01 GG12 GG16 GG26

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ベアチップの外寸法より大きな穴と配線
が形成された成型基板において、 成型された穴にベアチップを埋没させて、基板の表面側
からベアチップ電極と対応する基板側の配線部とを接続
したことを特徴とするベアチップ実装基板。
In a molded substrate having holes and wirings larger than the outer dimensions of a bare chip, a bare chip is buried in the molded hole, and a bare chip electrode and a corresponding wiring portion on the substrate are formed from the surface of the substrate. A bare chip mounting board characterized by being connected.
【請求項2】 ベアチップ実装基板にベアチップの外寸
法より大きな穴と配線が形成された成型基板において、 配線が形成された成型基板の穴壁の一部分がテーパ状に
傾斜したことを特徴とする請求項1に記載のベアチップ
実装基板。
2. A molded substrate in which holes and wirings larger than the outer dimensions of the bare chip are formed in the bare chip mounting substrate, wherein a part of the hole wall of the molded substrate in which the wirings are formed is tapered. Item 2. A bare chip mounting substrate according to item 1.
【請求項3】 ベアチップが球状形状であることを特徴
とする請求項1に記載のベアチップ実装基板。
3. The bare chip mounting board according to claim 1, wherein the bare chip has a spherical shape.
【請求項4】 ベアチップの外寸法より大きな穴の中に
ベアチップを埋没させて、基板の表面側からチップ電極
の対応するバスライン配線に接続されることを特徴とす
る請求項1に記載の実装基板を用いたアクティブマトリ
クス基板。
4. The mounting according to claim 1, wherein the bare chip is buried in a hole larger than the outer dimension of the bare chip, and is connected to a corresponding bus line wiring of the chip electrode from the front surface side of the substrate. Active matrix substrate using a substrate.
【請求項5】 ベアチップの電極パッドと基板の配線部
とを接続する際に、基板をベアチップより高い温度に加
熱して、前記チップよりも寸法の大きな穴にチップを挿
入し、基板に実装されることを特徴とする請求項1に記
載の実装基板を用いたベアチップ実装方法。
5. When connecting the electrode pad of the bare chip to the wiring portion of the substrate, the substrate is heated to a temperature higher than that of the bare chip, the chip is inserted into a hole larger in size than the chip, and mounted on the substrate. A bare chip mounting method using the mounting board according to claim 1.
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